纳米线气体传感器

武汉东隆科技为美国Quantum Opus的中国区独家代理，欢迎您来电垂询！Opus One 超导纳米线探测器系统Opus One™ 超导纳米线探测器系统配有定制的紧凑型桌面低温恒温器（预先安装的16/32通道以及低温恒温器中的所有电接线），光学实验室友好型水冷压缩机（低空气循环，低噪声，低热量输出），偏置和高速放大器电子元件以及易于使用的软件控制库。 专有的纳米线材料允许纳米线工作在 2K，降低低温系统的复杂性，并允许系统连续工作3年。Opus One 是基于超导纳米线技术的单光子探测器，在1550 nm的探测效率高达85 %，通过对谐振腔的调节 ， 可以将提供特殊设计、订购和组装。700~1300 nm指定波长的探测效率提高到90%。除此之外，该探测器还拥有极低的暗噪声和超快的时间分辨率， 计数率高达40Mcps。产品特点 工作温度在2.5k即可达到高探测效率支持定制规格支持定制宽波段响应3U 紧凑化设计低噪声水冷压缩机2um以上红外响应定制 产品应用 量子光学量子计算量子密钥通信低通量生物光子学荧光测量参数 * 可定制更高探测效率850nm 950nm 1310nm 1550nm SDE 90%90% 80%*80%*暗计数率 1Hz 1Hz10Hz100Hz时间抖动 80ps80ps 100ps100ps脉冲幅值 600mV600mV300mV300mV死时间 50ns50ns50ns50ns

武汉东隆科技有限公司为美国Quantum Opus的中国区独家代理，欢迎您来电垂询！Quantum Opus 超导纳米线探测器Quantum Opus提供了两个标准的纳米线产品，在950 nm（ 90％）或1550 nm（ 80％）范围内最大化系统检测效率。 我们还可以定制任何所需的客户波长，包括非常广泛的响应设备，保持超过100nm的带宽和中红外设备的效率超过50％。 这些设备也可以单独购买，并集成到制冷温度2.5K的第三方低温系统中。 产品特点 工作温度在2.5k可达到最高探测效率探测效率90%@1550nm计数率40MHz!!无PDE下降暗计数1Hz/10Hz/100Hz3U紧凑化设计单台支持2-32通道扩展产品应用 量子光学量子计算量子密钥通信低通量生物光子学荧光测量参数

QE85%超导纳米线单光子探测器所属类别： ? 探测器/光子计数器 ? 单光子计数器 产品简介QE85%超导纳米线单光子探测器 高量子效率85%,低暗计数10cps,高计数率20MHz 很新的超高效率超导纳米线单光子探测器，其在600nm-2300nm内达到高量子效率85%，暗计数10cps，同时zui高计数率20MHz，是目前市场上性能良好的超导单光子探测器，此型号超导纳米线单光子探测器可提供zui多8通道同时运行 超导单光子探测器， SSPD，SNSPD超导纳米线单光子探测器，单光子计数器， Superconducting Nanotechnology，红外单光子计数器，高灵敏度单光子计数器 技术指标：l 量子效率: ≥ 80 %l 时间抖动: ≤ 45 ps (20 ps on request)l 暗计数: ≤ 10 cps (0.01 cps on request)l 光谱范围: 0.6 ÷ 2.3 μml 无后脉冲l 光纤耦合l 连续模式 一般参数：l 探测通道数: 1-8l 光纤类型: SMF-28e l 原始输出电压: ≤ 150 mVl 输出信号类型: TTL, ECL, LVDSl 驱动接口: USB, LabVIEW 应用领域：l 光量子计算l 光子相关性测量l 量子密码和QKDl CMOS缺陷分析l α，β粒子探测l TCSPCl 单分子荧光光谱l 弹道成像l 单等离子体检测l 自由空间通信l LIDARl 时间分辨荧光测量l 单量子点荧光光谱l 片上量子光学l 单线态/三线态氧荧光探测l 皮秒集成电路分析l 单电子探测 相关产品 超低暗计数(0.01cps)超导单光子探测器 超高速（500MHz）超导单光子探测器 超快(120MHz)近红外单光子计数OEM模块 符合计数单光子计数系统

QE60%超导纳米线单光子 探测器量子效率60%,低暗计数10cps,高计数率70MHz，只要有制冷腔，就能轻松安装 俄罗斯Scontel 蕞新推出的超导纳米线单光子探测器，只要有制冷腔，就能轻松安装,并且价格低廉，但是功能毫不差劲。其在600nm-2300nm内达到量子效率60%，暗计数10cps，同时计数率高达70MHz，是目前市场上性能优良的超导纳米线单光子探测器的。此型号超导纳米线单光子探测器可提供蕞多16通道同时运行，针对不同应用提供匹配的产品，可多通道同时探测及低成本升级，且可以根据您的不同需求我们不仅有如下图中探测性能的设备，还有多模大面积探测器、超低噪声探测器、光子数分辨探测器供您选择。超导纳米线单光子探测器主要特点：&bull 超高性价比，有制冷腔的选择&bull 针对不同应用提供匹配的产品 &bull 可多通道同时探测及低成本升级 &bull 产品安装/培训/升级全程服务超导纳米线单光子探测器技术指标： 根据需求不同我们可提供以下探测性能的搭配也可根据您的参数要求进行定制：高效检测(HED) -高系统效率和时间分辨率、低噪声、中等带宽的蕞佳组合。 超高效检测(U-HED) -改进的HED版本，运行温度更低，因此在所有参数方面具有更好的综合性能。 宽带宽检测（Broadband）-虽系统效率略有下降。但优化的光学腔增加了带宽低噪声检测（Low noise）-应用可变滤波技术将设备的暗计数率降低到每秒10次,探测器的光谱响应窄得多。超导纳米线单光子探测器应用领域：&bull 量子计算 &bull 光子相关性测量&bull 量子密码和QKD&bull cmos 缺陷分析&bull α，β粒子探测&bull tcspc &bull 单分子荧光光谱&bull 弹道成像&bull 单等离子体检测&bull 自由空间通信&bull LIDAR&bull 时间分辨荧光测量&bull 单量子点荧光光谱&bull 量子光学 &bull 单线态/三线态氧荧光探测&bull 皮秒集成电路分析关于昊量光电：上海昊量光电设备有限公司是光电产品专业代理商，产品包括各类激光器、光电调制器、光学测量设备、光学元件等，涉及应用涵盖了材料加工、光通讯、生物医疗、科学研究、国防、量子光学、生物显微、物联传感、激光制造等；可为客户提供完整的设备安装，培训，硬件开发，软件开发，系统集成等服务。

多通道超导纳米线单光子探测系统赋同量子生产的SNSPD系统由超导纳米线单光子探测器、低温恒温系统和电子学模块三个部分组成，该系统具有以下特点：●采用小冷量风冷GM制冷机，无需液氦；●7×24小时不间断运行； ●高可靠性，已通过各种应用场合长期证； ●专业高效的技术支持； ●机柜式或桌面式集成。 参数细节探测通道数目：1-32；光学接口：FC/PC；电子学接口：SMA；工作环境：温度4℃-38℃；湿度≤60%；系统漏率：＜1E-10Pam3/s；重量：约100 kg；电源：单相220-230 V，50 Hz；功耗：≤ 1.3 kW；

生长纳米线CVD炉OTF-1200X-4-NW是一种紧凑型CVD炉，专为生长各种纳米线而设计，基片最大3″。在法兰的左侧装有一个小加热器，可对输入的气体、液体、固体进行预加热后进入 CVD 炉进行纳米线的生长。其可滑动的样品架使操作更为简单。 产品型号　生长纳米线CVD炉OTF-1200X-4-NW安装条件本设备要求在海拔1000m以下，温度25℃±15℃，湿度55%Rh±10%Rh下使用。1、水：设备配有自循环冷却水机（加注纯净水或者去离子水）2、电：AC380V 50Hz（63A空气开关），必须有良好接地3、气：设备腔室内需充注氩气（纯度99.99%以上），需自备氩气气瓶（自带?6mm双卡套接头）4、工作台：尺寸1500mm×600mm×700mm，承重200kg以上5、通风装置：需要主要特点 1、由OTF-1200X-4单温区炉演变而来的紧凑型CVD炉。 2、内炉膛表面涂有进口高温氧化铝涂层，可以提高设备的加热效率及延长仪器的使用寿命。 3、带样品支架的右法兰是滑动的，方便样品的快速取放。 4、左侧的小加热器可对输入CVD 炉的气体、液体、固体或混合物进行预加热，不锈钢加热腔外径?30mm、长150mm，最高工作温度600℃。 5、左边法兰（在加热器与CVD炉之间）装有4个1/4"卡套连结的通气管，具有密封和气体通道的作用。 6、PID自整定数字控制器，可以设置30段升降温程序。 7、选配相关软件可用计算机进行控温。 8、已通过CE认证。技术参数 1、额定电压：单相AC 220V 50Hz/60Hz 2、额定功率：3KW（需20A的空气开关） 3、石英管：外管外径?110mm，内径?102mm，长381mm 4、加热区域：CVD炉400mm，加热器150mm， 5、工作温度：CVD炉最高1100℃（2h），连续工作200℃-1000℃，最大升降温速率10℃/min；加热器连续工作0-500℃，最大升降温速率10℃/min 6、控温精度：±1℃ 7、热电偶：K型 8、右法兰：一个3"石英样品支架，与石英挡板、法兰连成一体，设有KF25真空快接口，以及水冷接口（可选配水 冷机，避免O型圈融化） 9、左法兰：有2个独立1/4″口，可单独将任何气体通入炉内，一路1/4"口将预热气体通入CVD炉，一路1/4″口将不加 热的气体通入炉内，并通过炉内的T型结构与加热气体汇合产品规格　尺寸：1200mm×450mm×510mm；重量：100kg可选配件 1、冷水机 2、控温软件

产品信息Insplorion提供纳米等离子体传感器，它能够对传感器表面附近（30nm）的折射率变化进行超灵敏测量。传感器可以涂上一系列的材料，可以研究表面化学如何影响分子吸附和薄膜相变等过程。Insplorion还提供各种类型和尺寸的等离子体纳米结构，允许用户对表面形貌/结构如何影响表面过程进行系统研究。a、NPS非常适合研究表面形貌和/或化学对表面过程的影响。b、表面化学、结构和曲率影响分子的吸附以及吸附层的结构和组成。c、有多种传感器涂层可供选择，使得调整表面化学性质。d、Insplorion通过改变等离子体纳米结构的尺寸和形状，提供具有不同表面结构和曲率的传感器。产品应用纳米结构传感器Insplorion的纳米结构传感器是在当前最\高水准的洁净室环境中生产，保证了稳定性、重现性和良好的表面化学控制。纳米结构覆盖整个传感器区域，在表面形成准随机的图案。这些结构具有一致的尺寸和形状。Insplorion的标准传感器的纳米结构由金制成，但根据要求，还可以提供其他金属。纳米结构可以不加涂层或用薄的顶部涂层覆盖。传感器结构传感器结构有两种标准的传感器结构，一种是安装在表面上的圆盘，另一种是嵌在表面上的圆盘，形成一个平面。但应要求也有各种各样的其他结构，如圆锥，截锥，洞穴，球形的分面粒子，环，洞和井。

纳米操作机、纳米机械手、纳米操纵机械臂、纳米操纵仪TNI LF-2000产品简介 TNI LF-2000是目前市面上基于SEM电镜下使用的自动化程度最 高的纳米操作系统，也是一种能够在SEM电镜下提供可重复 定位、低漂移、闭环运动控制定位的纳米操作系统。 产品特性 完全兼容主流电镜，不影响电镜功能 市面上较佳的运动定位性能：大行程、亚纳米分辨率 位移传感器集成自动化和可编程运动 SEM真空环境优化设计，可快速安装与拆卸规格参数应用案例电学特性LifeForce为纳米材料提供可靠、低噪音的电测量，以及与纳米结构的原位相互连接。图片展示的是四探针测量纳米线电学性能。力学测量LifeForce为纳米材料的力学特性提供高分辨率的力和位移反馈，图片展示的是用球端AFM悬臂探针对单根纳米线的拉伸测试。拾取和放置操作使用末端工具（例如：探针、微纳米夹持器、超声切割针），操作者能够操作LifeForce纳米操作手在SEM电镜内对微纳米物体进行推、拉和抓取等操作。制作微纳米器件精密的操作手运动能够实现微纳米器件的快速成型和后处理。图片展示的是纳米线FET传感器的构造。

纳米操作机、纳米机械手、纳米操纵机械臂、纳米操纵仪TNI LF-2000产品简介TNI LF-2000是兼容SEM/FIB的自动化纳米操作系统，也是能够在SEM/FIB下提供可重复定位、低漂移、闭环运动控制定位的纳米操作系统。产品特性 兼容主流电镜，不影响电镜功能 具有大行程、亚纳米分辨率运动定位性能 位移传感器集成自动化和可编程运动 SEM真空环境优化设计，可快速安装与拆卸规格参数系统概况系统尺寸127x127x33mm3*机械手数量1-4操作手（宏动）驱动原理粘滑驱动运动范围XY轴：10mm Z轴：5mm速度3mm/s最小步长100nm操作手（微动）驱动原理无摩擦柔性铰链运动范围XYZ轴：20μm速度45μm/s开环运动分辨率0.5nm闭环运动分辨率1nm定位漂移率0.35nm/min软件功能**点击-移动鼠标在电脑屏幕上从A移动到B自适应放大倍数定位器移动速度根据SEM放大自动调整操作手位置保存/加载用户自定义的“保存/加载”操作手坐标3D虚拟显示实时三维显示操作手的位置和运动自动校准操作手闭环传感器自动校准运动轴的自动对准所有操作手运动轴自动对准SEM图像轴*系统尺寸可根据需要减小到50x50x17mm3**可根据选定SEM/FIB的型号而定应用案例电学特性LifeForce为纳米材料提供可靠、低噪音的电测量，以及与纳米结构的原位相互连接。实例照片展示的是四探针测量纳米线电学性能。力学测量LifeForce为纳米材料的力学特性提供高分辨率的力和位移反馈，实例照片展示的是用球端AFM悬臂探针对硅纳米线簇进行纳米压痕，以及对单根纳米线的拉伸测试。拾取和放置操作使用末端工具（例如：探针、微纳米夹持器、超声切割针），操作者能够操作LifeForce纳米操作手在SEM电镜内对微纳米物体进行推、拉和抓取等操作。制作微纳米器件精密的操作手运动能够实现微纳米器件的快速成型和后处理。实例照片展示的是纳米线FET传感器的构造。纳米电子器件电学测量LifeForce纳米操作机是市面上能够自动探测电子结构（范围从亚微米，亚100nm及亚20nm）。只需要通过计算机点击鼠标，将探针定位到目标位置。极低得定位漂移，保证数据采集得可靠性。 主要软件功能①　位置反馈：提供每个操作手XYZ精确得位置反馈，1纳米运动定位分辨率。②　保存/加载坐标：保存和加载多个操作手得坐标。③　自动校准：限度地提高定位性能，并将操作手运动轴对准扫描电子显微镜图像轴。④　3D虚拟显示：实时3D虚拟空间显示操作手（粉红色方块）和样品（绿色平面）得位置。⑤　点击-移动：通过在屏幕上鼠标点击控制操作手运动。⑥　多操作手联动：连接多个操作手得运动，具有纳米级精度。⑦　图片-视频录制：保存操作过程中的高清图片和视频。

产品简介NFS系列精密力传感器是一种垂直于传感器轴径方向的微力传感器，力测量范围从纳牛(nN) 到牛顿(N)级别。适用于空气、真空和液体环境的测力需求。 产品特性高分辨率力传感器和大测量范围低漂移信号，高重复性多种探头形状，可用于纳米压痕、压缩拉伸即插即用USB连接 产品应用材料表征尺度计量微驱动器校准传感器校准质量控制原子力显微镜细胞力学微纳操纵MEMS器件测试规格参数 传感器型号NFS-ANFS-BNFS-C测量分辨率0.001μN1μN10μN测量范围＋/-200μN＋/-50,000μN＋/-500,000μN感应原理压阻压阻压阻

产品信息Insplorion XNano具有一个灵活的测量单元，能够在气体和液体流量测量中实时测量折射率变化。简而言之，整个Insplorion XNano系统提供以下功能：a、传感器表面折射率变化的超灵敏测量b、在液体或气体环境中测量c、使用集成温度控制，温度范围室温至80 Cd、灵活选择样品材料的结构和性能e、基底材料和表面化学的灵活选择f、实时、原位监控纳米颗粒和薄膜内/上的变化过程g、用户友好的仪器和软件技术指标测量单元 芯片上方体积 ~ 4 μL 样品消耗最小量 ~ 100 μL 典型流速 20-100 μL/min 材料* 钛和全氟化橡胶 温度范围** 室温至80oC *可自定义选项。** 通过可选的配置实现250oC的高温。 传感器芯片衬底 熔融石英 尺寸 9.5 mm x 9.5 mm x 1 mm 表面 纳米结构金 表面涂层* Au, SiO2, Si3N4, TiO2, Al2O3*可订购客户化的薄膜涂层传感器。 光学读数特性 光源* 卤钨灯，最低寿命2000小时 测量点尺寸 圆形区域~直径2mm 波长范围** 450 - 1000 nm 时间分辨率 每秒10个采样点 典型噪音*** 0.01 nm *可自定义选项和可替换，**可自定义波长范围，***在液相环境中的采样速率达到1Hz 尺寸 测量单元 31cm x 25cm x 25 cm 光学单元 25 cm x 27 cm x 9 cm 温度控制单元 25 cm x 27cm x 9 cm 软件 操作系统 兼容Windows操作系统 数据输出格式 ASCII码文本文件格式直接使用的任何绘图软件都兼容此格式 分析的参数 多参数输出（如：共振波长、宽度和消光） 应用领域1、分子结合和生物识别Insplorion NPS适用于生物分子相互作用分析。通过监测捕获剂（配体）固定到insplorion传感器，然后通过insplorion仪器的流体系统引入分析物，可以确定作为亲和常数的定量信息。监测脂质双层膜和嚢泡Insplorion的技术和仪器可以进行完整的实验，其中可以监测脂质双层的形成以及与生物分子和纳米颗粒的相互作用。对表面附近光学性质变化的极端敏感性也能获得结构信息，例如关于囊泡形状的信息。对邻近表面光学性质变化的极端敏感性也能获得结构信息，例如关于囊泡形状的信息。药物运输Insplorion NPS技术可用于监测聚合物薄膜（厚度从微米到几纳米）以及多孔网络中的扩散。Insplorion传感器具有极高的表面灵敏度，可以探测到厚膜中隐藏的内部界面。这允许您确定扩散物种到达界面并使薄膜饱和的时间，以及监测释放过程。定量的动力学信息，如扩散系数已经在一个案例中从实验获得。 2、氢气传感/贮存Insplorion NPS技术为储氢和固态反应领域的研究者提供了一种新的、强大的研究工具，以克服众多的实验挑战。NPS的测量集中在一个明确的模型系统上，在“运行”条件下和受控的微环境中使用少量的样品。这导致了各种梯度的最小化，以及广泛的粒径分布的扭曲。高时间分辨率使快速变化过程能够在高温下的固态反应中被监控。成功故事NPS技术已成功地用于解决纳米储存实体储氢领域的以下问题：1、在D5nm尺寸范围内，钯纳米粒子的氢化和脱氢动力学的尺寸依赖性。2、在D5nm尺寸范围内，钯纳米粒子氢化物形成和分解热力学的尺寸依赖性。3、金属纳米粒子中氢化物形成与分解之间的尺寸依赖性滞后现象的研究。4、镁和钯纳米粒子氢化物形成热力学的定量单粒子研究。 3、超薄的聚合物膜和纳米结构/纳米粒子的玻璃化转变温度在超薄聚合物膜中，玻璃化转变温度Tg因近表面层（几纳米厚）的存在而变得尺寸/厚度依赖，其中聚合物片段具有不同的流动性。Insplorion的NPS技术为聚合物薄膜领域的研究者提供了一个研究相变的强大工具。成功故事 NPS技术已成功地用于解决以下现象：1、无规聚甲基丙烯酸甲酯（PMMA）玻璃化转变温度（Tg）薄膜的厚度依赖性。2、聚苯乙烯（PS）纳米粒子中玻璃化转变温度（Tg）的尺寸依赖性。 4、监测多孔膜和衬底之间的隐藏界面即使对于装备精良的实验室，小分子小规模地扩散进出多孔材料也是一项挑战。对于药物输送和其他缓慢释放以及多孔基质中需要最多材料的应用，NPS技术可以证实为一个非常宝贵的工具。成功故事NPS技术已用于追踪下面的变化过程：1、介孔二氧化钛染料浸渍的时间依赖性对染料敏化太阳能电池的优化。2、染料在介孔材料中扩散系数的量化。 5、太阳能电池提高DSSC的性能和知识。Insplorion NPS技术应用于研发，提高太阳能电池的性能。实时传感器技术为光接收涂层的不同涂层提供了可靠和一致的测量。例如，染料敏化太阳能电池的染料浸渍步骤可以使用Insplorion仪器进行详细监测。Insplorion与瑞典洛桑联邦理工学院Prof. Michael Gr?tzel课题组和查尔姆斯理工大学的研究人员一起已经成功地将Insplorion的纳米等离子体传感技术NPS应用于染料敏化太阳能电池的研究。这项研究集中在太阳能电池中二氧化钛薄膜的分子吸附，并且展现在Nano Letters上。提高太阳能电池性能：Michael Gr?tzel作为太阳能电池领域的世界一流的研究者，关于insplorion的技术，他说：“我发现insplorion的技术对于研究染料敏化太阳能电池的染料浸渍非常有趣。它有可能成为改善染料浸渍工艺，从而提高太阳能电池性能的一个有价值的工具。”

产品简介Insplorion X1仪器的开发是为了从室温到600℃原位和实时研究，比如气体吸附/吸收过程或与催化相关的薄的聚合物膜和材料的相转变（比如：Tg）。X1测量几乎任何纳米材料或薄膜、电介质以及金属的结构或介电变化，如由气体成分或温度坡道引起的变化。Insplorion x1仪器包括快速启动和生成高质量数据所需的一切。仪器有两个样品位置，允许进行两次平行测量。我们提供的产品包括所有硬件、软件、支持和初步培训，帮助您开始并理解获得的结果。Insplorion X1使用远程光学读数，因此只需要将传感器芯片而非敏感光学设备放置在反应室内。因此，X1可以在高温（最高600°C）和常压（大气）下工作，并且仍然保持高分辨率和灵活性。技术指标高温反应器 传感器芯片位置 双通道 连接处 进口：1/8英寸，出口：1/4英寸 质量流量调节* 可连接多达16路质量流量控制器 材料 石英，不锈钢 温度范围 室温-600oC* Insplorer软件兼容Bronkhorst品牌的质量流量控制器 传感器芯片 衬底 熔融石英 尺寸 9.5 mm x 9.5 mm x 1 mm 表面 纳米结构金 标准涂层* Au, SiO2, Si3N4, TiO2, Al2O3 * 可订购客户化的薄膜涂层传感器 光学读数性质 光源* 卤钨灯，最低寿命2000小时 测量点尺寸 圆形区域~直径3mm 波长范围** 450 - 1000 nm 时间分辨率 每秒10个采样点 典型噪音*** 0.01 nm*可自定义选项和可替换，**可自定义波长范围，***在液相环境中的采样速率达到1Hz 软件 操作系统 兼容Windows操作系统 数据输出格式 ASCII兼容直接使用的任何绘图软件 分析的参数 多参数输出（如：共振波长、宽度和消光）应用 1、氢气传感/贮存 Insplorion NPS技术为储氢和固态反应领域的研究者提供了一种新的、强大的研究工具，以克服众多的实验挑战。NPS的测量集中在一个明确的模型系统上，在“运行”条件下和受控的微环境中使用少量的样品。这导致了各种梯度的最小化，以及广泛的粒径分布的扭曲。高时间分辨率使快速变化过程能够在高温下的固态反应中被监控。成功故事NPS技术已成功地用于解决纳米储存实体储氢领域的以下问题：1、在D5nm尺寸范围内，钯纳米粒子的氢化和脱氢动力学的尺寸依赖性。2、在D5nm尺寸范围内，钯纳米粒子氢化物形成和分解热力学的尺寸依赖性。3、金属纳米粒子中氢化物形成与分解之间的尺寸依赖性滞后现象的研究。4、镁和钯纳米粒子氢化物形成热力学的定量单粒子研究。 2、超薄的聚合物膜和纳米结构/纳米粒子的玻璃化转变温度在超薄聚合物膜中，玻璃化转变温度Tg因近表面层（几纳米厚）的存在而变得尺寸/厚度依赖，其中聚合物片段具有不同的流动性。Insplorion的NPS技术为聚合物薄膜领域的研究者提供了一个研究相变的强大工具。 成功故事NPS技术已成功地用于解决以下现象：1、无规聚甲基丙烯酸甲酯（PMMA）玻璃化转变温度（Tg）薄膜的厚度依赖性。2、聚苯乙烯（PS）纳米粒子中玻璃化转变温度（Tg）的尺寸依赖性。

产品信息将光谱学与QCM-D相结合。同时使用纳米等离子体光谱技术（NPS）和耗散监测型石英晶体微天平技术（QCM-D）进行实时测量。 主要特征a、同时获得相同表面上相同样品的干质量（折射率RI）、湿质量（声学）和黏弹性的实时变化。b、使用Insplorion的纳米等离子体光谱技术（NPS）和Q-Sense的耗散监测型石英晶体微天平技术（QCM-D）在完全相同的实验条件下同时测量。c、非常容易使用当配备Q-Sense窗口模块时，Insplorion Acoulyte直接安装在Q-sense Explorer（E1）和Analyzer（E4）仪器上。Insplorion Acoulyte传感器是具有NPS结构的Q-Sensor。技术指标传感器 尺寸直径 14 mm 衬底 SiO2涂层的QCM-D传感器 表面 纳米结构金 标准涂层 Si3N4, SiO2, Al2O3, TiO2 测量特征 光源 卤钨灯 灵敏度* 0.03单分子层 测量点直径 3 mm 时间分辨率 每秒10个采样点 典型噪音 0.01 nm 波长范围 450-1000 nmQCM-D的测量不受Acoulyte的影响。 尺寸(宽度x深度x高度) Acoulyte模块 8x5x3 cm Insplorion光学单元 25x27x9 cm 软件 兼容软件 Insplorer 操作系统 兼容Microsoft Windows操作系统 数据输出格式 ASCII码文本文件格式，直接使用的任何绘图软件都兼容此格式 分析的参数 分析的参数多参数输出(比如：LSPR峰处的共振波长和消光)应用领域NPS和QCM-D的互补性测量 感应深度 NPS干质量 30 nmQCM-D湿质量 300 nmAcoulyte干质量和湿质量深度分析InsplorionNPS技术在纳米等离子体光谱技术（NPS）中，纳米结构传感器的局域表面等离激元共振技术（LSPR）用于探测邻近传感器表面（30 nm）的折射率（与光/干质量有关）的微小变化。它能够极其灵敏地检测发生在传感器/样品界面处的变化过程。分子解吸附（吸附） 时间和深度分辨测量厚膜（~1 mm）的分子解吸附（吸附）。Acoulyte也可以辨别溶胀和吸附/解吸附事件。检测到什么？ NPS 邻近表面（30 nm）的折射率变化QCM-D 整个膜的质量变化。 脂质双层膜 Acoulyte能够更详细地阐释表面薄膜的形成过程。检测到什么？ NPS 囊泡吸附时折射率增大囊泡坍塌时折射率增大QCM-D 囊泡吸附时质量增大囊泡坍塌时质量减小气体吸附/解吸附 通过QCM-D技术和NPS技术的联用，就可以实现深度分析以及研究表面支撑膜内的扩散时间和机制。检测到什么？ NPS传感器/样品界面的折射率变化。QCM-D 整个膜和膜的顶部的质量变化。

Zygo纳米位置传感器绝对位置传感器ZPS™ 在多达64个同步通道上进行高精度、非接触式绝对位置测量ZYGO的ZPS™ 系统使用超小型光学传感器测量绝对位置，这些传感器可轻松集成到可变形反射镜和镜头定位等高精度应用中。光学传感器系统可在1.2mm范围内提供多达64个同步通道的高精度、非接触式绝对位置测量。测量分辨率为0.01nm，测量稳定性≤1nm/天。光学传感器不会产生热量，对电磁干扰不敏感，因此ZPS系统是可能受这些因素影响的高精度应用的理想选择。超紧凑的传感器通过光缆连接到紧凑的集中式机柜上。ZYGO免费提供的ZPS™ 软件在ZPS系统和计算机之间提供了即插即用的连接，允许您能够快速、轻松地启动并运行您的系统。应用ZPS系统通常被用于闭环反馈系统，它需要来自多个传感器的连续高精度位置数据流来补偿漂移并保持精确的定位和对准。该系统还可以作为研发和工程以及制造环境中的工具，用于测试夹具的对准或量化动态机械性能。主要特点：非接触式光学测量可重复的绝对位置测量（≤0.5nm,3σ）采用专有补偿算法的高精度系统超紧凑的传感器，对电磁干扰不敏感，也不发热可靠的电信级光纤组件可扩展，最多可扩展至64个通道

产品信息Insplorion S2 采用双通道流通池，用于无标记和原位研究分子间相互作用和表面吸附事件。 此系统在表面/样品界面几十纳米范围内实现了真正的纳米级测量，并完美地控制样品和缓冲液的流动。 1、集成和自动化的流体处理具有软件命令队列、6通注射阀和不间断流量注射泵的自动流量操作，并集成了缓冲液更换和冲洗操作。2、精确的温度控制快速和稳定的温度控制，范围在15°C至45°C之间，波动在0.1°C以下。 3、易于操作样品通过集成的流体处理系统输送，具有完全的用户可访问性，易于操作和精确控制。自动化操作通过Insplorion InControl软件实现。单柄的可拆卸流通池带有单独的传感器托盘，易于日常使用和维护。 4、兼容性nsplorion S2 适用于任何生物材料，并可以轻松处理不同类型的生物样品：脂类、蛋白质、核酸、病毒、生物膜、生物矿物、水凝胶。尽管Insplorion S2 设计用于处理生物样品，但这款仪器非常耐用，还可以处理许多其他的材料和化学物质。有关样品的化学兼容性的更多信息，请联系我们。5、多功能由于其无标记、实时和表面灵敏的特性，NPS 技术具有广泛的用途。Insplorion S2 擅长展示NPS技术的最佳特征，并将其用于要求减少样品处理和严格控制温度的生物应用。理论上，可以测量任何改变表面传感器光学环境的现象。这包括许多过程，比如： 分子吸附到不同表面、 脂质双层膜的形成和相互作用、温度依赖的相互作用、构象变化、 生物分子识别、生物矿化、生物膜形成、 加载和卸载动力学。 技术指标流通池 传感器芯片位置 双通道* 注射类型 带样品环的注射泵 样品死体积 20μL 标准注射器体积 250μL** 典型流速 12.5 - 250 μL/min *** 标准样品环 200μL 材料 蓝宝石玻璃、钛 垫圈和管子 PTFE,FPM和硅橡胶 温度范围 15-45℃，稳定性为0.1℃* 串联排列 ** 可以配置 *** 软件控制传感器 尺寸 9.5 x 9.5 mm, 1 mm厚 衬底 熔融石英 表面 纳米结构金 标准涂层** 无涂层, SiO2, Al2O3, TiO2 * 还提供定制的银传感器纳米结构 ** 可以订购带有定制薄膜涂层的传感器。测量特征 测量类型 无标记纳米等离子体传感 光源* 卤钨灯，最低寿命2000小时 测量点直径 1.5mm 时间分辨率 每秒多达10个采样点 典型噪音** 波长0.1nm 探测深度 达30nm* 可提供定制选择和替换 ** 以1 Hz的采样率。系统 尺寸 W65xD42xH36 cm 重量 30kg软件 控制软件 InControl 1.0 操作系统 兼容微软Windows系统 数据输出格式 专有的CSV/TSV输出，易于使用任何其他图形工具包 分析的参数 多参数读出（表面浓度的有效变化）应用领域Insplorion S2 适用于任何生物材料，并可以轻松处理不同类型的生物样品：&bull 脂类&bull 蛋白质&bull 核酸&bull 病毒&bull 生物膜&bull 生物矿物&bull 水凝

FT-NMT04纳米力学测试系统是一种多功能的原位SEM/FIB纳米压痕仪，能够在微米和纳米尺度上准确量化材料的力学行为。 FT-NMT04原位纳米压痕仪针对金属、陶瓷、薄膜以及超材料和MEMS等微观结构的机械测试进行了优化。此外，通过使用各种附件，FT-NMT04的功能可以扩展到各个研究领域的各种要求。 典型应用包括通过微柱的压缩测试或狗骨试样、薄膜或纳米线的拉伸测试来量化塑性变形机制。典型应用包括通过微柱的压缩测试或狗骨试样、薄膜或纳米线的拉伸测试来量化塑性变形机制。此外，在压缩测试期间进行连续刚度测量，可以在微梁断裂测试期间量化裂纹扩展和断裂韧性。由于 FT-NMT04 分别具有 500 pN 和 50 pm 的无可比拟的低本底噪声，因此可实现具有无可比拟的可重复性的浅纳米压痕，以及纳米压痕与 EBSD 成像的前所未有的相关性。

一、 动态现场原位的感应能力使用Insplorion NPS光纤传感器，光学动态现场原位地感应电池内部的物理化学变化和温度变化。二、测量多达8个电池同时连接多达8个电池进行数据采集，或为几个电池配备多个传感器用于空间分辨测量。三、纳米尺度光学监测以纳米级分辨率获取电池工艺的信息和了解更多电极表面的信息。四、完整独立的包Insplorion M8：8通道分析仪系统由硬件和软件组成，集成在一个完整的包中，随时准备启用。五、多功能兼容性Insplorion的NPS传感器与各种电池的类型以及化学成分兼容。

产品信息动态现场原位的感应能力使用Insplorion NPS光纤传感器，光学动态现场原位地感应 电池内部的物理化学变化和温度变化。 测量多达8 个电池同时连接多达8个电池进行数据采集，或为几个电池配备多个传感器用于空间分辨测量。 纳米尺度光学监测以纳米级分辨率获取电池工艺的信息和了解更多电极表面的信息。 完整独立的包Insplorion M8：8通道分析仪系统由硬件和软件组成，集成在一个完整的包中，随时准备启用。 多功能兼容性Insplorion的NPS传感器与各种电池的类型以及化学成分兼容。技术指标传感器尺寸100 μm衬底光纤标准涂层*聚合物*可根据要求提供涂层测量特征测量间隔时间250 ms 至10s，取决于使用的通道数多通道检测能力达8个通道* 顺序采集*自由选择连接到电池的通道，并根据需要添加和移除电池。尺寸OKTA 单元380 x 265 x 134 mm光学 单元250 x 270 x 90 mm软件控制软件Insplorion OKTA Controller操作系统兼容微软 Windows 操作系统数据输出格式ASCII 兼容，可直接用于任何数据分析软件 应用 LFP/石墨硬币电池中恒流（CC）测量期间的NPS信号（蓝色）和电压（橙色）。传感器放置在阴极-隔膜界面处。观察到NPS信号与累积电荷之间存在非线性相关性。

仪器简介：If smallest parts or samples have to be moved or positioned with nanometer precision in the millimetre range, nanopositioning systems with piezo inertial drive are used. Very compact actors with appropriate control units are available for rotational and linear movements. The compatibility to each other allows the assembly of multi-axes combinations for complex movements. All the nanopositioning system have a piezo inertialdrive. With a travel in the millimetre range and steos in the nano meter range or with large adjustment range and steps in the &mu rad range, they are suitable for manifold applications. The basic components of the gonimeter are made of high strength aluminium. Due to a black anodized coating, the surface is protected and reflexion-poor. For the mounting of the nanopositioners, the mounting plate NMP 50is recommend. It is available as a ccessory. In order to operate the nanopositioners,the manual control unit NHS06 has to be used. The complete system is pluggable and ready for connection.技术参数：仪器名称,型号/参数行程最小步长最大步长负载 (N)重复定位精度(双向)倾斜力矩(Mx,My,Mz)(Nm)速度 纳米旋转位移台 NDT 24-30无限旋转角度40 &mu rad100&mu radmax.2 max.0.1max.100mrad/s 纳米旋转位移台 NDT 24-30-MSI无限旋转角度40 &mu rad100&mu radmax.240&mu radmax.0.1max.300mrad/s 纳米角度位移台 NAGO P 24－8± 3.3 度2 &mu rad6 &mu radmax.2 max.0.1 纳米角度位移台 NAGO T 24－8± 4度2 &mu rad6 &mu radmax.2 max.0.1 纳米升降位移台 NHV 24－66mm100nm300nmmax.3 max.0.1 纳米升降位移台 NHV 24－6－MSI6mm50nm700nmmax.3400 nmmax.0.1 纳米线性位移台 NLV 24-77mm200nm300nmmax.2 max.0.1max.0.3mm/s 纳米线性位移台 NLV 24-7-MSI7mm50nm700nmmax.2400nmmax.0.1max.0.7mm/s 纳米线性位移台 PT 30-54.8mm300nm800nmmax.30 max.0.5max.0.8mm/s 纳米线性位移台 PT 30-5-MSI4.8mm100nm2000nmmax.30400nmmax.0.5max.2mm/s 主要特点：&bull high power density on little space &bull 纳米量级或&mu rad量级可调 &bull 停止是无摆动或振荡 &bull 由高强度的铝制成，黑色阳极氧化 &bull with ceramic guide for high life time Option &bull version for use in cacuum

真尚有_进口 美国KAMAN 亚纳米分辨率 电涡流传感器SMT9700SMT9700埃米级电涡流位移传感器是一款专门为客户定制的OEM产品，可测非导磁体和铁磁材料，有1、2或3通道可配电涡流探头。SMT9700系统拥有埃米级分辨率，符合CE和ROHS标准，尺寸小巧，并可配13种电涡流探头。同时材料、线性、分辨率、带宽各种性能可自行优化。SMT9700埃米级电涡流位移传感器主要特点：1、 1、2 和 3 通道配置2、 纳米到亚纳米分辨率3、 简单、经济高效的性能定制4、 符合 CE 和 RoHS 标准5、 小尺寸6、 13个标准传感器选项SMT9700埃米级电涡流位移传感器满足并超越了当今高精度定位和位移传感应用的要求。该系统非常适合各种应用，如：原子力显微镜中的 XYZ 载物台位置反馈、半导体光刻设备中的 Z 轴反馈、轴承座圈精密磨削中的 Z 轴反馈、光学定位雕刻头位置反馈… … 基于专有架构配置的 SMT9700 非常具有成本效益，即使在小批量 OEM 应用中也是如此，价格仅为实验室和分析应用中竞争技术的一半。SMT9700埃米级电涡流位移传感器标准探头及控制器参数：

气溶胶纳米喷印纳米印刷是柔性电子领域重要的区域性沉积技术， VSP-P1 采用独家的气溶胶冲压沉积技术，将原材料通过火花烧蚀的方式转变成纳米级气溶胶颗粒，并在真空系统配合下实现图案的绘制。该方法避免了传统喷墨打印需要导电油墨以及后续热处理去除油墨的弊端，保证图案的纳米结构最大程度的保留，避免产生气孔等缺陷。运行原理气溶胶颗粒会通过火花烧蚀的方式在前端产生，颗粒经由惰性气体带动运输至喷嘴处，经过真空系统作用，腔室的气压会保持在 10mbar 以下，而经由喷嘴喷出的气溶胶会在基底表面冲压沉积。而利用 XYZ 轴控制喷嘴的移动，即可实现图案的绘制。利用该方法，可轻松实现：1. 金属，合金，氧化物颗粒的印刷沉积2. 无添加剂，无废液3. 一步沉积，设备模块化，前端的气溶胶发生器可独立拆卸工作，进行其它方向的纳米研究4. 颗粒初始粒径可保持在 0-20nm 之间，形成多孔结构应用领域 高通量合金催化剂的筛选利用气溶胶喷印在多个通道打印沉积比例不同的合金催化剂，从而快速考查电催化性能。该方法可用于在工业相关电流密度下的流体力学条件下制备和筛选电极材料，可用于确定最佳催化剂和催化剂制备的稳健性。Ni / Fe 的复合电极被用于进行验证，64 个不同比例的催化阳极电极在快速筛选后可得到反应电位的变化。SERS表面增强拉曼光谱需要精细的 Au, Ag 等纳米结构，从而实现对低信号量化学物质的灵敏检测。利用气溶胶喷印技术在基底表面快速绘制纳米图案，进行拉曼光谱检测。这种方法避免添加剂对检测的干扰，在较低的温度处理后便可进行后续检测。纳米印刷结构在对罗丹明 6G，PMBA，三聚氰胺的检测中，标准基片表现出了优异的信号增强性能。气体传感器 金属氧化物 (MOX) 气体传感器通过半导体金属氧化物薄膜的电阻变化来检测气体，但氧化物涂层需要温和的沉积，故而常用的 PVD 与 CVD 手段均不适用。现有方法为利用溶胶凝胶法结合丝网印刷实现区域的沉积。利用气溶胶喷印直写可以实现精准的印刷沉积，避免热处理。

3D纳米结构高速直写机 — —纳米光刻与微米光刻兼顾的联合图形化工艺方案 NanoFrazor光刻技术，衍生于IBM Research研发的热扫描探针光刻技术——快速、地控制纳米针的移动及温度，利用热针实现对热敏抗刻蚀剂的快速刻写，从而为纳米制造提供了许多新颖的、特的可能性。NanoFrazor Explore以高的速度、精度和可靠性运行，在目前所有扫描探针光刻技术中属于速度快、应用广泛的一种。NanoFrazor Explore配备了先进的硬件和软件，以合适的方式控制可加热的NanoFrazor悬臂梁，以便进行书写和成像，实现基于闭环光刻技术的各种高精度图案化工艺。2019年，Explore增配了激光直写模块，有效加快了特征线宽在微米或亚微米水平的图形的加工速度，成为纳米光刻与微米光刻兼顾的联合图形化工艺方案。由此，在针对同一抗刻蚀层的图案化工艺中，实现了纳米刻写与微米刻写的无缝衔接。从而可以根据不同的图案特征线宽，采用不同精度的刻写技术，兼顾精度与速度。 主要特点：★ 利用加热针直接刻写图案，分辨率优于15 nm；★ 利用激光热挥发实现图案化，分辨率优于1 μm；★ 高速直写 10 mm/s★ 高速原位AFM轮廓成像；★ 样品尺寸100×100 mm2；★ 闭环光刻；★ 灰度曝光，分辨率及精度达到2 nm；★ 利用原位AFM实现的对准，从而实现无掩膜套刻及写场拼接；★ 的隔音及隔振性能；★ 无需洁净间，亦无特殊的实验室环境要求闭环光刻NanoFrazor光刻系统是基于热扫描探针光刻技术，其核心部件是一种可加热的、非常锐的针，利用此针可以直接进行复杂纳米结构的刻写并且同时探测刻写所得结构的形貌。加热的针通过热作用，直接挥发局部的抗刻蚀剂，从而实现对各类高分辨纳米结构的制备。此外，NanoFrazor的光刻技术能够与各类标准的图形转移方案（如lift-off、刻蚀）兼容，从而实现各类材料的图形化制备。“闭环光刻”技术确保图形化工艺的高度纳米光刻与微米光刻兼顾的图形化工艺方案自2019年开始，NanoFrazor Explore增配了激光直写模块，由此在保障纳米分辨率图案刻写精度的同时，大大提升了NanoFrazor Explore对微米分辨率图形的刻写速度。激光刻写基于激光的热作用，以亚微米精度，快速、直接地挥发抗刻蚀剂，从而实现大面积的图案化工艺（例如微纳结构的引线或焊点图形制备）。热探针直写对于纳米结构或纳米器件关键部分的高精度、高分辨率刻写。刻写所得结构的测量、观测、对准由于抗刻蚀剂直接挥发，无须湿法显影操作即可实现抗刻蚀剂的图案化。在图案化过程中，同一根探针能够原位、高速的对图案化抗刻蚀剂进行AFM成像和测试。微米尺度及纳米尺度的哈佛大学校徽，对PPA刻蚀剂的刻蚀深度为30 nm，图像由NanoFrazor Explore的探针进行AFM成像获得。(Courtesy of Harvard CNS)3D灰度纳米光刻★ 可在针扫描的每个位置对图案化工艺的深度进行设定（即每个像素点的灰度值）★ 闭环光刻技术能够实现很高的灰度刻写精度（经论证，对大于16个灰阶的结构进行图案化工艺，灰度刻写的误差小于1纳米）用于TEM的电子光学系统的三维相盘，由PPA中的微结构转移至SiN薄膜获得(Courtesy of EPFL and KIT)刻写在PPA中的多全息图的局部（图片由Explore的探针在刻写同时进行AFM成像获得）；小图展示的是转移至Si中的全息图局部的SEM图像（Courtesy of Sun Yat-Sen University）无掩膜套刻与拼接★ 通过原位AFM功能实现高精度的无掩膜套刻及拼接（经论证，精度优于10 nm）；★ 埋在抗刻蚀剂PPA下的图案结构（如纳米片、纳米线等）可用作“天然的”对准标记写场的自动关联拼接；由金的lift-off工艺获得的）反射全息图包含1×108个像素点，每个写场为边长50 μm的正方形，写场间的拼接由AFM相关技术实现利用无掩膜光刻在单根纳米线上制备金属电：（a）由Explore的AFM成像功能探测到的纳米线轮廓及位置信息（绿线标出）与拟制备的电结构布局图（粉色区域）；（b）lift-off工艺后获得的带有金属电的单根纳米线的SEM图像高分辨率★ 锐的针，为了高分辨率的实现（经论证，在PPA抗刻蚀剂中能够实现的半节距优于10纳米）★ 无须针对临近效应的修正由PPA抗刻蚀剂转移至硅基衬底的鳍型结构和沟槽结构(Courtesy of IBM Research and imec) 其他特性能★ 低损伤：制备过程中没有引入带电粒子束流，基于敏感材料的微纳器件能够获得更好器件特性★ 纳米尺度的材料转换：多种材料的直接热诱导修饰（相变、化学反应… … ）新型号：NanoFrazor Scholar — 小面积直写■ 3D纳米直写能力 高直写精度 (XY: 高可达20nm, Z: 3nm) 高速直写 0.5 mm/s■ 无需显影，实时观察直写效果 形貌感知灵敏度0.1nm 样品无需标记识别，多结构套刻，对准精度 50 nm ■ 无临近效应 高分辨，高密度纳米结构 ■ 无电子/离子损伤 高性能二维材料器件■ 区域热加工和化学反应 多元化纳米结构改性■ 小样品台 30mm X 30mm应用案例三维光子分子（3D PHOTONIC MOLECULES）(Courtesy of IBM Research Zurich, publication in 2018)单电子器件Courtesy of IBM Research Zurich, publication in 2018基于二维原子晶体的器件(Courtesy of Prof. Elisa Riedo, NYU)基于准一维纳米材料的纳米器件(Courtesy of S. Karg & A. Knoll, IBM Research – Zurich)基于布朗马达的纳米器件，可用于纳米颗粒分类(Courtesy of IBM Research, Publications in Science and PRL 2018) 国内外客户已发表的文献● Wolf (JVST B 2015) Sub20nm Liftoff and Si Etch and InAs nanowire contacts● Garcia (Nat Nano 2014) Advanced scanning probe lithography● Rawlings (IEEE Nano 2014) Nanometer accurate markerless pattern overlay using thermal Scanning Probe Lithography● Holzner (SPIE EMLC 2013) Thermal Probe Nanolithography● Cheong (Nanoletters 2013) Thermal Probe Maskless Lithography for 27.5 nm Half-Pitch Si Technology● Fei Ding (PhysRevB 2013) Vertical microcavities with high Q and strong lateral mode confinement● Carrol (Langmuir 2013) Fabricating Nanoscale Chemical Gradients with ThermoChemical NanoLithography● Paul (Nanotechnology 2012) Field stitching in thermal probe lithography by means of surface roughness correlation● Kim (Advance Mat 2011) Direct Fabrication of Arbitrary-Shaped Ferroelectric Nanostructures on Plastic, Glass, and Silicon Substrates● Holzner (APL 2011) High density multi-level recording for archival data preservation● Holzner (Nanoletters 2011) Directed placement of gold nanorods using a removable template● Paul (Nanotechnology 2011) Rapid turnaround scanning probe nanolithography● Wang (Adv Funct Mat 2010) Thermochemical Nanolithography of Multifunctional Nanotemplates for Assembling Nano-Objects● Wei and King (Science 2010)Nanoscale Tunable Reduction of Graphene Oxide for Graphene Electronics● Pires (Science 2010) Nanoscale 3DPatterning of Molecular Resists by Scanning Probes● Knoll (Adv Materials 2010) Probe-Based 3-D Nanolithography Using SAD Polymers● Fenwick (Nat Nano 2009) Thermochemical nanopatterning of organic semiconductors● Lee (Nanoletters 2009) Maskless Nanoscale Writing of Nanoparticle-Polymer Composites and Nanoparticle Assemblies using Thermal Nanoprobes● Nelson (APL 2006) Direct deposition of continuous metal nanostructures by thermal dip-pe

纳米空间分辨超快光谱和成像系统 “空间和时间的结合”— 纳米分辨和飞秒别的光谱超快光谱技术拥有诸多特色，例如高的时间分辨率，丰富的光与物质的非性相互作用，可以用光子相干地调控物质的量子态，其衍生和嫁接技术带来许多凝聚态物理实验技术的变革等等。然而，受制于激发波长的限制（可见-近红外），超快光谱在空间分辨上受到了一定的制约，在对一些微纳尺寸结构的材料研究中，诸如一维半导体纳米线，二维拓扑材料、纳米相变材料等，无法地进行有效的超快光谱分析。 德国Neaspec公司利用十数年在近场及纳米红外领域的技术积累，开发出了全新的纳米空间分辨超快光谱和成像系统，其pump激发光可兼容可见到近红外的多组激光器，probe探测光可选红外（650-2200 cm-1）或太赫兹（0.5-2 T）波段，实现了在超高空间分辨（20 nm）和超高时间分辨（50 fs）上对被测物质的同时表征。技术原理：设备特点和参数：→ 超高空间分辨和时间分辨同时实现；→ 20-50 nm空间分辨率；→ 根据pump光源时间分辨可达50 fs；→ probe光谱可选红外（650-2200 cm-1）或太赫兹（0.5-2 T）应用领域：→ 二维材料→ 半导体→ 纳米线/纳米颗粒→ 等离激元→ 高分子/生物材料→ 矿物质......应用案例：■ 纳米红外超快光谱分辨率为10nm的InAs纳米线红外成像，并结合时间分辨超快光谱分析载流子衰减层的形成过程参考：M. Eisele et al., Ultrafast multi-terahertz nano-spectroscopy with sub-cycle temporal resolution, Nature Phot. (2014) 8, 841.稳态开关灵敏性：容易发生相变的区域，光诱导散射响应较大参考：M. A. Huber et al., Ultrafast mid-infrared nanoscopy of strained vanadium dioxide nanobeams, Nano Lett. 2016, 16, 1421.参考：G. X. Ni et al., Ultrafast optical switching of infrared plasmon polaritons in high-mobility graphene, Nature Phot. (2016) 10, 244.参考：Mrejen et al., Ultrafast nonlocal collective dynamics of Kane plasmon-polaritons in a narrow- gap semiconductor, Sci. Adv. (2019), 5, 9618.■ 范德华材料 WSe2 中的超快研究参考：Mrejen et al., Transient exciton-polariton dynamics in WSe2 by ultrafast near-field imaging, Sci. Adv. (2019), 5, 9618.■ 黑磷中的近红外超快激发黑磷的high-contrast interband性质使其具有半导体性质，在光诱导重组过程中表面激发的电子空隙对（electron-hole pairs）～50fs并在5ps内消失参考：M. A. Huber et al.,Femtosecond photo-switching of interface polaritons in black phosphorus heterostructures, Nat. Nanotechnology. (2016), 5, 9618.■ 多层石墨烯中等离子效应衰减效应参考：M. Wagner et al., Ultrafast and Nanoscale Plasmonic Phenomena in Exfoliated Graphene Revealed by Infrared Pump?Probe Nanoscopy, Nano Lett. 2014, 14, 894.发表文章：neaspec中国用户发表文章超80篇，其中36篇影响因子10。部分文章列表：● M. B. Lundeberg et al., Science 2017 AOP.● F. J. Alfaro-Mozaz et al., Nat. Commun. 2017, 8, 15624.● P. Alonso-Gonzales et al., Nat. Nanotechnol. 2017, 12, 31.● M. A. Huber et al., Nat. Nanotechnol. 2017, 12, 207.● P. Li et al., Nano Lett. 2017, 17, 228.● T. Low et al., Nat. Mater. 2017, 16, 182.● D. Basov et al., Nat. Nanotechnol. 2017, 12, 187.● M. B. Lundberg et al., Nat. Mater. 2017, 16, 204.● D. Basov et al., Science 2016, 354, 1992.● Z. Fei et al., Nano Lett. 2016, 16, 7842.● A. Y. Nikitin et al., Nat. Photonics 2016, 10, 239.● G. X. Ni et al., Nat. Photonics 2016, 10, 244.● A. Woessner et al., Nat. Commun. 2016, 7, 10783.● Z. Fei et al., Nano Lett. 2015, 15, 8271.● G. X. Ni et al., Nat. Mater. 2015, 14, 1217.● E. Yoxall et al., Nat. Photonics 2015, 9, 674.● Z. Fei et al., Nano Lett. 2015, 15, 4973.● M. D. Goldflam et al., Nano Lett. 2015, 15, 4859.● P. Li et al., Nat. Commun. 2015, 5, 7507.● S. Dai et al., Nat. Nanotechnol. 2015, 10, 682.● S. Dai et al., Nat. Commun. 2015, 6, 6963.● A. Woessner et al., Nat. Mater. 2014, 14, 421.● P. Alonso-González et al.,Science 2014, 344, 1369.● S. Dai et al., Science 2014, 343, 1125.● P. Li et al., Nano Lett. 2014, 14, 4400.● A. Y. Nikitin et al., Nano Lett. 2014, 14, 2896.● M. Wagner et al., Nano Lett. 2014, 14, 894.● M. Schnell et al., Nat. Commun. 2013, 5, 3499.● J. Chen et al., Nano Lett. 2013, 13, 6210.● Z. Fei et al., Nat. Nanotechnol. 2012, 8, 821.● J. Chen et al., Nature 2012, 487, 77.● Z. Fei et al., Nature 2012, 487, 82.

PDMS系列压电摩擦纳米发电机测试机 方案简介：王中林院士在纳米科学与能源技术领域有着高深的造诣，其所提出的纳米发电机方向，为不少高校材料学院的研究方向之一。但是由于此类材料，多为高阻材料，其对测试的仪器仪表有了更高的要求。6514和6517B以其高达200TΩ的源内阻，以及pA至mA级别的高精度电流量程，成为了纳米发电机电压，电流测试的不二之选。 材料介绍：纳米发电机，是基于规则的氧化锌纳米线，在纳米范围内将机械能转换成电能，是较小的发电机。目前纳米发电机分为三类：压电纳米发电机；摩擦纳米发电机；热释电纳米发电机，一般应用于生物医学，无线通信，无线传感等领域。PDMS系列压电摩擦纳米发电机测试机主要技术参数1.采集软件功能:软件可快速采集电流、电压、电阻、电荷随时间变化曲线,V-T, I-T,R-T,Q-T曲线。软件可设置静电计的量程范围、对静电计进行零点校正、设置静电计NPLC采样速度。可连续可调设置采集卡的采集速度,最大可达50k/s，可设置记录时间,在测试的过程中实时绘制数据曲线，数据自动保存、数据可用Excel、记事本、Origin打开并分析。包含采集卡1个、转接头适配器1个及USB通信电缆1条，RS232通信电缆1条、低噪声3同轴测试电缆1条2.静电计技术参数： 2.1输入阻抗：200TΩ 2.2电压量程：10µ V-200V 2.3电流量程：50pA-20mA2.4电阻量程：10mΩ-200GΩ 2.5电荷量程：20nC-20µ C 3.直线电机技术参数3.1有效行程：360mm 3.2最佳行程：280mm 3.3峰值推力：163N 3.4持续推力：29N3.5持续推力（风冷）：54N 3.6力常数：20.4N/A3.7最大电流@72VDC：8A 3.8最大电流@48VDC：6.3A 3.9最大速度@72VDC：3.2m/s 3.10最大速度@48VDC：2.2m/s3.11配置驱动软件1套3.12光学面包板1套 3.13控电柜1个3.14剪式升降台2个3.15 TENG 直角架与转接板1板 4.测力计技术参数4.1拉压力测量:501bF/800ozF/25kgF/25000gF/250N4.2精度：±0.1%FS4.3分辨率：0.00lbF/0.2ozF/0.005kgF/5gF/0.05N 4.4测量单位：lbF ozF kgF gF N4.5输出：RS232 digiatic USB analogue4.6可存储测量值：1000 个

产 品 说 明 NAP-57A 是NEMOTO公司推出的可燃气体传感器，是基于 56A 研发出来的新品，可以用在工业及商业场合的可燃气体探测器上，它在 HMDS 和 H2S 等毒性气体环境下有良好的检测灵敏度，同时传感器的功耗和管脚位置与 55A 和 56A是相同的。.●额定值?供给电压 AC 2.5 ± 0.25V(50－60Hz) DC 2.5 ± 0.25V ?电 流 AC 160 – 180mA (2.5V供给时) DC 160 –180mA?温 度 -20 - +60℃?湿 度 低于95%RH(不可结露)?测量范围 1%～100%LEL●外形尺寸 ●推荐电路 ●相应灵敏度(以甲烷为例) NEMOTO(根本特殊化学）公司是世界知名的气体传感器公司，产品性能优良、品质卓越，已被各大厂商选用。我公司作为国内代理，担负着产品推广、产品销售、售后服务、资料整理与翻译、技术支持等任务。欢迎各公司咨询、选购

纳米力学和纳米摩擦学测试的一大飞跃Bruker’s Hysitron TI 980 TriboIndenter海思创TI 980 TriboIndenter纳米压痕仪是布鲁克zui先进的纳米力学测试设备，同时具有zui高的性能、灵活性、可信度、实用性和速度。TI 980纳米压痕仪是布鲁克著ming的海思创纳米压痕设备的新一代产品。它建立在几十年的技术创新上，提供了纳米力学和纳米摩擦学表征领域全新水平的非凡性能、能力和功能。 让您时刻保持在材料探索和发展前沿采用布鲁克的Performech II先进控制模块，TI 980纳米压痕仪在控制能力、测试通量、测试灵活性、适用性、灵敏度、可信度和系统模块化等方面有了显著的进步。TI 980包含以下多种强有力的功能：纳米压痕与微米压痕、纳米划痕、纳米摩擦磨损、高分辨原位扫描探针显微镜成像、动态纳米压痕和高速机械性能成像。这些测试功能有助于全面理解材料纳米尺度下的行为。 简易高速的自动化海思创TI 980提供了高通量表征所需的快速、多样品和多技术自动测试能力。它可以按照设定时间间隔自动验证针尖形状，还可以实现多尺度下的高分辨成像和全样品光学扫描。 不会过时的表征潜力鉴于将来会出现不同与今日的表征需求，TI 980纳米压痕仪被设计为具有zui好的灵活性。TI 980支持大量集成和具有相关性的纳米力学表征技术，使您时刻保持在材料研发前沿。集成多种系统控制模块和数据分析软件、通用样品固定选项（机械、磁性和真空）和模块化环境腔，TI 980也适用于您将来的表征需求。 纳米力学测试设备Bruker’s TI 950 TriboIndenter海思创TI 950 TriboIndenter纳米压痕仪是布鲁克一台用于多种纳米力学和纳米摩擦学表征的自动化、高通量测试设备。海思创TI 950纳米压痕仪集成了强大的Preformech I先进控制模块，显著提高了纳米力学测试反馈控制的准确度，提供了空前的低噪音水平。结合布鲁克的大量纳米力学测试技术和正在研发的测试方法，TI 950 TriboIndenter 是一台多功能和极其高效的纳米力学测试系统，适用于广泛的应用。 优异的控制反馈和灵敏度布鲁克先进的反馈控制算法和测量灵敏度为所有海思创纳米力学测试技术提供了精确的控制。海思创TI 950上所有的反馈控制功能都基于集成了数据信号处理器（DSP）和现场可编程门阵列（FPGA）的专业控制系统，用于精确实现用户的测试需求。 电容传感器技术专业的电容传感器技术提供了纳米压痕过程中前所未有的测量灵敏度（30nN, 0.2nm），准确性和可信度。静电激励模式使用微小电流，具有zui好的温漂性能，从而实现更快的数据采集，更高的精度和更好的重复性。集成原位扫描探针成像的高分辨光学系统海思创TI 950集成了带彩色CCD相机的光学系统，用于高放大倍数下的样品表面观察和测试位置选择。原位扫描探针成像系统能提供更精确的测试位置选择（±10nm）。TI 950的这种双模式成像设计实现了许多应用对精确控制测试位置的需求。 Hysitron TI Premier实现定量纳米力学研究布鲁克的海思创TI Premier系列被专门设计为在紧凑平台上实现领xian的定量纳米力学表征。基于已被广泛认可的先进技术，海思创TI Premier提供了纳米力学和纳米摩擦学测试的核心工具。除了使用不同配置的海思创TI Premier实现不同领域的研究测试外，TI Premier还提供了大量升级选项，用于满足将来的多种潜在测试需求。Contact Us Download Brochure 海思创TI Premier可满足不同研发需要。常用的配置选项包括： 准静态纳米压痕 多功能设计，针对薄膜和涂层力学性能表征优化 动态纳米压痕 适用于从超软到超硬的各种材料的准静态和动态力学系能表征 高温纳米压痕 研究不同温度下（高达800℃）材料的力学性能和时间依赖形变行为 多尺度压痕 实现从纳米到微米尺度的压痕测试

Hysitron TI 980 TriboIndenter加速纳米力学研究进入更高阶段 布鲁克的海思创TI 980 TriboIndenter同时具有最 高的性能、灵活性、可信度、实用性和速度。基于海思创几十年的技术创新，它为纳米力学表征带来了高水平的性能、功能和易用性。TI 980达到了一台优 异纳米力学测试仪器所需的所有要求，实现了控制上突出的先进性和高效性，试验上的灵活度与可实现性，测量稳定性，以及系统设计的模块化。 先进的Performech II控制模块和电子设计。 最 高性能的高速闭环控制。 业界领 先的噪音控制。集成的带输入/输出信号的多参数控制。 五百倍于前代产品的力学测试速度 多维度测量耦合。充分优 化各个传感器的特质适用不同测量需要，通过多维传感器的选择实现不同测量间的无缝耦合。 多种有效的测试模块配置，包括纳米/微米压痕、纳米划痕、纳米摩擦磨损、高分辨原位扫描探针显微镜成像、动态纳米压痕和高速力学性能成像等 丰富的系统控制和数据分析软件。TriboScan(TM) 10提供了创新的控制功能，包括XPM超快纳米压痕，SPM+原位扫描探针显微镜成像，动态表面搜索，全自动系统校准和创新的测试程序。Tribo iQ (TM)提供了强大的数据处理、分析和画图功能，并具有可编程数据分析模块和自动生成的定制测试报告功能。 极大的灵活性和具有前瞻性的表征潜质。多级别的防护罩提供了超强环境隔绝能力，并具有用于将来的升级可扩展接口。万 能样品台提供了机械、磁性和真空固定方式，适用于各种样品 保持处于材料研究和开发的最 前沿海思创从1992年起就在全球范围内处于纳米力学和纳米摩擦学表征的领 先位置。通过与研究人员和工程师的持续合作，布鲁克理解您的独特需求，通过创新的技术帮助您解决当下和将来面临的材料挑战。海思创TI 980 TriboIndenter是这些努力的集大成者。它提供了卓越的性能，能满足您持续更新的材料表征需求。 简洁、高速的自动控制系统自动校正使得每次测试都无懈可击。 针尖面积函数自动校正。 传感器自动校正。压针和光学系统校正 自动测试程序。快速、多样品自动测试功能实现高通量表征。 智能化自动程序确保用户选择正确的针尖。 高分辨多尺度成像结合全尺寸样品的光学搜索， 极大简化测试流程最 低的噪音水平，实现真正纳米尺度表征。从微米到几个纳米的多尺度测量。 纳牛级别的力噪音水平和小于90%原子直径的位移测量能力，实现几乎任何材料的定量表征。系统可实现超过6个数量级的力测量和10个数量级的位移测量。力和位移噪音水平保证在客户现场安装时实现 最 快的反馈控制速率精确控制测试过程。实现最 大精度、可信度和重复性的真正定量纳米力学和纳米摩擦学表征。 特殊的力和位移反馈控制方法用于海思创的传感器-专门针对海思创传感器物理特性开发的力与位移反馈控制算法。每隔0.013毫秒实现一次完整反馈控制，使得系统能测量快速瞬态过程，并对其作出反馈，真正实现用户的测试意图-每隔0.013毫秒实现一次完整的感知-分析-控制的循环，使得系统能对瞬态过程进行测量与反馈，以此重现用户定义的测试方式 在纳米力学测试上领 先一步nanoDMA III：动态纳米压痕布鲁克的nanoDMA III是强大的动态纳米压痕技术。它提供了弹/塑性和粘弹性随着压入深度、频率和时间的变化关系。。 全面表征各种材料的普适性方法，从较软的聚合物到硬质镀层都能适用。 集成直流和交流调制使得从初始接触点开始就能实现纳米尺度动态性能的可靠、定量表征。 原位参考频率法校正温漂使得长时间测试的精度大大提高 XPM：快速力学性能成像不论是测量分辨率和精度，还是测量速度，XPM都是纳米力学测试的业界新标杆。有了XPM，原来可能需要一整年才能获得的数据，现在只需要一个下午就能获得。这些领 先的性能是通过以下三个业界领 先的技术实现的。1）高带宽静电激励传感器；2）快速控制和数据采集电子系统；3）自上而下的原位扫描探针显微镜成像。这些技术联用能实现每秒六次纳米压痕测试，从而获得全面的定量纳米力学性能图谱以及性能分布的统计数据。 更少时间测量更多参数。 超高速定量力学性能测量（每秒6次测量）。 快速、高分辨空间硬度和模量分布统计。 一分钟内可靠完成针尖函数自动校正。 比传统纳米压痕测试快500倍的数据采集速率。 xSol 环境控制腔及载台，可实现极端环境条件下高通量测量 SPM+实现纳米力学测试前后的准确原位成像布鲁克首创的扫描纳米压痕技术使用同一根探针实现样品表面形貌成像和纳米压痕测试。这种方法实现了最 高的定位精度，并且可以在纳米压痕测试后立即对样品塑性形变进行成像，加快测试速度。。 高定位精度（+/-10nm）。 可以从64x64到4096x4096范围内设定扫描分辨率。 可以对各种高长宽比的特征形貌进行不同X-Y分辨率成像。 业界领 先的纳米力学性能成像分辨率和调色板。 可以和摩擦力成像，nanoDMA III，nanoECR和xSol环境控制腔等联用 强大的系统控制和分析TriboScan 10：强大的测试灵活性提供了无限的测试可能性。 将布鲁克纳米压痕全套测试技术集成到一个直观的软件内。 基于标签页架构的软件设计使得用户可以方便的使用软件功能。灵活的测试过程分段定义方法提供了适用于所有测试模式的优 异控制 TriboIQ: 可编程数据分析程序。易用的操作界面，从简单到复杂的可定制数据分析包。 直观的数据组织和分析流程，简单点击即可生成数据报告。 直观可自定义的数据处理和分析模块。 开放式架构使得多用户合作更加容易

纳米孔读取器纳米孔一般指孔径在1-10nm的孔道结构，其孔径大小与单个生物大分子尺寸相当，通常纳米孔被置入有机 磷脂薄膜内，将待分析样(如血清)分隔呈两部分，当电压施加于纳米孔两侧时，样本中的带电离子和分子会穿越纳米孔形成电流，产生的电流信号可由特定一起采集并进行分析。当生物大分子穿越纳米孔时，由于其尺寸和电荷等性质的不同，会产生特异性的电流特征信号，从而可以根据仪器采集的电流信号分析出样本中的生物大分子的结构、种类和浓度等信息。纳米孔包括固态纳米孔和生物纳米孔两大类，一般应用中的纳米孔为生物纳米孔，纳米孔生物传感器被广泛应用于生物大分子的定性和定量分析，如DNA测序、肿瘤标记物检测和环境重金属离子检测等，纳米孔技术是国际上热门的第三代基因测序技术，由于其在生物、化学、医学、食品与环境等领域内的巨大应用潜力，已经发展成一个生物、化学、医学、流体、电子、材料、机械等多学科交叉的崭新研究领域。纳米孔读取器是一种小型便携式读出设备，具有可重复使用的流动池，用于固体纳米孔和生物孔的超低噪声记录。纳米孔读取器可用于实验活动，如脂质双层测量、DNA易位和单分子检测。若和特定的流式细胞相结合，它适用于蛋白质研究、疾病标记检测、DNA定位和纳米 粒子等分析。纳米孔读取器产品特点：■ 小型化 — 手持仪器 VS. 笨重设备■ 随时可用 — 无需工具，只需将流动池插入设备即可 ■ 高性能 — 低噪声测量■ 经济实惠 — 为每个人提供技术！纳米孔读取器应用案例：另外，我司可提 供各种规格SiNx固态纳米孔，详情可咨 询上海昊量光电设备有限公司。更多详情请联系昊量光电/欢迎直接联系昊量光电关于昊量光电：上海昊量光电设备有限公司是光电产品专 业代 理商，产品包括各类激光器、光电调制器、光学测量设备、光学元件等，涉及应用涵盖了材料加工、光通讯、生物医疗、科学研究、国 防、量 子光学、生物显微、物联传感、激光制造等；可为客户提 供完 整的设备安装，培训，硬件开发，软件开发，系统集成等服务。

SENS-IT是意大利Unitec公司专利技术产品，具有技术新颖、结构紧凑、价格低廉等优点，每一个SENS-IT传感器专门测量特定的污染气体（CO, NO2 , O3 , C6H6等），具有较高的灵敏性和选择性（有的气体测量精度可达ppb）。SENS-IT传感器采用铝合金外壳，嵌入式电子板，可对传感器性能进行全电子控制。SENS-IT具有RS485输出，使其可以集成到现有的采集设备或者监测网络中，所有的功能参数度可以进行电子控制并能够进行远程校正。工作原理：SENS-IT对于CO、NO2、O3、C6H6、CH4气体采用厚膜金属氧化半导体技术（TF-MOS，Thick Film Metal Oxide Semiconductor Technology）。传感器的活性表面是纳米结构的半导体金属氧化物，传感器表面发生的第一个反应是大气中氧的吸附，由此从氧分子到半导体产生电荷转移。第二个反应与特定的要监测的气体有关，该气体与吸附的氧发生反应（氧化还原反应），使得电子在半导体的传导带中进行释放。通过提取这些反应中所产生的电流信号，就可计算出该种气体的浓度。传感器的选择性和准确度则是通过使用特殊半导体金属氧化物实现的，由于传感器的稳定性和无需消耗活性表面，保证了长期的数据重复性，而无需经常维护保养。对于SO2、H2S、NH3、VOC气体，SENS-IT则采用了传统的电化学方法（EC，Electrochemical Technology），对于CO2，采用红外线技术（IR，Infrared Technology）应用范围： &bull 城市和工业区监测 &bull 厂区边界监测 &bull 智能城市网络 &bull 环境移动监测 &bull 指示测量（根据欧洲2008/50/EC标准）技术参数：传感器参数测量参数测量范围精度分辨率SENS-IT(TF-MOS厚膜金属氧化半导体技术）CO0.1- 80 ppm0.2 ppm0.1 ppmNO210-250 ppb10 ppb1 ppbO310-250 ppb10 ppb1 ppbC6H60.1-30 ppb0.2 ppb0.1 ppbCH41-1,500 ppm5 ppm1 ppmSENS-IT(EC,电化学技术)NH37-100 ppm0.3 ppm0.1 ppmSO25-10,000 ppb20 ppb1 ppbH2S2 -3,000 ppb15 ppb1 ppbVOC0.6-25 ppm0.1 ppm0.1 ppmSENS-IT(IR,红外线技术)CO210-5,000 ppm50 ppm1 ppm通用规范尺寸50 x 50 x 90 (h) mm重量约200g电源+12VDC操作范围-20 ~ +50℃ 10 ~ 95% RH，无冷凝材质铝合金外壳，带风扇，嵌入式CPU控制板信号输出线性0-5V/数字RS485传感器数字控制传感器表面温度数字控风扇速度数字控制数字设置功能参数线性化输出

产品信息Micro Materials 产品纳米力学综合性能测试系统NanoTest Xtreme可以实现真空环境下的纳米力学测试！ 为了更加准确、可靠地预测材料的性质，研究学者们对测试条件模拟真实环境程度的要求越来越高。Micro Materials 公司的NanoTest Vantage 产品可以提供最全面的纳米力学测试功能。现在Micro Materials 公司的最新产品NanoTest Xtreme 可以实现真空环境下-40℃至1000℃这一温度范围内的纳米级力学测试， 并且没有氧化和结霜的影响。自1988年以来，我们一直处于纳米力学创新的前沿： ► 第一个商用高温纳米压痕平台 ► 第一台商用纳米冲击测试仪器 ► 第一个商用液体池 ► 第一台用于高真空、高温纳米力学的商用仪器更适合以下极端环境条件的研究：1、 航空发动机部件的高温 2、 用于高速加工的工具涂层 3、 电站蒸汽管的高温4、核反应堆覆层中的辐射效应 5、低温对油气管道焊缝修复的影响 NanoTest Xtreme 特点：a、500 mN加载头在真空下最高测试温度：1000°Cb、30 N加载头在真空下的最高测试温度：800°C c、真空下的最低测试温度：-40°C d、极限真空度：10-7 mbar e、与真空下所有标准纳米测试技术兼容（纳米压痕、纳米划痕、纳米磨损、纳米冲击、纳米微动） f、可选配第二个加载头，最大负载从500mN增加到30 N g、填充功能可在非空气环境中进行测试 h、高分辨率光学显微镜 i、可选配在整个温度范围内均可使用的SPM 成像/纳米定位平台 NanoTest Xtreme 优点：1、 将高温能力扩展到1000°C，超出NanoTest Vantage提供的850°C 2、 将低温能力提高至-40°C，且无样品结霜 3、超低的热漂移归因于与NanoTestVantage相同的仪器设计原理 4、 完整的纳米力学测试(例如压痕、划痕、磨损、摩擦、冲击) 5、能够填充气体以匹配材料操作环境参数指标1、加载框架 高度抛光的铝，用于快速脱气 加载应用：电磁 标准压头最大负载 500 mN 最大负载，可选高负载头 30 N 位移传感器 ：电容式 负载分辩率 3 nN 位移分辨率 0.002 nm 重新定位精度 0.4 µ m 样品处理 ：手动控制，网格压痕，特定位置选择，多个同时安装的样本 热漂移 0.005 nm/s 符合标准 ：符合ISO 14577和ASTM 2546标准 2、高温平台 最高温度 1000 º C 压头尖端加热 ：是 可测试样本区 16 mm x 16 mm 温度控制 ：反馈和恒定功率 温度精度 0.1 º C 3、低温平台 最低温度 -40 º C 4、SPM纳米定位平台 扫描范围 100 µ m x 100 µ m X Y定位精度 2 nm 5、真空 工作模式 ：真空或气体吹扫 真空度 ：极限10-7 (标准10-6 )mbar 6、选件 纳米划痕，纳米磨损，纳米冲击，动态硬度 应用NanoTest&trade Xtreme可以广泛应用于：航空航天、汽车工业、半导体、生物医学、MEMS、高分子、薄膜和涂层，以及太阳能/燃料电池等。