纳米悬浮液

美国QMAXIS氧化铝/硅/铈精细抛光悬浮液原装进口美国QMAXIS金相精细抛光用氧化物抛光悬浮液，纯度高，分散均匀，稳定性好，与高品质的抛光布配合使用，去除材料的变形层，从而精致地再现材料微观结构。AluminaPrep 氧化铝抛光悬浮液 溶胶-凝胶、热解SilicaPrep 氧化硅抛光悬浮液 胶体Al-SiPrep 硅铝混合抛光悬浮液 硅-铝CeriumPrep 氧化铈抛光悬浮液 胶体AluminaPrep I 氧化铝抛光悬浮液 溶胶-凝胶溶胶-凝胶型氧化铝抛光悬浮液，pH值8.5，适用于矿物、黑色金属、低熔点合金、碳化物、印刷电路板、贵金属和电子元器件等材料的精细抛光订货信息：颜色/pH粒径6oz [180ml]32oz [950ml]64oz [1.9L]白色0.05µ mPA-005-006PA-005-032PA-005-064AluminaPrep II 氧化铝抛光悬浮液 团聚团聚的氧化铝抛光悬浮液，中性，具有更高的去除率，适用于镁、铅及其合金的精细抛光订货信息：颜色粒径6oz [180ml]32oz [950ml]白色0.05µ mPAA-005-006PAA-005-032白色0.3μmPAA-03-006PAA-03-032白色1μmPAA-1-006PAA-1-032AluminaPrep III 氧化铝抛光悬浮液 非团聚非团聚的氧化铝抛光悬浮液，中性，具有更好的表面效果，适用于大多数的矿物和金属的精细抛光订货信息：颜色粒径6oz [180ml]32oz [950ml]白色0.05µ mPAD-005-006PAD-005-032白色0.3μmPAD-03-006PAD-03-032白色1μmPAD-1-006PAD-1-032SilicaPrep 氧化硅抛光悬浮液 胶体氧化硅抛光悬浮液，pH值9.5，适用于化学/机械抛光，特别适合金属、矿物、陶瓷、玻璃、宝石、半导体、微电子和聚合物等材料的精细抛光订货信息：颜色粒径6oz [180ml]32oz [950ml]64oz [1.9L] SilicaPrep I白色0.02µ mPS-002-006PS-002-032PS-002-064 SilicaPrep II蓝色0.05µ mPS-005-006PS-005-032PS-005-064 SilicaPrep III白色0.06µ mPS-006-006PS-006-032PS-006-064Al-SiPrep 硅铝混合抛光悬浮液 硅-铝氧化铝和硅胶混合抛光悬浮液，pH值9，适用于化学/机械抛光，协同具有二氧化硅的化学抛光作用和氧化铝的机械抛光作用，特别适合钢铁、铝合金和电子材料等的精细抛光订货信息：颜色粒径32oz [950ml]蓝色0.05µ mPAS-005-032CeriumPrep 氧化铈抛光悬浮液 胶体CeriumPrep 氧化铈抛光悬浮液，pH值8.5，适用于半导体、集成电路、光学镜片、光纤连接器、玻璃陶瓷基板和晶体表面等材料的精细抛光订货信息：颜色/pH粒径6oz [180ml]32oz [950ml]64oz [1.9L]白色1µ mPC-1-006PC-1-032PC-1-064

SilicaPrep 氧化硅抛光悬浮液 硅胶美国QMAXIS的氧化硅抛光悬浮液共有0.06μm和0.02μm两种型号可选。SilicaPrepⅠ氧化硅抛光悬浮液，0.06μm，pH值10，适用于化学 / 机械抛光，特别适合宝石、玻璃、陶瓷、金属、岩矿、半导体、微电子和聚合物等材料的最终抛光。SilicaPrep Ⅱ 氧化硅抛光悬浮液，非结晶硅胶态，0.02μm，pH值10.5，适用于化学 / 机械抛光，特别适合宝石、玻璃、陶瓷、金属、岩矿、半导体、微电子和聚合物等材料的更精细的最终抛光。订货信息如下：AluminaPrep 氧化铝抛光悬浮液 溶胶-凝胶美国QMAXIS氧化铝抛光悬浮液，0.05μm，pH值8.5，适用于矿物、黑色金属、低熔点合金、碳化物、印刷电路板、贵金属和电子元器件等材料的最终抛光。订货信息如下：Alumina Suspension 氧化铝抛光悬浮液 团聚美国QMAXIS团聚的氧化铝抛光悬浮液比同等粒径的非团聚的氧化铝抛光悬浮液具有更高的去除率 ，尤其适合于镁、铅及其合金的最终抛光。订货信息如下：De-Alumina Suspension 氧化铝抛光悬浮液 非团聚美国QMAXIS非团聚的氧化铝抛光悬浮液比团聚的氧化铝抛光悬浮液具有更好的表面抛光效果 ，适用于大多数的矿物和金属的精细抛光。订货信息如下：

预抛光盘+金刚石悬浮液是用来做精磨过程的，用来降低更换精磨砂纸带来的不确定性。与 CAMEO DISK粗磨盘一样,精磨盘同样为蜂窝状结构设计,该结构保证了在对样品进行精磨时,除具有与粗磨盘同样的优势外,还最大限度的保证了悬浮液体的均匀分布。封闭的蜂窝结构减少了悬浮液在高谏旋转过程中的浪费，降低了成本*产品名称*产品规格*产品价格 预抛光盘银色银色精磨盘，200mm 2片/盒700银色精磨盘，250mm 2片/盒900银色精磨盘，300mm 2片/盒1100 预抛光盘金色金色精磨盘，200mm 2片/盒700金色精磨盘，250mm 2片/盒900金色精磨盘，300mm 2片/盒1100预抛光盘+金刚石悬浮液是用来做精磨过程的，用来降低更换精磨砂纸带来的不确定性。与 CAMEO DISK粗磨盘一样,精磨盘同样为蜂窝状结构设计,该结构保证了在对样品进行精磨时,除具有与粗磨盘同样的优势外,还最大限度的保证了悬浮液体的均匀分布。封闭的蜂窝结构减少了悬浮液在高谏旋转过程中的浪费，降低了成本

氧化铝悬浮液的主要成分是非团聚氧化铝和水，化学稳定性好，可选择粉末清洁，提供最理想的抛光效果。混合方便。 Item No. 规格 90-187505 0.05 微米, 6 oz. (180ml) 90-187510 0.3 微米, 6 oz. (180ml) 90-187515 1.0 微米, 6 oz. (180ml) 90-187540 0.05 微米, 32 oz. (950ml) 90-187545 0.3 微米, 32 oz. (950ml) 90-187550 1.0 微米, 32 oz. (950ml) 90-187575 0.05 微米, 128 oz. (3.8L) 90-187580 0.3 微米, 128 oz. (3.8L) 90-187585 1.0 微米, 128 oz. (3.8L)

金刚石悬浮液（Diamond Suspension）Glennel牌金刚石悬浮液（Diamond Suspension），多晶金刚石微粒处于悬浮状态，颗粒分散、稳定，密度均一，尤其适用各种全自动或半自动抛光机。其中的水基悬浮液具有自润滑功能，还可以与任何添加物（extender）一起工作。以下提供的产品均是Premium级别的多晶金刚石，具有中等的浓度。产品选购：（O/S表示油基（丙二醇），W/S表示水基）货号产品名称规格50372-10DIAMOND SUSPENSION, O/S, 0.1um, 400g瓶50372-11DIAMOND SUSPENSION, W/S, 0.1um, 400g瓶50372-20DIAMOND SUSPENSION, O/S, 0.25um, 400g瓶50372-21DIAMOND SUSPENSION, W/S, 0.25um, 400g瓶50372-30DIAMOND SUSPENSION, O/S, 0.5um, 400g瓶50372-31DIAMOND SUSPENSION, W/S, 0.5um, 400g瓶50372-40DIAMOND SUSPENSION, O/S, 1.0um, 400g瓶50372-41DIAMOND SUSPENSION, W/S, 1.0um, 400g瓶50372-50DIAMOND SUSPENSION, O/S, 2.0um, 400g瓶50372-51DIAMOND SUSPENSION, W/S, 2.0um, 400g瓶50372-60DIAMOND SUSPENSION, O/S, 3.0um, 400g瓶50372-61DIAMOND SUSPENSION, W/S, 3.0um, 400g瓶50372-70DIAMOND SUSPENSION, O/S, 6.0um, 400g瓶50372-71DIAMOND SUSPENSION, W/S, 6.0um, 400g瓶50372-80DIAMOND SUSPENSION, O/S, 9.0um, 400g瓶50372-81DIAMOND SUSPENSION, W/S, 9.0um, 400g瓶50372-90DIAMOND SUSPENSION, O/S, 15.0um, 400g瓶50372-91DIAMOND SUSPENSION, W/S, 15.0um, 400g瓶

为消除变形并获得高反射表面，需要具有不同弹力的不同磨料和抛光布。使用与设备配套的 Struers 耗材是确保优异抛光性能的理想方式。这是因为每种机器和耗材被设计成适于配合使用，以控制抛光过程的所有参数，从而帮助您充分利用您的投资。抛光布、金刚砂粒度和润滑剂的选择取决于要抛光的材料。无论您对氧化物抛光还是金刚砂抛光感兴趣，Struers始终能够满足您的需求。DiaPro是专为实现超高性能和效率而开发的一系列金刚石悬浮液，可将制备时间平均缩短30%。每种DiaPro悬浮液针对特定表面开发并且经过优化，可提供出色的平整度、边缘保护和再现性。只有Struers耗材才能充分发挥Struers设备的优势。关注司特尔官方微信号获取更多耗材信息。

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高端炭基材料高剪切乳化机，环保水性纳米碳材高速乳化机，碳纳米管材料高剪切乳化机，碳纳米管浆液高剪切乳化机混合机，碳纳米复合母胶高剪切乳化机，液体黄金复合母胶高剪切乳化机混合机设备，超导电纳米碳材高速自吸粉混合机乳化机，炭黑高速自吸粉混合机设备 碳纳米管是一维的纳米材料，在工程材料域，碳管以其优异的物理机械性能成为聚合材料理想的填料。具有优异的力学性能、导电、导热性能，因而被认为是聚合物基复合材料理想的力学强化和功能改性材料，采用碳纳米管制成的复合材料表现出良好强度、弹性和抗疲劳性，碳纳米管也逐渐用于橡胶制品、轮胎、塑料等工业中。 但是，碳纳米管的呈纳米纤维状，自身易团聚和缠结，且碳纳米管表面为规整的石墨晶片结构，表面惰性大，与聚合物基体亲和性差，导致碳纳米管在橡胶基质中的分散性差，而且成本也高，这些限制了碳纳米管在橡胶中的规模化应用。 在橡胶工业中，将碳纳米管填充到各种橡胶基体以提高橡胶基体的性能成为研究高端橡胶产品的理想共混复合材料之一，但碳纳米管自身有着很高的表面自由能，易发生团聚现象，碳纳米管与基体间的相互作用是另一个难题，碳管表面没有任何反应官能图，碳管的惰性使其与聚合物基体间化学界面作用弱，碳纳米管对聚合物基体的改善效果难达到预期，因此制备出尺寸均匀，分散好，性能稳定的碳纳米管及其复合材料是拓展其应用域的需要。 目，在碳管的分散性及其复合材料研究中已经取得许多进展。常用的方法中是将采用表面活性剂对碳管表面改性，将其悬浮液与胶乳复合制得复合母胶，该技术在一定程度解决了碳纳米管的分散，但由于表面活性剂中其它基团的加入会降低复合母胶的性能；因此需要提供一种避免活性剂的加入影响碳纳米管与聚合物间结合的技术方案。 针对现阶段技术中存在的问题，在碳纳米管分散均匀的基础上在其表面引入羧基、羟基等官能团，避免偶联剂的加入影响碳纳米管与胶乳之间的结合。一种高分散碳纳米复合母胶的制备方法，包括以下步骤：1、将碳纳米管在分散液中剪切，制得短切碳纳米管悬浮液；2、通入氧化气体对短切碳管悬浮液氧化，制得短切碳纳米管氧化液；3、将补强材料加入短切碳纳米管氧化液，制得碳纳米管浆液；4、在碳纳米管浆液中加入偶联剂，制得复合浆液；5、将天然橡胶胶乳分散于复合浆液中，制得碳纳米管-天然橡胶复合材料；6、将碳纳米管-天然橡胶复合材料凝固、干燥制得高分散碳纳米复合母胶。 上海依肯根据市场技术需求结合多年来积累的成功案例经验特别推出ERS2000系列高剪切乳化机（混合机），ERS2000在线式高速高剪切乳化机，主要用于微乳液及超细悬浮液的生产。由于工作腔体内三组乳化分散头(定子+转子)同时工作，乳液经过高剪切后，液滴更细腻，粒径分布更窄，因而生成的混合液稳定性更好。三组乳化分散头均易于更换，适合不同的工艺应用。该系列中不同型号的机器都有相同的线速度和剪切率，非常易于扩大规模化生产。 上海依肯ERS2000系列高剪切乳化机（混合机）设备参数选型表：型号 标准流量L/H输出转速rpm标准线速度m/s马达功率KW进口尺寸出口尺寸ERS 2000/4300-100014000442.2DN25DN15ERS 2000/5300010500447.5DN40DN32ERS 2000/10800073004415DN50DN50ERS 2000/202000049004437DN80DN65ERS 2000/304000028504455DN150DN125ERS 2000/407000020004490DN150DN125高端炭基材料高剪切乳化机，环保水性纳米碳材高速乳化机，碳纳米管材料高剪切乳化机，碳纳米复合母胶高剪切乳化机，液体黄金复合母胶高剪切乳化机混合机设备，超导电纳米碳材高速自吸粉混合机乳化机，炭黑高速自吸粉混合机设备。。。需要了解更多详情请致电上海依肯机械设备有限公司 销售工程师 徐蒙蒙 182-0189-1183，公司有样机可以免费为客户进行测试验证实验。

根据研磨的精细程度，金刚石的粒度有大有小。粒度一半都是用微米来表示，粒度越小，越适合精抛，粒度越大越适合粗抛，重复性稳定性一致，去除划痕，效果区分明显。金刚石悬浮抛光液适合手动和全自动抛光，使用起来非常方便，是由金刚石微粉组分的。产品特点1、普通磨料：单晶，灰色状液体，通用性强、性价比高、磨削力强 ，悬浮均匀无沉淀2、进口磨料：进口磨料彩色状液体，有效预防不同粒度交叉污染、磨削力强、耐用，重复性稳定性一致，去除划痕，效果区分明显3、多晶磨料：多晶金刚石磨料、低变形、悬浮性好，磨削力强，研磨效果好，重复性稳定性一致，去除划痕，防止圆角产生效果区分明显1、 每一颗金刚石磨粒均经国际先进气流粉碎工艺而成，完全保证了金刚石的纯度和磨削性能5、采用严格的分级粒度，金刚石颗粒形貌呈球形八面体状，粒径尺寸精确、公差范围窄，使研磨效果更好划痕去除率更高，新划痕产生更少6、原料均符合环保要求、无毒，不含易燃的水基材料7、金刚石悬浮液中含一定剂量的冷却润滑组分，实现了金刚石经久耐磨的磨抛力与冷却、润滑等关键性能有效结合产品规格型号特性粒度容量MDS单晶悬浮液广泛应用于超硬材料、硬质合金等硬质材料的研磨抛光；既可以提高磨削速率，又可以将磨削过程中产生的大量热量迅速排走，从而避免工件表面被烧伤0.05um、0.25um、0.5 um、1 um、1.5 um、 2.5 um、3 um、 3.5 um、 5 um、 6 um、7 um、9 um、10 um、 14 um、15 um、20 um、28 um、 40 um500ml/瓶4L/瓶PDS多晶悬浮液磨抛过程中能够保持高磨削力的同时不易产生划伤，为后续精密抛光加工提供了良好的条件，广泛应用于光学晶体、陶瓷、超硬材料。0.5 um、1 um、3 um、、 6 um、9 um200ml/瓶500ml/瓶

碳纳米管（碳纳米管）多壁，加上由-SO3H改造形成，易溶于水且能稳定几个月黑色、透明悬浮物。

碳纳米管多壁，加上由分子式组改进，易溶于水行程可以稳定几个月的黑色、透明悬浮物。

影响医药中间体胶体磨研磨效果的因素其实很简单，医药中间体高速胶体磨，医药中间体湿法超微粉碎机，医药中间体湿磨机，医药高速纳米研磨机 ，化工原料高剪切胶体磨，原料药高速纳米胶体磨，头孢类抗生素纳米胶体磨 所谓医药中间体，实际上是一些用于药品合成工艺过程中的一些化工原料或化工产品。这种化工产品，不需要药品的生产许可证，在普通的化工厂即可生产，只要达到一些的别，即可用于药品的合成。 我国每年约需与化工配套的原料和中间体2000多种，需求量达250万吨以上。经过30多年的发展，我国医药生产所需的化工原料和中间体基本能够配套，只有少部分需要进口。而且由于我国资源比较丰富，原材料价格较低，有许多中间体实现了大量出口。那么，我国医药中间体域面临哪些发展机遇呢？我国β－内酰胺类抗生素经过近50年的发展，已经形成了完整的生产体系。2012年几乎所有的β－内酰胺类抗生素（除利期内的品种外）我国都能生产，而且成本很低，青霉素产量居位，大量出口供应国际市场；头孢类抗生素基本能够自给自足，还能争取一部分出口。2012年，与β－内酰胺类抗生素配套的中间体我国全部能够自己生产，除了半合成抗生素的母核7－ACA和7－ADCA需要部分进口外，所有的侧链中间体均可生产，而且大量出口。 以β－内酰胺类抗生素的主要配套中间体苯乙酸为例，我国现有苯乙酸生产厂家近30家，总年产能力约2万吨。但多数企业规模偏小，大的年产2000吨，其他大多年产数百吨。2003年国内苯乙酸总需求量约1.4万吨，消费结构为：青霉素G占85%，其他医药占4%，香料占7%，农药及其他域占4%。随着国内香料、医药、农药等行业的发展，苯乙酸需求量将进一步增加。预计到2005年，我国医药工业将消耗苯乙酸约1.4万吨，农药行业将消费500吨，香料行业约消费2000吨。再加上其他域的消费量，预计2005年国内苯乙酸总需求量将达1.8万吨。 所以上海依肯机械设备有限公司根据日益增长的市场需求结合多年来积累的丰富的行业经验以及成功案例特别推出医药中间体CMD2000系列胶体磨突破传统意义上的粉碎机，是技术上的进一步革新。好的粉碎效果源自硬质刀具的表面结构，三组分散刀头，表面含有不同粒度大小的金属颗粒，这保证了物料在通过各刀头后达到理想的细化效果。该锥体磨独特的锥形设计，增大了冷却表面积，更利于长时间工作。 产品说明：锥体磨CMD2000是CM2000的更进一步。通过减少颗粒粒度和湿磨，可获得更细悬浮液，技术更创新。这是通过将锥形刀具间的间隙调节至小来完成的。间隙可进行无调节。好的粉碎效果亦源于硬质刀具的表面结构。刀具表面含高质材料。 第1由具有精细度递升的三锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每都可以改变方向。 第2由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子（乳化头）和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为在对输送性的要求方面，特别要引起注意的是：在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是转子齿的排列，还有一个很重要的区别是不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例，依据以的经验特制工作头来满足一个具体的应用。医药中间体CMD2000系列胶体磨（研磨分散机）的特点：① 线速度很高，剪切间隙非常小，当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨② 定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三锯齿突起和凹槽。③ 定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离④ 在增强的流体湍流下，凹槽在每都可以改变方向。⑤ 高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。医药中间体CMD2000系列胶体磨设备参数选型表高速胶体磨流量*输出线速度功率入口/出口连接类型l/hrpmm/skWCMD 2000/470014000404DN25/DN15CMD 2000/55,00010,5004011DN40/DN32CMD 2000/1010,0007,3004022DN50/DN50CMD 2000/2030,0004,9004045DN80/DN65CMD 2000/3060,0002,8504075DN150/DN125CMD 2000/501000002,00040160DN200/DN150*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，同时流量可以被调节到大允许量的10%。影响医药中间体胶体磨研磨效果的因素其实很简单，医药中间体高速胶体磨，医药中间体湿法超微粉碎机，医药中间体湿磨机，医药高速纳米研磨机 ，化工原料高剪切胶体磨，原料药高速纳米胶体磨，头孢类抗生素纳米胶体磨

丙酸倍氯米松混悬液分散机，倍氯米松分散机，丙酸氟替卡松雾化吸入用混悬液分散机，进口丙酸倍氯米松混悬液分散机，上海丙酸倍氯米松混悬液分散机生产厂家 混悬液 分散是至少两种互不相溶或者难以相溶且不发生化学反应的物质的混合过程。工业分散的目标是在连续相中实现“令人满意的”精细分布。 当固体颗粒分散到一种液体中时，形成一种悬浮液。当一种液体分散到另一种液体中时，形成一种乳浊液。在一种乳浊液的两个液相间的界面处，表面张力开始发生作用。新表面的产生需要能量。在没有外部影响的情况下，每个液相体系均企图以较少的能量达到乳浊液状态。因此，总是会有产生较小界面的倾向，这阻碍任何乳浊液的形成。 为了实现互不相溶相的分散，必须强力粉碎并混合其粒子。粉碎意味着必须克服表面张力的阻力来形成新表面。分散过程传递所需的能量，并保证两相均质混合。分散的长期稳定性会受到确切粒度分布及乳化剂和稳定剂使用的影响。 现在分散机的应用不仅仅局限于“分散”，由于其独特的剪切作用，对粉粒体在液体中的粉碎撞击终细化到理想的粒径，从而使固体质充分掺混到液体中并形成相对稳定的悬浮液，这种过程也就是“分散”。当然与乳化剂一样，添加了分散剂后，悬浮液的稳定性就能得到增强。当某种固体物质通过一定时间与液体的接触能够被液体彻底溶解，那么经剪切撞击而形成的小颗料将更快地被液体所溶解，因为其比表面积增大了好多倍了。从设备角度分析影响分散乳化效果的因素：1、分散机的结构。分散机一般分为间歇式分散机和管线式分散机，管线式分散机分散效果更好，物料可以充分分散乳化，效率高。IKN高剪切分散机采用的是管线式的分散乳化方式。2、分散机的剪切速率。分散设备核心参数就是剪切速率，一般情况下，剪切速率越高，分散乳化效果越好，当然也需要根据具体物料工艺来定；IKN分散机通过皮带加速，转速达9000rpm，是普通分散机转速的3倍，高转速可达21,000rpm。3、处理时间。物料在腔体里面停留时间越长，相对应的分散乳化效果越好，处理次数越多，一般来说分散乳化效果越好。IKN分散机结构设计采用的是立式分体结构，运行时间短。4、分散头的加工精度。传统分散乳化机采用单层分散乳化头，加工粗糙，而IKN纳米分散乳化机采用三分散乳化头，间隙更小，精密程度更高，分散乳化效果也会更好。设备的选型要点：1、明确使用设备所需达到的效果和目的2、详细了解并掌握研究物料的性质（包括物理、化学性质）3、根据物料对设备的搅拌机进行选型4、再次确定设备的操作参数及结构设计5、综合考虑设备的成本 上海依肯自主研发生产的分体式三分散乳化机，具有高转速、低能耗、低噪音、高寿命等优势，市场上正常用的分散乳化机由于定转子精度以及机械密封的原因，转速高只能达到2910转，而如此低转速以及跟不上市场上对物料分散乳化均质效果 的高要求。IKN特别研立式分体式分散乳化机解决了此难题，将转速提高到了9000转，外加变频器，高可21000rpm，成功解决了市场需求...更多详情请致电上海依肯机械设备有限公司 销售工程师 徐工 182-0189-1183，公司有样机可以免费实验。丙酸倍氯米松混悬液分散机，倍氯米松分散机，丙酸氟替卡松雾化吸入用混悬液分散机，进口丙酸倍氯米松混悬液分散机，上海丙酸倍氯米松混悬液分散机生产厂家

产品特点：金纳米螺旋标尺（L，R）是手性的纳米标记物，尤其适合于3D断层扫描，电子显微镜（EM）或冷冻电镜。我们的手性标记物显示纯手性（L或R），由于高对比度和金纳米颗粒的精准排列，可以很容易地被电镜检测到。金纳米螺旋标尺（L，R）是用DNA折纸技术制备，金纳米颗粒（10nm）被排列成纳米螺旋（螺距57nm 长110nm 直径34nm）。纳米标尺，AFM纳米标尺，原子力显微镜纳米标尺，共聚焦显微镜纳米标尺，超高分辨显微镜纳米标尺，SIM纳米标尺，STED纳米标尺，STORM纳米标尺，电镜纳米螺旋标尺，金纳米螺旋标尺，显微镜亮度灵敏度标尺，显微镜纳米标尺技术参数：在透射电镜载网中：样品放在干燥的透射电镜载网上使用，以提高由银增强放大了的螺旋效果。样本存储在石蜡膜覆盖的塑料孔中进行运输。保质期是6个月。在缓冲液中:该纳米螺旋储存在缓冲液（1X TE，11mM MgCl2）中运输。样本量约为30μL，这个量足以用于10个以上的TEM。样品保存于低温的保温盒中进行运输。适当的储存条件下（避光，4℃），保质期为3个月。

纳米位移平台,真空纳米位移台由中国领先的进口光学精密仪器旗舰型服务商-孚光精仪进口销售,先后为北京大学,中科院上海光机所,中国工程物理研究院,航天3院,哈工大,南开,山东大学等单位提供优质进口的纳米位移平台,真空纳米位移台,纳米位移台.这款纳米位移平台是美国进口的高速高精度真空纳米位移台,它采用先进技术设计, 具有单轴或精密的双轴配置两种选择, 适合高真空环境和非磁性定位应用.美国进口高精度低价格系列纳米定位台，采用了陶瓷伺服电机驱动，非常适合要求精度达到纳米或压纳米的高精度和高重复精度的应用，例如：精密生命科学仪器、显微成像、纳米准直、微纳加工、光学精确定位等。X-TRIM 系列纳米位移台特色 10nm分辨率非接触线性编码系统双驱动任选:线性伺服或压电驱动高密度滚珠传导增加稳定性超紧凑的单轴或双轴纳米位移台紧凑型封装可真空使用超强工作能力，大吞吐量采用无铁芯直接驱动直线电机,驱动轴位于纳米位移台的中心线, 这种设计消除了非中心驱动导致的偏航,空回等问题.纳米位移台集成了一个高分辨率(12.5nm)非接触式线性编码器,它为闭环的伺服系统工作操作提供了精密反馈, 它的标准配置就可以提供纳米精度的定位.纳米位移平台使用能够了精密的滚珠导向系统确保了位移平台高精度性能和严格的轨迹控制。纳米位移平台也适合OEM使用,它具有较低抛面和较小尺寸，采用模块化设计，用户可堆叠使用创建多轴多部件系统。这款纳米位移平台使用了非接触式直接驱动技术，提供坚固，精确，高速的定位，满足高频率大工作量的需要。纳米定位平台使用了先进的无铁直线电机直接确定技术，确保最优异的纳米级定位性能。这款纳米定位台提供了高速度，高精度，高分辨率，高性能的卓越表现。它与传统的丝杠驱动或压电驱动相比，具有更大的工作效率和吞吐量。参数行程(mm): 25和50mm(单轴或双轴)驱动系统: 无铁芯直线电机或陶瓷伺服电机最大加速度: 由负载决定最大速度: 200mm/s (无负载时)最大推力: 24N最大负载: 2Kg精度: +/-1um/25mmTTL分辨率: 1-100nm/脉冲构造材料: 铝合金主体, 灰色氧化镀膜重复精度: 5倍精度XT 25XT 50XT 2525XT 5050Travel Length (mm)25 mm50 mm25 x 25 mm50x 50 mmTrajectory ControlAccuracyLinear Encoder± 1.0 &mu m± 2.0 &mu m± 2.0 &mu m± 4.0 &mu mStraightness/Flatness± 1.0 &mu m± 1.0 &mu m± 2.0 &mu m± 2.0 &mu mYaw/Pitch/Roll5 arc-sec5 arc-sec10 arc-sec10 arc-sec2 axis systemOrthogonalityStandard GradeNANA5 arc-sec5 arc-secHigh PrecisionNANA2 arc-sec2 arc-secExtra High PrecisionNANA1 arc-sec1 arc-sec

产品特点：作为第一个超高分辨率显微技术的STED方法彻底改变了光学显微镜。适用于STED的校准探针--GATTA-STED纳米标尺也终于面世。标尺带有高量子效率的荧光标记染料ATTO 647N。两个荧光分子之间的距离固定，我们提供的尺寸包括：30nm，50nm，70nm和90nm。纳米标尺，AFM纳米标尺，原子力显微镜纳米标尺，共聚焦显微镜纳米标尺，超高分辨显微镜纳米标尺，SIM纳米标尺，STED纳米标尺，STORM纳米标尺，电镜纳米螺旋标尺，金纳米螺旋标尺，显微镜亮度灵敏度标尺，显微镜纳米标尺产品参数：

纳米升降台,纳米升降平台由中国领先的进口光学精密仪器旗舰型服务商-孚光精仪进口销售,精通光学，服务科学，先后为北京大学,中科院上海光机所,中国工程物理研究院,航天3院,哈工大,南开,山东大学等单位提供优质进口的纳米升降台,纳米升降平台,精密升降台。这款纳米升降台是美国进口的短行程的精密升降台,Elevator Stage,纳米升降平台特别适合竖直的Z轴应用，它具有极佳的上下定位功能，超高分辨率，超高重复精度和机械稳定性。产品特色：这款纳米升降台采用高密度交叉滚珠导向系统用于竖直导向，确保最大的稳定性。单立柱式的X滚珠导向系统提供了适度的高刚性，使得这款纳米定位台具有极小的滞后和相当大的承载能力。纳米升降台应用：这款纳米定位台比较适合对Z轴垂直升降精度较高要求的应用。比如，光学成像系统中焦平面的准直，半导体测试，视频测量等。纳米升降台参数行程：4mm驱动系统：无刷伺服-丝杆驱动最大速度：20mm/s最大负载；10kgTTL分辨率：100nm, 50nm, 25nm, 12.5nm, 10nm, 1nm重复精度：5x分辨率

孚光精仪品牌的多功能纳米硬度计配件通过扫描材料表面实现对材料力学性能的纳米尺度的高精度测量，精确给出硬度，弹性模量，杨氏模量等材料力学性能。多功能纳米硬度计配件特色具备原子力显微镜和纳米压痕仪的功能实现静态压痕和动态压痕测量以及测量最高位移测量能力可达300mkm, 最高负载科大100mN。采用模块化设计，可广泛集成原子力显微镜，光学显微镜，激光干涉仪器等尖端材料表面测量仪器，为用户提供综合性材料微观力学测试方案。多功能纳米硬度计配件选型4D紧凑型纳米硬度计4D紧凑型是全球结构最为紧凑小巧的纳米硬度测试仪，它采用纳米压痕法测量材料硬度和弹性模量（杨氏模量），负载高达2N,广泛用于材料力学性能测量研究。也非常适合大学或研究单位的纳米压痕仪测量硬度的教学或演示教学。4D标准型纳米硬度计4D标准型具有测量材料硬度，弹性模量和其它力学性能的功能。它采用静态和动态纳米压痕技术以及sclerometry方法测量材料性能。并且可以接触式或半接触式地测量材料表面形貌，采用光学显微镜高精度地对压头和样品进行精确互动性定位。纳米硬度计4D标准型还可以接入另外的传感器或测量模块，实现对材料表面进行其它测量。4D+增强型纳米硬度计4D+增强型配置是全球功能最多的多功能纳米硬度测量仪器。它具有纳米压痕仪和原子力显微镜的功能，具备了所有的物理和力学性能测量能力。它具有原子力显微镜测量模块，能够以纳米级分辨率研究压痕后留下的表面痕迹和图像，并能够全自动测量，可以批量处理分析测量结果。

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产品特点：GATTA-SIM系列的纳米标尺可以用于检测您的SIM系统的分辨率。该纳米标尺带有两个荧光标记，这些荧光标记都是来自于密集排列的高量子效率的染料分子。两个荧光标记之间的距离固定，尺寸包括120nm，140nm和160nm。我们为您提供带有以下颜色的不同尺寸的纳米标尺，包括：红色（ATTO 647N），黄色（Alexa Fluor 568）或蓝色（Alexa Fluor 488）。纳米标尺，AFM纳米标尺，原子力显微镜纳米标尺，共聚焦显微镜纳米标尺，超高分辨显微镜纳米标尺，SIM纳米标尺，STED纳米标尺，STORM纳米标尺，电镜纳米螺旋标尺，金纳米螺旋标尺，显微镜亮度灵敏度标尺，显微镜纳米标尺技术参数：

参数：Agnws-120平均直径/纳米：120平均长度/微米：20银纯度（%）：99.5浓度（毫克/毫升）：20Agnws-200平均直径/纳米：200平均长度/微米：25银纯度（%）：99.5浓度（毫克/毫升）：20Agnws-300平均直径/纳米：300平均长度/微米：30银纯度（%）：99.5浓度（毫克/毫升）：20Agnws-400平均直径/纳米：400平均长度/微米：30银纯度（%）：99.5浓度（毫克/毫升）：20Parameter:Agnws-120Average Diameter/nm：120Average Length/um：20Silver Purity (%)：99.5Concentration (mg/ml)：20Agnws-200Average Diameter/nm：200Average Length/um：25Silver Purity (%)：~99.5Concentration (mg/ml)：20Agnws-300Average Diameter/nm：300Average Length/um：30Silver Purity (%)：~99.5Concentration (mg/ml)：20Agnws-400Average Diameter/nm：400Average Length/um：30Silver Purity (%)：~99.5Concentration (mg/ml)：20

磨光用抛光液：与抛光布配合使用颗粒均匀、材料去除率高。

碳具有 的特性： 按照质量，碳是宇宙中第4丰富的元素，也是 化学活性的元素之一。碳不仅能与其他元素结合，而且可与自身结合，形成最坚硬的金刚石和最软的石墨。碳还是有机化学和所有已知生命的根基。碳有几乎无限的应用。近年来，包括石墨烯（碳的二维形式）和单壁碳纳米管（主要为柱状石墨烯）在内的形态表现出非凡的属性，鼓舞着世界各地的科学家寻找各种用途。与石墨烯一样，单壁碳纳米管的属性充满前途，甚至有可能改变全球产业的面貌。与石墨烯不同的是，2014 年开始就有大量单壁碳纳米管在全球范围内供货。TUBALL由单壁碳纳米管构成，“成品”杂质含量极低（SWCNT含量≥75％），且在大多数应用中无需进一步的纯化。TUBALL具有独特的物理属性，可提高大多数材料的强度、导电性和/或导热性，包括聚合物复合材料、橡胶、金属和许多其他材料。与多壁碳纳米管、碳纤维和大多数类型的碳黑不同，TUBALL在添加 0.001％-0.1％ 的重量后即可显著改善材料属性。产品特点：填料重量含量达到 0.001％ 时开始展现功效同时提高材料属性（机械强度、导电性和导热性）各种潜在应用： 聚合物复合材料、橡胶、金属和许多其他材料高质量的SWCNT含量（数量 ≥ 75％，G/D大于50）无定形碳含量小（低于 1％）铁 (Fe) 催化剂颗粒包封在碳外壳中在大多数应用中，无需对生产过程做任何额外更改市场价格比具有同类质量和属性的所有其他产品低50倍技术参数规格计量单位数值评价方法碳含量wt.%85TGA, EDXCNTwt.%≥75TEM, TGA碳纳米管的层数单位1-2TEM碳纳米管的平均外径nm1.8±0.4拉曼光谱, TEMCNT长度um5AFM金属杂质wt.%EDX, TGA根据特定客户的要求，可对任何所需数量的TUBALL进一步纯化与功能化，从而达到以下规格：

纳米颗粒分析仪配件用于观测和分析液体中的微小颗粒的布朗运动速率与尺寸分布相关，采用纳米颗粒跟踪分析（NTA）技术，通过激光散射装置（纳米观测）与超显微镜ultra-microscope和NTA软件的相结合，生成纳米颗粒图像，是全球领先的纳米粒度分析仪。纳米颗粒分析仪配件 纳米观测原理纳米颗粒分析仪使用纳米透视Nano-Insight 激光散射模块，可以通过顶眼超显微镜观测到液体中的纳米粒子。采用不同激光散射颗粒在矩阵中表现为模糊点。模糊点根据其各自的布朗运动而移动。液体中有不同的布朗运动粒子。小粒子比大粒子受到相邻粒子的影响更少。因此，在超显微图像中，较大的粒子有大的模糊外观。 NTA能够追踪粒子的相应路径。纳米观测模块纳米观测模块的设计，可以使其安装在超显微镜，顶眼纳米的底板。可以通过Mishell软件来控制该模块。Mishell软件控制着纳米观测模块以及照相机。根据应用决定在纳米观测模块装备一个或多个激光器。激光器以一种特殊的方式排列。左侧图片上展示的是纳米观测图。较小的粒子比较大的粒子移动更快。我们用摄像机同时跟踪每个粒子。顶眼超显微镜顶眼超显微镜将进入模糊点的散射光可视化。用适当的时间分辨跟踪，模糊云可被分配并与各自的粒径相关。粒子的布朗运动图像是唯一的。下面将给出例子。每个模糊点代表单个粒子。NTA 软件上图展示的是NTA分析的典型图像。散射激光被捕获到模糊点，要根据时间函数跟踪模糊点。我们跟踪每个模糊点。跟踪每个粒子的方法，得到的技术结果是高分辨率。我们正在寻找与图像相关的量，当我们知道相关的量后，我们就可以极其精确地确定各种粒子的浓度。该技术将会带起许多可能的应用。例如，可能也可以使用荧光激光器。使用荧光激光器，可以瞄准复杂的基质里的一个粒子。该技术带来的好处是，用户可以在视觉上检查并且通过观察相应图像验证所有可能的应用。MiNan是Mishell® 内的一个模块- 扩展图像分析软件包，被认为是市场上最先进的图像分析软件。MiNan是一个子程序，可以进行Morphious纳米粒子分析的全部描述。MiNan是自带Morphious纳米系统的软件，研发用于纳米粒子的可视化以及纳米粒子的大小、形状（形态）和浓度的测量。每个粒子是一个个体，但通过观测扩散同时被分析。这种一个粒子后接一个粒子的方法产生高分辨率的结果，即粒子的尺寸分布和浓度分辨率高，同时视觉验证让用户对数据有了额外的信心。当荧光模式检测标记粒子时，粒子尺寸和浓度，蛋白质聚集和粘度都可以被分析。纳米颗粒分析仪配件应用?在制药或复合产业研发药物?用于病毒筛查?用于开发纳米生物标记物或毒物筛查?用于蛋白质聚集的动力学模型研究?用于通过膜泡的表征研究疾病?用于促进纳米复合材料的发展纳米颗粒分析仪配件特色?在同一时间多粒子高通量表征?实时视觉展示粒子，允许用户评估试验，无需额外复杂性?方便和易于使用的软件，允许用户通过宏设置任何实验?添加像高通量自动采样器，泵或加热和制冷配件?自适应模块化系统构建任何复杂的应用程序，操作轻松舒适?超级高效和购买成本低?该系统提供高分辨率的粒度特性来研究复杂的多分散矩阵?激光波长可选择?通过给过滤器添加电动轮，得到自适应荧光分析纳米颗粒分析仪配件参数?尺寸10 nm - 2000 nm*?浓度 106 - 109 粒子/ mL?荧光检测纳米颗粒分析仪配件规格温度范围15-40 °C电源230V AC/115V AC, 50/60 Hz摄像机USB3 CMOS分辨率：1936x1216 161帧/秒，像素尺寸5.86μm：颜色校准模块功耗18W激光波长405nm（紫色），488nm（蓝），532nm（绿），642nm（红色）尺寸范围从10 nm到2000 nm (取决于材料)焦点电脑控制电动调焦个人计算机SDD亿康II SDSSDHII-120G-G25HDD西数蓝WD10EZEX1 TB|主板千兆字节GA-Z97X-UD3H|内存金士顿骇客神条怒黑| HX318C10FBK2/1616 GB DDR3-RAM处理器英特尔® 酷睿™ i7 i7-4790K四核4×4.0 GHz显卡 PNY VCQK2200-PB 4GB电源 酷冷至尊G750M 750w机箱 酷冷至尊黑软件Windows® ＆（或更高）.由Mishell® 供电Mishell是Microptik BV公司的注册商标。Windows是微软公司的注册商标。MiNan尖端程序在Mishell下运行，以充分体现由Morphious纳米获得的纳米粒子尺寸（长×宽×高）20 x 18 x 30 cm重量10.5 kg

多壁碳纳米管推动型QuEChERS（Nano U-QuE）Nano U-QuE产品优势： • 净化效果更好——在QuEChERs基础上创新性加入多壁碳纳米管等固相材料。 在吸附材料中加入修饰的多壁碳纳米管，具有较大的比表面积，净化效果显著优于传统固相材料。同时将“QuEChERs”方法中的PSA、C18、弗罗里硅土等多种吸附剂混合使用，使得对基质中的色素、有机酸、脂肪酸、碳水化合物等都有较好的吸附。 • 更简单、更高效——推动型固相净化方法，极大简化了样品提取后上清液净化的步骤。 将QuEChERS方法中分散固相萃取中的吸附剂装填至固相萃取柱管内，此类萃取柱为推动型固相净化柱，该方法可以显著提高残留分析方法前处理效率和净化效果，为农、兽药等痕量分析开拓了一个新的研究方向。 • 应用范围更广——涵盖了植物源性食品、动物源性食品如牛肉、猪肉、羊肉及肾脏、牛奶、鸡蛋等基质。 分析目标物：农药残留、兽药残留，如氯霉素、磺胺类、阿维菌素类和毒素等。 Nano U-QuE常见问题Q&A1、Ｑ：Nano U-QuE产品目前国内的典型用户有哪些？ A：国家茶叶产品质量监督检验中心（四川）、福州海关技术中心等政府实验室以及通标标准技术服务有限公司、华测检测认证集团北京有限公司等第三方检测实验室进行了广泛的推广应用，结果显示该柱在保证结果准确性的同时，大幅降低了前处理时间和检测成本，提高了检测效率。2、Ｑ：Nano U-QuE产品具体应用场景有哪些？ A：Nano U-QuE可广泛应用于食品相关的农残、兽残检测，同时由于Nano U-QuE方法省去涡旋、离心等步骤，非常适合于快速检测、第三方检测、大批量样品检测、突发事件预警，以及学校教学等使用。 此外，该柱性价比高、操作简便，特别适合在农贸市场等检测条件简陋场所使用，已经在新发地、北极星等农批市场推广应用。这些单位通过使用该改性净化柱，极大的提高了相关单位农兽药残留检测效率，同时极大的降低了时间成本，单样约降低30元/单，直接或间接获得经济效益700余万元。3、Q：Nano U-QuE方法是否需要使用特殊的QuE装置？实验员是否需要特殊培训？ Ａ：不需用特殊的QuE装置，实验员无需特殊的培训可以很好的完成。产品成熟稳定，实验成本低，环境友好。４ Ｑ：Nano U-QuE与传统的QuEChERS相比，效果和重现性方面怎么样？ Ａ：Nano U-QuE方法经过大量的实验与对比，方法重现性稳定。有针对性建立了简单基质、复杂基质、极复杂基质中痕量物质检测方法，相应净化柱通过了多家实验室的验证，可以在保证检测结果准确性的前提下，大幅提高检测方法的易用性和效率，同时大幅降低检测成本，该成果打破了长期以来国外对固相萃取柱产品的垄断，填补了国内空白。该成果为国家和社会各级检测机构提供强有力的技术支持，更好地保障农产品贸易安全，满足社会对食品质量安全的需要。5、Ｑ：Nano U-QuE产品中加入的多壁碳纳米管，会不会吸附样品中目标化合物？ A：不会，多壁碳纳米管净化效果优于传统固相材料PSA、GCB等可选择性吸附色素等基质干扰物，而对目标化合物的影响很小。同时，针对不同基质样品，有不同类型Nano U-QuE产品提供，比如：简单基质、复杂基质、高脂基质。6、Ｑ：上面的应用案例中，韭菜样品经过Nano U-QuE的净化后，与传统的QuE净化效果相别特别巨大，有这么好的净化效果的原理机制是？ A：应用案例中，韭菜样品经过Nano U-QuE的净化后，样品净化后液体非常干净。主要的净化原理机制是加入多壁碳纳米管后，极大增加了比表面积，同时在推杆的作用下，样品溶液反复与填料作用，短时间多次固液萃取和平衡，从而实现较好的净化效果。7、Ｑ：Nano U-QuE产品的净化效果确实不错，不过，我们不希望改变我们现有方法的SOP，我们仍需采取传统QuE的净化步骤，是否可以定制多壁碳纳米管的QuE产品呢？ A：可以，如果您不希望改变SOP，仍需按照传统QuE的净化步骤来操作，但想要有更好的净化效果。我们可以为您定制相应的QuE产品。请联系400-995-9932 或 直接拨打133 9125 2363（刘工）。

产品特点:该方法STORM或dSTORM是在光学显微镜中最常用的超分辨率技术之一。GATTA-STORM系列的纳米标尺是现在这项技术的理想校准探针。为了模拟你的STORM或dSTORM测量值作为传真尽可能标尺携带常用染料的AlexaFluor 647.我们提供的尺寸标记到标记距离30nm，50nm和94nm。纳米标尺，AFM纳米标尺，原子力显微镜纳米标尺，共聚焦显微镜纳米标尺，超高分辨显微镜纳米标尺，SIM纳米标尺，STED纳米标尺，STORM纳米标尺，电镜纳米螺旋标尺，金纳米螺旋标尺，显微镜亮度灵敏度标尺，显微镜纳米标尺技术参数：

*产品名称*品牌*产品规格*产品价格氧化物最终抛光液德国古莎L0最终抛光液(0.05um）500ml/瓶500氧化物最终抛光液德国古莎L1最终抛光液(0.05um) 1L/瓶500氧化物最终抛光液德国古莎L2最终抛光液(0.05um）1L/瓶500氧化物最终抛光液德国古莎ALP最终抛光液（0.05um）1L/瓶800氧化物最终抛光液德国古莎ALP最终抛光液（0.25um）1L/瓶800氧化物最终抛光液德国古莎ALP最终抛光液（1um）1L/瓶800精选的氧化物磨料+先进的化学悬浮方法，让氧化物机械化学抛光方法发挥出超级效率，为软质，韧性或者压力敏感制样提供完美表面。推荐配套4FV1型长绒植绒型抛光布或者聚氨酯发泡材料多空弹性抛光布，可以将机械化学抛光的效率最大化。氧化物金刚石终抛抛光液规格粒度原料作用L0型纳米级水悬浮非团聚氧化硅抛光液，碱性介质稳定，白色悬浮浓缩液（推荐稀释5-10倍使用）。通用材料型机械化学最终抛光液。L1型化学复合氧化物抛光液， 可以起到去薄的作用，碱性介质稳定，白色悬浮液，无需稀释。主要用于金属钛以及钛合金的最终抛光，特殊设计可以使样品表面的韧性划痕变脆易磨削，从而完成最终抛光。L2型由陶瓷与氧化硅复合的机械化学抛光液，碱性介质稳定，白色悬浮液，无需稀释。主要用于金属铝以及铝合金的在最终超镜面抛光前的精抛准备。ALP型1um应用新型抗团聚技术的高纯氧化铝机械化学最终抛光液，白色悬浮浓缩液（推荐稀释2-3倍使用）。适合于各类材料的精密最终抛光过程，主要用于最终表面极完美平整无划痕。0.25um0.05um

简介：二维晶体材料指的是以石墨烯为代表的单原子层及少数原子层厚度的晶体材料，巨纳集团除了提供石墨烯材料、设备、检测等一体化服务外，还联合美国2D Semiconductors为全球客户提供高质量的二维晶体材料、粉体、溶液、薄膜等材料，并提供定制服务，以满足客户的不同需求。碳纳米管MWCNTs

GATTA-STED NANORULER作为第一种超分辨率显微镜技术，STED(受激辐射损耗技术）方法彻底改变了光学显微镜。有了GATTA-STED系列的纳米尺子，现在终于有了足够的校准探针。单色纳米尺子携带两个由高量子产率染料ATTO 647N密集排列而成的荧光标记。我们提供50纳米，70纳米，90纳米和120纳米尺寸的标记距离。此外，我们还提供了一种新的设计，包含两个不同荧光团的三个发射点，可以获得非常引人注目的图像。多色纳米尺有三个发射点，尺寸为140 nm (ATTO 647N和ATTO 594)。我们还可以根据您的要求设计特殊的解决方案。所有的纳米样品将在一个密封的玻璃载片上，你可以舒服地直接放在你的显微镜上。订购选单

纳米显微操纵仪由微操纵仪、控制器、控制电源及操纵杆组成，微操纵仪的驱动是由压电陶瓷构成的纳米马达来实现的，从而保证能够进行纳米级精确移动。整个微操纵装置体积非常小，即使是操作精度高达几纳米也不会产生后座力及漂移。微操纵仪可直接在样品室内接触、操纵样品，从而使对样品的物性分析成为可能，而且多个操纵仪的联合使用可从事微纳尺度的样品的加工和组装。操纵仪有以下型号以适用于不同的环境：MM3A-LMP用于光镜；MM3A-EM用于电镜；MM3A-UHV用于超高真空环境；MM3A-LT用于低温环境。