模板合成

Monowave 200 为微波合成研究提供了一个全新和先进的工具，通过精确的加热曲线，使微波合成更加可靠和优越。Monowave 200提供260℃和20 bar（可升级至300℃，30bar）的单模微波工作温度和压力，为合成方法开发和反应优化提供了全新空间。 Monowave 200微波场密度保证了在任何反应体积、任何反应溶剂都能得到可重复的和出色的加热速率，无需使用任何辅助加热元件。先进的红宝石晶体发光光纤传感器保证了实时的反馈控制，同时也实现了高精度的温度测量。配置视频成像系统，可通过集成式数字摄像头观察化学反应过程，通过触摸屏直接了解所有的颜色变化和沉淀情况，或查看基质的溶解状况和搅拌效率。Monowave 200可以使您能在以前不可能达到的条件下使用某些试剂和溶剂。使您能突破常规单模合成的限制进行方法的开发，来研究温度和压力的提高对反应活性和反应过程的影响。 主要优点您能感受到的独特优势快速和一致的加热方便内部温度测量 准确性和再现性 新方法开发的新空间 强力的搅拌有助益混合 用户友好的智能软件 8.4英寸触摸屏控制系统，还有智能控制软件完整的数据管理，数据显示、方法库、便捷导出技术参数实现单模合成条件：300℃和30 bar（435psi） 850W连续非脉冲微波微波场密度超常的加热速度（3-9C/秒）1200rmp高效磁力搅拌速度自动调节微波腔，保证不同体积和极性的溶剂的高效加热应用领域

Monowave 400是一款高性能单模微波反应器Monowave 400 为微波合成研究提供了一个全新和先进的工具，通过精确的加热曲线，使微波合成更加可靠和优越。Monowave 400提供300℃和30 bar（435psi）的单模微波工作温度和压力，为合成方法开发和反应优化提供了全新空间。 Monowave 400微波场密度保证了在任何反应体积、任何反应溶剂都能得到可重复的和出色的加热速率，无需使用任何辅助加热元件。先进的红宝石晶体发光光纤传感器保证了实时的反馈控制，同时也实现了高精度的温度测量。配置视频成像系统，可通过集成式数字摄像头观察化学反应过程，通过触摸屏直接了解所有的颜色变化和沉淀情况，或查看基质的溶解状况和搅拌效率。 Monowave 400可以使您能在以前不可能达到的条件下使用某些试剂和溶剂。使您能突破常规单模合成的限制进行方法的开发，来研究温度和压力的提高对反应活性和反应过程的影响。 主要优点先进的全天候安全功能可达到的最高温度/压力条件：300℃ 和 30 bar总反应时间：长达 100 h带有屏幕图像的内置摄像头可选配 MAS 24 自动进样器，用于提高生产率8.4英寸触摸屏控制系统，还有智能控制软件完整的数据管理，数据显示、方法库、便捷导出应用领域

一、产品简介此模板可以裁切规定尺寸的梯形试件,用于测定土工合成材料撕破强力。符合JTG E50-2006《公路工程土工合成材料试验规程》和GB/T 13763-2010 《土工合成材料 梯形法撕破强力的测定》的要求。二、主要技术参数：1.样板尺寸：200*75mm2.切口缝宽：2mm

fs复合免拆模板设备A船营fs复合免拆模板设备Afs复合免拆模板设备供应商fs复合免拆模板设备船营区客户设备已发货，投资复合模板设备风险低，因为该设备生产的复合免拆模板是建筑外墙的必需品。免拆模板设备分为半自动和全自动复合模板设备，需要请来电咨询。fs复合免拆模板设备免拆模板结构构造 1、保温免拆模板复合现浇混凝土体系应能适应结构基层的正常变形，在正常使用条件下不应出现裂缝、空鼓、脱落等破坏现象，在规定的抗震设防烈度范围内不应从基层脱落。 2、保温免拆模板及模板支架应具有足够的承载力、刚度和稳定性，应能承受浇筑混凝土的自重、侧压力和其它正常施工荷载。 3、直接支承保温免拆模板的支模次楞间的净距与保温免拆模板板厚之比不宜大于46，且净距不大于150mm 当支模次楞间的净距与保温免拆模板板厚之比大于46时，应按《建筑施工模板安全技术规程》JGJ 162验算保温免拆模板的承载力。fs复合免拆模板设备 4、保温免拆模板与现浇混凝土墙体间，按每平方米不少于5个设置连接件，水平间距不大于400mm,竖向间距不大于500mm，呈梅花形布置。小于0.1m?的单块保温免拆模板上不少于设置1个连接件，0.1m?的单块保温免拆模板上不少于设置2个连接件。 5、保温免拆模板与现浇混凝土楼板间，按每平方米不少于4个设置连接件，纵横向间距不大于500mm。小于0.1mm的单块保温免拆模板上不少于设置1个连接件，0.1mm的单块保温免拆模板上不少于设置2个连接件。fs复合免拆模板设备fS外模板采用颗粒防火隔离技术，运用共聚改性使EPS单体颗粒具有与防火物质相同的特性，并运用微相复合技术在每个有机颗粒表面形成防火隔离膜，使每一个颗粒形成相对的有机颗粒防火单元。长期性复合保温外模板可直接用作现浇混凝土结构工程的外模板，将保温与模板合二为一，减少了施工工序和模板用量，无需再做其他保温处理，提高了施工效率，降低了工程综合造价。fs复合免拆模板设备体系中可以做长久性外模板使用，能够大大减少外模板的使用量，缩短施工周期，减少施工工序，降低工程综合造价，适用于工业与民用建筑框架结构、框剪结构、剪力墙结构的柱、梁、外墙、地下室顶板等现浇混凝土结构工程。fs复合免拆模板设备主要配置：主要由电子计量装置、干粉砂浆搅拌机、料浆搅拌机、工作抬架、抹平装置、成型装置、传送设备、打孔设备、开槽设备、及切割机等组成。干粉砂浆搅拌机、料浆搅拌机采用自动配料、电子计量，自动化程度高，计量准确；成型设备具有结构设计合理、生产操作方便、成型周期短、生产效率高、产品质量好等特点。fs复合免拆模板设备A船营fs复合免拆模板设备Afs复合免拆模板设备供应商

在科研中，很多用户需要用到光栅或点阵这些周期性的结构。有时用户不需要研究微纳米加工工艺，这样如果能花费低廉的价格买到这些成品将十分方便，只要接着从事后续的工作就可以了；有的用户自已拥有微纳米加工设备及经验，但纳米量级的尺寸要采用电子束曝光的方法来进行光刻，若有效面积超过1平方厘米，占机时间会很长，并需要调整电子束光刻及干法刻蚀工艺来优化成品。 鉴于此，我们向用户提供光栅及点阵的纳米结构成品。衬底材料为硅单晶，可广泛应用于各类科学研究。 产品类型： 标准模板一 ○ 光栅纳米结构模板 (线条+间距)○ 二维纳米模板（矩形或六边形）标准模板二 ○ 光栅结构○ 柱状点阵模板○ 孔阵模板2x2cm2模板四英寸模板六英寸模板标准模板一 我们可提供纳米级微结构，衬底材料为硅单晶，广泛应用于科学研究。批量生产，质量有保证，且性价比高。 产品精度： 线宽/深度：±15%周期精度：优于0.5%衬底宽度和高度误差：± 0.2 mm衬底厚度：0.675 ± 0.050 mm 具体规格如下表所示： 光栅纳米结构模板 (线条+间距) Linear Nanostamps (line+space) 序号周期沟槽深度占空比 ①线宽 ②样片尺寸③1139 nm50 nm50%69.5 nm12.5×12.5×0.7 mm2139 nm50 nm50%69.5 nm25×25×0.7 mm ⑤3278 nm④110 nm50%139 nm12.5×12.5×0.7 mm4416.6 nm110 nm50%208 nm12.5×12.5×0.7 mm5500 nmmultiple ⑥44%220 nm8×8.3×0.7 mm6500 nmmultiple ⑥60%300 nm8×8.3×0.7 mm7555.5 nm110 nm50%278 nm20×9×0.7 mm8555.5 nm140 nm50%278 nm20×9×0.7 mm9555.5 nm110 nm29%158 nm20×9×0.7 mm10555.5 nm140 nm29%158 nm20×9×0.7 mm11600 nmmultiple ⑥43%260 nm8×8.3×0.7 mm12600 nmmultiple ⑥55%330 nm8×8.3×0.7 mm13606 nm190 nm50%303 nm29×12×0.7 mm14606 nm④190 nm50%303 nm29×12×0.7 mm15606 nm190 nm50%303 nm29×24.2×0.7 mm ⑤16675 nm170 nm32%218 nm24×10×0.7 mm17675 nm170 nm32%218 nm24×30.4×0.7 mm ⑤18700 nmmultiple ⑥47%330 nm8×8.3×0.7 mm19700 nmmultiple ⑥55%375 nm8×8.3×0.7 mm20833.3 nm200 nm50%416 nm12.5×12.5×0.7 mm21833.3 nm200 nm50%416 nm25×25×0.7 mm ⑤ ①占空比表示线宽和周期的比率。③第二个尺寸相当于沟槽的长度。④scientific" grade offered at a discount. It has at least 80% of usable area. Up to 80/100 scratch/dig/particles and irregular substrate shape may present.⑤可定做更大尺寸⑥深度可做成150, 250 和 350 nm。 二维纳米模板（矩形或六边形）2D nanostamps (rectangular and hexagonal lattice) 序号周期晶格类型沟槽深度特征宽度衬底尺寸1500 nmrect postmultiple ①135 nm8×8.3×0.7 mm2500 nmrect postmultiple ①210 nm8×8.3×0.7mm3600 nmrect postmultiple ①195 nm8×8.3×0.7mm4600 nmrect postmultiple ①275 nm8×8.3×0.7mm5700 nmrect postmultiple ①260 nm8×8.3×0.7mm6700 nmrect postmultiple ①350 nm8×8.3×0.7mm7500 nmhex postmultiple ①165 nm8×8.3×0.7mm8600 nmhex postmultiple ①165 nm8×8.3×0.7mm9600 nmhex postmultiple ①240 nm8×8.3×0.7mm10700 nmhex postmultiple ①220 nm8×8.3×0.7mm11700 nmhex postmultiple ①290 nm8×8.3×0.7mm12600 nmhex holemultiple ①180 nm8×8.3×0.7mm13700 nmhex holemultiple ①200 nm8×8.3×0.7mm14700 nmhex holemultiple ①290 nm8×8.3×0.7mm ①深度可做成150, 250 和 350 nm rect post:hex post：hex hole：标准模板二 我们可提供纳米级微结构，衬底材料为硅单晶，广泛应用于科学研究。批量生产，质量有保证，且性价比高。产品精度：直径±10%线宽±10%高度/深度±15%产品说明：硅片厚度：0.5mm（特殊情况另标注）模板尺寸：产品规格+/-0.2mm缺陷面积：1% 具体规格如下表所示： 光栅结构（周期，线宽，高度，有效面积，衬底尺寸） Part NoDescriptionImagePattern 10Line gratingPeriod: 70 nmWidth: 25 nmor 35 nmHeight: 32nmor 40 nmArea: 4x 0.5 x 1.2 mm2Substrate: Si 20 x 20 mm2Pattern 2Line gratingPeriod: 300 nmWidth: 170 nmHeight: 210 nmArea: 30 x 30 mm2Substrate: Si 30 x 30 mm2Pattern 23Line arryPeriod: 150 nmWidth: 75 nmHeight: 116 nmArea:25 x25 mm2Substrate:Si 30 x 30 mm2 柱状点阵模板（周期，柱直径，高度，有效面积，衬底尺寸） Part NoDescriptionImagePattern 1Square pillar arrayPeriod: 300 nmDiameter: 145 nmHeight: 170 nmArea: 14 x 14 mm2Substrate: Si 14 x 14 mm2Pattern 6High-resolution pillar arrayPeriod: 35 nmand 42 nmDiameter: 15 - 20 nmHeight: 25nmArea: each period 25x25 um2Substrate: Si 12.5 x 12.5 mm2Pattern 3Hexagonal pillar arrayPeriod: 600 nmDiameter: 300 nmHeight: 310 nmArea: 20 x 20 mm2Substrate: Si 20 x 20 mm2Pattern 15Hexagonal pillar arrayPeriod: 750 nmDiameter: 325 nmHeight: 260 nmArea: 25 x 25 mm2Substrate: Si 25 x 25 mm2Pattern 7Hexagonal pillar arrayPeriod: 1000 nmDiameter: 400 nmHeight: 280 nmArea: 20 x 20 mm2Substrate: Si 26 x 26 mm2Pattern 17Hexagonal pillar arrayPeriod: 1010 nmDiameter: 470 nmHeight: 750 nmArea: 25 x 25 mm2Substrate: Si (0.7mm) 25 x 25 mm2Pattern 20Hexagonal pillar arrayPeriod: 3000 nmDiameter: 1800 nmHeight: 1200 nmArea: 20 x 20 mm2Substrate: Si 25 x 25 mm2 孔阵模板（周期，孔直径，高度，有效面积，衬底尺寸） Part NoDescriptionImagePattern 11Square hole arrayPeriod: 90 nmDiameter: 45 nmHeight: 50 nmArea: 4x 0.6 x 0.6 mm2Chip size: 15 x 15 mm2Pattern 13Square hole arrayPeriod: 300 nmDiameter: 150 nmHeight: 300 nmArea: 4 x 4 mm2Chip size: 15 x 15 mm2Substrate: Quartz (2.3 mm thick)Pattern 24Square hole arrayPeriod: 350 nmDiameter: 225 nmHeight: 300 nmArea: 20 x 20 mm2Substrate: Si 20 x 20 mm2Pattern 4Hexagonal hole arrayPeriod: 600 nmDiameter: 300 nmHeight: 50 nm, 450 nmArea: 20 x 20 mm2Substrate: Si 20 x 20 mm2Pattern 5Hexagonal hole arrayPeriod: 600 nmDiameter: 400 nmHeight: 680 nmArea: 20 x 20 mm2Substrate: Si 20 x 20 mm2Pattern 14Hole array on Rhombic latticePeriod:* x=610nm, y=425nmDiameter: 150 nmHeight: 300 nmArea: 20 x 20 mm2Chip size: Si 24 x 24 mm2* center-to-center distance in x and yPattern 16Hexagonal hole arrayPeriod: 750 nmDiameter: 380 nmHeight: 420 nmArea: 25 x 25 mm2Substrate: Si 25 x 25 mm2Pattern 18Hexagonal hole arrayPeriod: 1010 nmDiameter: 490 nmHeight: 470 nmArea: 25 x 25 mm2Substrate: Si (1mm) 25 x 25 mm2Pattern 19Hexagonal hole arrayPeriod: 1500 nmDiameter: 780 nmHeight: 550 nmArea: 25 x 25 mm2Substrate: Si (1mm) 25 x 25 mm2Pattern 21Hexagonal hole arrayPeriod: 3000 nmDiameter: 1500 nmHeight: 850 nmArea: 20 x 20 mm2Substrate: Si 25 x 25 mm2Pattern 22Hexagonal hole arrayPeriod: 3000 nmDiameter: 1200 nmHeight: 1500 nmArea: 20 x 20 mm2Substrate: Si 25 x 25 mm22x2cm2标准纳米压印模板 我们提供电子束光刻方法制备的硅模板，衬底尺寸为20x20mm2。图形分辨率高，有效区域为5x5mm2。批量生产，质量有保证，且性价比高。产品精度： 标准高度：100nm直径： ±10%线宽： ±10%缺陷面积： 1% 具体规格如下表所示： 孔阵（矩形孔阵） 序号ProductPeriodAreaDiameter / Height1P100s_h_5w5100nm5x5mm250nm/ 100nm2P150s_h_5w5150nm5x5mm260nm/ 100nm3P200s_h_5w5200nm5x5mm270nm/ 100nm 孔阵（六边形孔阵） 序号ProductPeriodAreaDiameter / Height1P200h_h_5w5200nm5x5mm280nm/ 100nm2P300h_h_5w5300nm5x5mm2125nm/ 100nm3P400h_h_5w5400nm5x5mm2150nm/ 100nm 柱状点阵（矩形柱状点阵） 序号ProductPeriodAreaDiameter / Height1P100s_p_5w5100nm5x5mm250nm/ 100nm2P150s_p_5w5150nm5x5mm260nm/ 100nm3P200s_p_5w5200nm5x5mm280nm/ 100nm 柱状点阵（六边形柱状点阵） 序号ProductPeriodAreaDiameter / Height1P200h_p_5w5200nm5x5mm270nm/ 100nm2P300h_p_5w5300nm5x5mm2110nm/ 100nm3P400h_p_5w5400nm5x5mm2120nm/ 100nm 大面积四英寸模板我们提供四英寸硅或石英模板，可用于压印工艺。批量生产制作，质量有保证且性价比高。 产品精度: 高度/深度：±15%直径：±10%线宽：±10%缺陷面积：1% 具体规格如下表所示： Holes on Hexagonal Lattice（六边形孔阵） Part NoProductPeriodDiameterAreaMax. Etch depth (Si/Quartz)Image1P520h_h_20w20520 nm260nm20x20 mm2450 nm/200 nm2P600h_h_46w46600 nm300nm46x46 mm2450 nm/200 nm3P600h_h_100d600 nm300nm4-inch450 nm/200 nm4P750h_h_51w51750 nm350nm51x51 mm2450 nm/200 nm5P780h_h_20w20780 nm350nm20x20 mm2450 nm/200 nm6P1000h_h_20w201000 nm400nm20x20 mm2600 nm/300 nm7P1000h_h_51w511000 nm300nm~500nm51x51 mm2600 nm/300 nm8P1500h_h_20w201500 nm400nm~650nm20x20 mm2600 nm/300 nm9P1500h_h_51w511500 nm400nm~650nm51x51 mm2600 nm/300 nm10P3000h_h_100d3000 nm600nm~1400nm4-inch1000 nm/400 nm Holes on Square Lattice（矩形孔阵） Part NoProductPeriodDiameterAreaMax. Etch depth (Si/Quartz)Image11P350s_h_20w20350 nm250nm20x20 mm2300 nm/150 nm12P350s_h_100d350 nm250nm100dia300 nm/150 nm Pillars on Hexagonal Lattice（六边形柱状） Part NoProductPeriodDiameterAreaMax. Etch depth (Si/Quartz)Image13P600h_p_46w46600 nm300nm46x46 mm2450 nm/200 nm14P600h_p_100d600 nm300nm4-inch450 nm/200 nm15P750h_p_51w51750 nm350nm51x51 mm2450 nm/200 nm16P780h_p_20w20780 nm350nm20x20 mm2450 nm/200 nm17P1000h_p_20w201000 nm400nm20x20 mm2600 nm/300 nm18P1000h_p_51w511000 nm300nm~500nm51x51 mm2600 nm/300 nm19P1500h_p_20w201500 nm400nm~650nm20x20 mm2600 nm/300 nm20P1500h_p_51w511500 nm400nm~650nm51x51 mm2600 nm/300 nm21P3000h_p_100d3000 nm600nm~1400nm4-inch1000 nm/400 nm Pillars on Square Lattice（矩形柱状点阵） Part NoProductPeriodDiameterAreaMax. Etch depth (Si/Quartz)Image22P150s_p_30w30150 nm75nm30x30 mm275 nm/ —23P250s_p_30w30250 nm110nm30x30 mm2200 nm/100 nm24P300s_p_30w30300 nm130nm30x30 mm2200 nm/100 nm25P400s_p_30w31400nm250nm30x30 mm3200 nm/100 nm26P500s_p_30w30500 nm250nm30x30 mm2450 nm/200 nm Linear Gratings（光栅结构） Part NoProductPeriodWidthAreaMax. Etch depth (Si/Quartz)Image27P150L_p_30w30150nm70nm30x30 mm275 nm/ —28P250L_p_30w30250nm110nm30x30 mm2200 nm/100 nm29P300L_p_30w30300nm130nm30x30 mm2200 nm/100 nm30P400L_p_30w30400nm200nm30x30 mm2200 nm/100 nm31P500L_p_30w30500nm250nm30x30 mm2450 nm/200 nm Multi-pattern（复合结构） Part NoProductDescriptionDiameterPeriodAreaMax. Etch depth (Si/Quartz)32MHSL_400-800Linear, hexagonal, square array combination，Periods: 400-800nmpitch dependentho, les/lineseach period，7.5mm x 7.5mm400 nm/150 nm33MP250L300Multi-period linear grating combination 1， Periods: 250nm, 275nm, 300nmLinewidth(+/15nm): 90/250 100/275 120/300lineseach period，7mm x 7mm200 nm/100 nm34MP300L600Multi-period linear grating combination 2，Periods: 300nm, 400nm, 500nm, 600nmLinewidth(+/15nm): 90/250 100/275 120/300lineseach period，10mm x 10mm300 nm/150 nm

NIL-根据客户的订单要求进行加工-优于20纳米的精度-结构周期底至40nm-适用于热压和紫外压印-设计制造适用于所有纳米压印设备的模板

一、产品简介本模板辅助切取玻璃纤维，碳纤维，芳纶纤维制品等产品的一定面积试样，以测定其单位面积质量。正反两面光滑平整，符合GB/T 9914.3-2013《增强制品试验方法 第3部分：单位面积质量的测定》的要求。二、主要技术参数1.面积为1000cm2的正方形用于毡2.面积为100cm2的正方式用于织物

仪器简介：采用独创制造工艺，可把平面纳米压印拓展到任意曲面。标准模板分为三类：Quartz Molds, Silicon Molds, Polymer Molds of 2"、3"、4"。适用于Obducat，Suss，HP，EVG等多种型号的纳米压印设备。技术参数：Delivery of nanoimprint templates in various materials (Si, SiNx, SiC, quartz,glass).Maximum area of the templates:4 inch with feature size of 100 nm. For smaller area, minimum feature size of 50 nm. 提供各种材料的纳米压印模板（硅，氮化硅，碳化硅，石英玻璃）。模板最大尺寸：4英寸，特征尺寸为100nm。对于更小的尺寸，最小的特征尺寸可以达到50nm。  Delivery of EBL service for various structures with the feature size down to 30nm.Substrates: any conducting or non-conducting wafers. 提供最低30nm特征尺寸的各种结构的电子束刻蚀服务。基板：任何导电或者非导电晶片。  Micro and nanofabrications for all kinds of nanostructures in a Si, III-V, II-VI and polymers. 各种纳米结构（硅，III-V族元素，II-VI族元素以及聚合物）的微纳米加工。主要特点：soft mold for thermal nanoimprint 热压印的软模板 quartz mold for UV nanoimprint 紫外压印的石英模板 silicon mold for thermal nanoimprint 热压印的硅模板

兆声清洗技术SWC-3000 (M) 兆声掩模板清洗机概述：最新技术的兆声和清洗技术的发展，对MEMS和半导体等领域的晶圆和掩模版清洗提供了最新的水平，可以帮助用户获得最干净的晶圆片和掩模版。NANO-MASTER提供兆声单晶圆&掩模板清洗(SWC)系统，用于最先进的无损兆声清洗。可以适用于易受损的带图案或无图案的基片，包含带保护膜的掩模版。为了在确保不损伤基片的情况下达到最优化的清洗效果，兆声能量的密度必须保持在稍稍低于样片上任意位置上的损伤阈值。NANO-MASTER的专利技术确保了声波能量均匀分布到整个基片表面，通过分布能量的最大化支持最理想的清洗，同时保证在样片的损伤阈值范围内。SWC系统提供了可控的化学试剂滴胶能力，这使得颗粒从基片表面的去除能力得以进一步加强。SWC和LSC具备对点试剂滴胶系统，可以最大程度节省化学试剂的用量的。滴胶系统支持可编程的化学试剂混合能力，提供了可控的化学试剂在整个基片上的分布。通过联合使用化学试剂滴胶和NANO-MASTER的兆声清洗技术，系统去除颗粒的能力得到进一步优化。颗粒从表面被释放的能力也因此得到提升，从而被释放的颗粒在幅流的DI水作用下被扫除出去，而把回附的数量降到了最低水平。从基片表面被去除。如果没有使用幅流DI水的优势，最先进的静态可循环兆声清洗槽会有更大数量的颗粒回附，并且因此需要更多的去除这些颗粒。此外，NANO-MASTER的清洗机都还提供了一系列的选配功能。PVA软毛刷提供了机械的方式去除无图案基片上的污点和残胶。DI水臭氧化的选配项提供了有机物的去除，而无须腐蚀性的化学试剂。我们的氢化DI水系统跟兆声能量结合可以达到纳米级的颗粒去除。根据不同的应用，某些选配项将会进一步提高设备去除不想要的颗粒和残留物的能力。SWC系统能够就地实现热氮或异丙醇甩干。“干进干出” 一步工艺可以在我们的系统中以最低的投资和购置成本来实现。NANO-MASTER清洗机的工艺处理时间可以在3-5分钟内完成，具体是3分钟还是5分钟取决于基片的尺寸以及附加的清洗配件的使用情况。NANO-MASTER的技术也适用于清洗背部以及带保护膜掩模版前面的对准标记，降低这些掩模版的不必要去除和重做保护膜的几率。它也可以用于去除薄膜胶黏剂的黏附性并准备表面以便再次覆膜。此外，带薄膜掩模版的全部正面的兆声清洗以及旋转甩干可以做到无损并且对薄膜无渗漏。SWC是一款带有小占地面积的理想设备，并且很容易安装在空间有限的超净间中。该系列设备都具有出众的清洗能力，并可用于非常广泛的基片。SWC-3000 (M) 兆声掩模板清洗机应用：带图案或不带图案的掩模版和晶圆片Ge, GaAs以及InP晶圆片清洗CMP处理后的晶圆片清洗晶圆框架上的切粒芯片清洗等离子刻蚀或光刻胶剥离后的清洗带保护膜的分划版清洗掩模版空白部位或接触部位清洗X射线及极紫外掩模版清洗光学镜头清洗ITO涂覆的显示面板清洗兆声辅助的剥离工艺SWC-3000 (M) 兆声掩模板清洗机的特点：台式系统无损兆声掩模版或晶圆片清洗及旋转甩干支持12”直径的圆片或9”x9”方片微处理机自动控制IR红外灯SWC-3000 (M) 兆声掩模板清洗机选配项：掩模版或晶圆片夹具PVA软毛刷清洗化学试剂清洗(CDU)氮气离子发生器

兆声清洗技术SWC-4000 (M) 兆声掩模板清洗机概述：最新技术的兆声和清洗技术的发展，对MEMS和半导体等领域的晶圆和掩模版清洗提供了最新的水平，可以帮助用户获得最干净的晶圆片和掩模版。NANO-MASTER提供兆声单晶圆&掩模清洗(SWC)系统，用于最先进的无损兆声清洗。可以适用于易受损的带图案或无图案的基片，包含带保护膜的掩模版。为了在确保不损伤基片的情况下达到最优化的清洗效果，兆声能量的密度必须保持在稍稍低于样片上任意位置上的损伤阈值。NANO-MASTER的专利技术确保了声波能量均匀分布到整个基片表面，通过分布能量的最大化支持最理想的清洗，同时保证在样片的损伤阈值范围内。SWC系统提供了可控的化学试剂滴胶能力，这使得颗粒从基片表面的去除能力得以进一步加强。SWC和LSC具备对点试剂滴胶系统，可以最大程度节省化学试剂的用量的。滴胶系统支持可编程的化学试剂混合能力，提供了可控的化学试剂在整个基片上的分布。通过联合使用化学试剂滴胶和NANO-MASTER的兆声清洗技术，系统去除颗粒的能力得到进一步优化。颗粒从表面被释放的能力也因此得到提升，从而被释放的颗粒在幅流的DI水作用下被扫除出去，而把回附的数量降到了最低水平。从基片表面被去除。如果没有使用幅流DI水的优势，最先进的静态可循环兆声清洗槽会有更大数量的颗粒回附，并且因此需要更多的去除这些颗粒。此外，NANO-MASTER的清洗机都还提供了一系列的选配功能。PVA软毛刷提供了机械的方式去除无图案基片上的污点和残胶。DI水臭氧化的选配项提供了有机物的去除，而无须腐蚀性的化学试剂。我们的氢化DI水系统跟兆声能量结合可以达到纳米级的颗粒去除。根据不同的应用，某些选配项将会进一步提高设备去除不想要的颗粒和残留物的能力。SWC系统能够就地实现热氮或异丙醇甩干。“干进干出” 一步工艺可以在我们的系统中以最低的投资和购置成本来实现。NANO-MASTER清洗机的工艺处理时间可以在3-5分钟内完成，具体是3分钟还是5分钟取决于基片的尺寸以及附加的清洗配件的使用情况。NANO-MASTER的技术也适用于清洗背部以及带保护膜掩模版前面的对准标记，降低这些掩模版的不必要去除和重做保护膜的几率。它也可以用于去除薄膜胶黏剂的黏附性并准备表面以便再次覆膜。此外，带薄膜掩模版的全部正面的兆声清洗以及旋转甩干可以做到无损并且对薄膜无渗漏。SWC是一款带有小占地面积的理想设备，并且很容易安装在空间有限的超净间中。该系列设备都具有出众的清洗能力，并可用于非常广泛的基片。SWC-4000 (M) 兆声掩模板清洗机应用：带图案或不带图案的掩模版和晶圆片Ge, GaAs以及InP晶圆片清洗CMP处理后的晶圆片清洗晶圆框架上的切粒芯片清洗等离子刻蚀或光刻胶剥离后的清洗带保护膜的分划版清洗掩模版空白部位或接触部位清洗X射线及极紫外掩模版清洗光学镜头清洗ITO涂覆的显示面板清洗兆声辅助的剥离工艺SWC-4000 (M) 兆声掩模板清洗机的特点：支持12”直径的圆片或9”x9”方片独立系统无损兆声,试剂，毛刷清洗及旋转甩干微处理机自动控制化学试剂滴胶单元溶剂与酸分离排废热氮30”D x 26”W 的占地面积SWC-4000 (M) 兆声掩模板清洗机选配项：掩模板或晶圆片夹具臭氧清洗PVA软毛刷清洗高压DI清洗氮气离子发生器

免拆一体化外模板设备@丹棱免拆一体化外模板设备@免拆一体化外模板设备生产厂家免拆一体化外模板设备厂家凭借出色的免拆外模板设备生产技术，在免拆模板建材行业拔得头筹。我公司生产的免拆一体板设备远销全国各地，得到外模板生产厂家的赞赏。免拆一体化外模板设备优势1、主动制板机：选用多道辊压、布网、铺无纺布制板一次成型，产品规格可任意调整，由于技术先进，供工艺共同，使出产功率进步，制板本钱下降，进步了产品质量；2、自动搅拌机：由主动提升机、电脑主动配料体系实现主动配料，及砂子水泥的主动拌和，以及主动分料、落料，每小时可主动拌和10-15立方料浆；3.全自动切割锯：由纵切开锯横切开锯及载板小车组成。本切开锯可任意切开，切开尺度：600×2400mm，600×900mm，600×1200mm，产品规格可根据需要随意切开，装机功率20kw；4.群钻：免拆一体化外模板设备由电机和钻铣头组成，可一次性在保温板同时钻铣16个沉孔，钻孔散布均匀，方便施工中苗固钉的固定和装置。在施工过程中，简化了施工工序，进步了工作功率。建筑采用免拆一体化外模板基本消除了“热桥”的影响采用外保温在避免“热桥”方面比内保温更有利，如在内外墙交界部位、外墙圈梁、构造柱、框架梁、柱、门窗洞口以及顶层女儿墙与屋面板交界周边所产生的“热桥”。经统计，底层房间“热桥”附加热负荷约占总热负荷的 23.7% ；中间层房间占 21.7% ；顶层房间占 24.3% 。可见，“热桥”的影响还是较大的。免拆一体化外模板上述“热桥”对内保温和夹心保温而言，几乎难以避免，而外保温既可防止“热桥”部位产生的结露，又可消除“热桥”造成的附加热损失。计算表明，在厚度为 370mm 砖墙内保温条件下，周边“热桥”使墙体平均传热系数比主体部位传热系数增加 10% 左右；在厚度为 240mm 砖墙内保温条件下，周边“热桥”使平均传热系数比主体部位传热系数约增加 51%~59% ，而在厚度为 240mm 砖墙外保温条件下，这种影响仅 2%~5% 。免拆一体化外模板设备@丹棱免拆一体化外模板设备@免拆一体化外模板设备生产厂家

型号: C0034这款模板不锈钢所制，通过手握方式操作简便，可以保证与样品一致的外形。主要适用于摩擦试验机、颜色老化试验机等的样品制备。 应用:? 塑料薄膜? 纸张? 橡胶? 瓦楞板? 纺织品 产品特点:? 不宜生锈? 方便抓握?可根据用户需求定制 char " ? C0028: AS 1301.407? C0029: AS 1301.448? C0031: AS 1301.400

产品简介当代集成电路的发展进程中，紫外光刻技术起着不可替代的作用。利用紫外光源对紫外敏感的光刻胶进行空间选择性的曝光，进而将设计好电路版图转移到硅片上形成集成电路，这一工艺就是紫外光刻技术。光刻机的分辨率和套刻精度直接决定了所制造的集成电路的集成度，也成为了评价光刻设备品质的关键指标。常规光刻机需要定制光学掩模板，不但价格高，且灵活性差。任何设计上的变动，都需要重新制造掩模板。激光直写设备具备很高的灵活性，且可以达到较高的精度，但由于是逐行扫描，曝光效率较低。近些年，基于空间光调制器（DMD/DLP）的技术在紫外曝光方面获得了长足的进展。TTT-07-UV Litho-ACA无掩模板紫外光刻机最小分辨率可达1 μm（光刻镜头B），高性能无铁芯直线驱动电机保证了极佳的套刻精度和最大6英寸的图形拼接，而基于空间光调制器的光刻技术，使得其在光学掩模板设计上有着得天独厚的优势。高效、灵活、高分辨率和高套刻精度等众多优点，必将使其成为二维材料、电输运测试，光电测试、太赫兹器件和毫米波器件等领域的科研利器。系统结构图 TTT-07-UV Litho-ACA的光刻实例产品亮点1、高精度、真紫外曝光 2、光刻图案设计灵活3、所见即所得的精准套刻4、超大面积拼接5、灰度曝光6、高稳定性，操作便捷系统升级选项1、激光光源2、主动隔振平台3、三维重构观测4、手套箱内集成关键技术指标（TTT-07-UV Litho-ACA）曝光机基础参数曝光光源405nm LED数字掩模板分辨率1920×1080像素光刻参数观测镜头大范围样品观测2.6 mm×1.7 mm光刻镜头A1.5 μm（确保值），0.4 mm×0.4 mm，20 mm2/min（50%占空比）光刻镜头B1 μm（确保值），0.16 mm×0.16 mm，3 mm2/min（50%占空比）显微观测参数照明光源强光LED相机大靶面工业相机，实时图像采集尺寸测量线宽测量套刻参数精准套刻单画幅套刻精度：350nm（指引光）全画幅套刻精度：500nm（全局畸变矫正算法）套刻指引520 nm/620 nm，实时虚拟曝光投影，实现所见即所得运动台参数电动位移台类型：高性能无铁芯直线驱动电机行程：150 mm步进精度：50 nm（直线光栅尺精度）双向重复定位精度：±100 nm自动对焦模组机器视觉智能主动对焦功能支持样品厚度：0-15 mm（运动台行程20 mm）定位精度：50 nm旋转位移台类型：手动行程：细调范围±5°，粗调范围320°电动物镜切换线轨支持三个物镜的快速切换（200 ms）重复定位精度优于300 nm基片参数支持基片尺寸3 mm×3 mm（最小），150 mm×150 mm（最大）其他参数软件全自动光刻控制软件集成深度定制的矢量图转像素图软件设备尺寸设备主体：79 cm（长）×70 cm（宽）×68 cm（高）机柜：60 cm（长）×80 cm（宽）×100 cm（高）设备重量200 kg设备外壳UV防护外壳附属配件含光学平台，电脑，无线键鼠，真空泵环境控制机体内除湿装置安装要求温度20 – 40℃湿度RH 60 %电源220V，50Hz应用示例?微流道芯片?二维材料的电极搭建?微纳结构曝光?太赫兹/毫米波器件制备?电输运测试/光电器件测试?光学掩模板的制作

利用紫外光源对紫外敏感的光刻胶进行空间选择性的曝光，进而将设计好电路版图转移到硅片上形成集成电路，这一工艺就是紫外光刻技术。光刻机的分辨率和套刻精度直接决定了所制造的集成电路的集成度，也成为了评价光刻设备品质的关键指标。激光直写设备具备很高的灵活性，且可以达到较高的精度，但由于是逐行扫描，曝光效率较低。托托科技的无掩模版光刻设备基于空间光调制器（DMD/DLP）的技术，实现了高速、高精度、高灵活性的紫外光刻。

视觉计数仪型号AI21051 瓦楞纸板计数、钢板计数，铝板计数、木板计数，塑料板计数、线路板计数、石膏板计数……各种板材的计数应用，在生产经营中经常不可避免，快速、准确、高效的统计数量成为必然的趋势。 AI21051 视觉计数仪是一款世界先进水平的视觉计数仪，也是一款在瓦楞包装行业全球首创的手持式视觉计数仪。AI21051 视觉计数仪操作简单，可移动使用，快捷方便。视觉计数仪采用高分辨成像技术、超高集成、超强算力、核心算法及创新测控系统于一体，视觉计数仪是一款综合世界先进水平的视觉计数仪,也是一款在瓦楞包装行业全球首发的视觉计数。视觉计数仪采用高分辨成像技术、超高集成、超强算力、核心算法及创新测控系统于一体，视觉计数仪是一款综合世界先进水平的视觉计数仪,也是一款在瓦楞包装行业全球首发的视觉计数。技术指标：适用愣型： 单瓦（三层） A、C、B、E 双瓦（五层） A、C、B、E 愣型组合，如 BE 三瓦（七层） A、C、B、E 愣型组合，如 ABE 纸板高度：2.2m 准确率：约99.9% 结果：打印、无线上传生管、ERP 系统等设备参数：显示屏：5in 电源适配器：Type-C 电池容量：6200mAh 外形尺寸：（255×240×95）mm包装尺寸：（480×380×170）mm 净重：1.2kg 包装重量：4.5kg 深圳蓝博惠科—国际造纸和包装检测仪器前沿品牌！蓝博惠科的检测仪器和服务主要应用于造纸、包装、印刷及相关用户企业的质量控制和工艺改进，许多 dingji的国家科研机构、高校和大型企事业单位引进了蓝博惠科相关仪器，产品范围涉及检测仪器、试验分析软件和实验室解决方案。技术创新与品质保证一直以来，我们不断的深化和完善经营理念，旨在为不同用户提供先进的检测设备。我们一直以这些用户为重要的合作伙伴，并不断的深化和加强技术上的交流与合作，坚持创新，保证优秀品质和降低生产成本，减少原材料和能源的消耗。

品牌：久滨型号：JB-117S名称：塑木板弯曲强度试验机一、产品概述：　　塑木板弯曲强度试验机采用进口交流伺服电机作为动力源；采用先进的芯片集成技术，专业设计的PCI数据采集放大和控制系统，试验力、变形的放大、A/D转换过程实现了全数字化调整。适用于各种人造板生产企业及质检部门，能够完成胶合板、刨花板、中密度纤维板、木塑板等板材的多种力学性能试验。　　我们仪器操作软件都是自己公司IT工程师开发的，有源代码，可以根据客户或者行业标准进行更改测试软件或升级，不收取任何费用。二、主要技术参数：a. 有效测试高度:1000MMb. 有效测试宽度：380【或可根据客户要求定制】c. 测力精度:±0.5% d. 位移分辨率：0.001MMe. 速度范围: 0.001～500mm/min f. 力量解析度: 1/500000 g. 电源功率: AC 220V 50HZ h. 机台总重:约350KGi. 机台负荷：20KN三、仪器性能及配制：1. 电脑操作，提高控制精度和系统抗干扰能力。采用新版全中文菜单控制，专用数据处理软件，人机对话直观、方便；2. 实时显示材料弹性模量特性曲线及参数；3. 自动求取最大试验力，静曲强度，弹性模量，表面结合强度，内结合强度，表面胶和强度，抗拉强度等力学性能测试结果；4. 可设立位移的极限位置，运行极限时，保护停机；5. 具有自动清零，自动返车功能；6. 测试速度0.01 -500mm/min内无级调速；7. 采用日本松下马达及减速系统、传动为台湾ABBA高精度滚珠丝杠。8、 试验过程中可根据试验力和变形的大小自动变换量程。9、 试验过程中，力、变形资料的动态显示。10、 具有恒速、定负荷、定行程等控制方式。11、 具有超载、过流、过压、过速、欠压、行程等多种安全保护方式。12、 试验结束后，可列印批试样报告和单件试样曲线作分析13、 软件极其方便地可为用户添加特殊的功能14、 享受终身服务，免费软体升级。15、满足各种控制软体，人机界面友好，已有的测量资料和结果均可储存，分类，查询和列印，16、并可按用户的要求列印输出报告（或用户提供报告格式）17、该机精度高、量程范围宽、试验空间宽、性能稳定可靠。18、力量感测器：美国Transcell公司力感测器19、传动丝杆:台湾ABBA高精度滚珠丝杆 20、防尘装置：台湾抑叠防尘罩，保护丝杆；延长使用寿命。21、动力系统:日本松下伺服马达。22、双显示方式：液晶触摸屏和电脑操作23、专用软件：本公司自己开发，各种人造板试验检测。向导式功能表操作,测试专案稳定，已涵盖GB、ASTM、DIN、JIS等测试标准，亦可自编达到所需.*力量传感器可加配一个，拓宽检测产品范围 ，满足不同量程间之试验要求。实现一机多用可按用户需求输出不同的报告格式。四、同其它厂家之（优势）：1、主机：该机采用台式双空间结构，上拉下压，横梁升降可以无级调速，更换立柱、丝杠、外罩后可改变试验空间。传动系统由伺服控制专用减速机、丝杠副组成，运行平稳，效率高、噪音低。无污染。2、配置三套标准附具： 测试静曲强度用辅具壹套 测试弹性模量用辅具壹套 测试握螺钉力用辅具壹套 3、本机采用的内置式控制器，保证了该试验机可以实现试验力、试样变形和横梁位移等参量的闭环控制，可实现等速试验力、等速位移、等试验。各种控制模式之间可以平滑切换。4、采用进口交流伺服电机，性能稳定、可靠，具有过流、过压、超速、超载等保护装置。调速比可达1:100。5、电气控制线路参照国际标准，符合国家试验机电气标准，抗干扰能力强，保证了控制器的稳定性，实验数据准确性。6、自动换档：根据负荷大小自动切换到适当的量程，以确保测量数据的准确性；实现了真正意义上的物理调零、增益调整及试验力测量的自动换档、调零、标定和存盘，无任何模拟调节环节，控制电路高度集成化7、条件存盘：试验控制数据和试样条件可制成模块，方便了批量试验的进行；8、自动变速：试验过程中移动横梁的速度可按预先设定的程序自动变化，也可手动变化；9、自动标定：系统可自动实现示值准确度的标定；10、自动保存：试验结束，试验数据和曲线自动保存；11、过程实现：试验过程、测量、显示和分析等均由微机完成；12、批量试验：对相同参数的试样，一次设定后可顺次完成；13、试验软件：中文WINDOWS界面，菜单提示，鼠标操作；14、显示方式：数据和曲线随试验过程动态显示；15、曲线遍历：试验完成后，可对曲线进行再分析，用鼠标可找到曲线上任一点所对应的试验数据；16、曲线选择：可根据需要选择应力-应变、力-位移、力-时间、位移-时间等曲线进行显示和打印；17、试验报告：可按用户要求的格式编制报告并列印；具有网络界面，可进行数据的传输、存储、打印记录和网络传输打印，可与企业内部局域网或Internet网连接。

木板电压击穿强度试验仪安全保护： 交流试验：1、匀速升压 2、梯度升压 3、耐压试验输出电压稳定系统 （缩小输出电压起伏差异）继电器独立做工区通讯方式：采用全国Z间端技术无线蓝牙控制，支持 232/USB/亚太区域网络端口耐压式样：固体；液体。结果调取：试验结果保存调取 、人员选定调去 、试验结果可根据客户要求操作整理 、支持5次以上彩线对比、自动整取添加试验数据。木板电压击穿强度试验仪可选择出具计量单位校准证书或出具客户计量单位的证书一类是由于设备遭受雷击构成的或在设备附近发生雷击而感应发生的过电压；另一类是由于电力系统中的操作或发生事端或发生谐振而致使的过电压。直流试验：1、匀速升压 2、梯度升压 3、耐压试验试验过流保护输入电压稳定系统 （缩小外界电压采集波动）ISO 10724: 1994?塑料 热固性模塑料 注塑成型多用途试样HG/T 3330绝缘漆漆膜击穿强度测定法控制方式：无线蓝牙控制 GB1408-2006 绝缘材料电气强度试验方法在电压较高时结束放电所需时间较短，在电压较低时结束放电所需时间较长保险系统产品优势：本机具有完善的安全防护措施：它是指在规矩的试验条件下，用发生闪络的电压除以沿两种介质接壤面的泄露距离或两电极间的笔直距离所得的商。试验条件分为单调情况、淋雨情况和脏污情况等几类。空开分路控制系统安全保护： 交流试验：1、匀速升压 2、梯度升压 3、耐压试验输出电压稳定系统 （缩小输出电压起伏差异）继电器独立做工区通讯方式：采用全国Z间端技术无线蓝牙控制，支持 232/USB/亚太区域网络端口耐压式样：固体；液体。结果调取：试验结果保存调取 、人员选定调去 、试验结果可根据客户要求操作整理 、支持5次以上彩线对比、自动整取添加试验数据。机箱材质：整体喷塑试验结束放电保护数据发射与接收GB/T3333 电缆纸工频电压击穿试验方法本仪器由pc控制，通过我公司自主研发的全新智能数字精密嵌入式西门子ZY单元cpu系统与上位机软件控制两部分来完成，通过pc USB 串口获得数据传送数据Z高可高达 3M/S是RS232串口的 让上位机与下位机通讯无延迟使升压速率真正做到匀速、准确，并能够准确测出漏电电流的数据，电流实时采集。GB/T 1981. 2-2003?电气绝缘用漆第2部分：试验方法（IEC 60464“2: 2001, IDT)试验介质：空气，仪器配备先进的故障报警系统 避免用户操作故障仪器发生危险。（上位机报警和下位机报警、和零电压报警。）耐压时间：0-7H保持相对电压 （软件设定）检测方式：自动巡航检测安装灵敏度较高的过电流保护装置保证试样击穿时在0.05S内切断电源。在波尾击穿时，以冲击电压的幅值作为纵坐标，放电时间作为横坐标。木板电压击穿强度试验仪重量：120kg伏秒特性是指在冲击电压波形一定的前提下，绝缘的冲击放电电压与相应的放电时间的联络曲线。它由试验判定。工程顶用以标明绝缘在冲击电压作用下的击穿特性。伏秒特性电工设备绝缘除承受长时间工作电压的作用外，还承受暂态过电压的作用。木板电压击穿强度试验仪软件误操作保护注：本部分包括测定团体绝缘材料表面击穿电压的方法．超压保护电气强度检验便是看在给被测设备加一定的高电压（可以参看IEC标准或许国标），看是不是会致使击穿。高压分级：0—50KV，（全程可调）木板电压击穿强度试验仪零电压复位保护带有方便拆装的油浴槽（可根据客户需要，也可不要油浴槽）使用条件：环境温度：（23±2）℃ 环境湿度：（50±5）%

品牌：久滨型号：JB-117A-B名称：塑木板弯曲强度试验机一、产品概述：　　该试验机采用进口交流伺服电机作为动力源；采用先进的芯片集成技术，专业设计的PCI数据采集放大和控制系统，试验力、变形的放大、A/D转换过程实现了全数字化调整。适用于各种人造板生产企业及质检部门，能够完成胶合板、刨花板、中密度纤维板、木塑板等板材的多种力学性能试验。　　我们仪器操作软件都是自己公司IT工程师开发的，有源代码，可以根据客户或者行业标准进行更改测试软件或升级，不收取任何费用。二、技术参数：1、有效测试高度：1000MM2、有效测试宽度：380【或可根据客户要求定制】3、测力精度：±0.5%4、位移分辨率：0.001MM5、速度范围：0.001~500mm/min6、力量解析度：1/5000007、电源功率：AC 220V 50HZ8、机台总重：约350KG9、机台负荷：20KN、50KN三、仪器性能及配制：1、电脑操作，提高控制精度和系统抗干扰能力。采用新版全中文菜单控制，专用数据处理软件，人机对话直观、方便；2、实时显示材料弹性模量特性曲线及参数；3、自动求取最大试验力，静曲强度，弹性模量，表面结合强度，内结合强度，表面胶和强度，抗拉强度等力学性能测试结果；4、可设定位移的极限位置，运行极限时，保护停机5、具有自动清零，自动返车功能；6、测试速度0.01-500mm/min内无极调速；7、采用日本松下马达及减速系统、传动为台湾ABBA高精度滚珠丝杠。8、试验过程中可根据试验力和变形的大小自动变换量程；9、试验过程中、力、变形资料的动态显示；10、具有恒速、定负荷、定行程等控制方式；11、具有超载、过流、过压、过速、欠压、行程等多种安全保护方式；12、试验结束后，可列印批试样报告和单件试样曲线作分析13、软件极其方便地可为用户添加特殊的功能14、享受终身服务，免费软体升级15、满足各种控制软体，人机界面友好，已有的测量资料和结果均可储存，分类，查询和列印16、并可按用户的要求列印输出报告（或用户提供报告格式）17、该机精度高、量程范围宽、试验空间宽、性能稳定可靠18、力量感测器：美国Transcell公司力感测器19、传动丝杆：台湾ABBA高精度滚珠丝杆20、防尘装置：台湾抑叠防尘罩，保护丝杆；延长使用寿命21、动力系统：日本松下伺服马达22、双显示方式：液晶触摸屏和电脑操作23、专用软件：本公司自己开发，各种人造板试验检测。向导式功能表操作，测试专案稳定，已涵盖GB、ASTM、DIN、JIS等测试标准。

产品介绍：DRK228医用防护服抗合成血液穿透性试验仪适用于防护服在不同水平试验压力下对合成血液穿透的抵抗能力。详细技术指标及配置:1、DRK228医用防护服抗合成血液穿透性试验仪采用可以提供（0.5～30±0.1）kPa气压的气源对试样持续加压，不受试验场所空间限制；2、气压范围可自由调节，调节范围（0.5～30）kPa；3、 彩色触摸屏显示、操作；4、试样夹持垫板选用进口特种铝型材加工，材质轻便，表面光洁，不生锈；5、仪器采用进口特铝拉丝面板，配有金属按键，操作灵敏，不易损坏；6、仪器试样夹持装置，配有锁紧保护，防止合成血液四处喷溅；7、夹紧力准确可靠； 8、试验槽配有专用放置装置，方便客户操作；9、试验槽选用特质316不锈钢加工，顶端配有高透明保护专用罩；10、试样下方垫圈采用优质PTFE材料经过特殊加工而成；11、正方形金属阻滞网：开放空间≥50%；在30kPa下弯曲≤5mm；12、仪器时间控制精度≤01秒；13、仪器整机外壳选用优质金属烤漆，美观大方；14、配打印机接口，连上打印机可直接打印数据报告。技术参数：1、试样尺寸：75mm×75mm2、测试面积：28.26平方厘米3、气压调节范围（0.5～30）kPa4、外型尺寸：500mm×500mm×500mm（L×W×H）5、仪器重量：40公斤6、电源：AC220V，50Hz产品配置：1、主机一台；2、PTFE垫圈二只；3、普通垫圈二只；4、金属阻滞网一只；5、专用锁紧工具一套；6、优质静音气泵一台，【注：不含安全生产许可证】。7、配打印机接口；8、取样模板一只；9、产品合格证一张；10、产品使用说明书一份。

XmartChem智能合成工作站 （手套箱工站）晶泰科技将自动化技术与手套箱有机结合，研发的机器人工作站系列——XmartChem 智能合成工作站（手套箱工站），自动完成合成实验中投料、反应、产物稀释、过滤全过程，实现无水无氧操作体系下化学合成实验操作流程自动化，专门为化学人员研发的软件系统 ，直观易用。突破高通量合成筛选的瓶颈，降低操作门槛，提高实验的效率和安全性，增加科学研究产出。&bull 无水无氧操作体系：具备高效的气体净化系统，O2 & H2O 1ppm；&bull 高通量全自动：自动化完成合成实验中投料、反应、产物稀释、过滤全过程，突破高通量合成筛选的瓶颈，降低操作门槛，提质增效；&bull 人机协作 ：系统高效稳定，7×24 小时不间断安全运行；&bull 信息溯源：支持条码扫码，样品信息可溯源；&bull 可视化软件系统：触屏式操作界面，轻松访问资源、方法、任务及数据等功能信息；资源配置界面与设备内部布局一致，操作方式直观，充分降低学习成本，易于使用；&bull 简化工作流程：可直接创建或调用模板实验设计流程方法，轻松设定参数，节约时间；支持批量实验参数导入，简化操作；&bull 用户权限设定：软件系统支持划分用户权限，维护实验方法、数据安全；&bull 完整数据记录：实时自动采集反应条件、实验控制以及数据，确保完整实验流程可追溯；&bull 数字化平台：支持接入 LIMS 系统，并兼容晶泰数字化软件（ELN、数字孪生仿真系统等）；&bull 立体仓储物料架：多层自动化控制，适用于多种物料存放；&bull 人工操作位设计：惰性气体手套箱一机多用，用于敏感试剂的人工备料和存储；自动物料架，实验过程中按需补料；&bull 开放集成：支持多种第三方设备如 LC-MS 等集成到工作站，实现产物的快速鉴定；

DRK228抗合成血液穿透性试验机---产品介绍及操作说明详细技术指标及配置：1、DRK228抗合成血液穿透性试验机采用可以提供（0.5～30±0.1）kPa气压的气源对试样持续加压，不受试验场所空间限制；2、气压范围可自由调节，调节范围（0.5～30）kPa；3、 彩色触摸屏显示、操作；4、试样夹持垫板选用进口特种铝型材加工，材质轻便，表面光洁，永不生锈；5、仪器采用进口特铝拉丝面板，配有金属按键，操作灵敏，不易损坏；6、仪器试样夹持装置，配有锁紧保护，防止合成血液四处喷溅；7、夹紧力准确可靠；8、试验槽配有专用放置装置，方便客户操作；9、试验槽选用特质316不锈钢加工，顶端配有高透明保护专用罩；10、试样下方垫圈采用PTFE材料经过特殊加工而成；11、正方形金属阻滞网：开放空间≥50%；在30kPa下弯曲≤5mm；12、仪器时间控制精度≤01秒；13、仪器整机外壳选用金属烤漆，美观大方；14、配打印机接口，连上打印机可直接打印数据报告。技术参数：1、试样尺寸：75mm×75mm2、测试面积：28.26平方厘米3、气压调节范围（0.5～30）kPa4、外型尺寸：500mm×500mm×500mm（L×W×H）5、仪器重量：40公斤6、电源：AC220V，50Hz供货范围：1、主机一台；2、PTFE垫圈二只；3、普通垫圈二只；4、金属阻滞网一只；5、专用锁紧工具一套；6、静音气泵一台，【注：不含安全生产许可证】。7、配打印机接口；8、取样模板一只；9、产品合格证一张；10、产品使用说明书一份。操作说明:按要求把气泵输出气管插到仪器的油水分离器上，（压力0.1-0.3 MPa）。接通电源后显示开机界面（显示设备名称），按下“ENTER”按钮后，进入测试界面，如下图所示：按“设置”按钮会进入参数设置界面，界面如下：当前界面内可以进行系统日期和时间，还有测试时间的设置，设置完后要按“保存”按钮将数据存储至内部存储器中。（注：标准要求5min）

XmartChem智能合成工作站高通量全自动打通合成实验中投料、反应、产物稀释、过滤和液质分析全过程，软件系统直观易用，可根据研究需求配 置不同反应体积、温度条件、混合方式、惰性气氛条件，突破高通量合成筛选的瓶颈，降低操作门槛，提高合成效率。应用场景工艺条件筛选；合成方法学研究；催化剂研究；化合物库构建等产品优势提高合成效率，增加研究产出 人机协作： 系统高效稳定，7×24小时不间断安全运行；降低操作门 槛： 减少水氧敏感化学合成反应操作难度；实验过程操作标准化，减少人为出错率；提升安全性：减少了合成工作人员暴露于有害化学物质和潜在危险反应的风险。 根据客户需求搭建专属合成平台 灵活模块：固/液投料、反应、稀释、过滤、SPE固相萃取、分析及纯化；固体投料：覆盖大粒径（1.2mm）、流动性差、蓬松、静电等复杂性质粉末投料，投料范围1mg~20g，称量分辨率0.1mg；惰性气氛条件：智能手套箱工作站，适用于无水无氧操作体系的合成反应，实现投料反应及监测需求；开放集成：支持多种第三方设备如LC-MS、离心机等集成到工作站；柔性拓展：根据不同应用场景，兼容不同反应容器，六轴/四轴机器人系统支持集成多种自动化模块。 专门为化学人员研发的软件系统 ，直观易用可视化软件系统：触屏式操作界面，轻松访问资源、方法、任务及数据等功能信息；资源配置界面与设备内部布局完全一致，操作方式直观，充分降低学习成本，易于使用；简化工作流程：可直接创建或调用模板实验设计流程方法，如酰胺合成，还原胺化，金属催化偶联、环化反应等常用实验，轻松设定参数，节约时间；支持批量实验参数导入，简化操作；用户权限设定：划分用户权限，维护实验方法、数据安全；完整数据记录：实时自动采集反应条件、实验控制以及数据，确保完整实验流程可追溯；数字化平台：支持接入LIMS系统，并兼容晶泰数字化软件（ELN、数字孪生仿真系统等）。完善的本地技术支持体系多元化团队：化学家与自动化结合的研发团队，深入理解应用场景，产品更符合您的需求；高效支持和服务：产品从安装、培训、维护、维修到升级，提供全生命周期支持；售后无忧：专业完善的服务团队，当日响应。技术参数产品名称 智能合成工作站 型号 ISSW-1000 实验通量 平行反应通量2mL×48、8mL×36、20mL×24和40mL×24 适用反应容器体积 2、8、20、40mL试剂瓶 反应温度 -20~140℃ 混合方式 磁力搅拌/物理震荡搅拌 功能支持 固体投料、液体投料、控温搅拌、反应、取样稀释、过滤、LCMS监测；同时支持选配氮气保护反应环境、扫码溯源、反应体系拍照视觉监测等 自动化工作流程

Avisoft-SASLab Pro生物分析和合成软件Avisoft-SASLab Pro是通用的声音分析、编辑、分类和合成工具。使用多种高级声音分析选项，加快调查速度，用于研究动物声学通信。它提供了多种处理和分析工具，可以大大提高和健全分析项目的效率。 Avisoft-SASLab Pro功能多样，包括：彩色编码频谱图（FFT大小为64到1024点），使用TrueType字体输出高质量频谱图；环形缓冲记录实时谱图显示；数字滤波去除噪声；用于测量光谱图结构的柔性游标；多功能自动化声音参数测量和分类设施（事件检测、分析、分类和统计）；单点和时间段标签的标签选项；幅度和功率谱、线性预测编码（LPC）、自相关和互相关、倒谱、直方图、2D和3D散点图、3D瀑布显示、脉冲密度直方图、使用希尔伯特变换的包络和瞬时频率、使用FFT技术的频移、均方根、用于比较谱图的声音相似性矩阵；噪声级测量的倍频程和三倍频程分析；（全谱）超声记录的外差回报；合成器用于生成人工歌曲和调用，通过鼠标绘制参数的演变（基频、包络、谐波、频率和幅度调制），听几首合成的鸟歌；基于谱图与模板互相关的音节自动分类；专用脉冲串分析工具支持对简单脉冲串或一系列声音突发（如歌曲元素）的时间模式的研究；地理参考（也称为地理编码、地理定位或地理标记）.wav文件，这些文件是通过使用GPS轨迹日志数据用数字野外记录器记录的（见鸟类物种图和SONY PCM-M10样本）；通过标记或重命名（文件名包含物种前缀）.wav文件创建野外调查地图，这些文件可以轻松导入GIS应用程序，包括谷歌地图或谷歌地球（请参阅Avisoft蝙蝠调查示例）；使用SMPTE或LANC时间码信息同步音频和视频记录（读取和写入）；高级元数据管理功能，包括用户定义的数据库字段，这些字段可以收集到虚拟（XML格式）元数据库中，随后可以在Avisoft SASLab Pro软件中查询；用于管理大量声音文件的批处理和实时处理。屏幕截图：

人造木板甲醛voc释放量环境测试舱GB50325-2020 VOC甲醛环境试验舱 甲醛气候箱VOC环境舱 VOC甲醛测试舱 一立方VOC甲醛释放量检测舱 甲醛VOC环境试验箱 甲醛VOC检测箱 一、用途与使用范围 甲醛VOC释放量环境测试舱主要使适用于汽车内饰、家具、人造板材、电子电气产品、室内装饰装修材料及轻工业电气设备的甲醛、TVOC释放量的检测。并可以进行预处理试验。1立方米VOC释放量环境测试舱主要用于研究人造板材及其相关轻工业产品中VOC释放量变化规律，检测人造板材及其相关轻工业产品中VOC释放量及对检测产品等级划分；根据室内污染物数据或预测模型对室内空气质量进行综合环境指标评价。 二、技术指标： 温度 调节范围：(15～40、80、100)℃ 调节精度：±0.5℃相对湿度 调节范围：(40～80)%RH. 调节精度：±1.5%R.H.空气置换率 调节范围：0.2m3～2m3/h(换气率0.2～2次/小时）调节精度：通风量±1%表面风速 空气水平速率保持在（0.1～0.3）m/s，精度≤0.05m/s测试舱尺寸 （1±0.02）m3测试舱采用SUS304镜面不锈钢板整体焊接。焊接处及周围抛光、无变形，所有的边、角均制成一定弧度。可用水洗清洁，无橡胶类和胶粘剂等对检测有干rao的材料，密封材料和其它与测试舱内空气接触的器件，不吸附有机物和甲醛。测试舱内无结露及水珠凝聚。工作室尺寸： 0.80m（宽）×1.0m（高）×1.25m（深）控制舱（正视图）：2100（长）×2020（高度）×1200（宽）可定制分体式结构。压力 10±5Pa密封性 静态泄漏率：1KPa相对压强下，泄漏率≤0.5×10-3m3/min保温箱体 聚氨脂和保温板，外壁为钢板，白色喷涂；内壁：304不锈钢板本底浓度甲醛本底浓度＜0.006mg/m3 ， TVOC本底浓度＜0.01mg/m3。单项VOC本底浓度＜0.002mg/m3清洁气体供应系统 1、压缩空气：气量：2 m3/h；2、高效微粒过滤器：处理大风量：2m3/h，处理后，气体中的污染物浓度要求：直径大于0.5um的微粒浓度100个/ m3。3、活性炭过滤器 ：处理大风量：2 m3/h，处理后，气体中的污染物浓度要求：TVOC浓度0.02mg/m3，任何一种VOC0.002mg/m3，直径大于0.5um的微粒浓度100个/m3，甲醛含量0.006mg/m3。主体结构 结构安置方便合理，适应各种空间。不仅降低了能量消耗而且减少了设备的平衡时间，提高了检测效率，降低了检测成本。监控设备 采用触摸控制屏作为人员操作设备的对话界面，能直接设置和数字显示箱内温度、相对湿度、温度补偿，露点补偿，露点偏离，温度偏离，采用原装进口传感器，而且能自动记录和绘制控制曲线。监测参数 监测显示舱内的温湿度、 流量置换率、压差、风速开关机时间、工作时间，数据可转移存储回收率 甲苯和正十二烷的平均回收率不小于80%功率 启动功率小于等于3kw，运行功率2kw工作电压 220V 重量：800kg

润滑脂与合成橡胶相容性测试仪SY0429用于测定润滑脂与标准合成橡胶的相容性。符合SHT 0429-2007 润滑脂和液体润滑剂与橡胶相容性测定法，将具有规定尺寸的标准合成橡胶试片置于一定温度的润滑脂试样中，经70h试验后，用其体积变化和硬度变化来评定润滑脂与标准合成橡胶的相容性。 功能特点及装置： 镀金陶瓷电容传感器；标准的RS232数据输出功能，可轻易的连接电脑和打印机 全自动零点跟踪、蜂鸣器报警、超载报警功能 外形尺寸，270*270*270； 重量 6.5KG 蓝色背光液晶显示；测量时间 约10秒标准接口：RS-232标配： 打印机丁腈橡胶试片：50×25×2mm 仪器质量保证书山东盛泰仪器有限公司对出售给贵方的仪器提供如下质量保证：----提供的仪器材料是全新的、符合质量标准和具有生产厂家合格证的货物；----提供的材料、主要元器件符合技术资料中规定的技术要求；----设备整机质量保证期为一年（不含易损件正常磨损）。----在质量保证期内出现的仪器质量问题，我方负责免费维修。由于使用方责任造成设备故障，我方负责维修，合理收费。 ----设备终生优惠供应零部件，整机终生维护维修。 ----保质期满后，使用方需要维修及技术服务时，我方仅收成本费。包装与交付1货物包装：标准木箱或纸箱。 2内部包装：弹性珍珠棉包装产品，硬木板+强力绷带固定角落。序号仪 器 名 称单位数 量备 注1A邵氏硬度计台1选配2主机台1带打印机及数据线3干燥箱 台1选配4电子天平台1选配5橡胶试片片146说明书份17合格证保修卡份1

SY 0429润滑油脂合成橡胶相容性测试仪用于测定润滑脂与标准合成橡胶的相容性，符合SHT 0429-2007 润滑脂和液体润滑剂与橡胶相容性测定法，将具有规定尺寸的标准合成橡胶试片置于一定温度的润滑脂试样中，经70h试验后，用其体积变化和硬度变化来评定润滑脂与标准合成橡胶的相容性。 功能特点及装置： ● 镀金陶瓷电容传感器；● 标准的RS232数据输出功能，可轻易的连接电脑和打印机。；● 全自动零点跟踪、蜂鸣器报警、超载报警功能● 采用一体成形的透明测量水槽，一体成型水槽尺寸:(165*115*856)mm● 蓝色背光液晶显示；● 可自动显示试样空气中的质量和水中的质量技术参数：● 重量大测量范围： 120g ● 测量精度： 0.001g● 测量时间： 约10秒● 标准接口： RS-232● 标 配 打印机● 丁腈橡胶试片： 50×25×2mm● 外形尺寸： 270*270*270 ● 重 量： 7KG 序号仪 器 名 称单位数 量备 注1A邵氏硬度计台1选配2主机台1带打印机及数据线3干燥箱台1选配4电子天平台1选配5橡胶试片片146说明书份17合格证保修卡份1 仪器质量保证书山东盛泰仪器有限公司对出售给贵方的仪器提供如下质量保证：----提供的仪器材料是全新的、符合质量标准和具有生产厂家合格证的货物；----提供的材料、主要元器件符合技术资料中规定的技术要求；----设备整机质量保证期为一年（不含易损件正常磨损）。----在质量保证期内出现的仪器质量问题，我方负责免费维修。由于使用方责任造成设备故障，我方负责维修，合理收费。 ----设备终生优惠供应零部件，整机终生维护维修。 ----保质期满后，使用方需要维修及技术服务时，我方仅收成本费。包装与交付1货物包装：标准木箱或纸箱。 2内部包装：弹性珍珠棉包装产品，硬木板+强力绷带固定角落。

产品用途单模聚焦微波合成仪为微波合成提供了一个先进的和可靠的工具，其高度聚焦的微波能量场密度保证了微波加热的均匀性和实验的均一性与重现性，相对于传统多模微波反应器具有无可比拟的优势。广泛应用于制药研究、有机化学合成、生物医药、材料合成、微波萃取、学术研究等。高校研究所进行化学、生物等方面试验，适用于液体加热回流、微波合成、微波溶样、微波水解、微波催化和微波萃取等领域。产品特点1、密闭式高压单模微波（TM01）化学平台2、支持230℃ / 3MPa 以内密闭反应体系3、支持80ml～1000ml多规格密闭高压合成罐4、支持电磁搅拌5、智能化控制系统，温度和功率闭环可控6、实验数据曲线显示且可以导出数据7、MKM圆柱单模微波平台其他功能产品：?常压单模合成（H1A）、多位平行（H1F）、超高压单模（H1G）技术参数（一）、微波系统1.微波功率：额定功率500W / 2450MHz，无级非脉冲式连续微波功率输出2.微波反应腔设计：①304不锈钢一体焊接而成圆柱单模内腔，坚固可靠②内表面涂覆多层特氟龙防腐涂层，适合酸碱腐蚀及高温的环境下使用，且易于擦拭清理3.单模内腔尺寸：约1L，适合容量的密闭压力合成容器的工艺装配（二）、功能系统1.反应系统：默认80ml特氟龙高压合成罐，密闭式反应体系，支持测温、搅拌功能2.温度和压力控制：① 温度/压力范围：工作温度0～230℃，压力范围0～3MPa②采用光纤测温方式3.匀料控制：磁力搅拌模式4.磁力搅拌：采用特氟龙包裹转子，磁力驱动，速度可调5.过程监控：内部照明辅助彩色视频监控（选配）（三）、控制系统1.采用PLC编程控制：良好的人机互动，一体化控制终端，温度、压力、功率均智能可控2.触摸屏对话窗口，操作简单快捷，即时显示时间、温度、功率曲线，数据可读取存储3.多套程序记忆功能，可对程序进行存储、修改、调用、删除等系统操作（四）、安全系统1.顶盖多重联锁结构，开门断电，保护操作人员2.顶盖采用λ/4高阻抗微波抗流抑制结构，保证操作人员的健康安全，微波泄漏量：5mW/cm2 （优于国标）（五）、整机说明1.设备供电：220Vac / 50Hz，整机能耗：1300W2.外观尺寸：主体约：615×450×355mm（宽×高×深）3.设备重量：50kg4.公司产品通过ISO9001质量认证体系　整机质保一年

仪器简介：Monowave 300 为微波合成研究提供了一个全新和先进的工具，使微波合成达到了前所未有的可靠性和性能。 Monowave 300提供300 C和30 bar（435psi）的最高单模微波工作温度和压力，为合成方法开发和反应优化提供了全新空间。 Monowave 300最高的微波场密度保证了在任何反应体积、任何反应溶剂都能得到可重复的和出色的加热速率，无需使用任何辅助加热元件。最先进的红宝石晶体发光光纤传感器保证了实时的反馈控制，同时也实现了最高精度的温度测量。 超乎想象 Monowave 300可以使您能在以前不可能达到的条件下使用某些试剂和溶剂。使您能突破常规单模合成的限制进行方法的开发，来研究温度和压力的提高对反应活性和反应过程的影响。 就利用Monowave 300的高效搅拌和标准内置温度测量来试一下您的第一个微波反应。纸上没有吹嘘，但是终究百闻不如一见。。。。 您能感受到的独特优势  快速和一致的加热  方便内部温度测量  最高的准确性和再现性  新方法开发的新空间  强力的搅拌有助益混合  用户友好的智能软件  内置8.4&rsquo &rsquo 触摸屏控制器 满足多领域的应用的伙伴 制药研究：  方法开发和优化  构建单元合成  中间体修饰和骨架分子修饰 有机化学:  杂环合成  金属催化  键形成反应  缩合反应  加环反应  固相合成 生物医药:  衍生反应  多肽合成 材料化学:  纳米颗粒制备  分子筛合成  高分子材料合成技术参数：--实现最高的单模合成条件：300 C和30 bar（435psi）  --最高850W 连续非脉冲微波  --最高的微波场密度  --超常的加热速度（3-9 C/秒）  --600rpm高效磁力搅拌速度  --自动调谐微波腔保证不同体积和极性的溶剂的高效加热主要特点：全面反应控制记录  内置液压传感器使反应范围更广   内置红外温度传感器进行常规温度测量   先进的光纤温度传感器实现对反应的精确控制   自动式气动控制过压安全释放功能 --- 8.4英寸触摸屏控制系统  全新智能控制软件，具有逻辑触摸屏导航  明亮的大控制图标使操作简单容易  不同操作者设定不同控制权限  内置AFAP快速加热模式或自己设定多步反应程序  重要样品可设定优先排队选项 ---- 完整的数据管理  彩色反应曲线图同时显示所有相关参数  局部放大功能进行可获得更详细信息  方法库最多可存1000个实验  可通过USB进行数据导出  直接生成pdf格式的反应报告

全球唯一的 cGMP 工业级全自动微波多肽合成设备 Liberty PRO 是世界上第一套大规模的工业级微波多肽合成设备，配备了多种不同规格的反应器，从而满足了不同规模的 全自动生产需求。每批次最大可生产 1kg 的粗肽。与此同时每个氨基酸耦联循环突破性的仅需要 15-60 分钟，新技术免去 了脱保护和耦联的冲洗程序，成本低，交货速度快，可用于大规模多肽合成服务。Liberty PRO 特别选择了符合医药领域 cGMP 要求的材料并设计了满足可追溯性法律法规要求的硬件软件。可以使用 Liberty Blue &trade 开发相应方法并轻松的实现科 研向工业生产的无缝转换。大规模工业级全自动微波多肽合成仪Liberty PRO 技术和性能完整的符合 cGMP 规范 3 L, 8 L, 和 15 L 三种反应器 (15 – 1000 mmol) NIST 可追溯内部温度控制器 机械与 N2 鼓泡双搅拌模式 符合 cGMP 要求的惰性材料CEM 专利的合成技术CarboMAXTM 专利缩合方法 微波辅助脱保护与缩合 US7393920 US7582728 US8058393 EP1491552 JP4773695CEM 的大规模工业级全自动微波多肽合成仪 Liberty PRO 是一种创新的多肽合成设备，它采用了 HE-SPPS、No Wash、CarboMAX 等三大技术，实现了时间最快、 成本最低、纯度最高以及多肽合成的标准化、模块化和工业化。这种设备具有无与伦比的灵活性和经济性，不受多肽序列 的制约，可以在 cGMP 的管理框架下随时改变序列，彻底推翻了传统的固定序列、固定合成工艺和固定生产设备的方式。 高效、经济、灵活，彻底颠覆传统的 SPPS 多肽规模化生产方式和管理方式。此外，Liberty PRO 还改变了传统的多肽合成思想观念，生产方式和管理方式，实现了生产的灵活性、经济性，化整为零， 降低了风险。它的高性能、高可靠性、高灵活性、标准化和模块化，使得任何一个单元出现故障，都不会影响整个生产管理。 Liberty PRO 单元化组合的合成模块，彻底颠覆了传统多合成生产线生产方式，使得合成生产更经济、更灵活。CDMO 厂 家可以随时根据订单多肽序列的不同，和产量的不同，随时改变生产流程和重新配置 Liberty PRO 的组合，而单元化、标 准化管理依然符合 GMP 的规定。 总的来说，Liberty PRO是一个重大的技术突破，它改变了传统的多肽生产方式，技术路径跟传统的生产方式完全是一个新的， 从而改变了生产方式和管理方式。这个改变给 CDMO 和药厂带来了无限的商机和可能性。从CRO研发到CDMO生产的直接转换，降低企业研发成本和生产成本cGMP 规范 可溯源性与审计追踪Liberty PRO 先进的软件可以简单和灵活的编辑控制 标准和复杂肽的合成。软件符合《联邦法规 21 章》 第 11 款要求，提供完整的审计跟踪与溯源、运行历 史和方法报告，并可配备具有完整密码保护的用户级 访问级别。提供的仪器规管文件：工厂验收试验 (FAT) 功能和软件设计规范 (FDS/SDS) 溶出与浸出测试 安装运行资质 (IQ/OQ) 湿件认证证明 防爆 ATEX 分析报告1）Liberty PRO 从研发级无缝转换工业生产多肽合成 无与伦比的速度 & 纯度Liberty PRO 以无与伦比的速度与纯度，对任何长度以及困难程度的多肽进行单次高达 1KG 规模的生产。使用精确控 制的微波能量与创新的硬件相结合加热的方式，有助于优化化学条件从而获得纯度最高，产率最大的药物相关肽。2）Liberty PRO 保证批次间结果的重现性最新的流体输送设计，NIST 可追溯的内部控温模块以及最优化的机械与氮气鼓泡双搅拌模式使我们做到无与伦比的批 次稳定性。确保每批次的重复性和生产质量。3）Liberty 最大化的提高生产效率Liberty PRO 先进的流体设计和优化的微波化学技术，使生产时间最大化的缩短。由于每个氨基酸耦联循环比传统方法快 5 倍，Liberty PRO 可以在一天内生产相当于 75 升传统反应器产量的肽。4）Liberty PRO 耦联和脱保护免冲洗技术—降低生产成本Liberty PRO 2.0 继承了 Liberty blue 系列的快速反应，同时在脱保护过程中实现了免清洗，通过微波技术提高了耦联效率， 同时省略了清洗过程的时间消耗，大大提高了多肽合成的效率，同时免洗技术不仅节省了 DMF 清洗带来的成本，也降低了 废液处理的成本。该技术是一种极其快速、高纯度、可扩展的工艺，可大量减少废物 ( 高达 95%), 而所需碱基量仅为 标准用量的 10-15%。大大节省了试剂的消耗量，和冲洗所需的时间，能够为企业带来降本增效。

主要功能：使用单个顶置式搅拌器同时搅拌多达六个50ml至250ml圆底烧瓶，将您的搅拌效率提高600％高效Tornado顶置搅拌系统搭配六位平行合成仪使用，为多达6个圆底烧瓶提供强劲的可控的机械搅拌，为粘性样品提供无与伦比的搅拌效果，还可用于在溶液中分散固体搭配六位平行合成仪一起使用，为反应提供加热和搅拌快速加热至180℃，配置水冷式回流机头可在惰性气体环境下进行反应兼容50ml、100ml和250ml圆底烧瓶仅需使用一个顶置搅拌器——相较于多套实验装置更加节省空间和金钱兼容常见品牌的顶置搅拌器驱动器2档可调，使得系统可以使用较低扭矩的顶置搅拌器去搅拌较高粘度样品宽口烧瓶可以方便的取出粘稠样品和固体样品，还可使用较大的搅拌桨进行搅拌可选配的带挡板宽口烧瓶，通过破坏搅拌产生的漩涡来改善搅拌效果在低粘度下可搅拌至1000rpm最大粘度10000mPas，500rpm应用类型可选附件：Breeze高低温工作站当与加热/制冷循环器连用时，紧凑的Breeze可提供快速地加热或冷却，非常适合需要对溶液温度进行精确控制的应用，如结晶研究导热油温度-85℃~235℃，样品温度-30℃~165℃顶部直径135mm，兼容六位平行合成仪、Tornado顶置搅拌系统和Heat-On加热模块Breeze腔体容积很小，能对导热油的温度变化进行迅速的反应Storm高低温工作站Storm是六位平行合成仪和Tornado顶置搅拌系统的附加模块，为平行反应提供可控的加热和冷却，Storm是理想的过程优化和开发工具导热油温度-85℃~235℃，样品温度-65℃~200℃顶部直径135mm，兼容六位平行合成仪、Tornado顶置搅拌系统和Heat-On加热模块独特的内部设计最大限度地提高了热传导效率，外部绝缘壳减少了热损失并防止操作者接触高温/低温导热介质