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离子束加工

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离子束加工相关的耗材

  • 聚焦离子束离子枪专用电镜光阑
    STRIP,TOMAHAWK,#02光阑条,用于原厂聚焦离子束TOMAHAWK型号的离子枪,光阑条是一个条状薄片上有多个不同孔径的圆孔,通过不同的孔径限制离子束的电流强度。以实现不同离子束电流间的切换。大束科技是一家以自主技术驱动的电子显微镜系列核心配件研发制造的供应商和技术服务商。目前公司主要生产电子显微镜的核心配件离子源、电子源以及配套耗材抑制极、拔出极、光阑等销往国内外市场,此外,还为用户提供定制化电子显微镜以及电子枪系统等的维修服务,以及其他技术服务和产品升级等一站式、全方位的支持。在场发射电子源(电子显微镜灯丝)、离子源以及电镜上的高低压电源、电镜控制系统研发制造等领域等均具有优势。
  • 聚焦离子束SW离子枪专用抑制极
    SUPPRESSOR,SW CONSUMABLE抑制极极电极,用于原厂聚焦离子束设备SW型号的离子枪,抑制极是聚焦离子束加载抑制极电压的电极,与拉出极配合,可对聚焦离子束的发射电流进行调节。大束科技是一家以自主技术驱动的电子显微镜系列核心配件研发制造的供应商和技术服务商。目前公司主要生产电子显微镜的核心配件离子源、电子源以及配套耗材抑制极、拔出极、光阑等销往国内外市场,此外,还为用户提供定制化电子显微镜以及电子枪系统等的维修服务,以及其他技术服务和产品升级等一站式、全方位的支持。在场发射电子源(电子显微镜灯丝)、离子源以及电镜上的高低压电源、电镜控制系统研发制造等领域等均具有优势。
  • 聚焦离子束离子枪专用拔出极
    EXTRACTOR ASSY,HT-SW拉出极电极,用于原厂聚焦离子束设备HT-SW型号的离子枪,拉出极是聚焦离子束加载拉出极高压的电极,用于将液态金属镓离子化,形成离子束。大束科技(北京)有限责任公司成立于2018年,是一家以自主技术驱动的电子显微镜系列核心配件研发制造的供应商和技术服务商。电子显微镜属于高端精密仪器,密集应用于我国的基础教学、科研平台、高科技项目研发等领域。目前公司主要生产电子显微镜的核心配件离子源、电子源以及配套耗材抑制极、拔出极、光阑等销往国内外市场,此外,还为用户提供定制化电子显微镜以及电子枪系统等的维修服务,以及其他技术服务和产品升级等一站式、全方位的支持。在场发射电子源(电子显微镜灯丝)、离子源以及电镜上的高低压电源、电镜控制系统研发制造等领域等均具有优势。
  • 中镜科仪 光阑专为扫描和透射电镜、电子探针、聚焦离子束和X-射线仪耗材
    高品质的光阑,专为扫描电镜和透射电镜、电子探针、聚焦离子束和X-射线仪而设计。高精密的钻孔和形状,可以避免电子散射。孔径符合制造商预先设计的严格的公差。材质有铂合金(Pt / Ir ,95:5 % )、钼(Mo),金(Au)。每种孔径厚度的光阑又有A、B、C、D四种不同规格和形状,孔径可用于目前所有品牌的EM系统制造商: FEI /飞利浦,日本电子,日立,蔡司/ LEO , CAMECA ,拓普康,TESCAN, CamScan等 。用户也可根据自己的实际需要设计加工新的光阑。产品包装实拍图:产品编号产品名称规格产地OZ63400黄金光阑直径:3mm 20um,AU中国
  • 微结构加工服务 激光微加工 微结构激光刻蚀
    上海屹持光电技术有限公司专业提供各种微纳结构加工服务典型案例: FIB加工微纳结构 紫外光刻微纳结构单晶硅反应离子刻蚀图片 ICP刻蚀微纳结构纳米压印点线图微流控细胞打印EBL 刻写微纳阵列FIB用于器件电极沉积激光直写图案激光直写器件微纳结构加工主要设备1,电子束曝光系统;2,聚焦离子束/ 扫描电子显微镜双束系统;3,双面对准接触式紫外光刻机;4,单面对准紫外光刻机;5,金属高密度等离子体刻蚀机;6,硅刻蚀高密度等离子体刻蚀机;7,反应等离子体刻蚀机;8,纳米压印机。
  • 线性ECL600宽波束离子源
    线性ECR宽波束离子源图1 EC/L600线性宽波束离子源产品介绍ECR离子源是利用稀薄气体中的高频放电现象使中性原子或分子电离,并从中引出离子束流的装置。在离子源内,等离子体运动轨迹是一条螺旋线。当电磁场的频率ω等于回旋频率ωc时,电子会发生共振吸收,此时电子对微波电场的能量产生很强的吸收(提高几个数量级),获得巨大能量的电子会撞击原子产生新的电子,而电离出的电子很快也会发生回旋共振,撞击原子产生更多的电子,从而使得真空室内等离子体可以达到很高的浓度。电子回旋共振不但让电子获得的能量大幅增加,而且使得电子和原子碰撞的几率大大增加,这使得等离子体的浓度得到很大提高。多个单ECR离子源结合到一起,组成线性ECR宽波束离子源。 1. EC/L600线性宽波束离子源使用简单、紧凑的微波耦合的无灯丝源,配备特殊电网绝缘调节系统,在交变电场与永磁体的静磁场的作用下,等离子体在真空室内部发生产生电子回旋共振(ECR),拥有长达2米的工作模块,均匀离子流超过总长度的65**。2. EC/L600线性宽波束离子源使用功能陶瓷,维护方便快捷,工作寿命长(超过300小时),所有的惰性气体以及氧气等活性气体均可适用于离子源,栅网系统有多种形状与材料,方便实现**佳工艺适应。 技术规范图2 EC/L600线性宽波束离子源尺寸布局参数EC/L600类型法兰安装射频激励离子源多孔径提取栅网源材料放电管:Al2O3栅网:C微波天线的真空分离:二氧化硅杯永磁体:NdFeB外壳:不锈钢磁屏蔽:镀镍钢栅网类型2栅网或3栅网系统2种不同焦距的标准系统型号深度:标准110 mm(可调为250 mm)235 mm x 675 mm(无法兰)重量约75kg法兰带O形密封圈的非标准矩形法兰340 mm x 775 mm微波电源每个模块在2.45 GHz时约125-400 W离子电流**大1 A(取决于栅网类型和运行条件)离子能量100 到 2000 eV加速电压0 –1000 V过程气体惰性气体,N2(无限制)O2和含卤素气体(栅极寿命缩短)气流流量5-20sccm接头:1/8“Swagelock(空气和真空)冷却水1.5 l/min电连接6 mm Swagelock
  • 全自动样品制备系统
    M1030 全自动样品制备系统(ASaP),它能显著的提高经过切割、机械打磨和FIB加工的SEM样品的图象质量和分析数据的准确性,集等离子清洗、离子束刻蚀、反应离子束刻蚀、离子束喷镀功能于一身。带有气锁装置的装样系统,使得样品即使是在更换时也不影响整个设备的真空状态。样品尺寸:直径最大为25mm,厚度可达12.5mm
  • 铜/钼聚焦离子束FIB半分载网Omniprobe Lift-Out
    产 品 详 情 原装进口Omniprobe lift-out FIB专用载网,完美支持FIN或SEM/FIN系统对样品的处理和观察。载网上的齿针使样品在受到离子轰击时仍能保持稳定,同时下部的字母方便区别样品编号。载网厚度约为25-30μm。
  • PFA层析柱,微柱,离子交换柱,地质同位素行业专用定制加工
    PFA层析柱、微柱PFA层析柱、微柱其主要特性有:1、PFA层析柱(微柱)专为离子交换设计,不同的容量、管径及长度可满足客户的不同需求。2、此产品以PFA为材质铸造,设计结合多种毛细管和储存容器的特点来满足您的需要。3、独特的螺纹口设计以便用户选择盖子以保护层析中的液体样品的完整性。4、我们还可以接受产品定制,如目前产品不能满足您的需要,您可以将您需要的容积、管径、长度通知我们,为您量身定制专属您的层析柱。5、PFA材料具有良好的抗腐蚀能力,耐多种强酸腐蚀,可以作为储酸容器及涉及强酸的反应器6、PFA材料金属离子含量很低,其化学纯度符合FDA要求; 7、PFA材料耐温范围: 200~260℃,在较高的温度下能够保持较强的机械强度和爆破压力;8、采用特殊一体加工而成,杜绝了在使用过程用力甩用,导致体与柱子脱离现象;9、主要用于地质同位素超净化、痕量、超痕量、微量元素分析实验室;10、常用规格参考:品名规格(ml)材质PFA微柱3PFA71530 PFA系列产品:取样瓶、洗瓶、滴瓶、容量瓶、量杯、烧杯、离心管、消解管、溶样罐、消解瓶、各种管类、接头阀门类、洗气瓶、各厂家微波消解罐盖子以及其他定制产品等。
  • 电镜专用国产离子源灯丝8217150
    液态镓离子源,应用于原厂的聚焦离子束设备,液态镓离子源是将液态金属镓灌入尖端的漏斗状结构,在拉出极高压的作用下形成镓离子束。大束科技(北京)有限责任公司成立于2018年,是一家以自主技术驱动的电子显微镜系列核心配件研发制造的供应商和技术服务商。电子显微镜属于高端精密仪器,密集应用于我国的基础教学、科研平台、高科技项目研发等领域。目前公司主要生产电子显微镜的核心配件离子源、电子源以及配套耗材抑制极、拔出极、光阑等销往国内外市场,此外,还为用户提供定制化电子显微镜以及电子枪系统等的维修服务,以及其他技术服务和产品升级等一站式、全方位的支持。在场发射电子源(电子显微镜灯丝)、离子源以及电镜上的高低压电源、电镜控制系统研发制造等领域等均具有优势。
  • 中镜科仪 FIB 36°截面钉形样品台 SEM扫描电子显微镜样品台 聚焦离子束、半分载网、Omniprobe 、Lift-Out
    产 品 详 情 温馨提示:(1)数据是人工测量,会有误差,以实物收到为准。(2)国产的样品台都是经过轻微抛光处理,表面会有少许加工划痕,但保证不影响正常使用。
  • FIB 36°截面钉形样品台 SEM扫描电子显微镜样品台 聚焦离子束、半分载网、Omniprobe 、Lift-Out
    产 品 详 情 温馨提示:(1)数据是人工测量,会有误差,以实物收到为准。(2)国产的样品台都是经过轻微抛光处理,表面会有少许加工划痕,但保证不影响正常使用。
  • 离子源清洁粉 | 22685
    产品特点:离子源清洁粉Ion Source Cleaning Powder订货号:22685当您遇到灵敏度差和高质量丰度不足时,使用这种氧化铝粉末清洁接触样品或离子束的表面。产品名称:离子源清洁粉(Ion Source Cleaning Powder)类似:Agilent 8660-0791 Grace 03-920276-00,5124594
  • Ted Pella 铜/钼聚焦离子束FIB半分载网Omniprobe Lift-Out
    产 品 详 情 原装进口Omniprobe lift-out FIB专用载网,完美支持FIN或SEM/FIN系统对样品的处理和观察。载网上的齿针使样品在受到离子轰击时仍能保持稳定,同时下部的字母方便区别样品编号。载网厚度约为25-30μm。
  • 精密楔形研磨抛光具
    精密抛光具可用于光学显微镜,扫描电子显微镜及原子力显微镜样品的常规制备,也可通过有角度的研磨抛光得到楔形样品进行透射电镜表征观察和聚焦离子束微纳加工,再研磨抛光的过程中可适时在光镜下观察样品的状态。
  • 大和电子科技 扫描电镜用条形光阑
    用途:扫描电镜光阑尺寸:如图所示后期处理: ■本公司自行研发的光阑特殊清洗 特点: ■没有毛刺、突起、倾斜的高精密加工 ■去除纳米量级附着物的特殊清洗 ■为防止氧化,加入干燥剂或者抗氧化剂后进行真空包装 ■ 实现批量化的生产加工,而且加工的质量稳定,品控体系严格交货期:根据产品规格另作商量,一般初次定做需要两个月以上的时间大和电子科技株式会社是电镜耗材的专门制作厂商,从事耗材制作50余年。除了上述的扫描电镜光阑外,我们可以制作用于透射电镜、聚焦离子束和X射线系统的光阑。最小孔径为Φ0.001mm。欢迎您的咨询,期待为您服务!
  • FIB专用样品盒 4孔 实验耗材、聚焦离子束、Omniprobe、 Lift-Out
    产 品 详 情 FIB专用样品盒,专门用于盛放或转移特殊载网,底面没有粘附物,不会损害制备好的样品。
  • FIB专用样品盒 实验耗材、聚焦离子束、Omniprobe、 Lift-Out
    产 品 详 情 FIB专用样品盒,专门用于盛放或转移特殊载网,底面没有粘附物,不会损害制备好的样品。分普通型和防静电型。
  • 激光分束镜
    这款激光分束镜是欧洲进口的高损伤阈值激光分光镜,英文名是wavelength separator,它能够把不同的激光波长分开,或者把倍频激光的不同波长分开。激光分束镜,激光分光镜采用了离子束溅射技术(Iom Beam Sputtering, IBS)或电子束蒸发技术进行镀膜,这些镀膜技术非常成熟。激光分束镜,激光分光镜,wavelength separator由孚光精仪进口提供,孚光精仪是中国领先的进口光学器件服务商!激光分束镜,激光分光镜,wavelength separator技术参数基片尺寸公差:+0/-0.1mm基片波前畸变:基片表面质量:20/10 SD 40/20SD(曲面)镀膜粘附性和耐久性:Per MIL-C-675A净孔径: 90%镀膜反射率:R99% @ 0o Rave99% @ 45o激光损伤阈值:3-5J/cm2 for 10 ns pulses @1064nmThe measured transmission curve for wavelength separator coating code (R99,5% @ 1064nm T95% @ 532 nm)镜激光分束镜,激光分光镜,,wavelength separator询问服务:请阁下根据如下格式选择和填写您需要的镜片和镀膜参数,然后复制后直接通过Email发送给我们,您会收到及时的报价回复。
  • 离子减薄仪
    仪器特别采用了“薄轴承”试样台,在减薄过程中对离子束无遮挡而且散热好,更换样品既方便又不易损伤样品。这一特点特别有利于脆性样品(陶瓷、矿物等)的制备。该仪器操作十分简便安全,使用者无需专门培训即可操作,为此设计了下列保护装置,使仪器在使用中更稳定可靠,而且非常安全。1.在样品室中装有聚光照明系统,用于观察样品是否制备完成。2.为了保护观察窗和照明系统,专门设计了自动防污染装置。3.该仪器的真空系统装有防止误操作保护系统,防止由于误操作对扩散泵放气。4.在冷却水系统装有报警装置,当断水时自动报警
  • 大和电子科技 透射电镜圆形光阑
    产品介绍用途:用于透射电镜(TEM),扫描透射电镜(STEM)尺寸:如图所示后期处理: ■本公司自行研发的光阑特殊清洗 特点: ■微细深孔的高精密加工 ■去除小孔边缘的小突起 ■小孔内壁实现镜面加工 ■去除纳米量级附着物的特殊清洗 ■为防止氧化,加入干燥剂或者抗氧化剂后进行真空包装 交货期:根据产品规格另作商量,一般初次定做需要两个月以上的时间大和电子科技株式会社是电镜耗材的专门制作厂商,从事耗材制作50余年。除了上述的扫描透射电镜光阑,透射电镜光阑外,我们可以制作用于扫描电镜、聚焦离子束和X射线系统的光阑。最小孔径为Φ0.001mm。欢迎您的咨询,期待为您服务!大和电子科技株式会社是仪器信息网银牌会员,已合作1年,提供的大和电子科技 透射电镜用圆形光阑 ,请放心选择。大和电子科技株式会社还可为用户供应优质的大和电子科技 走查电镜用光阑、等产品,欢迎在线咨询。
  • 离子源 ECL800
    EC/L800线性宽波束离子源线性ECR宽波束离子源图1 EC/L800线性宽波束离子源产品介绍 ECR离子源是利用稀薄气体中的高频放电现象使中性原子或分子电离,并从中引出离子束流的装置。在离子源内,等离子体运动轨迹是一条螺旋线。当电磁场的频率ω等于回旋频率ωc时,电子会发生共振吸收,此时电子对微波电场的能量产生很强的吸收(提高几个数量级),获得巨大能量的电子会撞击原子产生新的电子,而电离出的电子很快也会发生回旋共振,撞击原子产生更多的电子,从而使得真空室内等离子体可以达到很高的浓度。电子回旋共振不但让电子获得的能量大幅增加,而且使得电子和原子碰撞的几率大大增加,这使得等离子体的浓度得到很大提高。多个单ECR离子源结合到一起,组成线性ECR宽波束离子源。1. EC/L800线性宽波束离子源使用简单、紧凑的微波耦合的无灯丝源,配备特殊电网绝缘调节系统,在交变电场与永磁体的静磁场的作用下,等离子体在真空室内部发生产生电子回旋共振(ECR),拥有长达2米的工作模块,均匀离子流超过总长度的80**。2. EC/L800线性宽波束离子源使用功能陶瓷,维护方便快捷,工作寿命长(超过300小时),所有的惰性气体以及氧气等活性气体均可适用于离子源,栅网系统有多种形状与材料,方便实现**佳工艺适应。技术规范图2 EC/L800线性宽波束离子源尺寸布局 图3 EC/L800线性宽波束离子源离子束轮廓参数EC/L800类型法兰安装射频激励离子源多孔径提取栅网源材料放电管:Al2O3栅网:C微波天线的真空分离:二氧化硅杯永磁体:NdFeB外壳:不锈钢磁屏蔽:镀镍钢栅网类型2栅网或3栅网系统2种不同焦距的标准系统型号深度:标准104.5 mm235 mm x 875 mm(无法兰)重量约80kg法兰带O形密封圈的非标准矩形法兰340 mm x 975 mm微波电源每个模块在2.45 GHz时约125-400 W离子电流1000 V(1.2 kW)时**大1200mA离子能量100 到 1000 eV加速电压0 –1000 V过程气体惰性气体,N2(无限制)O2和含卤素气体(栅极寿命缩短)气流流量40sccm,6 mm软管的插入式接头冷却水1.5 l/min电连接6 mm Swagelock
  • 离子源 KF40
    热灯丝宽波束离子源KF/F 40 KF/I 40图1 热灯丝宽波束离子源产品介绍热灯丝阴极离子源是通过加热灯丝发射原初电子,发射出来的原初电子,经过阴极鞘层被加速获得相应于等离子体与阴极之间电位差的能量。等离子体的电位略高于阳极电位。这类高速电子与从进气口均匀进入放电室的气体原子相碰撞形成等离子体,形成的离子被离子光学系统发出形成离子束。 1. KF40使用简单、紧凑的考夫曼离子源,可以方便快速地更换灯丝,配备特殊电网绝缘调节系统,所有的惰性气体以及氮气均可适用于离子源,栅网系统有多种形状与材料。2. KF40安装在仪器内部和外部均可,使用功能陶瓷,维护方便快捷,工作寿命长。技术规范图2 热灯丝宽波束离子源尺寸布局参数KF/F40KF/I40类型法兰安装考夫曼子源多孔径提取栅网内部安装射考夫曼源多孔径提取栅网源材料放电管:Al2O3栅网:C或Mo灯丝固定器:Mo永磁体:AlNiCo外壳:不锈钢灯丝:钨栅网类型2栅网或3栅网系统3种不同焦距的标准系统型号参见上图(无中和器)重量约4.5kg约2.5kg法兰DN 100 CF3个DN 40 CF介质引线阴极电流:**大30A放电电流/电压 **大6A / 150 V离子电流**大25 mA(取决于栅网类型和运行条件)离子能量50 到 1500 eV加速电压0 –1000 V过程气体惰性气体,N2,不能是活性气体气流流量2-7sccm接头:6 mm Swagelock2-7sccm接头:1/8“Swagelock(空气和真空)电连接HV-DC:BNCHC-DC:电源启动空气侧:BNC,电源接通真空侧:包括0.5米真空电缆的电源启动
  • 五铃光学元器件定制加工
    1)玻璃非球面透镜 非球面透镜可以解决目前球面镜片所带了的畸变和像差,也可以减少成像系统的体积,提高系统的整体成像质量。已被广泛应用于医疗设备、精密仪器、航空航天、国防科技等重要领域,代表了镜片发展的趋势。 可加工材料包括:融石英、微晶玻璃、碳化硅(陶瓷)、高分子聚合物 晶体材料(锗、硒化锌、氟化镁等) 可加工口径:1,000mm 加工面型精度可达:(P-V)1/20λ 加工表面粗糙度可达RMS:0.3nm 2)金属反射镜 大口径金属反射镜可实现各种光束收集、光束准直和光束聚焦,被广泛应用于天体观测光学装置、光谱检测、天文望远系统、瞄准仪、扩束镜、红外系统、聚光太阳能系统,投影系统以及发射/探测设备等领域。 目前的金属反射镜加工主要集中在6英寸(150mm)以内,我司加工口径达到20英寸(500mm),处于国内领先水平。 可加工材料包括:航空铝、铜、钢(镀镍)、合金 加工口径可达:500mm 加工面型精度可达:(P-V)1/4λ 加工表面粗糙度可达: 2nm 3)奇异光学 传统的光学加工仅能针对平面、球面、部分非球面进行相应面型加工,而奇异光学的发展突破了光学加工的瓶颈,可以针对不同光学表面面型进行高精度、高效率、大尺寸的加工,是目前光学零件的发展方向。 目前,我司生产的奇异光学元器件已被广泛应用于科学仪器、集成电路、天文望远等领域。产品具有大尺寸、高精度、面型复杂等特点。
  • 大和电子科技 透射 电镜条形光阑
    用途:用于透射电镜(TEM),扫描透射电镜(STEM)尺寸:如图所示后期处理: ■本公司自行研发的光阑特殊清洗 ■真空烘烤除气 ※option 检测: ■测量显微镜进行检测 ■电镜进行检测(参考倍率1000倍) ※option特点: ■微细深孔的高精密加工 ■去除小孔边缘的小突起 ■小孔内壁实现镜面加工 ■去除纳米量级附着物的特殊清洗 ■ 真空下进行烘烤除气 ■为防止氧化,加入干燥剂或者抗氧化剂后进行真空包装 交货期:根据产品规格另作商量,一般初次定做需要一个月以上的时间大和电子科技株式会社是电镜耗材的专门制作厂商,从事耗材制作50余年。除了上述的扫描透射电镜光阑,透射电镜光阑外,我们可以制作用于扫描电镜、聚焦离子束和X射线系统的光阑。最小孔径为Φ0.001mm。欢迎您的咨询,期待为您服务!大和电子科技株式会社是仪器信息网银牌会员,已合作1年,提供的大和电子科技 扫描电镜用条形光阑 ,供货周期为一月,请放心选择。大和电子科技株式会社还可为用户供应优质的大和电子科技 走查电镜用圆形光阑、等产品,欢迎在线咨询。
  • 飞秒激光微加工平台配件
    工业级飞秒激光微纳加工系统配件专业为工业微加工研究和生产而研发的成熟的技术,可用于飞秒激光打孔,飞秒激光蚀刻,飞秒激光多光子聚合等微纳加工应用。飞秒激光微纳加工系统配件具有非常绝佳的可靠性和超高的加工速度,飞秒激光器由于激光脉冲超短,提供了常见激光无以伦比的激光功率密度,其加工效果远远超过纳秒和皮秒激光。光束所到之处能够瞬间将材料汽化,由于激光脉冲超短,激光能量无法在如此短的时间内扩散到周围材料中,所以对加工区域周围影响微乎其微,是一种冷加工技术,加工效果堪称一流。飞秒激光微纳加工系统配件采用高达10W的Yb:KGW(1030nm)飞秒激光器作为激光光源,重复频率在1--1000KHz范围内可调,结合一流的精密扫描振镜,提供超高的微加工速度。系统配备Arotech公司高分辨率的定位平台,并同步激光光束扫描振镜和脉冲选择器, 在空间,时间和能量上提供全方位高精度控制。从而提供超高难度的加工能力,并达到亚微米精度的分辨率和重复性。配备机械视图系统,使用高分辨率的相机监控加工过程。飞秒激光微纳加工系统配件使用了贴别为微加工而设计的飞秒激光器,它比市场上出售的商业飞秒激光器具有更多优势,具有更高的稳定性和可靠性,达到工业使用的标准,飞秒激光放大器具有更短的脉冲(振动器飞秒激光微纳加工系统配件规格激光放大器参数波长1030nm平均功率6W重复频率1-1000KHz可调脉宽最大脉冲能量1mJ输出稳定性光束质量M2脉冲选择器多种频率选择SH, TH,FH可选激光振荡器参数功率1W脉宽重复频率76MHz飞秒激光微纳加工系统配件特色 超高加工速度:高达350000像素 飞秒微细加工模式下具有最小的热影响区 工作面积高达:150x150mm 使用高性能振镜控制精密激光光束 激光脉冲数可控(1-350KHz)飞 飞秒激光微纳加工系统涉及技术 飞秒激光钻孔,飞秒激光切割,飞秒激光打孔 飞秒激光烧蚀,飞秒激光蚀刻,飞秒激光雕刻 2.5D铣,自定义模型划线, 表面微纳结构价格 改变材料的折射率,飞秒激光材料改性 飞秒激光三维多光子聚合 光学微操作…… MEMS制造掩膜制造和修理微片修复 燃料电池材料制造LIBWE,医疗应用激 光诱导扩散微光学、光子晶体、衍射光学元件制造 波导和微透镜的制备
  • 飞秒激光微纳加工系统配件
    工业级飞秒激光微纳加工系统配件专业为工业微加工研究和生产而研发的成熟的技术,可用于飞秒激光打孔,飞秒激光蚀刻,飞秒激光多光子聚合等微纳加工应用。飞秒激光微纳加工系统配件具有非常绝佳的可靠性和超高的加工速度,飞秒激光器由于激光脉冲超短,提供了常见激光无以伦比的激光功率密度,其加工效果远远超过纳秒和皮秒激光。光束所到之处能够瞬间将材料汽化,由于激光脉冲超短,激光能量无法在如此短的时间内扩散到周围材料中,所以对加工区域周围影响微乎其微,是一种冷加工技术,加工效果堪称一流。飞秒激光微纳加工系统配件采用高达10W的Yb:KGW(1030nm)飞秒激光器作为激光光源,重复频率在1--1000KHz范围内可调,结合一流的精密扫描振镜,提供超高的微加工速度。系统配备Arotech公司高分辨率的定位平台,并同步激光光束扫描振镜和脉冲选择器, 在空间,时间和能量上提供全方位高精度控制。从而提供超高难度的加工能力,并达到亚微米精度的分辨率和重复性。配备机械视图系统,使用高分辨率的相机监控加工过程。飞秒激光微纳加工系统配件使用了贴别为微加工而设计的飞秒激光器,它比市场上出售的商业飞秒激光器具有更多优势,具有更高的稳定性和可靠性,达到工业使用的标准,飞秒激光放大器具有更短的脉冲(振动器飞秒激光微纳加工系统配件规格激光放大器参数波长1030nm平均功率6W重复频率1-1000KHz可调脉宽最大脉冲能量1mJ输出稳定性光束质量M2脉冲选择器多种频率选择SH, TH,FH可选激光振荡器参数功率1W脉宽重复频率76MHz飞秒激光微纳加工系统配件特色 超高加工速度:高达350000像素 飞秒微细加工模式下具有最小的热影响区 工作面积高达:150x150mm 使用高性能振镜控制精密激光光束 激光脉冲数可控(1-350KHz)飞 飞秒激光微纳加工系统涉及技术 飞秒激光钻孔,飞秒激光切割,飞秒激光打孔 飞秒激光烧蚀,飞秒激光蚀刻,飞秒激光雕刻 2.5D铣,自定义模型划线, 表面微纳结构价格 改变材料的折射率,飞秒激光材料改性 飞秒激光三维多光子聚合 光学微操作…… MEMS制造掩膜制造和修理微片修复 燃料电池材料制造LIBWE,医疗应用激 光诱导扩散微光学、光子晶体、衍射光学元件制造 波导和微透镜的制备
  • 电子轰击离子源部件
    产品特点:建议用于EI 离子源清洁的材料是砂纸,氧化铝粉沫。不要将灯丝或透镜绝缘体浸入溶剂中。如果绝缘体脏了,可以用甲醇(试剂级)棉签请清洁。如果这样不能达到清洁的目的,就更换绝缘体.更换有划痕的透镜和其他离子源部件是很有必要的,有划痕的离子源部件会导致性能降低。警告:强调:不要用砂纸或超声波清洗绝缘体。用研磨料清洁与样品或离子束接触的表面。用棉签蘸取氧化铝粉沫研磨料匀浆和试剂级甲醇,用力擦拭所有变色部件。不必抛光部件,小的划痕不会影响性能。还要清洁灯丝电子进入离子源体位置的变色部件。注意避免污染已经清洗好并干燥的部件。在接触部件之前戴好新的干净手套。不要将干净的部件置于脏的表面上。只能将它们置于干净的无纺布上。订货信息:5975/5973 MSD 电子轰击离子源部件(EI)项目说明部件号惰性离子源的各部件号1离子源体G1099-20130G2589-200432拉出极板,3mm05971-20134G2589-20100拉出极板,6mmG3163-20530G2589-200453拉出极柱体G1072-20008G1072-200084透镜绝缘体G3170-20530G3170-205305离子聚焦透镜05971-2014305971-201436入口透镜G3170-20126G3170-201267螺帽,镀金G1999-20021G1999-200218耐高温灯丝G2590-60053G2590-600539传输线套管G1099-20136G1099-2013610推斥极绝缘体G1099-20133G1099-2013311推斥极G1099-20132G2589-200445972/5971/GCD MSD 离子源部件(EI)说明  部件号入口透镜 05971-20126透镜绝缘体 G3170-20530离子聚焦透镜 05971-20143拉出极柱体 G1072-20008拉出极板,3mm 05971-20134安装螺丝 0515-1446推斥极部件 05971-60170螺丝,用于离子源上的灯丝 0515-1046传输管端头,镀金的,5972/5971 05971-20305
  • 5977/7000C 提取离子源部件
    Extractor EI 源这款创新的离子源摈弃了其他EI 源所采用的拉出极板,改用由惰性材料制成的提取透镜。可程序升温至350 oC,提高活性化合物及后洗脱化合物的响应。该独特结构可为各类不同的化合物提供最高的灵敏度和超痕量分析。提取透镜也可将离子束聚焦进入质量分析器。提取透镜具有另一功能,可与加电压的推斥极一起将离子拉出离子化室。该结果会大大增加分析离子的数量,真正意义上改善了仪器的灵敏度。与另外两种离子源一样,Extractor EI 源具有三种可选的孔径尺寸:3、6 和9 mm,一般来说,3 mm 孔径可提供最高的灵敏度。选择更大的孔径尺寸可分析浓度更高的目标化合物。增加孔的直径也可减少停留或是反应时间,为不稳定化合物提供更有效的惰性环境。Extractor EI 源可在更高灵敏度的提取调谐模式下,或标准模式下运行,在标准模式下运行时表现行为则与标准不锈钢和惰性离子源一样。只需要通过软件控制即可轻松切换提取模式和单一推斥极模式,无需进行任何物理改变。5977/7000C 提取离子源部件5977/7000C 提取离子源部件项目说明部件号1紧固螺钉G3870-204462螺钉G3870-200213提取源体G3870-204404提取透镜G3870-204445提取透镜绝缘体G3870-204456灯丝,4 圈G3170-600537弹簧垫圈3050-13748透镜绝缘体G3870-205309入口透镜组件G3170-2012610离子聚焦透镜05971-2014311推斥极绝缘体G1099-2013312惰性推斥极G2589-2004413垫圈,用于推斥极 M33050-089114垫圈,SPR BLVL 4 内径 0.125 英寸,外径 0.25 英寸3050-130115螺帽,5.5 mm0535-0071165977 提取 350 推斥极模块组件G3870-6017117推斥极插件G3870-20135
  • 适用于高功率激光加工的Iris变形镜
    产品信息Iris自适应光学系统Iris分段式可变形镜Alpao自适应光学系统适用于高功率激光加工的Iris变形镜所属类别: ? 调制器 ? 可变形反射镜/自适应光学系统所属品牌:美国Iris AO公司产品简介Iris AO公司针对激光加工应用专门设计的分立镜面MEMS变形镜具有专业的水冷系统与镀膜技术,大幅提高了损伤阈值,适用于高功率激光加工系统,可对光学元件带来的像差予以校正,并有效提高激光的光束质量!关键词:变形镜,DM,deformable mirror,MEMS,分立镜面变形镜,分立式变形镜,分立式MEMS变形镜 ,分离镜面变形镜,Discrete MEMS deformable mirror,Iris变形镜,微变形镜,MEMS变形镜,静电变形镜,像差校正、场镜像差校正、F-Theta Lens像差校正适用于高功率激光加工的Iris变形镜在高功率激光精细加工领域,光束质量对于加工精度与质量至关重要。通常光束质量的影响主要来自激光器本身的光束质量的波动与激光加工系统中光学元器件引入的光学像差。在该领域,所使用的激光器的腔镜会受到激光的直接辐照而产生对激光能量的吸收,特别是随着功率的提高,腔镜吸收的能量也随之增加,腔镜温度升高而产生热变形。腔镜热变形将引起腔内光束的光程发生变化,使得谐振腔的工作参数偏离设计值,从而引起腔内模式发生改变,致使波前相位高频成分及Zernike高阶像差增大,波前畸变程度也将变大,输出光束质量退化,输出功率下降,从而影响激光微加工的精度和质量。而激光加工系统中的光学元器件所引入的光学像差则不可避免地会导致激光光束质量下降。Iris分立镜面MEMS变形镜,采用全球领先的分立镜面混合表面微加工工艺技术,是美国Iris AO公司专门为高功率激光精细加工过程中腔镜热变形和光学器件像差造成的波前畸变进行校正补偿而开发的新型封装变形镜器件,是改善高功率激光精细加工应用中光束质量,提供加工精度与加工质量的有效工具。Iris使用独创MEMS专利技术制造的变形镜采用111个内切孔径3.5或7.0mm的驱动器,37片PTT镜片单元组成蜂窝状阵列。每一个镜面单元可以在三个自由度方向上,伸缩,翻倒,倾斜独立控制。产品特点和优势: 专业介质镀膜可承受高功率激光 配有水冷散热系统,更利于散热并提高产品寿命 配有清除有机物的清洗口,避免水冷系统阻塞 体积紧凑,方便集成 高性价比权威测试结果:1. 全球领先的激光微加工系统制造商使用紫外脉冲激光器(355nm,15W平均功率,ps脉冲)对Iris AO的新型封装并镀膜的PTT111变形镜进行测试显示: Iris变形镜在5W激光功率下测试60小时,10W激光功率下测试70小时,15W激光功率下测试80小时,均没有显示影响光束质量的损坏迹象。在激光功率15W测试时入射到变形镜上的是一束光斑直径大约1mm的激光。测试显示即使在更高的功率强度上,变形镜也没有出现永久损坏的迹象。2. 另一位业内领先的激光加工系统制造商Raydiance Inc.( http://www.raydiance.com/)公司利用平均功率10W的1550nm飞秒脉冲激光器成功对镀金薄膜的PTT111DM和采用新型封装PTT111DM进行测试对比。测试显示这种专为激光应用开发与优化的最新封装,进一步增大镀金薄膜变形镜所能承受的平均功率。3. 测试显示Iris分立镜面MEMS变形镜无需热沉就可以承受300W/cm2平均功率密度,在进行热沉和改善镀膜后,变形镜可以承受3KW/cm2的平均功率密度。对于脉冲激光,变形镜可以承受峰值功率密度1.7GW/cm2。在使用新型封装后,变形镜所能承受的功率密度进一步增大,并且无损连续工作时间显著延长。以上测试均表明专业表面介质薄膜以及为适应恶劣环境进行的新型封装对提高变形镜的损伤阈值与高功率激光下的工作性能非常有效。Iris AO公司下一步将进行1000小时的超长时间测试,来进一步验证和改善这种新型封装镀膜变形镜的承受高功率激光的性能。目前Iris AO由于出色的研发实力,已赢得了美国国家航空航天局的Phase II SBIR项目资金,用来支持其进一步发展变形镜在高功率激光器方面的应用。Iris AO将进一步开发适用更宽波长范围的镀膜技术,适用从288nm到1600nm激光器,(深紫外准分子激光器到ND:YAG激光器),为激光微加工、激光精细加工和激光整形行业应用提供优秀的波前校正与光斑整形方案。分享到 : 人人网 腾讯微博新浪微博 搜狐微博 网易微博
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