离子存储薄膜

产品名称：等离子薄膜溅射仪 GSL-1100X-SPC-12产品简介：GSL-1100X-SPC-12型等离子薄膜溅射仪是为扫描电镜和电子探针等进行试样制备的设备，可进行真空蒸碳、真空镀膜和离子溅射，它也可以在高纯氩气的保护之下进行多种离子处理。用本设备处理的试样既可用于样品的外貌观察又可以进行成分分析，尤其是成分的定量分析更为适宜。本仪器装有分子泵，分子泵系统特别适用于对真空要求高、真空环境好的用户选用。 我公司供应的产品符合国家有关环保法律法规的规定（含采购商ISO14000环境体系要求），不会造成环境污染； 该产品符合采购商OHSMS18000职业安全健康管理体系标准的要求，不会对接触产品的人员健康造成损害！主要特点：抽速快，操作简便，真空度高，安全可靠技术参数：●试样处理室 （1）钟罩：内径250mm× 高度340mm （2）玻璃处理室： 玻璃罩 A：内径88mm× 高度140mm 玻璃罩 B：内径88mm× 高度57mm （3）试样台：直径40mm（最大） （4）试样旋转：电动 （5）挡板：电动 （6）蒸发加热器：可同时安装两个加热器 ●真空系统 （1）抽气系统：由分子泵、机械泵组成的高真空机组 （2）真空检测：热偶计、冷规 （3）常用真空度：1.3× 10-2 ~6× 10-3Pa （4）操作：手动 ●处理电源 （1）高压电源：DC3千伏10mA连续可变，用表指示。 （2）低压电源：AC10V100A连续可变，电流用表指示。 （3）电源要求：AC220V 50HZ 10A ●气体要求 氩气纯度99.9%（对样品有特殊要求时可使用） ●冷却要求 本系统采用F100/110F―普通轴承风冷涡轮分子泵，其冷却方式为风扇强制风冷和通水冷却两种，当工作环境低于32℃时，可采用风冷冷却，当工作环境温度高于32℃时，则必须采用水冷。重量：约150公斤 体积：L800mm× W560mm× H1340mm可选配件：氧化铝坩埚，石英坩埚，真空泵等具体信息请点击查看：

【ITO薄膜测厚仪 电池薄膜厚度测定仪 接触式薄膜厚度测试仪】ITO薄膜是一种n型半导体材料，具有高的导电率、高的可见光透过率、高的机械硬度和良好的化学稳定性。它是液晶显示器（LCD）、等离子显示器（PDP）、电致发光显示器（EL/OLED）、触摸屏（TouchPanel）、太阳能电池以及其他电子仪表的透明电极最常用的薄膜材料。ITO薄膜是一种很薄的金属薄膜，在透明导电薄膜方面得到普遍的应用，具有广阔的前景。但薄膜的厚度是否均匀直接关系到企业的生产成本控制，所以对ITO薄膜厚度的高精度测量，是企业必须重视的检测项目之一。Labthink兰光研发生产的CHY-C2A测厚仪，采用机械接触式测量方式，严格符合标准要求，有效保证了测试的规范性和准确性。专业适用于量程范围内的塑料薄膜、薄片、隔膜、纸张、箔片、硅片等各种材料的厚度精确测量。设备分辨率高达0.1微米，配置的自动进样系统，使用户可自行设置进样步距、测量点数和进样速度，大大提高了薄膜厚度测试效率。 ITO薄膜测厚仪技术特征：负荷量程：0～2 mm（常规）　　　　　0～6 mm；12 mm （可选）分辨率：0.1 μm测量速度：10 次/min （可调）测量压力：17.5±1 KPa（薄膜）；50±1 KPa（纸张）接触面积：50 mm2（薄膜）；200 mm2（纸张）　　　　　注：薄膜、纸张任选一种；非标可定制电源：220VAC 50Hz / 120VAC 60Hz外形尺寸：461mm(L)×334mm(W)×357mm(H)净重：32kg 以上【ITO薄膜测厚仪 电池薄膜厚度测定仪 接触式薄膜厚度测试仪】信息由济南兰光机电技术有限公司发布，如欲了解更详细信息，欢迎致电0531-85068566垂询！

产品简介：GSL-1100X-SPC-12等离子薄膜溅射仪专门为在基底上镀金属膜（如金、铂、铟、银等）而设计，最大放置样品尺寸直径为40mm，膜厚可达300?，特别适用于为SEM样品镀金而作为导电极。 GSL-1100X-SPC-12等离子薄膜溅射仪操作视频 产品型号 GSL-1100X-SPC-12等离子薄膜溅射仪安装条件本设备要求在海拔1000m以下，温度25℃±15℃，湿度55%Rh±10%Rh下使用。1、水：不需要2、电：AC220V 50Hz，必须有良好接地3、气：设备腔室内需充注氩气（纯度99.99%以上）清洗，需自备氩气气瓶4、工作台：尺寸600mm×600mm×700mm，承重50kg以上5、通风装置：需要主要特点 1、可以调节电流大小，可设置溅射时间。 2、已经过CE认证。技术参数 1、输入电源：208V-240V 50Hz/60Hz 2、样品台：?60mm，高度可调节 3、石英腔体：?100mm×130mm 4、进气口：内部装有阀门，可以向腔体内通入各种气体 5、靶材：纯度为4N的金靶，?57mm×0.12mm 产品规格　尺寸：480mm×320mm×150mm；重量：20kg可选配件 1、Au（?57mm×0.12mm，4N） 2、Pt（?57mm×0.12mm，4N） 3、Ag（?57mm×0.5mm，4N）

概述：沉积系统可用于制备光学薄膜、电学薄膜、磁性薄膜、硬质保护薄膜和装饰薄膜等，工艺性能稳定、模块化结构，采用行业最好的软件控制系统；4英寸镀膜区域内片内膜厚不均匀性：≤±2.5%，8英寸镀膜区域内片内膜厚不均匀性：≤±3.5%，测定标准以Ti靶材，溅射200——500nm厚薄膜，边缘去5mm，随机5点取样测定为准。样品托面中心到地面的高度约1360mm；镀膜材料适用于：Au、Ag、Pt、W、Mo、Ta、Ti、Al、Si、Cu、Fe、Ni、氧化铝，氧化钛，氧化锆，ITO，AZO，氮化钽，氮化钛等；PVD平台概述：既专注单一功能、又可通过拓展实现多平台联动： 1、 关键部件接口都为标准接口，可以通过更换功能单元实现电子束、电阻蒸发、有机蒸发、多靶或单靶磁控溅射、离子束、多弧、样品离子清洗等功能；2、 系统平台为准无油系统，提供更优质的超洁净实验环境，保障实验结果的可靠性和重复性；3、 系统可以选择单靶单样品、多靶单样品等多层沉积方式；4、 靶基距具有腔外手动调节功能；5、 系统设置一键式操作，可以实现自动手动切换、远程控制、远程协助等功能；6、 控制软件分级权限管理，采用配方式自动工艺流程，提供开放式工艺编辑、存储与调取执行、历史数据分析等功能，可以不断更新和升级；7、 可以提供网络和手机端查询控制功能（现场要具备局域网络），实现随时查询数据记录、分析统计等功能；8、 节能环保，设备能耗优化后运行功率相比之前节能10%；； 9、 可用于标准镀膜产品小批量生产。 互联系统技术描述 真空互联系统由物理气相沉积磁控溅射系统A、物理气相沉积磁控溅射系统B、物理气相沉积、电子束及热阻蒸发镀膜系统A、物理气相沉积电子束及热阻蒸发镀膜系统B、进样室、出样室、传输管、机械手等组成，可以实现样品在真空环境下不同工艺方法的样品薄膜制备和传递。

薄膜塑料介电常数测试仪Q合格指示预置功能: 预置范围：5～1000。测试仪正常工作条件a. 环境温度：0℃～+40℃；b．相对湿度：80％；c．电源：220V±22V，50Hz±2.5Hz。薄膜塑料介电常数测试仪1．a．消耗功率：约25W；b．净重：约7kg；c. 外型尺寸：（l×b×h）mm：380×132×280。1 测量范围及误差 本电桥的环境温度为20±5℃，相对湿度为30％－80％条件下，应满足下列表中的技术指示要求。 在Cn＝100pF R4＝3183.2（W）（即10K/π）时 测量项目 测量范围 测量误差 电容量Cx 40pF--20000pF ±0.5% Cx±2pF 介质损耗tgd 0～1 ±1.5％tgdx±0.0001 在Cn＝100pF R4＝318.3（W）（即1K/π）时 测量项目 测量范围 测量误差 电容量Cx 4pF--2000pF ±0.5% Cx±3pF 介质损耗tgd 0～0.1 ±1.5％tgdx±0.0001薄膜塑料介电常数测试仪　一些介质在电场极化时也会产生损耗，这种损耗一般称极化损耗。位移极化从建立极化到其稳定所需时间很短（约为10-16～10-12s），这在无线电频率（5×1012Hz 以下）范围均可认为是极短的，因此基本上不消耗能量。其他缓慢极化（例如松弛极化、空间电荷极化等）在外电场作用下，需经过较长时间（10-10s或更长）才达到稳定状态，因此会引起能量的损耗。若外加频率较低，介质中所有的极化都能完全跟上外电场变化，则不产生极化损耗。若外加频率较高时，介质中的极化跟不上外电场变化，于是产生极化损耗。 [2]3）电离损耗　　电离损耗（又称游离损耗）是由气体引起的，含有气孔的固体介质在外加电场强度超过气孔气体电离所需要的电场强度时，由于气体的电离吸收能量而造成指耗，这种损耗称为电离损耗。4）结构损耗在高频电场和低温下，有一类与介质内邻结构的紧密度密切相关的介质损耗称为结构损耗。这类损耗与温度关系不大，耗功随频率升高而增大。试验表明结构紧密的晶体成玻璃体的结构损耗都很小，但是当某此原因（如杂质的掺入、试样经淬火急冷的热处理等）使它的内部结构松散后。其结构耗就会大大升高。薄膜塑料介电常数测试仪在交变电场作用下，电位移D与电场强度E均变为复数矢量，此时介电常数也变成复数，其虚部就表示了电介质中能量损耗的大小。D，E，J之间的相位关系图D，E，J之间的相位关系图如图所示，从电路观点来看，电介质中的电流密度为J=dD/dt=d（εE）/dt=Jτ+iJe式中Jτ与E同相位。称为有功电流密度，导致能量损耗；Je，相比较E超前90°，称为无功电流密度。定义tanδ=Jτ/Je=ε〞/εˊ式中，δ称为损耗角，tanδ称为损耗角正切值。损耗角正切表示为获得给定的存储电荷要消耗的能量的大小，是电介质作为绝缘材料使用时的重要评价参数。为了减少介质损耗，希望材料具有较小的介电常数和更小的损耗角正切。损耗因素的倒数Q=（tanδ）-1在高频绝缘应用条件下称为电介质的品质因素，希望它的值要高。 薄膜塑料介电常数测试仪紧密结构的晶体离子都排列很有规则，键强度比较大，如α-Al2O3、镁橄榄石晶体等，在外电场作用下很难发生离子松弛极化，只有电子式和离子式的位移极化，所以无极化损耗，仅有的一点损耗是由漏导引起的（包括本质电导和少量杂质引起的杂质电导）。这类晶体的介质损耗功率与频率无关，损耗角正切随频率的升高而降低。因此，以这类晶体为主晶相的陶瓷往往用在高频场合。如刚玉瓷、滑石瓷、金红石瓷、镁橄榄石瓷等结构松散的离子晶体，如莫来石（3Al2O32SiO2）、董青石（2MgO2Al2O35SiO2）等，其内部有较大的空隙或晶格畸变，含有缺陷和较多的杂质，离子的活动范围扩大。在外电场作用下，晶体中的弱联系离子有可能贯穿电极运动，产生电导打耗。弱联系离子也可能在一定范围内来回运动，形成热离子松弛，出现极化损耗。所以这类晶体的介质损耗较大，由这类品体作主晶相的陶瓷材料不适用于高频，只能应用于低频场合。整个显示屏共分为四行第一行：左边 信号源频率指示，共6位；右边 信号源虚拟频段指示（1-4）。第二行：左边 调谐电容指示值，4位；右边 电感指示值，4位。第三行：左边 Q值指示值；右边 Q值合格比较状态 。第四行：左边 Q值量程，手动/自动切换指示/调谐点自动搜索指示； 右边上部 Q值量程范围指示；右边下部 Q值调谐光带指示。

PHI 4700薄膜分析仪产品介绍产品名称：薄膜分析仪产品型号：PHI 4700品 牌：日本ULVAC-PHI产 地：日本前言在开发新材料及薄膜制程上，为了有助于了解材料组成间的相互作用及解决制程上的问题，材料组成或薄膜迭层的深度分析是非常重要的。PHI 4700使用了AES分析技术为基础，搭配高感度半球型能量分析器、10 kV LaB6扫瞄式电子枪、5 kV浮动柱状式Ar离子枪及高精密度自动样品座。针对例行性的俄歇纵深分析、微区域的故障分析，提供了全自动与及高经济效益的解决方法。PHI 4700是建基于Ulvac-Phi公司的高性能PHI 700Xi俄歇扫描纳米探针。它提供了高度自动化，成本效益的方案进行例行俄歇深度分析和微米范围的故障分析。 PHI 4700可以轻易的配备上互联网的设备，以供远程操作或监控之用。优点量化薄膜的成分 层的厚度测量检测相互扩散层 微米范围多点分析基本规格全自动多样品纵深分析: PHI 4700薄膜分析仪在微小区域之纵深分析拥有绝佳的经济效益，可在SEM上特定微米等级之微小区域快速进行深度分析。图2显示长年使用的移动电话镀金电极正常与变色两个样品之纵深分析结果，两者材质皆为镀金之锡磷合金。从电极二（变色电极）可看到金属锡扩散到镀金膜上，因为界面的腐蚀而产生氧及锡导致电极变色。高感度半球型能量分析器：PHI 4700半球形能量分析器和高传输输入镜头可提供最高的灵敏度和大幅缩短样品侦测时间。除此之外，具有全自动的量测功能，此装置可在短时间内测量多个样品。点选屏幕上软件所显示的样品座，可以记录欲量测的位置，对产品与制程管理上之数据搜集可进行个别分析。10 kV LaB6扫瞄式电子枪：PHI的06-220电子枪是基于一个以LaB6为电子源灯丝以提供稳定且长寿命电子枪的工具，主要在氩气溅射薄膜时进行深度分析。06-220电子枪还可以：产生二次电子成像，俄歇测绘和多点分析。在加速电压调节从0.2至10千伏。电子束的最小尺寸可保证小于80纳米。浮动柱状式Ar离子枪：PHI的FIG- 5B浮动柱状式Ar离子枪:提供离子由5伏到5千伏。大电流高能量离子束被用于厚膜，低能量离子束（250-500 V）用于超薄膜。浮动柱状式，确保高蚀刻率与低加速电压。物理弯曲柱会停止高能量的中性原子，从而改善了接口定义和减少对邻近地区的溅射。五轴电动样品台和Zalar方位旋转：PHI 15-680精密样品台提供5轴样品传送：X，Y，Z，旋转和倾斜。所有轴都设有摩打及软件控制，以方便就多个样品进行的自动纵深分析。样品台提供Zalar（方位角）旋转的纵深剖析，透过减少构件与溅射在一个固定样本的位置，以优化纵深分析。PHI SmartSoft用户界面：PHI SmartSoft是一个被认同为方便用者使用的操作仪器软件。软件透过任务导向和卷标横跨顶部的显示指导用户从输入样品，定义分析点，并设定分析。多个分析点的定义和最理想样品的定位是由一个强大的&ldquo 自动Z轴定位&rdquo 功能所提供。在广泛使用的软件设置，可让新手能够快速，方便地设立测量及其模板。可选用配备热/冷样品座样品真空传送付仪（Sample Transfer vessel）应用领域半导体薄膜产业微电子封装产业无机光电产业微摩擦学

GSL-1100X-SPC-12等离子薄膜溅射仪专门为在基底上镀金属膜（如金、铂、铟、银等）而设计，最大放置样品尺寸直径为40mm，膜厚可达300?，特别适用于为SEM样品镀金而作为导电极。主要特点1、可以调节电流大小，可设置溅射时间。2、已经过CE认证。技术参数1、输入电源：208V-240V 50Hz/60Hz2、样品台：Φ60mm，高度可调节3、石英腔体：Φ100mm×130mm4、进气口：内部装有阀门，可以向腔体内通入各种气体5、靶材：纯度为4N的金靶，Φ57mm×0.12mm 产品规格尺寸：480mm×320mm×150mm重量：20kg可选配件1、Au（Φ57mm×0.12mm，4N）2、Pt（Φ57mm×0.12mm，4N）3、Ag（Φ57mm×0.5mm,4N）

东莞市雨菲电子科技有限公司成立于2015年，其前身为成立于2008年的维特国际。薄膜开关厂位于东莞市虎门镇怀德管理区合森工业园内，占地4500平米， PCBA厂位于东莞虎门大宁创富赢家产业园内， 占地面积3500平米。雨菲电子地理位置优越，距高速出口5公里，紧邻深圳，广州，香港，距离深圳机场仅30分钟车程，距广州机场1小时车程。雨菲电子是一家致力于电阻式薄膜开关，电容触摸式薄膜开关, 电容触摸感应线路, 薄膜面板，薄膜面贴，触摸屏贴合, 触摸显示模组, 单片机开发，PCBA及整机解决方案提供的新兴高科技企业。 雨菲电子已通过ISO9001, ISO14001, ISO13485和OHSAS18001体系认证。是业内早通过ISO13485的医疗体系认证的薄膜开关工厂。 雨菲电子的产品广泛应用于医疗, 工控, 自动化, 轨道交通, 航空航海, 网络通讯, 消费电子, 仪器仪表, 农用机械, 设备制造等广泛领域。公司所有生产车间均为十万级无尘防静电车间, 其中印刷车间为万级。此外还有2间千级高精密高洁净度无尘车间用于进行屏幕贴合, 精密电子组装等业务。公司自建品质实验室, 包括盐雾测试机, 高低温环测, 寿命测试机, 凸包高度测试仪, 二次元, 曲线荷重测试仪等仪器设备。公司拥有4台半自动丝网印刷机, 2条全自动印刷生产线, 全自动打孔机, 自动冲床, 五金冲床, 真空贴合机,脱泡机等等. 洁净的生产环境, 先进的生产设备和测试仪器确保我司优异的产品质量!

薄膜透湿仪_薄膜透湿性测试仪W301B水蒸气透过率测试仪又叫透湿性测试仪。基于杯式法测试原理，是一款专业用于薄膜试样的水蒸气透过率测试仪，适用于塑料薄膜、复合膜等膜、片状材料与医疗、建材领域等多种材料的水蒸气透过率的测定。通过水蒸气透过率的测定，达到控制与调节材料的技术指标的目的，满足产品应用的不同需求。产品特点◎ 称重法测试原理，符合标准要求的间歇式称量，每次测量前系统自动清零，保证数据的统一性和准确性◎ 高清液晶触摸屏，内容更直观，操作更简便◎ 单次试验测试1个试样，过程全自动化，透湿杯升降称量由气缸控制，数据准确可靠◎ 创新循环除湿系统，内置真空泵，有效防止透湿杯上方湿度梯度的形成，保证测试的准确性◎ 宽范围、高精度、自动化温湿度控制，满足各种试验条件下的测试◎ 试验结果支持多格式存储和数据输出，包括实验报告 Excel、云端共享◎ 提供标准砝码快速校准模式，称量系统保证检测数据的准确性◎ 产品符合GMP用户三级权限◎ 可进行试验结果的单次、成组的统计分析◎ 具备 ISP 在线控制、升级功能，可按照要求远程更改试验功能◎ 专门的计算机通信软件，可进行试验的实时显示及数据的分析处理 、数据保存 测试原理W301B水蒸气透过率测试仪采用透湿杯称重法测试原理，在一定的温度下，使试样的两侧形成一特定的湿度差，水蒸气透过透湿杯中的试样进入干燥的一侧，通过测定透湿杯重量随时间的变化量，从而求出试样的水蒸气透过率等参数。 应用领域薄膜：适用于各种塑料薄膜、塑料复合薄膜、纸塑复合膜、土工膜、共挤膜、防水透气膜、 镀铝膜、铝箔、铝箔复合膜等膜状材料的水蒸气透过率测试片材：适用于各种工程塑料、橡胶、建材（建筑用防水材料）、保温材料等片状材料的 水蒸气透过率测试。如PP片材PVC片材、PVDC片材、尼龙片材等纸张、纸板：适用于纸张、纸板的水蒸气透过率测试纺织品、非纺织布：适用于纺织品、非纺织布等材料的水蒸气透过率测试薄膜透湿仪_薄膜透湿性测试仪技术指标测试范围：0.01 ~ 100 g/m224h0.1MPa（常规）测试精度：0.01 g/m224h0.1MPa系统分辨率：0.001 g/m224h0.1MPa试样数量：1 ~ 3件（数据各自独立）试验温度：室温 ~ 55°C（常规）控温精度：±0.5°C试验湿度：10%RH ~ 98%RH（标准90%RH）控湿精度：±2%RH测试面积：50 cm2试样厚度：≤ 3 mm （其他厚度要求可定做）载气流量：0 ~ 200 ml/min试验压力：≥0.20 MPa接口尺寸：1/8英寸金属管外形尺寸：440 mm (L) × 450 mm (W) × 450 mm (H)电 源：AC 220V 50Hz净 重：42 kg测试标准该仪器符合多项国家和国际标准：ISO 15106-2、ASTM F1249、GB/T 26253-2010、TAPPI T557、JIS K7129、YBB 00092003-2015 产品配置标准配置：主机、专业软件、通信电缆、取样器、手套选购件：标准膜、空压机备注：本机气源进口为1/8英寸金属管；气源、蒸馏水用户自备

东莞市雨菲电子科技有限公司成立于2015年，其前身为成立于2008年的维特国际。薄膜开关厂位于东莞市虎门镇怀德管理区合森工业园内，占地4500平米， PCBA厂位于东莞虎门大宁创富赢家产业园内， 占地面积3500平米。雨菲电子地理位置优越，距高速出口5公里，紧邻深圳，广州，香港，距离深圳机场仅30分钟车程，距广州机场1小时车程。雨菲电子是一家致力于电阻式薄膜开关，电容触摸式薄膜开关, 电容触摸感应线路, 薄膜面板，薄膜面贴，触摸屏贴合, 触摸显示模组, 单片机开发，PCBA及整机解决方案提供的新兴高科技企业。 雨菲电子已通过ISO9001, ISO14001, ISO13485和OHSAS18001体系认证。是业内早通过ISO13485的医疗体系认证的薄膜开关工厂。 雨菲电子的产品广泛应用于医疗, 工控, 自动化, 轨道交通, 航空航海, 网络通讯, 消费电子, 仪器仪表, 农用机械, 设备制造等广泛领域。公司所有生产车间均为十万级无尘防静电车间, 其中印刷车间为万级。此外还有2间千级高精密高洁净度无尘车间用于进行屏幕贴合, 精密电子组装等业务。公司自建品质实验室, 包括盐雾测试机, 高低温环测, 寿命测试机, 凸包高度测试仪, 二次元, 曲线荷重测试仪等仪器设备。公司拥有4台半自动丝网印刷机, 2条全自动印刷生产线, 全自动打孔机, 自动冲床, 五金冲床, 真空贴合机,脱泡机等等. 洁净的生产环境, 先进的生产设备和测试仪器确保我司优异的产品质量!

优化关键词：薄膜拉力机,电子拉力试验机,电子拉力机,智能电子拉力试验机,包装拉力机，薄膜拉力试验仪，电子拉力试验机，包装薄膜拉力仪，智能电子拉力机，塑料袋拉力机，胶带拉力测试仪，电脑拉力试验机，食品包装拉力测试机，智能拉力试验仪，薄膜拉力拉伸强度仪薄膜电子拉力机 薄膜拉力机 智能电子拉力试验机智能电子拉力试验机产品名称：电子拉力试验机，薄膜拉力试验机，剥离强度试验机，电子拉力机智能电子拉力试验机价格：优惠促销，欢迎致电咨询！智能电子拉力试验机产品用途：适用于塑料薄膜、复合材料、软质包装材料、塑料软管、胶粘剂、胶粘带、不干胶、医用贴剂、保护膜、组合盖、金属箔、隔膜、背板材料、无纺布、橡胶、纸张纤维等产品的拉伸、剥离、变形、撕裂、热封、粘合、穿刺力、开启力、低速解卷力、拨开力等性能测试。智能电子拉力试验机产品特点：1. 两档量程可选2. 1000mm超长行程3. 拉伸、剥离、撕裂、热封等七种独立试验程序4. 七档试验速度5. 具有参数设置、打印、查看、清除、标定等多项功能 6. 可进行定伸应力、弹性模量、应力应变等测试，成组试验曲线叠加分析 7. 试验数据计算机存储，多形式调档查询8. 掉电记忆、过载保护、限位保护、自动回位智能电子拉力试验机技术参数：1. 规格：500N，50N（选择其一） 2. 精度：优于0.5级 3. 试验速度：50 100 150 200 250 300 500 mm/min 4. 试样宽度：30 mm（标配夹具） 50 mm（可选夹具） 5. 行程：1000 mm 6. 外形尺寸：450mm(L)×450mm(W)×1410mm(H)智能电子拉力试验机依据标准：GB 13022、GB 8808、GB 1040、GB 4850、GB 7753、GB 7754、GB 453、GB/T 17200、GB/T 16578、GB/T 7122、GB/T 2790、GB/T 2791、GB/T 2792、GB/T 17590、ASTM E4、ASTM D828智能电子拉力试验机关键字：电子拉力试验机，薄膜拉力试验机，剥离强度试验机，电子拉力机更多信息欢迎登录：，或来电咨询！

薄膜拉伸试验机_薄膜拉力试验机XLW-L智能电子拉力试验机专业测试塑料薄膜、复合材料、软质包装材料、塑料软管、胶粘剂、胶粘带、不干胶、医用贴剂、离型纸、保护膜、组合盖、金属箔、隔膜、背板材料、无纺布、橡胶、纸张纤维等产品的拉伸、剥离、变形、撕裂、热封、粘合、穿刺力、开启力、低速解卷力、拨开力、抗压等性能测试。产品特点◎ 采用0.5级精度进口传感器，插拔设计更换方便，有效地保证了试验结果的准确性和重复性。◎ 多功能测试系统支持拉伸、剥离、穿刺、开启、撕裂、热封等七种独立的测试程序，为用户提供了多种试验项目选择。◎ 蓝光护眼大屏液晶显示器支持曲线、数据、结果实时统计。◎ PVC中英文操作面板，试验方便快捷，易学、易懂、易操作。◎ 配备微型静音打印机，实验结束自动打印测试数据。◎ 系统配有过载保护、限位保护、自动回位、掉电记忆等智能配置，保证用户的操作安全。◎ 闭环式测控软件支持鼠标操控运行，各功能独立、标准计量单位、无需人工换算。◎ 进行成组试样的统计分析运算，给出算术平均值、Z大值、Z小值。◎ 试验结果支持多格式存储和数据输出，包括试验报告EXCEL，配备USB标准接口。 测试原理XLW-L智能电子拉力试验机将试样装夹在夹具的两个夹头之间，两夹头做相对运动，通过位于动夹头上的力值传感器和机器内置的位移传感器，采集到试验过程中的力值变化和位移变化，从而计算出试样的拉伸、撕裂、变形率等性能指标。薄膜拉伸试验机_薄膜拉力试验机技术参数量程范围：500 N 50 N (选择其一)测力精度：0.5级分辨率：0.001N试样数量：1 件试验速度：10-500mm/mmin（试验速度可以根据客户需要设置）试样宽度：30 mm（标配夹具）50 mm（可选气动夹具）试样夹持：手动（注：气动夹具另购）测量行程：600mm外形尺寸：450 mm (L) × 450 mm (W) × 910 mm (H)电 源：AC 220V 50Hz主机净重：60 kg 测试标准该仪器符合多项国家和国标标准： IS O 37 、 GB 8808 、 GB/ T 1040 . 1 - 2006 、 GB/T 1040.2-2006、GB/T 1040.3-2006、GB/T 1040.4-2006、GB/T 1040.5-2008、GB/T 4850-2002、GB/T 12914-2008、GB/T 17200、 GB/T 16578.1-2008、 GB/T7122、 GB/T 2790、GB/T 2791、GB/T 2792、GB/T 17590、ASTM E4、 ASTM D882、 ASTD1938、 ASTM D3330、ASTM F88、 ASTM F904、JIS P8113、QB/T 2358、QB/T 1130。 售后服务承诺三月内只换不修，一年质保，终身提供。快速处理，1小时内响应问题，1个工作日出解决方案。 体系荣誉资质ISO9001：2008质量体系认证、计量合格确认证书、CE认证、软件著作权、产品实用新型、外观设计。实力铸造品牌三大研发中心，两条独立生产线，一个综合体验式实验室。赛成自2007年创立至今，全球用户累计成交产品破万台，完善四大产品体系，50多种产品。

GB6672接触式薄膜测厚仪应用范围适用于塑料薄膜、薄片、纸张、箔片、硅片等各种材料的厚度精确测量。主要特点1. 接触式测量原理2. 德国测厚传感器3. 工业 TFT 屏，触摸屏操作4. 零导航深度的扁平化界面 UI，操作更加方便快捷5. 真彩色液晶显示试验数据、结果6. 手动、循环、预约定时多种测量模式7. 测试过程全自动完成8. 本机内置历史数据查询功能9. 配置微型打印机，可自动打印单次、统计报告10. 配置标准通信接口11. 可支持 DSM 实验室数据管理系统，实现数据统一管理（选购）技术指标测量范围：0～2mm（标配） 0～10mm（可选）分 辨 率：0.1μm测量速度：1~25 次/min（可调）测 量 头：薄膜：50mm2，17.5±1kPa（标配）纸张：200mm2，50±1kPa（可选）电 源：AC 220V 50Hz外形尺寸：330 mm (L)×285 mm (B)×370 mm (H)净 重：38kg执行标准GB/T 6672、GB/T 451.3、GB/T 6547、ASTM D645、ASTM D374、ASTM D1777、TAPPI T411、ISO 4593、ISO 534、ISO 3034、DIN 53105、DIN 53353、JIS K6250、JIS K6328、JIS K6783、JIS Z1702、BS 3983、BS 4817产品配置标准配置：主机、薄膜测量头、微型打印机、标准量块一件选 购 件：纸张测量头、自动进样装置、配套软件、通信电缆、标准量块、DSM 实验室数据管理系统。

小型薄膜精馏塔负压刮膜式精馏装置产品特征： 与物料接触材质：高硼硅3.3玻璃塔釜容积：1-200L,可定制其他；塔高：0.5-2m，可定制其他高度最高加热温度：300℃最低可操作真空：≤0.1mbar；技术参数：型号AYAN-BJ60AYAN-BJ80AYAN-BJ100AYAN-BJ150AYAN-BJ200薄膜部分原料罐0.5L加料罐1L加料罐1L加料罐2L加料罐3L加料罐进料阀门控制，夹套保温蒸发器刮板成膜，密封良好，拥有耐腐蚀等特性精馏部分塔柱长度（m）依工艺设定塔柱伴热方式多种选择精馏塔头冷凝器依处理量设定回流比控制是配套部分电控箱显示温度和真空度等多功能集成加热系统高温循环冷凝系统低温冷却真空系统真空系统小型薄膜精馏塔负压刮膜式精馏装置处理废酸的方法用接连处理甲醇低压羰基法的废酸的方法，它包括以下过程：（1）在废酸质料中参加以质量计占废酸含量百分之零点五到百分之二的去离子水，与废酸充沛混合。（2）将混合去离子水的废酸通入刮板薄膜蒸发器进行蒸腾处理。（3）将贮槽中的液体送入精馏塔进行精馏，在精馏塔塔顶馏出质量含量大于百分之九十的粗醋酸，回来醋酸出产设备进行进一步精馏，有醋酸，在精馏塔塔釜别离出深色丙酸，将深色丙酸送入二精馏塔精馏，在二精馏塔塔顶馏出质量含量百分之九十九点五以上的无色丙酸。

薄膜表面爽滑性测试仪 薄膜动静摩擦系数测定仪 薄膜开口性试验仪薄膜动静摩擦系数测定仪是一种专业设备，用于精确测量各种材料的静摩擦系数和动摩擦系数。这类仪器广泛应用于塑料薄膜、薄片、铝箔、纸张、纸塑复合膜、纸板、金属以及特殊应用如人造皮肤等产品的摩擦性能测试，适用于造纸、包装材料、质量检测中心等行业。薄膜表面爽滑性测试仪 薄膜动静摩擦系数测定仪 薄膜开口性试验仪技术原理：摩擦系数测定仪基于简单的物理原理，将两个测试表面放置在一起，其中一个表面固定在滑块上，滑块带有一定重量。在设定的接触压力下，通过移动滑块，仪器记录摩擦力。通过摩擦力与滑块重力的比值，计算得到静摩擦系数和动摩擦系数。薄膜表面爽滑性测试仪 薄膜动静摩擦系数测定仪 薄膜开口性试验仪主要特点：兼容标准与非标试验：支持GB、ISO等国际标准，同时适应非标准试验需求，适合科研和材料研究。用户友好操作：一键式操作，配备嵌入式软件，界面直观，易于学习和使用。高精度与稳定性：采用高精度进口传感器，确保测试结果的准确性和重复性。多功能性：支持任意滑块质量与试样厚度的试验，具备液晶显示、数据统计分析、历史数据存储及打印功能。智能化设计：内置微型打印机，支持数据联网，可连接实验室数据管理系统，增强数据管理能力。薄膜表面爽滑性测试仪 薄膜动静摩擦系数测定仪 薄膜开口性试验仪技术参数：测试量程：提供多种选择，如5N、10N、30N，以适应不同材料的测试需求。测试精度：0.2%FS，确保测量的精确度。支持行程：330mm，允许较大的移动范围。滑块质量：标配200g、500g，可适应不同测试要求。试验速度：0-1000mm/min，可调速，满足不同测试条件。电源与功耗：AC220V50Hz，功率100W，节能设计。标准支持：遵循GB10006、ISO8295、ASTMD1894、TAPPIT816等标准，确保测试的标准化和国际认可度。配置与选购：标准配置包括主机、微型打印机、彩色触摸屏及不同规格的滑块。可选购配套软件、通信电缆、非标滑块、校准附件等，以扩展功能或满足特定研究需求。

储能电介质充放电测试系统目前常规的方法是通过电滞回线计算高压下电介质的能量密度，测试时，样品的电荷是放回到高压源上，而不是释放到负载上，通过电滞回线测得的储能密度一般会大于样品实际释放的能量密度，无法正确评估电介质材料的正常放电性能。 本系统采用特殊高压开关，通过单刀双掷控制充电和放电过程，开关可以承受10kV高压，寄生电容小，动作时间短； 内置直流高压模块，电压可达10kV，电流6mA； 通过电流探头监测放电电流，可达100A； 可以实现欠阻尼和过阻尼两种测试模式，欠阻尼测试时，放电回路短路，不使用电阻负载，过阻尼测试时，使用较大的高精度无感电阻作为放电负载； 通过示波器采集数据，并能直接计算储能密度； 定制载样平台，适用于陶瓷和薄膜样品测试； 可以变温测试，RT-250℃； 可以疲劳测试。 主要参数 产品名称：电介质充放电测试系统 型号：HCCF-10KV 电流探头带宽：120MHz 峰值电流：100A 电流采集精度：1mA 高压源模块：DC 10kV（6mA） 开关适用：100万次，耐压至15kV 温控范围：RT-250℃ 温度稳定性和精度：0.1℃ 测试样品：薄膜，厚膜，陶瓷，玻璃等

IQ Power 静电消除系统是专业针对薄膜、涂布、印刷等容易产生或累积强大静电场的高速产线及收放卷远距离安装要求而设计的静电控制系统。IQ Power Control Station控制器实现了除静电系统整合控制的需求，每台控制器上可同时整合并存：BPS电源+除静电离子棒、除静电风咀、Fantom除静电风机、24VDC输入整合IQ Easy除静电离子棒、IQ Easy Sensor检测棒、IQ Power HL防爆区除静电离子棒和电源及IQ Power防爆区域检测棒，提供灵巧的系统设计和安装。所有连接的装置与参数都显示于LCD屏幕上，所有信息采用色码，易于辨识，组织清晰，能立即了解系统的概观与状态。运作信息可通过USB存储或以太网接口自订周期进行数据记录，也可透过选配的各式通讯编译器连接PLC实现集成控制。

东莞市雨菲电子科技有限公司成立于2015年，其前身为成立于2008年的维特国际。薄膜开关厂位于东莞市虎门镇怀德管理区合森工业园内，占地4500平米， PCBA厂位于东莞虎门大宁创富赢家产业园内， 占地面积3500平米。雨菲电子地理位置优越，距高速出口5公里，紧邻深圳，广州，香港，距离深圳机场仅30分钟车程，距广州机场1小时车程。雨菲电子是一家致力于电阻式薄膜开关，电容触摸式薄膜开关, 电容触摸感应线路, 薄膜面板，薄膜面贴，触摸屏贴合, 触摸显示模组, 单片机开发，PCBA及整机解决方案提供的新兴高科技企业。 雨菲电子已通过ISO9001, ISO14001, ISO13485和OHSAS18001体系认证。是业内早通过ISO13485的医疗体系认证的薄膜开关工厂。 雨菲电子的产品广泛应用于医疗, 工控, 自动化, 轨道交通, 航空航海, 网络通讯, 消费电子, 仪器仪表, 农用机械, 设备制造等广泛领域。公司所有生产车间均为十万级无尘防静电车间, 其中印刷车间为万级。此外还有2间千级高精密高洁净度无尘车间用于进行屏幕贴合, 精密电子组装等业务。公司自建品质实验室, 包括盐雾测试机, 高低温环测, 寿命测试机, 凸包高度测试仪, 二次元, 曲线荷重测试仪等仪器设备。公司拥有4台半自动丝网印刷机, 2条全自动印刷生产线, 全自动打孔机, 自动冲床, 五金冲床, 真空贴合机,脱泡机等等. 洁净的生产环境, 先进的生产设备和测试仪器确保我司优异的产品质量!

联系我们：X射线透射显微成像/能谱(同步辐射)用氮化硅薄膜窗口 产品概述： X-射线薄膜窗能够实现软X-射线(如真空紫外线)的最大透射率。主要用于同步辐射X射线透射显微成像时承载样品。 X-射线越软(能量越低)，穿透能力越差，所需氮化硅薄膜窗越薄。特别在“离轴”状态工作(即薄膜与光束成一定角度)时，也需要较薄的薄膜窗口，便于X射线更好地穿透。 氮化硅薄膜窗口是利用现代MEMS技术制备而成，由于此种氮化硅窗口选用低应力氮化硅(0-250MP)薄膜，因此比计量式和ST氮化硅薄膜更坚固耐用。提供的氮化硅薄膜窗口非常适合应用于透射成像和透射能谱等广泛的科学研究领域，例如，X-射线(上海光源透射成像/能谱线站)、TEM、SEM、IR、UV等。 现在提供X-射线显微成像/能谱(同步辐射)用氮化硅薄膜窗系列产品，规格如下： 外框尺寸 (4种标准规格): 5 mm x 5 mm (窗口尺寸：1.0 mm或和 1.5 mm 方形) 7.5 mm x 7.5 mm (窗口尺寸：2.0 mm或 2.5 mm) 10 mm x 10 mm (窗口尺寸：3.0 mm或 5 mm 方形) 边框厚度： 200µ m、381µ m、525µ m。 Si3N4薄膜厚度：50、100、150和200nm 我们也可以为用户定制产品(30-500nm)，但要100片起订。 本产品为一次性产品，不建议用户重复使用，本产品不能进行超声清洗，适合化学清洗、辉光放电和等离子体清洗。 技术指标： 透光度： 对于X射线用窗口，500nm厚的氮化硅薄膜有很好的X光穿透效果，对于软X射线(例如碳边吸收谱)，100-200nm厚的氮化硅薄膜窗口是用户首选。 真空适用性： 真空适用性数据如下：　 薄膜厚度 窗口面积 压力差 ≥50 nm ≤1.0 x 1.0 mm 1 atm ≥100 nm ≤1.5 x 1.5 mm 1 atm ≥200 nm ≤2.5 x 2.5 mm 1 atm 表面平整度： 氮化硅薄膜窗口产品的表面平整性很稳定(粗糙度小于1nm)，对于X射线应用没有任何影响。 温度特性： 氮化硅薄膜窗口产品是耐高温产品，能够承受1000度高温，非常适合在其表面利用CVD方法生长各种纳米材料。 化学特性： 氮化硅薄膜窗口是惰性衬底。 应用简介和优点： 1、同步辐射X射线(紫外或极紫外)透射成像或透射能谱应用中是不可或缺的样品承载体。 2、耐高温、惰性衬底，适应各种聚合物、纳米材料、半导体材料、光学晶体材料和功能薄膜材料的制备环境，利于制备理想的用于X射线表征用的自组装单层薄膜或薄膜(薄膜直接沉积在窗口上)。 3、生物和湿细胞样本的理想承载体。特别是在等离子体处理后，窗口具有很好的亲水性。 4、耐高温、惰性衬底，也可以用于化学反应和退火效应的原位表征。 5、适合做为胶体、气凝胶、有机材料和纳米颗粒等的表征实验承载体。 氮化硅薄膜窗口系列 SN-LDE-505-15 氮化硅薄膜窗口，框架：5×5mm，窗口：1.5×1.5mm，膜厚：50nm SN-LDE-510-15 氮化硅薄膜窗口，框架：5×5mm，窗口：1.5×1.5mm，膜厚：100nm SN-LDE-515-15 氮化硅薄膜窗口，框架：5×5mm，窗口：1.5×1.5mm，膜厚：150nm SN-LDE-520-15 氮化硅薄膜窗口，框架：5×5mm，窗口：1.5×1.5mm，膜厚：200nm SN-LDE-705-25 氮化硅薄膜窗口，框架：7.5×7.5mm，窗口：2.5×2.5mm，膜厚：50nm SN-LDE-710-25 氮化硅薄膜窗口，框架：7.5×7.5mm，窗口：2.5×2.5mm，膜厚：100nm SN-LDE-715-25 氮化硅薄膜窗口，框架：7.5×7.5mm，窗口：2.5×2.5mm，膜厚：150nm SN-LDE-720-25 氮化硅薄膜窗口，框架：7.5×7.5mm，窗口：2.5×2.5mm，膜厚：200nm SN-LDE-105-30 氮化硅薄膜窗口，框架：10×10mm，窗口：3×3mm，膜厚：50nm SN-LDE-110-30 氮化硅薄膜窗口，框架：10×10mm，窗口：3×3mm，膜厚：100nm SN-LDE-115-30 氮化硅薄膜窗口，框架：10×10mm，窗口：3×3mm，膜厚：150nm SN-LDE-120-30 氮化硅薄膜窗口，框架：10×10mm，窗口：3×3mm，膜厚：200nm 氮化硅薄膜窗口阵列系列 SN-AR-522-15 氮化硅薄膜窗口，框架：5×5mm，窗口：1.5×1.5mm，2×2阵列，膜厚：50nm SN-AR-733-15 氮化硅薄膜窗口，框架：7.5×7.5mm，窗口：1.5×1.5mm，3×3阵列；膜厚：50nm SN-AR-1044-15 氮化硅薄膜窗口，框架：5×5mm，窗口：1.5×1.5mm，膜厚：100nm 氧化硅薄膜窗口系列 SO-505-15 氧化硅薄膜窗口，框架：5×5mm，窗口：1.5×1.5mm，膜厚：50nm SO-510-15 氧化硅薄膜窗口，框架：5×5mm，窗口：1.5×1.5mm，膜厚：100nm SO-520-15 氧化硅薄膜窗口，框架：5×5mm，窗口：1.5×1.5mm，膜厚：150nm SO-705-25 氧化硅薄膜窗口，框架：7.5×7.5mm，窗口：1.5×1.5mm，3×3阵列，膜厚：50nm SO-710-25 氧化硅薄膜窗口，框架：7.5×7.5mm，窗口：1.5×1.5mm，3×3阵列，膜厚：100nm SO-720-25 氧化硅薄膜窗口，框架：7.5×7.5mm，窗口：1.5×1.5mm，3×3阵列，膜厚：200nm 氮化硅薄膜窗口系列 SN-1010-2-AU10 氮化硅基底框架：10×10mm，窗口：2×2mm，膜厚：100nm，金膜厚度：10nm SN-1020-2-AU10 氮化硅基底框架：10×10mm，窗口：2×2mm，膜厚：200nm，金膜厚度：10nm SN-710-2-AU10 氮化硅基底框架：7.5×7.5mm，窗口：2×2mm，膜厚：100nm，金膜厚度：10nm SN-720-2-AU10 氮化硅基底框架：7.5×7.5mm，窗口：2×2mm，膜厚：200nm，金膜厚度：10nm 特殊定制产品 SN-5H5-15 氮化硅基底框架：5×5mm，硅片厚度：200um，窗口：1.5×1.5mm，膜厚：500nm SN-5H10-15 氮化硅基底框架：5×5mm，硅片厚度：200um，窗口：1.5×1.5mm，膜厚：1000nm SN-LDE-4-10 氮化硅片100nm-4英寸整张，10×10mm切片 衬底厚度：200um 温度范围：1000℃ 真空适应：1个大气压 厚度可以选择：200um，381um，525um，需要提前说明。联系我们：

FSM薄膜应力与晶圆翘曲度测量仪薄膜应力测量仪广泛应用于半导体行业薄膜应力的量测。在硅晶圆或者其他材料基底上附着薄膜，由于衬底与薄膜的物理常数不同，将会产生应力而导致衬底基板形变。由均匀附着的薄膜引起的形变表现为基板翘曲，因此，可依据翘曲（曲率半径）的变化量来计算应力。薄膜应力仪用下述方法测量附着表面上的薄膜引起的基底曲率半径的变化量。由于是根据在基板上扫描的激光反射角度进行计算，因此，通过测量薄膜附着前后的曲率半径变化，计算其差值，求出曲率半径变化量，用斯托尼公式，依据基板曲率半径计算薄膜应力S。FSM薄膜应力测量仪的特点:1）自动切换双波段激光具有专利的自动激光切换扫描技术.当样品反射率不好时，系统会自动切换到不同波长的另外一只激光进行扫描。这使客户可以测量包括Nitride，Polyimides, Low K，High K,金属等几乎所有的薄膜而不会遇到无法测量的问题。FSM500加热到500℃进行应力测量，可在加热循环过程中进行薄膜的热稳定性计算2）2-D & 3-D Map配备有马达驱动的可旋转载片台，可以快速生成2-D&3D Map图帮助用户可以看到整片晶圆的曲率和应力变化分布，并准确反映出工艺和均匀性有问题的区域。3）薄膜厚度可以整合介电材料薄膜的厚度测量功能，使设备变成一台可以在研发和生产环境下灵活使用强大的设备。产品优势&bull 薄膜整体应力与晶圆翘曲测试&bull 半导体/LED/太阳能/数据存储/液晶面板产业&bull 适用于多种晶圆,基板尺寸&bull 桌上型/站立式&bull 手动/自动/半自动&bull 500℃&bull 快速&非接触激光扫描&bull 适用生产和研发使用&bull 全球销售及客户支持产品应用&bull 新工艺的测试或新生产设备的校准 。化学气相沉积镀膜工艺（CVD), 物理气相沉积镀膜工艺(PVD)&bull 工艺的质量控制&bull 故障诊断&bull 新技术的研究与开发&bull 半导体新工艺的研究与开发&bull 半导体晶圆薄膜生产: 氮化物, 氧化物, 硅化物, 金属, 低介电常数材料等&bull 晶圆碗型翘曲: 晶圆工艺检查或晶圆生产原料检查&bull 其他的集成电路工艺: 平板显示器 微机电系统

包装薄膜厚度测量仪 高精度接触式测厚仪仪器名称：CHY-02测厚仪制造商：山东泉科瑞达仪器设备有限公司仪器品牌：泉科瑞达包装薄膜厚度测量仪 高精度接触式测厚仪包装薄膜厚度测量仪 高精度接触式测厚仪是一种高精度的测量设备，主要用于测量塑料薄膜、薄片、隔膜、纸张、箔片、硅片等材料的厚度。以下是对接触式包装薄膜厚度测量仪的详细介绍：包装薄膜厚度测量仪 高精度接触式测厚仪产品特征高精度测量：采用机械接触式测量原理，通过精密的位移传感器测量薄膜材料的厚度。自动升降测头：在测试过程中，测量头自动升降，减少人为因素造成的误差。操作简便：配备大液晶屏显示，操作界面直观，支持手动和自动两种测量模式。数据管理：实时显示测量结果，包括最大值、最小值、平均值和标准偏差，方便数据分析。系统标定：配置标准量块用于系统标定，确保测试精度和数据一致性。打印功能：系统支持数据实时显示、自动统计和打印，方便获取测试结果。包装薄膜厚度测量仪 高精度接触式测厚仪技术参数测试范围：0～2mm（标配），可选配0～6mm或0～12mm的测量范围。分辨率：0.1μm，确保极高的测量精度。测量压力：17.5±1 kPa（薄膜），50±1 kPa（纸张），适应不同材料的测量需求。接触面积：50mm² （薄膜），200mm² （纸张），可根据测试材料选择。电源：AC 220V 50Hz，符合多数实验室的电源要求。外形尺寸：设备体积适中，便于实验室内安置。净重：大约26kg，便于移动和携带。执行标准该仪器符合多项国家和国际标准，如GB/T 6672、GB/T 451.3、GB/T 6547、ISO 4593、ISO 534、ISO 3034、ASTM D374、ASTM D1777、TAPPI T411、JIS K6250、JIS K6783、JIS Z1702、BS 3983、BS 4817等。包装薄膜厚度测量仪 高精度接触式测厚仪应用领域广泛应用于塑料薄膜、纸张、箔片、硅片等材料的厚度测量，适用于包装材料生产过程中的质量控制、研发与技术创新等领域。仪器配置标准配置通常包括主机、微型打印机、标准量块等。可选配件包括专业软件、通信电缆、配重砝码盘、配重砝码等。

厂家正式授权代理商：岱美有限公司联系电话：，（贾先生）联系地址：北京市房山区启航国际3期5号楼801公司网址：ThetaMetrisis是一家私有公司，成立于2008年12月，位于希腊雅典，是NCSR' Demokritos' 的微电子研究所的第一家衍生公司。ThetaMetrisis的核心技术是白光反射光谱（WLRS），它可以在几埃到几毫米的超宽范围内，准确而同时地测量堆叠的薄膜和厚膜的厚度和折射率。 FR-Mic: 微米级薄膜表征-厚度，反射率，折射率及消光系数测量仪一、产品简介： FR-Mic 是一款快速、准确测量薄膜表征应用的模块化解决方案，要求的光斑尺寸小到几个微米，如微图案表面，粗糙表面及许多其他表面。它可以配备一台专用计算机控制的 XY 工作台，使其快速、方便和准确地描绘样品的厚度和光学特性图。o 实时光谱测量o 薄膜厚度，光学特性，非均匀性测量，厚度映射o 使用集成的， USB 连接高品质彩色摄像机（CCD）进行成像 二、应用领域 o 大学 & 科研院所o 半导体（氧化物、氮化物、硅、电阻等）o MEMS 元器件 (光刻胶、硅薄膜等)o LEDo 数据存储元件o 弯曲基材（衬底）上的硬/软涂层o 聚合物涂层、粘合剂等o 生物医学（ parylene—— 派瑞林,气泡壁厚,等等 )o 其他更多 … (如有需求，请与我们取得联系) 三、产品特点o 单点分析(无需预设值）o 动态快速测量o 包括光学参数(n和k，颜色)o 为演示保存视频o 600 多种的预存材料o 离线分析o 免费软件更新 四、技术参数 FR-Scanner 自动化超高速精准薄膜厚度测量仪 一、产品简介： FR-Scanner 是一种紧凑的台式工具，适用于自动测绘晶圆片上的涂层厚度。FR-Scanner 可以快速和准确测量薄膜特性:厚度，折射率，均匀性，颜色等。真空吸盘可应用于任何直径或其他形状的样片。 独特的光学模块可容纳所有光学部件:分光计、复合光源(寿命10000小时)、高精度反射探头。因此，在准确性、重现性和长期稳定性方面保证了优异的性能。FR-Scanner 通过高速旋转平台和光学探头直线移动扫描晶圆片(极坐标扫描)。通过这种方法，可以在很短的时间内记录具有高重复性的精确反射率数据，这使得FR-Scanner 成为测绘晶圆涂层或其他基片涂层的理想工具。测量 8” 样片 625 点数据60 秒 二、应用领域o 弯曲基材（衬底）上的硬/软涂层o 聚合物涂层、粘合剂等o 生物医学（ parylene—— 派瑞林,气泡壁厚,等等 )o 半导体生产制造：(光刻胶, 电介质,光子多层结构， poly-Si,Si, DLC )o 光伏产业o 液晶显示o 光学薄膜o 聚合物o 微机电系统和微光机电系统o 基底: 透明 (玻璃, 石英, 等等) 和半透明 三、产品特点o 单点分析(无需预设值）o 动态快速测量o 包括光学参数(n和k，颜色)o 为演示保存视频o 600 多种的预存材料o 离线分析o 免费软件更新 四、技术参数FR-Scanner: 自动化超高速薄膜厚度测量仪 FR-pOrtable:一款USB驱动的薄膜表征工具 一、产品简介： FR-pOrtable 是 一 款独 特 的 便 携 式 测 量 仪器 ， 可 对 透 明 和 半 透明 的 单 层 或 多 层 堆 叠薄 膜 进 行 精 确 的 无 损（非接触式）表征。使用 FR-pOrtable，用户可以在 380-1020nm 光谱范围内进行反射率和透射率测量及薄膜厚度测量。二、应用领域o 大学 & 科研院所o 半导体（氧化物、氮化物、硅、电阻等）o MEMS 元器件 (光刻胶、硅薄膜等)o LEDo 数据存储元件o 弯曲基材（衬底）上的硬/软涂层o 聚合物涂层、粘合剂等o 生物医学（ parylene—— 派瑞林,气泡壁厚,等等 )o 其他更多 … (如有需求，请与我们取得联系) 三、应用领域 FR-pOrtable的紧凑尺寸以及定制设计的反射探头以及宽带长寿命光源确保了高精度和可重复的便携式测量。 FR-Portable既可以安装在提供的载物台上，也可以轻松转换为手持式厚度测量工具。放置在待表征的样品上方即可进行测量。 FR-Portable是用于工业环境（如R2R、带式输送机等）中涂层实时表征的可靠而精确的测厚仪。四、产品特点o 一键分析 (无需初始化操作)o 动态测量o 测量光学参数(n & k, 颜色)，膜厚o 自动保存演示视频o 可测量 600 多种不同材料o 用于离线分析的多个设置o 免费软件更新服务 五、技术参数FR-pRo: 按需可灵活搭建的薄膜特性表征工具一、产品简介： FR-pRo 是一个模块化和可扩展平台的光学测量设备，用于表征厚度范围为1nm-1mm 的涂层.FR-pRo 是为客户量身定制的，并广泛应用于各种不同的应用 。 FR-pRo 可由用户按需选择装配模块，核心部件包括光源，光谱仪（适用于 200nm-2500nm 内的任何光谱系统）和控制单元，电子通讯模块此外，还有各种各种配件，比如:? 用于测量吸收率/透射率和化学浓度的薄膜/试管架,? 用于表征涂层特性的薄膜厚度工具,? 用于控制温度或液体环境下测量的加热装置或液体试剂盒,? 漫反射和全反射积分球通过不同模块组合，最终的配置可以满足任何终端用户的需求 二、应用领域o 弯曲基材（衬底）上的硬/软涂层o 聚合物涂层、粘合剂等o 生物医学（ parylene—— 派瑞林,气泡壁厚,等等 )O 半导体生产制造：(光刻胶, 电介质,光子多层结构， poly-Si,Si, DLC )o 光伏产业o 液晶显示o 光学薄膜o 聚合物o 微机电系统和微光机电系统o 基底: 透明 (玻璃, 石英, 等等) 和半透明 三、产品特点o 单点分析(无需预设值）o 动态快速测量o 包括光学参数(n和k，颜色)o 为演示保存视频o 600 多种的预存材料o 离线分析o 免费软件更新 四、技术参数

等离子体清洗好处,对PTFE进行等离子活化处理,蚀刻工艺,为弹性密封件和PTFE密封件研发了很好的等离子工艺,并得到了应用,等离子体清洗与其它清洗方式对比表.等离子体清洗好处：　１、其除去了有机层（含碳污染物），其会受到例如， 氧气 和空气的化 腐蚀，通过超压吹扫，将其从表面去除。　　　通过等离子体中的高能量粒子，脏污会转化为 稳定的小型分子 ，并借此将其移除，处理过程中脏污的厚度只允许达到 几百纳米 ，因为等离子的清除速度仅能够达到每次几 nm。　　　脂肪含有诸如锂化合物之类的成分。仅能够除去其 有机成分 。这一点同样适用于指纹。故此，建议戴手套。　２、还原氧化物　　　金属氧化物会和工艺气体发生化学反应。作为工艺气体，使用了氢气和氩气或氮气的混合物。等离子体射流的热效应可能会导致进一步的氧化。故此建议在惰性气体环境下进行处理。常压等离子激活处理主要用于哪些方面？　　这种技术非常适用于以下工艺过程：　１、在粘合之前对塑料进行局部的等离子活化处理　２、在粘合、植绒、印刷（例如，汽车行业中的橡胶型材）之前，对弹性体进行等离子活化处理　３、在粘合或者粘接之前，对金属和陶瓷表面进行局部的等离子活化处理　４、极为适合在直接于移印机中移印之前，对塑料零部件进行处理。用常压等离子体进行活化处理能够为我们带来哪些主要优势？　技术适用于在线工艺，例如，在对连续型橡胶型材、软管进行印刷、胶粘，植绒或者涂层之前进行等离子活化。　等离子体清洗与其它清洗方式对比表：应用用途和特性低压等离子体的优点低压等离子体的缺点常压等离子体的优点常压等离子体的缺点普通的等离子体生成在等离子腔体室中均匀分布等离子体，腔室体积可变复杂的真空技术，在线等离子处理应用受到一定的限制可以直接在输送带上进行等离子处理，适用于在线处理，无需任何真空技术由于等离子体激发原理的原因，等离子处理痕迹有限，处理较大的对象的时候，必须使用多个喷嘴对金属进行处理可对易氧化的对象进行等离子清洗进行微波激发的时候，对象上可能会相应产生能量，这会造成对象过热对铝进行等离子处理的时候，可以生成很薄的氧化层对易氧化的对象进行等离子清洗，受到一定的限制对聚合物弹性体进行处理无法对PTFE进行等离子活化处理，蚀刻工艺，为弹性密封件和PTFE密封件研发了很好的等离子工艺，并得到了应用某些材料需要用到较大型的泵，以便达到必须的工艺压力无法对连续型对象进行预处理，工艺时间很短等离子射流的温度为约 200 - 300 °C。必须对表面的工艺温度进行很好的调节，以防止着火（很薄的材料）3D对象对等离子体腔室中的所有对象进行均匀处理。即使是中空腔室也可以从内部进行处理（例如，点火线圈、水箱等）未知可进行局部表面处理（例如，粘结槽口）需要使用复杂的多关节型机器人技术。常压等离子体的间隙渗透性受到一定的限制散装部件通过转鼓法可以对散装部件进行均匀的等离子处理。零部件的件数和体积可以有所不同其仅能够使用转鼓的 1/3 体积（建议）可以直接在输送带上处理对象对象必须极为精确的定位在输送带上电子，半导体技术借助低压等离子体对电子元件、电路板和半导体部件进行等离子处理是先进的技术。未知金属或者 ITO 触点可在粘接处理之前进行等离子预处理（例如，LCD、TFT 和芯片的生产）涂层工艺生成均匀的涂层。研发了很多 PECVD 和 PVD 工艺，并得到了应用可能会造成等离子体腔室的污染具有很多的工业用途尚不具有任何的工业用途

薄膜厚度测量仪_薄膜测厚仪（C640可自动进样）C640薄膜测厚仪品牌：Labthink济南兰光机电技术有限公司C640测厚仪是一款高精度、高重复性的机械接触式精密测厚仪，专业适用于量程范围内的薄膜、薄片、纸张、瓦楞纸板、纺织材料、非织造布、固体绝缘材料等各种材料的厚度精密测量。可选配自动进样机，更加准确、高效的进行连续多点测量。设备技术特征：1、专业——Labthink在不断的创新研发和技术积累中推陈出新，使用超高精度的位移传感器、科学的结构布局及专业的控制技术，实现世界先进的测试稳定性、重复性及精度。2、高效——采用高效率、自动化结构设计，有效简化人员参与过程；智能的控制及数据处理功能，为用户提供更便捷可靠的试验操作和结果处理。3、智能——搭载Labthink新一代版控制分析软件，具有友好的操作界面、智能的数据处理、严格的人员权限管理和安全的数据存储；支持Labthink特有的DataShieldTM数据盾系统（可选配置），为用户提供极为安全可靠的测试数据和测试报告管理功能。测试原理：将预先处理好的薄型试样的一面置于下测量面上，与下测量面平行且中心对齐的上测量面，以一定的压力，落到薄型试样的另一面上，同测量头一体的传感器自动检测出上下测量面之间的距离，即为薄型试样的厚度。执行标准：ISO 4593、ISO 534、ASTM D6988、ASTM F2251、GB/T 6672、GB/T 451.3、TAPPI T411、BS 2782-6、DIN 53370、ISO 3034、ISO 9073-2、ISO 12625-3、ISO 5084、ASTM D374、ASTM D1777、ASTM D3652、GB/T 6547、GB/T 24218.2、FEFCO No 3、EN 1942、JIS K6250、JIS K6783、JIS Z1702中国《药品生产质量管理规范》（GMP）对软件的有关要求（可选配置）应用材料：基础应用：薄膜、薄片——各种塑料薄膜、薄片、隔膜等的厚度测定纸——各种纸张、纸板、复合纸板等的厚度测定扩展应用：金属片、硅片——硅片、箔片、各种金属片等的厚度测定瓦楞纸板——瓦楞纸板的厚度测定纺织材料——各类纺织材料如编织织物、针织物、涂层织物等的厚度测定非织造布——各类非织造布如尿不湿、卫生巾、医用口罩等的厚度测定其它材料——固体电绝缘材料、胶黏带、土工合成材料、橡胶等的厚度测定技术指标：① C640M型号参数：测试范围（标配）：0～2mm分辨率：0.1μm 重复性：0.8μm测量范围（选配）：0～6、0～12mm测量间距：0～1000mm（可设定）进样速度：1.5～80mm/s（可设定）附加功能：自动进样机：可选配置DataShieldTM数据盾：可选配置GMP计算机系统要求：可选配置测量方式：机械接触式测量压力及接触面积：薄膜：17.5±1 kPa、50 mm2纸张：100±1 kPa(标准配置) / 50±1 kPa（可选配置）、200 mm2电源：220-240VAC 50Hz/120VAC 60Hz外形尺寸：370mm（L）× 350mm（W）× 410mm（H）净重：26kg② C640H型号参数：测试范围（标配）：0～2mm分辨率：0.1μm 重复性：0.4μm测量范围（选配）：0～6、0～12mm测量间距：0～1000mm（可设定）进样速度：1.5～80mm/s（可设定）附加功能：自动进样机：可选配置DataShieldTM数据盾：可选配置GMP计算机系统要求：可选配置测量方式：机械接触式测量压力及接触面积：薄膜：17.5±1 kPa、50 mm2纸张：100±1 kPa(标准配置) / 50±1 kPa（可选配置）、200 mm2电源：220-240VAC 50Hz/120VAC 60Hz外形尺寸：370mm（L）× 350mm（W）× 410mm（H）净重：26kg

思克触摸屏薄膜高精度摩擦系数仪 应用范围适用于塑料薄膜、薄片、纸塑复合膜、纸张、纸板、金属箔、橡胶等产品静摩擦系数、动摩擦系数的测定。主要特点1. 内置 GB、ISO、ASTM、CM 自定义多种试验模式2. 静+动摩擦测试、静摩擦测试、动摩擦测试3. 进口力值传感器4. 伺服驱动系统，无级调速5. 工业 TFT 屏，触摸屏操作6. 零导航深度的扁平化界面 UI，操作更加方便快捷 7. 真彩色液晶显示结果、参数、试验曲线8. 支持任意厚度试样试验9. 支持任意质量滑块试验10. 内嵌历史数据查询功能11. 微型打印机打印报告12. 过载保护、急停开关保护功能13. 配置标准通信接口14. 专业 COFlex 系统软件支持15. 支持 DSM 实验室数据管理系统，可实现数据统一管理（选购）技术指标测试量程：5N（标配）；10N，20N，30N (可选)测试精度：0.05%FS MAX支持行程：400mm滑块质量：200g（标配）试验速度：1 mm/min ~ 500 mm/min （无级变速，连续可调，触摸屏设置）试样厚度：0～30mm(标准)电 源：AC 220V 50Hz功 率：25W外形尺寸：650mm（L）*340mm（B）*210mm（H）净 重：42kg执行标准GB 10006、ISO 8295、ASTM D1894、TAPPI T816产品配置标准配置：主机、微型打印机、200g 滑块选 购 件：配套软件系统、取样器、500g 滑块、非标滑块、校准附件、通信电缆、DSM 实验室数据管理系统。

触摸屏控制薄膜弯折试验机详细介绍一、本机可适用于光电薄膜、手机屏/电脑屏等各种柔性显示屏弯曲测试。本机采用编程控制，可通过触摸屏操作界面对柔性屏进行弯曲角度自由设定、测试速度设定、测试次数设定。弯曲棒可根据实际要求进行更换，夹具可随弯曲位置随意调节。二．主要技术参数1．工位数量：1个测试工位2．控制方式：7寸触摸屏（可选择更大宽屏）3．电机：2套步进电机4.试验次数：0-9999999次（可设定）5．弯曲角度范围：0～150度（可设定）6.测试速度：5-60次/min（可设定）7．电压：220V； 功率：400W8．外形尺寸：500㎜＊450㎜＊500㎜；9.重量：50kg10.配置符合物体力学移动的弯曲夹具一套、可夹测试棒:直径(mm)0.3，0.2，0.1，0.5，1.0，1.5，2.0，3.0，5.0，8.0，10.0或按照客户要求定制

薄膜电压击穿试验仪此设备软件外观由专业的美工设计：人员管理：可添加多人同时使用此软件 不同人员设定不同密码 交叉使用互不干扰 （如一人使用可删除设定密码 直接进入软件）参数管理：高压保护可选、 耐压时间可选、 梯度步进可选 、漏电流和过压可选、灵敏的漏电压可选、漏电可选 、升压速度可自由设定（0-5kv 无极环入）试验结果可选 异地操作选定 、人机分离选定等结果调取：试验结果保存调取 、人员选定调去 、试验结果可根据客户要求操作整理 、支持5次以上彩线对比、自动整取添加试验数据。01、输入电压： 交流 220 V02、输出电压： 交流 0--50KV 直流 0—50kv03、电器容量：3KVA04、高压分级：0—50KV，（全程可调）05、升压速率：0.1KV/s-5kv/s 可调薄膜电压击穿试验仪安全保护：本机具有完善的安全防护措施：本实验仪电路保护控制：跳闸后电压自动回零1、超压保护2、试验过流保护3、试验短路保护4、安全试验门保护5、软件误操作保护中华人民共和国国家标准电容器纸工频击穿电压测定法GB 12656-90Determination of electric strength at powerfrequence for capacitor paper本标准参照采用IEC243-1(1988)《固体绝缘材料电气强度测试方法)。1主题内容与适用范围本标准规定了工频下测定电容器纸击穿电压的方法。本标准适用于未浸渍电容器纸页或其他类似的材料。2引用标准GB 450纸和纸板试样的采取GB1408固体绝缘材料工频电气强度的试验方法3定义孓1击穿电压breakdown voltage在规定的试验条件下,用连续均匀升压的方法对电容器纸施加工频电压,使纸样发生击穿时的电压值。3.2 电气强度electric strength在规定的试验条件下,电容器纸试样发生击穿的电压值除以施加电压的两电极之间纸样的平均厚度。薄膜电压击穿试验仪尺寸:上电极25 mm,边缘倒圆半径r-2.5mm 下电极025mm,边缘倒圆半径r=2.5 mm 或430~40 mm 975 mm 4.2.3电极表面加工精度及其它要求按GB1408 第4章电极的规定。4.2.4若上,下电极直径相同时,则必须同轴使其上,下准确成一直线。4.3烘箱:可保持105±5℃自动调节恒温烘箱，5试样处理按GB450的规定,从纸卷上取下纸样,横向裁出宽80mm的纸条16~20条,注意试验纸条上不应有裙子、皱纹、针孔等纸病,将取得试样纸条垂直挂于烘籍内,在105±5℃温度下烘干1h，经烘干处理薄膜电压击穿试验仪国家技术监督局1990-12-28批准1991-10-01实施GB 12656-90后的试样置于干燥器内,立即在室温下进行击穿试验,试验过程中,必须保证不使试样重新吸湿而明显影响击穿电压值。在有争议的情况下,试验应在90±2℃条件下进行仲裁。6试验步骤取双层试样置于上下两电极之间,并以电极自重压在试样上,连续均匀地对试样施加工频电压,在10~20s之间使电压由零升至击穿发生,记录击穿电压值.移动纸条,每隔50~60mm,按上述步骤测定一点击穿电压,起始瞬时个别击穿点应略去不计,直至测得20点有效电压值。每进行300~500次击穿后,对电极应用细金刚砂(或No:02金相砂纸)研磨清净一次，7结果计算以试样的20点击穿电压值的算术平均值除以2表示试验结果(V/层),并报告结果的变异系数和最低击穿电压值(V/层)。8试验报告2.本国家标准的编号:b.全面鉴别试样的标志 薄膜电压击穿试验仪d.测定结果击穿电压平均值,最小值和变异系数 如有要求可按试样实测厚度报告电气强度(kV/mm)。附加说明:本标准由中华人民共和国轻工业部提出。本标准由轻工业部造纸工业科学研究所归口、起草。本标准的主要起草人张少玲、何锁琴。主要功能：1、试验过程中可动态绘制出试验曲线，试验的曲线可以多种颜色叠加对比。2、可对试验数据进行编辑修改，灵活适用；3、试验条件及测试结果等数据可自动存储；4、试验报告格式灵活可变，适用于不同用户的不同需求；5、可对一组试验中曲线数据的有效与否进行人为选定；6、试验结果数据可导入EXECL,WORD文档编辑；7、过电流保护装置有足够的灵敏度，能够保证试样击穿时在0.1S内切断电源；8、仪器运行的持久性: 仪器可连续运行使用，不需为保护仪器而定期停机。9、软件可以设置管理员与各个使用人员自己的参数和报告存储权限.

SHNTI的X-射线薄膜窗能够实现软X-射线(如真空紫外线)的最大透射率。主要用于同步辐射X射线透射显微成像时承载样品。 X-射线越软(能量越低)，穿透能力越差，所需氮化硅薄膜窗越薄。特别在“离轴”状态工作（即薄膜与光束成一定角度）时，也需要较薄的薄膜窗口，便于X射线更好地穿透。SHNTI提供的氮化硅薄膜窗口是利用现代MEMS技术制备而成，由于此种氮化硅窗口选用低应力氮化硅（0-250MP）薄膜，因此比计量式和ST氮化硅薄膜更坚固耐用。SHNTI提供的氮化硅薄膜窗口非常适合应用于透射成像和透射能谱等广泛的科学研究领域，例如，X-射线（上海光源透射成像/能谱线站）、TEM、SEM、IR、UV等。现在SHNTI可以提供X-射线显微成像/能谱（同步辐射）用氮化硅薄膜窗系列产品，规格如下：外框尺寸 (4种标准规格):5 mm x 5 mm (窗口尺寸：1.0 mm 或和 1.5 mm 方形)7.5 mm x 7.5 mm (窗口尺寸：2.0 mm 或 2.5 mm)10 mm x 10 mm (窗口尺寸：3.0 mm 或 5 mm 方形)边框厚度： 200μm、381μm、525μm。Si3N4薄膜厚度：50、100、150和200nmSHNTI也可以为用户定制产品（30-500nm），但要100片起订。本产品为一次性产品，SHNTI不建议用户重复使用，本产品不能进行超声清洗，适合化学清洗、辉光放电和等离子体清洗。与X射线用氮化硅窗口类似，透射电镜（TEM）用氮化硅薄膜窗口也使用低应力氮化硅薄膜基底。但整体尺度更小，适合TEM装样的要求。窗口有单窗口和多窗口阵列等不同规格。同时SHNTI也定制多孔氮化硅薄膜窗口。现在SHNTI可以提供透射电镜（TEM）用氮化硅薄膜窗系列产品，规格如下：外框尺寸:3 mm x 3 mm (窗口尺寸：0.5 mm，薄膜厚度：50 nm) 3 mm x 3 mm (窗口尺寸：1.0 mm，薄膜厚度：50 nm) 3 mm x 3 mm (窗口尺寸：1.0 mm，薄膜厚度：100 nm) 边框厚度： 200μm、381μm。Si3N4薄膜厚度： 50nm、100nmSHNTI也可以为用户定制产品(30-200nm)，但要100片起订。本产品为一次性产品，SHNTI不建议用户重复使用，本产品不能进行超声清洗，适合化学清洗、辉光放电和等离子体清洗。 技术指标：表面平整度：我们认为薄膜与其下的硅片同样平整， TEM用氮化硅薄膜窗口的表面粗糙度为：0.6-2nm。完全适用于TEM表征。亲水性该窗格呈疏水性，如果样品取自水悬浮液，悬浮微粒则不能均匀地分布在薄膜上。用等离子蚀刻机对薄膜进行亲水处理，可暂时获得亲水效果。虽然没有对其使用寿命进行过测试，但预期可以获得与同样处理的镀碳TEM网格相当的寿命。我们可以生产此种蚀刻窗格，但无法保证其使用寿命。如果实验室有蚀刻工具也可对其进行相应的处理提高其亲水性能。温度特性：氮化硅薄膜窗口产品是耐高温产品，能够承受1000度高温，非常适合在其表面利用CVD方法生长各种纳米材料。化学特性：氮化硅薄膜窗口是惰性衬底。应用简介和优点：1、 适合TEM、SEM、AFM、XPS、EDX等的对同一区域的交叉配对表征。2、 大窗口尺寸，适合TEM大角度转动观察。3、 无碳、无杂质的清洁TEM观测平台。4、 背景氮化硅无定形、无特征。5、 耐高温、惰性衬底，适应各种聚合物、纳米材料、半导体材料、光学晶体材料和功能薄膜材料的制备环境，（薄膜直接沉积在窗口上）。6、 生物和湿细胞样本的理想承载体。特别是在等离子体处理后，窗口具有很好的亲水性。。7、 耐高温、惰性衬底，也可以用于化学反应和退火效应的原位表征。8、 适合做为胶体、气凝胶、有机材料和纳米颗粒等的表征实验承载体。氮化硅薄膜应用范围非常广，甚至有时使不可能变为可能，但所有应用都有无氮要求（因样本中有氮存在）：惰性基片可用于高温环境下，通过TEM、SEM或AFM（某些情况下）对反应进行动态观察。作为耐用基片，首先在TEM下，然后在SEM下对同一区域进行“匹配”。作为耐用匹配基片，对AFM和TEM图像进行比较。聚焦离子束（FIB）样本的装载，我们推荐使用多孔薄膜，而非不间断薄膜。许多研究纳米微粒，特别是含氮纳米微粒的人员发现此种薄膜窗格在他们实验中不可缺少。气凝胶和干凝胶的基本组成微粒尺寸极小，此项研究人员也同样会发现氧化硅薄膜窗格的价值。优点：&bull SEM应用中，薄膜背景不呈现任何结构和特点。&bull x-射线显微镜中，装载多个分析样的唯一方法。&bull 无氮高温应用，氮化硅薄膜在1000°C高温下仍能保持稳定的性能。使用前清洁：氮化硅薄膜窗格在使用前不需进行额外清洁。有时薄膜表面边角处会散落个别氧化物或氮化物碎片。由于单片网格需要从整个硅片中分离，并对外框进行打磨，因此这些微小碎片不可避免。尽管如此，我们相信这些碎片微粒不会对您的实验产生任何影响。如果用户确实需要对这些碎片进行清理，我们建议用H2SO4 : H2O2 (1:1)溶液清洁有机物，用H2O:HCl: H2O2 (5:3:3)溶液清洁金属。通常不能用超声波清洗器清洁薄膜，因超声波可能使其粉碎性破裂。详细情况，您可以与我们取得联系。我们为您一一解答。

?应用领域：精细化工，如芳香油提纯.高聚物中间体的纯化.羊毛脂的提取等等医药领域：如提取天然维生素AE等.制取氨基酸及葡萄糖的衍生物等等食品行业：如精制鱼油.油脂脱酸.精制高碳醇.混合油脂的分离等等其他领域：石油行业，日用化学，环保领域等等 ?产品特征：1.远低于物料沸点的温度下操作,而且物料停留时间短 利于高沸点、热敏及易氧化物料的分离2.有效地脱除液体中的物质如有机溶剂、臭味等,对于采用溶剂萃取后液体的脱溶是非常有效的方法3.可有选择蒸挥发出产物,去除其它杂质,通过多级分离可同时分离2种以上的物质4.蒸馏真空度高，真空度可达0.1pa以下，其内部可以获得很高的真空度，通常分子蒸馏在很低的压强下进行操作，因此物料不易氧化受损5.蒸馏液膜薄,传热效率高，膜厚度小于0.5mm6.分离程度更高，分子蒸馏能分离常规不易分开的物质7.没有沸腾鼓泡现象，分子蒸馏是液层表面上的自由蒸发，在低压力下进行，液体中无溶解的空气，因此在蒸馏过程中不能使整个液体沸腾，没有鼓泡现象。8.提供多种规格客户选择，适用于客户小试实验,中试实验，如果需要更大蒸发面积规格的可以根据客户要求定制。9.物理分离法，无毒、无害、无污染、无残留，可得到纯净安全的产物10.刮板系统由PTFE材料和SS316L不锈钢材料制成，具有极高抗腐蚀的功效；11.进料罐可选实现预加热功能，预热温度可以调节。12.各个接口采用的是氟胶垫片进行密封，气密性好，如客户需要耐腐蚀可以更换成四氟材质 近期有人咨询，有没有不堵管的蒸发器，什么样的蒸发器可以不堵管，蒸发器怎么不堵管？如何不让蒸发器发生堵管现象呢？怎么防止蒸发器的堵管？等等一系列关于蒸发器堵管的问题。看来关于蒸发器堵管，蒸发器结垢这个问题，是蒸发器行业的常见问题，康景辉小编整理了一些关于蒸发器怎么做不堵管的方法，提供给大家，以供大家参考。蒸发器是利用蒸发工艺对废水进行蒸发浓缩的设备，将废水中的盐分进行蒸发浓缩结晶，而后冷凝水通过后续的处理，可以实现废水排放。蒸发器堵管的原因一般是晶体盐的沉积、钙镁离子等造成的结垢现象。因此，一般防止堵管要从防结垢方面考虑。在设计蒸发器时，要考虑到结垢现象，提前设计防结垢措施，在线清洗措施，同时要考虑到延缓结垢以及选对蒸发工艺。对于降膜蒸发器，膜式蒸发器就不适合应用在有晶体产生的场合，如果使用降膜蒸发器等薄膜蒸发器，堵管是会产生的现象，因此在易产生结晶体的场合应该采用强制循环蒸发器。薄膜蒸发器在蒸发溶液时也会产生结垢现象，那么就需要采用化学药剂进行清除，设计的防结垢措施在此时就派上了用场，能够延缓薄膜蒸发器结垢现象的产生。?技术参数：产品型号AYAN-B80AYAN-B100AYAN-B150AYAN-B200AYAN-B220内径(mm)80100150200220蒸发面积(㎡)0.10.150.250.350.5冷凝面积(㎡)0.150.250.450.550.65进料容积(L）22255处理流量L/H0.5∽4.00.5∽5.01.0∽8.01.5∽10.02.0∽15.0电机功率(W)120120120120200转速(r/min)≤450≤450≤450≤450≤450轻组分收集瓶(L）12355重组成收集瓶(L）12355冷井有有有有有外置冷凝装置有有有有有冷却装置有有有有有真空度(pa)100bar以下100bar以下100bar以下100bar以下100bar以下受热温度(°C)室温-200室温-200室温-200室温-200室温-200

聚氨酯薄膜密度计操作简单方便、测量快速、结果精准、经久耐用、是一款经济型密度计。聚氨酯薄膜密度计DH-300可测量PET薄膜，PE薄膜，PVC薄膜，PS薄膜等，本产品由宏拓研发生产，性能高于任何型号的塑料密度计，具有明显的价格优势，厂家直供销售。DH-300聚氨酯薄膜密度计规格特点参数：1．密度解析：0.001 g/cm32．最大称重：300g3．最小称重：0.005 g/0.01 g特点：1．直读任何固体物质的密度值、体积、百分比2．PVC颗粒、EVA发泡体、粉末、薄膜等皆可快速测量3．操作简单、方便、测量快速4．全自动零点跟踪功能5．使用水作介质，也可使用其它液体介质6．具有实际水温补偿功能7．带有蜂鸣器功能8．采用一体成形大容量设计测量配件9．配置专用防风防尘罩标准附件：①主机、②水槽、③测量台、④镊子、⑤温度计、⑥100G砝码、⑦防风防尘罩、⑧测颗粒配件一套、⑨测浮体配件一套、⑩电源变压器一个测量步骤：①先测量产品在空气中重量，按ENTER键存储记忆。②再放入水中测水中重量，按ENTER键存储，显示密度值。关联产品：DAHO经济型DH-300固体密度计DAHO实用型DH-300M固体密度计 DH-300W液体密度计 DAHO高精度DH-120M固体密度计 DH-120W液体密度计DAHO多功能DH-300T固液体两用密度计 DH-120T固液体两用密度计编辑：lcl 15.8