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纳米天线

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纳米天线相关的仪器

  • 2015年Anasys发布了最新一代产品nanoIR2-s,在广受欢迎的第二代纳米红外光谱系统的基础上增加了散射近场光学成像和光谱功能(s-SNOM)。实现了同一平台兼具AFM-IR和s-SNOM两种技术。仪器的空间分辨率达到10nm,广泛用于各种聚合物、有机无机复合材料、生物样本、半导体、等离子体、纳米天线等。纳米红外&散射近场光学成像和光谱系统(nanoIR2-s)AFM-IR &s-SNOM l AFM-IR 消除分析化学研究人员的担忧--与FTIR光谱完全吻合,没有吸收峰的任何偏移l s-SNOM使用金属镀层AFM探针代替传统光纤探针来增强和散射样品纳米区域内的光辐射,空间分辨率由AFM针尖的曲率半径决定l 专利技术实现智能的光路优化调整,无需担心光路偏差拖延你的实验进度l 最准确的定性微区化学表征,得到美国国家标准局NIST, 橡树岭国家实验室等美国权威机构的认可l 简单易用的操作,被三十多位企业用户和近百位学术界所选择l 基于DI传承的多功能AFM实现纳米热学,力学,电学和磁学测量:l 纳米热分析模块(nanoTA, SThM)l 洛仑兹接触共振模块(LCR)l 导电原子力显微镜镜(CAFM)l 开尔文电势显微镜(KPFM)l 磁力显微镜(MFM)l 静电力显微镜(EFM)10纳米空间分辨率化学成像和光谱石墨烯等离子体 高分辨率成像 石墨烯表面等离子体的近场相位和振幅成像;优于10nm的光学成像PTFE的nano FTIR光谱显示相干分子振动时域图(上图),和相应的近场光谱(下左图)。pNTP分子层的近场光谱(图下右)。
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  • 纳米操作机、纳米机械手、纳米操纵机械臂、纳米操纵仪TNI LF-2000产品简介 TNI LF-2000是目前市面上基于SEM电镜下使用的自动化程度最 高的纳米操作系统,也是一种能够在SEM电镜下提供可重复 定位、低漂移、闭环运动控制定位的纳米操作系统。 产品特性 完全兼容主流电镜,不影响电镜功能 市面上较佳的运动定位性能:大行程、亚纳米分辨率 位移传感器集成自动化和可编程运动 SEM真空环境优化设计,可快速安装与拆卸规格参数应用案例电学特性LifeForce为纳米材料提供可靠、低噪音的电测量,以及与纳米结构的原位相互连接。图片展示的是四探针测量纳米线电学性能。力学测量LifeForce为纳米材料的力学特性提供高分辨率的力和位移反馈,图片展示的是用球端AFM悬臂探针对单根纳米线的拉伸测试。拾取和放置操作使用末端工具(例如:探针、微纳米夹持器、超声切割针),操作者能够操作LifeForce纳米操作手在SEM电镜内对微纳米物体进行推、拉和抓取等操作。制作微纳米器件精密的操作手运动能够实现微纳米器件的快速成型和后处理。图片展示的是纳米线FET传感器的构造。
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  • 纳米操作机、纳米机械手、纳米操纵机械臂、纳米操纵仪TNI LF-2000产品简介TNI LF-2000是兼容SEM/FIB的自动化纳米操作系统,也是能够在SEM/FIB下提供可重复定位、低漂移、闭环运动控制定位的纳米操作系统。产品特性 兼容主流电镜,不影响电镜功能 具有大行程、亚纳米分辨率运动定位性能 位移传感器集成自动化和可编程运动 SEM真空环境优化设计,可快速安装与拆卸规格参数系统概况系统尺寸127x127x33mm3*机械手数量1-4操作手(宏动)驱动原理粘滑驱动运动范围XY轴:10mm Z轴:5mm速度3mm/s最小步长100nm操作手(微动)驱动原理无摩擦柔性铰链运动范围XYZ轴:20μm速度45μm/s开环运动分辨率0.5nm闭环运动分辨率1nm定位漂移率0.35nm/min软件功能**点击-移动鼠标在电脑屏幕上从A移动到B自适应放大倍数定位器移动速度根据SEM放大自动调整操作手位置保存/加载用户自定义的“保存/加载”操作手坐标3D虚拟显示实时三维显示操作手的位置和运动自动校准操作手闭环传感器自动校准运动轴的自动对准所有操作手运动轴自动对准SEM图像轴*系统尺寸可根据需要减小到50x50x17mm3**可根据选定SEM/FIB的型号而定应用案例电学特性LifeForce为纳米材料提供可靠、低噪音的电测量,以及与纳米结构的原位相互连接。实例照片展示的是四探针测量纳米线电学性能。力学测量LifeForce为纳米材料的力学特性提供高分辨率的力和位移反馈,实例照片展示的是用球端AFM悬臂探针对硅纳米线簇进行纳米压痕,以及对单根纳米线的拉伸测试。拾取和放置操作使用末端工具(例如:探针、微纳米夹持器、超声切割针),操作者能够操作LifeForce纳米操作手在SEM电镜内对微纳米物体进行推、拉和抓取等操作。制作微纳米器件精密的操作手运动能够实现微纳米器件的快速成型和后处理。实例照片展示的是纳米线FET传感器的构造。纳米电子器件电学测量LifeForce纳米操作机是市面上能够自动探测电子结构(范围从亚微米,亚100nm及亚20nm)。只需要通过计算机点击鼠标,将探针定位到目标位置。极低得定位漂移,保证数据采集得可靠性。 主要软件功能① 位置反馈:提供每个操作手XYZ精确得位置反馈,1纳米运动定位分辨率。② 保存/加载坐标:保存和加载多个操作手得坐标。③ 自动校准:限度地提高定位性能,并将操作手运动轴对准扫描电子显微镜图像轴。④ 3D虚拟显示:实时3D虚拟空间显示操作手(粉红色方块)和样品(绿色平面)得位置。⑤ 点击-移动:通过在屏幕上鼠标点击控制操作手运动。⑥ 多操作手联动:连接多个操作手得运动,具有纳米级精度。⑦ 图片-视频录制:保存操作过程中的高清图片和视频。
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  • EVG系列纳米压印设备之紫外纳米压印:600 一、 简介 EVG公司成立于1980年,公司总部和制造厂位于奥地利,在美国、日本和台湾设有分公司,并在其他各地设有销售代理及售后服务部,产品和服务遍及世界各地。EVG公司是一家致力于半导体制造设备的全球供应商,其丰富的产品系列包括:涂胶和喷胶/显影机/热板/冷板、掩模版光刻/键合对准系统、基片热压键合/低温等离子键合系统、基片清洗机、基片检测系统、SOI 基片键合系统、基片临时键合/分离系统、纳米压印系统。目前已有数千台设备安装在世界各地,被广泛地应用于MEMS微机电系统/微流体器件,SOI基片制造,3D封装,纳米压印,化合物半导体器件和功率器件等ling 域。EVG是世界上为数不多的可以商业化纳米压印设备的著ming公司,可为客户提供完整的纳米压印方案,包括热压印、紫外压印、微接触印刷。EVG公司以其专利的极其优异的对准技术和世界ling 先的热压技术为纳米压印的成功实施打下了坚实的基础。EVG620紫外纳米压印用于从印章到衬底的紫外图形转移。EVG620自动纳米压印系统允许衬底和印章的尺寸从很小的芯片到150mm直径的圆片范围。用于纳米技术应用的配置包括印章机械释放、程序控制高或低的接触压力。EVG独有的吸盘设计支持软印章和硬印章压印,可以保证大面积纳米压印的均匀压力,从而保证获得很高的良率。 二、应用范围纳米压印技术主要应用于如下方面:LEDS 制作,LED PSS纳米压印工艺,LED纳米透镜阵列;微流体学;芯片实验室;抗反射层; 纳米压印光栅; 莲花效应;光子带隙;光学及通讯:光晶体,激光器件;生物技术解决方案:医药分析,血液分析,细胞生长。三、主要特点u 适用于紫外纳米压印和微接触印刷;u 紫外光曝光;u 配备专用的紫外纳米压印工具;u 适于软或硬印章压印;u 适用衬底:Si,玻璃,化合物半导体; 四、技术参数亚科电子设备咨询电话:(微信同号);欢迎您的来电咨询!
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  • 纳米颗粒制备仪 桌面式喷雾燃烧合成纳米颗粒材料火焰喷雾热解(FSP)是一种多功能经济高效的纳米颗粒生产工艺。它依赖于含金属或过渡金属化合物的液体原料在高达3000度的温度燃烧。产品纳米颗粒在几毫秒内形成在过滤器上以干粉的形式收集。 火焰喷雾热解工艺受益于极短的工艺链使复杂纳米颗粒的生产只需一步。纳米粉末生产FSP通常生产高结晶氧化纳米颗粒。但合成了磷酸盐、纯金属。根据工艺条件。颗粒的典型尺寸范围 5 ~ 50nm。这些初级粒子形成较大的团聚体。 纳米产品的例子包括简单的金属氧化物TiO2Al2O3 ZrO2以及YSZ CGO 钙 矿或尖晶石复杂氧化物。此外:贵金属纳米颗粒可以制造沉积在火焰中的氧化物支持颗粒上于某些组合物。可以制备表面包覆或基质化的纳米颗粒。 FSP纳米颗粒的应用包括:催化剂电池材料陶瓷牙科 生物医学材料体传感器聚合物纳米复合材料陶瓷.... 原材料FSP的源材料是低成本的金属化合物酸盐、硝酸盐或有机金属。这些所谓的前体是混合或溶解在标准有机溶剂。同心甲氧支持火焰、燃前驱溶剂喷雾,并确保稳定燃烧还可以使用可选的护套体。 NPS-20是一种用于纳米颗粒合成的全集成化桌面式火焰喷雾热解装置。应用于研究早期产品开发阶段。NPS-20设计用于快速筛选FSP合成中可用的材料组成 工艺条件的大量参数加速纳米材料的科学发展。主要特点:实验室规格火焰喷雾反应器低脉动注射可精确输送液体前体用于输送工艺前体的质量流量控制器:火焰检测器集成微处理器、电子板。用于过程控制,通信通过rs232玻璃纤维过滤器:干式旋式真空。用于产品粉末的收集压力及温度计以监察过滤器的状态。
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  • 纳米颗粒制备 我司提供专业的纳米颗粒制备仪,可以满足用户不同需求的应用。100克至几批的纳米颗粒批次每年可以用ParteQ的FSP生产系统。这些单元可以连续运行,允许甚至可以生产24/7纳米粉。此外,通过ParteQ获得的结果。实验室规模的系统可以转移到更大的生产单位。例如,纳米材料用ParteQ NPS-20台式机开发系统或类似的实验室反应堆可以是用我们的公斤数量制造连续的FSP工厂。 ParteQ提供三条不同尺寸的线用于纳米粒子生产:建议将S系列用于几百克M系列是最适用于500 g至50 kg的数量。L系列针对想要的客户连续生产纳米粒子每小时几公斤,目标是超过50公斤每年最多。 ParteQ S系列,M系列和L系列为一站式服务包含用于前体和模块的系统气体输送,纳米颗粒生成和产品集合。各个模块可以为顾客量身定制。 S系列:50克/小时S系列基于实验室规模的Flame喷雾热解反应器也是NPS-20台式系统。而NPS-20旨在产品开发,提供每批次纳米克量的S系列可以制造几百克相同的纳米材料。例如,当连续生产约50克/小时,可以将300克纳米颗粒。在一天之内轻松获得。ParteQ FSP S系列:连续纳米粉。实验室规模的合成。最适合生产纳米颗粒的批量可达?500 g。 S系列是完全封闭的独立式系统。移动钻机基于铝大型检修门的型材。所有FSP必需的组件已集成进入钻机:火焰喷雾热解反应器流量控制器,前驱泵,颗粒集尘袋式过滤器,离心风机以及入口和出口安全过滤器。 M系列:500克/小时,如果千克数量的纳米颗粒是需要,中型M系列是系统选择。生产能力从约100克/小时,可达2千克/小时,取决于产品材料和操作条件。该系统由PLC,甚至允许使用24/7纳米粉生产。 实际上,M系列已经是一个很小的过程固定的脚印的工厂大约4 m x 6 m。房间高度应在至少5 m。 L系列:5,000克/小时L系列是真正的纳米粉产品,可以连续运行的工厂,每周7天24小时。操作范围开始大约每小时1公斤,可能会超过5公斤/小时,取决于产品材料和条件。 L系列的设计类似于较小的M系列,但使用的组件更大的尺寸。例如,搅拌250或500 L建议使用前驱箱涵盖一天的原料供应。喜欢M系列,该系统是全自动的并由PLC控制。与M系列一样,所有L系列工厂为客户量身定做。
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  • 科研用CNI v3.0是一种非常灵活的纳米压印机。它可提供加热型纳米压印、UV紫外纳米压印以及真空纳米压印。模块化系统可根据特定需求轻松配置,体积小,容易存放,最大可处理210mm(8英寸)圆形的任何尺寸印章和基材。该系统是手动装卸印章和模板,但所有处理器都是全自动的,专用软件用户可以完全控制压印过程。 纳米压印机特色:&bull 体积小巧,容易存放,桌面型;&bull 轻微复制微米和纳米级结构;&bull 热压印温度高达200℃;&bull 可选的高温模块,适用于250℃;&bull UV纳米压印,365nm曝光;&bull 可选的UV模块,适用于405nm曝光;&bull 真空纳米压印(腔室可抽真空至0.1mbar);&bull 纳米压印压力高达11bar;&bull 温度分布均匀、读数精准;&bull 笔记本电脑全自动控制,工艺配方编辑简单,完全灵活控制,自动记录数据;&bull 直径最大210mm(圆形)腔室;&bull 腔室高度为20mm;&bull 即插即用&bull 使用简单直观&bull 专为研发而设计&bull 提供安装和操作教程视频
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  • 科研用polypico UniA6是一种非常灵活的纳米压印机。它可提供加热型纳米压印、UV紫外纳米压印以及真空纳米压印。模块化系统可根据特定需求轻松配置,体积小,容易存放,最大可处理210mm(8英寸)圆形的任何尺寸印章和基材。该系统是手动装卸印章和模板,但所有处理器都是全自动的,专用软件用户可以完全控制压印过程。 纳米压印机特色:&bull 体积小巧,容易存放,桌面型;&bull 轻微复制微米和纳米级结构;&bull 热压印温度高达200℃;&bull 可选的高温模块,适用于250℃;&bull UV纳米压印,365nm曝光;&bull 可选的UV模块,适用于405nm曝光;&bull 真空纳米压印(腔室可抽真空至0.1mbar);&bull 纳米压印压力高达11bar;&bull 温度分布均匀、读数精准;&bull 笔记本电脑全自动控制,工艺配方编辑简单,完全灵活控制,自动记录数据;&bull 直径最大210mm(圆形)腔室;&bull 腔室高度为20mm;&bull 即插即用&bull 使用简单直观&bull 专为研发而设计&bull 提供安装和操作教程视频
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  • 产品描述iNano采用InForce 50驱动器进行纳米压痕和通用纳米机械测试。 InForce 50的50mN力荷载和50μm位移范围使得该系统适合各种测试。 InView软件是一个灵活的现代软件包,可以轻松进行纳米级测试。 iNano是内置高速InQuest控制器和隔振门架的紧凑平台。 该系统可以测试金属、陶瓷、复合材料、薄膜、涂层、聚合物、生物材料和凝胶等各种不同的材料和器件。主要功能InForce 50驱动器,用于电容位移测量,并配有电磁启动的可互换探头独特的软件集成探头校准系统,可实现快速准确的探头校准InQuest高速控制器电子设备,具有100kHz数据采集速率和20μs时间常数XY移动系统以及易于安装的磁性样品架带数字变焦的集成显微镜,可实现精确的压痕定位ISO 14577和标准化测试方法InView软件包,包含RunTest、ReviewData、InFocus报告、InView大学在线培训和InView移动应用程序主要应用硬度和模量测量(Oliver Pharr)高速材料性质分布ISO 14577硬度测试聚合物tan delta,储存和损耗模量样品加热工业应用大学、研究实验室和研究所半导体和封装行业聚合物和塑料MEMS(微机电系统)/纳米级通用测试陶瓷和玻璃金属和合金制药涂料和油漆聚合物制造复合材料电池和储能应用硬度和模量测量 (Oliver-Pharr)机械表征在薄膜的加工和制造中至关重要,其中包括汽车工业中的涂层质量,以及半导体制造前段和后段的工艺控制。iNano纳米压痕仪能够测量从超软凝胶到硬涂层的各种材料的硬度和模量。 对这些特性的高速评估保证了在生产线上进行质量控制。高速材料性质分布对于包括复合材料在内的许多材料,其机械性能可能因部位而异。 iNano的样品平台可以在X轴和Y轴上移动100mm,并在Z轴方向移动25mm,这使得该系统适用于不同的样品高度并可以在很大的样品区域上进行测量。 可选的NanoBlitz形貌和层析成像软件可以快速绘制任何测得的机械属性的彩色分布图。ISO 14577硬度测试iNano纳米压痕仪包括预先编写的ISO 14577测试方法,可测量符合ISO 14577标准的材料硬度。 该测试方法对杨氏模量、仪器硬度、维氏硬度和标准化压痕进行自动测量和报告。聚合物Tan Delta、储存和损失模量iNano纳米压痕仪能够针对包括粘弹性聚合物的超软材料测量tan delta和储存与损耗模量。 储存与损耗模量以及tan delta是粘弹性聚合物的重要特性,其能量作为弹性能量存储并作为热量消耗。 这两个指标都用于测量给定材料的能量消耗。高温纳米压痕测试高温下的纳米压痕对于表征热应力下的材料性能至关重要,特别对热机械工艺中的失效机理进行量化。 在机械测试期间改变样品温度不仅能够测量热引起的行为变化,还能够量化在纳米级别上不易测试的材料过渡塑性。产品优势iNano纳米压痕仪可轻松测量薄膜、涂层和少量材料。 该仪器准确、灵活,并且用户友好,可以提供压痕、硬度、划痕和通用纳米级测试等多种纳米级机械测试。 该仪器的力荷载和位移测量动态范围很大,因而可以实现从软聚合物到金属材料的精确和可重复测试。 模块化选项适用于各种应用:材料性质分布、特定频率测试、刮擦和磨损以及高温测试。 iNano提供了一整套测试扩展选项,包括样品加热、连续刚度测量、NanoBlitz3D/4D属性映射和远程视频选项。
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  • 美国KLA InSEM HT原位高温纳米力学测试系统,纳米压痕仪
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  • 产品信息Micro Materials 产品纳米力学综合性能测试系统NanoTest Xtreme可以实现真空环境下的纳米力学测试! 为了更加准确、可靠地预测材料的性质,研究学者们对测试条件模拟真实环境程度的要求越来越高。Micro Materials 公司的NanoTest Vantage 产品可以提供最全面的纳米力学测试功能。现在Micro Materials 公司的最新产品NanoTest Xtreme 可以实现真空环境下-40℃至1000℃这一温度范围内的纳米级力学测试, 并且没有氧化和结霜的影响。自1988年以来,我们一直处于纳米力学创新的前沿: ► 第一个商用高温纳米压痕平台 ► 第一台商用纳米冲击测试仪器 ► 第一个商用液体池 ► 第一台用于高真空、高温纳米力学的商用仪器更适合以下极端环境条件的研究:1、 航空发动机部件的高温 2、 用于高速加工的工具涂层 3、 电站蒸汽管的高温4、核反应堆覆层中的辐射效应 5、低温对油气管道焊缝修复的影响 NanoTest Xtreme 特点:a、500 mN加载头在真空下最高测试温度:1000°Cb、30 N加载头在真空下的最高测试温度:800°C c、真空下的最低测试温度:-40°C d、极限真空度:10-7 mbar e、与真空下所有标准纳米测试技术兼容(纳米压痕、纳米划痕、纳米磨损、纳米冲击、纳米微动) f、可选配第二个加载头,最大负载从500mN增加到30 N g、填充功能可在非空气环境中进行测试 h、高分辨率光学显微镜 i、可选配在整个温度范围内均可使用的SPM 成像/纳米定位平台 NanoTest Xtreme 优点:1、 将高温能力扩展到1000°C,超出NanoTest Vantage提供的850°C 2、 将低温能力提高至-40°C,且无样品结霜 3、超低的热漂移归因于与NanoTestVantage相同的仪器设计原理 4、 完整的纳米力学测试(例如压痕、划痕、磨损、摩擦、冲击) 5、能够填充气体以匹配材料操作环境参数指标1、加载框架 高度抛光的铝,用于快速脱气 加载应用:电磁 标准压头最大负载 500 mN 最大负载,可选高负载头 30 N 位移传感器 :电容式 负载分辩率 3 nN 位移分辨率 0.002 nm 重新定位精度 0.4 µ m 样品处理 :手动控制,网格压痕,特定位置选择,多个同时安装的样本 热漂移 0.005 nm/s 符合标准 :符合ISO 14577和ASTM 2546标准 2、高温平台 最高温度 1000 º C 压头尖端加热 :是 可测试样本区 16 mm x 16 mm 温度控制 :反馈和恒定功率 温度精度 0.1 º C 3、低温平台 最低温度 -40 º C 4、SPM纳米定位平台 扫描范围 100 µ m x 100 µ m X Y定位精度 2 nm 5、真空 工作模式 :真空或气体吹扫 真空度 :极限10-7 (标准10-6 )mbar 6、选件 纳米划痕,纳米磨损,纳米冲击,动态硬度 应用NanoTest&trade Xtreme可以广泛应用于:航空航天、汽车工业、半导体、生物医学、MEMS、高分子、薄膜和涂层,以及太阳能/燃料电池等。
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  • 纳米颗粒制备仪 大型实验室喷雾燃烧合成纳米颗粒材料火焰喷雾热解(FSP)是一种多功能经济高效的纳米颗粒生产工艺。它依赖于含金属或过渡金属化合物的液体原料在高达3000度的温度燃烧。产品纳米颗粒在几毫秒内形成在过滤器上以干粉的形式收集。 火焰喷雾热解工艺受益于极短的工艺链使复杂纳米颗粒的生产只需一步。纳米粉末生产FSP通常生产高结晶氧化纳米颗粒。但合成了磷酸盐、纯金属。根据工艺条件。颗粒的典型尺寸范围 5 ~ 50nm。这些初级粒子形成较大的团聚体。 纳米产品的例子包括简单的金属氧化物TiO2Al2O3 ZrO2以及YSZ CGO 钙 矿或尖晶石复杂氧化物。此外:贵金属纳米颗粒可以制造沉积在火焰中的氧化物支持颗粒上于某些组合物。可以制备表面包覆或基质化的纳米颗粒。 FSP纳米颗粒的应用包括:催化剂电池材料陶瓷牙科 生物医学材料体传感器聚合物纳米复合材料陶瓷.... 原材料FSP的源材料是低成本的金属化合物酸盐、硝酸盐或有机金属。这些所谓的前体是混合或溶解在标准有机溶剂。同心甲氧支持火焰、燃前驱溶剂喷雾,并确保稳定燃烧还可以使用可选的护套体。 NPS-M是一种用于纳米颗粒合成的全集成化桌面式火焰喷雾热解装置。应用于研究早期产品开发阶段。NPS-M设计用于快速筛选FSP合成中可用的材料组成 工艺条件的大量参数加速纳米材料的科学发展。主要特点:实验室规格火焰喷雾反应器低脉动注射可精确输送液体前体用于输送工艺前体的质量流量控制器:火焰检测器集成微处理器、电子板。用于过程控制,通信通过rs232玻璃纤维过滤器:干式旋式真空。用于产品粉末的收集压力及温度计以监察过滤器的状态。
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  • 金属纳米颗粒制备 金纳米材料具有众多易于调控的特性,比如局域表面等离子共振、表面增强拉曼、光致发光、易于表面修饰和生物相容性好。这使得金纳米材料广泛应用于我们生活的多个方面。合成金纳米颗粒常用的制备方法有很多,其中,直接FSP火焰喷雾燃烧法生长法应用广泛。金属纳米颗粒制备采用火焰喷雾热解工艺,受益于极短的工艺链使复杂纳米颗粒的生产只需一步。纳米粉末生产FSP通常生产高结晶氧化纳米颗粒。但合成了磷酸盐、纯金属。根据工艺条件。颗粒的典型尺寸范围 5 ~ 50nm。这些初级粒子形成较大的团聚体。 纳米产品的例子包括简单的金属氧化物TiO2Al2O3 ZrO2以及YSZ CGO 钙 矿或尖晶石复杂氧化物。此外:贵金属纳米颗粒可以制造沉积在火焰中的氧化物支持颗粒上于某些组合物。可以制备表面包覆或基质化的纳米颗粒。 FSP纳米颗粒的应用包括:催化剂电池材料陶瓷牙科 生物医学材料体传感器聚合物纳米复合材料陶瓷.... 原材料FSP的源材料是低成本的金属化合物酸盐、硝酸盐或有机金属。这些所谓的前体是混合或溶解在标准有机溶剂。同心甲氧支持火焰、燃前驱溶剂喷雾,并确保稳定燃烧还可以使用可选的护套体。 NPS-20是一种用于纳米颗粒合成的全集成化桌面式火焰喷雾热解装置。应用于研究早期产品开发阶段。NPS-20设计用于快速筛选FSP合成中可用的材料组成 工艺条件的大量参数加速纳米材料的科学发展。纳米颗粒制备仪主要特点:1产品纯度高,粒径小,分布均匀,比表面积大,高表面活性,松装密度低,气相法制备,克服了市场上湿化学法制备的颗粒硬团聚、难分散、纯度低等缺点;2表面存在大量的不饱和残键及不同键合状态的羟基,因表面欠氧而偏离了稳定的硅氧结构,所以具有高反应活性,粉体松装密度比较小,容易分散使用;3纳米颗粒晶相稳定、硬度高、尺寸稳定性好,可应用于各种塑料、橡胶、陶瓷产品的补强增韧,特别是提高陶瓷的致密性、光洁度、冷热疲劳性、断裂韧性、抗蠕变性能和高分子材料产品的耐磨性能尤为。由于颗粒也是性能优异的远红外发射材料,作为远红外发射和保温材料被应用于化纤产品和高压钠灯中。4公司可以进行针对性的表面处理包裹,使得纳米粉体可以稳定地分散在溶剂体系中,形成透明状或半透明状溶胶,应用在涂料、玻璃表面、电子封装等
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  • 产品描述iMicro采用InForce 1000驱动器进行纳米压痕和通用纳米机械测试,并可选择添加InForce 50驱动器来测试较软的材料。InView软件是一个灵活的现代软件包,可以轻松进行纳米级测试。iMicro是内置高速InQuest控制器和隔振门架的紧凑平台。 可以测试金属、陶瓷、复合材料、薄膜、涂层、聚合物、生物材料和凝胶等各种不同的材料和器件。主要功能InForce 1000驱动器,用于电容位移测量,并配有电磁启动的可互换探头可选的InForce 50驱动器提供最 大50mN的法向力来测量软性材料,并提供可选的Gemini 2D力荷载传感器用于双轴动态测量。独特的软件集成探头校准系统,可实现快速准确的探头校准InQuest高速控制器电子设备,具有100kHz数据采集速率和20μs时间常数XY移动系统以及易于安装的磁性样品架高刚度龙门架,集成隔振功能带数字变焦的集成显微镜,可实现精确的压痕定位ISO 14577和标准化测试方法InView软件包,包含RunTest、ReviewData、InFocus报告、InView大学在线培训和InView移动应用程序主要应用硬度和模量测量(Oliver Pharr)高速材料性质分布ISO 14577硬度测试聚合物tan delta,储存和损耗模量定量刮擦和磨损测试样品加热工业应用大学、研究实验室和研究所半导体行业PVD / CVD硬涂层(DLC,TiN)MEMS(微机电系统)/纳米级通用测试陶瓷和玻璃金属和合金制药涂料和油漆复合材料电池和储能汽车和航空航天应用硬度和模量测量(Oliver Pharr)机械表征在薄膜的加工和制造中至关重要,其中包括汽车工业中的涂层质量,以及半导体制造前段和后段的工艺控制。iMicro纳米压痕仪能够测量从超软凝胶到硬涂层的各种材料的硬度和模量。 对这些特性的高速评估保证了在生产线上进行质量控制。高速材料性质分布对于包括复合材料在内的许多材料,其机械性能可能因部位而异。 iMicro的样品平台可以在X轴和Y轴上移动100mm,并在Z轴方向移动25mm,这使得该系统适用于不同的样品高度并可以在很大的样品区域上进行测量。 可选的NanoBlitz形貌和层析成像软件可以快速绘制任何测得的机械属性的彩色分布图。ISO 14577硬度测试iMicro纳米压痕仪包括预先编写的ISO 14577测试方法,可测量符合ISO 14577标准的材料硬度。 该测试方法对杨氏模量、仪器硬度、维氏硬度和标准化压痕进行自动测量和报告。聚合物Tan Delta、储存和损失模量iMicro纳米压痕仪能够针对包括粘弹性聚合物的超软材料测量tan delta和储存与损耗模量。 储存与损耗模量以及tan delta是粘弹性聚合物的重要特性,其能量作为弹性能量存储并作为热量消耗。 这两个指标都用于测量给定材料的能量消耗。定量划痕和磨损测试iMicro可以对各种材料进行刮擦和磨损测试。 涂层和薄膜会经过化学机械抛光(CMP)和引线键合等多道工艺,考验薄膜的强度及其与基板的粘合性。 重要的是这些材料在这些工艺中抵制塑性变形,并且保持原样而不会基板起泡。 理想地,介电材料应具有高硬度和弹性模量,因为这些参数有助于确定材料在制造工艺下会如何反应。高温纳米压痕测试高温下的纳米压痕对于表征热应力下的材料性能至关重要,特别对热机械工艺中的失效机理进行量化。 在机械测试期间改变样品温度不仅能够测量热引起的行为变化,还能够量化在纳米级别上不易测试的材料过渡塑性。产品优势iMicro纳米压痕仪可轻松测量硬涂层,薄膜和少量材料。该仪器准确、灵活,并且用户友好,可以提供压痕、硬度、划痕和通用纳米级测试等多种纳米级机械测试。 可互换的驱动器能够提供大动态范围的力荷载和位移,使研究人员能够对软聚合物到硬质金属和陶瓷等材料做出精确及可重复的测试。模块化选项适用于各种应用:材料性质分布、特定频率测试、刮擦和磨损测试以及高温测试。 iMicro拥有一整套测试扩展的选项,包括样品加热、连续刚度测量、NanoBlitz3D / 4D性质分布,以及Gemini 2D力荷载传感器,可以提供摩擦和其他双轴测量。
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  • 产品简介MML公司的纳米力学性能测试系统NanoTest&trade Vantage可以提供新型材料和特种材料开发和优化的大量信息。是世界上最灵活、功能最强大的纳米力学测试系统。它可以为用户提供高精度的纳米压痕测试,同时提供相关的全面综合测试:如纳米划痕和磨损测试、纳米冲击和疲劳测试、以及在高温、液体环境中的测试。这些纳米水平上的测试可以为我们提供材料表面局部的定量信息,数据可靠、测试省时。这些因数使得NanoTest&trade Vantage在世界范围内成为大学、工业实验室和标准机构中很多表征和优化项目的最关键设备。自1988年以来,我们一直走在纳米力学创新的前沿: ► 第一个商用高温纳米压痕平台 ► 第一台商用纳米冲击试验机 ► 第一个商用液体池 ► 第一台用于高真空、高温纳米力学的商用仪器产品优势:► 无与伦比的技术多样性 无纳米压痕,纳米划痕,纳米冲击,纳米微震动磨损,纳米磨损 ► 高精度的多种载荷纳米(至500mN)和微米(至30N) ► 引领市场的环境兼容能力 引高温(至850°C)、低温(至-20°C)、液体和湿度环境 ► 真正测量多 真 样性动态、静态、电气和多种成像模式技术指标1、加载框架 花岗岩复合材料设计专门用于计量应用 2、加载应用 电磁 标准头最大载荷 500 mN 位移传感器 线性电容 负载分辨率 3 nN 位移分辨率 0.002 nm 重复定位精度 0.4 µ m 可测试区域 50 mm x 100 mm 样品处理 手动控制并点击显微镜图像 热漂移 0.005 nm/s 接触力 1 µ N 显微镜– 4个物镜 x5, x10, x20 和 x40 屏幕放大率 x410, x825, x1650, x3300 隔振 负K,机械被动 压头交换时间 1 min 符合标准 完全符合ISO 14577和ASTM 2546 3、划痕模块 最大摩擦力 250 mN 摩擦载荷分辨率 10 µ m 最大划痕距离 10 mm 划痕速度 100 nm/s 至 0.1 mm/s 4、冲击模块 加速距离 高达20 µ m 接触应变率 高达104 s-1 微动磨损模块 轨道长度 ≤20 µ m 频率 ≤20 Hz 最大磨损次数 10 5、SPM纳米定位平台 XY扫描范围 100 µ m x 100 µ m Z扫描范围 20 μm 定位精度 ≤2 nm 闭环线性 99.97% 6、AFM XY扫描范围 110 µ m x 110 µ m Z范围 22 µ m 7、高温选项 温度 850 °C 主动,独立的样品和压头加热 是 压头材料 金刚石,氮化硼,蓝宝石 8、高负载头 最大载荷 30 N 摩擦载荷分辨率 300 μN 应用范围航空航天、汽车工业、半导体、生物医学、MEMS、高分子、薄膜和涂层,以及太阳能/燃料电池等
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  • 纳米压印胶 400-860-5168转1679
    仪器简介:公司拥有齐全的纳米系列压印胶材料,热压型纳米压印胶、热塑型纳米压印胶、紫外光固化型纳米压印胶、紫外光固化纳米压印和光刻两用胶、举离型传递层材料、刻蚀型传递层材料、各种与纳米压印技术相关的化学药品,如模板防粘剂、基片增粘剂等。适用于Obducat,Suss,HP,EVG等多种型号的纳米压印设备。技术参数: IPNR-T1000 Thermal plastic nanoimprint resist 热塑型纳米压印胶 IPNR-T2000 Thermal curable nanoimprint resist 热固化型纳米压印胶 IPNR-PC1000 Photo-curable nanoimprint resist (Free radical initiation) 光固化型纳米压印胶(自由基引发) IPNR-PC2000 Photo-curable nanoimprint resist (cation intiation) 光固化型纳米压印胶(阳离子引发) IPNR-UL1000 Under-layer polymer for lift off process 举离型传递层材料 IPNR-UL2000 Under-layer polymer etching mask process 刻蚀型传递层材料 IPNR-UPM Quick mold fabrication material 快速模板制作材料 IPNR-AP Chlorosilane based adhesion promoter 氯硅烷增粘剂 同时还能能够根据不同的模板提供相应的防粘试剂。
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  • 纳米银粉超高速纳米研磨分散机,纳米铝粉银粉高剪切研磨分散机,纳米金属粉体超高速研磨分散机,机械法循环型研磨机,金粉耐磨高速分散机,珠光防伪变色油墨研磨分散机 纳米金属颗粒具有量子尺寸效应、小尺寸效应、表面效应、宏观量子隧道效应,并且有许多奇特的电学、光学、磁学性能,使它在航天、原子能、军事、电子、化工、冶金等工业有着重要的应用价值。纳米金属粉体分散液可广泛用于涂料、油墨、电子工业等域。 目随着纳米金属粒子的生产工艺逐渐成熟,它的应用也随之扩大。在其应用过程中,较突出的问题是纳米金属粒子由于表面积大和表面能高,在制备、后处理及应用过程中易发生粒子凝结、团聚、形成二次粒子,使颗粒粒径变大,从而失去纳米粉末所具备的性能。研究者们为提高纳米金属粒子的分散性和稳定性,提出了一些有效的方法。 根据我司为多家客户定制方案,建议采用的方案为:在罐体内先进行固体物料的简单混合,将需要的配比浓度的物料投入罐体内,开动低速搅拌机进行简单混合,使得物料形成较为均一的物料;然后再罐体底部的物料出口开动阀门使得物料由管路进入我司的管线式研磨分散机进行剪切研磨分散处理,经过剪切研磨分散后在由设备的出口管路输送进入罐体内,实现物料的一次循环处理!经过多次罐外循环处理能达到很好的分散悬浮效果,物料颗粒细度均一。纳米银粉超高速纳米研磨分散机,纳米铝粉银粉高剪切研磨分散机,纳米金属粉体超高速研磨分散机,机械法循环型研磨机,金粉耐磨高速分散机,珠光防伪变色油墨研磨分散机 纳米金属粉体超高速研磨分散机是胶体磨和分散机的一体化设计,相对于胶体磨和分散机的串联而言更具优势。胶体磨与分散机串联的话存在时间差,当物料通过胶体磨之后,磨细后物料会出现抱团的现象,再经过分散机分散,效果不是很好。而CMSD超细研磨分散机的话,物料磨细后,瞬间又通过分散工作组,进行分散,在物料还未抱团之,就进行了分散,一个瞬间作用,效果会好很多。从设备角度分析,影响分散结果的因素有以下几点:1 分散头的形式(批次式和连续式)(连续式比批次好);2 分散头的剪切速率 (越大,效果越好);3 分散头的齿形结构(分为初齿,中齿,细齿,超细齿,约细齿效果越好);4 物料在分散腔体的停留时间,分散时间(可以看作同等的电机,流量越小,效果越好);5 循环次数(越多,效果越好,到设备的期限,就不能再好)。纳米金属粉体超高速研磨分散机设备结构: 第yi由具有精细度递升的三层锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每都可以改变方向。第二由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子(乳化头)和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为 在对输送性的要求方面,特别要引起注意的是:在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是转子齿的排列,还有一个很重要的区别是不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例,依据以的经验选取相应的工作头来满 足一个具体的应用。在大多数情况下,机器的构造是和具体应用相匹配的,因而它对制造出产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。设备等:化工、卫生I、卫生II、无菌电机形式:普通马达、变频调速马达、防爆马达、变频防爆马达、气动马达电源选择: 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ电机选配件: PTC 热保护、降噪型均质机材质:SUS316L 、SUS316L 、SUS316Ti均质机选配:储液罐、排污阀、变频器、电控箱、移动小车均质机表面处理:抛光、耐磨处理进出口联结形式:法兰、螺口、夹箍均质机选配容器:本设备适合于种不同大小的容器.IKN管线式研磨分散机的技术参数:研磨分散机流量*输出线速度功率入口/出口连接类型l/hrpmm/skWCMD 2000/470014000404DN25/DN15CMD 2000/55,00010,5004011DN40/DN32CMD 2000/1010,0007,3004022DN50/DN50CMD 2000/2030,0004,9004045DN80/DN65CMD 2000/3060,0002,8504075DN150/DN125CMD 2000/501000002,00040160DN200/DN150*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,同时流量可以被调节到大允许量的10%。1 表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。2 处理量取决于物料的粘度,稠度和终产品的要求。纳米银粉超高速纳米研磨分散机,纳米铝粉银粉高剪切研磨分散机,纳米金属粉体超高速研磨分散机,机械法循环型研磨机,金粉耐磨高速分散机,珠光防伪变色油墨研磨分散机
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  • 纳米压印系统 400-860-5168转1431
    桌面型纳米印系统,优异的设计理念,专门针对大学实验室、研究所微纳米加工研究设计,配备温度控制和低压控制系统,使用方便,性能稳定可靠;同时配合专业设计的压印模板,可实现各种微纳米图形加工,特征线宽小于20nm;主要特点:1.桌面型设计;2.热压印技术;3.UV压印技术;3.模板整合温度控制;4.快速升温、快速降温,大大缩短热循环加工周期;5.低压控制技术;6.自动压入、脱模设计;7.适用于各种微纳米加工研究(2inch~4inch,其他定制);8.特征线宽小于20nm;安装要求:1.真空0.4 to 0.8 bar(实验室真空要求),流速至少1mL/min;2.压缩空气或压缩氮气6-10 bar;3.电源:110-240V (50-60 Hz, larger than 200W);
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  • 纳米压印机 400-860-5168转3827
    台式R2P纳米压印机由Stensborg的现场工程师开发,与当今仍在行业中占据主导地位的传统纳米压印工具相比,它是一种小型且具有成本竞争力的卷对板压印机。这种智能技术是同类技术中的第一种;一种纳米压印光刻桌面和滚到板(R2P)设备。我们的辊对板NIL工艺使用了专利的辊隙压印工艺以及可调节的压印力,以最大限度地减少材料收缩,同时减少气泡问题。这种辊隙压印工艺减少了对基材一致性的需求,提供了更低的成本和更高的产量。Stensborg的工程师设计这款R2P纳米压印机时考虑到了成本节约,同时旨在制造一台具有高质量输出的机器;在高容量使用中,通过每小时进行多达60块板/晶片的定期性能审查,质量不会受到影响。
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  • 纳米孔读取器 400-860-5168转2831
    纳米孔读取器纳米孔一般指孔径在1-10nm的孔道结构,其孔径大小与单个生物大分子尺寸相当,通常纳米孔被置入有机 磷脂薄膜内,将待分析样(如血清)分隔呈两部分,当电压施加于纳米孔两侧时,样本中的带电离子和分子会穿越纳米孔形成电流,产生的电流信号可由特定一起采集并进行分析。当生物大分子穿越纳米孔时,由于其尺寸和电荷等性质的不同,会产生特异性的电流特征信号,从而可以根据仪器采集的电流信号分析出样本中的生物大分子的结构、种类和浓度等信息。纳米孔包括固态纳米孔和生物纳米孔两大类,一般应用中的纳米孔为生物纳米孔,纳米孔生物传感器被广泛应用于生物大分子的定性和定量分析,如DNA测序、肿瘤标记物检测和环境重金属离子检测等,纳米孔技术是国际上热门的第三代基因测序技术,由于其在生物、化学、医学、食品与环境等领域内的巨大应用潜力,已经发展成一个生物、化学、医学、流体、电子、材料、机械等多学科交叉的崭新研究领域。纳米孔读取器是一种小型便携式读出设备,具有可重复使用的流动池,用于固体纳米孔和生物孔的超低噪声记录。纳米孔读取器可用于实验活动,如脂质双层测量、DNA易位和单分子检测。若和特定的流式细胞相结合,它适用于蛋白质研究、疾病标记检测、DNA定位和纳米 粒子等分析。纳米孔读取器产品特点:■ 小型化 — 手持仪器 VS. 笨重设备■ 随时可用 — 无需工具,只需将流动池插入设备即可 ■ 高性能 — 低噪声测量■ 经济实惠 — 为每个人提供技术!纳米孔读取器应用案例:另外,我司可提 供各种规格SiNx固态纳米孔,详情可咨 询上海昊量光电设备有限公司。更多详情请联系昊量光电/欢迎直接联系昊量光电关于昊量光电:上海昊量光电设备有限公司是光电产品专 业代 理商,产品包括各类激光器、光电调制器、光学测量设备、光学元件等,涉及应用涵盖了材料加工、光通讯、生物医疗、科学研究、国 防、量 子光学、生物显微、物联传感、激光制造等;可为客户提 供完 整的设备安装,培训,硬件开发,软件开发,系统集成等服务。
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  • 纳米压痕仪 400-860-5168转2459
    Hysitron TS 77 Select™ 自动化纳米力学和纳米摩擦学测试系统是一台具有最高的性能、功能和易用性的台式纳米压痕仪。这款新测试系统采用了布鲁克著名的 TriboScope 电容式传感器技术,能可信地测试从纳米到微米尺度上的机械和摩擦特性。TS Select 支持模式包括定量纳米压痕、动态纳米压痕、纳米划痕、纳米磨损和高分辨率机械性能成像等功能。 Ts Select特性:提供核心测试技术, 包括纳米压痕、动态纳米压痕、纳米划痕、纳米磨损和原位 SPM 成像通过电容式传感器技术,使用静电力驱动同时提供高灵敏度和低温漂具有高速纳米压痕功能,可快速对机械性能进行成像,获得具有统计性的结果使用直观且易于使用的控制软件,使操作人员能够进行可靠的测量系统预设了满足ISO 14577 和 ASTM E2546标准的测试脚本具有系统自动校正功能和多样品自动测试功能,更快地获得结果
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  • 纳米压痕仪 400-860-5168转6134
    FT-NMT04纳米力学测试系统是一种多功能的原位SEM/FIB纳米压痕仪,能够在微米和纳米尺度上准确量化材料的力学行为。 FT-NMT04原位纳米压痕仪针对金属、陶瓷、薄膜以及超材料和MEMS等微观结构的机械测试进行了优化。此外,通过使用各种附件,FT-NMT04的功能可以扩展到各个研究领域的各种要求。 典型应用包括通过微柱的压缩测试或狗骨试样、薄膜或纳米线的拉伸测试来量化塑性变形机制。典型应用包括通过微柱的压缩测试或狗骨试样、薄膜或纳米线的拉伸测试来量化塑性变形机制。此外,在压缩测试期间进行连续刚度测量,可以在微梁断裂测试期间量化裂纹扩展和断裂韧性。由于 FT-NMT04 分别具有 500 pN 和 50 pm 的无可比拟的低本底噪声,因此可实现具有无可比拟的可重复性的浅纳米压痕,以及纳米压痕与 EBSD 成像的前所未有的相关性。
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  • 纳米压印系统 400-860-5168转5919
    v 兼容基底尺寸:直径≤100mmv 支持基底材料:硅片、玻璃、石英、塑料、金属等v 纳米压印技术:旋涂胶基底高精度压印&点胶自动找平压印、旋涂胶基底压印、点胶自动找平压印模式v 压印精度:优于10nmv 结构深宽比:优于10:1v 残余层控制:可小于10nm 微米级TTV控制精度v 紫外固化光源:紫外LED(365nm)面光源,光强300mW/cm2v 自动压印/自动脱模/自动工作模具复制/主动找平压印/模自动点胶:支持v 模具基底对位系统:手动对位(选配)v 上下片方式:手动上下片随机提供全套纳米压印工艺与材料,包括DOE、AR斜齿光栅、高密度、高深宽比结构、微透镜阵列、匀光片结构等工艺流程,帮助客户零门槛达到国际领先的纳米压印水平
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  • ZetaView适用于各类生物纳米颗粒0 x 耗材5 x 更快的切换10 x 更快的清洗12 x 荧光通道∞ x 统计学数据生物纳米颗粒(比如细胞外囊泡、外泌体、病毒或类病毒颗粒)在生命科学和纳米药物研究中的作用越来越重要。NTA技术可以帮助用户检测生理缓冲液条件下的单个颗粒,并让用户真实地看到他们所测的样品颗粒。ZetaView系列产品以其更方便的操作、更快的检测速度,又将进一步助力客户对EV-抗体偶联物的荧光检测。 主要特点&bull 扫描式NTA:无需额外配件,即可自动在样品池内的11个检测位置依次完成测试,并自动评估样品和数据质量;&bull 直观的软件:红绿信号指示可以帮用户直接判断当前浓度的样品是否可以测试。&bull 全新的固定式样品池模块设计:进一步增强了仪器稳定性,进一步保障仪器高效稳定地测试。&bull 功能一体化:可一次性完成样品的粒径、浓度、zeta电位和荧光测试。&bull 自动校准&自动聚焦:光学部件可通过仪器软件实现自动校准与优化,节省了用户的实验准备时间,完全避免了可能产生的用户主观偏差。&bull 荧光分析:仪器配备了超灵敏的CMOS相机和更多的荧光滤光片,具有更高的荧光检测灵敏度,进一步增强了仪器的荧光检测与分析能力。&bull 快速测试:60秒即可分析2000多个样品颗粒。&bull 无需高成本耗材:除进样所需的注射器之外,无其他耗材。&bull 易于维护:新的固定式样品池模块使仪器清洗更加简单便捷。&bull 无需校准:测试方法是客观的,仪器无需再校准多荧光NTA(F-NTA)Particle Metrix提供从单激光到多激光的一系列PMX设备,新增加了12位的荧光检测通道,各设备均可实现不同激光波长之间、散射光模式与荧光模式之间的一键切换。PMX系列设备的固定式样品池模块设计,既进一步增强了仪器的稳定性和测试的可靠性,又进一步简化了仪器清洗过程,提高了测试效率。新增加的共定位分析功能(C-NTA)ZetaView 配备了高精度的激光器,还可以实现仪器部件的快速切换。这也是它能完成生物标志物共定位检测这一极具挑战性工作的必要条件。例如一种细胞外囊泡,用不同浓度的两种膜染料Cell MaskTM Green和Cell MaskTM Red进行染色,通过ZetaView TWIN的动画视频可以看到不同荧光通道之间的快速切换。主要应用生物纳米颗粒:&bull 细胞外囊泡&bull 外泌体&bull 脂质体&胶束&bull 蛋白质聚集体&bull 病毒&类病毒颗粒(VLPs)&bull 药物载体&bull 荧光标记的纳米颗粒 低浓度样品:&bull 纳米气泡&bull 纳米金属&bull 微量样品&bull 量子点
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  • 纳米探针台 400-860-5168转2623
    基于 SEM 的纳米探针台 用于直观、原位、低电流电性能测量。 在扫描电镜的真空腔室中,在纳米尺度对样品进行观察和表征分析。Imina Technologies公司的纳米探针台 是一套独特的解决方案,特别适合在纳米尺度对电子器件和先进材料进行微纳操纵和表征。这套方案内含四个业界著。名的易用、多功能压电陶瓷驱动微型机器人miBotTM。miBot微机器人可以在毫米级样品上独立定位,定位精度高达纳米级。该方案是为低电流电性能测量量身定做 的,漏电流低达100fA/V。对纳米结构 进行电性能表征时要经由具有超高信噪 比的屏蔽电缆外接第三方半信号发生/分析器。
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  • 纳米力学测试系统 400-860-5168转2125
    先进的设计 所有的纳米压痕试验都取决于精确的加载和位移数据,要求对加载到样品上的载荷有精确的控制。是德科技最新的第五代G200型纳米压痕仪采用电磁驱动的载荷装置,从而保证测量的精确度,独特的设计避免了横向位移的影响。 是德科技最新的第五代G200型纳米压痕仪的杰出设计带来很多的便利性,包括方便的测试到整个样品台,精确的样品定位,方便的确定样品位置和测试区域,简便的样品高度调整,以及快速的测试报告输出。模块化的控制器设计为今后的升级带来极大的方便。 此外,最新的第五代G200型纳米压痕仪完全符合各种国际标准,保证了数据的完整性。客户可以通过每个力学传感器自主设计试验,在任何时候对其进行切换,同时整个设备占地面积小,适合各种实验室环境。NanoSuite的特点和优势 经过近40年的发展,NanoSuite已经成为业内公认的界面友好、操作简便、功能齐全的数据采集和处理软件包,NanoSuite不仅可以自动测试,也可以使用户利用网络远程遥控进行实验控制,NanoSuite不仅能够做到压入过程中硬度和弹性模量等力学性能的实时计算和显示,同时允许用户根据自己的研究需求以及提出的新模型随时添加新的软件通道,此外,根据实验参量的变化快慢能够自动调整数据的采集速率,实现了智能化的数据采集功能,从而既获得您真正需要的数据,又可避免不必要的垃圾数据。– 极其灵活、精确的数据采集和控制– 不断更新的测试方法– 最新的批处理测试功能– 新型的2D 图形输出功能– 测试数据更有效的分析功能– PDF测试数据的直接输出– 优越的自我定制测试模型的建立– 非常方便的个性化测试方法的建立– 功能齐全完善的图像处理功能– 用户可轻松便捷的编辑自己的测试方法已满足特殊的应用与需求– 定制化的测试方法同样可满足ISO 14577国际标准– 可提供专业的建模和仿真软件,帮助用户实现特殊的离线研究需要– Windows 10操作系统增强的载荷加载系统新一代G200型纳米压痕仪是具有从纳牛到牛顿最为完整的加载力范围,并且不同的加载装置可自动软件切换,整个测试流程都是全自动的,极大的提高了测试数据的可靠性和可重复性,避免了可能的人为因素的影响,确保每个测试都是合理、一致、精确。标准的加载装置G200型纳米压痕仪标准配置是XP加载系统(最大为500mN), 位移分辨率 0.01纳米,最大压入深度 500微米,该装置可应用到所有的测试功能。压头更换轻松完成,非常好的机架刚度极大的减少了系统对测试的影响。高精度加载装置DCM II 是高分辨的纳米纳牛力加载模块,它既可以单独工作,也可以作为一个附件与G200协同工作。由于其惯性质量很低,使得纳米压痕中的初始表面的选取更加灵敏、精确, DCM II 在超低载荷下的纳米压痕测试具有极高的精确度和可重复性,由于它自身的空载共振频率远高于一般建筑物的振动频率,这就使得一般的环境振动对它几乎没有影响,DCM II 具有很宽的动态频率范围(0.1 Hz 到 300 Hz),所有这些特点使得 DCM II 可以提供同类设备不可比拟的高信噪比和高可靠性的试验数据,例如右图所示的蓝宝石上三个纳米深度的压痕测试,在几个纳米的压痕深度范围内获得了非常可靠的弹性模量。大载荷加载装置是德科技的大载荷加载选件,大大强化了G200型纳米压痕仪的应用范围。这个选件可以用于标准的XP加载模块,将G200型纳米压痕仪的加载能力扩展至10N,可对陶瓷、金属块材和复合材料进行力学表征。大载荷选件的巧妙设计,使得G200既避免了在低载荷的情况下牺牲仪器的载荷和位移精度,同时又保证了用户在需要大加载力的测试时,通过鼠标操作就可以在测试实验中进行无缝加载装置切换。
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  • 纳米位移台系统 400-860-5168转1446
    仪器简介:If smallest parts or samples have to be moved or positioned with nanometer precision in the millimetre range, nanopositioning systems with piezo inertial drive are used. Very compact actors with appropriate control units are available for rotational and linear movements. The compatibility to each other allows the assembly of multi-axes combinations for complex movements. All the nanopositioning system have a piezo inertialdrive. With a travel in the millimetre range and steos in the nano meter range or with large adjustment range and steps in the &mu rad range, they are suitable for manifold applications. The basic components of the gonimeter are made of high strength aluminium. Due to a black anodized coating, the surface is protected and reflexion-poor. For the mounting of the nanopositioners, the mounting plate NMP 50is recommend. It is available as a ccessory. In order to operate the nanopositioners,the manual control unit NHS06 has to be used. The complete system is pluggable and ready for connection.技术参数:仪器名称,型号/参数行程最小步长最大步长负载 (N)重复定位精度(双向)倾斜力矩(Mx,My,Mz)(Nm)速度 纳米旋转位移台 NDT 24-30无限旋转角度40 &mu rad100&mu radmax.2 max.0.1max.100mrad/s 纳米旋转位移台 NDT 24-30-MSI无限旋转角度40 &mu rad100&mu radmax.240&mu radmax.0.1max.300mrad/s 纳米角度位移台 NAGO P 24-8± 3.3 度2 &mu rad6 &mu radmax.2 max.0.1 纳米角度位移台 NAGO T 24-8± 4度2 &mu rad6 &mu radmax.2 max.0.1 纳米升降位移台 NHV 24-66mm100nm300nmmax.3 max.0.1 纳米升降位移台 NHV 24-6-MSI6mm50nm700nmmax.3400 nmmax.0.1 纳米线性位移台 NLV 24-77mm200nm300nmmax.2 max.0.1max.0.3mm/s 纳米线性位移台 NLV 24-7-MSI7mm50nm700nmmax.2400nmmax.0.1max.0.7mm/s 纳米线性位移台 PT 30-54.8mm300nm800nmmax.30 max.0.5max.0.8mm/s 纳米线性位移台 PT 30-5-MSI4.8mm100nm2000nmmax.30400nmmax.0.5max.2mm/s 主要特点:&bull high power density on little space &bull 纳米量级或&mu rad量级可调 &bull 停止是无摆动或振荡 &bull 由高强度的铝制成,黑色阳极氧化 &bull with ceramic guide for high life time Option &bull version for use in cacuum
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  • 纳米压痕仪 400-860-5168转4058
    先进的Performech II控制模块和电子设计1.最高性能的高速闭环控制2.业界超过的噪音控制3.集成的带输入/输出信号的多参数控制4.五百倍于前代产品的力学测试速度 多维度测量耦合1.充分优化各个传感器的特质适用不同测量需要,通过多维传感器的选择实现不同测量间的无缝耦合2.多种有效的测试模块配置,包括纳米/微米压痕、纳米划痕、纳米摩擦磨损、高分辨原位扫描探针显微镜成像、动态纳米压痕和高速力学性能成像等 丰富的系统控制和数据分析软件1.TriboScan(TM) 10提供的控制功能,包括XPM超快纳米压痕,SPM+原位扫描探针显微镜成像,动态表面搜索,全自动系统校准和创新的测试2.Tribo iQ (TM)提供了强大的数据处理、分析和画图功能,并具有可编程数据分析模块和自动生成的定制测试报告功能 极大的灵活性和具有前瞻性的表征潜质1.多级别的防护罩提供了超强环境隔绝能力,并具有用于将来的升级可扩展接口2.万能样品台提供了机械、磁性和真空固定方式,适用于各种样品应用实例
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  • 80 纳米标尺 400-860-5168转3825
    GATTA-PAINT 80 纳米标尺 产品特性纳米标尺PAINT 80RPAINT 80GPAINT 80RG颜色红绿红 / 绿荧光染料ATTO 655ATTO 542ATTO 655 / ATTO 542激光源625 - 665 nm530 - 560 nm625 – 665 nm / 530 – 560 nm表面染料密度≈ 1/μm2≈ 1/μm2≈ 1/μm2间 距2x 80 nm2x 80 nm2x 80 nmGATTA-PAINT 40 纳米 纳米标尺产品特性纳米标尺PAINT 40RPAINT 40GPAINT 40RG颜色红绿红 / 绿荧光染料ATTO 655ATTO 542ATTO 655 / ATTO 542激光源625 - 665 nm530 - 560 nm625 – 665 nm / 530 – 560 nm表面染料密度≈ 1/μm2≈ 1/μm2≈ 1/μm2间 距2x 40 nm2x 40 nm2x 40 nm荧光团性质 荧光团颜色定义激发波长/ nm发射波长/ nmATTO 655R655680ATTO 542G542562
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  • 产品描述Nano Indenter G200系统是一种准确,灵活,使用方便的纳米级机械测试仪器。 G200测量杨氏模量和硬度,包括从纳米到毫米的六个数量级的形变测量。 该系统还可以测量聚合物,凝胶和生物组织的复数模量以及薄金属膜的蠕变响应(应变率灵敏度)。 模块化选项可适用于各种应用:频率特定测试,定量刮擦和磨损测试,集成的基于探头的成像,高温纳米压痕测试,扩展负载容量高达10N和自定义测试。主要功能电磁驱动可实现高动态范围下力和位移测量用于成像划痕,高温纳米压痕测量和动态测试的模块化选项直观的界面,用于快速测试设置 只需几个鼠标点击即可更改测试参数实时实验控制,简便的测试协议开发和精确的热漂移补偿屡获殊荣的高速“快速测试”选项,用于测量硬度和模量多功能成像功能,测量扫描和流程化测试方法,帮助快速得到结果简单快捷地确定压头面积函数和载荷框架刚度主要应用高速硬度和模量测量界面附着力测量断裂韧性测量粘弹性测量扫描探针显微镜(3D成像)耐磨损和耐刮擦高温纳米压痕工业应用大学,研究实验室和研究所半导体和电子工业制造业轮胎行业涂层和涂料工业生物医药行业医疗仪器更多应用:请根据您的要求与我们联系应用高速硬度和模量测量材料的机械特性表征在新材料的研究与开发中具有重要意义。 Nano Indenter G200能够以每秒一个数据点的速率测量硬度和模量。 对机械性能的高速评估使半导体和薄膜材料制造商能够将先进技术应用于生产线上的质量控制与保证。界面粘附力测量通常通过沉积能够存储弹性能量的高压缩层来诱导薄膜分层。 界面粘附力测量对于帮助用户理解薄膜的失效模式是至关重要的。Nano Indenter G200系统可以触发界面断裂并测量多层薄膜的粘附性和残余应力性质。断裂韧性断裂韧性是在平面应变条件下发生灾难性破坏的应力 – 强度因子的临界值。 较低的断裂韧性值表明存在预先存在的缺陷。 通过使用刚度映射法容易地通过纳米压痕评估断裂韧性。 (刚度映射需要连续刚度测量和NanoVision选项)粘弹特性聚合物是非常复杂的材料 它们的机械性能取决于化学,加工和热机械历史。 具体来讲,机械性能取决于材料分子母链的类型和长度,支化,交联,应变,温度和频率,并且这些依赖性通常是相互关联的。 为了采用聚合物进行研究时获得有用的信息进行决策,应在相关背景下对相关样品进行机械性能测量。 纳米压痕测试使得这种特定的测量更容易完成,对样品制备要求不高,可以很小且少量。 Nano Indenter G200系统还可用于通过在与材料接触时振荡压头来测量聚合物的复数模量和粘弹性。扫描探针显微镜(3D成像)Nano Indenter G200系统提供两种扫描探针显微镜方法,用于表征压痕印痕的裂缝长度,以测量设计应用中的断裂韧性。 断裂韧性定义为含有裂缝的缺陷材料抵抗断裂的能力。Nano Indenter G200的压电平台具有高定位精度和NanoVision选项,可提供高达1nm的步长编码器分辨率,最 大扫描尺寸为100μm×100μm。 测试扫描软件选项将X / Y运动系统与NanoSuite软件相结合,可提供500μm×500μm的最 大扫描尺寸。 NanoVision阶段和测试扫描选项都需要精确定位在样品区域来完成纳米压痕测试和断裂韧性计算。耐磨性和耐刮擦性Nano Indenter G200系统可以对各种材料进行划痕和磨损测试。 涂层和薄膜将经受许多工艺,测试这些薄膜的强度及其与基板的粘合性,例如化学和机械抛光(CMP)和引线键合。 重要的是这些材料在这些工艺过程中抵抗塑性形变并保持完整,也不会在基板上起泡。 对于介电材料,通常需要高硬度和弹性模量来支持这些制造工艺。高温机械测试高温下的纳米压痕提供了在达到塑性转变之前、之中与之上的精确测量能力,得到材料的纳米力学响应。 了解材料行为,例如形变机制和相变,可以预测材料失效并改善热机械加工过程中的控制。 在主要机械测试方法过程中改变温度是对材料进行纳米尺度测量塑形转变的一种方式。产品优势Nano Indenter G200系统专为各种材料的表征和开发过程中进行纳米级测量而设计。 该系统是一个完全可升级,可扩展且经过生产验证的平台,全自动硬度测量可应用于质量控制和实验室环境。
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