光刻机又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统,光刻机,紫外曝光机等;ECOPIA为全球领先的半导体设备供应商,多年来致力于掩模对准光刻机和匀胶机研发与生产,并且广泛应用于半导体、微电子、生物器件和纳米科技领域;该公司是目前世界上最早将光刻机商品化的公司之一,拥有雄厚的技术研发力量和设备生产能力;并且其设备被众多著名企业、研发中心、研究所和高校所采用;以优秀的技术、精湛的工艺和良好的服务,赢得了用户的青睐。 产地:韩国ECOPIA公司,唯一能做到图形化蓝宝石衬底(PSS)光刻机,高性价比型号:M-150技术规格:- 掩模尺寸:最大7英寸;- 样品尺寸:最大6英寸;- 卡盘移动:X,Y,Z,Theta轴手动,楔形补偿调平;- 紫外光源:6.25" X 6.25";- 光源功率:350瓦紫外灯;- 光源均匀性:+/-3%;- 光源365nm波长强度:最大30毫瓦;- 显微镜:双显微镜系统;- 显微镜移动:X,Y,Z轴手动调节;- 显微镜物镜空间:50-150mm;- 标配放大倍率:80X-400X;- 显示器:20" LCD;- 曝光时间:0.1-999秒;- 接触模式:真空接触,硬接触,软接触,接近接触(距离可调);- 对准精度:1um (Vacuum Contact), 1.5um(Hard Contact), 3um(Soft Contact), 5um(Proximity Mode);- 电源:220V,单相,15安培;主要特点:- 光源强度可控;- 紫外曝光,深紫外曝光(Option);- 系统控制:手动、半自动和全自动控制;- 曝光模式:真空接触模式(接触力可调),Proximity接近模式, 投影模式;- 真空吸盘范围可调;- 专利技术:可双面对准,可双面光刻,具有IR和CCD模式- 双CCD显微镜系统,最大放大1000倍,显示屏直接调节,比传统目镜对准更方便快捷,易于操作。- 特殊的基底卡盘可定做;- 具有楔形补偿功能;
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