铁电液晶波导

我国高频势阱原子波导研究获重大进展对实现原子芯片高频势阱、微型原子激射器的连续运行和物质波干涉研究具有重要意义 记者近日从中国科学院上海光机所获悉，该所量子光学重点实验室王育竹院士领衔的“973”冷原子系综量子信息存储技术——高频势阱研究小组在国际上首次实现了中性原子的高频势阱囚禁和导引。该研究的重要进展将对实现原子芯片高频势阱、微型原子激射器的连续运行和物质波干涉研究具有重要意义。 早在2001年，为研究原子云在强场中的动力学行为，王育竹即提出了利用高频势阱导引和囚禁超冷原子的学术思想。研究组在理论上曾获得过理想的结果，但由于实验难度很大，当时未能实现实验验证。经过研究小组多年来的艰辛努力，在克服实验中的重重困难后，终于实现了高频势阱导引和囚禁超冷原子气体的实验。 利用高频势阱囚禁比传统囚禁超冷原子的势阱具有明显的优势。传统囚禁超冷原子的势阱主要有两类：光偶极势阱和静磁势阱。光偶极阱中存在着固有的原子自发辐射，它会导致加热原子；静磁场只能囚禁所谓的弱场追寻态原子，并且磁阱中存在漏洞，损失囚禁原子，限制了对原子运动状态操纵以及对静磁势阱设计的自由度。比如，在实现相干原子束的相干分束或导引时，就遇到较大困难。 利用高频电磁场导引原子的原理如下：有空间梯度的射频场混合在均匀强静磁场中原子的磁子能级，在静磁场和射频场的作用下，原子的本征态是缀饰态。这些缀饰态的本征能级随空间位置的变化给出了绝热的囚禁势。这种动静结合的综合势场提供了比纯粹的静磁场势阱多得多的优越性，在原子光学中展示出广阔的发展空间，它关联于非常广泛的冷原子系统，比如导引物质波原子激射器、一维原子气体和原子干涉仪。射频阱避免了在极深光势阱中的自发辐射等，与传统的静磁导引相比，射频波导还可以避免Majorana跃迁，在实现连续运行的原子激射器中具有优势。 在国家自然科学基金委和科技部支持下的高频势阱组，承担了国家自然科学基金重点课题“973”冷原子系综量子信息存储研究、磁陷阱中冷原子的参量冷却及超冷原子和BEC物理性质研究。该小组建立了我国第一套集光、机、电为一体的精密可调的高频微型势阱和波导实验装置，包括超高真空系统、光学系统、激光稳频系统、电磁机械系统、高分辨超冷原子成像系统和计算机程序控制系统等。课题组与上海光机所精密光电测控研究与发展中心合作，研制了一套消像差成像系统，用于对高频势阱囚禁的冷原子的成像探测。在这个实验装置上，首先实现了冷原子团穿越直径2毫米的金属铜小孔，并把冷原子团转移到了射频阱区域，转移距离大约40毫米，原子数目达到几百万个，为实现高频势阱创造好了条件。通过对系统的优化和射频网络的匹配，该小组实现了高频势阱对超冷原子云的囚禁和导引。通过改变高频场对原子跃迁频率的失谐量，不但可以导引弱场追寻态原子，而且可以导引强场追寻态的原子，导引的原子数峰值约300万个。 有关专家认为，高频势阱导引超冷原子研究的重要进展为实现原子芯片高频势阱、微型原子激射器的连续运行和物质波干涉研究打下了基础。高亮度的相干原子束对高精度精密测量、物质波刻蚀、物质波成像技术和原子光学研究具有潜在的应用价值。原子激光如同激光在光学应用中一样，具有根本性的重要意义，高频势阱囚禁冷原子实验成功对于开展物质波的相干操控迈出了重要一步。 （量子光学重点实验室供稿）

光波导是实现光电集成和光子集成的关键。近日，安徽大学先进材料原子工程研究中心朱满洲教授、陈爽副教授科研团队发现金属纳米团簇中的光波导行为。这是在金属纳米团簇材料中发现的重要光传播新现象，填补了纳米团簇光子性质研究的空白，丰富了有源光波导和偏振发光材料的研究，是材料科学前沿的重要研究成果。相关成果日前发表于《科学》。据悉，该论文是安徽大学首次以第一完成单位在《科学》正刊上发表的科研论文。 图为金属纳米团簇光波导 安徽大学供图研究团队发现，配体保护的两种金属团簇材料具有优异的光波导性能，光损耗系数低于大多数无机、有机和杂化材料，研制的两种金属团簇的晶体排列和分子取向导致了其极高的极化比，为有源波导和极化材料家族提供了新成员。这在未来信息储存、集成光学等领域具有潜在应用前景。光波导具有抗干扰能力强、保真度高等特点，其广泛应用于光电调制器、光子耦合器、光子电路等领域。在有源光波导系统中可以利用分子偶极矩取向影响光子传输方向形成偏振光波导。目前，多种光子纳米结构被开发用作光波导材料，但它们仍然存在着光学损耗高和制造工艺复杂等问题。而配体保护的金属纳米团簇具有原子精确的结构、良好的光学性质和较大的斯托克斯位移，这些特点使其非常适合用于光电器件，并且团簇的光学性质可以通过金属掺杂、配体调控、价态调整等手段进行调控。因此，金属纳米团簇非常适合用作光波导材料并探索其结构与性质之间的联系。此次研究中，研究人员设计并合成具有橙色和红色发光的Pt1Ag18和AuxAg19-x纳米团簇，两种纳米团簇的晶体都表现出优异的光波导性能，它们的光损耗系数低于大多数有机、无机以及杂化材料。并且，这种光波导性质在金属纳米团簇中具有一定的普适性，研究团队在AuCu14、Au4Cu6、Pt1Ag37等纳米团簇中都发现了这种现象。由于纳米团簇间的多种弱相互作用，纳米团簇晶体表现出一定程度的柔韧性，弯曲和分支状态的晶体仍然具有明显的光波导行为。由于Pt1Ag18和AuxAg19-x纳米团簇的晶体结构和堆积方式的差异，它们在光波导过程中表现出了不同的偏振发光。Pt1Ag18和AuxAg19-x表现出聚集诱导发射增强的性质，这使得它们的晶体能表现出更强的光致发光。光波导材料是光学器件和光学系统中的关键组成部分，在光通信、光学传感和光学计算等领域发挥着重要的作用。研究人员介绍，金属纳米团簇光波导行为的发现为开发配体保护的金属纳米团簇作为活性光波导材料提供了理论基础和应用前景，为构建基于团簇的小型化集成纳米光子器件提供了支持。

宁波激智一名员工在新投产的流水线上检验产品质量　　宁波激智新材料科技有限公司成立于2007年3月，是一家集光学薄膜和特种薄膜研发、生产、销售为一体的高科技公司，是中国首家TFT-LCD光学膜片生产基地，也是国内唯一一家在TFT-LCD光学膜领域中拥有自主知识产权的企业。宁波激智已就关键核心技术申请了13项国家发明专利，其中7项已授权。　　据悉，宁波激智产的BritNit系列光学扩散膜、增光膜和反射膜，已经成功进入国际市场，打破了美国、日本和韩国企业对此行业的垄断。宁波激智在国内的主要客户有TCL、海信、长虹、康佳、创维、海尔等国内著名家电企业，而且也成为了冠捷等液晶显示器厂商的主要供应商，并且已经进入三星、LG、夏普、菲利普、苹果等国际大公司的供应链体系。　　宁波激智的销售额，2009年为1025万元，2010年为3798万元，2011年为1.01亿元，2012年达到了近3亿元。几乎每年都是前一年三倍的惊人发展速度，使其短短数年间便成为国内最大的液晶光学薄膜生产厂商。宁波激智的成功，再次凸显自主创新和知识产权对高新技术产业发展的重要性。

内容简介　　薄膜晶体管液晶显示产业在中国取得了迅猛的发展，每年吸引着大量的人才进入该产业。本书基于作者在薄膜晶体管液晶显示器领域的开发实践与理解，并结合液晶显示技术的最新发展动态，首先介绍了光的偏振性及液晶基本特点，然后依次介绍了主流的广视角液晶显示技术的光学特点与补偿技术、薄膜晶体管器件的SPICE模型、液晶取向技术、液晶面板与电路驱动的常见不良与解析，最后介绍了新兴的低蓝光显示技术、电竞显示技术、量子点显示技术、Mini LED和Micro LED技术及触控技术的原理与应用。作者简介　　邵喜斌博士从20世纪90年代初即从事液晶显示技术的研究工作，先后承担多项国家863计划项目，研究领域涉及液晶显示技术、a-Si 及p-Si TFT技术、OLED技术和电子纸显示技术，在国内外发表学术论文100多篇，获得专利授权150余项，其中海外专利40余项。曾获中国科学院科技进步二等奖、吉林省科技进步一等奖、北京市科技进步一等奖。目录封面版权信息内容简介序前言第1章 偏振光学基础与应用1.1 光的偏振性1.1.1 自然光与部分偏振光1.1.2 偏振光1.2 光偏振态的表示方法1.2.1 三角函数表示法1.2.2 庞加莱球图示法1.3 各向异性介质中光传播的偏振性1.3.1 反射光与折射光的偏振性1.3.2 晶体的双折射1.3.3 单轴晶体中的折射率1.4 相位片1.4.1 相位片的定义1.4.2 相位片在偏光片系统中1.4.3 相位片的特点1.4.4 相位片的分类1.4.5 相位片的制备与应用1.5 波片1.5.1 快轴与慢轴1.5.2 λ/4波片1.5.3 λ/2波片1.5.4 λ波片1.5.5 光波在金属表面的反射1.5.6 波片的应用参考文献第2章 液晶基本特点与应用2.1 液晶发展简史2.1.1 液晶的发现2.1.2 理论研究2.1.3 应用研究2.2 液晶分类2.2.1 热致液晶2.2.2 溶致液晶2.3 液晶特性2.3.1 光学各向异性2.3.2 电学各向异性2.3.3 力学特性2.3.4 黏度2.3.5 电阻率2.4 液晶分子合成与性能2.4.1 单体的合成2.4.2 混合液晶2.4.3 单体液晶分子结构与性能关系2.5 混合液晶材料参数及对显示性能的影响2.5.1 工作温度范围的影响2.5.2 黏度的影响2.5.3 折射率各向异性的影响2.5.4 介电各向异性的影响2.5.5 弹性常数的影响2.5.6 电阻率的影响2.6 液晶的应用2.6.1 显示领域应用2.6.2 非显示领域应用参考文献第3章 广视角液晶显示技术3.1 显示模式概述3.2 TN模式3.2.1 显示原理3.2.2 视角特性3.2.3 视角改善3.2.4 响应时间影响因素与改善3.3 VA模式3.3.1 显示原理3.3.2 视角特性3.3.3 视角改善3.4 IPS与FFS模式3.4.1 显示原理3.4.2 视角特性3.5 偏光片视角补偿技术3.5.1 偏振矢量的庞加莱球表示方法3.5.2 VA模式的漏光补偿方法3.5.3 IPS模式的漏光补偿方法3.6 响应时间3.6.1 开态与关态响应时间特性3.6.2 灰阶之间的响应时间特性3.7 对比度参考文献第4章 薄膜晶体管器件SPICE模型4.1 MOSFET器件模型4.1.1 器件结构4.1.2 MOSFET器件电流特性4.1.3 MOSFET器件SPICE模型4.2 氢化非晶硅薄膜晶体管器件模型4.2.1 a-Si:H理论基础4.2.2 a-Si:H TFT器件电流特性4.2.3 a-Si:H TFT器件SPICE模型4.3 LTPS TFT器件模型4.3.1 LTPS理论基础4.3.2 LTPS TFT器件电流特性4.3.3 LTPS TFT器件SPICE模型4.4 IGZO TFT器件模型4.4.1 IGZO理论基础4.4.2 IGZO TFT器件电流特性4.4.3 IGZO TFT器件SPICE模型4.5 薄膜晶体管的应力老化效应参考文献第5章 液晶取向技术原理与应用5.1 聚酰亚胺5.1.1 分子特点5.1.2 聚酰亚胺的性能5.1.3 聚酰亚胺的合成5.1.4 聚酰亚胺的分类5.1.5 取向剂的特点5.2 取向层制作工艺5.2.1 涂布工艺5.2.2 热固化5.3 摩擦取向5.3.1 工艺特点5.3.2 摩擦强度定义5.3.3 摩擦取向机理5.3.4 预倾角机理5.3.5 PI结构对VHR和预倾角的影响5.3.6 摩擦取向的常见不良5.4 光控取向5.4.1 取向原理5.4.2 光控取向的光源特点与影响参考文献第6章 面板驱动原理与常见不良解析6.1 液晶面板驱动概述6.1.1 像素结构与等效电容6.1.2 像素阵列的电路驱动结构6.1.3 极性反转驱动方式6.1.4 电容耦合效应6.1.5 驱动电压的均方根6.2 串扰6.2.1 定义与测试方法6.2.2 垂直串扰6.2.3 水平串扰6.3 闪烁6.3.1 定义与测试方法6.3.2 引起闪烁的因素6.4 残像6.4.1 定义与测试方法6.4.2 引起残像的因素参考文献第7章 电路驱动原理与常见不良解析7.1 液晶模组驱动电路概述7.1.1 行扫描驱动电路7.1.2 列扫描驱动电路7.1.3 电源管理电路7.2 眼图7.2.1 差分信号7.2.2 如何认识眼图7.2.3 眼图质量改善7.3 电磁兼容性7.3.1 EMI简介7.3.2 EMI测试7.3.3 模组中的EMI及改善措施7.4 ESD与EOS防护7.4.1 ESD与EOS产生机理7.4.2 防护措施7.4.3 ESD防护性能测试7.4.4 EOS防护性能测试7.5 开关机时序7.5.1 驱动模块的电源连接方式7.5.2 电路模块的时序7.5.3 电源开关机时序7.5.4 时序不匹配的显示不良举例7.6 驱动补偿技术7.6.1 过驱动技术7.6.2 行过驱动技术参考文献第8章 低蓝光显示技术8.1 视觉的生理基础8.1.1 人眼的生理结构8.1.2 感光原理说明8.1.3 光谱介绍8.2 蓝光对健康的影响8.2.1 光谱各波段光作用人眼部位8.2.2 蓝光对人体的影响8.3 LCD产品如何防护蓝光伤害8.3.1 LCD基本显示原理8.3.2 低蓝光方案介绍8.3.3 低蓝光显示器产品参考文献第9章 电竞显示技术9.1 电竞游戏应用瓶颈9.1.1 画面拖影9.1.2 画面卡顿和撕裂9.2 电竞显示器的性能优势9.2.1 高刷新率9.2.2 快速响应时间9.3 画面撕裂与卡顿的解决方案9.4 电竞显示器认证标准9.4.1 AMD Free-Sync标准9.4.2 NVIDA G-Sync标准参考文献第10章 量子点材料特点与显示应用10.1 引言10.2 量子点材料基本特点10.2.1 量子点材料独特效应10.2.2 量子点材料发光特性10.3 量子点材料分类与合成10.3.1 Ⅱ-Ⅵ族量子点材料10.3.2 Ⅲ-Ⅴ族量子点材料10.3.3 钙钛矿量子点材料10.3.4 其他量子点材料10.4 量子点显示技术10.4.1 光致发光量子点显示技术10.4.2 电致发光量子点显示技术参考文献第11章 Mini LED和Micro LED原理与显示应用11.1 概述11.2 LED发光原理11.2.1 器件特点11.2.2 器件电极的接触方式11.2.3 器件光谱特点11.3 LED直显应用特点11.3.1 尺寸效应11.3.2 外量子效应11.3.3 温度效应11.4 巨量转移技术11.4.1 PDMS弹性印章转移技术11.4.2 静电吸附转移技术参考文献第12章 触控技术原理与应用12.1 触控技术分类12.1.1 从技术原理上分类12.1.2 从显示集成方式上分类12.1.3 从电极材料上分类12.2 触控技术原理介绍12.2.1 电阻触控技术12.2.2 光学触控技术12.2.3 表面声波触控技术12.2.4 电磁共振触控技术12.2.5 电容触控技术12.3 投射电容触控技术12.3.1 互容触控技术12.3.2 自容触控技术12.3.3 FIC触控技术12.4 FIC触控的驱动原理12.4.1 电路驱动系统架构12.4.2 FIC触控屏的两种驱动方式12.4.3 触控通信协议12.4.4 触控性能指标参考文献附录A MOSFET的Level 1模型参数附录B a-Si:H TFT的Level 35模型参数附录C LTPS TFT的Level 36模型参数附录D IGZO TFT的Level 301模型参数（完善中）反侵权盗版声明封底

光波导是集成光子电路的关键元素，影响了光子学的许多领域，包括电信，医学，环境科学等。对于小型几何尺寸结构而言，低折射率介质内部的高效波导对于各种需要光与物质间的强相互作用的应用都至关重最近，一个国际研究团队提出了一种全新的限制并引导厘米范围内无衍射光的芯片光笼概念。通过使用Nanoscribe的3D打印系统，科学家们实现了直接在硅基光子芯片上制作中空3D光波导的微观结构，即集成于芯片的用细条排列并围绕成中空的双环结构（见下图）。这项新颖的光笼研究成果能展现光与物质的强相互作用，并开辟全新的应用，例如基于气体和液体的检测以及生物分析和量子技术等。集成光子设备中光与气体、液体或者生物制剂之间的强相互作用能有效应用于环境监测和生物传感器中，而这依赖于先进的光学传感元件来增强光与物质的相互作用。为此，来自于布莱尼兹光子技术研究所（Leibniz Institute of Photonic Technology）， LMU慕尼黑大学 (Ludwig-Maximilians-Universit?t Munich), 伦敦帝国理工学院（Imperial College London）以及德国耶拿大学奥托肖特材料研究所（Otto Schott Institute of Materials Research of theFriedrich Schiller University of Jena）的科学家们开创了一种新的3D光笼波导概念。该实验是通过波导借助微观细条捕获光，并借助光子带隙效应将其引导到数毫米距离上。光笼的开放式设计有利于光与物质（例如液体或气体分子）之间的强相互作用。SEM图片来源：Bumjoon Jang, Leibniz Institute of Photonic Technology微纳加工技术应用于3D光波导研究科学家们将细条排列成内外两个六边形结构，其中的中空芯用来引导光束。细条直径仅3.6 μm且细条之间的间距为7 μm，长度为5毫米，纵横比超过1000。该复杂的双环体系光笼微观结构需要直接能打印在硅芯片上。这个十分具有挑战性的制作通过使用德国Nanoscribe公司的3D打印系统成功得以实现。这个3D微观结构的设计能够通过细条之间的空间横向进入波导的核心区域。因此，分子可以从侧面进入中空芯并与核心区域的光进行相互作用。独特的侧面通过方式可将气体扩散时间至少缩短了10000倍。性能测试表明，通过3D光笼的波导效率很高，并且研究证明波导长度可达到3cm，纵横比超过8000。集成芯片使得光笼概念在诸如生物分析或量子技术等众多领域都有很好的应用前景。凭借着拥有极其复杂和超高精度的3D打印技术，Nanoscribe公司的3D微纳加工技术推动着光子电路的研究和创新。三维光子晶体，光子互联以及复合透镜系统和自由曲面耦合器的实现都得益于Nanoscribe的3D打印系统。相关文献：Light guidance in photonic band gap guiding dual-ring lightcages implemented by direct laser writing网址：https://pubs.acs.org/doi/10.1021/acsphotonics.8b01428HollowCore Light Cage: Trapping Light Behind Bars网址：https://www.osapublishing.org/ol/abstract.cfm?uri=ol-44-16-4016 更多有关双光子微纳3D打印产品和技术应用咨询，欢迎联系Nanoscribe中国分公司 - 纳糯三维科技（上海）有限公司 德国Nanoscribe 超高精度双光子微纳3D打印系统： Photonic Professional GT2 双光子微纳3D打印系统 Quantum X 双光子灰度光刻微纳打印系统

美国加州大学圣巴巴拉分校与加州理工学院的科学家携手，开发出了首款同时集成激光器和光子波导的芯片，向在硅上实现复杂系统和网络迈出了关键一步。此类光子芯片有助科学家开展更精确的原子钟实验，减少对巨型光学工作台的需求，也可用于量子领域。相关论文已发表于近日出版的《自然》杂志。实验概念图图片来源：《自然》网站集成电路出现后，科学家们开始将晶体管、二极管和其他组件集成在一个芯片上，这大大提高了芯片等的潜力。在过去几年里，光子学领域的科学家一直希望能实现同时集成激光器和光子波导。为研制出此类芯片，工程师们开发了插入式隔离器，以防止可能会出现的导致芯片不稳定的反射。但这种方法需要使用磁性材料，而这也会引发新的问题。在最新研究中，科学家找到了解决这些问题的方法，创造出了第一个真正可用的集成芯片。研究人员首先在硅衬底上放置一个超低损耗氮化硅波导，随后在波导管上覆盖多种硅，并在其上安装了低噪声磷酸铟激光器。通过将两个组件隔离开，防止了蚀刻过程中对波导的损坏。研究团队通过测量芯片的噪声水平来测试其性能，结果令人满意，随后他们用其制造出一个可调谐的微波频率发生器。

太赫兹波是指频率在0.1THz~10THz内的电磁波，它的波长介于30~3000μm，在频谱中的位置处于微波和可见光之间，长波段部分与毫米波重合，短波段部分与红外线重合，在电磁波频谱中占据非常特殊的位置，具有很多特殊的性质：宽带性、互补性、瞬态性、相干性、低能性、投射性。相对于毫米波而言，太赫兹波的频率更高、波长更短，因此具有更高的分辨率、更强的方向性和更大的信息容量，同时器件可以更小；相对于光波而言，太赫兹波具有更强的穿透性，适合于云雾、硝烟等极端恶劣环境。太赫兹频率源是太赫兹技术发展的关键，其性能指标影响着整个太赫兹系统的性能，所以太赫兹频率源的获得至关重要。通过倍频的方式获得的信号源具有高频稳定性好、设备的主振动频率低、工作频段宽的优点，是目前获取太赫兹频率源广泛采取的方案。基于GaAs肖特基二极管的太赫兹倍频器因其高效率、低能量消耗和室温下可适用性，已广泛用于外差接收器中局部振荡器(LO)的可靠信号源。太赫兹倍频器具有广泛的实际应用，包括大气遥感、医学成像甚至高速通信。目前，用于封装太赫兹倍频器的波导腔体通常采用计算机数控(CNC)加工制造，该工艺成熟，可实现高精确度、高精密度和良好表面光洁度，能满足电子元件与波导腔体间严格的尺寸公差要求。近年来，3D打印凭借其小批量快速加工的能力，逐渐被用于加工被动微波器件。但是，兼具大的打印幅面以及高公差控制的打印设备较少，因此鲜少有3D打印制备超过100GHz频段的器件报道。3D打印的倍频器更是未见报道。图1. 125GHz倍频器的剖面图:(a)波导腔体的布局 (b)MMIC的特写图2. 微纳3D打印的波导腔体(左)和放置MMIC的波导通道(右)近日，英国伯明翰大学的Talal Skaik和Yi Wang等首次采用面投影微立体光刻(PμSL)3D打印工艺制备太赫兹倍频器的波导腔体。研究团队使用摩方精密科技有限公司(BMF)的nanoArch S140系统3D打印了波导腔体，打印材料为耐高温树脂(HTL)，如图2所示，外形尺寸为30.4 mm×25.5 mm×19.1 mm，打印层厚为20μm以及光学精度为10μm。打印后在异丙醇中清洗，并进行30分钟的紫外线固化，最后在60°C下进行30分钟的热固化。制备的波导腔体通过光学系统检测并未发现缺陷，与MMIC（单片微波集成电路）配合的波导通道测量值为609μm，优于设计的630μm；同时超高光学精度打印保证了严格的尺寸公差，确保波导腔体的两部分能精确配合，避免MMIC电路的损坏。图3. 电镀后波导腔体的表面光洁度图4. 装配后的太赫兹倍频器为促进信号的传递以及减小外界干扰，在波导腔体表面镀上4μm厚的铜和0.1μm厚的金，平均表面光洁度约为1.4μm，如图3和图4所示，电磁仿真结果表明该粗糙度对变频损耗的影响可以忽略不计。图5. 3D打印与传统CNC加工的太赫兹倍频器的性能参数对比实验测试发现，3D打印制备的太赫兹倍频器与传统CNC制备的倍频器性能非常接近，相关性能参数如图5所示。3D打印的太赫兹倍频器在输出频率为126GHz下达到33mW的最大输出功率，在80mW~110mW的输入功率下转换效率约为32%，与传统CNC加工的倍频器具有相近的最大输出功率和转换功率。此研究成果以题为“125 GHz Frequency Doubler using a Waveguide Cavity Produced by Stereolithography”发表在会议期刊《IEEE Transactions on Terahertz Science and Technology 》上。

p style="text-indent:32px line-height:150%"span style="font-size:16px line-height:150% font-family:宋体"7/spanspan style="font-size:16px line-height:150% font-family:宋体"月span30/span日，中国科学院半导体研究所曝出仪器设备采购需求，将以span903/span万的价格采购两台等离子设备。两台设备分别为厚氮化硅感应耦合等离子体化学气相沉积台和硅基铌酸锂薄膜电感耦合等离子刻蚀机。前者用于/spanspan style="font-size:16px line-height:150% font-family: 宋体"光波导器件表面的氧化硅及氮化硅薄膜淀积，适用于波导器件中包层薄膜的沉积。后者用于坚硬材料刻蚀形成波导，专为刻蚀铌酸锂材料研发，也可刻蚀氧化硅等材料。/span/pp style="text-indent:32px line-height:150%"strongspan style="font-size:16px line-height:150% font-family:宋体"项目名称：/span/strongspan style="font-size:16px line-height:150% font-family:宋体"2019/spanspan style="font-size:16px line-height:150% font-family:宋体"年中国科学院半导体研究所科研仪器设备采购项目（第三批）/span/pp style="text-indent:32px line-height:150%"strongspan style="font-size:16px line-height:150% font-family:宋体"项目编号：/span/strongspan style="font-size:16px line-height:150% font-family:宋体"OITC-G190330983 /span/pp style="text-indent:32px line-height:150%"strongspan style="font-size:16px line-height:150% font-family:宋体"采购单位联系方式：/span/strong/pp style="text-indent:32px line-height:150%"strongspan style="font-size:16px line-height:150% font-family:宋体"采购单位：/span/strongspan style="font-size: 16px line-height:150% font-family:宋体"中国科学院半导体研究所/span/pp style="text-indent:32px line-height:150%"strongspan style="font-size:16px line-height:150% font-family:宋体"地址：/span/strongspan style="font-size:16px line-height:150% font-family:宋体"北京市海淀区清华东路甲span35/span号/span/pp style="text-indent:32px line-height:150%"strongspan style="font-size:16px line-height:150% font-family:宋体"联系方式：/span/strongspan style="font-size:16px line-height:150% font-family:宋体"010-82304941/010-82304907/span/pp style="text-indent:32px line-height:150%"strongspan style="font-size:16px line-height:150% font-family:宋体"代理机构联系方式：/span/strong/pp style="text-indent:32px line-height:150%"strongspan style="font-size:16px line-height:150% font-family:宋体"代理机构：/span/strongspan style="font-size: 16px line-height:150% font-family:宋体"东方国际招标有限责任公司/span/pp style="text-indent:32px line-height:150%"strongspan style="font-size:16px line-height:150% font-family:宋体"代理机构联系人：/span/strongspan style="font-size:16px line-height:150% font-family:宋体"010-68290507/span/pp style="text-indent:32px line-height:150%"strongspan style="font-size:16px line-height:150% font-family:宋体"代理机构地址：/span/strongspan style="font-size: 16px line-height:150% font-family:宋体"北京市海淀区清华东路甲span35/span号/span/pp style="text-indent:32px"span style="font-size:16px font-family:宋体"采购详情如下：/span/ptable border="1" cellspacing="0" cellpadding="0" style="border: none"tbodytr class="firstRow"td width="114" valign="top" style="border: 1px solid rgb(0, 0, 0) padding: 5px "pstrongspan style="font-size:16px font-family:宋体"包号/span/strong/p/tdtd width="114" valign="top" style="border: 1px solid rgb(0, 0, 0) padding: 5px "pstrongspan style="font-size:16px font-family:宋体"货物名称/span/strong/p/tdtd width="114" valign="top" style="border: 1px solid rgb(0, 0, 0) padding: 5px "pstrongspan style="font-size:16px font-family:宋体"数量（台span//span套）/span/strong/p/tdtd width="114" valign="top" style="border: 1px solid rgb(0, 0, 0) padding: 5px "pstrongspan style="font-size:16px font-family:宋体"是否允许进口/span/strong/p/tdtd width="114" valign="top" style="border: 1px solid rgb(0, 0, 0) padding: 5px "pstrongspan style="font-size:16px font-family:宋体"预算（万元）/span/strong/p/td/trtrtd width="114" valign="top" style="border: 1px solid rgb(0, 0, 0) padding: 5px "pstrongspan style="font-size:16px font-family:宋体"1/span/strong/p/tdtd width="114" valign="top" style="border: 1px solid rgb(0, 0, 0) padding: 5px "pspan style="font-size:16px font-family:宋体"厚氮化硅感应耦合等离子体化学气相沉积台/span/p/tdtd width="114" valign="top" style="border: 1px solid rgb(0, 0, 0) padding: 5px "pspan style="font-size:16px font-family:宋体"1/span/p/tdtd width="114" valign="top" style="border: 1px solid rgb(0, 0, 0) padding: 5px "pspan style="font-size:16px font-family:宋体"是/span/p/tdtd width="114" valign="top" style="border: 1px solid rgb(0, 0, 0) padding: 5px "pspan style="font-size:16px font-family:宋体"398/span/p/td/trtrtd width="114" valign="top" style="border: 1px solid rgb(0, 0, 0) padding: 5px "pstrongspan style="font-size:16px font-family:宋体"2/span/strong/p/tdtd width="114" valign="top" style="border: 1px solid rgb(0, 0, 0) padding: 5px "pspan style="font-size:16px font-family:宋体"硅基铌酸锂薄膜电感耦合等离子刻蚀机/span/p/tdtd width="114" valign="top" style="border: 1px solid rgb(0, 0, 0) padding: 5px "pspan style="font-size:16px font-family:宋体"1/span/p/tdtd width="114" valign="top" style="border: 1px solid rgb(0, 0, 0) padding: 5px "pspan style="font-size:16px font-family:宋体"是/span/p/tdtd width="114" valign="top" style="border: 1px solid rgb(0, 0, 0) padding: 5px "pspan style="font-size:16px font-family:宋体"505/span/p/td/tr/tbody/tablep style="text-indent:32px"strongspan style="font-size:16px font-family: 宋体"各设备工艺技术规格详情：/span/strong/pp style="text-align:center"strongspan style="font-size:16px font-family:宋体"厚氮化硅感应耦合等离子体化学气相沉积台/span/strong/pp style="line-height:150%"span style="font-size: 16px line-height:150% font-family:宋体"(1)/spanspan style="font-size:16px line-height:150% font-family:宋体"氧化硅薄膜沉积/span/ptable border="0" cellspacing="0" cellpadding="0"tbodytr style=" height:26px" class="firstRow"td width="301" valign="top" style="border: 1px solid rgb(0, 0, 0) padding: 5px " height="26"p style="text-indent:16px line-height:150%"span style="font-size:16px line-height:150% font-family:宋体"*3.15.1.1/spanspan style="font-size:16px line-height:150% font-family:宋体"折射率（span1550nm/span下测量）/span/p/tdtd width="179" valign="top" style="border: 1px solid rgb(0, 0, 0) padding: 5px " height="26"p style="text-indent:16px line-height:150%"span style="font-size:16px line-height:150% font-family:宋体"1.44-1.52/spanspan style="font-size:16px line-height:150% font-family:宋体"可调/span/p/td/trtr style=" height:26px"td width="301" valign="top" style="border: 1px solid rgb(0, 0, 0) padding: 5px " height="26"p style="text-indent:16px line-height:150%"span style="font-size:16px line-height:150% font-family:宋体"#3.15.1.2/spanspan style="font-size:16px line-height:150% font-family:宋体"折射率均匀性/span/p/tdtd width="179" valign="top" style="border: 1px solid rgb(0, 0, 0) padding: 5px " height="26"p style="text-indent:16px line-height:150%"span style="font-size:16px line-height:150% font-family:宋体" +/-0.01/span/p/td/trtr style=" height:26px"td width="301" valign="top" style="border: 1px solid rgb(0, 0, 0) padding: 5px " height="26"p style="text-indent:16px line-height:150%"span style="font-size:16px line-height:150% font-family:宋体"#3.15.1.3/spanspan style="font-size:16px line-height:150% font-family:宋体"折射率重复性/span/p/tdtd width="179" valign="top" style="border: 1px solid rgb(0, 0, 0) padding: 5px " height="26"p style="text-indent:16px line-height:150%"span style="font-size:16px line-height:150% font-family:宋体" +/-0.01/span/p/td/trtr style=" height:26px"td width="301" valign="top" style="border: 1px solid rgb(0, 0, 0) padding: 5px " height="26"p style="text-indent:16px line-height:150%"span style="font-size:16px line-height:150% font-family:宋体"*3.15.1.4/spanspan style="font-size:16px line-height:150% font-family:宋体"厚度/span/p/tdtd width="179" valign="top" style="border: 1px solid rgb(0, 0, 0) padding: 5px " height="26"p style="text-indent:16px line-height:150%"span style="font-size:16px line-height:150% font-family:宋体"＞span20/spanμspanm/span/span/p/td/trtr style=" height:26px"td width="301" valign="top" style="border: 1px solid rgb(0, 0, 0) padding: 5px " height="26"p style="text-indent:16px line-height:150%"span style="font-size:16px line-height:150% font-family:宋体"3.15.1.5/spanspan style="font-size:16px line-height:150% font-family:宋体"样品尺寸/span/p/tdtd width="179" valign="top" style="border: 1px solid rgb(0, 0, 0) padding: 5px " height="26"p style="text-indent:16px line-height:150%"span style="font-size:16px line-height:150% font-family:宋体"3/spanspan style="font-size:16px line-height:150% font-family:宋体"英寸/span/p/td/trtr style=" height:26px"td width="301" valign="top" style="border: 1px solid rgb(0, 0, 0) padding: 5px " height="26"p style="text-indent:16px line-height:150%"span style="font-size:16px line-height:150% font-family:宋体"3.15.1.6/spanspan style="font-size:16px line-height:150% font-family:宋体"沉积速度/span/p/tdtd width="179" valign="top" style="border: 1px solid rgb(0, 0, 0) padding: 5px " height="26"p style="text-indent:16px line-height:150%"span style="font-size:16px line-height:150% font-family:宋体" 1500A/min/span/p/td/trtr style=" height:26px"td width="301" valign="top" style="border: 1px solid rgb(0, 0, 0) padding: 5px " height="26"p style="text-indent:16px line-height:150%"span style="font-size:16px line-height:150% font-family:宋体"#3.15.1.7/spanspan style="font-size:16px line-height:150% font-family:宋体"片内厚度均匀性/span/p/tdtd width="179" valign="top" style="border: 1px solid rgb(0, 0, 0) padding: 5px " height="26"p style="text-indent:16px line-height:150%"span style="font-size:16px line-height:150% font-family:宋体" +/-3%/span/p/td/trtr style=" height:26px"td width="301" valign="top" style="border: 1px solid rgb(0, 0, 0) padding: 5px " height="26"p style="text-indent:16px line-height:150%"span style="font-size:16px line-height:150% font-family:宋体"3.15.1.7/spanspan style="font-size:16px line-height:150% font-family:宋体"片与片厚度均匀性/span/p/tdtd width="179" valign="top" style="border: 1px solid rgb(0, 0, 0) padding: 5px " height="26"p style="text-indent:16px line-height:150%"span style="font-size:16px line-height:150% font-family:宋体" +/-5%/span/p/td/trtr style=" height:26px"td width="301" valign="top" style="border: 1px solid rgb(0, 0, 0) padding: 5px " height="26"p style="text-indent:16px line-height:150%"span style="font-size:16px line-height:150% font-family:宋体"3.15.1.9/spanspan style="font-size:16px line-height:150% font-family:宋体"硅的应力span (/span以span1/span微米薄膜厚度测试span)/span/span/p/tdtd width="179" valign="top" style="border: 1px solid rgb(0, 0, 0) padding: 5px " height="26"p style="text-indent:16px line-height:150%"span style="font-size:16px line-height:150% font-family:宋体" -300MPa /spanspan style="font-size:16px line-height:150% font-family:宋体"压应力/span/p/td/tr/tbody/tablep style="line-height:150%"span style="font-size: 16px line-height:150% font-family:宋体"(2)/spanspan style="font-size:16px line-height:150% font-family:宋体"氮化硅薄膜沉积/span/ptable border="0" cellspacing="0" cellpadding="0"tbodytr style=" height:26px" class="firstRow"td width="301" valign="top" style="border: 1px solid rgb(0, 0, 0) padding: 5px " height="26"p style="text-indent:16px line-height:150%"span style="font-size:16px line-height:150% font-family:宋体"#3.15.2.1/spanspan style="font-size:16px line-height:150% font-family:宋体"折射率（span1550nm/span下测量）/span/p/tdtd width="179" valign="top" style="border: 1px solid rgb(0, 0, 0) padding: 5px " height="26"p style="text-indent:16px line-height:150%"span style="font-size:16px line-height:150% font-family:宋体"1.8-2.2/spanspan style="font-size:16px line-height:150% font-family:宋体"可调/span/p/td/trtr style=" height:26px"td width="301" valign="top" style="border: 1px solid rgb(0, 0, 0) padding: 5px " height="26"p style="text-indent:16px line-height:150%"span style="font-size:16px line-height:150% font-family:宋体"#3.15.2.2/spanspan style="font-size:16px line-height:150% font-family:宋体"折射率均匀性/span/p/tdtd width="179" valign="top" style="border: 1px solid rgb(0, 0, 0) padding: 5px " height="26"p style="text-indent:16px line-height:150%"span style="font-size:16px line-height:150% font-family:宋体" +/-0.01/span/p/td/trtr style=" height:26px"td width="301" valign="top" style="border: 1px solid rgb(0, 0, 0) padding: 5px " height="26"p style="text-indent:16px line-height:150%"span style="font-size:16px line-height:150% font-family:宋体"3.15.2.3/spanspan style="font-size:16px line-height:150% font-family:宋体"折射率重复性/span/p/tdtd width="179" valign="top" style="border: 1px solid rgb(0, 0, 0) padding: 5px " height="26"p style="text-indent:16px line-height:150%"span style="font-size:16px line-height:150% font-family:宋体" +/-0.01/span/p/td/trtr style=" height:26px"td width="301" valign="top" style="border: 1px solid rgb(0, 0, 0) padding: 5px " height="26"p style="text-indent:16px line-height:150%"span style="font-size:16px line-height:150% font-family:宋体"3.15.2.4/spanspan style="font-size:16px line-height:150% font-family:宋体"沉积速度/span/p/tdtd width="179" valign="top" style="border: 1px solid rgb(0, 0, 0) padding: 5px " height="26"p style="text-indent:16px line-height:150%"span style="font-size:16px line-height:150% font-family:宋体" 200A/min/span/p/td/trtr style=" height:26px"td width="301" valign="top" style="border: 1px solid rgb(0, 0, 0) padding: 5px " height="26"p style="text-indent:16px line-height:150%"span style="font-size:16px line-height:150% font-family:宋体"3.15.2.5/spanspan style="font-size:16px line-height:150% font-family:宋体"样品尺寸/span/p/tdtd width="179" valign="top" style="border: 1px solid rgb(0, 0, 0) padding: 5px " height="26"p style="text-indent:16px line-height:150%"span style="font-size:16px line-height:150% font-family:宋体"3/spanspan style="font-size:16px line-height:150% font-family:宋体"英寸/span/p/td/trtr style=" height:26px"td width="301" valign="top" style="border: 1px solid rgb(0, 0, 0) padding: 5px " height="26"p style="text-indent:16px line-height:150%"span style="font-size:16px line-height:150% font-family:宋体"#3.15.2.6/spanspan style="font-size:16px line-height:150% font-family:宋体"片内厚度均匀性/span/p/tdtd width="179" valign="top" style="border: 1px solid rgb(0, 0, 0) padding: 5px " height="26"p style="text-indent:16px line-height:150%"span style="font-size:16px line-height:150% font-family:宋体" +/-3%/span/p/td/trtr style=" height:26px"td width="301" valign="top" style="border: 1px solid rgb(0, 0, 0) padding: 5px " height="26"p style="text-indent:16px line-height:150%"span style="font-size:16px line-height:150% font-family:宋体"3.15.2.7/spanspan style="font-size:16px line-height:150% font-family:宋体"片与片厚度均匀性/span/p/tdtd width="179" valign="top" style="border: 1px solid rgb(0, 0, 0) padding: 5px " height="26"p style="text-indent:16px line-height:150%"span style="font-size:16px line-height:150% font-family:宋体" +/-5%/span/p/td/trtr style=" height:26px"td width="301" valign="top" style="border: 1px solid rgb(0, 0, 0) padding: 5px " height="26"p style="text-indent:16px line-height:150%"span style="font-size:16px line-height:150% font-family:宋体"3.15.2.8/spanspan style="font-size:16px line-height:150% font-family:宋体"硅的应力span (/span以span1/span微米薄膜厚度测试span)/span/span/p/tdtd width="179" valign="top" style="border: 1px solid rgb(0, 0, 0) padding: 5px " height="26"p style="text-indent:16px line-height:150%"span style="font-size:16px line-height:150% font-family:宋体" 100MPa /spanspan style="font-size:16px line-height:150% font-family:宋体"伸应力/span/p/td/tr/tbody/tablep style="text-align:center"strongspan style="font-size:16px font-family:宋体" /span/strong/pp style="text-align:center"strongspan style="font-size:16px font-family:宋体"硅基铌酸锂薄膜电感耦合等离子刻蚀机/span/strong/pp style="text-indent:16px line-height:150%"span style="font-size:16px line-height:150% font-family: 宋体"（span1/span） 铌酸锂刻蚀工艺/span/ptable border="0" cellspacing="0" cellpadding="0"tbodytr style=" height:26px" class="firstRow"td width="301" style="border: 1px solid rgb(0, 0, 0) padding: 5px " height="26"pspan style="font-size: 16px font-family: 宋体"3.15.1.1/spanspan style="font-size: 16px font-family: 宋体"刻蚀/spanspan style="font-size:16px font-family:宋体"材料/span/p/tdtd width="173" style="border: 1px solid rgb(0, 0, 0) padding: 5px " height="26"pspan style="font-size:16px font-family:宋体"铌酸锂/span/p/td/trtr style=" height:26px"td width="301" style="border: 1px solid rgb(0, 0, 0) padding: 5px " height="26"pspan style="font-size:16px font-family:宋体"3.1/spanspan style="font-size:16px font-family:宋体"5/spanspan style="font-size:16px font-family:宋体".1/spanspan style="font-size:16px font-family:宋体".2/spanspan style="font-size:16px font-family:宋体"刻蚀结构/span/p/tdtd width="173" style="border: 1px solid rgb(0, 0, 0) padding: 5px " height="26"pspan style="font-size:16px font-family:宋体"线宽span100nm-1/spanμspanm/span/spanspan style="font-size:16px font-family:宋体"波导/span/p/td/trtr style=" height:26px"td width="301" valign="top" style="border: 1px solid rgb(0, 0, 0) padding: 5px " height="26"pspan style="font-size: 16px font-family: 宋体"3.15.1.3/spanspan style="font-size: 16px font-family: 宋体"掩膜/span/p/tdtd width="173" valign="top" style="border: 1px solid rgb(0, 0, 0) padding: 5px " height="26"pspan style="font-size:16px font-family:宋体" 200nm/spanspan style="font-size: 16px font-family: 宋体"厚/spanspan style="font-size:16px font-family:宋体"Cr/spanspan style="font-size: 16px font-family: 宋体"硬掩模。/span/ppspan style="font-size: 16px font-family: 宋体"所有刻蚀掩膜必须为挺直，侧壁角度/spanspan style="font-size:16px font-family:宋体" 80/spanspan style="font-size:16px font-family:宋体"° /span/p/td/trtr style=" height:26px"td width="301" valign="top" style="border: 1px solid rgb(0, 0, 0) padding: 5px " height="26"pspan style="font-size: 16px font-family: 宋体"3.15.1.4/spanspan style="font-size: 16px font-family: 宋体"曝露面积/span/p/tdtd width="173" valign="top" style="border: 1px solid rgb(0, 0, 0) padding: 5px " height="26"pspan style="font-size:16px font-family:宋体"＞/spanspan style="font-size:16px font-family:宋体"80%/span/p/td/trtr style=" height:26px"td width="301" style="border: 1px solid rgb(0, 0, 0) padding: 5px " height="26"pspan style="font-size:16px font-family:宋体"3.1/spanspan style="font-size:16px font-family:宋体"5/spanspan style="font-size:16px font-family:宋体".1/spanspan style="font-size:16px font-family:宋体".5/spanspan style="font-size:16px font-family:宋体"刻蚀深度/span/p/tdtd width="173" style="border: 1px solid rgb(0, 0, 0) padding: 5px " height="26"pspan style="font-size:16px font-family:宋体"300-700/spanspan style="font-size:16px font-family:宋体"nm/span/p/td/trtr style=" height:26px"td width="301" style="border: 1px solid rgb(0, 0, 0) padding: 5px " height="26"pspan style="font-size:16px font-family:宋体"3.1/spanspan style="font-size:16px font-family:宋体"5/spanspan style="font-size:16px font-family:宋体".1/spanspan style="font-size:16px font-family:宋体".6/spanspan style="font-size:16px font-family:宋体"刻蚀速度/span/p/tdtd width="173" style="border: 1px solid rgb(0, 0, 0) padding: 5px " height="26"pspan style="font-size:16px font-family:宋体" 30nm/min/span/p/td/trtr style=" height:26px"td width="301" style="border: 1px solid rgb(0, 0, 0) padding: 5px " height="26"pspan style="font-size:16px font-family:宋体"*/spanspan style="font-size:16px font-family:宋体"3.1/spanspan style="font-size:16px font-family:宋体"5/spanspan style="font-size:16px font-family:宋体".1/spanspan style="font-size:16px font-family:宋体".7/spanspan style="font-size:16px font-family:宋体"片内刻蚀深度均匀性/span/p/tdtd width="173" style="border: 1px solid rgb(0, 0, 0) padding: 5px " height="26"pspan style="font-size:16px font-family:宋体" /spanspan style="font-size:16px font-family:宋体"± /spanspan style="font-size:16px font-family:宋体"3%/span/p/td/trtr style=" height:26px"td width="301" style="border: 1px solid rgb(0, 0, 0) padding: 5px " height="26"pspan style="font-size:16px font-family:宋体"#/spanspan style="font-size:16px font-family:宋体"3.1/spanspan style="font-size:16px font-family:宋体"5/spanspan style="font-size:16px font-family:宋体".1/spanspan style="font-size:16px font-family:宋体".8/spanspan style="font-size:16px font-family:宋体"片与片刻蚀深度均匀性/span/p/tdtd width="173" style="border: 1px solid rgb(0, 0, 0) padding: 5px " height="26"pspan style="font-size:16px font-family:宋体" /spanspan style="font-size:16px font-family:宋体"± /spanspan style="font-size:16px font-family:宋体"5%/span/p/td/trtr style=" height:26px"td width="301" style="border: 1px solid rgb(0, 0, 0) padding: 5px " height="26"pspan style="font-size:16px font-family:宋体"*/spanspan style="font-size:16px font-family:宋体"3.1/spanspan style="font-size:16px font-family:宋体"5/spanspan style="font-size:16px font-family:宋体".1/spanspan style="font-size:16px font-family:宋体".9/spanspan style="font-size:16px font-family:宋体"对应/spanspan style="font-size:16px font-family:宋体"硬掩模/spanspan style="font-size:16px font-family:宋体"选择比/span/p/tdtd width="173" style="border: 1px solid rgb(0, 0, 0) padding: 5px " height="26"pspan style="font-size:16px font-family:宋体" 5:1/span/p/td/trtr style=" height:26px"td width="301" style="border: 1px solid rgb(0, 0, 0) padding: 5px " height="26"pspan style="font-size:16px font-family:宋体"*3.15.1.10/spanspan style="font-size:16px font-family:宋体"侧壁倾角/span/p/tdtd width="173" style="border: 1px solid rgb(0, 0, 0) padding: 5px " height="26"pspan style="font-size:16px font-family:宋体" 75/spanspan style="font-size:16px font-family:宋体"° /span/p/td/trtr style=" height:26px"td width="301" style="border: 1px solid rgb(0, 0, 0) padding: 5px " height="26"pspan style="font-size:16px font-family:宋体"*3.15.1.11/spanspan style="font-size:16px font-family:宋体"侧壁粗糙度/span/p/tdtd width="173" style="border: 1px solid rgb(0, 0, 0) padding: 5px word-break: break-all " height="26"pspan style="font-size:16px font-family:宋体"＜/spanspan style="font-size:16px font-family:宋体"10nm/spanstrongspan style="font-family: 宋体 " /span/strong/p/td/tr/tbody/tablep style="text-indent:16px line-height:150%"span style="font-size:16px line-height:150% font-family: 宋体"br/（span2/span） 氧化硅刻蚀工艺/span/ptable border="0" cellspacing="0" cellpadding="0"tbodytr style=" height:26px" class="firstRow"td width="301" style="border: 1px solid rgb(0, 0, 0) padding: 5px " height="26"pspan style="font-size: 16px font-family: 宋体"3.15.2.1/spanspan style="font-size: 16px font-family: 宋体"刻蚀/spanspan style="font-size:16px font-family:宋体"材料/span/p/tdtd width="173" style="border: 1px solid rgb(0, 0, 0) padding: 5px " height="26"pspan style="font-size:16px font-family:宋体"氧化硅/span/p/td/trtr style=" height:26px"td width="301" style="border: 1px solid rgb(0, 0, 0) padding: 5px " height="26"pspan style="font-size:16px font-family:宋体"3.1/spanspan style="font-size:16px font-family:宋体"5/spanspan style="font-size:16px font-family:宋体".2/spanspan style="font-size:16px font-family:宋体".2/spanspan style="font-size:16px font-family:宋体"刻蚀结构/span/p/tdtd width="173" style="border: 1px solid rgb(0, 0, 0) padding: 5px " height="26"pspan style="font-size:16px font-family:宋体"线宽span5-/span/spanspan style="font-size:16px font-family:宋体"10/spanspan style="font-size:16px font-family:宋体"μ/spanspan style="font-size:16px font-family:宋体"m/spanspan style="font-size:16px font-family:宋体"波导/span/p/td/trtr style=" height:26px"td width="301" valign="top" style="border: 1px solid rgb(0, 0, 0) padding: 5px " height="26"pspan style="font-size: 16px font-family: 宋体"3.15.2.3/spanspan style="font-size: 16px font-family: 宋体"掩膜/span/p/tdtd width="173" valign="top" style="border: 1px solid rgb(0, 0, 0) padding: 5px " height="26"pspan style="font-size:16px font-family:宋体" 3um/spanspan style="font-size: 16px font-family: 宋体"厚/spanspan style="font-size:16px font-family:宋体"PR/spanspan style="font-size: 16px font-family: 宋体"。/span/ppspan style="font-size: 16px font-family: 宋体"所有刻蚀掩膜必须为挺直，侧壁角度/spanspan style="font-size:16px font-family:宋体" 80/spanspan style="font-size:16px font-family:宋体"° /span/p/td/trtr style=" height:26px"td width="301" valign="top" style="border: 1px solid rgb(0, 0, 0) padding: 5px " height="26"pspan style="font-size: 16px font-family: 宋体"3.15.2.4/spanspan style="font-size: 16px font-family: 宋体"曝露面积/span/p/tdtd width="173" valign="top" style="border: 1px solid rgb(0, 0, 0) padding: 5px " height="26"pspan style="font-size:16px font-family:宋体" 15%/span/p/td/trtr style=" height:26px"td width="301" style="border: 1px solid rgb(0, 0, 0) padding: 5px " height="26"pspan style="font-size:16px font-family:宋体"3.1/spanspan style="font-size:16px font-family:宋体"5/spanspan style="font-size:16px font-family:宋体".2/spanspan style="font-size:16px font-family:宋体".5/spanspan style="font-size:16px font-family:宋体"刻蚀深度/span/p/tdtd width="173" style="border: 1px solid rgb(0, 0, 0) padding: 5px " height="26"pspan style="font-size:16px font-family:宋体"6-15/spanspan style="font-size:16px font-family:宋体"um/span/p/td/trtr style=" height:26px"td width="301" style="border: 1px solid rgb(0, 0, 0) padding: 5px " height="26"pspan style="font-size:16px font-family:宋体"3.1/spanspan style="font-size:16px font-family:宋体"5/spanspan style="font-size:16px font-family:宋体".2/spanspan style="font-size:16px font-family:宋体".6/spanspan style="font-size:16px font-family:宋体"刻蚀速度/span/p/tdtd width="173" style="border: 1px solid rgb(0, 0, 0) padding: 5px " height="26"pspan style="font-size:16px font-family:宋体" 3000A/min/span/p/td/trtr style=" height:26px"td width="301" style="border: 1px solid rgb(0, 0, 0) padding: 5px " height="26"pspan style="font-size:16px font-family:宋体"#/spanspan style="font-size:16px font-family:宋体"3.1/spanspan style="font-size:16px font-family:宋体"5/spanspan style="font-size:16px font-family:宋体".2/spanspan style="font-size:16px font-family:宋体".7/spanspan style="font-size:16px font-family:宋体"片内刻蚀深度均匀性/span/p/tdtd width="173" style="border: 1px solid rgb(0, 0, 0) padding: 5px " height="26"pspan style="font-size:16px font-family:宋体" /spanspan style="font-size:16px font-family:宋体"± /spanspan style="font-size:16px font-family:宋体"3%/span/p/td/trtr style=" height:26px"td width="301" style="border: 1px solid rgb(0, 0, 0) padding: 5px " height="26"pspan style="font-size:16px font-family:宋体"#/spanspan style="font-size:16px font-family:宋体"3.1/spanspan style="font-size:16px font-family:宋体"5/spanspan style="font-size:16px font-family:宋体".2/spanspan style="font-size:16px font-family:宋体".8/spanspan style="font-size:16px font-family:宋体"片与片刻蚀深度均匀性/span/p/tdtd width="173" style="border: 1px solid rgb(0, 0, 0) padding: 5px " height="26"pspan style="font-size:16px font-family:宋体" /spanspan style="font-size:16px font-family:宋体"± /spanspan style="font-size:16px font-family:宋体"5%/span/p/td/trtr style=" height:26px"td width="301" style="border: 1px solid rgb(0, 0, 0) padding: 5px " height="26"pspan style="font-size:16px font-family:宋体"3.1/spanspan style="font-size:16px font-family:宋体"5/spanspan style="font-size:16px font-family:宋体".2./spanspan style="font-size:16px font-family:宋体"9/spanspan style="font-size:16px font-family:宋体"对应光刻胶选择比/span/p/tdtd width="173" style="border: 1px solid rgb(0, 0, 0) padding: 5px " height="26"pspan style="font-size:16px font-family:宋体" 3:1/span/p/td/trtr style=" height:26px"td width="301" style="border: 1px solid rgb(0, 0, 0) padding: 5px " height="26"pspan style="font-size:16px font-family:宋体"3.1/spanspan style="font-size:16px font-family:宋体"5/spanspan style="font-size:16px font-family:宋体".2./spanspan style="font-size:16px font-family:宋体"10/spanspan style="font-size:16px font-family:宋体"角度/span/p/tdtd width="173" style="border: 1px solid rgb(0, 0, 0) padding: 5px word-break: break-all " height="26"pspan style="font-size:16px font-family:宋体" 85/spanspan style="font-size:16px font-family:宋体"° /span/p/td/tr/tbody/table

2010年两岸三地高分子液晶态与超分子有序结构学术讨论会于2010年8月23日至26日在中国郑州隆重举行。这是国内液晶及超分子学术界最高规模的学术会议，吸引了大量专家学者，就该领域的热点问题和研究成果进行了交流。 中国在液晶和超分子研究领域目前处在国际领先地位，无论SCI论文数量还是质量方面基本只排在美国之后，在近些年取得了很多成果。在该研究领域，红外、紫外、液相、气相、热分析等仪器对研究起到了重要的支撑作用，应用广泛，而岛津产品线完全覆盖这些仪器，为该领域的发展起到了巨大的作用。作为有着135年悠久历史的分析仪器界最大供应商之一，岛津公司一直秉持着&ldquo 为人类做贡献&rdquo 的宗旨，一如既往地为各行各业的用户提供着高质量的仪器和服务。 在这次学术盛会中，岛津公司积极参与，为大会提供了赞助，并邀请北京科技大学何万里老师向各位专家学者介绍了岛津仪器在液晶研究中的应用。在北京科技大学材料科学与工程学院功能高分子材料研究组，科学家们使用岛津公司系列科学分析仪器，在新一代蓝相液晶材料的制备和表征中，取得了一系列的研究成果。

仪器信息网讯4月18日，安益谱“质”造新未来，“谱”写新征程——高分辨傅里叶静电阱质谱新品发布会在苏州狮山国际会议中心举行。会上重磅发布国内首台套自主研发的高分辨傅里叶静电阱质谱Cassitrap120K，并就产品创新优势、技术突破和应用领域等进行了深度解读。发布会现场活动现场嘉宾云集，中国工程院院士林君、中国计量科学研究院院长方向、宁波大学材料科学与化学工程学院院长丁传凡、安益谱董事长兼总经理张小华出席现场并致辞。超过百名业界专家、新闻媒体等嘉宾齐聚一堂，共同见证安益谱创新成果的发布。安益谱（苏州）医疗科技有限公司董事长兼总经理 张小华致辞中国工程院林君院士致辞中国计量科学研究院方向院长致辞宁波大学材料科学与化学工程学院丁传凡院长致辞安益谱在其总经理张小华博士的带领下，从2004年起开始气相色谱质谱技术的自主研发，经过十多年的技术积累与沉淀，在2018年成功推出了7700高性能双腔单四极杆气质联用仪，赢得了第三方检测行业等众多用户的广泛认可。2021年，安益谱再接再厉，推出了首款气相色谱串联三重四极杆质谱仪，并在2022年完成了国产液质三重四极杆产品Anyeep TQ9100的开发工作。今天，在这个意义非凡的日子里，安益谱隆重推出国内首套高分辨傅里叶静电阱质谱Cassitrap120K。新品揭幕随后，安益谱董事长兼总经理张小华对此次发布的新款质谱仪进行了全面介绍。安益谱（苏州）医疗科技有限公司董事长兼总经理 张小华高分辨傅里叶静电阱质谱Cassitrap120K融合了四极杆和傅里叶静电阱的优势。既包含了安益谱单四极杆质谱的全部功能，又充分结合了傅里叶静电阱的超高分辨率、高质量精度和全谱优势。Cassitrap120K配备了用户友好的操作界面和强大的数据处理软件，提供更便捷、高效的分析体验，能够胜任各种复杂分析任务，轻松获得信息丰富的数据和结果。无论是在科学研究、环境监测、食品安全，还是在石油化工等工业生产领域，都可以确保在化合物鉴别、定量和非靶向分析中获得极高的可靠性。随后，发布会邀请到了中国计量科学研究院化学计量与分析科学研究所陈大舟研究员，并带来了Anyeep Cassitrap 120K GC-MS 新型应用报告分享。中国计量科学研究院化学计量与分析科学研究所 陈大舟研究员“质”造新未来，“谱”写新征程， 多年来，安益谱始终专注于质谱产品的研发与生产，致力于为用户提供多样化的应用质谱仪、实验室质谱仪和便携式质谱仪。公司秉持着“精耕细作，做中国好质谱”的立业理念，坚持自主创新，不断在国产质谱领域取得国际水准的先进技术和多项核心专利。未来，安益谱还将继续推动国内高端分析仪器行业的高质量发展，推动人类科学发展，为捍卫人类健康提供有力的技术支撑。

4月18日，“质”造新未来，“谱”写新征程——安益谱高端质谱新品发布会在苏州举行。我国首台/套自主研发的高分辨傅里叶静电阱气质联用仪Anyeep Cassitrap 120K正式发布。　　安益谱从2004年起开始气相色谱质谱技术的自主研发，经过十多年的技术积累与沉淀，在2018年成功推出了7700高性能双腔单四极杆气质联用仪，2021年，推出了首款气相色谱串联三重四极杆质谱仪，并在2022年完成了国产液质三重四极杆产品Anyeep TQ9100的开发工作。　　此次安益谱推出的高分辨傅里叶静电阱质谱Cassitrap 120K融合了四极杆和傅里叶静电阱的优势。具有越小质量越高分辨、单谱较高动态范围、高质量精度、更高效的全谱等特点，其精确定性定量模式可以实现更高的分辨率、更准确的定量和更快的速度，并且在二硫化碳同位素结构的研究以及对18种多氯联苯的测定等应用上表现优秀。　　安益谱总经理张小华介绍，“Cassitrap120K配备了用户友好的操作界面和强大的数据处理软件，提供更便捷、高效的分析体验，能够胜任各种复杂分析任务，轻松获得信息丰富的数据和结果。无论是在科学研究、环境监测、食品安全，还是在石油化工等工业生产领域，都可以确保在化合物鉴别、定量和非靶向分析中获得极高的可靠性。”　　中国仪器仪表学会分析仪器分会理事长、中国计量科学研究院院长方向表示，致力于高端质谱的研发，一直是全体质谱人共同的梦想。Cassitrap 120K傅里叶变换静电阱高分辨气质联用仪的发布，不仅标志着我们在超高分辨率质谱领域取得了重大突破，更是中国高质量质谱技术迅猛发展的起点。期待这台仪器成为中国人的好质谱，成为人人能用得起的好质谱，期待中国质谱技术能够迅速占领市场，引领行业潮流。

RAININ(瑞宁)&trade 多道移液器深受广大用户的喜爱，不仅能提高您的工作效能，人体工程学设计更能远离手部疲劳。 专利设计为您带来： -- 降低人工活塞推进力和退吸头力 -- 确保各通道吸液和排液的高度一致性 -- 套柄无O形环，退吸头更为省力 -- 有舒适指钩设计，人性化的左/右手操作设计 -- 大大降低手部重复性劳损 活动内容: 凡购买以下指定型号多道移液器一支即送指定型号液晶显示手动移液器一支（市场价3980元） 点击此处在线订购活动时间: 2009年10月1日 &mdash 2009年11月30日 详情请致电： 4008-878-788 物料号 参加活动型号 量程 17003631 17003632 17003627 17003628 手动8道移液器L8-10 手动8道移液器L8-20 手动12道移液器L12-10 手动12道移液器L12-20 2-20ul 17006820 17006817 手动8道移液器L8-50 手动12道移液器L12-50 5-50ul 17003633 17003629 17001754 17001748 手动8道移液器L8-200 手动12道移液器L12-200 电动8道移液器E8-200 电动12道移液器E12-200 20-200ul 17003634 17003630 17005841 17005839 手动8道移液器L8-300 手动12道移液器L12-300 电动8道移液器E8-300 电动12道移液器E12-300 20-300ul 此活动最终解释权归梅特勒托利多公司所有

2018年度“亚洲磁学联盟奖”（aums award）于6月4日在韩国揭晓，物理所韩秀峰研究员凭借“基于磁性缘体的磁子阀效应”项目荣获此奖。韩秀峰研究员团队创新性地采用yig磁性缘体作为磁性电、au作为中间层研制出了高质量、新型磁性缘体/金属/磁性缘体(mi/nm/mi)磁子阀结构，并且在该结构中次观测和发现了磁子阀效应(magnon valve effect)，揭示了磁子阀比值主要取决于磁性缘体/金属界面磁子-电子自旋转换效率的原理。[1] 图1：(a) 磁子阀结构、原理和测量示意图(b)-(c) ggg/yig和yig/au/yig区域的透射电镜图该项工作的相关研究进展发表在 phys. rev. lett.[2]，并且作为亮点文章在prl网站页重点推荐。在此我们祝贺quantum design的ppms和microsense vsm用户韩秀峰研究员团队，也祝愿他们今后能够再创辉煌！在上述的研究中，yig作为磁性缘体材料，有着其特的物理性能，其拥有低的gilbert阻尼因子。sun[3]等利用铁磁共振系统对yig薄膜进行了阻尼的测试研究，测出yig的阻尼因子大小约10-4。在对磁性材料的研究中，阻尼因子α是一个比较重要的参数，可以帮助我们提升电路及电子器件的传输效率和传输速度。图2：铁磁共振测试系统主机：phasefmr(常温)；cryofmr(低温)quantum design携手nanosc提供的高精度铁磁共振测试系统，可以快速有效地获取阻尼系数α，以及有效磁矩 meff、旋磁比γ、非均匀展宽δho等动态磁学参数，也可以表征静态磁学性能，如饱和磁化强度ms、各向异性、交换偏置等。该系统基于共面波导技术，无需矢量网络分析仪，可以提供宽频2~40ghz测试，并应用锁相测试技术，大大提高了信噪比，可以测试到1.4nm厚的薄膜。 图3 ：室温测试用共面波导 图4：用于ppms(versalab)铁磁共振样品杆图5：montana低温恒温器升cryofmr铁磁共振测试系统目前该系统可以应用于室温（基于电磁铁平台）、低温（配合ppms、versalab、montana恒温器），在上有包括中国科学院物理研究所、南京理工大学、三峡大学等用户在内的多套设备在运行，并使用该系统在prb等期刊上发表多篇文章。如franco[4]等用铁磁共振测试系统phasefmr对垂直磁化各向异性[cofeb/pd]n多层膜进行了研究，发现有效垂直各向异性随多层重复次数的增加而增大，部分测试数据见图6。 图6：phasefmr用户文章数据铁磁共振测试系统参数如下： 配置 带宽 温度范围 磁场大小phasefmr 2-18ghz 室温 根据电磁铁大小而定phasefmr-40 2-40ghzcryofmr 2-18ghz4-400k:ppms/dynacool™ 55-400k: versalab™ 10-350k: mi cryostation±9, 14, 16 t:ppms/dynacool™ ±3 t: versalab™ ±0.7 t: mi cryostationcryofmr-40 2-40ghz 如果您拥有电磁铁平台，快来升铁磁共振测试系统吧！如果您拥有ppms或者versalab，快来升铁磁共振测试系统吧!如果您拥有montana标准型低温恒温器，快来升铁磁共振测试系统吧！如果您也想在squid上进行铁磁共振测试，目前quantum design的工程师正在努力研发中，相信不久后，我们将会为您带来在squid上成功应用fmr的好消息！ 参考文献：[1]中国科学院物理研究所官网http://www.iop.cas.cn/xwzx/snxw/201806/t20180605_5021775.html[2] h. wu, l. huang, c. fang, b. s. yang, c. h. wan, g. q. yu, j. f. feng, h. x. wei, and x. f. han, phys. rev. lett. 120, 097205 (2018)[3] y. sun, h. chang, m. kabatek, y. y. song, z. wang, m. jantz, w. schneider, m. wu, e. montoya, b. kardasz, b. heinrich, s. g. e. te velthuis, h. schultheiss, and a. hoffmann, phys. rev. lett. 111, 106601 (2013).[4] a. f. franco, c. gonzalez-fuentes, j. a° kerman, and c. garcia, phys. rev. b 95, 144417 (2017) 相关产品及链接：1、铁磁共振仪（fmr）：http://www.instrument.com.cn/netshow/c221410.htm2、ppms综合物性测量系统：http://www.instrument.com.cn/netshow/c17086.htm3、多功能振动样品磁强计versalab系统：http://www.instrument.com.cn/netshow/c19330.htm4、montana instruments超精细多功能无液氦低温光学恒温器：http://www.instrument.com.cn/netshow/c122418.htm5、超导量子干涉仪器件squid：http://www.instrument.com.cn/netshow/c17093.htm

近期，中国科学院上海光学精密机械研究所薄膜光学实验室赵元安研究员团队与上海理工大学、苏州科技大学合作在液晶光学相控器件激光辐照效应方面取得新进展，研究厘清了液晶可变相位延迟器(LCVR)在连续激光加载下相位调控性能退化机理，并提出了性能退化补偿的预配置方法，为相关器件设计以及在高功率激光中的实际应用提供了指导方向，相关研究成果发表于Optical Materials 。 　　液晶相控器件可以实现对光束振幅、偏振、波前和指向等参数的调节，在激光点火、激光加工、光电对抗等高功率激光系统中有着广泛应用和研究，激光加载产生的热效应造成器件性能退化及失效的问题一直困扰着其在激光系统中的应用。 　　在该研究中，研究人员集成相位、温升在线测量技术并结合温度场建模分析，证实加电工作状态下LCVR的相位调控能力退化归因于连续激光加载导致的温升不但改变了液晶折射率，还影响了液晶分子在加电状态下的偏转角。上述性能退化可通过事先绘制不同激光功率下的相位响应曲线，通过降低电压进行预配置补偿，从而实现LCVR在更高功率激光辐照下按照预设相位调控参数输出。这些结果阐明了热沉积引起液晶相位器件相位调控能力退化的基本机制以及相应的补偿手段，为液晶相控器件的设计优化和实际应用提供了重要参考。 　　相关研究得到了国家自然科学基金、脉冲功率激光技术国家重点实验室开放基金的支持。图 1 (a)不同激光功率加载下LCVR的温度随时间的变化；(b)不同激光功率加载下LCVR的相位延迟随电压的变化；(c)不同激光功率加载下LCVR的相位延迟随电压的变化(第二次实验)。

液晶电视给我们的生活增添了更多光彩，几乎每家每户都在使用液晶电视获取信息或娱乐消遣。其中增亮膜、反射膜、扩散膜、导光板等是液晶模组的重要组成部分。分光光度计是检查光学组件特性的有利工具，今天我们重点介绍平板液晶电视中反射膜的评估。液晶模组内部结构液晶模组中的反射膜通过将光从导光板反射到正面来提高亮度。因此要求反射膜具有极好的反射特性，从而对光进行有效的利用。反射膜使用日立紫外-可见-近红外分光光度计UH4150搭配5°绝对反射附件、积分球检测器评估液晶显示屏中的反射膜。实验测量了三种反射膜的反射率，结果如图4所示。5°绝对反射附件 三种反射膜的反射光谱各反射膜的光反射率光源：D65视角：2°结果表明，样品C有最高的反射率，可以更好的利用光，增加显示的亮度和效果。日立紫外-可见-近红外分光光度计UH4150具有优异的平行光束特征，确保反射率和透过率的准确测定，大型样品仓和多种多样的附件，满足液晶模组中不同组件的评估。 UH4150公司介绍：日立科学仪器（北京）有限公司是世界500强日立集团旗下日立高新技术有限公司在北京设立的全资子公司。本公司秉承日立集团的使命、价值观和愿景，始终追寻“简化客户的高科技工艺”的企业理念,通过与客户的协同创新，积极为教育、科研、工业等领域的客户需求提供专业和优质的解决方案。 我们的主要产品包括：各类电子显微镜、原子力显微镜等表面科学仪器和前处理设备，以及各类色谱、光谱、电化学等分析仪器。为了更好地服务于中国广大的日立客户，公司目前在北京、上海、广州、西安、成都、武汉、沈阳等十几个主要城市设立有分公司、办事处或联络处等分支机构，直接为客户提供快速便捷的、专业优质的各类相关技术咨询、应用支持和售后技术服务，从而协助我们的客户实现其目标，共创美好未来。

我们来看一下LCD显示屏的内部结构液晶显示屏被广泛用在各种电子设备中，LCD 是液晶显示屏的简称，其结构包括增亮膜、扩散片、导光板、偏光片等。分光光度计是检查光学组件特性的有利工具，今天我们重点介绍LCD中偏光片的评估。LCD中偏光片的作用是产生明亮对比，如上图所示，它位于液晶面板LC的两侧，液晶面板具有各向异性，光通常可以透过，当向LC施加电流时，LC变得各向同性，光线就会被处于交叉状态的偏光片阻止。通过这种对光线的透过和阻挡，调整像素亮度。偏光片评估的实验数据对偏光片的要求是其在交叉状态下应具有较低的透过率，这影响LCD产生暗的能力。在平行状态下具有较高的透过率，这影响LCD产生亮度的能力。本次实验使用日立紫外-可见-近红外分光光度计UH4150搭配偏振样品测量附件、积分球检测器评估液晶显示屏中的偏光片。实验测量了薄膜偏光片的透过率。偏振测量附件偏光片的透过光谱结果表明，在546 nm处，Ys透过率为40.68%，Yp透过率为32.98%，Yc透过率为0.01%。根据公式1计算该薄膜偏光片的偏振度为0.9998，偏振效果好。日立紫外-可见-近红外分光光度计UH4150具有优异的平行光束特征，确保反射率和透过率的准确测定，大型样品仓和多种多样的附件，可以满足LCD中不同组件的评估。UH4150可操作性强，能为您提供高精度的光学系统测定。UH4150公司介绍：日立科学仪器（北京）有限公司是世界500强日立集团旗下日立高新技术有限公司在北京设立的全资子公司。本公司秉承日立集团的使命、价值观和愿景，始终追寻“简化客户的高科技工艺”的企业理念,通过与客户的协同创新，积极为教育、科研、工业等领域的客户需求提供专业和优质的解决方案。 我们的主要产品包括：各类电子显微镜、原子力显微镜等表面科学仪器和前处理设备，以及各类色谱、光谱、电化学等分析仪器。为了更好地服务于中国广大的日立客户，公司目前在北京、上海、广州、西安、成都、武汉、沈阳等十几个主要城市设立有分公司、办事处或联络处等分支机构，直接为客户提供快速便捷的、专业优质的各类相关技术咨询、应用支持和售后技术服务，从而协助我们的客户实现其目标，共创美好未来。

纯相位液晶空间光调制器的液晶响应速度多年以来一直受限于60Hz的数据传输及30-140ms的液晶响应时间限制，无法实现高速的调制，不能满足相控阵扫描，自适应光学等高速调制应用的使用要求。一直以来，纯相位空间光调制器的速度到底可以做到多快？一直备受科研工作者的关注。 美国Meadowlark公司近日推出了高液晶响应速度（2KHz at 532nm）、高光利用效率(98%)、高填充因子（97.2%）、高分辨率（1024x1024）的纯相位液晶空间光调制器。500us(2KHz)高速纯相位液晶空间光调制器（SLM）产品特点：1) 液晶响应速度快：2KHz at 532nmMeadowlark Optics的硅基液晶（LCoS）空间光调制器（SLM）专为纯相位应用而设计，并结合了具有高刷新率的模拟数据寻址。这种组合为用户提供了具有高相位稳定性的最快响应时间（500us fall time）。图1 液晶响应时间 1024 x 1024 SLM非常适合需要高速、高衍射效率、低相位纹波和高功率激光器的应用。客户还可以控制温度设定点，从而在开关速度和相位稳定性之间找到完美的平衡。1024 x 1024 空间光调制器系统包括一个Gen3 x8 PCIe控制器，带有输入和输出触发器以及低延迟图像传输。触发可以在696µs的SLM芯片刷新周期边界上执行，对于需要SLM与外部硬件紧密同步的应用，甚至可以在刷新周期中间执行。该控制器还包括可加载752幅1024x1024(8bit)图片的内部存储器，可以提前加载，然后全速排序，以便在操作期间最大限度地减少PCIe总线上的流量。 2）光利用效率高：Up to 98%Meadowlark公司可提供镀介质镜型号的SLM，填充了像素间的间隙，使液晶空间光调制器的面积填充率达到100%，提高反射率、降低衍射损耗。镀介质镜型的SLM可以在400-1700nm工作波段范围内轻松实现98%(Max)的光利用率，同时降低了激光引起的热效应，提高了SLM的损伤阈值，以满足高功率脉冲激光调制和激光加工等应用需求。图2 镀介电膜的SLM反射率曲线图3 SLM损伤阈值测试 3） 高波前质量(λ/20)许多用于表征和校正像差的算法都基于Zernike多项式。然而，对圆形孔径的依赖不适用于描述正方形或矩形阵列的像差。已经开发了基于SLM的干涉子孔径的替代策略[9]，以确保SLM的有效区域上的像差可以被校正到λ/ 40或更好。图4（a/c）未校准的SLM波前（λ/ 7 RMS）（b/d）校准后的SLM波前（λ/ 20 RMS）上海昊量光电作为Meadowlark Optics公司在中国大陆地区独家代理商，为您提供专业的选型以及技术服务。上海昊量光电设备有限公司可以给客户提供样品试用，以及相关的技术支持。您可以通过我们的官方网站了解更多的液晶空间光调制器产品信息，或直接来电咨询。

摘 要：传统的液晶空间光调制器作为一种高单元密度的新型波前矫正器件， 一直受限于液晶的刷新速度，在许多的应用领域无法满足科研人员的需求。美国Meadowlark Optics公司20多年以来一直致力于研发高响应速度的空间光调制器，近期Meadowlark Optics宣布推出液晶刷新速度（0-2π）高达600Hz@532nm 500Hz@635nm的高速型SLM，其控制器的帧频为833Hz。 引 言：这款高速型液晶空间光调制器的分辨率为512x512,像素25um,开孔率：96%，通光口径：12.8x12.8mm 相信这款空间光调制器的出现，可以为天文自适应，生物显微自适应等对空间光调制器的刷新速度有较高要求的客户带来便利。此款产品由上海昊量光电独家代理。 液晶空间光调制器的工作原理Meadowlark Optics公司使用的液晶材料为超高速液晶，利用液晶的双折射效应及扭曲特性，当光进入双频液晶空间光调制器后，对应的O光和e光的折射率不同导致光束中的o光和e光分离。o光和e光在液晶空间光调制器中的传输速度不同，同时利用液晶的扭曲效应，在SLM两端施加不同的电压时液晶分子会发生不同角度的偏转，因此液晶空间光调制器可以对每一个像素点实现不同的相位调制（如下图所示）。 结论 高速型液晶空间光调制器以其液晶响应速度快，校正单元多（512*512）等特点受到越来越多的科研人员的青睐。目前在天文望远镜观测、大气湍流模拟、自适应光学算法模拟、眼底成像、双光子显微镜、超分辨显微成像等领域发挥着越来越重要的作用。此款产品由上海昊量光电独家代理。 关于我们：上海昊量光电设备有限公司专注于光电领域的技术服务与产品经销，致力于引进国外顶级光电器件制造商的技术与产品，为国内客户提供优质的产品与服务。我们力争在原产厂商与客户之间搭建起沟通的桥梁与合作的平台。

美国Meadowlark公司推出亚毫秒液晶空间光调制器！目前市面上的纯相位液晶空间光调制器的液晶响应速度均处于50Hz以内（0-2π），无法满足高速调制客户的使用要求。 为满足自适应、通信等领域的用户高速调制的需求，美国Meadowlark公司（原BNS）于2016年推出了目前市面上唯一一款兼具有高液晶响应速度（0-2π）（285Hz-667Hz @ 532nm；166Hz-250Hz@1550nm）、高衍射效率(90-95%)、高填充因子（100%）、的纯相位液晶空间光调制器。 美国Meadowlark Optics公司的超高速液晶空间光调制器采用瞬态向列液晶效应技术（Transient Nematic Effects）、相位环绕技术（Phase Wrapping）、局部校准技术（Regional LUTs）,实现了超高速的液晶响应速度。这三项技术均已申请专利。 瞬态向列液晶效应技术超高速液晶空间光调制器与高速型的空间光调制器响应速度对比上海昊量光电设备有限公司可以给客户提供样品试用，以及相关的技术支持。您可以通过我们的官方网站（http://www.auniontech.com/n/news/v_The_Fastest_Liquid_Crystal_Spatial_Light_Modulator.html）了解更多的液晶空间光调制器产品信息，或直接来电咨询021-34241962。

蓝相液晶(BPLCs)以其独特的周期结构、多刺激响应及实时可重构性等特点而具有优异的光学性能，在传感、显示及防伪等方面有着巨大的应用前景。蓝相液晶由于其带隙窄，光学性能优异可用于低阈值激光器。目前蓝相液晶激光器的研究主要聚焦在外界刺激下（如光、电、热、力等）激光波长的可调节性，而对蓝相激光器工作温度的研究尚且不足。由于BPLCs窄的温度窗口，其相应激光器的工作温域大概在3-4℃。聚合物稳定蓝相（PSBP）体系的采用已经极大拓宽了蓝相液晶的温度窗口至500度，但目前所报道的蓝相激光器的最宽工作温域不超过36 ℃。“蓝相液晶温域”与“蓝相激光工作温域”的大差异可能与所用聚合物稳定蓝相体系不合适的聚合程度（通常大部分体系可聚合液晶组分 10 wt%）有关，导致其差的结构稳定性；而对BPLCs带隙与荧光信号之间匹配性的不充分理解也限制了新颖蓝相宽温域激光器的发展。 为解决上述问题，中科院理化所仿生材料与界面科学中心江雷院士、王京霞研究员团队在前期工作中制备得到了具有宽温域（-190℃~360℃）的聚合物稳定蓝相液晶 (Nat. Commun. 2021, 12 (1), 3477.)；通过调节所制备的蓝相液晶带隙中心、染料有序度参数、谐振腔质量以及泵浦光能量，在染料掺杂蓝相液晶(C6-BPLCs)谐振腔中实现了可控的单模、双模、三模及四模面发射激光（Adv. Mater. 2022, 34 (9), 2108330.）；并且利用所制备的蓝相液晶为模板，制备得到了高分辨的多色彩蓝相液晶活图案(Adv. Funct. Mater. 2022, 32 (15), 2110985.)。 近日，该研究团队通过调控所制备聚合物稳定蓝相液晶的可聚合液晶单体含量（30 wt% C6M），形成了稳定的蓝相聚合物支架，将该聚合物稳定蓝相体系掺杂染料（DD-PSBPLCs）后，获得宽工作温域的蓝相液晶激光器（25-230 ℃）。该研究表明，宽的BP激光温域源于所用稳定的聚合支架体系，在整个激光温域范围内提供了稳定的反射信号和荧光信号，且在整个过程中始终保持了反射带隙与荧光信号的匹配性；而体系中的非聚合组分在温度变化过程中产生相变，使得组成的多组分性（25.0-67.5 ℃：蓝相与微量胆甾共存；67.5-72.2 ℃：蓝相体系；72.2-230. 0 ℃：蓝相与微量各向同性共存）又赋予了该蓝相激光器可重构的性能，实现了激光阈值随温度呈现U型变化、可逆的激光波长及在相变点（约70 ℃）明显的激光增强效应。此外，该工作还对比了单畴蓝相与多畴蓝相激光器的工作温域，原位表征了变温过程中反射信号、荧光信号、量子效率、荧光寿命、POM及Kossel结构的变化，对其宽温域激光发射做出了合理的解释。这项工作不仅为宽温域蓝相激光器的设计提供了新思路，而且在创新性微观结构变化方面为新型多功能有机光学器件提出了重要见解。 相关研究结果以Over 200 ℃ Broad Temperature Lasers Reconstructed from Blue Phase Polymer Scaffold为题发表在Advanced Materials上。 该文章通讯作者为中科院理化所王京霞研究员和金峰副研究员。中科院理化所博士生陈雨洁和郑成林为文章共同第一作者。工作中相关蓝相液晶晶格结构的表征是由上海高能所李秀宏研究员协助完成，中科院理化所江雷院士为本研究提供了专业指导和帮助。 该研究得到了中华人民共和国科学技术部、国家自然科学基金和中国科学院荷兰研究项目的支持。 图1.含30 wt%可聚合液晶单体DD-PSBPLCs的光学表征。（A）所制备单畴样品在宽激光温域范围微结构的变化图示；（A1）相应的单畴样品光学照片。聚合后单畴DD-PSBPLCs (110)晶面的（B）TEM图，（C）Kossel图及（D）Syn-SAXS图。样品在25-230 ℃的（E）反射光谱，（F）荧光光谱，（G）染料的光致发光衰减曲线及（H）染料不同温度下的发射激光。（I）本工作与文献中蓝相液晶激光器工作温域的比较。 图2.DD-PSBPLCs宽的激光温域及在不同温度下的光学表征。（A，B，C，E）单畴样品，25-230 ℃；（D）多畴样品；25-160 ℃。（A）发射光谱，泵浦能量：1.00 μJ/pulse, 插图：POM 照片。（B）荧光光谱。（C）不同温度下，反射光谱与荧光光谱的相对位置关系。（D）发射光谱，泵浦能量：1.20 μJ/pulse, 插图：POM 照片。（E）R-POM图。DD-PSBPLCs 宽的激光温域源于稳定的聚合物支架体系，在宽的温度范围内提供了稳定的反射带隙及荧光信号。 图3.升降温过程中DD-PSBPLCs的激光阈值及相转化。（A，D，E）单畴样品，温域：25 - 230 °C，（B,F）多畴样品，温域：25 - 160 °C，升降温速率：12 °C/min。（A）单畴样品和（B）多畴样品不同温度下的激光阈值。（C）单畴样品的DSC测试，插图：放大图，氮气氛围下，10 °C/min。（D）单畴样品原位升降温过程中带隙（插图：反射强度）与温度的关系。（E，F）原位降温过程中样品的T-POM图，红色圈：放大图。单/多畴样品均在65 ℃析出，表明未聚合物组分的相变是影响DD-PSBPLCs激光性能的主要原因之一。 图4. DD-PSBPLCs温度变化过程中激光行为可能的解释及原位可逆的激光行为。（A）DD-PSBPLCs激光行为的机理图示，（A1）大部分的BPI晶格牢牢的被聚合物网络锁住且规则分布，除少量未被聚合物网络稳定的胆甾相（Ch相）；（A2）在相变前（约70 ℃）体系略微膨胀，且Ch相在达到相变点时消失，转化为BP相；（A3）温度进一步升高，超过相变点（72.5 ℃）时，BPI晶格中的一些LC分子就会跑出来，并以各向同性相(ISO)存在，导致BPI晶格的连续收缩。（B）-（E）单畴DD-PSBPLCs在30-100 ℃过程中原位可逆的激光性能及增强效应。（B）加热过程；（C）冷却过程；（D）激光波长或（E）发射强度与温度的关系，激发功率：1.17 μJ/pulse，升降温速率: 12 °C/min, ΔT=10 °C。（F）x，y，z三个正交方向的发射光谱。（G）单畴样品右/左圆偏振（R/LCP）激射光谱测试。 图5.单畴DD-PSBPLCs加热过程中的原位Kossel表征。（A）原位Kossel图（A1）及其相应的图示（A2），加热速率：12 ℃/min。（B）BPI晶格尺寸及Kossel随温度变化的图示，其中R表示Kossel图中(110)晶面中心圆的半径，红色虚线圆圈表示视野范围。（C）原位升温过程中R及反射中心波长（λ）与温度（T）的关系，实线表示拟合的直线。 　原文链接 https://onlinelibrary.wiley.com/doi/10.1002/adma.202206580

8月4日，中国科学院宁波材料技术与工程研究所柔性磁电功能材料与器件团队在《科学》（Science）上，发表了题为Intrinsically elastic polymer ferroelectric by precise slight crosslinking的研究文章。该研究提出了铁电材料的本征弹性化方法，即采用微交联法使铁电聚合物从线性结构转变为网络状结构，通过精准调控交联密度在实现弹性化的同时，降低结构改变对材料结晶性能的影响，开创性地同时将弹性与铁电性赋予同一材料。基于此，该研究创制了一种兼具弹性与铁电性，且具有较好的耐机械疲劳和铁电疲劳性能的弹性铁电聚合物。铁电材料是功能材料，通常是指在一定温度范围内具有自发极化且极化方向可随外加电场改变进行翻转或重新定向的晶体材料，其核心为自发极化。极化是极性矢量，由于晶胞中原子构型使得正负电荷重心沿该方向发生相对位移，形成电偶极矩，使得整个晶体在该方向上呈现极性，这个方向称为特殊极性方向。这对晶体的点群对称性施加了限制，在32个晶体点群中只有10个具有特殊极性方向，即1(C1)、2(C2)、m(Cs)、mm2(C2v)、4(C4)、4mm(C4v)、3(C3)、3m(C3v)、6(C6)、6mm(C6v)。只有属于这些点群的晶体才具有自发极化，即铁电材料必为晶体材料。这种特殊的晶体点群赋予了铁电材料诸多性能，使其在数据存储和处理、传感和能量转换以及非线性光学和光电器件等方面有诸多应用。而晶体在受到应力时能够产生的弹性回复是极小的，通常小于2%，这是传统铁电材料多表现为脆性（无机）或塑性（有机）的原因。可穿戴设备、柔弹性电子和智能感知等领域的快速发展，对于使用的材料提出了越来越高的要求即需要在复杂形变下依旧保持稳定的性能。电子器件使用的材料根据导电性可分为导体、半导体和绝缘材料，而导体和半导体目前已实现弹性化。而铁电材料作为绝缘材料中性能最丰富的功能材料之一，目前尚未实现弹性化，这限制了铁电材料在柔弹性电子等领域的应用。铁电材料的铁电性主要来源于其结晶区，但晶体本身几乎不具备弹性，因而铁电性和弹性难以在同一种材料中兼顾。铁电材料的弹性化方法通常有三种——结构工程、共混和本征弹性化。通过结构工程制备的样品只能在预应变值范围内进行形变，需要复杂的制造技术且难以降低器件尺寸。在采用无机铁电材料与弹性体共混方式制备的复合材料中，无机铁电材料的铁电畴杂乱无章，需要经过有效极化后才能表现出铁电性。由于无机铁电与弹性体的电阻率相差较大，在极化过程中电场主要施加在电阻率更大的弹性体中，导致弹性体相的电击穿和电机械击穿。因此，本征弹性化可能是铁电材料弹性化的唯一途径。本征弹性化能够促进材料的发展，使其具备可大规模溶液制备的能力、提高设备密度和材料的耐疲劳性等。有机铁电材料包括有机小分子铁电材料和以PVDF（聚偏氟乙烯）为代表的聚合物铁电材料。铁电聚合物的铁电性主要来源于分子链两侧由极性相差较大的原子或基团形成由一侧指向另一侧的偶极子。铁电聚合物的特点是具有高柔韧性、易于制造成复杂形状、机械坚固性和极性活性。聚合物中的铁电性是20世纪70年代在聚偏氟乙烯中发现的，是电能、机械能和热能之间有效交叉耦合的平台。因此，兼具铁电性和柔韧性的铁电聚合物可能是铁电弹性化的最佳候选对象。在过去几年，化学交联法在导体和半导体的本征弹性化过程中取得了显著进展。由于强的铁电响应需要高的结晶度，而好的弹性回复需要低的结晶度，因此传统的化学交联方法很难同时兼顾铁电响应和弹性回复。为此，该团队提出了“弹性铁电材料”的概念，设计了精确的“微交联法”在铁电聚合物中建立网络结构。选择聚（偏氟乙烯-三氟乙烯）（P(VDF-TrFE)，55/45mol%）作为反应基体材料，选择带有软而长链的聚氧化乙烯二胺（PEG-diamine）作为交联剂材料，使用低交联密度（1%～2%）赋予线性铁电聚合材料弹性的同时保持较高的结晶度。研究表明，交联后的铁电薄膜结晶相以β相为主，结晶均匀分散在聚合物交联网络中。在受力时，网络状结构能够均匀地将外力分散并且更多地承受应力，避免结晶区受到破坏。实验结果显示，交联后铁电薄膜在70%的应变下依旧具有较好的铁电响应，剩余极化约4.5μC/cm2并在拉伸过程中能够保持稳定，且具有较好的耐机械和铁电翻转疲劳性，提高了可靠性和使用寿命，拓展了使用范围。可见，“微交联法”是实现铁电弹性化行之有效的方法。该方法利用简单的化学反应实现了铁电性与弹性的良好匹配，为铁电材料弹性化提供了新思路。未来，研究团队将扩展此类方法，探索微交联法对于材料弹性化研究的普适性，并对制备的弹性铁电材料在可穿戴电子设备以及能量转换和存储、介电驱动等方面的应用进行探索。研究工作得到卢嘉锡国际合作团队项目、国家自然科学基金、浙江省钱江人才计划和浙江省尖兵领雁项目等的支持。铁电材料专家、东南大学教授熊仁根受邀在同期《科学》PERSPECTIVE专栏发表评论文章，认为这是突破性的工作，开辟了“弹性铁电”这一全新学科，并展望了弹性铁电材料可能的应用场景和未来的发展方向。图1. 弹性铁电的概念和合成策略示意图图2. 应变下弹性铁电的铁电响应。A为全弹性器件；B、C为全弹性器件在0%和70%的应变；D为在1kHz下0～70%应变下的P-E回滞曲线；E为不同应变下的名义Pmax、Pr和Ec和校正后的真实Pr。实验表明交联铁电薄膜在不同拉伸应变下均具有稳定的铁电响应。

得利特（北京）科技有限公司专注油品分析仪器领域的开发研制销售，致力于为国内企业提供高性能的自动化油品分析仪器。公司推出系列精品润滑油分析检测仪器、燃料油分析检测仪器、润滑脂分析检测仪器等。颗粒计数油液分析颗粒计数油液分析方法能够对一定容量的油样中所含固体颗粒按照粒度尺寸大小进行计数，由此得到油样中与大小相关的颗粒数目。油液颗粒计数器只推荐用于磨损速率低，磨损颗粒量少的液压系统或比较洁净的润滑油系统，这种颗粒计数油液分析方法速度快，但是颗粒计数器本身也比较昂贵。铁谱油液分析铁谱分析仪通常包括直读铁谱仪、分析铁谱仪和旋转铁谱仪三种。铁谱油液分析是利用高梯度强磁场的原理，将润滑油中的磨损颗粒分离出来，这些磨粒按照一定的规律排列在谱片上，然后通过铁谱显微镜对磨损颗粒的特征进行观察，从而对其进行定性定量油液分析。铁谱油液分析可以判断设备摩擦副的磨损程度和磨损类型，但是这种方法质谱片时间较长，而且对分析人员的素质要求较高。section style="margin: 0px 8px padding: 0px outline: 0px max-width: box-sizing: border-box overflow-wrap: break-word !important background-image: url(" wx_fmt="png") " background-position:="" background-repeat:="" background-size:="" border-radius:=""油品理化性能油液分析油品常规理化油液分析是机器设备润滑管理中通用的方法，它可以有效延长在用油的换油期限。油品理化分析的测试项目大体包括粘度、水分、总碱值、闪点、凝点、灰分、氧化、硝化、硫化、添加剂消耗等十几项内容。常用的油品性能油液分析仪器有粘度计、滴定仪和红外光谱仪等。相关仪器ENDA1031油液颗粒污染度检测仪是依据GB/T 18854-2002、ISO11171-1999、DL/T432-2007、GJB 420B、NAS1638、ISO4406等标准研制的用于油液中污染粒子的分布大小尺寸及等级检测的仪器。油液颗粒计数器采用光阻法（遮光法）原理研制，适用于液压油、润滑油、抗燃油、绝缘油和透平油等颗粒污染度的检测。可提供快速、准确、可靠、可重复的检测结果及完整的污染监测分析报告。广泛应用于航空、航天、电力、石油、化工、交通、港口、冶金、机械、汽车制造等领域。仪器特点1.采用国际液压标准光阻（遮光）法计数原理。2.高精度激光传感器，测试范围宽，性能稳定，噪声低，分辨率高。3.采用精密注射泵取样方式，可自行设定取样体积，进样速度稳定，取样精度高。4.采用了正负压结合的进样系统，可实现样品脱气，适合不同粘稠度的检品测试。5.内置空气净化系统，保证测试不受污染。6.内置多重校准曲线，可兼容国内外常用标准进行校准。7.内置GJB-420B、NAS1638、ISO4406和ГOCT17216-71等8种常用标准，支持自定义标准测试，并可根据客户需求设置所需标准。8.可采用标准取样瓶或取样杯等多种取样容器，满足不同行业的检测要求。9.彩色触摸屏操作，内置打印机，结构简洁大方，操作简单方便。10.全功能自动操作，中文输入，具有数据存储、打印功能。11.内置数据分析系统，可根据标准自动判定样品等级。12.具有RS232接口，可连接电脑或实验室平台进行数据处理。13.可有偿提供颗粒度计量测试站“中国航空工业颗粒度计量测试站”校验报告。技术参数• 光源：半导体激光器• 粒径范围：0.8um~500um• 检测通道：8通道任意设置粒径尺寸• 分辨力：优于10%• 重复性：RSD2% • 粘度范围：350mm2/s(cSt)• 取样体积：0.2~1000ml • 取样精度：优于±1%• 取样速度：5mL/min ~80mL/min• 气压舱真空：0.08MPa• 气压舱正压：0.8MPa • 极限重合误差：10000粒/mL• 工作电源：AC220V±10%，50HzEND红外光谱仪 定货号：DH108红外光谱仪使用傅里叶转换红外光谱仪(FTIR)对在用油品的质量和污染状况进行检测，可以检测油液衰化变质，氧化，水解，添加剂含量等，分析速度快，2分钟可得到所有参数的测试结果，应用于工矿企业，石化和运输行业。适用标准：ASTM E2412红外光谱法润滑油监测标准、GB/T 23801-2009中间馏分油中脂肪酸甲酯（生物柴油）含量的测定（红外光谱法）仪器特点：1、采用了抗振傅里叶干涉仪，从根本上解决了傅里叶红外光谱仪过于娇嫩，故障率过高的固有缺陷，使仪器可以适应各种恶劣环境的要求。2、采用了DTRANTM进样系统，不需清洗试剂，大大加快了分析速度，也避免了对操作人员的健康损害。3、仪器操作简单，软件界面友好，操作人员需简单培训就可以使用仪器。4、可以分析包括润滑脂在内的多种油液油脂而不需要样品处理。5、对各种油液中水分的测量下限达50ppm，从而提高了红外光谱仪的分析效能(其它红外光谱仪对水分的测量下限为500 ppm)。6、特有的各种油液分析方法库和各项指标的界限值数据库。技术参数：• 规 格：20×20×10 cm• 工作温度：-10oC至50oC• 进样系统：钻石透射池进样系统• 分 束 器：人造宝石• 光谱分辨率：为0.5cm-1• 分析速度：1-2分钟/每个样品• 光谱范围：7800-350 cm-1• 检 测 器：DTGS检测器• 信 噪 比：大于20000：1• 重 量：4KgEND分析仪铁谱仪 定货号：DK101分析仪铁谱仪是一种借助磁力将油液中的金属颗粒分离出来，并按照颗粒的大小排列在基片上，并对颗粒的物理属性和磨损形态作出进一步分析的仪器。可以分析机械设备的磨损状态，早地预报机械设备的异常状态。应用于类机械设备的磨损监控、磨擦状态及磨损机理的研究以及润滑油油品评定。仪器特点：1、采用8英寸工业级高清触摸屏，操作方便。2、油样和清洗液输送流量快慢可调，可满足不同分析要求。3、油样和清洗液采用双泵系统，减少故障。4、壳体采用2mm钢板，坚固稳定，并配有调水平装置，保实验要求。5、磁性材料选用钕铁硼，保磁力的耐久稳定。6、清洗瓶采用GL45标准瓶口，容量250mL。具有清洗液防溢功能。7、显微镜国产可选，并配置图像分析系统。技术参数：• 磁场：狭缝中心场强1.0T 磁场梯度 5.0T/cm • 泵送系统：1～100级速度可调• 油样输送流量：0.16～2.5mL/min 快速：100ml/min• 清洗液输送流量：0.16～5.0mL/min 快速：100ml/min• 谱片： 铁谱片尺寸：0.17×24×60mm 铁谱片安装倾角：2º、 3º、 4º（有级可调）• 定时器范围：0到99分钟（可蜂鸣）• 工作电源：AC220V，50HZ• 外形尺寸：400mm×300mm×300mm• 功 率：500W• 重 量：15KgENDA1190自动闭口闪点测定仪适用标准：GB/T261-2008、GB/T 21615-2008、ASTM D93，测试样品的使用环境为密闭环境时（如变压器油），测定石油产品的闭口闪点值。以触摸屏代替键盘操作，液晶大屏幕LCD全中文显示人机对话界面，全屏触摸按键提示输入，方便快捷，开放式、模糊控制集成软件，模块化结构，符合国标、美国、欧盟等标准。是理想的**仪器替代产品。广泛应用于铁路，航空，电力，石油行业及科研部门等。仪器特点1. 采用彩色液晶大 屏幕显示，全中文人机对话界面，触摸屏式按键，对可预值温度、试样标号、大气压强、试验日期等参数具有提示菜单导向式输入。2. 模拟跟踪显示温升与试验时间的函数曲线，具有中文误操作软件提示修改功能，配试验日期 、试验时间等参数提示功能。3. 配有标准RS232、485计算机接口，下位机储存120组历史数据，与计算机相连可大容量存储数据并可长期保存传送数据，上位机可修改下位机参数。4. 自动校正大气压强对试验的影响并计算修正值。微机检测，系统偏差自动修正。5. 开盖、点火、检测、打印数据自动完成，电子引火，强制风冷。技术参数• 量 程：室温～350℃• 分辨性：0.1℃• 样品量：70ml• 重复性：≤2℃ • 再现性：≤4℃ • 升温速度：符合GB/T261-2008标准• 点火方式：电子引火、气体火焰• 环境温度：5℃～40℃ • 环境湿度：85%• 整机功耗：≤400W• 工作电源：AC220V±10%，50Hz• 外形尺寸：505mm*320mm*310mm• 重 量：16kg

p style="padding: 0px color: rgb(51, 51, 51) text-align: justify font-family: arial white-space: normal background-color: rgb(255, 255, 255) text-indent: 2em margin-top: 5px line-height: 1.5em margin-bottom: 5px "span class="bjh-p"在本次服贸会的国别和省区市展区，北京、天津、河北设立了京津冀联合展区，展览面积300平方米，16家参展企业以各自的案例展示出一个共同的主题：京津冀协同发展。/span/pdiv class="img-container" style="margin-top: 30px font-family: arial font-size: 12px white-space: normal background-color: rgb(255, 255, 255) "img class="large" data-loadfunc="0" src="https://img1.17img.cn/17img/images/202009/uepic/76b32d3f-1aa2-444e-aa43-8ee14cc1b6f5.jpg" data-loaded="0" style="border: 0px display: block width: 600px height: 801px " width="600" height="801" border="0" vspace="0" title="1.png" alt="1.png"//divp style="padding: 0px color: rgb(51, 51, 51) text-align: justify font-family: arial white-space: normal background-color: rgb(255, 255, 255) text-indent: 2em margin-top: 5px line-height: 1.5em margin-bottom: 5px "span class="bjh-p"比如，北京数字光芯科技有限公司的展台就带来了由京津冀三地多家单位共同完成的多款数字光场芯片产品。其中，完成于今年8月的4800万像素硅基液晶数字光场芯片，是目前世界分辨率最高的硅基液晶芯片。/span/pdiv class="img-container" style="margin-top: 30px font-family: arial font-size: 12px white-space: normal background-color: rgb(255, 255, 255) "img class="large" data-loadfunc="0" src="https://img1.17img.cn/17img/images/202009/uepic/522bfdc5-c3be-4298-967f-9d9aa540ac95.jpg" data-loaded="0" style="border: 0px width: 600px display: block " title="2.png" alt="2.png"//divp style="padding: 0px color: rgb(51, 51, 51) text-align: justify font-family: arial white-space: normal background-color: rgb(255, 255, 255) text-indent: 2em margin-top: 5px line-height: 1.5em margin-bottom: 5px "span class="bjh-p"北京数字光芯科技有限公司首席执行官孙雷介绍，数字光场芯片是可通过计算机数字信号控制形成任意光场图形的芯片的统称，可以帮助人类通过信息技术实现任意所需的光场。/span/pdiv class="img-container" style="margin-top: 30px font-family: arial font-size: 12px white-space: normal background-color: rgb(255, 255, 255) "img class="large" data-loadfunc="0" src="https://img1.17img.cn/17img/images/202009/uepic/a6761571-3c16-49f7-b3d1-f1edd219a357.jpg" data-loaded="0" style="border: 0px width: 600px display: block " title="3.jpeg" alt="3.jpeg"//divp style="padding: 0px color: rgb(51, 51, 51) text-align: justify font-family: arial white-space: normal background-color: rgb(255, 255, 255) text-indent: 2em margin-top: 5px line-height: 1.5em margin-bottom: 5px "span class="bjh-p"数字光场芯片广泛应用于工业和民用领域的各个方面，在电影、投影仪、激光电视、智能车灯、虚拟现实、印刷打印、光固化3D打印、PCB电路板曝光、芯片光刻等领域起着重要的作用。孙雷解释，“比如手机里面所有的芯片、所有的电路板都是靠光场来形成线条。包括屏幕的显示，指纹的识别，摄像头的应用，事实上都是图案化的晶体管和图案化的光场。手机的上千个零部件里，可能只有电池和机壳不需要光场。”/span/pdiv class="img-container" style="margin-top: 30px font-family: arial font-size: 12px white-space: normal background-color: rgb(255, 255, 255) "img class="large" data-loadfunc="0" src="https://img1.17img.cn/17img/images/202009/uepic/6df5694e-34e6-462c-b2fc-25e8357d17eb.jpg" data-loaded="0" style="border: 0px width: 600px display: block " title="4.jpeg" alt="4.jpeg"//divp style="padding: 0px color: rgb(51, 51, 51) text-align: justify font-family: arial white-space: normal background-color: rgb(255, 255, 255) text-indent: 2em margin-top: 5px line-height: 1.5em margin-bottom: 5px "span class="bjh-p"刚刚完成的4800万像素硅基液晶数字光场芯片，可对4800万个像素进行独立控制。将原硅基液晶芯片单芯片分辨率世界纪录由983万像素提高了4.8倍，达到4800万像素。同时也是我国首款工业数字光场芯片，在研发过程中各研发机构协同创新，实现了自主设计、自主流片、自主测试、自主封装、自主集成并掌握了100%的知识产权。/span/pp style="padding: 0px color: rgb(51, 51, 51) text-align: justify font-family: arial white-space: normal background-color: rgb(255, 255, 255) text-indent: 2em margin-top: 5px line-height: 1.5em margin-bottom: 5px "span class="bjh-p"数字光芯片技术升级的意义在哪儿呢？孙雷说，数字光芯片的进步或将带来新的“数字革命”，实现电子和芯片领域的完全数字化制造。“在民用显示领域，可以为大家提供更高分辨率的电影投影画面、虚拟现实效果。现在的虚拟现实技术在应用时，经常会出现模糊、卡顿、‘纱窗’现象、‘马赛克’现象等，而当我们有了更高的分辨率，这些问题都会得到改善。”而该芯片量产后，还将广泛应用于工业数字曝光领域，如光固化3D打印、PCB数字曝光、数字光刻等领域。/span/pp style="padding: 0px color: rgb(51, 51, 51) text-align: justify font-family: arial white-space: normal background-color: rgb(255, 255, 255) text-indent: 2em margin-top: 5px line-height: 1.5em margin-bottom: 5px "span class="bjh-p"孙雷谈到，我国每年进口数字光场芯片总额超过100亿人民币。目前我国数字光场芯片在民用市场和工业领域都主要来自进口，“工业数字光场芯片将成为我国智能制造行业核心技术攻关的核心战场之一。”/span/p

近日，中国科学院院士、中科院深圳先进技术研究院碳中和技术研究所(筹)所长成会明与副研究员丁宝福团队，联合清华大学深圳国际研究生院教授刘碧录团队、中科院半导体研究所研究员魏大海团队，首次发现了二维六方氮化硼(h-BN)液晶具有巨磁光效应，其磁光克顿-穆顿效应高出传统深紫外双折射介质近5个数量级，进而研制出稳定工作在深紫外日盲区的透射式液晶光调制器。 　　双折射是引起偏振光相位延迟的一个基本光学参数。有机液晶因双折射可受外场连续调制，而被广泛用作光调制器的核心材料。然而，传统有机液晶在深紫外光照射下吸收强且不稳定，液晶光调制器仅能工作在可见及部分红外光波段，无法工作在紫外及深紫外波段。同时，透射式深紫外光调制器在紫外医学成像、半导体光刻加工、日盲区光通讯等领域颇具应用前景。因此，发展一种在深紫外光谱区稳定、透明度高及具有场致双折射效应的新型液晶材料，有望推进透射式深紫外液晶光调制器的发展。 　　科研团队研制出一种基于二维六方氮化硼无机液晶的磁光调制器。研究采用的氮化硼二维材料具有极大的光学各向异性因子(6.5 × 10-12C2J-1m-1)、巨比磁光克顿-穆顿系数(8.0 × 106T-2m-1)、高循环工作稳定性(270次循环工作后性能保留率达99.7%)和超宽带隙等优点，同时二维六方氮化硼是通过“自上而下”的高粘度纯溶剂辅助研磨法剥离制备而成。由于超宽的带隙，二维六方氮化硼液晶在可见、紫外和部分深紫外光谱区具有颇高透明度。在磁场作用下，基于二维六方氮化硼液晶的磁光器件在正交偏振片下呈现出明显的磁控光开关效应。 　　科研人员通过观察入射光偏振态与磁场作用下液晶透射率关系的实验揭示了二维六方氮化硼在外场作用下顺磁场的排布方式。在入射光的偏振态被调整为平行和垂直于磁场的两种状态下，后者呈现较高的光透射率，间接印证了二维六方氮化硼纳米片平行于磁场方向排布。该研究针对层状二维六方氮化硼薄膜的磁化率各向异性测试揭示了面内易磁化方向，进一步证实了二维六方氮化硼纳米片顺磁场排布的物理机制。结合二维氮化硼纳米片的极大的光学各向异性，研究发现了二维六方氮化硼液晶的巨磁致双折射效应。 　　该研究选用波长处于深紫外UV-C日盲区的266 nm激光，测试二维氮化硼液晶在该光谱区的光学调制性能。通过开启和关闭0.8特斯拉的磁场，研究实现了该调制器在深紫外光波段的透明与不透明两种状态之间的切换。经过270个不间断开关循环测试后，性能的保持率达99.7%。 　　鉴于二维材料家族成员庞大、带隙覆盖宽，基于无机超宽带隙二维材料液晶的光调制器的光谱覆盖范围有望向更短深紫外波段延伸，促进液晶光调制器在深紫外光刻、高密度数据存储、深紫外光通讯和生物医疗成像重要领域的应用。 　　相关研究成果以Magnetically tunable and stable deep-ultraviolet birefringent optics using two-dimensional hexagonal boron nitride为题，发表在Nature Nanotechnology上。研究工作得到国家自然科学基金、科技部、广东省科学技术厅、深圳市科技创新委员会等的支持。六方氮化硼无机二维液晶及其磁控光开关效应 六方氮化硼无机二维液晶的磁致排列和磁致双折射效应表征基于六方氮化硼无机二维液晶的深紫外光调制器性能研究及对比

氧化石墨烯液晶材料由于其片径之间产生取向堆叠而展现出独特的物理性能，让其在光电器件、储能器件和电磁屏蔽领域的应用备受关注。片径取向程度也影响着材料相应的性能。近日，中科院苏州纳米所钱波课题组开发了一种新型氧化石墨烯液晶材料的制备方法，并成功制备了片径具有长程高度取向的氧化石墨烯液晶材料。该方法依据氧化石墨烯分散液的流变参数和衣架式挤出模具的设计，借助摩方精密PμSL 3D打印技术（NanoArch S140），定制化的制备出100 μm狭缝厚度的衣架式挤出模具；随后利用此模具在玻璃衬底上挤出氧化石墨烯液晶材料，成功制备出取向结构的氧化石墨烯液晶材料，并且该材料在偏振显微镜下未观察到明显双折射条纹。该成果以“Preparation of graphene oxide liquid crystals with long-rangehighly-ordered flakes using a coat- hanger die”为题发表在RSCAdvances期刊上。原文链接：https://doi.org/10.1039/D1RA01241J图1 长程取向结构氧化石墨烯液晶材料制备示意图图2 五组不同浓度的氧化石墨烯分散液（2mg/mL~10 mg/mL标记为GO-2～GO-10，片径直径约为50μm）的流变测试结果从流变测试中可以看到，氧化石墨烯分散液的剪切粘度与剪切速率呈非线形关系，是一种典型的非牛顿流体，并且存在剪切变稀现象（shear-thining），这是由于剪切应力使氧化石墨烯片径取向由相互交错趋于相互平行，从而呈现出较低的粘度特性。另外，随着剪切应力的增加，分散液的剪切粘度逐渐降低，这也意味着较大的剪切应力可以使氧化石墨烯片径整体更具有取向性。因此衣架式挤出模具的尺寸和精度对制备长程取向结构的氧化石墨烯液晶材料有着重要的影响。图3 挤出模具的制备实物图和相关设计尺寸图3是通过摩方精密PμSL 3D打印机（NanoArchS140）制备出的衣架式挤出模具实物图，模具实际尺寸与设计保持一致，并且狭缝厚度尺寸十分精确，宽度幅度在2%以内，这也有利于减少材料挤出过程中因尺寸不精确而引起的湍流等副作用的产生。图4 a)未经过挤出模具挤出的氧化石墨烯材料，b)经过挤出模具挤出后的氧化石墨烯材料；尺寸标尺200 μm。从图4对比图中可以看出，经过定制化挤出模具挤出后的材料无明显的双折射条纹，这是由于氧化石墨烯片径高度取向，偏振光无法发生偏振。从偏振显微镜图片可看出，不同浓度的氧化石墨烯分散液经挤出模具挤出后均具有良好的片径长程取向结构。图5 a)经过定制化挤出模具制备的取向结构石墨烯气凝胶；b)未经挤出的无取向结构石墨烯气凝胶；尺寸标尺为200 μm图5为利用定制化挤出模具制备的取向结构石墨烯气凝胶材料，从材料截面电镜图中的红色箭头方向可看出，石墨烯片径具有明显一致的取向结构，并且如黄色箭头所示，氧化石墨烯片径之间相互连接良好，材料整体无明显的纵向空隙。利用此方法制备的片径长程取向结构的石墨烯气凝胶相较于片径无取向的石墨烯气凝胶材料而言，其导电性从32S/m提高到92 S/m，证明片径高度取向的结构能进一步提高气凝胶材料的导电性。 需要指出的是，衣架式挤出模具作为传统高分子液晶的制备工具的研究已开展很多，但受限于模具精度和尺寸多样性，目前未曾有过利用衣架式挤出模具制备氧化石墨烯液晶材料。摩方精密PμSL 3D打印技术因其高精度和高效的制备方法，让定制化的挤出模具应用于长程取向结构氧化石墨烯液晶材料的制备成为可能，并且100 μm的狭缝的厚度是目前衣架式挤出模具制备已知的最小值。依托于摩方精密的3D打印技术，未来对不同片径直径和浓度的氧化石墨烯分散液的液晶制备研究的可能性大大增加，有望能够进一步拓展片径取向结构的石墨烯基材料在众多领域内的应用。

液晶屏防爆气象站——一款无需自配零件的防爆气象站#2023已更新【TH-FB01S】液晶屏防爆气象站具备了自带的液晶显示屏，可以将监测数据更加直观的展现在显示屏上，随时随地可检查实时监测数据，并且该设备具备了第三方检测报告的一款防爆气象站，对于产品质量和使用有保障。一、产品简介TH-FB01S型防爆气象站是山东天合根据市场需求，针对化工厂、油库等特殊场所而研发生产的一款一体化气象站。它集数据采集、存储、显示、通讯于一体，通过有线的通讯方式与后台上位机管理软件或者中控室PLC、DCS对接，进行数据的处理分析。二、产品特点1、顶盖隐藏式超声波探头，避免雨雪堆积的干扰，避免自然风遮挡（实用新型专利，专利号ZL 2020 2 3215713.X）☆2、原理为发射连续变频超声波信号，通过测量相对相位来检测风速风向（发明专利，专利号ZL 2021 1 0237536.5）☆3、风速、风向、空气温度、湿度、大气压力五要素一体式传感器（实用新型专利，专利号ZL 2020 2 3215649.5）☆4、485接DCS传输三、技术参数1、风速：0～60m/s（±0.1m/s）；（发明专利，专利号ZL 2021 1 0237536.5）2、风向：0～360°（±2°）；（发明专利,专利号ZL 2021 1 0237536.5）3、空气温度：-40℃～85℃（±0.3℃）；（北京市气象局校准证书）4、空气湿度：0～100%RH（±2%RH）；（北京市气象局校准证书）5、大气压力：300-1100hpa（±0.25%）；（北京市气象局校准证书）6、屏幕：7寸液晶屏，高清彩屏；7、单机版数据存储：不少于50万条；8、功耗：7.6W9、生产企业具有ISO质量管理体系、环境管理体系和职业健康管理体系认证10、生产企业具有知识产权管理体系认证证书和计算机软件注册证书11、生产企业具有Ex ia IIC T4 Ga高等级防爆证书12、生产企业为3A级信用企业13、设备通过GB3836.1-2010爆炸性环境第1部分：设备通用需求14、设备通过GB3836.4-2010爆炸性环境第4部分：由本质安全型“i''保护设备四、功能特点1、一体化结构设计，安装拆卸简单；2、传感器外壳ASA材质，耐腐蚀，抗氧化；3、支持定制，可根据用户需求灵活配置监测要素；4、PC、液晶屏幕两种显示方式，有线传输5、五防设计：防水、防爆、防尘、防震、防腐；6、标准modbus协议，支持多种后台协议对接，为客户提供方便；8、低功耗设计，AC220V供电；五、产品结构图六、产品尺寸图七、上位机软件介绍1、PC单机版数据接收、存储、查看、分析软件2、支持串口数据接收、处理、展示3、支持json字符串、modbus485等通信方式4、可自设置存储时间，modbus485采集模式下可自设置采集时间5、支持自助增加、删除、修改监测参数的协议、名称、图标等6、支持数据后处理功能7、支持外置运行javascript脚本八、设备安装1、确认现场工况，由本公司设定安装方案2、安装简单，无需专业人员操作，远程指导即可安装3、使用方无需自配零部件，由本公司精细化配置，设备到场即装即用

铁电材料因具有稳定的自发极化，且在外加电场下具有可切换的极化特性，在非易失性存储器、传感器、场效应晶体管以及光学器件等方面具有广阔的应用前景。与传统的三维铁电材料不同，二维范德华层状铁电材料表面没有悬空键，这可降低表面能，有助于实现更小的器件尺寸。此外，传统三维铁电薄膜的外延生长需要合适的具有小的晶格失配的基材，而在二维层状材料中，许多具有不同结构特性的层可以被堆叠并用于铁电异质结构器件，不受基底的限制，从而提供了广泛的铁电特性可调性。某些二维层状材料已在实验或理论上被报道为铁电材料，包括薄层SnTe、In2Se3、CuInP2S6、1T单层MoS2、双层或三层WTe2、铋氧氯化物和化学功能化的二维材料等。然而，目前对二维材料铁电畴结构的调控及铁电-反铁电相变等方面缺乏系统性研究，在范德华层状材料中实现连续的铁电域可调性和铁电-反铁电相转变仍是挑战。 　　近日，中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所研究员康黎星团队与中国人民大学教授季威团队、南方科技大学副教授林君浩团队、松山湖材料实验室副研究员韩梦娇合作，在新型二维铁电材料铁电畴结构的调控方面取得进展。该团队发现了一种具有室温本征面内铁电极化的新型二维材料Bi2TeO5，并观测到由插层铁电畴壁诱导的铁电畴大小、形状调控机制以及由此产生的铁电相到反铁电相的转变。科研人员采用CVD法合成新型的超薄室温二维铁电材料Bi2TeO5，通过压电力显微测(PFM)证实该材料存在面内的铁电畴结构，结合电子衍射及原子尺度的能谱分析和第一性原理计算结果对其结构进行解析，结合像差校正透射电镜对亚埃尺度的离子位移进行分析(图1)。对Bi2TeO5中畴结构的进一步研究发现，样品中存在大量的条状畴结构。原子尺度结构分析和计算结果表明，由于Bi/Te插层的存在，有效降低了畴壁的应变能，从而使得180°畴壁的条状畴能够稳定(图2)。研究表明，通过调控前驱体中Bi2O3和Te的比例可以有效实现180°铁电畴宽度的调控及实现铁电-反铁电相的反转(图3、图4)。此外，Bi/Te插层的引入除了能够改变铁电畴的大小，同时可以对畴壁的方向进行调控(图5)。 　　本研究对Bi2TeO5室温面内铁电性的报道丰富了本征二维铁电材料体系。原子插层作为新的调控单元对铁电畴大小及方向的调控，以及由此产生的铁电-反铁电相变，为二维铁电材料畴结构及相结构的调控提供了新思路，并为在未来纳米器件领域的应用奠定了新的材料基础。相关研究成果以Continuously tunable ferroelectric domain width down to the single-atomic limit in bismuth tellurite为题，发表在《自然-通讯》(Nature Communications)上。图1.二维层状铁电材料Bi2TeO5的CVD生长及结构表征。a、二维层状Bi2TeO5的光镜图；b-c、样品的表面形貌及对应的面内PFM图像；d-f、不同方向Bi2TeO5的结构模型以及铁电极化的产生；g-I、Bi2TeO5的原子尺度结构表征及对应的极化分布。图2.Bi/Te插层诱导的180°铁电畴的形成。a、Bi2TeO5中典型条状180°铁电畴的面内PFM；b、180°铁电畴壁的原子尺度HAADF-STEM图；c-e、180°铁电畴壁处铁电离子位移(DBi)及晶格畸变(晶格转角θ)的原子尺度分析；f、弛豫后180°铁电畴的结构模型。图3.插层对畴宽度的调控及铁电相到反铁电相的转变。a-d、具有不同周期的180°畴HAADF-STEM图像；e-h、分别为对应图a-d中的离子位移分布。图4.插层诱导的反铁电相。a、具有反铁电性样品的PFM；b-d、反铁电样品中的原子尺度极化分布及晶格畸变分析；e、弛豫后的反铁电相结构模型。图5.畴壁台阶的形成及插层对畴壁取向的影响。a-b、样品中扇形铁电畴的面内PFM图像；c、扇形铁电畴边缘处大量台阶形成的倾斜畴壁面；d-e、畴壁台阶的原子尺度HAADF-STEM图像及对应的离子位移分析；f、弛豫后的畴壁台阶结构模型；g、Te和O浓度对畴壁台阶形成焓的影响。

2006年科创公司推出全新GC900(II)型气相色谱仪(大屏幕液晶显示) 该产品有以下特点:一、 全微机化按键操作，配大屏幕液晶显示，人机对话方式，操作方便； 二、 可同时选装2～3种常用检测器（FID、TCD、ECD、FPD），均可配用毛细柱； 三、 可对双气路的载气、氢气、空气、尾吹气等流量和柱前压实现数字化测量显示； 四、 大容量柱箱带自动后开门，可进行13阶程序升温,可实现室温以上6℃的近室温控制； 五、 可同时配置填充柱进样器和毛细柱进样器，可方便更换不同需求的内衬管； 六、 可在大屏幕液晶屏上，显示双通道的实时图谱，随时监视样品分析状态； 七、 具有抗电源突变干扰功能和秒表计时功能； 八、 具有故障自我诊断功能，随时显示故障部位及性质； 九、 具有超温保护功能，任一路温度超过设定温度，均会自动停止加热； 十、具有扩展功能，可按时间程序自动控制主机的 *广大客户及代销商来电咨询

对于研究磁学的科研工作者来说，市场上有不少测量静态磁学的仪器设备：高端的有Quantum Design公司著名的MPMS3（SQUID）以及功能更为丰富的PPMS系统；中等的有各种振动样品磁强计（VSM）；低端一些的有磁滞回线测试仪。另外还有一些辅助的磁学测量手段，例如磁光克尔效应测量，磁扭矩测量，磁弹性测量等，可以说静态磁学测量系统的手段是非常丰富的。然而静态磁学测量手段反映的只是宏观统计的测量结果，无法反映微观磁相互作用的结果。比较为大家所熟知的动态磁学测量手段就是铁磁共振测量。但是铁磁共振测量涉及到高频信号传输和复杂的数据分析，通常需要用昂贵的矢量网络分析仪来搭建，对于大多数科研工作者来说是非常困难的任务，而且信噪比难以达到较高的水平。瑞典NanOSC公司的phase-FMR铁磁共振测量系统，采用了两种特殊技术，在大提高测量信噪比的同时，对测量人员的技术要求也大为降低。先，phase-FMR采用了亥姆霍兹线圈加锁相放大器技术，使得交流信号测量的精度得到大提升，下图是系统的测量原理图。其次，phase-FMR使用了更加容易操作的CPW共面波导板作为高频信号的传输部件。使得测量频率范围更宽，也不再象谐振腔那样，限于几个特殊的频率点。可以在2-40GHz范围内的任何频率下进行测量。通过铁磁共振测量，获得不同频率下的共振线宽，就可也拟合出样品的相关动态磁学参数，主要有：有效磁矩: Meff，旋磁比: γ，阻尼系数: α，非均匀展宽: ΔHo。同时也可以获得饱和磁化强度Ms的信息。测量实例： 1、1.5纳米CFO薄膜的铁磁共振原始测量曲线及测量软件自带的数据分析曲线。即使使用高精度的MPMS系统，1.5纳米的薄膜测量起来已经比较困难了。Phase-FMR依然能获得较好的测量曲线。 2、退火对样品的磁学性能的影响 3、磁性薄膜的PSSW和FMR效应相关产产品链接：1、高精度铁磁共振仪 http://www.instrument.com.cn/netshow/SH100980/C221410.htm2、美国Montana无液氦超低振动低温光学恒温器 http://www.instrument.com.cn/netshow/SH100980/C122418.htm3、PPMS 综合物性测量系统 http://www.instrument.com.cn/netshow/SH100980/C17086.htm

西安立鼎光电科技有限公司自成立以来，一直致力于短波红外成像技术开发与应用。结合市场需求，立鼎团队不断将产品迭代与优化，推出了一系列经典产品，性能可靠，价格合理，深受国内外行业用户的信赖。立鼎光电短波相机研发历程⏩ 2016年 组建团队，研发短波红外相机。⏩ 2017年 完成非制冷相机的研制并投入市场，反馈良好。⏩ 2018年 640×512（15μm）短波非制冷相机量产；同年，立鼎首版640一级制冷相机亮相深圳光博会，获得客户好评。⏩ 2019年 优化相机功能：增加GigE 、SDI接口，增加可供用户选择的跟踪功能；同年，完成高速短波红外相机的样机设计。⏩ 2020年 成功研发出第一代60Hz高速短波相机样机，并开始研发二级制冷科研级短波红外相机；同年，完成了320短波红外相机及扩展波段相机的研发及量产。⏩ 2021年 推出TE4深度制冷相机，制冷温度最低可达-80℃；同年推出1550nm激光通信专用短波红外相机。⏩ 2022年 研制多级深度制冷短波相机、全国产化短波红外相机、线阵短波红外相机、300/400Hz高速短波相机以及高光谱短波相机。立鼎光电短波红外相机系列分类经济型：采用非制冷铟镓砷探测器，结合专业散热结构，该型相机结构小、重量轻，方便集成在各类光电系统中。可以提供专业的定制化服务，旨在为用户提供小型化、轻量化、定制化产品解决方案。制冷型： 采用热电制冷铟镓砷探测器，能够很好的抑制芯片暗电流，从而提升成像质量，此系列可选配扩展型 InGaAs 焦平面探测器，可将探测范围扩展至1.1μm-2.2μm波段。旨在为用户提供更专业的高性能相机，以满足基础型相机无法达到的性能要求。科研型：采用了高性能的TE + air cool制冷设计，芯片温度最低可降至-80℃，在超长的曝光时间下工作，图像也能具有较高的信噪比。该型产品旨在满足高端用户或科研级用户在各种高要求/高精度场景下的应用。可提供集成多种图像算法的专用软件，为用户提供更好的使用体验。立鼎短波红外相机型号命名规则下图为立鼎短波相机命名规则。通过此规则，可以直观、快捷的了解到一型号产品的重要参数。或在选型中更方便快捷的选择项目所需对应规格的相机。立鼎短波相机的应用硅锭杂质检测液晶面板异型贴合半导体检测全息光学中的应用激光光斑捕获追踪海面观测透雾成像太阳能电池板检测生物成像激光光束质量分析晶圆切割获取更多信息可通过仪器信息网和我们取得联系400-860-5168转6159西安立鼎光电科技有限公司是一家专业从事红外、激光类产品及光电测试仪器设备的研发生产、系统集成、销售服务为一体的高新技术企业。公司专注于为客户提供从元件、组件、部件到全套光电系统产品的完整解决方案。近年来，公司研制的短波红外相机（系统）在激光光斑检测、半导体检测、激光通信、光谱成像、激光切割、生物医疗、天文观测、安防等领域得到了广泛的应用。多年来，根据用户需求定制的多款光电测试仪器设备，为用户产品的性能指标保证发挥了重要作用。