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光镊拉曼光谱技术产品简介光镊拉曼光谱技术（laser tweezers Raman spectroscopy LTRS）结合光镊与显微拉曼光谱技术，可对单个微纳颗粒或单细胞进行操控与生化分析。常规显微拉曼光谱技术可以获得微米尺度分子结构信息，但是对于悬浮气/液体中微小粒子或细胞样品检测时，由于布朗运动或溶液悬浮等因素，很难对样品进行精准定位与测量。光镊技术可以稳定束缚与操纵微纳颗粒及生物分子，有效实现悬浮微颗粒的精准检测。光镊技术对微粒的操控是非接触的遥控方式，不会给对象造成机械损伤，可穿过气/溶液表层界面检测内部颗粒物信息，同时，光镊捕获的微粒尺度为几十纳米到几十微米，是生物细胞、细胞器、生物大分子以及气溶胶等物质尺度范围。拉曼光谱亦是一种无损伤的分子光谱技术，具有谱峰信息丰富，特异性强等优势，因此，光镊拉曼适用于微纳米尺度的单分子研究领域应用。典型应用系统介绍RTS-LTRS 光镊拉曼光谱系统是北京卓立汉光仪器有限公司全新推出的光镊-拉曼联用系统，该系统结合先进的光镊微控技术与拉曼分子识别分析技术，高度集成、性能稳定、易于操作，能够实现同时控制大量(200 个)目标和高精度的微纳米级颗粒物的分析测量。仪器原理和实现方式光镊技术捕获单个颗粒的基本原理如下图所示。激光通过倒置显微镜形成汇聚光线，高度聚焦的激光会在焦点中心形成一个势能梯度中心，称之为势阱或光阱。透明的球形微粒会被光阱在三维空间中捕获，从而进行操控、排列与微小力的测量。更复杂一点的情况是光折射的梯度力与光散射力以及粒子本身的重力与浮力共同平衡，并在限制粒子的布朗运动后实现 3D 捕获操控。光镊原理：采用 100kHz AOD（声光偏转器）高速分时扫描不同位置，从而形成多个光阱；区别于传统的光镊技术，这种技术可以实现：1. 控制目标更多：可以产生 200 个以上的光阱，同时捕获 200 个以上的目标微粒；2. 控制激光强度：0~100%，可独立控制每个光阱3. 控制光阱移动：轨迹、步长、速度等4. 降低光阱的漂移：光阱间漂移仅 0.05nm/min5. 提高测力精度：更加精确定位光阱坐标6. 降低系统噪音：无机械振动，提高整体稳定性结构介绍RTS-LTRS 光镊拉曼光谱系统有两种结构（如下图所示）。结构一：在标准的 RTS2 的基础上配置具有双层无限远光路的倒置显微镜，上层光路多光阱光镊系统，下层光路为拉曼光路出入口，可内置不同波长激光器，也可外部耦合激光器，拉曼信号通过光纤或者空间光路耦合到光谱仪，光路如下：结构二：在标准的 RTS2 的基础上配置具有双层无限远光路的倒置显微镜，上层光路多光阱光镊系统，拉曼激光从显微镜的侧口进入，拉曼信号原路返回接光谱仪，可内置不同波长激光器，也可外部耦合激光器，拉曼信号通过光纤或者空间光路耦合到光谱仪，光路如下：性能优势标配 320mm 焦长影像校正高通光量光谱仪，高像素深制冷光谱 CCD 相机，可扩展 EMCCD，ICCD，InGaAs 阵列等探测器，扩展系统功能；集成化设计，无外置裸露光学元器件；可以实现不同尺寸的多目标悬浮和自由移动，从纳米尺度至百微米尺度；多目标捕获，水中 200 个以上的不同尺寸目标，空气中不同尺寸液滴阵列的捕获；可 XYZ 三维方向精确控制捕获激光和拉曼激发激光焦点之间的相对位置，测试不同位置拉曼信号；非接触、作用力均匀，不会造成对象机械损伤和污染；可对常见样品及微/纳米颗粒、不规则颗粒及气相中的液滴进行 3D 捕获；系统稳定度更高，测量结果受环境干扰更小；操控更加灵活，光阱移动精度更高；避免视场不同位置光阱刚度的差异；可以进行多目标力学测量。典型参数测试案例光镊数据多目标实时测力，力学测量的分辨率可达约 100fN，精确度约 1pN。拉曼数据拉曼-光镊联用数据测试颗粒：浓度为 0.5M 到 2M 的 NaCl 水溶液发生的气溶胶颗粒气溶胶样品捕获拉曼激光定位激发识别回音壁信号峰位峰位信息导入软件液滴半径与折射率测试结果数据 稳定的环境条件下，在 2 分钟内的连续 25 次测量中，液滴半径为 4359.73±0.55nm，分辨率优于 1nm；折射率为 1.3757±0.0002，波动约 0.015%。

IBE离子束刻蚀NIE-3500（M）IBE离子束刻蚀产品概述：该系统为计算机全自动实现工艺控制的紧凑型独立的立柜式离子束刻蚀系统，具有结构紧凑、功能强大、自动化程度高、模块化设计易于维护、低成本的优势。所有核心组件均为国际知名品牌。NIE-3500（M）IBE离子束刻蚀产品特点：低成本离子束：高达2KV/10mA离子电流密度100-360uA/cm2离子束直径：4",5",6"兼容反应及非反应气体(Ar, O2, CF4,Cl2)极限真空5x10-7Torr260l/s涡轮分子泵，串接500 l/min干泵14"不锈钢或铝质腔体水冷旋转/倾斜样品台(NIE-3500)自动上下载片（NIE-3500）基于LabView软件的PC计算机全自动控制占地面积30"x30"NIE-3500（M）IBE离子束刻蚀产品应用：表面清洗表面处理离子铣带活性气体的离子束刻蚀光栅刻蚀SiO2，Si和金属的深槽刻蚀NIE-3500（M）IBE离子束刻蚀Features：Low CostIon Beam: Up to 2KV/10mA Ion Current Density 100-360 μA/cm2 Ion Beam Size: 4”, 5”, 6”Compatible with Reactive and Non-Reactive Gases (Ar, O2, CF4,Cl2) Base Pressure 5x10-7 Torr 260 l/sec Corrosive Turbo Pump with 500 l/min Dry Scroll Pump14” SS or Al ChambersWater Cooled Rotating/Tilted Platen (NIE-3500)Auto Load and Unload (NIE-3500)PC Controlled with LabVIEW SoftwareFootprint 30”x30”NIE-3500（M）IBE离子束刻蚀Applications：Surface Cleaning Surface Treatment Ion Beam MillingIon Beam Etching with Reactive Gases: Grating Deep Trenches on SiO2, Si and metals

IBE离子束刻蚀NIE-3500（A）全自动IBE离子束刻蚀产品概述：该系统为全自动上下载片，并且通过计算机全自动实现工艺控制的紧凑型独立的立柜式离子束刻蚀系统，系统具有结构紧凑、功能强大、自动化程度高、模块化设计易于维护、低成本的优势。该系统所配套的所有核心组件均为国际知名品牌。NIE-3500（A）全自动IBE离子束刻蚀产品特点：低成本带预真空锁，自动上下载片离子束：高达2KV/10mA离子电流密度100-360uA/cm2离子束直径：4",5",6"兼容反应及非反应气体(Ar, O2, CF4,Cl2)极限真空5x10-7Torr260l/s涡轮分子泵，串接500 l/min干泵14"不锈钢或铝质腔体水冷旋转/倾斜样品台(NIE-3500)自动上下载片（NIE-3500）基于LabView软件的PC计算机全自动控制占地面积30"x30"NIE-3500（A）全自动IBE离子束刻蚀产品应用：表面处理离子铣表面清洗带活性气体的离子束刻蚀： 光栅刻蚀，以及SiO2，Si和金属的深槽刻蚀NIE-3500（A）全自动IBE离子束刻蚀Features：Low CostAuto Load/Unload with Load LockIon Beam: Up to 2KV/10mA Ion Current Density 100-360 μA/cm2 Ion Beam Size: 4”, 5”, 6”Compatible with Reactive and Non-Reactive Gases (Ar, O2, CF4,Cl2) Base Pressure 5x10-7 Torr 260 l/sec Corrosive Turbo Pump with 500 l/min Dry Scroll Pump14” SS or Al ChambersWater Cooled Rotating/Tilted Platen (NIE-3500)Auto Load and Unload (NIE-3500)PC Controlled with LabVIEW SoftwareFootprint 30”x30”NIE-3500（A）全自动IBE离子束刻蚀Applications：Surface Cleaning Surface Treatment Ion Beam MillingIon Beam Etching with Reactive Gases: Grating Deep Trenches on SiO2, Si and metals

IBE离子束刻蚀NIE-3000IBE离子束刻蚀产品概述：该系统为手动放片取片，但通过计算机全自动实现工艺控制的台式离子束刻蚀系统，系统具有结构紧凑、功能强大、自动化程度高、模块化设计易于维护、低成本的优势。该系统所配套的所有核心组件均为国际知名品牌。NIE-3000IBE离子束刻蚀产品特点：低成本离子束：高达2KV/10mA离子电流密度100-360uA/cm2离子束直径：4",5",6"兼容反应及非反应气体(Ar, O2, CF4,Cl2)极限真空5x10-7Torr260l/s涡轮分子泵，串接500 l/min干泵14"不锈钢或铝质腔体水冷旋转/倾斜样品台(NIE-3500)自动上下载片（NIE-3500）基于LabView软件的PC计算机全自动控制占地面积30"x30"NIE-3000IBE离子束刻蚀产品应用：表面处理离子铣表面清洗带活性气体的离子束刻蚀： 光栅刻蚀，以及SiO2，Si和金属的深槽刻蚀NIE-3000IBE离子束刻蚀 Features：Low CostIon Beam: Up to 2KV/10mA Ion Current Density 100-360 μA/cm2 Ion Beam Size: 4”, 5”, 6”Compatible with Reactive and Non-Reactive Gases (Ar, O2, CF4,Cl2) Base Pressure 5x10-7 Torr 260 l/sec Corrosive Turbo Pump with 500 l/min Dry Scroll Pump14” SS or Al ChambersWater Cooled Rotating/Tilted Platen (NIE-3500)Auto Load and Unload (NIE-3500)PC Controlled with LabVIEW SoftwareFootprint 30”x30”NIE-3000IBE离子束刻蚀 Applications：Surface Cleaning Surface Treatment Ion Beam MillingIon Beam Etching with Reactive Gases: Grating Deep Trenches on SiO2, Si and metals

Ion Beam离子束清洗NIE-3500 (MC)离子束清洗系统产品概述：该系统为计算机全自动实现工艺控制的紧凑型独立的立柜式离子束刻蚀系统，具有结构紧凑、功能强大、自动化程度高、模块化设计易于维护、低成本的优势。所有核心组件均为国际知名品牌。NIE-3500 (MC)离子束清洗系统产品特点：低成本离子束：高达2KV/10mA离子电流密度100-360uA/cm2离子束直径：4",5",6"兼容反应及非反应气体(Ar, O2, CF4,Cl2)极限真空5x10-7Torr260l/s涡轮分子泵，串接500 l/min干泵14"不锈钢或铝质腔体水冷旋转/倾斜样品台(NIE-3500)自动上下载片（NIE-3500）基于LabView软件的PC计算机全自动控制占地面积30"x30"NIE-3500 (MC)离子束清洗系统产品应用：表面清洗表面处理离子铣带活性气体的离子束刻蚀光栅刻蚀SiO2，Si和金属的深槽刻蚀NIE-3500 (MC)离子束清洗系统Features：Low CostIon Beam: Up to 2KV/10mA Ion Current Density 100-360 μA/cm2 Ion Beam Size: 4”, 5”, 6”Compatible with Reactive and Non-Reactive Gases (Ar, O2, CF4,Cl2) Base Pressure 5x10-7 Torr 260 l/sec Corrosive Turbo Pump with 500 l/min Dry Scroll Pump14” SS or Al ChambersWater Cooled Rotating/Tilted Platen (NIE-3500)Auto Load and Unload (NIE-3500)PC Controlled with LabVIEW SoftwareFootprint 30”x30”NIE-3500 (MC)离子束清洗系统Applications：Surface Cleaning Surface Treatment Ion Beam MillingIon Beam Etching with Reactive Gases: Grating Deep Trenches on SiO2, Si and metals

Ion Beam离子束清洗NIE-3000 (C) 离子束清洗系统产品概述：该系统为手动放片取片，但通过计算机全自动实现工艺控制的台式离子束刻蚀系统，系统具有结构紧凑、功能强大、自动化程度高、模块化设计易于维护、低成本的优势。该系统所配套的所有核心组件均为国际知名品牌。NIE-3000 (C) 离子束清洗系统产品特点：低成本离子束：高达2KV/10mA离子电流密度100-360uA/cm2离子束直径：4",5",6"兼容反应及非反应气体(Ar, O2, CF4,Cl2)极限真空5x10-7Torr260l/s涡轮分子泵，串接500 l/min干泵14"不锈钢或铝质腔体水冷旋转/倾斜样品台(NIE-3500)自动上下载片（NIE-3500）基于LabView软件的PC计算机全自动控制占地面积30"x30"NIE-3000 (C) 离子束清洗系统产品应用：表面处理离子铣表面清洗带活性气体的离子束刻蚀： 光栅刻蚀，以及SiO2，Si和金属的深槽刻蚀NIE-3000 (C) 离子束清洗系统 Features：Low CostIon Beam: Up to 2KV/10mA Ion Current Density 100-360 μA/cm2 Ion Beam Size: 4”, 5”, 6”Compatible with Reactive and Non-Reactive Gases (Ar, O2, CF4,Cl2) Base Pressure 5x10-7 Torr 260 l/sec Corrosive Turbo Pump with 500 l/min Dry Scroll Pump14” SS or Al ChambersWater Cooled Rotating/Tilted Platen (NIE-3500)Auto Load and Unload (NIE-3500)PC Controlled with LabVIEW SoftwareFootprint 30”x30”NIE-3000 (C) 离子束清洗系统 Applications：Surface Cleaning Surface Treatment Ion Beam MillingIon Beam Etching with Reactive Gases: Grating Deep Trenches on SiO2, Si and metals

RIBE反应离子束刻蚀系统NIE-4000（R）RIBE反应离子束刻蚀产品概述：如铜和金等金属不含挥发性化合物，这些金属的刻蚀无法在RIE系统中完成。然而通过加速的Ar离子进行物理刻蚀则是可能的。通常情况下，样品表面采用厚胶作为掩模层，刻蚀期间富有能量的离子流会使得基片和光刻胶过热。除非可以找到有效的方式消除热量，否则光刻胶将变得非常难以去除。NANO-MASTER技术已经证明了可以把基片温度控制在50° C以内的同时，旋转晶圆片以达到想要的均匀度。NIE-4000（R）RIBE反应离子束刻蚀产品特点：14.5”不锈钢立体离子束腔体16cm DC离子枪1200eV,650mA, 气动不锈钢遮板离子束中和器氩气MFC6”水冷样品台晶片旋转速度3、10RPM，真空步进电机步进电机控制晶圆片倾斜自动/手动上下载晶圆片典型刻蚀速率：铜200 ?/min, 硅：500 ?/min6”范围内，刻蚀均匀度+/-3%极限真空5x10-7Torr，20分钟内可达到10-6Torr级别（配套500 l/s涡轮分子泵）配套1000 l/s涡轮分子泵，极限真空可达8x10-8Torr磁控溅射Si3N4以保护被刻蚀金属表面被氧化基于LabView软件的PC计算机全自动控制菜单驱动，4级密码访问保护完整的安全联锁NIE-4000（R）RIBE反应离子束刻蚀 Features：14.5" SS Cube ion beam chamber16 cm DC Ion gun 1000V, 500 mA ,DC motor driven SS shuttersIon Beam neutralizerAr MFCChilled water cooled 6” substrate platenWafer rotation 3-10 RPM, Vacuum stepper motorWafer Tilt with a stepper motor through differentially pumped rotational sealManual/Auto wafer load/unloadTypical Etch Rates: 200 ?/min Cu, 500 ?/min Si+/-3% etch uniformity over 6“ area5x 10-6 Torr 20 minutes 2 x10-7 Torr (2 days) Base Pressure with 500 l/sec turbo8x10-8 Torr Base pressure with 1000 l/sec Turbo pumpMagnetron Sputtering of Si3N4 to protect etched metal surfaces from oxidationPC Controlled with LabVIEW SoftwareRecipe Driven, Password ProtectedFully Safety Interlocked

IBE离子束刻蚀系统NIE-4000（A）全自动IBE离子束刻蚀产品概述：如铜和金等金属不含挥发性化合物，这些金属的刻蚀无法在RIE系统中完成。然而通过加速的Ar离子进行物理刻蚀则是可能的。通常情况下，样品表面采用厚胶作为掩模层，刻蚀期间富有能量的离子流会使得基片和光刻胶过热。除非可以找到有效的方式消除热量，否则光刻胶将变得非常难以去除。NANO-MASTER技术已经证明了可以把基片温度控制在50° C以内的同时，旋转晶圆片以达到想要的均匀度。NIE-4000（A）全自动IBE离子束刻蚀产品特点：14.5”不锈钢立体离子束腔体16cm DC离子枪1200eV,650mA, 气动不锈钢遮板离子束中和器氩气MFC6”水冷样品台晶片旋转速度3、10RPM，真空步进电机步进电机控制晶圆片倾斜自动上下载晶圆片典型刻蚀速率：铜200 ?/min, 硅：500 ?/min6”范围内，刻蚀均匀度+/-3%极限真空5x10-7Torr，20分钟内可达到10-6Torr级别（配套500 l/s涡轮分子泵）配套1000 l/s涡轮分子泵，极限真空可达8x10-8Torr磁控溅射Si3N4以保护被刻蚀金属表面被氧化基于LabView软件的PC计算机全自动控制菜单驱动，4级密码访问保护完整的安全联锁NIE-4000（A）全自动IBE离子束刻蚀 Features：14.5" SS Cube ion beam chamber16 cm DC Ion gun 1000V, 500 mA ,DC motor driven SS shuttersIon Beam neutralizerAr MFCChilled water cooled 6” substrate platenWafer rotation 3-10 RPM, Vacuum stepper motorWafer Tilt with a stepper motor through differentially pumped rotational sealManual wafer load/unloadTypical Etch Rates: 200 ?/min Cu, 500 ?/min Si+/-3% etch uniformity over 6“ area5x 10-6 Torr 20 minutes 2 x10-7 Torr (2 days) Base Pressure with 500 l/sec turbo8x10-8 Torr Base pressure with 1000 l/sec Turbo pumpMagnetron Sputtering of Si3N4 to protect etched metal surfaces from oxidationPC Controlled with LabVIEW SoftwareRecipe Driven, Password ProtectedFully Safety Interlocked

Ion Beam离子束清洗NIE-3500 (AC)全自动离子束清洗系统产品概述：该系统为全自动上下载片，并且通过计算机全自动实现工艺控制的紧凑型独立的立柜式离子束刻蚀系统，系统具有结构紧凑、功能强大、自动化程度高、模块化设计易于维护、低成本的优势。该系统所配套的所有核心组件均为国际知名品牌。NIE-3500(AC)全自动离子束清洗系统产品特点：低成本带预真空锁，自动上下载片离子束：高达2KV/10mA离子电流密度100-360uA/cm2离子束直径：4",5",6"兼容反应及非反应气体(Ar, O2, CF4,Cl2)极限真空5x10-7Torr260l/s涡轮分子泵，串接500 l/min干泵14"不锈钢或铝质腔体水冷旋转/倾斜样品台(NIE-3500)自动上下载片（NIE-3500）基于LabView软件的PC计算机全自动控制占地面积30"x30"NIE-3500(AC)全自动离子束清洗系统产品应用：表面处理离子铣表面清洗带活性气体的离子束刻蚀： 光栅刻蚀，以及SiO2，Si和金属的深槽刻蚀NIE-3500(AC)全自动离子束清洗系统Features：Low CostAuto Load/Unload with Load LockIon Beam: Up to 2KV/10mA Ion Current Density 100-360 μA/cm2 Ion Beam Size: 4”, 5”, 6”Compatible with Reactive and Non-Reactive Gases (Ar, O2, CF4,Cl2) Base Pressure 5x10-7 Torr 260 l/sec Corrosive Turbo Pump with 500 l/min Dry Scroll Pump14” SS or Al ChambersWater Cooled Rotating/Tilted Platen (NIE-3500)Auto Load and Unload (NIE-3500)PC Controlled with LabVIEW SoftwareFootprint 30”x30”NIE-3500(AC)全自动离子束清洗系统Applications：Surface Cleaning Surface Treatment Ion Beam MillingIon Beam Etching with Reactive Gases: Grating Deep Trenches on SiO2, Si and metals

菲希尔金镍厚度分析仪、金镍厚度测量仪、金镍分析仪 ——Ｘ射线荧光镀层测厚及材料分析仪菲希尔金镍测厚仪用途：XDLM-PCB 200型：首先PCB板将在仪器集成的激光点的协助下准确放置于样品台上。然后将样品台如抽屉般推入仪器内部。设计用途：能量色散型X射线荧光镀层测厚及材料分析仪（EDXRF），用于测量微小结构上的薄镀层厚度和材料分析菲希尔金镍测厚仪技术参数：元素范围：从元素氯(17)到铀（92），最多可同时测定24种元素。形式设计：台式仪器，测量门底部开槽设计。测量方向：由上往下X射线管：带铍窗口的微聚焦钨管高压：三档：30KV，40KV，50KV孔径（准直器）：0.2mm基本滤片：固定测量点尺寸：取决于测量距离和使用的孔径大小；视频窗口中显示的就是实际的测量点尺寸；最小测量点约为：0.16mm测量距离：0-10mm (0-0.4in),使用受专利保护的DCM测量距离补偿法X射线探测器：比例接收器菲希尔金镍测厚仪应用领域：钟表，首饰，眼镜 汽车及紧固件 卫浴五金连接器化学药水通信半导体封装测试电子元器件 PCB

混捏锅 搅拌混合碳素和沥青设备混捏锅是由一对互相配合和旋转的叶片(通常呈Z形)所产生强烈剪切作用而使半干状态的碳素和沥青等物料进行均匀的搅拌混合设备。调温形式采用夹套、蒸汽、油加热、水冷却等方法，采用液压翻缸及启盖。出料方式有液压、翻缸倾倒、球阀出 料，螺杆挤压等。应用范围混捏锅主要用于以电极糊、阳极糊、石墨化电极等碳素碳素制品。石油焦、无烟煤、冶金焦为主要原料，煤沥青为粘结剂而制成。有的用于各种连续自焙电炉作为导电电极使用的电极糊 有的用于连续自焙式铝槽作为导电阳极使用的阳极糊 有的用于高炉砌筑的填料和耐火泥浆的粗缝糊和细缝糊。高炉用自焙炭块虽用途不同，但和糊类制品的生产工艺相仿，暂归在糊类制品内。

IBE离子束刻蚀系统NIE-4000（M）IBE离子束刻蚀产品概述： NANO-MASTER的离子束刻蚀系统具有很强的适应性，可根据不同的应用而按不同的配置进行建构。多样的样片夹具和离子源配置可支持用户不同的应用。用于离子束系统（或称离子铣系统）的样片夹具可以支持±90°倾斜、旋转、水冷和背氦冷却。 NANO-MASTER技术已经展示了可以把基片文库保持在50°C以内的能力。通过倾斜和旋转，可以刻蚀出带斜坡的槽，并且改善了对侧壁轮廓和径向均匀度的控制。 不同的选配项可以用于不同的网格配置以及中和器。溅射选配项可以支持对新刻蚀金属表面的涂覆，以防氧化。此外，还可以选配单晶圆自动上下片功能。NIE-4000（M）IBE离子束刻蚀产品特点：优化的14”立方的电抛光不锈钢腔体水冷±90°自动倾斜旋转基片夹具带不锈钢气体管路及气动截止阀的MFC 直流离子源1cm-16cm 6”基片的刻蚀均匀度±1.2% 能够控制基片温度在50°C以内 26”x44”占地面积的不锈钢柜体，非常适用于百级超净间 基于计算机的全自动工艺控制，菜单驱动 LabVIEW友好用户界面 EMO和安全互锁NIE-4000（M）IBE离子束刻蚀产品选配：光谱终点监测系统背氦冷却21”立方的电抛光不锈钢腔体自动上下片1200L/Sec涡轮分子泵冷泵配置增加MFC用于反应气体实现RIBE栅格式RFICP离子源中空阴极或灯丝中和器溅射源用于钝化层沉积NIE-4000（M）IBE离子束刻蚀产品应用：III-V族光学元件激光光栅高深宽比的光子晶体刻蚀SiO2，Si和金属的深槽刻蚀

了解单分子层面复杂的生物过程是预防和治疗癌症及其他疾病的关键，声学力谱仪作为即时可用的单分子检测仪器，实现了活体测量技术的突破以及分子水平上相互作用的成像。 AFS单分子声力谱仪（声镊）技术声学力谱（AFS），是一种用于高度并行操纵单分子的方法。AFS单分子声力谱仪是款商业化的独立仪器，包括一个易于操作和测量的智能化专业显微镜。AFS技术是采用功能强大而成本低廉的芯片装置，能够高精度施加力同时对数千个生物分子进行检测。 AFS单分子声力谱仪（声镊）原理AFS技术由玻璃微流控芯片和透明的压电变换器构成来产生共振声波。AFS芯片上的声波（超声波）可同时并行地在数千个生物分子（如DNA，RNA或蛋白质）施加亚皮牛顿（pn）到数百皮牛顿（pn）的力，同时具有亚毫秒的响应时间及固有稳定性。AFS作为一个理想的工具在核酸蛋白、药物蛋白和抗原抗体层面上破译分子间相互作用的详情。AFS技术能够使科学家研究蛋白质的结构与功能相互关系，新的生物机制和细胞力学，也可用于研究和识别自由能图，动力学速率和在反应过程中的中间态。AFS作为一个高度集成化的系统，包括倒置光学显微镜与软件、工作站及相关电子器件，用户界面友好，操控方便。 AFS单分子声力谱仪（声镊）主要技术特点： 微流控芯片实验室技术（Lab-on-Chip）单分子操纵高度并行亚毫秒响应时间固有稳定性安全和友好的用户界面高性价比 AFS单分子声力谱仪（声镊）的多功能设计AFS作为一个高度灵活的单分子检测仪器，其显微镜平台给用户定制和个性化需求提供了多重选择。通过在200毫米、150毫米、75毫米和50毫米不同镜筒透镜安装距离来改变光学放大倍数可拆卸侧板便于对光学路径的简单调整标准25毫米网格便于外部安装射流功能的组件（如注射泵）特殊设计能够快速简单连接外部放大器专用芯片底座能够使射流和电子连接安全地接到AFS芯片、简单快速地固定或重新固定滑动装置用于准确定位和锁定物镜上的样品配装夹具以确保工作台上流体组件的固定，以便实现多种流动形式，如重力或注射器驱动的流动 AFS单分子声力谱仪（声镊）的应用应用包括：动态力谱、恒力测试、力-距离曲线、生物聚合物力学、键断裂、微流变学、细胞力学、水凝胶力学性能 AFS单分子声力谱仪（声镊）高精度力学及长度测量AFS是对单个生物分子进行高精度力学测量的理想工具。我们在此通过对单个DNA分子不同张力程度及使用AFS的跟踪软件测量其长度来证明AFS的高测量精度。本实验是在被拴在链霉亲和素包裹的聚苯乙烯微球（直径4.5μm）上的单个DNA分子（长度8.4 kbps）上进行的。用测量之前已生成的对照表来跟踪微球的高度可达纳米精度。测量过程中，我们将驱动电压的（正负峰间）幅度从0 Vpp增加到2.1 Vpp，相应的声学力从0 pN增加到15.8 pN。AFS软件能实时确定在各种力作用下的DNA长度，以此来探测生物活动，如蛋白质-DNA的相互作用。 具有14位垂直分辨率的信号发生器产生的亚皮牛顿（pN）精度的恒声学力具有数小时的稳定性和亚毫秒的响应时间。 AFS单分子声力谱仪（声镊）并行测量力学性能AFS拥有强大独特的功能，能够以高度并行的方式实现单分子的测量。因为在很多情况下由热扰动引起的复杂状态及随机的个别状态需要在单个实验中同时测量得到，而AFS并行测量功能恰好实现了此要求，这是非常关键的。在这个单分子的拉力实验中，通过并行测量得到了20个DNA分子的力学参数。 力-拉伸长度曲线20个独立DNA分子的并行拉伸曲线。我们将张力从0.1 pN增加到48 pN来记录力学-拉伸长度曲线。在一个可视区里同时并行地获得曲线。单分子多数量力学测量功能，可以应用到不同的实验如蛋白质和RNA伸展和核酸酶处理。 高数据量的键断裂测量统计分析和高数据量采集对于抗体-抗原相互作用的表征是至关重要的。由于AFS多数量分子测试的能力，大量的键可以并行测试，大大减少了测量时间。这个实验展示了AFS能够在单个测量实验中获取一个完整的251个单分子Dig:: anti-Dig键断裂力分布。 断裂力柱状图251个 Dig::anti-Dig 键，拉伸载荷率为2.3 pN/s，每 Dig::anti-Dig 键的断裂力记录下来并绘制成一个断裂力柱状图。此柱状图在相同条件下的单个实验中得到，保证实验的可靠性和重现性。AFS能够应用加载速率跨越几个数量级（10-4 PN / s到103 PN / s），使之成为高度并行测量动态力学谱的理想工具。 AFS单分子声力谱仪（声镊）规格参数AFS是一个真正的测量单分子的工具，包括一个专用的倒置光学显微镜，射流模块和电子组件，集成在一个小箱体内 （300mm×375mm×200mm）。 AFS专用显微镜 单色LED照明波长660 nmCFI消色差物镜（可升级）尼康40x、NA 0.65，WD 0.65mm校正色差，球面像差，模糊和图像的平坦性电动Z轴物镜台（可升级）高性能两相步进微平移台，行程范围5 mm，步长50 nm，亚纳米级的稳定性USB 3.0 CMOS摄像头（可升级）1280×1024像素（像素大小5.3 μm），1.31兆像素全视场实时并行测量高达60赫兹 手动XY样品台微米精度20毫米行程范围双燕尾导轨，使用户能测量样品内不同的位置配带有刻度按钮的细牙螺纹轴信号发生器（可升级）能承受共振声波达10Vpp（电压峰峰值，在50Ω阻抗下）可以实现10-5 赫兹到千赫兹甚至千赫兹以上频率范围的不同时间尺度的动态力学谱和力的扫描超越的稳定性和重现性在14位垂直分辨率下的静态和动态力测量 AFS单分子声力谱仪（声镊）芯片 AFS系统包含三种AFS芯片，每个AFS芯片都会提前校准并且给出芯片的共振频率加载速率范围：10-4 PN / s到103 PN / sAFS芯片尺寸：45 mm x 15 mm x 1.275 mm加载力：大于200 pN（4.5μm的聚苯乙烯微球，采用电压放大器） 全新的AFS芯片设计我们将不断地改进AFS芯片。与AFS用户密切合作，提高芯片的性能、功能和可用性。

SNF发泡塑料加压式捏炼机，捏炼机胶塑物料在密闭、加压及温度可控条件下混炼或塑炼。转子凸棱的螺旋角以及两棱的重叠长度等参数设计合理，物料分散均匀。与物料接触的所有零部件表面均经打磨镀硬铬后抛光，耐磨且防腐。与物料接触的零部件为夹套式结构，获得的冷却或加热效果，适应各种炼胶，炼塑工艺要求。从机架后门（或另开口）加料，混炼室向前翻转140°卸料，便于上下工序连线；易于物料换色，混炼室清洗方便。电控系统采用可编程序控制器（PLC）具有完善的控制功能与检测报警功能及安全联锁保护功能，并可提供联网的串行接口。大连嘉展机械装备制造有限公司隶属于大连第二橡塑机械有限公司，系原国家化工部工厂，是专业研制开发、 生产销售及服务维修为一体的综合橡塑机械厂。主要产品有各种规格的橡胶(塑料)加压式捏炼机、开炼机、橡胶（塑料）压延机、橡胶过滤挤出机、XY系列压延机、胶片冷却机等。公司检测手段齐全，获得多项国家、省、市奖章，并设有大型调质回火炉、金属元素化验室、硬度检测仪等，已通过 IS09001：2000 国际质量体系认证。

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镍粉又分为**镍粉，主要用于涂料和塑料作导电颜料屏蔽电磁干涉及射频干涉，作各种高光泽装饰漆和塑料，代替铝粉在水性体系作防腐蚀漆等，细颗粒球形镍粉可用于导电油墨。性状：呈灰色不规则状粉末，在潮湿空气中易氧化。用途：用于制取非铁基合金，制取耐高温、***材料，磁性材料，亦可用作化学反应的加氢催化剂。包装：采用充有保护气体的内衬塑料袋、布袋外加铁桶包装。以金属镍为主要成分的金属颜料，包括镍粉和片状镍粉，前者是用经过蒸馏并提纯的**镍[Ni（CO）4]蒸气分解，通过控制温度，用一氧化碳稀释并有气体助剂（氧和氮）存在下形成适宜外形的镍粒子，再用二氧化碳气体冲洗掉一氧化碳并控制粒子表面氧含量为0.065%；后者是用高纯**镍粉，在适宜润滑剂和液体介质存在下，用钢球在球磨机中研磨形成适宜厚度的片状。工业应用金刚石工具镍粉介绍（金属胎体合金粉末）: 金属结合剂是决定金刚石锯片，刀头，磨轮，薄壁钻等产品的质量关键因素之一，在金刚石确定以后，金属结合剂的质量就成了决定因素，钴粉和镍粉都可以作为主粘结剂，但钴粉的价格较高。在金刚石工具中,胎体指包裹,金刚石的金属烧结体,胎体的作用是把持金刚石,使其起到切割的作用,而不会过早地脱落掉.胎体一般由多种金属元素组成，主要采用低熔点金属粉作为粘结剂，比如镍粉等。建筑业用的金刚石薄壁钻头、切割片，石油天然气等矿用金刚石钻头、硬质合金钻头的胎体粘接材料大多采用镍粉；金属材料加工、汽车、摩托车机械打磨加工等用的工具大多采用金刚石磨料磨具，其胎体材料也大都采用镍粉。包括**镍粉、电解镍粉和还原镍粉。

NIE-4000 离子束刻蚀系统 NIR-4000 IBE/RIE 双刻蚀系统通过加速的 Ar 离子进行物理刻蚀或铣削。对于硅的化合物也可以通过反应离子束刻蚀的方式提高刻蚀速率和深宽比。通常情况下，样品表面采用厚胶作掩模，刻蚀期间高能离子流将会对基片和光刻胶过加热，除非找到合适的方法移除热量，光刻胶将变得昂变得很难以去除。支持百级超净间使用。 NANO-MASTER 拥有成熟的技术能力可以使基片温度保持在50°C 以下。通过倾斜和旋转，深沟可以切成斜角，通过控制侧壁轮廓和径向可提高均匀度。对于大尺寸的基片，我们配置线性离子源，通过扫描的方式，可以实现均匀的离子束刻蚀或反应离子束刻蚀。不同的构造不同的应用可选择不同的选配项，若要刻蚀之后马上涂覆，可以增加溅射选项。对于标准的晶圆片，也可选择自动装载卸载晶圆片。 工艺过程通过触摸屏电脑和 LabView 软件，可实现全自动的 PC控制，具有高度的可重复性，且具有友好的用户界面。 系统具有完整的安全联锁，提供四级密码授权访问保护，防止使用者越权使用，含：。 操作者权限：运行程序。工艺师权限：添加/编辑和删除程序。工程师权限：可独立控制子系统，并开发程序。服务权限：NM 工程师故障诊断和排除 系统支持不限数量的工艺菜单，每套工艺菜单可根据需要支持 1到 100 个工艺工序（步骤），可实现简单操作完成复杂的工艺。 系统标准配置包含涡轮分子泵和机械泵，极限真空可达到10-7 Torr 量级(可升级到 10-8Torr 量级)。分子泵与腔体之间的直连设计，系统可获得最佳真空传导率，12 小时达到腔体极限真空。腔体压力调节通过 PC 自动控制涡轮速度而全自动调节，快速稳定。双真空计配置，可实现真空的全局测量和精确测量。 对标准晶圆可支持单片或 25 片 Cassette 的 Auto L/UL 升级，可自动进样、对准、出样，在不间断工艺真空情况下连续处理样片。Load Lock 腔体配套独立真空系统，通过 PC 全自动监控。 若离子铣工艺之后需要马上进行反应离子刻蚀处理，NMC 技术可以双腔体系统，在一个系统的两个腔体内完成两种不同的工艺，若加上自动传输，还可实现整个处理过程都不打破彼此真空状态，实现非常高效的工艺处理 典型应用： 。 三族和四族光学元件。激光光栅。高深宽比的光子晶体刻蚀。在二氧化硅、硅和金属上深沟刻蚀。 微流体传感器电极及测热式微流体传感器 设备特点：。 24”x60”x10”长方或 14.5”立方型不锈钢离子束腔体。24”Wx10”H 或 8”测开门，带 2 个 2”观察视窗。支持 600X600mm 的基片(可定做更大尺寸)。 倒装磁控无栅无灯丝准直 60cm 线性离子源(离子枪)，1500-2500V，并且高达 1000mA，无需中和器。。 离子源均匀性可达+/-2.5%，操作压力1mTorr。与带栅极离子源相比更可靠，更低维护，更少污染。。 离子枪电源：4KV 电源。配套 Ar 和 CF4 MFC，支持 IBE 和 RIBE 刻蚀应用。 反应性气体通过靶枪的长度方向引入，均匀分布。冷却水冷却（背氦冷却可选）。 步进电机控制离子枪扫描或样品台旋转/倾斜。 手动或自动(自动仅对标准晶圆)上下载晶圆片。 配套 1200L/Sec 涡轮分子泵，串接 2021C2 机械泵，带 Fomblin 泵油。 极限真空可达 7×10-7 Torr。下游压力通过 PC 对分子泵涡轮速度的控制自动调节。SiN4 磁控溅射保护被刻蚀金属表面以防氧化(选配)。 基于 LabVIEW 软件的计算机全自动工艺控制。菜单驱动，密码保护，完全的安全联锁。紧凑型设计，占地面积仅 26”Dx66”W,节省空间 系统可选：。光谱终点探测器。氦气背部冷却。更大尺寸的电镀方形腔体。 自动装载/卸载。 低温泵组。 附加反应气体质量流量控制器。 格状射频电感耦合等离子体。 用于钝化层沉积的溅射源

高分辨可视化单分子操纵的荧光显微镜光镊C-Trap 是世界上第一台高分辨可视化单分子操纵的光学镊子。结合共焦显微镜和STED 高分辨纳米显微镜, 整合先进的微流控系统，实时进行分子间相互作用的同步操纵和可视化，可以达到碱基对的分辨率。完整成像为了解读复杂的分子间作用力，科学家需要一种能从多个角度观察同一个生物过程的能力。C-Trap结合光镊和荧光显微，可以同步实时可视化单分子、测量生物分子复合物的机械性能获得更好的细节。用这种新的技术来进行同步操纵、力学测量、复合物可视化，可以得到结合在DNA 上的蛋白的构象状态，同时实现机械性能的定量、定位。技术特点* 2-4光镊系统，可实现单个或多个生物分子的操纵* 超高分辨率：多个可视化平台：多色共聚焦荧光显微镜&STED,SuperC-Trap（40nm）* 层流微流体设计* 高精度力学测量：实现亚pN 的分辨率和1000PN的范围测量* 稳定性&可重复性* 人性化的软件设计：简单的手动点击和参数设置产品应用：* 分子相互作用，如分子、细胞、纳米颗粒，可达到（40nm）可视化分辨率；* 力的测量：分辨率，亚pN 测量范围〉1000pN；* 微小粒子 可以在物理、化学、生物及材料的研究中发挥重要的作用。我们的用户：* 阿姆斯特丹自由大学* 国际生物技术和生物医学中心（BIOCEV）* 洛克菲勒大学* 格罗宁根大学* 荷兰FOM研究所* 约翰斯霍普金斯大学* 格廷根大学* 上海科技大学* 伯克利大学* 哈佛大学发表文献代表：Science,2016；Nature Communications,2016；应用案例：*分子间相互作用--DNA与蛋白质相互作用下图显示了随着时间（水平）DNA结合的花青染料Sytox-Orange（DNA嵌入剂）的位置（垂直）。波动曲线显示了XRCC4和XLF的位置（垂直），两个修复蛋白在非同源末端接合，随着时间的推移结合到DNA（水平）。这个图显示了XRCC4(绿，9%)，XLF(红，62%)和XRCC4-XLF复合物的动态变化。这个波动曲线提供了在DNA修复过程中实时了解DNA-蛋白质的相互作用和蛋白质和蛋白质相互作用*力学测量--蛋白质结构域的展开 下图一显示了两个光学捕获的珠粒之间的蛋白质。通过同时拉伸蛋白质并测量力和距离，可以获得力 - 伸展曲线。得到的力-距离曲线表明了蛋白质的展开分为三步，对应着三个独立的蛋白质域。通过观察特定标记区域的FRET荧光信号，有可能研究在由于在相对的位置的变化引起的FRET信号波动蛋白质域的展开。这样可以将整个蛋白质的机械性能与局部结构性能联系在一起。 由于C-Trap（高达50 kHz帧率）的高时间分辨率，可以显示出显示短生命结构中间状态之间转换的平衡动力学。测量平衡动力学的这种能力归因于固有距离夹具，其将珠保持在固定距离，同时测量力波动。当该测量应用于钙调蛋白时，可以通过力分辨率低于0.1pN观察到状态之间的精确平衡波动和相对概率。 下图二显示，钙调蛋白在两种状态之间切换，没有明确的偏好，中间步骤可以解决，因为钙调蛋白偶尔在短时间内跳到第三种状态。* DNA组织的可视化 * 转录的可视化 * DNA修复的可视化* DNA复制的可视化 * 蛋白质的展开 * DNA复制的活性* 转录活性 * 聚合物和丝蛋白 * DNA-DNA相互作用* DNA修复 * 膜蛋白和液滴融合 * 小分子和酶活性* 细胞骨架的可视化 * DNA组织的构象的变化

110升捏炼机-加压式捏炼机，捏炼机胶塑物料在密闭、加压及温度可控条件下混炼或塑炼，生产效率高、品质优良稳定。转子凸棱的螺旋角以及两棱的重叠长度等参数设计合理，物料分散均匀。与物料接触的所有零部件表面均经打磨镀硬铬后抛光，耐磨且防腐。与物料接触的零部件为夹套式结构，获得最佳的冷却或加热效果，适应各种炼胶，炼塑工艺要求。从机架后门（或另开口）加料，混炼室向前翻转140°卸料，便于上下工序连线；易于物料换色，混炼室清洗方便。电控系统采用可编程序控制器（PLC）具有完善可靠的控制功能与检测报警功能及必要的安全联锁保护功能，并可提供联网的串行接口。大连嘉展机械装备制造有限公司隶属于大连第二橡塑机械有限公司，系原国家化工部定点工厂，是专业研制开发、 生产销售及服务维修为一体的综合橡塑机械厂。主要产品有各种规格的橡胶(塑料)加压式捏炼机、密炼机、开炼机、橡胶（塑料）压延机、橡胶过滤挤出机、XY系列压延机、胶片冷却机等。公司的技术力量雄厚，检测手段齐全，获得多项国家、省、市奖章，并设有大型调质回火炉、金属元素化验室、硬度检测仪等，产品质量过硬，已通过 IS09001：2000 国际质量体系认证。

75升捏炼机-加压式捏炼机，捏炼机胶塑物料在密闭、加压及温度可控条件下混炼或塑炼，生产效率高、品质优良稳定。转子凸棱的螺旋角以及两棱的重叠长度等参数设计合理，物料分散均匀。与物料接触的所有零部件表面均经打磨镀硬铬后抛光，耐磨且防腐。与物料接触的零部件为夹套式结构，获得最佳的冷却或加热效果，适应各种炼胶，炼塑工艺要求。从机架后门（或另开口）加料，混炼室向前翻转140°卸料，便于上下工序连线；易于物料换色，混炼室清洗方便。电控系统采用可编程序控制器（PLC）具有完善可靠的控制功能与检测报警功能及必要的安全联锁保护功能，并可提供联网的串行接口。大连嘉展机械装备制造有限公司隶属于大连第二橡塑机械有限公司，系原国家化工部定点工厂，是专业研制开发、 生产销售及服务维修为一体的综合橡塑机械厂。主要产品有各种规格的橡胶(塑料)加压式捏炼机、密炼机、开炼机、橡胶（塑料）压延机、橡胶过滤挤出机、XY系列压延机、胶片冷却机等。公司的技术力量雄厚，检测手段齐全，获得多项国家、省、市奖章，并设有大型调质回火炉、金属元素化验室、硬度检测仪等，产品质量过硬，已通过 IS09001：2000 国际质量体系认证。

55升捏炼机-加压式捏炼机，捏炼机胶塑物料在密闭、加压及温度可控条件下混炼或塑炼，生产效率高、品质优良稳定。转子凸棱的螺旋角以及两棱的重叠长度等参数设计合理，物料分散均匀。与物料接触的所有零部件表面均经打磨镀硬铬后抛光，耐磨且防腐。与物料接触的零部件为夹套式结构，获得最佳的冷却或加热效果，适应各种炼胶，炼塑工艺要求。从机架后门（或另开口）加料，混炼室向前翻转140°卸料，便于上下工序连线；易于物料换色，混炼室清洗方便。电控系统采用可编程序控制器（PLC）具有完善可靠的控制功能与检测报警功能及必要的安全联锁保护功能，并可提供联网的串行接口。大连嘉展机械装备制造有限公司隶属于大连第二橡塑机械有限公司，系原国家化工部定点工厂，是专业研制开发、 生产销售及服务维修为一体的综合橡塑机械厂。主要产品有各种规格的橡胶(塑料)加压式捏炼机、密炼机、开炼机、橡胶（塑料）压延机、橡胶过滤挤出机、XY系列压延机、胶片冷却机等。公司的技术力量雄厚，检测手段齐全，获得多项国家、省、市奖章，并设有大型调质回火炉、金属元素化验室、硬度检测仪等，产品质量过硬，已通过 IS09001：2000 国际质量体系认证。

5分钟内将显微镜升级为 纳米激光光镊分析仪 NanoTweezer新型纳米光镊转换装置，是个显微镜附上装置。该装置使研究人员使用现有显微镜能够捕获、操纵纳米级微粒。 NanoTweezer新型纳米光镊转换装置，采用世界先进的集成光波导和共振体技术，通过微芯片发出的激光捕获与操纵丛纳米至微米级的粒子。 可以实现多种应用， 如操作远远小于传统的光学镊子的样品，并保持粒子结构不被破坏 实行新类型的实验和分析. 粒子捕获操纵尺寸范围：10nm-5微米感光度(Sensitivity):10650.3V/ W 功率灵敏度(Power Sensitivity) ：6 uW–12 mW激光波长(Wavelength) ： 1065nm激光功率(Optical Power) ：0—500 mW连续可调光纤接口： FC / APC SMPM光电隔离(Optical Isolation): 33-38 dB易与现有显微镜整合：NanoTweeze™ 很容易与研究型倒置显微镜如国际大品牌蔡司、尼康和奥林巴斯等联合使用。 至关重要的稳定性：不需手动调节的长时间稳定性和操作性能是NanoTweeze™ 的一个关键设计原则。高稳定性的激光光源和短程折返光路结合漂移补偿设计保障了NanoTweeze™ 高性能实验Applications include :1)蛋白质聚集体分析 2)单颗粒光谱 (包括拉曼光谱), 2)涂层测量3)形状分析4)颜料分析5)亚微米成像 Label Free Nanoparticle Sizing and Imaging Nanoparticle Functionalization and Coating Analysis Nanophotonics Based Optical Tweezing - Smallest Particles Ever!概述： NanoTweezer新型激光光镊系统配备强大的光学捕获系统，操纵对象涵盖了单细胞、单分子、细胞器、病毒、核酸、金属纳米粒子、碳纳米管、蛋白等。 轻松操作远远小于传统的光学镊子的样品，并保持粒子结构不被破坏 实行新类型的试验和分析 避免表面化学 创造新的纳米结构 保留了生物分子方面的基础上，改变了背景的解决方案 捕获单一的细菌，并观察它的分裂等。 NanoTweezer激光控制器、光学谐振芯片以及特殊设计的显微镜适配器，能够直接与现有的显微镜设备无缝连接。 特性及亮点： 1)无损伤操纵生物微粒 光镊以一种温和的、非机械接触的方式完成夹持和操纵物体，捕获力是施加在整个微粒上，非机械捕获那样集中在很小的面积上，不会对捕获的生物微粒造成机械损伤和污染。 2) 不干扰生物粒子周围环境和它的正常生命活动 光的无形性和穿透性，光镊可以在保持细胞自然生活环境的情况下对其进行捕获与操纵 光镊的所有机械部件离捕获对象的距离都远大于捕获对象的尺度(1000倍)，是遥控操作.1)简洁、操纵捕获能力强、观测分辨率更高： 系统捕获操纵能力： 新一代纳米激光光镊系统，采用新型集成光学、光子共振技术，能对纳米至微米级的粒子轻松操作和捕获 粒子捕获操纵尺寸范围：10nm-5微米； 还可以增强生物分子观测的分辨率，捕捉细菌观测器分裂过程。 观测分辨率更高 光镊与高空间分辨率的技术相结合，使之具备精细的结构分辨能力和动态操控与功能研究的能力 捕获操纵粒子种类： A)生物材料，诸如蛋白质聚集体、蛋白质晶体、抗体与微管等等； B)纳米材料，诸如量子点、碳纳米管、高分子小珠、纳米硅、纳米二氧化钛等。 C) 单个细胞、病毒、核酸、纳米颗粒、碳纳米管和蛋白质的可逆纳米级操作 2)优于传统光镊系统： 该系统采用以芯片为基础的光子共振捕获技术，可以实现多种应用，如操作远远小于传统的光学镊子的样品，并保持粒子结构不被破坏； 普通光镊只能捕捉和处理100纳米及更小的物体；该系统通过使用最新技术集成光子克服光的散射障碍，该系统的光学谐振器可以增强是由波导产生的光学梯度的强度。由于集中了更强的光点，可以操纵最大达到1064nm的粒子。 3)系统联机能力强： 能与科研级正置显微镜联用； 能与激光显微镜拉曼光谱仪联用； 典型应用： —精确捕获微粒和牵引微粒是光镊最基本的功能 光镊捕获的粒子在几纳米到几微米,在这个尺度上,它提供了一种对宏观现象的微观机理的研究手段,特别是为研究对象从生物细胞到大分子的纳米生物学,提供了活体研究条件,比如激光光镊易于操纵细胞,可有效分离各种细胞器,并在基本不影响环境的情况下对捕获物进行无损活体操作。 通过捕获和分离细胞,可了解细胞的诸多特性,如细胞间的粘附力、细胞膜弹性、细胞的应变能力及细胞的生理过程等,从而研究细胞的真实生理过程.1.单细胞领域应用 1.1 捕获牵引纳米级微粒 (细胞的捕获和分离) 用波长为1064纳米的激光将凝聚物移动了近半米,而过去通常采用的磁学方法,只能将凝聚物移动很短的距离. 该新纳米激光光镊粒子捕获操纵尺寸范围：10nm-5微米，激光光镊可容易地操纵细胞， 能有效地分离各种细胞器，并在基本不影响环境的情况下对捕获物进行无损活体操作。 通过对细胞的捕获和分离便可了解细胞的诸多特性如细胞间的粘附力、细胞膜弹性、细胞的应变能力及细胞的生理过程如细胞融合等，从而有效地了解细胞的真实生理过程。 1.2 研究细胞的应变能力 细胞内部的应变能力在通常情况下很难用显微镜观察。而光镊可对活体细胞进行非侵入微观操纵,能够诱导细胞产生应变. 1.3 测量红细胞膜的弹性 红细胞膜弹性是血液的生理功能指标,在测量红细胞膜弹性的技术中,双光镊法是最为直接、准确的方法.1.4促进细胞融合 把光镊同激光微束(光刀)耦联起来可实现激光诱导细胞融合, 当前最先进的转基因技术就是利用光镊和光刀将DNA导入细胞而实现基因转移,这种方法可节约大量资源、缩短转基因时间、提高成功率。 1.5直接应用于动物体内研究对细胞进行实时观察、操控与测量，实施非接触式手术的实验取证 激光镊可直接深入到动物活体内对细胞进行实时观察、操控与测量，实施非接触式手术的实验取证，从而开拓了光镊技术研究活体动物新领域，为活体研究和临床诊断提供了一种全新的技术手段.在活的动物体内研究细胞生长、迁移、细胞及蛋白质间相互作用等生物学过程，对生命科学、医学研究以及临床诊断具有重大意义，因此体内研究技术一直是活体研究热点之一。 2.单分子研究领域中的应用 2.1 定量测量生物大分子的力学特性 生物大分子通常被束缚在直径约1um的聚苯乙烯小球上，而介质小球则通过光镊技术被俘获在光阱中。通过光镊对单分子进行扭转、弯曲、拉伸操作来研究其力学特性。这些研究对研究蛋白自组装及细胞间的作用有重要意义。 2.2 对生物大分子进行精细操作 用光镊解开了DNA的分子缠绕，对生物大分子的折叠构象进行了深入的研究；用双光镊法对DNA分子扭转、打结，为细胞内蛋白纤维相互作用等分子力学的研究开辟了新途 光镊可以跟踪和描述单个分子之间的结合情 2.3 分子水平上的特异识别和生命调控 光镊所具有的纳米量级的操控精度和观测精度，使得光镊可将要观察的对象按需要进行配对，并观察配对的新变化 这使人们能在纳米尺度上实时动态地研究细胞特异性识别中的单分子机制并显示其特异性相互作用， 从而为解开细胞特异性分子识别提供微观信息。 2.4 在分子马达研究中的应用 光镊在生物大分子研究中最重要的成果之一是动力原蛋白的研究。科学家利用光镊观察到了生命运动的元过程，发现分子马达是以步进方式运动， 并且测量了步长，给出单驱动蛋白分子产生的力及其速度与ATP浓度的函数关系。 NanoTweezer显微镜纳米激光镊操控转换装置的组成部分 1)台式NanoTweezer激光器控制仪(NanoTweezerTM Instrument) 台式NanoTweezer仪含有操作Optofluidics NanoTweezer系统所需的所有光学和微流控的基础设施，以及从nanotweezer芯片连接到仪器的即插即用操作的光纤和流控管。 2) NanoTweezer芯片(NanoTweezer Chips)： 2.1包含光学部件及微流光波导控芯 2.2光子共振器设备 2.3高光学质量的微流控光波导芯片 该NanoTweezer芯片包含光子共振器设备以及高光学质量的微流控光波导芯片。考虑到客户昂贵的样品。通道容积少于300 nL(可调)，硬耦合的光纤连接到芯片不再需要任何光学校准，即可在整个实验过程保持稳定。 3) NanoTweezerTM芯片与显微镜的适配器(Custom Microscope Mounts) 特别设计定制的显微镜适配器，使NanoTweezer芯片与现有的显微镜设备即插即把直接连接。流体样本通过芯片下侧的显微流动池入口放进去。该安装件不到5分钟，连接、卸下来极为方便。 4) NanoTweezer电脑控制系统 NanoTweezer电脑控制系统可以使用自定义的图形用户界面直接操纵。易于使用的图形用户界面，可同时及持续控制流的速度和激光功率。该接口还提供了探测器功率的直接反馈。 系统参数 1、系统联机能力： 1. 能与科研级正置显微镜联用 2. 能与激光显微拉曼光谱仪联用 2、捕获与操纵能力： 新型纳米光镊系统NanoTweezer，采用世界先进的集成光波导和共振体技术，通过微芯片发出的激光捕获与操纵丛纳米至微米级的粒子。可以实现多种应用，如操作远远小于传统的光学镊子的样品，并保持粒子结构不被破坏 实行新类型的实验和分析.2.1 粒子捕获操纵尺寸范围：10nm-5微米 2.2 操作对象涵盖了单个细胞、单个分子、病毒、核酸、纳米颗粒、碳纳米管和蛋白质 3、激光器： 3.1激光波长(Wavelength) ： 1065nm3.2激光功率(Optical Power) ：0—500 mW连续可调 3.3光纤接口： FC / APC SMPM3.4光电隔离(Optical Isolation) ： 33-38 dB4、显微镜流动池： 4.1最大压力：20psi (1psi=6.895kPa)4.2流动速度：80nl/min (min)–1000ml/hr (max)5、与显微拉曼光谱仪联用附件 5.1 光镊与拉曼光谱仪联链接适配器 5.2 OD6带阻滤光片（1064nm） 6、仪器尺寸： 8“（宽）X14”（长）x9“（高） 典型应用：激光光镊在单细胞、单分子科学中的研究应用 生物医学中光镊的运用 光镊技术应用于动物体内研究取得新进展

EDX9000B能量色散荧光光谱仪-镍矿分析专家作为一款高性能的台式能量色散X射线荧光（EDXRF）元素分析仪，新款EDX9000B配置了最先进的基于Windows基本参数算法的FP（Fundamental parameter）软件，同时配备了最优的高性能硬件，来满足客户对于复杂矿石样品的元素分析需求。无论客户的样品是是固体，合金，粉末，液体或者浆液，EDX9000B都可以轻松实现从钠（Na）到铀（U）元素的无损定性和定量分析。更快的分析速度，更精确的测试结果，更稳定的仪器性能， 使得EDX9000B成为了客户进行元素分析的最佳工具之一。产品特点&bull 无需或者很少的样品制备，全程无损分析，一到三分钟即可出结果&bull 强大的基于Windows的FP（基本参数算法）软件降低了基体效应的影响&bull 50 kV 光管管和电制冷的SDD硅漂移检测器不仅具有出色的短期重复性和长期重现性，而且具有出色的元素峰分辨率&bull 能同时进行元素和氧化物成分分析&bull 多重仪器硬件保护系统，并可通过软件进行全程实时监控, 让仪器工作更稳定、更安全&bull 特别设计的光路和真空系统大大提高了轻元素(Na, Mg, Al, Si, P）的测试灵敏度和准确性，同时在测试Cd,Pb,Cr,Hg,Br,Cl等其他元素的灵敏度和稳定性都有了明显的提高&bull 友好的用户界面，可定制的分析报告，可一键打印测试报告，包括分析结果，样品信息，光谱信息和样品图像&bull 八种光路准直系统，根据不同样品大小自动切换，亦可测试样品不同位置再求平均值，降低样品不均匀性造成的误差&bull 高清内置摄像头，清晰地显示仪器所检测的样品部位

Optical Tweezers（光镊） Elliot科学提供最广泛范围的可用光镊系统不论你是想寻求一个经济型的开放结构的光镊，给你现有显微镜增添光学镊子功能，采购一个完全集成的电脑控制的多点光学镊子，或增加单点或多点的力值测量。我们都可以满足您的需求。我们交付完全整合的系统，使得用户从开始可以开始他们的研究。标准系统包括： 元件化的开放式结构光镊独立的，便携，台式单光束光镊工作站带商业显微镜整合的单光束光镊与商业显微镜集成的全电脑控制下的多点光镊用QPD测量单陷阱强度的力值测量配件利用照相机颗粒轨迹显示多陷阱刚度，多粒子径迹的力值测量配件应用：细胞学细胞粒子相互作用单生物分子和生物聚合物等

LB-100ZNL型总镍(镍离子)在线分析仪测量方法：丁二酮肟(二甲基乙二醛肟)分光光度法测试量程：（0 -0.5）mg/l,（0-2）mg/l,（0-5）mg/l,（0-20）mg/l四档量程自动切换检测下线：0.005mg/l分辨率： 0.002mg/l准确度： 标准溶液 5%；水样10%重现度： 5%测量周期：30min，可设定无故障运行时间：≧720h/次量程漂移：±5%F.S.做样间隔：连续、1小时、2小时。。。24小时、触发、指定时间点校正间隔：手动进行或按选定间隔和时间自动进行（1-7天）清洗间隔：手动进行或按选定间隔和时间自动进行（1-7天）保养间隔：〉1个月，每次约1小时试剂消耗：每套试剂约720个样左右人机界面：7寸、7万色、800*480分辨率、TFT真彩色触摸屏打印： 预留打印机接口，可外接工业微型打印机(选配)存储： 2万条数据，掉电不丢失，存满自动覆盖最早数据（可增配4万条数据）通信接口：1路RS232数字接口或RS485，支持MODBUS通信协议或自定义协议1路模拟量4～20mA（20mA对应量程可调） 预处理系统：自清洗、反吹、精密过滤功能，保证样品具有良好代表性的同时，也避免了大型悬浮颗粒堵塞管路(选配)外型尺寸900×600× 450(mm)重量50kg电源AC 220V ± 20%, 50Hz ± 1%功率300W环境温度5～40℃环境湿度≤85%青岛路博为您提供专业的技术支持和售后服务

RJW-900 总镍水质在线分析仪产品概述RJW-900总镍水质在线分析仪具有结构简单、精确可靠、重现性高、测量范围极宽等显著特点，能够对自来水、江河湖泊水、工业污水以及水处理前高浓度废水等进行直接测量。基本原理仪器基于国家标准方法丁二酮肟分光光度法，在高温高压下，水样中的各种镍化合物及未溶解的镍单质等经过过量硝酸和氧化物氧化消解变成正二价镍离子，在碘/碘化钾存在的条件下，将正二价镍离子氧化成正三价镍离子，在碱性条件下正三价镍离子与显色剂反应，生成络合物使溶液颜色发生变化，络合物在 530 nm 波长处的吸光度与镍离子浓度成正比，利用郎伯比尔定律定量测定总镍。产品特点l 自主研发的高精密型的陶瓷八通阀，耐强腐蚀、结构简洁、稳定性好、可靠性高；l 高低液位定量技术及液位报警系统，进样量精准，具有自动扩大测量范围数倍的功能；l 采用单片机集成技术实现仪器的高度集成，电控简单方便、方便维修；l 具有仪器初始化功能，开机自检各部件、软件等是否正常；l 具有故障处理指南，在仪器出现故障时，可简单指导现场人员进行维修和维护；l 具有光源自恢复功能，当光源出现衰减或者更换部件时，可以自行调节仪器的光电压；l 具有自提示功能，易损件到了寿命后会自动提醒客户进行更换；l 使用10寸高清工业触摸屏，用户界面更加友好、方便操作；l 可远程遥控完成对仪器校准、参数记录、分析时间的设定；l 废液和清洗液分开收集，减少仪器的二次污染；技术参数技术指标量程范围0.1～50 mg/L实际水样比对不超过±10%定量下限≤0.124h低浓度漂移/24h高浓度漂移≤10%/24h ≤5%/24h重复性≤8%模拟输出/数字通讯4~20 mA两路；RS232/RS485各一路重量/外形尺寸45 kg/（宽×高×深=480×1350×330）mm工作温度建议温度（5～40)℃；湿度≤85%(不结露)电源/功率50Hz，220V/150W测量周期/采样周期50min/时间间隔（0～9999min任意设定）和24H整点时间测量模式其他功能未采到水样和试剂时自动报警；异常后仪器自动排出残留液，复位自动恢复工作状态等

光镊是使用激光束，非接触地捕捉显微镜下的细胞或生体组织。来自日本西格玛光机株式会社的光镊，与显微镜等实现了更好的配合使用。特点1.使用近红外（1064nm）波长，最大限度地抑制了对细胞或生体组织的影响。2.激光照射位置固定在显微镜的视野中心位置。3.可和另售的显微镜用XY自动平台配合使用，用途广泛。4.可以直接安装到显微镜上使用。（选型时，请确认显微镜的制造商，型号。）5.价格低，初期费用小。6.可以进一步改造为完整的微操作系统。（可再利用激光器，内部光学器件。详细请咨询。）应用1.光镊在生物细胞上的应用研究l 对细胞操控的研究l 对细胞应变能力的研究l 对细胞横向光阱力的研究2.光镊在生物大分子上的应用研究3.光镊结合其他技术在生物上的应用研究4.光镊与光刀的结合5.光镊与测量技术的结合

一、SZ-Ni总镍(镍离子)在线分析仪产品原理：总镍水质在线自动监测仪采用丁二酮肟分光光度法测定水样中的总镍值，实现仪器自动化测定。二、SZ-Ni总镍(镍离子)在线分析仪技术参数：项目总镍水质在线自动监测仪测量范围 (0~2) mg/L,(0~10) mg/L(量程可扩展) 检出限0.01mg/L示值误差 ± 10.0%重复性≤5.0%测量周期 ≤60min绝缘电阻 20MΩ以上 MTBF ≥720h/次 接口RS232或RS485,4-20mA模拟量输出外形尺寸 500mmx440mm x1440mm (L x W x H) 仪器重量 55Kg 　显示屏 触摸屏(7寸) 工控主机安全可靠PLC环境温度 (5 ~40) º C 环境湿度 (20~85) %RH 电源电压 AC(220±25) V电源频率 (50±0.5) Hz 额定功率 100W三、SZ-Ni总镍(镍离子)在线分析仪仪器介绍产品完全具有自主知识产权。且产品集成度高，方便维护，自动化程度高。试剂用量大大减小，为运维服务节省更多成本。体积减小，节省运输成本。7寸彩色触摸屏，内存大，速度快。仪器具有自动标定，量程自动切换，缺液报警，故障报警功能等。清洗液和废液分开，大大降低废液处理成本。多种测量模式可以选择。独特的算法让测量更准确。独特的试剂配方，抗离子干扰，浊度，色度等干扰能力强。四、SZ-Ni总镍(镍离子)在线分析仪应用场所广泛地应用于企业污水、生活污水、地表水的监控、监测。五、SZ-Ni总镍(镍离子)在线分析仪仪器特点日本进口光电定量装置，可靠稳定，抗干扰能力强。日本进口冷光源，光强无衰减，寿命可达10年以上。探测板采用日本进口原件，精度高，温漂小。PLC采用德国西门子技术触摸屏采用工业级设计，环境适应性强。水管件材质采用耐强酸强碱的PTFE材料。可选：物联网反控功能，可以手机APP远程操控，让运维和售后更方便。可选：打印功能

大连嘉展捏炼机-大连二橡捏炼机，捏炼机胶塑物料在密闭、加压及温度可控条件下混炼或塑炼，生产效率高、品质优良稳定。转子凸棱的螺旋角以及两棱的重叠长度等参数设计合理，物料分散均匀。与物料接触的所有零部件表面均经打磨镀硬铬后抛光，耐磨且防腐。与物料接触的零部件为夹套式结构，获得最佳的冷却或加热效果，适应各种炼胶，炼塑工艺要求。从机架后门（或另开口）加料，混炼室向前翻转140°卸料，便于上下工序连线；易于物料换色，混炼室清洗方便。电控系统采用可编程序控制器（PLC）具有完善可靠的控制功能与检测报警功能及必要的安全联锁保护功能，并可提供联网的串行接口。大连嘉展机械装备制造有限公司隶属于大连第二橡塑机械有限公司，系原国家化工部定点工厂，是专业研制开发、 生产销售及服务维修为一体的综合橡塑机械厂。主要产品有各种规格的橡胶(塑料)加压式捏炼机、密炼机、开炼机、橡胶（塑料）压延机、橡胶过滤挤出机、XY系列压延机、胶片冷却机等。公司的技术力量雄厚，检测手段齐全，获得多项国家、省、市奖章，并设有大型调质回火炉、金属元素化验室、硬度检测仪等，产品质量过硬，已通过 IS09001：2000 国际质量体系认证。

ROTA2.1E 镍释放磨损仪图片 手表、饰品都可能含镍 容易引起皮肤过敏 镍是一种容易导致接触性过敏的元素。镍元素通过一些含镍材料的释放并长期与皮肤接触后会被皮肤吸收，从而对部分个体导致过敏；进一步暴露在可溶性镍盐中会导致国民性接触性皮炎(据统计，20%的人对镍有很明显的过敏反应症状)。目前，在出口欧洲的服装、首饰等日用品中，若其材料构成中有含镍的金属辅料，一般要求对其镍释放量进行检测。 ROTA2.1E 镍释放磨损仪是欧盟标准EN12472:2005及ISO24348:2007标准设备 由香港知名品牌HongKong Labware与著名检测中心共同研发的拳头产品，于2004年正式推出，至今已经销售超过9年，出口已超过30个城市，遍及中国各地、远销欧洲、美洲及亚洲地区。 ROTA2.1E 镍释放磨损仪产品资料介绍： ◎仪器的定义： 镍释放量测试仪，也称旋转磨损仪/镍释放打磨机，它是一款滚筒式的模拟试验机，专门用以研磨金属制品表面的涂层镀层，以达到2年的使用磨损程度的一种辅助仪器。 ◎仪器的用途： 该仪器的主要用途是应对欧盟最新的镍释出标准EN12472:2005中提及的镍释放量的辅助检测。 ◎仪器的测试方法： 欧盟标准EN12472:2005规定镍释放测试的状态为：模拟金属制品与人体皮质接触两年的磨损状态，经人工汗液在一定条件下浸泡7天后，配合原子吸收光谱仪定量分析浸泡液中镍的含量，限量为0.5微克/平方厘米/每周。 ◎仪器的参考标准： 欧盟标准EN12472:2005； 行业标准ISO24348:2007； 国标GBT28485； ◎仪器的适用范围：所有饰物，眼镜，手表等金属产品…… 广东省质量监督眼镜检验站推荐使用！ 【镍释放磨损仪產品規格】 型号 ROTA 2.1E 控制 全计算机程序控制 转速 每分钟30±2转 尺 寸 700mm（W）×360mm（D）×340mm（H） 仪器净重 33公斤（ROTA2.1E主机（RA20.01.02）& 六角型滚筒，连盖，胶制（RA20.02.10）） 完成提示 闪灯及声音 金属样品挂架 铝 样品挂架厚度 10±0.5mm 滚筒物料 透明胶制 滚筒内阔 190±2mm（边与边之间距离） 滚筒内长 345mm±5mm 安全 电源及断电保护设计 电源 220V（50Hz）/110V(60Hz) 更多关于EN12472镍释放测试仪的相关信息，可以参考 莱华尔科技主页http://www.instrument.com.cn/netshow/SH102618/镍释放量测试仪http://www.instrument.com.cn/netshow/C194906.htm http://www.instrument.com.cn/Consumables/P1461365.htm http://www.instrument.com.cn/Consumables/P1461369.htm http://www.instrument.com.cn/Consumables/P1461372.htm