纳米晶体

简介：二维晶体材料指的是以石墨烯为代表的单原子层及少数原子层厚度的晶体材料，巨纳集团除了提供石墨烯材料、设备、检测等一体化服务外，还联合美国2D Semiconductors为全球客户提供高质量的二维晶体材料、粉体、溶液、薄膜等材料，并提供定制服务，以满足客户的不同需求。碳纳米管MWCNTs

碳纳米管碳纳米管又称巴基管，作为一堆纳米材料，碳纳米管具有非常优异的力学、电学、化学性能且质量轻、韧性好。可用于碳纤维材料，复合材料的增强剂、场效应晶体管材料，电子发射源，化学传感器等。

本品利用&ldquo 绿色&rdquo 合成法，采用高稳定性半导体纳米晶及复合纳米 晶进行大规模合成制备。性能稳定，特点为CdSe及CdSe/ZnS核- 壳结构，不含有机磷，获得与传统合成工艺同样的效果。可广泛的 应用于发光二极管，太阳能电池，激射材料，生物映像，传感器件 等领域。上图为具有不同发射波长的CdSe/ZnS核-壳结构纳米晶的紫外- 可见吸收光谱和荧光光谱. 其荧光峰位分别为: (a) 517 nm (b) 527 nm (c) 572 nm (d) 615 nm. 图中照片为相应产品在365 nm紫外灯 照射下的实物照片。

ZnS琉化锌晶体光学材料作为一个重要的二，六化合物半导体，硫化锌纳米材料已经引起了极大的关注，不仅因为其出色的物理特性，如能带隙宽，高折射率，高透光率在可见光范围内，而且其巨大的潜力应用光学，电子和光电子器件。硫化锌具有优良的荧光效应及电致发光功能，纳米硫化锌更具有独特的光电效应，在电学、磁学、光学、力学和催化等领域呈现出许多优异的性能，因此纳米硫化锌的研究引起了更多人的重视，尤其是1994年Bhargava报道了经表面钝化处理的纳米ZnS：Mn荧光粉在高温下不仅有高达18% 的外量子效率，其荧光寿命缩短了5个数量级，而且发光性能有了很大的变化，更为ZnS在材料中的应用开辟了一条新途径。可用于制白色的颜料及玻璃、发光粉、橡胶、塑料、发光油漆等。Zinc sulfide is commonly used for IR optics, substrates and as a source for evaporation.Basic propertiesStructure:Cubic (zincblende)Density:4.08 g/ cm3Knoop Hardness:210 kg/ mm2Young’s Modulus:10.8 MpsiPoisson Ratio:0.27Coef. of Thermal Expansion:6.8×10-6/KSpecific Heat:0.469 J/gKThermal conductivity (at 25°C):0.16 W/cmKMax. Transmittance (λ=7-12μm):≥71 %Absorption Coef. (λ=10.6μm):≤0.15 cm-1(including 2 surfaces)Thermo-Optic Coef. (dn/dT):4.7 (λ=10.6μm)Refractive index (λ=10.6μm):2.34Electrooptical coefficient r41(λ=10.6μm):2×10-12m/VMax. crystal diameter/length:?38×30 mmZnS TransmissionProductsZnS rods, wafers and substratesDiameter/Width1-38 mmThickness/length0.1-150 mmOrientation(110)Surface qualityAs-cut, 80/50, 60/40 perMIL-0-13830ZnS crystal pieces for vapour deposition.Purity99.995%, 99.999%Particle size0.01- 10 mm更多晶体相关产品碲化锌晶体ZnTe晶体铌酸锂晶体LiNbO3晶体硒化锌晶体ZnSe晶体硒化镓晶体GaSe晶体硫化锌晶体ZnS晶体磷化镓晶体GaP晶体有机晶体DAST晶体有机晶体DSTMS晶体有机晶体OH1晶体

YAG:Ce闪烁晶体也叫作YAG:Ce闪烁体或YAG:Ce晶体。我们提供优质欧洲进口的YAG:Ce闪烁晶体,并可以在YAG:Ce晶体基础上支撑Ce:YAG闪烁晶体和YAG:Ce晶体作为衬底，从而保证具有超薄和超高分辨率的优点（最薄可达5微米以下）。YAG:Ce闪烁晶体材料具有衰减快以及具有良好的化学、力学和温度性能。Ce:YAG闪烁体和Ce:YAG闪烁晶体发出的光非常适合光电二极管和雪崩二极管读取。这些YAG:Ce闪烁晶体成像荧光屏特意为电子成像、X射线成像和紫外成像应用而设计，并可以提供Al、ITO或C(铝、氧化铟锡、炭）等传导性和反射或者增透镀膜。光学衬底上的YAG:Ce晶体高分辨率的成像屏实际上是高铝成像系统的主要元件.我们提供基于YAG：Ce晶体或YAG:Ce闪烁晶体的超薄显示屏.超薄YAG:Ce浸提屏(左图) 和超薄LuAG:Ce超薄屏(右图)使用这种镀在光学衬底上的超薄成像屏,结合光学系统和CCD相机,可以获得优于1微米(X射线应用)和2纳米(电镜)的分辨率.光纤光学上的成像屏 我们可以提供耦合到FOP上的YAG:Ce和LuAG:Ce成像屏，也可与CCD耦合一起。

YAP:Ce晶体也叫作YAP:Ce闪烁晶体。我们提供优质进口的YAP:Ce闪烁晶体。并可以在YAP:Ce晶体基础上支撑YAP:Ce闪烁晶体和YAP:Ce作为衬底，从而保证具有超薄和超高分辨率的优点（最薄可达5微米以下）。这两种材料具有衰减快以及具有良好的化学、力学和温度性能。YAP:Ce晶体YAP:Ce闪烁发出的光非常适合光电二极管和雪崩二极管读取。这些成像荧光屏特意为电子成像、X射线成像和紫外成像应用而设计，并可以提供Al、ITO或C(铝、氧化铟锡、炭）等传导性和反射或者增透镀膜。光学衬底上的成像屏高分辨率的成像屏实际上是高光谱铝成像系统的主要元件.我们提供基于Ce:YAP闪烁晶体或Ce:YAP晶体的超薄显示屏.超薄Ce:YAP闪烁晶体屏(左图) 和超薄Ce:YAP晶体超薄屏(右图)使用这种镀在光学衬底上的超薄成像屏,结合光学系统和CCD相机,可以获得优于1微米(X射线应用)和2纳米(电镜)的分辨率.光纤光学上的成像屏 我们可以提供耦合到FOP上的YAP:Ce闪烁晶体和YAP:Ce晶体，也可与CCD耦合一起。

纳米单晶硅衬底2D线性纳米棒LIGHTSMYTH屹持光电提供各种纳米单晶硅衬底2D线性纳米棒，为工业和科研提供低成本的纳米光子学研究。基板可用于光学、生物学、化学、物理学（例如中子散射）、聚合物研究、纳米压印、微流体等各种应用。如果需要，可以用金属或介电涂层涂覆基底。大多数表面特征具有略微梯形的横截面轮廓，具有直平行台面和沟槽。也可以使用格状结构。提供多种特征尺寸和沟槽深度。可以在发货之前拍摄基板的SEM图像以验证确切的轮廓。表中显示的尺寸代表目标值。周期的精度优于0.5％，而沟槽深度和线和空间的宽度可能与目标值相差15％。SEM用于说明目的。可定制更精确尺寸信息。纳米单晶硅衬底2D线性纳米棒LIGHTSMYTH规格描述值基材宽度和高度公差标准公差±0.2 mm通光孔径（CA）距基板边缘0.5 mm（图案可延伸至基板边缘）基材厚度0.675±0.050mmCA表面质量P / N “-P”：60/40，最高20/10CA表面质量P / N “-S”：80/100CA外表面质量无要求材料单晶硅，反应离子蚀刻1、线性纳米棒（线+间隔）P/N周期（nm）凹槽深度（nm）工作周期1线宽度2（nm尺寸3（mm）SNS-C72-1212-50-P1395050％69.512.5×12.5×0.7SNS-C72-2525-50-P1395050％69.525×25×0.75SNS-C36-1212-110-P27811050％13912.5×12.5×0.7SNS-C24-1212-110-P416.611050％20812.5×12.5×0.7SNS-C20-0808-150-D45-P50015044％2208×8.3×0.7SNS-C20-0808-350-D45-P50035044％2208×8.3×0.7SNS-C20-0808-150-D60-P50015060％3008×8.3×0.7SNS-C20-0808-350-D60-P50035060％3008×8.3×0.7SNS-C18-2009-110-D50-P555.511050％27820×9×0.7SNS-C18-2009-140-D50-P555.514050％27820×9×0.7SNS-C18-2009-110-D29-P555.511029％15820×9×0.7SNS-C18-2009-140-D29-P555.514029％15820×9×0.7SNS-C16.7-0808-150-D45-P60015043％2608×8.3×0.7SNS-C16.7-0808-350-D45-P60035043％2608×8.3×0.7SNS-C16.7-0808-150-D55-P60015055％3308×8.3×0.7SNS-C16.7-0808-350-D55-P60035055％3308×8.3×0.7SNS-C16.5-2912-190-P60619050％30329×12×0.7SNS-C16.5-2912-190-S460619050％30329×12×0.7SNS-C16.5-2924-190-P60619050％30329×24.2×0.75SNS-C14.8-2410-170-P67517032％21824×10×0.7SNS-C14.8-2430-170-P67517032％21824×30.4×0.75SNS-C14.3-0808-150-D45-P70015047％3308×8.3×0.7SNS-C14.3-0808-350-D45-P70035047％3308×8.3×0.7SNS-C14.3-0808-150-D55-P70015055％3758×8.3×0.7SNS-C14.3-0808-150-D55-P70015055％3758×8.3×0.7SNS-C12-1212-200-P833.320050％41612.5×12.5×0.7SNS-C12-2525-200-P833.320050％41625×25×0.75SNS-C11.7-1212-200-P85520050％42812.5×12.5×0.7SNS-C11.7-2525-200-P85520050％42825×25×0.75纳米单晶硅衬底2D线性纳米棒LIGHTSMYTH1 占空比表示线（台面）宽度与周期的比率。2 表示台面的宽度值。3 第二维对应于凹槽长度。4 以“-S”结尾的是“科研”等级。它至少有80％的可用面积。可能存在高达80/100表面质量值。5 可提供更大的自定义尺寸2、2D纳米图案（矩形和六边形网格）P/N周期（nm）格子类型凹槽深度特征宽度（nm）尺寸（mm）S2D-24B3-0808-150-P700矩形1502608×8.3×0.7S2D-24B3-0808-350-P700矩形3502608×8.3×0.7S2D-18B3-0808-150-P700矩形1503508×8.3×0.7S2D-18B3-0808-350-P700矩形3503508×8.3×0.7S2D-24C2-0808-150-P600六角1501658×8.3×0.7S2D-24C2-0808-350-P600六角3501658×8.3×0.7S2D-18C2-0808-150-P600六角1502408×8.3×0.7S2D-18C2-0808-350-P600六角3502408×8.3×0.7S2D-24C3-0808-150-P700六角1502208×8.3×0.7S2D-24C3-0808-350-P700六角3502208×8.3×0.7S2D-18C3-0808-150-P700六角1502908×8.3×0.7S2D-18C3-0808-350-P700六角3502908×8.3×0.7S2D-24D2-0808-150-P600六角孔1501808×8.3×0.7S2D-24D2-0808-350-P600六角孔3501808×8.3×0.7S2D-18D3-0808-150-P700六角孔1502008×8.3×0.7S2D-18D3-0808-350-P700六角孔3502008×8.3×0.7S2D-24D3-0808-150-P700六角孔1502908×8.3×0.7S2D-24D3-0808-350-P700六角孔3502908×8.3×0.7rect posthex posthex hole相关产品：脉冲压缩透射光栅高功率光束组合光谱衍射光栅光通信透射衍射光栅纳米单晶硅衬底2D线性纳米棒

产品特点：金纳米螺旋标尺（L，R）是手性的纳米标记物，尤其适合于3D断层扫描，电子显微镜（EM）或冷冻电镜。我们的手性标记物显示纯手性（L或R），由于高对比度和金纳米颗粒的精准排列，可以很容易地被电镜检测到。金纳米螺旋标尺（L，R）是用DNA折纸技术制备，金纳米颗粒（10nm）被排列成纳米螺旋（螺距57nm 长110nm 直径34nm）。纳米标尺，AFM纳米标尺，原子力显微镜纳米标尺，共聚焦显微镜纳米标尺，超高分辨显微镜纳米标尺，SIM纳米标尺，STED纳米标尺，STORM纳米标尺，电镜纳米螺旋标尺，金纳米螺旋标尺，显微镜亮度灵敏度标尺，显微镜纳米标尺技术参数：在透射电镜载网中：样品放在干燥的透射电镜载网上使用，以提高由银增强放大了的螺旋效果。样本存储在石蜡膜覆盖的塑料孔中进行运输。保质期是6个月。在缓冲液中:该纳米螺旋储存在缓冲液（1X TE，11mM MgCl2）中运输。样本量约为30μL，这个量足以用于10个以上的TEM。样品保存于低温的保温盒中进行运输。适当的储存条件下（避光，4℃），保质期为3个月。

石墨烯纳米薄片（2~10nm） Graphene Nanoplatelets体积特性外观：黑色和灰色粉末碳含量：＞99.5%体积密度：0.10克/毫升水含量：0.5 wt%残留杂质：0.5 wt%物理性质直径：5微米厚度：2-10 nm比表面积：20-40平方米/克电导率：80000秒/平方米拉伸强度：5 GPa结构特点：层状结构与石墨晶体相同产品名称厚度直径规格石墨烯纳米片（2~10nm）2~10nm~5um50g/500g石墨烯纳米片（1~2mm）1~2mm5~10um500mg石墨烯纳米片（1~5mm）1~5mm~5um1g/5g/10gGraphene nanoplatelets consist of stacks of multi-layer graphene sheets in a platelet morphology?with a high aspect ratio (width–to-thickness).True density: 2.3g/cm3

产品特点：GATTA-AFM纳米标尺具有准确、高度平行的结构，可以完美地用于检测或优化原子力显微镜。在实际环境中测试原子力显微镜可以达到的分辨率非常重要，不仅可以测出原子力显微镜达到产品标称分辨率的可能性，还可以测出实际使用时可达到的极限。如今GATTA也提供适合测试的GATTA-AFM纳米标尺，现在，有了GATTA原子力显微镜纳米标尺之后，就有了足够的测试样品，这些样本用DNA做成，呈现70nm*90nm*2nm（高）的长方体形状。纳米标尺，AFM纳米标尺，原子力显微镜纳米标尺，共聚焦显微镜纳米标尺，超高分辨显微镜纳米标尺，SIM纳米标尺，STED纳米标尺，STORM纳米标尺，电镜纳米螺旋标尺，金纳米螺旋标尺，显微镜亮度灵敏度标尺，显微镜纳米标尺技术参数：

300-900纳米铌酸锂单晶薄膜300-900纳米 铌酸锂单晶薄膜顶层器件层尺寸3, 4, (6) 英寸切向X, Z, Y切等材料铌酸锂厚度300-900 纳米掺杂（可选）掺镁埋层材料二氧化硅厚度1000-4000 纳米基底材料硅、铌酸锂、石英、熔融石英等厚度400-500 微米电极层（可选）材料铂金，金，铬厚度100-400 纳米位置在顶层器件层与埋层之间或埋层与基底之间铌酸锂单晶薄膜二氧化硅硅、铌酸锂、石英或熔融石英基底铌酸锂单晶薄膜金电极或铂金电极铌酸锂基底二氧化硅铌酸锂单晶薄膜金电极或铂金电极铌酸锂基底二氧化硅掺镁铌酸锂单晶薄膜铌酸锂基底二氧化硅首页 - 产品300-900纳米钽酸锂单晶薄膜300-900 纳米 钽酸锂单晶薄膜顶层器件层尺寸3, 4, 6 英寸切向 Y-42, Y-46.3, Z切等材料钽酸锂厚度300-900 纳米埋层材料二氧化硅厚度300-4000 纳米基底材料硅厚度400-500 微米钽酸锂单晶薄膜二氧化硅硅基底5-50微米硅基钽酸锂、铌酸锂、石英薄膜5-50微米 硅基钽酸锂、铌酸锂及石英薄膜顶层器件层尺寸3, 4, 6 英寸切向X, Z, Y-42, Y-46.3切等材料钽酸锂、铌酸锂、石英等厚度5-50 微米基底材料硅厚度230-500 微米钽酸锂单晶薄膜硅基底铌酸锂单晶薄膜硅基底石英薄膜硅基底自支持超薄晶片、超平晶片自支持超薄、超平晶片尺寸3, 4 英寸切向X, Y, Z, AT切等厚度10-60 微米材料铌酸锂、钽酸锂、石英、硅等表面双抛或单抛铌酸锂单晶薄膜钽酸锂单晶薄膜石英薄膜特殊定制薄膜特殊定制铌酸锂、钽酸锂、石英薄膜顶层/ 详情基底层顶层薄膜层多层结构图形电极&波导结构异质材料 (二氧化硅/硅,硅, 蓝宝石, 石英等)周期性极化反转铌酸锂PPLN特殊尺寸电极 (金, 铂金,铬, 铝等)切向 (与体材料相同 )掺杂 (镁, 铁, 铒, 铥等)100-1000 纳米铌酸锂√√√√√√√√100-1500 纳米 钽酸锂√√√√√√√5-50 微米铌酸锂√√√√5-50 微米钽酸锂√√√√5-50 微米石英√√√300-900纳米铌酸锂单晶薄膜300-900纳米 铌酸锂单晶薄膜顶层器件层尺寸3, 4, (6) 英寸切向X, Z, Y切等材料铌酸锂厚度300-900 纳米掺杂（可选）掺镁埋层材料二氧化硅厚度1000-4000 纳米基底材料硅、铌酸锂、石英、熔融石英等厚度400-500 微米电极层（可选）材料铂金，金，铬厚度100-400 纳米位置在顶层器件层与埋层之间或埋层与基底之间铌酸锂单晶薄膜二氧化硅硅、铌酸锂、石英或熔融石英基底铌酸锂单晶薄膜金电极或铂金电极铌酸锂基底二氧化硅铌酸锂单晶薄膜金电极或铂金电极铌酸锂基底二氧化硅掺镁铌酸锂单晶薄膜铌酸锂基底二氧化硅首页 - 产品300-900纳米钽酸锂单晶薄膜300-900 纳米 钽酸锂单晶薄膜顶层器件层尺寸3, 4, 6 英寸切向 Y-42, Y-46.3, Z切等材料钽酸锂厚度300-900 纳米埋层材料二氧化硅厚度300-4000 纳米基底材料硅厚度400-500 微米钽酸锂单晶薄膜二氧化硅硅基底5-50微米硅基钽酸锂、铌酸锂、石英薄膜5-50微米 硅基钽酸锂、铌酸锂及石英薄膜顶层器件层尺寸3, 4, 6 英寸切向X, Z, Y-42, Y-46.3切等材料钽酸锂、铌酸锂、石英等厚度5-50 微米基底材料硅厚度230-500 微米钽酸锂单晶薄膜硅基底铌酸锂单晶薄膜硅基底石英薄膜硅基底自支持超薄晶片、超平晶片自支持超薄、超平晶片尺寸3, 4 英寸切向X, Y, Z, AT切等厚度10-60 微米材料铌酸锂、钽酸锂、石英、硅等表面双抛或单抛铌酸锂单晶薄膜钽酸锂单晶薄膜石英薄膜特殊定制薄膜特殊定制铌酸锂、钽酸锂、石英薄膜顶层/ 详情基底层顶层薄膜层多层结构图形电极&波导结构异质材料 (二氧化硅/硅,硅, 蓝宝石, 石英等)周期性极化反转铌酸锂PPLN特殊尺寸电极 (金, 铂金,铬, 铝等)切向 (与体材料相同 )掺杂 (镁, 铁, 铒, 铥等)100-1000 纳米铌酸锂√√√√√√√√100-1500 纳米 钽酸锂√√√√√√√5-50 微米铌酸锂√√√√5-50 微米钽酸锂√√√√5-50 微米石英√√√铌酸锂单晶薄膜、钽酸锂单晶薄膜300-900纳米，5-50微米

LightSmyth提供了大量的纳米加工单晶硅衬底，为工业和学术机构提供了一个低成本的纳米光子学研究入口。基底可用于光学、光子学、生物学、化学、物理学（如中子散射）、聚合物研究、纳米印迹、微流体学等领域。如果需要，基板可以涂上金属或介质涂层。大多数地表特征具有略微梯形的横截面轮廓，具有直线平行的台地和沟渠。晶格状结构也可用。提供了许多特征尺寸和沟槽深度。基板的扫描电镜图像可以在装运前拍摄，以验证准确的轮廓。产品特点Nanopatterned Silicon StampsII-VI offers a large variety of nanomachined single crystal silicon substrates providing a low-cost entry into nanophotonics research for industry and academic institutions. The substrates may be used in a variety of applications in optics, photonics, biology, chemistry, physics (e.g. neutron scattering), polymer research, nanoimprinting, microfluidics and others. If desired, the substrates can be coated with metallic or dielectric coating. Most of the surface features have slightly trapezoidal cross-section profiles with straight parallel mesas and trenches. Lattice-like structures are available as well. A number of feature sizes and trench depth is available. SEM images of the substrates may be taken prior to shipment to verify the exact profile.Dimensions shown in the table represent target value. Period has accuracy better than 0.5% while groove depth and the width of line and space may differ from the target values by 15%. SEM are given for illustration purposes. If more precise dimensional information is required, we may provide an SEM of the specific piece of nanostamp you order as an optional service通用参数(LightSmyth Nanopatterned Silicon Stamps 纳米图案硅片)描述数据基材宽度高度误差标准公差±0.2 mm净孔径（CA）距基板边缘0.5 mm（图案可延伸至基板边缘）基底厚度0.675 ± 0.050 mmCA的表面质量P／N以“p”结尾：划痕/挖：最大划痕宽度，最大最大直径。可提供高达20/10的规格CA的表面质量P/N以“-S”结尾：由于表面质量而打折的等级。至少有80%的可用面积。可能出现80/100划痕/挖痕/颗粒和不规则基底形状CA外表面质量无要求Material材料单晶硅，反应离子刻蚀2D NanostampsPart Number周期Period(nm)晶体类型Lattice Type槽深Groove Depth(nm)特征宽度Feature Width(nm)Size(mm)S2D-18B2-0808-350-P600Rect Post3502758.0 x 8.3S2D-18B3-0808-350-P700Rect Post3503508.0 x 8.3S2D-18C2-0808-350-P600Hex Post3502408.0 x 8.3S2D-18C3-0808-150-P700Hex Post1502908.0 x 8.3S2D-18C3-0808-350-P700Hex Post3502908.0 x 8.3S2D-18D3-0808-350-P700Hex Hole3502008.0 x 8.3S2D-24B2-0808-150-P600Rect Post 1501958.0 x 8.3S2D-24B2-0808-350-P600Rect Post 3501958.0 x 8.3S2D-24B3-0808-150-P700Rect Post 1502608.0 x 8.3S2D-24B3-0808-350-P700Rect Post 3502608.0 x 8.3S2D-24C2-0808-150-P600Hex Post1501658.0 x 8.3S2D-24C2-0808-350-P600Hex Post3501658.0 x 8.3S2D-24C3-0808-150-P700Hex Post1502208.0 x 8.3S2D-24D2-0808-150-P600Hex Hole1501808.0 x 8.3S2D-24D2-0808-350-P600Hex Hole3501808.0 x 8.3S2D-24D3-0808-150-P700Hex Hole1502908.0 x 8.3S2D-24D3-0808-350-P700Hex Hole3502908.0 x 8.3

参数：Agnws-120平均直径/纳米：120平均长度/微米：20银纯度（%）：99.5浓度（毫克/毫升）：20Agnws-200平均直径/纳米：200平均长度/微米：25银纯度（%）：99.5浓度（毫克/毫升）：20Agnws-300平均直径/纳米：300平均长度/微米：30银纯度（%）：99.5浓度（毫克/毫升）：20Agnws-400平均直径/纳米：400平均长度/微米：30银纯度（%）：99.5浓度（毫克/毫升）：20Parameter:Agnws-120Average Diameter/nm：120Average Length/um：20Silver Purity (%)：99.5Concentration (mg/ml)：20Agnws-200Average Diameter/nm：200Average Length/um：25Silver Purity (%)：~99.5Concentration (mg/ml)：20Agnws-300Average Diameter/nm：300Average Length/um：30Silver Purity (%)：~99.5Concentration (mg/ml)：20Agnws-400Average Diameter/nm：400Average Length/um：30Silver Purity (%)：~99.5Concentration (mg/ml)：20

产品特点：GATTA-PAINT 系列纳米标尺是适用于各种定位技术的超高分辨显微镜的理想标尺。因为采用DNA PAINT技术实现亮暗转换，GATTA-PAINT 纳米标尺几乎不会淬灭。此外，标尺的设计中包含了三个荧光发射点，可以获取到醒目的图像。荧光标记间的距离有如下几个尺寸：20nm, 40nm, 80nm。每种距离都有如下几种颜色可供选购：红色（ATTO 647N），绿色（ATTO 542）或蓝色（Alexa Fluor 488），或者红/绿组合(ATTO 655/ ATTO 542)纳米标尺，AFM纳米标尺，原子力显微镜纳米标尺，共聚焦显微镜纳米标尺，超高分辨显微镜纳米标尺，SIM纳米标尺，STED纳米标尺，STORM纳米标尺，电镜纳米螺旋标尺，金纳米螺旋标尺，显微镜亮度灵敏度标尺，显微镜纳米标尺技术参数：

产品特点：GATTA-Confocal 系列的纳米标尺为传统显微镜使用者设计，它有两个荧光标记端，均含有量子效率高的染料分子。标记点的距离为350nm。GATTA-Confocal纳米标尺有如下颜色可选：红色（ATTO 647N），黄色（Alexa Fluor 568），绿色（ATTO 532）或蓝色（Alexa Fluor 488），或者红/黄/蓝组合(ATTO 647N/ Alexa Fluor 568/ Alexa Fluor 488)，红/绿/蓝组合(ATTO 647N/ ATTO 532/ Alexa Fluor 488)纳米标尺，AFM纳米标尺，原子力显微镜纳米标尺，共聚焦显微镜纳米标尺，超高分辨显微镜纳米标尺，SIM纳米标尺，STED纳米标尺，STORM纳米标尺，电镜纳米螺旋标尺，金纳米螺旋标尺，显微镜亮度灵敏度标尺，显微镜纳米标尺技术参数：

产品特点：作为第一个超高分辨率显微技术的STED方法彻底改变了光学显微镜。适用于STED的校准探针--GATTA-STED纳米标尺也终于面世。标尺带有高量子效率的荧光标记染料ATTO 647N。两个荧光分子之间的距离固定，我们提供的尺寸包括：30nm，50nm，70nm和90nm。纳米标尺，AFM纳米标尺，原子力显微镜纳米标尺，共聚焦显微镜纳米标尺，超高分辨显微镜纳米标尺，SIM纳米标尺，STED纳米标尺，STORM纳米标尺，电镜纳米螺旋标尺，金纳米螺旋标尺，显微镜亮度灵敏度标尺，显微镜纳米标尺产品参数：

产品特点：GATTA-SIM系列的纳米标尺可以用于检测您的SIM系统的分辨率。该纳米标尺带有两个荧光标记，这些荧光标记都是来自于密集排列的高量子效率的染料分子。两个荧光标记之间的距离固定，尺寸包括120nm，140nm和160nm。我们为您提供带有以下颜色的不同尺寸的纳米标尺，包括：红色（ATTO 647N），黄色（Alexa Fluor 568）或蓝色（Alexa Fluor 488）。纳米标尺，AFM纳米标尺，原子力显微镜纳米标尺，共聚焦显微镜纳米标尺，超高分辨显微镜纳米标尺，SIM纳米标尺，STED纳米标尺，STORM纳米标尺，电镜纳米螺旋标尺，金纳米螺旋标尺，显微镜亮度灵敏度标尺，显微镜纳米标尺技术参数：

纳米升降台,纳米升降平台由中国领先的进口光学精密仪器旗舰型服务商-孚光精仪进口销售,精通光学，服务科学，先后为北京大学,中科院上海光机所,中国工程物理研究院,航天3院,哈工大,南开,山东大学等单位提供优质进口的纳米升降台,纳米升降平台,精密升降台。这款纳米升降台是美国进口的短行程的精密升降台,Elevator Stage,纳米升降平台特别适合竖直的Z轴应用，它具有极佳的上下定位功能，超高分辨率，超高重复精度和机械稳定性。产品特色：这款纳米升降台采用高密度交叉滚珠导向系统用于竖直导向，确保最大的稳定性。单立柱式的X滚珠导向系统提供了适度的高刚性，使得这款纳米定位台具有极小的滞后和相当大的承载能力。纳米升降台应用：这款纳米定位台比较适合对Z轴垂直升降精度较高要求的应用。比如，光学成像系统中焦平面的准直，半导体测试，视频测量等。纳米升降台参数行程：4mm驱动系统：无刷伺服-丝杆驱动最大速度：20mm/s最大负载；10kgTTL分辨率：100nm, 50nm, 25nm, 12.5nm, 10nm, 1nm重复精度：5x分辨率

石英晶体波片材质Crystalline Quartz直径公差+0/-0.2 mm厚度公差±0.2 mm表面质量20-10 S-D透射波前畸变（TWD）延迟公差λ/300 @ 20 °C平行度误差涂层AR (R激光诱导的损伤阈值10 J/cm2 for 10 ns pulses @ 1064 nm安装Mounted in ?25.4x6 mm black anodized metal mount波片由具有双折射的材料制成。通过双折射材料的异常和普通光线的速度与其折射率成反比。当两束光重新组合时，这种速度上的差异会引起相位差。在任何特定波长处，相位差由缓速器 - 波片的厚度决定。半（λ/ 2）波片。入射到半波晶体石英波片上的线性偏振光束作为线性偏振光束出现，但是旋转成与光轴成两倍于入射光束的角度。因此，可以使用半波片作为连续可调的偏振旋转器。半波片用于旋转偏振平面，电光调制以及与偏振立方体结合使用时作为可变比率的分束器。1/4（λ/ 4）波片 - 薄膜补偿器。如果入射线偏振光束的电场矢量与四分之一波片的延迟器主平面之间的夹角为45°，则出射光束是圆偏振的。当四分之一波片双重通过时，即通过镜面反射，它起到半波片的作用并将偏振平面旋转到一定角度。四分之一波片用于通过圆形，椭圆偏振光学，光泵浦等线性或线性偏振来产生圆偏振，抑制不必要的反射和光学隔离。零阶波片通常是优选的，因为它们对波长，入射角和温度的变化zui不敏感。标准波片基于气隙结构，允许使用波片进行高功率应用。对于1064nm的10ns脉冲，损伤阈值大于20J / cm 2为了适应波片可以使用的特定应用，粘合和光学接触的建筑零阶补偿设计可以根据要求提供。1）波片由优质激光级晶体石英材料制成晶体石英波片的理论计算器允许绘制透射率和波长延迟图。这个计算器是找出ZO，LO和MO波片之间性能差异的理想工具。注意：理论结果并不完全指向我们波片的实际性能。结晶石英波板图形计算器涂层类型AOILIDT2-CPW-LO-L/2-10300deg24.85 J/cm2 @1064nm 10ns 100 Hz2-CPW-ZO-L/2-10300deg24.12 J/cm2 @1064nm 10ns 100 Hz2-CPW-ZO-L/2-02660deg2.65 J/cm2 @266nm 5ns 100 Hz2-CPW-ZO-L/2-03430deg14.73 J/cm2 @355nm 6ns 100 Hz2-CPW-ZO-L/2-05320deg28.49 J/cm2 @532nm 7ns 100 Hz2-CPW-ZO-L/2-08000deg0.122 J/cm2 @800nm 52fs 1000 Hz2-CPW-ZO-L/2-10300deg0.59 J/cm2 @1030nm 320fs 50 kHz免责声明激光诱导损伤阈值（LIDT）测量是在Altechna生产的实际部件上进行的。单个组件的LIDT取决于多个参数（基底材料，抛光批次，涂料批次，储存条件等）。以上各个部件达到的损伤阈值仅供参考，但并不能保证所有的光学元件。 Altechna可根据要求进行涂层损伤阈值测试服务。查看所有测量值Altechna在标准，定制或客户提供的光学器件上提供各种高性能光学镀膜。我们的涂料覆盖从深紫外（193纳米）到远红外（25微米）的波长范围，涂层的zui大部分是在波长范围内zui常见的266纳米到2微米的激光和照明光源。我们根据个人要求提供一套标准和定制涂料：?防反射涂层?高反射涂层?分束器涂层?部分反射涂层?偏光片涂层?过滤涂料?超快GDD补偿涂层?Gires-Tournois干涉镜（GTI）?可变反射镜?金属涂层在Altechna，我们的目标是以zui高的标准为不断增长的光子市场提供高损伤阈值，高质量涂层。每个涂层都是特殊的，多年来在光电领域，我们了解到灵活性是满足客户高要求的关键，因此我们的涂层采用不同的技术，分别选择不同的涂层。这里是我们在Altechna提供的涂层技术列表：?电子束蒸发?离子辅助沉积?离子束溅射?磁控溅射每种技术都是不同的，并根据光谱灵敏度，损伤阈值，硬度，表面质量等的要求使用。电子束蒸发离子辅助沉积离子束溅射磁控管溅射沉积速率10 ?/sec~10 ?/sec~3 ?/sec1-6 ?/sec每次涂布面积3000 cm23000 cm2500 cm22000 cm2导热系数LowMediumHighHigh涂层温度范围200 - 300°C20 - 100°C20 - 150°C20-100°C层数1-50~50200Up to 200密度和孔隙度PorousDenseNear bulkNear bulk粘连/耐久性LowGoodExcellentExcellent湿度敏感性YesYes, smallNoNo老化影响YesYes, smallNoNo内在应力~ 100MPaFew 100MPaFew 100 MPa通光孔径, mm延迟波长, nm延迟顺序产品编号18λ/2473ZO2-CPW-ZO-L2-047318λ/2940ZO2-CPW-ZO-L2-094018λ/4473ZO2-CPW-ZO-L4-04738λ/2343ZO2-CPW-ZO-L2-0343-S8λ/4343ZO2-CPW-ZO-L4-0343-S8λ/4355ZO2-CPW-ZO-L4-0355-S8λ/2355ZO2-CPW-ZO-L2-0355-S8λ/4400ZO2-CPW-ZO-L4-0400-S8λ/2400ZO2-CPW-ZO-L2-0400-S8λ/4515ZO2-CPW-ZO-L4-0515-S8λ/2515ZO2-CPW-ZO-L2-0515-S8λ/4532ZO2-CPW-ZO-L4-0532-S8λ/4800ZO2-CPW-ZO-L4-0800-S8λ/2800ZO2-CPW-ZO-L2-0800-S8λ/41030ZO2-CPW-ZO-L4-1030-S8λ/21030ZO2-CPW-ZO-L2-1030-S8λ/41064ZO2-CPW-ZO-L4-1064-S8λ/21064ZO2-CPW-ZO-L2-1064-S18λ/4940ZO2-CPW-ZO-L4-09408λ/2532ZO2-CPW-ZO-L2-0532-S18λ/2266ZO2-CPW-ZO-L2-026618λ/2355ZO2-CPW-ZO-L2-035518λ/2780ZO2-CPW-ZO-L2-078018λ/4266ZO2-CPW-ZO-L4-026618λ/4355ZO2-CPW-ZO-L4-035518λ/4515ZO2-CPW-ZO-L4-051518λ/41030ZO2-CPW-ZO-L4-103018λ/2980ZO2-CPW-ZO-L2-098018λ/2800ZO2-CPW-ZO-L2-080018λ/4852ZO2-CPW-ZO-L4-085218λ/4980ZO2-CPW-ZO-L4-098018λ/2400ZO2-CPW-ZO-L2-040018λ/4400ZO2-CPW-ZO-L4-040018λ/41550ZO2-CPW-ZO-L4-155018λ/4532ZO2-CPW-ZO-L4-053218λ/4633ZO2-CPW-ZO-L4-063318λ/41064ZO2-CPW-ZO-L4-106418λ/2633ZO2-CPW-ZO-L2-063318λ/21550ZO2-CPW-ZO-L2-155018λ/2852ZO2-CPW-ZO-L2-085218λ/2515ZO2-CPW-ZO-L2-051518λ/4780ZO2-CPW-ZO-L4-078018λ/4800ZO2-CPW-ZO-L4-080018λ/21030ZO2-CPW-ZO-L2-103018λ/2532ZO2-CPW-ZO-L2-053218λ/21064ZO2-CPW-ZO-L2-1064定制你可以根据您的需求定制这个产品。如果您没有找到适合您的应用，请与我们联系，以便定制解决方案。

光折变晶体SBN,BSO,BGO,Fe:LNB晶体光折变晶体：SBN锶钡铌酸盐晶体/BSO硅酸铋晶体/BGO锗酸铋晶体/Fe:LNB掺铁铌酸锂晶体 光折变效应是局部折射率通过光强度的空间变化而改变的现象。当形成空间变化的照明图案的光折射材料中，相干光彼此干涉时，可强烈观察到。这是由于漂移或扩散和空间电荷分离效应，在迁移材料中产生电荷载流子。产生的所产生的电场通过电光效应引起折射率变化。其中一些应用是空间光调制器，4波混频，相位共轭，光存储器和计算。 Sillenite单晶Bi12SiO20（BSO）和Bi12GeO20（BGO）显示了不同物理性质的独特组合。BSO和BGO晶体是非常有效的光电导体，具有低暗电导率，允许建立大的光诱导空间电荷。光电导性和光电特性的强烈光谱依赖性允许开发和生产各种各样的光学器件和系统。BSO和BGO晶体用于空间光调制器，动态实时全息记录设备，相位共轭波混合，光学相关器和光学激光系统，用于超短光脉冲的自适应校正。光诱导吸收使其有可能开发和生产“光 - 光”型光学器件，如光学调制器，开关等。 通过不同技术制造氧化亚锡薄膜晶体结构允许开发包括光学波导，集成光学器件的多种装置。基于Sillenites的波导光学结构的使用允许在宽光谱范围内实现均匀照射（通常到波导平面）。 BGO SBN Sillenite Oxides的相对较大的电光和法拉第效应使其可用于光纤电/磁场传感器。我们能够少量提供未掺杂的BSO和BGO晶体用于科学研究，并大量用于工业目的。随着2x2x2 - 25x25x25 mm3晶体，我们还提供带有ITO（氧化铟锡）涂层的孔径高达30x30 mm2，厚度为0.5 - 5 mm的晶体板。 锶钡铌酸盐（SrxBa（1-x）Nb2O6）SBN是一种优异的光学和光折变材料。名义上纯，由Ce，Cr，Co，Fe掺杂。不同组成的SBN晶体用于电光学，声光学和光折变非线性光学器件。一种新的生长技术提供了优异的光学质量单晶，没有生长条纹，夹杂物和其他不均匀性，以及高达80mm的确定横截面和线性尺寸。SBN晶体元件满足不同应用的要求。基于这种独特的晶体生长技术，可以使用大量高质量的SBN光学元件和光折变单元，Fe：LiNbO3（其他掺杂剂可用）。 铁掺杂铌酸锂晶体（Fe：LiNbO3）是一种常用的具有高电光（EO）系数，高光折变灵敏度和衍射效率的光折变材料。与BaTiO3系列光折变晶体相比，它具有易于操作和存储，成本低，尺寸利用率大等突出优点，使其更适用于批量制造和实用设备。因此，Fe：LiNbO3晶体将预测广泛的应用。MolTech提供具有不同Fe掺杂浓度，尺寸和光学处理要求的晶体。光折变晶体：SBN锶钡铌酸盐晶体/BSO硅酸铋晶体/BGO锗酸铋晶体/Fe:LNB掺铁铌酸锂晶体晶体Bi12SiO20（BSO）Bi12GeO20（BGO）Fe：LiNbO3SBN x = 0.60SBN x = 0.75晶体结构立方，点组：23立方，点组：23三角形，3m4mm4mm晶格（胞）参数，?10.1010.15-a = 12.46，c = 3.946a = 12.43024，c = 3.91341透射范围，μm0.4-60.4-70.35 - 5.50.3 5 - 6.00.35 - 6.0折射率在0.63μm2.542.552.20（ne），2.29（no）ne= 2.33，no= 2.36@0.51μmne= 2.35，no= 2.37@0.51μm电光系数r41，pm / V53.5r22 = 6.8，r31 = 10，r33 = 32r13= 47，r33= 235r13= 67，r33= 1340光学活性，500纳米处的deg / mm4241.5---在600nm处为 - deg / mm2524---密度，g / cm39.159.24.645.45.4莫氏硬度5555.55.5熔点，C8909201255（Tc = 1140）1500±10°C1500±10°C介电常数564085（e11）30（e33）8803400暗电阻，欧姆厘米10141014-- -吸收系数@0.44μm--- 0.3cm-1- 在25°C时的热导率---0.006 W / cm * K@ 1370至1470℃下----0.008 W / cm * K热光系数dne/ dT---3×10-4K-1-居里温度---75℃56℃半波电压---240伏48 V我们可提供棒或薄片，由具有不同横截面和尺寸的薄膜光折射晶体制成。不同浓度的不同掺杂剂可满足特定客户的要求。光折变晶体：SBN锶钡铌酸盐晶体/BSO硅酸铋晶体/BGO锗酸铋晶体/Fe:LNB掺铁铌酸锂晶体

产品特点:该方法STORM或dSTORM是在光学显微镜中最常用的超分辨率技术之一。GATTA-STORM系列的纳米标尺是现在这项技术的理想校准探针。为了模拟你的STORM或dSTORM测量值作为传真尽可能标尺携带常用染料的AlexaFluor 647.我们提供的尺寸标记到标记距离30nm，50nm和94nm。纳米标尺，AFM纳米标尺，原子力显微镜纳米标尺，共聚焦显微镜纳米标尺，超高分辨显微镜纳米标尺，SIM纳米标尺，STED纳米标尺，STORM纳米标尺，电镜纳米螺旋标尺，金纳米螺旋标尺，显微镜亮度灵敏度标尺，显微镜纳米标尺技术参数：

水热合成反应釜（耐高温）一、产品指南水热合成反应釜，也称水热釜，聚合反应釜，是在一定温度、一定压力条件下合成化学物质提供的反应器。 应用于新材料、能源、环境工程等领域的科研试验中，是高校教学、科研单位进行科学研究的常用小型反应器。反应釜由一个外罐和一个内杯组成（内杯有直筒、翻边设计）。外罐国标无磁不锈钢，内杯聚四氟乙烯（PTFE）或进口改性聚四氟乙烯材质(TFM)，而且对于30ml,50ml,60ml、100ml几个规格我们的内杯有翻边和直筒两种设计。二、产品参数型号ZH组成方式一套包含：一个外罐和一个内杯外罐材料国标优质无磁不锈钢 内杯材料及耐温1、国产高纯实验级聚四氟乙烯PTFE耐温200℃以内；2、进口聚四氟乙烯TFM耐受230-260℃，耐压性，恢复性好三、我厂水热合成反应釜优点：1、安全。在设计时充分考虑了安全性，由被动控温转为主动控压，罐体采用圆形榫槽密封设计，手动螺旋紧固（扳手机械紧固）密封性能好；杯顶有泄气孔，安全系数高，即使在温度失控的情况下，只会内杯变形，外罐不会坏；2、使用方便：内杯采用U型设计，易于清洗；内壁光滑，不挂水；3、空缺值低，提高分析的准确度和精密度，降低了工作强度和对环境的污染；4、密封性能好，缩短实验分析时间； 5、内杯盖尖底设计，方便实验结束后样品收集； 6、内杯/外罐可编号，避免混淆方便实验，提高实验准确性，可重复性。四、专家们说 高温水热法的优点：粒子纯度高、分散性好、晶形好且可控制，生产成本低。用水热法制备的粉体一般无需烧结,这就可以避免在烧结过程中晶粒会长大而且杂质容易混入等缺点。（实验温度建议您慢慢调高，让内杯有一个循序渐进升高温度的过程。）

多功能纳米压痕仪配件通过扫描材料表面实现对材料力学性能的纳米尺度的高精度测量，精确给出硬度，弹性模量，杨氏模量等材料力学性能。多功能纳米压痕仪配件特色最高位移测量能力可达300mkm, 最高负载科大100mN。实现静态压痕和动态压痕测量以及sclerometry测量具备原子力显微镜和纳米硬度测量仪的功能采用模块化设计，可广泛集成原子力显微镜，光学显微镜，激光干涉仪器等尖端材料表面测量仪器，为用户提供综合性材料微观力学测试方案。多功能纳米压痕仪配件选型4D紧凑型多功能纳米压痕仪4D紧凑型是全球结构最为紧凑小巧的纳米硬度测试仪，它采用纳米压痕法测量材料硬度和弹性模量（杨氏模量），负载高达2N,广泛用于材料力学性能测量研究。也非常适合大学或研究单位的纳米压痕仪测量硬度的教学或演示教学。4D标准型多功能纳米压痕仪4D标准型具有测量材料硬度，弹性模量和其它力学性能的功能。它采用静态和动态纳米压痕技术以及sclerometry方法测量材料性能。并且可以接触式或半接触式地测量材料表面形貌，采用光学显微镜高精度地对压头和样品进行精确互动性定位。多功能纳米压痕仪4D标准型还可以接入另外的传感器或测量模块，实现对材料表面进行其它测量。4D+增强型多功能纳米压痕仪4D+增强型配置是全球功能最多的多功能纳米硬度测量仪器。它具有纳米压痕仪和原子力显微镜的功能，具备了所有的物理和力学性能测量能力。它具有原子力显微镜测量模块，能够以纳米级分辨率研究压痕后留下的表面痕迹和图像，并能够全自动测量，可以批量处理分析测量结果。

纳米位移平台,真空纳米位移台由中国领先的进口光学精密仪器旗舰型服务商-孚光精仪进口销售,先后为北京大学,中科院上海光机所,中国工程物理研究院,航天3院,哈工大,南开,山东大学等单位提供优质进口的纳米位移平台,真空纳米位移台,纳米位移台.这款纳米位移平台是美国进口的高速高精度真空纳米位移台,它采用先进技术设计, 具有单轴或精密的双轴配置两种选择, 适合高真空环境和非磁性定位应用.美国进口高精度低价格系列纳米定位台，采用了陶瓷伺服电机驱动，非常适合要求精度达到纳米或压纳米的高精度和高重复精度的应用，例如：精密生命科学仪器、显微成像、纳米准直、微纳加工、光学精确定位等。X-TRIM 系列纳米位移台特色 10nm分辨率非接触线性编码系统双驱动任选:线性伺服或压电驱动高密度滚珠传导增加稳定性超紧凑的单轴或双轴纳米位移台紧凑型封装可真空使用超强工作能力，大吞吐量采用无铁芯直接驱动直线电机,驱动轴位于纳米位移台的中心线, 这种设计消除了非中心驱动导致的偏航,空回等问题.纳米位移台集成了一个高分辨率(12.5nm)非接触式线性编码器,它为闭环的伺服系统工作操作提供了精密反馈, 它的标准配置就可以提供纳米精度的定位.纳米位移平台使用能够了精密的滚珠导向系统确保了位移平台高精度性能和严格的轨迹控制。纳米位移平台也适合OEM使用,它具有较低抛面和较小尺寸，采用模块化设计，用户可堆叠使用创建多轴多部件系统。这款纳米位移平台使用了非接触式直接驱动技术，提供坚固，精确，高速的定位，满足高频率大工作量的需要。纳米定位平台使用了先进的无铁直线电机直接确定技术，确保最优异的纳米级定位性能。这款纳米定位台提供了高速度，高精度，高分辨率，高性能的卓越表现。它与传统的丝杠驱动或压电驱动相比，具有更大的工作效率和吞吐量。参数行程(mm): 25和50mm(单轴或双轴)驱动系统: 无铁芯直线电机或陶瓷伺服电机最大加速度: 由负载决定最大速度: 200mm/s (无负载时)最大推力: 24N最大负载: 2Kg精度: +/-1um/25mmTTL分辨率: 1-100nm/脉冲构造材料: 铝合金主体, 灰色氧化镀膜重复精度: 5倍精度XT 25XT 50XT 2525XT 5050Travel Length (mm)25 mm50 mm25 x 25 mm50x 50 mmTrajectory ControlAccuracyLinear Encoder± 1.0 &mu m± 2.0 &mu m± 2.0 &mu m± 4.0 &mu mStraightness/Flatness± 1.0 &mu m± 1.0 &mu m± 2.0 &mu m± 2.0 &mu mYaw/Pitch/Roll5 arc-sec5 arc-sec10 arc-sec10 arc-sec2 axis systemOrthogonalityStandard GradeNANA5 arc-sec5 arc-secHigh PrecisionNANA2 arc-sec2 arc-secExtra High PrecisionNANA1 arc-sec1 arc-sec

在扫描电镜、聚焦离子束和双束 系统上进行纳米操纵和测量的最 佳方案. 主要应用 纳米结构的电学测量和表征 纳米结构的力学测量和表征 微米纳米尺度组装 透射电镜、拉曼和其它分析仪器 的样品制备 表面科学实验和研究 纳米连接技术研发 原位纳米尺度样品定位

纳米显微操纵仪由微操纵仪、控制器、控制电源及操纵杆组成，微操纵仪的驱动是由压电陶瓷构成的纳米马达来实现的，从而保证能够进行纳米级精确移动。整个微操纵装置体积非常小，即使是操作精度高达几纳米也不会产生后座力及漂移。微操纵仪可直接在样品室内接触、操纵样品，从而使对样品的物性分析成为可能，而且多个操纵仪的联合使用可从事微纳尺度的样品的加工和组装。操纵仪有以下型号以适用于不同的环境：MM3A-LMP用于光镜；MM3A-EM用于电镜；MM3A-UHV用于超高真空环境；MM3A-LT用于低温环境。

纳米颗粒分析仪配件用于观测和分析液体中的微小颗粒的布朗运动速率与尺寸分布相关，采用纳米颗粒跟踪分析（NTA）技术，通过激光散射装置（纳米观测）与超显微镜ultra-microscope和NTA软件的相结合，生成纳米颗粒图像，是全球领先的纳米粒度分析仪。纳米颗粒分析仪配件 纳米观测原理纳米颗粒分析仪使用纳米透视Nano-Insight 激光散射模块，可以通过顶眼超显微镜观测到液体中的纳米粒子。采用不同激光散射颗粒在矩阵中表现为模糊点。模糊点根据其各自的布朗运动而移动。液体中有不同的布朗运动粒子。小粒子比大粒子受到相邻粒子的影响更少。因此，在超显微图像中，较大的粒子有大的模糊外观。 NTA能够追踪粒子的相应路径。纳米观测模块纳米观测模块的设计，可以使其安装在超显微镜，顶眼纳米的底板。可以通过Mishell软件来控制该模块。Mishell软件控制着纳米观测模块以及照相机。根据应用决定在纳米观测模块装备一个或多个激光器。激光器以一种特殊的方式排列。左侧图片上展示的是纳米观测图。较小的粒子比较大的粒子移动更快。我们用摄像机同时跟踪每个粒子。顶眼超显微镜顶眼超显微镜将进入模糊点的散射光可视化。用适当的时间分辨跟踪，模糊云可被分配并与各自的粒径相关。粒子的布朗运动图像是唯一的。下面将给出例子。每个模糊点代表单个粒子。NTA 软件上图展示的是NTA分析的典型图像。散射激光被捕获到模糊点，要根据时间函数跟踪模糊点。我们跟踪每个模糊点。跟踪每个粒子的方法，得到的技术结果是高分辨率。我们正在寻找与图像相关的量，当我们知道相关的量后，我们就可以极其精确地确定各种粒子的浓度。该技术将会带起许多可能的应用。例如，可能也可以使用荧光激光器。使用荧光激光器，可以瞄准复杂的基质里的一个粒子。该技术带来的好处是，用户可以在视觉上检查并且通过观察相应图像验证所有可能的应用。MiNan是Mishell® 内的一个模块- 扩展图像分析软件包，被认为是市场上最先进的图像分析软件。MiNan是一个子程序，可以进行Morphious纳米粒子分析的全部描述。MiNan是自带Morphious纳米系统的软件，研发用于纳米粒子的可视化以及纳米粒子的大小、形状（形态）和浓度的测量。每个粒子是一个个体，但通过观测扩散同时被分析。这种一个粒子后接一个粒子的方法产生高分辨率的结果，即粒子的尺寸分布和浓度分辨率高，同时视觉验证让用户对数据有了额外的信心。当荧光模式检测标记粒子时，粒子尺寸和浓度，蛋白质聚集和粘度都可以被分析。纳米颗粒分析仪配件应用?在制药或复合产业研发药物?用于病毒筛查?用于开发纳米生物标记物或毒物筛查?用于蛋白质聚集的动力学模型研究?用于通过膜泡的表征研究疾病?用于促进纳米复合材料的发展纳米颗粒分析仪配件特色?在同一时间多粒子高通量表征?实时视觉展示粒子，允许用户评估试验，无需额外复杂性?方便和易于使用的软件，允许用户通过宏设置任何实验?添加像高通量自动采样器，泵或加热和制冷配件?自适应模块化系统构建任何复杂的应用程序，操作轻松舒适?超级高效和购买成本低?该系统提供高分辨率的粒度特性来研究复杂的多分散矩阵?激光波长可选择?通过给过滤器添加电动轮，得到自适应荧光分析纳米颗粒分析仪配件参数?尺寸10 nm - 2000 nm*?浓度 106 - 109 粒子/ mL?荧光检测纳米颗粒分析仪配件规格温度范围15-40 °C电源230V AC/115V AC, 50/60 Hz摄像机USB3 CMOS分辨率：1936x1216 161帧/秒，像素尺寸5.86μm：颜色校准模块功耗18W激光波长405nm（紫色），488nm（蓝），532nm（绿），642nm（红色）尺寸范围从10 nm到2000 nm (取决于材料)焦点电脑控制电动调焦个人计算机SDD亿康II SDSSDHII-120G-G25HDD西数蓝WD10EZEX1 TB|主板千兆字节GA-Z97X-UD3H|内存金士顿骇客神条怒黑| HX318C10FBK2/1616 GB DDR3-RAM处理器英特尔® 酷睿™ i7 i7-4790K四核4×4.0 GHz显卡 PNY VCQK2200-PB 4GB电源 酷冷至尊G750M 750w机箱 酷冷至尊黑软件Windows® ＆（或更高）.由Mishell® 供电Mishell是Microptik BV公司的注册商标。Windows是微软公司的注册商标。MiNan尖端程序在Mishell下运行，以充分体现由Morphious纳米获得的纳米粒子尺寸（长×宽×高）20 x 18 x 30 cm重量10.5 kg

英诺色谱现提供新型的Polymicro纳米石英毛细管，实现了传统产品一微米尺寸上的突破。 Polymicros的纳米毛细管产品线中管路内径（ID）范围为200至1,000 纳米（0.2至1.0微米）。传统的毛细管产品内径不小于1微米。在纳米毛细管开发之前，对于科学、工业以及医疗界来说，小于 1 微米直径基板的主要选择包括湿式蚀刻或离子铣，这两种技术的成本都极为高昂，相对来说难以采用。 Polymicro的毛细管建立在行业领先的功能之上，在小于1微米的尺寸内可以实现高性价比的高性能毛细管产品。这类毛细管已被证实可作为封装完整性和泄漏试验的基板，还具有单分子研究和分析的潜力。通过SEM验证可以确保对直径的控制。 合成熔融石英具有镜面般光滑的内表面，可实现液体和气体的稳定流动。材料的金属离子含量较低，使内表面产生惰性，便于有效的断裂或切割操作，达到定制的管路长度。此外，管路外部的聚酰亚胺涂层在搬运和使用过程中具有出色的的耐磨性，使管路可用于-65oC至+350oC的温度。 有关科学应用包括分析化学、层析技术、纳米流体力学、直接进样口监控、基于倏逝波吸收的传感，以及同轴光学和射流元件。工业应用则包括管壳泄漏试验、蒸发冷却系统、石油分析以及催化研究。医疗应用包括药物递送、流量控制系统、临床和诊断设备，以及可穿戴式药物递送设备。零件号产品号内径*(nm)外径(μm)涂层厚度(μm)每卷最大包装(m)1068150033TSP000.2375NC200 +200/-100363 ± 1020101068150035TSP000.6375NC600 ± 200363 ± 1020101068150037TSP001.0375NC1000 ± 500363 ± 102010*以线盘标签上标识的实际内径测量尺寸为准。

产品简介 ZnGeP2（ZGP）单晶是用于频率转换产生中红外以及太赫兹波的高效的非线性光学材料。ZnGeP2晶体具有正的双折射，可以在0.75um-12.0um的波长范围进行相位匹配光学参量频率转换。其有用的传输范围位于从2.1至10.6微米，此范围内具有低至 0.04cm-1的吸收。ZnGeP2具有很大的非线性光学系数和相对高的激光损伤阈值。ZnGeP2晶体具有以下应用：经由与1.06毫米混频上转换CO2激光光到近红外范围 ：合频CO和CO2产生的激光辐射 高效的倍频CO，CO2脉冲激光（49％的倍频效率 1GW/cm2光强，2ns脉冲宽度，9.52毫米波长），在铒激光和钬激光激发下用于中红外波段OPO激光产生。ZnGeP2晶体的应用—— CO2激光器二次、三次和四次谐波产生—— 2um及光泵浦是的光参量产生—— 相干激发辐射太赫兹频段的光波 70um-1000um （0.3-4THz）详细参数透明度范围，微米0.75 - 12.0点群42m密度，g/cm34.12莫氏硬度5.5折射率：在2.00微米??= 3.1490 ??= 3.1889在4.00微米??= 3.1223 ??= 3.1608在6.00微米??= 3.1101 ??= 3.1480在8.00微米??= 3.0961 ??= 3.1350在10.00微米??= 3.0788 ??= 3.1183在12.00微米??= 3.0552 ??= 3.0949非线性系数，pm/ VD36= 68.9（10.6微米），D36= 75.0（9.6微米）光损伤阈值，MW /cm260（10.6微米，150纳秒）更多晶体相关产品碲化锌晶体ZnTe晶体铌酸锂晶体LiNbO3晶体硒化锌晶体ZnSe晶体硒化镓晶体GaSe晶体硫化锌晶体ZnS晶体磷化镓晶体GaP晶体有机晶体DAST晶体有机晶体DSTMS晶体有机晶体OH1晶体

GATTA-SIM NANORULER来自德国GATTA-SIM系列Nanorulers（纳米尺）是检查您的SIM系统（单分子定位超分辨显微镜）分辨率的完美样本。单色纳米尺子携带两个由高量子产率染料分子密集排列而成的荧光标记。此外，我们提供了一种新的设计，包含两个不同的荧光团三个发光点，允许获取非常引人注目的图像。单色GATTA-SIM纳米尺120纳米-120nm尺寸只有蓝色可供选择140纳米-黄色和蓝色160纳米-颜色为红色(ATTO 647N)，黄色(Alexa Fluor568)或蓝色(Alexa Fluor488)多色纳米尺有三个发射点，尺寸：140纳米(Alexa Fluor 568 & Alexa Fluor 488)160纳米(ATTO 647N & Alexa Fluor 568或ATTO 647N & Alexa Fluor 488)我们还可以根据您的要求设计特殊的解决方案。所有纳米样品都将是GATTA-SIM超分辨率图像，在密封玻片上交付，您可以舒适地直接放在显微镜上。