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晶体结构

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  • 产品概述:MWL120实时反射劳厄相机系统用来测定单晶的取向(反射和透射)、单晶的完整性、测量晶体的对称性、观察晶体的一般缺陷、拍摄板材棒材的结构相、精确测定点阵常数、测定残余应力等。 原理:由X射线管产生的X射线从相机的入射光阑射入,照射在被分析样品上,在满足布拉格公式:nλ=2dSinθ条件下,产生X射线衍射图像,这些图像记录在感光片上,然后对这些图像进行计算分析,可以了解物质内部结构。 本产品所具有的特点1 有效检测范围大:30cm×30cm2 灵敏度高:单光3 角灵敏度高:0.054 探测速度快:几秒钟即可根据角的偏差自动收集分析并在电脑上形成劳厄图像5 维护成本低:半年更换一次气体,一年更换一次冷却剂即可(价格较低廉)6 样品可旋转:探测器转过程中同时转动样品,可以得到对称性高的图像
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  • Ge晶体基片 400-860-5168转2205
    产品名称:Ge晶体基片产品简介:化学符号为Ge ,主要用途有:制作半导体器件、红外光学器件及太阳能电池衬底。技术参数:晶体结构:立方:a = 5.6754 ?;生长方法:提拉法;密度:5.765 g/cm3 熔点:937.4 ℃热传导性:640掺杂物质:不掺杂;掺Sb;掺Ga类型:/;N;P;电阻率W.cm:35;0.05;0.05-0.1;EPD: 4x103/cm2; 产品规格:晶体方向: 111,100and110± 0.5o 标准尺寸:dia1"x 0.50 mm;dia2"x0.5mm;dia4"x0.5mm(110 Ra5A,不化抛)注:可按照客户要求加工尺寸及方向。标准包装:1000级超净室100级超净袋或单片盒装 相关产品: A-Z系列晶体列表清洗机 基片包装盒系列划片机旋转涂层机
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  • CdTe晶体基片 400-860-5168转2205
    产品名称:碲化镉(CdTe)晶体基片产品简介:碲化镉(CdTe)晶体基片广泛应用于X射线检测;红外光学;外延基片;蒸发源的晶体片等相关领域。技术参数:晶体结构立方 F43m a = 6.483?生长方法:PVT方法熔点(℃) 1047密度(g/cm3)5.851热容(J /g.k)0.210热膨胀系数(10-6/K)5.0热导率( W /m.kat 300K )6.3透过波长 (μm)0.85 ~ 29.9折射率2.72产品规格:常规晶向:100、001、110、111常规尺寸:5x5x0.5mm、10x10x0.5mm、dia1"x0.5mm注:也可提供多晶的,尺寸可按照客户要求加工,请发邮件确定信息。标准包装:1000级超净室,100级超净袋或单片盒封装
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  • BGO晶体基片 400-860-5168转2205
    产品名称:锗酸铋(Bi4Ge3O12)晶体基片产品简介:锗酸铋(Bi4Ge3O12简称BGO)是一种具有立方结构、无色透明的无机氧化物晶体,它不溶于水,在高能粒子或高能射线(x-射线、γ-射线)激发下能发出峰值为480nm波长的绿色荧光。BGO晶体具有强阻止射线能力、高闪烁效率、优良的能量分辨率及不潮解等优点,所以是一种优良的闪烁体,广泛应用于高能物理、核物理、空间物理、核医学、地质勘察和其它工业领域。技术参数: 基本性质晶向100晶体结构立方晶格常数a=10.518?生长方法提拉法熔点1050℃密度7.12g/cm3莫氏硬度5 Mohs透过范围350~5500nm电光系数 (x10-12m/V ) r41 1.03折射率 2.098@ 632.8nm激发光谱 305nm荧光光谱 480~510nm相对光输出 10~14% Nal (Tl)衰减时间 300ns临界能量 10.5Mev能量分辨率(511千电子伏特) 20% 产品规格:可按客户要求定制尺寸标准包装:1000级超净室,100级超净袋或单片盒封装
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  • 砷化铟(InAs)晶体基片 400-860-5168转2205
    产品名称:砷化铟(InAs)晶体产品简介:技术参数:晶体结构:立方 a =5.4505 ?生长方法:CZ导电类型:N型掺杂类型:不掺杂载流子浓度:2 ~ 5E16 / cm3 迁移率:18500cm2/V.S 常规尺寸:常规晶向:100、111;常规尺寸:10x10x0.5mm dia2″x0.5mm 抛光情况:单抛或双抛 表面粗糙度Ra:15A注:可按客户需求定制相应的方向和尺寸。备注:1000级超净室100级超净袋 Other InAsInSbInP GaAsGaSb基片包装盒系列薄膜制备设备RTP快速退火炉
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  • 高纯锗晶体 400-860-5168转3524
    高纯锗晶体(12N,13N) 1、晶体习性与几何描述: 该晶体使用直拉法在晶体(100)方向延伸。圆柱形表面(表面光洁度小于2.5 μm RMS)。经红外成像法检测晶体结构稳定可靠。晶体几个结构由直径和长度决定。当一个晶体属于原生态晶体时,其当量直径为: D ----外形尺寸当量直径 W----锗晶体重量 L-----晶体长度 测量值是四舍五入最小可达到毫米级别。为了便于订单出货,我们会依据晶体的体积、直径和长度进行分类。同时我们可以满足客户的特殊需求,提供定制服务。 2、纯度:残留载荷 最大允许净载流子杂质浓度与探头二极管的几个构造有关,请参照如列公式。其纯度依据据霍尔效应测量和计算。 同轴探测器:同轴探测器适用于下列公式: Nmax = 每立方厘米最大杂质含量 VD = 耗尽层电压 = 5000 V εo = 介电常数 = 8,85 10-14 F/cm εr = 相对介电常数(Ge) = 16 q = 电子电荷1,6 10-19C (elementary charge) r1 = 探测器内孔半径 r2 = 探测器外孔半径 3、纯度 : 假如晶体表面半径减少2mm,由于锂的漫射和刻蚀,内径8毫米的内孔半径, 适用公式变为: D = 晶体外表面 平面探测器:平面探测器(厚度小于2厘米)适用于以下公式: d=探测器外观尺寸厚度 径向分散载荷子(绝对值) 迁移:霍尔迁移 性能: P 型晶体 μH ≥ 10000 cm2/V.s N 型晶体 μH ≥ 10000 cm2/V.s 能级: P 型晶体 通过深能瞬态测量,Cutot ≤ 4.5*109 cm-3 N 型晶体 通过深能瞬态测量点缺陷 5*108 cm-3 晶体主要指标: P 型晶体 N 型晶体 错位密度 ≤ 10000 ≤ 5000 星型结构 ≤ 3 ≤ 3 镶嵌结构 ≤ 5 ≤ 5 4、高纯度高纯锗HPGe晶体说明: 高纯锗晶体产地法国物理性质颜色银灰色属性半导体材料密度5.32g/cm3熔点937.2℃沸点2830℃ 技术指标材料均匀度特级光洁度特优纯度99.99999%-99.99999999999%(7N-13N)制备方式锗单晶是以区熔锗锭为原料,用直拉法(CZ)法或者垂直梯度法(VGF法)等方法制备的锗单晶体。产品规格P、N型按客户要求定制产品用途超高纯度,红外器件、γ辐射探测器P型N型高纯锗在高纯金属锗中掺入三价元素如铟、镓、硼等,得到p型锗;在高纯金属锗中掺入五价元素如锑、砷、磷等,得到n型锗。交货期90天
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  • PPLN晶体 400-860-5168转1545
    仪器简介:PPLN是一种高效的非线形晶体,获得最大的波长转换效率必须对温度进行控制,并且晶体内部均匀的温度分布也很重要。Covesion提供了一系列的温度控制夹具或温控炉,以及温度控制器,尽量提高波长转换性能。改变晶体问题,也用于OPO中窄范围的波长调谐或其他波长转换应用。PPLN扩展了现有的激光系统,光谱覆盖可见到中红外。正确的PPLN和泵浦激光组合,可获得波长450nm到5um范围的光。Covesion还专门加工更复杂的晶体结构,在一个光学芯片上集合多种功能。 PPLN所提供的实际有效的波长转化,使得它成为各行业应用的焦点,如显示器、航空、电信、环境检测等。PPLN能达到转换效率很大程度上取决于激光束的属性。例如,优化的短脉冲激光单次通过晶体可获得80%的转换效率,但使用连续激光器,转换效率就可能下降到只有几个百分点。 PPLN是将生产的铌酸锂原材料晶圆进行所谓的&ldquo 周期性极化&rdquo 获得。铌酸锂是铁电晶体,在每个晶胞单元,由于铌离子和锂离子的晶格位置略有偏移,便产生了一个小的电偶极矩。通过施加一个强的电场,可以逆转这种结构,重新分布晶体中的偶极矩。反转铌酸锂结构的电场约为22KV/mm,反转时间仅需几个毫秒,之后该反转结构将永久性保持。在PPLN中,我们按光栅结构每隔几微米进行周期性反转,以实现输入光和输出光的准相位匹配。 在单个PPLN晶体上,可以完成多个光栅周期结构的加工。对OPO和其他可调谐应用,利用多周期结构可从单一泵浦光得到宽波长范围的光。光聚焦到不同周期光栅可实现波长的粗调,晶体的温度变化则可实现精细调节。技术参数:part# pump (nm) ouput (nm) period (&mu m) temp range ° C length (mm) aperture (mm) SHG8-1 976 - 984 488 - 492 5.00, 5.04, 5.08 160 - 200 1 0.5 x 0.5 SHG8-10 10 SHG3-1 1060 - 1068 530 - 534 6.50, 6.54, 6.58 160 - 200 1 0.5 x 0.5 SHG3-10 10 SHG3-20 20 SHG4-1 1310 - 1322 655 - 661 12.10, 12.20, 12.30 160 - 200 1 0.5 x 0.5 SHG4-10 10 SHG5-1 1540 - 1576 770 - 788 18.20, 18.40, 18.60, 18.80, 19.00 160 - 200 1 0.5 x 0.5 SHG5-10 10 SHG6-1 1570 - 1652 785 - 826 19.00, 19.25, 19.50, 19.75, 20.00, 20.25, 20.50, 20.75, 21.00 160 - 200 1 0.5 x 0.5 SHG6-10 10 SHG7-1 2024 - 2250 1012 - 1125 29.50, 30.00, 30.50, 31.00, 31.50, 32.00, 32.50 160 - 200 1 0.5 x 0.5 SHG7-10 10主要特点:周期性极化铌酸锂(PPLN)提供了460nm-1500nm波长范围内的高效率波长转换。我们专业的极化工艺可制作4.5um到33um的极化周期,是批量制造的理想选择。下面列出了标准的产品系列,对目前最常用的非线形过程进行分类:倍频(SHG), 和频(SFG),差频(DFG)和光学参量振荡/产生(OPO/OPG)。我们的PPLN晶体的标准范围与广泛使用的各种波长的激光相结合。每个晶体包含多周期光栅,灵活地实现温度及波长组合。我们的晶体镀增透膜,并抛光到:&lambda /4 平坦度,± 5min平行度,高于20-10光学表面质量。所有标准产品都经过严格的质量检验,提供带夹具的现货。
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  • RTP晶体与电光调制模块RTP晶体有高介电常数和电阻率,高激光损伤阈值,低插入损耗,无潮解,和无振铃效应,很适用于做激光的电光调制,包括:Q开关,普克尔盒Pulse Picker电光快门相位调制器,幅度调制器腔倒空器等RTP是双折射晶体,RTP电光器件通常采用两块几何结构和性能完全一致的晶体,光轴彼此垂直做配对使用。这样的双晶体结构器件可以在-50℃-+70℃环境中稳定工作。同时,由于其低半波调制电压需求,使其更加适用于军用,医疗和工业应用,
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  • 氧化锆(YSZ)晶体基片 400-860-5168转2205
    产品名称:氧化锆(YSZ)晶体基片产品简介:氧化锆(ZrO2)由于ZrO2单晶需掺入钇(Y)以稳定其结构, 一般实际使用的是YSZ单晶――加入钇稳定剂的氧化锆单晶。它机械、化学稳定性好,价格较低因而得以广泛应用。技术参数: 化学分子式 (Zr,Y)O2with Zr : Y = 91:9 晶体结构 立方 晶格常数 a = 5.125 ? 密度 5.8 g / cm3 纯度 99.99% 熔点 2800 oC 热膨胀系数 10.3 x10-6/ oC 介电常数 27 晶体生长方法 弧熔法产品规格:100, 110, 111公差:+/-0.5度dia2"x0.5mm, 10x10x0.5mm, 10x5x0.5mm单抛或双抛,Ra5A注:可按客户需求定制相应的方向和尺寸。标准包装:1000级超净室,100级超净袋或单片盒封装 相关产品:A-Z系列晶体列表清洗机 基片包装盒系列划片机旋转涂层机
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  • 产品名称:进口镓酸锂(LiGaO2)晶体基片 技术参数:基本特性 晶体结构 正交 晶格常数 a=5.406 ? b=5.012 ? c=6.379 ? 生长方法 提拉法 密度 4.18 g/cm3 熔点 1600oC 硬度 7.5 颜色和外观 白色到棕色,没有挛晶和包裹物 产品规格:常规晶向:001 、100;常规尺寸:10 x 10 x 0.5 mm;抛光情况:外延抛光基片;单抛或双抛;注:可根据客户需求提供特殊尺寸和晶向标准包装:1000级超净室100级超净袋相关产品:A-Z系列晶体列表等离子清洗机基片包装盒系列切割机旋转涂层机
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  • 产品名称:镓酸钕(NdGaO3)晶体基片产品简介:NdGaO3是近十年中发展起来的新型基片,主要用作高温超导体(如YBCO)及磁性材料的外延薄膜生长用基片。由于NdGaO3与YBCO的晶格失配很小(~0.27%),且无结构相变,在NdGaO3基片上可外延生长质量良好的薄膜。技术参数: 晶体结构 正交 晶体参数? a=5.43, b=5.50, c=7.71 熔点℃ 1600 密度g/cm3 7.57 介电常数 25 生长方法 提拉法产品规格:001, 110, 100公差:+/-0.5度10x10x0.5mm, 10x5x0.5mm,5x3x0.5mm单抛,Ra5A注:也可根据客户需求定制相应的尺寸和大小标准包装:1000级超净室,100级超净袋封装 相关产品: LSATLaAlO3MgONdCaAlO4NdGaO3SrTiO3SrLaAlO4SrLaGaO4YSZ
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  • 氟化钙(CaF2)晶体基片 400-860-5168转2205
    产品名称:氟化钙(CaF2)晶体基片产品简介:氟化钙广泛应用于红外窗口,棱镜和透镜技术参数:晶体结构:Cubic晶格常数:5.462熔点(oC):1418密度(g/cm3):3.18硬度: 4热膨胀系数(oC-1x 10-6):18.85折射率:ho 1.43382透过波段 (microns):0.11 - 12.00透过率: 94% @ 5 m 85% @ 0.2 m色彩离差(hf-hc): 0.00455温度系数( dh / dt x 10-6 ): -10. 6 @ 0.8 m晶体生长方法: Bridgeman产品规格:常规晶向:100、111;常规尺寸:5x5x0.5mm,10x10x0.5mm,dia1"x0.5mm,dia4"x0.5mm;抛光情况:单抛、双抛;表面粗糙度Ra:5A注:可按客户要求定制方向和尺寸。标准包装:1000级超净室,100级超净袋或单片盒封装 相关产品: A~Z系列晶体列表等离子清洗机基片包装盒系列 切割机旋转涂层机
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  • 产品名称:铝酸锂(LiAlO2)晶体基片产品简介:铝酸锂单晶与氮化镓的晶格失配率非常小(1.4%)而成为氮化镓薄膜的优质基片。技术参数: 晶体结构 四方 晶格常数(?) a=5.17 c=6.26 与GaN失配率(001) 1.4% 熔点(℃) 1900 密度(g/cm3) 2.62 硬度(Mohs) 7.5产品规格:常规晶向:100, 001公差:+/-0.5度;常规尺寸:dia2”x0.5mm, 10x10x0.5mm, 10x5x0.5mm,5x5x0.5mm;抛光情况:细磨、单抛或双抛;注:可按客户需求定制方向和尺寸。标准包装:1000级超净室,100级超净袋封装 相关产品: Crystal wafer A-Z等离子清洗机基片包装盒系列切割机薄膜制备设备
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  • 钽酸钾(KTaO3)晶体基片 400-860-5168转2205
    产品名称:钽酸钾(KTaO3)晶体基片技术参数:分子量268.04晶体结构立方,钙钛矿晶格常数a=3.989?生长方法顶部籽晶熔融法熔点~1500℃密度7.015g/cm3莫氏硬度6 Mohs热导率0.17 w/m.k @ 300k折射率2.14产品规格:常规晶向:100, 110, 111公差:+/-0.5度常规尺寸:10x10x0.5mm, 10x5x0.5mm抛光情况:单抛或双抛,Ra5A注:可按客户需求定制相应的方向和尺寸。标准包装:1000级超净室,100级超净袋封装 相关产品: LaAlO3MgOYSZSrLaAlO4切割机RTP快速退火炉基片包装盒系列旋转涂层机
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  • BaTiO3晶体基片 400-860-5168转2205
    产品名称:钛酸钡(BaTiO3)晶体基片产品简介:钛酸钡(BaTiO3, BTO)是最早发现的钙钛矿型铁电体,然而钛酸钡单晶仍然是当今铁电体和凝聚态物理领域内的研究热点,因为它不仅是基础研究的理想材料,具有适宜基础研究的完整结构和复杂相变过程,而且具有优良的电光与光折变性能,现今又发现能够实现可逆的大场致应变,在高应变驱动器上展现出了强烈的应用前景,同时,通过工程化畴结构的调整,其具有优良的压电性能,这使得钛酸钡单晶同时成为非线性光学器件、压电和高应变领域内的一种优秀的无铅环保型单晶材料。技术参数:晶体结构:四方(4mm): 9oC T 130.5 oCa=3.99 ?, c= 4.04 ? ,生长方法:顶部籽晶溶液法(TSSG)熔点:1600 oC密度:6.02 g/cm3介电常数:ea = 3700, ec = 135 (自由状态)ea = 2400, e c = 60 (夹持状态)折射率: 515 nm 633 nm 800 nm no 2.4921 2.4160 2.3681ne 2.4247 2.3630 2.3235透射波长范围:0.45 ~ 6.30 mm电光系数:rT 13 =11.7 ±1.9 pm/V rT 33 =112 ±10 pm/VrT 42 =1920 ±180 pm/VSPPC 反射率(0度切 ):l = 515 nm, 50 - 70 %(最高达到77%) l = 633 nm, 50 - 80 %(最高达到86.8%)二波混频耦合常数:10 - 40 cm-1吸收损耗: l: 515 nm 633 nm 800 nma: 3.392cm-1 0.268cm-1 0.005cm-1产品规格:常规晶向:100、001晶向公差:±0.5度常规尺寸:10x10x0.5mm, 10x5x0.5mm抛光情况:单抛或双抛,Ra5A可按客户要求定制方向和尺寸。标准包装:1000级超净室,100级超净袋封装 相关产品:A-Z系列晶体列表等离子清洗机 基片包装盒系列金刚石线切割机旋转图层机
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  • 产品名称:铝酸锶镧(LaSrAlO4)晶体基片产品简介:铝酸锶镧晶体从熔点温度直至低温下均无孪晶及相变,与高温超导体YBCO具有相同的结构,001面与其它衬底相比与YBCO001具有适中的晶格失配(2.5~3.5%),同时该晶体的热膨胀系数比其它钙钛矿结构的晶体低,可以在较低的温度下沉积薄膜从而改善晶格失配及减少应力。技术参数: 晶体结构 四方 晶胞参数? a=3.756 c=12.636 熔点℃ 1650 密度g/cm3 5.92 介电常数 16.8 生长方法 提拉法产品规格:常规晶向:001, 100 公差:+/-0.5度常规尺寸:10x10x0.5mm, 10x5x0.5mm抛光情况:单抛或双抛,Ra5A可按客户要求定制方向和尺寸。标准包装:1000级超净室100级超净袋包装 相关产品: Other SrLaAlO4 LaAlO3MgO LSAT基片包装盒系列 NdCaAlO4 NdGaO3 SrTiO3YSZ旋转涂层机
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  • 产品名称:EKSMA光学晶体BBO产品型号:BBO产品介绍β-硼酸钡-BBO是一种非线性光学晶体,具有许多独特的特性:宽透明区、宽相位匹配范围、大非线性系数、高损伤阈值。由于其优良的性能,BBO晶体在不同的应用中具有许多优势,如具有fsec脉冲的NOPA、Nd:YAG和Nd:YLF激光器的谐波产生(高达五分之一)、飞秒钛宝石和染料激光器的倍频或三倍频、Type 1和Type 2相位匹配的OPO、Pockels电池的E/O开关等。性能特点l 宽透明度区域l 宽相位匹配范围l 大非线性系数l 高伤害阈值l 宽的热接收带宽l 高光学均匀性技术参数产地:立陶宛平坦度:λ/8@633 nm平行度:<20弧秒垂直度:5 arcmin角度公差:30 arcmin孔径公差:±0.1 mm表面质量:根据MIL-O-13830A进行10/5刮擦和挖掘净孔径:全孔径的90%化学式:BaB2O4晶体结构:三角形,3米光学对称性:负单轴(none)空间组:R3c密度:3.85 g/cm3莫氏硬度:5光学均匀性:&PartialD n=10-6 cm-1“0”透射率水平下的透明度区域:189–3500 nm1064 nm处的线性吸收系数:0.1%cm-1
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  • 产品名称:铝酸锶钽镧(LSAT)晶体基片产品简介:LSAT(La,Sr)(Al,Ta) O3 是一种新的无孪晶钙钛矿晶体。 LSAT与高温超导体及多种氧化物材料有完好的匹配。LSAT的熔点低,用提拉法生长,成本比较低。因此,它有望取代LaAlO3/SrTiO3作为外延氧化物薄膜单晶基片广泛用于巨磁铁电及超导器件。技术参数:化学式:(La,Sr)(Al,Ta)O3晶体结构:立方: a = 3.868?生长方法:提拉法密度:6.74 g/cm3熔点:1840℃硬度:6.5 Mohs热膨胀系数:10 ×10-6/K介电常数:~ 22颜色及外观:根据退火状况由无色到浅棕色,无孪晶及可见畴 产品规格:常规尺寸:10x5x0.5mm、10 x 10 x 0.5 mm、dia2″x0.5mm ;基底常规晶向:100、110、111、晶向公差:+/-0.5度表面粗糙度Ra:5A注:可按照客户要求加工尺寸及方向。标准包装:1000级超净室100级超净袋或单片盒装相关产品: LSATLaAlO3 MgO NdCaAlO4NdGaO3 SrTiO3SrLaAlO4 SrLaGaO4YSZ
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  • Bi12SiO20晶体基片 400-860-5168转2205
    产品名称: 硅酸铋(Bi12SiO20)晶体基片产品简介:硅酸铋(Bi12SiO20)晶体基片简称(BSO)是声表面波器件、体声波器件、全息记忆以及电光器件的极好材料. 技术参数:晶向:100,110晶体结构:立方晶格常数:a=10.146?生长方法:提拉法熔点:930℃密度:9.2g/cm3莫氏硬度:4.5 Mohs介电常数:εS11/ε0 42.7、εT11/ε0 47.5弹性劲度系数( x1011N/m2):CE11 1.33、CE44 0.25压电应变常数 (C/m2 ):e14 1.01透过范围 (nm):470~7500电光系数 (x10-12m/V ): r41 5折射率: 2.45 @ 632.8nm折射率梯度 (x10-5/cm ): ≤5 @ 632.8nm旋光性 (mm-1 ): 左边20° @632.8nm透光性 (%): 69 @632.8nm 产品规格:常规晶向:001、100晶向公差:±0.5°常规尺寸:10x10x0.5mm;25x25x0.5mm; 30x30x0.5mm 50x50x0.5mm;抛光情况:细磨、双抛 注:可以根据客户要求提供特殊的尺寸及方向。 标准包装:1000级超净室,100级超净袋或单片盒封装
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  • 氧化镁(MgO)晶体基片 400-860-5168转2205
    产品名称:氧化镁(MgO)晶体基片产品简介:氧化镁(MgO)是极好的单晶基片而广泛应用于制作铁电薄膜、磁学薄膜、光电薄膜和高温超导薄膜等,由于它在微波波段的介电常数和损耗都很小,且能得到大面积的基片(直径2英吋及更大),所以是当前产业化的重要高温超导薄膜单晶基片之一。 可用于制作移动通讯设备所需的高温超导微波滤波器等器件。科晶公司用一种特殊的电弧法生长出高纯度的尺寸约2”x2”x 1”的低成本的MgO单晶,采用化学机械抛光制备出高质量原子级表面的基片。技术参数:晶体结构立方晶格常数a=4.216?生长方法电弧法熔点2850℃密度3.58g/cm3莫氏硬度5.5 Mohs热膨胀系数12.8×10-6/℃介电常数9.8光学透过 90% @ 200 ~ 400 nm 98 % 500 ~ 1000 nm晶体解理面100产品规格:100, 110, 111公差:+/-0.5度dia2"x0.5mm, 10x10x0.5mm, 10x5x0.5mm单抛或双抛,(111 Ra15A,100和110 Ra5A)注:可按客户需求定制相应的方向和尺寸。标准包装:1000级超净室,100级超净袋或单片盒封装 相关产品: LSAT LaAlO3MgO NdCaAlO4 NdGaO3SrTiO3SrLaAlO4SrLaGaO4 YSZ
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  • 产品名称:铝酸镁(MgAl2O4)晶体基片产品简介:铝酸镁(尖晶石)单晶广泛应用于声波和微波器件及快速IC外延基片。同时研究发现它是好的III-V族氮化物器件的衬底。MgAl2O4晶体由于很难维持它的单晶结构而难以生长,经过几年的努力,目前科晶公司能够提供世界上质量最优尺寸的MgAl2O4晶体。技术参数:晶体结构立方晶格常数a=8.085?生长方法提拉法熔点2130℃密度3.64g/cm3莫氏硬度 8 Mohs热膨胀系数7.45×10-6/℃声速6500m/s ,[100]剪切波传播损耗(9GHz)6.5db/us颜色及外观白色透明产品规格:常规晶向:100、110、111公差:+/-0.5度常规尺寸:dia2"x0.5mm, 10x10x0.5mm, 10x5x0.5mm;抛光情况:单抛或双抛;表面粗糙度Ra:5A注:可按客户要求定制方向和尺寸。标准包装:1000级超净室,100级超净袋或单片盒封装 相关产品: ZnOSiCGaNMgAl2O4 (spinel)LiGaO2Other Al2O3 AlN template 基片包装盒系列等离子清洗机薄膜制备设备
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  • 13N高纯锗晶体HPGe 400-860-5168转3524
    高纯锗晶体(12N,13N) 1、晶体习性与几何描述: 该晶体使用直拉法在晶体(100)方向延伸。圆柱形表面(表面光洁度小于2.5 μm RMS)。经红外成像法检测晶体结构稳定可靠。晶体几个结构由直径和长度决定。当一个晶体属于原生态晶体时,其当量直径为: D ----外形尺寸当量直径 W----锗晶体重量 L-----晶体长度 测量值是四舍五入最小可达到毫米级别。为了便于订单出货,我们会依据晶体的体积、直径和长度进行分类。同时我们可以满足客户的特殊需求,提供定制服务。 2、纯度:残留载荷 最大允许净载流子杂质浓度与探头二极管的几个构造有关,请参照如列公式。其纯度依据据霍尔效应测量和计算。 同轴探测器:同轴探测器适用于下列公式: Nmax = 每立方厘米最大杂质含量 VD = 耗尽层电压 = 5000 V εo = 介电常数 = 8,85 10-14 F/cm εr = 相对介电常数(Ge) = 16 q = 电子电荷1,6 10-19C (elementary charge) r1 = 探测器内孔半径 r2 = 探测器外孔半径 3、纯度 : 假如晶体表面半径减少2mm,由于锂的漫射和刻蚀,内径8毫米的内孔半径, 适用公式变为: D = 晶体外表面 平面探测器:平面探测器(厚度小于2厘米)适用于以下公式: d=探测器外观尺寸厚度 径向分散载荷子(绝对值) 迁移:霍尔迁移 性能: P 型晶体 μH ≥ 10000 cm2/V.s N 型晶体 μH ≥ 10000 cm2/V.s 能级: P 型晶体 通过深能瞬态测量,Cutot ≤ 4.5*109 cm-3 N 型晶体 通过深能瞬态测量点缺陷 5*108 cm-3 晶体主要指标: P 型晶体 N 型晶体 错位密度 ≤ 10000 ≤ 5000 星型结构 ≤ 3 ≤ 3 镶嵌结构 ≤ 5 ≤ 5 4、高纯度高纯锗HPGe晶体说明: 高纯锗晶体产地法国物理性质颜色银灰色属性半导体材料密度5.32g/cm3熔点937.2℃沸点2830℃ 技术指标材料均匀度特级光洁度特优纯度99.99999%-99.99999999999%(7N-13N)制备方式锗单晶是以区熔锗锭为原料,用直拉法(CZ)法或者垂直梯度法(VGF法)等方法制备的锗单晶体。产品规格P、N型按客户要求定制产品用途超高纯度,红外器件、γ辐射探测器P型N型高纯锗在高纯金属锗中掺入三价元素如铟、镓、硼等,得到p型锗;在高纯金属锗中掺入五价元素如锑、砷、磷等,得到n型锗。交货期90天
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  • 12N高纯锗晶体HPGe 400-860-5168转3524
    高纯锗晶体(12N,13N) 1、晶体习性与几何描述: 该晶体使用直拉法在晶体(100)方向延伸。圆柱形表面(表面光洁度小于2.5 μm RMS)。经红外成像法检测晶体结构稳定可靠。晶体几个结构由直径和长度决定。当一个晶体属于原生态晶体时,其当量直径为: D ----外形尺寸当量直径 W----锗晶体重量 L-----晶体长度 测量值是四舍五入最小可达到毫米级别。为了便于订单出货,我们会依据晶体的体积、直径和长度进行分类。同时我们可以满足客户的特殊需求,提供定制服务。 2、纯度:残留载荷 最大允许净载流子杂质浓度与探头二极管的几个构造有关,请参照如列公式。其纯度依据据霍尔效应测量和计算。 同轴探测器:同轴探测器适用于下列公式: Nmax = 每立方厘米最大杂质含量 VD = 耗尽层电压 = 5000 V εo = 介电常数 = 8,85 10-14 F/cm εr = 相对介电常数(Ge) = 16 q = 电子电荷1,6 10-19C (elementary charge) r1 = 探测器内孔半径 r2 = 探测器外孔半径 3、纯度 : 假如晶体表面半径减少2mm,由于锂的漫射和刻蚀,内径8毫米的内孔半径, 适用公式变为: D = 晶体外表面 平面探测器:平面探测器(厚度小于2厘米)适用于以下公式: d=探测器外观尺寸厚度 径向分散载荷子(绝对值) 迁移:霍尔迁移 性能: P 型晶体 μH ≥ 10000 cm2/V.s N 型晶体 μH ≥ 10000 cm2/V.s 能级: P 型晶体 通过深能瞬态测量,Cutot ≤ 4.5*109 cm-3 N 型晶体 通过深能瞬态测量点缺陷 5*108 cm-3 晶体主要指标: P 型晶体 N 型晶体 错位密度 ≤ 10000 ≤ 5000 星型结构 ≤ 3 ≤ 3 镶嵌结构 ≤ 5 ≤ 5 4、高纯度高纯锗HPGe晶体说明: 高纯锗晶体产地美国物理性质颜色银灰色属性半导体材料密度5.32g/cm3熔点937.2℃沸点2830℃ 技术指标材料均匀度特级光洁度特优纯度99.99999%-99.99999999999%(7N-13N)制备方式锗单晶是以区熔锗锭为原料,用直拉法(CZ)法或者垂直梯度法(VGF法)等方法制备的锗单晶体。产品规格P、N型按客户要求定制产品用途超高纯度,红外器件、γ辐射探测器P型N型高纯锗在高纯金属锗中掺入三价元素如铟、镓、硼等,得到p型锗;在高纯金属锗中掺入五价元素如锑、砷、磷等,得到n型锗。交货期90天
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  • 产品名称:铝酸镧(LaAlO3)晶体基片产品简介:LaAlO3晶体对多种钙钛矿结构材料晶格匹配好,是外延生长高温超导薄膜和巨磁阻薄膜极好的衬底材料,其介电性能适合于低损耗微波及介电共振方面的应用。科晶公司是世界上现有铝酸镧单晶最大的生长厂家,每月能生产10~20公斤,可以提供棒、切割毛坯片及外延抛光基片,能满足全球市场上的各种需求。技术参数:晶向:100、110、111、晶体结构:赝立方晶格常数:a=3.792?生长方法:提拉法熔点:2080℃密度:6.52g/cm3莫氏硬度:6.5 Mohs热膨胀系数:10×10-6/℃介电常数:25损耗正切(10GHz):~3×10-4@300K,~0.6×10-4@77K颜色及外观:依退火状况而不同,由棕黄色到褐色,抛光基片有自然孪晶畴。化学稳定性:室温下不溶于矿物酸,温度大于150℃时可溶于H3PO4 产品规格:常规尺寸:5x5x0.5mm、10 x 10 x 0.5 mm、dia1″x0.5mm、dia2″x0.5mm ;常规晶向:100、110、111、晶向公差:+/-0.5度抛光情况:单抛或双抛 (110 Ra15A,100和111 Ra5A)注:可按照客户要求加工尺寸及方向。标准包装:1000级超净室100级超净袋或单片盒装 相关产品: LSAT LaAlO3GGGNdCaAlO4 YSZSrTiO3SrLaAlO4 NdGaO3Crystal A-Z基片包装盒系列RTP快速退火炉旋转涂层机
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  • 碳酸钙(CaCO3)晶体基片 400-860-5168转2205
    产品名称:碳酸钙(CaCO3)晶体基片 产品简介:碳酸钙(CaCo3)又称方解石是一种非单轴晶体,双折射大,光谱传播范围宽,呈一定大小的菱形状,适用于可见和近红外偏振材料。科晶公司严格挑选自然生长的碳酸钙原材料,提供高质量低价格的碳酸钙晶体。 技术参数:晶体结构:三方 a= 4.989 c= 17.062 熔点: 1339 oC 密度:2.71 g/cm3 透过范围:350nm - 2300nm硬度:3 Mohs热膨胀系数:aa = 24.39 x10-6/K ac = 5.68 x10-6/K非单轴 no=na=nb , ne=nc 折射率:no = 1.6557,ne = 1.4852,Dh = -0.1705, r = 6.20o at 0.63 umno = 1.6629, ne = 1.4885, Dh = -0.1744, r = 6.32o at 1.30 um半方程(波长单位mm):no2= 2.69705 + 0.0192064/( λ 2 –0.01820) – 0.0151624 λ 2ne2 = 2.18438 + 0.0087309/( λ 2 –0.01018) – 0.0024411 λ 2 产品参数:晶体尺寸:10x10x0.5 mm ; 1"x1"x1.0 mm ;2"x2"x1.2 mm 表面质量:20/10; 尺寸公差:± 0.1 mm; 光束偏离: 3 arc min;光轴方向:+/- 0.5o;平面度: l/4 @ 632.8 nm; 发射波前变: l/2 @ 632.8 nm; 增透镀膜: Reflectance 0.5%.表面粗糙度Ra:5A 标准包装:1000级超净室100级超净袋或单片盒封装 相关产品:A-Z系列晶体列表等离子清洗机 基片包装盒系列切割机旋转涂层机
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  • 产品名称:铝酸钕钙(NdCaAlO4)晶体基片产品简介:技术参数:晶体结构:四方晶格常数:a=3.685 c=12.12 生长方法:提拉法熔点:1850℃密度:5.56g/cm3莫氏硬度Mohs热膨胀系数12×10-6/℃介电常数19.5 产品规格:常规尺寸:10 x 10 x 0.5 mm、5x5x0.5mm;常规晶向:001晶向公差:+/-0.5度抛光情况:单抛或双抛 表面粗糙度Ra5A注:可按照客户要求加工尺寸及方向。标准包装:1000级超净室100级超净袋或单片盒装 相关产品: LSAT LaAlO3MgO薄膜制备设备NdCaAlO4 NdGaO3 SrTiO3基片包装盒系列 SrLaAlO4SrLaGaO4 YSZ等离子清洗机
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  • Al2O3 晶体基片 400-860-5168转2205
    产品名称:三氧化二铝(Al2O3)晶体基片 产品简介:Al2O3单晶(Sapphire,又称白宝石,蓝宝石)有着很好的热特性,极好的电气特性和介电特性,并且防化学腐蚀,它耐高温,导热好,硬度高,透红外,化学稳定性好。广泛用于耐高温红外窗口材料和III-V族氮化物及多种外延薄膜基片材料,为满足日益增长的蓝、紫、白光发光二极管(LED)和蓝光激光器(LD)的需要,科晶公司专业生产高质量的蓝宝石晶体和外延抛光基片,将为您提供大量高质量低价格的单晶和基片。 技术参数:晶体结构六方 a =4.758 ? c= 12.992 ?结晶方向(11-20 ) - a plane: 2.379 ? (1-102) - r plane: 1.740 ? (10-10) - m plane: 1.375 ? (0001) - c plane: 2.165 ? 单晶纯度 99.99% 熔点2040 oC 密度3.98 g/cm3 硬度9 ( mohs)热膨胀7.5 (x10-6/ oC) 热容0.10( cal / oC) 热导46.06 @ 0 oC 25.12 @ 100 oC, 12.56 @ 400 oC ( W/(m.K) )介电常数~ 9.4 @300K at A axis ~ 11.58@ 300K at C axis 正切损耗 2x10-5 at A axis , 5 x10-5 at C axis产品规格: C, A, M, R 公差:±0.5度dia3"x0.5mm, dia2"x0.5mm, 10x10x0.5mm, 10x5x0.5mm单抛或双抛,Ra5A 注:可按客户需求定制相应的方向和尺寸。标准包装:1000级超净室,100级超净袋或单片盒封装 可点击链接相关产品:ZnOSiCGaNMgAl2O4 (spinel)LiGaO2Other Al2O3 AlN template 基片、镊子、包装盒系列等离子清洗设备薄膜制备设备
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  • 产品名称:(日本料)掺铌钛酸锶(Nb:SrTiO3)晶体基片产品简介:掺铌钛酸锶单晶与纯钛酸锶有相似的结构,但有电导性。掺铌钛酸锶的电阻率在0.1 – 0.001 W-cm之间变化随着掺铌浓度在0.01 ~ 0.001 wt %之间不同。传导的单晶基片为薄膜和器件提供了电极。科晶提供高质量低成本的掺铌钛酸锶基片。产品参数:晶体结构:Cubic, a=3.905 A 生长方法:Vernuil密度:5.175 g/cm3熔点:2080 ℃硬度:6 ( Mohn)热膨胀系数:10.4 (x10-6/ ℃)电阻率:0.007 ohm-cm for 0.7% doped and 0.08 ohm-cm for 0.1% doped损耗角正切at 10 GHz:~5x10-4 @ 300K , ~3 x10-4 @77K颜色和表象:黑色,化学稳定性好不溶于水产品规格:表面抛光:单抛或双抛,Ra 5?;标准方向:100 ± 0.5o ;标准尺寸:10x10x0.5mm, 5x5x0.5 mm.;日本料Nb:SrTiO3可按照客户要求加工备注:等离子清洗器专业清洗(详情请点击) 相关产品:SrTiO3LSATLaAlO3MgO薄膜制备仪硅材料综合测试仪 SrLaAlO4NdCaAlO4NdGaO3YSZ晶片盒等离子清洗/臭氧清洗机
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  • HPGe高纯锗晶体High Purity Germanium Single Crystal – P Type9N,10N,11N,12N,13N 1、晶体习性与几何描述: 该晶体使用直拉法在晶体(100)方向延伸。圆柱形表面(表面光洁度小于2.5 μm RMS)。经红外成像法检测晶体结构稳定可靠。晶体几个结构由直径和长度决定。当一个晶体属于原生态晶体时,其当量直径为: D ----外形尺寸当量直径 W----锗晶体重量 L-----晶体长度 测量值是四舍五入最小可达到毫米级别。为了便于订单出货,我们会依据晶体的体积、直径和长度进行分类。同时我们可以满足客户的特殊需求,提供定制服务。 2、纯度:残留载荷 最大允许净载流子杂质浓度与探头二极管的几个构造有关,请参照如列公式。其纯度依据据霍尔效应测量和计算。 同轴探测器:同轴探测器适用于下列公式: Nmax = 每立方厘米最大杂质含量 VD = 耗尽层电压 = 5000 V εo = 介电常数 = 8,85 10-14 F/cm εr = 相对介电常数(Ge) = 16 q = 电子电荷1,6 10-19C (elementary charge) r1 = 探测器内孔半径 r2 = 探测器外孔半径 3、纯度 : 假如晶体表面半径减少2mm,由于锂的漫射和刻蚀,内径8毫米的内孔半径, 适用公式变为: D = 晶体外表面 平面探测器:平面探测器(厚度小于2厘米)适用于以下公式: d=探测器外观尺寸厚度 径向分散载荷子(绝对值) 迁移:霍尔迁移 性能: P 型晶体 μH ≥ 10000 cm2/V.s N 型晶体 μH ≥ 10000 cm2/V.s 能级: P 型晶体 通过深能瞬态测量,Cutot ≤ 4.5*109 cm-3 N 型晶体 通过深能瞬态测量点缺陷 5*108 cm-3 晶体主要指标: P 型晶体 N 型晶体 错位密度 ≤ 10000 ≤ 5000 星型结构 ≤ 3 ≤ 3 镶嵌结构 ≤ 5 ≤ 5 4、高纯度高纯锗HPGe晶体说明: 高纯锗晶体产地法国物理性质颜色银灰色属性半导体材料密度5.32g/cm3熔点937.2℃沸点2830℃ 技术指标材料均匀度特级光洁度特优纯度99.99999%-99.99999999999%(7N-13N)制备方式锗单晶是以区熔锗锭为原料,用直拉法(CZ)法或者垂直梯度法(VGF法)等方法制备的锗单晶体。产品规格P、N型按客户要求定制产品用途超高纯度,红外器件、γ辐射探测器P型N型高纯锗在高纯金属锗中掺入三价元素如铟、镓、硼等,得到p型锗;在高纯金属锗中掺入五价元素如锑、砷、磷等,得到n型锗。交货期90天
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  • 产品名称:三氧化二铝(Al2O3)晶体基片产品简介:Al2O3单晶(Sapphire,又称白宝石,蓝宝石)有着很好的热特性,极好的电气特性和介电特性,并且防化学腐蚀,它耐高温,导热好,硬度高,透红外,化学稳定性好。广泛用于耐高温红外窗口材料和III-V族氮化物及多种外延薄膜基片材料,为满足日益增长的蓝、紫、白光发光二极管(LED)和蓝光激光器(LD)的需要,科晶公司专业生产高质量的蓝宝石晶体和外延抛光基片,将为您提供大量高质量低价格的单晶和基片。 技术参数: 晶体结构六方 a =4.758 ? c= 12.992 ?结晶方向(11-20 ) - a plane: 2.379 ? (1-102) - r plane: 1.740 ?(10-10) - m plane: 1.375 ? (0001) - c plane: 2.165 ? 单晶纯度 99.99% 熔点2040 oC 密度3.98 g/cm3 硬度9 ( mohs)热膨胀7.5 (x10-6/ oC) 热容0.10( cal / oC) 热导46.06 @ 0 oC 25.12 @ 100 oC, 12.56 @ 400 oC ( W/(m.K) )介电常数~ 9.4 @300K at A axis ~ 11.58@ 300K at C axis正切损耗 2x10-5 at A axis , 5 x10-5 at C axis产品规格:常规晶向:C, A, M, R 公差:+/-0.2度产品尺寸:dia3"x0.5mm, dia2"x0.5mm, 10x10x0.5mm, 10x5x0.5mm抛光情况:单抛或双抛,Ra5A注:可按客户需求定制相应的方向和尺寸。标准包装:1000级超净室,100级超净袋或单片盒封装 相关产品: Crystal wafer A-Z等离子清洗机基片包装盒系列切割机薄膜制备设备
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