光学研磨

研发，产销：研磨加工材料，光学光电材料，包装材料；销售：电子产品，合成材料，高分子材料，货物或技术进口。

玻璃电极研磨仪（磨针仪）适合研磨玻璃微电极，玻璃毛细管，微量注射针，微量吸管尖，微量移液管尖等，研磨精度高，性能稳定。 磨针仪提供一个光学平面的磨面盘，在显微镜下移液管（玻璃微电极、显微注射针等）与磨面盘接触，通过加入的适量研磨浆，以一定的转速，将目标物前端制作成尖锐的针尖，亦可处理成不同斜切角度。这种通过磨针仪处理后的微电极、显微注射针、移液管等，提高了微电极的线性、注射针更易于刺入细胞对细胞破坏更小、减少切面的毛刺等。此款磨针仪利用特殊的电动机减少了磨面上的不规则运动，通过准确分辨方法使得玻璃微电极等和磨面之间的接触磨削更加准确稳定。可调的磨削转速，高性能的运行电机，使得无论在低速还是高速运行下都能提供稳定的设定转速，保证了实验样品处理后的均一性及高可重复性。磨针仪还提供一个微操作器，可以在垂直方向方便地对微电极等进行粗调和微调。同时，微电极架上配有量角器，可以方便地设置需要的研磨角度等数据。本系列设备配有加水和排水模块，用于避免研磨碎屑对系统的堵塞和累计。有两种主要的型号可供选择：EG-45磨针器：不带显微镜EG-400显微磨针器：带单目显微镜 EG-45型磨针器 EG-45显微磨针器应用了可以小型化研磨面不规则运动的特种电机，是研磨微量吸管尖的理想仪器。此外，该显微磨针器EG-45在所有的转速下都稳定运行，低转速时精度更高，高转速时研磨更快。有安装一个易于操作的粗细运动同轴操作器，用来垂直操作显微操作针，可以进行非常精密的研磨。量角器安装在持针器固定部分，因此很容易设置所需要的磨角，还安装了一个用于立式研磨的适配器。安装了新充水和排水的机械，防止堵塞或刨花的积累，使整个设备更容易使用。EG-45显微磨针器的主要配置：EG-45磨针仪主机专用移液管夹 立式磨床适配器金刚石砂轮清洁器电源线六角扳手 EG-45显微磨针器的主要参数：操作器上下移动范围≥47mm玻璃毛细管直径：1mm-1.5mm电源：AC100V-AC240V，50/60Hz消耗功率：10W机动速度：150-2,100rpm尺寸/重量：W185 x D165 x H310mm，2.4kg EG-400型微电极研磨仪EG-400型微电极研磨仪上安置了显微镜，用于确认电极与研磨盘的接触情况。无论是高速还是低速情况下，该研磨仪都能提供稳定的性能。EG-400微电极研磨仪配有一个微操作器，在垂直方向上可方便的的对微电极进行粗调和精调。微电机架上配有量角器，可以方便设置需要的研磨角度。微电极研磨仪同时设备配有加水和排水机构，用于避免研磨碎屑的堵塞和累计。 EG-400的主要技术参数：移动范围：电极操作器：47mm；显微镜：X轴7mm，Y轴30mm，Z轴8mm放大倍数：30X(目镜10X,物镜3X)玻璃毛细管范围：外径1-1.5mm马达速度50-2000备注：玻璃电极抛光仪（锻针仪）与磨针仪 加工电极的区别：锻针仪可以把电极尖端打磨的比较圆滑；磨针仪可以对电极尖端修正合适的角度，使电极更加尖锐； 可根据需要，配合电极抛光仪（锻针仪），显微注射泵，微操作器，玻璃电极、电极拉制仪等使用电极抛光仪（锻针仪） 显微注射泵显微操作器 玻璃毛细管有多种型号可选，部分长度和规格：B100-75-10型：长度10cm，外径1.0mm，内径0.75mmB100-50-10型：长度10cm，外径1.0mm，内径0.75mmB100-58-10型：长度10cm，外径1.0mm，内径0.75mmB150-86-10型：长度10cm，外径1.0mm，内径0.75mm 微电极拉制仪用于玻璃毛细管的拉制，适合于细胞注射、电生理、膜片钳等多种实验。请关注玉研仪器的更多相关产品。如对产品细节和价格感兴趣，敬请来电咨询！

日立高新离子研磨装置IM4000（HITACHI Ion Milling System IM4000 ）具有断面加工和平面研磨功能的混合仪器！日立高新离子研磨装置IM4000（HITACHI Ion Milling System IM4000 ）的混合模式带有两种研磨配置：断面加工：将样品断面研磨光滑，便于表面以下结构高分辨成像。平面研磨：将样品表面均匀研磨5平方毫米，从不同角度有选择地研磨，以便突出样品的表面特性。日立高新离子研磨装置IM4000（HITACHI Ion Milling System IM4000 ）的高通量能提高加工效率：与之前的E-3500型相比，采用新型离子枪设计，减少了横截面研磨时间。（最大加工率：硅元素为300微米/小时--加工时间减少了66%。日立高新离子研磨装置IM4000（HITACHI Ion Milling System IM4000 ）的可拆卸样品台装置：为便于样品设置和定义研磨边缘，可将样品台装置拆卸。 特点混合模式：两种研磨配置断面加工：将样品断面研磨光滑，便于表面高分辨观察平面研磨：不同角度有选择地，大面积，均匀地研磨5 mm的平面，以突显样品的表面特性高效：提高加工效率，与之前的E-3500型相比，采用新型离子枪设计，减少了横截面研磨时间(最大加工速度：硅材质为300 μm/h - 加工时间减少了66%)可拆卸式样品台：为便于样品设置和边缘研磨，样品台设计为可拆卸型规格项目描述断面加工台平面研磨台气源氩气(Ar)加速电压0-6Kv最大研磨速率﹡1﹡2（硅材质）约300μm/h﹡1﹡2约20μm/h﹡3（点）约2μm/h﹡?（面）最大样品尺寸20（W）×12(D)×7(H)mmΦ50×25(H)mm样品移动范围X±7mm,Y0－＋3mmX0－＋5mm旋转角度-1r/m，25r/m摆动角度±15°，±30°，±40°±60°，±90°倾斜-0-90°气体流量控制系统流量调节器排气系统涡轮分子泵(33L/S)+机械泵(50Hz时，135L/min,60Hz时，162L/min)仪器外观尺寸616（W）×705(D)×312(H)mm仪器重量主机48kg+机械泵28Kg可选附件光学显微镜（用于观测研磨中的样品）﹡1：此研磨速率是对研磨板边缘处的硅材质的材料研磨至100μm粒度时所获得的最大深度值﹡2：此研磨速率是对硅材质的材料进行研磨两小时后获得的平均值﹡3：照射角度60°偏心值4mm﹡?:照射角度0°偏心值0mm

PELCO精密研磨装置适合在金相试样、单晶片、电子材料、玻璃、岩石或其他材料样品上制备平面、平行面等高度抛光的表面。研磨硬质材料时，先用环氧树脂等包埋样品，可以避免圆角或过度抛光，特别适用于手工磨抛半导体、光学元件，以及凹坑前TEM样品的减薄。PELCO研磨装置可用于研磨直径3mm至25mm、厚度不超过13mm的样品。PELCO 14100型 研磨装置PELCO 14100研磨装置具有磁性样品台，使用垫片来设置样品厚度。它可以容纳直径为13mm的样品，配有厚度为0.025至0.508mm的垫片。样品台通过磁性固定在装置上，便于检查和移除样品，装置底座的直径为48mm。这种装置非常适合在对TEM样品进行压痕之前进行常规研磨。PELCO 14500型 研磨装置PELCO 14500研磨装置由千分尺控制，步进刻度为25um，可以容纳最大直径13mm、高度13mm的样品。样品台带螺纹，易于拆卸，可用蜡或粘合剂安装样品。硬质合金底座可更换，装置底座的直径为38mm。PELCO 15000型 研磨装置PELCO 15000研磨装置由千分尺控制，步进刻度为25um，可以容纳最大直径25mm、高度13mm的样品。样品台易于拆卸，可用蜡或粘合剂安装样品。可借助导向器进行定向抛光，硬质合金底座可更换，装置底座的直径为68.6mm。PELCO 77500型 研磨装置PELCO 77500研磨装置由高精度数显千分尺控制，步进刻度为25um，研磨精确度可控制在1um左右。样品可以用蜡粘结，或者通过真空附件施压安装。它可以容纳最大直径50mm、高度13mm的样品，样品台易于拆卸。碳化钨底座可更换，装置底座的直径为102mm。PELCO 研磨托盘PELCO研磨托盘适用于PELCO14100、14500、15000研磨装置和PELCO 590三脚抛光器的手动研磨和抛光。它具有光滑、平坦、稳定的抛光玻璃表面，收集盘用于收集研磨用过的研磨液，便于研磨完后的清理。研磨面尺寸为300 x 300mm。

UNIPOL-1210金相研磨抛光机是我公司主要为各大院校及研究所、各金相实验室设计研发的一款手动研磨抛光机，主要用于研磨抛光各种金相试样，也可以研磨抛光其它各类非金属材料，如陶瓷、玻璃、PCB板、红外光学材料（如硒化锌、硫化锌、硅、锗等晶体）、岩样、矿样、耐火材料、复合材料及有机高分子材料等。UNIPOL-1210金相研磨抛光机采用了Ø 300mm的铝质研磨抛光盘，不仅具有优良的刚性、内复式性，而且在同样转速的情况下，可以获得较高的线速度，提高试样制作的效率。研磨抛光速度无极可调，压力大小手动控制，操作简单，使用方便，研磨过程中可直接接自来水进行冷却。砂纸或抛光垫的安装可以使用压圈装卡，也可以使用磁力吸附的方式安装，装卸方便，可根据个人需要，选择不同的安装方式。本机可选用压圈装卡或磁力吸附的方式安放砂纸或抛光垫，工作运行更加稳定。磁力吸附主要是为了克服传统装卡抛光织物打褶的缺点，将贴有压敏胶的抛光织物粘贴在研抛底片上，然后再吸附在磁力片上；其次，更便于砂纸及抛光垫的更换。无级调速，数字显示转数，操作方便。外形美观，运转平稳，噪音低。产品名称 UNIPOL-1210金相研磨抛光机产品型号 UNIPOL-1210安装条件 1、温湿度：10-85%RH (at 25℃ 无凝露） 温度： 0-45℃。 2、设备周围无强烈震源和腐蚀气体。3、供电电源：出口标准设备：AC110/230V 50/60Hz 三极插座 10A 国内标准设备：AC220V 50Hz 国标三极插座 10A （插座必须有良好安全保护接地线）4、冷却水：设备配有上水口及下水口,需自行连接自来水及排水管线。5、气源：标配设备无需求6、工作台：建议在承重 100kg 以上操作台或桌面使用7、通风装置：良好的通风环境，无需特殊通风装置要求8、辅助设备（需另行购买）：推荐：1、SKCH-1 型精密测厚仪 2、SZKD-2 型自动搅拌滴料器、SKZD-3 型悬浮液滴料器 3、SKCS-1 型吹干机主要参数 1、设备供电端口：AC110/220V 转换 （国内 AC110V 无效）2、总功率：180W3、研抛盘直径：Φ300 mm4、研抛盘转速：50-600rpm（可调）5、抛光盘工位：1 工位6、主轴驱动电机：DC110V 165W7、控制方式：单片机+按键备注：1、设备供电有出口和国内两种供电区分，实际供电参数以产品后部粘贴标牌为准。 2、可按用户要求定制各种研抛盘，特殊卡具，专用零部件等。产品规格 8、产品规格：尺寸：L650×W500×H250mm净重：≈33kg序号名称数量图片链接1磁力片2片2研抛底片5片3砂纸8片4抛光垫（磨砂革、合成革、聚氨酯）各1片5金刚石抛光膏1支序号名称功能类别图片链接1UNIPOL-01型TEM楔形磨抛夹具（可选）

UNIPOL-2001型精密研磨抛光机设有三个加工工位，是可进行大尺寸样品磨抛的落地式磨抛机，用于晶体、陶瓷、金属、玻璃、岩样、矿样、PCB板、红外光学材料（如硒化锌、硫化锌、硅、锗等晶体）、耐火材料、复合材料等材料的研磨抛光制样，是科学研究、生产实验理想的磨抛设备之一。本机设置了Ø 508mm的研磨抛光盘和三个加工工位，可用于研磨抛光≤Ø 160mm的圆片或对角线长≤160mm的矩形平面。在研磨过程中三个加工工位可以一定的频率左右摆动，同时推动载物块左右摆动，载物块在进行自转的同时随着研磨盘公转，使样品做无规则运动，使研磨后的样品表面质量均匀。研磨抛光机配备的载物块是具有高的平面度和平行度的精密圆柱状金属块，使研磨后的样品表面也具有高的平面度，并且不会使样品边缘倒角，对边缘要求高的样品尤其适合。若配置适当的附件（GPC系列精密磨抛控制仪），可批量生产高质量的平面磨抛产品，例如直径≤Ø 160mm晶圆样品的研磨与抛光。采用研磨盘加磨料的方式研磨样品，也可以选用抛光盘贴砂纸的方式研磨样品，砂纸或抛光垫采用磁力吸附的方式装卡，装卸方便。具体选用砂纸研磨还是磨料研磨可根据被研磨样品的材质进行选择。产品名称 UNIPOL-2001型精密研磨抛光机产品型号 UNIPOL-2001主要参数 1.研磨盘：直径φ508mm（20英寸） 2.载样盘：直径φ160mm（6英寸），厚度35mm3.修盘环：外径φ196mm，内径φ160.5mm，厚度35mm4.摆臂支架：每120°设置1个，共3个5.工位数量：3个6.研磨盘转速：转数：20-120转/分钟7.支架摆动速度档位：10-30档 （参考速度：5.5-13.5次/分钟）8.传动机构电机：变频电机：1.5kW， 220V 9.总功率：1.7kW 220V产品规格 外形尺寸：尺寸：落地式，820*1180*945mm重量：450kg

UNIPOL-820金相研磨抛光机主要用于金属材料的研磨抛光，也用于其它各类非金属材料的研磨抛光，如陶瓷、玻璃、PCB板、岩样、矿样、红外光学材料（如硒化锌、硫化锌、硅、锗等晶体）、耐火材料、复合材料及有机高分子材料等。UNIPOL-820金相研磨抛光机可选用压圈装卡或磁力吸附的方式安放砂纸与抛光垫，工作运行更加稳定。磁力吸附主要是为了克服传统装卡抛光织物打褶的缺点，将贴有压敏胶的抛光织物粘贴在研抛底片上，然后再吸附在磁力片上；其次，更便于砂纸及抛光垫的更换。UNIPOL-820金相研磨抛光机采用双研磨盘的结构，双盘可以同时开或单开，可以同时进行不同样品的研磨抛光操作而不会相互污染1、精密旋转，噪音低。2、双盘结构，使用更方便。3、数字显示速度。4、可配备自动滴料器或循环泵。产品名称 UNIPOL-820金相研磨抛光机产品型号 UNIPOL-820安装条件 1、温湿度：10-85%RH (at 25℃ 无凝露） 温度： 0-45℃。 2、设备周围无强烈震源和腐蚀气体。3、供电电源：出口标准设备：AC110/230V 50/60Hz 三极插座 10A 国内标准设备：AC220V 50Hz 国标三极插座 10A （插座必须有良好安全保护接地线）4、冷却水：设备配有上水口及下水口,需自行连接自来水及排水管线。5、气源：标配设备无需求6、工作台：建议在承重 100kg 以上操作台或桌面使用7、通风装置：良好的通风环境，无需特殊通风装置要求8、辅助设备（需另行购买）：推荐：1、SKCH-1 型精密测厚仪 2、SZKD-2 型自动搅拌滴料器、SKZD-3 型悬浮液滴料器 3、SKCS-1 型吹干机主要参数 1、设备供电端口：AC110/220V 转换 （国内 AC110V 无效）2、总功率：360W3、研抛盘直径：Φ203 mm4、研抛盘转速：50-600rpm（可调）5、抛光盘工位：2 工位6、主轴驱动电机：DC110V 165W7、控制方式：单片机+按键备注：1、设备供电有出口和国内两种供电区分，实际供电参数以产品后部粘贴标牌为准。 2、可按用户要求定制各种研抛盘，特殊卡具，专用零部件等。产品规格 8、产品规格：尺寸：L720×W530×H320mm净重：≈44Kg序号名称数量图片链接6磁力片4片7研抛底片5片8砂纸（240#、400#、800#、1500#）各2片9抛光垫（磨砂革、合成革、聚氨酯）各1片10金刚石抛光膏（W2.5）1支序号名称功能类别图片链接1UNIPOL-01型TEM楔形磨抛夹具（可选）

一.机型称号：薄膜锂电池研磨混合机，药物研磨混合机，毫微米研磨混合机，超飞快研磨混合机，水管式研磨混合机，3级研磨混合机，高剪切研磨混合机。二.研磨机：机型19款，处理量50到8*10000KG/小时，旋转1100到1.4*10000转/分钟，线速度23到44m/秒，电滚功耗1.5到160kW，磨头胶体磨&锥体磨。三.研磨分散机：机型6款，处理量50到6*1000KG/小时，旋转1100到9*1000转/分钟，线速度23m/秒，电滚功耗2.2到150kW，磨头胶体磨。四.小型分散乳化机：机型30款，处理量0.2克到10KG/小时，旋转50到3*10000转/分钟，线速度3到33m/秒，电滚功耗0.3到0.8kW。五.真空分散乳化机：机型32款，处理量5到2*10000KG/小时，旋转14到1.4*10000转/分钟，线速度44m/秒，电滚功耗0.18到120kW。六.均质匀浆机：机型4款，处理量0.2到150克/小时，旋转3500到8*1000转/分钟，线速度3到10m/秒，电滚功耗0.145到0.18kW。七.多效用分散乳化均质机：机型27款，处理量150到12.5*10000KG/小时，旋转960到1.4*10000转/分钟，线速度10到44m/秒，电滚功耗1.5到160kW。八.混合机：机型I6款，处理量300到12.5*10000KG/小时，旋转1100到9*1000转/分钟，线速度20到23m/秒，电滚功耗1.5到160kW。九.实用物料种类：胶粘溶胶，巨粒子固态液体悬空液乳剂，不包溶等。十.终级粒径：主腔内有叁组定转子，每组粗齿、中齿、细齿、超细齿。调动定转子间隙，加工后地终级粒径在10微纳米之下。十一.胚料配件：百分之八十以上进ロ海内外公司。十二.技艺出处：引荐德国技艺，立发明加工，备有专利。十三.工作方式：有在线式，批次式，内外循环式，水管式，可倒式，若干效用式。十四.机型合成：靠预加工锅、搅动锅、泵、液压系统、倒料系统、电力调动系统、主腔等部件合成。十五.智力化：CIP冲洗系统，液压升降松盖，包括配料给料吸料安装。十六.磨头好处：研磨头可调5款模版，6款分散头，20多款工作头。十七.锥磨好处：锥磨转子外层包含金属碳化物跟不一样粒子地陶瓷镀层等高上材料，提防毁伤腐蚀。十八.机型材料：统统接碰物料地材料皆是进口耐酸钢，主腔跟管路内乃亮面抛光三百EMSH（卫生级），无死角。十九.密封好处：博格曼双机械密封，液压平稳系统（可以担当16atm重压），软密封。?.翻搅形式：可定刮壁式/锚杆式/熔解式/页片式。?.产品特点：产品采取上边同轴3重装翻搅器，回路管路，出口阀。?.操控柜长处：不单可以控制电动调速，气温减温加温（经过电力，热气，油水回路，可承担负40—250度），压强，酸碱值，黏度。更可以设定不相同功用模板，表现互相配得各个参量，可线性变大大量出产。?.可抉选：参观窗，硅氟酸玻璃参观，电导率计，二层绝缘保护，稳定夹，作业台，底盘，图案解析多功用显微硬度仪（测量界线1—4千维氏硬度），管路式测量电炉（测量界线zui高1350度），传送泵/转子泵/气动隔膜泵/锚杆泵/离心泵（产量850—4.3万升/H），反应翻搅单罐/多罐（500—3千升/H），反渗入/全自动纯净装备（0.5—3千升/H)，超氧产生器，过流式紫外光灭菌器等。?.别的特长：整体立方小，电耗低，分贝低，可每日不断出产。?.访客垂访：按照访客实况必要恰当抉选！别的可订制非标和生产线！假若是非常情况，比方超温，超压，易烧易炸，侵蚀性，可产品升级！?.物料测量：得到访客物料后当即投入测量，瞧可否到达要求&答复测量进程&成果。?.方案价格：断定好产品功用后当即策画方案，包含2D部署图，总安装出产线表示图，立体成果图，&呈上本该得价格单子！?.结语：我们是出产厂家，详尽信息可以企业查看，因此分外恭候访客去垂访&更深一步长谈！以上信息不容坊造，非常道谢！扩展内容可不看：薄膜电池，顾名思义，就是将一层薄膜制备成太阳能电池。它使用的硅极少，因此更容易降低成本。 同时，它不仅是一种能源产品，还是一种新型建筑材料，更容易与建筑融合。在国际市场硅原料持续紧缺的背景下，薄膜太阳能电池已成为国际光伏市场发展的新趋势、新热点。可以大规模工业化生产的薄膜电池主要有三种：硅基薄膜太阳能电池、铜铟镓硒薄膜太阳能电池（CIGS）和碲化镉薄膜太阳能电池。薄膜太阳能电池 (CdTe)。薄膜电池是一种使用薄层材料并利用电子半导体和光学原理的技术。考虑到成本效益，薄膜光伏电池被用于二代和三代太阳能光伏发电技术。同时，它也被认为是一种可用于构建综合应用的有效产品。薄膜电池的发电原理与晶体硅类似。当阳光照射在电池上时，电池吸收光能产生光生电子-空穴对。 在电池内置电场的作用下，光生电子与空穴分离，空穴漂移。到P侧，电子漂移到N侧，形成光电动势，当外电路导通时，产生电流。

小身材，大能量，迷你静音的毛发研磨仪JXMF-06便携式毛发研磨仪是在水平方向上进行三维运动，对样品进行研磨。研磨球/小珠的惯性带动它们以高能量撞击位于弧形内表面的样品材料，从而达到粉碎研磨的效果。适配器的运动可与内部小球的运动叠加，将样品充分混和。 应用领域：适用于毛发、痰液、植物、食品、微生物等各种组织研磨。主要特点：1.便携式设计，体积小重量轻，方便携带。2.通量高，效果好，快速准确。3.强大的搅拌裂解、研磨或均质化。4.操作简单，安全设计，保证操作安全。5.便携式移动电源适配，随时随地可使用。产品优势：易操作：方便操作的夹具设计，轻轻一拧即可适用强：可选配手提箱，移动电源方便携带，随时随地可用体积小：只有215*160*175，比掌上离心机稍大一点性价比高：价格只需几千元效率高：1-6个样品，干磨仅需1分钟，湿磨3分钟无污染：每个样品独立研磨管中处理，避免交叉污染技术参数：主要参数参数范围材质：塑料容量：2/5ml电源电压：DC24V通量：1*2ml/2*5ml/3*2ml/4*2ml/6*2ml功率：60W蓄电池容量：6000mAh 研磨时间：1-9999S可调；安全保护：工作安全锁 噪音等级：54dB 尺寸：215*160*175mm重量：2kg研磨效果图：

高通量组织研磨仪是一种特殊的、快速的、高效率的、多试管的一致系统。它能将任何来源(包括土壤、植物和动物的组织/器官、细菌、酵母、真菌、孢子、古生物标本等)的原始DNA、RNA和蛋白质进行提取和纯化。 与目前已有的其它样品制备方法相比，具有通用性广、高效灵活的优点，可以高效、快速、稳定地裂解并纯化各种类型样品的核酸与蛋白。本款机器又名多样品组织研磨机、快速组织研磨机、多样品组织匀浆机、快速样品匀浆系统。一、组织研磨仪 多通道组织研磨仪应用范围1．适用于各种植物组织包括根、茎、叶、花、果、种子等样品的研磨破碎；2．适用于各种动物组织包括大脑、心脏、肺、胃、肝脏、胸腺、肾脏、肠、淋巴结、肌肉、骨骼等样品的研磨破碎；3．适用于真菌、细菌等样品的研磨破碎；4．适用于食品、药品成分分析检测的研磨破碎；5．适用于易挥发样品包括煤炭、油页岩、蜡制品等样品的研磨破碎；6．适用于塑料、聚合物包括PE、PS、纺织品、树脂等样品的研磨破碎。二、组织研磨仪 多通道组织研磨仪产品特点研磨机采用了特殊的垂直上下及左右一体的三维震动模式，通过研磨珠（氧化锆、钢珠、玻璃珠、陶瓷珠）的高频往复振动、撞击、剪切,快速的实现目的。使研磨的样品具有更加充分、更均匀、样品重复性更好、样品之间没有交叉污染1.操作数量多，效果好高效快速的工作可以在1分钟内完成96个样品的研磨。省时省力，批间、批内差异小。抽提的蛋白比活更高，核酸片断更长。2.无交叉污染 样品管在破碎过程中处于全封闭状态，可采用一次性离心管和珠子。样品完整保留在管内，避免样品间的交叉污染以及外界污染。3.操作简便3.1内置程序控制器，可对研磨时间、转子的振动频率等参数进行设置；3.2人性化操作界面。4.组织研磨仪 多通道组织研磨仪稳定性好4.1采用垂直上下及左右一体的三维震动模式，研磨更充分，稳定性更好；4.2仪器运行过程中，噪音小于55dB，不会对其它实验或仪器产生干扰。5.方便低温操作当需要低温研磨环境，可将放有样本的适配器浸入液氮中冷却1-2分钟，取出后移至主机快速固定即可开始研磨，不需要进行再次冷冻处理，节省液氮。6.重复性好6.1同一组织样本设定相同程序，获得相同的研磨效果；6.2工作时间短，样本温度不会上升组织研磨仪 多通道组织研磨仪主要技术参数：性能指标 GTM-96应用领域 组织均质、研磨、细胞粉碎、匀浆、材料分散、制备、样品混匀、振荡液晶显示 微电脑控制， 7TFT触摸屏，显示工作状态处理样本量 96*2ML/12*5ML/4*25ML/4*50ML可任选两种适配器；均质速度 0-70HZ（0-2100转/分）可根据要求定做电源 两相220V/50HZ工作时间 0秒-99分钟，用户可自行设定研磨球直径 0.1-30mm研磨球材料 不锈钢、铬钢、氧化锆、碳化钨、石英砂加速 在2秒内达到最大速度减速 在2秒内达到最低速度噪音等级 ＜55db组织研磨仪 多通道组织研磨仪外形尺寸 400*420*574mm可带冷冻适配器 是*针对工作环境的噪音排放值，取决于样品的类型和研磨仪的设置，表中参数为空载状态1.适配器材质：铝制，聚四氟乙烯或不锈钢，玛瑙可适用于任何材质的样品2.研磨方式：湿磨，干磨，低温研磨都可3.最大进料尺寸：无要求，根据适配器调节4.最终出料粒度：5μm5.研磨平台数 (可接纳研磨罐数) 26.带自动中心定位的紧固装置7.工作时安全锁，全程保护 *常规的适配器都可以放入冰箱内以便于在工作的时候给样品一个冷环境。组织研磨仪 多通道组织研磨仪可另配带制冷的适配器，可以液氮中浸泡三十分钟以上。 组织研磨仪是基于机械研磨的原理应用，具有较强的机械性能和耐磨性，能够快速高效的粉碎破碎动物组织，便于后续实验的研究分析。　　此外，对于不同类型的动物组织样品，还需要选择应用不同的解决方案，还需要对仪器的运行程序参数进行不同的设置，以满足对样品实验的需求；通过程序参数的设置来准备控制，来获得满足样品实验需求的前处理粉碎效果；通过对仪器程序参数的准确控制，对于同一程序同一样品组织可获得相同的处理效果，从而可有效提高实验的可重复性。　　组织研磨设备对动物组织的前处理研磨应用，不但能够更好的保留样品组织的待检测的分子，还可以有效提高样品实验研究结果的准确性和可靠性，减少了实验误差，提高了实验效率，为动物组织的实验分析研究提供了更可靠的基础。

产品说明：鑫翁品牌多样品组织研磨仪是一种特殊的、快速的、高效率的、多试管的一致系统。它能将任何来源(包括土壤、植物和动物的组织/器官、细菌、酵母、真菌、孢子、古生物标本等)的原始DNA、RNA和蛋白质进行提取和纯化。 技术特点：组织研磨系统与目前已有的其它样品制备方法相比，具有通用性广、高效灵活的优 点。该系统避免了研磨、匀浆、超声波处理等传统方法的费力、耗时、低效等诸多缺点，可以高效、快速、稳定地裂解并纯化各种类型样品的核酸与蛋白。本款机器又名，多样品组织研磨机，快速组织研磨机，多样品组织匀浆机，快速样品匀浆系统应用范围：●适用于各种植物组织包括根、茎、叶、花、果、种子等样品的研磨破碎；●适用于各种动物组织包括大脑、心脏、肺、胃、肝脏、胸腺、肾脏、肠、淋巴结、肌肉、骨骼等样品的研磨破碎；●适用于真菌、细菌等样品的研磨破碎；●适用于食品、药品成分分析检测的研磨破碎；●适用于易挥发样品包括煤炭、油页岩、蜡制品等样品的研磨破碎；●适用于塑料、聚合物包括PE、PS、纺织品、树脂等样品的研磨破碎。●更快速、更高效地提取植物及动物组织DNA、RNA和蛋白质●更快速、更高效地冷冻研磨粉碎，振荡混匀●更快速、更高效地细菌、酵母样品细胞破壁及裂解，仅需几十秒●更快速、更高效地食品、饲料样品研磨均质化、均相化●更快速、更高效地矿物、矿石样品研磨及均相，可达100纳米以下●更快速、更高效地理化分析（原子吸收、X荧光）和三代测序扩增样品制备产品特点：鑫翁品牌研磨机采用了特殊的垂直上下震动模 式，通过研磨珠（氧化锆、钢珠、玻璃珠、陶瓷珠）的高频往复振动、撞击、剪切。快速的实现目的。使研磨的样品具有更加充分、更均匀、样品重复性更好、样品之间没有交叉污染1.操作数量多，效果好高效快速的工作可以在1分钟内完成2×24、2×48、4×96个样品的研磨。省时省力，批间，批内差异小。抽提的蛋白比活更高，核酸片断更长。2.无交叉污染,样品管在破碎过程中处于全封闭状态，可采用一次性离心管和珠子。样品完整保留在管内，避免样品间的交叉污染以及外界污染。3.操作简便，内置程序控制器，可对研磨时间、转子的振动频率等参数进行设置，人性化操作界面。4.稳定性好，采用垂直振荡方式，研磨更充分，稳定性更好，仪器运行过程中，噪音小于70dB，不会对其它实验或仪器产生干扰。5.方便低温操作,当需要低温研磨环境，可将放有样本的适配器浸入液氮中冷却1-2分钟，取出后移至主机快速固定即可开始研磨，不需要进行再次冷冻处理，节省液氮。6．重复性好同一组织样本设定相同程序，获得相同的研磨效果。工作时间短，样本温度不会上升。技术参数：应用领域： 组织均质、研磨、细胞破碎、匀浆、材料分散、制备、样品混匀、振荡液晶显示： 微电脑控制 大屏幕液晶屏，显示工作状态适配器处理样本量： 24*(0.2-0.5ML) /16*2ML / 8*(7-10)ML /8*15ML / 4*25ML/ 2*50ML均质速度： 10—70 HZ/秒防震原理：德国专利 schleifen-1工作方式适配器材质：聚四氟乙烯 或 合金钢研磨方式：湿磨，干磨，低温研磨都可进料尺寸：无要求，根据适配器调节最终出料粒度：~5μm研磨平台数 (可接纳研磨罐数) 2 带自动中心定位的紧固装置： 是工作时安全锁，全程保护 研磨套件材料：硬质刚, 聚四氟乙烯（特氟珑）电源：两相220V/50HZ工作时间 ：0秒-99分钟，用户可自行设定；研磨球直径：0.1-30mm研磨球材料：合金钢、铬钢、氧化锆、碳化钨、石英砂；加速：在2秒内达到速度减速：在2秒内达到速度噪音等级：65db外形尺寸：280*400*530重量：35G

低温研磨仪 JXFSTPRP-I（专利产品，仿冒必究！2016214095849）本款机器又名，冷冻型多样品组织研磨机，冷冻型组织研磨机，冷冻型组织匀浆机，冷冻型快速匀浆系统。通过连接上海净信科技® 的创新产品，空气制冷仪，进而实现低温操作，同时具备干磨和湿磨的功能。满足热敏性材料及生物领域的应用，适用于植物、动物、细菌和酵母样本。采用DIN方法设计，低噪音，要求使用方便，性能稳定样品的研磨过程始终处在低温下，因此可满足于热敏性材料及生物领域的应用，可以以对纺织品、PCB板、纸张、土壤等软性及中硬性样品进行常规的粉碎。可研磨样品：1.植物组织：根、茎、叶、花、果、种子等2.动物组织：大脑、心脏、肺、胃、肝脏、胸腺、肾脏、肠、淋巴结、肌肉、骨骼等3.真菌细菌：酵母、大肠杆菌等4.食品药品：各类食品、药片等5.易挥发样品：煤炭、油页岩、蜡制品等6.塑料、聚合物：PE、PS、纺织品、树脂等研磨对比 *研磨对比效果图，欢迎来电详询。 技术参数主要参数参数范围应用领域：组织均质、研磨、细胞破碎、匀浆、材料分散、制备、样品混匀、振荡处理系统：拥有五大系统，样本研磨系统、低温输送系统、低温控制系统、电路控制系统、保温系统温度设置：自动设置温度,可以在低温的环境中进行研磨匀浆操作,较大程度保护样品的活性 粉碎原理：低温冻结力，机械撞击力，物理摩擦力低温范围:0度—室温 , 全程低温控制研磨腔体.样品处理：15秒内处理量同时可以处理32个样品，包括可以适用12位和24位的液氮冷冻适配器可兼容样品量：32*(0.2-0.5ML) /32*2ML /8*(5-15)ML /4*25ML /2*50ML，可以任意定做各种规格研磨管触摸屏显示：液晶屏显示,可以方便直观的操作,另可升级成触摸屏显示操作.防震原理：德国schleifen-1工作方式防震原理，以及垂直上下一体的运动方式，研磨珠运动方式，保证样品处理的理想化和瞬间的粉碎效果.制冷方式：压缩机显示方式：LCD液晶屏控制方式：微电脑芯片击打率：＞2000112进料尺寸：无要求，根据适配器调节出料粒度：~5μm研磨平台数 (可接纳研磨罐数)2带自动中心定位的紧固装置是均质速度：0—70 HZ/秒,工作时间 ：0秒-9999分钟，用户可自行设定；研磨球直径：0.1-30mm研磨球材料：合金钢、铬钢、氧化锆、碳化钨、石英砂；加速：在2秒内达到较大速度减速：在2秒内达到较低速度噪音等级： 55db研磨方式：湿磨，干磨，低温研磨都可制冷：具有升级成超低温液氮冷冻或空气制冷机制冷的能力适配器材质：聚四氟乙烯 或 合金钢全程保护：带自动中心定位的紧固装置 工作时安全锁，全程保护研磨套件材料：硬质刚, 聚四氟乙烯（特氟珑）氧化锆外形尺寸：280*400*530重量：23 KG基本配置Tissuelyser® 主机一台低温研磨机主机一台 2ml适配器壹套，2ml制冷适配器壹套,2ml位制冷液适配器壹套(选配) 5MM研磨珠1000个.5MM陶瓷研磨珠1000个 专用加珠枪一套（选配） 备注* 可以选用配套的jingxin试剂盒可以快速、高效、稳定、批量的提取样品中DNA/RNA蛋白质等* 1HZ=30转/秒 1HZ=100RPM* 常规的适配器都可以放入冰箱内以便于在工作的时候给样品一个冷环境。可另配带制冷的适配器，可以液氮中浸泡三十分钟以上。* 针对工作环境的噪音排放值，取决于样品的类型和研磨仪的设置。表中参数为空载状态* 通常用于DNA和RNA分离的少量样品可在一次性离心管中制备.可采用聚四氟乙烯材料制成的适配器,容纳5或10个一次性样品试管,进行细胞破碎.在多样品组织研磨机中细胞组织在极短的时间内得到快速而有效的破碎,因而无需额外的低温制冷实验案例1、Tissuelyser® 植物组织研磨仪研磨玉米种子的试验方法2、Tissuelyser® 植物组织研磨仪研磨柑桔果皮组织试验方法可选配件 上海净信配套有完善的动物、植物、微生物等各种样本的DNA、RNA和蛋白提取试剂盒，可以快速、高效、稳定、批量地提取目标成分。提取对象净信配套试剂盒动物组织DNAjingxin-1RNAjingxin-2蛋白质jingxin-3植物组织DNAjingxin-4RNAjingxin-5蛋白质jingxin-6微生物DNAjingxin-7RNAjingxin-8蛋白质jingxin-9

UNIPOL-1502自动精密研磨抛光机是用于晶体、陶瓷、金属、玻璃、岩样、矿样、PCB板、红外光学材料（如硒化锌、硫化锌、硅、锗等晶体）、耐火材料、复合材料等材料的研磨抛光制样，是科学研究、生产实验理想的磨抛设备之一。本机设置了Ø 381mm的研磨抛光盘和三个加工工位，可用于研磨抛光≤Ø 110mm的圆片或对角线长≤110mm的矩形平面。在研磨过程中两个加工工位可以一定的频率左右摆动，同时推动载物块左右摆动，载物块在进行自转的同时随着研磨盘公转，使样品做无规则运动，使研磨后的样品表面质量均匀。研磨抛光机配备的载物块是具有高的平面度和平行度的精密圆柱状金属块，使研磨后的样品表面也具有高的平面度，并且不会使样品边缘倒角，对边缘要求高的样品尤其适合。UNIPOL-1502自动精密研磨抛光机若配置适当的附件（GPC-100A精密磨抛控制仪），可批量生产高质量的平面磨抛产品。搭配GPC-100A使用尤其适用于直径≤110mm的晶圆样品的研磨与抛光。UNIPOL-1502精密研磨抛光机可以用研磨盘加磨料的方式研磨样品，也可以选用抛光盘贴砂纸的方式研磨样品，砂纸或抛光垫采用磁力吸附的方式装卡，装卸方便。具体选用砂纸研磨还是磨料研磨可根据被研磨样品的材质进行选择。1、超平抛光盘（平面度为每25mm×25mm小于0.0025mm）。2、超精旋转轴（托盘端跳小于0.012mm）。3、设有三个加工工位。4、主轴旋转采用无级调速控制方式，并设有数显表实时显示转数。5、配有定时器，可准确控制工作时间（0-300h之间）。6、可选配自动滴料器或循环泵，使磨抛更加方便快捷产品名称 UNIPOL-1502自动精密研磨抛光机产品型号 UNIPOL-1502安装条件 本设备要求在温度25℃±15℃，湿度55%Rh±10%Rh下使用。1、水：设备配有上水口及下水口，需自行连接自来水及排水2、电：AC220V 50Hz，必须有良好接地3、气：无4、工作台：尺寸800mm×600mm×700mm，承重200kg以上5、通风装置：不需要主要参数 1、电源：110V/220V2、功率：410W3、主轴转速：最低起动转速~最高转速10~125rpm4、工位：3个5、支撑臂摆动次数：0-9次/分6、托盘端跳：0.01mm/332mm7、磨抛盘：Ø 381mm8、载物盘：Ø 110mm产品规格 尺寸：720mm×580mm×380mm；重量：90kg序号名称数量图片链接1铸铁研磨盘1个2铸铝盘1个3载物盘3个4修盘环3个5抛光垫（磨砂革、合成革、聚氨酯）各1片6刚玉研磨微粉0.5kg7石蜡棒4根序号名称功能类别图片链接1SKZD-2滴料器（可选）2SKZD-3滴料器（可选）3SKZD-4自动滴料器（可选）4SKZD-5滴料器（可选）5YJXZ-12搅拌循环泵（可选）6精密测厚仪（可选）7GPC-50A精确磨抛控制仪（可选）9玻璃研磨盘（可选）10磁性树脂金刚石研磨片（可选）11无蜡抛光盘（可选）UNIPOL-1502自动精密研磨抛光机是用于晶体、陶瓷、金属、玻璃、岩样、矿样、PCB板、红外光学材料（如硒化锌、硫化锌、硅、锗等晶体）、耐火材料、复合材料等材料的研磨抛光制样，是科学研究、生产实验理想的磨抛设备之一。本机设置了?381mm的研磨抛光盘和三个加工工位，可用于研磨抛光≤?110mm的圆片或对角线长≤110mm的矩形平面。在研磨过程中两个加工工位可以一定的频率左右摆动，同时推动载物块左右摆动，载物块在进行自转的同时随着研磨盘公转，使样品做无规则运动，使研磨后的样品表面质量均匀。研磨抛光机配备的载物块是具有高的平面度和平行度的精密圆柱状金属块，使研磨后的样品表面也具有高的平面度，并且不会使样品边缘倒角，对边缘要求高的样品尤其适合。UNIPOL-1502自动精密研磨抛光机若配置适当的附件（GPC-100A精密磨抛控制仪），可批量生产高质量的平面磨抛产品。搭配GPC-100A使用尤其适用于直径≤110mm的晶圆样品的研磨与抛光。UNIPOL-1502精密研磨抛光机可以用研磨盘加磨料的方式研磨样品，也可以选用抛光盘贴砂纸的方式研磨样品，砂纸或抛光垫采用磁力吸附的方式装卡，装卸方便。具体选用砂纸研磨还是磨料研磨可根据被研磨样品的材质进行选择。1、超平抛光盘（平面度为每25mm×25mm小于0.0025mm）。2、超精旋转轴（托盘端跳小于0.012mm）。3、设有三个加工工位。4、主轴旋转采用无级调速控制方式，并设有数显表实时显示转数。5、配有定时器，可准确控制工作时间（0-300h之间）。6、可选配自动滴料器或循环泵，使磨抛更加方便快捷产品名称 UNIPOL-1502自动精密研磨抛光机产品型号 UNIPOL-1502安装条件 本设备要求在海拔1000m以下，温度25℃±15℃，湿度55%Rh±10%Rh下使用。1、水：设备配有上水口及下水口，需自行连接自来水及排水2、电：AC220V 50Hz，必须有良好接地3、气：无4、工作台：尺寸800mm×600mm×700mm，承重200kg以上5、通风装置：不需要主要参数 1、电源：110V/220V2、功率：410W3、主轴转速：起动转速范围10~125rpm4、工位：3个5、支撑臂摆动次数：0-9次/分6、托盘端跳：0.01mm/332mm7、磨抛盘：?381mm8、载物盘：?110mm产品规格 尺寸：720mm×580mm×380mm；重量：90kg序号名称数量图片链接1铸铁研磨盘1个2铸铝盘1个3载物盘3个4修盘环3个5抛光垫（磨砂革、合成革、聚氨酯）各1片6刚玉研磨微粉0.5kg7石蜡棒4根序号名称功能类别图片链接1SKZD-2滴料器（可选）2SKZD-3滴料器（可选）3SKZD-4自动滴料器（可选）4SKZD-5滴料器（可选）5YJXZ-12搅拌循环泵（可选）6精密测厚仪（可选）7GPC-50A精确磨抛控制仪（可选）8陶瓷研磨盘（可选）9玻璃研磨盘（可选）10磁性树脂金刚石研磨片（可选）11无蜡抛光盘（可选）

仪器用途 YMY-240CL冷冻研磨机是一种快速、高效、制冷的研磨系统。它能在非常短的时间内将土壤、植物和动物的组织/器官、细菌、酵母、真菌、孢子、古生物标本等样品完成研磨、粉碎、混合机细胞破壁。 应用领域 冷冻研磨机广泛应用于生命科学、医药、生化、环境、地质、农业、林业、质检、材料等领域。 样品范围 动物心脏脾肺肾、骨骼、皮肤、毛发 功能特点 1、冷冻研磨机采用触摸屏显示，人性化交互设计，操作便捷，可以方便直观的操作。2、可存储十组实验数据，根据不同实验样本，设置有动物心脏脾肺肾、骨骼、皮肤、毛发模式。3、模式循环：根据设置的实验参数，可在几个设置好的参数间不断循环，进一步减少人为因数的干扰。4、开盖运行保护：电磁锁定。5、最大进料尺寸：无要求，根据适配器调节。6、具有自动中心定位的紧固装置。7、在2秒内达到最大速度或最低速度。8、研磨方式：湿磨，干磨，低温研磨都可。9、可随意更换适配器。10、可以任意定做各种规格研磨管。 技术参数 最大处理量：冷冻研磨机可同时处理24个样品，样品无交叉污染，包括可以适用12位和24位的低温冷冻适配器最终出料粒度：~5µ m研磨平台数 2 均质速度： 0—70 HZ/秒,工作时间 ：0秒-9999分钟，用户可自行设定； 转速范围：1000rpm-7000rpm研磨球直径： 0.1-30mm研磨球材料： 合金钢、铬钢、氧化锆、碳化钨、石英砂噪音等级： 55db。制冷功能： 有，-50度到37度可调节适配器材质：聚四氟乙烯 或 合金钢 基本配置 主机一台2ml制冷适配器一套， 10ml钢罐及适配器一套3号研磨珠一瓶，5号研磨珠一瓶

UNIPOL-160D双面研磨抛光机主要用于石英晶片、蓝宝石、陶瓷、玻璃、红外光学材料（如硒化锌、硫化锌、硅、锗等晶体）、金属等片状材料的双面精密研磨抛光。本机采用涡轮蜗杆减速机为传动机构，通过齿轮组实现上、中、下三轴不同速度、不同方向的转动，使上、下研磨抛光盘和中间太阳轮产生速度差以及相对运动，而样件置于太阳轮驱动的载样行星齿轮内孔中，从而对其进行双面研磨抛光。UNIPOL-160D双面研磨抛光机可以选择用研磨盘加磨料研磨样品，也可以选择抛光盘贴砂纸的方式研磨样品。抛光盘贴砂纸是将砂纸贴在研抛底片上然后将研抛底片吸附在抛光盘上在进行研磨抛光。可以同时对多个样品一起进行研磨，研磨抛光的效率高，适合大量试样的研磨或工厂的小批量生产。1、转速采用手动调整变频器频率的控制方式。2、可同时对4片最大尺寸为Ø 2" 的基片进行双面研磨抛光。3、可进行薄片的双面减薄。4、是双面研磨抛光Si、 Ge 、氧化物单晶基片的理想工具。产品名称 UNIPOL-160D双面研磨抛光机产品型号 UNIPOL-160D安装条件 本设备要求在海拔1000m以下，温度25℃±15℃，湿度55%Rh±10%Rh下使用。1、水：设备配有上水口及下水口，需自行连接自来水及排水2、电：AC220V 50Hz，必须有良好接地3、气：无4、工作台：尺寸800mm×600mm×700mm，承重200kg以上5、通风装置：不需要主要参数 1、电源：220V 50Hz2、功率：550W3、磨抛盘：Ø 225mm4、磨抛盘转速：0-72rpm内无级可调5、最大样件尺寸：Ø 50mm，厚度≤15mm6、上磨抛盘重量：3.5kg产品规格 尺寸：650mm×500mm×580mm；重量：80kg序号名称数量图片链接1研磨盘1个2抛光盘1个3修盘行星轮1个-4载样行星轮（电木）1个-5配重环1个6磁力片2片7研抛底片2片8抛光垫（磨砂革、合成革、聚氨酯）各1片9金刚石抛光膏（W2.5）1支序号名称功能类别图片链接1可根据您的需要制作不同开孔的载样齿轮。（可选）-

UNIPOL-300小型精密研磨抛光机是我公司专为各大实验室研究人员而设计的一款小型自动金相研磨抛光机，主要用来研磨小型金相试样，尤其适合透射电镜样品的磨抛，最薄可以将样品研磨至50μm。UNIPOL-300小型精密研磨抛光机通过弹簧对被研磨样品施加压力，可以在一定范围内调节压力的大小，不会因磨抛压力过大而损坏样品。研磨速度可以在一定范围内进行调整，可根据不同样品种类使用不同的研磨速度。研磨过程中可以对研磨时间进行设定，达到研磨时间机器自动停止，可以实现无人看守。UNIPOL-300小型精密研磨抛光机可以研磨的材料范围广，可用于晶体、陶瓷、玻璃、金属、岩样、矿样、PCB板、红外光学材料（如硒化锌、硫化锌、硅、锗等晶体）、耐火材料、复合材料、高分子材料等的研磨抛光，不仅能够进行自动磨抛，而且精度高、速度快，是国内外金相实验室、电镜实验室的通用设备。本机动作模仿人手操作，下盘不动，由上压杆带动试样做“8”字形往复运动。研磨压力、速度均可调整，操作方便简单，可实现无人看守。产品名称 UNIPOL-300小型精密研磨抛光机产品型号 UNIPOL-300安装条件 1、温湿度：10-85%RH (at 25℃ 无凝露） 温度： 0-45℃。 2、设备周围无强烈震源和腐蚀气体。3、供电电源：单相：AC100-240V 50/60Hz 国标二极插座 10A （供电源电压需求是根据使用“电源适配器”输入决定）4、冷却水：标配设备无需求5、气源：标配设备无需求6、辅助设备（另行购买）：推荐：HEATER-3040或250加热平台、SKCH-1精密测厚仪7、工作台：建议在承重 50kg 以上操作台或桌面使用8、通风装置：良好的通风环境，无需特殊通风装置要求主要参数 1、设备供电端口：DC24V 2.5A (标配“电源适配器”）2、总功率：25W 3、研抛盘直径：Φ70 mm4、载样盘直径：Φ30 mm5、工位数量：16、主轴驱动电机：DC24V 0.8A 10W 3000/60K=50rpm7、载样盘摆动速度：0-160 次/分（无级调速）8、试样最大直径：Φ50mm9、试样最大厚度≤2mm10、控制方式：定时运行（倒计时）产品规格 尺寸：400mm×200mm×230mm；重量：11kg

本公司实验仪器全部为自主研发，可根据客户实际要求量身定制。研磨仪 产品介绍: MG100臼式研磨仪是以仿传统的手工研磨方式为基础，通过研钵和臼杵的摩擦和挤压，从而完成样品的粉碎。该设备适用于对软性、硬性、脆性、粘性、潮湿的样品进行混合、研磨，干磨、湿磨、冷冻研磨，有多种防污染研磨套件可选，防止研磨过程中对样品的污染，保证实验结果的准确性。研磨仪产品特点：精确性：臼杵压力可通过标尺进行调节，保证样品高度均质化；研磨时间控制到秒，结果具有可重复性。易操作：清洗设备、更换研钵和臼杵简单，无需使用工具即可自行拆卸安装。研磨仪高品质：数字显示式操作，玻璃观测窗口可实现对于研磨过程的可视性监控；防尘封口设计界，可确保研磨过程无样品损失；研钵和臼杵材质具有多重选择性，能够满足所有应用任务。安全性：安全门控装置，保护罩开启，仪器自动停止运行；运行平稳，无噪音研磨仪工作原理： 样品从顶部的进料窗口进入研钵与臼杵之间的粉碎区后，沿着研钵运动的方向向内侧运动，碰到刮料板后，一部分样品向臼杵和研钵的上下接触面聚集，另一部分样品沿着研钵壁进入到研钵和臼杵的后侧接触面，这样的循环运动保证了样品的均匀性的粉碎。臼杵相对于研钵，属于偏心设计，一方面研钵带动臼杵转动，通过和样品的接触产生摩擦力粉碎样品；另一方面臼杵本身的重量以及作用在臼杵轴向、可调节的弹性力所产生的压力粉碎样品。研磨仪基本参数：样品特征干、湿、冷冻研磨最大进样尺寸= 8 mm最终出料粒度~ 10µ m（根据样品而定）转 速150 rpm批次处理量10-190mL常规研磨时间1-3min研磨部件材质不锈钢、硬瓷、刚玉、氧化锆、碳化钨、玛瑙研磨时间设定1-99min本公司实验仪器全部为自主研发，可根据客户实际要求量身定制。产品品质：莱北仪器设备使用的所有材料均符合国际标准。莱北仪器通过了ISO 9001企业质量管理体系认证、ISO 14001环境管理体系认证、ISO45001职业健康安全管理体系认证，以及CE认证。莱北仪器所使用的生产材料都遵从RoHS标准，以保证对环境及使用者的健康保护。应用实例： 莱北仪器反应釜研发团队来自于国际知名品牌反应釜制造公司，凭借多年进口反应釜的经验，结合国内用户的情况，自主研发设计了多达40余款反应釜，容积范围从25mL到20L，温度范围从-40℃到700℃，压力范围从高真空到40MPa。 莱北仪器自助研发设计以反应釜、反应系统集成装置、样品前处理设备为主的具有核心竞争力的仪器设备，广泛应用于石油化工、材料冶金、生物制药、能源环境等科研领域，所有设备均可根据客户需求进行定制。

上海净信® 的高通量组织研磨机（专利产品，仿冒必究！ZL2018300207398）是一种特殊的、快速的、高效率的、多试管的一致系统。它能将任何来源(包括土壤、植物和动物的组织/器官、细菌、酵母、真菌、孢子、古生物标本等)的原始DNA、RNA和蛋白质进行提取和纯化。高通量组织研磨仪产品特点： 用途：粉碎、混合、均化以及细胞破碎，冷冻研磨 应用领域：农业、生物、化学、塑料、建筑材料、电子、环境、食物、玻璃、陶瓷、医药、矿物冶金等 适用样品：植物（根茎叶种子等）、动物（肌肉内脏骨骼牙齿等）、微生物、食品、土壤、矿物等 适用样品质地：硬性，中度硬性，软性，脆性，弹性，纤维性等 粉碎原理：撞击力，摩擦力 运动方式：水平往复振荡球磨式 研磨种类：干磨、湿磨、低温研磨高通量组织研磨仪技术参数：主要参数参数范围样品防温升设计：有研磨平台数：2样品处理量：24个2.0ml样品管、10个5.0ml样品管或2个15ml研磨罐参数显示方式：数字显示振动频率设置：100-2000次/分钟，连续可调粉碎时间设定：0秒-9999分钟间歇时间设定：0秒-99秒编程功能：可编程设置研磨时间、暂停时间及循环数间歇振荡功能：有典型粉碎时间：2分钟进样尺寸：≤8mm出料粒度：~5μm中心自动定位紧固：自带中心自动定位紧固装置翻盖开关：开盖自动停机安全级别： 符合欧盟CE认证主机身材质：全金属机身低温研磨功能：适配器及研磨罐可浸入液氮样品温度可达-192℃高通量组织研磨仪相关配件：研磨罐：选配：一对15ml旋盖型研磨罐，硬质钢、特氟龙和刚玉等多种材质可选研磨试管夹具：选配：一对12孔2ml适配器，一对5孔5ml适配器其他可选配件：全钢研磨珠（φ2/3/5/8mm）、碳化钨研磨珠（φ3/5mm）、氧化锆研磨珠（φ5mm）、玻璃珠（φ0.1-2mm）、硬质研磨试管（24个/包）、不锈钢研磨管（8个/包）

UNIPOL-1200S自动压力研磨抛光机主要应用于材料研究领域，广泛使用于大专院校、科研院所实验室中对金属、陶瓷、玻璃、红外光学材料（如硒化锌、硫化锌、硅、锗等晶体）、岩样、矿样、复合材料、有机高分子材料等材料的自动研磨抛光，以及工厂的小规模生产等。UNIPOL-1200S自动压力研磨抛光机采用机械加压方式，可以使样品在研磨过程中受到一个恒定的压力。本机特别设有机械手磨抛工位，使本机既可以在高压力下进行超硬材料的磨抛，也可以在机械手作用下对易解理、易破碎材料进行磨抛，拓宽了本机的使用范围。UNIPOL-1200S自动压力研磨抛光机可以对研磨抛光时间进行，时间到机器自动停止转动，可以实现对机器的无人看守。1、特别设有一个机械手研磨抛光工位。2、中心加载压力，压力稳定可靠。3、性能优良，操作简单，适用范围广。产品名称 UNIPOL-1200S自动压力研磨抛光机产品型号 UNIPOL-1200S安装条件 本设备要求在海拔1000m以下，温度25℃±15℃，湿度55%Rh±10%Rh下使用。1、水：设备配有上水口及下水口，需自行连接自来水及排水2、电：AC220V 50Hz，必须有良好接地3、气：无4、工作台：尺寸800mm×600mm×700mm，承重200kg以上5、通风装置：不需要主要参数 1、电源：220V 50Hz；功率：460W2、平载物盘：Ø 160mm3、重力载物盘：Ø 105mm4、磨抛盘：Ø 300mm5、载物盘（上盘）转速：10rpm-80rpm（无级调速）6、磨抛盘（下盘）转速：20rpm-240rpm（增量调速，最小增量10）7、压力：0.5kg-20kg（最小增量0.5kg）产品规格 尺寸：660mm×460mm×800mm；重量：95kg序号名称数量图片链接1铸铁研磨盘1个2铸铝盘1个3载物盘1个4重力载物盘1个5修盘环1个6磁力片2片7研抛底片2片8砂纸（240#、400#、800#、1500#）各2片9抛光垫（磨砂革、合成革、聚氨酯）各1片10金刚石抛光膏（W2.5）1支序号名称功能类别图片链接1SKZD-2滴料器（可选）2SKZD-3滴料器（可选）3SKZD-4自动滴料器（可选）4SKZD-5滴料器（可选）5YJXZ-12搅拌循环泵（可选）6精密测厚仪（可选）7GPC-80A精确磨抛控制仪（可选）8陶瓷研磨盘（可选）9玻璃研磨盘（可选）10磁性树脂金刚石研磨片（可选）11无蜡抛光盘（可选）12桃型孔载物盘（φ105mm）（可选）13UNIPOL-1200S压力研磨抛光机特殊夹具（可选）

UNIPOL-1200S自动压力研磨抛光机主要应用于材料研究领域，广泛使用于大专院校、科研院所实验室中对金属、陶瓷、玻璃、红外光学材料（如硒化锌、硫化锌、硅、锗等晶体）、岩样、矿样、复合材料、有机高分子材料等材料的自动研磨抛光，以及工厂的小规模生产等。UNIPOL-1200S自动压力研磨抛光机采用机械加压方式，可以使样品在研磨过程中受到一个恒定的压力。本机特别设有机械手磨抛工位，使本机既可以在高压力下进行超硬材料的磨抛，也可以在机械手作用下对易解理、易破碎材料进行磨抛，拓宽了本机的使用范围。UNIPOL-1200S自动压力研磨抛光机可以对研磨抛光时间进行，时间到机器自动停止转动，可以实现对机器的无人看守。1、特别设有一个机械手研磨抛光工位。2、中心加载压力，压力稳定可靠。3、性能优良，操作简单，适用范围广。产品名称 UNIPOL-1200S自动压力研磨抛光机产品型号 UNIPOL-1200S安装条件 本设备要求在海拔1000m以下，温度25℃±15℃，湿度55%Rh±10%Rh下使用。1、水：设备配有上水口及下水口，需自行连接自来水及排水2、电：AC220V 50Hz，必须有良好接地3、气：无4、工作台：尺寸800mm×600mm×700mm，承重200kg以上5、通风装置：不需要主要参数 1、电源：220V 50Hz；功率：460W2、平载物盘：Ø 160mm3、重力载物盘：Ø 105mm4、磨抛盘：Ø 300mm5、载物盘（上盘）转速：10rpm-80rpm（无级调速）6、磨抛盘（下盘）转速：20rpm-240rpm（增量调速，最小增量10）7、压力：0.5kg-20kg（最小增量0.5kg）产品规格 尺寸：660mm×460mm×800mm；重量：95kg序号名称数量图片链接1铸铁研磨盘1个2铸铝盘1个3载物盘1个4重力载物盘1个5修盘环1个6磁力片2片7研抛底片2片8砂纸（240#、400#、800#、1500#）各2片9抛光垫（磨砂革、合成革、聚氨酯）各1片10金刚石抛光膏（W2.5）1支序号名称功能类别图片链接1SKZD-2滴料器（可选）2SKZD-3滴料器（可选）3SKZD-4自动滴料器（可选）4SKZD-5滴料器（可选）5YJXZ-12搅拌循环泵（可选）6精密测厚仪（可选）7GPC-80A精确磨抛控制仪（可选）8陶瓷研磨盘（可选）9玻璃研磨盘（可选）10磁性树脂金刚石研磨片（可选）11无蜡抛光盘（可选）12桃型孔载物盘（φ105mm）（可选）13UNIPOL-1200S压力研磨抛光机特殊夹具（可选）

UNIPOL-1000D双盘压力研磨抛光机主要用于材料研究领域，广泛使用于大专院校、科研院所实验室的金属、陶瓷、玻璃、红外光学材料（如硒化锌、硫化锌、硅、锗等晶体）、岩样、矿样、有机高分子材料、复合材料等材料样品的自动研磨抛光，以及工厂的小规模生产等。UNIPOL-1000D双盘压力研磨抛光机设有两个研磨抛光工位，可以分别进行研磨、抛光操作，既避免了交叉污染，又提高了工作效率。本机采用机械加压模式对被研磨样品加压，压力施加于载物盘的中心，使整个载物盘受力均匀。通过手触控制屏对设备进行控制，上盘可以进行顺时针旋转也可以进行逆时针旋转，下盘作顺时针旋转，通过样品盘的材质不同可以选择上盘的旋转方向。机器工作过程中噪音小，具有研磨定时功能，时间到机器自动停止，可以实现无人看守工作。1、设有两个研磨抛光工位，可分别进行研磨、抛光操作。2、中心加载压力，压力稳定可靠。3、性能优良，操作简单，适用范围广。产品名称 UNIPOL-1000D双盘压力研磨抛光机产品型号 UNIPOL-1000D安装条件 本设备要求在海拔1000m以下，温度25℃±15℃，湿度55%Rh±10%Rh下使用。1、水：设备配有上水口及下水口，需自行连接自来水及排水2、电：AC220V 50Hz，必须有良好接地3、气：无4、工作台：尺寸800mm×600mm×700mm，承重200kg以上5、通风装置：不需要主要参数 1、电源：220V 50Hz2、载物盘：Ø 150mm3、桃型孔：Ø 25.4mm4、磨抛盘：Ø 250mm5、载物盘（上盘）转速：10rpm-80rpm（无级调速）6、磨抛盘（下盘）转速：50rpm-400rpm（增量调速，最小增量10）7、压力：0.5kg-20kg（最小增量0.5kg）产品规格 尺寸：780mm×590mm×750mm；重量：100kg序号名称数量图片链接1铸铝抛光盘2个2桃型孔载物盘1个3磁力片4片4研抛底片6片5砂纸（240#、400#、800#、1500#）各2片6抛光垫（磨砂革、合成革、聚氨酯）各2片7金刚石抛光膏1支序号名称功能类别图片链接1平载物盘（可选）2修盘环（可选）3SKZD-2滴料器（可选）4SKZD-3滴料器（可选）5SKZD-4自动滴料器（可选）6SKZD-5滴料器（可选）7YJXZ-12搅拌循环泵（可选）8精密测厚仪（可选）9陶瓷研磨盘（可选）10玻璃研磨盘（可选）

MF 10 basic Microfine grinder drive*更多型号往下拉连续工作的通用型研磨机。配备大功率研磨马达工作面为不锈钢制成，易于清洁研磨头易于更换研磨头和筛子必须单独定购 技术参数工序类型在线工作原理剪切/冲击电机输入功率1000 W电机输出功率500 W速度范围3000 - 6500 rpm工作时间 开120 min工作时间 关30 min研磨物料可在研磨室用干冰冷却是外形尺寸320 x 380 x 300 mm重量9.7 kg允许环境温度5 - 40 °C允许相对湿度80 %DIN EN 60529 保护方式IP 22电压230 / 115 V频率50/60 Hz仪器输入功率1000 W其他型号*点击图片查看产品核心参数型号Tube Mill controlTube Mill 100 controlMF 10.2 Impact grinding headMF 10.1 Cutting-grinding head*点击图片查看产品核心参数型号MF 10 basic Microfine grinder drive（在线研磨机）M 20 Universal mill（批量研磨机）A 10 basic（批量研磨机）A 11 basic Analytical mill（批量研磨机）*点击图片查看产品核心参数型号A 10

本公司实验仪器全部为自主研发，可根据客户实际要求量身定制。研磨仪 产品介绍: CM100超离心研磨仪，适用于软性、脆性、中硬性、纤维质等样品，短时间内对样品进行温和快速的制备，可进行冷冻研磨，用于热敏性样品的制备。大量的可选配件，使其成为一个多功能仪器，广泛用于各种领域。研磨仪 产品特点:噪音低，运行稳定，拆卸及清洁方便；防回溅进料口， 机盖关闭后自动上锁，运行过程中双重锁定；具有负荷显示及过载保护报警和电机停止开盖保护功能。温和、快速的两级式粉碎，重复性好；控制器与电机室隔离，有效防止粉尘污染，便于维护保养。液晶触摸屏幕，人性化操作界面，逻辑编程控制，可显示转速、功率、运行时间等，动力强劲；可设定工作时间，定时关机；可对运行错误信息进行提示。研磨仪 工作原理： 样品从进料口进入，先经过防止回溅的漏斗落到转动的转刀上。由于离心加速度的作用，样品向着刀翼做外延运动。它具有高转速，两者之间的冲击产生切割粉碎的效果，并且在转刀与圈筛之间进行二次的剪切和摩擦，样品尺寸小于圈筛孔径，最后进入圈形的收集盘内。这种两级式的粉碎方式，制样过程达到了温和快速的效果，样品只在粉碎腔内滞留很短的时间，样品本身的特性不会经制样过程有所改变。研磨仪 适用样品： CM100超离心研磨仪适用于对硬性、中硬性和脆性样品的细粉碎和精细研磨，还适用于软性、弹性、纤维质材料等。可粉碎和研磨的材料包括纤维组织、骨头、头发、化学品、药品、糖衣药丸、矿物、矿石、合金、玻璃、陶瓷、土壤、污泥、植物组织、谷物颗粒、油籽料、塑料、废料、毛料、纺织品等许多其它材料。 对于很难研磨的样品也可使用，比如在研磨前加入液氮使其脆化，从而达到分析级的细度，达到试验的研磨效果。研磨仪 基本参数：样品特征硬性、中硬性、软性、脆性、弹性、纤维质最大进样尺寸10mm最小出样尺寸约0.04mm，根据筛圈及样品而定处理量900mL（标准收集盘）转 速2000-18000rpm，无极调速转刀种类12齿（标准），可选择24齿等筛圈种类0.25mm、0.5mm、1.0mm等材 质316不锈钢（标准），可选择钛材质等宽*深*高460*330*470净重/功率48kg/1350W本公司实验仪器全部为自主研发，可根据客户实际要求量身定制。产品品质：莱北仪器设备使用的所有材料均符合国际标准。莱北仪器通过了ISO 9001企业质量管理体系认证、ISO 14001环境管理体系认证、ISO45001职业健康安全管理体系认证，以及CE认证。莱北仪器所使用的生产材料都遵从RoHS标准，以保证对环境及使用者的健康保护。应用实例： 莱北仪器反应釜研发团队来自于国际知名品牌反应釜制造公司，凭借多年进口反应釜的经验，结合国内用户的情况，自主研发设计了多达40余款反应釜，容积范围从25mL到20L，温度范围从-40℃到700℃，压力范围从高真空到40MPa。 莱北仪器自助研发设计以反应釜、反应系统集成装置、样品前处理设备为主的具有核心竞争力的仪器设备，广泛应用于石油化工、材料冶金、生物制药、能源环境等科研领域，所有设备均可根据客户需求进行定制。

UNIPOL-1200M自动压力研磨抛光机主要用于材料研究领域，广泛使用于各大专院校、科研院所实验室的金属、陶瓷、玻璃、红外光学材料（如硒化锌、硫化锌、硅、锗等晶体）、岩样、矿样、复合材料、有机高分子材料等材料样品的自动研磨抛光，尤其适用于研磨经镶嵌后呈圆柱状的小块样品，另可用于锆石测年靶材制备以及工厂的小规模生产等。UNIPOL-1200M自动压力采用多点式气动加压，使载物盘受力均匀，研磨压力大小可调。研磨时载物盘可以进行顺时针旋转也可以进行逆时针旋转，根据样品研磨的难易程度来进行选择。UNIPOL-1200M自动压力研磨抛光机可以对研磨抛光时间进行定时，达到时间机器自动停止，可以实现无人看守。气柱在压缩空气的作用下将载物盘中的样件压在旋转的磨抛盘上，从而实现样件定位与磨抛。1、通过触摸式控制屏操作，磨抛盘按设定转速逆时针旋转，载物盘可按设定转速及方向顺时针或逆时针旋转。2、多点加载压力，通过节流阀控制和调整压力。3、加工精度高，性能稳定可靠，操作简单，适用范围广。产品名称 UNIPOL-1200M自动压力研磨抛光机产品型号 UNIPOL-1200M安装条件 本设备要求在海拔1000m以下，温度25℃±15℃，湿度55%Rh±10%Rh下使用。1、水：设备配有上水口及下水口，需自行连接自来水及排水2、电：AC220V 50Hz，必须有良好接地3、气：无4、工作台：尺寸800mm×600mm×700mm，承重200kg以上5、通风装置：不需要主要参数 1、电源：220V 50Hz；功率：450W2、载物盘：Ø 150mm（标配载样件：Ø 25mm、可选载样件：Ø 22mm、Ø 30mm、Ø 45mm）3、磨抛盘：Ø 300mm4、载物盘（上盘）转速：1rpm-60rpm内无级可调5、磨抛盘（下盘）转速：50rpm-500rpm内无级可调6、压力：0.15-0.4MPa产品规格 尺寸：660mm×460mm×720mm；重量：80kg序号名称数量图片链接1铸铝盘1个2载物盘1个3磁力片2片4研抛底片4片5砂纸（240#、400#、800#、1500#）各2片6抛光垫（磨砂革、合成革、聚氨酯）各1片7金刚石抛光膏（W2.5）1支序号名称功能类别图片链接1SKZD-2滴料器（可选）2SKZD-3滴料器（可选）3SKZD-4自动滴料器（可选）4SKZD-5滴料器（可选）5YJXZ-12搅拌循环泵（可选）6陶瓷研磨盘（可选）7玻璃研磨盘（可选）8YJXZ-25自动过滤水箱（可选）9静音无油空气压缩机（可选）101200M磨抛地质薄片工装（可选）

UNIPOL-802自动精密研磨抛光机适用于晶体、陶瓷、金属、玻璃、岩样、矿样、PCB板、红外光学材料（如硒化锌、硫化锌、硅、锗等晶体）、耐火材料、复合材料等材料的研磨抛光制样，是科学研究、生产实验理想的磨抛设备之一。本机设置了Ø 203mm的研磨抛光盘和两个加工工位，可用于研磨抛光≤Ø 80mm的平面。在研磨过程中两个加工工位可以一定的频率左右摆动，同时推动载物块左右摆动，载物块在进行自转的同时随着研磨盘公转，使样品做无规则运动，使研磨后的样品表面质量均匀。研磨抛光机配备的载物块是具有高的平面度和平行度的精密圆柱状金属块，使研磨后的样品表面也具有高的平面度，并且不会使样品边缘倒角，对边缘要求高的样品尤其适合。UNIPOL-802自动精密研磨抛光机若配置适当的附件（GPC-50A精密磨抛控制仪），可批量生产高质量的平面磨抛产品。GPC-50A精密研磨抛光仪能严密控制被研磨样品的平面度和平行度。UNIPOL-802精密研磨抛光机可以用研磨盘加磨料的方式研磨样品，也可以选用抛光盘贴砂纸的方式研磨样品，砂纸或抛光垫采用磁力吸附的方式装卡，装卸方便。具体选用砂纸研磨还是磨料研磨可根据被研磨样品的材质进行选择。1、超平抛光盘（平面度为每25mm×25mm小于0.0025mm）。2、超精旋转轴（托盘端跳小于0.01mm）。3、设有两个加工工位。4、主轴旋转采用无级调速控制方式，并设有数显表实时显示转数。5、配有定时器，可准确控制工作时间（0-300h之间）。6、可选配自动滴料器或循环泵，使磨抛更加方便快捷。产品名称 UNIPOL-802自动精密研磨抛光机产品型号 UNIPOL-802安装条件 本设备要求在海拔1000m以下，温度25℃±15℃，湿度55%Rh±10%Rh下使用。1、水：设备配有上水口及下水口，需自行连接自来水及排水2、电：AC220V 50Hz，必须有良好接地3、气：无4、工作台：尺寸800mm×600mm×700mm，承重200kg以上5、通风装置：不需要主要参数 1、电源：110/220V2、功率：275W 3、主轴转速：最低起动转速~最高转速10~250rpm4、工位：2个5、支撑臂摆动次数：0-9次/分6、托盘端跳：0.008/180mm7、磨抛盘：Ø 203mm8、载物盘：Ø 80mm产品规格 尺寸：580mm×420mm×350mm；重量：68kg序号名称数量图片链接1铸铁研磨盘1个2铸铝盘1个3载物盘2个4修盘环2个5抛光垫（磨砂革、合成革、聚氨酯）各1片6刚玉研磨微粉0.5kg7石蜡棒4根序号名称功能类别图片链接1SKZD-2滴料器（可选）2SKZD-3滴料器（可选）3SKZD-4自动滴料器（可选）4SKZD-5滴料器（可选）5YJXZ-12搅拌循环泵（可选）6精密测厚仪（可选）7GPC-50A精确磨抛控制仪（可选）8陶瓷研磨盘（可选）9玻璃研磨盘（可选）10磁性树脂金刚石研磨片（可选）11无蜡抛光盘（可选）

UNIPOL-1202自动精密研磨抛光机是用于晶体、陶瓷、金属、玻璃、岩样、矿样、PCB板、红外光学材料（如硒化锌、硫化锌、硅、锗等晶体）、耐火材料、复合材料等材料的研磨抛光制样，是科学研究、生产实验理想的磨抛设备之一。本机设置了Ø 300mm的研磨抛光盘和两个加工工位，可用于研磨抛光≤Ø 105mm的圆片或对角线长≤105mm的矩形平面。在研磨过程中两个加工工位可以一定的频率左右摆动，同时推动载物块左右摆动，载物块在进行自转的同时随着研磨盘公转，使样品做无规则运动，使研磨后的样品表面质量均匀。研磨抛光机配备的载物块是具有高的平面度和平行度的精密圆柱状金属块，使研磨后的样品表面也具有高的平面度，并且不会使样品边缘倒角，对边缘要求高的样品尤其适合。UNIPOL-1202自动精密研磨抛光机若配置适当的附件（GPC-80A精密磨抛控制仪），可批量生产高质量的平面磨抛产品。搭配GPC-80A使用尤其适用于地质薄片样品的研磨与抛光。UNIPOL-1202精密研磨抛光机可以用研磨盘加磨料的方式研磨样品，也可以选用抛光盘贴砂纸的方式研磨样品，砂纸或抛光垫采用磁力吸附的方式装卡，装卸方便。具体选用砂纸研磨还是磨料研磨可根据被研磨样品的材质进行选择。1、超平抛光盘（平面度为每25mm×25mm小于0.0025mm）。2、超精旋转轴（托盘端跳小于0.01mm）。3、设有两个加工工位。4、主轴旋转采用无级调速控制方式，并设有数显表实时显示转数。5、配有定时器，可准确控制工作时间（0-300h之间）。6、可选配自动滴料器或循环泵，使磨抛更加方便快捷。产品名称 UNIPOL-1202自动精密研磨抛光机产品型号 UNIPOL-1202安装条件 本设备要求在海拔1000m以下，温度25℃±15℃，湿度55%Rh±10%Rh下使用。1、水：设备配有上水口及下水口，需自行连接自来水及排水2、电：AC220V 50Hz，必须有良好接地3、气：无4、工作台：尺寸800mm×600mm×700mm，承重200kg以上5、通风装置：不需要主要参数 1、电源：110V/220V2、功率：275W3、主轴转速：最低起动转速~最高转速10~125rpm4、工位：2个5、支撑臂摆动次数：0-9次/分6、托盘端跳：0.008mm/250mm7、磨抛盘：Ø 300mm8、载物盘：Ø 105mm产品规格 尺寸：长550mm×宽700mm×高400mm；重量：80kg序号名称数量图片链接1铸铁研磨盘1个2铸铝盘1个3载物盘2个4修盘环2个5抛光垫（磨砂革、合成革、聚氨酯）各1片6刚玉研磨微粉0.5kg7石蜡棒4根序号名称功能类别图片链接1SKZD-2滴料器（可选）2SKZD-3滴料器（可选）3SKZD-4自动滴料器（可选）4SKZD-5滴料器（可选）5YJXZ-12搅拌循环泵（可选）6精密测厚仪（可选）7GPC-50A精确磨抛控制仪（可选）8陶瓷研磨盘（可选）9玻璃研磨盘（可选）10磁性树脂金刚石研磨片（可选）11无蜡抛光盘（可选）

用基座显微镜及三目摄像头观察磨削平面上的玻璃微管接触。此型号使用稳定输出的微型电机，这是为减少磨削平面不规则运动制作的。PG-22C标配总放大倍率50X和100X的显微镜观察系统，用于观察玻璃微管与磨针仪磨盘的接触情况，提高磨削的准确性。磨针仪PG-22C磨盘为金刚石研磨砂纸磨盘，可选多种颗粒度（1um，3um，5um等）的磨盘，标配1um颗粒粗糙度的磨盘。此型号提供稳定范围的转速-从低速度到更快的磨削转速性能。操作方便的微调轴移动机械手，可用于微管在Z轴方向对微电极等进行微调移动，研磨准确性好。量角器安装在微操作手基座上，便于设定所需的磨削角度，也可进行垂直磨削。玻璃毛细管磨针仪（Micropipette Grinder）：PG-22C磨针仪提供一个光学平面的磨盘，在显微镜下硼硅酸盐玻璃移液管（玻璃微电极、显微注射针、颗粒/细胞捕获针、显微切割针等）与磨盘接触，以一定的转速，将目标物制作成锋利的前端，亦可处理成不同斜切角度。这种通过磨针仪处理后的微电极、显微注射针、移液管等，减小微电极的电阻、注射针易于刺入细胞因而对细胞的破坏小、减少切面的毛刺等。MPI磨针仪的电动机减少了磨面上的不规则运动，通过显微操作手移动使玻璃微电极等和磨面之间的接触磨削准确稳定。可调的磨削转速，良好性能的运行电机，使得设备在低速或高速运行下都能提供稳定的设定转速，保持实验样品处理的均一性及可重复性。本系列磨针仪提供一个微操作器，可以在Z轴方向对微电极等进行粗调和微调移动。同时，微电极架上配有量角器，可以方便设置需要的研磨角度等数据。本系列设备配有LED灯光模块，可以依据针尖在显微镜观察系统中直接观察针尖与磨盘的接触情况，也可以通过三目摄像头与电脑连接后，通过摄像头软件实时观察研磨针尖过程。

一.机型称号：二氧化硅研磨混合机，药物研磨混合机，毫微米研磨混合机，超飞快研磨混合机，水管式研磨混合机，3级研磨混合机，高剪切研磨混合机。二.研磨机：机型19款，处理量50到8*10000KG/小时，旋转1100到1.4*10000转/分钟，线速度23到44m/秒，电滚功耗1.5到160kW，磨头胶体磨&锥体磨。三.研磨分散机：机型6款，处理量50到6*1000KG/小时，旋转1100到9*1000转/分钟，线速度23m/秒，电滚功耗2.2到150kW，磨头胶体磨。四.小型分散乳化机：机型30款，处理量0.2克到10KG/小时，旋转50到3*10000转/分钟，线速度3到33m/秒，电滚功耗0.3到0.8kW。五.真空分散乳化机：机型32款，处理量5到2*10000KG/小时，旋转14到1.4*10000转/分钟，线速度44m/秒，电滚功耗0.18到120kW。六.均质匀浆机：机型4款，处理量0.2到150克/小时，旋转3500到8*1000转/分钟，线速度3到10m/秒，电滚功耗0.145到0.18kW。七.多效用分散乳化均质机：机型27款，处理量150到12.5*10000KG/小时，旋转960到1.4*10000转/分钟，线速度10到44m/秒，电滚功耗1.5到160kW。八.混合机：机型I6款，处理量300到12.5*10000KG/小时，旋转1100到9*1000转/分钟，线速度20到23m/秒，电滚功耗1.5到160kW。九.实用物料种类：胶粘溶胶，巨粒子固态液体悬空液乳剂，不包溶等。十.终级粒径：主腔内有叁组定转子，每组粗齿、中齿、细齿、超细齿。调动定转子间隙，加工后地终级粒径在10微纳米之下。十一.胚料配件：百分之八十以上进ロ海内外公司。十二.技艺出处：引荐德国技艺，立发明加工，备有专利。十三.工作方式：有在线式，批次式，内外循环式，水管式，可倒式，若干效用式。十四.机型合成：靠预加工锅、搅动锅、泵、液压系统、倒料系统、电力调动系统、主腔等部件合成。十五.智力化：CIP冲洗系统，液压升降松盖，包括配料给料吸料安装。十六.磨头好处：研磨头可调5款模版，6款分散头，20多款工作头。十七.锥磨好处：锥磨转子外层包含金属碳化物跟不一样粒子地陶瓷镀层等高上材料，提防毁伤腐蚀。十八.机型材料：统统接碰物料地材料皆是进口耐酸钢，主腔跟管路内乃亮面抛光三百EMSH（卫生级），无死角。十九.密封好处：博格曼双机械密封，液压平稳系统（可以担当16atm重压），软密封。二十.搅动方式：可挑刮壁式/锚固式/融解式/叶面式。二十一.机型好处：机型采选上层同轴三重装搅动器，循环管路，出水阀。二十二.操控箱好处：不但可以操控电滚旋转，摄氏度降温升温（经历电能，热汽，油水循环，可以担当-40到250摄氏度），重压，PH度，粘性。且可以设定不一样效用模版，呈现相称地个个参数，可以线性扩大量产。?.可抉选：参观窗，硅氟酸玻璃参观，电导率计，二层绝缘保护，稳定夹，作业台，底盘，图案解析多功用显微硬度仪（测量界线1—4千维氏硬度），管路式测量电炉（测量界线zui高1350度），传送泵/转子泵/气动隔膜泵/锚杆泵/离心泵（产量850—4.3万升/H），反应翻搅单罐/多罐（500—3千升/H），反渗入/全自动纯净装备（0.5—3千升/H)，超氧产生器，过流式紫外光灭菌器等。?.别的特长：整体立方小，电耗低，分贝低，可每日不断出产。?.访客垂访：按照访客实况必要恰当抉选！别的可订制非标和生产线！假若是非常情况，比方超温，超压，易烧易炸，侵蚀性，可产品升级！?.物料测量：得到访客物料后当即投入测量，瞧可否到达要求&答复测量进程&成果。?.方案价格：断定好产品功用后当即策画方案，包含2D部署图，总安装出产线表示图，立体成果图，&呈上本该得价格单子！?.结语：我们是出产厂家，详尽信息可以企业查看，因此分外恭候访客去垂访&更深一步长谈！以上信息不容坊造，非常道谢！扩展内容可不看：二氧化硅是一种无机化合物，化学式为 SiO2。 硅原子和氧原子长程有序排列形成结晶二氧化硅，短程有序或长程无序排列形成无定形二氧化硅。在二氧化硅晶体中，硅原子位于正四面体的中心，四个氧原子位于正四面体的四个角上。许多这样的四面体由角落处的氧原子连接。这两个四面体是共同的，即每个氧原子与两个硅原子结合。二氧化硅简单的公式是SiO2，但SiO2并不代表一个简单的分子（它只代表二氧化硅晶体中硅和氧的原子数之比）。二氧化硅晶体，是一种坚硬、脆、不溶、无色透明的固体，常用于制造光学仪器等。物理性质：结晶二氧化硅，密度2.2 g/cm3，熔点1723℃，沸点2230℃，折射率1.6，受热变化受热时与强碱熔化形成硅酸盐，溶解性不溶于水能与HF反应生成气态SiF4。

UNIPOL-1260无级变速调压高精度研磨抛光机可用于对于人工晶体、陶瓷、红外光学材料（如硒化锌、硫化锌、硅、锗等晶体）、石英玻璃、岩石等材料的研磨抛光，特别适合于金相试样的制备，以及白宝石、蓝宝石等硬脆性材料的研磨抛光。本机制备一般金相试样用时15min-20min左右，尤其适于大型钢铁工厂以及大量制备金相试样的单位使用。1、样件固定在专用载物盘上，利用快换卡头可方便地安装，且载物盘固定座上设有弹性联轴器，可避免样件接触磨抛盘瞬间产生冲击而损坏。2、样件接触磨抛盘时，气缸横臂开始施加压力。压力可预先设定，但因其采用无级调整方式，也可在工作时随时调整，实际最大压力可达0.5MPa。3、磨抛盘转速、载物盘转速在其范围内均可无级调整，因此可预先设定，也可随时调整。4、研磨抛光时间可在0-24h范围内任意设置，实现自动磨抛，到时自动停机。5、核心部件采用不锈钢精密加工而成。6、全部气动件、电气件均采用目前国际上最新技术成果的产品，性能可靠，经久耐用。7、机架结构采用优质型钢焊接而成，强度大，刚性好。产品名称 UNIPOL-1260无级变速调压高精度研磨抛光机产品型号 UNIPOL-1260安装条件 本设备要求在海拔1000m以下，温度25℃±15℃，湿度55%Rh±10%Rh下使用。1、水：设备配有上水口及下水口，需自行连接自来水及排水1、水：设备配有上水口及下水口，需自行连接自来水及排水2、电：AC220V 50Hz，必须有良好接地3、气：需要自行准备气源或者空气压缩机4、工作台：不需要（设备为落地式，占地1m2）。5、通风装置：不需要主要参数 1、上部直流电机功率：185W2、下部主轴电机功率：1.1KW-1.5KW3、压力调整范围：0-0.6MPa4、载物盘：Ø 160mm5、载物盘转速：0-250rpm6、磨抛盘：Ø 320mm7、磨抛盘平面度：0.015mm8、磨抛盘转速：0-300rpm产品规格 尺寸：988mm×594mm×1441mm；重量：250kg序号名称数量图片链接1铸铁研磨盘1个2铸铝抛光盘1个3平载物盘1个4桃型孔载物盘1个5修盘环1个6抛光垫（磨砂革、合成革、聚氨酯）各1片7刚玉研磨微粉0.5kg8石蜡棒4根序号名称功能类别图片链接1YJXZ-12搅拌循环泵（可选）2QYJ-1卡样机（可选）3XQ-2B金相试样镶嵌机（可选）4SKZD-5滴料器（可选）5静音无油空气压缩机（可选）

UNIPOL-830金相研磨抛光机是我公司主要为各大院校及研究所、各金相实验室设计研发的一款手动研磨抛光机，不仅可以研磨抛光金属材料，也可以研磨抛光其它各类非金属材料，如晶体、陶瓷、玻璃、PCB板、岩样、矿样、红外光学材料（如硒化锌、硫化锌、硅、锗等晶体）、耐火材料、复合材料及有机高分子材料等。UNIPOL-830金相研磨抛光机研磨抛光速度无极可调，压力大小手动控制，操作简单，使用方便，研磨过程中可直接接自来水进行冷却。砂纸或抛光垫的安装可以使用压圈装卡，也可以使用磁力吸附的方式安装，装卸方便，可根据个人需要，选择不同的安装方式。本机可选用压圈装卡或磁力吸附的方式安放砂纸与抛光垫，工作运行更加稳定。磁力吸附主要是为了克服传统装卡抛光织物打褶的缺点，将贴有压敏胶的抛光织物粘贴在研抛底片上，然后再吸附在磁力片上；其次，更便于砂纸及抛光垫的更换。产品名称 UNIPOL-830金相研磨抛光机产品型号 UNIPOL-830安装条件 1、温湿度：10-85%RH (at 25℃ 无凝露） 温度： 0-45℃。 2、设备周围无强烈震源和腐蚀气体。3、供电电源：出口标准设备：AC110/230V 50/60Hz 三极插座 10A 国内标准设备：AC220V 50Hz 国标三极插座 10A （插座必须有良好安全保护接地线）4、冷却水：设备配有上水口及下水口,需自行连接自来水及排水管线。5、气源：标配设备无需求6、工作台：建议在承重 100kg 以上操作台或桌面使用7、通风装置：良好的通风环境，无需特殊通风装置要求8、辅助设备（需另行购买）：推荐：1、SKCH-1 型精密测厚仪 2、SZKD-2 型自动搅拌滴料器、SKZD-3 型悬浮液滴料器 3、SKCS-1 型吹干机主要参数 1、设备供电端口：AC110/220V 转换 （国内 AC110V 无效）2、总功率：180W3、研抛盘直径：Φ203 mm4、研抛盘转速：50-600rpm（可调）5、抛光盘工位：1 工位6、主轴驱动电机：DC110V 165W7、控制方式：单片机+按键备注：1、设备供电有出口和国内两种供电区分，实际供电参数以产品后部粘贴标牌为准。 2、可按用户要求定制各种研抛盘，特殊卡具，专用零部件等。产品规格 8、产品规格：尺寸：L400×W580×H350mm净重：≈24kg序号名称数量图片链接1磁力片2片2研抛底片5片3砂纸8片4抛光垫（磨砂革、合成革、聚氨酯）各1片5金刚石抛光膏1支序号名称功能类别图片链接1SKZD-2滴料器（可选）2SKZD-3滴料器（可选）3SKZD-4自动滴料器（可选）4SKZD-5滴料器（可选）5磁性树脂金刚石研磨抛光盘（可选）6UNIPOL-01型TEM楔形磨抛夹具（可选）