土荆皮

高效液相色谱法测定土荆皮中土荆皮乙酸的含量 推荐色谱柱 Cosmosil C8-MS 关键词：土荆皮乙酸，辛烷基硅胶键合硅胶，对照品溶液，供试品溶液，高效液相色谱 土荆皮乙酸含量测定，照高效液相色谱法（附录Ⅵ D）测定。 色谱条件与系统适用性试验：以辛烷基硅烷键合硅胶为填充剂；以甲醇-醋酸溶液为流动相；检测波长为260nm。理论板数按土荆皮乙酸峰计算应不低于5000. 土荆皮中土荆皮乙酸含量测定，照高效液相色谱法（附录Ⅵ D），分别精密吸取对照品溶液与供试品溶液，注入液相色谱仪，测定，即得。本品按干燥品计算，含土荆皮乙酸（C23H28O8）不得少于0.25%。（中国药典2010版） 需要详细的药典标准请联系北京绿百草：010-51659766. 登录网站获得更多产品信息:www.greenherbs.com.cn

高能皮秒和飞秒超快反射镜High-Energy Picosecond and Femtosecond Ultrafast Mirrors在 DWL 具有很高的激光诱导损伤阈值对 S 偏振和 P 偏振具有高反射率非常适用于高能超快激光应用还提供TECHSPEC® 高性能低 GDD 超快反射镜通用规格镀膜类型:Dielectric基底:Fused Silica高能皮秒和飞秒超快反射镜具有业界领先的实测激光诱导损伤阈值 (LIDT)，并且对 S 偏振和 P 偏振均具有高反射率。多层介质镀膜专为实现最小群延迟色散 (GDD)、高反射率和高激光损伤阈值而设计，因此这些反射镜非常适用于高能皮秒和飞秒超快脉冲的光束传输。注意：如需定制波长、角度与尺寸，请联系我们。波长范围 (nm)Dia. (mm)厚度 (mm)AOI (°)产品编码241 - 27112.706.3545#11-734241 - 27125.406.3545#11-735320 - 37012.706.3545#12-463320 - 37025.406.3545#12-464320 - 37050.809.5245#12-465480 - 55025.406.3545#12-834780 - 82025.409.520#36-407780 - 82025.409.5245#36-409

银过滤膜（SPI-Pore Silver Membrane Filters）纯银制造的微孔滤膜，均匀的微孔分布其上，具有良好的抗极端化学环境及抗高温能力；而且极其薄，只有0.002" thick/51μm的厚度；可以重复利用。银过滤膜应用广泛，涉及到腐蚀性液体或高温环境时，纯银过滤膜就成为实验室过滤设备的理想选择。银过滤膜的孔径大小有0.2um，0.45um，0.8um，1.2um，3um，5um可选，滤膜的盘面大小有13mm、25mm、37mm、47mm可选，可以来电咨询。银过滤膜用于扫描电镜时，导电性好，表面光滑，极薄的膜厚（50um），样品制备简单。货号产品描述规格01170Silver Membrane Filters, 13 mm, 0.2 μm25片/包01171Silver Membrane Filters, 13 mm, 0.45 μm25片/包01172Silver Membrane Filters, 13 mm, 0.8μm25片/包01173Silver Membrane Filters, 13 mm, 1.2 μm25片/包01174Silver Membrane Filters, 13 mm, 3.00 μm25片/包01175Silver Membrane Filters, 13 mm, 5.0μm25片/包

产品特点：80 Spec 掠入射角型镜面反射附件(PIKE)这种附件用来测定相对较薄的膜和单分子层。样品朝下放置，然后对薄膜的光谱进行测定。本品包括基础光学部件、样品罩和偏振支架。10 Spec 镜面反射附件(PIKE)这种附件建议用来按照ASTM标准E1585 - 93 测定玻璃反射率。本品也可用来测定包括军用仪器、反射光学仪器、防反射(AR)镀层表面以及其他反射性和非反射性材料在内的各种表面的近正态反射率。订货信息：80 Spec 掠入射角型镜面反射附件(PIKE)产品描述Spectrum One/100/400/65Spectrum TwoFrontier80 Spec 掠入射角型镜面反射附件L1272248L1272248L127224810 Spec 镜面反射附件(PIKE)产品描述Spectrum One/100/400/65Spectrum TwoFrontier10 Spec 镜面反射附件L1272247L1272361L1272247

上海楚柏为您强烈推荐GPI三路气体净化装置，该三路气体净化器已经预装填了变色硅胶，活性吸附碳和分子筛，购买后直接使用，而不需再单独购买三种吸附剂，大大提高您的工作效率和节省时间。上海楚柏的ＧＰＩ预装填吸附剂的三路气体净化器现在优惠促销进行中，原价1500元，现特价：900元销售，机会不容错过。GPI三路气体净化器专门为实验用气体进行净化和处理而设计的烃类(CH2)，水份，CO2气体净化的装置，广泛应用气相色谱、有机合成、无机材料、高分子材料、元素分析、环境分析、物理化学、食品分析、半导体材料、光纤材料等实验室工艺流程中。脱除水份，填装变色分子筛或变色硅胶；脱除烃类(CH2)，填装活性炭；脱除CO2，可填装烧碱石棉等。为达到三级深度净化的要求还可以将三路串接使用。GPI三路气体净化器装拆简捷，使用可靠。如您还需了解GPI预装填吸附剂的三路气体净化器的详细情况，上海楚柏实验室设备有限公司为您提供实验室整体解决方案（实验室设计、实验室家具、仪器、耗材、试剂等&hellip &hellip ）

产品特点：Capillary-Grade 烃捕集阱Capillary-Grade Hydrocarbon Trap● 具有极高的表面积，椰壳活性炭。● 用超高纯度氦气净化；可用于任何载体气体，包括氢气。● 将有机物减少至0.1 ppm（假设输入为100 ppm）。● 最大工作压力：250 psi（1,724 kPa）。订货信息：Capillary-Grade Hydrocarbon TrapCatalog #FittingsUnits219911/8Nickel-Plated Brassea.219921/4Nickel-Plated Brassea.

产品概要：MPI在晶圆级RF校准方面的长期经验以及对微波测量细节的详细了解是QAlibria的底部– MPI的RF校准软件。基本信息： 多点触摸使射频系统校准的复杂繁琐任务尽可能简单—这是MPI校准的主要目标，因此QAlibria。通过实施渐进式披露方法并实现直观的触摸操作，QAlibria为RF校准过程提供清晰明了的指导。 多语言系统MPI QAlibria 用户友好的多语言GUI即使对于没有经验的操作员也可以最大程度地降低操作风险和不便。 多线TRLQAlibria 符合行业标准和高级校准方法。此外，QAlibria 与NIST StatistiCal Plus 校准套件集成在一起， 可轻松访问NIST多线TRL计量级校准以及校准和测量结果的不确定性分析。技术优势：QAlibria 旨在简化射频系统校准的繁琐工作。它具有多点触摸和多语言图形用户界面的独特功能，以及原始的NIST多线TRL校准功能，彻底改变了晶圆级RF系统校准。应用方向：主要应用于晶圆级RF校准方面。

天蝎座（Scorpii™ ) Nd:YAG扩束镜套件Nd:YAG 激光波长增透膜：355nm、532nm 和 1064nm套件包括从2X到10X 5种逐级放大倍率经济实惠的原型设计解决方案TECHSPEC® 天蝎座（Scorpii™ ) Nd:YAG扩束镜套件设计用于原型设计并确定扩束应用（如激光雕刻和材料加工）中的放大倍率。每个套件都包含5款Nd:YAG波长的定倍扩束镜，并且包括2X、3X、5X、7X和10X放大倍率。TECHSPEC® 天蝎座（Scorpii™ ) Nd:YAG扩束镜套件是一款绝佳的经济型解决方案，可确定您的激光应用所需的放大倍率。每个套件都有专属的收纳盒，并且能轻松使用各种固定放大倍率。注意:此系列产品即更名前的 TECHSPEC LC（低成本）固定式YAG扩束镜套件。也可提供单独的TECHSPEC 天蝎座（Scorpii™ ) Nd:YAG扩束镜。对于氦氖激光应用, 可选择TECHSPEC 大角星（Arcturus™ ）氦氖扩束镜。对于适用于可旋转系统的应用，可选择TECHSPEC 织女星（Vega™ ）激光谱线扩束镜和TECHSPEC 织女星（Vega™ ）宽带扩束镜。对于需要滑动光学件，精度更高的应用，可以试试我们的TECHSPEC 天龙座（Draconis™ ）激光谱线扩束镜或TECHSPEC 天龙座（Draconis™ ）宽带扩束镜。对于宽带或是超快应用, 可选择TECHSPEC 老人星（Canopus™ ）反射式扩束镜。532nm版本可与流行的530nm激光应用兼容，1064nm版本适用于1060nm，1070nm和1075nm的激光应用。通用规格Divergence Adjustment:None产品信息DWL (nm)产品编码355#39-054532#39-0551064#39-056

黑磷晶体（大批量，50g）规格：50g纯度：~99.99999%包装：一次性试剂装或氩气包装此款为特殊款，具体价格请联系在线客服

关于体外渗透试验或透皮试验（IVPT），EMA在2018年发布的《Draft guideline on quality and equivalence of topical products》中仅推荐使用离体人类皮肤。PMDA规定可以使用离体大鼠、小鼠或猪的皮肤进行试验。在FDA 阿昔洛韦指南和IVPT指南中，均推荐采用离体人类皮肤；但在USP 中规定，除采用离体人类皮肤外，因猪的皮肤与人类皮肤具有相对相似的形态，可作为研究的重要选择；实验用巴马香猪猪皮是一种用于透皮试验、烧伤研究、心血管研究等领域的动物模型。它的皮肤与人类的皮肤非常相似，具有优良的品质和稳定的遗传基因。实验用巴马香猪月龄20 -45天，猪皮的大小约为A4纸大小，厚度1mm左右，无添加化学试剂，全程冷链运输。有实验动物养殖许可的养殖场，可提供质量合格证，个案信息表收到后储于-18℃冷冻储存，时间不宜超出三个月，该巴马小猪皮肤已经经过加工处理，皮下组织以及毛发均处理干净，可以直接用于实验。公司简介：北京元森凯德生物技术有限公司2013年成立于北京中关村科技园，是一家专业从事生命科学类实验仪器研制、生产与销售的科技创新型企业。服务毒理学、药理学、免疫学、生物安全、大气污染物、化学物质毒性鉴定、临床前药物开发与安全性评价、呼吸系统、环境与健康等领域。元森凯德在中国北京、美国宾夕法尼亚均设有技术联络中心，注重仪器的售前、售中、售后沟通，时刻关注行业的最新进展动态，客户群体主要有全国各大高校、实验动物科研单位、药物研发机构、第三方CRO及医院中心实验室等。我们将以领先的技术、优质的产品、完善的服务致力于成为业内优秀的实验仪器设备供应厂商。我们的目标是：服务用户至上，让科研仪器的使用变得更简便和高效。

型号规格：100g品牌：PIKE用于红外光谱透射测量与待测样品混合(1-2%)，在玛瑙研钵中研磨混匀。用作漫反射测量的背景材料。供应溴化钾粉末(KBr)、溴化钾晶体（KBr Chunks）、氯化钾粉末（KCl)、氯化钾晶体（KCl Chunks）

产品概要：MPI为射频和毫米波测量应用提供了出色的软电缆和附件选择，可实现完整的射频探头系统集成。基本信息：测试电缆晶圆级测量系统中的RF电缆必须满足许多特殊要求：较佳的电缆长度，重量，大小和相位稳定性，温度范围和公连接器的设计，MPI可以提供两个系列的RF电缆-高端MMC和入门级MRC-涵盖从18 GHz开始的整个频率范围。电缆组件有两种标准长度，分别为120厘米和80厘米，以与探头系统的占地面积和VNA的位置相匹配。转接器提供高质量的RF和高端毫米波适配器，以应对常规系统重新配置以及与不同类型的测试仪器集成的挑战。波导管波导段用于将基于波导的RF探头与VNA毫米波头(转换器)的输出端口相连，该端口的使用频率从V波段(50 GHz)开始。由于采用统一的设计，MPI波导段可与任何类型的变频器和MPI探头系统兼容。同时，它们提供了很大限度的系统测量动态范围。标准产品涵盖了广泛的频率范围：从V波段(WR15，从50 GHz到75 GHz)到G波段(WR-5，从140 GHz到220 GHz)。对于220 GHz以上的测量，MPI工程师建议将RF探头直接安装到转换器的波导端口。技术优势：1、测试电缆稳定性较高2、高质量的RF和高端毫米波适配器3、MPI波导段具有良好的兼容性应用方向：主要用于射频和毫米波测量应用。

产品概要：MPl悬臂探针卡广泛应用于金凸点和焊盘晶圆测试，用于显示驱动器、逻辑和存储设备。基本信息：MPI的悬臂式探头是对细间距、小焊盘尺寸、高速、清洁少、多DUT、高引脚数和超低泄漏要求的相应解决方案。技术优势：1、使用对角线或托架应用程序执行多个DUT配置，以实现超常规对齐和平面度2、减少高温或低温试验期间的热变形3、R+和U+结构的高速解决方案，用于严格的Pl和Sl应用4、通过先进的探针材料和设计，稳定低接触电阻性能5、交付周期短，是工程设备的理想选择应用方向：MPl悬臂探针卡广泛应用于金凸点和焊盘晶圆测试，用于显示驱动器、逻辑和存储设备。

订货信息：Pike 镜面反射备选产品产品描述部件编号Spectrum One/100/400/65Spectrum TwoFrontier80Spec/VeeMAX KRS - 5起偏器L1272243√√√80Spec ZnSe手动起偏器L1272376√√√80Spec/10Spec金制反射镜L1272377√√√VeeMax ZnSe45o 平板L1272450√√VeeMax ZnSe60o 平板L1272451√√VeeMax Ge 45o平板L1272452√√VeeMax Ge 60o 平板L1272453√√VeeMax Ge 65o 平板L1272454√√ATRMax II可变角度型多次反射 ATR 45o ZnSe 晶体板L1272455√√ATRMax Ge 45o槽形板L1272456√√ATRMax Ge 45o平板L1272457√√

Pike 镜面反射备选产品订货信息：产品描述部件编号80Spec/VeeMAXKRS-5起偏器L127224380Spec ZnSe手动起偏器L127237680Spec/10Spec金制反射镜L1272377VeeMax ZnSe 45o平板L1272450VeeMax ZnSe 60o平板L1272451VeeMax Ge 45o平板L1272452VeeMax Ge 60o平板L1272453VeeMax Ge 65o平板L1272454ATRMax II可变角度型多次反射ATR 45oZnSe晶体板L1272455ATRMax Ge 45o槽形板L1272456ATRMax Ge 45o平板L1272457

【SCM-PIT-V2bruker】原子力显微镜探针 几何矩形齿顶圆角半径（nm）尺寸：25频率（赫兹）尺寸：75最小：50最大：100长度（um）尺寸：225最小：215最大：235弹簧常量（Nm）尺寸：3.0最小：15最大：6.0宽度（um）尺寸：35最小：33最大：37

NameMountDescriptionPack SizeTip Radius (nm) SCM-PICUnmountedPt/ Ir Coated Tips, 0.2N/m 13kHz, Pt/Ir Reflective Coating1020探针的指标主要分三个部分，分别对应了基片，微悬臂梁，和针尖三个部分。1. 基片，就是基片的长，宽，高，各种探针的基片尺寸是基本一致的。2. 悬臂梁，分为矩形梁和三角形悬臂梁，他们的长宽厚的几何尺寸决定了悬臂梁的弹性系数和共振频率。而弹性常数K是探针的很重要的一个参数，一般来说，接触模式的探针的弹性常数小于1N/m。轻敲模式的探针的悬臂梁弹性系数从几个N/m到几十个N/m。常用的RTESP的弹性常数是40N/m。3. 针尖，针尖的的几何形状是一个四面体。指标主要有，曲率半径(Tip Radius)，探针高度（Tip Height），对应于四面体的指标，前角（Front Angel），后角（Back Angel），侧角（Side Angel），还有一个是Tip Set Back，对应的是针尖离悬臂梁最末端的水平距离。材质：1. 轻敲探针：一般是单晶硅，型号如RTESP；2. 接触模式探针：材质是SiN，而新型号的SNL接触探针，悬臂梁是SiN，而针尖则Si（曲率半径2nm左右），这种探针可以提供接触模式下的分辨率图；3. 功能探针：如磁力探针（MESP），导电探针，则是在普通的硅探针的基础上再镀上相应的材料。MESP的镀层是Co/Cr，SCM-PIT的镀层是Pt。常用探针型号介绍： 常用探针型号介绍1. 轻敲模式，RTESPA-300，TESP，FESP2. 接触模式，SNL，NP，3. 智能扫描模式：Scanasyst air,ScanAsyst-fluid,ScanAsyst-Fluid+4. 磁力显微镜，MESP-V2,MESP-RC-V25. 静电力显微镜，导电AFM，等电学测量模式，DDESP，SCM-PIT，SCM-PIC等。6. 其他特殊功能探针。如金刚石探针，大长径比探针。

带有开关阀并对气源进行净化处理，提高气体纯度而专门设计的小型三气净化器。具有安装简单、净化完全、造型美观和不易漏气等优点。是各仪器用户的最佳选择。

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产品概要：MPI提供AC 系列校准基片具备至多二十六组的校准标准，提供 GS、SG、GSG 等多种信号探针，可支持SOLT, LRM, SOLR, TRL and multiline TRL等多选的校准方法。基本信息：AC系列校准基片具备至多二十六组的校准标准，供 GS/SG、GSG 探针在晶圆测量前，可支持SOLT, LRM, SOLR, TRL and multiline TRL等多选的校准方法，五条共面线提供宽带参考多线TRL校准以及常规方法的准确性验证，添加了直角倒角元件，以通过RF探头的直角配置来支持系统的SOLR校准，还提供用于宽螺距探头的校准基板。技术优势：1、支持SOLT, LRM, SOLR, TRL and multiline TRL等多选的校准方法2、添加了直角倒角元件，提供用于宽螺距探头的校准基板应用方向：应用于宽带参考多线TRL校准以及常规方法的准确性验证。

For the past 15 years single crystal sapphire has been at the cutting edge of semiconductor technology.A combination of unique chemical, physical, optical and mechanical properties make sapphire the best choice for a broad spectrum of laboratory and industrial applications.• Chemical resistance.Sapphire is highly inert and resistant to attack in most process environments including hydrofluoric acid and the fluorine plasma applications commonly found in semiconductor wafer processing (NF3, CF4).• Mechanical properties.Sapphire is characterized by high toughness and solidity, and demonstrates excellent resistance in different environments ranging from cryogenic to over 1500°C. Due to this characteristics combined with chemical stability sapphire is widely used in medicine: endoscope and probe lenses, needles for thermal treatment of tumors, scalpels etc.• Electrical properties.Sapphire provides a high, stable dielectric constant with the electrical insulation required for LED, RF and microwave applications.• Optical transmission.Sapphire is characterized by high transmission in the range of UV to near IR. Given the chemical stability, high temperature and high pressure resistance sapphire is the preferred choice for window / viewport applications in high performance vacuum systems, furnaces, deep sea cameras, fire alarm systems etc.• Surface properties.Sapphire can be polished to very high flatness and smoothness for substrate applications and precision mechanical components.• Thermal properties.With a melting point over 2000°C, and high thermal conductivity sapphire is often used in many harsh process environments.• Wear properties.With high hardness and transparency, sapphire is used for scratch proof windows in high wear applications and for precision mechanical components.Basic propertiesCrystallline structureHexagonala = b = 4.77 ?c = 13.04Melting point:2040°СThermal expansion index:6,7 х 10-6С parallel to С-axisConductivity46.06 W/m °K at 0°CSpecific resistivity:5,0 х 10-6С perpendicular to С-axisDielectric Constantaverage 11.5 (parallel to C-axis)Density3,98 g/ cm3Compressive Strength2 GPaYoung Modulus3.6x104 – 4.4x104Flexural Strength35-39 daN/ mm2Tensile Strength~400 MPa (at approx. 25°C)Poisson’s Ratio0.28-0.33Hardness9 mohs1800 Knoop parallel to c-axis2200 Knoop perpendicular to c-axisRefraction IndexNo: 1.768 (c-axis)Ne: 1.760 (c-axis)Birefringence(No-Ne) 0.008Sapphire TransmissionProductsSapphire ingots for LED, RF and optical applicationsDiameter/Width5-220 mmThickness/Length25 – 500 mmOrientationC (0001), M (1010), A (1120), R (1102)Surface qualityAs-cut, fine-groundEnds/Edge QualityAs-cut, fine-groundSapphire tubes, capillaries and nozzles for mechanical and optical applications: laboratory equipment, semiconductor equipment, optical systems (CVD, plazma reactors, UV treatment of substances, protective sheaths for thermocouples etc.)Sapphire crucibles for laboratory and semiconductor equipmentSapphire needles for medical treatment.Inner Diameter0.6 - 30 mmOuter Diameter2 - 50 mmLengthUp to 600 mmOrientationRandom, CSurface qualityAs-grown, fine-ground, 80/50perMIL-0-13830Ends/Edge QualityAs-cutSapphire substrates for LED and RF applicationsDiameter50.8 – 160mmThickness0.3 – 5 mmOrientationC (0001), M (1010), A (1120), R (1102)Surface qualityEPI-polished (RaSapphire windows and viewports for UV, visible and near-IR applications (semiconductor equipment, scanners, laser systems, fire alarm systems, deep sea cameras)Diameter1-240 mmThickness/=0.15 mmOrientationRandom, M (1010), A (1120), R (1102), C (0001)Flatness4 λ per inchParallelismChamferSurface quality80/50, 60/40, 40/20, 20/10. or 10/5perMIL-0-13830Sapphire rods and blanks for LED, RF, optical, mechanical and medical applicationsDiameter1-300 mmThickness/=0.15 mmOrientationC (0001), M (1010), A (1120), R (1102)Surface qualityAs-cut, fine-ground Blanks Windows Substrate Tubes更多晶体相关产品碲化锌晶体ZnTe晶体铌酸锂晶体LiNbO3晶体硒化锌晶体ZnSe晶体硒化镓晶体GaSe晶体硫化锌晶体ZnS晶体磷化镓晶体GaP晶体有机晶体DAST晶体有机晶体DSTMS晶体有机晶体OH1晶体

ps/fs-Laser [1030–1040 nm] 皮秒/飞秒激光镜片a Laser Mirror 0° 激光反射镜b1 Pump Mirror 0°, 800 – 982 nm 泵浦镜b2 Pump Mirror 0°, 960 – 982 nm 泵浦镜d Turning Mirror 45° 调谐镜h1 GTI-Mirror 5°, 1030 nm, -250 fs 2 h2 GTI-Mirror 5°, 1030 nm, -550 fs 2h3 GTI-Mirror 5°, 1030 nm, -1000 fs 2h4 GTI-Mirror 5°, 1040 nm, -250 fs 2h5 GTI-Mirror 5°, 1040 nm, -550 fs 2h6 GTI-Mirror 5°, 1040 nm, -1000 fs 2n Separator 22.5° 分离器o1 Thin Film Polarizer 45°, 1030 nm 薄膜偏振片o2 Thin Film Polarizer 45°, 1042 nm 薄膜偏振片o3 Thin Film Polarizer 56°, 1030 nm 薄膜偏振片o4 Thin Film Polarizer 56°, 1042 nm 薄膜偏振片p Window 0° 窗镜a Laser Mirror 0° 激光反射镜Coating 139374HR s,p (0 – 10°, 1 030 – 1 042 nm) 99.99 %| GDD-R s,p (0 – 10°, 1 030 – 1 042 nm) | LIDT6/ 3 J/cm2 1030 nm 10 ps 1 kHz ? 50 μm LIDARIS VilniusSubstrate DimensionsNo.ImperfectionsItem #? 12.7 mm | t 6.35 mmA45 / 1 x 0.04141246? 25.0 mm | t 6.35 mmB45 / 3 x 0.04141248? 50.0 mm | t 9.5 mmC35 / 4 x 0.06314124925 × 25 mm | t 6.35 mmD25 / 3 x 0.04139564b1 Pump Mirror 0°, 800 – 982 nm Layertec泵浦镜S2: Coating 141171HR (0°, 1 030 – 1 040 nm) 99.9 %R (0°, 800 – 982 nm) GDD-R (0°, 1 030 –1 040 nm) = 300 (±300) fs2cut on/off R (0°) = T (0°) = 50 % at 995 (±10) nmAOI 0° → 10° : shift cut on/off-wavelength -5 nmS1: Coating 141174AR (0°, 800 – 1 000 nm) Substrate DimensionsNo.ImperfectionsItem #? 12.7 mm | t 6.35 mmA45 / 1 x 0.04141951? 25.0 mm | t 6.35 mmB45 / 4 x 0.04141530b2 Pump Mirror 0°, 960–982 nm Layertec泵浦镜S2: Coating 141181HR (0°, 1 030–1040 nm) 99.9 %R (0°, 960–982 nm) | GDD-R (0°, 1030–1040 nm) | cut on/off R (0°) = T (0°) = 50 % at 994 (±5) nmAOI 0°→ 10°: shift cut/off-wavelength -5 nmS1: Coating 141184AR (0°, 950–1050 nm) Substrate DimensionsNo.ImperfectionsItem #? 12.7 mm | t 6.35 mmA45 / 1 x 0.04141952? 25.0 mm | t 6.35 mmB45 / 4 x 0.04141525d Turning Mirror 45° Layertec调谐镜Coating 141317HRs,p (45°, 1030-1040 nm) 99.9 %| GDD-Rs,p (45°,1030-1040nm) | Substrate DimensionsNo.ImperfectionsItem #? 12.7 mm | t 6.35 mmA45/ 1 x 0.04141569? 25.0 mm | t 6.35 mmB45/ 3 x 0.04141501? 50.0 mm | t 9.5 mmC35/ 4 x 0.06314157225 × 25 mm | t 6.35 mmD25/ 3 x 0.04141573h1 GTI-Mirror 5°, 1030 nm, -250 fs2 Coating 141126HRs,p (0-10°, 1030 nm) 99.95 %GDD-Rp (0 -10°, 1030 nm) = -250 (±50) fs2Substrate DimensionsNo.ImperfectionsItem #? 12.7 mm | t 6.35 mmA45/ 1 x 0.04141250? 25.0 mm | t 6.35 mmB45/ 4 x 0.04141251h2 GTI-Mirror 5°, 1030 nm, -550 fs2Coating 141149HRs,p (0-10°, 1030 nm) 99.95 %GDD-Rp (0-10°, 1030 nm) = -550 (±100) fs2Substrate DimensionsNo.ImperfectionsItem #? 12.7 mm | t 6.35 mmA45/ 1 x 0.04141255? 25.0 mm | t 6.35 mmB45/ 4 x 0.04141257h3 GTI-Mirror 5°, 1030 nm, -1000 fs 2Coating 141151HR s,p (0 – 10°, 1 030 nm) 99.95 %GDD-R p (0 – 10°, 1 030 nm) = -1 000 (±200) fs2Substrate DimensionsNo.ImperfectionsItem #? 12.7 mm | t 6.35 mmA45/ 1 x 0.04141260? 25.0 mm | t 6.35 mmB45/ 4 x 0.04141261h4 GTI-Mirror 5°, 1040 nm, -250 fs 2Coating 141148HR s,p (0 – 10°, 1 040 nm) 99.95 %GDD-R p (0 –10°, 1 040 nm) = -250 (±50) fs2Substrate DimensionsNo.ImperfectionsItem #? 12.7 mm | t 6.35 mmA45/ 1 x 0.04141263? 25.0 mm | t 6.35 mmB45/ 4 x 0.04141266h5 GTI-Mirror 5°, 1040 nm, -550 fs 2Coating 141150HR s,p (0 – 10°, 1 040 nm) 99.95 %GDD-R p (0 – 10°, 1 040 nm) = -550 (±100) fs2Substrate DimensionsNo.ImperfectionsItem #? 12.7 mm | t 6.35 mmA45/ 1 x 0.04141269? 25.0 mm | t 6.35 mmB45/ 4 x 0.04141270h6 GTI-Mirror 5°, 1040 nm, -1000 fs 2Coating 141152HR s,p (0 – 10°, 1 040 nm) 99.95 %GDD-R p (0 – 10°, 1 040 nm) = -1 000 (±200) fs2Substrate DimensionsNo.ImperfectionsItem #? 12.7 mm | t 6.35 mmA45/ 1 x 0.04141273? 25.0 mm | t 6.35 mmB45/ 4 x 0.04141274n Separator 22.5° Layertec分离器S2: Coating 141303HR s,p (22.5°, 1 030 – 1 050 nm) 99.8 %R s,p (22.5°, 900 – 980 nm) S1: Coating 141306AR s,p (22.5°, 900 – 1 000 nm) Substrate DimensionsNo.ImperfectionsItem #? 12.7 mm | t 3.05 mmA35/ 1 x 0.04142321? 25.0 mm | t 3.05 mmB35/ 3 x 0.04142320o1 Thin Film Polarizer 45°, 1030 nm Layertec薄膜偏振片S2: Coating 141254TFP (45° *, 1 030 nm) R s 99.9 % R p *specifi cations will be achieved by ±2° angle adjustmentS1: Coating 141268AR p (45°, 1 020 – 1 050 nm) Substrate DimensionsNo.ImperfectionsItem #?25.0 mm | t 3.05 mmB35/ 3 x 0.04141531o2 Thin Film Polarizer 45°, 1042 nm Layertec薄膜偏振片S2: Coating 141259TFP (45° *, 1042 nm) R s 99.9 % R p *specifi cations will be achieved by ±2° angle adjustmentS1: Coating 141268AR p (45°, 1 020 – 1 050 nm) Substrate DimensionsNo.ImperfectionsItem #? 25.0 mm | t 3.05 mmB35/ 3 x 0.04141532o3 Thin Film Polarizer 56°, 1030 nm Layertec薄膜偏振片S2: Coating 141262TFP (56° *, 1030 nm) R s 99.9% R p *specifi cations will be achieved by ±2° angle adjustmentS1: Uncoated Brewster angle → R p (56°) ~ 0 %Substrate DimensionsNo.ImperfectionsItem #? 25.0 mm | t 3.05 mmB35/ 3 x 0.04141533o4 Thin Film Polarizer 56°, 1042 nm Layertec薄膜偏振片S2: Coating 141264TFP (56° *, 1042 nm) R s 99.9% R p *specifi cations will be achieved by ±2° angle adjustmentS1: Uncoated Brewster angle → R p (56°) ~ 0 %Substrate DimensionsNo.ImperfectionsItem #? 25.0 mm | t 3.05 mmB35/ 3 x 0.04141534p Window 0° Layertec窗片S2+S1: Coating 141184AR (0°, 950 – 1 050 nm) Substrate DimensionsNo.ImperfectionsItem #? 12.7 mm | t 1 mmA25/ 1 x 0.04141932? 25.0 mm | t 1 mmB25/ 3 x 0.04141935德国Layertec公司创建于 1990年. 凭借多年在光学镜片的设计开发和生产经验，已成为全球知名的光学镜片厂商，LAYERTEC的镜片品质非常出众,广泛赢得客户的赞誉。光学镜片应用波长范围从157-2940nm,包括了科研以及工业上主流的激光器的应用，材质有YAG, Sapphire,CaF2,IR-fused silica,Fused Silica,BK7，尺寸大部份为0.5inch-2inch。Layertec专注于提供激光光学元件的镀膜，波长范围从 VUV（157nm及以下） 到 NIR波段（～4um）。最常见的光学镀膜类型是高反射镜（从正入射或者AOI=45°的转向镜），用于输出耦合的部分反射镜，以及分束器和用于窗口和透镜的抗反射膜。对于更复杂的激光器镀膜，包括3个以上波长的高反射率（例如激光器波长和倍频波长），以及3个以上波长的高透射率（例如泵浦波长，倍频或者抑制其他激光波长）。宽带反射镜，针对平滑群延迟和群延迟色散光谱优化的反射镜，这些在宽带激光输出应用中会用到，例如染料激光器，钛宝石激光器，光参量震荡器（OPO）和飞秒激光器。除了反射率和透射率，激光应用的镀膜必须满足低光学损耗和高激光损伤阈值。在VIS和NIR波段的溅射光学镀膜具有低杂散光和低吸收损耗（数量级都在10–5）。磁控溅射镀膜的HR镜反射率或者部分反射镜的反射透射率之和都超过99.9%。最近测量了在溅射和蒸发镀膜中的NIR波长吸收损耗都在3-30ppm。在VIS-NIR波长范围，蒸发镀膜会产生杂散光损失大约10-3级，在UV和VUV波长可以达到10-2。尽管如此，蒸发镀膜在UV波长的吸收损耗比较低。在CW和纳秒激光器光学元件的损伤主要跟热效应有关，例如增大的吸收，镀膜材料的固有吸收或者缺陷造成的吸收， 或者 镀膜较差的热导率 以及较低的熔化温度。 高能量的镀膜要求控制镀膜材料的固有特性以及减少膜层的缺陷。皮秒和飞秒激光元件的激光损伤主要是场强效应造成的。针对这类激光器的高功率镀膜要求非常特殊的设计。根据ISO 11254-1 (cw- LIDT and 1 on 1–LIDT, 例如单脉冲 LIDT), ISO 11254-2 (S on 1, 例如多脉冲 LIDT) 以及 ISO 11254-3 (一定数量的脉冲LIDT )标准中对激光损伤阈值LIDT的定义要求激光系统工作在单频模式下，精确的光束诊断和在线/离线损伤探测系统。因为这个原因，数量有限的配有少数几种激光器的测量系统可以使用（例如Laserzentrum Hannover 公司的1064nm）。对于比较特殊的激光器波长例如氩离子激光器（488nm或者514nm），没有测量系统可以用来验证LIDT数据。

Captiva EMR-Lipid 可高选择性而高效地去除脂质/基质，而不会造成分析物损失。新型 EMR-Lipid 技术结合了体积排阻和疏水相互作用，在此基础上实现脂质去除。高效的脂质去除可确保最大程度减少目标分析物的离子抑制，从而显著提高方法的可靠性和耐用性。96 孔板和 1 mL 小柱样式含溶剂保留滤芯，可实现溶剂优先孔内蛋白质沉淀处理，从而简化了样品前处理，经过改良设计的过滤器可实现真空或正压驱动下的轻松流动。3 mL 和 6 mL 小柱样式不含溶剂保留滤芯，可实现重力自流，并且简便易用。

Captiva EMR-Lipid 可高选择性而高效地去除脂质/基质，而不会造成分析物损失。新型 EMR-Lipid 技术结合了体积排阻和疏水相互作用，在此基础上实现脂质去除。高效的脂质去除可确保最大程度减少目标分析物的离子抑制，从而显著提高方法的可靠性和耐用性。96 孔板和 1 mL 小柱样式含溶剂保留滤芯，可实现溶剂优先孔内蛋白质沉淀处理，从而简化了样品前处理，经过改良设计的过滤器可实现真空或正压驱动下的轻松流动。3 mL 和 6 mL 小柱样式不含溶剂保留滤芯，可实现重力自流，并且简便易用。

10Spec™ 镜面反射附件（PIKE）这种附件建议用来按照ASTM标准E1585-93测定玻璃反射率。本品也可用来测定包括军用仪器、反射光学仪器、防反射（AR）镀层表面以及其他反射性和非反射性材料在内的各种表面的近正态反射率。订货信息：产品描述SpectrumOne/100/400/65Spectrum TwoFrontier10Spec™ 镜面反射附件L1272247 1660L1272361 1580L1272247 1660

产品概要：MPI公司通过引入独特的TITAN-RC探针来扩展RF TITAN探针的系列。新的探针模型的特点是触头宽度减小了33%，减小到20μm，TITAN-RC探针与进一步减小RF器件和IC的焊盘尺寸的行业趋势完全吻合，大大降低了下一代商用RF和毫米波硅器件和IC的测试成本，它可以为铝焊盘金属化小至30 x 35μm的硅器件获得准确且可重复的测量结果。基本信息： ME MS技巧 MPI TITAN&trade 探针经过精准制造，具有完美匹配的50Ω的MEMS触点。由于出色的探头电气特性(最小的插入损耗和串扰以及高的回波损耗)，它们可确保在较宽的频率范围内提供无与伦比的校准和测量结果。 独特的接触结构与市场上的其他针尖不同，由于独特的突起式针尖设计，MPI TITAN&trade RF探头可提供出色的实时可视性。首次，即使对于没有经验的操作人员，也无需使用探头对准标记，就可以将RF探头高精度地定位在校准标准件或DUT 上。技术优势：1、提供宽范围的Probe选择：DC-220Ghz2、单双信号规格3、针距范围 50 μm 至 1250 μm4、至高 10 瓦功率型射频组件的特性量测5、TITAN-RC版本探针具有GSG尖端配置，探针间距为50μm至150μm应用方向：应用于晶圆校准和测量。

关于体外渗透试验或透皮试验（IVPT），EMA在2018年发布的《Draft guideline on quality and equivalence of topical products》中仅推荐使用离体人类皮肤。PMDA规定可以使用离体大鼠、小鼠或猪的皮肤进行试验。在FDA 阿昔洛韦指南和IVPT指南中，均推荐采用离体人类皮肤；但在USP 中规定，除采用离体人类皮肤外，因猪的皮肤与人类皮肤具有相对相似的形态，可作为研究的重要选择；实验用巴马香猪猪皮是一种用于透皮试验、烧伤研究、心血管研究等领域的动物模型。它的皮肤与人类的皮肤非常相似，具有优良的品质和稳定的遗传基因。实验用巴马香猪月龄20 -45天，猪皮的大小约为A4纸大小，厚度1mm左右，无添加化学试剂，全程冷链运输。有实验动物养殖许可的养殖场，可提供质量合格证，个案信息表收到后储于-18℃冷冻储存，时间不宜超出三个月，该巴马小猪皮肤已经经过加工处理，皮下组织以及毛发均处理干净，可以直接用于实验。公司简介：北京元森凯德生物技术有限公司2013年成立于北京中关村科技园，是一家专业从事生命科学类实验仪器研制、生产与销售的科技创新型企业。服务毒理学、药理学、免疫学、生物安全、大气污染物、化学物质毒性鉴定、临床前药物开发与安全性评价、呼吸系统、环境与健康等领域。元森凯德在中国北京、美国宾夕法尼亚均设有技术联络中心，注重仪器的售前、售中、售后沟通，时刻关注行业的最新进展动态，客户群体主要有全国各大高校、实验动物科研单位、药物研发机构、第三方CRO及医院中心实验室等。我们将以领先的技术、优质的产品、完善的服务致力于成为业内优秀的实验仪器设备供应厂商。我们的目标是：服务用户至上，让科研仪器的使用变得更简便和高效。

与所有标准的皮肤扣件一样，小鼠和大鼠的皮肤扣包括Luer附件和圆形涤纶网状小片两部分，是动物的手术中不可或缺的物件。Luer附件为聚乙烯材质，内径为0.123英寸；涤纶网状小片的直径大约1英寸。皮肤扣作为导管通过皮肤的一个通道，协助完成导管的取样或定量给药工作。皮肤扣可替代小动物的jacket，可保护导管通过点的皮肤免受损伤，降低感染的几率。也可与外径为0.124英寸的标准不锈钢弹性细丝完美匹配。订购信息：货号产品名称规格BT-020小动物皮肤扣Rodent skin button100个

与所有标准的皮肤扣件一样，小鼠和大鼠的皮肤扣包括Luer附件和圆形涤纶网状小片两部分，是动物的手术中不可或缺的物件。Luer附件为聚乙烯材质，内径为0.123英寸；涤纶网状小片的直径大约1英寸。皮肤扣作为导管通过皮肤的一个通道，协助完成导管的取样或定量给药工作。皮肤扣可替代小动物的jacket，可保护导管通过点的皮肤免受损伤，降低感染的几率。也可与外径为0.124英寸的标准不锈钢弹性细丝完美匹配。订购信息：货号产品名称规格BT-020小动物皮肤扣Rodent skin button100个

新疆皮棉加湿机 新闻资讯报道：在棉花加工过程中，如果经轧花成套设备生产加工出来的皮棉回潮率小于6.5%时，那么棉纤维容易损伤折断，皮棉中短纤维量增加，品质不达标；也会大大增加打包的难度和成本，还会发生“崩包“的问题；而且对纺织厂的纺纱也有很大的影响。一般来说，皮棉的回潮率保持在8-8.5%是较为适宜的；如何让皮棉的回潮率能够达到这一标准的问题，受到了棉花加工企业的普遍重视；因此，在各轧花生产线中，皮棉加湿回潮工艺几乎是必备的工艺环节。正岛ZS-F60Z皮棉加湿机及ZS系列超声波工业加湿机可用于在打包时，对低于标准回潮率的皮棉进行自动喷雾加湿，经加湿后皮棉回潮率即可达到8%左右这一标准范围之内；目前，已在新疆地区的库尔勒，石河子等越来越多的棉花加工厂，轧花厂中投入运行，也取得了很好的加湿回潮效果和经济效益。！正岛ZS-F60Z皮棉加湿机及ZS系列超声波工业加湿机产品，对于其他加湿方式的加湿机而言，具有【雾化颗粒细】 、【使用能耗低】 、【雾化能效高】，【加湿速度快】的显著优势。正岛电器生产的ZS-F60Z皮棉加湿机及ZS系列超声波工业加湿机是采用超声波高频振荡的原理，从而达到均匀加湿的目的；具有空气加湿、净化、防静电、降温、降尘等多种用途；既可以较大空间进行均匀加湿，也可对特殊空间进行局部湿度补偿，具有较高的使用灵活性。点击此处查看皮棉加湿机全部新闻图片欢迎您来电咨询新疆皮棉加湿机的详细信息！工业用加湿机种类有很多,不同品牌工业用加湿机价格及应用范围也会有所不同,而我们将会为您提供全方位的售后服务和优质的解决方案。正岛ZS-F60Z皮棉加湿机及ZS系列超声波工业加湿机控制方式，技术参数：控制方式加湿量1.8kg/h加湿量3kg/h加湿量6kg/h加湿量9kg/h加湿量12kg/h加湿量18kg/h开关控制ZS-06ZS-10ZS-20ZS-30ZS-40ZS-F60时序控制ZS-06SZS-10SZS-20SZS-30SZS-40SZS-F60S湿度控制ZS-06ZZS-10ZZS-20ZZS-30ZZS-40ZZS-F60Z出雾方式单管单管单管双管双管三管消耗功率180W300W600W900W1200W1800W产品优势全不锈钢箱体集成式雾化器IP68级防水电源轴承式防水风机耐碱酸陶瓷雾化片高精度湿度传感器查看更多新疆皮棉加湿机的详细信息尽在:正岛电器工业用加湿机厂家记者核心提示：值得注意的，轧花厂在对皮棉进行加湿时，不能以液态水的形式进行，应用汽态水来完成加湿回潮作业，否则可能导致棉花变色等不良后果。因此，皮棉加湿回潮设备的选择是非常重要；正岛电器专业生产的具有雾化颗粒细 、加湿回潮均匀等显著优势的正岛ZS-F60Z皮棉加湿机及ZS系列超声波工业加湿机无疑是皮棉加湿回潮的不二之选!以上关于新疆皮棉加湿机的最新相关新闻报道是正岛电器为大家提供的！您可以在这里更详细地了解新疆皮棉加湿机的最新相关信息：据2004年发布的《棉花质量检验体制改革试点企业棉花加工技术规程》要求,棉花加工工艺如下:货场籽棉→籽棉重杂物清理机→籽棉卸料器→籽棉自动控制喂料器→籽棉烘干机→籽棉清理机→籽棉配棉装置→轧花机→(皮棉清理机)→集棉机→(加湿)→打包机→取棉样→棉包计量→棉包信息管理系统→打印条形码→棉包自动输送系统加工设备一体化是棉花加工发展的趋势,机采棉加工普遍使用机采棉清理加工工艺，采用多道机械打击的方法来清除棉花中的杂质，籽棉在清理后，付轧前含水偏低，强度偏小，很容易被轧花机和锯齿皮清机损毁纤维。所以，机采棉在加工后纤维普遍被打短1～2mm，皮棉中的短纤维含量也偏多，这是造成我国机采棉质量不高的重要原因之一。籽棉回潮率过低，棉纤维就会与机器摩擦产生静电，导致机器阻塞停止工作。棉纤维过于干燥并且加工中含水过低，易打断纤维，棉纤维品质在清理和轧花的过程中更容易受损。研究表明，在籽棉清理和轧花过程中籽棉回潮率保持在6.5％～8.5％之间时，能最大程度减少棉纤维损害。当籽棉回潮率低于6.5%时，需要对籽棉进行加湿，这样可以减少短纤维含量，提高棉花加工质量。而皮棉加湿机主要用于对棉花加工中对回潮率低于6.5%的皮棉进行加湿，使棉花处于适宜打包、存储、运输的最佳状态，防止皮棉崩包，造成棉花二次污染。相对于手摘棉的棉花加工工艺而言,该工艺增加了籽棉烘干次数、籽棉清理次数(在第一次籽棉烘干之后增加了用于清除棉铃、铃壳、棉枝等杂质的提净式籽棉清理机,并在第一、第二次籽棉烘干之后均采用了兼有籽棉分离作用的倾斜式籽棉清理机)和皮棉清理次数(采用一次气流式皮棉清理和两次锯齿滚筒式皮棉清理),增加了皮棉加湿。