纳米丝直径均匀度

静电纺丝往复移动平台可有效解决纤维膜不均匀的问题，搭配滚筒收集极使用可以获得大面积厚度均匀的纳米纤维膜。该装置简单易用，上手即可操作。 底盘尺寸：15cm × 45cm； 往复范围：0 — 20cm或0-30cm（手动滑块调节） 喷头个数：3个（可定制）；精密调速(数显)：1~1500mm/min精度：1mm/min重量：5kg功率：30W超低速运行，可用于进场电纺，制备平行纤维。

北京华昊电子有限公司（原北京嘉麓野仪器有限公司）公司成立于2003年，位于北京中关村高新技术园区，是专门从事精密纺织仪器、纺织电子研发、生产、销售的高科技企业。公司主要产品：1:全自动毛羽条干均匀度测试仪MT4000，2：全自动强力仪YG029PC。3：条干仪YG138AM,4：落纱小推车，智能机器人。一、产品概述 MT-4000系列条干均匀度测试仪融合了数字信号处理技术、高频电路精密电容测量技术、新光电毛羽测量技术、全数字电子确调速技术及采用了计算机中高速 PCI 总线接口技术、网络技术、 WINDOWS 操作界面。与国内同类产品相比具有高确度、高集成度、高智能化和高稳定性的特点，且操作简便、功能齐全、价格优势非常明显。 MT-4000系列条干均匀度测试仪采用电容式测量技术，测量棉、毛、麻、化纤所纺纱线、纱条的线密度不匀及不匀的特征；采用光电式测量技术，测量纱线的毛羽不匀及不匀的特征。MT-4000系列条干均匀度测试仪具有自动调零、自动调整均值、自动设置佳量程功能。 MT-4000系列条干均匀度测试仪显示和打印平均值系数 AF 值、变异系数 CV% 值、不匀率 U% 值、（细节、粗节、棉结）疵点数、毛羽指数 H 、毛羽指数标准差 SH ；显示、分析、打印质量不匀曲线图、毛羽指数不匀曲线图；显示和打印质量波谱图、毛羽指数波谱图、变异系数 - 长度曲线图、偏移率曲线图、质量分布图，三维波谱图。二、技术特色数字调速，全数字确电子调速技术具有 10000 线 / 转的调速分辨率，保证纱速准；恒定转矩保证不同测试速度下纱速稳定，使测试度高、数据更确；高集成度，使仪器结构精简、极大提高可靠性；PCI 总线，高速 PCI 总线技术保证测试数据快速确、与新技术同步；大 容 量，每组多 100 管测试功能，方便对整台细纱机各锭的考核、维护；波谱幅度，对波谱幅度进行确的 CV% 值表示：更易判断故障点、与国际先进技术同步；试样编号，可对每管纱样按车间、设备、纱锭进行编号，快速确查找故障位置。自动校验功能及随机配备的检定规程，便于计量仪器的周期性检定，校准。三、具体特点自动功能：智能选择测量槽 智能推纱杆【自动调零】、自动均值调整；双主导纱皮辊前后匀速运动【保护皮辊】；自动废纱负压吸入处理【避免缠纱】；自动换管、自动导纱智能分析：内嵌专家分析系统、智能定位机械故障；内嵌乌斯特质量公报、自动确定质量等级测试速度：4、8 、25 、50 、100 、200 、400m / min存储容量：大容量硬盘存储数据测试数据：变异系数 CV% 、不匀率 U% 、平均值系数 AF 、五档 CV m % （ 1m 、 5m 、 10m 、 50m 、 100m ）、二档偏移率 DR% （ 1m 、 ± 5% ）、极差 S.L. ； 千米平均值（ Mean/1Km ）、管间变异系数 CV b 值、置信区间 Q95% 、大值 Max 、小值 Min 。 毛羽指数H、毛羽标准差sh显示图形：不匀曲线图、波谱图、偏移率 — 门限曲线（长度： 1 、10 、20 、50 、100cm 、门限： 0~±50 ％），变异系数 — 长度曲线（切割长度：0~100m ）、质量分布图、三维波谱图适用场合：纺部试验室，纺织试验室，中心实验室，技术中心售后服务：保修2年

条干均匀度测试分析仪北京华昊电子有限公司（原北京嘉麓野仪器有限公司） 公司成立于2003年，位于北京中关村高新技术园区，是专门从事精密纺织仪器、纺织电子研发、生产、销售的高科技企业。公司主要产品：1：全自动毛羽条干均匀度测试仪MT4000， 2：全自动强力仪YG029PC。 3：条干仪YG138AM,4：落纱智能机器人小推车，一、产品概述YG138 系列条干均匀度测试仪融合了数字信号处理技术、高频电路精密电容测量技术、新光电毛羽测量技术、全数字电子调速技术及采用了计算机中高速 PCI 总线接口技术、网络技术、WINDOWS 操作界面。与国内同类产品相比具有高度、高集成度、高智能化和高稳定性的特点，且操作简便、功能齐全、价格优势非常明显。YG138 系列条干均匀度测试仪采用电容式测量技术，测量棉、毛、麻、化纤所纺纱线、纱条的线密度不匀及不匀的特征；采用光电式测量技术，测量纱线的毛羽不匀及不匀的特征。YG138 系列条干均匀度测试仪具有自动调零、自动调整均值、自动设置量程功能。YG138 系列条干均匀度测试仪显示和打印平均值系数 AF 值、变异系数 CV% 值、不匀率 U% 值、（细节、粗节、棉结）疵点数、毛羽指数 H 、毛羽指数标准差 SH ；显示、分析、打印质量不匀曲线图、毛羽指数不匀曲线图；显示和打印质量波谱图、毛羽指数波谱图、变异系数 - 长度曲线图、偏移率曲线图、质量分布图，三维波谱图。二、技术特色数字调速，全数字电子调速技术具有 10000 线 / 转的调速分辨率，保证纱速准；恒定转矩保证不同测试速度下纱速稳定，使测试度高、数据更；高集成度，使仪器结构简、极大提高可靠性；PCI 总线，高速 PCI 总线技术保证测试数据快速、与新技术同步；大 容 量，每组多 100 管测试功能，方便对整台细纱机各锭的考核、维护；网络功能，可与 YG029 系列强力仪， EL 系列支数称联网，支持远程查询；波谱幅度，对波谱幅度进行的 CV% 值表示：更易判断故障点、与技术同步；试样编号，可对每管纱样按车间、设备、纱锭进行编号，快速准确查找故障位置。三、具体特点网络功能：可与YG029型强力仪等仪器联网，对试验数据进行统一管理测试速度：4 、8 、25 、50 、100 、200 、400m / min存储容量：大容量硬盘存储测试数据：变异系数 CV% 、不匀率 U% 、平均值系数 AF 、五档 CV m % （ 1m 、 5m 、 10m 、 50m 、 100m ）、二档偏移率 DR% （ 1m 、 ± 5% ）、极差 S.L. ； 千米平均值（ Mean/1Km ）、管间变异系数 CV b 值、置信区间 Q95% 、大值 Max 、小值 Min 。显示图形：不匀曲线图、波谱图、偏移率 — 门限曲线（长度： 1 、 10 、 20 、 50 、 100cm 、门限： 0~±50 ％），变异系数 — 长度曲线（切割长度：0~100m ）、质量分布图、三维波谱图条干均匀度测试分析仪适用场合：纺部试验室，纺织试验室，中心实验室，技术中心售后服务：保修2年

用途药品的剂量准确性直接关系到医疗效果与用药安全。而药品的含量均匀度是剂量准确的重要参考依据。根据2020版中国药典四部通则0941 含量均匀度检查法可知，除另有规定外，片剂、硬胶囊剂、颗粒剂或散剂等，每一个单剂标示量小于25mg或主药含量小于每一个单剂重量25%者，均应检查含量均匀度。这就涉及到大量的药品含量均匀度前处理条件的方法开发工作。传统的前处理方法大多包含药品研磨粉碎，超声，磁力搅拌，振摇等过程，步骤繁琐，耗时，且可能存在不同操作者的结果偏差。制剂高速含量均匀度制备工作站集成了10位(另有1位、2位)可独立供电的高输出搅拌工作站，配合不同体积（50ml,250ml和500ml）的内置锯齿刀片的样品预制管，只需调节系统的转速和时间，使药品含量均匀度前处理方法开发更加简单，快捷。最大限度的提高含量均匀度样品制备速度。特点紧凑型台式设计，包括1位，2位，或10位独立供电的高输出搅拌工作站。可高效制备混合均匀样品，相比于传统方法速度提高90%，广泛应用于固体制剂，植物药和食品。大功率搅拌工作站，最大限度提高了工作效率，加速样品的前处理过程。用户可自定义搅拌时间，搅拌速度500-6000rpm可调。生物样品，大麻和药物样品的超快速制备，包括杂质检测和含量均匀度应用。

银宗透过率均匀度测试机YT-669多点透过率均匀度测试用途/功能/特色:1.快速量测眼镜镜片各点之透视率。2.可量测单色及渐进色之眼镜镜片。3.可选择量测 9 点或多点。4.内置眼镜架治具及可调整的裸片治具(可互相更换)5.使用符合视效函数之 CCD。6.大面积均匀光源。7.内建工业电脑。 8.可储存检测数据及输出测试报表。银宗透过率均匀度测试机YT-669技术参数:1. 符合视效函数之 CCD2. 光源尺寸：140mm*110mm3. 光源种类：100W 卤素灯泡4. 系统：Windows10，内含透视率分析软体

产品特色 要测试您的设备背光灯或其他灯光吗？镜头需要获得分析吗? 想提高镜头闪光均匀度的效果吗? 『Optofidlelity LUT1』闪光均匀度测试仪器是提升光源亮度均匀及光源镜片生产质量保证的最佳选择 现今闪光均匀质量的要求及产业使用多元性需求已成为生产开发主流，在质量控管是需要仰赖精准稳定仪器测试得知，『Optofidlelity LUT1』是专业整合性方法给予平面闪光均匀度测试的仪器. 提供光亮均匀及光源镜片生产质量保证，有助于生产工艺开发及研发设计验证，并创造出竞争的优势 。 ■人性化操作，精准效率高 - 『Optofidlelity LUT1』可于一般光线下作业,无需放置于暗室内,且操作便利无需专人指导,并提供快速,标准,可靠且多次测试结果,其数据可局部或者转换成公司内部控管档案储存；并备有高速以太网络标准,传输速到高达千兆位,并符合网络数据传送法规,可以有效率去收集所有测试数据 - 可搭配TAD(Test Adapter Design)设计-客制化测试接口设计，让测试接口操作简单，并增加重复性提高精准度；设计接口可搭配标准配备中，于密闭空间测量时的光源控制功能。 ■国际标准认证，更有效率研发设计提供市场最佳产品 - 『Optofidlelity LUT1』有透过EMC等国际标准认正规范，可将所得测试结果及全2D图片,在个人化设计数据库分析，并透过标准高速以太网链接,得到多次且可靠数据. - 『Optofidlelity LUT1』不仅可以测试自己设计的产品,并透过仪器优越精准的测试分析，可了解竞争对手产品特性，为设计验正或者相关研发应用最佳工具 - 可搭配DRC(Dark Room Configuration),将标准配备换成暗室设备,无需搭配TAD及可测量 ■客制化测试设计，更符合实际运用 - 测试闪光均匀距离平台可依实际需求设计，更符合实际运用状况，测试更佳精准 ■优势: l 测试自动化: 提升品保控管效率 l 客制化测试: 提升研发设计认证,快速将产品推向市场 l 测试标准化设置: 可精准多次测试得到数据 l 数据自动储存: 测试结果可自动存取 l 高速往路连结: 可于外地进行分析并统计管理产品规格: 传感器分辨率 640*480画素 设备安装需知 直流电压 7-24V 最大电流 500mA 最大闪控电流 1000mA 测试速度 2秒 (标准型) 测试误差 +/- 1% (标准型) 启动控制输入点 内部启动:自动 外部启动:封包网络测试 内部启动: 光脉冲待测物 尺寸(W*H*Dmm) 500*580*800(选用暗室设备) 符合规范 2006/95/EC Low-Voltage Directive (Safety) 2004/108/EC EMC

产品介绍： 数控超级恒温水、油槽广泛适用于化工、石油、医学、生物学、物理化学、计量控制、电子仪表加工等领域，并且作为基本实验仪器在大专院校、科研院所和企事业单位普及。 主要特点:数显分辨率：0.01℃温度波动值：±0.02℃温度均匀度：±0.05℃ 水平/垂直温度范围可控制：室温~300℃ （介质根据温度范围选：纯水、甲基硅油等） 技术特点: ● 水油两用：室温～300℃； ● 外循环功能：离心喷流循环泵可以把槽内被恒温液体外引,建立第二恒温场，控制机外部实验容器。● 容量范围：5L 10L 15L 20L 25L 30L 40L ~100L，也可完全按照用户的要求设计生产非标。● 温度控制功能：置入集成式最新一代PID自动温度控制程序, 内置最高精度PT100温度传感器1/3B级。配备大屏幕高亮液晶屏，中英文对照显示，数显分辨率为：0.01℃，确保控温精准稳定. ●内循环功能：采用无热量离心循环泵，避免传统水泵因自身产热而影响槽体温场。内循环系统为多孔U型回流循环原理设计，实现了槽体内流场和温度场的紊流和高度均匀。● 机身外壳采用镜面防老化静电喷漆技术，内胆和台面采用优质S304拉丝面板不锈钢.。●做工精细的机箱前面板和台面，加上独特的人性化R圆角设计结构,可避免操作人员在不经意间被棱角所伤。● 放水系统可满足各类实验室及企业生产换液。●安全保护装置：1.具有断电保护功能2.具有上下限温度报警设定功能3.低水位保护和报警功能4.温度失控保护和报警功能5.加热管具有低水位防干烧、防爆功能 ●可选配功能指南 1.可选配加长外接式PT100温度传感器，可实时检测和控制外循环时外部体系的温度。 2.可选配内置1~30段温度控制程序，可进行自动程序控温，实时显示设定温度-时间程序运行状态。 3.可选配RS232或RS485通讯接口，轻松连接上位机ModbusRTU通讯协议。 4.可选配设计、安装磁力搅拌系统，可把放入恒温槽工作室内烧杯中的样品直接进行磁力搅拌，无需外接立式搅拌机，减少冗繁操作，同时可以实现封闭处理，减少搅拌过程产生的雾气损耗。 5.可选配槽体内置的冷却盘管，对系统的放热反应进行快速的降温和控制。 6.可选配高度可调浸入式载物平台，轻松调节浸入样品的液面高度。 选型表： 型 号温度范围（℃）温度均匀度 (水平/垂直℃)内 槽尺寸（mm）(长X宽X槽深度)容量（L)循环方式 (内/外)工作槽开口 (mm2)排水XOSC-5室温~100±0.05275×190×1205内循环180×140有XOSC-5A室温~200±0.05275×190×1205内循环180×140有XOSC-5D室温~300±0.05275×190×1205内循环180×140/XOSC-10室温~100±0.05275×195×18010内循环180×140有XOSC-10A室温~200±0.05275×195×18010内循环180×140有XOSC-10D室温~300±0.05275×195×18010内循环180×140/XOSC-15室温~100±0.05300×250×20015外循环6L/分235×160有XOSC-15A室温~200±0.05300×250×20015内循环235×160有XOSC-15D室温~300±0.05300×250×20015内循环235×160/XOSC-20室温~100±0.05300×250×27020外循环6L/分235×160有XOSC-20A室温~200±0.05300×250×27020内循环235×160有XOSC-20D室温~300±0.05300×250×27020内循环235×160/XOSC-25室温~100±0.05300×250×33525外循环6L/分235×160有XOSC-25A室温~200±0.05300×250×33525 内循环235×160有XOSC-25D室温~300±0.05300×250×33525 内循环235×160/XOSC-30室温~100±0.05440×325×21030外循环6L/分310×280有XOSC-30A室温~200±0.05440×325×21030内循环310×280有XOSC-30D室温~300±0.05440×325×21030内循环310×280/XOSC-40室温~100±0.05500×340×24040外循环6L/分350×300有XOSC-40A室温~200±0.05500×340×24040内循环350×300有XOSC-40D室温~300±0.05500×340×24040内循环350×300/XOSC-50室温~100±0.05500×340×30050外循环6L/分350×300有XOSC-50A室温~200±0.05500×340×30050内循环350×300有XOSC-50D室温~300±0.05500×340×30050内循环350×300/XOSC-100室温~100±0.05625×400×400100外循环6L/分480×380有XOSC-100A室温~200±0.05625×400×400100内循环480×380有XOSC-100D室温~300±0.05625×400×400100内循环480×380/ 厂家友情提醒-恒温槽选型应考虑以下几点: 1、首先考虑使用所需温度的使用范围是多少？使用什么介质作为温场载体，温度范围不同所用介质也不相同，介质根据温度范围一般选：乙二醇对水（低温）、酒精（超低温）、纯水（5~95℃）、进口二甲基硅油（高低温适用）等。 2、根据自己实际情况选择多大容量的恒温槽，正确的有效工作容积计算方式为：工作槽开口尺寸加上槽深度，单位为毫米。 3、是对恒温槽温场温度均匀度的要求，本公司分为两大类：一、普通型：±0.05℃。二、超高精度型：±0.0020℃。 4、根据使用情况是否需要外循环功能,外循环的最大扬程为多少。 如果您想了解更多关于我公司超级恒温水油槽的信息，欢迎致电、、 洽谈，我公司将会有专业的团队为您服务。先欧公司期待您的来电！ 南京先欧仪器制造有限公司 公司地址：南京市栖霞区迈越路28号薪加德9栋公司电话： QQ:传 真： 售后服务部电话：中文网站：http://www.xianouyq.com 英文网站：

科研用纳米均质机，小型纳米均质机，实验室纳米均质机，IKN德国医药药企无菌均质机分散机，高校小型均质机，纳米高速均质机，上海高剪切均质机，进口纳米均质机更多详情请致电上海依肯 销售工程师 徐工 .公司设有专用实验室可以免费为客户提供设备够买前的验证实验。 高剪切乳化均质机是一款适用范围广泛的混合搅拌设备，由于它的灵活性、易操作性以及高性价比，市场对于高剪切均质机的需求越来越多。而随着市场需求的上升，许多均质机厂家都争先研发生产出符合市场需求的均质设备。市场需求也推动了国内均质机设备的技术创新，然而面对众多的种类的高剪切乳化均质机设备，如何挑选一款优质的高剪切均质机呢？ 在食品医药行业特别是无菌包装液态产品如牛奶、注射剂的研发过程中需要经过小试、 中试等步骤。在小试过程中又包括样品的配制_(使用加热器)对配好的料液预热-将预热后的料液均质-罐装-杀菌处理，后将样品存放于特定的环境下对其进行包括稳定性在内的多个项目观察与评估。 高剪切均质机运作腔内的转定子层数越多，剪切面越大，效果越好。材料细化度高达0.01μm。实现了集分散、均质、粉碎、融合、溶解、悬浮、输送等为一体的多功能设备。高剪切均质机的应用注意事项：　 高剪切均质机超细粉碎、乳化功能，无论是从理论上，还是实际加工的乳剂和分散体所获得的细度、均匀度的质量上，都是高速搅拌、砂磨、球磨、胶体磨、超声波等均质器械不能比拟的。但是，如果在工艺上应用不正确、不得当，也是无法获得满意结果的，至少不可能获得佳的效果。科研用纳米均质机，小型纳米均质机，实验室纳米均质机，IKN德国医药药企无菌均质机分散机，高校小型均质机，纳米高速均质机，上海高剪切均质机，进口纳米均质机 ERS2000/4中试型均质机：为实验室研发，模拟生产流程，为量产提供可靠的数据论证。该中试型型机器和大型量产机型配置相同，且均质头的种类及相应线速度也相同，中试过程中的工艺参数在量产化之后不要重新调整，而将机器型号升过程中的风险降到低。更多详情请致电上海依肯 销售工程师 徐工 .公司设有专用实验室可以免费为客户提供设备够买前的验证实验。ERS2000/4中试型高剪切均质机技术参数马达1.5KW或2.2KW真空/压力-/2.5bar分散头转速0-14000rpm线速度0-44m/s尺寸（长宽高）450*250*350mm重量约35Kg可配模块EDL/ER/ERS/CM/CMO/PLD/PLC设备的选型要点：1、明确使用设备所需达到的效果和目的2、详细了解并掌握研究物料的性质（包括物理、化学性质）3、根据物料对设备的搅拌机进行选型4、再次确定设备的操作参数及结构设计5、综合考虑设备的成本IKN纳米均质机设备选型及参数：均质机标准流量（H2O）输出转速标准线速度马达功率进出口尺寸型号l/hrpmm/skWERS2000/4300-1,00014000402.2DN25/DN15ERS2000/51,000-1.50010,500407.5DN40/DN32ERS2000/103,0007,3004015DN50/DN50ERS2000/208,0004,9004037DN80/DN65ERS2000/3020,0002,8504075DN150/DN125ERS2000/5040,0002,00040160DN200/DN150注：如果流量超过标准流量的25%并外加泵，请接洽上海依肯 工程师 徐工1 表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。2 处理量取决于物料的粘度，稠度和终产品的要求。3 如高温，高压，易燃易爆，腐蚀性等工况，比须提供准确的参数，以便选型和定制。4 本表的数据因技术改动，定制而不符，正确的参数以提供的实物为准。科研用纳米均质机，小型纳米均质机，实验室纳米均质机，IKN德国医药药企无菌均质机分散机，高校小型均质机，纳米高速均质机，上海高剪切均质机，进口纳米均质机更多详情请致电上海依肯 销售工程师 徐工 .公司设有专用实验室可以免费为客户提供设备够买前的验证实验。

强力混合机-倾斜式搅拌机搅拌玻璃纤维均匀度高　　玻璃混合机是玻璃行业必备的设备，要想玻璃混合机正确的、安全的进行使用，就必须要遵循使用玻璃混合机的规则性文件，首先来说玻璃混料机作为重要的玻璃机械设备可用于玻璃原料的混和，将多种不同成分的原料搅拌均匀，以供各种玻璃制品的需要。　　高效强力混合机流线型设计，倾斜式搅拌机在搅拌器强大剪切作用下产生混合，还有旋转的搅拌桶把物料带到顶部后，又被刮臂从内壁剥离并向下掉落。这样很好的实现了上下方向的混合。　　【科尼乐机械】强力混合机设备在玻璃纤维行业的使用非常频繁，对于原料的处理及混合的完成，能够促进材料的后续生产，保证原材料的质量进而保证玻璃制品产品的质量。强力混合机筒内的玻璃纤维物料之间除了由以上机械进行强制作用，自身之间也会因此发生强烈的冲击、摩擦、交流，形成充分均质化的混合料，运行平稳、样式新颖、技术成熟，搅拌过程不会有死角现象出现。

大型均匀光源系统 Labsphere的USS－C连续可调均匀光源系统和USS－S步进均匀光源系统采用立式结构积分球系统，系统包括积分球、 多个灯泡或照明光源总成及灯的电源。所有的系统均包含监控探测器，电机控制可变衰减器，光度计和系统校准。这些设备可以实现实时监控系统亮度输出。可变衰减器提供了更精密的系统输出控制，尤其在低光度输出情况下。 Labsphere均匀光源系统带控制软件，允许用户通过控制光源的开关来达到期望的亮度水平。定制的软件包可以允许用户进行开发写入特殊的参数。校准数据可以溯源到美国国家标准局（NIST）。 可选的校准包括USC-PM和USC-SR。USC-PM是点对点的出口亮度均匀度测量，USC-SR是出口处300nm-2400nm光谱辐亮度数据，单位：mW/ cm2-sr-µ m。 连续的均匀光源系统 USS-4000C － 亮度输出 0 ～ 40000 NITS 14英寸开口直径 USS-6500C － 亮度输出 0 ～ 34400 NITS 22英寸开口直径 USS-7600C － 定制系统 步进式均匀光源系统 USS-4000S &ndash 亮度输出：1660 - 40000 NITS 14英寸开口直径 USS-6500S &ndash 亮度输出：640 to 34400 NITS 22英寸开口直径 USS-7600S &ndash 定制系统 Labsphere的大型均匀光源系统提供3种直径选择：40英寸、65英寸、76英寸。特性 辐射度连续可变 电机控制可变衰减器精密控制辐照水平 好于98%的辐亮度均匀度 可替换的零部件 辐射度和光度的校准报告 可溯源至NIST的校准报告 有ISO9001：2000认证的质量管理体系 有多个开口使得很容易通过增加或去掉光源来改变辐射度输出 两个探测器口，用于扩展光谱监控 系统灯泡点亮采用20秒电流缓慢上升 相互匹配的灯泡色温可以减少多个灯泡组合时产生的色温变化 结实可靠的开口结构使得安装简单且可重复 适合测试 卫星上仪器 电子成像相机 平面阵列 光度计 光谱辐射度计

均质是使悬浮液（或乳化液）体系中分散物微粒化、均匀化的处理过程，这种处理同时起降低分散物尺度和提高分散物分布均匀的作用。高压均质的原理：高压泵头组件工作时将物料经过单向阀吸入泵腔，流体物料在柱塞的作用力下，泵腔和均质阀座之间的物料会行成极高的压力。高压物料通过均质阀组件时，产生以下三种效果：① 剪切作用,均质阀座与阀芯间的缝隙很小,对物料颗粒产生剪切②空穴效应,高速挤出的物料瞬间失压,最终达到使物料均匀分布目的③ 碰撞作用,高速挤出的物料以极高的速度撞击到碰撞环上,产生撞击粉碎实物安装图：应用领域：制药行业中制备脂肪粒、载药型乳液均质、脂质体、纳米混悬剂和微胶囊等 生物工程产品的细胞破碎、胞内外物质的提取和均质 精细化工、碳纳米管、石墨烯、导电浆料、电阻浆料的生产和制备 个人护理品-脂质纳米的均质分散 食品和工业产品的均质和乳化,提高产品稳定性 产品优势：①结构特点：单支陶瓷柱塞驱动，出料流量精准控制。可选配柱塞润滑装置，密封使用寿命更长。②均质压力：最大设计压力2000bar/200MPa/29000psi，选用卫生级数字隔膜压力表。③均质流量：最小样品量15ml,特别适合昂贵的药剂生产。自动吸料，无需进料设备。④部件技术：均质阀座组件可采用氧化锆、钨钢、金刚石、司太立等材质，单/双面加工，双面使用，使用寿命加倍。二级阀分散乳化，使物料分布更加均匀一致。⑤节能技术：设备变频控制，接入220V市电即可使用，进口品牌部件设备更稳定，更低的能耗，更高的能效比。技术参数：产品型号JXNANO-5设计流量(L/H)5~8设计最高压力(mpa/bar/psi)200/2000/29000使用压力（MPa/bar/psi）180/1800/26100操作方式按键电压(V)220柱塞数量(支)1功率(kw)1.5主要功能均质、破壁、细化（可选配冷水机控温）最小处理量（mL）15产品过程粘度2000cp最大进料颗粒尺寸≤100μm工作压力显示压力表控制方式手动操作最大产品进料温度90℃重量（KG）110

用于成像和非成像设备的高动态范围测试和校准的多功能积分球均匀光源积分球均匀光源特点：具有可变强度控制的积分球源170 mm Ø 球体，50.8 mm Ø 端口，BaSO 4涂层带可变衰减器的 100W 灯（2856K 和 3100K）CCT 和 L 检测器、亮度和光谱辐射校准。系统包括用于系统控制的电子设备光源和积分球之间的可调节孔径使得在恒定色温下调节光谱辐射强度和亮度成为可能。亮度显示为参考值。除了亮度，监视器检测器还测量色温。这使得积分球均匀光源可以为两种温度设置光源：2856K 和 3100K。此外，积分球均匀光源可以重新调整色温，从而可以利用卤素灯典型的 2000 小时工作时间。积分球均匀光源可以在光源和球体之间固定一个漫射窗，以改善积分球中的漫射光分布。 积分球均匀光源带有自动遥控可变光圈的 ISS-17-VAM 版本是对可用的手动光圈版本 ISS-17-VA 的补充。积分球均匀光源可溯源校准 ：亮度、光谱辐射和色温的校准由 Gigahertz-Optik 校准实验室针对光学被测量执行。校准是参照一个校准标准进行的，该校准标准的光谱辐射是由德国测量实验室校准的。校准及其结果由符合 ISO 17025 的相应校准证书确认。ISS-17-VA 在 3100K 从 300nm 到 2500nm 的光谱辐射。积分球均匀光源选型：模型图像球体直径光输出端口校准光谱范围 / nm光源输出范围评论ISS-5P50 毫米20 毫米(380 - 1100) 纳米集成 10 W 卤钨灯小巧便携的转移标准灯ISS-5P-SR-FS50 毫米20 毫米(380 - 1700) 纳米LH-5-UV-石英卤素例如用于荧光光谱仪校准ISS-8P-HP80 毫米19 毫米(380 - 1100) 纳米外部高达 100W 卤钨灯(120, 12 & 1.2) kcd/m² @ CCT 2960K(75, 75, 0.75) kcd/m² @ CCT 2856K随着亮度的变化保持恒定的色温和均匀性。ISS-8P-VA80 毫米19 毫米(380 - 1100) 纳米外部高达 100W 卤钨灯(0 - 95000) cd/m² @ CCT 2960K(0 - 63000) cd/m² @ CCT 2856K连续可变的强度控制。ISS-8P-VAHP80 毫米19 毫米(380 - 1100) 纳米外部高达 100W 卤钨灯(0 - 57000) cd/m² @ CCT 2960K(0 - 39000) cd/m² @ CCT 2856K微调，连续可变强度控制。ISS-17-VA170 毫米50 mm 带分辨率管以抑制横向入射光 (UMPA-2.0-xx)(380 - 800) 纳米外置100W卤钨灯(3 - 7.500) cd/m² @ CCT 2856K(5 - 15.000) cd/m² @ CCT 3100K针对色温和亮度校准的监视器检测器ISS-17-VAM170 毫米50 mm 带分辨率管以抑制横向入射光 (UMPA-2.0-xx)(380 - 800) 纳米外置100W卤钨灯(3 - 7.500) cd/m² @ CCT 2856K(5 - 15.000) cd/m² @ CCT 3100K针对色温和亮度校准的监视器检测器ISS-30-VA300 毫米100 毫米(300 - 1100) nm @ CCT 2960K外置100W卤钨灯(0 - 3500) cd/m² @ CCT 2960K针对输出端口亮度校准的监视器检测器ISS-30-VAM300 毫米100 毫米(300 - 1100) nm @ CCT 2960K外置100W卤钨灯(0 - 3500) cd/m² @ CCT 2960K针对输出端口亮度校准的监视器检测器ISS-50-LU-FE500 毫米——3 x 100W 卤钨灯，每个 2856K、5000K 或 6000K，选择滤光轮——由于超广角或鱼眼相机位于球体中心而导致的半球照明场。三种不同的色温，可通过滤光轮切换。另请参阅： 示例配置 - 来源更多详情请联系昊量光电/欢迎直接联系昊量光电关于昊量光电：上海昊量光电设备有限公司是国内知名光电产品专业代理商，代理品牌均处于相关领域的发展前沿；产品包括各类激光器、光电调制器、光学测量设备、精密光学元件等，涉及应用领域涵盖了材料加工、光通讯、生物医疗、科学研究、国防及更细分的前沿市场如量子光学、生物显微、物联传感、精密加工、先jin激光制造等；可为客户提供完整的设备安装，培训，硬件开发，软件开发，系统集成等优质服务。

NMS-1静电纺纳米纤维纱线制备装置是一种采用共轭静电纺丝机械加捻法成纱的装置。通过高压静电纺丝生成的纳米纤维集合在金属漏斗的边缘， 漏斗的旋转对纳米纤维束进行加捻，再将加捻后的纱线进行卷绕收集。该装置转为静电纺丝设计，可独立使用，也可置入现有的静电纺丝设备内使用。对以静电纺纳米纤维纱线为基底的纳米功能性纤维进行二次加工，或者对线材外表面进行纳米纤维铺覆处理，提高其性能以获得满足实际应用的产品。 NMS-1静电纺纳米纤维纱线制备装置的技术特点： 专为静电纺丝设计，耐腐蚀，电场干扰小； 模块化、一体式设计； 可便捷的与静电纺丝其他装置搭配使用； 主体支架 PP聚丙烯材料，绝缘防静电； 车铣加工处理，外表面光洁； 预留了固定孔位； 共轭喷头支架 用于调节喷头与金属漏斗的角度和距离； 专门设计的针头架； 支架可手动三维调节； 收卷器 按设定的速度往复和旋转； 预留足够功率，可长期长时间使用； 连接接地线，保证马达的安全； 线材组件 用于给线材表面连续铺设加捻的纳米纤维； 线材卷筒可快装快拆； 设有线材引导环，使得线材均匀导入金属漏斗的中心孔内； 控制器 可置入我公司各型纺丝设备类使用*； 亦可选购我们提供的专门的控制器；NMS-1静电纺纳米纤维纱线制备装置的技术参数：加捻漏斗 直径（mm） 60*转速范围(rpm) 0-650收卷器 转速范围(rpm) 0.01-10往复行程（mm） Max.50往复速度（mm/s） 0.01-10线材组件 幅宽（mm） 100直径(mm) Max.100其他数据 重量（Kg） 4功率（W） Max.45电源 24VDC工作环境 5-45℃* 请联系我们的工程师，获取接线和程序设置方法* 如需其他尺寸，请联系我们的售前服务工程师

实验型高压均质机是一种常用于实验室的设备，主要用于研究各种材料的均质化处理。这种设备利用高压技术，能够将物料在瞬间内通过一个非常狭窄的间隙，从而在物料内部产生极高的压力和极快的速度。这种强大的压力和速度能够将物料破碎、分散和混合，以达到均质化的效果。工作原理：物料在柱塞的往复运动的作用下，输送到一个大小可调的阀组中，受到极强的压缩作用，在通过限流狭缝时，以极快的速度撞击在均质阀，产生空穴效应，撞击效应和剪切效应，使团聚的物料均匀分散。应用范围：食品/饮料● 饮料乳化● 脂肪替代品● 牛奶● 调味剂、食品添加剂保健品/化妆品● 护发产品● 脂质乳化● 指甲油● 护肤膏制药/生物技术● 细胞破碎● 静脉注射剂、吸入剂● 营养剂● 药膏化工/材料● 锂电池、氢能源● 石墨烯、CNT碳管分散● 纳米纤维素● 半导体产品特点：1. 独特的两级均质阀，均质阀材质可以是陶瓷材质，或合金材质2. 便于观察的数字显示压力表和电子过压保护系统3. 体积小——方便放在实验台4.模块化结构,操做方便,维护简单5.内置控温模块：温度保持在5～10度产品参数：型号AH-NANO处理量（MINI）15ml处理量（MAX）10L/H工作压力（MAX）1800bar外形尺寸（长*宽*高）795*450*490mm设备净重（kg）140功率1.5kw

低光度均匀光源系统 USS-1200V-LL均匀光源系统是为低辐照水平设计的均匀光源系统，在紫外可见和红外可达到m=0星等水平。辐照度可实现8个数量级的变化范围。均匀度好于98%，在7个波段内，系统可校准为显示辐照度单位phot/(s&bull cm2)。系统特性模拟星光亮度； 辐射亮度级可变 均匀度大于98% 12英寸积分球口径 4英寸出口直径 带辐射度输出监控 带软件控制滤光片轮 校准包括辐照度响应率、光谱辐亮度及光谱辐照度应用校准和测试紫外/可见和红外传感器

EVG系列纳米压印设备之紫外纳米压印：600 一、 简介 EVG公司成立于1980年，公司总部和制造厂位于奥地利，在美国、日本和台湾设有分公司，并在其他各地设有销售代理及售后服务部，产品和服务遍及世界各地。EVG公司是一家致力于半导体制造设备的全球供应商，其丰富的产品系列包括：涂胶和喷胶/显影机/热板/冷板、掩模版光刻/键合对准系统、基片热压键合/低温等离子键合系统、基片清洗机、基片检测系统、SOI 基片键合系统、基片临时键合/分离系统、纳米压印系统。目前已有数千台设备安装在世界各地，被广泛地应用于MEMS微机电系统/微流体器件，SOI基片制造，3D封装，纳米压印，化合物半导体器件和功率器件等ling 域。EVG是世界上为数不多的可以商业化纳米压印设备的著ming公司，可为客户提供完整的纳米压印方案，包括热压印、紫外压印、微接触印刷。EVG公司以其专利的极其优异的对准技术和世界ling 先的热压技术为纳米压印的成功实施打下了坚实的基础。EVG620紫外纳米压印用于从印章到衬底的紫外图形转移。EVG620自动纳米压印系统允许衬底和印章的尺寸从很小的芯片到150mm直径的圆片范围。用于纳米技术应用的配置包括印章机械释放、程序控制高或低的接触压力。EVG独有的吸盘设计支持软印章和硬印章压印，可以保证大面积纳米压印的均匀压力，从而保证获得很高的良率。 二、应用范围纳米压印技术主要应用于如下方面：LEDS 制作，LED PSS纳米压印工艺，LED纳米透镜阵列；微流体学；芯片实验室；抗反射层； 纳米压印光栅； 莲花效应；光子带隙；光学及通讯：光晶体，激光器件；生物技术解决方案：医药分析，血液分析，细胞生长。三、主要特点u 适用于紫外纳米压印和微接触印刷；u 紫外光曝光；u 配备专用的紫外纳米压印工具；u 适于软或硬印章压印；u 适用衬底：Si，玻璃，化合物半导体； 四、技术参数亚科电子设备咨询电话：（微信同号）；欢迎您的来电咨询！

Nicomp 380纳米粒度仪采用动态光散射原理检测分析颗粒系的粒度及粒度分布，粒径检测范围 0.5nm – 10μm。粒度分析复合采用 Gaussian 单峰算法和拥有技术的 NiComp 多峰算法，对于多组分、粒径分布不均匀液态分散体系的分析以及胶体体系的稳定性分析具有独特优势，其优异的解析度及重现性是其他同类产品无可比拟的。整机采用模块化设计,可灵活方便地扩展 Zeta 电位等其它功能。Nicomp380纳米粒度仪基本概述：Nicomp380 是纳米粒径分析仪器，采用现在先进的动态光散射原理，利用的Nicomp多峰算法可以很准确的分析比较复杂多组分混合样品。为实验室的研究提供最好的分析技术。测试范围：0.3nm–6μm。产品介绍：Nicomp380采用动态光散射原理检测分析颗粒系的粒度及粒度分布，粒径检测范围0.3nm-10μm。粒度分析复合采用Gaussian单峰算法和拥有技术的Nicomp多峰算法，对于多组分、粒径分布不均匀液态分散体系的分析以及胶体体系的稳定性分析具有独特优势，其优异的解析度及重现性是其他同类产品无可比拟的。纳米粒度仪工作原理：动态光散射法(DLS)，有时称为准弹性光散射法（QELS），是一种成熟的非侵入技术，可测量亚微细颗粒范围内的分子与颗粒的粒度及粒度分布，使用最新技术，粒度可小于1nm。动态光散射法的典型应用包括已分散或溶于液体的颗粒、乳剂或分子表征。悬浮在溶液中的颗粒的布朗运动，造成散射光光强的波动。分析光强的波动得到颗粒的布朗运动速度，再通过斯托克斯-爱因斯坦方程得到颗粒的粒度。纳米粒度仪仪器参数：粒径测量范围粒度分析：0.3nm-10μm分析方法粒度分析：动态光散射，Gaussian单峰算法和NiComp无约束自由拟合多峰算法pH值范围2-12温度范围0℃-90℃检测角度（可选）粒度分析：90°或多角度（10°-175°，可选配）高浓度样品背散射175°背散射可用溶剂水和绝大多数有机溶剂样品池4mL（标准，石英玻璃或有机玻璃）；500μL（高透光率微量样品池）分析软件Windows运行环境，符合21CFRPart11规范分析软件电压220–240VAC，50Hz或100–120VAC，60Hz外形尺寸56cm*41cm*24cm重量约26kg（与配置有关）纳米粒度仪配件：大功率激光二极管PSS使用一系列大功率激光二极管来满足更多更苛刻的要求。使用大功率激光照射，以便从小粒子出货的足够的入射光。15mW,35mW,50mW,100mW–波长为635nm的红色二极管。20mW50mW和100mW波长为514.4nm的绿色二极管。雪崩光电二极管检测器（APDDetector）提供比普通光电倍增管(PMT)高20倍的灵敏度。Zeta电位模块Zeta电位是确定交替系统稳定性的重要参数，决定粒子之间静电排斥力大小，从未影响粒子间的聚集作用及分散系的稳定。该模块使用电泳光散射（ELS）技术，通过测量带点粒子在外加电场中的移动速度，即电泳迁移率、推算出Zeta电位，实现了粒子的粒径与Zeta电位，实现了粒子的粒径与Zeta电位测定的同机操作。自动稀释系统模块将初始浓度较高的样本自动稀释至可检测的的浓度，可稀释初始固含量为50%的原始样品，本模块收保护，其可免除人工稀释样品带来的外界环境的干扰和数据上的误差，此技术被用于批量进样和在线检测的过程中。多角度检测系统模块提供多角度的检测能力。使用高精度的步进电机和针孔光纤技术可对散射光的接收角度进行调整，可为微粒粒径分布提供可高分辨率的多角度检测。对高浓度样品（≤40%）以及大粒子多分散系的粒径提供了提供15至175度之间不同角度上散射光的采集和检测。自动进样器批量自动进样器能实现最多76个连续样本的分析而无需操作人员的干预。因此它是一个非常好的质量控制工具，能增大样品的处理量。大大节省了宝贵的时间。自动滴定模块样品的浓度及PH值是Zeta电位的重要参数，搭配瑞士万通的滴定仪进行检测，真正实现了自动滴定，自动调节PH值，自动检测Zeta电位值。免除外界的干扰和数据上的误差，精确分析出样品Zeta电位的趋势。纳米粒度仪应用领域：适用于检测悬浮在水相和有机相的颗粒物。1）磨料磨料既有天然的也有合成的，用于研磨、切削、钻孔、成形以及抛光。磨料是在力的作用下实现对硬度较低材料的磨削。磨料的质量取决于磨料的粗糙度和颗粒的均匀性。2）化学机械抛光(CMP)化学机械抛光是半导体制造加工过程中的重要步骤。化学机械抛光液是由腐蚀性的化学组分和磨料(通常是氧化铝、二氧化硅或氧化铈)两部分组成。抛光过程很大程度上取决于晶片表面构型。晶片的加工误差通常以埃计，对晶片质量至关重要。抛光液粒度越均匀、不聚集成胶则越有利于化学机械抛光加工过程的顺利进行。3）陶瓷陶瓷在工业中的应用非常广泛，从砖瓦到生物医用材料及半导体领域。在生产加工过程中监测陶瓷颗粒的粒度及其粒度分布可以有效地控制最终产品的性能和质量。4）粘土粘土是一种含水细小颗粒矿物质天然材料。粉砂与粘土类似，但粉沙的颗粒比粘土大。粘土中易于混杂粉砂从而降低粘土的等级和使用性能。ISO14688定义粘土的颗粒小于63μm。5）涂料涂料种类繁多，用途广泛。涂料的颗粒大小及粒度分布直接影响涂料的质量和性能。6）污染监测粒度检测分析在产品的污染监测方面起着重要作用，产品的污染对产品的质量影响巨大。绝大多数行业都有相应的标准、规程或规范，必须严格遵守和执行，以保证产品满足质量要求。7）化妆品无论是普通化妆品还是保湿剂、止汗剂，它们的性能都直接与粒度的大小和分布有关。化妆品的颗粒大小会影响其在皮肤表面的涂抹性能、分布均匀性能以及反光性能。保湿乳液(一种乳剂)的粒度小于200纳米时才能被皮肤良好吸收，而止汗剂的粒度只有足够大时才能阻塞毛孔起到止汗的作用。8）乳剂乳剂是两种互不相溶的液体经乳化制成的非均匀分散体系，通常是水和油的混合物。乳剂有两种类型，一种是水分散在油中，另一种是油分散在水中。常见的乳剂制品有牛奶（水包油型）和黄油（油包水型），加工过程中它们均需均质化处理到所需的粒径大小以期延长保质期。9）食品食品的原料（粉末及液体）通常来源于不同的加工厂，不同来源的原料必须满足某些特定的标准以使最终制品的质量均一稳定。原料性质的任何波动都会对食品的口味和口感产生影响。用原料的粒度分布作为食品质量保证和质量控制（QA/QC）的一个指标可确保生产出质量均以稳定的食品制品。10）液体工作介质/油液体工作介质（如：油）越来越昂贵，延长液体介质的寿命是目前普遍关心的问题。机械设备运转过程中会产生金属屑或颗粒落入工作介质中（如：油浴润滑介质或液力传递介质），因此需要一种方法来确定介质（油）的更换周期。通过监测工作介质（油）中颗粒的分布和变化可以确定更换工作介质的周期以及延长其使用寿命。11）墨水随着打印机技术的不断发展，打印机用的墨水变得越来越重要。喷墨打印机墨水的粒度应当控制在一定的尺度以下，且分布均匀，大的颗粒易于堵塞打印头并影响打印质量。墨水是通过研磨方法制得的，可用粒度检测分析仪器设备监测其研磨加工过程，以保证墨水的颗粒粒度分布均匀，避免产生聚集的大颗粒。12）胶束胶束是表面活性剂在溶液中的浓度超过某一临界值后，其分子或离子自动缔合而成的胶体尺度大小的聚集体质点微粒，这种胶体质点与离子之间处于平衡状态。乳液、色漆、制药粉体、颜料、聚合物、蛋白质大分、二氧化硅以及自组装TiO_2纳米管(TNAs)等

技术参数 1. 处理压力最大 18,000psi 2. 最大流量为124-270 ml/min 3. 进料温度为 –25℃--75℃ 4. 最小样品量为14ml 5. 压缩空气要求：根据交互容腔选择的不同，压缩空气流量在80 psi压力下流量为28SCFM到 57 SCFM, 7.5-15 hp 6. 机器尺寸: 60*39*68cm 7. 重量：26.4 Kg 主要特点 1.最小样品量为14ml，可获得超过12 ml的产品 2.独一无二的、具有固定几何形状的交互作用容腔，内部无可移动部件。处理后的样品粒径在150纳米以下，且分布均匀，体系稳定。 3.可以连续或批量加工，也可以进行再循环 4.高效率细胞破壁（一次就能达到95％以上的破壁效果，并且细胞内的混合物不受污染和破坏） 5.实验结果可以完美的线性放大，放心地推广到中试及工厂生产 . 仪器介绍 MICROFLUIDICS公司生产的M-110L专利流体处理设备，是一个气压型小试设备。设备带有形状固定的交互容腔，利用实验室标准压缩空气可产生高至18,000psi的压力，并将强大的能量传递到产品上去，产品高压高速射入交互容腔,在其内部发生高剪切、高碰撞及气穴效应,从而达到将产品粉碎及分散的目的. 美国MFIC公司生产的Microfluidizer 系列高压微射流纳米均质机已被一些世界知名公司使用于研发、生产中，适用于乳液、分散液、悬浮液、脂质体、制剂、微胶囊、细胞破壁、降低药物粒径至纳米级等生物医药行业和化工、化妆品、食品等行业如碳纳米管、喷墨、二氧化钛、二氧化硅、胶粘剂、纸浆、食品添加剂等的纳米级分散及均质。 M-110L设备处理压力可在3000—18000psi范围内任意选择，加工产品范围广泛，从简单的乳液到固体含量高的悬浮液都可以。该机器操作简便，而且不需拆卸即可进行在线清洗和消毒。

产品介绍：纳米级静电纺丝机LSNE-3000是一种利用高压电将高分子聚合物或者熔体在强电场中进行喷射纺丝，最终得到纳米级直径的聚合物细丝。所制备的纳米纤维膜在生物医药学、滤器、复合材料传感器等领域具有广泛应用。纳米级静电纺丝机LSNE-3000产品规格参数：该仪器配备有高压电源，双喷头系统以及滚筒收集器，喷头和收集器关联系统，可独立控制的计量泵，喷头和收集器参数由控制系统控制，参数可调，满足不同实验的需求。可用于制备直径为几十纳米超细纤维，其具有非常高的比表面积，超细的直径以及极大的孔隙率。多种聚合物都可由该设备制备纳米纤维，例如PVA、PVP、PAN和PS等，还包括掺杂有其他金属离子的聚合物等。双喷头系统双喷头分别位于滚筒收集器的两侧，采用医用针头，可更换不同直径的针头，通过不同直径针头和计量泵参数的设置，可获得不同成分的复合纤维膜，满足不同实验的要求；两通道计量泵：采用连续化计量泵，使用方便，数字显示，流动速度、注射量均可以精确控制。两通道可以独立控制，设定不同的推进速度，可以和不同规格的注射器配合使用标配注射器直径0.7 mm注射液泵标配针管容积5 mL高压电源0-21 kV，数字显示、过流保护、过压保护收集筒转速铜滚筒转速0-3000 rpm，精确可调且一体成型，运行平稳产品尺寸80 cm*69 cm*69 cm 纳米级静电纺丝机LSNE-3000技术优势：高压电源0~21 kV，数字显示，过流保护，过压保护；双喷头系统分别位于滚筒收集器的两侧，采用医用针头，可更换不同直径的针头，通过不同直径针头和计量泵参数的设置，可获得不同成分的复合纤维膜，满足不同实验的要求；两通道计量泵：采用连续化计量泵，使用方便，数字显示，流动速度、注射量均可以精确控制。两通道可以独立控制，设定不同的推进速度，可以和不同规格的注射器配合使用；滚筒收集器：铜滚筒转速0~3000 rpm，精确可调且一体成型，运行平稳不晃动。纳米级静电纺丝机LSNE-3000产品特点：全方位的安全保障，设计紧凑，直观便捷；具有双喷头，单独控制，可同时进行两种成分的电纺丝，在制备复合材料方面具有很大应用；喷头端可以前后左右调节，控制针头的位置；适用于不同物理性能的喷射材料。

C160奥维斯丁公司（Avestin）HighPressureHomogenizer奥维斯丁公司（Avestin）EmulsiFlex-C160均质机原理：Sample先以高压低流速的状态进入均质阀，产生超剧烈的能量，此能量伴随着剪切、空穴及撞击三效应将固体颗粒、细胞粉碎。 奥维斯丁公司（Avestin）均质机应用：1、生物细胞破壁：大肠杆菌、酵母/灵芝孢子、霉菌，藻类、真菌、动植物细胞破碎；2、样品纳米均质化：微乳、脂质体、分散剂、纳米粒、纳米混悬液，脂肪乳以及各种需要油水相乳化等3、化工：化妆品、纳米材料、纳米晶体、纳米乳液、香精香料等4、食品……产品参数1.工作压力：从0到30,000PSI（0~207兆帕），连续可调2.流量特点：连续流量，压力可逐步自由调节3.超大处理量：160L/h4.超小样品量：40ml5.泵动力源：电源驱动，380V,50Hz/60hz,11kW产品特点1.良好的均质重现性和稳定性2.可选配流量控制系统及温度控制系统3.产品通道采用特殊的锥面密封，方便拆卸，无易损垫片，避免二次污染4.机体组件由医药级不锈钢制成。耐酸、耐碱、耐高温、防腐蚀、耐磨性强5.适用于脂肪乳，脂质体，脂质纳米粒和纳米混悬剂等产品6.可选配热交换器,均质过程小于0.1秒,产品温升小7.可进行在线清洗和在位灭菌。产品全程可以以SIP高压灭菌或蒸汽灭菌，包括所有过湿部件8.可配合在线挤出系统,由均质动力提供挤出匀化的挤出压力9.产品符合卫生级符合GMP标准奥维斯丁公司（Avestin）拥有实验型、中试型、生产型高压纳米均质机供选择，流量从7毫升每小时到2000升每小时，超高工作压力可达3100Bar(310MPa)的超高压纳米均质机。从产品预处理到均质后匀化处理，均高生物可提供一系列的服务。奥维斯丁公司（Avestin）高压均质机突出优势 主要用于:细胞破碎、脂质体，乳状液、分散、、石墨烯、竹纤维、各种流体等 细胞破碎： 1：埃布氏菌细胞要15000Psi（1000Bar）-17000Psi（1180Bar）压力下破碎。 2：Piccia、酵母菌、分支杆菌在22000Psi（1500Bar）压力下破碎。 3：梨酒（酵母）Schizosaccharomyces细胞在28000Psi（1900Bar）压力下破碎 4：竹纤维在25000Psi（1700Bar）压力下破碎 5：石墨烯在28000Psi（1900Bar）工作压力下破碎 6：破壁率可达到99%以上。 脂质体：在15000Psi（1000Bar）下均质，在通过过滤挤出器（经过聚碳酸酯膜），也可以均质+挤出，可制备出50nm、80nm、100nm、200nm以下的脂质体， 您也可以选择无损耗1毫升手推式脂质体挤出器或者气动50毫升脂质体挤出器，聚碳酸酯膜有直径19mm、25mm、47mm、90mm、142mm、293mm等可制备出15nm、30nm、50nm、80nm、100nm、200nm以下脂质体。均质，乳状液：一般在10000Psi（700Bar）-20000Psi（1400Bar）下形成，可达到纳米级。 分散：一般直径在10-100um情况下，以5000Psi（350Bar）先运行一遍，打碎大颗粒，再在25000Psi（1700Bar）下处理分散体，可达到纳米级结构特点：高精密结构，产品通道无垫片和O型圈；核心部件全部进口，性能可靠，均质腔体始终保修。 设备材料：316L不锈钢、17-4PH不锈钢、陶瓷、金刚石；耐酸、耐碱、耐高温、耐磨性强，抗拉力强，防腐蚀奥维斯丁公司（Avestin）均质机应用：1.生物细胞破壁：大肠杆菌、酵母/灵芝孢子、霉菌，藻类、真菌、动植物细胞破碎、2.样品纳米均质化：微乳、脂质体、分散剂、纳米粒、纳米混悬液，脂肪乳以及各种需要油水相乳化等3.化工：化妆品、纳米材料、纳米晶体、纳米乳液、香精香料等4.食品：牛奶、酸奶、豆奶、花生奶。奶粉、天然饮料、果珍饮料、食品添加剂、各种调味品5.石墨烯、墨水、染料、竹纤维、 碳纳米管、氧化钛、二硼化钛、氧化镍等 6.制药行业：抗生素、中药制剂、浆液制剂、营养保健液、脂质体等

科研用CNI v3.0是一种非常灵活的纳米压印机。它可提供加热型纳米压印、UV紫外纳米压印以及真空纳米压印。模块化系统可根据特定需求轻松配置，体积小，容易存放，最大可处理210mm(8英寸)圆形的任何尺寸印章和基材。该系统是手动装卸印章和模板，但所有处理器都是全自动的，专用软件用户可以完全控制压印过程。 纳米压印机特色：&bull 体积小巧，容易存放，桌面型；&bull 轻微复制微米和纳米级结构；&bull 热压印温度高达200℃；&bull 可选的高温模块，适用于250℃；&bull UV纳米压印，365nm曝光；&bull 可选的UV模块，适用于405nm曝光；&bull 真空纳米压印（腔室可抽真空至0.1mbar）；&bull 纳米压印压力高达11bar；&bull 温度分布均匀、读数精准；&bull 笔记本电脑全自动控制，工艺配方编辑简单，完全灵活控制，自动记录数据；&bull 直径最大210mm（圆形）腔室；&bull 腔室高度为20mm；&bull 即插即用&bull 使用简单直观&bull 专为研发而设计&bull 提供安装和操作教程视频

科研用polypico UniA6是一种非常灵活的纳米压印机。它可提供加热型纳米压印、UV紫外纳米压印以及真空纳米压印。模块化系统可根据特定需求轻松配置，体积小，容易存放，最大可处理210mm(8英寸)圆形的任何尺寸印章和基材。该系统是手动装卸印章和模板，但所有处理器都是全自动的，专用软件用户可以完全控制压印过程。 纳米压印机特色：&bull 体积小巧，容易存放，桌面型；&bull 轻微复制微米和纳米级结构；&bull 热压印温度高达200℃；&bull 可选的高温模块，适用于250℃；&bull UV纳米压印，365nm曝光；&bull 可选的UV模块，适用于405nm曝光；&bull 真空纳米压印（腔室可抽真空至0.1mbar）；&bull 纳米压印压力高达11bar；&bull 温度分布均匀、读数精准；&bull 笔记本电脑全自动控制，工艺配方编辑简单，完全灵活控制，自动记录数据；&bull 直径最大210mm（圆形）腔室；&bull 腔室高度为20mm；&bull 即插即用&bull 使用简单直观&bull 专为研发而设计&bull 提供安装和操作教程视频

纳米压印设备之紫外纳米压印：EVG600系列 一、 简介 EVG公司成立于1980年，公司总部和制造厂位于奥地利，在美国、日本和台湾设有分公司，并在其他各地设有销售代理及售后服务部，产品和服务遍及世界各地。EVG公司是一家致力于半导体制造设备的全球供应商，其丰富的产品系列包括：涂胶和喷胶/显影机/热板/冷板、掩模版光刻/键合对准系统、基片热压键合/低温等离子键合系统、基片清洗机、基片检测系统、SOI 基片键合系统、基片临时键合/分离系统、纳米压印系统。目前已有数千台设备安装在世界各地，被广泛地应用于MEMS微机电系统/微流体器件，SOI基片制造，3D封装，纳米压印，化合物半导体器件和功率器件等ling 域。EVG是世界上为数不多的可以商业化纳米压印设备的著ming公司，可为客户提供完整的纳米压印方案，包括热压印、紫外压印、微接触印刷。EVG公司以其专利的极其优异的对准技术和世界ling 先的热压技术为纳米压印的成功实施打下了坚实的基础。EVG620紫外纳米压印用于从印章到衬底的紫外图形转移。EVG620自动纳米压印系统允许衬底和印章的尺寸从很小的芯片到150mm直径的圆片范围。用于纳米技术应用的配置包括印章机械释放、程序控制高或低的接触压力。EVG独有的吸盘设计支持软印章和硬印章压印，可以保证大面积纳米压印的均匀压力，从而保证获得很高的良率。 二、应用范围纳米压印技术主要应用于如下方面：LEDS 制作，LED PSS纳米压印工艺，LED纳米透镜阵列；微流体学；芯片实验室；抗反射层； 纳米压印光栅； 莲花效应；光子带隙；光学及通讯：光晶体，激光器件；生物技术解决方案：医药分析，血液分析，细胞生长。三、主要特点u 适用于紫外纳米压印和微接触印刷；u 紫外光曝光；u 配备专用的紫外纳米压印工具；u 适于软或硬印章压印；u 适用衬底：Si，玻璃，化合物半导体； 四、技术参数设备咨询电话：欢迎您的来电咨询！

NX-B100/B200整片基板纳米压印系统经过了大量的实时实地验证,质量可 靠,性能优越稳定。具备全部压印模式:热固化、紫外固化和压印。基于独 特保护的Nanonex气垫软压技术(ACP),不论模版或基板背面粗糙程 度如何,或是模版或基板表面波浪和弧形结构,NX-B100/B200均可对其校 正补偿从而获得无与伦比的压印均匀性, ACP消除了基板与模版之间侧向偏 移,有效地延长了模版使用寿命。通过微小热容设计可获得快速的热压印周 期,zui终得到快速的工艺循环。主要特点：所有形式的纳米压印热塑化紫外固化 (NX-B200)热压与紫外压印同时进行(NX-B200)热固化 气垫软压技术(ACP)Nanonex技术完美的整片基板纳米压印均匀性高通量低于10nm分辨率 快速工艺循环时间(小于60秒) 灵活性最大75毫米直径压印面积各种尺寸及不规则形状模板与基板均可压印方便用户操作基于超过12年、15代产品开发 经验的自动化压印操作Nanonex压印系统经过大量实 时实地验证,质量可靠,性 能优越稳定全自动纳米压印系统参数：热塑压印模块(NX-B100/B200) 温度范围0~250℃加热速度200℃/分钟制冷速度60℃/分钟压力范围0 ~ 3.45 MPa(500 psi)紫外固化模块(NX-B200)58mW/cm2紫外LED光源365纳米或395纳米波长可选全自动化控制模版装载功能最大3英寸模板可用于标配纳米压印系统基板装载标配纳米压印系统可装载3英寸基 板 各种尺寸及不规则形状模板与 基板均可压印 独特保护ACP技术可最大限度保护模板和基板,特别对于象磷化铟(InP)等极易碎模 板和基板给予最大限度。其他参数：配有微软Windows的电脑控制系统 用户友好的控制软件 程序化控制压印温度、压力和时间 真空和压缩空气操作由电脑控制 手动装载/拆卸基板 自动化压印操作 设备占地面积:32 × 34 英寸(810 mm × 860 mm) 应用领域:纳米电子和光电子、显示器、数据存储介质、先进材料、生物科技、纳米流道等。

进口纳米狭缝涂布机 高性能槽模涂层研发系统型号：nRad 该仪器为小型研究纳米材料的狭缝涂布提供了高效高精度的试验机台，机台尺寸小。“狭缝涂布精密成膜装备系统”是一个高端先进制造业项目，其成膜技术可在玻璃、塑料、不锈钢等基体上精确涂布制备功能纳米、微米薄膜，在许多光电领域，如平板显示、触摸屏、薄膜太阳能电池、半导体元器件及封装、柔性及印制电子、智能玻璃等，有着非常广泛的应用。 特点：高效的材料利用率和最少的浪费基于槽模的沉积技术涂布厚度范围：从20nm到100μm均匀度为 ±3％，效率高/材料利用率高:材料利用率可达95%从研发到小批量试制、大量生产满足不同需求支持各种基材（刚性或柔韧性、玻璃、塑料、金属箔、硅片）适用于各种应用（平板显示器、触摸屏、光伏（薄膜和硅）、柔性电子产品、光学薄膜） 研发体系中无与伦比的性能和价值专有设计在小型封装中提供可靠的性能简单而灵活的设计和操作，能够为各种应用沉积各种材料紧凑型系统与大多数标准手套箱和实验室台面兼容全自动涂层工艺通过配方可编程参数控制线性伺服电机驱动的空气轴承级确保平稳运行和准确的涂层用户友好的控制与板载触摸屏和基于PC的软件极低的填充量非常适合测试小样本材料可编程涂层间隙（微米分辨率）测量并调整每个处理的基板可编程的引发步骤，以在沉积在基板上之前立即建立涂层珠 流程优势槽模涂布技术使涂布液的利用率最大化，而不会产生与替代方法相关的浪费有效利用材料可最大限度地减少对环境的影响和处置该过程适用于开发应用程序，可扩展到更大的生产规模精确，可编程控制涂层间隙和模具运动轮廓，提供高度均匀的涂层和出色的涂层边缘轮廓控制有效可调涂布速度0-2m / min 技术参数：基板尺寸：标准150mm 最大值210-300mm 150或200mm晶圆选项基板类型：玻璃、塑料、金属箔、硅片 刚性或柔韧性涂层厚度范围：20nm to 100um涂层均匀性：对于超过150nm的薄膜，±3％或更好，对于50和150nm的薄膜，±5％或更好涂料粘度范围：标准1至70 cp设备尺寸: L: 911mm W: 578mm H:645mm 设备重量：170千克/ 380ibs

Nicomp 3000 系列纳米激光粒度仪 专为复杂体系提供高精度粒度解析方案基本信息仪器型号：N3000 工作原理：动态光散射（Dynamic Light Scattering, DLS）检测范围： 0.3nm-10.0μm Nicomp N3000系列纳米激光粒度仪是在原有的经典型号3000DLS基础上升级配套而来，采用动态光散射（Dynamic Light Scattering, DLS）原理检测分析颗粒的粒度分布，粒径检测范围 0.3nm – 10μm。其配套粒度分析软件复合采用了高斯（ Gaussian）单峰算法和拥有技术的 Nicomp 多峰算法，对于多组分、粒径分布不均匀分散体系的分析具有独特优势。技术优势1、APD（LDC）超高灵敏度检测器；2、多角度检测（multi angle）模块；3、可搭配不同功率光源；4、精确度高，最接近样品真实值；5、快速检测，可以追溯历史数据；6、结果数据以多种形式和格式呈现；7、符合USP,CP等个多药典要求；8、无需校准；9、复合型算法：（1）高斯（Gaussion）单峰算法与的Nicomp多峰算法自由切换10、模块化设计便于维护和升级；（1）可自动稀释模块；（2）搭配多角度检测器；（3）自动进样系统（选配）；Nicomp多峰分布概念 基线调整自动补偿功能和高分辨率多峰算法是Nicomp 3000系列仪器所独有的两个主要特点，Nicomp创始人Dave Nicole很早就认识到传统的动态光散射理论仅给出高斯模式的粒度分布，这和实践生产生活中不相符，因为现实中很多样本是多分散体系，非单分散体系，而且高斯分布灵敏性不足，分辨率不高，这些特点都制约了纳米粒度仪在实际生产生活中的使用。其开创性的开创了Nicomp多峰分布理论，大大提高了动态光散射理论的分辨率和灵敏性。图一：Nicomp多分分布数据呈现 如图一：此数据为Nicomp创始人Dave Nicole亲测其血液所得的真实案例。其检测项目为：高密度脂蛋白，低密度脂蛋白和超低密度脂蛋白，由图中可以看出，其血液中三个组分的平均粒径分别显示在7.0nm；29.3nm和217.5nm。由此可见，Nicomp分布模式可以有效反应多组分体系的粒径分布。Nicomp多峰分布优势 Nicomp系列仪器均可以自由在Gaussian分布模式和Nicomp多峰分布模式中切换。其不仅可以给出传统的DLS系统的结果，更可以通过Nicomp多峰分布模式体现样品的真实情况。依托于Nicomp系列仪器一系列优异的算法和高灵敏性的硬件设计，Nicomp纳米激光粒度仪可以有效区分1:2的多分散体系。图二：高斯分布及Nicomp多峰分布对比图 如图二：此数据为检测93nm和150nm的标粒按照1:2的比例混合后所测得的数据。左边为高斯分布（Gaussian）结果，右图为Nicomp多峰分布算法结果，两者都为光强径数据。从高斯分布可以得到此混合标粒的平均粒径为110nm-120nm之间，却无法得到实际的多组分体系结构。从右侧的Nicomp多峰分布可以得到结果为双峰，即如数据呈现，体系中的粒子主要分布于98.2nm以及190nm附近，这和实际情况相符。 为满足不同客户的实际检测需求，我司的Nicomp 3000 N3000会配备相应的配置，旨在为客户们在控制成本的基础上，得到需求的解决方案。产品优势模块化设计 Nicomp 3000纳米激光粒度仪是全球率先在应用动态光散射技术上的基础上加入多模块方法的先进粒度仪。随着模块的升级和增加，Nicomp 3000的功能体系越来越强大，可以用于各种复杂体系的检测分析。自动稀释模块 带有的自动稀释模块消除了人工稀释高浓度样品带来的误差，且不需要人工不断试错来获得合适的测试浓度，这大大缩短了测试者宝贵时间，且无需培训，测试结果重现性好，误差率＜1%。3000/HPLD大功率激光器 美国PSS粒度仪公司在开发仪器的过程中，考虑到在各种极端实验测试条件中不同的需求，对不同使用条件和环境配置了不同功率的激光发生器。大功率的激光器可以对极小的粒子也能搜集到足够的散射信号，使得仪器能够得到极小粒子的粒径分布。同样，大功率激光器在测试大粒子的时候同样也很有帮助，比如在检测右旋糖酐大分子时，折射率的特性会引起光散射强度不足。 因为大功率激光器的特性，会弥补散射光强的不足和衰减，测试极其微小的微乳、表面活性剂胶束、蛋白质以及其他大分子不再是一个苛刻的难题。即使没有色谱分离，Nicomp 3000纳米粒径分析仪甚至也可以轻易估算出生物高分子的聚集程度。雪崩二极管 (APD-LDC)超高灵敏度检测器 Nicomp 3000纳米粒径分析仪可以装配各种大功率的激光发生器和军品级别的雪崩二极管检测器（相比较传统的光电倍增管有7-10倍放大增益效果）。 APD通常被用于散射发生不明显的体系里来增加信噪比和敏感度，如蛋白质、不溶性胶束、浓度极低的体系以及大分子基团，他们的颗粒的一般浓度为1mg/mL甚至更低，这些颗粒是由对光的散射不敏感的原子组成。APD外置了一个大功率激光发生器模块，在非常短的时间内就能检测分析纳米级颗粒的分布情况。3000/MA多角度检测器 粒径大于100 nm的颗粒在激光的照射下不会朝着各个方向散射。多角度检测角器通过调节检测角度来增加粒子对光的敏感性来测试某些特殊级别粒子。Nicomp 3000可以配备范围在10°-175，步长0.7°的多角度测角器，从而使得单一90°检测角测试不了的样品，通过调节角度进行检测，改善对大粒子多分散系粒径分析的精确度。工作原理目录结构： 1.前言 2.动态光散射原理 3.动态光散射理论：光的干涉 小知识：光电倍增管（PMT) 小知识：光电二极管（APD) 5.粒子的扩散效应 6.Stoke-Einstein方程式 7.自相关函数原理 前言 近十几年来，动态光散射技术（Dynamic Light scattering, DLS），也被称为准弹性光散射（quasi-elastic light scattering, QELS）或光子相关光谱法（photon correlation spectroscopy， PCS）,已经被证明是表征液体中分散体系的粒径分布（PSD）的极有用的分析工具。DLS技术的有效检测粒径范围——从5am（0.005微米）到10几个微米。DLS技术的优势相当明显，尤其是当检测到300nm以下亚微米的粒径范围时，在此区间，其他的技术手段大部分都已经失效或者无法得到准确的结果。因此，基于DLS理论的设备仪器被广泛采用用以表征特定体系的粒度分布，包括合成的高分子聚合物(如乳胶，PVCs等)，水包油和油包水的乳剂，囊泡，胶团，微粒，生物大分子，颜料，燃料，硅土，金属晶体，陶瓷和其他的胶体类混悬剂和分散体系。动态光散射原理 下图所示为DLS系统的简单的示意图。激光照射到盛有稀释的颗粒混悬液的玻璃试管中。此玻璃试管温度恒定，每一个粒子被入射光击发后向各个方向散射。散射光的光强值和粒径的分子量或体积（在特定浓度下）成比例关系，再带入其他影响参数比如折射率，这就是经典光散射（Classic light scattering)的理论基础。 图1：DLS系统示意图动态光散射方法（DLS）从传统的光散射理论中分离，不再关注于光散射的光强值，而关注于光强随着时间的波动行为。简单来说，我们在一定角度（一般使用90°角）检测分散溶剂中的混悬颗粒的总体散射光信息。由于粒度的扩散，光强值不断波动，理论上存在有非常理想化的波动时间周期，此波动时间和粒子的扩散速度呈反比例关系。我们通过光强值的波动自相关函数的计算来获得随时间变化的衰减指数曲线。从衰减时间常量τ，我们可以获得粒子的扩散速度D。使用Stokes-Einstein 方程式，我们最终可以计算得出颗粒的半径（假定其是一个圆球形状）。动态光散射理论：光的干涉 为了容易理解什么叫做强度随时间波动，我们必须先理解相干叠加（coherent addition）或线性叠加（superposition）的概念,进一步要知道检测区域内的不同的粒子产生了很多独立散射光，这些独立的散射光相干叠加或互相叠加的最终结果就是光强。这种物理现场被称为“干涉”。下图是光干涉图样。 每一束独立的散射光波到达检测器和入射激光波长有相位关系，这主要取决于悬浮液中颗粒的精确定位。所有的光波在PMT检测器的表面的狭缝中混合在一起，或者叫干涉在一起，最终在特定的角度可以检测得到“净”散射光强值，在DLS系统中，绝大部分都使用90度角。 小知识——光电倍增管（PMT) 光电倍增管（Photomultiplier，简称PMT），是一种对紫外光、可见光和近红外光极其敏感的特殊真空管。它能使进入的微弱光信号增强至原本的108倍，使光信号能被测量。光电倍增管示意图小知识——光电二极管（APD) 光电倍增管是由玻璃封装的真空装置，其内包含光电阴极 (photocathode)，几个二次发射极 (dynode)和一个阳极。入射光子撞击光电阴极，产生光电效应，产生的光电子被聚焦到二次发射极。其后的工作原理如同电子倍增管，电子被加速到二次发射极产生多个二次电子，通常每个二次发射极的电位差在 100 到 200 伏特。二次电子流像瀑布一般，经过一连串的二次发射极使得电子倍增到达阳极。一般光电倍增管的二次发射极是分离式的，而电子倍增管的二次发射极是连续式的。 应用 光电倍增管集高增益，低干扰，对高频信号有高灵敏度的优点，因此被广泛应用于高能物理、天文等领域的研究工作，与及流体流速计算、医学影像和连续镜头的剪辑。雪崩光电二极管（Avalanche photodiodes，简称APDs）为光电倍增管的替代品。然而，后者仍在大部份的应用情况下被采用。 动态光散射理论： 粒子的扩散效应 悬浮的粒子并不是静止不动的，相反，他们以布朗运动（Brownian motion)的方式无规则的运动，布朗运动主要是由于临近的溶剂分子冲撞而引起的。因此，到达PMT检测区的每一束散射光随时间也呈无规则波动，这是由于产生散射光的粒子的位置不同而导致的无规则波动。因为这些光互相干涉在一起，在检测器中检测到的光强值就会随时间而不断波动。粒子很小的位移需要在相位上产生很大的变化，进而产生有实际意义的波动，最终这些波动在净光强值上反应出来。 DLS测量粒径技术的关键物理概念是基于粒子的波动时间周期是随着粒子的粒径大小而变化的。为了简化这个概念，我们现在假定粒子是均一大小的，具有相同的扩散系数（diffusion coefficient)。分散体系中的小粒子运动的快，将会导致光强波动信号变化很快；而相反地，大粒子扩散地毕竟慢，导致了光强值的变化比较慢。 图示4使用相同的时间周期来观测不同大小（小，中，大）的粒子产生的散射光强变化,请注意，横坐标是时间t。 我们需要再次强调，光强的波动并不是因为检测区域内粒子的增减引起的 而是大量的粒子的位置变动（位移）而引起的。 Stokes Einstein Equation DLS技术的目标是从原始数据（raw data)中确定粒子的扩散系数“D”。原始数据主要是指光强信号的波动，比如上述图4中所示。通过扩散系数D我们可以很容易的计算出粒子的半径，这时候就是广为人知的Stokes-Einstein方程式：D=kT/6πηR （2）这里k 指的是玻尔兹曼常数1.38 x 10-16 erg K-1；T是绝对温度；η是分散溶剂的额剪切粘度，比如20℃的水的η=1.002×10-2 泊； 从上述公式2中我们可以看到，通常情况下，粒子的扩散系数D会随着温度T的上升而增加。温度进而也会影响溶剂粘度η。例如，纯水的粘度在25℃下会落到0.890×10-2泊，和20℃下相比会有10%的改变。毫无疑问，溶剂的粘度越小，粒子的无规则扩散速度会越大，从而导致光强的波动也越快。因此，温度T的变化和粒径的变化是完全分不开的，因为他们都影响到了扩散系数D。正因为这个原因，样本的温度必须保持恒定，而且必须非常精确，这样才能获得有实际意义的扩散系数D。 从图4的“噪声”信号中无法直接提取出扩散系数。但是可以清楚地看到，信号b比信号c波动地快，但是比信号a波动地慢，因为，信号b地粒径一定在a和c之间，这只是很直观地得到一个结论而已。然而，量化此种散射信号是一个很专业地课题。幸而，我们有数学方法来解决这个问题，这就是自相关函数（auto-correlation)。自相关函数原理 现在让我们设定散射光强的自相关函数为IS(t)，在上述图4中可以看到其随时间而波动。我们用C(t’)来标识自相关函数。C(t’)可以通过如下方程式3来表达：C(t’)= Is(t)*Is(t-t’) (3)括号 表示有很多个t和对应的Is值。也就是说，一次计算就是运行很多Is(t)*Is(t-t’) 的加和，所有都具有相同的间隔时间段t’。 图5是典型的Is(t)的波形图，通过这张图，我们可以认为C(t’)和Is(t)之间有简单的比例关系，这张图的意义在于通过C(t’)函数可以通过散射光强Is(t)的波动变化“萃取”出非常有用的信息。 自相关函数C(t’)其实是表征的不同大小的粒子随时间而衰变的规律。 点击下载工作原理仪器参数粒径检测范围0.3 nm - 10 μm分析方法动态光散射，Gaussian单峰算法和 Nicomp多峰算法pH值范围1-14温度范围0℃-90 ℃（±0.1℃控温精度，无冷凝）浓度40%w/v激光光源至少35mW激光光源检测角度多角度（10°- 175°，包含90°，步进0.7°）检测器APD-LDC(雪崩二极光电倍增管，可7-10倍增益放大)可用溶剂水相,绝大多数有机相样品池标准4 mL样品池（1cm×4cm，高透光，石英玻璃或塑料）1mL样品池（玻璃，高透光率微量样品池，微量进样10μL）分析软件必配科研级软件符合 21 CFR Part 11 规范分析软件（可选）验证文件有电压220 – 240 VAC，50Hz 或100 – 120 VAC，60Hz计算机配置要求Windows 7及以上版本windows操作系统，40Gb硬盘，1G内存，光驱，USB接口，串口（COM口）外形尺寸56 cm * 41 cm * 24cm辅助增益模块自动稀释模块自动进样器（选配）重量约26kg（与配置有关）配件大功率激光光源PSS使用一系列大功率激光二极管来满足更多更苛刻的要求。使用大功率激光照射，以便从小粒子出货的足够的入射光。15mW, 35mW, 50mW, 100mW — 波长为635nm 的红色二极管。20 mW 50 mW 和 100 mW 波长为 514.4nm的绿色二极管。雪崩光电二极管检测器（APD Detector）提供比普通光电倍增管(PMT)高7-10倍的灵敏度。自动稀释系统模块将初始浓度较高的样本自动稀释至可检测的的浓度，可稀释初始固含量为50%的原始样品，本模块收保护，其可免除人工稀释样品带来的外界环境的干扰和数据上的误差，此技术被用于批量进样和在线检测的过程中。多角度检测系统模块提供多角度的检测能力。使用高精度的步进电机和针孔光纤技术可对散射光的接收角度进行调整，可为微粒粒径分布提供可高分辨率的多角度检测。对高浓度样品（≤40%）以及大粒子多分散系的粒径提供了提供15至175度之间不同角度上散射光的采集和检测自动滴定模块（选配）样品的浓度及PH值是Zeta电位的重要参数，搭配瑞士万通的滴定仪进行检测，真正实现了自动滴定，自动调节PH值，自动检测Zeta电位值。免除外界的干扰和数据上的误差，精确分析出样品Zeta电位的趋势。样品池标准4 mL样品池（1cm×4cm，高透光，石英玻璃或塑料）；1mL样品池（玻璃，高透光率微量样品池，最小进样量10μL）。自动进样器（选配）批量自动进样器能实现60个连续样本的分析而无需操作人员的干预。因此它是一个非常好的质量控制工具，能增大样品的处理量。大大节省了宝贵的时间。应用领域 纳米载药纳米药物研究近些年主要着重在药物的传递方向并发展迅猛，纳米粒的大小可以有效减少毒性和副作用。所以，控制这些纳米粒的粒径大小是非常必要的。 磨料磨料既有天然的也有合成的，用于研磨、切削、钻孔、成形以及抛光。磨料是在力的作用下实现对硬度较低材料的磨削。磨料的质量取决于磨料的粗糙度和颗粒的均匀性。化学机械抛光液(CMP SLURRY)化学机械抛光是半导体制造加工过程中的重要步骤。化学机械抛光液是由腐蚀性的化学组分和磨料(通常是氧化铝、二氧化硅或氧化铈)两部分组成。抛光过程很大程度上取决于晶片表面构型。晶片的加工误差通常以埃计，对晶片质量至关重要。抛光液粒度越均匀、不聚集成胶则越有利于化学机械抛光加工过程的顺利进行。 陶瓷陶瓷在工业中的应用非常广泛，从砖瓦到生物医用材料及半导体领域。在生产加工过程中监测陶瓷颗粒的粒度及其粒度分布可以有效地控制产品的性能和质量。 粘土粘土是一种含水细小颗粒矿物质天然材料。粉砂与粘土类似，但粉沙的颗粒比粘土大。粘土中易于混杂粉砂从而降低粘土的等级和使用性能。ISO14688定义粘土的颗粒小于63μm。 涂料涂料种类繁多，用途广泛。涂料的颗粒大小及粒度分布直接影响涂料的质量和性能。污染物监测粒度检测分析在产品的污染监测方面起着重要作用，产品的污染对产品的质量影响巨大。绝大多数行业都有相应的标准、规程或规范，必须严格遵守和执行，以保证产品满足质量要求。化妆品无论是普通化妆品还是保湿剂、止汗剂，它们的性能都直接与粒度的大小和分布有关。化妆品的颗粒大小会影响其在皮肤表面的涂抹性能、分布均匀性能以及反光性能。保湿乳液(一种乳剂)的粒度小于200纳米时才能被皮肤良好吸收，而止汗剂的粒度只有足够大时才能阻塞毛孔起到止汗的作用。 乳剂乳剂是两种互不相溶的液体经乳化制成的非均匀分散体系，通常是水和油的混合物。乳剂有两种类型，一种是水分散在油中，另一种是油分散在水中。常见的乳剂制品有牛奶（水包油型）和黄油（油包水型），加工过程中它们均需均质化处理到所需的粒径大小以期延长保质期。 乳剂乳剂是两种互不相溶的液体经乳化制成的非均匀分散体系，通常是水和油的混合物。乳剂有两种类型，一种是水分散在油中，另一种是油分散在水中。常见的乳剂制品有牛奶（水包油型）和黄油（油包水型），加工过程中它们均需均质化处理到所需的粒径大小以期延长保质期。 食品食品的原料（粉末及液体）通常来源于不同的加工厂，不同来源的原料必须满足某些特定的标准以使制品的质量均一稳定。原料性质的任何波动都会对食品的口味和口感产生影响。用原料的粒度分布作为食品质量保证和质量控制（QA/QC）的一个指标可确保生产出质量均以稳定的食品制品。液体工作介质/油液体工作介质（如：油）越来越昂贵，延长液体介质的寿命是目前普遍关心的问题。机械设备运转过程中会产生金属屑或颗粒落入工作介质中（如：油浴润滑介质或液力传递介质），因此需要一种方法来确定介质（油）的更换周期。通过监测工作介质（油）中颗粒的分布和变化可以确定更换工作介质的周期以及延长其使用寿命。墨水随着打印机技术的不断发展，打印机用的墨水变得越来越重要。喷墨打印机墨水的粒度应当控制在一定的尺度以下，且分布均匀，大的颗粒易于堵塞打印头并影响打印质量。墨水是通过研磨方法制得的，可用粒度检测分析仪器设备监测其研磨加工过程，以保证墨水的颗粒粒度分布均匀，避免产生聚集的大颗粒。 胶束胶束是表面活性剂在溶液中的浓度超过某一临界值后，其分子或离子自动缔合而成的胶体尺度大小的聚集体质点微粒，这种胶体质点与离子之间处于平衡状态。乳液、色漆、制药粉体、颜料、聚合物、蛋白质大分、二氧化硅以及自组装TiO2纳米管(TNAs)等

Nicomp 3000 系列纳米激光粒度仪 专为复杂体系提供高精度粒度解析方案基本信息仪器型号：PSS Nicomp N3000 Plus工作原理：动态光散射（Dynamic Light Scattering, DLS）检测范围： 0.3nm-10.0μm Nicomp N3000系列纳米激光粒度仪是在原有的经典型号380DLS基础上升级配套而来，采用动态光散射（Dynamic Light Scattering, DLS）原理检测分析颗粒的粒度分布，粒径检测范围 0.3nm – 10μm。其配套粒度分析软件复合采用了高斯（ Gaussian）单峰算法和的 Nicomp 多峰算法，对于多组分、粒径分布不均匀分散体系的分析具有独特优势。技术优势1、APD（LDC）超高灵敏度检测器；2、多角度检测（multi angle）模块；3、可搭配不同功率光源；4、精确度高，接近样品真实值；5、快速检测，可以追溯历史数据；6、结果数据以多种形式和格式呈现；7、符合USP,CP等个多药典要求；8、无需校准；9、复合型算法：（1）高斯（Gaussion）单峰算法与Nicomp多峰算法自由切换10、模块化设计便于维护和升级；（1）可自动稀释模块；（2）搭配多角度检测器；（3）自动进样系统（选配）；Nicomp多峰分布概念 基线调整自动补偿功能和高分辨率多峰算法是Nicomp 3000系列仪器所独有的两个主要特点，Nicomp创始人Dave Nicole很早就认识到传统的动态光散射理论仅给出高斯模式的粒度分布，这和实践生产生活中不相符，因为现实中很多样本是多分散体系，非单分散体系，而且高斯分布灵敏性不足，分辨率不高，这些特点都制约了纳米粒度仪在实际生产生活中的使用。其开创性的开创了Nicomp多峰分布理论，大大提高了动态光散射理论的分辨率和灵敏性。图一：Nicomp多分分布数据呈现 如图一：此数据为Nicomp创始人Dave Nicole亲测其血液所得的真实案例。其检测项目为：高密度脂蛋白，低密度脂蛋白和超低密度脂蛋白，由图中可以看出，其血液中三个组分的平均粒径分别显示在7.0nm；29.3nm和217.5nm。由此可见，Nicomp分布模式可以有效反应多组分体系的粒径分布。Nicomp多峰分布优势 Nicomp系列仪器均可以自由在Gaussian分布模式和Nicomp多峰分布模式中切换。其不仅可以给出传统的DLS系统的结果，更可以通过Nicomp多峰分布模式体现样品的真实情况。依托于Nicomp系列仪器一系列优异的算法和高灵敏性的硬件设计，Nicomp纳米激光粒度仪可以有效区分1:2的多分散体系。图二：高斯分布及Nicomp多峰分布对比图 如图二：此数据为检测93nm和150nm的标粒按照1:2的比例混合后所测得的数据。左边为高斯分布（Gaussian）结果，右图为Nicomp多峰分布算法结果，两者都为光强径数据。从高斯分布可以得到此混合标粒的平均粒径为110nm-120nm之间，却无法得到实际的多组分体系结构。从右侧的Nicomp多峰分布可以得到结果为双峰，即如数据呈现，体系中的粒子主要分布于98.2nm以及190nm附近，这和实际情况相符。 为满足不同客户的实际检测需求，我司的Nicomp N3000会配备相应的配置，旨在为客户们在控制成本的基础上，得到需求的解决方案。产品优势模块化设计 Nicomp 3000纳米激光粒度仪是全球率先在应用动态光散射技术上的基础上加入多模块方法的先进粒度仪。随着模块的升级和增加，Nicomp 3000的功能体系越来越强大，可以用于各种复杂体系的检测分析。自动稀释模块 自动稀释模块消除了人工稀释高浓度样品带来的误差，且不需要人工不断试错来获得合适的测试浓度，这大大缩短了测试者宝贵时间，且无需培训，测试结果重现性好，误差率＜1%。3000/HPLD大功率激光器 美国PSS粒度仪公司在开发仪器的过程中，考虑到在各种极端实验测试条件中不同的需求，对不同使用条件和环境配置了不同功率的激光发生器。大功率的激光器可以对极小的粒子也能搜集到足够的散射信号，使得仪器能够得到极小粒子的粒径分布。同样，大功率激光器在测试大粒子的时候同样也很有帮助，比如在检测右旋糖酐大分子时，折射率的特性会引起光散射强度不足。 因为大功率激光器的特性，会弥补散射光强的不足和衰减，测试极其微小的微乳、表面活性剂胶束、蛋白质以及其他大分子不再是一个苛刻的难题。即使没有色谱分离，Nicomp 3000纳米粒径分析仪甚至也可以轻易估算出生物高分子的聚集程度。雪崩二极管 (APD-LDC)超高灵敏度检测器 Nicomp 3000纳米粒径分析仪可以装配各种大功率的激光发生器和军品级别的雪崩二极管检测器（相比较传统的光电倍增管有7-10倍放大增益效果）。 APD通常被用于散射发生不明显的体系里来增加信噪比和敏感度，如蛋白质、不溶性胶束、浓度极低的体系以及大分子基团，他们的颗粒的一般浓度为1mg/mL甚至更低，这些颗粒是由对光的散射不敏感的原子组成。APD外置了一个大功率激光发生器模块，在非常短的时间内就能检测分析纳米级颗粒的分布情况。3000/MA多角度检测器 粒径大于100 nm的颗粒在激光的照射下不会朝着各个方向散射。多角度检测角器通过调节检测角度来增加粒子对光的敏感性来测试某些特殊级别粒子。Nicomp 3000可以配备范围在10°-175，步长0.7°的多角度测角器，从而使得单一90°检测角测试不了的样品，通过调节角度进行检测，改善对大粒子多分散系粒径分析的精确度。工作原理目录结构： 1.前言 2.动态光散射原理 3.动态光散射理论：光的干涉 小知识：光电倍增管（PMT) 小知识：光电二极管（APD) 5.粒子的扩散效应 6.Stoke-Einstein方程式 7.自相关函数原理 前言 近十几年来，动态光散射技术（Dynamic Light scattering, DLS），也被称为准弹性光散射（quasi-elastic light scattering, QELS）或光子相关光谱法（photon correlation spectroscopy， PCS）,已经被证明是表征液体中分散体系的粒径分布（PSD）的极有用的分析工具。DLS技术的有效检测粒径范围——从5am（0.005微米）到10几个微米。DLS技术的优势相当明显，尤其是当检测到300nm以下亚微米的粒径范围时，在此区间，其他的技术手段大部分都已经失效或者无法得到准确的结果。因此，基于DLS理论的设备仪器被广泛采用用以表征特定体系的粒度分布，包括合成的高分子聚合物(如乳胶，PVCs等)，水包油和油包水的乳剂，囊泡，胶团，微粒，生物大分子，颜料，燃料，硅土，金属晶体，陶瓷和其他的胶体类混悬剂和分散体系。动态光散射原理 下图所示为DLS系统的简单的示意图。激光照射到盛有稀释的颗粒混悬液的玻璃试管中。此玻璃试管温度恒定，每一个粒子被入射光击发后向各个方向散射。散射光的光强值和粒径的分子量或体积（在特定浓度下）成比例关系，再带入其他影响参数比如折射率，这就是经典光散射（Classic light scattering)的理论基础。 图1：DLS系统示意图动态光散射方法（DLS）从传统的光散射理论中分离，不再关注于光散射的光强值，而关注于光强随着时间的波动行为。简单来说，我们在一定角度（一般使用90°角）检测分散溶剂中的混悬颗粒的总体散射光信息。由于粒度的扩散，光强值不断波动，理论上存在有非常理想化的波动时间周期，此波动时间和粒子的扩散速度呈反比例关系。我们通过光强值的波动自相关函数的计算来获得随时间变化的衰减指数曲线。从衰减时间常量τ，我们可以获得粒子的扩散速度D。使用Stokes-Einstein 方程式，我们最终可以计算得出颗粒的半径（假定其是一个圆球形状）。动态光散射理论：光的干涉 为了容易理解什么叫做强度随时间波动，我们必须先理解相干叠加（coherent addition）或线性叠加（superposition）的概念,进一步要知道检测区域内的不同的粒子产生了很多独立散射光，这些独立的散射光相干叠加或互相叠加的最终结果就是光强。这种物理现场被称为“干涉”。下图是光干涉图样。 每一束独立的散射光波到达检测器和入射激光波长有相位关系，这主要取决于悬浮液中颗粒的精确定位。所有的光波在PMT检测器的表面的狭缝中混合在一起，或者叫干涉在一起，最终在特定的角度可以检测得到“净”散射光强值，在DLS系统中，绝大部分都使用90度角。 小知识——光电倍增管（PMT) 光电倍增管（Photomultiplier，简称PMT），是一种对紫外光、可见光和近红外光极其敏感的特殊真空管。它能使进入的微弱光信号增强至原本的108倍，使光信号能被测量。光电倍增管示意图小知识——光电二极管（APD) 光电倍增管是由玻璃封装的真空装置，其内包含光电阴极 (photocathode)，几个二次发射极 (dynode)和一个阳极。入射光子撞击光电阴极，产生光电效应，产生的光电子被聚焦到二次发射极。其后的工作原理如同电子倍增管，电子被加速到二次发射极产生多个二次电子，通常每个二次发射极的电位差在 100 到 200 伏特。二次电子流像瀑布一般，经过一连串的二次发射极使得电子倍增，最后到达阳极。一般光电倍增管的二次发射极是分离式的，而电子倍增管的二次发射极是连续式的。 应用 光电倍增管集高增益，低干扰，对高频信号有高灵敏度的优点，因此被广泛应用于高能物理、天文等领域的研究工作，与及流体流速计算、医学影像和连续镜头的剪辑。雪崩光电二极管（Avalanche photodiodes，简称APDs）为光电倍增管的替代品。然而，后者仍在大部份的应用情况下被采用。 动态光散射理论： 粒子的扩散效应 悬浮的粒子并不是静止不动的，相反，他们以布朗运动（Brownian motion)的方式无规则的运动，布朗运动主要是由于临近的溶剂分子冲撞而引起的。因此，到达PMT检测区的每一束散射光随时间也呈无规则波动，这是由于产生散射光的粒子的位置不同而导致的无规则波动。因为这些光互相干涉在一起，在检测器中检测到的光强值就会随时间而不断波动。粒子很小的位移需要在相位上产生很大的变化，进而产生有实际意义的波动，最终这些波动在净光强值上反应出来。 DLS测量粒径技术的关键物理概念是基于粒子的波动时间周期是随着粒子的粒径大小而变化的。为了简化这个概念，我们现在假定粒子是均一大小的，具有相同的扩散系数（diffusion coefficient)。分散体系中的小粒子运动的快，将会导致光强波动信号变化很快；而相反地，大粒子扩散地毕竟慢，导致了光强值的变化比较慢。 图示4使用相同的时间周期来观测不同大小（小，中，大）的粒子产生的散射光强变化,请注意，横坐标是时间t。 我们需要再次强调，光强的波动并不是因为检测区域内粒子的增减引起的 而是大量的粒子的位置变动（位移）而引起的。 Stokes Einstein Equation DLS技术的目标是从原始数据（raw data)中确定粒子的扩散系数“D”。原始数据主要是指光强信号的波动，比如上述图4中所示。通过扩散系数D我们可以很容易的计算出粒子的半径，这时候就是广为人知的Stokes-Einstein方程式：D=kT/6πηR （2）这里k 指的是玻尔兹曼常数1.38 x 10-16 erg K-1；T是绝对温度；η是分散溶剂的额剪切粘度，比如20℃的水的η=1.002×10-2 泊； 从上述公式2中我们可以看到，通常情况下，粒子的扩散系数D会随着温度T的上升而增加。温度进而也会影响溶剂粘度η。例如，纯水的粘度在25℃下会落到0.890×10-2泊，和20℃下相比会有10%的改变。毫无疑问，溶剂的粘度越小，粒子的无规则扩散速度会越大，从而导致光强的波动也越快。因此，温度T的变化和粒径的变化是完全分不开的，因为他们都影响到了扩散系数D。正因为这个原因，样本的温度必须保持恒定，而且必须非常精确，这样才能获得有实际意义的扩散系数D。 从图4的“噪声”信号中无法直接提取出扩散系数。但是可以清楚地看到，信号b比信号c波动地快，但是比信号a波动地慢，因为，信号b地粒径一定在a和c之间，这只是很直观地得到一个结论而已。然而，量化此种散射信号是一个很专业地课题。幸而，我们有数学方法来解决这个问题，这就是自相关函数（auto-correlation)。自相关函数原理 现在让我们设定散射光强的自相关函数为IS(t)，在上述图4中可以看到其随时间而波动。我们用C(t’)来标识自相关函数。C(t’)可以通过如下方程式3来表达：C(t’)= Is(t)*Is(t-t’) (3)括号 表示有很多个t和对应的Is值。也就是说，一次计算就是运行很多Is(t)*Is(t-t’) 的加和，所有都具有相同的间隔时间段t’。 图5是典型的Is(t)的波形图，通过这张图，我们可以认为C(t’)和Is(t)之间有简单的比例关系，这张图的意义在于通过C(t’)函数可以通过散射光强Is(t)的波动变化“萃取”出非常有用的信息。 自相关函数C(t’)其实是表征的不同大小的粒子随时间而衰变的规律。 点击下载工作原理仪器参数粒径检测范围0.3 nm - 10 μm分析方法动态光散射，Gaussian单峰算法和 Nicomp多峰算法pH值范围1-14温度范围0℃-90 ℃（±0.1℃控温精度，无冷凝）浓度40%w/v激光光源至少35mW激光光源检测角度多角度（10°- 175°，包含90°，步进0.7°）检测器APD-LDC(雪崩二极光电倍增管，可7-10倍增益放大)可用溶剂水相,绝大多数有机相样品池标准4 mL样品池（1cm×4cm，高透光，石英玻璃或塑料）1mL样品池（玻璃，高透光率微量样品池，微量进样10μL）分析软件必配科研级软件符合 21 CFR Part 11 规范分析软件（可选）验证文件有电压220 – 240 VAC，50Hz 或100 – 120 VAC，60Hz计算机配置要求Windows 7及以上版本windows操作系统，40Gb硬盘，1G内存，光驱，USB接口，串口（COM口）外形尺寸56 cm * 41 cm * 24cm辅助增益模块自动稀释模块自动进样器（选配）重量约26kg（与配置有关）配件大功率激光光源PSS使用一系列大功率激光二极管来满足更多更苛刻的要求。使用大功率激光照射，以便从小粒子出货的足够的入射光。15mW, 35mW, 50mW, 100mW — 波长为635nm 的红色二极管。20 mW 50 mW 和 100 mW 波长为 514.4nm的绿色二极管。雪崩光电二极管检测器（APD Detector）提供比普通光电倍增管(PMT)高7-10倍的灵敏度。自动稀释系统模块将初始浓度较高的样本自动稀释至可检测的的浓度，可稀释初始固含量为50%的原始样品，本模块可免除人工稀释样品带来的外界环境的干扰和数据上的误差，此技术被用于批量进样和在线检测的过程中。多角度检测系统模块提供多角度的检测能力。使用高精度的步进电机和针孔光纤技术可对散射光的接收角度进行调整，可为微粒粒径分布提供可高分辨率的多角度检测。对高浓度样品（≤40%）以及大粒子多分散系的粒径提供了提供15至175度之间不同角度上散射光的采集和检测自动滴定模块（选配）样品的浓度及PH值是Zeta电位的重要参数，搭配瑞士万通的滴定仪进行检测，真正实现了自动滴定，自动调节PH值，自动检测Zeta电位值。免除外界的干扰和数据上的误差，精确分析出样品Zeta电位的趋势。样品池标准4 mL样品池（1cm×4cm，高透光，石英玻璃或塑料）；1mL样品池（玻璃，高透光率微量样品池，最小进样量10μL）。自动进样器（选配）批量自动进样器能实现60个连续样本的分析而无需操作人员的干预。因此它是一个非常好的质量控制工具，能增大样品的处理量。大大节省了宝贵的时间。应用领域 纳米载药纳米药物研究近些年主要着重在药物的传递方向并发展迅猛，纳米粒的大小可以有效减少毒性和副作用。所以，控制这些纳米粒的粒径大小是非常必要的。 磨料磨料既有天然的也有合成的，用于研磨、切削、钻孔、成形以及抛光。磨料是在力的作用下实现对硬度较低材料的磨削。磨料的质量取决于磨料的粗糙度和颗粒的均匀性。化学机械抛光液(CMP SLURRY)化学机械抛光是半导体制造加工过程中的重要步骤。化学机械抛光液是由腐蚀性的化学组分和磨料(通常是氧化铝、二氧化硅或氧化铈)两部分组成。抛光过程很大程度上取决于晶片表面构型。晶片的加工误差通常以埃计，对晶片质量至关重要。抛光液粒度越均匀、不聚集成胶则越有利于化学机械抛光加工过程的顺利进行。 陶瓷陶瓷在工业中的应用非常广泛，从砖瓦到生物医用材料及半导体领域。在生产加工过程中监测陶瓷颗粒的粒度及其粒度分布可以有效地控制产品的性能和质量。 粘土粘土是一种含水细小颗粒矿物质天然材料。粉砂与粘土类似，但粉沙的颗粒比粘土大。粘土中易于混杂粉砂从而降低粘土的等级和使用性能。ISO14688定义粘土的颗粒小于63μm。 涂料涂料种类繁多，用途广泛。涂料的颗粒大小及粒度分布直接影响涂料的质量和性能。污染物监测粒度检测分析在产品的污染监测方面起着重要作用，产品的污染对产品的质量影响巨大。绝大多数行业都有相应的标准、规程或规范，必须严格遵守和执行，以保证产品满足质量要求。化妆品无论是普通化妆品还是保湿剂、止汗剂，它们的性能都直接与粒度的大小和分布有关。化妆品的颗粒大小会影响其在皮肤表面的涂抹性能、分布均匀性能以及反光性能。保湿乳液(一种乳剂)的粒度小于200纳米时才能被皮肤良好吸收，而止汗剂的粒度只有足够大时才能阻塞毛孔起到止汗的作用。 乳剂乳剂是两种互不相溶的液体经乳化制成的非均匀分散体系，通常是水和油的混合物。乳剂有两种类型，一种是水分散在油中，另一种是油分散在水中。常见的乳剂制品有牛奶（水包油型）和黄油（油包水型），加工过程中它们均需均质化处理到所需的粒径大小以期延长保质期。 乳剂乳剂是两种互不相溶的液体经乳化制成的非均匀分散体系，通常是水和油的混合物。乳剂有两种类型，一种是水分散在油中，另一种是油分散在水中。常见的乳剂制品有牛奶（水包油型）和黄油（油包水型），加工过程中它们均需均质化处理到所需的粒径大小以期延长保质期。 食品食品的原料（粉末及液体）通常来源于不同的加工厂，不同来源的原料必须满足某些特定的标准以使制品的质量均一稳定。原料性质的任何波动都会对食品的口味和口感产生影响。用原料的粒度分布作为食品质量保证和质量控制（QA/QC）的一个指标可确保生产出质量均以稳定的食品制品。液体工作介质/油液体工作介质（如：油）越来越昂贵，延长液体介质的寿命是目前普遍关心的问题。机械设备运转过程中会产生金属屑或颗粒落入工作介质中（如：油浴润滑介质或液力传递介质），因此需要一种方法来确定介质（油）的更换周期。通过监测工作介质（油）中颗粒的分布和变化可以确定更换工作介质的周期以及延长其使用寿命。墨水随着打印机技术的不断发展，打印机用的墨水变得越来越重要。喷墨打印机墨水的粒度应当控制在一定的尺度以下，且分布均匀，大的颗粒易于堵塞打印头并影响打印质量。墨水是通过研磨方法制得的，可用粒度检测分析仪器设备监测其研磨加工过程，以保证墨水的颗粒粒度分布均匀，避免产生聚集的大颗粒。 胶束胶束是表面活性剂在溶液中的浓度超过某一临界值后，其分子或离子自动缔合而成的胶体尺度大小的聚集体质点微粒，这种胶体质点与离子之间处于平衡状态。乳液、色漆、制药粉体、颜料、聚合物、蛋白质大分、二氧化硅以及自组装TiO2纳米管(TNAs)等

仪器简介：M110Y微射流设备是一种气压型实验室用机型，其剪切力比现在市场上任何混和机或均质机都要高。其独特的设计能使得单位流体获得的能量最高，从而可以得到均匀的超细颗粒或液滴。 美国MFIC公司生产的Microfluidizer 系列高压微射流纳米分散设备(高压均质机)已被一些世界知名公司使用于研发、生产中，适用于乳液、分散液、悬浮液、脂质体、制剂、微胶囊、细胞破壁、降低药物粒径至纳米级等生物医药行业和化工行业。 M-110Y设备处理压力可在1,500&mdash 23,000psi范围内任意选择，加工产品范围广泛，从简单的乳液到固体含量高的悬浮液都可以。该机器操作简便，而且不需拆卸即可进行在线清洗和消毒。 适用于：细胞破壁、乳剂、悬浮液、脂质体、微胶囊等高压应用。技术参数：1. 处理压力3,000- 23,000psi 2. 最大流量为250-600 ml/min 3. 进料温度为 &ndash 25℃--75℃ 4. 最小样品量为14ml 5. 压缩空气要求：在120psi压力下压缩空气流量为57 scfm , 15 hp (11Kw) 6. 机器尺寸: 28*41*76cm 7. 重量：25 Kg主要特点：1.耐磨性能极佳的交互容腔（金刚石或陶瓷材质），处理后的样品粒径在100纳米以下，且分布均匀，体系稳定。 2.高效率细胞破壁（一次就能达到95％以上的破壁效果，并且细胞内的混合物不受污染和破坏） 3.实验结果能完美地线性放大到工业化生产 4.接触物料的金属表面部件均采用300系列不锈钢（活塞是镀铬的） 5.17英尺长冷却管（容积13ml） 6.可在线清洗，维护简便 7.防爆型、便携式

仪器简介：M110Y微射流设备是一种气压型实验室用机型，其剪切力比现在市场上任何混和机或均质机都要高。其独特的设计能使得单位流体获得的能量最高，从而可以得到均匀的超细颗粒或液滴。 美国MFIC公司生产的Microfluidizer 系列高压微射流纳米分散设备(高压均质机)已被一些世界知名公司使用于研发、生产中，适用于乳液、分散液、悬浮液、脂质体、制剂、微胶囊、细胞破壁、降低药物粒径至纳米级等生物医药行业和化工行业。 M-110Y设备处理压力可在1,500—23,000psi范围内任意选择，加工产品范围广泛，从简单的乳液到固体含量高的悬浮液都可以。该机器操作简便，而且不需拆卸即可进行在线清洗和消毒。 适用于：细胞破壁、乳剂、悬浮液、脂质体、微胶囊等高压应用。技术参数：1. 处理压力3,000- 23,000psi 2. 最大流量为250-600 ml/min 3. 进料温度为 –25℃--75℃ 4. 最小样品量为14ml 5. 压缩空气要求：在120psi压力下压缩空气流量为57 scfm , 15 hp (11Kw) 6. 机器尺寸: 28*41*76cm 7. 重量：25 Kg主要特点：1.耐磨性能极佳的交互容腔（金刚石或陶瓷材质），处理后的样品粒径在100纳米以下，且分布均匀，体系稳定。 2.高效率细胞破壁（一次就能达到95％以上的破壁效果，并且细胞内的混合物不受污染和破坏） 3.实验结果能完美地线性放大到工业化生产 4.接触物料的金属表面部件均采用300系列不锈钢（活塞是镀铬的） 5.17英尺长冷却管（容积13ml） 6.可在线清洗，维护简便 7.防爆型、便携式

仪器简介：纳米压印的技术与工艺特点，独创性地设计和制备工作于低真空环境下，结合正负压可控调节并利用压缩空气作为压印驱动力的，通过压力传导装置、缓冲与匀压、压力调节控制装置等手段实现平稳可靠可控的压印过程，借助于多种灵活的自动调节装置的巧妙设计与运用，实现压印中的自动找平调控，以保证模板纳米图案均匀精确的大面积复制转移。技术参数：YPL-NIL-SI400纳米压印系统： 温度范围从室温到350摄氏度； 压力范围从0到20个PSI（在4英寸晶元上）； 紫外曝光系统； 真空范围从1个标准大气压到0.1帕； 水冷系统； 样品尺寸直径最大4英寸； PLC远程控制，带触摸屏； 手动装载样品和模板； 自带机器控制软件； 在软件控制下可实现自动增加和释放压力； 可定制更大样品尺寸或更大压力系统的纳米压印机。 YPL-NIL-SI400 NANOIMPRINT SYSTEM *Thermal ImprinterTemperature range of R.T. to 350℃ Pressure range of 0 to 20 atm *UV exposure system *Vacuum range of 1atm to 10-1 Pa * Sealed Bellows *Wafer/Mask Holders: maximum 4 inch dia. Samples: Smart Sample Holder for irregular shaped samples and piece parts. *Control electronics *PLC control and Touch Screen *Manual loading and unloading of wafers and masks *Proprietary Machine Control Software Including (A) SI400 nanoimprint system (B) training, Warranty, other, and (C) Options主要特点：该纳米压印机利用紫外曝光或者热压固化实现压印图案在压印高分子胶层中的复制，并通过各项功能与过程参量的优化与筛选，通过远程PLC控制系统结合触摸屏单元，实现纳米压印全过程的实时监控与全自动化控制。