纳米晶体

产品信息将光谱学与QCM-D相结合。同时使用纳米等离子体光谱技术（NPS）和耗散监测型石英晶体微天平技术（QCM-D）进行实时测量。 主要特征a、同时获得相同表面上相同样品的干质量（折射率RI）、湿质量（声学）和黏弹性的实时变化。b、使用Insplorion的纳米等离子体光谱技术（NPS）和Q-Sense的耗散监测型石英晶体微天平技术（QCM-D）在完全相同的实验条件下同时测量。c、非常容易使用当配备Q-Sense窗口模块时，Insplorion Acoulyte直接安装在Q-sense Explorer（E1）和Analyzer（E4）仪器上。Insplorion Acoulyte传感器是具有NPS结构的Q-Sensor。技术指标传感器 尺寸直径 14 mm 衬底 SiO2涂层的QCM-D传感器 表面 纳米结构金 标准涂层 Si3N4, SiO2, Al2O3, TiO2 测量特征 光源 卤钨灯 灵敏度* 0.03单分子层 测量点直径 3 mm 时间分辨率 每秒10个采样点 典型噪音 0.01 nm 波长范围 450-1000 nmQCM-D的测量不受Acoulyte的影响。 尺寸(宽度x深度x高度) Acoulyte模块 8x5x3 cm Insplorion光学单元 25x27x9 cm 软件 兼容软件 Insplorer 操作系统 兼容Microsoft Windows操作系统 数据输出格式 ASCII码文本文件格式，直接使用的任何绘图软件都兼容此格式 分析的参数 分析的参数多参数输出(比如：LSPR峰处的共振波长和消光)应用领域NPS和QCM-D的互补性测量 感应深度 NPS干质量 30 nmQCM-D湿质量 300 nmAcoulyte干质量和湿质量深度分析InsplorionNPS技术在纳米等离子体光谱技术（NPS）中，纳米结构传感器的局域表面等离激元共振技术（LSPR）用于探测邻近传感器表面（30 nm）的折射率（与光/干质量有关）的微小变化。它能够极其灵敏地检测发生在传感器/样品界面处的变化过程。分子解吸附（吸附） 时间和深度分辨测量厚膜（~1 mm）的分子解吸附（吸附）。Acoulyte也可以辨别溶胀和吸附/解吸附事件。检测到什么？ NPS 邻近表面（30 nm）的折射率变化QCM-D 整个膜的质量变化。 脂质双层膜 Acoulyte能够更详细地阐释表面薄膜的形成过程。检测到什么？ NPS 囊泡吸附时折射率增大囊泡坍塌时折射率增大QCM-D 囊泡吸附时质量增大囊泡坍塌时质量减小气体吸附/解吸附 通过QCM-D技术和NPS技术的联用，就可以实现深度分析以及研究表面支撑膜内的扩散时间和机制。检测到什么？ NPS传感器/样品界面的折射率变化。QCM-D 整个膜和膜的顶部的质量变化。

EVG系列纳米压印设备之紫外纳米压印：600 一、 简介 EVG公司成立于1980年，公司总部和制造厂位于奥地利，在美国、日本和台湾设有分公司，并在其他各地设有销售代理及售后服务部，产品和服务遍及世界各地。EVG公司是一家致力于半导体制造设备的全球供应商，其丰富的产品系列包括：涂胶和喷胶/显影机/热板/冷板、掩模版光刻/键合对准系统、基片热压键合/低温等离子键合系统、基片清洗机、基片检测系统、SOI 基片键合系统、基片临时键合/分离系统、纳米压印系统。目前已有数千台设备安装在世界各地，被广泛地应用于MEMS微机电系统/微流体器件，SOI基片制造，3D封装，纳米压印，化合物半导体器件和功率器件等ling 域。EVG是世界上为数不多的可以商业化纳米压印设备的著ming公司，可为客户提供完整的纳米压印方案，包括热压印、紫外压印、微接触印刷。EVG公司以其专利的极其优异的对准技术和世界ling 先的热压技术为纳米压印的成功实施打下了坚实的基础。EVG620紫外纳米压印用于从印章到衬底的紫外图形转移。EVG620自动纳米压印系统允许衬底和印章的尺寸从很小的芯片到150mm直径的圆片范围。用于纳米技术应用的配置包括印章机械释放、程序控制高或低的接触压力。EVG独有的吸盘设计支持软印章和硬印章压印，可以保证大面积纳米压印的均匀压力，从而保证获得很高的良率。 二、应用范围纳米压印技术主要应用于如下方面：LEDS 制作，LED PSS纳米压印工艺，LED纳米透镜阵列；微流体学；芯片实验室；抗反射层； 纳米压印光栅； 莲花效应；光子带隙；光学及通讯：光晶体，激光器件；生物技术解决方案：医药分析，血液分析，细胞生长。三、主要特点u 适用于紫外纳米压印和微接触印刷；u 紫外光曝光；u 配备专用的紫外纳米压印工具；u 适于软或硬印章压印；u 适用衬底：Si，玻璃，化合物半导体； 四、技术参数亚科电子设备咨询电话：（微信同号）；欢迎您的来电咨询！

NIL TECHNOLOGY Aps (NILT) 位于丹麦的哥本哈根市的丹麦技术大学(TECHNICAL UNIVERSITY OF DENMARK）校园里，是一家专门从事纳米光学、纳米结构制作和纳米压印设备制作的公司，公司与的丹麦国家微纳米实验中心(Danchip)是“合作伙伴”关系，并享有共同的超净设备和研发技术成果，公司同时从事欧盟诸多纳米制作项目的研发，并拥有多位教授和博士后团队。NILT 开发的CNI系列 实验室用台式纳米热压印机是专为实验室和研发机构设计和开发的简单易用、性能稳定的研发型设备，用户可以通过CNI设备高效、低成本地实现高精度的纳米热压工艺，许多知名的研发机构均购买了CNI的设备。Nano Fabriction Solution 技术方案已在多个领域为用户提供基于纳米技术的行业解决方案，包括： * LED纳米压印解决方案：LEDS 制作，LED PSS纳米压印工艺，LED纳米透镜阵 *μ-Fluidics 纳米应用流体学 * Lab-On-A-Chip 微流控纳米应用 *Anti-Reflection 抗反射纳米应用*Wire Grid Polarizer 纳米压印光栅 * Lotus Effect 莲花效应 *Photonic Band Gap （PBG) 光子带隙 *光学及通讯: 光晶体，激光器件 *LOC解决方案 *生物技术解决方案: 医药分析，血液分析，细胞生长

纳米压印设备之紫外纳米压印：EVG600系列 一、 简介 EVG公司成立于1980年，公司总部和制造厂位于奥地利，在美国、日本和台湾设有分公司，并在其他各地设有销售代理及售后服务部，产品和服务遍及世界各地。EVG公司是一家致力于半导体制造设备的全球供应商，其丰富的产品系列包括：涂胶和喷胶/显影机/热板/冷板、掩模版光刻/键合对准系统、基片热压键合/低温等离子键合系统、基片清洗机、基片检测系统、SOI 基片键合系统、基片临时键合/分离系统、纳米压印系统。目前已有数千台设备安装在世界各地，被广泛地应用于MEMS微机电系统/微流体器件，SOI基片制造，3D封装，纳米压印，化合物半导体器件和功率器件等ling 域。EVG是世界上为数不多的可以商业化纳米压印设备的著ming公司，可为客户提供完整的纳米压印方案，包括热压印、紫外压印、微接触印刷。EVG公司以其专利的极其优异的对准技术和世界ling 先的热压技术为纳米压印的成功实施打下了坚实的基础。EVG620紫外纳米压印用于从印章到衬底的紫外图形转移。EVG620自动纳米压印系统允许衬底和印章的尺寸从很小的芯片到150mm直径的圆片范围。用于纳米技术应用的配置包括印章机械释放、程序控制高或低的接触压力。EVG独有的吸盘设计支持软印章和硬印章压印，可以保证大面积纳米压印的均匀压力，从而保证获得很高的良率。 二、应用范围纳米压印技术主要应用于如下方面：LEDS 制作，LED PSS纳米压印工艺，LED纳米透镜阵列；微流体学；芯片实验室；抗反射层； 纳米压印光栅； 莲花效应；光子带隙；光学及通讯：光晶体，激光器件；生物技术解决方案：医药分析，血液分析，细胞生长。三、主要特点u 适用于紫外纳米压印和微接触印刷；u 紫外光曝光；u 配备专用的紫外纳米压印工具；u 适于软或硬印章压印；u 适用衬底：Si，玻璃，化合物半导体； 四、技术参数设备咨询电话：欢迎您的来电咨询！

纳米探测面临的挑战 定位精度 安全（软）着陆接触 具有适当尖端半径的可靠探针头 清洁环境：试验箱、样品、探针头 振动敏感性低 噪声抑制 漂移补偿 电路编辑/延迟：在FIB角度操作 优势电流成像 快速图像采集（每帧约5） 不需要更容易控制的反馈 原位应用，扫描电镜可以用来确定投资回报率 与标准钨探针头配合使用 picoamp分辨率，识别泄漏 污染物清除 恰当的高探测工具 适应您对工作流程的快速理解 相关的光镜和电子显微镜，EBIC/EBAC，电流成像-获得整个图像 快速发现故障（开路、短路、连接泄漏、晶体管故障等）

QCM-I Mini 特点： l 测量谐振的频率和质量（最大半带宽或带宽或耗散）l 可以快速连续地测量不同的谐波（5MHz晶体可达到13谐波）l 温度控制在15℃至60℃（±0.02℃）之间，包含在一个通道上l 两个独立测量的通道l 带有Windows10的外部PC通过USB与QCM-I Mini连接 该软件可完全控制QCM-I Mini仪器。有两种测量模式： 共振：共振曲线的测量和共振频率的计算以及半带宽高达80 MHz。QCM-t：连续测量共振参数和流动池的温度。 包含项目： l QCM单元有两个通道（一个通道是温度控制的）l 带有Windows10的MicrosoftSurfacePro平板电脑l QSH-104 QCM传感器支架（流通型）l 生物传感的3.xx软件（一个用户许可证）石英晶体微天平是一种高灵敏度质量传感器，可测量石英晶体谐振器和任何吸附膜的频率和耗散变化。 QCM可应用于很多方面：蛋白质，高分子薄膜，生物传感器，化学传感器，腐蚀，聚合物薄膜，纳米颗粒薄膜等。频率和耗散的变化提供了与薄膜质量或弹性变化有关的信息。能够分析分子间的相互作用和表面性质。 测量原理是基于石英晶体的阻抗分析。 确定谐振频率和谐振电导曲线的带宽。 半带宽或全宽，半带宽（FWHM）与质量因子（Q）直接相关，质量因子（Q）定义为耗散的倒数（D）。同时捕捉到的两个参数F（频率）和D（耗散因子）将绘制吸附物质在表面上排列的状态，以及排列如何随时间变化；一个QCM 芯片的频率响应反映了它表面上耦合质量的变化，包括被困在分子层间的溶剂的质量。耗散反映了薄膜的软硬度。监测这两个作为时间函数的参数，即可对分子是否平躺在表面（刚性膜和水合程度低）；或是伸展构型（软膜和水合程度高）；以及如果有重排，例如溶胀（从平躺到延伸）或塌缩（从延伸到平躺）等这些变化进行检测。

HOLITH界面光刻技术----“纳米压印友好伴侣” HOLITH界面光刻装置使用两束干涉激光在光界面上形成周 期性光栅和点/孔图案。 HOLITH纳米成像系统具有新型力 学，光学和电学设计，可在200nm-2μm的周期性范围内于4 英寸晶片上做出纳米结构图案，图案最小形貌可低50nm。 最先进的HOLITH专利技术可使用户仅通过简单的鼠标点击操 作便能作出100nm以下尺寸的高品质高均一性线性光栅和 2D/3D图像。在HOLITH界面光刻装置中无需使用遮罩和模 具。 优势： 无遮罩过程：低成本、多功能、可伸缩 计算机系程序自动化光学结构和排列控制 简单操作，无需光学培训 相比遮罩定位器系统成本更低 200nm范围内具有高分辨率 最低特征尺寸小于50nm 无需遮罩及模具 可以制作大面积2D/3D纳米压印模具（4/6英寸） 可以操作不平整晶片 周期精度：+-2.5% All-fiber-optic setup replacing free- space optical components Special optical fiber delivers light from laser Fiber-optic beam splitter splits the laser beam into two coherent beams Output port of the fiber performs spatial filtering Close-loop feedback control stabilizing interference pattern 低成本、不受环境因素干扰，使自动化成为可能：自由改变入射角度调整模式周期。 Holith 纳米图案化结构 应用：能源 太阳能电池抗反射结构 太阳能电池光子操纵 LEDs灯管中的光提取 图案化蓝宝石基板(PSS) 光学器件 1-D和2-D光栅光谱 大范围等离子体结构 光子晶体 超颖表面 高对比度光栅过滤器和反射器 亚波长和衍射光学器件计量光栅结构化的颜色材 料 超疏水/亲水表面 诱导自组装 表面增强拉曼荧光 生物医学传感器纳米装配纳米压印磨具装配先进纳米装配过程开发

Gamry 高精度耗散型石英晶体微天平QCM-I Mini 具备能耗因子表征功能的阻抗型石英晶体微天平，可以通过纳克质量的变化与耗散因子的测量，研究单分子层的吸附与脱附，吸附的机理，吸附的结构变化等规律。其广泛应用与生物、药物、食品、能源电子、石油化工、涂料、材料、生命等领域。例如：研究生物分子相互作用、生物传感器和免疫传感器、分子与细胞吸附与生长扩散的动力学、生物相容性、膜蛋白-脂质双层相互作用、蛋白质-DNA/RNA相互作用、核酸、基因传感器、无标记生物传感器应用、生物纳米技术、药物筛选、锂离子的扩散与嵌入、材料的腐蚀与防护等等。能够测量石英晶片或所吸附薄膜的频率变化及能量耗散，进而分析反应过程中微小的质量变化，吸附层厚度变化等；能够判断膜的刚性或柔性，并且分析膜的粘弹性方面的性质；以及实时追踪分子排列、结构变化等。阻抗型、耗散型石英晶体微天平判断薄膜的刚性与柔性测量耗散，分析膜的粘弹性吸附、成膜等过程中的微小质量变化，分析膜的厚度、质量等实时追踪反应过程中的分子排列、结构变化...... 同时测量共振频率和耗散因子快速测量多个谐波震动频率（对于5MHz晶片，可以测到第13次谐波）温控范围是15°C 到60°C (精度± 0,02 °C)可扩展到2通道和Windows 10等操作系统PC计算机兼容。直接通过USB实现数据通讯液相中标准耗散因子精度为~ 1 x 10-7 Gamry 高精度耗散型石英晶体微天平QCM-I Mini 适用领域：生物传感器、化学传感器、电池、腐蚀等领域，包括：聚合物膜、纳米粒子薄膜Li+ 嵌入（锂电或电容器）材料表面腐蚀研究电沉积自组装单层 抗原-抗体相互作用 表面活性剂吸附蛋白质吸附离子和溶剂运输Biosense软件可同时控制石英晶体微天平和Gamry恒电位仪的运行及数据获取。BioSense软件：实时跟踪质量与耗散因子的变化测试曲线：测量共振频率及共振电导曲线的半峰宽（FWHM），最高频率可达80 MHz连续进行频率测试的同时，监控温度随时间的变化 数据分析: 用户可以使用标准或自定义模型，计算相关QCM参数及吸附层参数 Gamry高精度耗散型石英晶体微天平QCM-I Mini 仪器配置:QCM Unit with two channels (one channel is temperature controlled)Microsoft Surface Pro Tablet with Windows 10 {roQSH-104 QCM Sensor Holder (flow through type)BioSense 3.xx Software (one user license)产品优势能够测量石英晶片或所吸附薄膜的频率变化及能量耗散，进而分析反应过程中微小的质量变化，吸附层厚度变化等；能够判断膜的刚性或柔性，并且分析膜的粘弹性方面的性质；以及实时追踪分子排列、结构变化等.判断薄膜的刚性与柔性测量耗散，分析膜的粘弹性吸附、成膜等过程中的微小质量变化，分析膜的厚度、质量等实时追踪反应过程中的分子排列、结构变化......QCM-I Mini 高精度耗散型石英晶体微天平仪器参数：

MicroVacuum是源于匈牙利的品牌。工作原理：　　仪器的核心组件为具有功能表面的石英芯片，通过石英晶体的压电效应来实时监控表面反应。　　当物质在石英晶体表面发生吸脱附反应或者石英晶体表面的液体性质发生变化时，都会引起频率的变化和振荡损耗(耗散)的变化。芯片共振频率的变化，与芯片表面吸附的物质的质量相关。而振荡能量损耗的强度与吸附物质本身的粘弹性及结构相关。QCM-I系列均可以高精度实时的监控这些变化。　　通过分析频率变化与耗散变化，可以获得吸附层相应的质量、吸附层厚度、粘弹性(剪切模量)等信息。应用领域：　　分子相互作用动力学研究(结合/解离常数)细胞吸附、迁移与变化药物作用与药物筛选生物材料相容性研究聚电解质膜的层层组装血凝检测及分析酶降解研究生物传感器平台高分子溶胀、结构变化原油富集及储运研究材料腐蚀与防污水处理及环境污染物消除矿物浮选纳米颗粒分散性流体粘弹性新能源行业细菌生物膜研究

仪器简介： CSPM5500是本原纳米仪器有限公司于2008年8月研制成功的新一代扫描探针显微镜,其功能齐全、性能优越、运行稳定、使用方便，非常适合用户开展纳米研究工作。 技术参数：(1)国际主流的研究级专业仪器，集成原子力显微镜(AFM)，横向力显微镜(LFM)，扫描隧道显微镜(STM) (2)分辨率： 原子力显微镜：横向0.2nm，垂直0.1nm（以云母晶体标定） 扫描隧道显微镜：横向0.1nm，垂直0.01nm（以石墨晶体标定） (3)高精度计量型仪器，采用NanoSensors提供的可溯源于国际计量权威机构Physikalisch-Technische Bundesanstalt (PTB)的标准样品进行校准 (4)一键式快速全程全自动进样，无需手动预调，行程大于30mm，可容纳超大样品 (5)两级可读数样品调节机构，可对样品进行精确的检测区域定位 (6)一次扫描技术，图像分辨高达4096×4096物理象素，微米级扫描即可得到纳米级的实际信息 (7)先进PID反馈算法实现快速高精度作用力控制，确保系统在高速扫描中稳定成像，实际扫描速度提升一个数量级 (8)系统采用10M/100M快速以太网(Fast Ethernet 10/100)或USB 2.0与计算机连接 (9)主控机箱前面板具有16×4液晶显示屏，系统当前状态实时显示 (10)具备实时在线三维图像显示功能，便于用户在检测过程中随时直观获得样品信息主要特点：(1) 标准配置： 原子力显微镜(AFM)：包括接触、轻敲、相移成像(Phase Imaging)等多种工作模式 横向力显微镜(LFM)：具有摩擦力回路曲线、摩擦力载荷曲线、摩擦力恒载荷曲线等摩擦学性能分析测量功能 扫描隧道显微镜(STM)：包括恒流模式、恒高模式、I-V曲线、I-Z曲线等 曲线测量分析功能：力-距离曲线、振幅-距离曲线、相移-距离曲线等(2)选配功能： 纳米加工：包括图形刻蚀模式、压痕/机械刻画、矢量扫描模式、DPN浸润笔模式等； 磁力显微镜/静电力显微镜； 环境控制扫描探针显微镜； 液相扫描探针显微镜； 导电原子力显微镜； 扫描探针声学显微镜； 扫描开尔文探针显微镜； 扫描电容显微镜； 压电力显微镜

仪器简介：QCM200是一种非常灵敏的质量检测仪器，其测量精度可达纳克级，比灵敏度在微克级的电子微天平高100倍，理论上可以测到的质量变化相当于单分子层或原子层的几分之一。主要特点：石英晶体微量天平QCM200系统主要由电子振荡电路、频率计数器和压电石英晶体3部分组成。 其工作原理是：利用了石英晶体谐振器的压电特性，将石英晶振电极表面质量变化转化为石英晶体振荡电路输出电信号的频率变化，进而通过计算机等其他辅助设备获得高精度的数据。QMC 所具有的高灵敏度和实时测量质量改变的特点使其在化学和生物医学研究领域的应用备受关注。QCM200是一种非常灵敏的质量检测仪器，其测量精度可达纳克级，比灵敏度在微克级的电子微天平高100倍，理论上可以测到的质量变化相当于单分子层或原子层的几分之一。系统主要由电子振荡电路、频率计数器和压电石英晶体3部分组成。 测量精度为±1.5ppm；最小测量为1ng；频率范围大于5MHz；RS232接口。利用了石英晶体谐振器的压电特性，将石英晶振电极表面质量变化转化为石英晶体振荡电路输出电信号的频率变化，进而通过计算机等其他辅助设备获得高精度的数据。QMC 所具有的高灵敏度和实时测量质量改变的特点使其在化学和生物医学研究领域的应用备受关注。应用选定的SRS QCM100/200文学引文免疫传感器吸附传感器水分测定仪颗粒显示器污染监测电价测量氢吸附在金属薄膜气泡的形成氧化还原和导电聚合物研究双层表征腐蚀研究表面氧化DNA和RNA杂交的研究抗原抗体反应蛋白质吸附检测病毒衣壳，细菌，哺乳动物细胞生物污染和防污生物膜和生物材料蛋白质相互作用自组装单分子膜（SAMs）的分子印迹聚合物（MIP）朗缪尔/ LB膜激光烧蚀，解吸和故障研究基于MEMS的纳米材料智能生物材料

EVG720紫外纳米压印机一、设备原理：EVG720紫外纳米压印用于从印章到衬底的紫外图形转移。EVG720自动纳米压印系统允许衬底和印章的尺寸从很小的芯片到150mm直径的圆片范围。用于纳米技术应用的配置包括印章机械释放、程序控制高或低的接触压力。EVG独有的吸盘设计支持软印章和硬印章压印，可以保证大面积纳米压印的均匀压力，从而保证获得很高的良率。二、应用范围纳米压印技术主要应用于如下方面：LEDS 制作，LED PSS纳米压印工艺，LED纳米透镜阵列；微流体学；芯片实验室；抗反射层； 纳米压印光栅； 莲花效应；光子带隙；光学及通讯：光晶体，激光器件；生物技术解决方案：医药分析，血液分析，细胞生长。三、主要特点及技术参数：1、主要特点：。 最大产量高达40wafers每小时；。 紫外光曝光；。配备专用的紫外纳米压印工具；。 正面对准或者正反双面对准；。 适用衬底：Si，玻璃，化合物半导体；。 硬紫外纳米压印，软紫外纳米压印、微接触压印。2、技术参数晶圆尺寸：最大150mm大面积压印：最大150mm产能：最大可到40wafers/小时印章制备：支持工作模具制备，支持自动楔形脱模曝光：曝光光源：高功率窄带曝光；波长：300-500nm, 光强：~ 400 mW/cm2，光强均匀性：20%（6寸）对准模块：机械对位精度±200um，光学对位精度±3um压印微结构尺寸范围：40nm-2um；压印结构分辨率：≤40纳米压印残留层厚度：≤20纳米滚压印速度：2mm/s-16mm/s, 可以调节图形保型度：≥90%支持倾斜光栅压印，倾斜度45-90°上料系统：3料盒台，现场可升级u SECS/GEM II: 可选。公司简介：EVG公司成立于1980年，公司总部和制造厂位于奥地利，在美国、日本和台湾设有分公司，并在其他各地设有销售代理及售后服务部，产品和服务遍及世界各地。EVG公司是一家致力于半导体制造设备的全球供应商，其丰富的产品系列包括：涂胶和喷胶/显影机/热板/冷板、掩模版光刻/键合对准系统、基片热压键合/低温等离子键合系统、基片清洗机、基片检测系统、SOI 基片键合系统、基片临时键合/分离系统、纳米压印系统。目前已有数千台设备安装在世界各地，被广泛地应用于MEMS微机电系统/微流体器件，SOI基片制造，3D封装，纳米压印，化合物半导体器件和功率器件等领域。EVG是世界上为数不多的可以商业化纳米压印设备的著名公司，可为客户提供完整的纳米压印方案，包括热压印、紫外压印、微接触印刷。EVG公司以其专利的极其优异的对准技术和世界领先的热压技术为纳米压印的成功实施打下了坚实的基础。

阻抗测量和耗散QCM-I耗散型石英晶体微天平是一种高灵敏度质量传感器，可测量石英晶体谐振器和任何吸附膜的频率和耗散变化。 QCM可应用于很多方面：蛋白质，高分子薄膜，生物传感器，化学传感器，腐蚀，聚合物薄膜，纳米颗粒薄膜等。频率和耗散的变化提供了与薄膜质量或弹性变化有关的信息。能够分析分子间的相互作用和表面性质。 测量原理是基于石英晶体的阻抗分析。 确定谐振频率和谐振电导曲线的带宽。 半带宽或全宽，半带宽（FWHM）与质量因子（Q）直接相关，质量因子（Q）定义为耗散的倒数（D）。同时捕捉到的两个参数F（频率）和D（耗散因子）将绘制吸附物质在表面上排列的状态，以及排列如何随时间变化；一个QCM 芯片的频率响应反映了它表面上耦合质量的变化，包括被困在分子层间的溶剂的质量。耗散反映了薄膜的软硬度。监测这两个作为时间函数的参数，即可对分子是否平躺在表面（刚性膜和水合程度低）；或是伸展构型（软膜和水合程度高）；以及如果有重排，例如溶胀（从平躺到延伸）或塌缩（从延伸到平躺）等这些变化进行检测。 QCM-I特点： 测量谐振的频率和质量（最大半带宽或带宽或耗散）可以快速连续地测量不同的谐波（在5MHz晶体上达13次谐波）包括4°C至80°C（±0.02°C）的温度控制EC测量模块可选配ITO-QCM传感器模块化传感器支架，最多4个测量通道带有Windows10的外置PC 通过USB与QCM-I连接 该软件可完全控制QCM-I仪器。 有两种测量模式： 共振：共振曲线的测量和共振频率的计算以及高达70 MHz的FWHMQCM-t：连续测量共振参数和流动池的温度。计算：可以使用标准或定制模型计算各种QCM和广告层参数。 所有这些参数都可以显示在屏幕上，打印，保存或导出以供进一步评估。 包含项目： QCM单元有两个温控通道PC计算机INTEL NUC与Windows10ProQCM传感器支架（流通型）2个生物传感的3.xx软件（一个用户许可证）采用半自动进样阀的进样系统

阻抗测量和耗散QCM-I耗散型石英晶体微天平是一种高灵敏度质量传感器，可测量石英晶体谐振器和任何吸附膜的频率和耗散变化。 QCM可应用于很多方面：蛋白质，高分子薄膜，生物传感器，化学传感器，腐蚀，聚合物薄膜，纳米颗粒薄膜等。频率和耗散的变化提供了与薄膜质量或弹性变化有关的信息。能够分析分子间的相互作用和表面性质。 测量原理是基于石英晶体的阻抗分析。 确定谐振频率和谐振电导曲线的带宽。 半带宽或全宽，半带宽（FWHM）与质量因子（Q）直接相关，质量因子（Q）定义为耗散的倒数（D）。同时捕捉到的两个参数F（频率）和D（耗散因子）将绘制吸附物质在表面上排列的状态，以及排列如何随时间变化；一个QCM 芯片的频率响应反映了它表面上耦合质量的变化，包括被困在分子层间的溶剂的质量。耗散反映了薄膜的软硬度。监测这两个作为时间函数的参数，即可对分子是否平躺在表面（刚性膜和水合程度低）；或是伸展构型（软膜和水合程度高）；以及如果有重排，例如溶胀（从平躺到延伸）或塌缩（从延伸到平躺）等这些变化进行检测。 QCM-I特点： 测量谐振的频率和质量（最大半带宽或带宽或耗散）可以快速连续地测量不同的谐波（在5MHz晶体上达13次谐波）包括4°C至80°C（±0.02°C）的温度控制EC测量模块可选配ITO-QCM传感器模块化传感器支架，最多4个测量通道带有Windows10的外置PC 通过USB与QCM-I连接 该软件可完全控制QCM-I仪器。 有两种测量模式： 共振：共振曲线的测量和共振频率的计算以及高达70 MHz的FWHMQCM-t：连续测量共振参数和流动池的温度。计算：可以使用标准或定制模型计算各种QCM和广告层参数。 所有这些参数都可以显示在屏幕上，打印，保存或导出以供进一步评估。 包含项目： QCM单元有两个温控通道PC计算机INTEL NUC与Windows10ProQCM传感器支架（流通型）2个生物传感的3.xx软件（一个用户许可证）采用半自动进样阀的进样系统

魔技纳米MJ-Works适用多种材料的超快激光微纳加工中心超快激光微纳加工中心，不仅拥有纳米级3D加工能力，还配备了双波长飞秒激光输出，可加工更广泛的材料。可对玻璃、光纤、晶体内部和表面进行改性或刻蚀，也可对金属、合金、陶瓷等硬质材料进行微米级精度的处理，包括打孔、表面结构处理、选择性激光消融、改性等多种功能。MJ-Works同样拥有高精度、超高速度的特点，并且可进行大幅面加工、全自动操控、长时稳定性、简单直观的软件操作以及适配多种材料的特点，适用于微纳光学、生物医学、半导体、光通信等行业的微纳加工领域。如需了解更多产品信息，欢迎查询我司官网 魔技纳米科技或来电咨询。 [企业介绍]魔技纳米科技是三维微纳制造领域集研发、生产、销售、服务于一体的高新技术企业。核心研发团队拥有十年以上设备研发经验，深入生物医疗、光电通信、新材料、微纳器件等多个产业应用领域，打造具有自主知识产权的商用纳米级三维激光光刻直写制造系统。拥有应用于多行业场景的成熟加工工艺。可定制研发适配各产业领域生产需求的个性化设备和产品，突破生物制药、传感、光电芯片、超材料等领域从科研到工业生产的屏障，将纳米级制造精度和大范围生产相结合，提供针对精密智造领域的整套专业解决方案。

百及纳米ParcanNano 单离子注入系弘SII（纳米级定位单离子注入系统SII） 单离子注入系统（纳米级定位单离子注入系统SII）产品简介公司中德技术团队家研发了一款基于新型扫描探针精准定位的离子注入 系统，能有效控制注入半导体器件的杂质种类、数量和位置，实现多种离 子（如 H、N、O、Si、P、B、As、Te、Ar 等）的精准定位定量掺杂注入。该 系统可以满足量子比特阵列,金刚石中的氮空位中心（NV 色心）以及单原子 器件的工艺精度要求，研制的设备可用于探索纳米结构器件、量子比特系 统和量子信息处理器电路的开发。 公司的一项革 命性发明专利，解决了注入离子由于晶格散射带来的位置 不确定性问题，颠覆性地将注入离子在晶体中位置的误差缩减到 10nm 以 下，实现纳米级精确定位注入掺杂离子。技术特点：• 精准确定位定量离子注入• 针尖悬臂上的小孔小于50nm• 锥形电场稀释和准直离子束• 横向电场形成离子闸门应用领域：• 功能材料定位掺杂• 纳米尺度功能器件制备• 固态量子信息技术相关图片

一.机型称号：纳米碳管研磨混合机，药物研磨混合机，毫微米研磨混合机，超飞快研磨混合机，水管式研磨混合机，3级研磨混合机，高剪切研磨混合机。二.研磨机：机型19款，处理量50到8*10000KG/小时，旋转1100到1.4*10000转/分钟，线速度23到44m/秒，电滚功耗1.5到160kW，磨头胶体磨&锥体磨。三.研磨分散机：机型6款，处理量50到6*1000KG/小时，旋转1100到9*1000转/分钟，线速度23m/秒，电滚功耗2.2到150kW，磨头胶体磨。四.小型分散乳化机：机型30款，处理量0.2克到10KG/小时，旋转50到3*10000转/分钟，线速度3到33m/秒，电滚功耗0.3到0.8kW。五.真空分散乳化机：机型32款，处理量5到2*10000KG/小时，旋转14到1.4*10000转/分钟，线速度44m/秒，电滚功耗0.18到120kW。六.均质匀浆机：机型4款，处理量0.2到150克/小时，旋转3500到8*1000转/分钟，线速度3到10m/秒，电滚功耗0.145到0.18kW。七.多效用分散乳化均质机：机型27款，处理量150到12.5*10000KG/小时，旋转960到1.4*10000转/分钟，线速度10到44m/秒，电滚功耗1.5到160kW。八.混合机：机型I6款，处理量300到12.5*10000KG/小时，旋转1100到9*1000转/分钟，线速度20到23m/秒，电滚功耗1.5到160kW。九.实用物料种类：胶粘溶胶，巨粒子固态液体悬空液乳剂，不包溶等。十.终级粒径：主腔内有叁组定转子，每组粗齿、中齿、细齿、超细齿。调动定转子间隙，加工后地终级粒径在10微纳米之下。十一.胚料配件：百分之八十以上进ロ海内外公司。十二.技艺出处：引荐德国技艺，立发明加工，备有专利。十三.工作方式：有在线式，批次式，内外循环式，水管式，可倒式，若干效用式。十四.机型合成：靠预加工锅、搅动锅、泵、液压系统、倒料系统、电力调动系统、主腔等部件合成。十五.智力化：CIP冲洗系统，液压升降松盖，包括配料给料吸料安装。十六.磨头好处：研磨头可调5款模版，6款分散头，20多款工作头。十七.锥磨好处：锥磨转子外层包含金属碳化物跟不一样粒子地陶瓷镀层等高上材料，提防毁伤腐蚀。十八.机型材料：统统接碰物料地材料皆是进口耐酸钢，主腔跟管路内乃亮面抛光三百EMSH（卫生级），无死角。十九.密封好处：博格曼双机械密封，液压平稳系统（可以担当16atm重压），软密封。二十.搅动方式：可挑刮壁式/锚固式/融解式/叶面式。二十一.机型好处：机型采选上层同轴三重装搅动器，循环管路，出水阀。二十二.操控箱好处：不但可以操控电滚旋转，摄氏度降温升温（经历电能，热汽，油水循环，可以担当-40到250摄氏度），重压，PH度，粘性。且可以设定不一样效用模版，呈现相称地个个参数，可以线性扩大量产。二十三.可以抉择：察看窗，硅氟酸玻璃察看，电导率计，二重绝缘以防，稳固夹，工作架，底座，图谱剖析多效用显微硬度器（测试界限1到4千HV），管路式测试电炉（测试界限zui高1350度），输出泵/转子泵/气动隔膜泵/锚固泵/离心泵（处理量850到4.3*10000KG/小时），反应搅动单罐/组合罐（500到3*1000KG/小时），反渗透/全自动纯水安装（0.5到3*1000KG/小时)，臭氧发生器，过流式紫外线消菌器等。?.别的特长：整体立方小，电耗低，分贝低，可每日不断出产。?.访客垂访：按照访客实况必要恰当抉选！别的可订制非标和生产线！假若是非常情况，比方超温，超压，易烧易炸，侵蚀性，可产品升级！?.物料测量：得到访客物料后当即投入测量，瞧可否到达要求&答复测量进程&成果。?.方案价格：断定好产品功用后当即策画方案，包含2D部署图，总安装出产线表示图，立体成果图，&呈上本该得价格单子！?.结语：我们是出产厂家，详尽信息可以企业查看，因此分外恭候访客去垂访&更深一步长谈！以上信息不容坊造，非常道谢！扩展内容可不看：碳纳米管（CNTs），管状纳米级石墨晶体，是由单层或多层石墨片以一定的螺旋角绕中心轴卷曲而成的无缝纳米管。 每一层的C经过SP2杂化形成六边形平面的圆柱面。 碳纳米管还具有天然存在的碳晶体的特性。 制造被称为碳原子材料的碳纳米管。 科学发现自然，自然验证科学。

纳米压印设备之热压印：EVG510HE 一、 简介 EVG公司成立于1980年，公司总部和制造厂位于奥地利，在美国、日本和台湾设有分公司，并在其他各地设有销售代理及售后服务部，产品和服务遍及世界各地。EVG公司是一家致力于半导体制造设备的全球供应商，其丰富的产品系列包括：涂胶和喷胶/显影机/热板/冷板、掩模版光刻/键合对准系统、基片热压键合/低温等离子键合系统、基片清洗机、基片检测系统、SOI 基片键合系统、基片临时键合/分离系统、纳米压印系统。目前已有数千台设备安装在世界各地，被广泛地应用于MEMS微机电系统/微流体器件，SOI基片制造，3D封装，纳米压印，化合物半导体器件和功率器件等领域。EVG是世界上为数不多的可以商业化纳米压印设备的好的公司，可为客户提供完整的纳米压印方案，包括热压印、紫外压印、微接触印刷。EVG公司以其zhuan li的极其优异的对准技术和好的的热压技术为纳米压印的成功实施打下了坚实的基础。EVG510HE是一款半自动的热压印设备，用于硬模压印和纳米印刷。该热压印系统配备了一个通用的热压腔室，具备高真空和高接触压力能力，可以处理用于热压印的所有聚合物材料。EVG510HE可以实现长宽比的热压印和多重脱模工艺，为客户提供高质量的图形转移和纳米级分辨率。 二、应用范围纳米压印技术主要应用于如下方面：LEDS 制作，LED PSS纳米压印工艺，LED纳米透镜阵列；微流体学；芯片实验室；抗反射层； 纳米压印光栅； 莲花效应；光子带隙；光学及通讯：光晶体，激光器件；生物技术解决方案：医药分析，血液分析，细胞生长。二、 主要特点u 用于聚合物衬底和旋涂树脂的热压印；u 自动化热压印程序；u EVGzhuan li的单独对准技术用于压印和印刷前对准；u 全程软件控制工艺流程的运行；

Gamry高精度耗散型石英晶体微天平QCM-I 测量石英晶片或所吸附薄膜的频率变化及能量耗散，进而分析反应过程中微小的质量变化，吸附层厚度变化等；判断膜的刚性或柔性，并且分析膜的粘弹性方面的性质；以及实时追踪分子排列、结构变化等。Gamry高精度耗散型石英晶体微天平QCM-I产品特点：阻抗型、耗散型石英晶体微天平判断薄膜的刚性与柔性，测量耗散，分析膜的粘度、弹性等性质吸附、成膜等过程中的微小质量变化（可低至纳克级），分析其厚度、质量等实时追踪反应过程中的分子排列、结构变化......在QCM测试的同时，可以同步进行电化学扫描液相中标准耗散因子精度： 1 x 10-7（1E-7）液相中的质量灵敏度：1 ng/ cm2双通道，带温度控制，流通型QCM池，可扩展至四通道同时监测频率和耗散频率范围：1-80MHz（对于5MHz可做到13倍频）温度控制范围：4°C - 80°C (± 0.02 °C) 可选配电化学测试模块最多可配置为4通道（标准配置为双通道）USB连接方式兼容直径为1英寸和14mm的两种不同尺寸的石英晶片；提供金、ITO导电玻璃等覆盖多种材料薄膜的石英晶片。 Gamry高精度耗散型石英晶体微天平QCM-I适用领域：生物传感器、化学传感器、电池、腐蚀等领域，包括：聚合物膜、纳米粒子薄膜Li+ 嵌入（锂电或电容器）材料表面腐蚀研究电沉积自组装单层 抗原-抗体相互作用 表面活性剂吸附蛋白质吸附离子和溶剂运输 控制软件 —— BiosenseBiosense软件可同时控制石英晶体微天平和Gamry恒电位仪的运行及数据获取。BioSense软件：实时跟踪质量与耗散因子的变化 测试曲线：测量共振频率及共振电导曲线的半峰宽（FWHM），最高频率可达80MHz连续进行频率测试的同时，监控温度随时间的变化 数据分析: 用户可以使用标准或自定义模型，计算相关QCM参数及吸附层参数 Gamry高精度耗散型石英晶体微天平QCM-I 仪器包含:QCM Unit with two temperature controlled channelsPC Computer INTEL NUC with Windows 10 ProQCM Sensor Holder (flow through type) 2 pcBioSense 3.xx Software (one user license)Sample Injection System with Semi-automatic injection valve产品优势Gamry高精度耗散型石英晶体微天平QCM-I是基于对石英晶片进行阻抗分析基础上的高度灵敏的质量传感器，能够测量石英晶片或所吸附薄膜的频率变化及能量耗散，进而分析反应过程中微小的质量变化，吸附层厚度变化等；能够判断膜的刚性或柔性，并且分析膜的粘弹性方面的性质；以及实时追踪分子排列、结构变化等。仪器提供单通道、多通道多种配置；可以单独使用，也可与电化学工作站同步联用。 技术参数

该膜为无机膜，由一种特殊形式的非晶氧化铝膜构成，这种膜具有均匀分布的纳米孔结构，其厚度、孔径、孔间距、孔隙率等均高度可控。 相较与有机过滤薄膜，它的优点很多，包括: 1、超高流通量，由于其极高的孔密度和孔隙率，使得孔径这么小的滤膜具有前所未有的高流通量，使得它在短时间内能达到想要的过滤效果。 2、孔径在孔径大小可控的过滤介质中最小，可达到10纳米（经过处理可进一步减小），并且不存在两个，三个或更多的孔的组合体。 3、超高效的颗粒保留能力，颗粒在膜表面被筛分，而不是在膜孔内某处。 4、为细胞的附着和生长提供刚性、均匀的表面，并且由于潮湿时几乎透明，使得光学显微镜较易观察到细胞的成长。(潮湿时折射指数为1.60 +/- 0.01)。 5、不保留背景污点，因此适用于包括荧光和免疫荧光的各种着色技术。 6、在要求干扰最小的精细试验中是最低水平的可提取材料。 7、耐高温（在摄氏1000度以下膜结构稳定）和抗辐射。 8、 对于SEM检测是理想的射线稳定底层。 9、高的化学相容性 应用领域&mdash &mdash 1、作为滤膜，适用于非常广范围的专业研究中，比如： * 高性能液相色谱（HPLC）中移动相的过滤和去气。 * 外荧光光学显微镜下的细菌分析。 * 溶剂的极度清洁。 * 重量分析和脂质体挤压的研究。 * 筛一样的结构使得留在膜表面的微生物和微粒可以在电子显微镜下进行观察。我们一般认为，是氧化铝膜的耐高温或可用作强性介质的特性让人们想到用它, 但事实上，它的透明特征才是这一系列膜产品大量销售的原因。 * 无需移动保留下来的物质就可直接用光学显微镜进行观察（移动很容易造成样本损失），这是由于膜在潮湿时呈透明状。 2、可作为电子束和离子束曝光，或者反应离子刻蚀等的掩模板，制作纳米点阵结构。 3、可作为滤光片，这是由于其具有一定程度上的光子晶体结构。 目前可提供厚度50微米，孔径30-70纳米，面积几平方厘米的膜，但从技术上来说，完全具备各种规格（厚度2微米到200微米，孔径10-200纳米，面积从几平方毫米到几十平方厘米）的氧化铝过滤膜制备能力，只是我们的交货时间要视客户对膜的具体要求而定，有些制备难度较高、工艺较复杂的膜的交货时间要适当延长。

产品特点：金纳米螺旋标尺（L，R）是手性的纳米标记物，尤其适合于3D断层扫描，电子显微镜（EM）或冷冻电镜。我们的手性标记物显示纯手性（L或R），由于高对比度和金纳米颗粒的精准排列，可以很容易地被电镜检测到。金纳米螺旋标尺（L，R）是用DNA折纸技术制备，金纳米颗粒（10nm）被排列成纳米螺旋（螺距57nm 长110nm 直径34nm）。纳米标尺，AFM纳米标尺，原子力显微镜纳米标尺，共聚焦显微镜纳米标尺，超高分辨显微镜纳米标尺，SIM纳米标尺，STED纳米标尺，STORM纳米标尺，电镜纳米螺旋标尺，金纳米螺旋标尺，显微镜亮度灵敏度标尺，显微镜纳米标尺技术参数：在透射电镜载网中：样品放在干燥的透射电镜载网上使用，以提高由银增强放大了的螺旋效果。样本存储在石蜡膜覆盖的塑料孔中进行运输。保质期是6个月。在缓冲液中:该纳米螺旋储存在缓冲液（1X TE，11mM MgCl2）中运输。样本量约为30μL，这个量足以用于10个以上的TEM。样品保存于低温的保温盒中进行运输。适当的储存条件下（避光，4℃），保质期为3个月。

MicroVacuum是源于匈牙利的品牌。工作原理：　　仪器的核心组件为具有功能表面的石英芯片，通过石英晶体的压电效应来实时监控表面反应。　　当物质在石英晶体表面发生吸脱附反应或者石英晶体表面的液体性质发生变化时，都会引起频率的变化和振荡损耗(耗散)的变化。芯片共振频率的变化，与芯片表面吸附的物质的质量相关。而振荡能量损耗的强度与吸附物质本身的粘弹性及结构相关。QCM-I系列均可以高精度实时的监控这些变化。　　通过分析频率变化与耗散变化，可以获得吸附层相应的质量、吸附层厚度、粘弹性(剪切模量)等信息。应用领域：　　分子相互作用动力学研究(结合/解离常数)细胞吸附、迁移与变化药物作用与药物筛选生物材料相容性研究聚电解质膜的层层组装血凝检测及分析酶降解研究生物传感器平台高分子溶胀、结构变化原油富集及储运研究材料腐蚀与防污水处理及环境污染物消除矿物浮选纳米颗粒分散性流体粘弹性新能源行业细菌生物膜研究

C160奥维斯丁公司（Avestin）HighPressureHomogenizer奥维斯丁公司（Avestin）EmulsiFlex-C160均质机原理：Sample先以高压低流速的状态进入均质阀，产生超剧烈的能量，此能量伴随着剪切、空穴及撞击三效应将固体颗粒、细胞粉碎。 奥维斯丁公司（Avestin）均质机应用：1、生物细胞破壁：大肠杆菌、酵母/灵芝孢子、霉菌，藻类、真菌、动植物细胞破碎；2、样品纳米均质化：微乳、脂质体、分散剂、纳米粒、纳米混悬液，脂肪乳以及各种需要油水相乳化等3、化工：化妆品、纳米材料、纳米晶体、纳米乳液、香精香料等4、食品……产品参数1.工作压力：从0到30,000PSI（0~207兆帕），连续可调2.流量特点：连续流量，压力可逐步自由调节3.超大处理量：160L/h4.超小样品量：40ml5.泵动力源：电源驱动，380V,50Hz/60hz,11kW产品特点1.良好的均质重现性和稳定性2.可选配流量控制系统及温度控制系统3.产品通道采用特殊的锥面密封，方便拆卸，无易损垫片，避免二次污染4.机体组件由医药级不锈钢制成。耐酸、耐碱、耐高温、防腐蚀、耐磨性强5.适用于脂肪乳，脂质体，脂质纳米粒和纳米混悬剂等产品6.可选配热交换器,均质过程小于0.1秒,产品温升小7.可进行在线清洗和在位灭菌。产品全程可以以SIP高压灭菌或蒸汽灭菌，包括所有过湿部件8.可配合在线挤出系统,由均质动力提供挤出匀化的挤出压力9.产品符合卫生级符合GMP标准奥维斯丁公司（Avestin）拥有实验型、中试型、生产型高压纳米均质机供选择，流量从7毫升每小时到2000升每小时，超高工作压力可达3100Bar(310MPa)的超高压纳米均质机。从产品预处理到均质后匀化处理，均高生物可提供一系列的服务。奥维斯丁公司（Avestin）高压均质机突出优势 主要用于:细胞破碎、脂质体，乳状液、分散、、石墨烯、竹纤维、各种流体等 细胞破碎： 1：埃布氏菌细胞要15000Psi（1000Bar）-17000Psi（1180Bar）压力下破碎。 2：Piccia、酵母菌、分支杆菌在22000Psi（1500Bar）压力下破碎。 3：梨酒（酵母）Schizosaccharomyces细胞在28000Psi（1900Bar）压力下破碎 4：竹纤维在25000Psi（1700Bar）压力下破碎 5：石墨烯在28000Psi（1900Bar）工作压力下破碎 6：破壁率可达到99%以上。 脂质体：在15000Psi（1000Bar）下均质，在通过过滤挤出器（经过聚碳酸酯膜），也可以均质+挤出，可制备出50nm、80nm、100nm、200nm以下的脂质体， 您也可以选择无损耗1毫升手推式脂质体挤出器或者气动50毫升脂质体挤出器，聚碳酸酯膜有直径19mm、25mm、47mm、90mm、142mm、293mm等可制备出15nm、30nm、50nm、80nm、100nm、200nm以下脂质体。均质，乳状液：一般在10000Psi（700Bar）-20000Psi（1400Bar）下形成，可达到纳米级。 分散：一般直径在10-100um情况下，以5000Psi（350Bar）先运行一遍，打碎大颗粒，再在25000Psi（1700Bar）下处理分散体，可达到纳米级结构特点：高精密结构，产品通道无垫片和O型圈；核心部件全部进口，性能可靠，均质腔体始终保修。 设备材料：316L不锈钢、17-4PH不锈钢、陶瓷、金刚石；耐酸、耐碱、耐高温、耐磨性强，抗拉力强，防腐蚀奥维斯丁公司（Avestin）均质机应用：1.生物细胞破壁：大肠杆菌、酵母/灵芝孢子、霉菌，藻类、真菌、动植物细胞破碎、2.样品纳米均质化：微乳、脂质体、分散剂、纳米粒、纳米混悬液，脂肪乳以及各种需要油水相乳化等3.化工：化妆品、纳米材料、纳米晶体、纳米乳液、香精香料等4.食品：牛奶、酸奶、豆奶、花生奶。奶粉、天然饮料、果珍饮料、食品添加剂、各种调味品5.石墨烯、墨水、染料、竹纤维、 碳纳米管、氧化钛、二硼化钛、氧化镍等 6.制药行业：抗生素、中药制剂、浆液制剂、营养保健液、脂质体等

纳米操作机、纳米机械手、纳米操纵机械臂、纳米操纵仪TNI LF-2000产品简介 TNI LF-2000是目前市面上基于SEM电镜下使用的自动化程度最 高的纳米操作系统，也是一种能够在SEM电镜下提供可重复 定位、低漂移、闭环运动控制定位的纳米操作系统。 产品特性 完全兼容主流电镜，不影响电镜功能 市面上较佳的运动定位性能：大行程、亚纳米分辨率 位移传感器集成自动化和可编程运动 SEM真空环境优化设计，可快速安装与拆卸规格参数应用案例电学特性LifeForce为纳米材料提供可靠、低噪音的电测量，以及与纳米结构的原位相互连接。图片展示的是四探针测量纳米线电学性能。力学测量LifeForce为纳米材料的力学特性提供高分辨率的力和位移反馈，图片展示的是用球端AFM悬臂探针对单根纳米线的拉伸测试。拾取和放置操作使用末端工具（例如：探针、微纳米夹持器、超声切割针），操作者能够操作LifeForce纳米操作手在SEM电镜内对微纳米物体进行推、拉和抓取等操作。制作微纳米器件精密的操作手运动能够实现微纳米器件的快速成型和后处理。图片展示的是纳米线FET传感器的构造。

GRIMM气溶胶科技公司颗粒物粒径检测下限可达： 1.1 nm融合了Airmodus专利的纳米颗粒增大技术（PSM）和GRIMM 的扫描电迁移率粒径谱技术（SMPS+C）从1纳米至1微米完整测量 特点从1.1 纳米开始测量颗粒物的粒径分布融合了Airmodus 专利PSM技术和GRIMM SMPS+CAirmodus 专利的纳米颗粒增大技术（PSM）技术可使SMPS测量到最小的纳米颗粒和团簇2级CPC凝聚长大技术（二甘醇和正丁醇）为测量1纳米颗粒优化了DMA气路系统DMA可以选择扫描模式，步进模式或单一粒径筛分三种模式Airmodus PSM-A10 纳米颗粒增长器，第一级检测器工作溶液：二甘醇50%粒径检出限：1.5 纳米 （镍铬颗粒）采样流量：2.5 升/分钟真空要求：100—350 mbar NTP压缩气源要求：1.5—2.5 bar NTP， 除油/除水/除颗粒电源要求：100-240 VAC 50/60 Hz， 280 W通讯接口：USB或RS-232外观尺寸：29*45*46.5 cm重量：17 kg GRIMM 5417 CPC工作溶液：正丁醇50%粒径检出限：4 纳米 （氧化钨颗粒）采样流量：0.3升/分钟或0.6 升/分钟采样泵：内置检测浓度：单颗粒模式：1.5*10^5个/cm3,光度计模式：10^7个/cm3响应时间：T10—90 3s电源要求：90-264 VAC 47--63 Hz， 80--130 W通讯接口：USB，RS-232，模拟脉冲外观尺寸：40*25*29cm重量：12.4 kg 分级器DMA模式： GRIMM 维也纳型S-DMA或M-DMA，L-DMA粒径筛分范围：1.1—55纳米（10升/分钟鞘气流速 S-DMA） 2.8---155纳米（10升/分钟鞘气流速 M-DMA）粒径分辨率：步进模式： 45—255通道，可调 扫描模式：64通道每10倍粒径，对数间距 PSMPS数据输出：颗粒物数量浓度/粒径分布进样湿度：0—95%RH，非凝结采样压力：600—1050 mbar工作温度：15—30 oC工作湿度：0—95%RH，非凝结

纳米力学和纳米摩擦学测试的一大飞跃Bruker’s Hysitron TI 980 TriboIndenter海思创TI 980 TriboIndenter纳米压痕仪是布鲁克zui先进的纳米力学测试设备，同时具有zui高的性能、灵活性、可信度、实用性和速度。TI 980纳米压痕仪是布鲁克著ming的海思创纳米压痕设备的新一代产品。它建立在几十年的技术创新上，提供了纳米力学和纳米摩擦学表征领域全新水平的非凡性能、能力和功能。 让您时刻保持在材料探索和发展前沿采用布鲁克的Performech II先进控制模块，TI 980纳米压痕仪在控制能力、测试通量、测试灵活性、适用性、灵敏度、可信度和系统模块化等方面有了显著的进步。TI 980包含以下多种强有力的功能：纳米压痕与微米压痕、纳米划痕、纳米摩擦磨损、高分辨原位扫描探针显微镜成像、动态纳米压痕和高速机械性能成像。这些测试功能有助于全面理解材料纳米尺度下的行为。 简易高速的自动化海思创TI 980提供了高通量表征所需的快速、多样品和多技术自动测试能力。它可以按照设定时间间隔自动验证针尖形状，还可以实现多尺度下的高分辨成像和全样品光学扫描。 不会过时的表征潜力鉴于将来会出现不同与今日的表征需求，TI 980纳米压痕仪被设计为具有zui好的灵活性。TI 980支持大量集成和具有相关性的纳米力学表征技术，使您时刻保持在材料研发前沿。集成多种系统控制模块和数据分析软件、通用样品固定选项（机械、磁性和真空）和模块化环境腔，TI 980也适用于您将来的表征需求。 纳米力学测试设备Bruker’s TI 950 TriboIndenter海思创TI 950 TriboIndenter纳米压痕仪是布鲁克一台用于多种纳米力学和纳米摩擦学表征的自动化、高通量测试设备。海思创TI 950纳米压痕仪集成了强大的Preformech I先进控制模块，显著提高了纳米力学测试反馈控制的准确度，提供了空前的低噪音水平。结合布鲁克的大量纳米力学测试技术和正在研发的测试方法，TI 950 TriboIndenter 是一台多功能和极其高效的纳米力学测试系统，适用于广泛的应用。 优异的控制反馈和灵敏度布鲁克先进的反馈控制算法和测量灵敏度为所有海思创纳米力学测试技术提供了精确的控制。海思创TI 950上所有的反馈控制功能都基于集成了数据信号处理器（DSP）和现场可编程门阵列（FPGA）的专业控制系统，用于精确实现用户的测试需求。 电容传感器技术专业的电容传感器技术提供了纳米压痕过程中前所未有的测量灵敏度（30nN, 0.2nm），准确性和可信度。静电激励模式使用微小电流，具有zui好的温漂性能，从而实现更快的数据采集，更高的精度和更好的重复性。集成原位扫描探针成像的高分辨光学系统海思创TI 950集成了带彩色CCD相机的光学系统，用于高放大倍数下的样品表面观察和测试位置选择。原位扫描探针成像系统能提供更精确的测试位置选择（±10nm）。TI 950的这种双模式成像设计实现了许多应用对精确控制测试位置的需求。 Hysitron TI Premier实现定量纳米力学研究布鲁克的海思创TI Premier系列被专门设计为在紧凑平台上实现领xian的定量纳米力学表征。基于已被广泛认可的先进技术，海思创TI Premier提供了纳米力学和纳米摩擦学测试的核心工具。除了使用不同配置的海思创TI Premier实现不同领域的研究测试外，TI Premier还提供了大量升级选项，用于满足将来的多种潜在测试需求。Contact Us Download Brochure 海思创TI Premier可满足不同研发需要。常用的配置选项包括： 准静态纳米压痕 多功能设计，针对薄膜和涂层力学性能表征优化 动态纳米压痕 适用于从超软到超硬的各种材料的准静态和动态力学系能表征 高温纳米压痕 研究不同温度下（高达800℃）材料的力学性能和时间依赖形变行为 多尺度压痕 实现从纳米到微米尺度的压痕测试

ViewSizer™ 3000 实现了纳米颗粒追踪分析技术的突破，包括特有的照射和检测方法，使得各种尺寸纳米颗粒的可视化、粒径和数量浓度测量成为可能。颗粒和颗粒动态过程的可视化 准确测量宽分布样品的粒径和数量浓度 量化颗粒动力学过程： 例如颗粒结晶，团聚，自组装，溶胀，溶解和收缩等过程与传统的NTA一样，该仪器可对悬浮液中单个纳米颗粒的散射光进行可视化，然后利用这些数据来确定颗粒的运动并利用Stokes Einstein方程推断颗粒尺寸，在此基础上利用已知的照射和成像的样品体积确定颗粒数量浓度。一次测量可得到两个关键信息：颗粒粒径分布和颗粒浓度。先进的多光源光学系统由于仪器采用了三种波长的可见光源(蓝、绿、红)，因而能够为样品测试选择较好的条件，克服NTA技术分析多分散样品时存在的局限性，能够对更大尺寸范围的颗粒进行可视化。此外， ViewSizer 3000样品池易于使用和清洁，并具有间歇搅拌功能，从而提供重现性更高的结果。由于样品是在垂直方向上观察的，它非常适合于观察蛋白质聚集或晶体溶解等过程。因此，无论您是使用NTA分析外泌体或其他微泡，还是复杂的纳米颗粒动力学过程，ViewSizer 3000都是一项突破性的技术，为您的实验室分析提供更好的方案。荧光颗粒分析ViewSizerTM3000特有多波长光源和检测技术使其在荧光颗粒分析方面具有独特优势，可以区分样品中相同粒径分布的不同成分。左图所示的重叠粒径分布图，清晰表明了混合样品中不同组分的浓度及其在混合物中的百分比。颗粒动力学分析ViewSizer TM 3000具有对从纳米级到微米级宽粒径范围的颗粒进行可视化、粒径测量和计数的独特功能，从而能够表征颗粒的动力学过程，包括：活性药物成分的溶解、聚合物的自组装、食品和药品的结晶、蛋白质的聚集和颗粒团聚等等。此外，借助于监控温度和浓度等工艺参数，颗粒动力学研究有助于确定理想的工艺条件和配方参数。计数与浓度根据样品体积和成像的颗粒数量轻松确定颗粒浓度，这对过程控制中的投入产出比等应用都至关重要。友好的软件系统ViewSizerTM3000软件开发以用户需求为导向。点击鼠标即可完成所有颗粒的可视化的分析、数据采集、多种数据格式输出。概述 高分辨率的粒度分布和可视化 适合测量颗粒大小分布范围广的样品 配备多波长光源 适合监测纳米颗粒的动力学过程

ViewSizer&trade 3000ViewSizer&trade 3000 实现了纳米颗粒追踪分析技术的突破性提升，包括特有的照射和检测方法，使得各种尺寸纳米颗粒的可视化、粒径和数量浓度测量成为可能。与传统的NTA一样，该仪器可对悬浮液中单个纳米颗粒的散射光进行可视化，然后利用这些数据来确定颗粒的运动并利用Stokes Einstein方程推断颗粒尺寸，在此基础上利用已知的照射和成像的样品体积确定颗粒数量浓度。一次测量可得到两个关键信息：颗粒粒径分布和颗粒浓度。先进的多光源光学系统由于仪器采用了三种波长的可见光源(蓝、绿、红)，因而能够为样品测试选择较好的条件，克服NTA技术分析多分散样品时存在的局限性，能够对更大尺寸范围的颗粒进行可视化。此外， ViewSizer 3000样品池易于使用和清洁，并具有间歇搅拌功能，从而提供重现性更高的结果。由于样品是在垂直方向上观察的，它非常适合于观察蛋白质聚集或晶体溶解等过程。因此，无论您是使用NTA分析外泌体或其他微泡，还是复杂的纳米颗粒动力学过程，ViewSizer 3000都是一项突破性的技术，为您的实验室分析提供更好的方案。荧光颗粒分析ViewSizerTM3000特有多波长光源和检测技术使其在荧光颗粒分析方面具有独特优势，可以区分样品中相同粒径分布的不同成分。左图所示的重叠粒径分布图，清晰表明了混合样品中不同组分的浓度及其在混合物中的百分比。颗粒动力学分析ViewSizer TM 3000具有对从纳米级到微米级宽粒径范围的颗粒进行可视化、粒径测量和计数的独特功能，从而能够表征颗粒的动力学过程，包括：活性药物成分的溶解、聚合物的自组装、食品和药品的结晶、蛋白质的聚集和颗粒团聚等等。此外，借助于监控温度和浓度等工艺参数，颗粒动力学研究有助于确定理想的工艺条件和配方参数。计数与浓度根据样品体积和成像的颗粒数量轻松确定颗粒浓度，这对过程控制中的投入产出比等应用都至关重要。友好的软件系统ViewSizerTM3000软件开发以用户需求为导向。点击鼠标即可完成所有颗粒的可视化的分析、数据采集、多种数据格式输出。概述 高分辨率的粒度分布和可视化 适合测量颗粒大小分布范围广的样品 配备多波长光源 适合监测纳米颗粒的动力学过程

（一）.机种昵称：纳米碳酸钙研磨混合机，制药研磨混合机，纳米研磨混合机，超研磨混合机，线路式研磨混合机，Ⅲ级研磨混合机，高剪切研磨混合机。（二）.研磨机：机种19类，流动50一8万千克/60分钟，运行1千1一1万4rpm/min，线速度23一44M/秒钟，电辊耗量1.5一160KW，磨头胶体磨和锥体磨。三.研磨分散机：机型6款，处理量50到6*1000KG/小时，旋转1100到9*1000转/分钟，线速度23m/秒，电滚功耗2.2到150kW，磨头胶体磨。四.小型分散乳化机：机型30款，处理量0.2克到10KG/小时，旋转50到3*10000转/分钟，线速度3到33m/秒，电滚功耗0.3到0.8kW。五.真空分散乳化机：机型32款，处理量5到2*10000KG/小时，旋转14到1.4*10000转/分钟，线速度44m/秒，电滚功耗0.18到120kW。六.均质匀浆机：机型4款，处理量0.2到150克/小时，旋转3500到8*1000转/分钟，线速度3到10m/秒，电滚功耗0.145到0.18kW。七.多效用分散乳化均质机：机型27款，处理量150到12.5*10000KG/小时，旋转960到1.4*10000转/分钟，线速度10到44m/秒，电滚功耗1.5到160kW。八.混合机：机型I6款，处理量300到12.5*10000KG/小时，旋转1100到9*1000转/分钟，线速度20到23m/秒，电滚功耗1.5到160kW。九.实用物料种类：胶粘溶胶，巨粒子固态液体悬空液乳剂，不包溶等。十.终级粒径：主腔内有叁组定转子，每组粗齿、中齿、细齿、超细齿。调动定转子间隙，加工后地终级粒径在10微纳米之下。十一.胚料配件：百分之八十以上进ロ海内外公司。十二.技艺出处：引荐德国技艺，立发明加工，备有专利。十三.工作方式：有在线式，批次式，内外循环式，水管式，可倒式，若干效用式。十四.机型合成：靠预加工锅、搅动锅、泵、液压系统、倒料系统、电力调动系统、主腔等部件合成。十五.智力化：CIP冲洗系统，液压升降松盖，包括配料给料吸料安装。十六.磨头好处：研磨头可调5款模版，6款分散头，20多款工作头。十七.锥磨好处：锥磨转子外层包含金属碳化物跟不一样粒子地陶瓷镀层等高上材料，提防毁伤腐蚀。十八.机型材料：统统接碰物料地材料皆是进口耐酸钢，主腔跟管路内乃亮面抛光三百EMSH（卫生级），无死角。十九.密封好处：博格曼双机械密封，液压平稳系统（可以担当16atm重压），软密封。二十.搅动方式：可挑刮壁式/锚固式/融解式/叶面式。二十一.机型好处：机型采选上层同轴三重装搅动器，循环管路，出水阀。二十二.操控箱好处：不但可以操控电滚旋转，摄氏度降温升温（经历电能，热汽，油水循环，可以担当-40到250摄氏度），重压，PH度，粘性。且可以设定不一样效用模版，呈现相称地个个参数，可以线性扩大量产。二十三.可以抉择：察看窗，硅氟酸玻璃察看，电导率计，二重绝缘以防，稳固夹，工作架，底座，图谱剖析多效用显微硬度器（测试界限1到4千HV），管路式测试电炉（测试界限zui高1350度），输出泵/转子泵/气动隔膜泵/锚固泵/离心泵（处理量850到4.3*10000KG/小时），反应搅动单罐/组合罐（500到3*1000KG/小时），反渗透/全自动纯水安装（0.5到3*1000KG/小时)，臭氧发生器，过流式紫外线消菌器等。二十四.另外好处：成套容积小，功耗低，噪声低，可以每天不停加工。二十五.顾客垂问：依据顾客实情需求正确抉择！另外可以定制非标和生产线！假诺是特别工况，好比极温，极压，易燃易爆，腐蚀性，可以机型升级！二十六.物料测量：获得顾客物料后赶紧开始测试，看能否达到要求跟回答测试经过跟成效。二十七.方案价钱：决定好机型效用后赶紧策划方案，包括平面布置图，总组装加工线示意图，三维成效图，跟奉上对应地价钱列表！二十八.结语：我们是加工公司，详情可以公司查看，因而格外恭迎顾客来访问跟且进一步会谈！以上内容不准仿照，非常感恩！扩展内容可不看：纳米碳酸钙又称超细碳酸钙。标准名称为超细碳酸钙。纳米碳酸钙应用成熟的行业是塑料行业，主要用于塑料制品。 可改善塑料母粒的流变性，提高其成型性。用作塑料填料，具有增韧补强的作用，提高塑料的弯曲强度和弯曲弹性模量、热变形温度和尺寸稳定性，同时赋予塑料热滞后性。用于油墨产品的纳米碳酸钙具有的分散性和透明度以及的光泽度，以及的吸墨性和高干燥性。纳米碳酸钙在树脂油墨中用作油墨填料，稳定性好，光泽度高，不影响印刷油墨的干燥性能。适应性强等优点。纳米碳酸钙是1980年代发展起来的一种新型超细固体粉末材料，其粒径在0.01～0.1μm之间。由于纳米碳酸钙颗粒的超细化，其晶体结构和表面电子结构发生变化，产生普通碳酸钙不具备的量子尺寸效应、小尺寸效应、表面效应和宏观量子效应。

EQCM-I Mini 电化学石英晶体微天平可以与Gamry电化学工作站同步运行EQCM-I Mini 电化学石英晶体微天平能够测量石英晶片或所吸附薄膜的频率变化及能量耗散，进而分析反应过程中微小的质量变化，吸附层厚度变化等；能够判断膜的刚性或柔性，并且分析膜的粘弹性方面的性质；以及实时追踪分子排列、结构变化等.阻抗型、耗散型石英晶体微天平判断薄膜的刚性与柔性测量耗散，分析膜的粘弹性吸附、成膜等过程中的微小质量变化，分析膜的厚度、质量等实时追踪反应过程中的分子排列、结构变化......控制软件 —— BiosenseBiosense软件可同时控制石英晶体微天平和Gamry恒电位仪的运行及数据获取。EQCM-I Mini 电化学石英晶体微天平是基于对石英晶片进行阻抗分析基础上的高度灵敏的质量传感器，测量共振频率及共振电导曲线的带宽或半峰宽（FWHM），它们与品质因子Q直接相关，品质因子Q是耗散因子D的倒数。 该产品能够测量石英晶片或所吸附薄膜的频率变化及能量耗散，进而分析反应过程中微小的质量变化，吸附层厚度变化等；能够判断膜的刚性或柔性，并且分析膜的粘弹性方面的性质；以及实时追踪分子排列、结构变化等过程。 同时测量共振频率和耗散因子快速测量多个谐波震动频率（对于5MHz晶片，可以测到第13次谐波）实现和Gamry电化学工作站一体化设计温控范围是15°C 到60°C (精度± 0,02 °C)电化学测量模块可供选择可以扩展到2通道和Windows 10等操作系统PC计算机兼容。直接通过USB实现数据通讯液相中标准耗散因子精度为 ~ 1 x 10-7EQCM-I Mini 电化学石英晶体微天平仪器参数： EQCM-I Mini 电化学石英晶体微天平适用领域：生物传感器、化学传感器、电池、腐蚀等领域，包括：聚合物膜、纳米粒子薄膜Li+ 嵌入（锂电或电容器）材料表面腐蚀研究电沉积自组装单层 抗原-抗体相互作用 表面活性剂吸附蛋白质吸附离子和溶剂运输测试曲线：测量共振频率及共振电导曲线的半峰宽（FWHM），最高频率可达80 MHz连续进行频率测试的同时，监控温度随时间的变化数据分析: 用户可以使用标准或自定义模型，计算相关QCM参数及吸附层参数EQCM-I Mini 电化学石英晶体微天平仪器包含：eQCM unit with two channels (one channel is temperature controlled)Microsoft Surface Pro Tablet with Windows 10 ProQSH-104 QCM Sensor Holder (flow through type)QSHE-104 QCM Sensor Holder (flow through type) with "leak free" Ag/AgCl reference electrodeBioSense EC 3.xx Software (one user license)产品优势可以与Gamry电化学工作站同步运行，能够测量石英晶片或所吸附薄膜的频率变化及能量耗散，进而分析反应过程中微小的质量变化，吸附层厚度变化等；能够判断膜的刚性或柔性，并且分析膜的粘弹性方面的性质；以及实时追踪分子排列、结构变化等。阻抗型、耗散型石英晶体微天平判断薄膜的刚性与柔性测量耗散，分析膜的粘弹性吸附、成膜等过程中的微小质量变化，分析膜的厚度、质量等实时追踪反应过程中的分子排列、结构变化......