米氏散射成像

InXight X射线成像模块InXight是Xeuss 3.0的X射线成像可选模块，它可以在X射线散射测量和X射线成像之间进行快速自动切换。这大大提高了Xeuss 3.0仪器的测试能力，测量尺寸范围从埃米级到毫米级。全面认识您的样品对聚合物，泡沫，复合材料，生物材料等新应用的开发，不仅需要了解他们的材料结构，还需要评估生产过程和使用条件的影响。通过测量加工材料或异质材料的宏观结构，结合Xeuss 3.0散射测量，其中InXight模块有助于理解宏观结构的非均质性和纳米或原子结构之间的关系。大面积X射线探测视野以及低至几十微米的分辨率，是进行局部区域测量的理想选择。通过快速切换测量配置，InXight可以在进行原位动态研究时同时采集X射线图像和X射线散射图谱。分析的典型材料包括聚合物、复合材料、玻璃或薄的无机样品。X射线源在散射和成像之间的自动快速切换InXight正在申请专利的测量配置包括一个X射线成像源，该X射线成像源产生一个锥形光束，大范围照射位于Xeuss 3.0样品台上的样品，并将X射线透射图像投射到Q-Xoom探测器上。 X射线源快速自动切换，可确保在同一样品上连续自动进行X射线散射和X射线成像。InXight X射线成像模块 具有InXight X射线成像模块的Xeuss 3.0 获取从埃米级到毫米级的样品结构信息 通过成像选取目标，研究散射信息 在原位SAXS/WAXS实验过程中，结合X射线成像可监测样品变化。

德国Hellma公司成立于1922年，是全球最著名的比色皿供应商与光学元件供应商，1995年荣获TUV Sudwest的DIN EN ISO 9001质保认证。为了确保优越品质，Hellma采用出自著名的德国Heraeus公司的SUPRASIL高级石英为原材料,每一件比色皿都经过了严格的质量审查。 Hellma一直为PE、Shimadzu、Jasco等全球各大仪器厂商提供OEM比色皿，Hellma比色皿完全适用于各厂牌各种型号光谱仪的需要！光散射比色皿，用于散射分析，多种规格可选。540.11光散射比色皿0/540.111/540.114/540.115/540.135-QS规格：目录外径尺寸H × D（mm）内径尺寸H × D( mm)容量（ µ L）产品号备注540.110-QS75 x 1074 x 82800540-110-80540.111-QS75 x 1074 x 82800540-111-80外圆柱面磨光540.114-QS75 x 2573 x 22.622000540-114-80540.115-QS75 x 2573 x 22.622000540-115-80外圆柱面磨光540.135-QS75 x 2074 x 1814000540-135-20-40光散射比色皿其它规格咨询请联系我们！！各规格比色皿现货特惠促销！！！

Xenocs无散射准直狭缝系统Scatterless Collimation，区别于传统的三片式狭缝，采用独有的专利技术，消除了传统狭缝刀片边缘的寄生散射，有效的避免了光强损失，打造了超纯净光路，提高了数据的分辨率。

光散射检测器对于溶剂体系和柱子有非常高的要求，一些细小的柱流失都会引起很大的噪音。PLGel LS系列是专用于光散射检测器的柱子，适用于光散射检测器。

1200 系列蒸发光散射检测器的备件订货信息：1200 系列蒸发光散射检测器的备件说明部件号标准流量雾化器G4218-20000半微量流量雾化器G4218-20001大流量雾化器G4218-20002微流雾化器G4218-20003RRLC 雾化器G4218-20004雾化室，玻璃G4218-40000黑塑料螺母，13 mm 直径，玻璃G4218-40010黑塑料螺母，22 mm 直径，玻璃G4218-40011黑色排废管，2.5 mG4218-40110闷头G4218-40130滤芯，0.01 μm，用于气体调节器G4218-40150带不锈钢接头的气体管G4218-40220带不锈钢接头的排放管G4218-40100气体调节阀，带 0.01 μm 过滤器和压力计G4218-60100雾化室的密封工具包G4218-68010咖啡因标样，250 μg/mLG4218-85000?

另一种背散射标样。两种分离的Cu/Zn相平均原子序数分别为29.37和29.47，仅相差0.1。

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产品信息：1200系列蒸发光散射检测器标准流量雾化器G4218-20000用于气体减压阀的滤芯G4218-40150 订购信息：g4218a 1200 系列蒸发光散射检测器的备件说明部件号标准流量雾化器G4218-20000半微量流量雾化器G4218-20001大流量雾化器G4218-20002微流雾化器G4218-20003RRLC 雾化器G4218-20004雾化室，玻璃G4218-40000黑塑料螺母，13 mm 直径，玻璃G4218-40010黑塑料螺母，22 mm 直径，玻璃G4218-40011黑色排废管，2.5 mG4218-40110闷头G4218-40130滤芯，0.01 μm，用于气体调节器G4218-40150带不锈钢接头的气体管G4218-40220带不锈钢接头的排放管G4218-40100气体调节阀，带 0.01 μm 过滤器和压力计G4218-60100雾化室的密封工具包G4218-68010咖啡因标样，250 μg/mLG4218-85000

这款背散射电子探测器是欧洲进口的全球领先的BSE探测器，它采用全球最佳的闪烁体晶体探测器和光电倍增管,精密真空机械以及高精度电路，以卓越的性能满足背散射电子探测应用。背散射电子探测器特点采用YAG:Ce单晶闪烁体采用闪烁体和光电倍增管，提供极佳的图像质量全球最佳的超低能量镀膜技术，灵敏度可到0.5Kev 优异的信噪比无限的探测器寿命电动可回缩高精密导臂波纹管密封高真空系统完全用户订制化的SEM连接系统背散射电子探测器性能YAG:Ce闪烁体探测器提供最佳效率和最小余光afterglow, decay time 衰减时间为75ns @30光子/Kev YAG:Ce闪烁探测器外径15mm , 内孔6mm, 4mm, 2mm 或1.2mm任选，它限制视场大小。灵敏度高达1pA电子束

多光谱显微镜成像系统配件是美国进口多光谱显微镜，是一种具有美国专利的基于声光可调谐滤波片技术是目前光谱分辨率和光谱转换速度最高的技术和显微多光谱成像系统。多光谱显微镜成像系统配件非常适合容量高，数量大的荧光的研究，光谱反射和透射成像技术是生命科学不可多得的科研工具，而多光谱细胞成像系统的使用对象范围从活细胞到整个动物体多光谱显微镜成像系统配件参数 光谱范围 450-800nn光谱分辨率 1.5nm(450nm波段处)， 3nm( 800nm波段处)， 每个中心波长处可变波带外滤光能力1000:1输出光线形偏振系统总体效率50nm-800nm内约为30℅转换速度＜100微秒图像质量可达衍射极限数据接口USB 2.0应用软件图像采集和高光谱图像分析软件操作系统Windows XP多光谱显微成像系统和欧洲进口多光谱细胞成像系统,也是光谱分辨率和光谱转换速度最高的多光谱成像系统。孚光精仪是全球领先的进口科学仪器和实验室仪器领导品牌服务商，产品技术和性能保持全球领先,拥有包括凝胶成像仪在内的全球最为齐全的实验室和科学仪器品类，世界一流的生产工厂和极为苛刻严谨的质量控制体系，确保每个一产品是用户满意的完美产品。我们海外工厂拥有超过3000种仪器的大型现代化仓库，可在下单后12小时内从国外直接空运发货，我们位于天津保税区的进口公司众邦企业（天津)国际贸易公司为客户提供全球零延误的进口通关服务。多光谱显微成像系统,多光谱细胞成像系统由中国领先的进口精密仪器和实验室仪器旗舰型服务商-孚光精仪进口销售！孚光精仪精通光学,服务科学,欢迎垂询！

说明包装规格VWR目录号HPLC低温蒸发光散射检测器(ELSD)用EZChrom 3.3.2 SP2驱动器，适用ELSD 80、ELSD 85和ELSD 90型号。1VWRI903-0246HPLC低温蒸发光散射检测器(ELSD)用Chromeleon® 驱动器，适用ELSD 80、ELSD 85和ELSD 90型号1VWRI903-0278

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沃特世waters2420蒸发光散射检测器配件 700002371 ASSY, PCB, 2420 ELSD PERSONALITY 2420 主板700002374 ASSY, OPTICS BENCH, 2420 2420 光学台201000159 2420 PM KIT 2420 维护包 更多沃特世原装产品信息，敬请联系上海希言科学仪器有限公司。

X射线透射显微成像/能谱（同步辐射）用氮化硅薄膜窗口 产品概述： X-射线薄膜窗能够实现软X-射线(如真空紫外线)的最大透射率。主要用于同步辐射X射线透射显微成像时承载样品。 X-射线越软(能量越低)，穿透能力越差，所需氮化硅薄膜窗越薄。特别在&ldquo 离轴&rdquo 状态工作（即薄膜与光束成一定角度）时，也需要较薄的薄膜窗口，便于X射线更好地穿透。 氮化硅薄膜窗口是利用现代MEMS技术制备而成，由于此种氮化硅窗口选用低应力氮化硅（0-250MP）薄膜，因此比计量式和ST氮化硅薄膜更坚固耐用。提供的氮化硅薄膜窗口非常适合应用于透射成像和透射能谱等广泛的科学研究领域，例如，X-射线（上海光源透射成像/能谱线站）、TEM、SEM、IR、UV等。 现在提供X-射线显微成像/能谱（同步辐射）用氮化硅薄膜窗系列产品，规格如下： 外框尺寸 (4种标准规格): &bull 5 mm x 5 mm (窗口尺寸：1.0 mm 或和 1.5 mm 方形) &bull 7.5 mm x 7.5 mm (窗口尺寸：2.0 mm 或 2.5 mm) &bull 10 mm x 10 mm (窗口尺寸：3.0 mm 或 5 mm 方形) 边框厚度： 200µ m、381µ m、525µ m。 Si3N4薄膜厚度：50、100、150和200nm 我们也可以为用户定制产品（30-500nm），但要100片起订。 本产品为一次性产品，不建议用户重复使用，本产品不能进行超声清洗，适合化学清洗、辉光放电和等离子体清洗。 技术指标： 透光度： 对于X射线用窗口，500nm厚的氮化硅薄膜有很好的X光穿透效果，对于软X射线（例如碳边吸收谱），100-200nm厚的氮化硅薄膜窗口是用户首选。 真空适用性： 真空适用性数据如下： 　 薄膜厚度 窗口面积 压力差 &ge 50 nm &le 1.0 x 1.0 mm 1 atm &ge 100 nm &le 1.5 x 1.5 mm 1 atm &ge 200 nm &le 2.5 x 2.5 mm 1 atm 表面平整度： 氮化硅薄膜窗口产品的表面平整性很稳定（粗糙度小于1nm），对于X射线应用没有任何影响。 温度特性： 氮化硅薄膜窗口产品是耐高温产品，能够承受1000度高温，非常适合在其表面利用CVD方法生长各种纳米材料。 化学特性： 氮化硅薄膜窗口是惰性衬底。 应用简介和优点： 1、 同步辐射X射线（紫外或极紫外）透射成像或透射能谱应用中是不可或缺的样品承载体。 2、 耐高温、惰性衬底，适应各种聚合物、纳米材料、半导体材料、光学晶体材料和功能薄膜材料的制备环境，利于制备理想的用于X射线表征用的自组装单层薄膜或薄膜（薄膜直接沉积在窗口上）。 3、 生物和湿细胞样本的理想承载体。特别是在等离子体处理后，窗口具有很好的亲水性。 4、 耐高温、惰性衬底，也可以用于化学反应和退火效应的原位表征。 5、 适合做为胶体、气凝胶、有机材料和纳米颗粒等的表征实验承载体。 同步辐射X射线应用参考文献：PRL

产品特点： Agilent 1200 系列蒸发光散射检测器(ELSD) 是灵敏地检测各种挥发性低于流动相的化合物的有力工具。在等梯度和梯度条件下，进行通用检测，与化合物的吸收、荧光或电化学活性无关。用低温蒸发技术可以检测半挥发和对热敏感的低浓度化合物。 订货信息： G4218A 1200 系列蒸发光散射检测器可更换的部件 说明 　 　 部件号 标准流量雾化器 　 G4218-20000 半微量流量雾化器 　 G4218-20001 大流量雾化器 　 　 G4218-20002 微流雾化器 　 　 G4218-20003 RRLC 雾化器 　 　 G4218-20004 雾化室，玻璃 　 　 G4218-40000 黑塑料螺母，13 mm 直径，玻璃 　 G4218-40010 黑塑料螺母，22 mm 直径，玻璃 　 G4218-40011 黑色排废管，2.5 m 　 G4218-40110 闷头 　 　 G4218-40130 滤芯，0.01 &mu m 用于气体调节器 　 G4218-40150 带不锈钢接头的气体管 　 G4218-40220 带不锈钢接头的排放管 　 G4218-40100 气体调节器，0.01 &mu m 过滤器，压力计 　 G4218-60100 雾化室的密封工具包 　 G4218-68010 咖啡因标样，250 &mu g/mL 　 G4218-85000

安捷伦的各种蒸发光散射检测器 (ELSD) 备件和更换部件可在各种 ELSD 应用和领域中提供最高质量和最佳性能。可选用多种不同流速的雾化器，配有雾化室和其他配套组件。所提供的其他消耗品包括黑塑料螺母和排出管线、闷头和滤芯以及各种其他管线。所有 ELSD 备件和更换部件都按照安捷伦严格的质量标准进行制造。

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技术指标参数(PDF) 技术手册(PDF)FLUOSTAR荧光颗粒FLUOSTAR 一种封装若丹明B荧光染料微球, 专门优化用于粒子成像测速(PIV)的示踪颗粒 本公司的的FLUOSTAR高分子聚合物微球内部封装了若丹明B荧光染料,在绿色激光如(Nd:YAG,和Nd:YLF)照射下会发出橙色荧光.FLUOSTAR微球具有很高的荧光发射效率,特别适合粒子成像测速(PIV)应用.即使在功率仅有5毫瓦的激光指示笔的照射下,也可观察到微球发射的强烈橙色荧光!!! 最佳应用：单相液体流动多相流工业大尺度流动近壁面边界层流动微尺度流动立体PIV 应用备注：?? 硅树脂制成的脑血管模型内部近壁面流动采用FLUOSTAR荧光示踪粒子 采用普通示踪粒子ticles产品优势???超高荧光亮度适用于工业化大体积测试需求干粉颗粒良好的水溶液分散性良好的水溶液稳定性产品特色中等尺寸分散性均有球体形态光致漂白效应极低极少染料泄漏无膨胀收缩现象优良的机械稳定性指标参数基底材料羧基改性丙烯酸树脂折射率1.560(高分子)适用温度上限最高耐受100摄氏度(高分子 )荧光染料若丹明B(激发波长550nm/荧光发射波长580nm)密度1.1 g/cm3直径15微米(均匀分布球形)尺寸均匀性不超过20% C.V.有效期不短于24个月贮存干燥室温下密封贮存操作注意事项 推荐采用呼吸保护装置和手套?单瓶容量1, 5, 10, 50 g

台式扫描电子显微镜配件是为客户提供的欧洲最高性价比扫描电镜，完全改变了动辄百万人民币的电镜价格，它为用户提供低价亚微米和纳米尺度的电子显微镜工具。台式扫描电子显微镜配件特点：具有传统显微镜20倍的分辨率，提供高分辨率成像，非常适合科研人员，工程师获取高质量的亚微米分辨率图像，非常容易使用，用户接受培训10分钟即可独立操作，非常适合材料科学，微电子等领域获取高分辨率图像。台式扫描电子显微镜配件参数放大倍数：24-24000X图像分辨率：高达2048x2048像素空间分辨率：高达30nm样品加载：小于30秒自动样品控制功能超低能耗总重量：55kg台式扫描电子显微镜配件构成系统主要部件：成像模块，17' ' 触摸屏显示器，旋转手柄，真空泵，USB接口驱动光学放大：固定24X放大电学放大：120-24000X可调光学探测：彩色CCD相机电学探测：高灵敏度背散射探测器图像输出格式：JPEG,TIFF, BMP，图像分辨率：456 x 456, 684 x 684, 1024 x 1024 and 2048 x 2048可选数据存储：优盘样品台：计算机控制电动XY台样品容纳大小：直径25mm ，高度30mm样品加载时间：光学成像5s , 电学成像30s减震桌要求：120x75cm 尺寸以上的减震桌

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InXight X射线成像模块InXight是Xeuss 3.0的可选X射线成像模块，它可以在X射线散射测量和X射线成像之间进行快速自动切换。这扩展了Xeuss 3.0仪器的测试能力，您能够：- 获取从埃米到毫米级的样品结构信息- 通过成像选取目标，研究散射信息- 利用InXight暗场和相位对比成像（DF-PCI）选配附件揭示纳米结构的差异、界面和取向信息。

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总览荷兰ASI出品的TPX3Cam是一款用于光学光子时间戳的快速光学相机。它基于一种新型硅像素传感器，并结合了Timepix3 ASIC和读出芯片技术，适用于电子、离子或单光子等需要时间分辨成像的各种应用。TPX3Cam可以很容易地集成在桌上型研究装置中，也可以集成在同步加速器或自由电子激光环境中。使用TPX3Cam，可在速度映射成像设备中测量电子和离子。纳秒级的时间分辨率和数据采集速率使我们能够以前所未有的方式进行测量。TPX3Cam能够在400至1000 nm波长范围内以高量子效率同时对超过1000个光子的闪烁光进行成像和时间戳记。它可以在VMI（速度映射成像）装置中高效地记录撞击在MCP（微通道板）上的离子。 MCP耦合到一个快速P47磷光体屏，该屏产生响应离子撞击MCP的闪烁光。TPX3Cam放置在真空之外，能检测来自磷光体屏的闪光。在TPX3Cam中，所有单个像素都可独立工作，且能对伴随发生的' 事件' 进行时间戳记。 这就将成像传感器变成了快速数字转换器阵列，具有并行作用的空间和时间分辨率，因此可以同时记录多个离子种类，允许进行符合测量和协方差分析。 工作波长400-1000nm 技术参数优点光敏硅传感器波长范围:400 - 1000nm每像素的同时检测时间(ToA)和强度(ToT)时间分辨率1.6ns，有效帧率 500 MHz无噪声、数据驱动读数，高达80 Mhits/s (10Gb/s)灵活光学设计 下图:TPX3CAM能够同时对超过1000个光子进行成像和时间标记，在400到1000 nm波长范围内具有高量子效率。它可以在VMI(速度图成像)配置中有效地记录撞击在微通道板上的离子。MCP与快速P47荧光粉耦合，当离子撞击MCP时，该荧光粉会产生闪光。TPX3CAM，放置在真空之外，可以检测荧光粉的闪光。“在TPX3CAM中，所有单个像素都独立工作，能够对‘事件’进行时间标记。这将成像传感器转变成一个快速数化器阵列，具有空间和时间分辨率，同时发挥作用，因此可以同时记录多个离子种类，从而进行重合和协方差分析。"应用离子和电子成像TPX3CAM的应用包括飞行时间质谱中离子的空间和速度图成像；离子和电子的符合成像，以及其他时间分辨成像光谱类型。TPX3CAM能够以1.6 ns的时间分辨率检测离子撞击并对其进行时标记，从而可以同时记录所有碎片离子的离子动量图像。这种单检测器设计简单、灵活，能够进行高度差分测量。右边的图像显示了CH2IBr的离子TOF质谱，该质谱是在德国汉堡同步加速器的闪光光源下，用TimepixCam（TPX3CAM的之前型号）记录的，在强激光脉冲强场电离后，以及每个探测器的图像在TOF光谱中的峰值。单光子成像强化版TPX3CAM可以是单光子敏感的。在这种配置中，检测器与现成的图像增强器结合使用。应用包括宽场时间相关单光子计数成像(TCSPC)，磷光寿命成像和任何需要时间分辨单光子成像的应用。 图像(a): 通过TimepixCam获得，TimepixCam是TPX3CAM的前一个模型。图像(b):对于(a)中所示的A1-A4区域，强度是时间的函数(磷光衰减)，磷光衰减和拟合的残差具有单指数拟合。 规格传感器材料光敏性增强的硅波长范围400 - 1000 nm探测范围~1000光子/每像素 光学传感器活动区域14.1 x 14.1 mm2类型C型接口成像专用集成电路类型Timepix3像素间隔55 µm像素数量256 x 256阈值数量1吞吐量10 Gb/s 的情况下，高达80 Mhits/s1 Gb/s的情况下，高达15 Mhits/s停滞时间读数停滞时间为0时间分辨率1.6 ns有效帧速率 500 MHz像素击中停滞时间~1 µs读出模式数据驱动，通过每像素ToA和ToT检测同步时间和强度其他参数计算机接口1 Gb/10 Gb外部快门控制 有外部信号时间戳260 ps重量2.2 kg尺寸(长x宽x高)28.8 x 8 x 9 cm冷却空气采集软件Windows/ Linux/Mac的图形用户界面

钙离子成像系统配件是测量显微镜下的生物样本中荧光强度的变化仪器高速钙成像系统,兼具高灵敏度和高速度的优势钙离子成像系统配件有单探测器和双探测器两种配置，分别对应于单发射和双发射实验，并且为比例测量提供特殊的双激发模式。钙成像系统特别适合： 测量或双发射实验 高灵敏度或高速实验 FRET测 无缝对接荧光和电生理学的实验 是测量荧光强度变化的高速钙成像系统，可用于钙离子浓度测,钙离子成像.钙离子成像系统配件基本配置包括可编程控制光源(用于安装到显微镜上)取景器（用于选择测量区域）荧光探测器（基于光电二极管技术）控制单元（具有信号处理功能）对于采集速度大于1KHz的实验，可使用光电倍增管替代光电二极管以满足高速测量的要求，但是这仅适用于单发射钙离子成像系统配件配置方案单通道荧光测光系统配置光源（多色光源rome V）取景器（配带相机和显示器）取景器显微镜适配器探测器配带控制单元一个或多个双发射滤波片立方体一个或多个双发滤波片组件钙离子成像系统配件特色取景器控制测量区域测量区域的大小和位置可通过取景器的视场自由定位视频可视化调节测量区域同时进行样品荧光测量和红光可视化测量区域重叠显示在样品的发射图像上光电二极管探测---高灵敏度且承受过度曝光具有超高灵敏度和极低噪音，量子效率高达97％耐用不怕过度曝光最大采集速率高达1KHz，使用光电倍增管可获得更高的速度控制单元带有荧光探测模块---简化数据采集钙离子成像系统配件应用 测量分子内离子浓度（钙离子，镁离子，钾离子，PH等） FR ET测量 单波长染料 不需要空间分辨率的所有荧光测量

适用AFM、SEM、Auger和 FIB精确全息条纹可用于高分辨、纳米尺度上准确校准仪器，具有高稳定性和高适用性特性。中等脊线宽度便于AFM应用。扫描电镜成像时二次电子和背散射电子像反差好。条纹间隔宽度分70、145 、294nm三种。

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适用AFM、SEM、Auger和 FIB精确全息条纹可用于高分辨、纳米尺度上准确校准仪器，具有高稳定性和高适用性特性。中等脊线宽度便于AFM应用。扫描电镜成像时二次电子和背散射电子像反差好。条纹间隔宽度分70、145 、292nm三种。