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托吡酯片

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托吡酯片相关的仪器

  • 货号:BIOPLEX3DBio-Plex 悬液芯片是一系列灵活易用的基于微孔板的多重检测平台。不同的平台可使您在单一微量样品中同步分析多达50-500 种不同生物分子,使您能在蛋白质分子水平上理解正常和疾病状态的复杂关系。Bio-Plex 系统的多重分析为您提供更少样品中的更多信息,达到省时、省样、省钱的目的。Bio-Plex 系统包含完整分析流程的所有产品 — 从样品准备、稀释、到复杂的数据分析 — 提供卓越的灵敏度、准确度和精确度。■ 开放的多重检测平台,高度的兼容性■ 使用 Bio-Plex 悬液芯片系统,您可以进行所有基于 xMAP 技术的多重检测■ 已有的基于 xMAP 技术的应用: 免疫检测 酶学分析 受体-配体检测 核酸杂交检测完整的仪器产品线:■ Bio-Plex 200 系统 — 全能的高通用性系统,具备 Validation 验证工具,保证实验的准确性、重复性和数据的可比性■ Bio-Plex 3D 系统 — 更高通量要求且无预算限制的选择■ Bio-Plex Pro™ 自动洗板机 — 基于磁珠的自动化操作■ Bio-Plex 多合一检测试剂盒 — 含检测所需的所有试剂,包括所有稀释液、反应缓冲液、检测缓冲液等等
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  • 货号:171000201Bio-Plex 悬液芯片是一系列灵活易用的基于微孔板的多重检测平台。不同的平台可使您在单一微量样品中同步分析多达50-500 种不同生物分子,使您能在蛋白质分子水平上理解正常和疾病状态的复杂关系。Bio-Plex 系统的多重分析为您提供更少样品中的更多信息,达到省时、省样、省钱的目的。Bio-Plex 系统包含完整分析流程的所有产品 — 从样品准备、稀释、到复杂的数据分析 — 提供卓越的灵敏度、准确度和精确度。■ 开放的多重检测平台,高度的兼容性■ 使用 Bio-Plex 悬液芯片系统,您可以进行所有基于 xMAP 技术的多重检测■ 已有的基于 xMAP 技术的应用: ●免疫检测 ●酶学分析 ●受体-配体检测 ●核酸杂交检测完整的仪器产品线:■ Bio-Plex 200 系统 — 全能的高通用性系统,具备 Validation 验证工具,保证实验的准确性、重复性和数据的可比性■ Bio-Plex 3D 系统 — 更高通量要求且无预算限制的选择■ Bio-Plex Pro™ 自动洗板机 — 基于磁珠的自动化操作■ Bio-Plex 多合一检测试剂盒 — 含检测所需的所有试剂,包括所有稀释液、反应缓冲液、检测缓冲液等等■ Bio-Rad专利MCV板结合专利校正验证试剂盒 — 保证数据的准确性,稳定性和可重复性■ Bio-Plex Manager软件 — 集仪器控制和数据分析与一体的软件
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  • 货号:171000205Bio-Plex 悬液芯片是一系列灵活易用的基于微孔板的多重检测平台。不同的平台可使您在单一微量样品中同步分析多达50-500 种不同生物分子,使您能在蛋白质分子水平上理解正常和疾病状态的复杂关系。Bio-Plex 系统的多重分析为您提供更少样品中的更多信息,达到省时、省样、省钱的目的。Bio-Plex 系统包含完整分析流程的所有产品 — 从样品准备、稀释、到复杂的数据分析 — 提供卓越的灵敏度、准确度和精确度。■ 开放的多重检测平台,高度的兼容性■ 使用 Bio-Plex 悬液芯片系统,您可以进行所有基于 xMAP 技术的多重检测■ 已有的基于 xMAP 技术的应用: ● 免疫检测 ● 酶学分析 ● 受体-配体检测 ● 核酸杂交检测完整的仪器产品线:■ Bio-Plex 200 系统 — 全能的高通用性系统,具备 Validation 验证工具,保证实验的准确性、重复性和数据的可比性■ Bio-Plex 3D 系统 — 更高通量要求且无预算限制的选择■ Bio-Plex Pro™ 自动洗板机 — 基于磁珠的自动化操作■ Bio-Plex 多合一检测试剂盒 — 含检测所需的所有试剂,包括所有稀释液、反应缓冲液、检测缓冲液等等■ Bio-Rad专利MCV板结合专利校正验证试剂盒 — 保证数据的准确性,稳定性和可重复性■ Bio-Plex Manager软件 — 集仪器控制和数据分析与一体的软件
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  • 一、概述 制动衬片摩擦性能拖曳试验机由试验台台体、工业控制计算机测控DAC系统、交流电机拖动系统、液压制动伺服控制系统、冷却和除尘系统等部分组成,并包括必要的的计算机测控、记录和试验报告生成软件。 本设备采用拖曳方式对制动器摩擦材料进行摩擦性能试验。适用于M3、N2、N3、O3、O4类车辆使用衬片的摩擦性能拖曳试验。二、 基本功能: 1.恒力矩试验功能 2.恒压力试验功能 3.全面的计算机控制、检测、打印曲线及报告 4.试验标准通过Excel设定,软件自动读取到试验程序中,能按照各种复杂标准进行试验 三、可执行标准: GB 5763-2018 GB/T 34007-2017 ECE-R90 恒力矩试验 ECE-R90恒压力试验四、技术参数 1.制动盘/鼓直径(max): F400 mm 2.冷却系统: 进风:工业冷气机,制冷量2500W,冷风量720 m3/h 排风:中压通风机,1.1KW,转速2800r/min 冷却系统温度:低于25度气温通风 3.温度测量范围: 0~900 oC;测量误差:小于2.0 oC 4.电源 AC 380V 5.主机:2500×1000×1860 mm (L/W/H) 重量:约3800 kg
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  • 叶片厚度测定仪仪器简介:叶片厚度测定仪又称叶片厚度计,主要用于测定植物叶片厚度的数据,是托普云农设计研发的植物生理仪器。多用于现代农业教学、和植物研究等方面。更多叶片厚度测定仪功能、型号、参数信息,请联系托普云农客服!仪器用途: 叶片是植物最重要的器官,其形态变化可以反映出植物生长状态的变化,如光合作用、水分情况、养分情况等。研究表明,叶片厚度变化具有周期规律性,可分为长周期和短周期(24小时)。掌握这些规律对研究植物水分状态具有重要意义。 通常的灌溉系统是以空气的温度、湿度以及土壤的湿度作为控制参数,属于开环控制。针对这一问题,提出了以植物的器官(叶片、茎杆、果实)的几何参数为控制参数的智能节水灌溉控制系统,属于闭环控制。 叶片厚度测定仪技术参数:测量范围:0±6mm分 辨 率:0.01mm精 度:0.015mm接触面积:Φ10mm读取装置:指针式叶片厚度测定仪 植物生理仪器
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  • 全斯托克斯相机(偏振相机) 偏振成像,分辨率高,各相关参量可精确定量测量,信息全面,应用广泛!所属类别:相机 ? 多光谱相机/高光谱相机技术服务人员:王工(Karl)电话: 邮箱:全斯托克斯相机(偏振相机) 功能:可见波段实时全斯托克斯偏振成像主动或被动偏振成像任意偏振的实时计算,包括:DOP/DOLP/DOCP/AOP/椭圆度等 应用:相位延迟图应力测量斯托克斯/穆勒图像对比增强目标识别跟光的强度和波长一样,光的偏振也提供了丰富的信息。斯托克斯公式可对任意部分偏振或全偏振光进行完全的描述。不同于大多数偏振相机,只对线偏振进行定量描述,SAULSA相机可对每个像素单元的全斯托克斯偏振矢量进行实时测量,并且偏振相关参数可实时显示,如斯托克斯参量、偏振度、偏振角、椭圆度等。 原理示意图: 这里,有两幅眼镜,左边的是线偏振太阳镜,右边是圆偏振3D影视眼镜。指标参数相机尺寸3.2”×3.2”×4” (80mm×80mm×100mm)视频格式GigE分辨率1040×1040帧频(最大位数)12fps (12bits) / 20fps (8bits)数据位数8 / 12bits同步接口USB谱宽范围520nm - 550nm (可订制)标定方式出厂标定镜头接口C-MOUNT软件SALSA 2.3硬件配置标准PC, Windows 7SAULSA相机在特定波段进行出厂标定,线偏振度的典型精度3%(P-V),0.35% STDV,对圆偏振度的典型精度2%(P-V),0.75% STDV。
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  • 椭偏仪 400-860-5168转3855
    椭偏仪是一种利用偏振态的变化 后光束探测样品反应技术。不像反射仪,椭偏仪参数(PSI和Del)是在非正常的入射角得到。改变入射角。可以得到更多的数据集,这将有助于精炼模型,减少不确定性和提高用户的数据信心。因此,可变角度椭偏仪比固定角度的椭偏仪系统具有更强大的功能 。目前有两种方法改变入射角,手动或自动模式。Ansgtrom Sun公司设计角度调整模型,通过5度间隔后精确预置槽移动手臂手动调节角度和电动精密测角0.01度分辨率两种模型。此外,测角垂直布局设计,样品可以水平放置,这是更安全的处理样品时。可靠的和足够的原始数据集,更多膜的性能参数,如薄膜或涂层 厚度,光学常数(折射率n,消光系数k指数)、接口、孔隙度甚至成分可以通过建模。在这个意义上,先进的软件是一个必须为高性能光谱椭偏仪(SE)工具。我们开发了TFprobe 3 x版软件的系统设置。仿真,测量,分析,数据管理和2D / 3D图形演示的一体机。 此外,SE200工具覆盖了很宽的波长范围内,从深紫外线(DUV)在可见光到近红外(250~1100nm),标准配置。DUV范围适合衡量超薄膜,如纳米厚度范围。一个例子是在硅晶片上的原生氧化层,这是典型的2nm厚的唯一。深紫外光谱椭偏仪也是必不可少的,用户需要测量多种材料的带隙。客户留言: “I want to thank Dr. Sun and his team at Angstrom Sun Technologies for all of their help with the purchasing of our Spectroscopic Ellipsometer. Dr. Sun and his team took the time to talk with us about our needs and what would best suit them. After we placed the order we experienced an exceptionally quick shipping timeframe (on site two weeks later). Once we received the well packaged ellipsometer, and with the help of one other person we were able to unbox and set up the ellipsometer. Following their well documented instructions, we had the ellipsometer ready to run. Dr. Sun answered our remaining questions and we were able to start taking measurements on our own. After we had worked with the program more, anytime a question would arise, Dr. Sun and his team’s prompt replies kept us working in the right direction into full functionality. Support included helping with the uploading of our own NK table as well as help with the modeling. Thank you Dr. Sun for taking the time to help us better understand Ellipsometry and for putting out an exceptional product”来自美国科罗拉多的 Benjamin SheppardSE系列型号:Spectroscopic Ellipsometer SE200BA-M300Spectroscopic Ellipsometer SE200BA-MSPSpectroscopic Ellipsometer SE200BM-M300Spectroscopic Ellipsometer SE200BM-M450Spectroscopic Ellipsometer SE200BM-SolarSpectroscopic Ellipsometer SE300BM Spectroscopic Ellipsometer SE500BA
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  • 组合式多功能椭偏仪 400-860-5168转1446
    仪器简介:典型应用: Assessment of two dimensional morphologiesMicrocontact printingInvestigation of two dimentional surface pattern全自动扫描。 表面等离子共振(SPR) 测量时间在亚毫秒量级,可以灵敏地测量亚单分子层的厚度,光学常数,质量分布,是用来研究快速反应动力学的理想工具,它已成为生物传感领域的一种标准技术。 SPR实验简单,功能强大。 软件通过四种模块来实现功能: 1 角-角反射率扫描 2 动力学模块的快速角跟踪 3 反射率跟踪 4 数据处理 我们可以为用户提供SPR传感片。 波导模法 适合各向异性的介质薄膜的测量,它更适合用来描述厚度超过500 nm的薄膜,凭借它的高精度,其他技术还没办法与之竞争。对特定偏振态的测量要选择相应的折射率,再进行数据处理,这是与椭偏法最主要的不同,而且所有的折射率分量都要同时考虑。 布鲁斯特角显微镜法 清晰呈现分子方位,倾斜度,旋转度,典型的测量区域是20-200μm,反射率系数为10-6时就可以清晰成像。它比荧光显微镜方法更有优势,因为不需要作荧光标记,这样就会避免一些不必要的影响。 接触角法 可以获得关于表面成分的重要信息。在固相衬底上的液滴形状由表面张力和地球重力决定,通过分析三相线可以获得接触角。 软件可以自动区分液滴或平面,这与很多商用的程序不同,这就避免了繁杂的输入,使测量快速,精确,友好。技术参数:将多种表面测量方法组合在一起.包括:椭偏仪表面等离子体共振光谱分析仪波导模分析仪反射计分析仪布鲁斯特角显微镜分析仪表面等离子体共振显微成像光谱分析仪成像椭偏仪接触角分析仪主要特点:功能强大。多才多艺椭偏法: 可以获得: 精度在0.1nm的薄层厚度 衬底的光学常数 分子取向 表面质量分布 表面结构形态 快速获取数据功能使观测诸如腐蚀、吸附等过程成为可能,测量不具有破坏性,适合多种样品的测量,即使液-液界面也可以实现。 椭偏仪的应用十分广泛: Assessment of scaling lawsIon distributionPhotochemistyAdsorption isothermsCorrosionCharacterization of thin filmsGlass transition in confined geometriesDetermination of optical constantsSwelling experiment配用不同的测量模块,可以进行 多区域测量 椭偏反射扫描 动力学模块(可记录温度,表面张力,湿度,PH值) 所有的重要参数都可以在线控制,软件非常人性化,因为它是由在自身科研领域就用到椭偏仪的科学家设计的。 成像椭偏法 横向解析度为2μm, 纵向解析度为0.1nm,可以清晰呈现单分子层结构。
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  • 椭偏仪(椭圆偏振光谱仪)是一种无损无接触的光学测量技术,基于测量线偏振光经过薄膜样品反射后偏振状态发生的改 变,通过模型拟合后得到薄膜、界面和表面粗糙层的厚度以及光学性质等等,可测厚度范围为几埃至几十微米。而且椭圆偏振光谱既能够实现在线监测又能进行原位测试,可根据各类不同的应用需要提供静态和动态测量模式,应用非常广泛。UNI椭偏仪(椭圆偏振光谱仪)是一种无损无接触的光学测量技术,基于测量线偏振光经过薄膜样品反射后偏振状态发生的改 变,通过模型拟合后得到薄膜、界面和表面粗糙层的厚度以及光学性质等等,可测厚度范围为几埃至几十微米。而且椭圆偏振光谱既能够实现在线监测又能进行原位测试,可根据各类不同的应用需要提供静态和动态测量模式,应用非常广泛。SEL 2是一款完全革新的全自动光谱型椭偏仪。在继承并发展了经典机型UVISEL的高准确性、高灵敏度和高稳定性等技术特点的同时,配备了革新的可视系统,多达8个尺寸微光斑选项,最小达35X85um。产品特点* 完全自动化设计,自动对焦、校正* 全新光路、电路设计、测量精度更高、速度更快* 双光栅光谱仪系统,杂散光抑制水平高* 8个尺寸微光斑、专利可视技术* 50KHz高频PEM相调制技术,测量光路中无运动部件* 自动平台样品扫描成像* 配置灵敏,测量范围可扩展至190-2100nm
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  • 激光开封机 芯片新型开封方案 半导体失效检测IC的激光开盖,开盖约50s左右,特别对于是铜引线封装有显著独有的开封能力.相对于传统的酸性开盖,不易使某些活泼金属如铜和强酸发生化学反应。新型激光开封机——TL_1Plus的开封装置现有FA的定制系列。由于半导体行业的铜引线封装越来越成为封装的主流,导致传统的具腐蚀性化学开封,已无法满足铜封装的开封需求。FA的产生给失效分析行业的领域带来了革新的技术。 TL_1PLOS激光刻蚀封装材料特点:1.能够产生多样的刻蚀激光开口形状2.不破坏金,铜,铝而显示其内部结构有利于之后用强酸腐蚀的消除操作,能够用于低腐蚀、低温条件3.选配组件能够通过开封能够产生各种多种形状的型腔,激光刻蚀系统独有的设计也用于有效进行IC开封,不仅可以用于单个元件而且也可以用于多个元件。 4.系统的中心为一个Nd为YAG 1064nm二极管激光头,它被安装在保护腔内部经通完全的激光屏蔽,也符合VBG 93、DIN CE和EN标准。5.光学观察系统集成化可以保证大部分稳定的监测样品。也可以将超声波画面或x-ray叠要元器件的画面上,可以给成开封成功提供额外的数据。6.视觉的失效分析软件包含绘图工具,可以在元器件图片上进行绘图,用于定位要去除的材料。实际被去除总量的材料可以通过摄像机进行聚焦——景深技术或其外的仪器仪表进行测量。7.系统软件所控制的程序数据,如频率、功率、扫描速度、聚焦距离等。所有程序数据都能够用特定产品和材料名存储,以便容易的调用。8.激光刻蚀完成后,芯片在表层可以在冷温度下显现出来通过湿法刻蚀法,可以用手动——滴上适当的酸腐蚀性液体,自动——用酸性开封机操作进行,避免电性或机械变化。9.封闭式的机柜,安全,可靠,方便 ,具有升降台、铸铝台面,电机驱动升降2.2优质板金,折弯自动变形,整体用于工艺的烤漆 应用范围:1.用于去除任何塑料封元器件的封装材料,功率元器件以及ic上多个预开封槽2.能够精确的形成多个简单和复杂的开封形状和PCB板的开封及截面切割3.只要将极小部分的封装材料被强酸腐蚀,便能够用于条件低腐蚀、低温的环境4.选配组件可以进行完全的开封,对于高的开封多种形状要求,激光开封可以轻松做到5.由激光光学系统集成式的激光开封机保证了其精密性、稳定性,同时可以将超声波检验数据和X-ray检验数据并于开封元件的图像上,使开封的精确性大增。6.通过画图标记来确定器件开盖形状和位置,实际被去除的材料总量可以通过射线机进行聚焦景深技术或外界的仪器仪表进行测量。7.软件的所有预留参数都可以,以不同名字储存,实现一键调用,方便实现不同器件的开封。激光器1.无危害能源,环保且无害2.整体耗材无,寿命超过9万多小时3.转换高功率高,激光阀值低4.散热快,耗损低5.高工艺,高要求的选配,对温度系数冲击力、震荡程度、灰尘量、湿度系数具有高容忍度,综合电光效率达20%以上,能节约工作时耗电,节约运行成本免维护,免调节,高稳定性的优点。工控电脑1.品牌工控电脑2.工业级标准,防震,防尘3.高配置,可以防止死机、卡顿、故障4.运行环境更符合工业,更流畅光学级全反镜面扫描振镜1.高速精密,先进控制单元使得扫描速度更快,扫描频率和扫描角度稳定快速可调2.外国进口原装伺服电机,极高功率无漂移3.超短响应时间4.-10°至60°工作温度区间托普斯科技——专业半导体及芯片开封设备:激光开封机---适合金线、铜线、铝线封装化学开封机---适合金线封装机械开封机---适合陶瓷、金属封装
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  • Film Sense FS-1&trade 多波长椭偏仪 型号:Film Sense FS-1&trade Film Sense FS-1&trade 多波长椭偏仪采用寿命长 LED 光源和非移动 式部件椭偏探测器,可在操作简单的紧凑型椭偏仪中实现快速和可 靠地薄膜测量。大多数厚度 0–1000 nm 的透明薄膜只需要简单的 1 秒测量,就 可以获得非常精密和准确的数据。 Film Sense FS-1&trade 多波长椭偏仪采用寿命长 LED 光源和非移动 式部件椭偏探测器,可在操作简单的紧凑型椭偏仪中实现快速和可 靠地薄膜测量。大多数厚度 0–1000 nm 的透明薄膜只需要简单的 1 秒测量,就 可以获得非常精密和准确的数据。还可以测量大多数样品的光学常 数和其他薄膜特性。Film Sense FS-1&trade 多波长椭偏仪 这款功能强大的多波长椭偏仪,售价只是单一波长椭偏仪和光谱椭偏仪的中等水平。FS-1 可应用于研究实验室,超净间,原位工艺腔体以及工业质量控制等诸多领域 主要特点n 4 个 LED 光源:蓝色(465nm),绿色(525nm), 黄色(580nm),红色(635nm)n 椭偏仪探测器中无可移动部件n 膜厚精密性,大多数样品精密度优于 0.001nm(1 秒获取数据),对于亚单原子薄膜精密度等于0.001nmn 集成计算机,可实现对设备控制和数据分析,自带 浏览器界面,可兼容任何现代计算机,笔记本或平 板电脑 优势n 寿命长(长达 50,000 小时),更换 LED 灯便宜,校准时 间短或无需 PM 程序n 快速测量(10ms 内获得多波长数据)和长期性能稳定n 测量准确,只有椭偏仪可以实现n 软件设置和维护简单标准 FS-1 配置n 65°入射角n 手动放置样品和调节高度n 样品尺寸zui大直径 200mm 和厚度 23mmn 样品偏转范围+/-20n 样品上光束尺寸 5 x 12 mmn 结构紧凑(180 x 400 mm) 和轻巧(4.8 kg)性能FS-1 多波长椭偏仪擅长测量膜厚范围 0-1000nm 的透明单一薄 膜的厚度和折射率。下表列出的是针对各种不同样品,包括多 层膜样品,FS-1 获得的标准测量精密度和准确性数据。 应用领域n 半导体行业:二氧化硅和氮化物,高介电和低介电 材料,非晶和多晶材料,硅薄膜,光刻胶n 光学薄膜行业:高和低指数薄膜,如 SiO2, TiO2, Ta2O5, MgF2 等n 显示屏行业:TCO(如 ITO),非晶硅薄膜,有机薄 膜(OLED 技术)n 数据存储行业:宝石,如碳膜n 工艺研发:原位表征薄膜沉积(速率和光学常数) VS 工艺条件,可兼容 MBE, MOCVD, ALD 和磁控溅射 等设备n 化学和生物:在液体细胞实验中探测亚单原子层材 料吸附n 工业:在线监测和控制膜厚 In Situ 在线测量功能n 亚单原子膜厚精密度n 多工艺条件下测定薄膜光学常数 n&k 和沉积速率,不 会破坏真空n 监测和控制多层膜结构沉积n FS-API 界面,外置软件控制(兼容 LabVIEW&trade )n 兼容大多数薄膜沉积技术:磁控溅射,ALD,MBE,MOCVD,电子束蒸发等In Situ 在线测量 产品包括 FS-1&trade 多波长椭偏仪,带紧凑自动 mapping 样品 台,可以实现快速,准确和可靠的薄膜均匀性测量。特点和参数n 4 段波长的椭偏数据(465, 525, 580, 635 nm),寿命长 的 LED 光源,探测器内无可移动部件n 可对 0-1000nm 透明薄膜进行准确的厚度测量n 标准浓厚重复性 0.015 nmn 集成聚焦探针,标准光斑尺寸 0.8 x 1.9 mm (其他尺寸 可选)n 电动 Z 轴样品台自动准直n 灵活扫描图案编辑器n 测量参数等值线绘制聚焦光束选件 样品上光束尺寸减小到 0.8 x 1.9 mm 或 0.3 x 0.7 mm 聚焦光束检测聚焦光束检测系统包括一个 FS-1 多波长椭偏仪,带光束聚焦光学器件和一个手动位移台。该系统 非常适合用于手动检测和在图案化半导体晶圆上 进行质量控制测量。 可进行科研测量,带小尺寸光斑和相机成像功能 手动位移台,可容纳 4’,5’,6’晶圆 样品上光束尺寸 0.3 x 0.7 mm 样品上光束位置视频图像 FS-XY150n 标准晶圆 map 时间:60s(150mm 晶圆上取 49 个点)n 结构紧凑:600x600 mm, 16 kgn 样品台行程(X,Y):150 x 150 mm, 精度:5 μmFS-RT300n 标准晶圆 map 时间:90s(300mm 晶圆上取 49 个点)n 结构紧凑:400x500 mm, 22 kgn 样品台行程:R (线性) :150 mm, 精度:12 μmn 角度(旋转)360°,精度:0.1°
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  • 光谱椭偏仪 400-860-5168转1374
    产品简介:光谱椭偏仪SE-Glass 是一款针对玻璃盖板行业定制的专用型光谱椭偏仪,针对玻璃盖板光学镀膜行业通过集成微光斑+可视化调平系统仪消除透明基底背反测量定制开发,快速实现玻璃盖板上多层薄膜物性表征分析。光谱椭偏仪SE-Glass 广泛应用于玻璃基底山减反膜、调光膜、导电膜等薄膜的膜厚,光学常数测量,完美适用于玻璃盖板、光学薄膜等镀膜检测应用。 产品型号SE-Glass光谱椭偏仪主要特点1、针对手机玻璃盖板光学镀膜工艺定制开发专用光谱椭偏仪2、行业领先的旋转补偿器测量技术和光学建模技术3、微光斑集成设计消除玻璃/膜片基底背反影响4、可视化样品台调平模块解决3D玻璃测量定位问题5、业内独创膜片镀膜处理算法直接测量PET膜片镀膜技术参数1、自动化程度:支持自动化方案定制2、应用定位:玻璃专用型3、基本功能:Psi/Delta、N/C/S等光谱4、分析光谱:380-1000nm,支持按需定制化5、单次测量时间:0.5-5s6、重复性测量精度:0.01nm
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  • 高精度偏振态测量(斯托克斯量测量)系统紫外~近红外 高精度斯托克斯量测量系统 利用光弹调制器技术,Hinds公司的科研级高精度偏振态量测量系统可以获得比一般偏振测量一高出一个数量级的精度(Stokes parameter sensitivity: 0.0001)。速度上,也可以从一秒钟10组(40个)斯托克斯量提升到100组(400个斯托克斯量)。波段上,除了可见光波段,该套测量系统还可以用在紫外/深紫外/近红外及中远红外系统的使用斯托克斯测量系统,偏振测量系统,偏振测量仪,椭偏仪,偏振态测量仪,偏振分析仪,偏振态分析仪利用光弹调制器技术,Hinds 公司的科研级高精度斯托克斯量测量系统/高精度偏振测量系统/高精度偏振态测量仪可以获得比一般偏振测量一高出一个数量级的精度(Stokes parameter sensitivity: 0.0001)。速度上,Hinds 公司的科研级高精度斯托克斯量测量系统/高精度偏振测量系统/高精度偏振态测量仪也可以从一秒钟10组(40个)斯托克斯量提升到每秒100组(400个斯托克斯量)。波段上,Hinds公司的科研级高精度斯托克斯量测量系统/高精度偏振测量系统/高精度偏振态测量仪除了可将光波段,该套测量系统还可以用在紫外/深紫外/近红外及中远红外系统的使用总的来说,Hinds公司的科研级高精度斯托克斯量测量系统/高精度偏振测量系统/高精度偏振态测量仪为有高精度,高速度需求的偏振态测量需求提供了全套解决方案。产品参数:1. Wavelength Range: 400 – 700 nm 可拓展到深紫外至 中远红外 (130 nm to 18 um)2. Stokes parameter accuracy: better than 1%3. Stokes parameter sensitivity: 0.00014. Fiber compatible options available5. 探测强度:皮瓦 产品应用:1. 质检测量2. 材料测量3. SOP and DOP4. 天文探测5. 光纤偏振态探测
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  • BIOVAC品牌直联旋片真空泵产品特点1.BIOVAC品牌严格执行ISO9001质量管理体系和CE标准,平均无故障运行时间超过其它国外品牌真空泵。2.无弹簧旋片,实现低噪音、低振动、高寿命。3.内置油逆止阀,大幅减少返油现象; 风冷、油冷、水冷等多种冷却方式相结合,确保良好的冷却效果,实现产品长期稳定运行,抽空性能稳定; 合理的产品结构,易拆装,维护保养快速便捷。BIOVAC[10 16]ModelBIOVAC-10BIOVAC-16Pumping speedm3/h50Hz9.914.460Hz1217.4Ultimate pressurePaGP open5GP close0.5Motor kW380V (3 phases)0.4 (4poles)0.55 (4poles)220V (single phase)InletKF25OutletKF25Vacuum pump oilBSO 46Oil capacity L1.11.2Weight kg2527价格:850010500BIOVAC[24 30 40 60]ModelBIOVAC-30BIOVAC-40BIOVAC-60BIOVAC-24Pumping speedm3/h50Hz3040602060Hz36487224Ultimate pressurePaGP open3GP close0.5Motor kW3phases 4poles1.51.52.20.75 InletVG40VG50KF25OutletKF40(M50X1.5)KF25Vacuum pump oilBIOVAC 68Oil capacity L1.2~2.82.5~4.21~1.5Weight kg63658732价格:18000240002800016000
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  • 光伏椭偏仪 400-860-5168转1374
    产品简介:SE-PV光伏椭偏仪是一款光伏行业领域专用型光谱椭偏仪,针对光伏行业绒面单晶硅或多晶硅太阳能电池表面减反膜测量定制开发,快速实现薄膜物性表征分析。光伏椭偏仪广泛应用于光伏绒面单晶硅或多晶硅表面减反膜椭偏测量应用,实现单层到多层薄膜的薄膜、光学常数和几何特征尺寸快速的表征分析。 产品型号SE-PV光伏椭偏仪主要特点1、光伏专用光谱椭偏测量技术,材料定制库,一键快速调用2、配置可倾斜、大角度样件台,调节绒面单晶硅最佳反射可测反射信息量3、配置进口高功率、高寿命光源,增加经减反绒面后的可测反射信息量4、光伏专用散射矩阵算法描述光与锥形表面的相互作用,保证数据的有效性技术参数1、自动化程度:支持自动化方案定制2、应用定位:光伏专用型3、基本功能:Psi/Delta、N/C/S等光谱4、分析光谱:380-1000nm,支持按需定制化5、单次测量时间:0.5-5s6、重复性测量精度:0.01nm
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  • 椭偏仪 400-860-5168转2255
    SpecEl-2000-VIS椭偏仪通过测量基底反射的偏振光,进而测量薄膜厚度及材料不同波长处的折射率。波长范围200-900nm。SpecEl通过PC控制来实现折射率,吸光率及膜厚的测量。集成的精确测量系统SpecEl由一个集成的光源,一个光谱仪及两个成70° 的偏光器构成,并配有一个32位操作系统的PC.该椭偏仪可测量0.1nm-5um厚的单膜,分辨率0.1nm,测量时间5-15秒,并且折射率测量可达0.005%。配置说明波长范围:380-780 nm (标准) 或450-900 nm (可选)光学分辨率:4.0 nm FWHM测量精度:厚度0.1 nm 折射率 0.005%入射角:70° 膜厚:单透明膜1-5000 nm光点尺寸:2 mm x 4 mm (标准) 或 200 µ m x 400 µ m (可选)采样时间:3-15s (最小)动态记录:3 seconds机械公差 (height):+/- 1.5 mm, 角度 +/- 1.0° 膜层数:至多32层参考:不用
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  • 光谱椭偏仪 400-860-5168转1374
    产品简介:SE-Mapping光谱椭偏仪是一款可定制化Mapping绘制化测量光谱椭偏仪,采用行业前沿创新技术,配置全自动Mapping测量模块,通过椭偏参数、 透射/反射率等参数的测量,快速实现薄膜全基片膜厚以及光学参数自定义绘制化测量表征分析。SE-Mapping光谱椭偏仪广泛应用OLED,LED,光伏,集成电路等工业应用中,实现大尺寸全基片膜厚、光学常数以及膜厚分布快速测量与表征。 产品型号SE-Mapping光谱椭偏仪主要特点1、全基片椭偏绘制化测量解决方案2、支持产品设计以及功能模块定制化,一键绘制测量3、配置Mapping模块,全基片自定义多点定位测量能力4、丰富的数据库和几何结构模型库,保证强大数据分析能力5、采用氘灯和卤素灯复合光源,光谱覆盖紫外到近红外范围 (193-2500nm)6、高精度旋转补偿器调制、PCRSA配置,实现Psi/Delta光谱数据高速采集7、具备全基片自定义多点自动定位测量能力,提供全面膜厚检测分析报告8、数百种材料数据库、多种算法模型库,涵盖了目前绝大部分的光电材料技术参数1、自动化程度:固定角+ mapping2、应用定位:检測型3、基本功能:Psi/Delta、N/C/S、R等光谱4、分析光谱:380-1000nm(可扩至193-2500nm)5、单次测量时间:0.5-5s6、重复性测量精度:0.01nm7、光斑大小:大光斑2-3mm,微光斑200um8、入射角调节方式:固定角9、入射角范围:65°10、找焦方式:手动找焦11、Mapping1程:300x300mm12、支持样件尺寸:最大至300mm可选配件3真空泵4透射吸附组件
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  • 光谱椭偏仪 400-860-5168转1374
    产品简介:SE-L光谱椭偏仪是一款全自动高精度光谱椭偏仪,集众多科技专利技术,采用行业前沿创新技术,配置全自动测量模块。通过椭偏参数、 透射/反射率等参数的测量,快速实现光学参数薄膜和纳米结构的表征分析。SE-L光谱椭偏仪广泛应用于半导体薄膜结构:介电薄膜、金属薄膜、高分子、光刻胶、硅、PZT膜,激光二极管GaN和AlGaN、透明的电子器件、平板显示、光伏太阳能、功能性涂料、生物和化学工程、块状材料分析等领域。 产品型号SE-L光谱椭偏仪主要特点1、高精度自动测量光学椭偏测量解决方案2、全自动变角、调焦等控制平台,一键快速测量3、软件交互式界面配合辅助向导式设计,易上手、操作便捷4、丰富的数据库和几何结构模型库,保证强大数据分析能力5、采用氘灯和卤素灯复合光源,光谱覆盖紫外到近红外范围 (193-2500nm)6、高精度旋转补偿器调制、PCRSA配置,实现Psi/Delta光谱数据高速采集7、全自动椭偏测量技术,基于行业领先电机控制技术,全自动调整测量角度,高精度控制样件台,实现样件快速自动对准找焦8、颐光专利技术确保在宽光谱范围内,提供优质稳定的各波段光谱9、数百种材料数据库、多种算法模型库,涵盖了目前绝大部分的光电材料技术参数1、自动化程度:自动变角2、应用定位:自动型3、基本功能:Psi/Delta、N/C/S、R/T等光谱4、分析光谱:380-1000nm(可扩至193-2500nm)5、单次测量时间:0.5-5s6、重复性测量精度:0.01nm7、光斑大小:大光斑2-3mm,微光斑200um8、入射角调节方式:自动变角9、入射角范围:45-90°10、找焦方式:自动找焦11、Mapping行程:支持100x100mm(可选配)12、支持样件尺寸:最大至200mm可选配置波段选择V:380-1000nmUV:245-1000nmXN:210-1650nmDN+:193-2500nm角度选择自动:45-90°其他选择Mapping选择:100×100mm(供参考,按需定制)温控台:室温一600℃(供参考,按需定制)可选配件1温控台2Mapping扩展模块3真空泵4透射吸附组件
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  • BIOBASE/博科 BK-E3-3病理晾片柜 可存晾片9000张技术参数: 规格:450*478*1295底座:采用宝钢SPCC底座:1.2㎜冷轧钢板箱体:0.8㎜冷轧钢板抽屉:0.8㎜冷轧钢板,每组3节,加底座一只,每节六个大抽,抽内点有隔条带双插槽,抽屉内配有数字标签便于存档,每组可存晾片9000张。拉手:ABS暗拉手。表面处理:脱脂除油、表调、锌系磷化、钝化、粉末喷涂。专用插槽、标鉴槽一体化冲压成型。
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  • BIOBASE/博科 BK-E3-4病理晾片柜 凉片12000张 规格:450*478*1625底座采用宝钢SPCC,底座1.2㎜冷轧钢板,箱体0.8㎜冷轧钢板,抽屉0.8㎜冷轧钢板,每组3节,加底座一只,每节六个大抽,抽内点有隔条带双插槽,抽屉内配有数字标签便于存档,每组可存晾片12000张。拉手:ABS暗拉手。表面处理:脱脂除油、表调、锌系磷化、钝化、粉末喷涂。专用插槽、标鉴槽一体化冲压成型。
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  • 光谱椭偏仪 400-860-5168转1374
    产品简介:SE-VM 是一款高精度快速测量光谱椭偏仪。可通过椭偏参数、 透射/反射率等参数的测量,快速实现光学参数薄膜和纳米结构的表征分析,适用于薄膜材料的快速测量表征。支持多角度,微光斑,可视化调平系统等高兼容性灵活配置,多功能模块定制化设计。高精度椭偏测量解决方案;超高精度、快速无损测量;支持多角度、微光斑、可视化调平系统功能模块灵活定制;丰富的数据库和几何结构模型库,保证强大数据分析能力。广泛应用于镀膜工艺控制、tooling校正等测量应用,实现光学薄膜、纳米结构的光学常数和几何特征尺寸快速的表征分析。 产品型号SE-VM光谱椭偏仪主要特点1、采用高性能进口复合光源,光谱覆盖可见到近红外范围 (380-1000nm)2、高精度旋转补偿器调制、PCRSA配置,实现Psi/Delta光谱数据高速采集3、支持系列配置灵活,可根据不同应用场景支持多功能模块化定制4、数百种材料数据库、多种算法模型库,涵盖了目前绝大部分的光电材料技术参数1、自动化程度:手动变角2、应用定位:通用型3、基本功能:Psi/Delta、N/C/S、R/T等光谱4、分析光谱380-1000nm(可扩至210-1650nm)5、单次测量时间:0.5-5s6、重复性測量精度:0.01nm7、光斑大小:大光斑2-3mm,微光斑200μm8、入射角调节方式:手动变角9、入射角范围:55-75°(5°步进),90°10、找焦方式:手动找焦11、Mapping行程:不支持12、支持样件尺寸:最大至180mm可选配件1温控台2Mapping扩展模块3真空泵4透射吸附组件
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  • 椭偏检测机台 400-860-5168转4689
    一、产品概述颐光科技椭偏检测机台作为一种小型椭偏集成机台,通过整体高度模块化,电、气路集成技术,实现不同椭偏测量模块在线/离线式整体椭偏测量解决方案。二、产品特点■ 支持实验室研究整体椭偏集成控制测量技术;■ 支持产线大基片离线自定义多点扫描测量并输出报告;■ 支持多椭偏方案,多组合集成■ 支持测头模块以及样件机台定制化三、应用场景 应用于科学研究中各种各向同性,异性薄膜材料的膜厚、光学常数以及一维、二维纳米光栅的结构表征;工业领域新型光电器件行业所涉及的薄膜(配向膜、光刻胶、ITO、发光薄膜、封装薄膜)全片离线化快速扫描测量。参考设计方案 高度整合椭偏技术方案技术参数
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  • 光谱椭偏仪 400-860-5168转1374
    产品简介:SE-VE 是一款超高性价比、快速测量光谱椭偏仪,紧凑集成设计,使用简便,可一键快速测量表征各式光学薄膜膜厚以及光学常数等信息。高性价比光学椭偏测量解决方案,紧凑集成化设计,极致用户操作体验,一键快速测量分析,人机交互设计,使用便捷,丰富的数据库和几何结构模型库,保证强大数据分析能力,广泛应用于科研/企业中各种单层到多层薄膜膜厚以及光学常数等快速表征分析。 产品型号SE-VE光谱椭偏仪主要特点1、采用高性能进口复合光源,光谱覆盖可见到近红外范围 (400-800nm)2、高精度旋转补偿器调制、PCRSA配置,实现Psi/Delta光谱数据高速采集3、数百种材料数据库、多种算法模型库,涵盖了目前绝大部分的光电材料技术参数1、自动化程度:固定角2、应用定位:经济型3、基本功能:Psi/Delta、N/C/S、R等光谱4、分析光谱:400-800nm5、单次测量时间:0.5-5s6、重复性测量精度:0.05nm7、光斑大小:大光斑1-3mm8、入射角调节方式:固定角9、入射角范围:65°10、找焦方式:手动找焦11、Mapping行程:不支持12、支持样件尺寸:最大至160mm可选配件1温控台2真空泵3透射吸附组件
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  • 椭偏在线监测装备 400-860-5168转1374
    产品简介:椭偏在线监测装备针对LCD、OLED等新型平板显示量光学薄膜质量控制需要,专门设计的在线薄膜测量系统。可适用于空气、N2、真空等环境条件,自动实现玻璃基板上各种膜系结构厚度分布、光学常数分布的全片快速扫描测量。椭偏在线监测装备广泛应用于工业中新型光电器件行业所涉及的PI配向膜、光刻胶薄膜、ITO薄膜、有机发光薄膜、有机/无机封装薄膜大基片各种膜系结构厚度分布、光学常数分布的在线式全片快速扫描测量。 产品型号PMS 椭偏在线监测装备主要特点1、支持产线大基片自定义多点扫描测量并输出报告2、支持最大193-2500nm全波段分析测量3、支持多椭偏方案,多组合集成4、支持测头模块以及样件机台定制化技术参数测头规格穆勒矩阵椭偏测头光谱椭偏测头反射膜厚测头自动化程度可变/固定角+ mapping可变/固定角+ mapping垂直角+ mapping应用定位高阶高精度型高精度型通用型单次测量时间0.5-5s小于1s分析光谱380-1000m(支持扩展至193-2500nm)380-1100nmMapping行程支持行程定制化支持样件尺寸安需定制化
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  • Bruker FilmTek CD椭偏仪——多模态临界尺寸测量和先进薄膜计量学想了解相关产品,可联系上海尔迪仪器科技有限公司,拨打电话021-61552797 FilmTekTM CD光学临界尺寸系统是我们的领先解决方案,可用于1x nm设计节点及更高级别的全自动化、高通量CD测量和高级薄膜分析。该系统同时提供已知和完全未知结构的实时多层堆叠特性和CD测量。FilmTek CD利用多模测量技术来满足与开发和生产中最复杂的半导体设计特征相关的挑战性需求。这项技术能够测量极小的线宽,在低于10纳米的范围内进行高精度测量。依赖传统椭圆偏振仪或反射仪技术的现有计量工具在实时准确解析CD测量的能力方面受到限制,需要在设备研究和开发期间生成繁琐的库。FilmTek CD通过获得多模态测量技术克服了这一限制,该技术甚至为完全未知的结构提供了精确的单一解决方案。FilmTek CD包括具有快速、实时优化功能的专有衍射软件。实时优化允许用户以最小的设置时间和配方开发轻松测量未知结构,同时避免与库生成相关的延迟和复杂度。 测量能力:厚度、折射率和光盘计量未知薄膜的光学常数表征超薄膜叠层厚度广泛的关键尺寸测量应用,包括金属栅极凹槽、高k凹槽、侧壁角、抗蚀剂高度、硬掩模高度、沟槽和接触轮廓以及间距行走 系统组件:标准: 可选: 用于在1x nm设计节点及更远处实时多层堆叠特性和CD测量的多模测量技术具有专有严格耦合波分析(RCWA)的 多角度散射测量正入射椭圆偏振光谱法旋转补偿器设计的光谱广义椭圆偏振法(4×4矩阵广义法)多角度、DUV-NIR偏振光谱反射(Rs、Rp、Rsp和Rps)全CD参数测量,包括周期、线宽、沟槽深度和侧壁角度独立测量薄膜厚度和折射率抛物面镜技术–在50×50µm功能范围内测量小光斑尺寸快速、实时优化允许以最短的设置时间实现广泛的应用程序(无需生成库)模式识别(Cognex)盒式到盒式晶片处理FOUP或SMIF兼容SECS/GEM为了适应广泛的预算和最终用途应用,该系统还可作为手动负载、台式设备用于研发 典型应用包括:半导体研发与生产技术规格膜厚范围0 Å to 150 µm膜厚精度NIST可追溯标准氧化物的±1.0Å,100Ç至1µm光谱范围190 nm - 1000 nm (220 nm - 1000 nm is standard)光斑尺寸的测量50 µm光谱分辨率0.3 nm光源调节氘卤素灯(寿命2000小时)探测器类型2048像素索尼线阵CCD阵列电脑带Windows的多核处理器™ 10操作系统测量时间~2 sec (e.g., oxide film) 性能规格 Film(s)厚测量参数精确 (1σ)氧化物/硅0 - 1000 Åt0.03 Å1000 - 500,000 Å t0.005%1000 Åt , n0.2 Å / 0.0001 15,000 Åt , n0.5 Å / 0.0001150.000 Åt , n1.5 Å / 0.00001氮化物 /硅200 - 10,000 Åt0.02%500 - 10,000 Åt , n0.05% / 0.0005光刻胶 / 硅200 - 10,000 Åt0.02%500 - 10,000 Åt , n0.05% / 0.0002多晶硅 /氧化物/硅 200 - 10,000 Åt Poly , t Oxide0.2 Å / 0.1 Å500 - 10,000 Åt Poly , t Oxide0.2 Å / 0.0005
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  • 高精度紫外波段偏振态测量(斯托克斯参数测量)系统(180nm-200nm)深紫外偏振态测量仪 光刻机偏振态测量仪 193nm偏振态测量仪Hinds公司长期以来致力于偏振态测量研究,在紫外波长(180nm-200nm)范围内基于双PEM(光弹调制器)的偏振测量系统为量化光的斯托克斯参数提供无与伦比的精度与灵敏度。该科研级高精度stokes测量系统可实现每秒超100组标准化斯托克斯参数集获取。一次测量生成4个斯托克斯参数。该系统在光学元件表征、光学系统光束输出表征、天文学、光纤制造、光源和激光质量控制等方面具有广泛的应用。该系统采用了Hinds公司自研光弹性调制器(PEM)技术,提供了目前超高水平的偏振测量。此外,PEM提供高速操作,根据所需波长在37至100khz之间调制。PEM光弹调制器基于谐振调制,该系统能够提供完整的斯托克斯测量没有移动部件,因此在精度和重复性方面高出市面现有偏振态测量系统一个数量级。本系统可根据用户使用需求定制波长,除可见光外可实现紫外波段光的偏振态及完整斯托克斯参数测量。 深紫外斯托克斯偏振态测量仪产品参数(波长范围:180nm-200nm):斯托克斯参数准确误差:1%斯托克斯参数灵敏度:0.0005重复率:3σ≤0.01(波长范围:200nm-400nm):斯托克斯参数准确误差:0.5%斯托克斯参数灵敏度:0.0005重复率:3σ≤0.0035深紫外斯托克斯偏振态测量仪产品应用QC测试和测量表征材料医药开发和质量控制光学旋转电信设备制造业SOP、DOP测量天文测量自由空间和光纤的选择测量光谱应用更多详情请联系昊量光电/欢迎直接联系昊量光电关于昊量光电:上海昊量光电设备有限公司是光电产品专业代理商,产品包括各类激光器、光电调制器、光学测量设备、光学元件等,涉及应用涵盖了材料加工、光通讯、生物医疗、科学研究、国防、量子光学、生物显微、物联传感、激光制造等;可为客户提供完整的设备安装,培训,硬件开发,软件开发,系统集成等服务。
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  • 本装置为高真空蒸镀设备,因此可对应搭载JA Wollam公司制造的橢偏仪而开发设计的蒸镀机。真空蒸镀过程中,配设橢偏仪以取得相关物性物理资讯。(以下的规格是记载除氧偏仪以外的高真空蒸镀机规格)本蒸发镀膜装置搭载的是JA Wollam公司的椭偏仪,真空腔大小:280x410x290mm,蒸发源:2个,最大基板尺寸:80x80mmReference:D.Yokoyama and C.Adachi: J.Appl.Phys. 107,123512(2010)D.Yokoyama, K.Nakayama, T.Otani, and J.Kido: Adv.Mater. 24,6368(2012)
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  • 椭偏仪 400-860-5168转5895
    QUASAR-E100是一款桌面式光谱椭偏膜厚仪,它为客户提供更加准确、稳定的厚度和折射率测量,广泛应用于科研、半导体、液晶、太阳能制造等领域,适用于对厚度和折射率测量有更高精度要求的应用场景。产品特点 各种尺寸样品测量可测量如4-12英寸的晶圆及其他各种不规则形状样品 测量精度和稳定性高相对于反射仪,QUASAR-E100可提供更高精度的测量,且可提供极薄膜的测量 多参数测量可测量材料厚度、折射率和消光系数 操作简单且功能丰富用户无需过多培训即可轻松掌握测量流程及建立菜单,数据查看、统计和分析功能丰富 产品参数 ★Si基底上对厚度小于30nm的SiO2薄膜样品连续测量30次数据的标准偏差 定制功能 可根据客户需求配置不同的光源,以实现不同性能的测量可根据客户需求搭配自动运动平台可根据客户需求配置小光斑
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  • 细胞爬片:产品名称货号包装规格 单位整件数量6孔板专用圆形细胞爬片,直径24mmABC601006100个/盒,10盒/箱箱100012孔板专用圆形细胞爬片,直径20mmABC601012100个/盒,10盒/箱箱100024孔板专用圆形细胞爬片,直径14mmABC601024100个/盒,10盒/箱箱1000材质:高透耐酸碱盖玻片,厚度:0.17mm特点: ABC步法细胞爬片采用高端的玻片制作,厚度为0.15mm,有圆形和方形。已处理,已灭菌,拆开即用。采用先进的玻片表面处理技术(TC处理→超强吸附)可促进细胞在玻片上贴壁生长,细胞贴壁牢固。即使在后期免疫组化、免疫荧光、原位杂交处理过程中也不易脱片,避免传统方法中从培养瓶转移到载玻片上的损伤。使用一步法细胞爬片不用预处理,避免在后期处理中细胞容易脱片等种种问题。1.爬片常用的规格:圆形(φ24mm,φ20mm,φ14mm,φ8mm,φ3mm) 方形(24*24mm,15*15mm,10*10mm,4*4mm)。2.细胞爬片有TC处理和多聚赖氨酸包被两种,双面均可使用,避免了实验误差。3.TC处理适用于贴壁较好的细胞,多聚赖氨酸包被适用于贴壁不好的细胞比如神经细胞和转染细胞。4.爬片高强度耐酸碱,特殊实验浸泡一个星期均不会碎片。5.一步法细胞爬片只需打开包装即可使用,节省成本,节省实验员的试验时间。6.经过伽马射线灭菌,无DNA酶,无RNA酶,无热源。应用: 组织学,免疫组织化学,冰冻切片,细胞涂片,原位杂交等
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  • 细胞爬片:产品名称货号包装规格 单位整件数量6孔板专用圆形细胞爬片,直径24mmABC601006100个/盒,10盒/箱箱100012孔板专用圆形细胞爬片,直径20mmABC601012100个/盒,10盒/箱箱100024孔板专用圆形细胞爬片,直径14mmABC601024100个/盒,10盒/箱箱1000材质:高透耐酸碱盖玻片,厚度:0.17mm特点: ABC步法细胞爬片采用高端的玻片制作,厚度为0.15mm,有圆形和方形。已处理,已灭菌,拆开即用。采用先进的玻片表面处理技术(TC处理→超强吸附)可促进细胞在玻片上贴壁生长,细胞贴壁牢固。即使在后期免疫组化、免疫荧光、原位杂交处理过程中也不易脱片,避免传统方法中从培养瓶转移到载玻片上的损伤。使用一步法细胞爬片不用预处理,避免在后期处理中细胞容易脱片等种种问题。1.爬片常用的规格:圆形(φ24mm,φ20mm,φ14mm,φ8mm,φ3mm) 方形(24*24mm,15*15mm,10*10mm,4*4mm)。2.细胞爬片有TC处理和多聚赖氨酸包被两种,双面均可使用,避免了实验误差。3.TC处理适用于贴壁较好的细胞,多聚赖氨酸包被适用于贴壁不好的细胞比如神经细胞和转染细胞。4.爬片高强度耐酸碱,特殊实验浸泡一个星期均不会碎片。5.一步法细胞爬片只需打开包装即可使用,节省成本,节省实验员的试验时间。6.经过伽马射线灭菌,无DNA酶,无RNA酶,无热源。应用: 组织学,免疫组织化学,冰冻切片,细胞涂片,原位杂交等
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