全国纳米技术标准化委员会

什么是微纳米气泡 按照国际标准化组织（ISO）的定义，微纳米气泡（Fine Bubble）就是液体中直径小于100微米的气泡，根据气泡的大小又分为微米尺寸的微米气泡（Micro-Bubble；MB）和纳米尺寸的纳米气泡（Ultrafine-Bubble；UFB）两种。微纳米气泡之所以单独分为一类，是因为它和一般见到的毫米级微小气泡（Milli-Bubble）具有截然不同的特点，参见图2。（图2） 近年来，微纳米气泡的很多优异功能被发现，如比表面积大、停留时间长、界面zeta电位高等。除了其本身的性质外，由这些性质产生的效果也很独特，如自身增压溶解、产生自由基、强化传质效率等，因此微纳米气泡在环境保护、农业、胶片制作、医学诊断与治疗、浮选、污水处理、土壤改良、采油及冶金工业等诸多领域中得到很好的应用，在美日中德等世界各国发展迅猛，万亿市场可期。 2013年，国际标准化组织（ISO）设立新的技术委员会-微泡技术委员会、以及相应的标准组：ISO/TC281。2018年10月，中国颗粒学会微纳气泡专业委员会成立。2019年11月，国家标准化管理委员会决定成立全国微细气泡技术标准化委员会。ZYWNP-WJS-1型水下在线微米气泡实时动态观测系统 微纳米气泡技术的应用场景极其丰富：水产养殖、栽培、灌溉、施肥、膜生物反应器、含塑料废水处理、稳定塘、城市污水处理、固-液和液-液分离污水处理设备、牛奶厂废水、肉加工厂、高尔夫球场水塘、啤酒厂污水处理、增氧泥浆细菌分解池、虾场、池塘泻湖、藻类控制、养牛场、鱼类运输、鱼类保鲜、环境保护、农业、浮选、污水处理、土壤改良、蔬菜种植、无土栽培、纳米气泡洗浴花洒、纳米气泡水龙头、医疗、健康养生，等等。 正因为微纳米技术应用广泛，制备方法多样、发生设备多种，微纳米气泡直径不同性能效用差别巨大，因此人们迫切希望有检测微纳米气泡直径的设备。目前有一些实验室仪器可以检测到水样中微纳米气泡的直径，但是当微纳米气泡水样从科研生产实践的实体中取出，送往实验室的途中，微米级气泡基本散失、纳米级气泡也有部分灭失和状态改变，检测结果不能反映科研生产的实践水体中微纳米气泡的真实作用状态，使得科研没有实时数据支撑，也就无法量化指导生产实践中气泡尺寸控制的效果状态。 JXWNP-WJS-1型水下在线微米气泡实时动态观测系统（纳米气泡另有型号），正是为了解决科研生产实践中、“水下”“在线实时”“动态”“可甄别”这几个关键词而开发的检测设备。 JXWNP-WJS-1型水下在线微米气泡实时动态观测系统适用在流体环境中观测悬浮的微米级颗粒、胶体、气泡类物质，进行在线、连续、原位地观测。由于采用显微实像技术，检测结果完全是“所见即所得”，不仅数据真实可靠，还可甄别颗粒、胶体、气泡类物质，比如测量气泡时可以采用“含孔自动切分分析”手段自动排除固体颗粒、胶体等干扰物质。该设备大大丰富了易失样品的观测、检验手段，帮助我们更为简易地了解此类微小物体的生成、运动、作用模式。 该设备同样广泛适用于纤维工业、油脂、造纸、墨水、食品、橡胶、合成树脂、制药、采油、石油及其它高分子工业等的各种液体微粒悬浮体系，是大专院校、工矿企业等单位在科研生产实践过程中在线监视和控制产品性能，稳定及提高产品质量的新型手段。 该设备具有结构紧凑、使用维护方便，观测迅速、结果可靠等特点。（图3）主要技术指标 图像分辨率：0.6～4 微米/像素 测量范围：1微米～100微米（其实数百微米也可测量，这个范围是考虑ISO关于微气泡的定义） 物距：13毫米（外壳最外层玻片到观测样品的距离） 变倍：0.7～4.5物理变倍、9档电动变倍 CCD摄像头：60帧（标配）～2000帧（选配） ***注：选配高速摄影需要配套专业软件、高亮灯光以及固态硬盘 外形尺寸L×W×H ：600×200×200（毫米） 防水：机头IPX7 仪器重童：约10公斤 电源：AC 220V ±10 %，50Hz ±1% 配套专业影像分析软件（图4）软件设置界面-放大倍率可调设备构成和工作原理 1 、设备构成 仪器主体由CCD摄像头，显微放大镜头，密闭透明外壳，防水数据线和机电控制箱组成。 并配备微机工作站，专业测量软件进行图像采集和分析。 2 、工作原理 仪器使用针对环境的结构设计，保证密闭环境下的密封、防蚀的工作需求。通过在液体中的显微镜头获得实时的样品图像。图像传至微机工作站中对图像进行筛选分辨，测量，统计数据。示例 提示1、气源为空气时，可以直接在环境中采集气源；气源为纯氧、臭氧、氢气时，需要准备好相应的气源钢瓶或发生器。 提示2、200帧/秒及以上的高速摄影需要高亮光源；计算机需要配固态硬盘。（图5）打开测量图片（图6）标定图片（图7）单阈值目标选取 （图8）分析目标选取并着色 （图9）目标分析选项 （图10）自动切分分析 （图11）分析结果参数列表

JXWNP-WJS-1型水下在线微米气泡实时动态观测系统的详细资料：JXWNP-WJS-1型水下在线微米气泡实时动态观测系统（图1）什么是微纳米气泡 按照国际标准化组织（ISO）的定义，微纳米气泡（Fine Bubble）就是液体中直径小于100微米的气泡，根据气泡的大小又分为微米尺寸的微米气泡（Micro-Bubble；MB）和纳米尺寸的纳米气泡（Ultrafine-Bubble；UFB）两种。微纳米气泡之所以单独分为一类，是因为它和一般见到的毫米级微小气泡（Milli-Bubble）具有截然不同的特点，参见图2。（图2） 近年来，微纳米气泡的很多优异功能被发现，如比表面积大、停留时间长、界面zeta电位高等。除了其本身的性质外，由这些性质产生的效果也很独特，如自身增压溶解、产生自由基、强化传质效率等，因此微纳米气泡在环境保护、农业、胶片制作、医学诊断与治疗、浮选、污水处理、土壤改良、采油及冶金工业等诸多领域中得到很好的应用，在美日中德等世界各国发展迅猛，万亿市场可期。 2013年，国际标准化组织（ISO）设立新的技术委员会-微泡技术委员会、以及相应的标准组：ISO/TC281。2018年10月，中国颗粒学会微纳气泡专业委员会成立。2019年11月，国家标准化管理委员会决定成立全国微细气泡技术标准化委员会。JXWNP-WJS-1型水下在线微米气泡实时动态观测系统 微纳米气泡技术的应用场景极其丰富：水产养殖、栽培、灌溉、施肥、膜生物反应器、含塑料废水处理、稳定塘、城市污水处理、固-液和液-液分离污水处理设备、牛奶厂废水、肉加工厂、高尔夫球场水塘、啤酒厂污水处理、增氧泥浆细菌分解池、虾场、池塘泻湖、藻类控制、养牛场、鱼类运输、鱼类保鲜、环境保护、农业、浮选、污水处理、土壤改良、蔬菜种植、无土栽培、纳米气泡洗浴花洒、纳米气泡水龙头、医疗、健康养生，等等。 正因为微纳米技术应用广泛，制备方法多样、发生设备多种，微纳米气泡直径不同性能效用差别巨大，因此人们迫切希望有检测微纳米气泡直径的设备。目前有一些实验室仪器可以检测到水样中微纳米气泡的直径，但是当微纳米气泡水样从科研生产实践的实体中取出，送往实验室的途中，微米级气泡基本散失、纳米级气泡也有部分灭失和状态改变，检测结果不能反映科研生产的实践水体中微纳米气泡的真实作用状态，使得科研没有实时数据支撑，也就无法量化指导生产实践中气泡尺寸控制的最佳效果状态（量化数据的目的是不断接近最佳状态）。 JXWNP-WJS-1型水下在线微米气泡实时动态观测系统（纳米气泡另有型号），正是为了解决科研生产实践中、“水下”“在线实时”“动态”“可甄别”这几个关键词而开发的检测设备。 JXWNP-WJS-1型水下在线微米气泡实时动态观测系统适用在流体环境中观测悬浮的微米级颗粒、胶体、气泡类物质，进行在线、连续、原位地观测。由于采用显微实像技术，检测结果是“所见即所得”，不仅数据真实可靠，还可甄别颗粒、胶体、气泡类物质，比如测量气泡时可以采用“含孔自动切分分析”手段自动排除固体颗粒、胶体等干扰物质。该设备大大丰富了易失样品的观测、检验手段，帮助我们更为简易地了解此类微小物体的生成、运动、作用模式。 该设备同样广泛适用于纤维工业、油脂、造纸、墨水、食品、橡胶、合成树脂、制药、采油、石油及其它高分子工业等的各种液体微粒悬浮体系，是大专院校、工矿企业等单位在科研生产实践过程中在线监视和控制产品性能，稳定及提高产品质量的新型手段。 该设备具有结构紧凑、使用维护方便，观测迅速、结果可靠等特点。（图3）主要技术指标图像分辨率：0.6～4 微米/像素测量范围：1微米～100微米（其实数百微米也可测量，这个范围是考虑ISO关于微气泡的定义）物距：13毫米（外壳最外层玻片到观测样品的距离）变倍：0.7～4.5物理变倍、9档电动变倍CCD摄像头：60帧（标配）～2000帧（选配）***注：选配高速摄影需要配套专业软件、高亮灯光以及固态硬盘外形尺寸L×W×H ：600×200×200（毫米）防水：机头IPX7仪器重童：约10公斤 电源：AC 220V ±10 %，50Hz ±1% 配套专业影像分析软件（图4）软件设置界面-放大倍率可调设备构成和工作原理1 、设备构成仪器主体由CCD摄像头，显微放大镜头，密闭透明外壳，防水数据线和机电控制箱组成。并配备微机工作站，专业测量软件进行图像采集和分析。2 、工作原理仪器使用针对环境的结构设计，保证密闭环境下的密封、防蚀的工作需求。通过在液体中的显微镜头获得实时的样品图像。图像传至微机工作站中对图像进行筛选分辨，测量，统计数据。示例提示1、气源为空气时，可以直接在环境中采集气源；气源为纯氧、臭氧、氢气时，需要准备好相应的气源钢瓶或发生器。提示2、200帧/秒及以上的高速摄影需要高亮光源；计算机需要配固态硬盘。（图5）打开测量图片（图6）标定图片（图7）单阈值目标选取（图8）分析目标选取并着色（图9）目标分析选项 （图10）自动切分分析（图11）分析结果参数列表以上产品由上海中晨数字技术设备有限公司制造、上海金相环境科技有限公司技术授权。上海中晨简介 上海中晨数字技术设备有限公司获2019年度国家科技进步二等奖。公司依托国内高校和科研单位，广泛采用国内外有关专家的新科技成果，着重胶体与界面、粉体技术、纺织纤维等性能测量技术产品的开发。本公司产品可广泛用于化妆品、选矿、造纸、医疗卫生、建筑材料、超细材料、环境保护、海洋、化工、石油、喷涂、油漆油墨、印染、纺织、集成光学、液晶显示器等行业。公司的客户群不仅包括国内各大高等院校和科研院所，而且还包括苹果、3M、西部数据WD、富士康、三星电子、日月光、HOYA光学、友达光电、飞利浦、LG化学等一大批跨国企业，以及中石油、中石化、中海油、华为、比亚迪、宁德时代、京东方、隆基股份、欣旺达、德赛电池、合力泰、长电科技、华天科技、天合光能、长信科技、OPPO、VIVO、宁夏东方、水晶光电、彩虹控股、威远生化等上市公司，及国内的海关、防疫检验、质量监督检验所、博物馆、医疗机构等政府事业单位，产品远销美国、日本、韩国、巴西、马来西亚、泰国、印度、印度尼西亚、新加坡、智利和我国香港、澳门、台湾地区等。 公司研发和生产接触角测量、表界面张力测量、Zeta电位测量、LB膜界面测量、单纤维测量、束纤维测量、织物测量、显微测量、试验机定制等八大系列60多种专业仪器，拥有其软、硬件自主知识产权，能够保障用户的售后维护、升级、服务的权利。 中晨的注册商标“powereach”意为“力量源于每个人”，体现了上海中晨“以人为本、员工和用户是公司很大的财富”的核心价值观和企业文化。

Nanotechnology 纳米技术通过与领先的研究机构和大学专家的合作，TSE系统开发出纳米颗粒发生器和分析仪用于吸入纳米颗粒的研究。仪器改造为用户定义的系统配置----根据需要单独的一起规格。我们的纳米颗粒发生器提供纳米材料的散布，成为可现实暴露的气溶胶。结合CPC和DMA分析方法产生一种高分辨率的纳米粒子分析仪适用于几乎所有类型的研究以及进程监测。&bull 纳米颗粒发生器使用电喷射技术用于体外及体内研究&bull 单锥喷嘴模式用于均匀沉积或多喷嘴模式用于高通量暴露&bull 凝结粒子计数器（CPC）用于超细颗粒下至4.5纳米&bull 微分迁移率分析仪（DMA）用于根据其大小分类粒子&bull 纳米粒子分析仪的工作具有高分辨率和低粒子损失体内纳米颗粒发生器

JXWNP系列纳微气泡发生器和检测设备的详细资料：什么是微纳米气泡 按照国际标准化组织（ISO）的定义，微纳米气泡（Fine Bubble）就是液体中直径小于100微米的气泡，根据气泡的大小又分为微米尺寸的微米气泡（Micro-Bubble；MB）和纳米尺寸的纳米气泡（Ultrafine-Bubble；UFB）两种。微纳米气泡之所以单独分为一类，是因为它和一般见到的毫米级微小气泡（Milli-Bubble）具有截然不同的特点。 近年来，微纳米气泡的很多优异功能被发现，如比表面积大、停留时间长、界面zeta电位高等。除了其本身的性质外，由这些性质产生的效果也很独特，如自身增压溶解、产生自由基、强化传质效率等，因此微纳米气泡在水环境治理、土壤改良、农业种养殖、医学诊断与治疗、浮选与污废处理、采油及冶金工业等诸多领域中得到很好的应用，在美日中德等世界各国发展迅猛，万亿市场可期。 2013年，国际标准化组织（ISO）设立新的技术委员会-微泡技术委员会、以及相应的标准组：ISO/TC281。 2018年10月，中国颗粒学会微纳气泡专业委员会成立。 2019年11月，国家标准化管理委员会决定成立全国微细气泡技术标准化委员会。JXWNP系列纳微气泡发生器和检测设备上述产品的部分应用场景及案例：1、中国科学院大学水环境治理研究项目；2、中国煤炭科学研究总院科研项目；3、中核集团北京原子能研究院废水处理研究项目；4、中核集团陕西铀浓缩有限公司废水处理项目；5、北京城市排水集团生活污水处理项目；6、北控水务集团东营湿地扩容增效项目；7、湖北省咸宁市所属6个县市区养殖尾水循环利用推广项目；8、陕西省汉中市洋县水环境治理（科技扶贫项目）；9、华东师范大学丽娃河水质提标项目；10、浙江平湖多树种附生石斛并套种白芨示范推广项目；11、四川省泸州市珙县有机肥生产增效项目；12、四川泸州及上海漕河泾等地区水疗康养项目；13、江苏沿海开发集团东台盐碱地改造项目；14、上海地产集团生态滩涂有限公司崇明项目；15、上海市农业科学研究院奉贤土地碳排放项目；16、上海崇明岛陈家镇好一朵茉li花科创展示基地项目；17、水产养殖-上海崇明螃蟹养殖-上海市崇明县水产技术推广站；18、水产养殖-上海奉贤南美白对虾养殖-上海市水产研究所、上海国秀水产养殖专业合作社；19、种养结合-上海青浦水稻和红螯螯虾种养结合-上海焱联农业专业合作社；20、种养结合-上海崇明水稻和中华绒螯蟹种养结合-上海佳多粮食专业合作社；21、种养结合-浙江平湖水稻、鸡鸭鹅、无花果种养结合-浙江中晨生态农业有限公司；22、【沪农科攻字(2015)第3-2号】上海市农业科技重点攻关项目-智能设施装备科技创新产业工程项目-秸秆全量还田条件下栽培土壤环境改良技术研究...... 上海金相环境科技有限公司简介 上海金相环境科技有限公司致力于工控智能装备制造和实验室综合解决方案，研究方向主要有：材料物化特性检测方法及设备的研发与应用、教学及科研实验仪器的研发与应用、新型同位素分离技术的研究与实践、海水资源综合利用、纳微气泡发生装置研制及纳微气液界面技术在土壤修复/河道治理/农业种养殖尾水处理/设施农业智能装备应用实践和数据采集。公司还参与或主导部分团标、国标、ISO国际标准的编制/修订工作，并对外提供接触角、表面张力、界面张力、CMC、zeta电位、纳微米气泡粒度和浓度等数十个项目的测试服务。 上海金相环境科技有限公司的关联企业还包括：上海中晨数字技术设备有限公司、浙江中晨生态农业有限公司、浙江中晨仪器制造股份有限公司、上海金相企业管理有限公司、上海易素电子科技有限公司、上海易素材料科技有限公司、上海东星商务会展服务有限公司、纳泡检测技术（上海）股份有限公司、上海土源生物科技有限公司等。 上海金相环境科技有限公司和上海中晨数字技术设备有限公司对其研发生产的物性检测仪器设备拥有自主知识产权。公司不断强化在底层算法、标准化、模块化设计为用户带来的自主持续扩展空间、基于3D打印技术的高效非标定制、遍布各地的巡回工程师服务网络、强大的性价比等六方面的优势地位，实现了“零”应收zhang款：即公司收到的所有订单必须预收全款方能在若干工作日内送货上门安装调试培训。这样既保证了公司专注于技术研发和质量管控，也保障了用户长期享有售后服务和软硬件持续升级的权利。 上海中晨数字技术设备有限公司简介 上海中晨数字技术设备有限公司获2019年度国家科技进步二等奖。公司依托国内高校和科研单位，广泛采用国内外有关专家的新科技成果，着重胶体与界面、粉体技术、纺织纤维等性能测量技术产品的开发。本公司产品可广泛用于化妆品、选矿、造纸、医疗卫生、建筑材料、超细材料、环境保护、海洋、化工、石油、喷涂、油漆油墨、印染、纺织、集成光学、液晶显示器等行业。公司的客户群不仅包括国内各大高等院校和科研院所，而且还包括苹果、3M、西部数据WD、富士康、三星电子、日月光、HOYA光学、友达光电、飞利浦、LG化学等一大批跨国企业，以及中石油、中石化、中海油、华为、比亚迪、宁德时代、京东方、隆基股份、欣旺达、德赛电池、合力泰、长电科技、华天科技、天合光能、长信科技、OPPO、VIVO、宁夏东方、水晶光电、彩虹控股、威远生化等上市公司，及国内的海关、防疫检验、质量监督检验所、博物馆、医疗机构等政府事业单位，产品远销美国、日本、韩国、巴西、马来西亚、泰国、印度、印度尼西亚、新加坡、智利和我国香港、澳门、台湾地区等。 公司研发和生产接触角测量、表界面张力测量、Zeta电位测量、LB膜界面测量、单纤维测量、束纤维测量、织物测量、显微测量、试验机定制等八大系列60多种专业仪器，拥有其软、硬件自主知识产权，能够保障用户的售后维护、升级、服务的权利。 中晨的注册商标“powereach”意为“力量源于每个人”，体现了上海中晨“以人为本、员工和用户是公司很大的财富”的核心价值观和企业文化。

产品描述iMicro采用InForce 1000驱动器进行纳米压痕和通用纳米机械测试，并可选择添加InForce 50驱动器来测试较软的材料。InView软件是一个灵活的现代软件包，可以轻松进行纳米级测试。iMicro是内置高速InQuest控制器和隔振门架的紧凑平台。 可以测试金属、陶瓷、复合材料、薄膜、涂层、聚合物、生物材料和凝胶等各种不同的材料和器件。主要功能InForce 1000驱动器，用于电容位移测量，并配有电磁启动的可互换探头可选的InForce 50驱动器提供最 大50mN的法向力来测量软性材料，并提供可选的Gemini 2D力荷载传感器用于双轴动态测量。独特的软件集成探头校准系统，可实现快速准确的探头校准InQuest高速控制器电子设备，具有100kHz数据采集速率和20μs时间常数XY移动系统以及易于安装的磁性样品架高刚度龙门架，集成隔振功能带数字变焦的集成显微镜，可实现精确的压痕定位ISO 14577和标准化测试方法InView软件包，包含RunTest、ReviewData、InFocus报告、InView大学在线培训和InView移动应用程序主要应用硬度和模量测量(Oliver Pharr)高速材料性质分布ISO 14577硬度测试聚合物tan delta，储存和损耗模量定量刮擦和磨损测试样品加热工业应用大学、研究实验室和研究所半导体行业PVD / CVD硬涂层（DLC，TiN）MEMS（微机电系统）/纳米级通用测试陶瓷和玻璃金属和合金制药涂料和油漆复合材料电池和储能汽车和航空航天应用硬度和模量测量（Oliver Pharr）机械表征在薄膜的加工和制造中至关重要，其中包括汽车工业中的涂层质量，以及半导体制造前段和后段的工艺控制。iMicro纳米压痕仪能够测量从超软凝胶到硬涂层的各种材料的硬度和模量。 对这些特性的高速评估保证了在生产线上进行质量控制。高速材料性质分布对于包括复合材料在内的许多材料，其机械性能可能因部位而异。 iMicro的样品平台可以在X轴和Y轴上移动100mm，并在Z轴方向移动25mm，这使得该系统适用于不同的样品高度并可以在很大的样品区域上进行测量。 可选的NanoBlitz形貌和层析成像软件可以快速绘制任何测得的机械属性的彩色分布图。ISO 14577硬度测试iMicro纳米压痕仪包括预先编写的ISO 14577测试方法，可测量符合ISO 14577标准的材料硬度。 该测试方法对杨氏模量、仪器硬度、维氏硬度和标准化压痕进行自动测量和报告。聚合物Tan Delta、储存和损失模量iMicro纳米压痕仪能够针对包括粘弹性聚合物的超软材料测量tan delta和储存与损耗模量。 储存与损耗模量以及tan delta是粘弹性聚合物的重要特性，其能量作为弹性能量存储并作为热量消耗。 这两个指标都用于测量给定材料的能量消耗。定量划痕和磨损测试iMicro可以对各种材料进行刮擦和磨损测试。 涂层和薄膜会经过化学机械抛光（CMP）和引线键合等多道工艺，考验薄膜的强度及其与基板的粘合性。 重要的是这些材料在这些工艺中抵制塑性变形，并且保持原样而不会基板起泡。 理想地，介电材料应具有高硬度和弹性模量，因为这些参数有助于确定材料在制造工艺下会如何反应。高温纳米压痕测试高温下的纳米压痕对于表征热应力下的材料性能至关重要，特别对热机械工艺中的失效机理进行量化。 在机械测试期间改变样品温度不仅能够测量热引起的行为变化，还能够量化在纳米级别上不易测试的材料过渡塑性。产品优势iMicro纳米压痕仪可轻松测量硬涂层，薄膜和少量材料。该仪器准确、灵活，并且用户友好，可以提供压痕、硬度、划痕和通用纳米级测试等多种纳米级机械测试。 可互换的驱动器能够提供大动态范围的力荷载和位移，使研究人员能够对软聚合物到硬质金属和陶瓷等材料做出精确及可重复的测试。模块化选项适用于各种应用：材料性质分布、特定频率测试、刮擦和磨损测试以及高温测试。 iMicro拥有一整套测试扩展的选项，包括样品加热、连续刚度测量、NanoBlitz3D / 4D性质分布，以及Gemini 2D力荷载传感器，可以提供摩擦和其他双轴测量。

仪器简介：随着纳米技术、MEMS技术、半导体工业的飞速发展，对纳米级精度的移动定位装置、操纵装置、加工装置等的需求也在快速增长。为了满足这一市场需要，我们推出了一系列纳米定位、微操纵装置。纳米精度定位装置该系列产品设计极为紧凑，可以使样品或探针作直线或旋转移动。而且很多型号可以工作在极端环境条件下，例如极低温、超高真空、强磁场等。这些设备可以提供多种不同尺寸和材料，开辟了一个全新的定位设备的市场，在很多领域开拓了全新的研究方向。●适应各种极端工作环境：低温、超高真空、强磁场●提供多种运动自由度：XYZ直线、旋转、XY扫描、Z扫描、Θ、Φ等等，并且可以任意组合●定位精度高达纳米级● 很高的稳定性，无机械漂移、无回差、无需高压●负载大，可达自重的数倍●部分型号具有两种工作模式，单独一个设备既可以实现粗定位，也可以用于扫描●部分型号可选配多种位置读出设备，实现闭环控制●可根据客户要求定制各种特殊定位装置纳米级操纵装置，适用于SEM, TEM, FIB系统纳米马达拥有原子量级分辨率，运动行程达厘米级，横跨8个数量级，可提升6倍于自身重量的物体，并适应多种工作环境，包括超高真空、磁场、甚至液氮。纳米定位平台●最大承重量为2kg●行程：5~70mm●运动速度： 2 mm/s●运动分辨率：2nm ●定位传感器分辨率：10nm机械手包括微操作机械手、力反馈机械手、XYZ机械手等，可对夹持力进行精确控制，具有分辨率高，行程大，设计灵活等特点。

产品描述iNano采用InForce 50驱动器进行纳米压痕和通用纳米机械测试。 InForce 50的50mN力荷载和50μm位移范围使得该系统适合各种测试。 InView软件是一个灵活的现代软件包，可以轻松进行纳米级测试。 iNano是内置高速InQuest控制器和隔振门架的紧凑平台。 该系统可以测试金属、陶瓷、复合材料、薄膜、涂层、聚合物、生物材料和凝胶等各种不同的材料和器件。主要功能InForce 50驱动器，用于电容位移测量，并配有电磁启动的可互换探头独特的软件集成探头校准系统，可实现快速准确的探头校准InQuest高速控制器电子设备，具有100kHz数据采集速率和20μs时间常数XY移动系统以及易于安装的磁性样品架带数字变焦的集成显微镜，可实现精确的压痕定位ISO 14577和标准化测试方法InView软件包，包含RunTest、ReviewData、InFocus报告、InView大学在线培训和InView移动应用程序主要应用硬度和模量测量(Oliver Pharr)高速材料性质分布ISO 14577硬度测试聚合物tan delta，储存和损耗模量样品加热工业应用大学、研究实验室和研究所半导体和封装行业聚合物和塑料MEMS（微机电系统）/纳米级通用测试陶瓷和玻璃金属和合金制药涂料和油漆聚合物制造复合材料电池和储能应用硬度和模量测量 (Oliver-Pharr)机械表征在薄膜的加工和制造中至关重要，其中包括汽车工业中的涂层质量，以及半导体制造前段和后段的工艺控制。iNano纳米压痕仪能够测量从超软凝胶到硬涂层的各种材料的硬度和模量。 对这些特性的高速评估保证了在生产线上进行质量控制。高速材料性质分布对于包括复合材料在内的许多材料，其机械性能可能因部位而异。 iNano的样品平台可以在X轴和Y轴上移动100mm，并在Z轴方向移动25mm，这使得该系统适用于不同的样品高度并可以在很大的样品区域上进行测量。 可选的NanoBlitz形貌和层析成像软件可以快速绘制任何测得的机械属性的彩色分布图。ISO 14577硬度测试iNano纳米压痕仪包括预先编写的ISO 14577测试方法，可测量符合ISO 14577标准的材料硬度。 该测试方法对杨氏模量、仪器硬度、维氏硬度和标准化压痕进行自动测量和报告。聚合物Tan Delta、储存和损失模量iNano纳米压痕仪能够针对包括粘弹性聚合物的超软材料测量tan delta和储存与损耗模量。 储存与损耗模量以及tan delta是粘弹性聚合物的重要特性，其能量作为弹性能量存储并作为热量消耗。 这两个指标都用于测量给定材料的能量消耗。高温纳米压痕测试高温下的纳米压痕对于表征热应力下的材料性能至关重要，特别对热机械工艺中的失效机理进行量化。 在机械测试期间改变样品温度不仅能够测量热引起的行为变化，还能够量化在纳米级别上不易测试的材料过渡塑性。产品优势iNano纳米压痕仪可轻松测量薄膜、涂层和少量材料。 该仪器准确、灵活，并且用户友好，可以提供压痕、硬度、划痕和通用纳米级测试等多种纳米级机械测试。 该仪器的力荷载和位移测量动态范围很大，因而可以实现从软聚合物到金属材料的精确和可重复测试。 模块化选项适用于各种应用：材料性质分布、特定频率测试、刮擦和磨损以及高温测试。 iNano提供了一整套测试扩展选项，包括样品加热、连续刚度测量、NanoBlitz3D/4D属性映射和远程视频选项。

减员增效！海鼎标准化双向无人值守系统四大优势凸显！众所周知，配料是生产的重要环节。人工配料存在着很大的局限性，工人拿到生产作业表后，将对每种原料进行称重。根据配料的多少计算每种成分重量，然后取料，再送到电子秤上进行称重，然后进行包装。整个过程工作量繁重，出错率高，称重过程无检测，导致生产数据准确度大大降低。人工费用在不断上涨，企业对投料准确度要求也越来越高，实现自动化配料系统是大势所趋！在食品、药品、化工等行业生产中，由于机器需要长时间连续运转，这对设备的可靠性就有着极高的要求。海鼎HD标准化双向无人值守系统可很好地满足这一需求，可实现双向过磅的无人值守称重效果，可根据需要选择是否需要打印小票。目前自动化配料称重系统已广泛用于食品、药品、化工等行业。海鼎HD标准化双向无人值守系统组成：双向自动称重软件1套、控制箱1台、采集卡1张（可选）、音箱1对、电脑1台、打印机1台（可选）、道闸2套（可选，包括车检和地感）、红外光幕2对、刷卡器（射频卡和ID卡）2台、红绿灯2台（可选）、电子显示牌1台等。海鼎HD标准化双向无人值守系统具有以下四大核心优势：1、软硬结合“反作bi”，全方位防护无死角先进的RFID射频（或蓝牙自动识别）、红外线监控系统、视频监控系统、自动化道闸控制等多种防作bi设备，智能软件自诊断与报警技术，辅以多级操作权限管理和加密功能，彻底摆脱作bi行为发生。2、无人值守/远程值守，减员增效集称重、管控、磅房于一体，标准化、规范化、流程化的自动称重过程，轻松实现无人值守和远程值守称重方式，无需司磅员、无需磅房，省心省钱。3、一机多衡，减少投入同一辆车可在不同的汽车衡分别过皮重和毛重，实时更新称重数据，并能与其他相关部门传递数据，有效提高汽车衡利用率。4、多类型、个性化报表，方便查看系统可按时间打印多种报表，可按查询结果打印，还可根据客户要求制作个性化报表，并能通过网络自动传至指定部门的计算机中。食品、药品、化工等企业引入海鼎HD标准化双向无人值守系统，可实现软硬结合“反作bi”全方位防护无死角；无人值守/远程值守，实现减员增效；一机多衡，减少投入；多类型、个性化报表，方便查看。很大限度地降低人工操作所带来的弊端和工作强度，提高了企业系统的信息化、自动化程度。

随着纳米科学的发展，电子探针分析变得越来越具有挑战性：电子束能量降低，反应气体使用的增加，保持高分辨率越来越依赖于保持低碳污染状态和低碳氢化物污染水平。顺流等离子工艺可以快速、方便地消除碳氢化合物的污染并进行样品清洗。与传统的“等离子清洗器”中的动能清洗不同，顺流等离子清洗过程是一个温和的化学过程（无动力冲击）。这一过程彻底地改变了清除真空腔中碳和碳氢化物污染的方法。 该工艺可高效地清洁大容积腔室和严重污染的表面。GV10x等离子清洗器只需传统清理器约1/10的时间即可清洁镜腔，因为它会使空气产生更高浓度的氢离子和氧离子，从而达到去污目的，其效果更为温和。 与使用冷凝捕集器、氮气吹尘和其他等离子清洁器去污染的传统方法相比，GV10x等离子清洗器清除碳污染的能力得到了重大的改善。GV10x具有更大的功率和压力范围（5到100瓦，2到0.005Torr），代表了SEM和其他分析仪器（包括Mas-Spec、XPS等）中碳和碳氢化合物控制达到了典范式的转变。 原子氧和氢将表面碳转化为气态分子，不再像传统的方式那样只将其固化或吸附，而是将气态分子从镜腔中抽出，从而达到去污效果。聚合沉积物等人工样品可在5分钟的循环中被扫除掉。由于不频繁的清洗周期，QWK&trade 的配置结构允许GV10x等离子清洗器可以在多个EM工具中保持较低的HC水平。 IBSS集团提供了可驱动和操作GV10x等离子体源的控制器。 实验室用户可依需求选择BT控制器或2U控制器。 从Windows软件或触摸屏，操作员可以：在运行期间进行设置和监控，可将功率从10瓦更改为99瓦。 从等离子源调整进气量可选择2 Torr 5 mTorr的压力范围。GV10x宽压力范围允许在TMP速度下清除碳氢污染，而无需中断TMP系统的软件控制。 GV10x宽压力范围允许在TMP速度下清除碳氢污染，而无需中断TMP系统的软件控制。Key Featuresl 在小于5 mTorr至2 Torr的条件下，无需中断TMP即可调节等离子体压力l 50瓦时可重复去污率为1.5纳米/分钟?l 等离子清洗周期少于5分钟l 低工作压力产生均匀清洗效果l 减少污染的效率比其他等离子清洗器高10倍以上l 顺流等离子体-无加热和溅射损伤l 光隔离控制器保护SEM软件l 短期内即可获得投资回报 离子源的特点l 电感耦合等离子体源l 提供KF40、ConFlat和Qwk-Switch&trade 附件l Qwk-Switch&trade 快速接头– 实现仪器之间的无缝转换l 控制器的特点l 通过触摸屏或Windows系统进行操作l 明亮灵敏的触摸屏l 可调射频功率：5-100瓦l 可调清洗时间，配置循环进度条l 密码保护设置l 垂直于地面的更小的占地面积（2U控制器）

EVG系列纳米压印设备之紫外纳米压印：600 一、 简介 EVG公司成立于1980年，公司总部和制造厂位于奥地利，在美国、日本和台湾设有分公司，并在其他各地设有销售代理及售后服务部，产品和服务遍及世界各地。EVG公司是一家致力于半导体制造设备的全球供应商，其丰富的产品系列包括：涂胶和喷胶/显影机/热板/冷板、掩模版光刻/键合对准系统、基片热压键合/低温等离子键合系统、基片清洗机、基片检测系统、SOI 基片键合系统、基片临时键合/分离系统、纳米压印系统。目前已有数千台设备安装在世界各地，被广泛地应用于MEMS微机电系统/微流体器件，SOI基片制造，3D封装，纳米压印，化合物半导体器件和功率器件等ling 域。EVG是世界上为数不多的可以商业化纳米压印设备的著ming公司，可为客户提供完整的纳米压印方案，包括热压印、紫外压印、微接触印刷。EVG公司以其专利的极其优异的对准技术和世界ling 先的热压技术为纳米压印的成功实施打下了坚实的基础。EVG620紫外纳米压印用于从印章到衬底的紫外图形转移。EVG620自动纳米压印系统允许衬底和印章的尺寸从很小的芯片到150mm直径的圆片范围。用于纳米技术应用的配置包括印章机械释放、程序控制高或低的接触压力。EVG独有的吸盘设计支持软印章和硬印章压印，可以保证大面积纳米压印的均匀压力，从而保证获得很高的良率。 二、应用范围纳米压印技术主要应用于如下方面：LEDS 制作，LED PSS纳米压印工艺，LED纳米透镜阵列；微流体学；芯片实验室；抗反射层； 纳米压印光栅； 莲花效应；光子带隙；光学及通讯：光晶体，激光器件；生物技术解决方案：医药分析，血液分析，细胞生长。三、主要特点u 适用于紫外纳米压印和微接触印刷；u 紫外光曝光；u 配备专用的紫外纳米压印工具；u 适于软或硬印章压印；u 适用衬底：Si，玻璃，化合物半导体； 四、技术参数亚科电子设备咨询电话：（微信同号）；欢迎您的来电咨询！

在科研中，很多用户需要用到光栅或点阵这些周期性的结构。有时用户不需要研究微纳米加工工艺，这样如果能花费低廉的价格买到这些成品将十分方便，只要接着从事后续的工作就可以了；有的用户自已拥有微纳米加工设备及经验，但纳米量级的尺寸要采用电子束曝光的方法来进行光刻，若有效面积超过1平方厘米，占机时间会很长，并需要调整电子束光刻及干法刻蚀工艺来优化成品。 鉴于此，我们向用户提供光栅及点阵的纳米结构成品。衬底材料为硅单晶，可广泛应用于各类科学研究。 产品类型： 标准模板一 ○ 光栅纳米结构模板 (线条+间距)○ 二维纳米模板（矩形或六边形）标准模板二 ○ 光栅结构○ 柱状点阵模板○ 孔阵模板2x2cm2模板四英寸模板六英寸模板标准模板一 我们可提供纳米级微结构，衬底材料为硅单晶，广泛应用于科学研究。批量生产，质量有保证，且性价比高。 产品精度： 线宽/深度：±15%周期精度：优于0.5%衬底宽度和高度误差：± 0.2 mm衬底厚度：0.675 ± 0.050 mm 具体规格如下表所示： 光栅纳米结构模板 (线条+间距) Linear Nanostamps (line+space) 序号周期沟槽深度占空比 ①线宽 ②样片尺寸③1139 nm50 nm50%69.5 nm12.5×12.5×0.7 mm2139 nm50 nm50%69.5 nm25×25×0.7 mm ⑤3278 nm④110 nm50%139 nm12.5×12.5×0.7 mm4416.6 nm110 nm50%208 nm12.5×12.5×0.7 mm5500 nmmultiple ⑥44%220 nm8×8.3×0.7 mm6500 nmmultiple ⑥60%300 nm8×8.3×0.7 mm7555.5 nm110 nm50%278 nm20×9×0.7 mm8555.5 nm140 nm50%278 nm20×9×0.7 mm9555.5 nm110 nm29%158 nm20×9×0.7 mm10555.5 nm140 nm29%158 nm20×9×0.7 mm11600 nmmultiple ⑥43%260 nm8×8.3×0.7 mm12600 nmmultiple ⑥55%330 nm8×8.3×0.7 mm13606 nm190 nm50%303 nm29×12×0.7 mm14606 nm④190 nm50%303 nm29×12×0.7 mm15606 nm190 nm50%303 nm29×24.2×0.7 mm ⑤16675 nm170 nm32%218 nm24×10×0.7 mm17675 nm170 nm32%218 nm24×30.4×0.7 mm ⑤18700 nmmultiple ⑥47%330 nm8×8.3×0.7 mm19700 nmmultiple ⑥55%375 nm8×8.3×0.7 mm20833.3 nm200 nm50%416 nm12.5×12.5×0.7 mm21833.3 nm200 nm50%416 nm25×25×0.7 mm ⑤ ①占空比表示线宽和周期的比率。③第二个尺寸相当于沟槽的长度。④scientific" grade offered at a discount. It has at least 80% of usable area. Up to 80/100 scratch/dig/particles and irregular substrate shape may present.⑤可定做更大尺寸⑥深度可做成150, 250 和 350 nm。 二维纳米模板（矩形或六边形）2D nanostamps (rectangular and hexagonal lattice) 序号周期晶格类型沟槽深度特征宽度衬底尺寸1500 nmrect postmultiple ①135 nm8×8.3×0.7 mm2500 nmrect postmultiple ①210 nm8×8.3×0.7mm3600 nmrect postmultiple ①195 nm8×8.3×0.7mm4600 nmrect postmultiple ①275 nm8×8.3×0.7mm5700 nmrect postmultiple ①260 nm8×8.3×0.7mm6700 nmrect postmultiple ①350 nm8×8.3×0.7mm7500 nmhex postmultiple ①165 nm8×8.3×0.7mm8600 nmhex postmultiple ①165 nm8×8.3×0.7mm9600 nmhex postmultiple ①240 nm8×8.3×0.7mm10700 nmhex postmultiple ①220 nm8×8.3×0.7mm11700 nmhex postmultiple ①290 nm8×8.3×0.7mm12600 nmhex holemultiple ①180 nm8×8.3×0.7mm13700 nmhex holemultiple ①200 nm8×8.3×0.7mm14700 nmhex holemultiple ①290 nm8×8.3×0.7mm ①深度可做成150, 250 和 350 nm rect post:hex post：hex hole：标准模板二 我们可提供纳米级微结构，衬底材料为硅单晶，广泛应用于科学研究。批量生产，质量有保证，且性价比高。产品精度：直径±10%线宽±10%高度/深度±15%产品说明：硅片厚度：0.5mm（特殊情况另标注）模板尺寸：产品规格+/-0.2mm缺陷面积：1% 具体规格如下表所示： 光栅结构（周期，线宽，高度，有效面积，衬底尺寸） Part NoDescriptionImagePattern 10Line gratingPeriod: 70 nmWidth: 25 nmor 35 nmHeight: 32nmor 40 nmArea: 4x 0.5 x 1.2 mm2Substrate: Si 20 x 20 mm2Pattern 2Line gratingPeriod: 300 nmWidth: 170 nmHeight: 210 nmArea: 30 x 30 mm2Substrate: Si 30 x 30 mm2Pattern 23Line arryPeriod: 150 nmWidth: 75 nmHeight: 116 nmArea:25 x25 mm2Substrate:Si 30 x 30 mm2 柱状点阵模板（周期，柱直径，高度，有效面积，衬底尺寸） Part NoDescriptionImagePattern 1Square pillar arrayPeriod: 300 nmDiameter: 145 nmHeight: 170 nmArea: 14 x 14 mm2Substrate: Si 14 x 14 mm2Pattern 6High-resolution pillar arrayPeriod: 35 nmand 42 nmDiameter: 15 - 20 nmHeight: 25nmArea: each period 25x25 um2Substrate: Si 12.5 x 12.5 mm2Pattern 3Hexagonal pillar arrayPeriod: 600 nmDiameter: 300 nmHeight: 310 nmArea: 20 x 20 mm2Substrate: Si 20 x 20 mm2Pattern 15Hexagonal pillar arrayPeriod: 750 nmDiameter: 325 nmHeight: 260 nmArea: 25 x 25 mm2Substrate: Si 25 x 25 mm2Pattern 7Hexagonal pillar arrayPeriod: 1000 nmDiameter: 400 nmHeight: 280 nmArea: 20 x 20 mm2Substrate: Si 26 x 26 mm2Pattern 17Hexagonal pillar arrayPeriod: 1010 nmDiameter: 470 nmHeight: 750 nmArea: 25 x 25 mm2Substrate: Si (0.7mm) 25 x 25 mm2Pattern 20Hexagonal pillar arrayPeriod: 3000 nmDiameter: 1800 nmHeight: 1200 nmArea: 20 x 20 mm2Substrate: Si 25 x 25 mm2 孔阵模板（周期，孔直径，高度，有效面积，衬底尺寸） Part NoDescriptionImagePattern 11Square hole arrayPeriod: 90 nmDiameter: 45 nmHeight: 50 nmArea: 4x 0.6 x 0.6 mm2Chip size: 15 x 15 mm2Pattern 13Square hole arrayPeriod: 300 nmDiameter: 150 nmHeight: 300 nmArea: 4 x 4 mm2Chip size: 15 x 15 mm2Substrate: Quartz (2.3 mm thick)Pattern 24Square hole arrayPeriod: 350 nmDiameter: 225 nmHeight: 300 nmArea: 20 x 20 mm2Substrate: Si 20 x 20 mm2Pattern 4Hexagonal hole arrayPeriod: 600 nmDiameter: 300 nmHeight: 50 nm, 450 nmArea: 20 x 20 mm2Substrate: Si 20 x 20 mm2Pattern 5Hexagonal hole arrayPeriod: 600 nmDiameter: 400 nmHeight: 680 nmArea: 20 x 20 mm2Substrate: Si 20 x 20 mm2Pattern 14Hole array on Rhombic latticePeriod:* x=610nm, y=425nmDiameter: 150 nmHeight: 300 nmArea: 20 x 20 mm2Chip size: Si 24 x 24 mm2* center-to-center distance in x and yPattern 16Hexagonal hole arrayPeriod: 750 nmDiameter: 380 nmHeight: 420 nmArea: 25 x 25 mm2Substrate: Si 25 x 25 mm2Pattern 18Hexagonal hole arrayPeriod: 1010 nmDiameter: 490 nmHeight: 470 nmArea: 25 x 25 mm2Substrate: Si (1mm) 25 x 25 mm2Pattern 19Hexagonal hole arrayPeriod: 1500 nmDiameter: 780 nmHeight: 550 nmArea: 25 x 25 mm2Substrate: Si (1mm) 25 x 25 mm2Pattern 21Hexagonal hole arrayPeriod: 3000 nmDiameter: 1500 nmHeight: 850 nmArea: 20 x 20 mm2Substrate: Si 25 x 25 mm2Pattern 22Hexagonal hole arrayPeriod: 3000 nmDiameter: 1200 nmHeight: 1500 nmArea: 20 x 20 mm2Substrate: Si 25 x 25 mm22x2cm2标准纳米压印模板 我们提供电子束光刻方法制备的硅模板，衬底尺寸为20x20mm2。图形分辨率高，有效区域为5x5mm2。批量生产，质量有保证，且性价比高。产品精度： 标准高度：100nm直径： ±10%线宽： ±10%缺陷面积： 1% 具体规格如下表所示： 孔阵（矩形孔阵） 序号ProductPeriodAreaDiameter / Height1P100s_h_5w5100nm5x5mm250nm/ 100nm2P150s_h_5w5150nm5x5mm260nm/ 100nm3P200s_h_5w5200nm5x5mm270nm/ 100nm 孔阵（六边形孔阵） 序号ProductPeriodAreaDiameter / Height1P200h_h_5w5200nm5x5mm280nm/ 100nm2P300h_h_5w5300nm5x5mm2125nm/ 100nm3P400h_h_5w5400nm5x5mm2150nm/ 100nm 柱状点阵（矩形柱状点阵） 序号ProductPeriodAreaDiameter / Height1P100s_p_5w5100nm5x5mm250nm/ 100nm2P150s_p_5w5150nm5x5mm260nm/ 100nm3P200s_p_5w5200nm5x5mm280nm/ 100nm 柱状点阵（六边形柱状点阵） 序号ProductPeriodAreaDiameter / Height1P200h_p_5w5200nm5x5mm270nm/ 100nm2P300h_p_5w5300nm5x5mm2110nm/ 100nm3P400h_p_5w5400nm5x5mm2120nm/ 100nm 大面积四英寸模板我们提供四英寸硅或石英模板，可用于压印工艺。批量生产制作，质量有保证且性价比高。 产品精度: 高度/深度：±15%直径：±10%线宽：±10%缺陷面积：1% 具体规格如下表所示： Holes on Hexagonal Lattice（六边形孔阵） Part NoProductPeriodDiameterAreaMax. Etch depth (Si/Quartz)Image1P520h_h_20w20520 nm260nm20x20 mm2450 nm/200 nm2P600h_h_46w46600 nm300nm46x46 mm2450 nm/200 nm3P600h_h_100d600 nm300nm4-inch450 nm/200 nm4P750h_h_51w51750 nm350nm51x51 mm2450 nm/200 nm5P780h_h_20w20780 nm350nm20x20 mm2450 nm/200 nm6P1000h_h_20w201000 nm400nm20x20 mm2600 nm/300 nm7P1000h_h_51w511000 nm300nm~500nm51x51 mm2600 nm/300 nm8P1500h_h_20w201500 nm400nm~650nm20x20 mm2600 nm/300 nm9P1500h_h_51w511500 nm400nm~650nm51x51 mm2600 nm/300 nm10P3000h_h_100d3000 nm600nm~1400nm4-inch1000 nm/400 nm Holes on Square Lattice（矩形孔阵） Part NoProductPeriodDiameterAreaMax. Etch depth (Si/Quartz)Image11P350s_h_20w20350 nm250nm20x20 mm2300 nm/150 nm12P350s_h_100d350 nm250nm100dia300 nm/150 nm Pillars on Hexagonal Lattice（六边形柱状） Part NoProductPeriodDiameterAreaMax. Etch depth (Si/Quartz)Image13P600h_p_46w46600 nm300nm46x46 mm2450 nm/200 nm14P600h_p_100d600 nm300nm4-inch450 nm/200 nm15P750h_p_51w51750 nm350nm51x51 mm2450 nm/200 nm16P780h_p_20w20780 nm350nm20x20 mm2450 nm/200 nm17P1000h_p_20w201000 nm400nm20x20 mm2600 nm/300 nm18P1000h_p_51w511000 nm300nm~500nm51x51 mm2600 nm/300 nm19P1500h_p_20w201500 nm400nm~650nm20x20 mm2600 nm/300 nm20P1500h_p_51w511500 nm400nm~650nm51x51 mm2600 nm/300 nm21P3000h_p_100d3000 nm600nm~1400nm4-inch1000 nm/400 nm Pillars on Square Lattice（矩形柱状点阵） Part NoProductPeriodDiameterAreaMax. Etch depth (Si/Quartz)Image22P150s_p_30w30150 nm75nm30x30 mm275 nm/ —23P250s_p_30w30250 nm110nm30x30 mm2200 nm/100 nm24P300s_p_30w30300 nm130nm30x30 mm2200 nm/100 nm25P400s_p_30w31400nm250nm30x30 mm3200 nm/100 nm26P500s_p_30w30500 nm250nm30x30 mm2450 nm/200 nm Linear Gratings（光栅结构） Part NoProductPeriodWidthAreaMax. Etch depth (Si/Quartz)Image27P150L_p_30w30150nm70nm30x30 mm275 nm/ —28P250L_p_30w30250nm110nm30x30 mm2200 nm/100 nm29P300L_p_30w30300nm130nm30x30 mm2200 nm/100 nm30P400L_p_30w30400nm200nm30x30 mm2200 nm/100 nm31P500L_p_30w30500nm250nm30x30 mm2450 nm/200 nm Multi-pattern（复合结构） Part NoProductDescriptionDiameterPeriodAreaMax. Etch depth (Si/Quartz)32MHSL_400-800Linear, hexagonal, square array combination，Periods: 400-800nmpitch dependentho, les/lineseach period，7.5mm x 7.5mm400 nm/150 nm33MP250L300Multi-period linear grating combination 1， Periods: 250nm, 275nm, 300nmLinewidth(+/15nm): 90/250 100/275 120/300lineseach period，7mm x 7mm200 nm/100 nm34MP300L600Multi-period linear grating combination 2，Periods: 300nm, 400nm, 500nm, 600nmLinewidth(+/15nm): 90/250 100/275 120/300lineseach period，10mm x 10mm300 nm/150 nm

标准光源广泛应用于纺织、印染、服装、喷涂、电镀、涂料、油墨、颜料、摄影等颜色管理领域，用于对材料色度的目测评定、配色打样、鉴别色差等，目的是使生产、试样、质检、验收在相同的标准光照条件下进行，准确校对货品的颜色偏差，保证货品颜色的品质符合要求，从而提高产品的质量。D75标准光源箱为国际照明委员会（CIE）规定的一系列标准光源中的一种，模拟北向昼光，D75标准LED光源灯箱主要应用于棉花分级室。棉花分级对于光源（照明灯具）有特殊要求，需满足《棉花分级室的模拟昼光照明》（GB/T 13786-2022）标准。北京泊菲莱科技有限公司参与制定的国家标准《棉花分级室的模拟昼光照明》（GB/T 13786-2022），于2022年10月由国家市场监督管理总局和国家标准化管理委员会正式颁布，并将于2023年5月1日实施。这项标准的颁布充分展示了泊菲莱科技作为“棉花分级室模拟昼光照明系统”制造标杆企业的技术实力和行业领先地位。关键特征● 精准/稳定采用LED灯珠光源，超越D75光源国家标准，无光谱杂峰显色更精准、更稳定！● 光强选择一键由心具有高显色力指数并加入调节光强度遥控设施，一键调节光强，不惧衰减更贴心！● 照度翻倍强劲常见光源灯管观察面照度750±100 lx，LED光源灯可达750~1600 lx照度更突出！● 四倍使用寿命常见荧光光源在使用2000~3000小时后产生衰减，LED光源灯可达12000小时！● 舒适/高效告别荧光光源频闪困扰，大幅度降低检测人员工作疲劳度，检验时间舒适更高效！产品参数● 照度E(lx) 1152.18● 色温(K) ：7525● 相关色温(K)：7550● 显色指数Ra：99.2

JQN04C纳米纤维张力仪 本公司是上海市高新技术企业，依托国内著名高校和科研单位，广泛采用国内外有关专家的最新科技成果，着重胶体与界面、粉体技术、纺织纤维等性能测量技术产品的开发。本公司产品可广泛用于化妆品、选矿、造纸、医疗卫生、建筑材料、超细材料、环境保护、海洋、化工、石油、喷涂、油漆油墨、印染、纺织、集成光学、液晶显示器等行业。公司的客户群不仅包括国内各大高等院校、科研院所和军工企业，而且还包括3M、富士康、HOYA光学、友达光电、三星电子、飞利浦等一大批跨国企业，以及中石化、中石油、冠豪科技、威远生化、宁夏东方、乐凯胶片、彩虹控股等上市公司，产品远销美国、日本、韩国、马来西亚、泰国和我国香港、台湾地区。纳米纤维张力仪测量纤维的拉伸性能，是表征纤维最基本力学参数的综合性仪器。JQN04C 纳米纤维张力仪适合于多种纤维，用其可以迅速准确地测出各种纤维的拉伸指标。纳米纤维张力仪用来测量纳米单纤维在不同的试验参数下（例如：拉伸速度、隔距）下力学性能（模量、断裂功和断裂伸长等）、外观形态（纤维的形貌、直径、长度、断裂断形貌和断裂过程）等，通过这些参数的测量来表征纤维材料的特征，为纤维材料的应用和贸易过程中提供指导和参考的指标。主要功能和特点采用高精度立敏传感器、平台精确移动、光学系统和CCD摄像头结合技术，测量纤维在轴向过程中压缩力值和挠度连续变化。采用计算机控制和数据采集并对基本获取数值直接进行软件计算，求得模量等反映纤维的指标；采用单班机技术，对压力值、平台位移和形态变化进行实时采样，对操作调焦、平台移动电机进行控制；选用不同夹具和不同量程的传感器，即可适用纤维拉伸性能的测量操作过程和数据采集实现自动化和智能化，使人为操作误差的可能降到最低；关键零部件（包括传感器）进口，测试数据精确，重复性好；基于WINDOW视窗的全中文操作软件，用户界面友好，可长时间工作记录曲线及自动生成数据，可存储打印。体贴设计保证了仪器能适用于常规测试环境、与普通配置PC联机工作，运行平稳，噪音小。上述产品系我公司开发生产，我公司拥有其软、硬件的完全知识产权，能够保障用户的售后维护、升级、服务的权利，并负责送货上门安装调试培训。主要技术指标 纤维隔距长度最小可为1mm最大伸长度20mm-200%纤维最大拉伸速度30－150mm/min。力值精度0.001mN图像分辨率24象素/微米适用范围适用于亚微米级纤维及弹性纤维测量。测量特征指标可根据应力应变曲线计算弹性模量、拉伸功、断裂应力、断裂应变、拉伸回复比等指标。可设定应力或伸长恒定，测量纤维屈服蠕变性能。 配置清单 JQN04C 纳米纤维张力仪主机一台：组成部分: 光源、CCD摄像头、连续变倍光学系统、微力传感器及调整平台与JQN04C 纳米纤维张力仪相对应的配件，包括： 串口延长线壹根张力夹壹套视频采集卡壹个驱动盘壹张说明书壹份

纳米压印设备之紫外纳米压印：EVG600系列 一、 简介 EVG公司成立于1980年，公司总部和制造厂位于奥地利，在美国、日本和台湾设有分公司，并在其他各地设有销售代理及售后服务部，产品和服务遍及世界各地。EVG公司是一家致力于半导体制造设备的全球供应商，其丰富的产品系列包括：涂胶和喷胶/显影机/热板/冷板、掩模版光刻/键合对准系统、基片热压键合/低温等离子键合系统、基片清洗机、基片检测系统、SOI 基片键合系统、基片临时键合/分离系统、纳米压印系统。目前已有数千台设备安装在世界各地，被广泛地应用于MEMS微机电系统/微流体器件，SOI基片制造，3D封装，纳米压印，化合物半导体器件和功率器件等ling 域。EVG是世界上为数不多的可以商业化纳米压印设备的著ming公司，可为客户提供完整的纳米压印方案，包括热压印、紫外压印、微接触印刷。EVG公司以其专利的极其优异的对准技术和世界ling 先的热压技术为纳米压印的成功实施打下了坚实的基础。EVG620紫外纳米压印用于从印章到衬底的紫外图形转移。EVG620自动纳米压印系统允许衬底和印章的尺寸从很小的芯片到150mm直径的圆片范围。用于纳米技术应用的配置包括印章机械释放、程序控制高或低的接触压力。EVG独有的吸盘设计支持软印章和硬印章压印，可以保证大面积纳米压印的均匀压力，从而保证获得很高的良率。 二、应用范围纳米压印技术主要应用于如下方面：LEDS 制作，LED PSS纳米压印工艺，LED纳米透镜阵列；微流体学；芯片实验室；抗反射层； 纳米压印光栅； 莲花效应；光子带隙；光学及通讯：光晶体，激光器件；生物技术解决方案：医药分析，血液分析，细胞生长。三、主要特点u 适用于紫外纳米压印和微接触印刷；u 紫外光曝光；u 配备专用的紫外纳米压印工具；u 适于软或硬印章压印；u 适用衬底：Si，玻璃，化合物半导体； 四、技术参数设备咨询电话：欢迎您的来电咨询！

首屈一指的基于纳米技术的公司之一 公司成立于2013年 Shivamogga，卡纳塔克邦，印度。 我们致力于 纳米技术的视野，旨在增加 生活中的纳米技术。 我们正在进入 纳米材料制造与应用 开发公司，我们在那里制造 石墨烯，各种形式的碳纳米管 和其他金属基纳米颗粒散装 数量。 AD-NANO 技术是一个 制造商和研发代表 公司致力于提供创新 通过引入技术领域的解决方案 纳米技术在里面我们的科学家和工程师团队正在开发与纳米技术相关的各种应用 热衷于在生活中添加纳米技术的纳米技术领域的研发。 我们通过将客户与他们的纳米技术联系起来，弥合了灵感与创新之间的差距。 解决他们的工程和技术问题，以及将技术升级到下一代所需的生活。 我们还生产导电油墨，如碳纳米管导电油墨、石墨烯导电油墨、石墨 导电油墨，广泛用于工业部门和研发计划领域。半导体单壁碳纳米管 技术数据表 95纯度半导体碳含量 ~95% 单壁碳纳米管直径 ~0.6 – 1.2 nm 单个碳纳米管长度 ~400 – 2000 nm 计算分子量 ~3.4x105 – 5.2x106 Amu 颜色 黑色 形态学 纳米管的干燥纤维状粉末捆绑绳索状。半导体单壁碳纳米管 技术数据表 99纯度

MINITECH CNC Mini-Mill/3 CNC Mini-Mill/3市场上实惠的航空级铝框架、微铣削加工系统。 Minitech Mini Mill/3使用THK笼式滚珠线性轴承和高精度滚珠螺杆用于所有阶段。这与大型CNC具有的高质量组件相同。 Minitech仅使用优质的组件。我们的产品采用优质的材料制造，和组装技术。我们很自豪能在我们的每一台机器上盖上我们的认可印章，相信您会对结果感到满意。 CNC Mini-Mill/3是微流体、微机电、纳米技术工业、珠宝商、研究实验室和许多其他行业的选择。 数以百计的产品销往全球40多个国家。 CNC Mini Mill/3可作为标准三轴机床提供，带有可选的4轴旋转台或5轴耳轴台。 由美国Minitech制造，机器可以根据您的具体需求进行改装。

NanoScan SMPS纳米颗粒粒径谱仪 - 3910型产品详情TSI 3910 型NanoScan SMPS 打开纳米颗粒粒径常规测量的大门。此粒径谱仪将TSI 公司的SMPSTM 粒径谱仪集成在约一个篮球大小的便携箱内。容易使用，重量轻，电池供电等优点使NanoScanSMPS 让研究人员多点采集纳米颗粒粒径分布数据成为可能。由TSI 核心技术中衍生而来，NanoScan SMPS 是一个创新的，低成本的实时纳米粒径测量的有效解决方案。新型的 3914 将纳米颗粒粒径谱仪和 光学颗粒物粒径谱仪 整合在一起， 可以实现经济、便携、实时的测量 10 纳米到 10微米大小的粒子 。特点下降到 10 纳米的粒度分布两种测量模式： SCAN - 实时粒径分布 SINGLE-单个粒径浓度监测 1 分钟粒径分布 1 秒钟单个粒径数据 简单，独立操作内置的数据记录小巧便携的~ 6 小时的电池寿命，热插拔，充电电池浓度高达 1000000 粒 / 立方厘米NanoScan Manager 管理软件包无放射性材料多仪器管理软件使用光粒度仪模型 3910优势实时纳米尺寸的测量理想的应用需求的可移植性 道路工作场所调查领域的研究点源识别允许用户从多个站点收集更多的数据开辟了同步的时间和空间测量的可能性提供了新的研究机遇进入纳米微粒的发射 / 曝光测量和纳米技术易于学生和工人操作简化数据分析和数据报告里是否有管理软件应用 一般的应用研究室内 / 室外空气质量调查纳米 / 纳米颗粒的应用燃烧和排放的研究移动研究 健康影响 / 吸入毒理学 职业卫生 / 工作场所暴露监测 点源识别 包含项目 Nanoscan SMPS 纳米粒度仪Nanoscan 经理软件光盘Nanoscan 配件包关于TSI公司TSI公司研究、确定和解决各种测量问题，为全球市场服务。作为精密仪器设计和生产的行业领导者，TSI与世界各地的科研机构和客户合作，确立与气溶胶科学、气流、健康和安全、室内空气质量、流体力学及生物危害检测有关的测量标准。TSI总部位于美国，在欧洲和亚洲设有代表处，在其服务的全球各个市场建立了机构。每天，我们专业的员工都在把科研成果转化成现实。

梓梦科技动态光散射纳米粒度及zeta电位分析仪原理当激光照射到分散于液体介质中的微小颗粒时，由于颗粒的布朗运动引起散射光的频率偏移，导致散射光信号随时间发生动态变化，该变化的大小与颗粒的布朗运动速度有关，而颗粒的布朗运动速度又取决于颗粒粒径的大小，颗粒大布朗运动速度低，反之颗粒小布朗运动速度高，因此动态光散射纳米粒度及zeta电位分析仪技术是分析样品颗粒的散射光强随时间的涨落规律，使用光子探测器在固定的角度采集散射光，通过相关器进行自相关运算得到相关函数，再经过数学反演获得颗粒粒径信息。动态光散射纳米粒度及zeta电位分析仪性能特点1、高效的光路系统：采用固体激光器和一体化光纤技术集成的光路，充分满足空间相干性的要求，极大地提高了散射光信号的信噪比。2、高灵敏度光子探测器：采用计数型光电倍增管或雪崩光电二极管，对光子信号具有极高的灵敏度和信噪比； 采用边沿触发模式对光子进行计数，瞬间捕捉光子脉冲的变化。3、大动态范围高速光子相关器：采用高、低速通道搭配的结构设计光子相关器，有效解决了硬件资源与通道数量之间的矛盾，实现了大的动态范围，并保证了相关函数基线的稳定性。4、高精度温控系统：基于半导体制冷技术，采用自适应PID控制算法，使样品池温度控制精度达±0.1℃。5、数据筛选功能：引入分位数检测异常值的方法，鉴别受灰尘干扰的散射光数据，并剔除异常值，提高粒度测量结果的准确度。6、优化的反演算法：采用优拟合累积反演算法计算平均粒径及多分散系数，基于非负约束正则化算法反演颗粒粒度分布，测量结果的准确度和重复性都优于1%。纳米粒度及zeta电位分析仪测量纳米粒度及zeta电位分析仪是表征分散体系稳定性的重要指标zeta电位愈高，颗粒间的相互排斥力越大，胶体体系愈稳定， 因此通过电泳光散射法测量zeta电位可以预测胶体的稳定性。动态光散射纳米粒度及zeta电位分析仪原理带电颗粒在电场力作用下向电极反方向做电泳运动，单位电场强度下的电泳速度定义为电泳迁移率。颗粒在电泳迁移时，会带着紧密吸附层和部分扩散层一起移动，与液体之间形成滑动面，滑动面与液体内部的电位差即为zeta电位。Zeta电位与电泳迁移率的关系遵循 Henry方程，通过测量颗粒在电场中的电泳迁移率就能得出颗粒的zeta电位。纳米粒度及zeta电位分析仪性能特点1.利用光纤技术集成发射光路和接收光路，替代传统电泳光散射的分立光路，使参考光和散射光信号的传输不受灰尘和外界杂散光的干扰，有效地提高了信噪比和抗干扰能力。2.先对散射光信号进行频谱预分析，获取需要细化分析的频谱范围，然后在窄带范围内进行高分辨率的频谱细化分析，从而获得准确的散射光频移。3.基于双电层理论模型，求解颗粒的双电层厚度，获得准确的颗粒半径与双电层厚度的比值，再利用小二乘拟合算法获得精确的Henry函数表达式，进而有效提高了纳米粒度及zeta电位分析仪的计算精度。Henry函数的取值：当双电层厚度远远小于颗粒的半径，即ka1，Henry函数近似为1.5。双电层厚度远远大于颗粒半径时，即ka1，Henry函数近似为1.0。使用小二乘曲线拟合算法对Wiersema计算的精确Henry函数值进行拟合， 得到优化Henry函数表达式.强大易用的控制软件ZS-920系列纳米粒度及zeta电位分析仪的控制软件具有纳米颗粒粒度和zeta电位测量功能，一键式测量，自动调整散射光强， 无需用户干涉，自动优化光子相关器参数，以适应不同样品，让测量变得如此轻松。控制软件更具有标准化操作(SOP)功能，让不同实验室、不同实验员间的测量按照同一标准进行，测量结果更具有可比性。测量完成自动生成报表，以可视化的方式展示测量结果，让测量结果一目了然。动态光散射纳米粒度及zeta电位分析仪的技术指标

多功能台式　微米和纳米加工制造仪 适合各式纳米材料及薄膜的表面粗糙度或表面形貌量测。● 无需抽真空及快速的量测取得量测图像。● 直觉性的操作接口。● 一键扫描的快速功能。ACST为科研人员和教育工作者带来了一种先进的、多功能的台式微米和纳米制造的仪器，可以作为研究和教育工具。不仅帮助科研人员拓展他们现有的工作向不同的领域发展，而且还可以帮助教育工作者打夯实基础，教育学生掌握工业用的微米和纳米加工制造技术。COSMOS nanoFAB是一个加工制造仪器，这对我们培养纳米科学家的教育计划至关重要，也为学生在日益增长的微制造和纳米技术领域提供丰富的就业机会。 COSMOS nanoFAB采用了一种非常成熟的设计，充分考虑到其性能、成本和多样性。模块化设计理念允许在不同的技术中使用通用型的机械元件/电子元件，从而保证了使用方便和成本低廉。该仪器完全有能力成为快速j加工或新研究的实验验证工具。在教育领域，COSMOS nanoFAB可应用于表面化学、材料科学、工业应用、电子元件和半导体器件制造、生物分子固化和生物传感应用等领域的教学和应用。可被应用于高解析影像和测量需求，特别是具备次奈米级的 Z 轴分辨率。其低噪声和开回路设计于一体的扫描仪可以快速地针对样本进行扫描。独特光像散式的光路模块提供业界最小的雷射光点，让用户可运用于更小且快速的AFM 探针，COSMOS nanoFAB提供了在纳米和微米加工制造技术方面的功能，这并且在业界得到了很好的认可：★ 紫外线光刻: 通过一系列的实验，学生们学习了紫外线光刻技术的概念；半导体行业的基本技术★ 微接触印刷（μCP）： 学生们了解这一传统简易的技术，使用有机、无机和生物材料进行纳米/微米的图案加工。★ 纳米压印加工技术（NIL）： 学生操作和实践纳米压印加工技术。业内专家认为，作为半导体行业未来的市场需求，纳米 压印加工技术（NIL）是最具前景的一项技术。 总之，COSMOS nanoFAB可以应用的领域包括：● 表面化学● 材料科学● 工业应用● 半导体器件的电子元件制造● 生物固定和生物传感应用● 直觉式的数据撷取软件 PSX 可提供用户在最基本教育训练下，即可直接操作。值得一提的是，一键扫描功能可自动地设定参数与进行扫描，用户同样能够快速获得高质量的扫描结果。PSX 内建的扫描库管理功能有效地简化扫描数据的整理，以方便用户删除或输出扫描图文件。● 永效性的光路校准系统---雷射点实时维持在四象限二极管中心，不须另外校正。● 一键扫描- 藉由智能预测算法，即可轻松点击按键便可进行全自动扫频、下针、做力图曲线、以及扫描样品等相关流程。 应用案例和模块信息介绍-微接触印刷（μCP）: 描述：微接触印刷(μCP)是一种非光刻技术，也是“软刻蚀技术”的前身。μCP是一种常有吸引力的、可以应用于生物技术领域的、用于微米和纳米图案/结构制备的技术。它使用弹性印章，通过将各种分子（从有机分子到大的生物物质）点印到固体基底上，以生成二维的微米和纳米结构。这项技术包括两个主要步骤：印章的制作及印刷，如图所示。包被靶标分子的弹性印章通过预施加的控制来接触基底表面，从而将靶标分子转移到基底上。不同的大小和形状的几何图形可以生成各种各样的印章，例如可以使用大的平面印章或滚动印章(类似于油漆辊)在平面和非平面表面上点印，从而轻松地对很大的区域进行图案制备。印章是由弹性体聚合物制成，如聚二甲基硅氧烷(PDMS)，聚氨酯，聚酰亚胺和树脂等等。 应用：微接触印刷是一个从下而上的加工技术,由于简单方便，高通量和成本低廉，现广泛应用于多个领域，如光学、MEMS、高密度分子电路、微流体、微阵列和生物传感器点印寡核苷酸、固定细胞来研究细胞-细胞和细胞-基底表面的相互作用、生成肽阵列研究免疫实验和生物传感器实验的蛋白质和生物配体。 我们客户还可以探索如何在大尺寸和纳米尺度上点印计算机芯片或者如何制作生物传感器。例如，在实验室里，可以使用大尺寸和纳米尺度的印章，用光刻技术制作纳米印章模板和聚合物。印章将被包被有机小分子与黄金等贵金属，然后点印在黄金薄膜的基底上，随后的是金的湿蚀刻，没有被有机分子保护的区域将被蚀刻。在这样的一个实验中，印章上的结构将被复制到基底上。 应用案例和模块信息介绍-光刻技术: 光刻技术是当今世界上最成功的精密加工技术之一。自1959年发明以来，它就是最有价值和最有利润的行业，最初是开发出来用于微电子工业（集成电路平面技术），现在也被用来制造微型器件（硅晶体平面的三维结构材料刻蚀)。从那以后，这个行业一直在广泛需求中不断发展，包括单个电路元件和整合的半导体材料，基本上所有的集成电路是用光刻技术制造的。光刻工艺概述如图所示，预先设计的图案是从光掩模（例如用电子束光刻法）传送到靶标的硅基底。该程序包括以下常用的步骤: 1、在硅片层基底上包被一层薄薄的紫外线敏感的聚合物抗蚀剂（光刻胶）（图2a，图2b）。 2、随后紫外光透过有图案的印章（图2c）进行照射，只有部分抗蚀剂暴露在紫外线下，这引起了抗蚀溶解度的变化。然后将印章放置于离样品尽可能近的地方但是不接触，如图2c所示。由于光衍射，辐射面积会增大一些，大于印章对应的开口区域（这将导致分辨率降低）。这种光刻蚀程序只能用于创建尺寸小于辐射波长的图案和器件。因此，半导体工业也开始使用更短波长的光线来做辐射。 3、紫外线曝光后，将样品浸入显影剂中，以便从显影剂中除去光刻胶暴露在光线下的地方（图2d）。 4. 硅晶片上的抗蚀图案随后被用来从裸片上蚀刻材料（将硅晶片暴露于蚀刻剂）（图2e）或沉积电路设计需要的其他材料。最后光刻胶完全脱离硅晶片（图2）。 在这四个步骤之后，抗蚀剂（光刻胶）上的图案特征被转移到硅晶片的基底上（步骤f）。整个过程可以按电路设计要求重复多次。 用途：光刻蚀是一种从上而下的制作工艺，选择光刻蚀工艺是因为它可以产生小到几十纳米的图案，并提供精确的控制形状，大小，并且制备成本非常低。 光刻技术被广泛应用于从微电子到生命科学的各个行业，在可预见的未来，它还将是微处理器、存储器和其他微电子设备信息技术的基础。此外，它还用于许多设备的制造业和小型化，从而带来了高性能、可移植性、节约时间、节省成本、节省试剂、提高生产通量、改善功耗、提高检测限度以及新功能的开发。 应用案例和模块信息介绍-纳米压印加工技术（NIL）: 描述：纳米压印加工技术（NIL）是基于一种与传统微加工有着根本区别的原理，该技术具有高通量，小于10纳米分辨率和低成本的优点，是目前其他现有刻蚀方法无法达到的。在压印过程中，图案被热敏或紫外光复制到抗蚀剂中，然后被转移到下面的基底上。在热敏纳米压印加工技术（NIL）(T-NIL)工艺中，将表面具有纳米结构的模具压入基底上铸造的薄层抗蚀剂中。抗蚀剂是一种热敏塑料，由于粘度低，在玻璃化温度（Tg）以上时容易变形。当抗蚀剂冷却到Tg以下时，模具被移除，模具的图案被复制在抗蚀剂中。在光固化纳米压印加工技术（UV- NIL）中，将模具在室温下，压入顶层的UV光刻胶中，然后紫外照射交联抗蚀剂，最后模具复制品转移到底层的抗蚀剂和基底上。 在这两个过程中，模具表面都涂上了钝化层，以防止在分离过程中抗蚀剂粘在模具上。在图案转移过程中，利用反应离子刻蚀~RIE等各向异性刻蚀工艺去除压缩区域的残余抗蚀剂，将压印中产生的厚度对比图案转移到整个抗蚀剂中。 应用：为了加快纳米结构的研究和商业化，必须有一个高通量和低成本的纳米加工技术，来实现尺寸、形状和间距完全自由化的设计。这就是为什么纳米压印会快速发展，并且它已经扩展到许多学科，如微电子学、生物学、化学、医学和信息存储。还有希望应用于光学器件、磁存储器、微电子机械系统、生物技术、微波器件的三D打印、生物技术中使用的微流控通道、存储器VRAM的环形结构、无源光学元件等。

公司概况 法国CORDOUAN 技术公司成立于2007年，致力于纳米颗粒复合介质的尺寸表征。经过短短四年时间，CORDOUAN已成为N3（纳米粒子，纳米材料，纳米技术）的全球参考，为纳米颗粒和纳米材料的表面特征提供创新解决案。 CORDOUAN为客户提供的颗粒度，屈光计，电泳，电子显微镜和样品制备仪和器配件解决方案的连贯和广泛的产品组合。法国CORDOUAN仪器广发应用于：合成的聚合物和官能化的金属纳米颗粒、 原油萃取，改善化妆品凝胶的质量的，胶体形式的特殊油墨，生物学研究和细胞分析等的开发。 产品简介 在线纳米粒度分析仪 Vasco Kin是新一代动态光散射纳米粒度分析仪，通过远程光学探头，进行原位非接触测量和反应动力学，用于监测纳米颗粒的合成、团聚或悬浮液稳定性的研究或监测。常用于实时纳米颗粒合成过程监控, 核反应堆内现场测量，与其它粒度特性测量仪器联用(如光谱仪、SAXS等)。 性能参数 ◆ 粒度测量范围 : 0.5nm 到 10μm ◆ 背向动态光散射原理，实时远程非接触测量 ◆ 监测纳米颗粒合成过程；监测整个过程的粒度变化情况，有助于稳定性研究 ◆全自动非接触测量：能穿透玻璃和塑料针管，测定包装物及反应釜中的粒度分布和随时间的变化 ◆ 适用样品浓度：0.1ppm-40%（w/v） ◆ 时间分辨: DLS的分辨率为0.2s，用于动力学监测 ◆ 随时间变化的粒度分布彩色地形图 ◆“时间切片”功能：用户对测试后数据可进行任意时间段内的粒度分析 ◆ 样品前处理：无需样品前处理，直接测试 硬件规格 ◆ 激光源： 高稳定性激光二极管（可选蓝光和绿光） ◆ 探测器： 无伪影雪崩光电二极管（APD） ◆ 计算设备： 内嵌专用电脑 ◆ 数据处理： NanoKin 相关和分析软件 ◆ 典型测量时间：最快200ms。测量时间由样品和测量设置决定 ◆ 操作条件/存储条件：15℃ ~ 40℃ / -10℃ ~ 50℃ – 非冷凝相对湿度 70% ◆ 尺寸/重量：220 x 220 x 64 mm (上半部分) / 2.5 kg 220 x 220 x 48 mm (下半部分) / 2.8 kg 软件特点 在线纳米粒度分析仪 Vasco Kin软件的主要特点： ◆ 三个层级登录配置文件：管理员、专家、操作员 ◆ 运行模式：包括测量、模拟、后分析（导入） ◆ 直观导航（顺序） ◆ 时间切片和动力学模式：独特的技术，允许监测快速动力学和/或准确的再现性测量（时间分辨率高达200毫秒）。 ◆ 可读数据和绘图： ◆ 动态导出数据/绘图（右键单击到剪贴板） ◆ 报告文件格式：.pdf或.rtf（兼容writer软件） ◆ 反转算法： ① CUMULANTS 累积量算法：用于具有单分散趋势的单峰样品 ② PADE-LAPLACE算法（专有）：多峰样品的离散数学方法。 ③ 稀疏贝叶斯学习算法（SBL；专有）：多峰样品的连续分布数学方法。 典型案例 在线纳米粒度分析仪 Vasco Kin监测凝胶粒度随时间的变化 应用领域 ◆ 纳米颗粒的合成和功能研究 ◆ 药物输送系统优化 ◆ 制造过程中的质量控制 ◆ 电泳物理学的基础研究 ◆ 化妆品和工业乳液稳定性研究 ◆ 纳米颗粒制备和合成工艺优化 ◆ 先进的胶体稳定性分析和优化 ◆ 油墨/颜料的分散性和聚合物的表征

NIL TECHNOLOGY Aps (NILT) 位于丹麦的哥本哈根市的丹麦技术大学(TECHNICAL UNIVERSITY OF DENMARK）校园里，是一家专门从事纳米光学、纳米结构制作和纳米压印设备制作的公司，公司与的丹麦国家微纳米实验中心(Danchip)是“合作伙伴”关系，并享有共同的超净设备和研发技术成果，公司同时从事欧盟诸多纳米制作项目的研发，并拥有多位教授和博士后团队。NILT 开发的CNI系列 实验室用台式纳米热压印机是专为实验室和研发机构设计和开发的简单易用、性能稳定的研发型设备，用户可以通过CNI设备高效、低成本地实现高精度的纳米热压工艺，许多知名的研发机构均购买了CNI的设备。Nano Fabriction Solution 技术方案已在多个领域为用户提供基于纳米技术的行业解决方案，包括： * LED纳米压印解决方案：LEDS 制作，LED PSS纳米压印工艺，LED纳米透镜阵 *μ-Fluidics 纳米应用流体学 * Lab-On-A-Chip 微流控纳米应用 *Anti-Reflection 抗反射纳米应用*Wire Grid Polarizer 纳米压印光栅 * Lotus Effect 莲花效应 *Photonic Band Gap （PBG) 光子带隙 *光学及通讯: 光晶体，激光器件 *LOC解决方案 *生物技术解决方案: 医药分析，血液分析，细胞生长

EVG720紫外纳米压印机一、设备原理：EVG720紫外纳米压印用于从印章到衬底的紫外图形转移。EVG720自动纳米压印系统允许衬底和印章的尺寸从很小的芯片到150mm直径的圆片范围。用于纳米技术应用的配置包括印章机械释放、程序控制高或低的接触压力。EVG独有的吸盘设计支持软印章和硬印章压印，可以保证大面积纳米压印的均匀压力，从而保证获得很高的良率。二、应用范围纳米压印技术主要应用于如下方面：LEDS 制作，LED PSS纳米压印工艺，LED纳米透镜阵列；微流体学；芯片实验室；抗反射层； 纳米压印光栅； 莲花效应；光子带隙；光学及通讯：光晶体，激光器件；生物技术解决方案：医药分析，血液分析，细胞生长。三、主要特点及技术参数：1、主要特点：。 最大产量高达40wafers每小时；。 紫外光曝光；。配备专用的紫外纳米压印工具；。 正面对准或者正反双面对准；。 适用衬底：Si，玻璃，化合物半导体；。 硬紫外纳米压印，软紫外纳米压印、微接触压印。2、技术参数晶圆尺寸：最大150mm大面积压印：最大150mm产能：最大可到40wafers/小时印章制备：支持工作模具制备，支持自动楔形脱模曝光：曝光光源：高功率窄带曝光；波长：300-500nm, 光强：~ 400 mW/cm2，光强均匀性：20%（6寸）对准模块：机械对位精度±200um，光学对位精度±3um压印微结构尺寸范围：40nm-2um；压印结构分辨率：≤40纳米压印残留层厚度：≤20纳米滚压印速度：2mm/s-16mm/s, 可以调节图形保型度：≥90%支持倾斜光栅压印，倾斜度45-90°上料系统：3料盒台，现场可升级u SECS/GEM II: 可选。公司简介：EVG公司成立于1980年，公司总部和制造厂位于奥地利，在美国、日本和台湾设有分公司，并在其他各地设有销售代理及售后服务部，产品和服务遍及世界各地。EVG公司是一家致力于半导体制造设备的全球供应商，其丰富的产品系列包括：涂胶和喷胶/显影机/热板/冷板、掩模版光刻/键合对准系统、基片热压键合/低温等离子键合系统、基片清洗机、基片检测系统、SOI 基片键合系统、基片临时键合/分离系统、纳米压印系统。目前已有数千台设备安装在世界各地，被广泛地应用于MEMS微机电系统/微流体器件，SOI基片制造，3D封装，纳米压印，化合物半导体器件和功率器件等领域。EVG是世界上为数不多的可以商业化纳米压印设备的著名公司，可为客户提供完整的纳米压印方案，包括热压印、紫外压印、微接触印刷。EVG公司以其专利的极其优异的对准技术和世界领先的热压技术为纳米压印的成功实施打下了坚实的基础。

简介 《数字化中药材标准》1.0版数字出版物由国家药典委员会主编，科迈恩（北京）科技有限公司开发，人民卫生电子音像出版社公开发行。 作为信息化时代和互联网+背景下的国家药品标准的实现形式和集大成者，《数字化中药材标准》作为全数字化中英文对照出版物，旨在为海内外广大用户系统使用及研究包括《中国药典》在内的各级中药材质量标准提供数字支撑平台。国家药品标准数字化平台数字化药品标准阅读系统《数字化中药材标准》软件系专为国家药品标准所开发的专业数据服务平台，其由数字标准阅读系统、数字谱图查询系统、药品标准协调系统、国家药品标准数据库检索系统等4个分系统组成。软件的整体图形用户界面设计美观大方、功能丰富、操作简便，支持面向专业用户的阅读、查询、比对及本地化语言等丰富功能。 为提高用户体验，《数字化中药材标准》特别针对手持移动设备及触摸屏手势操作进行了优化设计，这其中包括： ● 支持触控和手势操作 ● 支持超高分辨率视网膜屏幕； ● 具有动画效果的操作过程，如：翻页、放大、缩小、拖动，图文切换等； ● 针对不同持握方式，提供无滚动条的自适应屏幕尺寸的页面显示方式，从而保证顺畅的阅读体验，等等。国家药品标准阅读系统数字谱图查询系统《数字化中药材标准》收载了丰富的数字化药典补充内容，其中包括药材原植物照片、药材及饮片性状照片、粉末及组织显微照片、薄层色谱鉴别图谱、高效液相图谱、化学对照品结构式等各类专业数据。这些内容图文并茂，携带信息量大，有助于帮助读者更好地掌握与使用药典。 ● 中药材原植物图集浏览模式 原植物来源照片给出了对应的原植物科名以及拉丁种名 ● 中药材及饮片性状鉴别图集浏览模式 药材及饮片性状照片标示了比例尺，并在文字说明部分给出了对应药材品种名称、药材拉丁名及原植物名 ● 中药材粉末及组织切片的显微鉴别图集浏览模式 药材粉末及组织切片显微照片的文字说明部分对显微特征进行了描述，并在图中标示出对应特征的编号 ● 中药材高效液相色谱含量测定图集浏览模式 高效液相含量测定色谱图标示了一个或多个目标化合物的色谱峰积分信息，以及每个定量化合物的名称 ● 中药材薄层色谱鉴别图集浏览模式 薄层色谱鉴别图谱中标示了展开温度、湿度、原点位置、溶剂前沿、样品轨道编号，并在文字说明部分提供了成像模式、样品来源以及备注部分的说明 ● 化学对照品结构式浏览模式 化学标准品结构式在文字说明部分提供了结构式、分子量（根据同位素丰度校正），以及美国化学文摘化学物质登录号（CAS）信息数字谱图查询系统药品标准协调合作 为服务于日益加深的各国药品标准间协调合作、中药及天然药物术语标准化工作，以及协助药典的全球读者更全面的获取、了解及掌握药典增修订动态等需要，《数字化中药材标准》提供了丰富的系列辅助分析工具。 ● 多国语言界面支持 ● 药典历史版本比对 ● 中英文版本比对 ● 正文繁体中文显示 ● 国外药典收载品种 ● 在线评议药品标准协调合作国家药品标准数据库 国家药品标准高级检索功能是在国家药品标准数据库引擎的基础上，为广大药典读者系统使用和研究药典所收载标准而开发的一站式检索平台。作为《数字化中药材标准》的核心组成部分之一，国家药品标准数据库可执行包括检索、统计、比对等在内的各类任务，其中关键词检索类别50余种。数据库支持对正文、谱图、性状照片、化学对照品、检测方法、药典修订内容，以及国外药典收载项目等各类专业内容的检索，从而充分满足信息化背景下不同药典用户的专业需求。 《数字化中药材标准》高级检索界面的设计简洁大方，功能强大。其界面由检索工具面板、结果输出窗口以及结果统计和导航面板等3部分组成。在首次进入高级检索界面时，系统将默认显示当前国家药品标准数据库收载内容的统计信息，以及当前数据库版本号和更新日期等内容收载范围数字化中药材标准数据库索引 I 中华人民共和国药典2010年版一部 II 中华人民共和国药典2010年版一部英文版 III 中华人民共和国药典2010年版第一增补本 IV 中华人民共和国药典2010年版第二增补本 V 中华人民共和国药典2010年版第三增补本 VI 中华人民共和国药典2015年版一部 VII 中国药典中药材及原植物彩色图鉴（上下册） VIII 中国药典中药材显微鉴别彩色图鉴 IX 中国药典中药薄层色谱彩色图集（一二册） X 中国药典（一部）高效液相色谱图集《中国药典》2015年版科迈恩（北京）科技有限公司

DYYB系列超声波纳米材料分散仪或超声波乳化分散器：产品概述：纳米技术的核心内容是如何解决纳米粒子的团聚问题，由于纳米粒子本身极易团聚，要得到单个分散的纳米粒子非常困难，如何使纳米粒子均匀地分散到基体中去是纳米技术的关键技术。我公司系列超声波产品是利用超声波的超声空化作用来分散团聚的颗粒。它是将所需处理的颗粒悬浮液（液态）放入超强声场中，用适当的超声振幅和作用时间加以处理。由于粉体颗粒团聚的固有特征，对于一些在介质中分散得不好的粉体，可加入适量的分散剂使之保持分散稳定状态。该产品最近尤其用于分散纳米材料，有良好效果，正受到各方关注. 超声波乳化以其“空化效应”实现油掺水乳化、水掺油乳化、分散相与连续相的混合匀化，是替代螺旋桨、胶体磨等传统乳化工艺的现代声化学手段。超声乳化的一个重要特点就是可以不用或少用乳化剂使产生极稳定的乳液。超声乳化的明显优点已促使它在食品、造纸、油漆、化工、医药、纺织、燃油热电、燃油中央空调、石油、冶金等许多工业处理中已越来越多地得到应用，其中燃油掺水燃烧在国内就是重新兴起的一个重要项目。技术参数： 型号工作频率(KHz)超声波功率(W)随机变幅杆单次处理量(ml)可选配变幅杆温度控制(选配)DYYB-500F22-305-500Φ60.2-400Φ2、Φ3，Φ8、 Φ10-60-200℃DYYB-1000F22±110-1000Φ100.2-600Φ6、Φ12、Φ15DYYB-1500F20±120-1500Φ2050-1500Φ15、Φ25DYYB-3000F20±1500-3000Φ35或Φ40500-5000

产品介绍：纳米技术的核心内容是如何解决纳米粒子的团聚问题，由于纳米粒子本身极易团聚，要得到单个分散的纳米粒子非常困难，如何使纳米粒子均匀地分散到基体中去是纳米技术的关键技术。我公司系列超声波产品是利用超声波的超声空化作用来分散团聚的颗粒。它是将所需处理的颗粒悬浮液（液态）放入超强声场中，用适当的超声振幅和作用时间加以处理。由于粉体颗粒团聚的固有特征，对于一些在介质中分散得不好的粉体，可加入适量的分散剂使之保持分散稳定状态。该产品最近尤其用于分散纳米材料，有良好效果，正受到各方关注. 超声波乳化以其“空化效应”实现油掺水乳化、水掺油乳化、分散相与连续相的混合匀化，是替代螺旋桨、胶体磨等传统乳化工艺的现代声化学手段。超声乳化的一个重要特点就是可以不用或少用乳化剂使产生极稳定的乳液。超声乳化的明显优点已促使它在食品、造纸、油漆、化工、医药、纺织、燃油热电、燃油中央空调、石油、冶金等许多工业处理中已越来越多地得到应用，其中燃油掺水燃烧在国内就是重新兴起的一个重要项目。 技术参数：型号工作频率(KHz)超声波功率(W)随机变幅杆单次处理量(ml)可选配变幅杆温度控制(选配)DYYB-50022-305-500Φ60.2-400Φ2、Φ3，Φ8、 Φ10-60-200℃DYYB-100022±110-1000Φ100.2-600Φ6、Φ12、Φ15DYYB-150020±120-1500Φ2050-1500Φ15、Φ25DYYB-300020±1500-3000Φ35或Φ40500-5000

德国BMT 标准化平台珩磨网纹检测系统 同时使用多个测量头实现车间内气缸的在线粗糙度测量和表面检查，符合JB/T 5082标准。 产品特点：● 使用多个测量头可最多同时测量气缸内9个位置的粗糙度参数；● 通过移动测量头可在1分钟内完成多个位置统计意义的粗糙度测量；● 结合360°的内壁扫描可定位任一位置进行粗糙度测量；● 检测过区域的标记；● 不同类型工件都可测量；● 在线粗糙度参数测量，如Rk和Abbott曲线；● 珩磨外观质量检测及网纹角度测量； 技术参数：● 粗糙度参数：圆周方向均布测量 Ra、Rk、Rz、Rpk、Rvk、Mr1、Mr2● 气缸直径 [mm]： 72● 气缸之间最小间距 [mm]：42● 轴向扫描长度和插入深度 [mm]：客户定制● 轴向分辨率 [μm]：20● 垂直移动距离 [mm]：客户定制● 扫描时间 [s]： 10

动态光散射纳米粒度及zeta电位分析仪原理当激光照射到分散于液体介质中的微小颗粒时，由于颗粒的布朗运动引起散射光的频率偏移，导致散射光信号随时间发生动态变化，该变化的大小与颗粒的布朗运动速度有关，而颗粒的布朗运动速度又取决于颗粒粒径的大小，颗粒大布朗运动速度低，反之颗粒小布朗运动速度高，因此动态光散射纳米粒度及zeta电位分析仪技术是分析样品颗粒的散射光强随时间的涨落规律，使用光子探测器在固定的角度采集散射光，通过相关器进行自相关运算得到相关函数，再经过数学反演获得颗粒粒径信息。动态光散射纳米粒度及zeta电位分析仪性能特点1、高效的光路系统：采用固体激光器和一体化光纤技术集成的光路，充分满足空间相干性的要求，极大地提高了散射光信号的信噪比。2、高灵敏度光子探测器：采用计数型光电倍增管或雪崩光电二极管，对光子信号具有极高的灵敏度和信噪比； 采用边沿触发模式对光子进行计数，瞬间捕捉光子脉冲的变化。3、大动态范围高速光子相关器：采用高、低速通道搭配的结构设计光子相关器，有效解决了硬件资源与通道数量之间的矛盾，实现了大的动态范围，并保证了相关函数基线的稳定性。4、高精度温控系统：基于半导体制冷技术，采用自适应PID控制算法，使样品池温度控制精度达±0.1℃。5、数据筛选功能：引入分位数检测异常值的方法，鉴别受灰尘干扰的散射光数据，并剔除异常值，提高粒度测量结果的准确度。6、优化的反演算法：采用优拟合累积反演算法计算平均粒径及多分散系数，基于非负约束正则化算法反演颗粒粒度分布，测量结果的准确度和重复性都优于1%。纳米粒度及zeta电位分析仪测量纳米粒度及zeta电位分析仪是表征分散体系稳定性的重要指标zeta电位愈高，颗粒间的相互排斥力越大，胶体体系愈稳定， 因此通过电泳光散射法测量zeta电位可以预测胶体的稳定性。动态光散射纳米粒度及zeta电位分析仪原理带电颗粒在电场力作用下向电极反方向做电泳运动，单位电场强度下的电泳速度定义为电泳迁移率。颗粒在电泳迁移时，会带着紧密吸附层和部分扩散层一起移动，与液体之间形成滑动面，滑动面与液体内部的电位差即为zeta电位。Zeta电位与电泳迁移率的关系遵循 Henry方程，通过测量颗粒在电场中的电泳迁移率就能得出颗粒的zeta电位。纳米粒度及zeta电位分析仪性能特点1.利用光纤技术集成发射光路和接收光路，替代传统电泳光散射的分立光路，使参考光和散射光信号的传输不受灰尘和外界杂散光的干扰，有效地提高了信噪比和抗干扰能力。2.先对散射光信号进行频谱预分析，获取需要细化分析的频谱范围，然后在窄带范围内进行高分辨率的频谱细化分析，从而获得准确的散射光频移。3.基于双电层理论模型，求解颗粒的双电层厚度，获得准确的颗粒半径与双电层厚度的比值，再利用小二乘拟合算法获得精确的Henry函数表达式，进而有效提高了纳米粒度及zeta电位分析仪的计算精度。Henry函数的取值：当双电层厚度远远小于颗粒的半径，即ka1，Henry函数近似为1.5。双电层厚度远远大于颗粒半径时，即ka1，Henry函数近似为1.0。使用小二乘曲线拟合算法对Wiersema计算的精确Henry函数值进行拟合， 得到优化Henry函数表达式.强大易用的控制软件ZS-920系列纳米粒度及zeta电位分析仪的控制软件具有纳米颗粒粒度和zeta电位测量功能，一键式测量，自动调整散射光强， 无需用户干涉，自动优化光子相关器参数，以适应不同样品，让测量变得如此轻松。控制软件更具有标准化操作(SOP)功能，让不同实验室、不同实验员间的测量按照同一标准进行，测量结果更具有可比性。测量完成自动生成报表，以可视化的方式展示测量结果，让测量结果一目了然。动态光散射纳米粒度及zeta电位分析仪的技术指标

仪器简介：从1979年开始，BUCHI公司一直供应小型喷雾干燥仪B-190、B-191和B-290系统，目前已成为实验室规模喷雾干燥仪领域的全球市场领导者。我们在全球的大学、研究所以及各类专业研究机构安装了4000多台喷雾干燥仪。喷雾干燥作为一种柔和、连续和可拓展的干燥过程正日益受到关注，它可快速将液体转化为干燥粉末。纳米喷雾干燥仪B-90具有在亚微米甚至纳米范围生成颗粒粒径的独特能力，可以以高产率处理毫克级样品量，从而使当今的喷雾干燥方法产生了根本性变化。B90尤其适合满足制药、生物技术、材料和纳米技术市场的需求。在这些领域中所呈现的最新应用趋势，重点集中在复杂材料、高价值药品和纳米颗粒等方面。曾经，喷雾干燥常受到颗粒直径、产率和样品量的约束。而今，可获得的最小颗粒直径锐减至300纳米，而产率直线提高至90%，能处理的最小样品量更是达到令人惊叹的毫克级。这一切都归功于集创新技术的喷头、加热系统和静电颗粒收集器。技术参数：1. 加热功率：1400W；温度控制：± 1℃2. 最高入口温度：120℃3. 蒸发能力：最大0.2L/h，有机溶剂更高4. 空气流量：80-160L/min5. 喷雾盖（孔直径）：4μm，5.5μm，7μm6. 平均雾滴直径：8-21μm7. 平均颗粒粒径：300nm-5μm8. 平均停留时间：1-4s9. 尺寸（W× H× D）：58× 110/150× 55cm （低位或高位配置）10. 重量：65/70kg （低位或高位配置）主要特点：1. 全球独创的压电雾化技术2. 适合小量样品（ml，mg）高效喷雾3. 颗粒粒径分布窄4. 高产率的静电颗粒收集器5. 模块化玻璃组件和全可视化喷雾过程6. 安装时间短，清洗方便7. 连接惰性循环系统B-295, 可安全处理有机溶剂8.PC软件实现在线的参数监控和存储， 过程参数记录和输出功能 应用领域： 1.制药2.生物技术3.材料4.纳米技术 纳米喷雾干燥仪的应用实例：1. 采用纳米喷雾干燥技术制备壳聚糖亚微米/纳米颗粒2. 采用纳米喷雾干燥技术生产海藻酸钠亚微米/纳米颗粒3. 纳米喷雾干燥技术在治疗性蛋白领域中的应用 - -乳糖降解酶，酶活性试验4. 纳米喷雾干燥技术在蛋白质制剂领域中的应用 - -单克隆抗体、L-乳酸脱氢酶5. 采用纳米喷雾干燥技术制备粉末吸入剂--呼吸给药6. 纳米喷雾干燥技术在材料化学领域中的应用 --汽车和电子工业用燃料电池 层流加热系统 静电颗粒收集器惰性循环系统B-295

5.2宽度宽度应在产品标准中规定,按GB/T 13542.22009第6章规定的方法测定的宽度，除非产品标准另有规定,其允许偏差应符合表1的规定。表1薄膜宽度单位为毫米宽度偏差≤50±0.550~300±1.0300~450±2.0450±4.05.3长度对长度的要求由产品标准规定。6检验规则GB/T 13542《电气绝缘用薄膜)分为以下几个部分:一第1部分:定义和一般要求 一一第2部分:试验方法 一第3部分:电容器用双轴定向聚丙烯薄聩 一第4部分:聚酯薄膜.…。本部分为GB/T13542的第1部分。本部分修改采用IEC60674-1:1980《电气用塑料薄膜第1部分:定义和一般要求(英文版)。本部分与IEC60674-1的主要技术差异如下:1)增加了“规范性引用文件"章 2)增加了“检验规则"章。本部分代替GB/T 13542-1992《电气用塑料薄膜一般要求》,本部分与GB/T 13542-1992相比主要差异如下:1)将“引用标准”改为“规范性引用文件”2)定义3.1.1中“偏斜”改为“偏移/弧形”。本部分由中国电器工业协会提出。本部分由全国绝缘材料标准化技术委员会(SAC/TC51)归口，本都分起草单位:桂林电器科学研究所,东材科技集团股份有限公司。本部分主要起草人:王先修、赵平。本部分所代替标准的历次版本发布情况为:GB/T13542-1992。

纳米力学测试仪 iNano灵活易用的力学测试可广泛用于各种材料和应用iNano专为压痕、硬度、划痕测试和多元化纳米级测试等纳米级力学测试设计。iNano能够测试包括软质高聚物到硬质涂层和薄膜等在内的各种材料。模块化系统选项可以完成各种不同应用：特定频率测试、定量划痕和磨损测试、集成探针成像、高温测试和自定义方法编程等。除了能够推进高校科研之外，iNano还可以为以下材料和行业进行纳米压痕测试和抗蠕变性测量：生产质量控制金属和合金医药器械涂料和油漆半导体高聚物与塑料MEMS/纳米级器件电池和储能材料陶瓷与玻璃主要功能高度模块化设计, 既具有最为宽泛的测试功能，又可提供高通量的自动化测试功能，并配有统计数据分析包，适用于纳米力学性能测量、扫描探针显微成像、高温测量和IV电压电流特性测试实时高效的实验控制，简单易用的测试流程开发和测试参数设置标准的InForce 50电磁驱动器集成高速控制器电子设备完成告诉数据采集高达100kHz，捕获材料瞬间的响应，例如锯齿流变和断裂现象。仪器使用工业界最短的时间常数20μs，精准捕捉材料瞬间的真实响应集成了噪音隔离功能的高刚度框架，可确保对各种材料进行准确测量数码变焦的高分辨光学显微镜，精确定位样本纳米压痕专家在线讲授专业纳米压痕课程，以及移动应用程序能够提供测试方法的实时更新功能与选项概览KLA 核心技术iNano 采用电磁驱动转换器提供动力，电磁驱动加载模块技术因其众多的优势被广泛的应用在KLA的压痕设备中,轻松实现载荷和位移的宽动态范围的控制,提供纳米级的力学测试功能, 实现高精度观察与定位测试样本,以及样品高度的简易调节。在其标准配置中，iNano采用了InForce 50驱动器，并提供模块化控制器以便用户按需要增加功能。iNano设备提供扫描探针成像功能、划痕及磨损测试功能、高温纳米力学测试功能、连续刚度测试(CSM) 和高速3D及4D力学图谱等模块化升级选件。该系统兼容ISO14577国际标准。iNano 采用高阶的InView&trade 测试控制和数据采集软件,包含用于简化测试设置的带屏幕控制的InviewRunTest，可在测试期间或之后进行数据分析的 InView ReviewData，和生成各种综合性测试报告的 InFocus 软件。连续刚度测量（CSM）压入循环期间测量刚度和其他材料特性KLA的连续刚度测量技术能够轻松评估材料在应变速率或蠕变效应影响下的动态力学性能。CSM技术在压入过程中保持探针以纳米级的振幅持续振动，从而获得硬度、模量等力学性能随深度、载荷、时间或频率的变化而变化的特性。该选项提供学术界与工业界最常用的恒应变速率测试方法，用以测量随深度或载荷变化的硬度和模量。CSM还可用于其他高级测量选项，其中包括用于存储和损耗模量测量的ProbeDMA&trade 方法以及AccuFilm&trade 消除基底效应的薄测量等。连续刚度测量技术在InQuest控制器和InView软件中集成，可以方便使用并保证数据的可靠性。 使用 CSM 选项测量随压入深度而变化的弹性模量AccuFilm&trade 薄膜方法通过校正衬底对测量的影响对超薄膜进行表征基于连续刚度测量技术(CSM)并结合Hay-Crawford模型的新一代AccuFilm&trade 薄膜测试选件可测量附着于衬底的膜层材料，使用AccuFilm超薄膜方法是基于KLA科学家发明的的新一代超薄膜的测试技术，实验设置操作简单，对于软衬底上的硬质膜以及硬衬底上的软质膜，AccuFilm都可以校正衬底在膜测量中所带来的影响。使用 AccuFiLm 薄膜法，基底影响模量和纯薄膜模量作为归一化压痕深度的函数NanoBlitz 3D 快速力学性能分布快速定量地测量表面力学性能分布测量粗糙表面和/或异质材料通过增加观察次数给出具有统计意义的结果NanoBlitz 3D 采用新一代快速纳米压痕测试技术，实现每个压痕测试时间小于1秒。单次试验最大压痕个数为100000（300X300矩阵），可在用户指定的恒定加载力下，提供材料弹性模量，硬度和接触刚度的三维图谱。快速且大量的测试点极大的提高了统计的准确性，同时可以直接对不同相或不同特性区域进行力学均值、分布和面积占比的统计。NanoBlitz 3D功能为用户提供数据可视化和强大的统计数据分析处理功能。使用 NanoBlitz 3D 选项绘制 WC-CO 复合材料的硬度分布图和统计直方图NanoBlitz4D 力学性能断层扫描基于连续刚度测量(CSM) 技术的力学性能断层扫描NanoBlitz 4D力学谱图利用InForce 50或InForce 1000驱动器和Berkovich压头为低E/H值和高模量( 3GPa) 材料生成纳米力学性质的4D图。NanoBlitz4D以每个压痕5秒的速度完成多达10,000个压痕（30×30阵列），并为阵列中的每个压痕测量随深度而变化的杨氏模量(E)、硬度(H)和刚度(S)数值。NanoBlitz 4D采用恒应变速率方法，为用户提供数据可视化和强大的统计数据分析处理功能。使用 NanoBlitz 4D 选项针对多层薄膜绘制两个不同压入深度的弹性和塑性分布图ProbeDMA&trade 高聚物测试聚合物测试包中配置了圆底平头探针、粘弹性测试标样和粘弹特性的测试方法，该测试选件基于连续刚度测量技术，可在不同频率条件下对材料进行高效可靠测量，得到储存模量和损耗模量与频率的变化关系。该测量技术对纳米量级的聚合物及聚合物薄膜的力学表征至关重要，优于传统DMA测试设备。使用圆底平头探针测试一系列标准高聚物样品的储能模量划痕和磨损测试方法压头通过样品表面时对其施加恒定或渐增的载荷iNano系统可以对多种材料进行划痕和磨损测试。在涂层和薄膜经过化学机械抛光(CMP) 和引线键合等的多种工艺处理的时候，其强度及其对基材的附着力会备受考验。在加工工艺中，材料是否能抵抗塑性变形并保持完整而不从衬底上起泡非常重要。理想情况下，介电材料具有高硬度和高弹性模量，因为这些参数有助于了解材料在制造工艺中的性能变化。划痕测试的定量分析300°C 样品加热允许将样品放入一个腔室中，以便在测试期间对其均匀加热300°C 的样品加热选项允许将样品放置在一个腔室内进行均匀加热，同时接受测试。iNano 样品加热选项用于表征高温下的机械性能。国际标准化的纳米压痕测试iNano包括预先内置的ISO 14577测试方法，可根据ISO 14577 标准测量材料硬度。该测试方法可以自动测量并输出杨氏模量、仪表硬度、维氏硬度和归一化压痕功。按照 ISO14577 标准在一系列标准样品上所测得的硬度值iNano 的其他升级选项远程视频观看 : 远程视频选项包括已安装的网络摄像头，便于在测试之前和期间查看样品。两个观察角度分布为样品设置视图和原位测试视图，可分别观察样品和纳米压头。DataBurst 模式 : DataBurst 模式在高达 100kHz 的速度下触发超级数据采集，捕获材料瞬间响应，例如锯齿流变和断裂现象；允许在真正的步进荷载下测量高应变率材料的力学性能；仪器使用工业界最短的时间常数，帮助客户精准捕捉材料瞬间的真实响应。InView 开放式软件编写平台 : InView 采用开放式软件编写平台，以帮助客户在测试过程中实现加载，测量和计算的全方位控制。用于设计新颖或复杂的实验。开放式软件编写平台给予客户极大的灵活性：帮助客户轻易采集原始测试数据到和最终分析结果的全面使用；客户可以完全浏览，编辑计算公式，自定义参数，实现个性化试验设计；用户可以自由设计和改变试验参数和试验过程，为探索新的试验测试提供可能。TrueTestI-V 电学测试 : True Test I-V 选项允许用户向样品施加特定电压并测量压头的电流，以表征纳米力学测量过程中电学特性的局部变化。带有模块化机架的主动振动隔离:在 iNano 的内置被动隔振的基础上增加主动隔振，为超薄薄膜上高难度的纳米力学测量提供了强大的稳定性和精确度。主动隔振系统减少了所有六个自由度的振动，无需进行调整。生物软材料测试选项台 : 生物材料测试方法利用核心技术连续刚度测试 CSM 表征模量在 1kPa 左右的生物软材料 包含一个平底压头和测量软材料储存损耗模量的测试方法。压头探针和校准样品 : InForce 50、InForce 1000 和 Gemini 驱动器的可互换压头包括 Berkovich、立体角、维氏，以及平底和球体压头。