碳纳米管薄膜

碳纳米管，是一种具有特殊结构（径向尺寸为纳米量级，轴向尺寸为微米量级、管子两端基本上都封口）的一维量子材料。它主要由呈六边形排列的碳原子构成数层到数十层的同轴圆管。层与层之间保持固定的距离，约为0.34nm，直径一般为2～20nm。由于其独特的结构，碳纳米管的研究具有重大的理论意义和潜在的应用价值，如：其独特的结构是理想的一维模型材料 巨大的长径比使其有望用作坚韧的碳纤维，其强度为钢的100倍，重量则只有钢的1/6 同时它还有望用作为分子导线，纳米半导体材料，催化剂载体，分子吸收剂和近场发射材料等。 Specim可提供碳纳米管近红外光谱及影像分析工具，采用近红外光谱相机，搭载与近红外显微平台，并配合压电陶瓷纳米位移台，实现碳纳米管的影像及光谱扫描，不仅可以用于电致发光的光谱分析，也可用与光致发光光谱测量，为研究者提供大量的光谱及影像数据以供研究分析使用。光谱测量范围：970nm- 2500nm（900nm-1700nm）。

碳布负载碳纳米管，经化学气相沉积法在碳布基底上合成，也可以扩展到多种导电基底（如碳布、泡沫镍、钛片、镍片、不锈钢片、泡沫石墨烯等）上生长。碳布直径15-20微米，负载的碳纳米管直径约25-50nm，纳米碳管之间相互交联形成多孔网状的阵列薄膜。碳布负载碳纳米管阵列具有良好的柔性，样品宏观尺寸不超过宽度3厘米′长度5厘米，样品宏观色泽呈黑色。代表性样品的扫描电镜和透射电镜照片如下：

碳纳米管和石墨烯性能表征系统随着纳米技术的不断发展，碳纳米管和石墨烯的性能越来越受到科研人员的关注。然而，对于碳纳米管和石墨烯性能表征一直是困扰碳纳米管和石墨烯技术研究和应用的主要障碍。目前，碳纳米管和石墨烯测量方法是光谱测量技术。相对其他测量方法，该技术主要有以下的优点： 1、较高灵敏度，即使碳纳米管和石墨烯的含量很低也能测量。2、较高测量精度，对碳纳米管的（n,m）分辨率很高3、对待测样品要求低，可直接分析含较多杂质的样品。4、测量设备相对简单，准备待测样品非常容易。 5、数据处理简单，测量结果无需考虑背景减除。对于碳纳米管和石墨烯的表征，虽然光谱测量技术有很大的优点，但是测量过程还是有些问题，如获取数据速度太慢，测量灵敏度不是很高，手工处理数据非常繁琐且容易出错等等。著名的碳纳米管专家美国莱斯大学的R. Bruce Weisman和Sergei M. Bachilo教授针对这些问题开发了碳纳米管专用的测量系统NS3，使得NS3系统成为碳纳米管和石墨烯专用测量系统，可对碳纳米管和石墨烯进行吸收、荧光和拉曼光谱测量。Nano Spectralyzer (NS3)系统NS3上的测量结果：碳纳米管的近红外发射光谱 应用领域：1. 测量碳纳米管（n,m）分布2. 监测碳纳米管和石墨烯品质的稳定性3. 测量化学反应和物理作用的动态过程主要特点：1. 高度集成化，体积小巧2. 操作简单，使用方便3. 仅需要很少的样品4. 高测量灵敏度和测量速度5. 简单的操作界面，全自动测量和数据分析6. 同时测量样品近红外波长的吸收和发射光谱7. 采用电制冷材料冷却近红外光谱探头，无需使用液氮主要技术指标：荧光光谱测量：可见区发射谱探测范围： 400-900nm近红外发射谱探测范围： 900-1600nm可选近红外发射谱探测范围： -2000nm吸收谱测量：紫外吸收谱探测范围： 210-450nm可见吸收谱探测范围： 400-900nm红外吸收谱探测范围： 900-1600nm可选红外发射谱探测范围： -2000nm 拉曼光谱测量：拉曼光谱探测范围： 150-3000cm-1激发光源波长： 532和/或671nm

碳纳米管制备设备（碳纳米管制备系统，碳纳米管生长系统），可用于制备碳纳米管，包括垂直方向碳纳米管生长；在Si、石英、陶瓷、各种金属（不锈钢，Ti和Pt等）等多种基底上用廉价的酒精、汽油或者生物燃料等作为碳源生长碳纳米管；系统封闭腔体不但保证必要的真空度，而且还可对基底进行加热。联合日本科学与技术研究所（JST）开发，并且在多个国家注册了该项技术的专利！相关产品：1. 纳米颗粒制备系统；2. ZnO纳米带制备系统；3. 材料碳化研究系统：用于agricultural and forestry waste, papers, recyclable plastics, and so on；4. 碳纳米管生产系统CVD：用于粉末碳纳米管、nanofiber, nanocoil, and film-type CNTs 等；5. 催化剂薄膜制备系统：可沉积催化剂薄膜在各种材料上，用于高性能碳纳米管的指标；技术参数：碳纳米管生长、制备装置（包括垂直方向碳纳米管生长)；Au, Ag, Cu, Al, Si, Ti, Mg, Zn等纳米颗粒制备；ZnO纳米带制备；处理温度范围：400~800℃实时碳纳米管生长过程中温度监控反应源：含碳气体或者液体酒精主要特点：*价格优惠； *运行成本低； *制备速度快； *支持基底加热； *保证一定的真空度；*成熟的工艺和丰富的经验；*操作便捷； 技术介绍：*装备乙醇喷射单元；无需易燃烃化物气体。*碳纳米管生长只需几分钟，整个操作过程不超过30分钟。*小型化设计、操作简便、低成本、高质量碳纳米管。*在碳纳米管合成过程中，不需要使用还原性气体（氢气）使催化剂还原，因为使用的乙醇碳源本身具有很强的还原性。乙醇的金属还原性使得碳纳米管能够直接在多种合金材料上沉积，比如，NiCu, SUS等等。而不需要预先沉积催化剂薄膜，因为Ni, Fe, or Co等催化性元素在合金中作为催化颗粒独立存在。*透明的玻璃腔室使得研究人员可以直接观察整个沉积过程。该系统满足高校研究所的碳纳米管合成实验的研究工作。

联合日本科学与技术研究所（JST）开发，并且在多个国家注册了该项技术的专利！该设备用于制备纳米碳材料，如碳纳米管粉、碳纳米管薄膜和定向碳纳米管制备；采用封闭式管式炉，石英反应管直径50mm/70mm~110mm*1000mm，基底尺寸60mm*60mm到120mm*120mm；气源包括氢气、氮气、甲烷、酒精等；MPCVD是一种碳纳米管化学汽相沉积综合系统，具备一个水平石英管式炉,该系统可以大量稳定生产垂直对齐的CNT和各种粉末CNT。成熟稳定的工艺保证了制备质量和数量，也可用于三维形状的CNT制备。乙醇注入装置配备一个滴定法流量控制系统，气体输入端口配备三通道质量流量气体控制器(惰性气体,碳氢化合物气体,氢气)。真空排气系统使得该系统能够在一个广泛的气压下运行，从大气到低压(10 Pa),也可用作为热处理系统，例如：真空炉、大气炉、氮化炉。 相关产品：1. 纳米颗粒制备系统； 2. ZnO纳米带制备系统； 3. 碳纳米管制备系统：用于高质量碳纳米管制备、纳米颗粒或薄膜制备、ZnO纳米带制备等； 4. 碳纳米管生产系统CVD：用于粉末碳纳米管、nanofiber, nanocoil, and film-type CNTs 等； 5. 催化剂薄膜制备系统：可沉积催化剂薄膜在各种材料上，用于高性能碳纳米管的指标；技术特点： *成熟的碳纳米材料制备工艺和丰富的经验 *乙醇和碳氢化合物作为碳源 *用于SWCNT 合成 *具备催化剂前体供应功能 *可以合成较长长度 ( ~500 um)垂直对齐的CNT和粉末状的CNT *具备三通道气体质量控制器 *体积小，基座稳定 *高温度：1200度； *价格优惠； *运行成本低；技术参数：基底尺寸60mm*60mm到120mm*120mm；粉末碳纳米管、nanofiber, nanocoil, and film-type CNTs 等；

首屈一指的基于纳米技术的公司之一 公司成立于2013年 Shivamogga，卡纳塔克邦，印度。 我们致力于 纳米技术的视野，旨在增加 生活中的纳米技术。 我们正在进入 纳米材料制造与应用 开发公司，我们在那里制造 石墨烯，各种形式的碳纳米管 和其他金属基纳米颗粒散装 数量。 AD-NANO 技术是一个 制造商和研发代表 公司致力于提供创新 通过引入技术领域的解决方案 纳米技术在里面我们的科学家和工程师团队正在开发与纳米技术相关的各种应用 热衷于在生活中添加纳米技术的纳米技术领域的研发。 我们通过将客户与他们的纳米技术联系起来，弥合了灵感与创新之间的差距。 解决他们的工程和技术问题，以及将技术升级到下一代所需的生活。 我们还生产导电油墨，如碳纳米管导电油墨、石墨烯导电油墨、石墨 导电油墨，广泛用于工业部门和研发计划领域。半导体单壁碳纳米管 技术数据表 95纯度半导体碳含量 ~95% 单壁碳纳米管直径 ~0.6 – 1.2 nm 单个碳纳米管长度 ~400 – 2000 nm 计算分子量 ~3.4x105 – 5.2x106 Amu 颜色 黑色 形态学 纳米管的干燥纤维状粉末捆绑绳索状。半导体单壁碳纳米管 技术数据表 99纯度

SSP-354 碳纳米管台式炉 SSP-354 碳纳米管台式炉是美国Nanotech 的优势产品，Nanotech 技术起源于NASA 的格伦碳纳米管研究中心。这项技术能够生产出高纯度、低缺陷密度的碳纳米管。 目前SSP-354能够生产出1~100纳米直径的单壁或多壁的碳纳米管。而且有别于 Arc discharge、Laser ablation、CVD这三种生产方式需要预催化的模式。 SSP-354可生产高纯度、低缺陷密度的CNTs，仪器操作步骤简单无需预催化，桌面放置，非常适合研究所、大学实验室操作。

台式高性能CVD石墨烯/碳纳米管快速制备系列—nanoCVDNanoCVD系列台式设备是专为制备高质量的石墨烯与碳纳米管而开发的高性能台式CVD系统。在与诺奖科研团队的长期合作中获得的丰富经验使该系列产品具有非常高的性能。特别是针对石墨烯、碳纳米管等不同的应用进行了针对性的优化。该系列产品操作简便，生长条件控制，生长迅速、制备出的样品具有高质量、高可重复性，这些特点使得该系列产品受到多个石墨烯研究团队的赞誉。该系列产品适合于想要制备高质量石墨烯或碳纳米管用于高端学术研究的团队。例如，埃克塞特大学、哈德斯菲尔德大学、莱顿大学、亚森工业大学这些知名的高校均是nanoCVD系列的用户。nanoCVD采用全新的设计理念，可以快速、高质量地生产石墨烯或碳纳米管。与传统的简易CVD(管式炉)相比，该系统基于冷壁设计方案，具有以下主要优点:◎ 系统可以快速的升温和降温。◎ 更加的条件控制和可靠的工艺重现性。◎ 安全性设计，具有尾气稀释模块。◎ 智能化设计，全自动引导式触屏操作系统。◎ 支持自动程序的设定与储存。◎ 雄厚的技术积累，专业的技术支持。设备型号台式超高质量石墨烯快速制备CVD系统- nanoCVD 8GnanoCVD-8G系统是性能稳定的快速的石墨烯生长系统。nanoCVD-8G具有压强自动控制系统，可以的控制石墨烯生长过程中的气氛条件。系统采用低热容的样品台可在2分钟内升温至1000℃并控温。该装置采用了冷壁技术，样品生长完毕后可以快速降温。正是因为这些条件可以让用户在30分钟内即可获得高质量的石墨烯。用户通过HMI触屏进行操作，所有的硬件都是自动化的。更有内置的标准石墨烯生长示例程序供用户参考。该系统安装迅速，非常适合需要持续快速获取高质量石墨烯用于高质量学术研究的团队。埃克塞特大学、哈德斯菲尔德大学、莱顿大学、亚森工业大学等很多全球著名的高校都是该系统的用户。主要特点： ◎ 合成高质量、可重复的石墨烯◎ 生长条件控制◎ 高温度：1100 °C◎ 生长时间：30 min◎ 基片尺寸大：20 × 40 mm2◎ 全自动过程控制◎ MFC流量计控制过程气体 (Ar、H2与CH4) ◎ 用户友好型触屏控制◎ 可设定、存储多个生长程序◎ 可连接电脑记录数据◎ 易于维护◎ 全面安全性设计，尾气稀释模块◎ 兼容超净间◎ 系统性能稳定部分数据展示：小型等离子增强大尺寸石墨烯制备CVD系统 - nanoCVD WPGnanoCVD-WPG将nanoCVD-8G高质量石墨烯生长的功能与等离子体增强技术相结合，系统可制备晶圆尺寸(3英寸或4英寸)别的样品。除此之外，利用该系统的生长控制条件可以制备多种高质量的2D材料，该系统是小型CVD系统性能上的一个重大飞跃。全新的设计方案和控制系统使该系统成为制备大面积2D样品的上佳选择。应用领域包括:石墨烯和2D材料、光伏电、触屏材料、高性能生物电子材料、传感器、储能材料。主要特点：◎ 晶圆样品尺寸: 3英寸、4英寸◎ 150 W/13.56 MHz RF 电源◎ 多个等离子体电◎ 高温度1100 °C◎ 腔体冷壁技术◎ 全自动条件控制◎ 用户友好的触屏操作◎ 可设定、存储多个生长程序◎ 可连接电脑记录数据◎ 易于维护◎ 全面安全性设计，尾气稀释模块◎ 兼容超净室◎ 基于成熟的NanoCVD技术生长条件：◎ 衬底：Cu、Ni等薄膜或薄片◎ 工作原料：CH4，C2H4， PMMA等◎ 保护气体：H2，Ar，N2等典型配置指标：◎ 腔体：腔壁水冷技术，热屏蔽不锈钢腔体◎ 真空系统：分子泵系统，5×10-7 mbar本底真空。◎ 样品台：大4英寸直径，高1100°C ◎ 操作控制：触摸屏/电脑接口；可手动控制或自动控制◎ 气体控制：MFC 流量计，Ar，CH4，H2为标配种类。◎ 过程控制：自动控制◎ 等离子源：150 W/13.56 MHz RF 电源，样品台附近或需要的位置产生等离子体。 ◎ 安全性：冷却与真空锁系统，气体稀释模块。台式超碳纳米管快速制备CVD系统 - nanoCVD 8NnanoCVD-8N与石墨烯生长系统nanoCVD-8G有诸多共同之处，并针对碳纳米管生长条件进行了优化。这些条件对于碳纳米管(CNT)样品的质量和可重复性(主要是单壁形式)是至关重要的。创新的冷壁式腔体与传统管式设备相比更易控制实验条件和快速升降温。nanoCVD-8N具有智能的控制系统和完备的安全性设计。设备易于安装，易于使用，是快速进入高质量研究的理想选择。该系统获得沃里克大学用户的高度赞誉。碳纳米管可采用Fe、Co、Ni的纳米颗粒作为催化剂生长在SiO2/Si, Si3N4以及石英等衬底上。通过衬底与催化剂的选择，可以生长的碳纳米管有：• 随机: 随机方向的相互交叠的单壁碳纳米管• 有序: 平行的单壁碳纳米管• 竖直: 竖直的单壁碳纳米管束主要特点： ◎ 合成的碳纳米管具有很高的可重复性；◎ 专门为单壁碳纳米管进行了优化；◎ 生长条件控制；◎ 高温度：1100 °C；◎ MFC流量计控制过程气体 (Ar、H2与CH4)； ◎ 基片尺寸：大20 × 40 mm2；◎ 生长时间：30 min；◎ 全自动生长条件控制；◎ 用户友好型触屏；◎ 可设定、存储多个生长程序◎ 可连接电脑记录数据；◎ 易于维护；◎ 全面安全性设计，尾气稀释模块；◎ 兼容超净间；◎ 系统性能稳定；部分数据展示： 发表文章Residual metallic contamination of transferred chemical vapor deposited grapheneLupina, G., et al. ACS Nano 2015 DOI: 10.1021/acsnano.5b01261本文作者研究了通常用于将CVD石墨烯放置到应用衬底上的湿转移工艺会导致材料的微量污染。这些纯度会对石墨烯的其他特殊特性产生不利影响，并对电子和光电应用产生影响。相关设备: nanoCVD-8G Transparent conductive graphene textile fibersNeves, A. I. S., et al. Scientific Reports 2015 DOI: 10.1038/srep09866使用nanoCVD-8G制成的石墨烯被转移到纤维上，次生产出柔韧的、完全嵌入的纺织电。石墨烯的高质量意味着电具有超低的表面电阻和高的机械稳定性。相关设备: nanoCVD-8G High quality monolayer graphene synthesized by resistive heating cold wall chemical vapor depositionBointon, T. H., et al. Advanced Materials 2015 DOI: 10.1002/adma.201501600展示了冷壁法CVD合成石墨烯的优势，并报道了使用nanoCVD – 8G制备的高质量石墨烯材料具有超高的载流子迁移率，表现出半整数量子霍尔效应，这与剥离制备的样品相当。相关设备: nanoCVD-8GMapping nanoscale electrochemistry of individual single-walled carbon nanotubesGüell, A. G., et al. Nano Letters 2014 DOI: 10.1021/nl403752e利用nanoCVD – 8N技术制备了单壁碳纳米管，并利用电化学技术对其进行了研究。高分辨率的测量可以检查单个单壁碳纳米管的特性。这一发现对未来使用SWNT电的器件设计具有重要意义。相关设备: nanoCVD-8N Nanoscale electrocatalysis: Visualizing oxygen reduction at pristine, kinked, and oxidized sites on individual carbon nanotubesByers, J. C., et al. Journal of the American Chemical Society 2014 DOI: 10.1021/ja505708y电化学技术，结合使用nanoCVD - 8N技术产生的单壁碳纳米管，被用来证明即使在没有掺杂、修饰或缺陷的情况下，碳纳米管也表现出显著的活性。相关设备: nanoCVD-8N用户单位埃克塞特大学哈德斯菲尔德大学莱顿大学亚森工业大学

碳纳米管导电油墨高速研磨分散机,碳纳米管浆料高速研磨分散机,纳米导电油墨高速研磨分散机，氟化碳纳米管高剪切研磨分散机,导电油墨分散机更多详情请致电上海依肯 销售工程师 徐工 .公司设有专用实验室可以免费为客户提供设备够买前的验证实验。1.氟化碳纳米管介绍： 英文名称：Fluorinated Carbon Nanotubes形态：黑灰色或者黑色粉末管径：20-30nm 管长：2-10μm 纯度：99.5%应用:锂离子电池、固体润滑剂、复合材料、半导体、电子器件等2.碳纳米管分类：根据管子的层数不同，碳纳米管可分为单壁和多壁两大类。碳纳米管的导电性能与其结构密切相关。碳纳米管具有一些特殊的电学性质，很适合作导电填料。由于碳纳米管在溶剂中分散浓度很低，因此目多用于喷墨打印线路。将碳纳米管作为导电油墨的导电填料，面临的难题是碳纳米管的分散和分离。3.氟化碳纳米管研磨分散机设备介绍：碳纳米管固有的表面惰性和不溶解性使其难以分散在溶剂和树脂体系中。目，可以采用对碳纳米管进行表面化学改性的方法，使其表面生产大量的活性基团，再利用这些活性基团与有机分子或聚合物单体反应，从而在碳纳米管表面接枝有机分子链，然后将接枝改性后的碳纳米管分散在溶剂和树脂体系中，经过调节黏度、表面张力等参数，就可以得到不同性能的纳米碳纳米管导电油墨。 IKN湿法磨是超细粉碎机械中具有发展途且能量利用率高的超细粉磨设备，它与普通研磨机在机理上的不同点是：湿磨机的输入功率直接高速推动研磨介质来达到磨细物料的目的，IKN湿法磨内置高速研磨分散工作盘，IKN湿法磨的高速回转使研磨介质和物料在整个工作腔体内做不规则的翻滚和离心运动，使研磨介质之间产生相互撞击和研磨的双重作用，使物料磨得更细并得到均匀分散。与普通研磨机相比，IKN湿磨机具有如下特点：(1) 高转速和高介质填充率使湿磨机获得高的功率密度，从而使细颗粒物料的研磨时间大大缩短，能量利用率达到高；(2) 采用小尺寸研磨介质，大大提高了微细物料的研磨效率，并可高效地磨细物料至1μm以下，甚至是纳米；(3) 产品粒度分布均匀且容易调节，能沿结晶面解离，并易获得超细、低污染的产品；(4) 结构简单，操作容易，机械振动小，维修简单且价格低廉。浆料对磨机吸取功率的影响归结为三个方面：1、磨机中有一定量的浆料时，浆料的浮升作用及其阻力改变了介质间相互冲击和研磨作用的强度；2、由于浆料中固体颗粒的存在改变了介质间直接作用摩擦力；3、由于介质空隙中充满了浆料，增加了介质松散密度，相当于增加了旋转的介质物料混合体质量。 IKN德国氟化碳纳米管研磨分散机,碳纳米管导电油墨分散机,碳纳米管浆料分散机,纳米导电油墨分散机,导电油墨分散机碳纳米管分散机理：1、破坏长纤维纠缠粘结状态2、克服团聚体强吸附力3、稳定碳纳米管分散状态分散技术三要素：分散介质、分散剂和分散设备1、分散介质（1）根据粘度不同，分散介质分为高粘度、中粘度和低粘度三种。2、分散剂（1）分散剂的选择，与分散介质的结构、性、溶度参数等密切相关（2）分散剂的用量3、分散设备（1）超声波分散设备：非常适合实验室规模、低粘度介质分散碳纳米管，用于中、高粘度介质时会受到限制（2）研磨分散设备：适合大规模地分散碳纳米管、中粘度介质分散碳纳米管（3）采用“先研磨分散、后超声波分散”组合方法，可以高效、稳定地分散碳纳米管碳纳米管导电油墨高速研磨分散机,碳纳米管浆料高速研磨分散机,纳米导电油墨高速研磨分散机，氟化碳纳米管高剪切研磨分散机,导电油墨分散机 另外在碳纳米管分散到溶剂或者树脂体系中时，必须选择分散效果较好的设备进行分散，不然容易再次团聚难以分散。IKN研磨分散机在碳纳米管导电油墨的分散中有着突出的优势，IKN研磨分散机是将胶体磨和分散机合二为一的设备，先研磨后分散，可以将碳纳米管充分、均匀的分散到溶剂或树脂当中，避免团聚，分散更均匀、稳定。第1由具有精细度递升的三锯齿突起和凹槽，定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离，在增强的流体湍流下，凹槽在每都可以改变方向。这样的设计可以保障物料初始颗粒较大时，可以顺畅进入研磨分散机腔体，通过高速旋转的精细度递升磨头，终得到微纳米的物料颗粒。 粉碎室设有三道磨碎区，一为粗磨碎区，二为细磨碎区，三层为超微磨碎区，通过调整定、转子的间隙，能有效地达到所需的超微粉碎效果（也可循环加工）。混合区：先将物料通过混合搅拌装置进行高速混合，在混合过程中用螺旋混合浆叶使物料在高速运转中的到充分混合均质后送料给下道工艺； 剪切区：物料进入剪切区后，由于上道工序只把物料进行混合，没有把物料进行大颗粒破碎，这个问题由高剪切机来完成，该剪切区由三层数百条刀槽组成，将大的粘团结块等易碎颗粒进行剪切破碎。 研磨区：研磨区是由凹凸研磨分散机组成，转定子切有许多中齿及细齿组成，将已剪切的小颗粒进行深化研磨，研磨时可调距离为0.01~3mm；1、有较强的混合、粉碎、研磨、输送功能；2、可使用较硬的各类易碎颗粒；3、 可同过调节定转子间隙进而调节循环研磨所需时间；4、 定、转子间歇可以调节，调节距离为0.01~3mm，可降低启动负荷，从而减少能耗5、 转、定子材料可选用2cr13 9cr18 2205进行氮化处理货渗碳化钨处理。三错齿结构的研磨转子，配合精密的定子腔。此款立式研磨分散机比普通的研磨分散机的速度达到3倍以上,的转速可以达到14000RPM。所以可以达到更好的分散湿磨效果。 第2由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子、转子和批次式机器的工作头设计的不同主要在对输送性的要求方面，特别要引起注意的是：在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是转子齿的排列，还有一个很重要的区别是不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例，依据以往的经验选取相应的工作头来满足一个具体的应用。在大多数情况下，机器的构造是和具体应用相匹配的，因而它对制造出终产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。 碳纳米管浆料高速研磨分散机（研磨机）和分散机组合而成的高科技产品。初由具有精细度递升的多锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每都可以改变方向。第二由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。碳纳米管导电油墨高速研磨分散机,碳纳米管浆料高速研磨分散机,纳米导电油墨高速研磨分散机，氟化碳纳米管高剪切研磨分散机,导电油墨分散机

仪器简介：NanoSpectralyzer是一款用户定制的设计独特,操作简单的光谱仪器,可以给出在水性悬浮液中的单壁碳纳米管(SWNT)样品的详细成分分析.它包括一个紧凑的光学系统,加上专业的具有仪器控制,数据分析,结果表达的软件.大多数Nanotube的研究中,该系统在数秒钟就可以自动完成样品分析技术参数：Fluorescence excitation sources:（激发光源） three temperature-stabilized diode lasers Fluorescence emission spectral range:（荧光光谱范围） 880 - 1580 nm Absorption spectral range (base unit): （吸收光谱范围） 880 - 1580 nm Absorption spectral range (visible option): （可见区吸收光谱选项） 380 - 1580 nm SWNT detectable diameter range: （检测直径） ～0.7 - 1.4 nm Minimum sample volume: （最小样品量） 200 microliters Optical axis height in cell holder: （光轴高） 8.5 mm Data acquisition time:（采集数据时间） 5 seconds (typical) Maximum spectral acquisition rate：（最大光谱采集速率) 10 spectra per second (in sequence mode) Main Optical Module Dimensions:（主机尺寸） 318 W x 470 D x 165 H mm System weight: （重量） 18 kg excluding computer主要特点：在数秒内，自动一键式分析紧凑式设计高灵敏度少量样品分析动态监测最新的应用软件专业碳纳米管光谱分析仪三激光器

一.机型称号：纳米碳管研磨混合机，药物研磨混合机，毫微米研磨混合机，超飞快研磨混合机，水管式研磨混合机，3级研磨混合机，高剪切研磨混合机。二.研磨机：机型19款，处理量50到8*10000KG/小时，旋转1100到1.4*10000转/分钟，线速度23到44m/秒，电滚功耗1.5到160kW，磨头胶体磨&锥体磨。三.研磨分散机：机型6款，处理量50到6*1000KG/小时，旋转1100到9*1000转/分钟，线速度23m/秒，电滚功耗2.2到150kW，磨头胶体磨。四.小型分散乳化机：机型30款，处理量0.2克到10KG/小时，旋转50到3*10000转/分钟，线速度3到33m/秒，电滚功耗0.3到0.8kW。五.真空分散乳化机：机型32款，处理量5到2*10000KG/小时，旋转14到1.4*10000转/分钟，线速度44m/秒，电滚功耗0.18到120kW。六.均质匀浆机：机型4款，处理量0.2到150克/小时，旋转3500到8*1000转/分钟，线速度3到10m/秒，电滚功耗0.145到0.18kW。七.多效用分散乳化均质机：机型27款，处理量150到12.5*10000KG/小时，旋转960到1.4*10000转/分钟，线速度10到44m/秒，电滚功耗1.5到160kW。八.混合机：机型I6款，处理量300到12.5*10000KG/小时，旋转1100到9*1000转/分钟，线速度20到23m/秒，电滚功耗1.5到160kW。九.实用物料种类：胶粘溶胶，巨粒子固态液体悬空液乳剂，不包溶等。十.终级粒径：主腔内有叁组定转子，每组粗齿、中齿、细齿、超细齿。调动定转子间隙，加工后地终级粒径在10微纳米之下。十一.胚料配件：百分之八十以上进ロ海内外公司。十二.技艺出处：引荐德国技艺，立发明加工，备有专利。十三.工作方式：有在线式，批次式，内外循环式，水管式，可倒式，若干效用式。十四.机型合成：靠预加工锅、搅动锅、泵、液压系统、倒料系统、电力调动系统、主腔等部件合成。十五.智力化：CIP冲洗系统，液压升降松盖，包括配料给料吸料安装。十六.磨头好处：研磨头可调5款模版，6款分散头，20多款工作头。十七.锥磨好处：锥磨转子外层包含金属碳化物跟不一样粒子地陶瓷镀层等高上材料，提防毁伤腐蚀。十八.机型材料：统统接碰物料地材料皆是进口耐酸钢，主腔跟管路内乃亮面抛光三百EMSH（卫生级），无死角。十九.密封好处：博格曼双机械密封，液压平稳系统（可以担当16atm重压），软密封。二十.搅动方式：可挑刮壁式/锚固式/融解式/叶面式。二十一.机型好处：机型采选上层同轴三重装搅动器，循环管路，出水阀。二十二.操控箱好处：不但可以操控电滚旋转，摄氏度降温升温（经历电能，热汽，油水循环，可以担当-40到250摄氏度），重压，PH度，粘性。且可以设定不一样效用模版，呈现相称地个个参数，可以线性扩大量产。二十三.可以抉择：察看窗，硅氟酸玻璃察看，电导率计，二重绝缘以防，稳固夹，工作架，底座，图谱剖析多效用显微硬度器（测试界限1到4千HV），管路式测试电炉（测试界限zui高1350度），输出泵/转子泵/气动隔膜泵/锚固泵/离心泵（处理量850到4.3*10000KG/小时），反应搅动单罐/组合罐（500到3*1000KG/小时），反渗透/全自动纯水安装（0.5到3*1000KG/小时)，臭氧发生器，过流式紫外线消菌器等。?.别的特长：整体立方小，电耗低，分贝低，可每日不断出产。?.访客垂访：按照访客实况必要恰当抉选！别的可订制非标和生产线！假若是非常情况，比方超温，超压，易烧易炸，侵蚀性，可产品升级！?.物料测量：得到访客物料后当即投入测量，瞧可否到达要求&答复测量进程&成果。?.方案价格：断定好产品功用后当即策画方案，包含2D部署图，总安装出产线表示图，立体成果图，&呈上本该得价格单子！?.结语：我们是出产厂家，详尽信息可以企业查看，因此分外恭候访客去垂访&更深一步长谈！以上信息不容坊造，非常道谢！扩展内容可不看：碳纳米管（CNTs），管状纳米级石墨晶体，是由单层或多层石墨片以一定的螺旋角绕中心轴卷曲而成的无缝纳米管。 每一层的C经过SP2杂化形成六边形平面的圆柱面。 碳纳米管还具有天然存在的碳晶体的特性。 制造被称为碳原子材料的碳纳米管。 科学发现自然，自然验证科学。

产品简介：适于将容易凝集的纳米粉末分散，混合，稀释到溶液中，特别是将比重较轻的原料用于低粘度溶液时非常有效（例如：碳纳米管粉末分散），与传统的设备相比，利用超声波的分散可以在均匀稳定的状态下长期维持.产品特点：- 超声波系统结合先进的纳米碾磨机- 强力碾磨＆分散（效率高＆缩短运行时间）- 容易拆卸和清洗- 高性价比HN-0.5HN-2容器容积（L）0.52材料AI2O3 ，ZrO2 ，SUSAI2O3 ，ZrO2 ，SUS叶轮转速Max.5000Max.5000材料ZrO2ZrO2超声波混合分散机功率（W）10002000类型循环循环混合罐容积(L)5，1030，50*纳米碾磨机需要冷却器

Calorsito可以帮助您检测各种类型的 纳米颗粒，使测量样品的广泛光谱成为 可能。我们的设备允许您检测金属纳米 粒子(如Au、Ag、Cu)、碳基材料(如碳 纳米管)和选定的金属氧化物(如二氧化 钛)。它主要是运用光加热粒子和用红外线成像分析热，锁定增强信号。它具有简单快捷的操作性,更能产生高质量的测量, 同时还具备成本效益。产品用途 测试分析碳基材料（石墨烯，碳纳米管） 测试分析金属粒子（氧化铁，金，银，铜） 对于液体（如批次重现性，浓度）进行测量分析 对于固体（薄膜均匀性，膜厚，薄膜浓度，粒子吸收，生物组织纳米粒子）进行测量分析 细胞和组织切片中纳米材料的测量 碳纳米材料薄膜均匀性评估 光照射下粒子的热发展比较与测量 合成或修饰后的粒子比较 颗粒在复合材料中的分布产品特点 7个不同的波长（400,460,525,660,730,840,950）nm 固体和液体均可测试 无需制备 操作简单 无标记 无损检测 快速检测（1样本/分钟） 分析区域大(直径2CM)

美国SonoPlot是柔性印刷电子行业内畅销的高品质微纳米材料沉积喷墨打印系统(又名高分辨毛细作用直写打印系统)，广泛用于制备可控电极薄膜、聚合物光电器件、碳纳米管石墨烯器件、微电子器件 、不同材料的多重构筑以及定位定量微纳修补等应用领域。创新的超声谐振释放机制可以完美解决传统压电式喷墨打印技术线宽限制问题，打印不连续，打印材料受限，不能打印一维二维材料，薄膜不均匀，无法定位以及更换喷头昂贵的诸多技术瓶颈。

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功能说明：（1）测试范围：锂电粉末；（2）样品类型：正/ 负极材料；（3）执行标准：VDA19、ISO16232或企业自定义标准；（4）检测目的：污染颗粒的显微分析（颗粒大小、颗粒数量；金属、非金属、纤维统计分类）；（5）设备需求:辊磨机、 自动清洁度分析仪、烘箱、辅助配件；颗粒萃取工艺流程1、 测试所需设备2、测试用辅件：油剂微孔过滤膜、玻璃烘烤器皿、无齿不锈钢镊子、无尘布；3、测试流程：清洁度测试仪测试方法（1）无尘纸簪取酒精擦拭塑料管套表面，除磁，再用热封机调至合适挡位，在端口处正反各封3-4次，确保密封严实，放置洁净处备用；（2）无尘纸簪取酒精擦拭提取磁棒，将己除磁塑料管套套在提取磁棒上，再将另一端于热封机进行封口密封，放洁净处备用；（3) NMP 除磁，将 NMP 经由0.45um滤膜抽滤，抽滤完成取100gNMP倒入洁净样品瓶中；（4）提取：称取待测试样400g置于样品瓶内，加入100g nmp ，密封样品瓶，于辊磨机上以50rpm/ min 搅控30min；从样品瓶中拿出吸附磁性颗粒的磁棒转移至500mL烧杯，保持竖直，用除磁 NMP 从上至下冲洗，用陶瓷剪刀剪开上端塑料管套，沿管壁两端向下各美开约1cm后翻折剪口，慢慢抽出磁棒；用除磁 NMP 冲洗管壁，用陶瓷刮刀反复剐蹭，确保磁性颗粒全部冲洗至烧杯内，冲洗过程避免 NMP 溅到烧杯外；（5）将烧杯放入超声波清洗机中，超声清洗（40kHz/50％频率，2min取出，小磁块（4.8）紧扣烧杯底部慢转15圈以上，使磁性杂质富集在烧杯底部中心位管，静止3s倒掉 NMP ，烧杯内重新加入 NMP ，重复洗涤2-3速，烧杯内加入超纯水，重复洗涤3-5遍，注意避免磁性杂质损失；（6）连接过滤器，用塑料或陶瓷镊子取孔径5u m 、直径47mm滤膜，放于抽滤装置上，装好滤杯，开启抽滤泵，将烧杯内磁性杂质全部倒入过滤器，冲洗烧杯和抽滤器滤杯内壁约10次，确保磁性杂质全部分散在滤膜上，滤膜未见水珠后再抽2 in 左右：关闭抽滤泵，将滤膜平移转移至洁净的滤膜盒中，于60℃干燥15min左右。（7）依次打开清洁度测试仪显微镜开关和控制器开关，双击打开软件，仪器预热半小时，将干燥后的滤膜转移至装片夹。

热ALD设备 AL-1无针孔薄膜沉积概要AL-1通过交替向反应室提供有机金属原料和氧化剂，仅利用表面反应沉积薄膜，实现了高膜厚控制和良好的步骤覆盖率。薄膜的厚度可以控制在原子层的数量级。此外，可以在高宽比的孔内壁上沉积覆盖性好、厚度均匀的薄膜。可同时沉积3片ø 4英寸的晶片。主要特点和优点成膜效率高　通过提供几十毫秒量级的脉冲，减少了原材料的损耗，提高了沉积效率。真空清洁，温度不均匀性小　通过紧贴反应室内壁的内壁加热器，抑制反应室的温度不均匀，可获得清洁的真空。无针孔成膜　由于多种前驱体在反应室中没有混合，因此可以防止颗粒，形成无针孔的薄膜。应用用于下一代功率器件的栅极氧化膜和钝化膜。在3D结构上形成均匀的薄膜，如MEMS。激光表面的沉积碳纳米管的钝化膜

德国计量家SURAGUS GmbH，是德国注于薄膜电阻非接触测量(Non-Contact Sheet Resistance Measurement)的公司，总部位于德国德累斯顿。SURAGUS GmbH的技术可广泛应用于多种导电涂层、薄膜、衬底或多层结构的非接触检测。在不损坏、不污染样品的提下，实现对于样品均匀性、缺陷分布、涂层厚度的线上与线下的检测和分析。设备不仅可以保证快速以及高精度测量，而且兼容于真空与非真空两种环境。目，SURAGUS GmbH的产品在多个域都有布局，例如太阳能光伏、玻璃产业、显示域和半导体域等，检测对象包括金属涂层、电、ITO/AZO层，纳米银线膜/碳纳米管薄膜、金属网格、电磁屏蔽薄膜等。技术基于涡流的测试解决方案 (SURAGUS)SURface ArGUS = 表面防护（表面和薄膜上的 100 眼）其他光学计量（OEM）集成商导电功能? 燃料电池组件? 电池芯和电池组? 触摸屏传感器 (TPS)、显示器和平板显示器? 太阳能、半导体行业? LED / OLED 照明其他功能? 医疗传感器（化学）? 包装箔（阻隔）? 建筑玻璃行业（发射率）? 镜子（反射） 医疗（抗菌）设备用途1、在线检测薄层电阻2、在线检测薄膜电导率3、在线检测薄膜表面缺陷、同质性4、在线检测薄膜厚度、面积重量5、在线检测薄膜干燥状态等

EddyCus TF map 2525 薄膜电阻和薄膜厚度测试仪 方阻测试仪 薄膜电阻测试仪TF lab系列产品是一款适合实验室研发或成品检测使用的薄膜面电阻（方块电阻）及薄膜厚度测量的仪器。特点非接触成像高解析度成像（25 至1,000,000 点）缺陷成像封装层的地图参数薄膜电阻（欧姆/平方）金属层厚度（nm、μm）金属基板厚度（nm、μm）各向异性缺陷完整性评定应用建筑玻璃（LowE）触摸屏和平板显示器OLED和LED应用智能玻璃的应用透明防静电铝箔光伏半导体除冰和加热应用电池和燃料电池包装材料材料金属薄膜和栅格导电氧化物纳米线膜石墨烯、CNT（碳纳米管）、石墨打印薄膜导电聚合物（PEDOT:PSS）其他导电薄膜及材料规格参数测量技术：非接触式涡流传感器基板：例如：薄膜、玻璃、晶圆，等等最大扫描面积：10 inch / 254 x 254 mm（根据要求可以更大）边缘效应修正/排除：对于标准尺寸，排除2 mm的边缘最大样品厚度/传感器间隙：2 / 5 / 10 / 25 mm（由最厚的样本确定）薄膜电阻的范围：低 0.0001 - 10 Ohm / sq 2 至 8 % 精度标准 1 - 1,000 Ohm / sq 2 至 8 % 精度高 10 - 10,000 Ohm / sq 4 至 8 % 精度金属膜的厚度测量（例如：铝、铜）：2 nm - 2 mm (与薄膜电阻一致)扫描间距：1 / 2 / 5 / 10 mm （根据要求的其它尺寸）每单位时间内测量点（二次形）：5分钟内10,000个测量点30分钟内1,000,000 个测量点扫描时间：4 inch / 100 x 100 mm，在0.5至5分钟内（1-10mm 间距）8 inch / 200 x 200 mm，在1.5至15分钟内（1-10mm 间距）装置尺寸（宽/厚/深）：549 x 236 x 786(836) mm / 23.6 x 9.05 x 31.5 inch重量： 27 kg可用特色：薄膜电阻成像各向异性电阻传感器

纳米薄膜热导率测试系统-TCN-2ω— 薄膜材料的热导率评价将变得为简便日本Advance Riko公司推出的纳米薄膜热导率测试系统是使用2ω方法测量纳米薄膜厚度方向热导率的商用系统。与其他方法相比，样品制备和测量为简单。纳米薄膜热导率测试系统特点：1. 在纳米尺度衡量薄膜的热导率开发出的监测周期加热过程中热反射带来的金属薄膜表面温度变化的方法，通过厚度方向上的一维热导模型计算出样品表面的温度变化，为简便的衡量厚度方向上热导率。（日本：5426115）2. 样品制备简单不需要光刻技术即可将金属薄膜（1.7mm×15mm×100nm）沉积在薄膜样品上。纳米薄膜热导率测试系统应用：1. 热设计用薄膜热导率评价的优先选择。low-k薄膜，有机薄膜，热电材料薄膜2. 可用于评价热电转换薄膜纳米薄膜热导率测试系统测量原理：当使用频率为f的电流周期加热金属薄膜时，热流的频率将为电流频率的2倍（2f）。如果样品由金属薄膜（0）-样品薄膜（1）-基体（s）组成（如图），可由一维热导模型计算出金属薄膜上表面的温度变化T(0)。假设热量全部传导到基体，则T(0)可由下式计算：（λ/Wm-1K-1，C/JK-1m-3，q/Wm-3，d/m，ω（=2πf）/s-1）式中实部（同相振幅）包含样品薄膜的信息。如热量全部传导到基体，则同相振幅正比于(2 ω)0.5，薄膜的热导率（λ1）可由下式给出：（m：斜率，n：截距）纳米薄膜热导率测试系统参数：1. 测试温度：室温2. 样品尺寸：长10～20mm，宽10mm 厚0.3～1mm（含基体）3. 基体材料：Si（推荐） Ge，Al2O3（高热导率）4. 样品制备：样品薄膜上需沉积金属薄膜（100nm） （推荐：金）5. 薄膜热导率测量范围：0.1～10W/mK6. 测试氛围：大气设备概念图样品准备纳米薄膜热导率测试系统测试数据：Si基底上的SiO2薄膜（20-100nm）测量结果d1 / nm 19.9 51.0 96.8 λ1/ W m-1 K-1 0.82 1.03 1.20 发表文章1. K. Mitarai et al. / J. Appl. Phys. 128, 015102 (2020) 2. M. Yoshiizumi et al. / Trans. Mat. Res. Soc. Japan 38[4] 555-559 (2013)

JH-NM纳米级球磨机/高速行星球磨机产品简介JH-NM纳米级球磨机/高速行星球磨机，翻开了高科技研磨的新篇章。研磨碗嵌入主盘中，转速可达1100rpm,相当于95倍的重力速度。其结果是在极短时间内样品最终研磨细度可以达到纳米级别。配件50ml分散罐 不锈钢100ml分散罐 不锈钢JH-NM纳米级球磨机/高速行星球磨机技术参数进样尺寸碳纳米管最终出料粒度2～3μm(整体均匀度在2~3微米之间)振动频率设置10-2000次/分钟典型粉碎时间10min研磨方式干磨显示方式大屏幕液晶触摸屏研磨平台数2/4研磨罐种类旋盖型研磨罐研磨套件材料硬质钢研磨球材质不锈钢、氧化锆、碳化钨粉碎时间设定数显1秒-99分59秒程序设定10段以上驱动无刷电机功率250W/500W机体尺寸(宽*高*纵深)300*500*420净重~35Kg

中图仪器CP系列纳米台阶测厚仪高精度测量薄膜厚度是一款超精密接触式微观轮廓测量仪，其采用LVDC电容传感器，主要用于台阶高、膜层厚度、表面粗糙度等微观形貌参数的测量，具有的亚埃级分辨率和超微测力等特点。CP系列纳米台阶测厚仪高精度测量薄膜厚度应用场景适应性强，其对被测样品的反射率特性、材料种类及硬度等均无特殊要求，能够广泛应用于半导体、太阳能光伏、光学加工、LED、MEMS器件、微纳材料制备等各行业领域内的工业企业与高校院所等科研单位，其对表面微观形貌参数的准确表征，对于相关材料的评定、性能的分析与加工工艺的改善具有重要意义。测量过程测量时通过使用2μm半径的金刚石针尖在超精密位移台移动样品时扫描其表面，测针的垂直位移距离被转换为与特征尺寸相匹配的电信号并最终转换为数字点云信号，数据点云信号在分析软件中呈现并使用不同的分析工具来获取相应的台阶高或粗糙度等有关表面质量的数据。产品功能1.参数测量功能1）台阶高度：能够测量纳米到330μm甚至1000μm的台阶高度，可以准确测量蚀刻、溅射、SIMS、沉积、旋涂、CMP等工艺期间沉积或去除的材料；2）粗糙度与波纹度：能够测量样品的粗糙度和波纹度，分析软件通过计算扫描出的微观轮廓曲线，可获取粗糙度与波纹度相关的Ra、RMS、Rv、Rp、Rz等20余项参数；3）翘曲与形状：能够测量样品表面的2D形状或翘曲，如在半导体晶圆制造过程中，因多层沉积层结构中层间不匹配所产生的翘曲或形状变化，或者类似透镜在内的结构高度和曲率半径。2.数采与分析系统1）自定义测量模式：支持用户以自定义输入坐标位置或相对位移量的方式来设定扫描路径的测量模式；2）导航图智能测量模式：支持用户结合导航图、标定数据、即时图像以智能化生成移动命令方式来实现扫描的测量模式。3）SPC统计分析：支持对不同种类被测件进行多种指标参数的分析，针对批量样品的测量数据提供SPC图表以统计数据的变化趋势。3.光学导航功能配备了500W像素的彩色相机，可实时将探针扫描轨迹的形貌图像传输到软件中显示，进行即时的高精度定位测量。4.样品空间姿态调节功能配备了精密XY位移台、360°电动旋转平台和电动升降Z轴，可对样品的XYZ、角度等空间姿态进行调节，提高测量精度及效率。典型应用CP系列纳米台阶测厚仪高精度测量薄膜厚度集成了超低噪声信号采集、超精细运动控制、标定算法等核心技术，使得仪器具备超高的测量精度和测量重复性。仪器结构单拱龙门式设计，结构稳定性好，而且降低了周围环境中声音和震动噪音对测量信号的影响，提高了测量精度。性能特点1.亚埃级位移传感器具有亚埃级分辨率，结合单拱龙门式设计降低环境噪声干扰，确保仪器具有良好的测量精度及重复性；2.超微力恒力传感器1-50mg可调，以适应硬质或软质样品表面，采用超低惯量设计和微小电磁力控制，实现无接触损伤的接触式测量；3.超平扫描平台系统配有超高直线度导轨，杜绝运动中的细微抖动，真实地还原扫描轨迹的轮廓起伏和样件微观形貌。部分技术指标型号CP200测量技术探针式表面轮廓测量技术样品观察光学导航摄像头:500万像素高分辨率 彩色摄像机,FoV,2200*1700μm探针传感器超低惯量，LVDC传感器平台移动范围X/Y电动X/Y(150mm*150mm)(可手动校平)单次扫描长度55mm样品厚度50mm载物台晶圆尺寸150mm（6吋）,200mm（8吋）台阶高度重复性5 &angst , 量程为330μm时/ 10 &angst , 量程为1mm时（测量1μm台阶高度，1δ）尺寸（L×W×H）mm640*626*534重量40kg仪器电源100-240 VAC，50/60 Hz，200W使用环境相对湿度：湿度 （无凝结）30-40% RH温度：16-25℃ (每小时温度变化小于2℃)地面振动：6.35μm/s（1-100Hz）音频噪音：≤80dB空气层流：≤0.508 m/s（向下流动）恳请注意：因市场发展和产品开发的需要，本产品资料中有关内容可能会根据实际情况随时更新或修改，恕不另行通知，不便之处敬请谅解。

纳米薄膜热导率测试系统-TCN-2ω— 薄膜材料的热导率评价将变得为简便日本Advance Riko公司推出的纳米薄膜热导率测试系统是使用2ω方法测量纳米薄膜厚度方向热导率的商用系统。与其他方法相比，样品制备和测量为简单。纳米薄膜热导率测试系统特点：1. 在纳米尺度衡量薄膜的热导率开发出的监测周期加热过程中热反射带来的金属薄膜表面温度变化的方法，通过厚度方向上的一维热导模型计算出样品表面的温度变化，为简便的衡量厚度方向上热导率。（日本：5426115）2. 样品制备简单不需要光刻技术即可将金属薄膜（1.7mm×15mm×100nm）沉积在薄膜样品上。纳米薄膜热导率测试系统应用：1. 热设计用薄膜热导率评价的优先选择。low-k薄膜，有机薄膜，热电材料薄膜2. 可用于评价热电转换薄膜纳米薄膜热导率测试系统测量原理：当使用频率为f的电流周期加热金属薄膜时，热流的频率将为电流频率的2倍（2f）。如果样品由金属薄膜（0）-样品薄膜（1）-基体（s）组成（如图），可由一维热导模型计算出金属薄膜上表面的温度变化T(0)。假设热量全部传导到基体，则T(0)可由下式计算：（λ/Wm-1K-1，C/JK-1m-3，q/Wm-3，d/m，ω（=2πf）/s-1）式中实部（同相振幅）包含样品薄膜的信息。如热量全部传导到基体，则同相振幅正比于(2 ω)0.5，薄膜的热导率（λ1）可由下式给出：（m：斜率，n：截距）纳米薄膜热导率测试系统参数：1. 测试温度：室温2. 样品尺寸：长10～20mm，宽10mm 厚0.3～1mm（含基体）3. 基体材料：Si（推荐） Ge，Al2O3（高热导率）4. 样品制备：样品薄膜上需沉积金属薄膜（100nm） （推荐：金）5. 薄膜热导率测量范围：0.1～10W/mK6. 测试氛围：大气设备概念图样品准备纳米薄膜热导率测试系统测试数据：Si基底上的SiO2薄膜（20-100nm）测量结果d1 / nm 19.9 51.0 96.8 λ1/ W m-1 K-1 0.82 1.03 1.20 发表文章1. K. Mitarai et al. / J. Appl. Phys. 128, 015102 (2020) 2. M. Yoshiizumi et al. / Trans. Mat. Res. Soc. Japan 38[4] 555-559 (2013

脉冲激光沉积、分子束外延薄膜制备系统美国BlueWave公司是半导体设备、材料生产商。BlueWave提供多种薄膜制备系统，包括脉冲激光沉积(PLD)、电子束蒸发、热蒸发、反应溅射、热丝化学气相沉积(HFCVD)、热化学气相沉积系统(TCVD)。这些系统是理想的薄膜与涂层合成设备。可制备的薄膜包括氮化物、氧化物、多层膜、钻石、石墨烯、碳纳米管、2D材料。Blue Wave还提供相关系统配件，例如基片加热装置、原位监测工具。此外，BlueWave还为您提供标准的薄膜以及材料涂层，例如氧化物涂层、导电薄膜、无定型或纳米晶Si/SiC、晶体AlN-GaN、聚合物、纳米钻石、HFCVD钻石涂层以及器件加工。1、脉冲激光沉积系统产品特点：◆ 电抛光多空不锈钢超高真空腔体◆ 可集成热蒸发源或溅射源◆ 可旋转的耐氧化基片加热台◆ 流量计或针阀控制气体流量◆ 标准真空计◆ 干泵与涡轮真空泵◆ 可选配不锈钢快速进样室 ◆ 可选配基片-靶材距离自动控制系统◆ 可制备：金属氧化物、氮化物、碳化物、金属纳米薄膜、多层膜、超晶格等。 2、物理气相沉积系统（Physical Vapor Deposition Plus）产品特点◆ 超高真空不锈钢腔体◆ 电子束、热蒸发、脉冲激光沉积可集成◆ 立衬底加热，可旋转◆ 多量程气体流量控制器◆ 标准气压计◆ 机械、分子、冷凝真空泵可选不锈钢快速进样室◆ 衬底和源距离可控◆ 可用于金属氧化物、氮化物、碳化物、金属薄膜 3、热化学气相沉积系统（TCVD）产品特点◆ 高温石英管反应器设计◆ 温度范围：室温到1100℃◆ 多路气体控制◆ 标准气压计◆ 易于操作◆ 可配机械泵实现低压TCVD◆ 可用于制备金属氧化物、氮化物、碳化物、金属薄膜◆ 液体前驱体喷头◆ 2英寸超大温度均匀区4、热丝化学气相沉积系统（HFCVD）产品特点：◆ 水冷不锈钢超高真空腔◆ 热丝易安装、更换 ◆ 4个不同量程气体控制器◆ 标准气压计◆ 衬底与热丝距离可调节◆ 2英寸衬底加热、可旋转 ◆ 制备金刚石和石墨烯

一、仪器介绍MT-CNE100碳纳米电极制备仪是一款满足多种碳基电极制备需求的电极制备仪，制备电极的直径范围在20 nm~20 um，电极类型包括碳纳米电极、碳纳米锥电极，以及衍生的金属纳米电极、碳微米电极、碳膜电极等，用于纳微过程原位检测的微纳探针/电极。制备过程便捷且成本较低，制备的碳纳米电极尖端形貌规则、导电能力稳定，且能够长期保存。二、主要参数制备模式竖式、横式RG比低至1.1电极尺寸直径≥20 nm电极类型碳纳米电极、碳纳米锥电极、衍生的金属纳米电极、碳微米电极、碳膜电极等三、仪器构成及使用方法碳纳米电极制备仪整体构成如上图所示，主要由以下部分构成：氩气保护气（1），保护气管固定机构（2），转子流量计（3），XYZ三维手动位移台（4），球阀（5），火焰枪（6），分压阀（7），液化石油气储气罐（8），石英保护气管（9），石英毛细管（10），探针夹持器（11）。碳纳米电极制备仪的具体使用方法：以500 nm碳纳米电极的制备为例。通过超高温拉制仪，将石英毛细管拉伸成尖端直径约500 nm的石英纳米管，石英纳米管与目标制备电极直径尺寸需保持一致。开启液化石油气并调节压强，打开氩气并调节其流量为100 mL/min。在石英纳米管尾部缠封口膜，将尾部插入通有液化石油气的管内，排空石英纳米管中的空气并使其充满液化石油气，将石英纳米管固定在凹槽内，上移石英纳米管使其尖端深入通有氩气的石英保护管内。面向安全空旷的位置打开丁烷火焰枪，待火焰稳定后移动火焰使其对准石英纳米管的尖端，使用火焰枪中外层加热8 s得到500 nm的碳纳米电极。关闭丁烷火焰枪，待制得的碳纳米电极在石英保护管中自然冷却后移出并取下。

台式高精度薄膜制备与加工系统Moorfield Nanotechnology是英国材料科学领域高性能仪器研发公司，成立25年来专注于高质量的薄膜生长与加工技术，拥有雄厚的技术实力，推出的多种高性能设备受到科研与工业领域的广泛好评。Moorfield公司近十年来与曼彻斯特大学诺奖技术团队紧密合作，推出的台式高精度薄膜制备与加工系列产品由于其体积小巧、性能、易于操作更是受到很多科研单位的赞誉。Moorfield Nanotechnology推出的台式设备体积小巧，但性能已经可以和大型设备相媲美。这些设备已经进入了欧洲的实验室，诸如曼彻斯特大学、剑桥大学、帝国理工学院、诺森比亚大学、巴斯大学、埃克塞特大学、伦敦玛丽女王大学、哈德斯菲尔德大学、莱顿大学、亚森工业大学、西班牙光子科学研究所、英国物理实验室等著名单位都是Moorfield Nanotechnology的用户和长期合作者。诸多的用户与合作者让产品的性能和设计理念得到了高速发展，并迈入全球化的进程。如今Quantum Design中国子公司与Moorfield Nanotechnology正式合作，作为中国的代理和战略合作伙伴，将为中国用户提供高性能的设备与优质的服务。除了台式设备之外我们还提供多种大型设备和定制服务。全系列产品即将上线，敬请期待… … 台式高性能CVD石墨烯/碳纳米管快速制备系列—nanoCVD超快速高质量石墨烯生长设备，整个过程30分钟内搞定！CVD被公认为是石墨烯具有应用前景的制备手段。NanoCVD系列台式设备是专为制备高质量的石墨烯与碳纳米管而开发的高性能台式CVD系统。与曼彻斯特大学诺奖团队的长期合作使得该系列产品在制备石墨烯等碳基纳米材料方面具有雄厚的技术积累。该系列产品操作简便，生长条件控制，生长迅速、制备出的样品具有高质量、高可重复性，可清楚的观测到分数量子霍尔效应。尤其适合于需要快速得到高质量石墨烯或碳纳米管用于高端学术研究的团队。点击查阅详细信息台式高性能多功能PVD薄膜制备系列—nanoPVD可媲美大型PVD的台式高性能PVD系统 ，爆款热销中！基于多年大型薄膜制备系统的设计与研发所积累的丰富经验，Moorfield Nanotechnology推出了台式高性能多功能PVD薄膜制备系列产品。该系列产品是为高水平学术研究研发的小型物理气相沉积设备。该系列产品包含磁控溅射、金属/机物热蒸发系统。这些设备虽然体积小巧但是性能，能够快速实现高质量纳米薄膜、异质结的制备，通常在大型设备中才有的共溅射功能也可以在该系列产品上实现。便捷的操作、智能的控制、高效的制备效率让您的学术研究进入快车道。点击查阅详细信息台式超二维材料等离子软刻蚀系统—nanoETCH用于超刻蚀二维材料与样品表面处理的等离子体刻蚀系统，诺奖团队都在用！石墨烯等二维材料的微纳加工与刻蚀需要很高的精度，而目前成熟的传统半导体刻蚀系统在面对单层材料的高精度刻蚀需求时显得力不从心。为了解决目前维纳加工中常用的蚀系统功率较大、难以精细控制的问题，Moorfield Nanotechnology 推出了台式超二维材料等离子软刻蚀系统 - nanoETCH。该系统对输出功率的分辨率可到达毫瓦量，对二维材料可实现超的逐层刻蚀，也可实现对二维材料进行层内缺陷制造，此外还可对石墨基材等进行表面处理。点击查阅详细信息台式气氛\压力控制高温退火系统—ANNEAL从高真空到各种气氛都能控制的高端热处理系统Moorfield Nanotechnology专门为制备高质量的样品而推出的台式气氛\压力控制高温退火系统，该系统可以满足从高真空到各种气氛的退火需求。对气压和温度都能进行控制，该系统不仅仅是普通的退火系统更是二维材料、基片等进行可控热处理的重要保障。该系统颠覆了传统箱式、管式炉的粗放退火方式，开创了退火的新篇章。点击查阅详细信息多功能高磁控溅射喷金仪—nanoEM是一台喷金仪，但不仅仅是喷金仪！多功能高磁控溅射喷金仪—nanoEM是Moorfield Nanotechnology为SEM、TEM样品的表面导电处理以及普通样品的高质量电生长而设计的金属溅射系统。系统配备SEM样品托、TEM样品网、普通薄膜样品等多种专用样品台。虽然该系统主要为溅射金属而设计，但是该设备的性能已经达到了高质量薄膜样品的制备标准。通过选择不同的配置可以兼顾样品的表面导电处理、电制备与学术研究型薄膜样品的制备。因此nanoEM是一台不可多得的多功能高磁控溅射喷金仪。点击查阅详细信息部分单位及用户评价意大利比萨大学（nanoPVD S10A）Moorfield近在意大利比萨大学安装了另一台nanoPVD-S10A磁控溅射系统。在这里，它将被Giuseppe Barillaro副教授领导的团队用于为新型器件生长保护性和功能性涂层。该小组的研究应用包括纳米医学、生物传感、微电子学和光子学。诺森比亚大学（nanoPVD S10A，MiniLab）DR. GUILLAUME ZOPPI对Moorfield的评价：在诺森比亚大学，我们正在研究各种材料的应用，特别是光伏材料。作为不可或缺的部分，Moorfield近安装的用于磁控溅射和电子束蒸发的nanoPVD和MiniLab系统发挥了关键作用。Moorfield专家的专业建议确保了我们得到为合适的设备，我们对设备的质量和快速、高效的技术支持留下了深刻的印象。很高兴能和Moorfield的团队一起工作。巴斯大学（nanoPVD-T15A）DR. PETRA CAMERON对Moorfield的评价：我们的研究重点是电化学材料、能源材料和钙钛矿光伏材料。我们之前一直在寻找一个可靠且易于使用的台式蒸发设备。现在，我们新的Moorfield nanoPVD-T15A热蒸发系统可以高质量的沉积金属电和钙钛矿光伏材料的接触层。让我们喜欢的另一方面是，该系统是模块化的，可以很容易地升低温有机物蒸发模块。我们的nanoPVD-T15A已经迅速成为一个关键设备，现在每天都在使用。DR MATTHEW COLE（副教授）对Moorfield的评价：Moorfield的服务速度快如闪电。他们的产品支持是的，屈一指的。丹麦技术大学（MiniLab090手套箱集成系统）为了满足Tim Booth在二维材料和异质结的合成和应用研究，系统在MiniLab090的基础上集成了手套箱，允许在惰性气体环境下进行完整的设备操作。系统配置包括软刻蚀、热蒸发和磁控溅射。Tim Booth教授对Moorfield的评价：在DTU，我们近从Moorfield采购了一套手套箱集成系统，系统配置包括软蚀刻系统、热蒸发和磁控溅射功能，用于我们研究二维材料和异质结的合成和应用。该系统允许我们在高精度控制的低氧和水气条件下执行2D材料器件的大部分微加工步骤。Moorfield团队在设计和安装过程中至关重要并且非常专业，如果有任何疑问，他们总是可以立即提供技术支持。他们在提供2D材料技术支持方面有多年的经验，所以我们知道我们有了得力的助手。系统的高质量和设计方案让我们印象深刻，我们期待着在未来的许多年里与设备和Moorfield团队一起工作。强烈推荐!”MiniLab090手套箱集成系统，图中红色部分为集成系统的控制屏幕和主机部分。曼彻斯特大学（手套箱集成退火和刻蚀系统）DR. ROMAN GORBACHEV对Moorfield的评价：我的团队近与Moorfield合作，为我们的应用方向定制了一个集成手套箱的热退火和软蚀刻组合系统。它安装于新的National Graphene Institute (NGI)，现在被用于石墨烯和2D材料的研究。我们一直对Moorfield的专业技术和提高客户满意度的奉献印象深刻，这次也不例外！西班牙光子研究所（手套箱集成退火和刻蚀系统）位于西班牙巴塞罗那Castelldefels 的ICFO （光子科学研究所）是一个致力于光学领域科学和技术的研究中心。DR. STIJN GOOSSENS对Moorfield的评价：在ICFO，我们正在努力建立一个的新材料研究中心。近安装的Moorfield 手套箱集成热退火系统、电子束沉积系统，以及新的nanoETCH系统，起到了关键作用。我们对他们专业的销售建议、他们系统的质量和可靠性以及他们快速、有效的支持印象深刻。很高兴能和他们的团队一起工作！Evonetix公司（MiniLab 026 热蒸发系统）Evonetix公司致力于利用基因合成技术，促进合成生物学领域的快速发展。Evonetix的优势是基因合成的高保真性和并行性。DR. DAN BRATTON PH.D对Moorfield的评价：在Evonetix，我们正在开创一种可扩展和高保真基因合成的创新方法。我们想拥有一种将金属蒸发到各种基材上的设备，我们联系了Moorfield Nanotechnology公司，该公司根据我们的要求定制了一个Minilab 026蒸发系统。在整个过程中，Moorfield Nanotechnology团队非常友好且知识渊博，在安装前后都提供现场培训。在Evonetix, Minilab 026已经被证明是非常有用的设备。特别是，我们喜欢它的紧凑设计，它的易用性，以及它所带来的样品数量的增加。我们愿意向任何人推荐该设备和团队。Evonetix团队与新安装的MiniLab026热蒸发系统曼彻斯特城市大学（MiniLab 060）DR. JUSTYNA KULCZYK对Moorfield的评价：在MMU，我们近成立了曼彻斯特燃料电池创新中心，以开发利用可再生能源的创新技术方案。为此，我们采购了Moorfield MiniLab 060磁控溅射系统，该系统具有快速进样室、衬底偏压和等离子清洗、脉冲直流和射频电源以及共沉积功能。在系统设计过程中，Moorfield提供了非常宝贵的建议。我们对系统和软件的质量，以及他们团队的专业知识、沟通和技术支持都留下了深刻的印象。我们将推荐给任何现在或将来考虑使用PVD系统的人。曼彻斯特城市大学正在利用Moorfield Nanotechnology公司的MiniLab 060系统进行先进的燃料电池的研究

均质是使悬浮液（或乳化液）体系中分散物微粒化、均匀化的处理过程，这种处理同时起降低分散物尺度和提高分散物分布均匀的作用。高压均质的原理：高压泵头组件工作时将物料经过单向阀吸入泵腔，流体物料在柱塞的作用力下，泵腔和均质阀座之间的物料会行成极高的压力。高压物料通过均质阀组件时，产生以下三种效果：① 剪切作用,均质阀座与阀芯间的缝隙很小,对物料颗粒产生剪切②空穴效应,高速挤出的物料瞬间失压,最终达到使物料均匀分布目的③ 碰撞作用,高速挤出的物料以极高的速度撞击到碰撞环上,产生撞击粉碎实物安装图：应用领域：制药行业中制备脂肪粒、载药型乳液均质、脂质体、纳米混悬剂和微胶囊等 生物工程产品的细胞破碎、胞内外物质的提取和均质 精细化工、碳纳米管、石墨烯、导电浆料、电阻浆料的生产和制备 个人护理品-脂质纳米的均质分散 食品和工业产品的均质和乳化,提高产品稳定性 产品优势：①结构特点：单支陶瓷柱塞驱动，出料流量精准控制。可选配柱塞润滑装置，密封使用寿命更长。②均质压力：最大设计压力2000bar/200MPa/29000psi，选用卫生级数字隔膜压力表。③均质流量：最小样品量15ml,特别适合昂贵的药剂生产。自动吸料，无需进料设备。④部件技术：均质阀座组件可采用氧化锆、钨钢、金刚石、司太立等材质，单/双面加工，双面使用，使用寿命加倍。二级阀分散乳化，使物料分布更加均匀一致。⑤节能技术：设备变频控制，接入220V市电即可使用，进口品牌部件设备更稳定，更低的能耗，更高的能效比。技术参数：产品型号JXNANO-5设计流量(L/H)5~8设计最高压力(mpa/bar/psi)200/2000/29000使用压力（MPa/bar/psi）180/1800/26100操作方式按键电压(V)220柱塞数量(支)1功率(kw)1.5主要功能均质、破壁、细化（可选配冷水机控温）最小处理量（mL）15产品过程粘度2000cp最大进料颗粒尺寸≤100μm工作压力显示压力表控制方式手动操作最大产品进料温度90℃重量（KG）110

技术参数 1. 处理压力最大 18,000psi 2. 最大流量为124-270 ml/min 3. 进料温度为 –25℃--75℃ 4. 最小样品量为14ml 5. 压缩空气要求：根据交互容腔选择的不同，压缩空气流量在80 psi压力下流量为28SCFM到 57 SCFM, 7.5-15 hp 6. 机器尺寸: 60*39*68cm 7. 重量：26.4 Kg 主要特点 1.最小样品量为14ml，可获得超过12 ml的产品 2.独一无二的、具有固定几何形状的交互作用容腔，内部无可移动部件。处理后的样品粒径在150纳米以下，且分布均匀，体系稳定。 3.可以连续或批量加工，也可以进行再循环 4.高效率细胞破壁（一次就能达到95％以上的破壁效果，并且细胞内的混合物不受污染和破坏） 5.实验结果可以完美的线性放大，放心地推广到中试及工厂生产 . 仪器介绍 MICROFLUIDICS公司生产的M-110L专利流体处理设备，是一个气压型小试设备。设备带有形状固定的交互容腔，利用实验室标准压缩空气可产生高至18,000psi的压力，并将强大的能量传递到产品上去，产品高压高速射入交互容腔,在其内部发生高剪切、高碰撞及气穴效应,从而达到将产品粉碎及分散的目的. 美国MFIC公司生产的Microfluidizer 系列高压微射流纳米均质机已被一些世界知名公司使用于研发、生产中，适用于乳液、分散液、悬浮液、脂质体、制剂、微胶囊、细胞破壁、降低药物粒径至纳米级等生物医药行业和化工、化妆品、食品等行业如碳纳米管、喷墨、二氧化钛、二氧化硅、胶粘剂、纸浆、食品添加剂等的纳米级分散及均质。 M-110L设备处理压力可在3000—18000psi范围内任意选择，加工产品范围广泛，从简单的乳液到固体含量高的悬浮液都可以。该机器操作简便，而且不需拆卸即可进行在线清洗和消毒。

拉莫尔NMR时域核磁共振LMR-Area，核磁共振（NMR）尤其适合测量陶瓷浆料、电池浆料、研磨剂、水煤浆、涂料等浓稠分散体系。核磁共振不是光，它能完全穿透样品，具有许多独特的优势：无需稀释即可进行测量，并避免了与光学测量相关的遮光效应。由于测量的是颗粒的湿润比表面积，核磁共振对最小的颗粒特别敏感，因为它们对颗粒表面积的贡献最大。尽管核磁共振不直接测量粒度分布，但与直接测量粒度分布的光学方法相比，表面积测量对真实粒度分布更为敏感，因为小颗粒散射光强度较弱，使得用激光很难检测到它们。特点和优势：仪器便携化和自动化程度高，能测量5~10mL的样品，快速分析颗粒的分散性和稳定性。核磁共振对光不敏感，能获知样品整体的信息，且对浆料的固含量浓度无要求，因此适用于深色或浓稠的浆料体系。核磁共振能测量颗粒的湿比表面积，对颗粒的形状无要求，因此特别适合于测量形状不规则，表面积极大的材料，如石墨烯/碳纳米管等新型纳米材料。技术指标：工作频率：7HMZ，磁场强度：0.16T，磁体控温：非线性PID自动恒温控制最短回波间隔：TE≤200us，最大回波数目：NE≥30000测试样品：直径小于20mm，高度小于25mm，溶液或固液混合物均可设备体积：520*353*353mm，设备重量：30kg

THETIS™依然秉承了她的前辈AMERIGO、MAGELLAN和VASCO出色的工业设计传统，完全的法国设计和生产，实现强大测量功能的同时，兼顾了外观设计上的优雅、紧凑和便捷。其主要特点和优点是：l DLS、SLS和DDLS测量模式三合一l 30°至150°的多角度散射检测系统l VV和VH两个偏振方向同时检测l 粒度、长宽比、长度和宽度测量l 分子量测量l 动态粒度分布测定-动态时间切片和数据分析功能l 增强型数据处理算法：多峰连续算法（MCA），多峰离散算法（MDA），以及标准累积量算法l 占地面积小 THETIS™可应用在以下领域：l 化学化工：各种聚合物、胶束、超高分子的表征，包括粒度分布l 石油化工：各种高分子添加剂、驱油剂、表面活性剂表征和研究l 生物医药：n 药物聚集即稳定性研究；n 蛋白质、多肽、及多糖的表征；n 病毒、抗原和抗体的表征和相互作用n 微乳液聚合过程及反应机理研究n 解聚大分子自组装过程的动力学研究n 先进材料：碳纳米管和碳纤维的长度和宽度测定