在HRTEM下观察到了ZnO的晶格条纹间距分别是 0.27nm 和 0.24nm,氧化锌六方晶系,请问分别对应的是哪个晶面啊。。。。达人们帮帮忙啊
最近在学习使用高分辨透射电镜Tecnai F20,现有两个问题向各位大侠请教:1、我在测试SiC纳米线(111晶面间距为0.25nm)的时候,很多时候在高分辨下得到的是一维条纹结构(即只有一个方向的条纹),今天下午却偶然之间得到了非常漂亮的二维晶格结构图像(即可以看到单个原子的排列),我再去观察别的纳米线却得不到了。以前记得有本书上说只有在入射电子束与样品晶格结构呈特定 的位相关系情况下,就可以得到清晰的二维晶格条纹。我想请问各位老师,该怎么去调节仪器或样品以得到漂亮的二维晶格结构图像呢?2、在测样品电子衍射图谱的时候,先在TEM模式下找到目标区,然后套光阑点衍射模式,进行选区衍射拍摄。但这样做得到的图谱往往很不好看,得到的衍射斑点很杂乱,我通过调整相机常数是无法解决的,请问各位老师这种情况该怎么办?似乎是要调整样品的角度,但具体要怎么操作呢?
我做了两张负载催化剂的透射电镜照片,有的晶体上面有纹,老师说是晶格,还说可以量一下晶格长度确定是什么晶体,说是可以跟XRD图片对应的,请问是不是这样啊,如果是,怎么计算,怎么对应?求高手指点!另外,我这两张图一个是负载Au,一个是负载Pd。Pd的负载量很高了(7%质量含量),XRD计算结果大约15nm左右,但是在电镜上却观察不到任何Pd的颗粒,请问是怎么回事?而Au的负载量相对较低,但是却能观察到,跟XRD计算结果也比较吻合。请高人指点迷津。
本人是透射电镜和晶体物理小白,由于项目需要才接触,学习了很多单也有很多不懂的地方,希望能得到大家的帮助!先谢谢大家!在做天然石墨透射电镜分析时,在镜下观察到近标准石墨的晶格条纹像。但是在标定衍射图时发现各点位都对应不上。附件发来了两张图片,如有资料不足的还可补充,谢谢大家了http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2016/03/201603081150_586253_3028970_3.jpghttp://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2016/03/201603081153_586254_3028970_3.jpg
最近拍了些样品,有的只能拍到一维晶格像,有的只能拍到二维晶格像,有的两者都能拍到,有些困惑,到底哪类像是所需要的,它们各有什么用处?
本人第一次测HRTEM,有分析的地方不是很懂,想过来求助各位大侠我的HRTEM中的晶格在样品边缘的部分有些扭曲,我认为是应力造成的我同学说是观察中的样品的漂移引起的有没有懂的大侠介绍相关的知识,或者我们谁说的正确啊?谢谢
最近在看材料评价的高分辨电子显微方法一书,对书中的这几个概念“晶格条纹、一维结构像、二维结构像、二维晶格像、特殊的像”的区别比较模糊,谁能科普一下,形象的说一下
版面很多网友由于刚接触TEM的衍射花样,所以有一些基础问题觉得需要这里讲一下,有什么错误大家也请帮忙指出,多谢! 我这里就谈一下简单衍射花样的标定,所谓简单,就是各个晶系里面的单晶衍射花样,没有缺陷,没有超结构,没有厚样品造成的高阶劳埃带,只是物质的纯相造成的衍射花样。有了这个基础,理解了一些,往下才能做的扎实。1. 一般的物质衍射花样都是已知的物质,顶多也就是已知的几种里面的一个。所以在确定哪几个物种之后,去找一下相关物质的PDF卡片,网上有一个软件PCPDFWIN,可以方便查讯电子版的PDF卡,下载位置,看看这个帖子,提到了下载的具体目录:http://www.instrument.com.cn/bbs/shtml/20060418/398715/ 2. 找到了相应的PDF卡,那么就是要测量衍射花样了。衍射花样的拍摄要严格按照操作规程来,尤其要注意在拍摄时样品聚焦尽量准确。另外,无论底片拍摄还是CCD拍摄,一定要保证用标准样品做了校正。3. 接下来就是测量衍射点对应的d值。对于底片来说就是测量衍射点到中心透射斑的实际距离R,然后根据d = R/(L×电子波长),其中L是相机常数,底片上写着,单位是cm,电子波长一般的电镜书上都有,200 kV电镜是0.00251 nm。代入计算即可得到相应的d值。选取两个相邻且最靠近中心斑点的衍射点,二衍射斑点以夹角接近或者等于90度为好。选取测量d值之后,二者同中心斑点连线的夹角也要测量一下。对于CCD相机拍摄的衍射花样,对应的都有标尺,d值测量就是量取衍射点到透射斑的距离后取倒数即可。角度测量可以通过量取衍射点到中心斑连线对应control对话框的R值(角度),二者相减即得。4. 将计算的d值和PDF卡相对应,看最接近哪个面的数值,querida说过,这个测量会有一定的误差,有相近值时,需要通过夹角来确定。方法是,选取两个比较可能的面,然后代入相应晶系对应的公式,计算夹角,如果和测量值很接近,就算是找对了。Ustb版主说过,计算值和测量值应该相差很小,0.1-0.2度的范围。 至于计算两个面夹角的公式,可以去找郭可信先生写的那本《电子衍射图在晶体学中的应用》,Page104-105上有具体的公式,其中的hkl值都是你要计算的面对应的值,abc是你确定晶相的晶胞参数,PDF卡上都有,r1*r2*分别指的是两个面的d值倒数。5. 确定了两个方向的衍射点,那么接下来就是确定投射方向,也就是面的法线方向是什么带轴,这个querida朋友已经写了,我这里引用一下:“FFT后的一个斑点对应这正空间一族晶面,这一族晶面和这个斑点的矢量方向垂直,当一张图片上任意不在同一直线上的2个斑点知道后,那么入射电子束也就是带轴的方向就知道了,具体可用h1 | k1 l1 h1 k1 | l1h2 | k2 l2 h2 k2 | l2u v wu=k1l2-l1k2v=l1h2-h1l2w=h1k2-k1h2你可以适当化简达到互质的3个数。”这里的uvw就是法线方向,一般用[uvw]表示。6. 另外高分辨透射电镜有时候观察纳米粒子由于条件限制未必能得到好的衍射花样,这个时候高分辨图像的二维晶格像也能做类似的标定,以CCD相机拍摄的数码照为例,可以有两种方法:第一种:a. 选取两个相邻晶面,量取d值,注意尽量取多一些晶面层,这样量的误差较小,还要提醒一下新手,量的时候是取晶面层之间的垂直距离,而不是两个亮点之间的连线距离(除非是矩形或者正方形)。并量取二面的夹角b. 对应PDF卡,大致确认晶面,夹角计算见第4步。c. 同4中的部分,确认投射方向第二种:a. 对二维晶格像按alt键选取正方区域做FFT,得到类衍射花样。这个时候的衍射点就和拍摄的晶格像对应,量取衍射点和中心斑的距离同第3步。b. 其余的标定同上。****注意:凡CCD相机拍摄照片的处理软件均为DigitalMicrograph
请教各位,对于不同的晶体结构拍摄二维晶格像时,要使入射光束平行于某晶带轴,请问要获得较好的晶格像,这个晶带轴对于不同的结构如何确定?比如FCC一般是,那其他结构呢?
有哪位好心人可以帮我查下金(Au)的晶面的晶格常数[img]http://simg.instrument.com.cn/bbs/images/brow/em09509.gif[/img]不胜感激
在做高分辨像的时候,我如果操作才出晶格像,而如果操作又会出结构像,这两个之间的问题我一直搞不清楚。书上看的说是,用一个透射斑加一个或者几个衍射斑 就会出晶格条纹像。好像结构像也是这样出来的?但是我要如何做,才知道自己做的是条纹像还是结构像呢?
版面很多网友由于刚接触TEM的衍射花样,所以有一些基础问题觉得需要这里讲一下,ustb版主正在积极准备论文毕业,我先来讲一点,等他有空来修改一下,有什么错误大家也请帮忙指出,多谢!我这里就谈一下简单衍射花样的标定,所谓简单,就是各个晶系里面的单晶衍射花样,没有缺陷,没有超结构,没有厚样品造成的高阶劳埃带,只是物质的纯相造成的衍射花样。有了这个基础,理解了一些,往下才能做的扎实。1. 一般的物质衍射花样都是已知的物质,顶多也就是已知的几种里面的一个。所以在确定哪几个物种之后,去找一下相关物质的PDF卡片,网上有一个软件PCPDFWIN,可以方便查讯电子版的PDF卡,下载位置,看看这个帖子,24楼里面我提到了下载的具体目录:http://www.instrument.com.cn/bbs/shtml/20060418/398715/2. 找到了相应的PDF卡,那么就是要测量衍射花样了。衍射花样的拍摄要严格按照操作规程来,尤其要注意在拍摄时样品聚焦尽量准确。另外,无论底片拍摄还是CCD拍摄,一定要保证用标准样品做了校正。3. 接下来就是测量衍射点对应的d值。对于底片来说就是测量衍射点到中心透射斑的实际距离R,然后根据d = (L×电子波长)/R,其中L是相机常数,底片上写着,单位是cm,电子波长一般的电镜书上都有,200 kV电镜是0.00251 nm。代入计算即可得到相应的d值。选取两个相邻且最靠近中心斑点的衍射点,二衍射斑点以夹角接近或者等于90度为好。选取测量d值之后,二者同中心斑点连线的夹角也要测量一下。对于CCD相机拍摄的衍射花样,对应的都有标尺,d值测量就是量取衍射点到透射斑的距离后取倒数即可。角度测量可以通过量取衍射点到中心斑连线对应control对话框的R值(角度),二者相减即得。4. 将计算的d值和PDF卡相对应,看最接近哪个面的数值,querida说过,这个测量会有一定的误差,有相近值时,需要通过夹角来确定。方法是,选取两个比较可能的面,然后代入相应晶系对应的公式,计算夹角,如果和测量值很接近,就算是找对了。Ustb版主说过,计算值和测量值应该相差很小,0.1-0.2度的范围。至于计算两个面夹角的公式,可以去找郭可信先生写的那本《电子衍射图在晶体学中的应用》,Page104-105上有具体的公式,其中的hkl值都是你要计算的面对应的值,abc是你确定晶相的晶胞参数,PDF卡上都有,r1*r2*分别指的是两个面的d值倒数。5. 确定了两个方向的衍射点,那么接下来就是确定投射方向,也就是面的法线方向是什么带轴,这个querida朋友已经写了,我这里引用一下:“FFT后的一个斑点对应这正空间一族晶面,这一族晶面和这个斑点的矢量方向垂直,当一张图片上任意不在同一直线上的2个斑点知道后,那么入射电子束也就是带轴的方向就知道了,具体可用h1 | k1 l1 h1 k1 | l1h2 | k2 l2 h2 k2 | l2u v wu=k1l2-l1k2v=l1h2-h1l2w=h1k2-k1h2你可以适当化简达到互质的3个数。”这里的uvw就是法线方向,一般用[uvw]表示。6. 另外高分辨透射电镜有时候观察纳米粒子由于条件限制未必能得到好的衍射花样,这个时候高分辨图像的二维晶格像也能做类似的标定,以CCD相机拍摄的数码照为例,可以有两种方法:第一种:a. 选取两个相邻晶面,量取d值,注意尽量取多一些晶面层,这样量的误差较小,还要提醒一下新手,量的时候是取晶面层之间的垂直距离,而不是两个亮点之间的连线距离(除非是矩形或者正方形)。并量取二面的夹角b. 对应PDF卡,大致确认晶面,夹角计算见第4步。c. 同4中的部分,确认投射方向第二种:a. 对二维晶格像按alt键选取正方区域做FFT,得到类衍射花样。这个时候的衍射点就和拍摄的晶格像对应,量取衍射点和中心斑的距离同第3步。b. 其余的标定同上。****注意:凡CCD相机拍摄照片的处理软件均为DigitalMicrograph
我想弱弱的问一句,HRTEM中的一维晶格,二维晶格都是什么意思啊?这些晶格可以通过FFT表现出来么?求高手帮帮解惑,如果能有图片来说明就更好了。
得到高分辨二维晶格像,首先使电子束平行于某晶带轴入射,为此就要旋转样品,请教如何很快转正晶带轴,具体步骤,感谢!
请问各位高手,是否有可能通过对衍射图中代表超晶格相的线条进行分析,从而得到超晶格相含量和主相的相对含量?图中提供的衍射图中,线条是机套超晶格点在相应位置上拉长所得。[img=,569,569]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2019/09/201909240843235518_4690_3479675_3.jpg!w569x569.jpg[/img]
小弟最近遇到一个疑问。文献中报道的一个未知的析出相,根据其衍射斑点排列和某个已知相的相似性,推测其晶体结构和该已知相相同。然后根据一套附带基体的衍射斑点就得出晶格常数。这是怎么算出来的?是把衍射斑点和那个已知相作比较得出晶格常数????还是参考基体得出来的?求指教
那本材料的高分辨电子显微评价方法里面提到:合金里面有基本晶格和有序晶格这两种结构。我想是不是这两种晶格其实在普通晶体里面就有,比如NaCl,有Na的有序,而同时也有Cl的有序,合金只不过将Cl换成了K(只是举个例子),这样电镜本来看不到Cl的有序,而换成K以后就看到了,这样利用电镜就分出了基本晶格(Na)和有序晶格(K)这两种结构?也就是说有序晶格只是相同结构晶体里轻元素的显性表达?呵呵。不知道是不是这样,请指点,谢谢!
氧化铬粉末,粒度在2微米左右,分布窄,为了达到一定性能,掺杂了一定物质,理论上掺杂物质进入了氧化铬的晶格间隙,ICP测量发现几种掺杂物质掺杂量在0.5%。打算通过SEM+EDAX达到如下目的:观察到掺杂成分的存在和分布状态!!而普通制样方法下扫描电镜图谱如附件所示,EDAX观察发现不了任何掺杂成分的存在。请问该用什么方法能够达到上述目的?我想通过观察粉末截面的方式,那么请问该如何制备粉末以使能在SEM中观察到截面[img]http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2007/07/200707041035_57114_1761152_3.jpg[/img]
二次衍射通常是由于重叠而产生的。二次衍射对衍衬像的影响可以通过做暗场像来辨别,如果是面缺陷导致的二次衍射,也可以通过倾转样品来加以确认。晶格像是相干成像,重叠会产生摩尔条纹,所以在对晶格像做图像的FFT后应该也能看到类似二次衍射斑点的附加斑点。求解惑:我们应该如何区分晶格像做FFT后多出来的附加斑点是由于相变还是二次衍射引起的呢? 重叠对HAADF-Z衬度像会产生什么样的影响?PS:问题有点非主流,做晶格像或者是HAADF-Z衬度像的时候都要求样品要足够薄,通常是不会有这些相关的顾虑的。但是在下的课题和纳米晶相关,晶粒尺寸比较小,在薄区附近也会有些许重叠,实在是无奈QAQ。
有时候看CNT会在局部看到二维晶格,请问有倾转得到二维晶格的方法吗?倾转角度多大?多谢!!!
中国科技网讯 据英国《自然》杂志网站7月9日报道,法国巴黎天文台吉勒莫·洛德韦克和同事最近证明,两台先进的光晶格钟(OLC)的运行步调几乎完全一致,精确度最少可达1.5×10-16。如果想用OLC重新定义秒的话,这种一致性测试必不可少,因此,这一最新研究有望让科学家们重新定义秒。 1967年,秒被定义为当一个铯原子在两个特定的能级间跃迁时所辐射或吸收的微波辐射振荡9192631770次所持续的时间,这一定义保持至今。 目前,测量这一频率最精确的方式是铯原子钟,铯原子钟又被人们形象地称作“喷泉钟”,因为其工作过程是铯原子像喷泉一样的“升降”,这一运动使得频率的计算更加精确。 铯原子喷泉钟的精确度大约为3×10-16,这意味着在1亿年时间里,其误差不超过1秒。但科学家们表示,某些新式的原子钟可以做得更好,对被电磁场捕获的单个离子化的原子辐射进行监测可以让精确度达到10-17。 大约10年前,科学家们首次展示了光晶格原子钟,尽管其精度无法打败捕获离子钟,但可以同铯原子钟相媲美,而且,很多科学家基于两个理由认为,这种钟可能会精度更高。首先,与捕获离子钟一样,这种光晶格钟也测量频率为微波数万倍的可见光的频率。第二,它们测量数千个被捕获进一个光晶格内原子的平均辐射频率而不是只测量一个原子的辐射频率,因此,精度更高。 然而,科学家们必须证明,这种原子钟的运行步调要能准确无误地与另一个同样的原子钟保持一致,这正是洛德韦克和同事在最新实验中已经证明的。他们也证明,两个原子钟几乎同步,精度至少为1.5×10-16,而且,这种锶光晶格钟(每个光晶格约有1万个锶87原子)与巴黎天文台的三台铯原子钟步调一致。 更好的原子钟有望成为基础科学的福音。例如,物理学家们能使用这样的原子钟对自然界某些基本而持续的变化进行调查,以确定其是否像理论所预测的那样。(刘霞) 《科技日报》(2013-7-11 二版)
除了用实验的方法测晶格常数,可不可以估算晶格常数?谢谢
jade5计算晶格常数,遇到问题按教程的步骤,检索物相然后选取相应的物相,options-Cell refinement可以计算晶格常数,但是好像只有一个数啊,如图http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2014/05/201405071150_498744_2620310_3.jpg而且图片中的各个参数各自有什么影响啊?为什么默认是Cubic?最下面的四个参数又是什么意思?怎么样才能求出合格的常数,比如说发文章能用的?常用的rietveld拟和又是什么意思?掺杂的固溶体晶格常数的改变又该怎么描述?求详细解答或教程。谢谢各位专家和朋友交流解答,问题很多,辛苦各位了。
日本东京大学的研究人员正在研发“光晶格钟”,并欲以之角逐新一代国际标准原子钟的地位,成为新的全球计时标准。 该项目人员已向媒体证实,由科学家香取秀俊主持研究的“光晶格钟”已作为新一代原子钟的候选被推荐给国际度量衡委员会。若正在法国召开的该委员会会议采纳这一推荐,“光晶格钟”将成为全球5个正式候选的新一代原子钟之一。 “光晶格钟”以曾获得诺贝尔物理学奖的“光梳”技术为基础。“光梳”拥有一系列频率均匀分布的频谱。 这些频谱仿佛一把梳子上的齿或一根尺子上的刻度。“光梳”可以用来测定未知频谱的具体频率,其精确度目前已经达到小数点后15位。研究人员把用红色激光冷却的超低温锶原子封闭到被称为“光晶格”的“容器”里。这样原子的各种外来扰动被消除,可以充当钟的振荡器。 理论上讲,“光晶格钟”每天仅误差10的负18次方秒,要比现在的铯原子钟精确1000倍。除用来测量时间外,由于其对重力的影响极其敏感,还可以用于验证爱因斯坦的广义相对论。来源:中国青年报
我们的样品晶粒细,XRD图谱很宽,基本为单相固溶体,有几个杂质峰。但PDF标准卡片里没有这个相,怎么求晶格常数啊?
哪位大虾可以帮助我计算一下附件中的MgB2的晶格常数,该衍射样品的相有TiC,MgB2,.可能的相为Mg2C3,MgO和TiB2.我已经采用powder X软件计算获得了MgB2的晶格常数,但是不知道准确性如何,所以请有经验的高人帮忙采用jade等软件计算一下,以进行验证,十分感激!
制备样品为多晶薄膜,晶粒尺寸纳米级。对于一维条纹像和二维晶格像一直不太明白?所谓一维条纹像是指原子在这个区域生长时以层状生长?一维条纹区域是否也是一个完整的晶粒?二者之间有何区别?电子束垂直照射。只是在样品的不同区域出现了这两种不同的。[img]http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2009/10/200910141616_175629_1900398_3.jpg[/img][img]http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2009/10/200910141617_175630_1900398_3.jpg[/img]
PCB镀铜晶格分析主要目的:主要是分析金属材料通孔内部拉伸断裂导致产品失效以及可靠性变差的一种检验方式,杜绝产品经过相关可靠性后造成失效的一种评估检验手段。[img=,934,]https://pic3.zhimg.com/80/v2-1a199a5fb5927877df63c0a6dc5962e6_720w.jpg[/img]PCB示意图检测方法:1.JY/T 010-1996 分析型扫描电子显微镜方法通则2.ISO 9220-1995 金属镀层 镀层厚度测量 电子扫描显微镜法检测环境:温度:22℃,湿度:58%RH,气压101kPa检测仪器:FIB-SEM(Zeiss Auriga Compact)检测目的:PCB可靠性测试后检测盲孔孔铜与底铜结合力测试。盲孔拉裂原因:(1)由于盲孔孔铜与底铜的结合力不良,产品在使用过程中盲孔孔铜与底铜出现分离;(2)由于盲孔脚部孔铜较薄,产品在使用过程中盲孔脚部孔铜断裂SEM镀铜晶格良品和不良品辨别如下:[align=center][/align][align=center][img=,302,]https://pic4.zhimg.com/80/v2-7f72c2a6403ba520bbb8e83c3c98119b_720w.jpg[/img][/align][align=center]镀铜晶格良品SEM图【金鉴实验室邵工提供】[/align][align=center][img=,303,]https://pic4.zhimg.com/80/v2-7cf30b47261c3a4d790fcafcaaa13f3b_720w.jpg[/img][/align][align=center]镀铜晶格不良品SEM图【金鉴实验室邵工提供】[/align][align=center][/align]?FIB离子束切割SEM观察镀铜晶格形貌--案例分享[img=,1437,]https://pic3.zhimg.com/80/v2-c0fe1c644cd55549d4ba9bed950ae29e_720w.jpg[/img]?FIB离子束切割SEM观察镀铜晶格形貌[align=center][/align][align=center][img=,504,]https://pic1.zhimg.com/80/v2-4aa4f5d7e7ab56b94957212bd391e900_720w.jpg[/img][/align][align=center]400X SEM图[/align][align=center][img=,504,]https://pic1.zhimg.com/80/v2-6c36e1d79063424ab599a904e77fee04_720w.jpg[/img][/align][align=center]800X SEM图[/align][align=center][img=,504,]https://pic3.zhimg.com/80/v2-3524ab98b2e687d66c02fa2524126db6_720w.jpg[/img][/align][align=center]3500X SEM图[/align][align=center][img=,503,]https://pic1.zhimg.com/80/v2-88556dcf5d90ad8c15725fd9541da610_720w.jpg[/img][/align][align=center]8000X SEM图[/align][align=center][/align][align=center]注:以上测试SEM倍率仅供参考,SEM测试倍率可以按照客户要求提供。测试咨询[url=http://www.gmatg.com/]金鉴实验室[/url]邵工[/align][align=center][/align][align=center][/align]
晶体缺陷与晶格条纹之间有什么的关系呢?有看到这样的叙述:"当晶体有缺陷时,晶格象上的条纹或弯曲,或中断,或改变条纹间距,直观 地反映出晶体晶格的缺陷“但是很有疑问的是,这张照片看,晶格条纹并没有变化?这张图上的白色区域怎么解释呢?[img]http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2008/10/200810312354_115741_1691452_3.jpg[/img]放大的图[img]http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2008/10/200810312354_115742_1691452_3.jpg[/img]
是不是在主峰的周围存在小峰就有可能存在超晶格或是其他相的物质呢?如果是超晶格的话,是不是在把主峰去掉后,指标化所有的小峰所得到的空间群应该是和主相的一致?新手一个,请求各位帮助!