微纳光纤耦合超导纳米线

QE85%超导纳米线单光子探测器所属类别： ? 探测器/光子计数器 ? 单光子计数器 产品简介QE85%超导纳米线单光子探测器 高量子效率85%,低暗计数10cps,高计数率20MHz 很新的超高效率超导纳米线单光子探测器，其在600nm-2300nm内达到高量子效率85%，暗计数10cps，同时zui高计数率20MHz，是目前市场上性能良好的超导单光子探测器，此型号超导纳米线单光子探测器可提供zui多8通道同时运行 超导单光子探测器， SSPD，SNSPD超导纳米线单光子探测器，单光子计数器， Superconducting Nanotechnology，红外单光子计数器，高灵敏度单光子计数器 技术指标：l 量子效率: ≥ 80 %l 时间抖动: ≤ 45 ps (20 ps on request)l 暗计数: ≤ 10 cps (0.01 cps on request)l 光谱范围: 0.6 ÷ 2.3 μml 无后脉冲l 光纤耦合l 连续模式 一般参数：l 探测通道数: 1-8l 光纤类型: SMF-28e l 原始输出电压: ≤ 150 mVl 输出信号类型: TTL, ECL, LVDSl 驱动接口: USB, LabVIEW 应用领域：l 光量子计算l 光子相关性测量l 量子密码和QKDl CMOS缺陷分析l α，β粒子探测l TCSPCl 单分子荧光光谱l 弹道成像l 单等离子体检测l 自由空间通信l LIDARl 时间分辨荧光测量l 单量子点荧光光谱l 片上量子光学l 单线态/三线态氧荧光探测l 皮秒集成电路分析l 单电子探测 相关产品 超低暗计数(0.01cps)超导单光子探测器 超高速（500MHz）超导单光子探测器 超快(120MHz)近红外单光子计数OEM模块 符合计数单光子计数系统

武汉东隆科技为美国Quantum Opus的中国区独家代理，欢迎您来电垂询！Opus One 超导纳米线探测器系统Opus One™ 超导纳米线探测器系统配有定制的紧凑型桌面低温恒温器（预先安装的16/32通道以及低温恒温器中的所有电接线），光学实验室友好型水冷压缩机（低空气循环，低噪声，低热量输出），偏置和高速放大器电子元件以及易于使用的软件控制库。 专有的纳米线材料允许纳米线工作在 2K，降低低温系统的复杂性，并允许系统连续工作3年。Opus One 是基于超导纳米线技术的单光子探测器，在1550 nm的探测效率高达85 %，通过对谐振腔的调节 ， 可以将提供特殊设计、订购和组装。700~1300 nm指定波长的探测效率提高到90%。除此之外，该探测器还拥有极低的暗噪声和超快的时间分辨率， 计数率高达40Mcps。产品特点 工作温度在2.5k即可达到高探测效率支持定制规格支持定制宽波段响应3U 紧凑化设计低噪声水冷压缩机2um以上红外响应定制 产品应用 量子光学量子计算量子密钥通信低通量生物光子学荧光测量参数 * 可定制更高探测效率850nm 950nm 1310nm 1550nm SDE 90%90% 80%*80%*暗计数率 1Hz 1Hz10Hz100Hz时间抖动 80ps80ps 100ps100ps脉冲幅值 600mV600mV300mV300mV死时间 50ns50ns50ns50ns

武汉东隆科技有限公司为美国Quantum Opus的中国区独家代理，欢迎您来电垂询！Quantum Opus 超导纳米线探测器Quantum Opus提供了两个标准的纳米线产品，在950 nm（ 90％）或1550 nm（ 80％）范围内最大化系统检测效率。 我们还可以定制任何所需的客户波长，包括非常广泛的响应设备，保持超过100nm的带宽和中红外设备的效率超过50％。 这些设备也可以单独购买，并集成到制冷温度2.5K的第三方低温系统中。 产品特点 工作温度在2.5k可达到最高探测效率探测效率90%@1550nm计数率40MHz!!无PDE下降暗计数1Hz/10Hz/100Hz3U紧凑化设计单台支持2-32通道扩展产品应用 量子光学量子计算量子密钥通信低通量生物光子学荧光测量参数

多通道超导纳米线单光子探测系统赋同量子生产的SNSPD系统由超导纳米线单光子探测器、低温恒温系统和电子学模块三个部分组成，该系统具有以下特点：●采用小冷量风冷GM制冷机，无需液氦；●7×24小时不间断运行； ●高可靠性，已通过各种应用场合长期证； ●专业高效的技术支持； ●机柜式或桌面式集成。 参数细节探测通道数目：1-32；光学接口：FC/PC；电子学接口：SMA；工作环境：温度4℃-38℃；湿度≤60%；系统漏率：＜1E-10Pam3/s；重量：约100 kg；电源：单相220-230 V，50 Hz；功耗：≤ 1.3 kW；

QE60%超导纳米线单光子 探测器量子效率60%,低暗计数10cps,高计数率70MHz，只要有制冷腔，就能轻松安装 俄罗斯Scontel 蕞新推出的超导纳米线单光子探测器，只要有制冷腔，就能轻松安装,并且价格低廉，但是功能毫不差劲。其在600nm-2300nm内达到量子效率60%，暗计数10cps，同时计数率高达70MHz，是目前市场上性能优良的超导纳米线单光子探测器的。此型号超导纳米线单光子探测器可提供蕞多16通道同时运行，针对不同应用提供匹配的产品，可多通道同时探测及低成本升级，且可以根据您的不同需求我们不仅有如下图中探测性能的设备，还有多模大面积探测器、超低噪声探测器、光子数分辨探测器供您选择。超导纳米线单光子探测器主要特点：&bull 超高性价比，有制冷腔的选择&bull 针对不同应用提供匹配的产品 &bull 可多通道同时探测及低成本升级 &bull 产品安装/培训/升级全程服务超导纳米线单光子探测器技术指标： 根据需求不同我们可提供以下探测性能的搭配也可根据您的参数要求进行定制：高效检测(HED) -高系统效率和时间分辨率、低噪声、中等带宽的蕞佳组合。 超高效检测(U-HED) -改进的HED版本，运行温度更低，因此在所有参数方面具有更好的综合性能。 宽带宽检测（Broadband）-虽系统效率略有下降。但优化的光学腔增加了带宽低噪声检测（Low noise）-应用可变滤波技术将设备的暗计数率降低到每秒10次,探测器的光谱响应窄得多。超导纳米线单光子探测器应用领域：&bull 量子计算 &bull 光子相关性测量&bull 量子密码和QKD&bull cmos 缺陷分析&bull α，β粒子探测&bull tcspc &bull 单分子荧光光谱&bull 弹道成像&bull 单等离子体检测&bull 自由空间通信&bull LIDAR&bull 时间分辨荧光测量&bull 单量子点荧光光谱&bull 量子光学 &bull 单线态/三线态氧荧光探测&bull 皮秒集成电路分析关于昊量光电：上海昊量光电设备有限公司是光电产品专业代理商，产品包括各类激光器、光电调制器、光学测量设备、光学元件等，涉及应用涵盖了材料加工、光通讯、生物医疗、科学研究、国防、量子光学、生物显微、物联传感、激光制造等；可为客户提供完整的设备安装，培训，硬件开发，软件开发，系统集成等服务。

SNSPD器件由中科院上海微系统所（SIMIT)研发。上海微系统所自2007年开始开展SNSPD研发工作，具有国际先进水平的超导器件工艺平台，实现了从薄膜材料、器件设计和加工的全自主研发。首创片上集成滤波器SNSPD器件，实现暗计数≤1Hz，探测效率≥80%的高性能器件，已获中、美、日专利授权。 ●探测效率高:＞90%●暗计数低:＜1Hz●高稳定性 ●计数率高：＞100MHz ●时间抖动小:＜20ps●个性化定制 参数细节 探测效率和暗计数率曲线

中红外(MIR)超导单光子探测器所属类别： ? 探测器/光子计数器 ? 单光子计数器 所属品牌：俄罗斯Scontel公司 产品简介中红外超导纳米线单光子探测器 中红外超导单光子探测器 ----覆盖光谱响应范围超过2.5um，探测效率5%,是中红外微弱光探测的理想工具！ 俄罗斯SCONTEL公司作为世界先进的超导单光子探测器制造商，其开发出的中红外超导纳米线单光子探测器彻底颠覆了常规超导单光子探测器的技术指标，zui大光谱范围可覆盖2.5um，探测效率5%,是中红外微弱光单光子探测及单光子计数的理想选择。 中红外单光子探测器，超导单光子探测器， SSPD， 超导单光子计数器， 俄罗斯Scontel公司, Superconducting Nanotechnology，红外单光子计数器，高灵敏度单光子计数器；超导纳米线单光子探测器，SNSPD，超导纳米线，低温超导单光子探测器 超导纳米线单光子探测器应用： 超导纳米线单光子探测器技术优势：光量子计算 超宽探测范围：600nm~2500nm光子相关性测量 高探测效率： 5%@2um量子密码 超低暗计数：700/s自由空间通信 高探测频率：50MHz激光雷达 超高时间分辨率：50ps时间分辨荧光寿命测量 死时间：20ns单量子点/单分子荧光特性 无后脉冲皮秒级集成电路检测分析 1~4通道可选光学断层摄影 全程服务支持 中红外超导纳米线单光子探测器的冷却系统有两种类型: a.外接低温液氦杜瓦瓶 b.闭合循环冷藏室 相关产品 超高量子效率超导单光子探测器（65%@500~1700nm） 纠缠光子对发生器(纠缠光子源) 超导单光子探测器（SSPD） 400~1700nm 时间相关单光子计数器（TCSPC）

一,热扩散膨胀纤芯光纤定制加工一,热扩散膨胀纤芯光纤定制加工NIR-TEC-30-9-SA TEC（Thermally-diffused Expanded Core Fiber）光纤技术热膨胀光纤末端的模场直径。这可用于商业SI-SMF。模场直径在光纤末端增加一倍或三倍，改变折射率分布，减小数值孔径。轴向和间隙位移公差越大，耦合损耗越小。包层直径的较小变化可以插入金属箍并安装连接器(如右图)。光纤类根据数量价格,合同金额原则上不低于3500元 热扩散膨胀纤芯光纤定制加工,热扩散膨胀纤芯光纤定制加工产品特点● 高光学表面质量● 高控制精度● 低插入损耗产品应用● 硅光子集成技术● 光波导耦合● 光学设备制造● 测试工具二,NIR-SPF-S-SM-2边抛光纤/ D型光纤定制加工二,NIR-SPF-S-SM-2边抛光纤/ D型光纤定制加工NIR-SPF-S-SM-2 SPF系列边抛光纤/D型光纤(Side Polished Fiber)依赖我司全光纤加工技术，筱晓光子目前能够提供D形侧边抛磨光纤的加工定制服务.5年独te的边抛工艺技术，致使我们能够为客户精确地提供大批量的定制服务。客户只需要提供给我么他们需要抛磨的光纤类型，抛磨长度，抛磨深度。光纤类根据数量价格,合同金额原则上不低于3500元 NIR-SPF-S-SM-2边抛光纤/ D型光纤定制加工,NIR-SPF-S-SM-2边抛光纤/ D型光纤定制加工产品特点● 高光学表面质量● 空气中低插入损耗● 支持多种适应光纤定制：● 不同的边抛深度● 裸露纤芯长度产品应用● 侧抛光光纤通过平行表面创建可定义长度和深度的衬底，● 以引导对渐逝场的访问，具有几乎零损耗。● 通过叠加结构的结构和折射率来指导波导特性。● 通过动态修改的结构尺寸，折射率或吸收，实现随时间变化的操纵的传播。● 光纤元件与光纤传感应用。技术参数工作波长nm430-2000nm空气中插入损耗dB＜0.1dB1.5折射率处衰减值dB45 (Typ. 60)边抛长度mm17光纤类型SMF-28E连接头类型FC/APC OR FC/PC备注： 1.所有的测试结果并不包含接头2 .更好的参数或者其他需求我们可以接受定制具有不同抛光深度的覆盖折射率的衰减响应 - 理论线和数据点。产品结构三,微纳光纤定制加工三,微纳光纤定制加工微纳光纤是一种直径接近或小于传输光波长的波导，由物理拉伸方法制得，具有表面光滑、直径均匀性好、机械性能高、强光场约束、强倏逝场、表面场增强效应及反常波导色散等特性，在光通信、激光、传感检测、非线性光学、量子光学等领域具有重要的应用前景。光纤类根据数量价格,合同金额原则上不低于3500元 微纳光纤定制加工,微纳光纤定制加工产品特点● 高光学表面质量● 高控制精度● 低插入损耗产品应用● 硅光子集成技术● 光波导耦合● 光学设备制造● 测试工具技术参数规格参数单位数值工作波长nm430-2000nm锥形光纤腰椎直径nm400锥形光纤腰椎宽度mm2锥形区域长度mm35 (Typ. 40)附加损耗dB≤0.1dB包层直径um125光纤类型SMF-28E/PM1550连接头类型FC/APC OR FC/PC备注：1.所有的测试结果并不包含接头 2 .更好的参数或者其他需求我们可以接受定制四,光纤端面带通滤波镀膜服务四,光纤端面带通滤波镀膜服务筱晓光子最新研发在光纤头上提供多种涂层，包括全/部分反射膜、长通、短通、带通，以及抗反射设计。应该理解的是，干扰涂层的性能取决于入射角（AOI），纤维呈现AOI到涂层尖端的分布。此外，我们的涂层尖端其硬度足以连接到其他光纤，从而使过滤器浸入玻璃过滤器配置中。所选光纤的数值孔径（NA）以及光纤在应用中的连接方式将影响滤波器性能，因此，我们要求客户填写以下清单，以帮助我们实现相关的镀膜定制服务。光纤类根据数量价格,合同金额原则上不低于3500元 光纤端面带通滤波镀膜服务,光纤端面带通滤波镀膜服务产品特点● 可以设计和制造● 快速成型的大量库存● 大批量生产● 波长可选产品应用● 激光耦合● 光纤激光器● 光纤拉曼探针● 基于纤维的流式细胞术● 激光眼科手术● 光纤干涉仪技术参数镀膜曲线虽然多模光纤中的角分布必须考虑涂层处的AOI分布，但单模光纤和多模光纤都可以涂覆。涂层可以设计为在与另一根光纤或空气耦合时工作。我们可以提供广泛的滤波器设计，如抗反射、带通、短通、长通和部分反射器。镀膜短可以是接头、裸纤、锥形或透镜光纤都可以。滤波膜特征1● (circle one) LP SP BP Reflector (full or partial)● 起始波长 ___±___● 截止波长 ___±___● %T (peak) ________● 衰减波长范围 _________● Attenuation OD ___________● %R (peak) ______ ±_______● %R 波长范围 _________________光纤特征2● 数值孔径 (NA) ______● 纤芯直径 ______________● 包层直径 ______________● 光纤长度________________● 光纤材料(玻璃、塑料、硫系化合物) 工作波长下的单模或多模（圆形）● 模式填充程度（如果知道）______● 套管最大工作温度 ______● 其他 (保偏光纤,微结构光纤 etc)光纤端面特征3● 第一端连接器（FC、SC、LC、SMA、None）● 第二端连接器（FC、SC、LC、SMA、None）● 如果没有连接器（切割、透镜、裸光纤）● 哪一端需要涂层____________Fiber Configuration4在空气中工作的涂层尖端涂层尖端连接到未涂层尖端需要镀膜的数量_______________光纤供应商________________举例说明：BP-0760-037Specifications:CWL: 760 ±7 nmHW: 37 ±7 nmTmin: 60 %Blocking: 1200 nm Measured values:CWL = 759.88 nm...OKHW = 38.5 nm...OKCuton 5 % = 732.43 nmCutoff 5 % = 788.55 nm Spectrogon:HP1 = 740.63 nmHP2 = 779.12 nmTpeak = 93.14 %...OKTavg = 90.46 %Slope 1 = 1.55 %Slope 2 = 1.7 %注意事项：1. 陡峭的光谱边缘和严格的阻塞规范导致设计具有高物理厚度。我们发现光纤的尖端可以支撑高达6微米的材料。厚涂层可能会分层和/或导致芯-包层泄漏。建议客户使用建议过滤器的厚度。2. 高NA的多模光纤导致高AOI。高AOI会导致任何干扰滤波器蓝移。观测到的光谱性能将是每个角度性能的加权平均值。这些光谱位移可以建模和测量在AOI实验室。3. 筱晓在监测沉积过程中纤维尖端的反射率。这就需要监控光纤的未涂层端必须用连接器（最hao是FC/PC）端接。如果连接端不适用于给定的应用，我们将在客户光纤附近放置一根额外的光纤，用于监控。4. 如果一个单模尖端被涂覆并连接到另一个单模尖端，会出现接近零的蓝移。光纤的数量一次沉积允许的长度取决于光纤配置（连接、切割、捆绑等）。五,MFD模场直径匹配光纤定制加工五,MFD模场直径匹配光纤定制加工NIR-MFD-04-9-SA MFD模场直径匹配光纤(Mode Field Diameter Fiber)依赖我司全光纤加工技术，筱晓光子目前能够提供MFD模场直径匹配光纤加工定制服务.耦合不同模场直径的光纤必然导致模场直径不匹配造成损耗。然而，我们的热扩散技术可以将耦合造成的损失降到最低。这可用于商用SIS-MF。熔接端重新涂上保护套或覆盖保护套。该技术可应用于某一类型的保偏光纤，单模光纤，以及多模光纤。我们可以提供各种类型的模场直径匹配光纤定制加工，以满足您的需求：短的，长的，有接头的，也有特殊的光纤以及连接头的，请随时与我们销售联系。光纤类根据数量价格,合同金额原则上不低于3500元 MFD模场直径匹配光纤定制加工,MFD模场直径匹配光纤定制加工产品特点● 高光学表面质量● 高控制精度● 低插入损耗产品应用● 硅光子集成技术● 光波导耦合● 光学设备制造● 测试工具技术参数规格参数单位数值工作波长nm430-2000nm附加损耗dB＜0.2dB消光比dB20 (Typ. 22)边抛长度mm17光纤类型SMF-28E/PM1550连接头类型FC/APC OR FC/PC备注：1.所有的测试结果并不包含接头 2 .更好的参数或者其他需求我们可以接受定制产品结构六,干涉型单模微纳光纤传感器六,干涉型单模微纳光纤传感器微纳光纤传感器具有体积小巧、结构灵活、强瞬逝场等特点，基于周围液体折射率的测量， 能够实现对微弱生化成分变化的检测。已报道的微纳光纤折射率传感器包括光栅型、谐振型等。我们通过结构设计与优化，实现了几种干涉型微纳光纤折射率传感器，具有折射率灵敏度高、温度灵敏度低，制作成本低等优点，干涉型微纳光纤传感器方面的研究进展，包括高双折射微纳光纤环形传感器、级联长周期光栅传感器及基于单锥结构的微纳光纤干涉型传感器。通过对干涉仪几何结构的设计与优化，实现了 104 nm/RIU 量级的折射率感测灵敏度，为研制成本低廉、高灵敏度的光学生物化学传感器提供了可选方案。图 1 ：基于高双折射微纳光纤环镜结构的传感器原理图及实物图。 图2：基于级联微纳光纤长周期光栅的干涉型传感器原理图及实物图。光纤类根据数量价格,合同金额原则上不低于3500元 干涉型单模微纳光纤传感器,干涉型单模微纳光纤传感器产品特点● 很强的干涉特性● 亚波长结构● 单模多模可选产品应用● 微纳光纤● 微纳光纤传感器● 干涉型传感器技术参数规格参数单位数值工作波长nm1270-2000nm双锥形光纤腰椎直径nm800锥形光纤腰椎宽度mm2锥形区域长度mm15 (Typ. 20)附加损耗dB≤7dB包层直径um125光纤类型SMF-28E/PM1550连接头类型FC/APC OR FC/PC备注：1. 所有的测试结果并不包含接头 2. 更好的参数或者其他需求我们可以接受定制测试光谱400nm1um

微纳米气泡发生器产品介绍 微纳米气泡发生装置是上海如净环保科技有限公司自主研发生产的前沿高科技产品，该装置融合了当今国内外微纳米气泡发生装置技术和制造工艺，历经了多年实践检验及工程应用，弥补国内纳米至微米级气泡发生装置的空白，实现了从实验室走向工业化推广应用的突破。微纳米气泡发生器工作原理 上海如净微纳米气泡发生装置，其原理是使气体与液体高度相溶混合，如净微纳米气泡采用动态高速剪切装置，将气液混合物内的气泡切碎，由于这些构件的强大剪切力，可以将气泡切碎至几十纳米到几微米，最终形成乳白色微纳米气泡，这种方式可以兼顾气液混合与微气泡发生，具有气液过程强化的特征。 微纳米气泡发生器由气液混合装置，加压装置、释放装置、控制系统，四大部分组成，其中需要连接配套管路，主要包括进气管路、进水管路、出水管路。当气体从进气管路进入加压装置后，与液体充分混合，经过气液剪切高压混合等处理，生成直径50μm以下的微米气泡，最终通过释放装置产生的物理原理释放出20-180nm以下的微纳米级气泡。◆性能参数 微纳米气泡发生装置产生气泡平均粒径在100纳米（nm）—10微米（μm）之间，气泡含率84%—90%，气泡平均上升速度4 mm/s—8 mm/s。◆产品特点 （1）实现气、液两相高度混合并达到饱和。 （2）可以接入不同的气体（如：空气、纯氧、臭氧、氮气）等气源来满足不同的需要。 （3）解决传统曝气设备气泡大、上升速度快、停留时间短、容易汇聚、对水体扰动大、饱和溶氧状态时间长的问题。 （4）解决传统设备体积大、效率低、成本高的问题。 （5）解决传统设备达到易堵塞、噪音大、耗能高的问题。 （6）超微纳米气泡体积小，比表面积远大于普通气泡，明显能提高水体的溶氧量。气泡带负电荷；自我收缩爆破，有氧化性和杀菌作用。

纳米操作机、纳米机械手、纳米操纵机械臂、纳米操纵仪TNI LF-2000产品简介 TNI LF-2000是目前市面上基于SEM电镜下使用的自动化程度最 高的纳米操作系统，也是一种能够在SEM电镜下提供可重复 定位、低漂移、闭环运动控制定位的纳米操作系统。 产品特性 完全兼容主流电镜，不影响电镜功能 市面上较佳的运动定位性能：大行程、亚纳米分辨率 位移传感器集成自动化和可编程运动 SEM真空环境优化设计，可快速安装与拆卸规格参数应用案例电学特性LifeForce为纳米材料提供可靠、低噪音的电测量，以及与纳米结构的原位相互连接。图片展示的是四探针测量纳米线电学性能。力学测量LifeForce为纳米材料的力学特性提供高分辨率的力和位移反馈，图片展示的是用球端AFM悬臂探针对单根纳米线的拉伸测试。拾取和放置操作使用末端工具（例如：探针、微纳米夹持器、超声切割针），操作者能够操作LifeForce纳米操作手在SEM电镜内对微纳米物体进行推、拉和抓取等操作。制作微纳米器件精密的操作手运动能够实现微纳米器件的快速成型和后处理。图片展示的是纳米线FET传感器的构造。

生长纳米线CVD炉OTF-1200X-4-NW是一种紧凑型CVD炉，专为生长各种纳米线而设计，基片最大3″。在法兰的左侧装有一个小加热器，可对输入的气体、液体、固体进行预加热后进入 CVD 炉进行纳米线的生长。其可滑动的样品架使操作更为简单。 产品型号　生长纳米线CVD炉OTF-1200X-4-NW安装条件本设备要求在海拔1000m以下，温度25℃±15℃，湿度55%Rh±10%Rh下使用。1、水：设备配有自循环冷却水机（加注纯净水或者去离子水）2、电：AC380V 50Hz（63A空气开关），必须有良好接地3、气：设备腔室内需充注氩气（纯度99.99%以上），需自备氩气气瓶（自带?6mm双卡套接头）4、工作台：尺寸1500mm×600mm×700mm，承重200kg以上5、通风装置：需要主要特点 1、由OTF-1200X-4单温区炉演变而来的紧凑型CVD炉。 2、内炉膛表面涂有进口高温氧化铝涂层，可以提高设备的加热效率及延长仪器的使用寿命。 3、带样品支架的右法兰是滑动的，方便样品的快速取放。 4、左侧的小加热器可对输入CVD 炉的气体、液体、固体或混合物进行预加热，不锈钢加热腔外径?30mm、长150mm，最高工作温度600℃。 5、左边法兰（在加热器与CVD炉之间）装有4个1/4"卡套连结的通气管，具有密封和气体通道的作用。 6、PID自整定数字控制器，可以设置30段升降温程序。 7、选配相关软件可用计算机进行控温。 8、已通过CE认证。技术参数 1、额定电压：单相AC 220V 50Hz/60Hz 2、额定功率：3KW（需20A的空气开关） 3、石英管：外管外径?110mm，内径?102mm，长381mm 4、加热区域：CVD炉400mm，加热器150mm， 5、工作温度：CVD炉最高1100℃（2h），连续工作200℃-1000℃，最大升降温速率10℃/min；加热器连续工作0-500℃，最大升降温速率10℃/min 6、控温精度：±1℃ 7、热电偶：K型 8、右法兰：一个3"石英样品支架，与石英挡板、法兰连成一体，设有KF25真空快接口，以及水冷接口（可选配水 冷机，避免O型圈融化） 9、左法兰：有2个独立1/4″口，可单独将任何气体通入炉内，一路1/4"口将预热气体通入CVD炉，一路1/4″口将不加 热的气体通入炉内，并通过炉内的T型结构与加热气体汇合产品规格　尺寸：1200mm×450mm×510mm；重量：100kg可选配件 1、冷水机 2、控温软件

纳米操作机、纳米机械手、纳米操纵机械臂、纳米操纵仪TNI LF-2000产品简介TNI LF-2000是兼容SEM/FIB的自动化纳米操作系统，也是能够在SEM/FIB下提供可重复定位、低漂移、闭环运动控制定位的纳米操作系统。产品特性 兼容主流电镜，不影响电镜功能 具有大行程、亚纳米分辨率运动定位性能 位移传感器集成自动化和可编程运动 SEM真空环境优化设计，可快速安装与拆卸规格参数系统概况系统尺寸127x127x33mm3*机械手数量1-4操作手（宏动）驱动原理粘滑驱动运动范围XY轴：10mm Z轴：5mm速度3mm/s最小步长100nm操作手（微动）驱动原理无摩擦柔性铰链运动范围XYZ轴：20μm速度45μm/s开环运动分辨率0.5nm闭环运动分辨率1nm定位漂移率0.35nm/min软件功能**点击-移动鼠标在电脑屏幕上从A移动到B自适应放大倍数定位器移动速度根据SEM放大自动调整操作手位置保存/加载用户自定义的“保存/加载”操作手坐标3D虚拟显示实时三维显示操作手的位置和运动自动校准操作手闭环传感器自动校准运动轴的自动对准所有操作手运动轴自动对准SEM图像轴*系统尺寸可根据需要减小到50x50x17mm3**可根据选定SEM/FIB的型号而定应用案例电学特性LifeForce为纳米材料提供可靠、低噪音的电测量，以及与纳米结构的原位相互连接。实例照片展示的是四探针测量纳米线电学性能。力学测量LifeForce为纳米材料的力学特性提供高分辨率的力和位移反馈，实例照片展示的是用球端AFM悬臂探针对硅纳米线簇进行纳米压痕，以及对单根纳米线的拉伸测试。拾取和放置操作使用末端工具（例如：探针、微纳米夹持器、超声切割针），操作者能够操作LifeForce纳米操作手在SEM电镜内对微纳米物体进行推、拉和抓取等操作。制作微纳米器件精密的操作手运动能够实现微纳米器件的快速成型和后处理。实例照片展示的是纳米线FET传感器的构造。纳米电子器件电学测量LifeForce纳米操作机是市面上能够自动探测电子结构（范围从亚微米，亚100nm及亚20nm）。只需要通过计算机点击鼠标，将探针定位到目标位置。极低得定位漂移，保证数据采集得可靠性。 主要软件功能①　位置反馈：提供每个操作手XYZ精确得位置反馈，1纳米运动定位分辨率。②　保存/加载坐标：保存和加载多个操作手得坐标。③　自动校准：限度地提高定位性能，并将操作手运动轴对准扫描电子显微镜图像轴。④　3D虚拟显示：实时3D虚拟空间显示操作手（粉红色方块）和样品（绿色平面）得位置。⑤　点击-移动：通过在屏幕上鼠标点击控制操作手运动。⑥　多操作手联动：连接多个操作手得运动，具有纳米级精度。⑦　图片-视频录制：保存操作过程中的高清图片和视频。

选型指南：PB1000型微纳米力学综合测试系统是美国NANOVEA公司销量最高的一款微纳米力学测试系统测量系统，这款仪器采用模块化设计，可在一款仪器下实现纳米与微米/大载荷三个尺度下的压痕，划痕与摩擦磨损测试，进而可得到硬度、弹性模量、蠕变信息、弹塑性、断裂韧度、应力-应变曲线、膜基结合力、划痕硬度、摩擦系数、磨损率等微观力学数据。产品特性:◎可在一台仪器上实现纳米尺度、微米尺度及大载荷尺度下的压痕、划痕与摩擦测试 ◎压痕、划痕与摩擦磨损完全符合ASTM及ISO的国际标准◎模块化设计：可根据客户需求任意选择纳米/微米/大载荷模块的压痕/划痕/磨损功能◎专利的设计可保证系统具有高稳定性与高的精度◎可拓展性强：可随意升级已有设备到多种测试功能技术参数：◎工作台自动控制范围：150 mm×150mm ◎Z方向自动移动范围：50mm◎工作台定位精度：1μm◎光学显微物镜：5X,10X,20X,50X,100X可选◎总放大倍数：200X, 400X, 800X,2000X200X, 4000X可选◎纳米压痕仪/纳米划痕仪/纳米摩擦磨损仪◎微米压痕仪/微米划痕仪/微米摩擦磨损仪◎大载荷压痕仪/大载荷划痕仪/大载荷摩擦磨损仪可选件： ◎ 测量模块：客户需要自己选择纳米模块、微米模块与大载荷模块其中之一 ◎ 光学镜头：客户需要自己选择光学镜头的个数与倍率 ◎ 原子力显微镜产品应用： ◎薄膜及超薄膜(金属膜、陶瓷膜、Low k 膜、多层复合膜等) ◎复合材料(树脂基、陶瓷基、金属基、纤维增强材料表面及界面等) ◎聚合物 (共混物、共聚物等) ◎生物及仿生材料(细胞、骨组织、血管、牙齿、支架等) ◎金属及合金(晶面/晶界/组织相、金属玻璃、稀土等) ◎MEMS (微悬臂、微镜、微泵等) ◎陶瓷材料 ◎电子及半导体(硅片、蓝宝、硬脆及软脆材料等)

CB500型微纳米力学综合测试系统是美国NANOVEA公司推出的一款性价比高的微纳米力学测试系统测量系统，这款仪器采用模块化设计，可实现纳米/微米/大载荷三个尺度下的压痕，划痕与摩擦磨损测试，进而可得到硬度、弹性模量、蠕变信息、弹塑性、断裂韧度、膜基结合力，划痕硬度，摩擦系数等微观力学数据，用户可根据需要选择适合相应应用的功能模块。产品特性:◎可在一台仪器上实现纳米尺度、微米尺度及大载荷尺度下的压痕、划痕与摩擦测试 ◎压痕、划痕与摩擦磨损完全符合ASTM及ISO的国际标准◎模块化设计：可根据客户需求任意选择纳米/微米/大载荷模块的压痕/划痕/磨损功能◎专利的设计可保证系统具有高稳定性与高的精度◎可拓展性强：可随意升级已有设备到多种测试功能技术参数：◎工作台自动控制范围：100 mm×50mm ◎Z方向自动移动范围：25mm◎工作台定位精度：1μm◎光学显微物镜：5X,10X,20X,50X,100X可选◎总放大倍数：200X, 400X, 800X,2000X200X, 4000X可选◎纳米压痕仪/纳米划痕仪/纳米摩擦磨损仪◎微米压痕仪/微米划痕仪/微米摩擦磨损仪◎大载荷压痕仪/大载荷划痕仪/大载荷摩擦磨损仪可选件： ◎ 测量模块：客户需要自己选择纳米模块、微米模块与大载荷模块其中之一 ◎ 光学镜头：客户需要自己选择光学镜头的个数与倍率产品应用： ◎薄膜及超薄膜(金属膜、陶瓷膜、Low k 膜、多层复合膜等) ◎复合材料(树脂基、陶瓷基、金属基、纤维增强材料表面及界面等) ◎聚合物 (共混物、共聚物等) ◎生物及仿生材料(细胞、骨组织、血管、牙齿、支架等) ◎金属及合金(晶面/晶界/组织相、金属玻璃、稀土等) ◎MEMS (微悬臂、微镜、微泵等) ◎陶瓷材料 ◎电子及半导体(硅片、蓝宝、硬脆及软脆材料等)

美国K-T公司是全球微纳米力学测试设备技术的开创者，全球第一台纳米力学测试系统于上世纪80年代初在公司前身诞生，多种测量方法和物理模型来自该公司。经过近40年不断努力和改进，该公司微纳米力学测试不仅实现了静态到动态的测试，同时实现了与光学、电学等设备连用的原位材料力学、微结构学甚至成份学的多手段原位测试功能。当前国标已经引入该公司专利的CSM连续刚度技术，在该领域具有很高的权威性。K-T在连续刚度（CSM）、高分辨、扫描成像、快速测试方面拥有独特技术。K-T是该领域著名跨国公司，中国设有地区总部，拥有最专业的技术支持和售后服务人员。更多信息，请联系我们以探讨您的需求。

微纳米气泡曝气技术是指将微纳米气泡发生技术应用于水处理中曝气，是近年来发展的一种高效环保水处理技术。相较于普通大气泡，微纳米气泡具有独特的物理化学特性，如比表面积大、表面带电荷、水体中存在时间长、气液传质率高、界面点位高、能自发产生自由基等。在水处理中常应用于悬浮物的吸附去除、难降解有机污染物的氧化分解、向水体复氧促进生物活性以及减少底泥内源污染等方面微纳米曝气技术在黑臭河道治理中改善水质的作用包括：（1）污水中悬浮物的吸附去除，由于微纳米气泡表面带电荷且ζ电位高，对污水中的油类以及悬浮物就有优越的吸附效果，对于COD、氨氮及TP也具有较好的去除效果，从而减少水中有机质，使水体透明度明显提高，改善水色。（2）促进生物净化功能，向污染的缺氧水域中进行微纳米气泡曝气时，随着气泡内溶解氧的消耗不断向水中补充活性氧，可增强水中好氧微生物、浮游生物以及水生动物的生物活性，加速其对水体及底泥中污染物的生物降解过程，实现水质净化目的。（3）难降解有机污染物的强化分解，微纳米气泡破裂时能释放出的大量的羟基自由基，具有氧化性，可分解很多有机污染物，为了促使微气泡在水中能够产生更多的羟基自由基，常采用其它强氧化手段进行协同作用，如紫外线、纯氧以及臭氧等强氧化手段，以更好地发挥对废水中有机污染物的氧化分解作用。（4）减少底泥内源污染，微纳米气泡曝气使得河湖底质表层含氧量增加，好氧微生物代谢活动趋强，有效抑制湖底厌氧菌的有机质分解过程，减少水底氮、磷营养盐的释放量，阻断内源污染。

微纳米气泡曝气技术是指将微纳米气泡发生技术应用于水处理中曝气，是近年来发展的一种高效环保水处理技术。相较于普通大气泡，微纳米气泡具有独特的物理化学特性，如比表面积大、表面带电荷、水体中存在时间长、气液传质率高、界面点位高、能自发产生自由基等。在水处理中常应用于悬浮物的吸附去除、难降解有机污染物的氧化分解、向水体复氧促进生物活性以及减少底泥内源污染等方面微纳米曝气技术在黑臭河道治理中改善水质的作用包括：（1）污水中悬浮物的吸附去除，由于微纳米气泡表面带电荷且ζ电位高，对污水中的油类以及悬浮物就有优越的吸附效果，对于COD、氨氮及TP也具有较好的去除效果，从而减少水中有机质，使水体透明度明显提高，改善水色。（2）促进生物净化功能，向污染的缺氧水域中进行微纳米气泡曝气时，随着气泡内溶解氧的消耗不断向水中补充活性氧，可增强水中好氧微生物、浮游生物以及水生动物的生物活性，加速其对水体及底泥中污染物的生物降解过程，实现水质净化目的。（3）难降解有机污染物的强化分解，微纳米气泡破裂时能释放出的大量的羟基自由基，具有氧化性，可分解很多有机污染物，为了促使微气泡在水中能够产生更多的羟基自由基，常采用其它强氧化手段进行协同作用，如紫外线、纯氧以及臭氧等强氧化手段，以更好地发挥对废水中有机污染物的氧化分解作用。（4）减少底泥内源污染，微纳米气泡曝气使得河湖底质表层含氧量增加，好氧微生物代谢活动趋强，有效抑制湖底厌氧菌的有机质分解过程，减少水底氮、磷营养盐的释放量，阻断内源污染。

微纳米气泡发生器产品介绍 微纳米气泡发生装置是上海如净环保科技有限公司自主研发生产的前沿高科技产品，该装置融合了当今国内外微纳米气泡发生装置技术和制造工艺，历经了多年实践检验及工程应用，弥补国内纳米至微米级气泡发生装置的空白，实现了从实验室走向工业化推广应用的突破。微纳米气泡发生器工作原理 上海如净微纳米气泡发生装置，其原理是使气体与液体高度相溶混合，如净微纳米气泡采用动态高速剪切装置，将气液混合物内的气泡切碎，由于这些构件的强大剪切力，可以将气泡切碎至几十纳米到几微米，最终形成乳白色微纳米气泡，这种方式可以兼顾气液混合与微气泡发生，具有气液过程强化的特征。 微纳米气泡发生器由气液混合装置，加压装置、释放装置、控制系统，四大部分组成，其中需要连接配套管路，主要包括进气管路、进水管路、出水管路。当气体从进气管路进入加压装置后，与液体充分混合，经过气液剪切高压混合等处理，生成直径50μm以下的微米气泡，最终通过释放装置产生的物理原理释放出20-180nm以下的微纳米级气泡。◆性能参数 微纳米气泡发生装置产生气泡平均粒径在100纳米（nm）—10微米（μm）之间，气泡含率84%—90%，气泡平均上升速度4 mm/s—8 mm/s。◆产品特点 （1）实现气、液两相高度混合并达到饱和。 （2）可以接入不同的气体（如：空气、纯氧、臭氧、氮气）等气源来满足不同的需要。 （3）解决传统曝气设备气泡大、上升速度快、停留时间短、容易汇聚、对水体扰动大、饱和溶氧状态时间长的问题。 （4）解决传统设备体积大、效率低、成本高的问题。 （5）解决传统设备达到易堵塞、噪音大、耗能高的问题。 （6）超微纳米气泡体积小，比表面积远大于普通气泡，明显能提高水体的溶氧量。气泡带负电荷；自我收缩爆破，有氧化性和杀菌作用。

随着全球市场对于全息印刷如防伪安全及其他光学显示应用的需求增长，为了替代现有落后繁琐的全息印刷工艺， Stensborg发明了Holoprint，世界上首创在线的全息印刷生产工艺。Stensborg公司服务于全欧洲压印客户超过20年，提供全息原版片和压印模板包括防伪安全用途以及其他数量庞大的光学应用。Stensborg公司专利的Holoprint压印技术，应用于桌面型的UNI A6 DT设备，以及客户定制化的设备，在印刷工艺中集成了纳米压印工艺，因此用户可以进行高分辨3D微纳米结构快速制备比如全息复制到预涂布好的材料上而不需要使用预加工好的箔片。我们这项独特的前沿纳米压印技术优势在于： • 全欧洲知名的R2P专利压印技术• 可快速复制超清晰均匀的微纳结构• 适用于几乎任何表面–柔性或固体、透明或不透明• 优异的光学固化引擎和易于操作的独特设计• 适用于20纳米至100微米的特征尺寸• 全系列优化的压印及模板制作材料• 超过30000次超长寿命聚合物印刷模板 R2P纳米压印系统又名桌面式微纳米结构复制机，可以说是"The most cost-effective holographic printing technology available today 现阶段最有效的全息印刷技术工艺". 印刷电子技术受限于线宽精度的要求无法实现复杂微米及亚微米结构，而使用高精度R2R/R2P纳米压印技术可获得小到亚微米甚至几十纳米结构，这样可以很好的应用于对于结构有高精度要求的应用领域，如显示如裸眼3D,全息成像，AR眼睛等，太阳能领域，光照领域，及其他如微流控和防伪标签等,在工艺上节省时间成本的基础上，更好的开拓了微纳米结构产业化的新机遇。典型应用包括：光学验证防伪的衍射结构，衍射光学元件，增强光伏器件光电转换率的微纳米结构，增强LEDs光电性能的微纳米结构，光波管，光导纤维，微流控器件，超亲水或超疏水功能层表面，促进或阻止细胞生长的表面结构，等离子体超材料结构，生物化学微阵列，光固化树脂材料性能测试验证，用于NIL蚀刻掩膜版图案制作。 应用领域：应用实例：SEM微纳结构照片：

公司研发生产的ZYWNP通用型微纳米气泡发生系统是一种采用纳微米气液界面技术、通过机械分散与压力溶气相结合的原理、能在瞬时大量制造直经在微米以下的超微气泡的设备。该设备可以广泛应用于土壤修复、河道治理、种植业、养殖业、纳米材料、油田等领域。 按照国际标准化组织(ISO)的定义，微泡(Fine Bubble)就是液体中直径小于100微米的气泡，其中直径小于1微米的又称为超微气泡(Ultrafine Bubble)。近几年，微泡的很多优异功能被发现，如比表面积大、停留时间长、界面zeta电位高等。除了其本身的性质外，由这些性质产生的效果也很独特，如自身增压溶解、产生自由基、强化传质效率等，因此微泡技术在环境保护、农业、胶片制作、医学诊断与治疗、浮选、污水处理、采油及冶金工业等诸多领域中得到很好的应用和迅速发展。 微泡发生装置是微泡技术得以应用和发展的基础，但目前微泡发生装置的研发和生产仍是该领域的薄弱环节。早期的微泡发生器主要是将大气泡用各种材料如微孔介质分割成微小气泡，随后研究出了基于其它原理的发泡器，如电解式微泡发生器利用电解水产生气泡的原理生成微泡。随着流体动力学的发展，逐渐出现了以相关流体特性为基础的微泡发生器，如旋流型微泡发生器、自吸式微泡发生器等。上述现有的微泡发生器不仅容易产生污染公害，而且发生的微泡直径多在10~60微米以上，大大降低了微泡在诸多领域中的优异功能，严重制约了微泡技术的发现。 针对现有技术的缺陷， ZYWNP通用型微纳米气泡发生系统，主要特点如下： 1、采用陈邦林教授纳微米气液界面技术，通过机械分散与压力溶气相结合的原理，瞬时大量制造直经小于1微米的超微气泡； 2、用物理方式产生气泡，全部过程无污染排放、不产生公害； 3、上述设备应用于水性体系时，纳微米气液分散水体中的纳微米气泡密度约为10的7次方～10的9次方个/mL，水体中气泡直径为50～600nm，气泡直径分布的峰值区域为150nm±30nm，纳微米气液界面zeta电位为-30～-40mV以上； 4、上述纳微米气液分散混合水体内溶存有溶解态及分散态氧，混合水体中总氧含量比混合前增加30%以上。表1 ZYWNP通用型微纳米气泡发生系统型号及规格型号电源（V）功率（KW）平均流量（m3/h）ZYWNP-2-0.372200.3751.0ZYWNP-2-0.752200.751.4ZYWNP-3-0.753800.751.4ZYWNP-3-1.53801.53ZYWNP-3-2.23802.255.7

Winner802光子相关纳米粒度仪产品简介： 光子相关纳米粒度仪Winner802是国家科技型中小企业技术创新基金项目（立项代码： 10C26213704395）成果产品，也是首批采用动态光散射原理的纳米粒度仪。该仪器采用动态光散射原理和光子相关光谱技术，因颗粒在悬浮液中做布朗运动，使得光强随时间产生脉动，利用微纳数字相关器技术处理脉冲信号，得到颗粒运动的扩散信息，利用Stokes-Einstein方程计算得出颗粒粒径大小及其分布。 光子相关纳米激光粒度仪Winner803是Winner802的升级款，配备双波长激光器，针对某些具有吸光属性和传统单一波长激光器无法检测的样品，可进行有效检测，Winner803纳米激光粒度仪专注于有色颗粒的粒度分布检测，想颜料、染料等。 产品优势: 高灵敏度和信噪比 采用动态光散射原理，利用灵敏度高和信噪比强的HAMAMATSU光电倍增管和自主研发的CR256数字相关器，在不破坏不干扰纳米颗粒体系的情况下，能够实时完成动态散射光的采集和函数运算，有效计算出颗粒粒径大小，保证测试结果的准确性。 抗干扰性强 采用光纤技术搭建的光路系统，使光子相关光谱探测系统不仅体积小，而且具有很强的抗干扰能力，保证了测试结果的稳定性。 可靠的温控系统 采用半导体温控系统，温度波动控制在±0.1 ℃，保证了样品在测试过程中始终处于恒温状态，避免因温度变化而引起的液体粘度和布朗运动速度的变化导致的测试偏差，从而保证了测试结果的可靠性。 双波长激光器，智能切换（Winner803特有性能） 采用双波长（λ=532 nm λ=405 nm）激光器，可智能切换，对某些具有吸光属性，单一波长激光器无法检测的样品，可进行有效检测。 产品技术参数: 产品型号Winner802Winner803执行标准GB/T 19627-2005/ISO13321:1996 GB/T29022-2012/ISO22412:2008测试范围1-10000nm (与样品相关)准确度误差≤1% （国家标准样品D50）重复性误差≤1% （国家标准样品D50）测试浓度0.1mg/mL——100mg/mL（与样品有关）激光器半导体激光器： λ=532nm 功率 P=1-40mW(可调)主光源：半导体激光器：λ=532nm 功率 P=1-40mW(可调) 辅助光源：蓝光激光器 λ=405nm 功率P＞2mW探测器光电倍增管（PMT）散射角90°样品池10×10×40mm （1—4mL）测试温度5—90 ℃温控精度±0.1℃测试速度＜5min产品体积600×380×230mm产品重量12Kg数字相关器产品型号CR256自相关通道256基数通道4物理通道数5000单位延迟时间100ns—10ms 应用领域： 纳米材料、纳米乳液、纳米粉末、纳米硼化物、纳米非金属、涂料、染料、颜料、药品、蛋白质、纳米碳酸钙、感光材料、添加剂、石墨、以及其他纳米颗粒等。

公司研发生产的ZYWNP系列微纳米气泡发生器，采用我公司纳微米气液界面技术、通过机械分散与压力溶气相结合的原理、能在瞬时大量制造直经在微米以下的超微气泡的设备。该设备可以广泛应用于土壤修复、河道治理、种植业、养殖业、纳米材料、油田等领域。 按照国际标准化组织(ISO)的定义，微泡(Fine Bubble)就是液体中直径小于100微米的气泡，其中直径小于1微米的又称为超微气泡(Ultrafine Bubble)。近几年，微泡的很多优异功能被发现，如比表面积大、停留时间长、界面zeta电位高等。除了其本身的性质外，由这些性质产生的效果也很独特，如自身增压溶解、产生自由基、强化传质效率等，因此微泡技术在环境保护、农业、胶片制作、医学诊断与治疗、浮选、污水处理、采油及冶金工业等诸多领域中得到很好的应用和迅速发展。 微泡发生装置是微泡技术得以应用和发展的基础，但目前微泡发生装置的研发和生产仍是该领域的薄弱环节。早期的微泡发生器主要是将大气泡用各种材料如微孔介质分割成微小气泡，随后研究出了基于其它原理的发泡器，如电解式微泡发生器利用电解水产生气泡的原理生成微泡。随着流体动力学的发展，逐渐出现了以相关流体特性为基础的微泡发生器，如旋流型微泡发生器、自吸式微泡发生器等。上述现有的微泡发生器不仅容易产生污染公害，而且发生的微泡直径多在10~60微米以上，大大降低了微泡在诸多领域中的优异功能，严重制约了微泡技术的发现。 针对现有技术的缺陷， JZYWNP系列微纳米气泡发生器，主要特点如下： 1、采用纳微米气液界面技术，通过机械分散与压力溶气相结合的原理，瞬时大量制造直经小于1微米的超微气泡； 2、用物理方式产生气泡，全部过程无污染排放、不产生公害； 3、上述设备应用于水性体系时，纳微米气液分散水体中的纳微米气泡密度约为10的7次方～10的9次方个/mL，水体中气泡直径为50～600nm，气泡直径分布的峰值区域为150nm±30nm，纳微米气液界面zeta电位为-30～-40mV以上； 4、上述纳微米气液分散混合水体内溶存有溶解态及分散态氧，混合水体中总氧含量比混合前增加30%以上。型号电源（V）功率（KW）平均流量（m3/h）ZYWNP-L-S01M2200.250.2ZYWNP-2-0.752200.751.4ZYWNP-3-0.753800.751.4ZYWNP-3-1.53801.53ZYWNP-3-2.23802.255.7

微细加工技术是实现微机电系统的基础,也是微机电系统的核心技术和研究热点。微细加工技术在微电子、微光学、微流控芯片、蛋白及细胞阵列化等领域也有广泛应用。微细加工技术泛指制作微小尺寸器件或薄膜的方法,加工尺度从亚毫米级到纳米级,而加工单位一般从微米级至原子或者分子线度。微细加工技术种类很多,涉及多种物理、化学方法,这里主要根据加工方式以及加工环境介质进行分类。应用类别设备名称设备型号工艺参数镀膜低压力化学气相沉积(LPCVD)HORIS L6471-1可沉积SIN，TEOS，poly等薄膜 1-50片/炉热氧化炉管热氧化退火快速退火炉RTPAnnealsys AS-One 150最高温度到1500℃, 升温速率最大200℃/sFIB加工聚焦离子束 FIBThermo Fisher Scios 2 HiVacTEM样品制备SEM形貌观测场发射环境扫描电镜ESEMThermo Fisher Quattro SSEM能谱分析电子束蒸发镀膜-金属电子束蒸发FU-20PEB-950蒸镀金属薄膜、可做lift-off工艺镀膜、8寸基片向下兼容电子束蒸发镀膜-介质电子束蒸发FU-12PEB蒸镀介质薄膜一炉可镀10片四寸基片磁控溅射镀膜-金属磁控溅射系统FSE-BSLS-RD-6inch溅射金属薄膜、6寸基片原子层沉积等离子体增强原子层沉积系统ICPALD-S200当前以Al2O3为主DLC镀膜类金刚石薄膜化学沉积系统CNT-DLC-CL200干法刻蚀干法刻蚀机北方华创硅Bosch和超低温刻蚀、SiO2与石英深刻蚀，8英以下IBE刻蚀离子束刻蚀系统(IBE)AE4三维结构材料刻蚀，刻蚀陡直度优于85度，刻蚀精度10nm等离子体去胶微波等离子体去胶机Alpha Plasma紫外光刻紫外光刻机SUSS MA6BA6GEN4对准精度：±0.5um，分辨率600nm电镀电镀机WPS-200MT镀Cu、镀Au、镀镍/镍合金临界干燥超临界点干燥仪Automegasamdri-915B划片切割机划片机Disco D323晶圆键合晶圆键合机SUSS MicroTec SB6Gen2阳极键合AFM测试高分辨原子力显微镜Oxford Cypher ES原子力显微镜Park Systems NX20电子束光刻电子束光刻机Elionix ELS-F125G8不含匀胶等费用，材料费根据用胶类型另计　　我们提供快速MEMS器件 / 微纳米结构加工设计服务, 欢迎留言咨询。咨询电话：4008770879

中图仪器SuperViewW高精度微纳米白光干涉三维形貌仪基于白光干涉原理，以3D非接触方式，对各种精密器件及材料表面进行亚纳米级测量。可测各类从超光滑到粗糙、低反射率到高反射率的物体表面，从纳米到微米级别工件的粗糙度、平整度、微观几何轮廓、曲率等参数。广泛应用于半导体制造及封装工艺检测、3C电子玻璃屏及其精密配件、光学加工、微纳材料及制造、汽车零部件、MEMS器件等超精密加工行业及航空航天、科研院所等领域中。产品功能(1)SuperViewW高精度微纳米白光干涉三维形貌仪设备提供表征微观形貌的粗糙度和台阶高、角度等轮廓尺寸测量功能；(2)测量中提供自动对焦、自动找条纹、自动调亮度等自动化辅助功能；(3)测量中提供自动拼接测量、定位自动多区域测量功能；(4)分析中提供校平、图像修描、去噪和滤波、区域提取等四大模块的数据处理功能；(5)分析中提供粗糙度分析、几何轮廓分析、结构分析、频率分析、功能分析等五大分析功能；(6)分析中同时提供一键分析和多文件分析等辅助分析功能。应用领域对各种产品、部件和材料表面的平面度、粗糙度、波纹度、面形轮廓、表面缺陷、磨损情况、腐蚀情况、孔隙间隙、台阶高度、弯曲变形情况、加工情况等表面形貌特征进行测量和分析。应用范例：SuperViewW高精度微纳米白光干涉三维形貌仪具有测量精度高、操作便捷、功能齐全、测量参数涵盖面广的优点，测量单个精细器件的过程用时短，确保了高款率检测。白光干涉仪特殊光源模式，可以广泛适用于从光滑到粗糙等各种精细器件表面的测量。针对完成样品超光滑凹面弧形扫描所需同时满足的高精度、大扫描范围的需求，中图仪器SuperView W1的复合型EPSI重建算法，解决了传统相移法PSI扫描范围小、垂直法VSI精度低的双重缺点。在自动拼接模块下，只需要确定起点和终点，即可自动扫描，重建其超光滑的表面区域，不见一丝重叠缝隙。性能特色1、高精度、高重复性1）采用光学干涉技术、精密Z向扫描模块和3D重建算法组成测量系统，保证测量精度高；2）隔振系统，能够有效隔离频率2Hz以上绝大部分振动，消除地面振动噪声和空气中声波振动噪声，保障仪器在大部分的生产车间环境中能稳定使用，获得高测量重复性；2、环境噪声检测功能具备的环境噪声检测模块能够定量评估出外界环境对仪器扫描轴的震动干扰，在设备调试、日常监测、故障排查中能够提供定量的环境噪声数据作为支撑。3、精密操纵手柄集成X、Y、Z三个方向位移调整功能的操纵手柄，可快速完成载物台平移、Z向聚焦、找条纹等测量前工作。4、双重防撞保护措施在初级的软件ZSTOP设置Z向位移下限位进行防撞保护外，另在Z轴上设计有机械电子传感器，当镜头触碰到样品表面时，仪器自动进入紧急停止状态，最大限度的保护仪器，降低人为操作风险。5、双通道气浮隔振系统既可以接入客户现场的稳定气源也可以接入标配静音空压机，在无外接气源的条件下也可稳定工作。部分技术指标型号W1光源白光LED影像系统1024×1024干涉物镜标配:10×选配:2.5×、5×、20×、50×、100×光学ZOOM标配:0.5×选配:0.375×、0.75×、1×标准视场0.98×0.98㎜（10×物镜，光学ZOOM 0.5×）XY位移平台尺寸320×200㎜移动范围140×100㎜负载10kg控制方式电动Z轴聚焦行程100㎜控制方式电动台阶测量可测样品反射率0.05%~100主机尺寸700×606×920㎜恳请注意：因市场发展和产品开发的需要，本产品资料中有关内容可能会根据实际情况随时更新或修改，恕不另行通知，不便之处敬请谅解。

美国K-T公司于2018年4月收购原安捷伦纳米测量部，其是全球微纳米力学（压痕/划痕/成像）测试设备的开创者，全球首台纳米力学测试系统于上世纪80年代初诞生于此，多种测量方法和物理模型都来自该公司。经过30多年不断努力和改进，目前该公司微纳米力学测试不仅实现了静态测试，同时实现了高水平的动态纳米压痕测试和原位纳米压痕测试，当前中国纳米压痕测试国家标准已包含了该公司的连续刚度（CSM）测试专利技术，在该领域具有很高的权威性。K-T公司纳米测量部在连续刚度测试（CSM）、高分辨率、扫描成像、快速测试方面拥有独有技术。K-T是该领域知名的跨国公司，中国设有地区总部，拥有高水平的专业技术支持和售后服务人员，国内用户得到很好的售后服务和支持。标准载荷500mN 标准位移精度优于0.02nm.

Workshop of Photonics公司从2003年开始就专注于飞秒激光微纳加工工艺研发, 凭借着创新技术及先进可靠工艺. 主流型号为FemtoLAB实验级飞秒激光微纳米加工系统, FemtoFAB产业级飞秒激光微纳米加工系统, MPP-Cube秒双光子/多光子三维聚合微纳米加工系统.飞秒激光器由于激光脉冲很短, 拥有很好的激光功率密度, 其加工效果超过纳秒和皮秒激光. 光束所到之处能够瞬间将材料消融气化, 由于激光脉冲短, 激光能量无法在如此短的时间内扩散到周围材料中, 所以对加工区域周围影响微乎其微, 是一种冷态加工技术.WOP系统采用高品质的飞秒激光器, 同步高精密光束扫描振镜和脉冲选择器, 在空间,时间和能量上提供全方位高精度控制, 从而提供高难度的加工能力, 亚微米精度的分辨率和重复性, 以及很高的微加工速度 .

美国K-T公司是全球微纳米力学测试设备技术的开创者，全球第一台纳米力学测试系统于上世纪80年代初在公司前身诞生，多种测量方法和物理模型来自该公司。经过近40年不断努力和改进，该公司微纳米力学测试不仅实现了静态到动态的测试，同时实现了与光学、电学等设备连用的原位材料力学、微结构学甚至成份学的多手段原位测试功能。当前国标已经引入该公司专利的CSM连续刚度技术，在该领域具有很高的权威性。K-T在连续刚度（CSM）、高分辨、扫描成像、快速测试方面拥有独特技术。K-T是该领域著名跨国公司，中国设有地区总部，拥有最专业的技术支持和售后服务人员。更多信息，请联系我们以探讨您的需求。

高分辨率微纳米工业CT EasyTom / 产品概述测试特性：尺寸测量、材料表征、缺陷分析、内部结构无损检测适用领域：工业零部件可以对工件进行高分辨率内部可视化和测量分析，可搭载拉伸、压缩、弯曲和温度测试的原位装置，铅窗口支持设置和扫描期间直接查看样品，扫描体积为直径320mm、高530mm，分辨率高达0.4μm，微米管＆纳米管的双射线源结构，适合中等尺寸零件。高分辨率微纳米工业CT EasyTom / 产品特点实时高分辨率2D数字射线成像提供微米或纳米版以及组合版体素分辨率低至350m/体素检测体积大(直径x高度:320mmx420mm)7可编程自动控制循环可进行原位微CT铝/钢结构和X射线联锁装置，设计符合X射线规定开放式综合系统，具有可编程自动控制循环技术规格机械微米纳米轴数77zui大SDD3910 mm780 mm扫描体积Ø 320×530mmØ 320×300mmzui大样品重量30kg20kg设备重量3300kg2500kg外部尺寸2200×1114×2000mm(W×D×H)2200×1114×2000mm(W×D×H)平板探测器（选配）像素矩阵1920x1536；像素间距127 µ m；尺寸25×20 cm像素矩阵2048x2560；像素间距124 µ m；尺寸32×25 cm像素矩阵3072x3072；像素间距139 µ m；尺寸43×43 cm相机探测器（选配像素矩阵4008x2672；像素间距9 µ m；尺寸36×24 mmX射线管（选配）封闭管：zui大电压130微米；zui大功率39W；zui大分辨率5µ m封闭管：zui大电压150微米；zui大功率75W；zui大分辨率5µ m开放管：zui大电压230微米；zui大功率200W；zui大分辨率2µ m/4µ m开放管：zui大电压300微米；zui大功率200W；zui大分辨率4µ m开放管：zui大电压160微米；zui大功率16W；zui大分辨率0.4µ m

微纳winner803双激光纳米激光粒度仪光子相关纳米激光粒度仪Winner803是Winner802的升级款，配备双波长激光器，针对某些具有吸光属性和传统单一波长激光器无法检测的样品，可进行有效检测，Winner803纳米激光粒度仪专注于有色颗粒的粒度分布检测，想颜料、染料等。 产品优势: 高灵敏度和信噪比 采用动态光散射原理，利用灵敏度高和信噪比强的HAMAMATSU光电倍增管和自主研发的CR256数字相关器，在不破坏不干扰纳米颗粒体系的情况下，能够实时完成动态散射光的采集和函数运算，有效计算出颗粒粒径大小，保证测试结果的准确性。 抗干扰性强 采用光纤技术搭建的光路系统，使光子相关光谱探测系统不仅体积小，而且具有很强的抗干扰能力，保证了测试结果的稳定性。 可靠的温控系统 采用半导体温控系统，温度波动控制在±0.1 ℃，保证了样品在测试过程中始终处于恒温状态，避免因温度变化而引起的液体粘度和布朗运动速度的变化导致的测试偏差，从而保证了测试结果的可靠性。 双波长激光器，智能切换（Winner803特有性能） 采用双波长（λ=532 nm λ=405 nm）激光器，可智能切换，对某些具有吸光属性，单一波长激光器无法检测的样品，可进行有效检测。 产品技术参数: 产品型号Winner802Winner803执行标准GB/T 19627-2005/ISO13321:1996 GB/T29022-2012/ISO22412:2008测试范围1-10000nm (与样品相关)准确度误差≤1% （国家标准样品D50）重复性误差≤1% （国家标准样品D50）测试浓度0.1mg/mL——100mg/mL（与样品有关）激光器半导体激光器： λ=532nm 功率 P=1-40mW(可调)主光源：半导体激光器：λ=532nm 功率 P=1-40mW(可调) 辅助光源：蓝光激光器 λ=405nm 功率P＞2mW探测器光电倍增管（PMT）散射角90°样品池10×10×40mm （1—4mL）测试温度5—90 ℃温控精度±0.1℃测试速度＜5min产品体积600×380×230mm产品重量12Kg数字相关器产品型号CR256自相关通道256基数通道4物理通道数5000单位延迟时间100ns—10ms 应用领域： 纳米材料、纳米乳液、纳米粉末、纳米硼化物、纳米非金属、涂料、染料、颜料、药品、蛋白质、纳米碳酸钙、感光材料、添加剂、石墨、以及其他纳米颗粒等。

高分辨率微纳米工业CT EasyTom XL / 产品概述测试特性：尺寸测量、材料表征、缺陷分析、内部结构无损检测适用领域：工业零部件可以对工件进行高分辨率内部可视化和测量分析，160KV＆微米焦点230KV双射线源的步入式机柜设计，可搭载拉伸、压缩、弯曲和温度测试的原位装置，扫描体积为直径600mm、高度720mm，分辨率低至0.4μm，适合大尺寸零件。高分辨率微纳米工业CT EasyTom XL / 产品特点实时高分辨率2D数字射线成像提供微米版或纳米版以及组合版体素分辨率低至350mm/体素功能多样，适用于各种各样的应用和产品分析检测体积大(直径x高度:320mmx720mm)可进行原位微CT可编程自动控制循环铅/钢结构和X射线联锁装置，设计符合X射线规定开放式综合系统，具有可编程自动控制循环技术规格轴数4zui大SDD610 mm扫描体积Ø 180×400mmzui大样品重量5kg设备重量1020kg射线源数量1个外部尺寸1430×900×1870mm(W×D×H)辐射安全高级的 X 射线屏蔽柜集成保护（设备表面任何地方的辐射量0.5µ Sv/ 小时）软件所有设备都由 RX Solutions 自有的 X-Act 软件控制机械系统高级光学蜂窝面包板结构，确保了 CT 扫描的稳定性花岗岩底座，确保温度稳定性和良好的阻尼性能平板探测器（选配）像素矩阵1920x1536；像素间距127 µ m；尺寸25×20 cm像素矩阵2048x2560；像素间距124 µ m；尺寸32×25 cm相机探测器（选配）像素矩阵4008x2672；像素间距9 µ m；尺寸36×24 mmX射线管（选配）封闭管：zui大电压110微米；zui大功率16W；zui大分辨率2µ m封闭管：zui大电压130微米；zui大功率39W；zui大分辨率5µ m封闭管：zui大电压150微米；zui大功率75W；zui大分辨率5µ m