纳米光学特征

中图仪器SuperViewW纳米深度光学3D表面轮廓显微仪基于白光干涉原理，用于对各种精密器件及材料表面进行亚纳米级测量。可测各类从超光滑到粗糙、低反射率到高反射率的物体表面，从纳米到微米级别工件的粗糙度、平整度、微观几何轮廓、曲率等，广泛应用于半导体制造及封装工艺检测、3C电子玻璃屏及其精密配件、光学加工、微纳材料及制造、汽车零部件、MEMS器件等超精密加工行业及航空航天、科研院所等领域中。工作原理SuperViewW纳米深度光学3D表面轮廓显微仪以白光干涉技术为原理、结合精密Z向扫描模块、3D 建模算法等对器件表面进行非接触式扫描并建立表面3D图像，通过系统软件对器件表面3D图像进行数据处理与分析，并获取反映器件表面质量的2D、3D参数，从而实现器件表面形貌3D测量。测量原理照明光束经半反半透分光镜分成两束光，分别投射到样品表面和参考镜表面。从两个表面反射的两束光再次通过分光镜后合成一束光，并由成像系统在CCD相机感光面形成两个叠加的像。由于两束光相互干涉，在CCD相机感光面会观察到明暗相间的干涉条纹。干涉条纹的亮度取决于两束光的光程差，根据白光干涉条纹明暗度以及干涉条文出现的位置解析出被测样品的相对高度。 SuperViewW纳米深度光学3D表面轮廓显微仪具有测量精度高、操作便捷、功能齐全、测量参数涵盖面广的优点，测量单个精细器件的过程用时短，确保了高款率检测。白光干涉仪的特殊光源模式，可以广泛适用于从光滑到粗糙等各种精细器件表面的测量。产品功能(1)设备提供表征微观形貌的粗糙度和台阶高、角度等轮廓尺寸测量功能；(2)测量中提供自动对焦、自动找条纹、自动调亮度等自动化辅助功能；(3)测量中提供自动拼接测量、定位自动多区域测量功能；(4)分析中提供校平、图像修描、去噪和滤波、区域提取等四大模块的数据处理功能；(5)分析中提供粗糙度分析、几何轮廓分析、结构分析、频率分析、功能分析等五大分析功能；(6)分析中同时提供一键分析和多文件分析等辅助分析功能。应用领域对各种产品、部件和材料表面的平面度、粗糙度、波纹度、面形轮廓、表面缺陷、磨损情况、腐蚀情况、孔隙间隙、台阶高度、弯曲变形情况、加工情况等表面形貌特征进行测量和分析。应用范例： 部分技术指标型号W1光源白光LED影像系统1024×1024干涉物镜标配：10×选配：2.5× 5× 20× 50× 100×光学ZOOM标配：0.5×选配：0.375× 0.75× 1×物镜塔台标配：3孔手动选配：5孔电动XY位移平台尺寸320×200㎜移动范围140×100㎜负载10kg控制方式电动Z轴聚焦行程100㎜控制方式电动Z向扫描范围10 ㎜主机尺寸（长×宽×高）700×606×920㎜恳请注意：因市场发展和产品开发的需要，本产品资料中有关内容可能会根据实际情况随时更新或修改，恕不另行通知，不便之处敬请谅解。如有疑问或需要更多详细信息，请随时联系中图仪器咨询。

纳米孔读取器纳米孔一般指孔径在1-10nm的孔道结构，其孔径大小与单个生物大分子尺寸相当，通常纳米孔被置入有机 磷脂薄膜内，将待分析样(如血清)分隔呈两部分，当电压施加于纳米孔两侧时，样本中的带电离子和分子会穿越纳米孔形成电流，产生的电流信号可由特定一起采集并进行分析。当生物大分子穿越纳米孔时，由于其尺寸和电荷等性质的不同，会产生特异性的电流特征信号，从而可以根据仪器采集的电流信号分析出样本中的生物大分子的结构、种类和浓度等信息。纳米孔包括固态纳米孔和生物纳米孔两大类，一般应用中的纳米孔为生物纳米孔，纳米孔生物传感器被广泛应用于生物大分子的定性和定量分析，如DNA测序、肿瘤标记物检测和环境重金属离子检测等，纳米孔技术是国际上热门的第三代基因测序技术，由于其在生物、化学、医学、食品与环境等领域内的巨大应用潜力，已经发展成一个生物、化学、医学、流体、电子、材料、机械等多学科交叉的崭新研究领域。纳米孔读取器是一种小型便携式读出设备，具有可重复使用的流动池，用于固体纳米孔和生物孔的超低噪声记录。纳米孔读取器可用于实验活动，如脂质双层测量、DNA易位和单分子检测。若和特定的流式细胞相结合，它适用于蛋白质研究、疾病标记检测、DNA定位和纳米 粒子等分析。纳米孔读取器产品特点：■ 小型化 — 手持仪器 VS. 笨重设备■ 随时可用 — 无需工具，只需将流动池插入设备即可 ■ 高性能 — 低噪声测量■ 经济实惠 — 为每个人提供技术！纳米孔读取器应用案例：另外，我司可提 供各种规格SiNx固态纳米孔，详情可咨 询上海昊量光电设备有限公司。更多详情请联系昊量光电/欢迎直接联系昊量光电关于昊量光电：上海昊量光电设备有限公司是光电产品专 业代 理商，产品包括各类激光器、光电调制器、光学测量设备、光学元件等，涉及应用涵盖了材料加工、光通讯、生物医疗、科学研究、国 防、量 子光学、生物显微、物联传感、激光制造等；可为客户提 供完 整的设备安装，培训，硬件开发，软件开发，系统集成等服务。

中图仪器W系列微纳米超精密3D光学形貌轮廓仪是一款用于对各种精密器件及材料表面进行亚纳米级测量的检测仪器。可广泛应用于半导体制造及封装工艺检测、3C电子玻璃屏及其精密配件、光学加工、微纳材料及制造、汽车零部件、MEMS器件等超精密加工行业及航空航天、科研院所等领域中。可测各类从超光滑到粗糙、低反射率到高反射率的物体表面，从纳米到微米级别工件的粗糙度、平整度、微观几何轮廓、曲率等。应用领域对各种产品、部件和材料表面的粗糙度、波纹度、面形轮廓、表面缺陷、磨损情况、腐蚀情况、孔隙间隙、台阶高度、弯曲变形情况、加工情况等表面形貌特征进行测量和分析。工作原理利用光学干涉原理，照明光束经半反半透分光镜分成两束光，分别投射到样品表面和参考镜表面。从两个表面反射的两束光再次通过分光镜后合成一束光，并由成像系统在CCD相机感光面形成两个叠加的像。由于两束光相互干涉，在CCD相机感光面会观察到明暗相间的干涉条纹。干涉条纹的亮度取决于两束光的光程差，根据白光干涉条纹明暗度以及干涉条文出现的位置解析出被测样品的相对高度。中图仪器W系列微纳米超精密3D光学形貌轮廓仪具有测量精度高、操作便捷、功能齐全、测量参数涵盖面广的优点，测量单个精细器件的过程用时短，确保了高款率检测。特殊光源模式可以广泛适用于从光滑到粗糙等各种精细器件表面的测量。产品功能1)样件测量能力：单一扫描模式即可满足从超光滑到粗糙、镜面到全透明或黑色材质等所有类型样件表面的测量；2)单区域自动测量：单片平面样品或批量样品切换测量点位时，可一键实现自动条纹搜索、扫描等功能；3)多区域自动测量：可设置方形或圆形的阵列形式的多区域测量点位，一键实现自动条纹搜索、扫描等功能；4)自动拼接测量；支持方形、圆形、环形和螺旋形式的自动拼接测量功能，配合影像导航功能，可自定义测量区域，支持数千张图像的无缝拼接测量；5)编程测量功能：支持测量和分析同界面操作的软件模块，可预先配置数据处理和分析步骤，结合自动单测量功能，实现一键测量；6)数据处理功能：提供位置调整、去噪、滤波、提取四大模块的数据处理功能；7)数据分析功能：提供粗糙度分析、几何轮廓分析、结构分析、频率分析、功能分析等五大分析功能。8)批量分析功能：可根据需求参数定制数据处理和分析模板，针对同类型参数实现一键批量分析；9)数据报表导出：支持word、excel、pdf格式的数据报表导出功能，支持图像、数值结果的导出；10)故障排查功能：配置诊断模块，可保存扫描过程中的干涉条纹图像；11)便捷操作功能：设备配备操纵杆，支持操纵杆进行所有位置轴的操作及速度调节、光源亮度调节、急停等；12)环境噪声评价：具备0.1nm分辨率的环境噪声评价功能，定量检测出仪器受到外界环境干扰的噪声振幅和频率，为设备调试和故障排查提供定量依据；13)气浮隔振功能：采用气浮式隔振底座，可有效隔离地面传导的振动噪声，确保测量数据的高精度；14)光源安全功能：光源设置无人值守下的自动熄灯功能，当检测到鼠标轨迹长时间未变动后会自主降低熄灭光源，防止光源高亮过热损坏，并有效延长光源使用寿命；15)镜头安全功能：双重防撞保护，软件ZSTOP防撞保护，设置后即以当前位置为位移下限位，不再下移且伴有报警声；设备配备压力传感器，并在镜头处进行了弹簧结构设计，确保当镜头碰撞后弹性回缩，进入急停状态，大幅减小碰撞冲击力，有效保护镜头和扫描轴，消除人为操作的安全风险。中图仪器W系列微纳米超精密3D光学形貌轮廓仪的复合型EPSI重建算法，解决了传统相移法PSI扫描范围小、垂直法VSI精度低的双重缺点。在自动拼接模块下，只需要确定起点和终点，即可自动扫描，重建其超光滑的表面区域，不见一丝重叠缝隙。部分技术指标型号W1光源白光LED影像系统1024×1024干涉物镜标配：10×选配：2.5× 5× 20× 50× 100×光学ZOOM标配：0.5×选配：0.375× 0.75× 1×物镜塔台标配：3孔手动选配：5孔电动XY位移平台尺寸320×200㎜移动范围140×100㎜负载10kg控制方式电动Z轴聚焦行程100㎜控制方式电动Z向扫描范围10 ㎜主机尺寸（长×宽×高）700×606×920㎜恳请注意：因市场发展和产品开发的需要，本产品资料中有关内容可能会根据实际情况随时更新或修改，恕不另行通知，不便之处敬请谅解。

JQN04C纳米纤维张力仪 本公司是上海市高新技术企业，依托国内著名高校和科研单位，广泛采用国内外有关专家的最新科技成果，着重胶体与界面、粉体技术、纺织纤维等性能测量技术产品的开发。本公司产品可广泛用于化妆品、选矿、造纸、医疗卫生、建筑材料、超细材料、环境保护、海洋、化工、石油、喷涂、油漆油墨、印染、纺织、集成光学、液晶显示器等行业。公司的客户群不仅包括国内各大高等院校、科研院所和军工企业，而且还包括3M、富士康、HOYA光学、友达光电、三星电子、飞利浦等一大批跨国企业，以及中石化、中石油、冠豪科技、威远生化、宁夏东方、乐凯胶片、彩虹控股等上市公司，产品远销美国、日本、韩国、马来西亚、泰国和我国香港、台湾地区。纳米纤维张力仪测量纤维的拉伸性能，是表征纤维最基本力学参数的综合性仪器。JQN04C 纳米纤维张力仪适合于多种纤维，用其可以迅速准确地测出各种纤维的拉伸指标。纳米纤维张力仪用来测量纳米单纤维在不同的试验参数下（例如：拉伸速度、隔距）下力学性能（模量、断裂功和断裂伸长等）、外观形态（纤维的形貌、直径、长度、断裂断形貌和断裂过程）等，通过这些参数的测量来表征纤维材料的特征，为纤维材料的应用和贸易过程中提供指导和参考的指标。主要功能和特点采用高精度立敏传感器、平台精确移动、光学系统和CCD摄像头结合技术，测量纤维在轴向过程中压缩力值和挠度连续变化。采用计算机控制和数据采集并对基本获取数值直接进行软件计算，求得模量等反映纤维的指标；采用单班机技术，对压力值、平台位移和形态变化进行实时采样，对操作调焦、平台移动电机进行控制；选用不同夹具和不同量程的传感器，即可适用纤维拉伸性能的测量操作过程和数据采集实现自动化和智能化，使人为操作误差的可能降到最低；关键零部件（包括传感器）进口，测试数据精确，重复性好；基于WINDOW视窗的全中文操作软件，用户界面友好，可长时间工作记录曲线及自动生成数据，可存储打印。体贴设计保证了仪器能适用于常规测试环境、与普通配置PC联机工作，运行平稳，噪音小。上述产品系我公司开发生产，我公司拥有其软、硬件的完全知识产权，能够保障用户的售后维护、升级、服务的权利，并负责送货上门安装调试培训。主要技术指标 纤维隔距长度最小可为1mm最大伸长度20mm-200%纤维最大拉伸速度30－150mm/min。力值精度0.001mN图像分辨率24象素/微米适用范围适用于亚微米级纤维及弹性纤维测量。测量特征指标可根据应力应变曲线计算弹性模量、拉伸功、断裂应力、断裂应变、拉伸回复比等指标。可设定应力或伸长恒定，测量纤维屈服蠕变性能。 配置清单 JQN04C 纳米纤维张力仪主机一台：组成部分: 光源、CCD摄像头、连续变倍光学系统、微力传感器及调整平台与JQN04C 纳米纤维张力仪相对应的配件，包括： 串口延长线壹根张力夹壹套视频采集卡壹个驱动盘壹张说明书壹份

非线性纳米光波导OCTave Photonics提供了封装的非线性纳米光波导，用于产生脉冲激光器的超连续介质。这些非线性纳米光波导可实现即插即用的低脉冲能量以及产生宽频带超连续光谱。超连续谱的产生允许将窄带宽的脉冲激光器扩大到先前带宽的许多倍。宽带宽对于许多应用至关重要，包括光谱学和频率梳的自参考。纳米光子波导具有比非线性光纤低得多的脉冲能量的超连续谱，并提供对输出光谱形状的控制。非线性纳米光波导的特征：保偏光纤准直自由空间输出密封主动温度稳定多瓦级功率处理非线性纳米光波导的参数：规格SC-1560-780SC-Custom输入脉冲波长~1560 nm~1000 to 2000 nm输入脉冲能量150 pJ100 pJ输出光谱范围~750 to 2000 nmCustomizable色散波峰值780 nm可定制，600至2500nm输入PM1550 fiberPM Fiber输入连接器FC/APCFC/APC，FC/PC输出PM780 fiber光纤或自由光输出输出连接器FC/APC光纤或透镜尺寸50x25x12 mm可定制平均功率2 Watts4Watts操作温度-20 to 60 ℃0 to 40 ℃非线性纳米光波导的组合产品及应用：（1）激光频率梳的f-2f自参考COSMO主要特征：输入波长：~1560 nm输入脉冲能量：200 pJ输入：PM1550光纤输出：SMA连接器尺寸：~40x25x15 毫米CEO 信噪比：35 dB COSMO通过光纤连接器(FC/APC或类似的连接器)连接激光器，并提供可连接到梳状稳定电子器件的电输出。脉冲必须在COSMO盒的入口被压缩，因此必须使用适当长度的光纤和/或色散补偿光纤。此外，对输入脉冲能量的控制可以优化fCEO信号的信噪比。COSMO产品参数：规格COSMO输入脉冲波长~1560nm输入脉冲能量200 pJ输入PM 1550 Fiber输入连接器FC/APC输出接线盒尺寸40x25x15 mm大平均功率3Watts操作温度0 to 40 ℃CEO峰值的信噪比35 dB（2）电光频率梳 Octave Photonics的EO梳是高度可定制的，取决于所需的输出。在完整形式中，基础EO梳与放大器、色散补偿器相结合，提供1 ps脉冲，然后通过光学滤波腔产生低噪声脉冲序列。然后这些脉冲进入脉冲压缩器，在那里它们的持续时间减少到100秒。从而，在纳米光子波导中产生的超连续谱产生了一个跨越倍频的谱，该谱用于EO梳的f-2f自参考和稳定载波-包络偏移频率。Octave Photonics还可以帮助集成EO梳与应用程序。电光频率梳的特征：具有均匀分布的光学频率的光谱。大带宽上的光谱相干性。5 到 30 GHz 之间的重复率光输出功率高达 5 瓦脉冲持续时间短至 20 fs电光频率梳的参数：型号基础款扩充款重复频率5-30 GHz5-30 GHz中心波长1550nm1550nm输出功率5Watts5Watts脉冲时间0.8-1.5ps20fs尺寸0.65×0.3×0.2m2×1×0.5m(上图)EO基础梳的频谱，可见10 GHz梳齿。(右)绿色和蓝色的线显示了在纳米光子波导中展宽后的EO梳状谱其他应用：非线性集成光子学、光学原子钟、探测系外行星关于昊量光电昊量光电 您的光电超市！上海昊量光电设备有限公司致力于引进国外创新性的光电技术与可靠产品！与来自美国、欧洲、日本等众多知名光电产品制造商建立了紧密的合作关系。代理品牌均处于相关领域的发展前沿，产品包括各类激光器、光电调制器、光学测量设备、精密光学元件等，所涉足的领域涵盖了材料加工、光通讯、生物医疗、科学研究、国防及前沿的细分市场比如为量子光学、生物显微、物联传感、精密加工、激光制造等。我们的技术支持团队可以为国内前沿科研与工业领域提供完整的设备安装，培训，硬件开发，软件开发，系统集成等优质服务，助力中国智造与中国创造! 为客户提供适合的产品和提供完善的服务是我们始终秉承的理念！您可以通过我们昊量光电的官方网站了解更多的产品信息，或直接来电咨询，我们将竭诚为您服务。

在材料生产检测领域中，纳米材料表征共聚焦显微镜用于对各种精密器件及材料表面进行微纳米级测量。它基于光学共轭共焦原理，结合精密纵向扫描，以在样品表面进行快速点扫描并逐层获取不同高度处清晰焦点并重建出3D真彩图像。产品功能(1)设备具备表征微观形貌的轮廓尺寸及粗糙度测量功能；(2)设备具备自动拼接功能，能够快速实现大区域的拼接缝合测量；(3)设备具备一体化操作的测量与分析软件，预先设置好配置参数再进行测量，软件自动统计测量数据并提供数据报表导出功能，即可快速实现批量测量功能；(4)设备具备调整位置、纠正、滤波、提取四大模块的数据处理功能；(5)设备具备粗糙度分析、几何轮廓分析、结构分析、频率分析、功能分析等五大分析功能；(6)设备具备一键分析和多文件分析等辅助分析功能，可实现批量数据文件的快速分析功能；VT6000纳米材料表征共聚焦显微镜在陶瓷、金属、半导体、芯片等材料科学及生产检测领域中具有广泛的应用。应用领域 对各种产品、部件和材料表面的面形轮廓、表面缺陷、磨损情况、腐蚀情况、平面度、粗糙度、波纹度、孔隙间隙、台阶高度、弯曲变形情况、加工情况等表面形貌特征进行测量和分析。应用范例：性能特色1、高精度、高重复性1）以转盘共聚焦光学系统为基础，结合高稳定性结构设计和3D重建算法，共同组成测量系统，保证仪器的高测量精度；2）隔震设计能够消减底面振动噪声，仪器在嘈杂的环境中稳定可靠，具有良好的测量重复性。2、一体化操作的测量分析软件1）测量与分析同界面操作，无须切换，测量数据自动统计，实现了快速批量测量的功能；2）可视化窗口，便于用户实时观察扫描过程；3）结合自定义分析模板的自动化测量功能，可自动完成多区域的测量与分析过程；4）几何分析、粗糙度分析、结构分析、频率分析、功能分析五大功能模块齐全；5）一键分析、多文件分析，自由组合分析项保存为分析模板，批量样品一键分析，并提供数据分析与统计图表功能； 6）可测依据ISO/ASME/EUR/GBT等标准的多达300余种2D、3D参数。3、精密操纵手柄集成X、Y、Z三个方向位移调整功能的操纵手柄，可快速完成载物台平移、Z向聚焦等测量前工作。4、双重防撞保护措施除软件ZSTOP设置Z向位移下限位进行防撞保护外，另在Z轴上设计有机械电子传感器，当镜头触碰到样品表面时，仪器自动进入紧急停止状态，保护仪器，降低人为操作风险。VT6000纳米材料表征共聚焦显微镜显微成像主要采用3D捕获的成像技术，使其具有较高的三维图像分辨率。横向分辨率更高，所展示的图像形态细节更清晰更微细，能够提供色彩斑斓的真彩图像便于观察。应用场景1、镭射槽测量晶圆上激光镭射槽的深度：半导体后道制造中，在将晶圆分割成一片片的小芯片前，需要对晶圆进行横纵方向的切割，为确保减少切割引发的崩边损失，会先采用激光切割机在晶圆表面烧蚀出U型或W型的引导槽，在工艺上需要对引导槽的槽型深宽尺寸进行检测。2、光伏在太阳能电池制作工程中，栅线的高宽比决定了电池板的遮光损耗及导电能力，直接影响着太阳能电池的性能。VT6000可以对栅线进行快速检测。此外，太阳能电池制作过程中，制绒作为关键核心工艺，金字塔结构的质量影像减反射焰光效果，是光电转换效率的重要决定因素。共聚焦显微镜具有纳米级别的纵向分辨能力，能够对电池板绒面这种表面反射率低且形貌复杂的样品进行三维形貌重建。3、其他部分技术指标型号VT6100行程范围X100mmY100mmZ100mm外形尺寸520*380*600mm仪器重量50kg测量原理共聚焦光学系统显微物镜10× 20× 50× 100×视场范围120×120 μm~1.2×1.2 mm高度测量宽度测量XY位移平台负载10kg控制方式电动Z0轴扫描范围10mm物镜塔台5孔电动光源白光LED恳请注意：因市场发展和产品开发的需要，本产品资料中有关内容可能会根据实际情况随时更新或修改，恕不另行通知，不便之处敬请谅解。

中图仪器SuperViewW1三维光学表面轮廓仪纳米级白光3D形貌检测以白光干涉技术为原理，结合精密Z向扫描模块、3D 建模算法等对器件表面进行非接触式扫描并建立表面3D图像，用于对各种精密器件及材料表面进行亚纳米级测量。测量分析样品表面形貌的关键参数和尺寸，典型结果包括：表面形貌（粗糙度，平面度，平行度，台阶高度，锥角等等）；几何特征（关键孔径尺寸，曲率半径，特征区域的面积和体积，特征图形的位置和数量等等）；产品功能(1)设备提供表征微观形貌的粗糙度和台阶高、角度等轮廓尺寸测量功能；(2)测量中提供自动对焦、自动找条纹、自动调亮度等自动化辅助功能；(3)测量中提供自动拼接测量、定位自动多区域测量功能；(4)分析中提供校平、图像修描、去噪和滤波、区域提取等四大模块的数据处理功能；(5)分析中提供粗糙度分析、几何轮廓分析、结构分析、频率分析、功能分析等五大分析功能；(6)分析中同时提供一键分析和多文件分析等辅助分析功能。性能特色1、高精度、高重复性 1）SuperViewW1三维光学表面轮廓仪纳米级白光3D形貌检测采用光学干涉技术、精密Z向扫描模块和3D重建算法组成测量系统，保证测量精度高；2）隔振系统，能够有效隔离频率2Hz以上绝大部分振动，消除地面振动噪声和空气中声波振动噪声，保障仪器在大部分的生产车间环境中能稳定使用，获得高测量重复性；2、环境噪声检测功能具备的环境噪声检测模块能够定量评估出外界环境对仪器扫描轴的震动干扰，在设备调试、日常监测、故障排查中能够提供定量的环境噪声数据作为支撑。3、精密操纵手柄集成X、Y、Z三个方向位移调整功能的操纵手柄，可快速完成载物台平移、Z向聚焦、找条纹等测量前工作。4、双重防撞保护措施在初级的软件ZSTOP设置Z向位移下限位进行防撞保护外，另在Z轴上设计有机械电子传感器，当镜头触碰到样品表面时，仪器自动进入紧急停止状态，最大限度的保护仪器，降低人为操作风险。5、双通道气浮隔振系统既可以接入客户现场的稳定气源也可以接入标配静音空压机，在无外接气源的条件下也可稳定工作。SuperViewW1三维光学表面轮廓仪纳米级白光3D形貌检测可广泛应用于半导体制造及封装工艺检测、3C电子玻璃屏及其精密配件、光学加工、微纳材料及制造、汽车零部件、MEMS器件等超精密加工行业及航空航天、科研院所等领域中。可测各类从超光滑到粗糙、低反射率到高反射率的物体表面，从纳米到微米级别工件的粗糙度、平整度、微观几何轮廓、曲率等。应用领域对各种产品、部件和材料表面的平面度、粗糙度、波纹度、面形轮廓、表面缺陷、磨损情况、腐蚀情况、孔隙间隙、台阶高度、弯曲变形情况、加工情况等表面形貌特征进行测量和分析。应用范例：部分技术指标型号W1光源白光LED影像系统1024×1024干涉物镜标配：10×选配：2.5× 5× 20× 50× 100×光学ZOOM标配：0.5×选配：0.375× 0.75× 1×物镜塔台标配：3孔手动选配：5孔电动XY位移平台尺寸320×200㎜移动范围140×100㎜负载10kg控制方式电动Z轴聚焦行程100㎜控制方式电动Z向扫描范围10 ㎜主机尺寸（长×宽×高）700×606×920㎜恳请注意：因市场发展和产品开发的需要，本产品资料中有关内容可能会根据实际情况随时更新或修改，恕不另行通知，不便之处敬请谅解。

中图仪器SuperViewW光学纳米级光学表面粗糙度测量仪利用光学干涉原理，具有测量精度高、操作便捷、功能齐全、测量参数涵盖面广的优点，测量单个精细器件的过程用时短，确保了高款率检测。特殊光源模式可以广泛适用于从光滑到粗糙等各种精细器件表面的测量。产品功能1)样件测量能力：单一扫描模式即可满足从超光滑到粗糙、镜面到全透明或黑色材质等所有类型样件表面的测量；2)单区域自动测量：单片平面样品或批量样品切换测量点位时，可一键实现自动条纹搜索、扫描等功能；3)多区域自动测量：可设置方形或圆形的阵列形式的多区域测量点位，一键实现自动条纹搜索、扫描等功能；4)自动拼接测量；支持方形、圆形、环形和螺旋形式的自动拼接测量功能，配合影像导航功能，可自定义测量区域，支持数千张图像的无缝拼接测量；5)编程测量功能：支持测量和分析同界面操作的软件模块，可预先配置数据处理和分析步骤，结合自动单测量功能，实现一键测量；6)数据处理功能：提供位置调整、去噪、滤波、提取四大模块的数据处理功能；7)数据分析功能：提供粗糙度分析、几何轮廓分析、结构分析、频率分析、功能分析等五大分析功能。8)批量分析功能：可根据需求参数定制数据处理和分析模板，针对同类型参数实现一键批量分析；9)数据报表导出：支持word、excel、pdf格式的数据报表导出功能，支持图像、数值结果的导出； 10)故障排查功能：配置诊断模块，可保存扫描过程中的干涉条纹图像；11)便捷操作功能：设备配备操纵杆，支持操纵杆进行所有位置轴的操作及速度调节、光源亮度调节、急停等；12)环境噪声评价：具备0.1nm分辨率的环境噪声评价功能，定量检测出仪器受到外界环境干扰的噪声振幅和频率，为设备调试和故障排查提供定量依据；13)气浮隔振功能：采用气浮式隔振底座，可有效隔离地面传导的振动噪声，确保测量数据的高精度；14)光源安全功能：光源设置无人值守下的自动熄灯功能，当检测到鼠标轨迹长时间未变动后会自主降低熄灭光源，防止光源高亮过热损坏，并有效延长光源使用寿命；15)镜头安全功能：双重防撞保护，软件ZSTOP防撞保护，设置后即以当前位置为位移下限位，不再下移且伴有报警声；设备配备压力传感器，并在镜头处进行了弹簧结构设计，确保当镜头碰撞后弹性回缩，进入急停状态，大幅减小碰撞冲击力，有效保护镜头和扫描轴，消除人为操作的安全风险。SuperViewW光学纳米级光学表面粗糙度测量仪结合精密Z向扫描模块、3D 建模算法等对器件表面进行非接触式扫描并建立表面3D图像，通过系统软件对器件表面3D图像进行数据处理与分析，并获取反映器件表面质量的2D、3D参数，从而实现器件表面形貌3D测量。 SuperViewW光学纳米级光学表面粗糙度测量仪可广泛应用于半导体制造及封装工艺检测、3C电子玻璃屏及其精密配件、光学加工、微纳材料及制造、汽车零部件、MEMS器件等超精密加工行业及航空航天、科研院所等领域中。可测各类从超光滑到粗糙、低反射率到高反射率的物体表面，从纳米到微米级别工件的粗糙度、平整度、微观几何轮廓、曲率等。结果组成1、三维表面结构：粗糙度，波纹度，表面结构，缺陷分析，晶粒分析等；2、二维图像分析：距离，半径，斜坡，格子图，轮廓线等；3、表界面测量：透明表面形貌，薄膜厚度，透明薄膜下的表面；4、薄膜和厚膜的台阶高度测量；5、划痕形貌，摩擦磨损深度、宽度和体积定量测量；6、微电子表面分析和MEMS表征。主要应用领域1、用于太阳能电池测量；2、用于半导体晶圆测量；3、用于镀膜玻璃的平整度（Flatness)测量； 4、用于机械部件的计量；5、用于塑料，金属和其他复合型材料工件的测量。应用领域案例部分技术指标型号W1光源白光LED影像系统1024×1024干涉物镜标配：10×选配：2.5× 5× 20× 50× 100×光学ZOOM标配：0.5×选配：0.375× 0.75× 1×物镜塔台标配：3孔手动选配：5孔电动XY位移平台尺寸320×200㎜移动范围140×100㎜负载10kg控制方式电动Z轴聚焦行程100㎜控制方式电动Z向扫描范围10 ㎜主机尺寸（长×宽×高）700×606×920㎜恳请注意：因市场发展和产品开发的需要，本产品资料中有关内容可能会根据实际情况随时更新或修改，恕不另行通知，不便之处敬请谅解。如有疑问或需要更多详细信息，请随时联系中图仪器咨询。

纳米银粉超高速纳米研磨分散机，纳米铝粉银粉高剪切研磨分散机，纳米金属粉体超高速研磨分散机，机械法循环型研磨机，金粉耐磨高速分散机，珠光防伪变色油墨研磨分散机 纳米金属颗粒具有量子尺寸效应、小尺寸效应、表面效应、宏观量子隧道效应，并且有许多奇特的电学、光学、磁学性能，使它在航天、原子能、军事、电子、化工、冶金等工业有着重要的应用价值。纳米金属粉体分散液可广泛用于涂料、油墨、电子工业等域。 目随着纳米金属粒子的生产工艺逐渐成熟，它的应用也随之扩大。在其应用过程中，较突出的问题是纳米金属粒子由于表面积大和表面能高，在制备、后处理及应用过程中易发生粒子凝结、团聚、形成二次粒子，使颗粒粒径变大，从而失去纳米粉末所具备的性能。研究者们为提高纳米金属粒子的分散性和稳定性，提出了一些有效的方法。 根据我司为多家客户定制方案，建议采用的方案为：在罐体内先进行固体物料的简单混合,将需要的配比浓度的物料投入罐体内,开动低速搅拌机进行简单混合,使得物料形成较为均一的物料；然后再罐体底部的物料出口开动阀门使得物料由管路进入我司的管线式研磨分散机进行剪切研磨分散处理,经过剪切研磨分散后在由设备的出口管路输送进入罐体内,实现物料的一次循环处理！经过多次罐外循环处理能达到很好的分散悬浮效果,物料颗粒细度均一。纳米银粉超高速纳米研磨分散机，纳米铝粉银粉高剪切研磨分散机，纳米金属粉体超高速研磨分散机，机械法循环型研磨机，金粉耐磨高速分散机，珠光防伪变色油墨研磨分散机 纳米金属粉体超高速研磨分散机是胶体磨和分散机的一体化设计，相对于胶体磨和分散机的串联而言更具优势。胶体磨与分散机串联的话存在时间差，当物料通过胶体磨之后，磨细后物料会出现抱团的现象，再经过分散机分散，效果不是很好。而CMSD超细研磨分散机的话，物料磨细后，瞬间又通过分散工作组，进行分散，在物料还未抱团之，就进行了分散，一个瞬间作用，效果会好很多。从设备角度分析，影响分散结果的因素有以下几点：1 分散头的形式（批次式和连续式）（连续式比批次好）；2 分散头的剪切速率 （越大，效果越好）；3 分散头的齿形结构（分为初齿，中齿，细齿，超细齿，约细齿效果越好）；4 物料在分散腔体的停留时间，分散时间（可以看作同等的电机，流量越小，效果越好）；5 循环次数（越多，效果越好，到设备的期限，就不能再好）。纳米金属粉体超高速研磨分散机设备结构： 第yi由具有精细度递升的三层锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每都可以改变方向。第二由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子（乳化头）和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为 在对输送性的要求方面，特别要引起注意的是：在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是转子齿的排列，还有一个很重要的区别是不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例，依据以的经验选取相应的工作头来满 足一个具体的应用。在大多数情况下，机器的构造是和具体应用相匹配的，因而它对制造出产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。设备等：化工、卫生I、卫生II、无菌电机形式：普通马达、变频调速马达、防爆马达、变频防爆马达、气动马达电源选择： 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ电机选配件： PTC 热保护、降噪型均质机材质：SUS316L 、SUS316L 、SUS316Ti均质机选配：储液罐、排污阀、变频器、电控箱、移动小车均质机表面处理：抛光、耐磨处理进出口联结形式：法兰、螺口、夹箍均质机选配容器：本设备适合于种不同大小的容器.IKN管线式研磨分散机的技术参数：研磨分散机流量*输出线速度功率入口/出口连接类型l/hrpmm/skWCMD 2000/470014000404DN25/DN15CMD 2000/55,00010,5004011DN40/DN32CMD 2000/1010,0007,3004022DN50/DN50CMD 2000/2030,0004,9004045DN80/DN65CMD 2000/3060,0002,8504075DN150/DN125CMD 2000/501000002,00040160DN200/DN150*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，同时流量可以被调节到大允许量的10%。1 表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。2 处理量取决于物料的粘度，稠度和终产品的要求。纳米银粉超高速纳米研磨分散机，纳米铝粉银粉高剪切研磨分散机，纳米金属粉体超高速研磨分散机，机械法循环型研磨机，金粉耐磨高速分散机，珠光防伪变色油墨研磨分散机

HOLITH界面光刻技术----“纳米压印友好伴侣” HOLITH界面光刻装置使用两束干涉激光在光界面上形成周 期性光栅和点/孔图案。 HOLITH纳米成像系统具有新型力 学，光学和电学设计，可在200nm-2μm的周期性范围内于4 英寸晶片上做出纳米结构图案，图案最小形貌可低50nm。 最先进的HOLITH专利技术可使用户仅通过简单的鼠标点击操 作便能作出100nm以下尺寸的高品质高均一性线性光栅和 2D/3D图像。在HOLITH界面光刻装置中无需使用遮罩和模 具。 优势： 无遮罩过程：低成本、多功能、可伸缩 计算机系程序自动化光学结构和排列控制 简单操作，无需光学培训 相比遮罩定位器系统成本更低 200nm范围内具有高分辨率 最低特征尺寸小于50nm 无需遮罩及模具 可以制作大面积2D/3D纳米压印模具（4/6英寸） 可以操作不平整晶片 周期精度：+-2.5% All-fiber-optic setup replacing free- space optical components Special optical fiber delivers light from laser Fiber-optic beam splitter splits the laser beam into two coherent beams Output port of the fiber performs spatial filtering Close-loop feedback control stabilizing interference pattern 低成本、不受环境因素干扰，使自动化成为可能：自由改变入射角度调整模式周期。 Holith 纳米图案化结构 应用：能源 太阳能电池抗反射结构 太阳能电池光子操纵 LEDs灯管中的光提取 图案化蓝宝石基板(PSS) 光学器件 1-D和2-D光栅光谱 大范围等离子体结构 光子晶体 超颖表面 高对比度光栅过滤器和反射器 亚波长和衍射光学器件计量光栅结构化的颜色材 料 超疏水/亲水表面 诱导自组装 表面增强拉曼荧光 生物医学传感器纳米装配纳米压印磨具装配先进纳米装配过程开发

纳米压印光刻（NIL）EVG是纳米压印光刻（NIL）设备和集成工艺的市场领先供应商。 EVG从15年前的研究方法中率先并掌握了NIL，并实现了从2英寸化合物半导体晶圆到300 mm晶圆甚至大面积面板的各种尺寸基板的批量生产。 NIL是产生纳米尺度分辨率图案的最有前途且最具成本效益的工艺，可用于生物MEMS，微流体，电子学以及最近各种衍射光学元件的各种商业应用。 UV-NIL /SmartNIL系统EV Group为基于紫外线的纳米压印光刻（UV-NIL）提供完整的产品线，包括不同的单步压印系统，大面积压印机以及用于高效母版制作的分步重复系统。EV Group为基于紫外线的纳米压印光刻（UV-NIL）提供完整的产品线，包括不同的单步压印系统，大面积压印机以及用于高效母版制作的分步重复系统。除了柔软的UV-NIL，EVG还提供其专有的SmartNIL技术以及多种用途的聚合物印模技术。高效，强大的SmartNIL工艺可提供高图案保真度，高度均匀的图案层和最少的残留层，并具有易于调整的晶圆尺寸和产量。 EVG的SmartNIL兑现了纳米压印的长期承诺，即纳米压印是一种用于大规模生产微米和纳米级结构的高性能，低成本和具有批量生产能力的技术。选择您的UV-NIL /SmartNIL系统 EVG610 UV-纳米压印光刻系统具有紫外线纳米压印功能的通用研发掩膜对准系统，从小件到最大150毫米 EVG620NT SmartNILUV纳米压印光刻系统具有紫外线纳米压印功能的通用掩模对准系统，采用EVG专有的SmartNIL技术，最大可达100 mm EVG6200NT SmartNILUV纳米压印光刻系统具有紫外线纳米压印功能的通用掩模对准系统，采用EVG专有的SmartNIL技术（最大150毫米）。 EVG720 自动化的SmartNILUV纳米压印系统具有EVG专有的SmartNIL技术的自动全场UV纳米压印解决方案最大可达150毫米。 EVG7200 自动化SmartNILUV纳米压印光刻系统具有EVG专有的SmartNIL技术的自动全场UV纳米压印解决方案最大200毫米 EVG7200LA 自动化的大面积SmartNILUV纳米压印光刻系统大面积无与伦比的共形纳米压印光刻技术。 HERCULESNIL 完全集成的SmartNILUV-NIL系统完全集成的纳米压印光刻解决方案，用于大规模生产，具有EVG专有的SmartNIL压印技术。 EVG770 分步重复纳米压印光刻系统分步重复纳米压印光刻技术，可实现高效的母版制作。 IQAligner 自动化紫外线纳米压印光刻系统高精度UV压印系统，用于晶圆级透镜成型和堆叠。热压花系统EVGroup的一系列高精度热压花系统基于该公司市场领先的晶圆键合技术。热压印是一种具有很高复制精度的经济高效且灵活的制造技术。EV Group的一系列高精度热压花系统基于该公司市场领先的晶圆键合技术。 出色的压力和温度控制以及大面积的均匀性可实现高精度的压印。 热压印是一种经济高效且灵活的制造技术，对于尺寸低至50 nm的特征，其复制精度非常高。 该系统非常适合将复杂的微结构和纳米结构以及高纵横比的特征压印到各种聚合物基材或旋涂聚合物中。 压模与基板对齐的组合可将热压纹与预处理的基板结构对齐。 EVG510HE 热压花系统高度灵活的热压花系统，用于研发和小批量生产。 EVG520HE 热压花系统经过通用生产验证的热压花系统可以满足最高要求。

荷兰SCIL公司简介 荷兰SCIL公司是知名的纳米压印设备供应商，是荷兰飞利浦公司投资的高科技公司之一，“SCIL基底保形压印光刻”技术，结合了小面积硬压与大面积软压的优势，真正意义上实现了12寸晶圆高质量无基底损伤保形的纳米压印，已成功用于12寸量产线，已经被国际上很多知名fab厂采用。 “SCIL基底保形压印光刻”是一种经济高效、稳健、高产量的工艺，可在多种材料上实现纳米分辨率图案。SCIL可实现在达 300 毫米的晶圆区域上提供经过验证的高质量压印。它可用于制作特征尺寸小于 10 nm 和套刻对齐精度小于 1 μm 的图案。 荷兰SCIL公司同时开发了的无机玻璃纳米压印光刻胶，可直接作为功能层使用，可直接省去2个工艺步骤，大大降低了生产成本。 SCIL 目前可提供2” 至 12”晶圆手动研发工具到全自动系统的全方位解决方案，并可以帮助客户优化设备、耗材和流程，以实现大批量生产。SCIL 技术特色 - 即使在非平坦和弯曲的表面上也可以保证保形接触印刷（模板复制技术）。 - 独特的 SCIL 压印工艺可确保＜10 nm 分辨率、低图案变形和无颗粒损坏印模。 - 套刻对齐精度： 1 μm - Sol-gel的优异蚀刻特性可得到极高的蚀刻率。 - Sol-gel的的热稳定性、光学透明度和（UV）稳定性使其适合作为功能层。 - 使用热Sol-gel大大增加了母版寿命。 - 总体而言，SCIL可将超高的压印质量和产量与高吞吐量和低总体拥有成本相结合。 LabSCIL型科研级纳米压印系统简介 LabSCIL专为有兴趣开发 SCIL 流程和应用程序的大学、研究所和公司的研发实验室开发，对于对可用于小批量试生产的工具感兴趣的公司，LabSCIL将是理想的选择。技术参数操作手动放片，纳米压印是全自动的晶圆尺寸最大8”，向下兼容晶圆厚度0.3 - 2.5 mm晶圆搬运托盘手动加载光刻胶类型Thermal sol-gelUV sol-gelUV organic压印技术低力软模基底保形纳米压印尺寸(WxLxH)1.8 x 1.4 x 2.2 m套刻精度 1μm应用 纳米图案化是众多纳米光子应用的关键工艺步骤。下面提到的应用程序只是一个选择。其他应用包括： - 增强现实和虚拟现实 (AR/VR) 光学 - MicroLED - MEMS和3D传感

R2P纳米压印系统又名桌面式微纳米结构复制机，可以说是"The most cost-effective holographic printing technology available today 现阶段最有效的全息印刷技术工艺". 印刷电子技术受限于线宽精度的要求无法实现复杂微米及亚微米结构，而使用高精度R2R/R2P纳米压印技术可获得小到亚微米甚至几十纳米结构，这样可以很好的应用于对于结构有高精度要求的应用领域，如显示如裸眼3D,全息成像，AR眼睛等，太阳能领域，光照领域，及其他如微流控和防伪标签等,在工艺上节省时间成本的基础上，更好的开拓了微纳米结构产业化的新机遇。技术优势在于： • 全欧洲知名的R2P专利压印技术• 可快速复制超清晰均匀的微纳结构• 适用于几乎任何表面–柔性或固体、透明或不透明• 优异的光学固化引擎和易于操作的独特设计• 适用于20纳米至100微米的特征尺寸• 全系列优化的压印及模板制作材料• 超过30000次超长寿命聚合物印刷模板典型应用包括：• 光学验证防伪的衍射结构• 衍射光学元件• 增强光伏器件光电转换率的微纳米结构• 增强LEDs光电性能的微纳米结构• 光波导• 光导纤维• 微流控器件• 超亲水或超疏水功能层表面• 促进或阻止细胞生长的表面结构• 等离子体超材料结构• 生物化学微阵列• 光固化树脂材料性能测试验证• NIL蚀刻掩膜版图案制作

美国 Bioforce公司Nano eNabler™ 纳米分子微矩阵点样系统是一种全新的，适应性广泛的超微和纳米级别的液体输送技术。它可以将内含生物分子和其他材料的液体打印到1‐20微米特征尺寸的表面上的指定位置，也可用于超微纳米流体的输送打印。样本体积覆盖范围广，自阿升至毫微微升(10‐18到10‐15ul)的样本量均可完美打印。这项技术的超缩微性更大程度上降低了对样品量的需求。例如, NanoArrayer 纳米阵列可以创建一个诊断生物芯片，使用几个细胞或不到一滴血即可完成至关重要的生物医学分析。Nano eNabler™ 纳米分子点样仪的广泛适用性和广泛的材料兼容性创造了许多新的令人振奋的机会。下表是几种可打印材料及其应用的代表性案例。美国 Bioforce公司Nano eNabler™ 纳米分子微矩阵点样系统具备捕获鼠成纤维细胞粘附到一种蛋白质细胞外基质蛋白质的能力，左下图：由约翰霍普金斯大学医学院Jan Hoh博士拍摄； 中图：Sindex™ 芯片为Nano eNabler™ 纳米分子微矩阵点样系统提供了理想的打印表面。右图：使用 SPT™ (表面图谱打印工具)是纳米分子微矩阵点样系统的“墨盒”，内有样本存放池。 应用领域Nano eNabler™ 纳米分子微矩阵点样系统的特征非常适合那些利用小的空间，当前分析设计要求减少样本量等新的应用领域。常规应用领域包括：v 构建化学和生物传感器,包括 MEMS/NEMS设备；v 用分子在表面形成图案以研究细胞的生长；v 用≤1μl样本进行敏感分析(LCM,单细胞分析)；v 在有限空间打印矩阵，如在微流通道内部进行打印。 可作为打印材料的介质 典型应用抗体和其它蛋白质生物传感器、生物医学设备、分子筛查、细胞生物学、纳米生物学核酸基因芯片,基因组学,生物传感器病毒生物传感器、诊断、纳米器件粘合剂MEMS, 纳米器件胶体粒子电子、纳米器件、材料研发量子点光学仪器、诊断、材料研发蚀刻剂,溶剂,催化剂MEMS, 电子、精密加工 “能限制 Nano eNabler™ 纳米分子微矩阵点样系统的应用的，只有人的想象力！ —Jan Hoh, Ph.D.约翰霍普金斯大学医学院特性和优势Nano eNabler™ 纳米分子微矩阵点样系统独有特征包括:v 打印较小斑点的能力，斑点大小(1到 20微米)。v 在一个50×50毫米活动区域内打印的能力，分辨率20纳米。v 多路转换打印功能。v 直接打印生物分子至纳米粒子材料的能力。v 兼容的打印表面种类广泛。来自用户反馈的，受欢迎的重要优势，包括：Nano eNabler™ 纳米分子微矩阵点样系统可以在几乎所有表面打印或大或小的复杂图谱，因此使他们可以探索更全面的生物学问题。用户可以进行假设驱动性研究,而不受工具的限制。v Nano eNabler™ 纳米分子微矩阵点样系统的悬臂梁系统采用开放式通道架构,减少了喷墨打印经常遇到的堵塞问题。v Nano eNabler™ 纳米分子微矩阵点样系统将灵活性、功能尺寸、精度、分辨率、打印速度完美结合，其打印能力远非其它打印技术所能比，使用户可以实现一件设备多种应用。v Nano eNabler™ 纳米分子微矩阵点样系统相对于微触点打印技术更为灵活，更优越的多路复用打印模式，意味着用户可以花更少的时间等待新的光掩模和PDMS模具，从而将更多的精力用在实验上。v Nano eNabler™ 纳米分子微矩阵点样系统视频显微扫描技术使设备功能化光学校准变得更加容易，促进更佳的斑点测量。性能对比&差异Nano eNabler™ 纳米分子微矩阵点样系统Micro-contact Printer(微触打印机)Nanopitettes(纳米锥管打印机)AFM Nanolithography原子力显微镜微米刻蚀技术Ink-jet printing喷墨式打印速度+++‐‐+管路不堵塞+++‐+‐可靠性++‐‐++多路复用++‐‐‐+1‐20μm特征+++++‐生物兼容性++++‐+ 技术规格Nano eNabler纳米分子微矩阵点样系统主要规格v 由点和线组成的模式分子，直径1-60微米。v 兼容小分子、生物分子、纳米颗粒和许多反应液。v 同时打印单一化合物或多化合物图案。v 通过FEMTO(射流增强分子转移操作)实现快速沉积(100毫秒/点)。v 宽大高清的工作区(50毫米×50毫米，20纳米分辨率)。v 基于激光的力反馈技术，更大程度减少表面接触力。v 软件界面直观明了。Nano eNabler纳米分子微矩阵点样系统标准规格：v 基于激光的力反馈系统v XY轴镜台运动范围：50x50毫米；v XY轴镜台译码器分辨率：20纳米；v Z轴镜台范围：45毫米；v 湿度控制范围：25-80%相对湿度；v 电动光学显微镜：(100-700倍)，具备通过高清USB相机进行视频采集功能；v 通过高分辨率的 USB 相机捕捉。Nano eNabler纳米分子微矩阵点样系统软件界面集成英特尔酷睿i7处理器，8GB RAM；集成DVD ROM (8x)/CD-RW(24x)；4个USB端口；802.11g无线适配器；Windows 8.1 操作系统；24英寸高清液晶显示器；电源要求，AC240V/50 Hz,2.0A；控制器尺寸：77x65x65cm(长x宽x高)；控制器重量：14kg lbs(31磅)。 Nano eNabler纳米分子微矩阵点样系统标准配置主机、控制器单元、环境控制系统、电动光学系统、带视频采集液晶显示器、操作软件、用户手册、Nano eNabler纳米分子微矩阵点样系统标配一个起始工具包，包括：1）表面图谱打印探针(15个):SPT-S-C10S(5)、SPT-S-C30S(5)、SPT-S-C30R(5)；2）蛋白质斑点缓冲液套装,5支试剂x0.1毫升；3）可重复使用的Gel-Pak 打印探针固定器座垫；4）可重复使用的Gel-Pak样台垫。

n 荷兰SCIL公司简介 荷兰SCIL公司是全球知名的纳米压印设备供应商，是荷兰飞利浦公司投资的高科技公司之一，并与SUSS，Fraunhofer，AMO，AMOLF合作，共同开发了专利的“SCIL基底保形压印”技术，真正意义上实现了纳米压印技术的工业wafer级量产，已经被国际上很多知名fab厂采用。 “SCIL基底保形压印光刻”是一种经济高效、稳健、高产量的工艺，可在多种材料上实现纳米分辨率图案。SCIL可实现在达 300 毫米的晶圆区域上提供经过验证的高质量压印。它可用于制作特征尺寸小于 10 nm 和套刻对齐精度小于 1 μm 的图案。 荷兰SCIL公司同时开发了专利的无机玻璃纳米压印光刻胶，可直接作为功能层使用，可直接省去2个工艺步骤，大大降低了生产成本。 荷兰SCIL公司目前可提供2” 至 12”晶圆手动研发工具到全自动系统的全方位解决方案，并可以帮助客户优化设备、耗材和流程，以实现大批量生产。 n SCIL 技术特色 即使在非平坦和弯曲的表面上也可以保证保形接触印刷（专利的模板复制技术）。独特的 SCIL 压印工艺可确保＜10 nm 分辨率、低图案变形和无颗粒损坏印模。套刻对齐精度： 1 μmSol-gel的优异蚀刻特性可得到极高的蚀刻率。Sol-gel的的热稳定性、光学透明度和（UV）稳定性使其适合作为功能层。使用热Sol-gel大大增加了母版寿命。总体而言，SCIL可将最高的压印质量和产量与高吞吐量和低总体拥有成本相结合。 n FabSCIL全自动产线纳米压印系统简介 FabSCIL全自动纳米压印系统集成了两套压印单元，可用于两种不同结构的纳米压印，尺寸为 200 和 300 毫米晶圆，并具有自动模具装载和定位功能。它旨在与负责晶圆处理、对准、旋涂、烘烤、冷却和其他工艺制程。 n 应用纳米图案化是众多纳米光子应用的关键工艺步骤。下面提到的应用程序只是一个选择。其他应用包括：增强现实和虚拟现实 (AR/VR) 光学MicroLEDMEMS和传感器

产品简介：布鲁克的海思创TI 980 TriboIndenter同时具有最高的性能、灵活性、可信度、实用性和速度。基于海思创几十年的技术创新，它为纳米力学表征带来了更高水平的性能、功能和易用性。TI 980达到了一台优异纳米力学测试仪器所需的所有要求，实现了控制上突出的先进性和高效性，试验上的灵活度与可实现性，测量稳定性，以及系统设计的模块化。产品参数：TI 980xSol环境控制腔与载台环境控制腔实现了定量纳米力学性能和纳米摩擦学特征随着温度、气氛和湿度的变化。nanoECR纳米压痕测试的原位导电特性可以和纳米力学性能,材料形变行为和接触电阻等同步研究。xProbe基于MEMS传感器的探针可以实现原子力显微镜级别的超低力和位移噪音水平。iTE专利的原位薄膜力学性能分析包提供了排除基底效应影响的薄膜和多层膜结构的定量力学性能。3D OmniProbe和多量程NanoProbe通过扩展力和位移测量量程实现微米尺度的力学和摩擦学特性表征。同步拉曼光谱原位研究力学性能和摩擦学特性与材料结构和化学成分的相关性。模量成像动态扫描纳米压痕模式提供材料表面的定量、高分辨模量分布。荧光显微镜联用集成荧光显微镜可实现荧光共定位纳米力学测试等。电化学模块实现氧化和还原环境下的原位定量纳米力学和纳米摩擦学行为研究。自动探针更换模块按钮操作的自动探针更换模块。样品台多尺度的磁性、机械和真空固定方式可以固定几乎所有待测样品，包括300mm晶圆。TriboAE TM声音传感器能通过针尖原位监测纳米压痕过程中的断裂和形变产生的声音信号。Tribolmage TM纳米尺度划痕/磨损的实时表征。产品特点：简洁、高速的自动控制针尖面积函数自动校正 传感器自动校正 压针和光学系统校正自动测试程序快速、多样品自动测试功能实现高通量表征 智能化自动程序确保用户选择正确的针尖 高分辨多尺度成像结合全尺寸样品的光学搜索，极大简化测试流程实现真正纳米尺度表征从微米到几个纳米的多尺度测量 纳牛级别的力噪音水平和小于90%原子直径的位移测量能力，实现几乎任何材料的定量表征 系统可实现超过6个数量级的力测量和10个数量级的位移测量 力和位移噪音水平保证在客户现场安装时实现精准控制测试过程实现最大精度、可信度和重复性的真正定量纳米力学和纳米摩擦学表征 特殊的力和位移反馈控制方法用于海思创的传感器-专门针对海思创传感器物理特性开发的力与位移反馈控制算法 每隔0.013毫秒实现一次完整反馈控制，使得系统能测量快速瞬态过程，并对其作出反馈，真正实现用户的测试意图-每隔0.013毫秒实现一次完整的感知-分析-控制的循环，使得系统能对瞬态过程进行测量与反馈，以此重现用户定义的测试方式强大的测试模块配置

桌面型纳米印系统，优异的设计理念，专门针对大学实验室、研究所微纳米加工研究设计，配备温度控制和低压控制系统，使用方便，性能稳定可靠；同时配合专业设计的压印模板，可实现各种微纳米图形加工，特征线宽小于20nm；主要特点：1.桌面型设计；2.热压印技术；3.UV压印技术；3.模板整合温度控制；4.快速升温、快速降温，大大缩短热循环加工周期；5.低压控制技术；6.自动压入、脱模设计；7.适用于各种微纳米加工研究（2inch~4inch，其他定制）；8.特征线宽小于20nm；安装要求：1.真空0.4 to 0.8 bar（实验室真空要求），流速至少1mL/min；2.压缩空气或压缩氮气6-10 bar；3.电源：110-240V (50-60 Hz, larger than 200W)；

??JQN04C纳米纤维张力仪本公司依托国内著名高校和科研单位，广泛采用国内外有关专家的最新科技成果，着重胶体与界面、粉体技术、纺织纤维等性能测量技术产品的开发。产品可广泛用于化妆品、选矿、造纸、医疗卫生、建筑材料、超细材料、环境保护、海洋、化工、石油、喷涂、油漆油墨、印染、纺织、集成光学、液晶显示器等行业。公司的客户群不仅包括国内各大高等院校、科研院所和军工企业，而且还包括3M、富士康、HOYA光学、友达光电、三星电子、飞利浦等一大批跨国企业，以及中石化、中石油、冠豪科技、威远生化、宁夏东方、乐凯胶片、彩虹控股等上市公司，产品远销美国、日本、韩国、马来西亚、泰国和我国香港、台湾地区。纳米纤维张力仪测量纤维的拉伸性能，是表征纤维最基本力学参数的综合性仪器。JQN04C纳米纤维张力仪适合于多种纤维，用其可以迅速准确地测出各种纤维的拉伸指标。纳米纤维张力仪用来测量纳米单纤维在不同的试验参数下（例如：拉伸速度、隔距）下力学性能（模量、断裂功和断裂伸长等）、外观形态（纤维的形貌、直径、长度、断裂断形貌和断裂过程）等，通过这些参数的测量来表征纤维材料的特征，为纤维材料的应用和贸易过程中提供指导和参考的指标。一、主要功能和特点：1、 采用高精度立敏传感器、平台精确移动、光学系统和CCD摄像头结合技术，测量纤维在轴向过程中压缩力值和挠度连续变化。2、 采用计算机控制和数据采集并对基本获取数值直接进行软件计算，求得模量等反映纤维的指标；3、 采用单班机技术，对压力值、平台位移和形态变化进行实时采样，对操作调焦、平台移动电机进行控制；4、 选用不同夹具和不同量程的传感器，即可适用纤维拉伸性能的测量5、 操作过程和数据采集实现自动化和智能化，使人为操作误差的可能降到最低；6、 关键零部件（包括传感器）进口，测试数据精确，重复性好；7、 基于WINDOW视窗的全中文操作软件，用户界面友好，可长时间工作记录曲线及自动生成数据，可存储打印。8、 体贴设计保证了仪器能适用于常规测试环境、与普通配置PC联机工作，运行平稳，噪音小。9、 上述产品系我公司开发生产，我公司拥有其软、硬件的完全知识产权，能够保障用户的售后维护、升级、服务的权利，并负责送货上门安装调试培训。二、主要技术指标：纤维隔距长度最小可为1mm最大伸长度20mm-200%纤维最大拉伸速度30－150mm/min。力值精度0.001mN图像分辨率24象素/微米适用范围适用于亚微米级纤维及弹性纤维测量。测量特征指标可根据应力应变曲线计算弹性模量、拉伸功、断裂应力、断裂应变、拉伸回复比等指标。可设定应力或伸长恒定，测量纤维屈服蠕变性能。三、配置清单：JQN04C纳米纤维张力仪主机一台：组成部分: 光源、CCD摄像头、连续变倍光学系统、微力传感器及调整平台 与JQN04C纳米纤维张力仪相对应的配件，包括： 串口延长线壹根张力夹壹套视频采集卡壹个驱动盘壹张说明书壹份?

产品信息动态现场原位的感应能力使用Insplorion NPS光纤传感器，光学动态现场原位地感应 电池内部的物理化学变化和温度变化。 测量多达8 个电池同时连接多达8个电池进行数据采集，或为几个电池配备多个传感器用于空间分辨测量。 纳米尺度光学监测以纳米级分辨率获取电池工艺的信息和了解更多电极表面的信息。 完整独立的包Insplorion M8：8通道分析仪系统由硬件和软件组成，集成在一个完整的包中，随时准备启用。 多功能兼容性Insplorion的NPS传感器与各种电池的类型以及化学成分兼容。技术指标传感器尺寸100 μm衬底光纤标准涂层*聚合物*可根据要求提供涂层测量特征测量间隔时间250 ms 至10s，取决于使用的通道数多通道检测能力达8个通道* 顺序采集*自由选择连接到电池的通道，并根据需要添加和移除电池。尺寸OKTA 单元380 x 265 x 134 mm光学 单元250 x 270 x 90 mm软件控制软件Insplorion OKTA Controller操作系统兼容微软 Windows 操作系统数据输出格式ASCII 兼容，可直接用于任何数据分析软件 应用 LFP/石墨硬币电池中恒流（CC）测量期间的NPS信号（蓝色）和电压（橙色）。传感器放置在阴极-隔膜界面处。观察到NPS信号与累积电荷之间存在非线性相关性。

产品介绍 JL-1197宽量程激光粒度仪，完善了JL系列产品的所有技术特点，并创新突破激光粒度仪器使用功能，既能测试纳米级又能测试微米级粉体，同一台仪器上分别采用光子相关光谱法，全量程Mie散射两种原理测试，两种测试功能只需一键，几秒钟立刻实现快速转换。 全密封的金属外壳，具有良好的电磁屏蔽抗干扰性能，将光电子、样品池、循环系统等设置于仪器内部，使其样品在管道内流动的时间短，避免了样品分散后的分层和重新团聚，重复性、稳定性达到国外同类仪器测量水平。名副其实的机电一体新一代粒度测试仪器。每测一个样品只需2～3分钟，可全自动连续测试，结果由电脑自动记录保存，查看打印方便。 应用领域 科研院校、陶瓷、硅溶胶、水油乳液、油漆、涂料、颜料 、油墨、电子、核材料、化妆品、电子材料、造纸、化工、陶瓷、碳酸锰、农药、医药、水煤浆、碳酸钙、滑石粉、高岭土、氧化铝、稀土、镁粉、催化剂、发泡剂、耐火材料、水泥、石墨以及其它纳米级、微米级材料研究、制备与应用等领域。参数指标项目纳米指标项目微米指标测量范围纳米段：1nm～10000nm 光子相关光谱法原理测量范围微米段：0.01μm～3000μm全量程Mie散射原理重复性误差≤1％（国家标准物质D50偏差）重复性误差≤1％（国家标物质D50偏差）准确性误差≤1％（国家标准物质D50偏差）准确性误差≤1％（国家标准物质D50偏差）测量时间1-5分钟(与样品特性有关)测量时间1-2分钟(与样品特性有关)通道数64-4000，延迟时间20ns-100ms探测器128级多元探测器浓度测试快速测试纳米样品质量浓度和相对浓度信号光源进口半导体激光器测试浓度范围根据测试样品浓度选择不同的测试档位（1-10档，分别由浓到稀）激光器寿命大于70000小时光路系统高增益低噪声光电倍增管，双光源通路光路系统倒置傅里叶光学系统测试方法全自动测试，自动确定通道数和最延迟时间等参数，有单分散和多分散两套模式。湿法进样样品池与超声波分散器，搅拌器组合为一体，具有自动吸水（进水限位装置），自动对中测试、自动清洗样品池及循环管道。测试介质纯净水、蒸馏水或乙醇等样品用量毫克～克/每次（与样品的比重、颗粒大小、折射率有关）仪器体积880X410X500(mm)仪器重量约70kg工作电源AC220V ±22V　50Hz ±0.5Hz：环境要求温度：5℃～35℃；湿度：85%；仪器优点1.完善的制备系统：自动吸水、对中、测试、清洗等，以及稳定的分散系统：全自动超声波分散机械搅拌、蠕动泵循环（时间可按需调整）。2.采用倒置傅里叶光学系统，单光束大镜头及组合透镜，极大减小样品池与光学镜面的多次反射所产生的杂散光，大角度散射光不受透镜孔径的限制，有效提高了测试分辨率。3.128级多元探测器，高增益低噪声光电倍增管，双光源检测完成前向，侧向和后向散射信号的接收。4.专有多分散分析算法，可以快速分析出多分散和单分散颗粒体系，具备测试纳米样品的质量浓度和相对浓度，直接对样品温度实时测试，避免了样品池和恒温系统温度梯度引起的测量误差。5.采用优质光学玻璃，专为贵重样品定制容积2.5 mL薄缝检测池。具备测试纳米样品的质量浓度和相对浓度，具有全自动循环和静态2种进样系统，特别是对微量的贵重样品可采用静态，测试完毕后直接回收样品，2种进样方式互换极为方便。6.108级粒级的表格和曲线图，体积分布、数量分布两种模式。提供累积分布、频度分布、累积10%、50%、90%、97%、平均粒径和比表面积等数据，全面表征样品的粒度特征。7.软件操作界面可根据需要选择中文或者英文，输出结果可以直接打印，或转换为PDF和文本文件等格式保存。

随着全球市场对于全息印刷如防伪安全及其他光学显示应用的需求增长，为了替代现有落后繁琐的全息印刷工艺， Stensborg发明了Holoprint，世界上首创在线的全息印刷生产工艺。Stensborg公司服务于全欧洲压印客户超过20年，提供全息原版片和压印模板包括防伪安全用途以及其他数量庞大的光学应用。Stensborg公司专利的Holoprint压印技术，应用于桌面型的UNI A6 DT设备，以及客户定制化的设备，在印刷工艺中集成了纳米压印工艺，因此用户可以进行高分辨3D微纳米结构快速制备比如全息复制到预涂布好的材料上而不需要使用预加工好的箔片。我们这项独特的前沿纳米压印技术优势在于： • 全欧洲知名的R2P专利压印技术• 可快速复制超清晰均匀的微纳结构• 适用于几乎任何表面–柔性或固体、透明或不透明• 优异的光学固化引擎和易于操作的独特设计• 适用于20纳米至100微米的特征尺寸• 全系列优化的压印及模板制作材料• 超过30000次超长寿命聚合物印刷模板 R2P纳米压印系统又名桌面式微纳米结构复制机，可以说是"The most cost-effective holographic printing technology available today 现阶段最有效的全息印刷技术工艺". 印刷电子技术受限于线宽精度的要求无法实现复杂微米及亚微米结构，而使用高精度R2R/R2P纳米压印技术可获得小到亚微米甚至几十纳米结构，这样可以很好的应用于对于结构有高精度要求的应用领域，如显示如裸眼3D,全息成像，AR眼睛等，太阳能领域，光照领域，及其他如微流控和防伪标签等,在工艺上节省时间成本的基础上，更好的开拓了微纳米结构产业化的新机遇。典型应用包括：光学验证防伪的衍射结构，衍射光学元件，增强光伏器件光电转换率的微纳米结构，增强LEDs光电性能的微纳米结构，光波管，光导纤维，微流控器件，超亲水或超疏水功能层表面，促进或阻止细胞生长的表面结构，等离子体超材料结构，生物化学微阵列，光固化树脂材料性能测试验证，用于NIL蚀刻掩膜版图案制作。 应用领域：应用实例：SEM微纳结构照片：

随着全球市场对于全息印刷如防伪安全及其他光学显示应用的需求增长，为了替代现有落后繁琐的全息印刷工艺，Stensborg发明了Holoprint，世界上首创在线的全息印刷生产工艺。Stensborg公司服务于全欧洲压印客户超过20年，提供全息原版片和压印模板包括防伪安全用途以及其他数量庞大的光学应用。Stensborg公司专利的Holoprint压印技术，应用于桌面型的UNI A6 DT设备，以及客户定制化的设备，在印刷工艺中集成了纳米压印工艺，因此用户可以进行高分辨3D微纳米结构快速制备比如全息复制到预涂布好的材料上而不需要使用预加工好的箔片。我们这项独特的前沿纳米压印技术优势在于： • 全欧洲知名的R2P专利压印技术• 可快速复制超清晰均匀的微纳结构• 适用于几乎任何表面–柔性或固体、透明或不透明• 优异的光学固化引擎和易于操作的独特设计• 适用于20纳米至100微米的特征尺寸• 全系列优化的压印及模板制作材料• 超过30000次超长寿命聚合物印刷模板 R2P纳米压印系统又名桌面式微纳米结构复制机，可以说是"The most cost-effective holographic printing technology available today 现阶段最有效的全息印刷技术工艺". 印刷电子技术受限于线宽精度的要求无法实现复杂微米及亚微米结构，而使用高精度R2R/R2P纳米压印技术可获得小到亚微米甚至几十纳米结构，这样可以很好的应用于对于结构有高精度要求的应用领域，如显示如裸眼3D,全息成像，AR眼睛等，太阳能领域，光照领域，及其他如微流控和防伪标签等,在工艺上节省时间成本的基础上，更好的开拓了微纳米结构产业化的新机遇。典型应用包括：• 光学验证防伪的衍射结构• 光学衍射元件• 增强光伏器件光电转换率的微纳米结构• 增强LEDs光电性能的微纳米结构• 光波管• 光导纤维• 微流控器件• 超亲水或超疏水功能层表面• 促进或阻止细胞生长的表面结构• 等离子体超材料结构• 生物化学微阵列• 光固化树脂材料性能测试验证• 用于NIL蚀刻掩膜版图案制作 应用领域：SEM微纳结构照片：

Hysitron TI 980 TriboIndenter加速纳米力学研究进入更高阶段 布鲁克的海思创TI 980 TriboIndenter同时具有最 高的性能、灵活性、可信度、实用性和速度。基于海思创几十年的技术创新，它为纳米力学表征带来了高水平的性能、功能和易用性。TI 980达到了一台优 异纳米力学测试仪器所需的所有要求，实现了控制上突出的先进性和高效性，试验上的灵活度与可实现性，测量稳定性，以及系统设计的模块化。 先进的Performech II控制模块和电子设计。 最 高性能的高速闭环控制。 业界领 先的噪音控制。集成的带输入/输出信号的多参数控制。 五百倍于前代产品的力学测试速度 多维度测量耦合。充分优 化各个传感器的特质适用不同测量需要，通过多维传感器的选择实现不同测量间的无缝耦合。 多种有效的测试模块配置，包括纳米/微米压痕、纳米划痕、纳米摩擦磨损、高分辨原位扫描探针显微镜成像、动态纳米压痕和高速力学性能成像等 丰富的系统控制和数据分析软件。TriboScan(TM) 10提供了创新的控制功能，包括XPM超快纳米压痕，SPM+原位扫描探针显微镜成像，动态表面搜索，全自动系统校准和创新的测试程序。Tribo iQ (TM)提供了强大的数据处理、分析和画图功能，并具有可编程数据分析模块和自动生成的定制测试报告功能。 极大的灵活性和具有前瞻性的表征潜质。多级别的防护罩提供了超强环境隔绝能力，并具有用于将来的升级可扩展接口。万 能样品台提供了机械、磁性和真空固定方式，适用于各种样品 保持处于材料研究和开发的最 前沿海思创从1992年起就在全球范围内处于纳米力学和纳米摩擦学表征的领 先位置。通过与研究人员和工程师的持续合作，布鲁克理解您的独特需求，通过创新的技术帮助您解决当下和将来面临的材料挑战。海思创TI 980 TriboIndenter是这些努力的集大成者。它提供了卓越的性能，能满足您持续更新的材料表征需求。 简洁、高速的自动控制系统自动校正使得每次测试都无懈可击。 针尖面积函数自动校正。 传感器自动校正。压针和光学系统校正 自动测试程序。快速、多样品自动测试功能实现高通量表征。 智能化自动程序确保用户选择正确的针尖。 高分辨多尺度成像结合全尺寸样品的光学搜索， 极大简化测试流程最 低的噪音水平，实现真正纳米尺度表征。从微米到几个纳米的多尺度测量。 纳牛级别的力噪音水平和小于90%原子直径的位移测量能力，实现几乎任何材料的定量表征。系统可实现超过6个数量级的力测量和10个数量级的位移测量。力和位移噪音水平保证在客户现场安装时实现 最 快的反馈控制速率精确控制测试过程。实现最 大精度、可信度和重复性的真正定量纳米力学和纳米摩擦学表征。 特殊的力和位移反馈控制方法用于海思创的传感器-专门针对海思创传感器物理特性开发的力与位移反馈控制算法。每隔0.013毫秒实现一次完整反馈控制，使得系统能测量快速瞬态过程，并对其作出反馈，真正实现用户的测试意图-每隔0.013毫秒实现一次完整的感知-分析-控制的循环，使得系统能对瞬态过程进行测量与反馈，以此重现用户定义的测试方式 在纳米力学测试上领 先一步nanoDMA III：动态纳米压痕布鲁克的nanoDMA III是强大的动态纳米压痕技术。它提供了弹/塑性和粘弹性随着压入深度、频率和时间的变化关系。。 全面表征各种材料的普适性方法，从较软的聚合物到硬质镀层都能适用。 集成直流和交流调制使得从初始接触点开始就能实现纳米尺度动态性能的可靠、定量表征。 原位参考频率法校正温漂使得长时间测试的精度大大提高 XPM：快速力学性能成像不论是测量分辨率和精度，还是测量速度，XPM都是纳米力学测试的业界新标杆。有了XPM，原来可能需要一整年才能获得的数据，现在只需要一个下午就能获得。这些领 先的性能是通过以下三个业界领 先的技术实现的。1）高带宽静电激励传感器；2）快速控制和数据采集电子系统；3）自上而下的原位扫描探针显微镜成像。这些技术联用能实现每秒六次纳米压痕测试，从而获得全面的定量纳米力学性能图谱以及性能分布的统计数据。 更少时间测量更多参数。 超高速定量力学性能测量（每秒6次测量）。 快速、高分辨空间硬度和模量分布统计。 一分钟内可靠完成针尖函数自动校正。 比传统纳米压痕测试快500倍的数据采集速率。 xSol 环境控制腔及载台，可实现极端环境条件下高通量测量 SPM+实现纳米力学测试前后的准确原位成像布鲁克首创的扫描纳米压痕技术使用同一根探针实现样品表面形貌成像和纳米压痕测试。这种方法实现了最 高的定位精度，并且可以在纳米压痕测试后立即对样品塑性形变进行成像，加快测试速度。。 高定位精度（+/-10nm）。 可以从64x64到4096x4096范围内设定扫描分辨率。 可以对各种高长宽比的特征形貌进行不同X-Y分辨率成像。 业界领 先的纳米力学性能成像分辨率和调色板。 可以和摩擦力成像，nanoDMA III，nanoECR和xSol环境控制腔等联用 强大的系统控制和分析TriboScan 10：强大的测试灵活性提供了无限的测试可能性。 将布鲁克纳米压痕全套测试技术集成到一个直观的软件内。 基于标签页架构的软件设计使得用户可以方便的使用软件功能。灵活的测试过程分段定义方法提供了适用于所有测试模式的优 异控制 TriboIQ: 可编程数据分析程序。易用的操作界面，从简单到复杂的可定制数据分析包。 直观的数据组织和分析流程，简单点击即可生成数据报告。 直观可自定义的数据处理和分析模块。 开放式架构使得多用户合作更加容易

DALI是由Aresis、CENN Nano center 和 LPKF 联合研发的高精度无掩膜纳米光刻机，是一款性能稳定，操作简单，对环境要求低，界面友好，零维护的桌面型高精度激光直写设备。其采用的是AOD声光调制器来控制激光进行高精度光刻，可以实现优于80nm平滑的边缘结构，100-150nm最小结构间距，最高400nm套刻精度，是实验室级微纳加工与器件制作不二选择。DALI凭借优异的性能，目前已广泛应用到微电子、微器件、纳米光学、材料科学、自旋电子学等研究领域。先进的AOD技术，定位分辨率优于0.1nmA. 可以获得任意平滑、锐利的结构边缘B. 可高分辨调整特征结构间的距离C. 可以实现亚微米级精细结构的构建主要特点：# 最小特征结构小于1μm# 针对I-line光刻胶进行优化（SU-8，AZ，……）# 超快与超高精度定位，光斑定位分辨率＜1nm# 可构建高深宽比结构（可达10:1）# 12nm-1μm光斑间距调节以获得超高平滑度# 100-150nm最小结构间距# 最高400nm套刻精度# 适用于从CAD设计到各种结构的快捷构建# 具备非平表面直写能力产品优势1. 超稳定，长寿命375nm激光器相对于其它各种光源，在精密光学仪器应用中，激光光源在光束质量，稳定性，耐用性等方面具有无与伦比的优越性。DaLI无掩膜纳米光刻机采用最优的激光光源，以保证超一流的性能和用户体验。2. 广泛的适应性DaLI无掩膜纳米光刻机广泛适用于各种I-line光刻胶，AZ系列正胶，SU-8系列负胶等，在各种厚胶与薄胶应用中有着出色的表现。3. 非平表面直写功能4. 整机恒温系统，保证最佳的性能DaLI无掩膜纳米光刻机采用了超越光刻技术极限的亚纳米级AOD激光操控技术，光斑定位精度可达0.1nm。为充分发挥AOD技术的优势，我们建立了整机恒温系统，控温精度可达±0.1℃，将设备所有部件和温差形变和热漂移降到最低，从而实现真正的高精度光刻。5. 准确的图形结构6. 工作范围与曝光拼接大光斑直写工具单个工作区域 为 900μm X 900μm；小光斑直写工具单个工作区域为 300μm X 300μm工作区域100mm X 100mm 工作区域间的平滑过渡机制（软拼接与硬拼接）；DaLI的软拼接可以将曝光扫描线延伸到临近区域，并梯度降低激光强度（红线）。在临近区域，激光强度梯度增加（蓝线），从而获得干净均一的拼接图案7. 用户友好的操作软件DaLI控制软件通过USB接口与设备快速通讯，可以对设计图中的区块和每一个微结构的曝光参数进行设置，对图形设计的预览和快速栅格化，对样品的观察、准直、调平等。该软件具备图形设计和展示功能，可选用多种绘图工具，支持对 dxf, gerber, bm 等格式文件的导入与修改。8. 更好的深宽比

该膜为无机膜，由一种特殊形式的非晶氧化铝膜构成，这种膜具有均匀分布的纳米孔结构，其厚度、孔径、孔间距、孔隙率等均高度可控。 相较与有机过滤薄膜，它的优点很多，包括: 1、超高流通量，由于其极高的孔密度和孔隙率，使得孔径这么小的滤膜具有前所未有的高流通量，使得它在短时间内能达到想要的过滤效果。 2、孔径在孔径大小可控的过滤介质中最小，可达到10纳米（经过处理可进一步减小），并且不存在两个，三个或更多的孔的组合体。 3、超高效的颗粒保留能力，颗粒在膜表面被筛分，而不是在膜孔内某处。 4、为细胞的附着和生长提供刚性、均匀的表面，并且由于潮湿时几乎透明，使得光学显微镜较易观察到细胞的成长。(潮湿时折射指数为1.60 +/- 0.01)。 5、不保留背景污点，因此适用于包括荧光和免疫荧光的各种着色技术。 6、在要求干扰最小的精细试验中是最低水平的可提取材料。 7、耐高温（在摄氏1000度以下膜结构稳定）和抗辐射。 8、 对于SEM检测是理想的射线稳定底层。 9、高的化学相容性 应用领域&mdash &mdash 1、作为滤膜，适用于非常广范围的专业研究中，比如： * 高性能液相色谱（HPLC）中移动相的过滤和去气。 * 外荧光光学显微镜下的细菌分析。 * 溶剂的极度清洁。 * 重量分析和脂质体挤压的研究。 * 筛一样的结构使得留在膜表面的微生物和微粒可以在电子显微镜下进行观察。我们一般认为，是氧化铝膜的耐高温或可用作强性介质的特性让人们想到用它, 但事实上，它的透明特征才是这一系列膜产品大量销售的原因。 * 无需移动保留下来的物质就可直接用光学显微镜进行观察（移动很容易造成样本损失），这是由于膜在潮湿时呈透明状。 2、可作为电子束和离子束曝光，或者反应离子刻蚀等的掩模板，制作纳米点阵结构。 3、可作为滤光片，这是由于其具有一定程度上的光子晶体结构。 目前可提供厚度50微米，孔径30-70纳米，面积几平方厘米的膜，但从技术上来说，完全具备各种规格（厚度2微米到200微米，孔径10-200纳米，面积从几平方毫米到几十平方厘米）的氧化铝过滤膜制备能力，只是我们的交货时间要视客户对膜的具体要求而定，有些制备难度较高、工艺较复杂的膜的交货时间要适当延长。

产品信息将光谱学与QCM-D相结合。同时使用纳米等离子体光谱技术（NPS）和耗散监测型石英晶体微天平技术（QCM-D）进行实时测量。 主要特征a、同时获得相同表面上相同样品的干质量（折射率RI）、湿质量（声学）和黏弹性的实时变化。b、使用Insplorion的纳米等离子体光谱技术（NPS）和Q-Sense的耗散监测型石英晶体微天平技术（QCM-D）在完全相同的实验条件下同时测量。c、非常容易使用当配备Q-Sense窗口模块时，Insplorion Acoulyte直接安装在Q-sense Explorer（E1）和Analyzer（E4）仪器上。Insplorion Acoulyte传感器是具有NPS结构的Q-Sensor。技术指标传感器 尺寸直径 14 mm 衬底 SiO2涂层的QCM-D传感器 表面 纳米结构金 标准涂层 Si3N4, SiO2, Al2O3, TiO2 测量特征 光源 卤钨灯 灵敏度* 0.03单分子层 测量点直径 3 mm 时间分辨率 每秒10个采样点 典型噪音 0.01 nm 波长范围 450-1000 nmQCM-D的测量不受Acoulyte的影响。 尺寸(宽度x深度x高度) Acoulyte模块 8x5x3 cm Insplorion光学单元 25x27x9 cm 软件 兼容软件 Insplorer 操作系统 兼容Microsoft Windows操作系统 数据输出格式 ASCII码文本文件格式，直接使用的任何绘图软件都兼容此格式 分析的参数 分析的参数多参数输出(比如：LSPR峰处的共振波长和消光)应用领域NPS和QCM-D的互补性测量 感应深度 NPS干质量 30 nmQCM-D湿质量 300 nmAcoulyte干质量和湿质量深度分析InsplorionNPS技术在纳米等离子体光谱技术（NPS）中，纳米结构传感器的局域表面等离激元共振技术（LSPR）用于探测邻近传感器表面（30 nm）的折射率（与光/干质量有关）的微小变化。它能够极其灵敏地检测发生在传感器/样品界面处的变化过程。分子解吸附（吸附） 时间和深度分辨测量厚膜（~1 mm）的分子解吸附（吸附）。Acoulyte也可以辨别溶胀和吸附/解吸附事件。检测到什么？ NPS 邻近表面（30 nm）的折射率变化QCM-D 整个膜的质量变化。 脂质双层膜 Acoulyte能够更详细地阐释表面薄膜的形成过程。检测到什么？ NPS 囊泡吸附时折射率增大囊泡坍塌时折射率增大QCM-D 囊泡吸附时质量增大囊泡坍塌时质量减小气体吸附/解吸附 通过QCM-D技术和NPS技术的联用，就可以实现深度分析以及研究表面支撑膜内的扩散时间和机制。检测到什么？ NPS传感器/样品界面的折射率变化。QCM-D 整个膜和膜的顶部的质量变化。

产品信息Insplorion S2 采用双通道流通池，用于无标记和原位研究分子间相互作用和表面吸附事件。 此系统在表面/样品界面几十纳米范围内实现了真正的纳米级测量，并完美地控制样品和缓冲液的流动。 1、集成和自动化的流体处理具有软件命令队列、6通注射阀和不间断流量注射泵的自动流量操作，并集成了缓冲液更换和冲洗操作。2、精确的温度控制快速和稳定的温度控制，范围在15°C至45°C之间，波动在0.1°C以下。 3、易于操作样品通过集成的流体处理系统输送，具有完全的用户可访问性，易于操作和精确控制。自动化操作通过Insplorion InControl软件实现。单柄的可拆卸流通池带有单独的传感器托盘，易于日常使用和维护。 4、兼容性nsplorion S2 适用于任何生物材料，并可以轻松处理不同类型的生物样品：脂类、蛋白质、核酸、病毒、生物膜、生物矿物、水凝胶。尽管Insplorion S2 设计用于处理生物样品，但这款仪器非常耐用，还可以处理许多其他的材料和化学物质。有关样品的化学兼容性的更多信息，请联系我们。5、多功能由于其无标记、实时和表面灵敏的特性，NPS 技术具有广泛的用途。Insplorion S2 擅长展示NPS技术的最佳特征，并将其用于要求减少样品处理和严格控制温度的生物应用。理论上，可以测量任何改变表面传感器光学环境的现象。这包括许多过程，比如： 分子吸附到不同表面、 脂质双层膜的形成和相互作用、温度依赖的相互作用、构象变化、 生物分子识别、生物矿化、生物膜形成、 加载和卸载动力学。 技术指标流通池 传感器芯片位置 双通道* 注射类型 带样品环的注射泵 样品死体积 20μL 标准注射器体积 250μL** 典型流速 12.5 - 250 μL/min *** 标准样品环 200μL 材料 蓝宝石玻璃、钛 垫圈和管子 PTFE,FPM和硅橡胶 温度范围 15-45℃，稳定性为0.1℃* 串联排列 ** 可以配置 *** 软件控制传感器 尺寸 9.5 x 9.5 mm, 1 mm厚 衬底 熔融石英 表面 纳米结构金 标准涂层** 无涂层, SiO2, Al2O3, TiO2 * 还提供定制的银传感器纳米结构 ** 可以订购带有定制薄膜涂层的传感器。测量特征 测量类型 无标记纳米等离子体传感 光源* 卤钨灯，最低寿命2000小时 测量点直径 1.5mm 时间分辨率 每秒多达10个采样点 典型噪音** 波长0.1nm 探测深度 达30nm* 可提供定制选择和替换 ** 以1 Hz的采样率。系统 尺寸 W65xD42xH36 cm 重量 30kg软件 控制软件 InControl 1.0 操作系统 兼容微软Windows系统 数据输出格式 专有的CSV/TSV输出，易于使用任何其他图形工具包 分析的参数 多参数读出（表面浓度的有效变化）应用领域Insplorion S2 适用于任何生物材料，并可以轻松处理不同类型的生物样品：&bull 脂类&bull 蛋白质&bull 核酸&bull 病毒&bull 生物膜&bull 生物矿物&bull 水凝

EVG系列纳米压印设备之紫外纳米压印：600 一、 简介 EVG公司成立于1980年，公司总部和制造厂位于奥地利，在美国、日本和台湾设有分公司，并在其他各地设有销售代理及售后服务部，产品和服务遍及世界各地。EVG公司是一家致力于半导体制造设备的全球供应商，其丰富的产品系列包括：涂胶和喷胶/显影机/热板/冷板、掩模版光刻/键合对准系统、基片热压键合/低温等离子键合系统、基片清洗机、基片检测系统、SOI 基片键合系统、基片临时键合/分离系统、纳米压印系统。目前已有数千台设备安装在世界各地，被广泛地应用于MEMS微机电系统/微流体器件，SOI基片制造，3D封装，纳米压印，化合物半导体器件和功率器件等ling 域。EVG是世界上为数不多的可以商业化纳米压印设备的著ming公司，可为客户提供完整的纳米压印方案，包括热压印、紫外压印、微接触印刷。EVG公司以其专利的极其优异的对准技术和世界ling 先的热压技术为纳米压印的成功实施打下了坚实的基础。EVG620紫外纳米压印用于从印章到衬底的紫外图形转移。EVG620自动纳米压印系统允许衬底和印章的尺寸从很小的芯片到150mm直径的圆片范围。用于纳米技术应用的配置包括印章机械释放、程序控制高或低的接触压力。EVG独有的吸盘设计支持软印章和硬印章压印，可以保证大面积纳米压印的均匀压力，从而保证获得很高的良率。 二、应用范围纳米压印技术主要应用于如下方面：LEDS 制作，LED PSS纳米压印工艺，LED纳米透镜阵列；微流体学；芯片实验室；抗反射层； 纳米压印光栅； 莲花效应；光子带隙；光学及通讯：光晶体，激光器件；生物技术解决方案：医药分析，血液分析，细胞生长。三、主要特点u 适用于紫外纳米压印和微接触印刷；u 紫外光曝光；u 配备专用的紫外纳米压印工具；u 适于软或硬印章压印；u 适用衬底：Si，玻璃，化合物半导体； 四、技术参数亚科电子设备咨询电话：（微信同号）；欢迎您的来电咨询！

双光子聚合激光直写3D纳米光刻机MicroFAB-3D双光子聚合3D纳米光刻机是一款超紧凑、超高分辨率交钥匙型3D打印机。双光子聚合3D纳米光刻机基于双光子聚合(TPP)激光直写技术，兼容多种高分子材料，包括生物材料。MicroFAB-3D 3D纳米光刻机帮助您以亚微米的分辨率生产出前所未有的复杂的微部件，MicroFAB-3D的zui小特征尺寸可低至0.2um宽，为微流体、微光学、细胞培养、微机器人或元材料领域开辟了新的前景。MicroFAB-3D具有开放性和适应性，可以满足您的个性需求。双光子聚合激光直写3D纳米光刻机关键特性：较高的直写精度和分辨率(可达0.2um)（已有客户使用此设备实现低至67nm分辨率的结构）直写速度快兼容任何CAD模型和文件兼容广泛的聚合物，以及生物材料紧凑的设计适用于层流架适用于无菌、无尘室以及工业环境双光子聚合激光直写3D纳米光刻机核心优势：新的TPP切片工具复杂的3D结构下高直写速度三维微零件无形状限制适用于微部件、微流体、超材料、细胞培养、微机器人、微力学、组织工程、表面结构或任何你可能拥有的微制造理念的技术。双光子聚合激光直写3D纳米光刻机规格指标：双光子聚合激光直写3D纳米光刻机适用材料：我们为我们的双光子聚合激光直写3D纳米光刻机提供了10种zhuanli光刻胶，这些树脂的各种性能允许您探索许多应用领域。我们的系统可与各种商业上可用的光刻胶兼容，如Ormocomp, SU8, FormLabs树脂，NOA-line树脂，甚至水凝胶或蛋白质等。这些光刻胶可能是生物兼容的，甚至已被认证实现微型医疗设备。如果您想使用定制的、自制的聚合物，我们也可以帮助您调整系统以适应您的工艺。关于昊量光电昊量光电 您的光电超市！上海昊量光电设备有限公司致 力于引 进国 外创 新性的光电技术与可 靠产品！与来自美国、欧洲、日本等众多知 名光电产品制造商建立了紧 密的合作关系。代理品牌均处于相关领域的发展前 沿，产品包括各类激光器、光电调制器、光学测量设备、精 密光学元件等，所涉足的领域涵盖了材料加工、光通讯、生物医疗、科学研究、国 防及前沿的细分市场比如为量 子光学、生物显微、物联传感、精 密加工、激光制造等。我们的技术支持团队可以为国内前 沿科研与工业领域提 供完 整的设备安装，培训，硬件开发，软件开发，系统集成等优 质服务，助力中国智 造与中国创 造! 为客户提供适合的产品和提 供完 善的服务是我们始终秉承的理念！

CP系列中图微纳米测量接触式台阶仪是一款超精密接触式微观轮廓测量仪器，其主要用于台阶高、膜层厚度、表面粗糙度等微观形貌参数的测量。它采用了线性可变差动电容传感器LVDC，具有亚埃级分辨率，13μm量程下可达0.01埃。高信噪比和低线性误差，使得产品能扫描到几纳米至几百微米台阶的形貌特征。产品功能1.参数测量功能1）台阶高度：能够测量纳米到330μm甚至1000μm的台阶高度，可以准确测量蚀刻、溅射、SIMS、沉积、旋涂、CMP等工艺期间沉积或去除的材料；2）粗糙度与波纹度：能够测量样品的粗糙度和波纹度，分析软件通过计算扫描出的微观轮廓曲线，可获取粗糙度与波纹度相关的Ra、RMS、Rv、Rp、Rz等20余项参数；3）翘曲与形状：能够测量样品表面的2D形状或翘曲，如在半导体晶圆制造过程中，因多层沉积层结构中层间不匹配所产生的翘曲或形状变化，或者类似透镜在内的结构高度和曲率半径。2.数采与分析系统1）自定义测量模式：支持用户以自定义输入坐标位置或相对位移量的方式来设定扫描路径的测量模式；2）导航图智能测量模式：支持用户结合导航图、标定数据、即时图像以智能化生成移动命令方式来实现扫描的测量模式。3）SPC统计分析：支持对不同种类被测件进行多种指标参数的分析，针对批量样品的测量数据提供SPC图表以统计数据的变化趋势。3.光学导航功能 配备了500W像素的彩色相机，可实时将探针扫描轨迹的形貌图像传输到软件中显示，进行即时的高精度定位测量。4.样品空间姿态调节功能CP系列中图微纳米测量接触式台阶仪配备了精密XY位移台、360°电动旋转平台和电动升降Z轴，可对样品的XYZ、角度等空间姿态进行调节，提高测量精度及效率。CP系列中图微纳米测量接触式台阶仪单拱龙门式设计，结构稳定性好，而且降低了周围环境中声音和震动噪音对测量信号的影响，提高了测量精度。测量时通过使用2μm半径的金刚石针尖在超精密位移台移动样品时扫描其表面，测针的垂直位移距离被转换为与特征尺寸相匹配的电信号并最终转换为数字点云信号，数据点云信号在分析软件中呈现并使用不同的分析工具来获取相应的台阶高或粗糙度等有关表面质量的数据。性能特点1.亚埃级位移传感器具有亚埃级分辨率，结合单拱龙门式设计降低环境噪声干扰，确保仪器具有良好的测量精度及重复性；2.超微力恒力传感器 1-50mg可调，以适应硬质或软质样品表面，采用超低惯量设计和微小电磁力控制，实现无接触损伤的接触式测量；3.超平扫描平台系统配有超高直线度导轨，杜绝运动中的细微抖动，真实地还原扫描轨迹的轮廓起伏和样件微观形貌。典型应用台阶仪在太阳能光伏行业的应用台阶仪利用光学干涉原理，通过测量膜层表面的台阶高度来计算出膜层的厚度，具有测量精度高、测量速度快、适用范围广等优点。它可以测量各种材料的膜层厚度，包括金属、陶瓷、塑料等。针对测量ITO导电薄膜的应用场景，CP200台阶仪提供如下便捷功能：1）结合了360°旋转台的全电动载物台，能够快速定位到测量标志位；2）对于批量样件，提供自定义多区域测量功能，实现一键多点位测量；3）提供SPC统计分析功能，直观分析测量数值变化趋势；部分技术指标型号CP200测量技术探针式表面轮廓测量技术样品观察光学导航摄像头:500万像素高分辨率 彩色摄像机,FoV,2200*1700μm探针传感器超低惯量，LVDC传感器平台移动范围X/Y电动X/Y(150mm*150mm)(可手动校平)单次扫描长度55mm样品厚度50mm载物台晶圆尺寸150mm（6吋）,200mm（8吋）台阶高度重复性5 &angst , 量程为330μm时/ 10 &angst , 量程为1mm时（测量1μm台阶高度，1δ）尺寸（L×W×H）mm640*626*534重量40kg仪器电源100-240 VAC，50/60 Hz，200W使用环境相对湿度：湿度 （无凝结）30-40% RH温度：16-25℃ (每小时温度变化小于2℃)地面振动：6.35μm/s（1-100Hz）音频噪音：≤80dB空气层流：≤0.508 m/s（向下流动）恳请注意：因市场发展和产品开发的需要，本产品资料中有关内容可能会根据实际情况随时更新或修改，恕不另行通知，不便之处敬请谅解。