单晶二维材料

OMRS系列二维高稳定光学调整架OMRS 系列是卓立汉光结合长期制造和应用的经验，使用优质材料、采用优化结构、经过精密加工装配而成，具有高稳定性、高灵敏度的系列产品，该系列产品的主要特点：● 均采用高灵敏度细牙螺纹副，可进行二维调整● 产品系列化完善，涵盖从12.7～50.8的多个尺寸● 每个尺寸的调整架，包含多种镜片装卡方式，包括：封闭式顶丝式（标准型）、开口式顶丝式（-B型）、封闭式压圈式（-C型）● 每种调整架，均具有不带锁紧（标准型）和带锁紧（-S型）两种方式选型表（封闭顶丝式）：选型表（开口顶丝式）：选型表（压圈式）：注：压圈式25/25.4及50/50.8不能通用。关联产品：金属膜反射镜介质膜反射镜 连接附件连接附件应用实例：锁紧机构螺纹副锁紧机构

岛津全二维GCMS (GC×GC-qMS)系统适用于多种应用，包括复杂基质的分离分析，例如传统GC或GC-MS难以分析的天然产物。 应用实例：食品、香精香料、环境、石油化学等。GC×GC是什么？GC×GC色谱技术将两根色谱柱以特定方式连接于调制解调器，通过设置一定的调制时间（调制周期）将一维流出物捕集、聚焦后释放至二维色谱柱。通过专用软件将色谱峰转化成为全二维谱图。特点重叠峰的分离以往的一维色谱无法充分分离具有相似沸点的峰，而今可以在极性差异的基础上实现分离。这意味着在具有复杂基质的样品中进行组分分离不再是一件难事。Image图像显示化合物结构通过GC×GC的Image 图像，可以判断化合物分布，该功能对于含有较多组分的混合物的分组分析尤为有效。柴油分析Image图像可以显示出不同苯环数量及碳数的分布。数据分析软件，GC ImageGC Image*是一款专用于GC×GC定性定量分析的软件，用于GC×GC的数据分析。GC Image能够直接加载通过GCsolution或GCMSsolution获取的原始数据，并将其转化为GCxGC图像以进行定性定量分析。分组分析和报告生成亦可轻松实现。* GC×GC热调制器及GC Image都是美国Zoex公司的产品。

产品名称：二维材料--黑磷结构：单晶尺寸：8mm×8mm×0.2mm纯度：＞99.99%

产品名称：二维材料（MoS2、MoSe2、MoTe2、WS2、WSe2、WTe2) 供应信息：一片2~2.5mm×2~2.5mm左右大小，厚度约为0.1mm.需要大的请致电说明。另外可以按照重量购买，每mg的价格一般为每片单价的2倍。一片块材一般可以用于剥离样品1~3次。 材料种类：黑磷（BP）人工合成块料二硫化钼（MoS2） 天然5x5mm块料； 天然10x10mm块料； 天然15x15mm块料 天然20x20mm块料二碲化钼（MoTe2）人工合成块料二硒化钼（MoSe2）人工合成块料二硫化钨（WS2）人工合成块料二硒化钨（WSe2）人工合成块料二碲化钨（WTe2）人工合成块料 常规尺寸：一片2~2.5mm×2~2.5mm左右大小 标准包装：1000级超净室100级超净袋真空包装 相关产品： Hydrogen Gas Tube Furnace Two Zone Hydrogen Tube Furnace Slidable Multi Zone PECVD Tube Furnace 1" RF Plasma Sputtering Coater DC/RF Dual-Head 2” Sputtering WSe2 靶材 Si上镀SiO2 Cu单晶 A-Z系列晶体

台式超二维材料等离子软刻蚀系统—nanoETCH用于超刻蚀二维材料与样品表面处理的等离子体刻蚀系统，诺奖团队都在用！石墨烯等二维材料的微纳加工与刻蚀需要很高的精度，而目前成熟的传统半导体刻蚀系统在面对单层材料的高精度刻蚀需求时显得力不从心。为了解决目前维纳加工中常用的蚀系统功率较大、难以精细控制的问题，Moorfield Nanotechnology 推出了台式超二维材料等离子软刻蚀系统 - nanoETCH。该系统对输出功率的分辨率可到达毫瓦量，对二维材料可实现超的逐层刻蚀，也可实现对二维材料进行层内缺陷制造，此外还可对石墨基材等进行表面处理。

石墨烯/二维材料电学性质非接触快速测量系统西班牙Das Nano公司成立于2012年，是一家提供高安全别打印设备，太赫兹无损检测设备以及个人身份安全验证设备的高科技公司。ONYX是其在全球范围内推出的一款针对石墨烯、半导体薄膜和其他二维材料大面积太赫兹无损表征的测量设备。ONYX采用先进的脉冲太赫兹时域光谱技术，实现了从科研及到工业的大面积石墨烯及二维材料的无损和高分辨，快速的电学性质测量，为石墨烯和二维材料科研和产业化研究提供了强大的支持。与传统四探针测量法相比，ONYX无损测量样品质量空间分布与拉曼，AFM，SEM相比，ONYX能够快速表征超大面积样品背景介绍太赫兹辐射( T射线)通常指的是频率在0. 1～10THz、波长在30μm-3mm之间的电磁波，其波段在微波和红外之间，属于远红外和亚毫米波范畴。该频段是宏观经典理论向微观量子理论的过度区，也是电子学向光子学的过渡区。在20世纪80年代中期以前，由于缺乏有效的产生方法和探测手段，科学家对于该波段电磁辐射性质的了解和研究非常有限，在相当长的一段时期,很少有人问津。电磁波谱中的这一波段(如下图) ，以至于形成远红外和亚毫米波空白区,也就是太赫兹空白区（THz gap）。太赫兹波段显著的特点是能够穿透大多数介电材料（如塑料、陶瓷、药品、缘体、纺织品或木材），这为无损检测（NDT）开辟了一个可能的新。同时，许多材料在太赫兹频率上呈现出可识别的频率指纹特性，使得太赫兹波段能够实现对许多材料的定性和定量研究。太赫兹波的这两个特性结合在一起，使其成为一种全新的材料研究手段。而且其光子能量低，不会引起电离，可以做到真正的无损检测。 ONYX工作原理 ONYX是一套实现石墨烯、半导体薄膜和其他二维材料全面积无损表征的测量系统，能够满足测试面积从科研（mm2）到晶元（cm2）以及工业（m2）的不同要求。与其他大面积样品的测量方法（如四探针法）相比，ONYX能够直观得到样品导电性能的空间分布。与拉曼、扫描电镜和透射电镜等微观方法相比，微米的空间分辨率能够实现对大面积样品的快速表征。ONYX采用先进的脉冲太赫兹时域光谱THz-TDS技术，产生皮秒量的短脉太赫兹冲辐射。穿透性强的太赫兹辐射穿透进样品达到各个界面，均会产生一个小反射波可以被探测器捕获，获得太赫兹脉冲的电场强度的时域波形。对太赫兹时域波形进行傅里叶变换,就可以得到太赫兹脉冲的频谱。分别测量通过试样前后(或直接从试样激发的)太赫兹脉冲波形,并对其频谱进行分析和处理,就可获得被测样品介电常数，吸收吸收以及载流子浓度等物理信息。再利用步进电机完成其扫描成像，得到其二维的电学测量结果。ONYX主要参数及特点样品大小: 10x10mm-200x200mm 全面的电导率和电阻率分析样品100%全覆盖测量高分辨率：50μm完全非接触无损无需样品制备载流子迁移率, 散射时间, 浓度分析 可定制样品测量面积(m2量)超快测量速度： 12cm2/min软件功能丰富，界面友好全自动操作图1 太赫兹光谱范围及信噪比ONYX主要功能→ 直流电导率（σDC）→ 载流子迁移率, μdrift→ 直流电阻率, RDC→ 载流子浓度, Ns→ 载流子散射时间，τsc→ 表面均匀性ONYX应用方向石墨烯材料：→ 单层/多层石墨烯 → 石墨烯溶液→ 掺杂石墨烯→ 石墨烯粉末→ 氧化石墨烯→ SiC外延石墨烯其他二维材料： → PEDOT→ Carbon Nanotubes→ ITO→ NbC→ IZO→ ALD-ZnO石墨烯光伏薄膜材料半导体薄膜电子器件PEDOT钨纳米线GaN颗粒Ag 纳米线ONYX测试数据1. 10x10mm CVD制备的石墨烯在不同分辨率下的电导率结果 2.10 x10mm CVD制备的石墨烯不同电学参数测量结果 3.利用ONYX测量ALD沉积在硅基底上的TiN电导率测量结果 应用案例■ 全球《石墨烯电学测量方法标准化指导手册》近期，欧洲计量创新与研究计划（EMPIR）的项目 “GRACE-石墨烯电学特性测量的新方法”发布了全球关于石墨烯电学特性测量方法的标准化指导手册。“GRACE-石墨烯电学特性测量新方法”项目是由英国实验室(NPL)主导，与意大利计量研究所、西班牙Das-nano 公司等合作，旨在开发石墨烯电学特性的新型测量方法，以及未来石墨烯电学测量的标准化制定。 图一 石墨烯电学测量方法标准化指导手册(发送邮件至info@qd-china.com获取完整版资料) 石墨烯由于其特优异的电学特性，在未来有望成为大规模应用于电子工业及能源领域的新材料。但是，目前受限于：1）如何制备大面积高质量石墨烯，且具有均匀和可重复的电气和电子性能；2）无论是作为科研用的实验样品还是在生产线中的批量化生产，对其电学性质的准确且可重复的表征方法目前尚不完善，缺乏正确实施此类测量方法的指导手册及测量标准。针对目前面临的问题和挑战，EMPIR 的“石墨烯电学特性测量新方法”项目对现有测量方法进行了总结和规范指导，更重要的是开发了石墨烯电学特性的快速高通量，非接触测量的新方法，并用现有技术对其进行了验证，取得了很好的一致性。 西班牙Das-Nano公司参与了“GRACE-石墨烯电学特性测量新方法”项目中基于THz-TDS的全新非接触测量方法的开发及测量标准的制定。基于该技术，Das-Nano推出了一款可以实现大面积（8英寸wafer）石墨烯和其他二维材料的100%全区域无损非接触快速电学测量系统-ONYX。ONYX采用一体化的反射式太赫兹时域光谱技术（THz-TDS）弥补了传统接触测量方法（如四探针法- Four-probe Method，范德堡法-Van Der Pauw和电阻层析成像法-Electrical Resistance Tomography）及显微方法（原子力显微镜-AFM, 共聚焦拉曼-Raman，扫描电子显微镜-SEM以及透射电子显微镜-TEM）之间的不足和空白。ONYX可以快速测量从0.5 mm2到~m2的石墨烯及其他二维材料的电学特性，为科研和工业化提供了一种颠覆性的检测手段[1,2]。更多详细信息请点击：欧洲计量创新与研究计划（EMPIR）发布全球《石墨烯电学测量方法标准化指导手册》参考文献：[1] Cultrera, A., Serazio, D., Zurutuza, A. et al. Mapping the conductivity of graphene with Electrical Resistance Tomography. Sci Rep 9, 10655 (2019).[2] Melios, C., Huang, N., Callegaro, L. et al. Towards standardisation of contact and contactless electrical measurements of CVD graphene at the macro-, micro- and nano-scale. Sci Rep 10, 3223 (2020). ONYX发表文章1. P Bogild et al. Mapping the electrical properties of large-area graphene. 2D Mater. 4 (2017) 042003.2. S Fernández et al. Advanced Graphene-Based Transparent Conductive Electrodes for Photovoltaic Applications. Micromachines 2019, 10, 402.3. David M. A. Mackenzie et al. Quality assessment of terahertz time-domain spectroscopy transmission and reflection modes for graphene conductivity mapping. OPTICS EXPRESS 9220, Vol. 26, No. 7, 2 Apr 2018. 4. A Cultrera et al. Mapping the conductivity of graphene with Electrical Resistance Tomography. Scientific Reports , (2019) 9:10655.ONYX用户单位重要客户合作伙伴参与项目

HET-1型多功能二维材料转移平台产品介绍HET-1型二维转移平台适用于石墨烯、各类过渡金属化合物、黑磷等多种单层及其多层二维材料的精确定位转移及范德瓦尔斯异质结的准确制备，实现了低维材料转移的精确可视化操作。本套转移平台由转移台模块、样品台模块、显微观测模块结构、温控模块等组成。该平台是研究低维材料性质、范德瓦尔斯异质结构中低温物理特性、低维材料中表面界面物理性质的有力工具。 产品特点转移台模块:包含XYZ三维移动台+旋转台+俯仰台；XY向：行程±6.5 mm，精度10 μm；Z向：行程±5 mm，精度0.5 μm；旋转台：粗调360°，细调5°，精度1°；俯仰台：范围±20°，最小读数5′样品台模块:XYZ三维移动台+旋转台+带真空吸附的加热台；转移台：精度低至10 μm；旋转台：可360°旋转，精度1°；加热台：室温 ~ 250 ℃显微观测模块:金相显微镜：配置10X、20X、50X超长焦物镜；配置CMOS成像系统及相应软件，综合放大倍数为576~2880倍；预留铰链式双目观察筒，支持配置10X目镜；配置滤波片，支持调光；配备粗微调焦装置，微调精度2 μm温控模块:高精度PID程序控温，温度可达250 ℃，精度0.1 ℃，升温速率2 ℃/s （at 150 ℃）技术说明典型应用：基于低维材料及其异质结的晶体管、光电探测器、光伏器件等微纳电子与光电子器件台体设计：采用进口精密机械台体，结构紧凑，支持放置于手套箱中防震设计：底座配备蜂窝内核三层夹心防震光学平台及隔振阻尼垫结构设计：转移台及样品台支持面内旋转，方便样品进行对准转移真空吸附：低噪泵体流量 30 L/min，保证样品吸附选配功能：样品台可集成Z轴电动控制模块，支持集成无线控制，手套箱外用按键调控样品台升降应用案例：

产品介绍LMT-B系列二维材料转移平台是我司根据客户应用，自主研发的低维材料异质结器件转移产品，适用于石墨烯、硫化钼、黑磷等单层材料精确定点转移，以及多层范德华异质结的制备，实现了低维材料转移的可视化操作。转移系统由显微系统、三轴转移台、四轴样品台等组成，目标衬底载物台可面内大角度旋转，是研究异质结特性、空间反演对称性破缺、以及二维材料不同堆叠方式影响的有力工具。技术优势. 集成化设计，易操作. 高质量成像，实现微米级尺度转移. 高位移精度，无回程差设计. 精确控温模块，适用多种材料应用领域. 魔角超导. 范德华异质结制备. 异质结空间反演对称性破缺. 二维材料堆叠主要配置应用案例

产品简介当前通用的磁光克尔测试方法主要分为两种，一种是以激光和光电探测为主的MOKE高精度磁滞回线扫描,另一种是将光学成像技术与磁光克尔效应结合,形成高分辨率磁光克尔显微镜。前者具有高精度优势,但不具备空间成像能力和微区定点探测能力 后者则具有高分辨率成像和微区探测能力，但由于采用相机作为信号采集单元，探测精度不如前者。低温强磁场激光克尔显微成像系统-二维铁磁材料表征利器是针对二维铁磁材料磁性弱样品尺寸小、部分样品不导电、矫顽场高、居里温度低等特性开发的一款功能强大的表征系统,低温强磁场激光克尔显微成像系统-二维铁磁材料表征利器磁性探测精度高、能够微区定点测量和光斑位置定位、具备较高磁场和宽温区变温，可以满足大部分维铁磁材料的磁特性表征需求。主要技术指标激光光斑:5 umMOKE测试:可测试面内和垂直磁各向异性样品，克尔转角分辨率优于1mdeg磁场范围：最大1.4T变温范围:5 K-800 K

产品名称：单晶靶材 产品简介：我公司是各种靶材的专业生产商。可为光学镀膜、半导体、磁数据存储，玻璃，机械加工等镀膜企业和科研院所提供高品质（高纯度、高致密度、单相性好）的靶材。不仅满足了国内科研院所及相关企业的需求，而且远销至美国、德国、日本、韩国、新加坡等国家和地区，并得到客户的称赞和信赖。欢迎来函来电定购。本公司生产的单晶靶材由单晶棒制作，质量可靠，为广大用户理想选择。 具体信息：材料纯度相对密度最大直径Al2O34N100%4"CaF24N100%2"GaAs5N100%2"GaP5N100%2"LaAlO34N100%3"LiNbO34N100%3"LiTaO34N100%3"MgO4N100%2"SrTiO34N100%1"SiO24N100%4"Si5N100%6"Ge5N100%4"YSZ4N100%2"

石墨烯等二维材料的微纳加工与刻蚀需要很高的精度，而目前成熟的传统半导体刻蚀系统在面对单层材料的高精度刻蚀需求时显得力不从心。为了解决目前微纳加工中常用的等离子刻蚀系统功率较大、难以精细控制的问题，Moorfield Nanotechnology与曼彻斯特大学诺奖得主Andre Geim课题组联合研发了台式超二维材料等离子软刻蚀系统- nanoETCH。与传统的刻蚀方案相比，nanoETCH在石墨烯和2D材料的关键加工中表现出了很高的性能。该系统对输出功率的分辨率可到达毫瓦量，对二维材料可实现超的逐层刻蚀，也可实现对二维材料进行层内缺陷制造，还可对石墨基材等进行表面处理。该系统性能已经在剑桥大学石墨烯中心、曼彻斯特大学、英国石墨烯中心、西班牙光子科学研究所等诸多用户实验室得到验证。该系统可刻蚀3英寸或更大尺寸的样品，样品放置在专门设计的样品台上，低功率毫瓦精细控制的射频单元提供高精度的刻蚀功率，分子泵高真空系统可确保样品免受污染。应用方向举例：石墨基材的处理：表面处理，更有利于剥离出大面积的石墨烯微纳刻蚀：去除石墨烯，对其他区域无损伤缺陷加工：在石墨烯层中制造点缺陷主要特点：◎ 软刻蚀功率：30W 高精度射频源◎ MFC-流量计控制◎ 3英寸、6英寸样品台◎ 全自动触屏操作系统◎ 设定、保存多个刻蚀程序◎ 可连接电脑记录数据◎ 本底真空5×10-7 mbar◎ 易于维护◎ 完备的安全性设计◎ 兼容超净室◎ 稳定的性能表现系统选件：◎ 机械泵类型可选◎ 腔体快速充气◎ 超高精度射频源控制◎ 高精度气压控制◎ 增加过程气体发表文章Detection of individual gas molecules adsorbed on grapheneSchedin, F., et al. Nature Materials 2007 DOI: 10.1038/nmat1967作者报到了由石墨烯制成的微米大小的传感器能够检测到单个气体分子附着在传感器表面的情况。Moorfield nanoETCH软刻蚀技术用于清洗放置石墨烯的衬底，并用于将石墨烯蚀刻到所需的(霍尔棒)器件结构。相关设备：Moorfield nanoETCH Chaotic dirac billiard in graphene quantum dotsPonomarenko, L. A., et al. Science 2008 DOI: 10.1126/science.1154663作者利用石墨烯雕刻出各种大小的量子点。大型量子点(100nm)表现为传统的单电子晶体管。另一方面，对于较小的量子点，量子限制效应显示出了作用。Moorfield“软蚀刻”技术用于制备石墨烯的石墨基材的处理，以及将石墨烯蚀刻成量子点结构。相关设备: Soft-Etching systems Vertical field-effect transistor based on graphene–WS2 heterostructures for flexible and transparent electronicsGeorgiou, T., et al. Nature Nanotechnology 2012 DOI: 10.1038/nnano.2012.224垂直场效应晶体管是由二维材料石墨烯和二硫化钨重叠而成。这种器件中特的传输机制允许前所未有的电流调制和高电流密度。Moorfield软蚀刻技术用于处理衬底表面，对器件的制备进行刻蚀。相关设备: Soft-Etching systems Graphene-based mid-infrared room-temperature pyroelectric bolometers with ultrahigh temperature coefficient of resistanceSassi, U., et al. Nature Communications 2017 DOI: 10.1038/ncomms14311作者报告了石墨烯作为非冷却式中红外光电探测器的一部分的使用，其中LiNbO3晶体的热释电响应以高增益(高达200)转换为石墨烯的电阻率调制。nanoETCH系统是这项工作的关键部分，它既可用于将石墨烯蚀刻成所需的图案，也可用于修改单片石墨烯以提供超低接触电阻。相关设备: nanoETCH用户单位：剑桥大学曼彻斯特大学西班牙光子科学研究所

二维材料堆叠技术是包括二维材料的制备、转移、堆叠、转角等一系列操作在内的纳米加工技术。二维材料在单一尺度上可达原子级别的特性使得研究人员可以像乐高积木一样按照意愿将不同性能的二维材料进行自由组装，从而获得具有优异特性新型人工结构。 主要用于二维材料的于转移堆叠制备出优异特性新型人工结构。如二维材料叠加纳米线，二维材料叠加光学微腔，二维材料半导体器件等。LDTS-A01型二维材料转移叠加平台由样品台、 转移模块、成像模块、 转角模块、 水平调节模块五部分构成， 具有极高的稳定性与转移精度（水平精度＜1um， 垂直精度＜0.05um， 旋转角度

二维材料制备设备(TCVD) - 配备热壁石英管和LabVIEW自动控制软件，可用于MoS2 / h-BN / CNT/Graphene等常见二维材料的生长。技术规格如下：1. 石英管及工艺炉 QUARTZ TUBE & FURNACE - Tube Dimensions: ф100*1200mm - Furnace Body (WxHxD): 500x500x350 - Heater: Kanthal Wire w/ Glass Wool Molding - Maximum Temperature: 1,100°C - Thermocouple: K type, ID 6.5 mm - Heating Zone: 1-zone, ф100*350mm - Linear Motion Control Unit - Manual Furnace Door2. 气路 GAS SUPPLY UNIT - Three (3) Mass Flow Controllers w/ 1% FS Accuracy a) Hydrogen (H2), 100sccm b) Methane (CH4), 200sccm c) Argon (Ar): 1,000sccm - Open Mounting Bay for Fourth (4th) MFC - 0.25” Stainless Steel Tubing - Five (5) 0.25” Pneumatic-Type Diaphragm Valves3. 真空及压力控制 VACUUM & PRESSURE CONTROL UNIT - Convection Gauge - Convection Gauge Controller - 10 Torr Capacitance Manometer - Motor-Geared Throttle Valve - Pressure & Flow Controller - Oil Rotary Pump (340L/M)4. 系统控制单元 SYSTEM CONTROL UNIT - MS Windows 7 Embedded PC - PLC Module with National Inst. LabVIEW Interface - 19” LCD Monitor5. 安全及冷却 SAFETY & COOLING - Water Cooled End Flanges - Buzzer Alarm & System Error Display - Interlock System6. 设备尺寸及实验室要求 DIMENSIONS & UTILITY REQUIREMENTS - Footprint: 1.75m (W) x 1.60m (H) x 0.75m (D) - Weight: ~200kg - Power: 220V, 50/60Hz, 3Φ, 4-wire, 30A - Air: 4-5kgf/cm2, 0.25” tube - Water: 2-3kgf/cm2, 0.25” tube参考用户：剑桥大学，牛津大学，曼彻斯特大学，莱斯大学，斯坦福大学，新加坡国立大学，东京技术研究所，东京大学，韩国东国大学等...

劳厄单晶取向测试系统：背散射劳厄测试系统，实时确定晶体方向，精度高达0.1度；PSEL 软件定向误差低至 0.05度；多晶硅片二维定向mapping；大批量样品筛选；超20kg重负荷样品定位 水平放置系统 特征优点200um 光束尺寸可测量小 晶体电动位移台可沿生长轴轴向扫描电动角位移与同步加速器/中子设备直接兼容手动角位移与切割刀具直接兼容 垂直放置系统 特征优点200um 光斑适用于小晶粒的多晶结构大范围电动线性扫描位移台允许自动晶圆mapping或多个样品电动Z 轴驱动适用大尺寸晶棒或样品手动角位移允许定位到+/- 0.02度精度 配备PSEL CCD 背反射劳厄X-RAY 探测器：有效输入探测面约： 155*105 mm最小输入有效像素尺寸83um，1867*1265 像素阵列可选曝光时间从1ms 到35分钟芯片上像素叠加允许以牺牲分辨率为代价增强灵敏度自动背景扣除模式16位高精度采集模式12位快速预览模式PSEL 劳厄影像采集处理专业软件 劳厄影像校准软件：自动检测衍射斑点，并根据参考晶体计算斑点位置；根据测角仪和晶体轴自动计算定向误差(不需要手动拟合扭曲的图形)以CSV格式保存角度测量值，以进一步保证质量的可追溯性；顶部到底部的终端用户菜单，允许资深结晶学用户自行逐步确认定位程序；基于Python的软件，允许使用套接字命令对现有软件/系统进行远程访问控制； 系统附件包括：劳厄X-RAY 探测器劳厄校准软件高亮度X-RAY 发生器电动/手动 角位移台& 高精度位移台；样本定位/视频监控 摄像头；激光距离传感器/操纵杆典型劳厄衍射应用图样： 劳厄单晶取向测试系统应用方向：探测器材料： HgCdTe/CdTe, InGaAs, InSb 窗口玻璃材料&压电/铁电陶瓷： Al2O3, Quantz，LiNbO3金属合金： 钨，钼，镍基合金；激光晶体材料： YAG, KTP, GaAs薄膜/半导体基地材料： AIN, InP SiC 磁性&超导材料: BCO/BSCCO/HBCCO, FeSe， NbSn/NbTi闪烁体材料： BGO/LYSO, CdWO4, BaF2/CaF2

产品说明新芝生物SCIENTZ-CHF超声波二维材料剥离器经新芝生物技术研发团队凭借专业的超声技术以及成熟仪器开发经验，经过多年研制、反复测试而成。超声波二维材料剥离器特有的超声搅拌功能可对相关材料进行更完美的剥离处理，不破坏晶型及晶格。仪器具有功能全、外观新、性能可靠等特点。仪器采用大屏幕液晶显示，中央微机集中控制，有人机对话界面，超声时间、功率、槽内温度可任意设定并且具备数据保存等功能，产品已经经过技术监督局检测合格。工作原理以石墨烯分离制备为例，当超声波在液体中传播时，石墨浆液产生高频振荡，液相中形成空化气泡，由于石墨的尺寸比空化气泡的尺寸大得多，石墨附近的空化气泡的崩溃是非对称的，从而产生指向石墨表面的高速微射流，对其表面产生局部破坏。高频的超声，使石墨浆液产生高频振荡，且因振荡频率的差异，在容器中形成多层，连续将石墨剥离成石墨烯 ,并从由底层逐步到上层石墨逐步剥离，最后在上层连续分离出石墨烯。在不同溶剂中层状MoS 和WS 的超声剥离效果示意图（Liquid exfoliation of layered materials. Science 340, 1226419 (2013)）应用领域二维层状材料具有优异的物化性能，在电子、激光、催化、机械等方面具有广阔的应用前景。自从2004年首次报道石墨烯后，二维层状材料成为材料科学研究的新热点。 产品特点安全性高 具有参数断电记忆，过温、过压、过流自动停止等功能数显屏幕 大屏幕液晶显示，实时显示反应温度样品完整 通过本产品制备的相关材料晶型没有破坏，晶格完整参数灵活 电脑定时，超声功率、温度可调超声搅拌 超声同时增加搅拌，可使材料受力更均匀，剥离效果更完美普适性强 MoS2 、WS2 、块体石墨和六方氮化硼等材料都已通过实验且效果卓越

产品说明新芝生物SCIENTZ-CHF超声波二维材料剥离器经新芝生物技术研发团队凭借专业的超声技术以及成熟仪器开发经验，经过多年研制、反复测试而成。超声波二维材料剥离器特有的超声搅拌功能可对相关材料进行更完美的剥离处理，不破坏晶型及晶格。仪器具有功能全、外观新、性能可靠等特点。仪器采用大屏幕液晶显示，中央微机集中控制，有人机对话界面，超声时间、功率、槽内温度可任意设定并且具备数据保存等功能，产品已经经过技术监督局检测合格。工作原理以石墨烯分离制备为例，当超声波在液体中传播时，石墨浆液产生高频振荡，液相中形成空化气泡，由于石墨的尺寸比空化气泡的尺寸大得多，石墨附近的空化气泡的崩溃是非对称的，从而产生指向石墨表面的高速微射流，对其表面产生局部破坏。高频的超声，使石墨浆液产生高频振荡，且因振荡频率的差异，在容器中形成多层，连续将石墨剥离成石墨烯 ,并从由底层逐步到上层石墨逐步剥离，最后在上层连续分离出石墨烯。在不同溶剂中层状MoS 和WS 的超声剥离效果示意图（Liquid exfoliation of layered materials. Science 340, 1226419 (2013)）应用领域二维层状材料具有优异的物化性能，在电子、激光、催化、机械等方面具有广阔的应用前景。自从2004年首次报道石墨烯后，二维层状材料成为材料科学研究的新热点。 产品特点安全性高 具有参数断电记忆，过温、过压、过流自动停止等功能数显屏幕 大屏幕液晶显示，实时显示反应温度样品完整 通过本产品制备的相关材料晶型没有破坏，晶格完整参数灵活 电脑定时，超声功率、温度可调超声搅拌 超声同时增加搅拌，可使材料受力更均匀，剥离效果更完美普适性强 MoS2 、WS2 、块体石墨和六方氮化硼等材料都已通过实验且效果卓越

产品名称：A-Z单晶蒸发料产品简介：产品规格：1-6mm，不规则形状；规格形状，3x3x3mm，5x5x5mm；可按照客户要求加工尺寸产品种类：Al2O3YSZCdWO4NdCaAlO4GGGLSATLaAlO3LaSrAlO4SrTiO3MgAl2O4TiO2MgO 标准包装：1000级超净室100级超净袋包装 规则形状 不规则形状 相关产品： A-Z系列晶体列表清洗机 基片包装盒系列划片机旋转涂层机

四电弧高温单晶生长炉 日本GES公司生产的四电弧高温单晶生长炉，采用电弧放电的高温材料合成方法，非常适合生长化学性质活跃但熔点高（一般在3000摄氏度左右）的金属间化合物，包括含有稀土元素（或者金属铀）的二元及四元金属间化合物，例如UGe2, UPt3, V3Si, URu2Si2, RE2Co17 , CePd2Al3, REFe10Ti2 合金单晶以及Nd2Fe14B, URhAl, UNiAl and RENi5等合金单晶。生长的过程中，原料放在旋转的铜坩埚中，四个电同时放电形成高温熔化原料，精密控制的拉晶棒使用Czochralski方法将熔化的原料拉成单晶。样品室的真空度可达10-6托，也可以充入保护性气体。产品特点* 采用四电弧法加热* 可实现3000°C高温* 适用于金属间化合物材料基本参数样品腔：高温度：3000℃气氛：Ar工作压强：5x10-6 Torr~1.1Atm真空度：10-6 Torr尺寸:直径208*300H材料:不锈钢冷却:水冷提拉棒：提拉生长速度：0.1-39mm/hr转动速度:0-10rpm行程：150mm坩埚：转动速度：0-10rpm行程：20mm电弧电流：样品：25/30A（可调） 真空吸气剂：25/30A（可调）炉体：重量：350Kg尺寸：600W*700D*2155H工作原理图发表文章1. Single-Crystal Growth of f-Electron Intermetallics in a Tetra-Arc Czochralski Furnace. ACTA PHYSICA POLONICA A (2013), 124 (2):336-339.2. Crystal structure and magnetic properties of the ferromagnet CoMnSb. Proc. J-Physics 2019: Int. Conf, Multipole Physics and Related Phenomena JPS Conf. Proc. , 013004 (2020).国内用户单位北京大学中科院物理所复旦大学国外用户单位Tokyo UniversityOkayama UniversityOsaka UniversityUniversity of California San DiegoUniversity of MarylandVienna University of Technology

我公司研发生产的坩埚下降法生长的单晶炉设备，是一种常用的晶体生长方法又叫布里奇曼晶体生长法。把原料装在坩埚内，并通过控制加热炉体缓慢的上升，形成一个温度梯度，炉温控制在略高于材料的熔点，在通过加热区域时，坩埚中的材料被熔融，当炉体持续上升时，坩埚底部材料低于熔点以下，并开始结晶，晶体随炉体上升而持续长大。这种方法通常拥有金属单晶双晶的生长，用于制备碱金属和碱土金属卤化物和氟化物单晶生长等。我公司在晶生长拥有丰富的经验，其中自主研发生长的单晶有三十多种，有6种单晶生长都是全世界唯一的。我公司可以免费培训单晶生长技术，欢迎你与我公司联系洽谈！具体信息请点击查看：

新一代X射线单晶定向仪-s-Laue s-Laue是日本Pulstec公司近期发布的一款基于圆形全二维面探测器技术的新一代X射线单晶定向系统。该设备配备六轴样品台，具有功率小（30KV/1.5mA,因此辐射小）、操作简单、测试效率高（典型X射线曝光时间为15秒）等特点，可提供台式、便携式(即将发布，敬请期待)两种类型设备，既可满足实验室对小样品进行单晶定向的需求，也可以用于大型零件的现场晶体定向。设备参数X-ray sourceW (Tungsten)Voltage/Current30kV/1.5mACoolingAir coolIrradiation spotφ0.8mm(Standard collimator)Sample distance27mmExposure time15secs ※TypicalSample stage6 axis (Θ/Tan./Rad./X/Y/Z)PowerAC100～240V,50/60HzPower consumption150W maxOtherDoor Interlock简单易用用户单位

二维封闭顶丝式镜架OMRxxA系列产品特点：材质：6061-T6 铝合金2个0.25mm细牙精密螺纹副安装尺寸：? 12.7mm、? 25.4mm、? 50.8mm装卡方式：封闭顶丝式（A型）俯仰偏摆调节角度±3°或±4°锁紧方式：标准不带锁死螺母、可选购锁死螺母 产品介绍：OMTOOLS二维封闭顶丝式镜架OMRxxA系列广泛适用于O型（圆形镜片）光学元件的安装调整，采用封闭顶丝式的装卡方式。产品经过结构设计优化、精密加工装配而成，具有稳定性高，灵敏度高的特点。螺纹副采用磷青铜衬套和不锈钢丝杠，实现平滑调节。调整架底部2面均配有2个M4/M6的螺纹孔及M3/M4沉孔，为调整架多场景应用提供了灵活的固定方式。 选型表：型号装卡直径安装光学元件最小厚度可调角度范围调节精度OMR12A? 12.7mm2.0 mm±4°0.68°/转OMR25A? 25.4mm3.0 mm±4°0.41°/转OMR50A? 50.8mm4.0 mm±3°0.24°/转

铌酸锂（LiNbO3）晶体是重要的光电材料, 是集成光学、非线性光学、光电子元器件等领域中应用*广泛,*重要的基片材料之一。目前,铌酸锂晶体被广泛应用在声表面波、电光调制、激光调Q、光陀螺、光参量振荡、光参量放大、光全息存储等器件中,这些器件在手机、电视机、光通讯、激光测距、电场探测器等器件中发挥着重要的作用。晶正科技生产的铌酸锂单晶薄膜产品, 其晶格结构为单晶, 完全保持了体材料的**物理性质, 直径为3英寸,上层铌酸锂单晶薄膜厚度为300-700纳米, 中层为2微米厚的二氧化硅（SiO2）, *下层为0.5毫米厚的铌酸锂芯片衬底。其产品结构自上而下依次为铌酸锂单晶薄膜、二氧化硅层、铌酸锂衬底。铌酸锂单晶薄膜集成到铌酸锂衬底上，此结构可应用于电光调制器、光波导、谐振器、声表面波器件、铁电存储器等。 技术参数 产品应用 光纤通讯, 例如波导调制器等。用此薄膜材料生产的器件与传统产品相比体积可缩小百万倍以上, 集成度大幅提高, 响应频带宽,功耗低, 性能更加稳定, 制造成本降低。信息存储领域, 可实现高密度信息存储。电子学器件, 比如高质量滤波器、延迟线等。红外探测领域, 比如高灵敏度红外探测器。

OS系列 开口式不锈钢二维高稳定镜架装卡直径=20mm 杭州谱镭光电技术有限公司(HangzhouSPL Photonics Co.,Ltd)是一家专业的光电类科研仪器代理商，致力于服务国内科研院所、高等院校实验室、企业研发部门等。我们代理的产品涉及光电子、激光、光通讯、物理、化学、材料、环保、食品、农业和生物等领域，可广泛应用于教学、科研及产品开发。 我们主要代理的产品有：微型光纤光谱仪、中红外光谱仪、积分球及系统、光谱仪附件、飞秒/皮秒光纤激光器、KHz皮秒固体激光器、超窄线宽光纤激光器、超连续宽带激光器、He-Ne激光器、激光器附件及激光测量仪器、光学元器件、精密机械位移调整架、光纤、光学仪器、光源和太赫兹元器件、高性能大口径瞬态（脉冲）激光波前畸变检测干涉仪（用于流场、波前等分析）、高性能光滑表面缺陷分析仪、大口径近红外平行光管、Semrock公司的高品质生物用滤波片以及Meos公司的光学教学仪器等。 拉曼激光器，量子级联激光器，微型光谱仪，光机械，Oceanoptics，Thorlabs 。。。热线电话： / 传真：+86571 8807 7926网址： /邮箱：

OS系列 开口式不锈钢二维高稳定镜架 杭州谱镭光电技术有限公司(HangzhouSPL Photonics Co.,Ltd)是一家专业的光电类科研仪器代理商，致力于服务国内科研院所、高等院校实验室、企业研发部门等。我们代理的产品涉及光电子、激光、光通讯、物理、化学、材料、环保、食品、农业和生物等领域，可广泛应用于教学、科研及产品开发。 我们主要代理的产品有：微型光纤光谱仪、中红外光谱仪、积分球及系统、光谱仪附件、飞秒/皮秒光纤激光器、KHz皮秒固体激光器、超窄线宽光纤激光器、超连续宽带激光器、He-Ne激光器、激光器附件及激光测量仪器、光学元器件、精密机械位移调整架、光纤、光学仪器、光源和太赫兹元器件、高性能大口径瞬态（脉冲）激光波前畸变检测干涉仪（用于流场、波前等分析）、高性能光滑表面缺陷分析仪、大口径近红外平行光管、Semrock公司的高品质生物用滤波片以及Meos公司的光学教学仪器等。 拉曼激光器，量子级联激光器，微型光谱仪，光机械，Oceanoptics，Thorlabs 。。。热线电话： / 传真：+86571 8807 7926网址： /邮箱：

高精度光学浮区法单晶炉Quantum Design Japan公司推出的高温光学浮区法单晶炉，采用镀金双面镜、高反射曲面设计，温度可达2100℃-2200℃，系统采用高效冷却节能设计（不需要额外冷却系统），稳定的电源输出保证了灯丝的恒定加热功率......应用领域：✔ 高温超导体✔ 介电和磁性材料✔ 金属间化合物✔ 半导体/光学晶体/宝石产品特点：✔ 占地空间小，操作简单，易于上手，立支撑设计✔ 镀金双面高效反射镜，加热效率更高✔ 可实现温度达2150°C✔ 稳定的电源✔ 内置闭循环冷却系统，无需外部水冷装置✔ 采用商业化标准卤素灯 光学浮区法（垂直区熔法）也可以说是一种垂直的区熔法。在生长装置中，在生长的晶体和多晶棒之间有一段靠光学聚焦加热的熔区，该熔区有表面张力所支持。熔区自上而下或自下而上移动，以完成结晶过程。 浮区法的主要优点是不需要坩埚，也由于加热不受坩埚熔点限制，可以生长熔点高材料。生长出的晶体沿轴向有较小的组分不均匀性在生长过程中容易观察等。浮区法晶体生长过程中，熔区的稳定是靠表面张力与重力的平衡来保持，因此，材料要有较大的表面张力和较小的熔态密度。浮区法对加热技术和机械传动装置的要求都比较严格。镜面系统 部分生长晶体Photographs of (a) a wafer with a growth rate of 5 mm/h in pure oxygen. (b) An as-grown (Nb + ln) co-doped TiO2 crystal with growth rate of 5 mm/h in air and the crystal wafer cut perpendicular to the growth direction.发表文章1. Evidence of linear magnetoelectric effect in Mn4Nb2O9 single crystal, Journal of Alloys and Compounds, Volume 886,2021,161272,ISSN 0925-8388.2. Enhanced stability of floating-zone by modifying its liquid wetting ability and fluidity for YBa2Cu3O7-δ crystal growth, Ceramics International，Volume 47, Issue 4, 15 February 2021, Pages 5495-5501.3. Ultralow-temperature heat transport in the quantum spin liquid candidate Ca10Cr7O28 with a bilayer kagome lattice, PHYSICAL REVIEW B 97, 104413 (2018).4. 光学浮区法生长掺铟氧化镓单晶及其性能, 硅酸盐学报 Vol. 45，No. 4，April，2017，P548-P552.5. High quality(InNb)0.1Ti0.9O2 single crystal grown using optical floating zone method, Journal of Crystal Growth 446(2016)74–78.国内合作用户，排名不分先后北京大学武汉大学中科院物理所吉林大学中科院硅酸盐所哈尔滨工业大学上海大学浙江师范大学南京大学浙江大学东南大学南方科技大学中科院宁波材料所曲靖师范学院西北工业大学

OMSDH02交叉滚柱导轨系列二维手动平移台（XY方向）产品介绍：OMSDH02交叉滚柱导轨系列二维手动平移台（XY方向），主体材料采用铝合金，灵敏度高，外形尺寸小使用交叉滚柱导轨，为分厘卡或螺纹副驱动，该系列产品具有小于2um的灵敏度。平移台采用交叉滚柱导轨结构，承载能力更大，移动的稳定性和平稳性更好。采用微分头调节，可以直接读数，使用十分方便，是最广泛应用的平移台款式之一。产品底部有安装螺孔，可以直接连接其他台面，或者转接到安装底板上再固定于光学平台或平板上使用。标准产品材料是优质航空铝，如有特殊需要也可做不锈钢材质的平移台。 产品特点：■采用交叉滚柱导轨，负载能力强，耐磨性好，保证了产品的灵敏度等关键指标■ 主体材料采用铝合金，表面发黑处理，适合于光学实验等对于手动调节精度要求较高的领域使用■ 具有分厘卡驱动方式，每种产品分为左侧、右侧、中间驱动，非常灵活方便,客户可根据需求选择■产品尺寸丰富，配套性好，交货期短，性价比高。 选型表：型号OMSDH02AEOMSDH02AFOMSDH02AGOMSDH02AHOMSDH0ABIOMSDH0ABJ 机械规格台面尺寸(mm)40X4060X6065X6580X80100X100125X125行程(mm)X轴:13X轴:13X轴:25X轴:25X轴:25X轴:25Y轴:13Y轴:13Y轴:25Y轴:25Y轴:25Y轴:25使用标准平移台X轴: SPYD40L(R)(ZL)(ZR)X轴: SPYD60L(R)(ZL)(ZR)X轴: SPYD65L(R)(ZL)(ZR)X轴: SPYD80L(R)(ZL)(ZR)X轴: SPYD100L(R)(ZL)(ZR)X轴: SPYD125L(R)(ZL)(ZR)Y轴: SPYD40L(R)(ZL)(ZR)Y轴: SPYD60L(R)(ZL)(ZR)Y轴: SPYD65L(R)(ZL)(ZR)Y轴: SPYD80L(R)(ZL)(ZR)Y轴: SPYD100L(R)(ZL)(ZR)Y轴: SPYD125L(R)(ZL)(ZR)传动机构分厘卡导轨（导向机构）交叉滚柱导轨主体材料及表面处理铝合金，黑色阳极氧化处理自重(kg)0.30.450.51.01.42.0 精度规格分厘卡最小读数0.01mm灵敏度2 pm平行度30 pm运动平行度10 pm偏摆(”)25选配安装底板OMLA01NAOMLA02OMLA03OMLA04负载(kg)35571520OMSDH02燕尾副导轨系列二维手动平移台（XY方向）产品介绍：OMSDH02燕尾副导轨系列二维手动平移台（XY方向），采用细牙研磨丝杠调节，结构紧凑，高度较小，可在有限的空间内安装使用，调节方便。平移台采用燕尾副导轨结构，负载能力强。产品底部有标准安装螺孔，可直接固定于光学平台或平板上使用。标准产品材料是优质航空铝，如有特殊需要也可做成不锈钢材质的平移台。 产品特点：■燕尾副导轨，大行程，负载能力强■研磨丝杠螺距小，灵敏度较高■带有刻度尺，读取数据快速便捷■具有锁紧功能，锁紧效果好，稳定性高■具有各种行程和尺寸，产品非常丰富产品选型表：型号OMSDH02AAOMSDH02ABOMSDH02ACOMSDH02AD 机械规格台面尺寸(mm)65X65行程(mm)X轴:25X轴:50X轴:75X轴:100Y轴:25Y轴:50Y轴:75Y轴:100使用标准平移台X轴:SPYB25X轴:SPYB50X轴:SPYB75X轴:SPYB100Y轴:SPYB25Y轴:SPYB50Y轴:SPYB75Y轴:SPYB100传动机构细牙研磨丝杠导轨（导向机构）燕尾副导轨主体材料及表面处理铝合金，黑色阳极氧化处理自重(kg)0.60.70.81.0最小读数0.1mm负载5kg

EIGER2 R混合像素光子计数X射线探测器进口二维双能阵列光子计数衍射仪X射线探测器1、产品特点： 在DECTRIS公司所有应用于实验室的探测器产品系列中，Eiger2R系列探测器结合了所有混合光子计数探测器的最先进技术。 它所具有的双能量识别有助于在微弱信号和长时间曝光的条件下进行背景抑制和提高信噪比。其优越的计数率性能可以准确地测量极高强度的X射线。利用该系列探测器的巨大动态范围，可以在零死时间同步读/写的状态下进行长时间曝光。由于具备可选择的真空兼容性，从而使空气和窗口所产生的吸收和散射最小化。小尺寸像素与X射线直接探测相结合，提高了空间分辨率和角度分辨率，可以进行精细地测量样品并具有宽泛的倒易空间。可以在三种不同的型号中进行选择以满足您的需求。2、核心优势： – 双能识别有助于抑制低能量和高能量的背景 – 由于零背景噪音和同时读写，所以具有很高的动态范围 – 小尺寸像素和优秀的点扩散函数有助于获得高的空间分辨率 – 可定制在真空环境下使用； – 免维护3、应用领域： - 小角X射线散射和广角X射线散射(SAXS/WAXS）； - 大分子晶体学（MX）； - 化学结晶学； - 单晶衍射（SCD）； - 粉末衍射（PD）； - X射线成像； - 表面衍射； - 漫散射。4、技术参数：EIGER2 R250K500K1M4M探测器模块数量111 x 22 x 4有效面积：宽x高 [mm2]38.4 x 38.477.2 x 38.677.1 x 79.7155.1 X 162.2像素大小 [μm2]75 x 75点扩散函数1 pixel能量阈值2阈值范围（KeV）3.5-30最大计数率（cps/mm2）6.9×108计数器深度（bit/threshold）2×16最大帧速率 [Hz]505010020采集模式同时读/写，死区时间为零图像位深度（bit）32可选真空兼容Yes冷却方式 风冷 风冷水冷水冷尺寸（WHD）[mm3]100 x 140 x 93100 x 140 x 93114 x 133 x 240235 x 235 x 372重量 [kg]1.81.84.715

锗片、锗衬底 1、晶体习性与几何描述： 该晶体使用直拉法在晶体（100）方向延伸。圆柱形表面（表面光洁度小于2.5 μm RMS）。经红外成像法检测晶体结构稳定可靠。晶体几个结构由直径和长度决定。当一个晶体属于原生态晶体时，其当量直径为： D ----外形尺寸当量直径 W----锗晶体重量 L-----晶体长度 测量值是四舍五入最小可达到毫米级别。为了便于订单出货，我们会依据晶体的体积、直径和长度进行分类。同时我们可以满足客户的特殊需求，提供定制服务。 2、纯度：残留载荷 最大允许净载流子杂质浓度与探头二极管的几个构造有关，请参照如列公式。其纯度依据据霍尔效应测量和计算。 同轴探测器：同轴探测器适用于下列公式： Nmax = 每立方厘米最大杂质含量 VD = 耗尽层电压 = 5000 V εo = 介电常数 = 8,85 10-14 F/cm εr = 相对介电常数(Ge) = 16 q = 电子电荷1,6 10-19C (elementary charge) r1 = 探测器内孔半径 r2 = 探测器外孔半径锗片、锗衬底 3、纯度 ： 假如晶体表面半径减少2mm,由于锂的漫射和刻蚀，内径8毫米的内孔半径， 适用公式变为： D = 晶体外表面 平面探测器：平面探测器（厚度小于2厘米）适用于以下公式： d=探测器外观尺寸厚度 径向分散载荷子（绝对值） 迁移：霍尔迁移 性能： P 型晶体 μH ≥ 10000 cm2/V.s N 型晶体 μH ≥ 10000 cm2/V.s 能级： P 型晶体 通过深能瞬态测量，Cutot ≤ 4.5*109 cm-3 N 型晶体 通过深能瞬态测量点缺陷 5*108 cm-3 晶体主要指标： P 型晶体 N 型晶体 错位密度 ≤ 10000 ≤ 5000 星型结构 ≤ 3 ≤ 3 镶嵌结构 ≤ 5 ≤ 5 电阻率 0.02-0.04 ohm.cm 4、高纯度高纯锗HPGe晶体 说明： 高纯锗晶体产地法国物理性质颜色银灰色属性半导体材料密度5.32g/cm3熔点937.2℃沸点2830℃ 技术指标材料均匀度特级光洁度特优纯度99.999 999 99%-99.999 999 999 99%（10 N-13N)制备方式锗单晶是以区熔锗锭为原料，用直拉法（CZ）法或者垂直梯度法（VGF法）等方法制备的锗单晶体。产品规格P、N型按客户要求定制产品用途超高纯度，红外器件、γ辐射探测器P型N型高纯锗在高纯金属锗中掺入三价元素如铟、镓、硼等，得到p型锗；在高纯金属锗中掺入五价元素如锑、砷、磷等，得到n型锗。提供各种规格锗单晶、锗片（锗衬底），包含8英寸及以上的规格锗片

二维开口顶丝式镜架OMRxxD系列产品特点：材质：6061-T6 铝合金2个0.25mm细牙精密螺纹副安装尺寸：? 12.7mm、? 25.4mm、? 50.8mm装卡方式：开口顶丝式（C型）俯仰偏摆调节角度±3°或±4°锁紧方式：标准不带锁死螺母、可选购锁死螺母 产品介绍：OMTOOLS二维开口顶丝式镜架OMRxxC系列广泛适用于O型（圆形镜片）光学元件的安装调整，采用开口顶丝式的装卡方式。产品经过结构设计优化、精密加工装配而成，具有稳定性高，灵敏度高的特点。螺纹副采用磷青铜衬套和不锈钢丝杠，实现平滑调节。调整架底部2面均配有2个M4/M6的螺纹孔及M3/M4沉孔，为调整架多场景应用提供了灵活的固定方式。 选型表：型号装卡直径安装光学元件最大厚度可调角度范围调节精度OMR25D? 25.4mm6.0 mm±4°0.41°/转

EVG301 Single Wafer Cleaning SystemEVG301 单晶圆清洗系统 研发型单晶圆清洗系统 EVG301半自动化单晶片清洗系统采用一个清洗站，该清洗站使用标准的去离子水冲洗以及超音速，毛刷和稀释化学药品作为附加清洗选项来清洗晶片。 EVG301具有手动加载和预对准功能，是一种多功能的R＆D型系统，适用于灵活的清洁程序和300 mm的能力。 EVG301系统可与EVG的晶圆对准和键合系统结合使用，以消除晶圆键合之前的任何颗粒。旋转夹头可用于不同的晶圆和基板尺寸，从而可以轻松设置不同的工艺。 特征使用1 MHz的超音速喷嘴或区域传感器（可选）进行高效清洁单面清洁刷（选件）用于晶圆清洗的稀释化学品防止从背面到正面的交叉污染完全由软件控制的清洁过程 选件带有红外检查的预粘接台非SEMI标准基材的工具技术数据晶圆直径（基板尺寸）200、100-300毫米清洁系统：开室，旋转器和清洁臂腔室：由PP或PFA制成（可选）清洁介质：去离子水（标准），其他清洁介质（可选）旋转卡盘：真空卡盘（标准）和边缘处理卡盘（选件），由不含金属离子的清洁材料制成 旋转：最高3000 rpm（5秒内）超音速喷嘴：频率：1 MHz（3 MHz选件）输出功率：30-60 W去离子水流量：最高1.5升/分钟有效清洁区域：?4.0 mm材质：聚四氟乙烯兆声区域传感器：频率：1 MHz（3 MHz选件）输出功率：最大 2.5 W /cm2有效面积（最大输出200 W）去离子水流量：最高1.5升/分钟有效的清洁区域：三角形，确保每次旋转时整个晶片的辐射均匀性材质：不锈钢和蓝宝石；刷；材质：PVA