纳米流体

1、TC 3000L系列液体导热系数仪产品介绍 TC 3000L系列液体导热系数仪充分发挥了热线法的准确度高（2%）、测试速度快（2s）的优点； XIATECH的专业设计，使其具有足够的抗震性和实用性，且只需要很少的样品用量（30 mL），即可获得准确的导热系数数据。2、TC 3000L系列主要特点测量快速：2 s内获得数据，zui大程度避免自然对流的影响；测量准确：采用标准试样甲苯和纯水进行检验，准确度可达0.5 %，全量程范围内优于3 %；适用广泛：可用于-30~200 ℃、0.1~15 MPa内各种极性和非极性流体；样品用量少：只需要30 mL就可以获得准确的测量结果；操作简单：自动化程度高，无需专业人员即可操作设备；符合ASTM D2717 ASTM D7896标准。3、TC 3000L系列适用范围TC 3000L系列液体导热系数仪广泛适用于不同温度条件下各种极性和非极性液体，可测试的样品包括纳米流体、液体燃料、制冷剂、冷冻液、润滑油、离子液体等。4、技术参数TC 3000L系列主要技术参数如下：05、典型应用纳米流体：如TiO2纳米流体、Al2O3纳米流体、Fe3O4纳米流体、Zr O2纳米流体等；液体燃料：如汽油、柴油、煤油、汽油添加剂、含氧燃料、各种新型的替代燃料等；制冷剂：如R134a、R12、R22、R123、二甲醚等制冷剂以及制冷剂与润滑油混合物等；；其它：如冷冻液、润滑油、导热油、离子液体等各种极性、非极性液体。

EVG系列纳米压印设备之紫外纳米压印：600 一、 简介 EVG公司成立于1980年，公司总部和制造厂位于奥地利，在美国、日本和台湾设有分公司，并在其他各地设有销售代理及售后服务部，产品和服务遍及世界各地。EVG公司是一家致力于半导体制造设备的全球供应商，其丰富的产品系列包括：涂胶和喷胶/显影机/热板/冷板、掩模版光刻/键合对准系统、基片热压键合/低温等离子键合系统、基片清洗机、基片检测系统、SOI 基片键合系统、基片临时键合/分离系统、纳米压印系统。目前已有数千台设备安装在世界各地，被广泛地应用于MEMS微机电系统/微流体器件，SOI基片制造，3D封装，纳米压印，化合物半导体器件和功率器件等ling 域。EVG是世界上为数不多的可以商业化纳米压印设备的著ming公司，可为客户提供完整的纳米压印方案，包括热压印、紫外压印、微接触印刷。EVG公司以其专利的极其优异的对准技术和世界ling 先的热压技术为纳米压印的成功实施打下了坚实的基础。EVG620紫外纳米压印用于从印章到衬底的紫外图形转移。EVG620自动纳米压印系统允许衬底和印章的尺寸从很小的芯片到150mm直径的圆片范围。用于纳米技术应用的配置包括印章机械释放、程序控制高或低的接触压力。EVG独有的吸盘设计支持软印章和硬印章压印，可以保证大面积纳米压印的均匀压力，从而保证获得很高的良率。 二、应用范围纳米压印技术主要应用于如下方面：LEDS 制作，LED PSS纳米压印工艺，LED纳米透镜阵列；微流体学；芯片实验室；抗反射层； 纳米压印光栅； 莲花效应；光子带隙；光学及通讯：光晶体，激光器件；生物技术解决方案：医药分析，血液分析，细胞生长。三、主要特点u 适用于紫外纳米压印和微接触印刷；u 紫外光曝光；u 配备专用的紫外纳米压印工具；u 适于软或硬印章压印；u 适用衬底：Si，玻璃，化合物半导体； 四、技术参数亚科电子设备咨询电话：（微信同号）；欢迎您的来电咨询！

CHDF4000 高分辨率纳米粒度仪1)CHDF4000是基于光散原理的仪器，使用新的技术对高分辨率的粒度分布(PSD)进行测量，包括高粒子检测灵敏度、动态范围、纳米粒子的优化分析；2)CHDF4000可提供完整范围5纳米至NM3微米，真实的PSD数据；3)通过粒子分离真正的PSD数据，关于粒子大小分布的形状不需要假设；4)根据颗粒密度分析—得出准确的粒子分类，包括纳米粒度；5)自动化操作，通过一个人性化界面即可完成全部操作主要优势：1) 高精度颗粒分布；2) 高灵敏度探测；3)纳米级别颗粒度分析；4)极高的可靠性；5)操作简便；6)在质量控/研发/在线控制方面均可应用；7)由于其新的紫外检测，具有极好的粒子检测灵敏度；8)平台，采用锥形检测流动池；9)极高的检测动态范围，可检测出微量的粒子；10)泵送系统性能高；11)连续监测/控制所有的测量数据；12)紫外检测器；13)自动取样器；14)样品用量小（不到1ml），分析时间10分钟； 技术参数：1)样品瓶数量：72；2)样品瓶尺寸：12mm，2ml；3)每小瓶注射次数：每个样品很低可以重复运行15次，数据可以自动保存和打印；4)自动样品混合：在分析之前样品(200μL)被吸入到瓶中4次用于样品混合，也为了防止粒子沉降；5)单独标记瓶：12ml；6)单独针冲洗瓶：12ml用于自动针浸渍(进入水或表面活性剂溶液)保持针外表面清洁；7)注射器体积：250 μL；8)精度：小于+/- 0.5% RSD；9)阀门：Valco Cheminert C3阀门，带有25 μL圈；10)防潮材质：聚四氟乙烯，316不锈钢；11)尺寸：24 x 59 x 52 cm (W x D x H)；12)净重：42kg

产品信息Insplorion S2 采用双通道流通池，用于无标记和原位研究分子间相互作用和表面吸附事件。 此系统在表面/样品界面几十纳米范围内实现了真正的纳米级测量，并完美地控制样品和缓冲液的流动。 1、集成和自动化的流体处理具有软件命令队列、6通注射阀和不间断流量注射泵的自动流量操作，并集成了缓冲液更换和冲洗操作。2、精确的温度控制快速和稳定的温度控制，范围在15°C至45°C之间，波动在0.1°C以下。 3、易于操作样品通过集成的流体处理系统输送，具有完全的用户可访问性，易于操作和精确控制。自动化操作通过Insplorion InControl软件实现。单柄的可拆卸流通池带有单独的传感器托盘，易于日常使用和维护。 4、兼容性nsplorion S2 适用于任何生物材料，并可以轻松处理不同类型的生物样品：脂类、蛋白质、核酸、病毒、生物膜、生物矿物、水凝胶。尽管Insplorion S2 设计用于处理生物样品，但这款仪器非常耐用，还可以处理许多其他的材料和化学物质。有关样品的化学兼容性的更多信息，请联系我们。5、多功能由于其无标记、实时和表面灵敏的特性，NPS 技术具有广泛的用途。Insplorion S2 擅长展示NPS技术的最佳特征，并将其用于要求减少样品处理和严格控制温度的生物应用。理论上，可以测量任何改变表面传感器光学环境的现象。这包括许多过程，比如： 分子吸附到不同表面、 脂质双层膜的形成和相互作用、温度依赖的相互作用、构象变化、 生物分子识别、生物矿化、生物膜形成、 加载和卸载动力学。 技术指标流通池 传感器芯片位置 双通道* 注射类型 带样品环的注射泵 样品死体积 20μL 标准注射器体积 250μL** 典型流速 12.5 - 250 μL/min *** 标准样品环 200μL 材料 蓝宝石玻璃、钛 垫圈和管子 PTFE,FPM和硅橡胶 温度范围 15-45℃，稳定性为0.1℃* 串联排列 ** 可以配置 *** 软件控制传感器 尺寸 9.5 x 9.5 mm, 1 mm厚 衬底 熔融石英 表面 纳米结构金 标准涂层** 无涂层, SiO2, Al2O3, TiO2 * 还提供定制的银传感器纳米结构 ** 可以订购带有定制薄膜涂层的传感器。测量特征 测量类型 无标记纳米等离子体传感 光源* 卤钨灯，最低寿命2000小时 测量点直径 1.5mm 时间分辨率 每秒多达10个采样点 典型噪音** 波长0.1nm 探测深度 达30nm* 可提供定制选择和替换 ** 以1 Hz的采样率。系统 尺寸 W65xD42xH36 cm 重量 30kg软件 控制软件 InControl 1.0 操作系统 兼容微软Windows系统 数据输出格式 专有的CSV/TSV输出，易于使用任何其他图形工具包 分析的参数 多参数读出（表面浓度的有效变化）应用领域Insplorion S2 适用于任何生物材料，并可以轻松处理不同类型的生物样品：&bull 脂类&bull 蛋白质&bull 核酸&bull 病毒&bull 生物膜&bull 生物矿物&bull 水凝

三为科学NX-200脂质纳米颗粒制备系统包含4台泵、4个流量计、1个射流混合器和两个用于预稀释和淬灭的混合器和切换阀组成。高压输液泵使脂质溶液及RNA等药物活性成分溶液形成两股射流，在射流混合器腔体中进行对冲，高速射流混合降低了脂质的溶解度，从而形成均匀的包裹药物活性成分的脂质纳米颗粒。纳米颗粒的质量取决于流的流动稳定性、混合器的几何形状和流体速度。制备装置可按用户端实际需要添加在线监控模块、应用模块。通过NanoFlu纳米制备流体工作站，用户可查看、控制制备装置上的各模块。制备装置亦预留了多种通信接口，便于用户进行SCADA、DCS、PLC等控制系统的集成和组态应用。 脂质纳米颗粒制备系统(LNP)系列产品包含：NX-50，NX-100，NX-200，NX-300，NX-600，NX-1000，NX-3000，对应的系统输液泵的流量分别为：50ml、100ml、200ml、300ml、600ml、1000ml、3000ml。 三为科学的产品已经在多家知名药企mRNA新冠疫苗项目上应用，部分上市药企mRNA新冠疫苗项目已经进入临床阶段。 专利号：ZL202221027700.6 一种脂质纳米颗粒的制备系统 专利号：ZL202121807711.1 一种用于制备脂质纳米颗粒的射流混合器及射流混合系统系统单元构成单元构成模块数量备注高压输液泵2一路输送脂质溶液，另一路输送API溶液稀释输液泵2混合前后的在线稀释、淬灭等流量计4监控输液泵的正常工作，异常反馈碰撞射流混合器1用于中高压及较大通量的场景或 微流控芯片1用于低压及较小通量的场景预混合器2配合在线稀释及淬灭阀组1切换混合液的出口管路NanoFlu控制软件1查看、控制制备装置上的所有模块通信接口3预留了多种通信接口，便于用户进行SCADA、DCS、PLC等控制系统的集成和组态应用脂质纳米粒制备工艺放大的形式：一、多制备单元平行放大三为科学NX系列脂质纳米粒制备系统属于可以多个制备单元并联，并联单元的数量取决于应用。每个单元都可以独立运行，客户可根据工艺要求，配置多个平行混合单元。每个装置包括两个泵，用于输送脂质和API流，两个流量计，用于流量控制和一个喷射混合器。根据配置，API的预稀释和淬灭可以在射流混合纳米发生器外部的一个工艺步骤中对所有单元的组合流进行。二、采用更大流速高压输液泵和对应匹配射流混合器进行放大三为科学脂质体制备系统匹配的泵和射流混合器，可以满足小到1ml/min大到3000ml/min的高流速射流法生产脂质纳米粒的需要。客户可以根据工艺需要实现独立生产制备单元的放大。NanoFlu 纳米制备流体工作站制备装置配套流体控制软件 NanoFlu纳米制备流体工作站用于控制脂质纳米粒制备系统的各模块，进行程序化的流体输送。软件流量控制单元除了可以控制高压输液泵精确、稳定的恒定流速输送，还可以实现线性、梯度、函数曲线导入等形式进行流量变化的控制；实时采集压力数据、绘制压力流量曲线，便于实时查看输送状态与输送进度；以图表形式保存、导出压力流量数据，便于实验数据的记录、分析；支持客户端自定义流量校准，支持用户校准特定工况下的特定流量，以满足不同工况下的使用；兼容整合外接流量计、粒度仪等在线监控模块与应用模块；软件符合FDA 21 CFR PART 11法规要求，执行权限管理、电子记录、电子签名、审计追踪等功能。流量图例 软件功能产品名称NanoFlu 标准版NanoFlu多机版泵控制数1-4＞4流量控制恒定、线性、梯度流速单位体积（ml/min）、重量（g/min）压力设定保护压设定、零点值修正读数显示压力曲线实时显示、流量运行进度显示在线调整运行阶段可在线修改流量压力参数数据记录流量压力数据记录、数据图表形式导出方法保存方法保存与调用维护功能流量校准审核管理权限管理、电子记录、电子签名、审计追踪拓展功能可整合在线监控模块与应用模块316L不锈钢高压输液泵制备装置配套输液泵 三为科学N系列高压输液泵，作为纳米脂质体制备装置的配套高压输液泵和稀释输液泵，N系列高压输液泵流路材料优化，可以匹配射流混合器和nanoflu软件，为RNA疫苗研发、脂质体药物研发所需制备系统搭建提供稳定的高压动力源。该配套泵集成了公司多年流体设备的技术积累与应用经验，具有流速精准、工作稳定、耐腐蚀、低脉冲等特点，通讯端口丰富有利于药厂系统通讯集成。作为脂质纳米粒制备系统搭建用泵，N系列高压输液泵除了匹配三为科学射流混合器，还可以匹配其他品牌用于脂质纳米粒制备的混合器和低压芯片用于系统集成。硬件功能 精准输送多点流量校正：实现全量程范围内的高准确度及高重复性流体输送流量脉冲抑制：凸轮曲线补偿与流量脉冲电子抑制，有效控制压力脉冲压力设定修正：流路的保护压设定、零点值修正排除环境干扰柱塞清洗功能：柱塞后清洗，减少密封圈磨损，延长泵的使用寿命在线参数修改：运行阶段可在线修改流量参数和压力参数 通讯功能 系统集成多种通讯模式：一对一控制、一对多控制、多对多控制多种通讯端口：RS232/485/422、USB、有线/无线网络多种通讯协议：Modbus RTU、ProfibusDP、Profinet模拟数字控制：模拟量输入控制、开关量启停控制 支持系统集成：并入SCADA/DCS/PLC控制系统及组态应用客户控制应用案例包括：l 上位机软件控制l 组态软件控制l 触摸屏控制l PLC控制l SCADA/DCS等系统控技术选型配套型号N200流量范围0.01-200.00 ml/min流量增量0.01ml/min流量准确度≤±0.5%流量重复性≤0.1%压力范围0-10MPa压力脉动≤0.1MPa泵头材料316L不锈钢流路材料316L不锈钢、红宝石、PTFE、PEEK、陶瓷通信协议标配Modbus协议通信接口标配USB、RS232、RS485接口电源功耗85-264VAC，50Hz；75W外形尺寸240mm x 152mm x 370mm

法国Elveflow自2012年以来我们一直致力于制造优质的流体处理仪器，至今为止，已经科研和工业用户提供多达2，000套系统，其中脂质体和脂质纳米粒合成应用包，包含合成脂质体和脂质纳米粒所需的全套微流体设备。该系统可以实现脂质纳米粒的快速合成，以30ml/min速度连续生产脂质体和脂质纳米粒。尤其适用于长期实验，可以生成直径为30至250 nm的高度单分散纳米颗粒。也可以直接扩大生产，生产的脂质体和脂质纳米粒溶液从几毫升到一升！该脂质体和脂质纳米粒合成系统包含必要的微流控部件，可以在微流控芯片内部轻松合成具有高单分散性、重复性的脂质纳米粒。同普通脂质体的制备相比，微流体技术具有显著优势。微流体具有层流条件和扩散传质的特点，在制备脂质体是可以对尺寸和片层进行很好控制。此外，它还可以通过微反应器并行化实现脂质体生产过程的原位监测、连续生产和放大。基于我们的高精度Elveflow OB1流量控制器和微流控芯片，该解决方案减少了脂质纳米颗粒合成时间和试剂消耗。脂质体和脂质纳米颗粒合成应用包可以进行定制化设计，以满足您的特定需求。该应用包中包含至少两个压力泵，用于将合成过程所需的两种化学溶液推送到一个人字形微混合器芯片内。可用于脂质纳米粒（LNP）、固体脂质纳米粒（SLN）和纳米脂质体的合成。为什么使用微流体技术合成脂质纳米粒？微流控纳米颗粒具有良好的通量和单分散性，在微流体下的包裹效率也更高。与脂质纳米粒合成的整体方法相比，微流控合成系统的优势是，通过添增加多的微流控仪器和芯片，可以很容易地将此过程变成更复杂操作中的单个步骤。集成的应用包中包含Elveflow软件，可以创建定制的自动化序列，以实现更好的重复性和方便性。该软件还可以通过软件开发工具包和免费库轻松集成到其他系统中。即插即用仪器，用于脂质体和脂质纳米颗粒合成，具有许多优点：（1）确保不同仪器之间的良好兼容性。（2）允许操作员立即开始实验。（3）用户友好的软件界面，适用于任何微流控应用。脂质体纳米颗粒合成系统的应用有：w 流体动力聚焦法制备PLGA纳米粒子w 纳米颗粒制备w 合成细胞器w 纳米颗粒与纳米水凝胶w 微凝胶w 制备胶囊w 药物输送w 微流控下海藻酸钠微球的制备

NH-500超高压纳米微射流工作原理：　　高压流体在加压状态下通过细孔模块时压力急剧下降而形成超声波流速此时的流体内会发生粒子冲击，空化和消流，剪切，应力作用下流体细胞的破坏，雾化，乳化，分散，脂质体等现象使用现有的智能搅拌机，超声波，球磨机等，相对于其它技术具有更高效率的电子材料，生命工程，制药， 食品， 纤维，涂料，化妆品等产业， 以至适用于广泛的领域。　　高压流体在分散单元的狭小缝隙间快速通过。 此时流体内压力的急剧下降而形成的超声速流速，流体内的粒子碰撞，空化及漏流，剪切力作用于劈开纳米大小的细微分子便流体的成分以完全的均质的状态存在。　　应用：　　微射流广泛应用于陶瓷墨水分散，石墨烯分散，纳米混悬液制备，纳米纤维素分散等领域.　　金刚石互容腔优点：　　※ 金刚石内置图层，更加耐磨，适用于更多的颗粒坚硬的样品处理　　※ 可以根据客户不同种应用定制合适的型号75um、100um、125um等　　※ 利用样品与样品之间的湍流和对撞来实现样品的处理，样品污的风险更小！　　※ 耐压可达30000psi，超过目前所有的样品处理设备，可达到更大的剪切力，空穴和湍流的效果！　　超高压纳米微射流产品规格参数：　　设计压力：2070bar（30000psi）　　流量：500ml/min　　电机系统：油压泵　　料杯容量：2000ml　　重量：300KG　　互溶腔规格：75um/100um（Z/Y,type） 　　"Z"型工作腔原理：(选配“Y”型) "Z"型工作腔原理：（选配“Y”型）　　图1：撞击：空液体的相互碰撞及液体内部的颗粒流体发生碰撞而形成的碰撞力。　　图2：剪切：根据流体的表面张力及分散单元内部的壁面摩擦力、 粘度等，会发生流体的剪切力。　　图3：空化：空化是指空隙的行为或气泡在液体中。如果速度增加，则分子和空隙或间凝集力液体中的气泡迅速塌陷，产生一种冲击波。

NH-500超高压纳米微射流工作原理：　　高压流体在加压状态下通过细孔模块时压力急剧下降而形成超声波流速此时的流体内会发生粒子冲击，空化和消流，剪切，应力作用下流体细胞的破坏，雾化，乳化，分散，脂质体等现象使用现有的智能搅拌机，超声波，球磨机等，相对于其它技术具有更高效率的电子材料，生命工程，制药， 食品， 纤维，涂料，化妆品等产业， 以至适用于广泛的领域。　　高压流体在分散单元的狭小缝隙间快速通过。 此时流体内压力的急剧下降而形成的超声速流速，流体内的粒子碰撞，空化及漏流，剪切力作用于劈开纳米大小的细微分子便流体的成分以完全的均质的状态存在。　　应用：　　微射流广泛应用于陶瓷墨水分散，石墨烯分散，纳米混悬液制备，纳米纤维素分散等领域.　　金刚石互容腔优点：　　※ 金刚石内置图层，更加耐磨，适用于更多的颗粒坚硬的样品处理　　※ 可以根据客户不同种应用定制合适的型号75um、100um、125um等　　※ 利用样品与样品之间的湍流和对撞来实现样品的处理，样品污的风险更小！　　※ 耐压可达30000psi，超过目前所有的样品处理设备，可达到更大的剪切力，空穴和湍流的效果！　　超高压纳米微射流产品规格参数：　　设计压力：2070bar（30000psi）　　流量：500ml/min　　电机系统：油压泵　　料杯容量：2000ml　　重量：300KG　　互溶腔规格：75um/100um（Z/Y,type） 　　"Z"型工作腔原理：(选配“Y”型)　　"Z"型工作腔原理：（选配“Y”型）　　图1：撞击：空液体的相互碰撞及液体内部的颗粒流体发生碰撞而形成的碰撞力。　　图2：剪切：根据流体的表面张力及分散单元内部的壁面摩擦力、 粘度等，会发生流体的剪切力。　　图3：空化：空化是指空隙的行为或气泡在液体中。如果速度增加，则分子和空隙或间凝集力液体中的气泡迅速塌陷，产生一种冲击波。

NH-500超高压纳米微射流工作原理：　　高压流体在加压状态下通过细孔模块时压力急剧下降而形成超声波流速此时的流体内会发生粒子冲击，空化和消流，剪切，应力作用下流体细胞的破坏，雾化，乳化，分散，脂质体等现象使用现有的智能搅拌机，超声波，球磨机等，相对于其它技术具有更高效率的电子材料，生命工程，制药， 食品， 纤维，涂料，化妆品等产业， 以至适用于广泛的领域。　　高压流体在分散单元的狭小缝隙间快速通过。 此时流体内压力的急剧下降而形成的超声速流速，流体内的粒子碰撞，空化及漏流，剪切力作用于劈开纳米大小的细微分子便流体的成分以完全的均质的状态存在。　　应用：　　微射流广泛应用于陶瓷墨水分散，石墨烯分散，纳米混悬液制备，纳米纤维素分散等领域.　　金刚石互容腔优点：　　※ 金刚石内置图层，更加耐磨，适用于更多的颗粒坚硬的样品处理　　※ 可以根据客户不同种应用定制合适的型号75um、100um、125um等　　※ 利用样品与样品之间的湍流和对撞来实现样品的处理，样品污的风险更小！　　※ 耐压可达30000psi，超过目前所有的样品处理设备，可达到更大的剪切力，空穴和湍流的效果！　　超高压纳米微射流产品规格参数：　　设计压力：2070bar（30000psi）　　流量：500ml/min　　电机系统：油压泵　　料杯容量：2000ml　　重量：300KG　　互溶腔规格：75um/100um（Z/Y,type）"Z"型工作腔原理：（选配“Y”型）　撞击：空液体的相互碰撞及液体内部的颗粒流体发生碰撞而形成的碰撞力。　剪切：根据流体的表面张力及分散单元内部的壁面摩擦力、 粘度等，会发生流体的剪切力。　空化：空化是指空隙的行为或气泡在液体中。如果速度增加，则分子和空隙或间凝集力液体中的气泡迅速塌陷，产生一种冲击波。

纳米压印设备之紫外纳米压印：EVG600系列 一、 简介 EVG公司成立于1980年，公司总部和制造厂位于奥地利，在美国、日本和台湾设有分公司，并在其他各地设有销售代理及售后服务部，产品和服务遍及世界各地。EVG公司是一家致力于半导体制造设备的全球供应商，其丰富的产品系列包括：涂胶和喷胶/显影机/热板/冷板、掩模版光刻/键合对准系统、基片热压键合/低温等离子键合系统、基片清洗机、基片检测系统、SOI 基片键合系统、基片临时键合/分离系统、纳米压印系统。目前已有数千台设备安装在世界各地，被广泛地应用于MEMS微机电系统/微流体器件，SOI基片制造，3D封装，纳米压印，化合物半导体器件和功率器件等ling 域。EVG是世界上为数不多的可以商业化纳米压印设备的著ming公司，可为客户提供完整的纳米压印方案，包括热压印、紫外压印、微接触印刷。EVG公司以其专利的极其优异的对准技术和世界ling 先的热压技术为纳米压印的成功实施打下了坚实的基础。EVG620紫外纳米压印用于从印章到衬底的紫外图形转移。EVG620自动纳米压印系统允许衬底和印章的尺寸从很小的芯片到150mm直径的圆片范围。用于纳米技术应用的配置包括印章机械释放、程序控制高或低的接触压力。EVG独有的吸盘设计支持软印章和硬印章压印，可以保证大面积纳米压印的均匀压力，从而保证获得很高的良率。 二、应用范围纳米压印技术主要应用于如下方面：LEDS 制作，LED PSS纳米压印工艺，LED纳米透镜阵列；微流体学；芯片实验室；抗反射层； 纳米压印光栅； 莲花效应；光子带隙；光学及通讯：光晶体，激光器件；生物技术解决方案：医药分析，血液分析，细胞生长。三、主要特点u 适用于紫外纳米压印和微接触印刷；u 紫外光曝光；u 配备专用的紫外纳米压印工具；u 适于软或硬印章压印；u 适用衬底：Si，玻璃，化合物半导体； 四、技术参数设备咨询电话：欢迎您的来电咨询！

产品信息Insplorion XNano具有一个灵活的测量单元，能够在气体和液体流量测量中实时测量折射率变化。简而言之，整个Insplorion XNano系统提供以下功能：a、传感器表面折射率变化的超灵敏测量b、在液体或气体环境中测量c、使用集成温度控制，温度范围室温至80 Cd、灵活选择样品材料的结构和性能e、基底材料和表面化学的灵活选择f、实时、原位监控纳米颗粒和薄膜内/上的变化过程g、用户友好的仪器和软件技术指标测量单元 芯片上方体积 ~ 4 μL 样品消耗最小量 ~ 100 μL 典型流速 20-100 μL/min 材料* 钛和全氟化橡胶 温度范围** 室温至80oC *可自定义选项。** 通过可选的配置实现250oC的高温。 传感器芯片衬底 熔融石英 尺寸 9.5 mm x 9.5 mm x 1 mm 表面 纳米结构金 表面涂层* Au, SiO2, Si3N4, TiO2, Al2O3*可订购客户化的薄膜涂层传感器。 光学读数特性 光源* 卤钨灯，最低寿命2000小时 测量点尺寸 圆形区域~直径2mm 波长范围** 450 - 1000 nm 时间分辨率 每秒10个采样点 典型噪音*** 0.01 nm *可自定义选项和可替换，**可自定义波长范围，***在液相环境中的采样速率达到1Hz 尺寸 测量单元 31cm x 25cm x 25 cm 光学单元 25 cm x 27 cm x 9 cm 温度控制单元 25 cm x 27cm x 9 cm 软件 操作系统 兼容Windows操作系统 数据输出格式 ASCII码文本文件格式直接使用的任何绘图软件都兼容此格式 分析的参数 多参数输出（如：共振波长、宽度和消光） 应用领域1、分子结合和生物识别Insplorion NPS适用于生物分子相互作用分析。通过监测捕获剂（配体）固定到insplorion传感器，然后通过insplorion仪器的流体系统引入分析物，可以确定作为亲和常数的定量信息。监测脂质双层膜和嚢泡Insplorion的技术和仪器可以进行完整的实验，其中可以监测脂质双层的形成以及与生物分子和纳米颗粒的相互作用。对表面附近光学性质变化的极端敏感性也能获得结构信息，例如关于囊泡形状的信息。对邻近表面光学性质变化的极端敏感性也能获得结构信息，例如关于囊泡形状的信息。药物运输Insplorion NPS技术可用于监测聚合物薄膜（厚度从微米到几纳米）以及多孔网络中的扩散。Insplorion传感器具有极高的表面灵敏度，可以探测到厚膜中隐藏的内部界面。这允许您确定扩散物种到达界面并使薄膜饱和的时间，以及监测释放过程。定量的动力学信息，如扩散系数已经在一个案例中从实验获得。 2、氢气传感/贮存Insplorion NPS技术为储氢和固态反应领域的研究者提供了一种新的、强大的研究工具，以克服众多的实验挑战。NPS的测量集中在一个明确的模型系统上，在“运行”条件下和受控的微环境中使用少量的样品。这导致了各种梯度的最小化，以及广泛的粒径分布的扭曲。高时间分辨率使快速变化过程能够在高温下的固态反应中被监控。成功故事NPS技术已成功地用于解决纳米储存实体储氢领域的以下问题：1、在D5nm尺寸范围内，钯纳米粒子的氢化和脱氢动力学的尺寸依赖性。2、在D5nm尺寸范围内，钯纳米粒子氢化物形成和分解热力学的尺寸依赖性。3、金属纳米粒子中氢化物形成与分解之间的尺寸依赖性滞后现象的研究。4、镁和钯纳米粒子氢化物形成热力学的定量单粒子研究。 3、超薄的聚合物膜和纳米结构/纳米粒子的玻璃化转变温度在超薄聚合物膜中，玻璃化转变温度Tg因近表面层（几纳米厚）的存在而变得尺寸/厚度依赖，其中聚合物片段具有不同的流动性。Insplorion的NPS技术为聚合物薄膜领域的研究者提供了一个研究相变的强大工具。成功故事 NPS技术已成功地用于解决以下现象：1、无规聚甲基丙烯酸甲酯（PMMA）玻璃化转变温度（Tg）薄膜的厚度依赖性。2、聚苯乙烯（PS）纳米粒子中玻璃化转变温度（Tg）的尺寸依赖性。 4、监测多孔膜和衬底之间的隐藏界面即使对于装备精良的实验室，小分子小规模地扩散进出多孔材料也是一项挑战。对于药物输送和其他缓慢释放以及多孔基质中需要最多材料的应用，NPS技术可以证实为一个非常宝贵的工具。成功故事NPS技术已用于追踪下面的变化过程：1、介孔二氧化钛染料浸渍的时间依赖性对染料敏化太阳能电池的优化。2、染料在介孔材料中扩散系数的量化。 5、太阳能电池提高DSSC的性能和知识。Insplorion NPS技术应用于研发，提高太阳能电池的性能。实时传感器技术为光接收涂层的不同涂层提供了可靠和一致的测量。例如，染料敏化太阳能电池的染料浸渍步骤可以使用Insplorion仪器进行详细监测。Insplorion与瑞典洛桑联邦理工学院Prof. Michael Gr?tzel课题组和查尔姆斯理工大学的研究人员一起已经成功地将Insplorion的纳米等离子体传感技术NPS应用于染料敏化太阳能电池的研究。这项研究集中在太阳能电池中二氧化钛薄膜的分子吸附，并且展现在Nano Letters上。提高太阳能电池性能：Michael Gr?tzel作为太阳能电池领域的世界一流的研究者，关于insplorion的技术，他说：“我发现insplorion的技术对于研究染料敏化太阳能电池的染料浸渍非常有趣。它有可能成为改善染料浸渍工艺，从而提高太阳能电池性能的一个有价值的工具。”

气溶胶纳米喷印纳米印刷是柔性电子领域重要的区域性沉积技术， VSP-P1 采用独家的气溶胶冲压沉积技术，将原材料通过火花烧蚀的方式转变成纳米级气溶胶颗粒，并在真空系统配合下实现图案的绘制。该方法避免了传统喷墨打印需要导电油墨以及后续热处理去除油墨的弊端，保证图案的纳米结构最大程度的保留，避免产生气孔等缺陷。运行原理气溶胶颗粒会通过火花烧蚀的方式在前端产生，颗粒经由惰性气体带动运输至喷嘴处，经过真空系统作用，腔室的气压会保持在 10mbar 以下，而经由喷嘴喷出的气溶胶会在基底表面冲压沉积。而利用 XYZ 轴控制喷嘴的移动，即可实现图案的绘制。利用该方法，可轻松实现：1. 金属，合金，氧化物颗粒的印刷沉积2. 无添加剂，无废液3. 一步沉积，设备模块化，前端的气溶胶发生器可独立拆卸工作，进行其它方向的纳米研究4. 颗粒初始粒径可保持在 0-20nm 之间，形成多孔结构应用领域 高通量合金催化剂的筛选利用气溶胶喷印在多个通道打印沉积比例不同的合金催化剂，从而快速考查电催化性能。该方法可用于在工业相关电流密度下的流体力学条件下制备和筛选电极材料，可用于确定最佳催化剂和催化剂制备的稳健性。Ni / Fe 的复合电极被用于进行验证，64 个不同比例的催化阳极电极在快速筛选后可得到反应电位的变化。SERS表面增强拉曼光谱需要精细的 Au, Ag 等纳米结构，从而实现对低信号量化学物质的灵敏检测。利用气溶胶喷印技术在基底表面快速绘制纳米图案，进行拉曼光谱检测。这种方法避免添加剂对检测的干扰，在较低的温度处理后便可进行后续检测。纳米印刷结构在对罗丹明 6G，PMBA，三聚氰胺的检测中，标准基片表现出了优异的信号增强性能。气体传感器 金属氧化物 (MOX) 气体传感器通过半导体金属氧化物薄膜的电阻变化来检测气体，但氧化物涂层需要温和的沉积，故而常用的 PVD 与 CVD 手段均不适用。现有方法为利用溶胶凝胶法结合丝网印刷实现区域的沉积。利用气溶胶喷印直写可以实现精准的印刷沉积，避免热处理。

纳米孔读取器纳米孔一般指孔径在1-10nm的孔道结构，其孔径大小与单个生物大分子尺寸相当，通常纳米孔被置入有机 磷脂薄膜内，将待分析样(如血清)分隔呈两部分，当电压施加于纳米孔两侧时，样本中的带电离子和分子会穿越纳米孔形成电流，产生的电流信号可由特定一起采集并进行分析。当生物大分子穿越纳米孔时，由于其尺寸和电荷等性质的不同，会产生特异性的电流特征信号，从而可以根据仪器采集的电流信号分析出样本中的生物大分子的结构、种类和浓度等信息。纳米孔包括固态纳米孔和生物纳米孔两大类，一般应用中的纳米孔为生物纳米孔，纳米孔生物传感器被广泛应用于生物大分子的定性和定量分析，如DNA测序、肿瘤标记物检测和环境重金属离子检测等，纳米孔技术是国际上热门的第三代基因测序技术，由于其在生物、化学、医学、食品与环境等领域内的巨大应用潜力，已经发展成一个生物、化学、医学、流体、电子、材料、机械等多学科交叉的崭新研究领域。纳米孔读取器是一种小型便携式读出设备，具有可重复使用的流动池，用于固体纳米孔和生物孔的超低噪声记录。纳米孔读取器可用于实验活动，如脂质双层测量、DNA易位和单分子检测。若和特定的流式细胞相结合，它适用于蛋白质研究、疾病标记检测、DNA定位和纳米 粒子等分析。纳米孔读取器产品特点：■ 小型化 — 手持仪器 VS. 笨重设备■ 随时可用 — 无需工具，只需将流动池插入设备即可 ■ 高性能 — 低噪声测量■ 经济实惠 — 为每个人提供技术！纳米孔读取器应用案例：另外，我司可提 供各种规格SiNx固态纳米孔，详情可咨 询上海昊量光电设备有限公司。更多详情请联系昊量光电/欢迎直接联系昊量光电关于昊量光电：上海昊量光电设备有限公司是光电产品专 业代 理商，产品包括各类激光器、光电调制器、光学测量设备、光学元件等，涉及应用涵盖了材料加工、光通讯、生物医疗、科学研究、国 防、量 子光学、生物显微、物联传感、激光制造等；可为客户提 供完 整的设备安装，培训，硬件开发，软件开发，系统集成等服务。

氢氧化铝阻燃剂高速胶体磨，氢氧化镁阻燃剂高速胶体磨，阻燃剂高速纳米胶体磨，定转齿高速胶体磨，研磨间隙可调德国高速胶体磨 常用的阻燃剂有氢氧化铝以及氢氧化镁，以氢氧化铝阻燃剂为例，纳米氢氧化铝是用量和应用广的无机阻燃添加剂。氢氧化铝作为阻燃剂不仅能阻燃，而且可以防止发烟、不产生滴下物、不产生有毒体，因此，获得较广泛的应用，使用量也在逐年增加。使用范围：热固性塑料、热塑性塑料、合成橡胶、涂料及建材等行业。同时，氢氧化铝也是电解铝行业所必须氟化铝的基础原料，在该行业氢氧化铝也是得到非常广泛应用。纳米粉体的分散容易出现团聚现象,纳米颗粒的团聚一般分为两种：软团聚和硬团聚。对于软团聚机理，人们的看法比较一致，即软团聚是由纳米粉体表面分子或原子之间的范德华力和静电引力所致，由于作用力较弱，可以通过一些化学作用或施加机械能的方式来消除。 在机械搅拌下纳米粒子的特殊表面结构容易产生化学反应，形成有机化合物枝链或保护层，使得纳米粒子更易分散。普通国产分散机转速只有3000转，剪切力比较弱，分散后的粒径无法达到生产的标准，这也是很多客户头痛的地方。上海依肯高转速分散机是为纳米粉体颗粒研制的一款高转速（14000prm）高剪切分散机，特殊的分体式结构，316L不锈钢定转子产生的强大剪切力，物料之间的踹流、撕裂作用力能够使颗粒高度分散，大提高了提取效率。 氢氧化铝阻燃剂超高速胶体磨是由电动机通过皮带传动带动转齿（或称为转子）与相配的定齿（或称为定子）作相对的高速旋转，被加工物料通过本身的重量或外部压力（可由泵产生）加压产生向下的螺旋冲击力，透过胶体磨定、转齿之间的间隙（间隙可调）时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，达到物料超细粉碎及乳化的效果。氢氧化铝阻燃剂高速胶体磨，氢氧化镁阻燃剂高速胶体磨，阻燃剂高速纳米胶体磨，定转齿高速胶体磨，研磨间隙可调德国高速胶体磨 一种由不锈钢、半不锈钢胶体磨组成，胶体磨的基本原理是流体或半流体物料通过高速相对连动的定齿与动齿之间，使物料受到强大的剪切力，磨擦力及高频振动等作用，有效地被粉碎、乳化、均质、混合，从而获得满意的经细加工的产品。IKN高剪切胶体磨采用了三错齿磨头定转 子，磨头定转子间隙在0.2-0.7mm之间，间隙可通过调节高速匀浆机本身的调节柄来调节设备间隙，在转速不变的情况下，间隙越小，高速研磨、分散效果会越好。高速胶体磨顾名思义，管线式高速胶体磨有着非比寻常的转速，IKN工程师们通过改变皮带轮的传动比例，原本只有3000rpm的电机，经过传动后设备转速可以高达9000rpm。实践证明，在磨头定转子间隙不变的情况下，转速越高，高速匀浆机研磨、分散效果越好。如果客户想要使物料达到更好的 效果，我们提供丹弗斯变频器供客户选择，高速胶体磨在变频后转速可以达到14000rpm，是国内设备转速的4-5倍，可谓是速。胶体磨工作研磨部分CM模块 通过连续的研磨缝隙调节可以改变适用于特定工艺. 旋转分散腔外部的调整环来手动调节研磨缝隙. 旋转的度数和研磨缝隙的大小遵循下表. 表格:放射状缝隙调节Indica特d angle in °Rotations of the adjusting ringRadial gap in mm00090 1/40.104180 1/20.208270 3/40.3123601 0.4164501 1/40.5205401 1/20.6246301 3/40.7287202 0.8328102 1/40.9369002 1/21.040IKN胶体磨的研磨细度和产量可以调节，物料在胶体磨中的研磨指数与下列因素有关：1.物料的成熟度。成熟度高的，易于研磨。2.胶体磨磨头轴的转速即线速度，转速快，则物料的研磨时间短。3.物料直径。直径大的，打碎的程度差。4.有效面积系数。系数大，物料研磨时间亦短。5.导呈角大小。导呈角大的，物料在胶体磨中停留的时间亦短。氢氧化铝阻燃剂高速胶体磨，氢氧化镁阻燃剂高速胶体磨，阻燃剂高速纳米胶体磨，定转齿高速胶体磨，研磨间隙可调德国高速胶体磨

纳米高压均质机用途：　　可应用于二氧化硅，蜡，环氧，丙烯酸，纤维素，硅酮乳液，润滑剂，TiO2油墨，颜料涂料，CNT，碳，BT ,,石墨烯，氧化铝。乳液，奶油海藻萃取等　　各种技术的剪切率　　剪切率:　　通过供给分散单元和狭窄间隙之间的差动速度引起的。　　速度:　　在分散单元内约有 400~ 500m/s　　碰撞:　　受到碰撞的力量　　速度超过 400 m/s，剪切率达 107s-1，整批混合条件不变，可用和负担得起的可扩展性。　　NLM100: 75?m Z 型和 100?m Z 型　　NH500: 100?m Z 型和　　200?m Z 型, NH4000: 400?m Z 型 (过滤) - 100?m Y 型(multi slots-多槽)　　纳米高压均质机新技术的出现要求先进的材料处理，特别是化学，电子材料。　　样品的供给和排出可以通过柱塞来完成，从左到右依次移动。柱塞的移动导致相互作用使分散单元内压力升高。　　当高压流体样品通过相互作用的分散单元时，其速度突然增加到跨音速流体（马赫数 1）并引起剪切机和空穴作为分散的动力源。　　大工作压力（设计） 1700bar（2000bar)控制系统液压系统驱动大流量480L/H均质腔型号Z /Y型，孔径 100/200/400μm外形尺寸3090L*1000W*2160H电力需求380v，50HZ，37kw重量2000kg　　※ 可以根据客户不同种应用定制合适的搭配　　※ 利用样品与样品之间的湍流和对撞来实现样品的处理，样品污染的风险更小！　　※ 大耐压可达 30000psi，超过目前所有的样品处理设备，可达到更大的剪切力，空穴和湍流的效果！　　※ 金刚石内置层，更加耐磨，适用于更多的颗粒坚硬的样品处理　　苏州纳洛泰仪器有限公司专业销售微射流高压均质机，超高压纳米微射流，纳米粉碎机，纳米高压粉碎机，微射流纳米均质机，脂质体挤出器，超高压灭菌柜，primix高速分散机，微反应乳化机，高压分散器等工业用设备, 成套设备以及研究装备的企业.

NIL TECHNOLOGY Aps (NILT) 位于丹麦的哥本哈根市的丹麦技术大学(TECHNICAL UNIVERSITY OF DENMARK）校园里，是一家专门从事纳米光学、纳米结构制作和纳米压印设备制作的公司，公司与的丹麦国家微纳米实验中心(Danchip)是“合作伙伴”关系，并享有共同的超净设备和研发技术成果，公司同时从事欧盟诸多纳米制作项目的研发，并拥有多位教授和博士后团队。NILT 开发的CNI系列 实验室用台式纳米热压印机是专为实验室和研发机构设计和开发的简单易用、性能稳定的研发型设备，用户可以通过CNI设备高效、低成本地实现高精度的纳米热压工艺，许多知名的研发机构均购买了CNI的设备。Nano Fabriction Solution 技术方案已在多个领域为用户提供基于纳米技术的行业解决方案，包括： * LED纳米压印解决方案：LEDS 制作，LED PSS纳米压印工艺，LED纳米透镜阵 *μ-Fluidics 纳米应用流体学 * Lab-On-A-Chip 微流控纳米应用 *Anti-Reflection 抗反射纳米应用*Wire Grid Polarizer 纳米压印光栅 * Lotus Effect 莲花效应 *Photonic Band Gap （PBG) 光子带隙 *光学及通讯: 光晶体，激光器件 *LOC解决方案 *生物技术解决方案: 医药分析，血液分析，细胞生长

产品描述PS2H30-005U系列是具有纳米级定位分辨率的高速，多轴，精密纳米定位系统。本系列产品提供的多功能性，可以配置XY或XYZ运动，并拥有独立的Z/X轴运动产品。可选配内部位置传感器进行闭环，可进行重复的位置测量。体积小，外形尺寸仅有30x30x30mm，具有高谐振频率，高稳定性，高精度使其非常适合需要低噪声和高速性能的计量应用。可根据客户要求定制。PS2H30-005U系列压电陶瓷元件直接移动工作台面，具有高刚性，即使在高负载下可实现稳定定位。产品特性—高速1ms响应，多轴定位—最短的响应时间—亚纳米范围内的高分辨率—高度紧凑的设计带来卓越的性能选配功能—可定制孔位及转接装置—可选PZT&Sensor连接器及线缆长度—可选配闭环(SGS) 位置反馈系—可提供XYZ版本应用领域—原子力显微镜、扫描探针显微镜—测量、计量—光学探针、光学扫描、光束对准—微流体技术 结构原理 位移特性 典型应用PS2H30-005U系列技术参数

产品描述PSWH30-005U系列是具有纳米级定位分辨率的高速，多轴，精密纳米定位系统。本系列产品提供多功能性，可以配置XY或XYZ运动，并拥有独立的Z/X轴运动产品。可选配内部位置传感器进行闭环，可进行重复的位置测量。体积小，外形尺寸仅有30x30x33mm，具有高谐振频率，高稳定性，高精度使其非常适合需要低噪声和高速性能的计量应用。可根据客户要求定制。PSWH30-005U系列压电陶瓷元件直接移动工作台面，具有高刚性，即使在高负载下可实现稳定定位。产品特性—高速1ms响应，多轴定位—最短的响应时间—亚纳米范围内的高分辨率—高度紧凑的设计带来卓越的性能选配功能—可定制孔位及转接装置—可选PZT&Sensor连接器及线缆长度—可选配闭环(SGS) 位置反馈系—可提供XYZ版本应用领域—原子力显微镜、扫描探针显微镜—测量、计量—光学探针、光学扫描、光束对准—微流体技术 结构原理 叠堆形式 典型应用PSWH30-005U系列技术参数

三为科学NX-100脂质体纳米粒制备系统(LNP）是一种基于射流混合器为基础的新型mRNA疫苗和mRNA药物递送系统，用于RNAi、RNAa、mRNA、反义mRNA、靶向mRNA小分子、SiRNA、ASO、RNA疫苗、环状RNA（circRNA）等核酸药物的脂质体纳米颗粒的制备。脂质纳米颗粒制备系统包含4台泵、4个流量计、1个射流混合器和两个用于预稀释和淬灭的混合器和切换阀组成。高压输液泵使脂质溶液及RNA等药物活性成分溶液形成两股射流，在射流混合器腔体中进行对冲，高速射流混合降低了脂质的溶解度，从而形成均匀的包裹药物活性成分的脂质纳米颗粒。纳米颗粒的质量取决于流的流动稳定性、混合器的几何形状和流体速度。制备装置可按用户端实际需要添加在线监控模块、应用模块。通过NanoFlu纳米制备流体工作站，用户可查看、控制制备装置上的各模块。制备装置亦预留了多种通信接口，便于用户进行SCADA、DCS、PLC等控制系统的集成和组态应用。 脂质纳米颗粒制备系统(LNP)系列产品包含：NX-50，NX-100，NX-200，NX-300，NX-600，NX-1000，NX-3000，对应的系统输液泵的流量分别为：50ml、100ml、200ml、300ml、600ml、1000ml、3000ml。 三为科学的产品已经在多家知名药企mRNA新冠疫苗项目上应用，部分上市药企mRNA新冠疫苗项目已经进入临床阶段。 专利号：ZL202221027700.6 一种脂质纳米颗粒的制备系统 专利号：ZL202121807711.1 一种用于制备脂质纳米颗粒的射流混合器及射流混合系统系统单元构成单元构成模块数量备注高压输液泵2一路输送脂质溶液，另一路输送API溶液稀释输液泵2混合前后的在线稀释、淬灭等流量计4监控输液泵的正常工作，异常反馈碰撞射流混合器1用于中高压及较大通量的场景或 微流控芯片1用于低压及较小通量的场景预混合器2配合在线稀释及淬灭阀组1切换混合液的出口管路NanoFlu控制软件1查看、控制制备装置上的所有模块通信接口3预留了多种通信接口，便于用户进行SCADA、DCS、PLC等控制系统的集成和组态应用脂质纳米粒制备工艺放大的形式：一、多制备单元平行放大三为科学NX系列脂质纳米粒制备系统属于可以多个制备单元并联，并联单元的数量取决于应用。每个单元都可以独立运行，客户可根据工艺要求，配置多个平行混合单元。每个装置包括两个泵，用于输送脂质和API流，两个流量计，用于流量控制和一个喷射混合器。根据配置，API的预稀释和淬灭可以在射流混合纳米发生器外部的一个工艺步骤中对所有单元的组合流进行。二、采用更大流速高压输液泵和对应匹配射流混合器进行放大三为科学脂质体制备系统匹配的泵和射流混合器，可以满足小到1ml/min大到3000ml/min的高流速射流法生产脂质纳米粒的需要。客户可以根据工艺需要实现独立生产制备单元的放大。NanoFlu 纳米制备流体工作站制备装置配套流体控制软件 NanoFlu纳米制备流体工作站用于控制脂质纳米粒制备系统的各模块，进行程序化的流体输送。软件流量控制单元除了可以控制高压输液泵精确、稳定的恒定流速输送，还可以实现线性、梯度、函数曲线导入等形式进行流量变化的控制；实时采集压力数据、绘制压力流量曲线，便于实时查看输送状态与输送进度；以图表形式保存、导出压力流量数据，便于实验数据的记录、分析；支持客户端自定义流量校准，支持用户校准特定工况下的特定流量，以满足不同工况下的使用；兼容整合外接流量计、粒度仪等在线监控模块与应用模块；软件符合FDA 21 CFR PART 11法规要求，执行权限管理、电子记录、电子签名、审计追踪等功能。流量图例 软件功能产品名称NanoFlu 标准版NanoFlu多机版泵控制数1-4＞4流量控制恒定、线性、梯度流速单位体积（ml/min）、重量（g/min）压力设定保护压设定、零点值修正读数显示压力曲线实时显示、流量运行进度显示在线调整运行阶段可在线修改流量压力参数数据记录流量压力数据记录、数据图表形式导出方法保存方法保存与调用维护功能流量校准审核管理权限管理、电子记录、电子签名、审计追踪拓展功能可整合在线监控模块与应用模块316L不锈钢高压输液泵制备装置配套输液泵 三为科学N系列高压输液泵，作为纳米脂质体制备装置的配套高压输液泵和稀释输液泵，N系列高压输液泵流路材料优化，可以匹配射流混合器和nanoflu软件，为RNA疫苗研发、脂质体药物研发所需制备系统搭建提供稳定的高压动力源。该配套泵集成了公司多年流体设备的技术积累与应用经验，具有流速精准、工作稳定、耐腐蚀、低脉冲等特点，通讯端口丰富有利于药厂系统通讯集成。作为脂质纳米粒制备系统搭建用泵，N系列高压输液泵除了匹配三为科学射流混合器，还可以匹配其他品牌用于脂质纳米粒制备的混合器和低压芯片用于系统集成。硬件功能 精准输送多点流量校正：实现全量程范围内的高准确度及高重复性流体输送流量脉冲抑制：凸轮曲线补偿与流量脉冲电子抑制，有效控制压力脉冲压力设定修正：流路的保护压设定、零点值修正排除环境干扰柱塞清洗功能：柱塞后清洗，减少密封圈磨损，延长泵的使用寿命在线参数修改：运行阶段可在线修改流量参数和压力参数 通讯功能 系统集成多种通讯模式：一对一控制、一对多控制、多对多控制多种通讯端口：RS232/485/422、USB、有线/无线网络多种通讯协议：Modbus RTU、ProfibusDP、Profinet模拟数字控制：模拟量输入控制、开关量启停控制 支持系统集成：并入SCADA/DCS/PLC控制系统及组态应用客户控制应用案例包括：l 上位机软件控制l 组态软件控制l 触摸屏控制l PLC控制l SCADA/DCS等系统控技术选型常用型号N100N200N600N1000流量范围0.01-100.00 ml/min0.01-200.00 ml/min0.01-600.00 ml/min0.1-1000.0 ml/min流量增量0.01ml/min0.01ml/min0.01ml/min0.1ml/min流量准确度≤±0.5%流量重复性≤0.1%≤0.5%压力范围0-20MPa0-10MPa0-15MPa0-10MPa压力脉动≤0.1MPa≤0.1MPa≤0.2MPa≤0.5MPa泵头材料316L不锈钢流路材料316L不锈钢、红宝石、PTFE、PEEK、陶瓷通信协议标配Modbus RTU协议通信接口标配USB、RS232、RS485接口电源功耗85-264VAC，50Hz；75W85-264VAC，50Hz；500W外形尺寸(宽x高x深)240mm x 152mm x 370mm420mm x 222mm x 550mm三为科学销售热线：021-61901295，61059503，61992951，61996351

迈安纳纳米药物生产系统利用Genmix技术【载体相和API分别流入微混合器，独特的流体混合技术（混沌，交叉流，对射撞击，涡旋等）， 重复有序控制两相液体混合，几毫秒内完成精确有序混合，引起液体极性的快速改变，从 而引发纳米粒自组装包裹药物。】可用于快速自组装纳米粒子、纳米脂质体、聚合物纳米粒等物料的制备，可适用于核酸、小分子、多肽或蛋白质等药物活性成分包裹。介绍：用于cGMP大规模生产1、可连续生产，批次可重复2、≥2l/min/通量可定制/多模块可选3、多种混合器（混沌、交叉流、对射撞击）可选，适合多种载体类型4、设备符合cGMP生产要求，软件符合GLP/GMP法规要求及FDA21CFR Part 11要求

迈安纳纳米药物生产系统利用Genmix技术【载体相和API分别流入微混合器，独特的流体混合技术（混沌，交叉流，对射撞击，涡旋等）， 重复有序控制两相液体混合，几毫秒内完成精确有序混合，引起液体极性的快速改变，从 而引发纳米粒自组装包裹药物。】可用于快速自组装纳米粒子、纳米脂质体、聚合物纳米粒等物料的制备，可适用于核酸、小分子、多肽或蛋白质等药物活性成分包裹。介绍：用于IND申报/cGMP生产1、单次废液量少于20ml2、多模块可选3、可连续生产，批次可重复4、高度自动化，自动排气，自动切换前后废液5、多种混合器（混沌、交叉流、对射撞击）可选，适合多种载体类型6、提供设备GMP验证活动和文件支持7、设备符合cGMP生产要求，软件符合GLP/GMP法规要求及FDA21CFR Part 11要求

纳米银粉超高速纳米研磨分散机，纳米铝粉银粉高剪切研磨分散机，纳米金属粉体超高速研磨分散机，机械法循环型研磨机，金粉耐磨高速分散机，珠光防伪变色油墨研磨分散机 纳米金属颗粒具有量子尺寸效应、小尺寸效应、表面效应、宏观量子隧道效应，并且有许多奇特的电学、光学、磁学性能，使它在航天、原子能、军事、电子、化工、冶金等工业有着重要的应用价值。纳米金属粉体分散液可广泛用于涂料、油墨、电子工业等域。 目随着纳米金属粒子的生产工艺逐渐成熟，它的应用也随之扩大。在其应用过程中，较突出的问题是纳米金属粒子由于表面积大和表面能高，在制备、后处理及应用过程中易发生粒子凝结、团聚、形成二次粒子，使颗粒粒径变大，从而失去纳米粉末所具备的性能。研究者们为提高纳米金属粒子的分散性和稳定性，提出了一些有效的方法。 根据我司为多家客户定制方案，建议采用的方案为：在罐体内先进行固体物料的简单混合,将需要的配比浓度的物料投入罐体内,开动低速搅拌机进行简单混合,使得物料形成较为均一的物料；然后再罐体底部的物料出口开动阀门使得物料由管路进入我司的管线式研磨分散机进行剪切研磨分散处理,经过剪切研磨分散后在由设备的出口管路输送进入罐体内,实现物料的一次循环处理！经过多次罐外循环处理能达到很好的分散悬浮效果,物料颗粒细度均一。纳米银粉超高速纳米研磨分散机，纳米铝粉银粉高剪切研磨分散机，纳米金属粉体超高速研磨分散机，机械法循环型研磨机，金粉耐磨高速分散机，珠光防伪变色油墨研磨分散机 纳米金属粉体超高速研磨分散机是胶体磨和分散机的一体化设计，相对于胶体磨和分散机的串联而言更具优势。胶体磨与分散机串联的话存在时间差，当物料通过胶体磨之后，磨细后物料会出现抱团的现象，再经过分散机分散，效果不是很好。而CMSD超细研磨分散机的话，物料磨细后，瞬间又通过分散工作组，进行分散，在物料还未抱团之，就进行了分散，一个瞬间作用，效果会好很多。从设备角度分析，影响分散结果的因素有以下几点：1 分散头的形式（批次式和连续式）（连续式比批次好）；2 分散头的剪切速率 （越大，效果越好）；3 分散头的齿形结构（分为初齿，中齿，细齿，超细齿，约细齿效果越好）；4 物料在分散腔体的停留时间，分散时间（可以看作同等的电机，流量越小，效果越好）；5 循环次数（越多，效果越好，到设备的期限，就不能再好）。纳米金属粉体超高速研磨分散机设备结构： 第yi由具有精细度递升的三层锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每都可以改变方向。第二由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子（乳化头）和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为 在对输送性的要求方面，特别要引起注意的是：在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是转子齿的排列，还有一个很重要的区别是不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例，依据以的经验选取相应的工作头来满 足一个具体的应用。在大多数情况下，机器的构造是和具体应用相匹配的，因而它对制造出产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。设备等：化工、卫生I、卫生II、无菌电机形式：普通马达、变频调速马达、防爆马达、变频防爆马达、气动马达电源选择： 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ电机选配件： PTC 热保护、降噪型均质机材质：SUS316L 、SUS316L 、SUS316Ti均质机选配：储液罐、排污阀、变频器、电控箱、移动小车均质机表面处理：抛光、耐磨处理进出口联结形式：法兰、螺口、夹箍均质机选配容器：本设备适合于种不同大小的容器.IKN管线式研磨分散机的技术参数：研磨分散机流量*输出线速度功率入口/出口连接类型l/hrpmm/skWCMD 2000/470014000404DN25/DN15CMD 2000/55,00010,5004011DN40/DN32CMD 2000/1010,0007,3004022DN50/DN50CMD 2000/2030,0004,9004045DN80/DN65CMD 2000/3060,0002,8504075DN150/DN125CMD 2000/501000002,00040160DN200/DN150*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，同时流量可以被调节到大允许量的10%。1 表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。2 处理量取决于物料的粘度，稠度和终产品的要求。纳米银粉超高速纳米研磨分散机，纳米铝粉银粉高剪切研磨分散机，纳米金属粉体超高速研磨分散机，机械法循环型研磨机，金粉耐磨高速分散机，珠光防伪变色油墨研磨分散机

三为科学NX系列微流控纳米脂质体制备系统用于脂质纳米粒的制备，包含两台高压输液泵、两个流量计、阀组、微流控芯片和稀释输液泵。NX系列微流控纳米脂质体制备系统的搭建可以在管路连接上适配任何品牌的微流控芯片，给研发应用提供更多的选择；系列高压输液泵最小流量0.001ml/min，最大流量1000ml/min，精确计量、在线压力监控、可根据芯片耐压设置压力上限。脂质纳米颗粒微流控制备技术为可控可重复地制备纳米药物递送系统提供了新的连续化生产平台。微流控技术基本原理：将脂质与核酸分别溶解在水相和有机相后，将两相溶液注入制备系统的两条入口通道，一端是RNA的水溶液，一端是脂质的乙醇溶液，通过两相的快速混合，完成核酸脂质纳米颗粒的合成。 改变流体注入速度和比率，可以控制脂质纳米颗粒的粒径大小。比如：流速比(水相/醇相=FRR)和醇相与水相总流速(TFR)已显示出显着影响所生产颗粒的理化特性。当TFR比较小时，改变TFR但保持固定的FRR，对脂质体大小和尺寸分布影响不大；当增大FRR时，脂质体的粒径随之减小。科研人员通常使用脂质纳米粒直接包裹化学药物，在基因领域，研究人员开始使用脂质纳米粒包裹核酸，如mRNA、siRNA、pDNA等，称为核酸脂质纳米粒。三为科学的产品已经在多家知名药企mRNA疫苗项目上应用，部分上市药企mRNA疫苗项目已经进入临床阶段。 单元构成模块数量备注高压输液泵2一路输送脂质溶液，另一路输送RNA等药物活性成分溶液流量计2监控输液泵的正常工作，异常反馈碰撞射流混合器1用于中高压及较大通量的场景或 混合芯片1用于低压及较小通量的场景阀组1切换混合液的流路控制软件1查看、控制制备装置上的所有模块稀释输液泵1-2混合前后的在线稀释、淬灭等预混合器1-2配合在线稀释、淬灭等粒度仪等可选其他在线监控模块及应用模块NanoFlu 纳米制备流体工作站制备装置配套流体控制软件 NanoFlu纳米制备流体工作站用于控制脂质纳米粒制备系统的各模块，进行程序化的流体输送。软件流量控制单元除了可以控制高压输液泵精确、稳定的恒定流速输送，还可以实现线性、梯度、函数曲线导入等形式进行流量变化的控制；实时采集压力数据、绘制压力流量曲线，便于实时查看输送状态与输送进度；以图表形式保存、导出压力流量数据，便于实验数据的记录、分析；支持客户端自定义流量校准，支持用户校准特定工况下的特定流量，以满足不同工况下的使用；兼容整合外接流量计、粒度仪等在线监控模块与应用模块；软件符合FDA 21 CFR PART 11法规要求，执行权限管理、电子记录、电子签名、审计追踪等功能。流量图例 软件功能产品名称NanoFlu 标准版NanoFlu多机版泵控制数1-4＞4流量控制恒定、线性、梯度流速单位体积（ml/min）、重量（g/min）压力设定保护压设定、零点值修正读数显示压力曲线实时显示、流量运行进度显示在线调整运行阶段可在线修改流量压力参数数据记录流量压力数据记录、数据图表形式导出方法保存方法保存与调用维护功能流量校准审核管理权限管理、电子记录、电子签名、审计追踪拓展功能可整合在线监控模块与应用模块316L不锈钢高压输液泵制备装置配套输液泵 三为科学N系列高压输液泵，作为纳米脂质体制备装置的配套高压输液泵和稀释输液泵，N系列高压输液泵流路材料优化，可以匹配射流混合器和nanoflu软件，为RNA疫苗研发、脂质体药物研发所需制备系统搭建提供稳定的高压动力源。该配套泵集成了公司多年流体设备的技术积累与应用经验，具有流速精准、工作稳定、耐腐蚀、低脉冲等特点，通讯端口丰富有利于药厂系统通讯集成。作为脂质纳米粒制备系统搭建用泵，N系列高压输液泵除了匹配三为科学射流混合器，还可以匹配其他品牌用于脂质纳米粒制备的混合器和低压芯片用于系统集成。硬件功能 精准输送多点流量校正：实现全量程范围内的高准确度及高重复性流体输送流量脉冲抑制：凸轮曲线补偿与流量脉冲电子抑制，有效控制压力脉冲压力设定修正：流路的保护压设定、零点值修正排除环境干扰柱塞清洗功能：柱塞后清洗，减少密封圈磨损，延长泵的使用寿命在线参数修改：运行阶段可在线修改流量参数和压力参数 通讯功能 系统集成多种通讯模式：一对一控制、一对多控制、多对多控制多种通讯端口：RS232/485/422、USB、有线/无线网络多种通讯协议：Modbus RTU、ProfibusDP、Profinet模拟数字控制：模拟量输入控制、开关量启停控制 支持系统集成：并入SCADA/DCS/PLC控制系统及组态应用客户控制应用案例包括：l 上位机软件控制l 组态软件控制l 触摸屏控制l PLC控制l SCADA/DCS等系统控技术选型常用型号N10N200N600N1000流量范围0.001-10.000 ml/min0.01-200.00 ml/min0.01-600.00 ml/min0.1-1000.0 ml/min流量增量0.001ml/min0.01ml/min0.01ml/min0.1ml/min流量准确度≤±0.5%流量重复性≤0.1%≤0.5%压力范围0-40MPa0-10MPa0-15MPa0-10MPa压力脉动≤0.1MPa≤0.1MPa≤0.2MPa≤0.5MPa泵头材料316L不锈钢流路材料316L不锈钢、红宝石、PTFE、PEEK、陶瓷通信协议标配Modbus RTU协议通信接口标配USB、RS232、RS485接口电源功耗85-264VAC，50Hz；75W85-264VAC，50Hz；500W外形尺寸(宽x高x深)240mm x 152mm x 370mm420mm x 222mm x 550mm

微射流纳米均质机高压流体在加压状态下通过细孔模块时压力急剧下降而形成超声波流速此时的流体内会发生粒子冲击，空化和消流，剪切，应力作用下流体细胞的破坏，雾化，乳化，分散，脂质体等现象使用现有的智能搅拌机，超声波，球磨机等，相对于其它技术具有更高效率的电子材料，生命工程，制药， 食品， 纤维，涂料，化妆品等产业， 以至适用于广泛的领域高压流体在分散单元的狭小缝隙间快速通过。 此时流体内压力的急剧下降而形成的超声速流速，流体内的粒子碰撞，空化及漏流，剪切力作用于劈开纳米大小的细微分子便流体的成分以完全的均质的状态存在微射流纳米均质机NH-4000优势采用全进口金刚石交互容腔可以根据客户不同种应用定制合适的型号 利用样品与样品之间的湍流和对撞来实现样品的处理，样品污染的风险更小！ 耐压可达 30000psi，超过目前所有的样品处理设备，可达到更大的剪切 力，空穴和湍流的效果！?金刚石内置层，更加耐磨，适用于更多的颗粒坚硬的样品处理 功能介绍1：上限/下限：设定报警范围手动设定时没用报警功能温度，压力数值：标示各部分的当前温度和压力IDEL：左，右边搅拌机汲取泵（油压泵）： 油压泵启动 / 停止气压供给： FEED PUMP & SEAL QUENCH PUMP 供给/中断主电机： 方向控制阀启动/ 停止 (实际设备启动 / 停止)左液压缸：前面油压汽缸手动前进 / 后退右液压缸：后面油压汽缸手动前进 / 后退

微射流纳米均质机采用全进口金刚石交互容腔※ 可以根据客户不同种应用定制合适的搭配※ 利用样品与样品之间的湍流和对撞来实现样品的处理，样品污染的风险更小！※ 大耐压可达 30000psi，超过目前所有的样品处理设备，可达到更大的剪切力，空穴和湍流的效果！※ 金刚石内置层，更加耐磨，适用于更多的颗粒坚硬的样品处理High Pressure Homogenizer System大工作压力（设计） 1700bar（2000bar)控制系统液压系统驱动大流量480L/H均质腔型号Z /Y型，孔径 100/200/400μm外形尺寸3090L*1000W*2160H电力需求380v，50HZ，37kw重量2000kg微射流纳米均质机高压流体在加压状态下通过细孔模块时压力急剧下降而形成超声波流速此时的流体内会发生粒子冲击，空化和消流，剪切，应力作用下流体细胞的破坏，雾化，乳化，分散，脂质体等现象使用现有的智能搅拌机，超声波，球磨机等，相对于其它技术具有更高效率的电子材料，生命工程，制药， 食品， 纤维，涂料，化妆品等产业， 以至适用于广泛的领域高压流体在分散单元的狭小缝隙间快速通过。 此时流体内压力的急剧下降而形成的超声速流速，流体内的粒子碰撞，空化及漏流，剪切力作用于劈开纳米大小的细微分子便流体的成分以完全的均质的状态存在。

Mirus Evo™ 纳米泵是一款精密的8通道微流体注射泵，适用于在模拟人体血管生理流的剪切流下进行细胞分析。含MultiFlow8集管箱，它能将Mirus Evo的流体平分到8个单独的管中，从而在Vena8系列的生物芯片中同时进行8次检测，8通道注射泵的流通量更高。Mirus Evo由PC端VenaFluxAssay软件控制。 产品特性：Ø连接MultiFlow8的8通道分路器在每个通道中的流速相同Ø血栓形成，血小板粘附和聚集测定：1mL注射器和Vena8 Fluoro +生物芯片，0.05 - 10 dyne/cmØ细胞配体和细胞间滚动，粘附和迁移剪切流测定：100μL注射器，0.05 - 10 dyne/cm，每次变化为0.05 dyne/cm，Vena8 Fluoro+和Vena8内皮细胞生物芯片Ø注射器自动填充Ø可通过PC端VenaFluxAssay软件进行编程Ø流速：100µL的注射器为100nL/min - 20µL/min，注射器越大，流速越高Ø标准注射器：100μL，250μL，500μL，1mL，5mL玻璃注射器 Mirus Evo纳米泵技术参数产品名称Mirus Evo™ 纳米泵含MultiFlow8在8通道注射泵下， 最多能在Vena8生物芯片中检测8条平行试剂细胞悬浮液剪切应力范围0.05–10 dyne/cm2；阶跃剪切应力为 0.05dyne/cm2 (100 μL 注射器)全血剪切应力范围2.25–450 dyne/cm2 (1 mL 注射器)容积流率100 nL/min–20 μL/min (100 μL 注射器) （20°C， 2Hz，空气压力在10psi下）闭死容积600 μL样品增量自由调节开关阀时间30 ms（最大）工作压力30 psi–2 bars （最大）线速度范围10 μm/s–10 cm/s流向可逆样品量抽取准确度±1%剪切应力准确度±0.5%样品量抽取精度1% CV剪切应力精度0.5% CV 应用领域：Ø血栓形成/血小板粘附和聚集剪切流实验Ø基于剪切的配体包被表面或内皮细胞上的细胞滚动、粘附和迁移检测，用于以下研究：炎症：脓毒症，他汀类药物，免疫性疾病的白细胞和T细胞粘附研究哮喘和过敏：抗炎药、抗组胺药（例如西替利嗪/左西替利嗪 - 孟鲁司特）的嗜酸性粒细胞粘附研究肿瘤学：黑色素瘤细胞粘连和转移细菌：大肠杆菌粘附和生物膜形成

CHDF4000 高分辨率纳米粒度仪1)CHDF4000是基于光散原理的仪器，使用新的技术对高分辨率的粒度分布(PSD)进行测量，包括高粒子检测灵敏度、动态范围、纳米粒子的优化分析；2)CHDF4000可提供完整范围5纳米至NM3微米，真实的PSD数据；3)通过粒子分离真正的PSD数据，关于粒子大小分布的形状不需要假设；4)根据颗粒密度分析—得出准确的粒子分类，包括纳米粒度；5)自动化操作，通过一个人性化界面即可完成全部操作主要优势：1) 高精度颗粒分布；2) 高灵敏度探测；3)纳米级别颗粒度分析；4)极高的可靠性；5)操作简便；6)在质量控/研发/在线控制方面均可应用；7)由于其新的紫外检测，具有极好的粒子检测灵敏度；8)平台，采用锥形检测流动池；9)极高的检测动态范围，可检测出微量的粒子；10)泵送系统性能高；11)连续监测/控制所有的测量数据；12)紫外检测器；13)自动取样器；14)样品用量小（不到1ml），分析时间10分钟； 技术参数：1)样品瓶数量：72；2)样品瓶尺寸：12mm，2ml；3)每小瓶注射次数：每个样品很低可以重复运行15次，数据可以自动保存和打印；4)自动样品混合：在分析之前样品(200μL)被吸入到瓶中4次用于样品混合，也为了防止粒子沉降；5)单独标记瓶：12ml；6)单独针冲洗瓶：12ml用于自动针浸渍(进入水或表面活性剂溶液)保持针外表面清洁；7)注射器体积：250 μL；8)精度：小于+/- 0.5% RSD；9)阀门：Valco Cheminert C3阀门，带有25 μL圈；10)防潮材质：聚四氟乙烯，316不锈钢；11)尺寸：24 x 59 x 52 cm (W x D x H)；12)净重：42kg

聚合物纳米粒子生成系统提供用于生产单分散聚合物纳米粒子，例如PLGA、PEG、PVC的解决方案。 Dolomite的模块化纳米颗粒合成系统采用高剪切微混合和流体动力学聚焦微流控方法生产50纳米至500纳米的聚合物颗粒。连续和可控层流允许生产高产量和高质量的聚合物纳米粒子。与传统的批次方法相比，该系统在纳米粒子尺寸分布方面提供了实质性的改进。 聚合物纳米粒子生成系统技术参数： 应用领域: 颗粒生产PLGA、PEGDA、聚苯乙烯等 药物控释/靶向给药-新应用-可生物降解纳米颗粒的生成 诊断试验和分析 油类化学品-提高采收率，阻垢剂 涂料和清漆用粘合剂 放射性废物处理 催化剂 主要优势： 宽的可控粒径范围从50nm到500nmCv值介于20%和30%之间的高度单分散颗粒 精确控制颗粒的尺寸、形状和形态 产量高达每天几克（Telos大型微液滴系统） 批间重复性高，试剂消耗少 模块化系统 各种应用领域都易于放大 无脉动稳定液体混合 高混合效率保证产品收率高 非常耐化学腐蚀 模块化，易于使用，快速放大 主要参数： 宽的可控粒径范围从50nm到500nm Cv值介于20%和30%之间的高度单分散颗粒 样品体积：从0.5毫升到几升 化学耐性：非常高（浸润材料：PEEK,PTFE和玻璃） 压力泵压力范围：0-10bar 流速范围:5nL/min至大于100mL/min(取决于流体性质)聚合物纳米粒子生成频率：标准系统通常高达10MHz，生产系统通常高达1GHz（取决于试剂和粒径）

EVG720紫外纳米压印机一、设备原理：EVG720紫外纳米压印用于从印章到衬底的紫外图形转移。EVG720自动纳米压印系统允许衬底和印章的尺寸从很小的芯片到150mm直径的圆片范围。用于纳米技术应用的配置包括印章机械释放、程序控制高或低的接触压力。EVG独有的吸盘设计支持软印章和硬印章压印，可以保证大面积纳米压印的均匀压力，从而保证获得很高的良率。二、应用范围纳米压印技术主要应用于如下方面：LEDS 制作，LED PSS纳米压印工艺，LED纳米透镜阵列；微流体学；芯片实验室；抗反射层； 纳米压印光栅； 莲花效应；光子带隙；光学及通讯：光晶体，激光器件；生物技术解决方案：医药分析，血液分析，细胞生长。三、主要特点及技术参数：1、主要特点：。 最大产量高达40wafers每小时；。 紫外光曝光；。配备专用的紫外纳米压印工具；。 正面对准或者正反双面对准；。 适用衬底：Si，玻璃，化合物半导体；。 硬紫外纳米压印，软紫外纳米压印、微接触压印。2、技术参数晶圆尺寸：最大150mm大面积压印：最大150mm产能：最大可到40wafers/小时印章制备：支持工作模具制备，支持自动楔形脱模曝光：曝光光源：高功率窄带曝光；波长：300-500nm, 光强：~ 400 mW/cm2，光强均匀性：20%（6寸）对准模块：机械对位精度±200um，光学对位精度±3um压印微结构尺寸范围：40nm-2um；压印结构分辨率：≤40纳米压印残留层厚度：≤20纳米滚压印速度：2mm/s-16mm/s, 可以调节图形保型度：≥90%支持倾斜光栅压印，倾斜度45-90°上料系统：3料盒台，现场可升级u SECS/GEM II: 可选。公司简介：EVG公司成立于1980年，公司总部和制造厂位于奥地利，在美国、日本和台湾设有分公司，并在其他各地设有销售代理及售后服务部，产品和服务遍及世界各地。EVG公司是一家致力于半导体制造设备的全球供应商，其丰富的产品系列包括：涂胶和喷胶/显影机/热板/冷板、掩模版光刻/键合对准系统、基片热压键合/低温等离子键合系统、基片清洗机、基片检测系统、SOI 基片键合系统、基片临时键合/分离系统、纳米压印系统。目前已有数千台设备安装在世界各地，被广泛地应用于MEMS微机电系统/微流体器件，SOI基片制造，3D封装，纳米压印，化合物半导体器件和功率器件等领域。EVG是世界上为数不多的可以商业化纳米压印设备的著名公司，可为客户提供完整的纳米压印方案，包括热压印、紫外压印、微接触印刷。EVG公司以其专利的极其优异的对准技术和世界领先的热压技术为纳米压印的成功实施打下了坚实的基础。

迈安纳纳米药物生产系统利用Genmix&trade 技术【载体相和API分别流入微混合器，独特的流体混合技术（混沌，交叉流，对射撞击，涡旋等），重复有序控制两相液体混合，几毫秒内完成精确有序混合，引起液体极性的快速改变，从而引发纳米粒自组装包裹药物。】可用于快速自组装纳米粒子、纳米脂质体、聚合物纳米粒等物料的制备，可适用于核酸、小分子、多肽或蛋白质等药物活性成分包裹。参数：用于处方筛选1、0.4-20ml制备量2、快速筛选处方（1min）3、卡盒无菌无酶无热原4、温度控制5、兼容各种品牌注射器6、卡盒不限制使用次数7、1-25ml/min流速可控，多种混合器（混沌、交叉流、对射撞击）可选，适合多种载体类型