纳米光子学

多通道超导纳米线单光子探测系统赋同量子生产的SNSPD系统由超导纳米线单光子探测器、低温恒温系统和电子学模块三个部分组成，该系统具有以下特点：●采用小冷量风冷GM制冷机，无需液氦；●7×24小时不间断运行； ●高可靠性，已通过各种应用场合长期证； ●专业高效的技术支持； ●机柜式或桌面式集成。 参数细节探测通道数目：1-32；光学接口：FC/PC；电子学接口：SMA；工作环境：温度4℃-38℃；湿度≤60%；系统漏率：＜1E-10Pam3/s；重量：约100 kg；电源：单相220-230 V，50 Hz；功耗：≤ 1.3 kW；

QE85%超导纳米线单光子探测器所属类别： ? 探测器/光子计数器 ? 单光子计数器 产品简介QE85%超导纳米线单光子探测器 高量子效率85%,低暗计数10cps,高计数率20MHz 很新的超高效率超导纳米线单光子探测器，其在600nm-2300nm内达到高量子效率85%，暗计数10cps，同时zui高计数率20MHz，是目前市场上性能良好的超导单光子探测器，此型号超导纳米线单光子探测器可提供zui多8通道同时运行 超导单光子探测器， SSPD，SNSPD超导纳米线单光子探测器，单光子计数器， Superconducting Nanotechnology，红外单光子计数器，高灵敏度单光子计数器 技术指标：l 量子效率: ≥ 80 %l 时间抖动: ≤ 45 ps (20 ps on request)l 暗计数: ≤ 10 cps (0.01 cps on request)l 光谱范围: 0.6 ÷ 2.3 μml 无后脉冲l 光纤耦合l 连续模式 一般参数：l 探测通道数: 1-8l 光纤类型: SMF-28e l 原始输出电压: ≤ 150 mVl 输出信号类型: TTL, ECL, LVDSl 驱动接口: USB, LabVIEW 应用领域：l 光量子计算l 光子相关性测量l 量子密码和QKDl CMOS缺陷分析l α，β粒子探测l TCSPCl 单分子荧光光谱l 弹道成像l 单等离子体检测l 自由空间通信l LIDARl 时间分辨荧光测量l 单量子点荧光光谱l 片上量子光学l 单线态/三线态氧荧光探测l 皮秒集成电路分析l 单电子探测 相关产品 超低暗计数(0.01cps)超导单光子探测器 超高速（500MHz）超导单光子探测器 超快(120MHz)近红外单光子计数OEM模块 符合计数单光子计数系统

双光子聚合激光直写3D纳米光刻机MicroFAB-3D双光子聚合3D纳米光刻机是一款超紧凑、超高分辨率交钥匙型3D打印机。双光子聚合3D纳米光刻机基于双光子聚合(TPP)激光直写技术，兼容多种高分子材料，包括生物材料。MicroFAB-3D 3D纳米光刻机帮助您以亚微米的分辨率生产出前所未有的复杂的微部件，MicroFAB-3D的zui小特征尺寸可低至0.2um宽，为微流体、微光学、细胞培养、微机器人或元材料领域开辟了新的前景。MicroFAB-3D具有开放性和适应性，可以满足您的个性需求。双光子聚合激光直写3D纳米光刻机关键特性：较高的直写精度和分辨率(可达0.2um)（已有客户使用此设备实现低至67nm分辨率的结构）直写速度快兼容任何CAD模型和文件兼容广泛的聚合物，以及生物材料紧凑的设计适用于层流架适用于无菌、无尘室以及工业环境双光子聚合激光直写3D纳米光刻机核心优势：新的TPP切片工具复杂的3D结构下高直写速度三维微零件无形状限制适用于微部件、微流体、超材料、细胞培养、微机器人、微力学、组织工程、表面结构或任何你可能拥有的微制造理念的技术。双光子聚合激光直写3D纳米光刻机规格指标：双光子聚合激光直写3D纳米光刻机适用材料：我们为我们的双光子聚合激光直写3D纳米光刻机提供了10种zhuanli光刻胶，这些树脂的各种性能允许您探索许多应用领域。我们的系统可与各种商业上可用的光刻胶兼容，如Ormocomp, SU8, FormLabs树脂，NOA-line树脂，甚至水凝胶或蛋白质等。这些光刻胶可能是生物兼容的，甚至已被认证实现微型医疗设备。如果您想使用定制的、自制的聚合物，我们也可以帮助您调整系统以适应您的工艺。关于昊量光电昊量光电 您的光电超市！上海昊量光电设备有限公司致 力于引 进国 外创 新性的光电技术与可 靠产品！与来自美国、欧洲、日本等众多知 名光电产品制造商建立了紧 密的合作关系。代理品牌均处于相关领域的发展前 沿，产品包括各类激光器、光电调制器、光学测量设备、精 密光学元件等，所涉足的领域涵盖了材料加工、光通讯、生物医疗、科学研究、国 防及前沿的细分市场比如为量 子光学、生物显微、物联传感、精 密加工、激光制造等。我们的技术支持团队可以为国内前 沿科研与工业领域提 供完 整的设备安装，培训，硬件开发，软件开发，系统集成等优 质服务，助力中国智 造与中国创 造! 为客户提供适合的产品和提 供完 善的服务是我们始终秉承的理念！

QE60%超导纳米线单光子 探测器量子效率60%,低暗计数10cps,高计数率70MHz，只要有制冷腔，就能轻松安装 俄罗斯Scontel 蕞新推出的超导纳米线单光子探测器，只要有制冷腔，就能轻松安装,并且价格低廉，但是功能毫不差劲。其在600nm-2300nm内达到量子效率60%，暗计数10cps，同时计数率高达70MHz，是目前市场上性能优良的超导纳米线单光子探测器的。此型号超导纳米线单光子探测器可提供蕞多16通道同时运行，针对不同应用提供匹配的产品，可多通道同时探测及低成本升级，且可以根据您的不同需求我们不仅有如下图中探测性能的设备，还有多模大面积探测器、超低噪声探测器、光子数分辨探测器供您选择。超导纳米线单光子探测器主要特点：&bull 超高性价比，有制冷腔的选择&bull 针对不同应用提供匹配的产品 &bull 可多通道同时探测及低成本升级 &bull 产品安装/培训/升级全程服务超导纳米线单光子探测器技术指标： 根据需求不同我们可提供以下探测性能的搭配也可根据您的参数要求进行定制：高效检测(HED) -高系统效率和时间分辨率、低噪声、中等带宽的蕞佳组合。 超高效检测(U-HED) -改进的HED版本，运行温度更低，因此在所有参数方面具有更好的综合性能。 宽带宽检测（Broadband）-虽系统效率略有下降。但优化的光学腔增加了带宽低噪声检测（Low noise）-应用可变滤波技术将设备的暗计数率降低到每秒10次,探测器的光谱响应窄得多。超导纳米线单光子探测器应用领域：&bull 量子计算 &bull 光子相关性测量&bull 量子密码和QKD&bull cmos 缺陷分析&bull α，β粒子探测&bull tcspc &bull 单分子荧光光谱&bull 弹道成像&bull 单等离子体检测&bull 自由空间通信&bull LIDAR&bull 时间分辨荧光测量&bull 单量子点荧光光谱&bull 量子光学 &bull 单线态/三线态氧荧光探测&bull 皮秒集成电路分析关于昊量光电：上海昊量光电设备有限公司是光电产品专业代理商，产品包括各类激光器、光电调制器、光学测量设备、光学元件等，涉及应用涵盖了材料加工、光通讯、生物医疗、科学研究、国防、量子光学、生物显微、物联传感、激光制造等；可为客户提供完整的设备安装，培训，硬件开发，软件开发，系统集成等服务。

JK-JG9000光子相关纳米粒度仪JK-JG9000光子相关纳米粒度仪新一代激光纳米粒度仪，采用动态光散射原理的纳米粒度仪。其测量原理建立在分散在液体颗粒的布朗运动基础之上，颗粒越小，运动速度越快，颗粒越大，运动速度越慢。它采用HAMAMATSU高性能光电倍增管和我公司自主研制的高速数字相关器作为核心器件，通过测试某一角度的散射光的变化并求出自相关函数（即扩散系数），根据Stokes-Einstein方程计算出颗粒粒径及分布。它具有快速、高分辨率、重复及准确等特点，同时还具有不破坏、不干扰纳米颗粒体系原有状态的优点，是纳米颗粒粒度测试的优选产品。JK-JG9000光子相关纳米粒度仪性能特点先进的测试原理 该仪器采用动态光散射原理，其测试方法具有不破坏、不干扰纳米颗粒体系原有状态的特点，从而保证了测试结果的真实性和有效性；高灵敏度与信噪比 核心部件采用我公司自主研制CR256数字相关器，它实时完成动态散射光强的采集和自相关函数运算，从而有效地反映不同大小颗粒的动态光 散射信息，为测试结果的准确度奠定基础；稳定的光路系统 采用光纤技术搭建而成的光路系统，使光子相关谱探测系统不仅体积小，而且具有很强的抗干扰能力，从而保证了测试的稳定性；高精度恒温控制系统 采用半导体温控技术，温控精度高达±0.2℃，使样品在整个测试过程中始终处于恒温状态，避免温度变化而引起液体黏度及布朗运动速度变化导致的测试偏差，保证测试结果准确度及稳定性。JK-JG9000光子相关纳米粒度仪技术参数测试范围1-10000nm（与样品有关）浓度范围0.1mg/ml--100mg/ml（与样品有关）准确度误差1%（国家标准样品D50值）重复性误差1%（国家标准样品D50值）激光光源光纤半导体激光器，λ= 532nm，使用寿命：25000H探测器光电倍增管（PMT）散射角90o样品池体积4mL温控范围5-40?℃（精确到0.1℃）测试速度5 Min体积480mm*270mm*170mm重量12Kg

EVG系列纳米压印设备之紫外纳米压印：600 一、 简介 EVG公司成立于1980年，公司总部和制造厂位于奥地利，在美国、日本和台湾设有分公司，并在其他各地设有销售代理及售后服务部，产品和服务遍及世界各地。EVG公司是一家致力于半导体制造设备的全球供应商，其丰富的产品系列包括：涂胶和喷胶/显影机/热板/冷板、掩模版光刻/键合对准系统、基片热压键合/低温等离子键合系统、基片清洗机、基片检测系统、SOI 基片键合系统、基片临时键合/分离系统、纳米压印系统。目前已有数千台设备安装在世界各地，被广泛地应用于MEMS微机电系统/微流体器件，SOI基片制造，3D封装，纳米压印，化合物半导体器件和功率器件等ling 域。EVG是世界上为数不多的可以商业化纳米压印设备的著ming公司，可为客户提供完整的纳米压印方案，包括热压印、紫外压印、微接触印刷。EVG公司以其专利的极其优异的对准技术和世界ling 先的热压技术为纳米压印的成功实施打下了坚实的基础。EVG620紫外纳米压印用于从印章到衬底的紫外图形转移。EVG620自动纳米压印系统允许衬底和印章的尺寸从很小的芯片到150mm直径的圆片范围。用于纳米技术应用的配置包括印章机械释放、程序控制高或低的接触压力。EVG独有的吸盘设计支持软印章和硬印章压印，可以保证大面积纳米压印的均匀压力，从而保证获得很高的良率。 二、应用范围纳米压印技术主要应用于如下方面：LEDS 制作，LED PSS纳米压印工艺，LED纳米透镜阵列；微流体学；芯片实验室；抗反射层； 纳米压印光栅； 莲花效应；光子带隙；光学及通讯：光晶体，激光器件；生物技术解决方案：医药分析，血液分析，细胞生长。三、主要特点u 适用于紫外纳米压印和微接触印刷；u 紫外光曝光；u 配备专用的紫外纳米压印工具；u 适于软或硬印章压印；u 适用衬底：Si，玻璃，化合物半导体； 四、技术参数亚科电子设备咨询电话：（微信同号）；欢迎您的来电咨询！

纳米力学和纳米摩擦学测试的一大飞跃Bruker’s Hysitron TI 980 TriboIndenter海思创TI 980 TriboIndenter纳米压痕仪是布鲁克zui先进的纳米力学测试设备，同时具有zui高的性能、灵活性、可信度、实用性和速度。TI 980纳米压痕仪是布鲁克著ming的海思创纳米压痕设备的新一代产品。它建立在几十年的技术创新上，提供了纳米力学和纳米摩擦学表征领域全新水平的非凡性能、能力和功能。 让您时刻保持在材料探索和发展前沿采用布鲁克的Performech II先进控制模块，TI 980纳米压痕仪在控制能力、测试通量、测试灵活性、适用性、灵敏度、可信度和系统模块化等方面有了显著的进步。TI 980包含以下多种强有力的功能：纳米压痕与微米压痕、纳米划痕、纳米摩擦磨损、高分辨原位扫描探针显微镜成像、动态纳米压痕和高速机械性能成像。这些测试功能有助于全面理解材料纳米尺度下的行为。 简易高速的自动化海思创TI 980提供了高通量表征所需的快速、多样品和多技术自动测试能力。它可以按照设定时间间隔自动验证针尖形状，还可以实现多尺度下的高分辨成像和全样品光学扫描。 不会过时的表征潜力鉴于将来会出现不同与今日的表征需求，TI 980纳米压痕仪被设计为具有zui好的灵活性。TI 980支持大量集成和具有相关性的纳米力学表征技术，使您时刻保持在材料研发前沿。集成多种系统控制模块和数据分析软件、通用样品固定选项（机械、磁性和真空）和模块化环境腔，TI 980也适用于您将来的表征需求。 纳米力学测试设备Bruker’s TI 950 TriboIndenter海思创TI 950 TriboIndenter纳米压痕仪是布鲁克一台用于多种纳米力学和纳米摩擦学表征的自动化、高通量测试设备。海思创TI 950纳米压痕仪集成了强大的Preformech I先进控制模块，显著提高了纳米力学测试反馈控制的准确度，提供了空前的低噪音水平。结合布鲁克的大量纳米力学测试技术和正在研发的测试方法，TI 950 TriboIndenter 是一台多功能和极其高效的纳米力学测试系统，适用于广泛的应用。 优异的控制反馈和灵敏度布鲁克先进的反馈控制算法和测量灵敏度为所有海思创纳米力学测试技术提供了精确的控制。海思创TI 950上所有的反馈控制功能都基于集成了数据信号处理器（DSP）和现场可编程门阵列（FPGA）的专业控制系统，用于精确实现用户的测试需求。 电容传感器技术专业的电容传感器技术提供了纳米压痕过程中前所未有的测量灵敏度（30nN, 0.2nm），准确性和可信度。静电激励模式使用微小电流，具有zui好的温漂性能，从而实现更快的数据采集，更高的精度和更好的重复性。集成原位扫描探针成像的高分辨光学系统海思创TI 950集成了带彩色CCD相机的光学系统，用于高放大倍数下的样品表面观察和测试位置选择。原位扫描探针成像系统能提供更精确的测试位置选择（±10nm）。TI 950的这种双模式成像设计实现了许多应用对精确控制测试位置的需求。 Hysitron TI Premier实现定量纳米力学研究布鲁克的海思创TI Premier系列被专门设计为在紧凑平台上实现领xian的定量纳米力学表征。基于已被广泛认可的先进技术，海思创TI Premier提供了纳米力学和纳米摩擦学测试的核心工具。除了使用不同配置的海思创TI Premier实现不同领域的研究测试外，TI Premier还提供了大量升级选项，用于满足将来的多种潜在测试需求。Contact Us Download Brochure 海思创TI Premier可满足不同研发需要。常用的配置选项包括： 准静态纳米压痕 多功能设计，针对薄膜和涂层力学性能表征优化 动态纳米压痕 适用于从超软到超硬的各种材料的准静态和动态力学系能表征 高温纳米压痕 研究不同温度下（高达800℃）材料的力学性能和时间依赖形变行为 多尺度压痕 实现从纳米到微米尺度的压痕测试

非线性纳米光波导OCTave Photonics提供了封装的非线性纳米光波导，用于产生脉冲激光器的超连续介质。这些非线性纳米光波导可实现即插即用的低脉冲能量以及产生宽频带超连续光谱。超连续谱的产生允许将窄带宽的脉冲激光器扩大到先前带宽的许多倍。宽带宽对于许多应用至关重要，包括光谱学和频率梳的自参考。纳米光子波导具有比非线性光纤低得多的脉冲能量的超连续谱，并提供对输出光谱形状的控制。非线性纳米光波导的特征：保偏光纤准直自由空间输出密封主动温度稳定多瓦级功率处理非线性纳米光波导的参数：规格SC-1560-780SC-Custom输入脉冲波长~1560 nm~1000 to 2000 nm输入脉冲能量150 pJ100 pJ输出光谱范围~750 to 2000 nmCustomizable色散波峰值780 nm可定制，600至2500nm输入PM1550 fiberPM Fiber输入连接器FC/APCFC/APC，FC/PC输出PM780 fiber光纤或自由光输出输出连接器FC/APC光纤或透镜尺寸50x25x12 mm可定制平均功率2 Watts4Watts操作温度-20 to 60 ℃0 to 40 ℃非线性纳米光波导的组合产品及应用：（1）激光频率梳的f-2f自参考COSMO主要特征：输入波长：~1560 nm输入脉冲能量：200 pJ输入：PM1550光纤输出：SMA连接器尺寸：~40x25x15 毫米CEO 信噪比：35 dB COSMO通过光纤连接器(FC/APC或类似的连接器)连接激光器，并提供可连接到梳状稳定电子器件的电输出。脉冲必须在COSMO盒的入口被压缩，因此必须使用适当长度的光纤和/或色散补偿光纤。此外，对输入脉冲能量的控制可以优化fCEO信号的信噪比。COSMO产品参数：规格COSMO输入脉冲波长~1560nm输入脉冲能量200 pJ输入PM 1550 Fiber输入连接器FC/APC输出接线盒尺寸40x25x15 mm大平均功率3Watts操作温度0 to 40 ℃CEO峰值的信噪比35 dB（2）电光频率梳 Octave Photonics的EO梳是高度可定制的，取决于所需的输出。在完整形式中，基础EO梳与放大器、色散补偿器相结合，提供1 ps脉冲，然后通过光学滤波腔产生低噪声脉冲序列。然后这些脉冲进入脉冲压缩器，在那里它们的持续时间减少到100秒。从而，在纳米光子波导中产生的超连续谱产生了一个跨越倍频的谱，该谱用于EO梳的f-2f自参考和稳定载波-包络偏移频率。Octave Photonics还可以帮助集成EO梳与应用程序。电光频率梳的特征：具有均匀分布的光学频率的光谱。大带宽上的光谱相干性。5 到 30 GHz 之间的重复率光输出功率高达 5 瓦脉冲持续时间短至 20 fs电光频率梳的参数：型号基础款扩充款重复频率5-30 GHz5-30 GHz中心波长1550nm1550nm输出功率5Watts5Watts脉冲时间0.8-1.5ps20fs尺寸0.65×0.3×0.2m2×1×0.5m(上图)EO基础梳的频谱，可见10 GHz梳齿。(右)绿色和蓝色的线显示了在纳米光子波导中展宽后的EO梳状谱其他应用：非线性集成光子学、光学原子钟、探测系外行星关于昊量光电昊量光电 您的光电超市！上海昊量光电设备有限公司致力于引进国外创新性的光电技术与可靠产品！与来自美国、欧洲、日本等众多知名光电产品制造商建立了紧密的合作关系。代理品牌均处于相关领域的发展前沿，产品包括各类激光器、光电调制器、光学测量设备、精密光学元件等，所涉足的领域涵盖了材料加工、光通讯、生物医疗、科学研究、国防及前沿的细分市场比如为量子光学、生物显微、物联传感、精密加工、激光制造等。我们的技术支持团队可以为国内前沿科研与工业领域提供完整的设备安装，培训，硬件开发，软件开发，系统集成等优质服务，助力中国智造与中国创造! 为客户提供适合的产品和提供完善的服务是我们始终秉承的理念！您可以通过我们昊量光电的官方网站了解更多的产品信息，或直接来电咨询，我们将竭诚为您服务。

NIL TECHNOLOGY Aps (NILT) 位于丹麦的哥本哈根市的丹麦技术大学(TECHNICAL UNIVERSITY OF DENMARK）校园里，是一家专门从事纳米光学、纳米结构制作和纳米压印设备制作的公司，公司与的丹麦国家微纳米实验中心(Danchip)是“合作伙伴”关系，并享有共同的超净设备和研发技术成果，公司同时从事欧盟诸多纳米制作项目的研发，并拥有多位教授和博士后团队。NILT 开发的CNI系列 实验室用台式纳米热压印机是专为实验室和研发机构设计和开发的简单易用、性能稳定的研发型设备，用户可以通过CNI设备高效、低成本地实现高精度的纳米热压工艺，许多知名的研发机构均购买了CNI的设备。Nano Fabriction Solution 技术方案已在多个领域为用户提供基于纳米技术的行业解决方案，包括： * LED纳米压印解决方案：LEDS 制作，LED PSS纳米压印工艺，LED纳米透镜阵 *μ-Fluidics 纳米应用流体学 * Lab-On-A-Chip 微流控纳米应用 *Anti-Reflection 抗反射纳米应用*Wire Grid Polarizer 纳米压印光栅 * Lotus Effect 莲花效应 *Photonic Band Gap （PBG) 光子带隙 *光学及通讯: 光晶体，激光器件 *LOC解决方案 *生物技术解决方案: 医药分析，血液分析，细胞生长

纳米压印设备之紫外纳米压印：EVG600系列 一、 简介 EVG公司成立于1980年，公司总部和制造厂位于奥地利，在美国、日本和台湾设有分公司，并在其他各地设有销售代理及售后服务部，产品和服务遍及世界各地。EVG公司是一家致力于半导体制造设备的全球供应商，其丰富的产品系列包括：涂胶和喷胶/显影机/热板/冷板、掩模版光刻/键合对准系统、基片热压键合/低温等离子键合系统、基片清洗机、基片检测系统、SOI 基片键合系统、基片临时键合/分离系统、纳米压印系统。目前已有数千台设备安装在世界各地，被广泛地应用于MEMS微机电系统/微流体器件，SOI基片制造，3D封装，纳米压印，化合物半导体器件和功率器件等ling 域。EVG是世界上为数不多的可以商业化纳米压印设备的著ming公司，可为客户提供完整的纳米压印方案，包括热压印、紫外压印、微接触印刷。EVG公司以其专利的极其优异的对准技术和世界ling 先的热压技术为纳米压印的成功实施打下了坚实的基础。EVG620紫外纳米压印用于从印章到衬底的紫外图形转移。EVG620自动纳米压印系统允许衬底和印章的尺寸从很小的芯片到150mm直径的圆片范围。用于纳米技术应用的配置包括印章机械释放、程序控制高或低的接触压力。EVG独有的吸盘设计支持软印章和硬印章压印，可以保证大面积纳米压印的均匀压力，从而保证获得很高的良率。 二、应用范围纳米压印技术主要应用于如下方面：LEDS 制作，LED PSS纳米压印工艺，LED纳米透镜阵列；微流体学；芯片实验室；抗反射层； 纳米压印光栅； 莲花效应；光子带隙；光学及通讯：光晶体，激光器件；生物技术解决方案：医药分析，血液分析，细胞生长。三、主要特点u 适用于紫外纳米压印和微接触印刷；u 紫外光曝光；u 配备专用的紫外纳米压印工具；u 适于软或硬印章压印；u 适用衬底：Si，玻璃，化合物半导体； 四、技术参数设备咨询电话：欢迎您的来电咨询！

梓梦科技动态光散射纳米粒度及zeta电位分析仪原理当激光照射到分散于液体介质中的微小颗粒时，由于颗粒的布朗运动引起散射光的频率偏移，导致散射光信号随时间发生动态变化，该变化的大小与颗粒的布朗运动速度有关，而颗粒的布朗运动速度又取决于颗粒粒径的大小，颗粒大布朗运动速度低，反之颗粒小布朗运动速度高，因此动态光散射纳米粒度及zeta电位分析仪技术是分析样品颗粒的散射光强随时间的涨落规律，使用光子探测器在固定的角度采集散射光，通过相关器进行自相关运算得到相关函数，再经过数学反演获得颗粒粒径信息。动态光散射纳米粒度及zeta电位分析仪性能特点1、高效的光路系统：采用固体激光器和一体化光纤技术集成的光路，充分满足空间相干性的要求，极大地提高了散射光信号的信噪比。2、高灵敏度光子探测器：采用计数型光电倍增管或雪崩光电二极管，对光子信号具有极高的灵敏度和信噪比； 采用边沿触发模式对光子进行计数，瞬间捕捉光子脉冲的变化。3、大动态范围高速光子相关器：采用高、低速通道搭配的结构设计光子相关器，有效解决了硬件资源与通道数量之间的矛盾，实现了大的动态范围，并保证了相关函数基线的稳定性。4、高精度温控系统：基于半导体制冷技术，采用自适应PID控制算法，使样品池温度控制精度达±0.1℃。5、数据筛选功能：引入分位数检测异常值的方法，鉴别受灰尘干扰的散射光数据，并剔除异常值，提高粒度测量结果的准确度。6、优化的反演算法：采用优拟合累积反演算法计算平均粒径及多分散系数，基于非负约束正则化算法反演颗粒粒度分布，测量结果的准确度和重复性都优于1%。纳米粒度及zeta电位分析仪测量纳米粒度及zeta电位分析仪是表征分散体系稳定性的重要指标zeta电位愈高，颗粒间的相互排斥力越大，胶体体系愈稳定， 因此通过电泳光散射法测量zeta电位可以预测胶体的稳定性。动态光散射纳米粒度及zeta电位分析仪原理带电颗粒在电场力作用下向电极反方向做电泳运动，单位电场强度下的电泳速度定义为电泳迁移率。颗粒在电泳迁移时，会带着紧密吸附层和部分扩散层一起移动，与液体之间形成滑动面，滑动面与液体内部的电位差即为zeta电位。Zeta电位与电泳迁移率的关系遵循 Henry方程，通过测量颗粒在电场中的电泳迁移率就能得出颗粒的zeta电位。纳米粒度及zeta电位分析仪性能特点1.利用光纤技术集成发射光路和接收光路，替代传统电泳光散射的分立光路，使参考光和散射光信号的传输不受灰尘和外界杂散光的干扰，有效地提高了信噪比和抗干扰能力。2.先对散射光信号进行频谱预分析，获取需要细化分析的频谱范围，然后在窄带范围内进行高分辨率的频谱细化分析，从而获得准确的散射光频移。3.基于双电层理论模型，求解颗粒的双电层厚度，获得准确的颗粒半径与双电层厚度的比值，再利用小二乘拟合算法获得精确的Henry函数表达式，进而有效提高了纳米粒度及zeta电位分析仪的计算精度。Henry函数的取值：当双电层厚度远远小于颗粒的半径，即ka1，Henry函数近似为1.5。双电层厚度远远大于颗粒半径时，即ka1，Henry函数近似为1.0。使用小二乘曲线拟合算法对Wiersema计算的精确Henry函数值进行拟合， 得到优化Henry函数表达式.强大易用的控制软件ZS-920系列纳米粒度及zeta电位分析仪的控制软件具有纳米颗粒粒度和zeta电位测量功能，一键式测量，自动调整散射光强， 无需用户干涉，自动优化光子相关器参数，以适应不同样品，让测量变得如此轻松。控制软件更具有标准化操作(SOP)功能，让不同实验室、不同实验员间的测量按照同一标准进行，测量结果更具有可比性。测量完成自动生成报表，以可视化的方式展示测量结果，让测量结果一目了然。动态光散射纳米粒度及zeta电位分析仪的技术指标

TERA Fab M系列是商业化的PPL聚合物笔纳米制造工具, 此技术也叫DPN(Dip Pen Nanolithography)蘸笔纳米加工系统或浸蘸笔纳米加工刻蚀技术(美国NanoInk公司)，是基于无悬臂扫描探针打印技术, 无需掩膜板即可在超过平方厘米的区域内, 使用多种材料和衬底上进行优于100nm高分辨图形化沉积打印 使用同一设备可获得纳米, 微米以及宏观尺度的特征尺寸, 自定义软件允许生成感兴趣的图形 可应用于纳米粒子合成、蛋白阵列、单细胞排布、纳米电路构造、生物芯片、化学检测、微尺度催化反应、分子马达等领域 更多详细资料请联系TERA中国区官方授权商：溢鑫科创。典型的应用包括：*研究单个细胞*使用DNA、蛋白质、肽或碳水化合物阵列*微流控或微纳电子功能器件的制备*图案化水凝胶*高定域光化学*合成和发现用于催化、光子学或治疗学应用的新纳米材料*其他高密集高分辨的微纳米器件制造

HOLITH界面光刻技术----“纳米压印友好伴侣” HOLITH界面光刻装置使用两束干涉激光在光界面上形成周 期性光栅和点/孔图案。 HOLITH纳米成像系统具有新型力 学，光学和电学设计，可在200nm-2μm的周期性范围内于4 英寸晶片上做出纳米结构图案，图案最小形貌可低50nm。 最先进的HOLITH专利技术可使用户仅通过简单的鼠标点击操 作便能作出100nm以下尺寸的高品质高均一性线性光栅和 2D/3D图像。在HOLITH界面光刻装置中无需使用遮罩和模 具。 优势： 无遮罩过程：低成本、多功能、可伸缩 计算机系程序自动化光学结构和排列控制 简单操作，无需光学培训 相比遮罩定位器系统成本更低 200nm范围内具有高分辨率 最低特征尺寸小于50nm 无需遮罩及模具 可以制作大面积2D/3D纳米压印模具（4/6英寸） 可以操作不平整晶片 周期精度：+-2.5% All-fiber-optic setup replacing free- space optical components Special optical fiber delivers light from laser Fiber-optic beam splitter splits the laser beam into two coherent beams Output port of the fiber performs spatial filtering Close-loop feedback control stabilizing interference pattern 低成本、不受环境因素干扰，使自动化成为可能：自由改变入射角度调整模式周期。 Holith 纳米图案化结构 应用：能源 太阳能电池抗反射结构 太阳能电池光子操纵 LEDs灯管中的光提取 图案化蓝宝石基板(PSS) 光学器件 1-D和2-D光栅光谱 大范围等离子体结构 光子晶体 超颖表面 高对比度光栅过滤器和反射器 亚波长和衍射光学器件计量光栅结构化的颜色材 料 超疏水/亲水表面 诱导自组装 表面增强拉曼荧光 生物医学传感器纳米装配纳米压印磨具装配先进纳米装配过程开发

Obducat公司成立于1989年，总部位于瑞典隆德，旋涂分公司位于德国拉多尔夫采尔。2000年，Obducat成为全球首家将纳米压印技术商业化的公司，拥有NIL安装基地。公司拥有SPT软压、STU紫外及热同时压印和IPS(TM)中间聚合物模版等技术。作为全球优质的纳米压印设备提供商，不断为全球的公司和科研院校提供可行、低成本、高效益的纳米压印生产及科研的全套解决方案。在发展和生产下一代的电子消费产品如：相机CMOS传感器、各种硬盘、存储介质、高亮度LED、平板显示器和下一代蓝光光盘等方面推波助澜。纳米压印技术NIL(NanoImprint Lithography technology）类似于古代的印章，是一项图形转移和复制技术。1995年，普林斯顿大学纳米结构实验室Stephen Y.Chou教授通过机械力在涂有高分子材料的硅基板上等比例压印复制了模版上的纳米图案，其加工分辨率只与模版图案尺寸有关，而不受光刻最短曝光波长的物理限制，由此引出纳米压印技术。纳米压印示意图纳米压印流程图 传统光刻技术是利用电子和光子改变光刻胶的物理化学性质，进而得到相应的纳米图形。NIL技术却可以不使用电子和光子，直接利用物理机理机械地在光刻胶上构造纳米尺寸图形。目前NIL技术已经可以制作线宽在5nm以下的图案。鉴于其技术优势，NIL可应用于微电子器件、信息存储器件、微反应器、微/纳机电系统、传感器、微/纳流控器件、生物医用界面、光学及光子学材料等众多领域。 纳米压印技术的应用领域The EITRE Nano Imprint Lithography (NIL) Systems offer a manual and affordable lithography solution, allowing pattern replication in the micro- and nanometer range. The embedded SoftPress technology ensures excellent residual layer thickness control across the entire imprint area, enabling an accurate pattern transfer.FULL AREA IMPRINT SOFTPRESS TECHNOLOGY USER-FRIENDLY INTERFACE MULTIPLE IMPRINT PROCESS CAPABILITY WIDE RANGE OF CONFIGURATION POSSIBILITIESSUB-20NM RESIDUAL LAYER THICKNESS

武汉东隆科技为美国Quantum Opus的中国区独家代理，欢迎您来电垂询！Opus One 超导纳米线探测器系统Opus One™ 超导纳米线探测器系统配有定制的紧凑型桌面低温恒温器（预先安装的16/32通道以及低温恒温器中的所有电接线），光学实验室友好型水冷压缩机（低空气循环，低噪声，低热量输出），偏置和高速放大器电子元件以及易于使用的软件控制库。 专有的纳米线材料允许纳米线工作在 2K，降低低温系统的复杂性，并允许系统连续工作3年。Opus One 是基于超导纳米线技术的单光子探测器，在1550 nm的探测效率高达85 %，通过对谐振腔的调节 ， 可以将提供特殊设计、订购和组装。700~1300 nm指定波长的探测效率提高到90%。除此之外，该探测器还拥有极低的暗噪声和超快的时间分辨率， 计数率高达40Mcps。产品特点 工作温度在2.5k即可达到高探测效率支持定制规格支持定制宽波段响应3U 紧凑化设计低噪声水冷压缩机2um以上红外响应定制 产品应用 量子光学量子计算量子密钥通信低通量生物光子学荧光测量参数 * 可定制更高探测效率850nm 950nm 1310nm 1550nm SDE 90%90% 80%*80%*暗计数率 1Hz 1Hz10Hz100Hz时间抖动 80ps80ps 100ps100ps脉冲幅值 600mV600mV300mV300mV死时间 50ns50ns50ns50ns

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动态光散射纳米粒度及zeta电位分析仪原理当激光照射到分散于液体介质中的微小颗粒时，由于颗粒的布朗运动引起散射光的频率偏移，导致散射光信号随时间发生动态变化，该变化的大小与颗粒的布朗运动速度有关，而颗粒的布朗运动速度又取决于颗粒粒径的大小，颗粒大布朗运动速度低，反之颗粒小布朗运动速度高，因此动态光散射纳米粒度及zeta电位分析仪技术是分析样品颗粒的散射光强随时间的涨落规律，使用光子探测器在固定的角度采集散射光，通过相关器进行自相关运算得到相关函数，再经过数学反演获得颗粒粒径信息。动态光散射纳米粒度及zeta电位分析仪性能特点1、高效的光路系统：采用固体激光器和一体化光纤技术集成的光路，充分满足空间相干性的要求，极大地提高了散射光信号的信噪比。2、高灵敏度光子探测器：采用计数型光电倍增管或雪崩光电二极管，对光子信号具有极高的灵敏度和信噪比； 采用边沿触发模式对光子进行计数，瞬间捕捉光子脉冲的变化。3、大动态范围高速光子相关器：采用高、低速通道搭配的结构设计光子相关器，有效解决了硬件资源与通道数量之间的矛盾，实现了大的动态范围，并保证了相关函数基线的稳定性。4、高精度温控系统：基于半导体制冷技术，采用自适应PID控制算法，使样品池温度控制精度达±0.1℃。5、数据筛选功能：引入分位数检测异常值的方法，鉴别受灰尘干扰的散射光数据，并剔除异常值，提高粒度测量结果的准确度。6、优化的反演算法：采用优拟合累积反演算法计算平均粒径及多分散系数，基于非负约束正则化算法反演颗粒粒度分布，测量结果的准确度和重复性都优于1%。纳米粒度及zeta电位分析仪测量纳米粒度及zeta电位分析仪是表征分散体系稳定性的重要指标zeta电位愈高，颗粒间的相互排斥力越大，胶体体系愈稳定， 因此通过电泳光散射法测量zeta电位可以预测胶体的稳定性。动态光散射纳米粒度及zeta电位分析仪原理带电颗粒在电场力作用下向电极反方向做电泳运动，单位电场强度下的电泳速度定义为电泳迁移率。颗粒在电泳迁移时，会带着紧密吸附层和部分扩散层一起移动，与液体之间形成滑动面，滑动面与液体内部的电位差即为zeta电位。Zeta电位与电泳迁移率的关系遵循 Henry方程，通过测量颗粒在电场中的电泳迁移率就能得出颗粒的zeta电位。纳米粒度及zeta电位分析仪性能特点1.利用光纤技术集成发射光路和接收光路，替代传统电泳光散射的分立光路，使参考光和散射光信号的传输不受灰尘和外界杂散光的干扰，有效地提高了信噪比和抗干扰能力。2.先对散射光信号进行频谱预分析，获取需要细化分析的频谱范围，然后在窄带范围内进行高分辨率的频谱细化分析，从而获得准确的散射光频移。3.基于双电层理论模型，求解颗粒的双电层厚度，获得准确的颗粒半径与双电层厚度的比值，再利用小二乘拟合算法获得精确的Henry函数表达式，进而有效提高了纳米粒度及zeta电位分析仪的计算精度。Henry函数的取值：当双电层厚度远远小于颗粒的半径，即ka1，Henry函数近似为1.5。双电层厚度远远大于颗粒半径时，即ka1，Henry函数近似为1.0。使用小二乘曲线拟合算法对Wiersema计算的精确Henry函数值进行拟合， 得到优化Henry函数表达式.强大易用的控制软件ZS-920系列纳米粒度及zeta电位分析仪的控制软件具有纳米颗粒粒度和zeta电位测量功能，一键式测量，自动调整散射光强， 无需用户干涉，自动优化光子相关器参数，以适应不同样品，让测量变得如此轻松。控制软件更具有标准化操作(SOP)功能，让不同实验室、不同实验员间的测量按照同一标准进行，测量结果更具有可比性。测量完成自动生成报表，以可视化的方式展示测量结果，让测量结果一目了然。动态光散射纳米粒度及zeta电位分析仪的技术指标

室温纳米精度位移台-attoECS 德国attocube公司是上著名的端环境纳米精度位移器制造商，其生产的位移器以稳定而优异的性能，原子定位精度，纳米位移步长和厘米位移范围受到科学家的肯定和赞誉。attoECS系列纳米位移台在提供高精度位移控制的同时，保证了优异而高的稳定性能，适用于室温、大气到超高真空环境中，负载可达几公斤，行程达到50mm，小步长50nm，配备的光学位移传感器可将位移精度控制到10nm，提供多维度位移功能。attoECS位移台应用领域加速器及同步辐射计量测量学半导体空间科学attoECS位移台特点+ 在厘米的行程范围内，达到纳米高精度位移控制+ 高的机械稳定性+ 位移驱动电压45V，无需高压屏蔽+ 10nm位移精度，+/-200nm位移重复性，0.01% 精度+ 特殊材质，兼容各种光学实验环境和超高真空环境+ 快速样品更换装置设备型号ECS系列纳米位移台ECS系列线性位移器采用闭环（/NUM光栅式反馈）或开环控制，典型单步位移步长为： 50nm。位移范围大为：50mm。位移器尺寸小为：30X30 mm。负载大24Kg。 线性纳米精度位移台型号尺寸mm3(长宽高)步长行程(mm)载重(N)ECSx303030x30 9.550nm2090ECSx3030/NUMECSx304030x40 9.550nm25120ECSx3040/NUMECSx305030x50 9.550nm30150ECSx3050/NUMECSx306030x60 9.550nm35180ECSx3060/NUMECSx307030x70 9.550nm40210ECSx3070/NUMECSx308030x80 9.550nm50240ECSx3080/NUMECSx505050x50 9.550nm30150ECSx5050/NUMECSxy505050x50 16.450nm25x25150ECSxy5050/NUMECSz505050x50 3230nm88ECSz5050/NUMECR系列旋转台ECR系列旋转台技术参数表ECR系列旋转器采用闭环（/NUM光栅式反馈）或开环控制，典型步长为： 0.4m°。可360度连续旋转。旋转台尺寸小为：30 mm × 30 mm。负载大2Kg。 高精度旋转台型号尺寸mm3(长宽高)步长行程 载重(N)ECR3030 30x30 13.50.4m°360度（连续旋转）20ECR3030/NUMECR4040 40x40 14.50.2m°360度（连续旋转）20ECR4040/NUMECR5050hs 50x50 13.50.2m°360度（连续旋转）20ECR5050hs/NUM ECG系列倾角台ECG系列倾角台技术参数表ECG系列倾角台采用闭环（/NUM光栅式反馈）或开环控制，典型步长为： 0.4m°。倾角范围：10°。倾角台尺寸为：50 mm × 50 mm。负载大1000g。 高精度倾角台型号尺寸mm3(长宽高)步长行程载重(N)ECGt505050x50 170.1m°10°10ECGt5050/NUMECGp505050x50 170.1m°10°10ECGp5050/NUM应用案例■ attocube纳米位移台在大尺寸昆虫自然色三维高分辨率成像的应用 关键词：高分辨三维成像； 纳米精度位移台； C-SIM高分辨率三维成像技术在生物领域已经有非常多的应用。然而，当研究大型标本时，如厘米大小的昆虫，现有的三维成像工具往往非常耗时。此外，大多数3D成像系统无法得到标本的自然颜色信息。为了突破现有3D成像的局限性，中国科学院西安光学精密机械研究所瞬态光学与光子技术重点实验室姚保利课题组出了一种基于结构照明的方法，能够提供大的视场三维图像方法。采用这种方法，获得了580nm横向分辨率的自然彩色全尺寸昆虫的三维图像和三维形态数据。这种方法提供了一种很有前景的方法，可以用在不同类型的昆虫学研究，包括分类学、进化学、仿生学，发育生物学、功能形态学、古生物学、林业等。实验采用全新设计的彩色结构化照明显微镜（C-SIM），C-SIM中集成了德国attocube 的纳米精度位移台ECS3040（行程为25mm，分辨率1nm，精度50nm），这也是能够得到纳米分辨率的三维全彩图像的关键。 两种中华虎的三维成像结果 参考文献Vol. 27, No. 4 | 18 Feb 2019 | OPTICS EXPRESS 4845用户单位attocube公司产品以其稳定的性能、高的精度和良好的用户体验得到了国内外众多科学家的认可和肯定，在全球范围内有超过了130多位低温强磁场显微镜用户。attocube公司的产品在国内也得到了低温、超导、真空等研究领域著名科学家和研究组的欢迎......国内部分用户北京大学中国科技大学中科院物理所中科院武汉数学物理所中科院上海应用技术物理研究所复旦大学清华大学南京大学中科院半导体所上海同步辐射中心北京理工大学哈尔滨工业大学中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所… … 国外部分用户

滚筒式纳米压印机产品负责人：姓名：谷工(Givin)电话：（微信同号）邮箱：滚筒式纳米压印机HoloPrint uniA6 DT是一种负担得起的、便携的、易于使用的桌面设备，用于实验室尺度的纳米压印光刻工作。这款滚筒式纳米压印机是快速成型、测试和表征结构性能、光固化树脂和印迹材料的完美设备。典型的应用范围包括印刻、芯片实验室、衍射光学元件和其他纳米印刻结构。HoloPrintuniA6 DT在其自身的保护环境中工作，因此，洁净室所需的投资可以分配到其他地方。滚筒式纳米压印机HoloPrintuniA6 DT是由Stensborg公司的工程师开发的，与占行业主导地位的传统纳米压印工具相比，它是一种体积更小、成本更有竞争力的辊-板压印机。由于有接触区，我们的辊到板零工艺利用可调的压印力，以大限度地减少材料收缩，同时减少气泡问题。我们的专利NIP工艺也降低了对基材一致性的需求，从而降低了成本，提高了成品率。这款桌面式纳米压印机NIL不仅具有很好的性价比，而且呈现出很高的生产潜能。据测量这款滚筒式纳米压印机的的产量高达60片/晶圆每小时。原型设计研发的理想设备滚筒式纳米压印机HoloPrint uniA6 DT支持“快速失败”哲学思想，这将加速您的开发过程周期。通过快速测试新设计，它允许开发周期的快速迭代，因此，它是原型设计的完美设备。它使您能够试验和测试许多压印技术，正确类型的光固化树脂，以及处理参数，如压力，速度，和光强度，以表征重要的参数，然后规模化生产。因此，通过更少的迭代，您将能够在内部构建原型，并节省时间和资源。独特的光引擎大约十年前，我们的光引擎采用了发光二极管，用于大批量生产，以取代体积庞大的UV气体放电管式光引擎。光引擎是HoloPrint uniA6 DT的重要组成部分，因为它提供高度聚焦的光子能量，通过在可光固化树脂中产生化学反应，使树脂从弹性状态变为塑性状态，从而在滚轮咬合中进行固化。我们为独特的光学引擎设计申请了专利，使我们的HoloPrint uniA6 DT体积更小，成本更低。该压印机包括专利的光学引擎，其中包括具有被动冷却功能的长寿命395nm发光二极管(LED)，以及可选的内置水冷却功能，以满足极限曝光要求。规格参数zui大压印尺寸:105x148mm (WxL)，衬底厚度可达8mm复制速度:每小时60次手动复制(速度可达6米/分钟)两种输出:辊到印版和辊到箔片操作光学固化引擎:长寿命395nm LED，在6m/min时可达100mJ/cm2设备尺寸和重量:670x380x320mm (LxWxH)， 26kg

武汉东隆科技有限公司为美国Quantum Opus的中国区独家代理，欢迎您来电垂询！Quantum Opus 超导纳米线探测器Quantum Opus提供了两个标准的纳米线产品，在950 nm（ 90％）或1550 nm（ 80％）范围内最大化系统检测效率。 我们还可以定制任何所需的客户波长，包括非常广泛的响应设备，保持超过100nm的带宽和中红外设备的效率超过50％。 这些设备也可以单独购买，并集成到制冷温度2.5K的第三方低温系统中。 产品特点 工作温度在2.5k可达到最高探测效率探测效率90%@1550nm计数率40MHz!!无PDE下降暗计数1Hz/10Hz/100Hz3U紧凑化设计单台支持2-32通道扩展产品应用 量子光学量子计算量子密钥通信低通量生物光子学荧光测量参数

品牌：久滨型号：JB-N9名称：纳米粒度仪 一、产品概述： JB-N9是我公司推出的基于动态光散射原理的纳米粒度仪。它采用高速数字相关器和专业的高性能光电倍增管作为核心器件，具有快速、高分辨率、重复及准确等特点，是纳米颗粒粒度测定产品。　　控制系统原理图如下：光子相关纳米粒度仪基本原理图二、原理： 本仪器采用动态光散射原理和光子相关光谱技术，根据颗粒在液体中的布朗运动的速度测定颗粒大小。小颗粒布朗运动速度快，大颗粒布朗运动速度慢，激光照射这些颗粒，不同大小的颗粒将使散射光发生快慢不同的涨落起伏。光子相关光谱法就根据特定方向的光子涨落起伏分析其颗粒大小。因此本仪器具有原理先进、精度极高的特点，从而保证了测试结果的真实性和有效性；是纳米激颗粒粒度测定的仪器。　　此款纳米粒度仪已经达到国外纳米粒度仪的测试水平！三、主要技术参数：规格型号JB-N9执行标准GB/T 29022-2012/ISO 22412：2008测试范围1-10000nm(与样品有关)浓度范围0.1mg/L-100mg/L准确度误差1%（国家标准样品平均粒径）重复性误差1%（国家标准样品平均粒径）激光λ=532nm，LD泵浦激光器（独有带温控保护）探测器HAMAMATSU光电倍增管（PMT），使用单模保偏光纤散射角90°数字相关器ASIC研制的高速光子相关器样品池10mm*10mm , 4ml（带温控保护）数据处理拟合累积分析法和改进正规化算法，可给出平均粒径及粒度分布曲线软件功能一键式测量，自动优化测量参数，轻松生成测试报表输出项目平均粒径、多分散系数、粒度分布曲线、粒度分布表等温度范围8-45℃（温度精确到0.1℃）测试速度1Min/次（不含样品分散时间）仪器体积390mm×255mm×240mm电源AC100～260V, 50/60Hz, *大功率80W使用环境温度：15～40℃，湿度20～70%。无冷凝

动态光散射纳米粒度及zeta电位分析仪技术是分析样品颗粒的散射光强随时间的涨落规律，使用光子探测器在固定的角度采集散射光，通过相关器进行自相关运算得到相关函数，再经过数学反演获得颗粒粒径信息。纳米粒度及Zeta电位分析仪是一种用于环境科学技术及资源科学技术领域的物理性能测试仪器，简单、方便而且准确，主要作用就是测量胶体颗粒表面电位电势。其独特的开放式样品槽设计与频谱漂移分析技术相结合，使其具有极高的分辨率，足以分辨等电点附近的多峰电泳分布情况。　　仪器原理　　带电颗粒在电场力作用下向电极反方向做电泳运动，单位电场强度下的电泳速度定义为电泳迁移率。颗粒在电泳迁移时，会带着紧密吸附层和部分扩散层一起移动，与液体之间形成滑动面，滑动面与液体内部的电位差即为zeta电位。Zeta电位与电泳迁移率的关系遵循Henry方程，通过测量颗粒在电场中的电泳迁移率就能得出颗粒的zeta电位。　　动态光散射纳米粒度及zeta电位分析仪优势　　1、高效的光路系统：采用固体激光器和一体化光纤技术集成的光路，充分满足空间相干性的要求，极大地提高了散射光信号的信噪比。　　2、数据筛选功能：引入分位数检测异常值的方法，鉴别受灰尘干扰的散射光数据，并剔除异常值，提高粒度测量结果的准确度。　　3、优化的反演算法：采用拟合累积反演算法计算平均粒径及多分散系数，基于非负约束正则化算法反演颗粒粒度分布，测量结果的准确度和重复性都优于1%。　　4、高精度温控系统：基于半导体制冷技术，采用自适应PID控制算法，使样品池温度控制精度达±0.1℃。　　5、高灵敏度光子探测器：采用计数型光电倍增管或雪崩光电二极管，对光子信号具有极高的灵敏度和信噪比；采用边沿触发模式对光子进行计数，瞬间捕捉光子脉冲的变化。　　6、大动态范围高速光子相关器：采用高、低速通道搭配的结构设计光子相关器，有效解决了硬件资源与通道数量之间的矛盾，实现了大的动态范围，并保证了相关函数基线的稳定性。　　纳米粒度及zeta电位分析仪测量　　纳米粒度及zeta电位分析仪是表征分散体系稳定性的重要指标zeta电位愈高，颗粒间的相互排斥力越大，胶体体系愈稳定，因此通过电泳光散射法测量zeta电位可以预测胶体的稳定性。　　纳米粒度及zeta电位分析仪性能特点　　1、利用光纤技术集成发射光路和接收光路，替代传统电泳光散射的分立光路，使参考光和散射光信号的传输不受灰尘和外界杂散光的干扰，有效地提高了信噪比和抗干扰能力。　　2、先对散射光信号进行频谱预分析，获取需要细化分析的频谱范围，然后在窄带范围内进行高分辨率的频谱细化分析，从而获得准确的散射光频移。　　3、基于双电层理论模型，求解颗粒的双电层厚度，获得准确的颗粒半径与双电层厚度的比值，再利用最小二乘拟合算法获得精确的Henry函数表达式，进而有效提高了纳米粒度及zeta电位分析仪的计算精度。　　Henry函数的取值：　　当双电层厚度远远小于颗粒的半径，即ka1，Henry函数近似为1.5。双电层厚度远远大于颗粒半径时，即ka1，Henry函数近似为1.0。使用最小二乘曲线拟合算法对Wiersema计算的精确Henry函数值进行拟合，得到优化Henry函数表达式。　　强大易用的控制软件　　ZS-920系列纳米粒度及zeta电位分析仪的控制软件具有纳米颗粒粒度和zeta电位测量功能，一键式测量，自动调整散射光强，无需用户干涉，自动优化光子相关器参数，以适应不同样品，让测量变得如此轻松。控制软件更具有标准化操作(SOP)功能，让不同实验室、不同实验员间的测量按照同一标准进行，测量结果更具有可比性。测量完成自动生成报表，以可视化的方式展示测量结果，让测量结果一目了然。　　注意事项　　1、测量粒径前，需查知样品分散剂的粘度、折光指数（Refractive Index）；　　2、用卷纸轻轻点拭样品池外侧水滴，切勿用力擦拭，以防将样品池划伤，如发现样品池有划纹，需更换；　　3、手尽量避免触摸样品池下端，否则会影响光路；　　4、一定要去除样品池内的气泡；　　5、实验室提供的样品池为聚苯乙烯材质，不可用于测量有机分散体系；　　6、实验室提供的样品池,测量温度不可高于50摄氏度；　　7、如需测量有机分散体系或高于50摄氏度，请自带石英比色皿；　　8、使用滤纸过滤时，舍去过滤后的d一滴样品，以防滤纸上杂质进入样品池；　　9、测量时需自带：卷纸、多个注射器、多个离心管（用于稀释样品）。

动态光散射纳米粒度及zeta电位分析仪原理当激光照射到分散于液体介质中的微小颗粒时，由于颗粒的布朗运动引起散射光的频率偏移，导致散射光信号随时间发生动态变化，该变化的大小与颗粒的布朗运动速度有关，而颗粒的布朗运动速度又取决于颗粒粒径的大小，颗粒大布朗运动速度低，反之颗粒小布朗运动速度高，因此动态光散射纳米粒度及zeta电位分析仪技术是分析样品颗粒的散射光强随时间的涨落规律，使用光子探测器在固定的角度采集散射光，通过相关器进行自相关运算得到相关函数，再经过数学反演获得颗粒粒径信息。动态光散射纳米粒度及zeta电位分析仪性能特点1、高效的光路系统：采用固体激光器和一体化光纤技术集成的光路，充分满足空间相干性的要求，极大地提高了散射光信号的信噪比。2、高灵敏度光子探测器：采用计数型光电倍增管或雪崩光电二极管，对光子信号具有极高的灵敏度和信噪比； 采用边沿触发模式对光子进行计数，瞬间捕捉光子脉冲的变化。3、大动态范围高速光子相关器：采用高、低速通道搭配的结构设计光子相关器，有效解决了硬件资源与通道数量之间的矛盾，实现了大的动态范围，并保证了相关函数基线的稳定性。4、高精度温控系统：基于半导体制冷技术，采用自适应PID控制算法，使样品池温度控制精度达±0.1℃。5、数据筛选功能：引入分位数检测异常值的方法，鉴别受灰尘干扰的散射光数据，并剔除异常值，提高粒度测量结果的准确度。6、优化的反演算法：采用zui优拟合累积反演算法计算平均粒径及多分散系数，基于非负约束正则化算法反演颗粒粒度分布，测量结果的准确度和重复性都优于1%。纳米粒度及zeta电位分析仪测量纳米粒度及zeta电位分析仪是表征分散体系稳定性的重要指标zeta电位愈高，颗粒间的相互排斥力越大，胶体体系愈稳定， 因此通过电泳光散射法测量zeta电位可以预测胶体的稳定性。动态光散射纳米粒度及zeta电位分析仪原理带电颗粒在电场力作用下向电极反方向做电泳运动，单位电场强度下的电泳速度定义为电泳迁移率。颗粒在电泳迁移时，会带着紧密吸附层和部分扩散层一起移动，与液体之间形成滑动面，滑动面与液体内部的电位差即为zeta电位。Zeta电位与电泳迁移率的关系遵循 Henry方程，通过测量颗粒在电场中的电泳迁移率就能得出颗粒的zeta电位。纳米粒度及zeta电位分析仪性能特点1.利用光纤技术集成发射光路和接收光路，替代传统电泳光散射的分立光路，使参考光和散射光信号的传输不受灰尘和外界杂散光的干扰，有效地提高了信噪比和抗干扰能力。2.先对散射光信号进行频谱预分析，获取需要细化分析的频谱范围，然后在窄带范围内进行高分辨率的频谱细化分析，从而获得准确的散射光频移。3.基于双电层理论模型，求解颗粒的双电层厚度，获得准确的颗粒半径与双电层厚度的比值，再利用最小二乘拟合算法获得精确的Henry函数表达式，进而有效提高了纳米粒度及zeta电位分析仪的计算精度。Henry函数的取值：当双电层厚度远远小于颗粒的半径，即ka1，Henry函数近似为1.5。双电层厚度远远大于颗粒半径时，即ka1，Henry函数近似为1.0。使用最小二乘曲线拟合算法对Wiersema计算的精确Henry函数值进行拟合， 得到优化Henry函数表达式.强大易用的控制软件ZS-920系列纳米粒度及zeta电位分析仪的控制软件具有纳米颗粒粒度和zeta电位测量功能，一键式测量，自动调整散射光强， 无需用户干涉，自动优化光子相关器参数，以适应不同样品，让测量变得如此轻松。控制软件更具有标准化操作(SOP)功能，让不同实验室、不同实验员间的测量按照同一标准进行，测量结果更具有可比性。测量完成自动生成报表，以可视化的方式展示测量结果，让测量结果一目了然。动态光散射纳米粒度及zeta电位分析仪的技术指标

EVG720紫外纳米压印机一、设备原理：EVG720紫外纳米压印用于从印章到衬底的紫外图形转移。EVG720自动纳米压印系统允许衬底和印章的尺寸从很小的芯片到150mm直径的圆片范围。用于纳米技术应用的配置包括印章机械释放、程序控制高或低的接触压力。EVG独有的吸盘设计支持软印章和硬印章压印，可以保证大面积纳米压印的均匀压力，从而保证获得很高的良率。二、应用范围纳米压印技术主要应用于如下方面：LEDS 制作，LED PSS纳米压印工艺，LED纳米透镜阵列；微流体学；芯片实验室；抗反射层； 纳米压印光栅； 莲花效应；光子带隙；光学及通讯：光晶体，激光器件；生物技术解决方案：医药分析，血液分析，细胞生长。三、主要特点及技术参数：1、主要特点：。 最大产量高达40wafers每小时；。 紫外光曝光；。配备专用的紫外纳米压印工具；。 正面对准或者正反双面对准；。 适用衬底：Si，玻璃，化合物半导体；。 硬紫外纳米压印，软紫外纳米压印、微接触压印。2、技术参数晶圆尺寸：最大150mm大面积压印：最大150mm产能：最大可到40wafers/小时印章制备：支持工作模具制备，支持自动楔形脱模曝光：曝光光源：高功率窄带曝光；波长：300-500nm, 光强：~ 400 mW/cm2，光强均匀性：20%（6寸）对准模块：机械对位精度±200um，光学对位精度±3um压印微结构尺寸范围：40nm-2um；压印结构分辨率：≤40纳米压印残留层厚度：≤20纳米滚压印速度：2mm/s-16mm/s, 可以调节图形保型度：≥90%支持倾斜光栅压印，倾斜度45-90°上料系统：3料盒台，现场可升级u SECS/GEM II: 可选。公司简介：EVG公司成立于1980年，公司总部和制造厂位于奥地利，在美国、日本和台湾设有分公司，并在其他各地设有销售代理及售后服务部，产品和服务遍及世界各地。EVG公司是一家致力于半导体制造设备的全球供应商，其丰富的产品系列包括：涂胶和喷胶/显影机/热板/冷板、掩模版光刻/键合对准系统、基片热压键合/低温等离子键合系统、基片清洗机、基片检测系统、SOI 基片键合系统、基片临时键合/分离系统、纳米压印系统。目前已有数千台设备安装在世界各地，被广泛地应用于MEMS微机电系统/微流体器件，SOI基片制造，3D封装，纳米压印，化合物半导体器件和功率器件等领域。EVG是世界上为数不多的可以商业化纳米压印设备的著名公司，可为客户提供完整的纳米压印方案，包括热压印、紫外压印、微接触印刷。EVG公司以其专利的极其优异的对准技术和世界领先的热压技术为纳米压印的成功实施打下了坚实的基础。

纳米压印设备之热压印：EVG510HE 一、 简介 EVG公司成立于1980年，公司总部和制造厂位于奥地利，在美国、日本和台湾设有分公司，并在其他各地设有销售代理及售后服务部，产品和服务遍及世界各地。EVG公司是一家致力于半导体制造设备的全球供应商，其丰富的产品系列包括：涂胶和喷胶/显影机/热板/冷板、掩模版光刻/键合对准系统、基片热压键合/低温等离子键合系统、基片清洗机、基片检测系统、SOI 基片键合系统、基片临时键合/分离系统、纳米压印系统。目前已有数千台设备安装在世界各地，被广泛地应用于MEMS微机电系统/微流体器件，SOI基片制造，3D封装，纳米压印，化合物半导体器件和功率器件等领域。EVG是世界上为数不多的可以商业化纳米压印设备的好的公司，可为客户提供完整的纳米压印方案，包括热压印、紫外压印、微接触印刷。EVG公司以其zhuan li的极其优异的对准技术和好的的热压技术为纳米压印的成功实施打下了坚实的基础。EVG510HE是一款半自动的热压印设备，用于硬模压印和纳米印刷。该热压印系统配备了一个通用的热压腔室，具备高真空和高接触压力能力，可以处理用于热压印的所有聚合物材料。EVG510HE可以实现长宽比的热压印和多重脱模工艺，为客户提供高质量的图形转移和纳米级分辨率。 二、应用范围纳米压印技术主要应用于如下方面：LEDS 制作，LED PSS纳米压印工艺，LED纳米透镜阵列；微流体学；芯片实验室；抗反射层； 纳米压印光栅； 莲花效应；光子带隙；光学及通讯：光晶体，激光器件；生物技术解决方案：医药分析，血液分析，细胞生长。二、 主要特点u 用于聚合物衬底和旋涂树脂的热压印；u 自动化热压印程序；u EVGzhuan li的单独对准技术用于压印和印刷前对准；u 全程软件控制工艺流程的运行；

BOS-NG光相关纳米粒度仪全新BOS-NG是我公司zui新推出的基于动态光散射原理的纳米粒度仪。它采用高速光子相关器和专业的高性能光电倍增管作为核心器件，具有快速、高分辨率、重复及准确等特点，是纳米颗粒粒度测定的shou选产品，新NG进行了全新设计。主要性能特点：先进的测试原理：本仪器采用动态光散射原理和光子相关光谱技术，根据颗粒在液体中的布朗运动的速度测定颗粒大小，小颗粒布朗运动速度快，大颗粒布朗运动速度慢。当激光束照射在运动的颗粒上时，某一角度（本仪器采用90度）的散射光随时间发生动态变化，变化的快慢与颗粒在液体中的布朗运动的速度有关，采用光子相关光谱法对动态散射光谱进行统计及相关运算分析，并根据Stokes-Einstein方程计算其颗粒大小。高灵敏度与信噪比：采用具有低暗计数、高灵敏度的HAMAMATSU专业级高性能光电倍增管（PMT）作为探测器，对光子信号具有极高的灵敏度和信噪比，从而保证了测试结果的高准确度和高分辨率；超强的运算功能：使用PCS技术测定纳米级颗粒大小，必须能够分辨纳秒级信号起伏。本仪器的核心部件采用专用集成电路ASIC研制的高速光子相关器，具有识别6ns的极高分辨能力和极高的信号处理速度，可快速实时的采集光子数并计算相关运算，为测试准确度奠定基础；稳定的光路系统：采用恒温控制的大功率半导体激光和光纤组合搭建而成的光子相关光谱探测系统，使其不仅体积小，而且具有很强的抗干扰能力和稳定性，保证测试结果重复稳定；高精度温控系统：样品池温控系统和激光器温控系统精度高达±0.1℃，使被测样品和激光器光源在整个测试过程中都处于恒温状态，避免温度变化对测试结果的影响，确保测试准确性和重复性；超强功能的分析软件：分析软件中反演算法采用国际标准推荐的累计量法以及目前比较通用的非负最小二乘法（NNLS）和Contin等多种算法，其测试结果与国际权威的同类产品具有很好的一致性；测试精准并稳定：高性能的硬件和国际标准化的反演算法的完美结合，造就了BOS-NG测试结果的精准与重复，其测试准确度和重复性等指标均高于国际标准要求。全新散热系统：新NG进行了双气流设计，热气流直接排出仪器外壳，倍增管、激光器、相关器等重要部件不再受热气流的影响，测量数据更加准确、更稳定，同时大大延长了这些重要部件的使用寿命。自动感应滑门：新NG加装了比色皿门自动开启、闭合功能，当手靠近仪器时滑门会自动打开方便测试人员拿取比色皿，当手远离仪器时滑门会自动闭合。此款纳米粒度仪已经达到国外纳米粒度仪的测试水平！ BOS-NG光相关纳米粒度仪技术参数及详细配置规格型号BOS-NG执行标准GB/T 29022-2012/ISO 22412：2008测试范围1-10000nm(与样品有关)浓度范围0.1mg/L-100mg/L准确度误差1%（国家标准样品平均粒径）重复性误差1%（国家标准样品平均粒径）激光主激光器：λ=532nm，半导体激光器（温控保护）探测器光电倍增管（PMT）散射角90°样品池10mm*10mm , 4ml（带温控保护）温度范围5-90℃（精度±0.1℃）测试速度1Min/次（不含样品分散时间） 光子相关器 物理通道：512，等效通道：10000，基线通道：8 采样及延迟时间：1us~200us动态可调 最小分辨能力：6ns

SmartNIL紫外纳米压印：HERCULES NIL一、设备原理：EVG的HERCULES NIL 300 mm是一个完全集成的纳米压印系统，是EVG的NIL产品组合的最新成员。 HERCULES NIL基于模块化平台，在单个平台上将清洗模块，抗蚀剂涂层模块和烘烤预处理模块与EVG的专有SmartNIL大面积纳米压印（NIL）模块结合在一起，用于直径最大为300 mm的晶片。这是第一个基于EVG的全模块化设备平台和可交换模块的NIL系统，可为客户提供最大的自由度来配置他们的系统，以最好地满足其生产需求，包括200 mm和300 mm晶圆的互换功能。通过为大批量生产提供完整的NIL解决方案，HERCULES NIL增强了EVG在大面积NIL设备解决方案中的领导地位。 二、应用范围HERCULES NIL纳米压印技术主要应用于如下方面：增强/虚拟现实（AR / VR）光学器件，3D传感器，纳米光子学等离子体光学纳米压印光栅；三、主要特点及技术参数1、主要特点：. 最大产量高达40wafers每小时；. “一站式服务”：将裸露的晶圆装载到工具中，然后将经过完全处理的纳米结构晶圆退回。. 市场上最先进的纳米压印功能，.具有较低的力和保形压印，. 快速的高功率曝光和平滑的压模分离。. 支持各种设备和应用程序的生产，全自动UV-NIL压印和微力剥离.完全模块化的平台，具有多达八个可交换过程模块（压印和预处理）. 200毫米/ 300毫米桥接工具能力. 全区域覆盖. 批量生产最小40 nm或更小的结构. 支持各种结构尺寸和形状，包括3D. 适用于高形貌（粗糙）表面. 分辨率取决于过程和模板.优化工艺链. 具有软工作模板制造能力，这是大批量生产的基石，不需要额外的压印模板制造设备. 该设备可以配置微型环境，以确保最低的缺陷率和最高质量的原版复制。2、技术参数. 最多300毫米的基材. 晶圆直径（基板尺寸）100至200毫米（7200压印模块）/ 200至300毫米（7300压印模块）. 解析度≤40 nm（分辨率取决于模板和工艺）. 支持流程：SmartNIL. 最大产量高达40wafe/小时. 对准：≤±3微米. 自动分离：支持. 前处理：提供所有预处理模块. 迷你环境和气候控制：可选. 工作印章制作：支持的模板尺寸：最大330*330mm最大压印面积：最大300*300mm印章制备：支持工作模具制备，支持自动楔形脱模曝光：曝光光源：高功率LED（i线）窄带曝光；波长：300-500nm, 光强：~ 400 mW/cm2，光强均匀性：20%（6寸）对准模块：机械对位精度±200um，光学对位精度±3um压印微结构尺寸范围：40nm-2um；压印结构分辨率：≤40纳米压印残留层厚度：≤20纳米滚压印速度：2mm/s-16mm/s, 可以调节图形保型度：≥90%支持倾斜光栅压印，倾斜度45-90°最多可配置8个模块：清洗模块，抗蚀剂涂层模块，烘烤预处理模块，EVG的专有SmartNIL大面积纳米压印（NIL）上下料机械手内部各模块间传递系统上料系统：4料盒自动上料SECS/GEM II: 可选。

产品描述“简易执行机构”系列是具有结合在弹性铰链机构中的压电元件的致动器。带有螺纹孔，易于固定和拆卸，简易执行机构内部无内置传感器，所以本产品开环操作时具有迟滞和蠕变特性。压电执行器通电后会收缩运动。采用机械放大结构设计，因此行程比单个压电元件长几倍。柔性铰链导向无需维护、无摩擦、无磨损，无需润滑。高推拉力，大行程，紧凑的尺寸，亚纳米分辨率，亚毫秒级快速响应。机械放大式压电促动器是由不锈钢材质的外部椭圆框架将压电陶瓷的主轴变形沿短轴进行放大。这个椭圆形的框架也提供了压电陶瓷对拉力的抵抗。为客户提供了易于集成机械接口。此预应力和放大曲张框架给压电陶瓷施加预紧力保证其比传统的基于杠杆臂和弯曲支点的传统的机械式放大器，在动态应用下有更长的使用寿命和更好的性能。产品特性—轴向收缩运动—行程：1500μm—出力: 1300 N—位移放大式选配功能—可定制安装固定螺纹尺寸—可定制线缆长度—可定制闭环方式—可定制位移典型应用:• 光子学/集成光学 • 纳米级微调操作纳米定位 • 光纤拉伸 • 高速切换• 微扫描 • 激光腔调谐 • 测流技术 • 生物技术迟滞和蠕变特性：在开环操作中，具有滞后和蠕变现象 位移放大结构形式：行程比单个压电陶瓷大几倍

动态光散射纳米粒度及zeta电位分析仪技术是分析样品颗粒的散射光强随时间的涨落规律，使用光子探测器在固定的角度采集散射光，通过相关器进行自相关运算得到相关函数，再经过数学反演获得颗粒粒径信息。纳米粒度及Zeta电位分析仪是一种用于环境科学技术及资源科学技术领域的物理性能测试仪器，简单、方便而且准确，主要作用就是测量胶体颗粒表面电位电势。其独特的开放式样品槽设计与频谱漂移分析技术相结合，使其具有极高的分辨率，足以分辨等电点附近的多峰电泳分布情况。　　仪器原理　　带电颗粒在电场力作用下向电极反方向做电泳运动，单位电场强度下的电泳速度定义为电泳迁移率。颗粒在电泳迁移时，会带着紧密吸附层和部分扩散层一起移动，与液体之间形成滑动面，滑动面与液体内部的电位差即为zeta电位。Zeta电位与电泳迁移率的关系遵循Henry方程，通过测量颗粒在电场中的电泳迁移率就能得出颗粒的zeta电位。　　动态光散射纳米粒度及zeta电位分析仪优势　　1、高效的光路系统：采用固体激光器和一体化光纤技术集成的光路，充分满足空间相干性的要求，极大地提高了散射光信号的信噪比。　　2、数据筛选功能：引入分位数检测异常值的方法，鉴别受灰尘干扰的散射光数据，并剔除异常值，提高粒度测量结果的准确度。　　3、优化的反演算法：采用拟合累积反演算法计算平均粒径及多分散系数，基于非负约束正则化算法反演颗粒粒度分布，测量结果的准确度和重复性都优于1%。　　4、高精度温控系统：基于半导体制冷技术，采用自适应PID控制算法，使样品池温度控制精度达±0.1℃。　　5、高灵敏度光子探测器：采用计数型光电倍增管或雪崩光电二极管，对光子信号具有极高的灵敏度和信噪比；采用边沿触发模式对光子进行计数，瞬间捕捉光子脉冲的变化。　　6、大动态范围高速光子相关器：采用高、低速通道搭配的结构设计光子相关器，有效解决了硬件资源与通道数量之间的矛盾，实现了大的动态范围，并保证了相关函数基线的稳定性。　　纳米粒度及zeta电位分析仪测量　　纳米粒度及zeta电位分析仪是表征分散体系稳定性的重要指标zeta电位愈高，颗粒间的相互排斥力越大，胶体体系愈稳定，因此通过电泳光散射法测量zeta电位可以预测胶体的稳定性。　　纳米粒度及zeta电位分析仪性能特点　　1、利用光纤技术集成发射光路和接收光路，替代传统电泳光散射的分立光路，使参考光和散射光信号的传输不受灰尘和外界杂散光的干扰，有效地提高了信噪比和抗干扰能力。　　2、先对散射光信号进行频谱预分析，获取需要细化分析的频谱范围，然后在窄带范围内进行高分辨率的频谱细化分析，从而获得准确的散射光频移。　　3、基于双电层理论模型，求解颗粒的双电层厚度，获得准确的颗粒半径与双电层厚度的比值，再利用最小二乘拟合算法获得精确的Henry函数表达式，进而有效提高了纳米粒度及zeta电位分析仪的计算精度。　　Henry函数的取值：　　当双电层厚度远远小于颗粒的半径，即ka1，Henry函数近似为1.5。双电层厚度远远大于颗粒半径时，即ka1，Henry函数近似为1.0。使用最小二乘曲线拟合算法对Wiersema计算的精确Henry函数值进行拟合，得到优化Henry函数表达式。　　强大易用的控制软件　　ZS-920系列纳米粒度及zeta电位分析仪的控制软件具有纳米颗粒粒度和zeta电位测量功能，一键式测量，自动调整散射光强，无需用户干涉，自动优化光子相关器参数，以适应不同样品，让测量变得如此轻松。控制软件更具有标准化操作(SOP)功能，让不同实验室、不同实验员间的测量按照同一标准进行，测量结果更具有可比性。测量完成自动生成报表，以可视化的方式展示测量结果，让测量结果一目了然。　　注意事项　　1、测量粒径前，需查知样品分散剂的粘度、折光指数（Refractive Index）；　　2、用卷纸轻轻点拭样品池外侧水滴，切勿用力擦拭，以防将样品池划伤，如发现样品池有划纹，需更换；　　3、手尽量避免触摸样品池下端，否则会影响光路；　　4、一定要去除样品池内的气泡；　　5、实验室提供的样品池为聚苯乙烯材质，不可用于测量有机分散体系；　　6、实验室提供的样品池,测量温度不可高于50摄氏度；　　7、如需测量有机分散体系或高于50摄氏度，请自带石英比色皿；　　8、使用滤纸过滤时，舍去过滤后的d一滴样品，以防滤纸上杂质进入样品池；　　9、测量时需自带：卷纸、多个注射器、多个离心管（用于稀释样品）。

Winner802光子相关纳米粒度仪产品简介： 光子相关纳米粒度仪Winner802是国家科技型中小企业技术创新基金项目（立项代码： 10C26213704395）成果产品，也是首批采用动态光散射原理的纳米粒度仪。该仪器采用动态光散射原理和光子相关光谱技术，因颗粒在悬浮液中做布朗运动，使得光强随时间产生脉动，利用微纳数字相关器技术处理脉冲信号，得到颗粒运动的扩散信息，利用Stokes-Einstein方程计算得出颗粒粒径大小及其分布。 光子相关纳米激光粒度仪Winner803是Winner802的升级款，配备双波长激光器，针对某些具有吸光属性和传统单一波长激光器无法检测的样品，可进行有效检测，Winner803纳米激光粒度仪专注于有色颗粒的粒度分布检测，想颜料、染料等。 产品优势: 高灵敏度和信噪比 采用动态光散射原理，利用灵敏度高和信噪比强的HAMAMATSU光电倍增管和自主研发的CR256数字相关器，在不破坏不干扰纳米颗粒体系的情况下，能够实时完成动态散射光的采集和函数运算，有效计算出颗粒粒径大小，保证测试结果的准确性。 抗干扰性强 采用光纤技术搭建的光路系统，使光子相关光谱探测系统不仅体积小，而且具有很强的抗干扰能力，保证了测试结果的稳定性。 可靠的温控系统 采用半导体温控系统，温度波动控制在±0.1 ℃，保证了样品在测试过程中始终处于恒温状态，避免因温度变化而引起的液体粘度和布朗运动速度的变化导致的测试偏差，从而保证了测试结果的可靠性。 双波长激光器，智能切换（Winner803特有性能） 采用双波长（λ=532 nm λ=405 nm）激光器，可智能切换，对某些具有吸光属性，单一波长激光器无法检测的样品，可进行有效检测。 产品技术参数: 产品型号Winner802Winner803执行标准GB/T 19627-2005/ISO13321:1996 GB/T29022-2012/ISO22412:2008测试范围1-10000nm (与样品相关)准确度误差≤1% （国家标准样品D50）重复性误差≤1% （国家标准样品D50）测试浓度0.1mg/mL——100mg/mL（与样品有关）激光器半导体激光器： λ=532nm 功率 P=1-40mW(可调)主光源：半导体激光器：λ=532nm 功率 P=1-40mW(可调) 辅助光源：蓝光激光器 λ=405nm 功率P＞2mW探测器光电倍增管（PMT）散射角90°样品池10×10×40mm （1—4mL）测试温度5—90 ℃温控精度±0.1℃测试速度＜5min产品体积600×380×230mm产品重量12Kg数字相关器产品型号CR256自相关通道256基数通道4物理通道数5000单位延迟时间100ns—10ms 应用领域： 纳米材料、纳米乳液、纳米粉末、纳米硼化物、纳米非金属、涂料、染料、颜料、药品、蛋白质、纳米碳酸钙、感光材料、添加剂、石墨、以及其他纳米颗粒等。