高纯度金颗粒蒸镀仪采用电子束蒸镀金膜时,会有微小的黑色颗粒出现在金膜的表面,这些黑色的颗粒形状大多不规则,尺寸集中在100 nm~-1μm之间,传统的蒸镀理论较难解释这些黑色颗粒的成因。本文尝试提出液态金属表面热发射电子引起液面上杂质颗粒"放电"的理论来解释这一现象。这类电晕放电造成颗粒附近温度极高,瞬间将颗粒蒸发沉积在衬底。通过改变蒸镀功率,或保持功率不变,改变电子束斑点形状、落点位置等一系列实验,验证了理论的合理性。分别用钨坩埚和玻璃碳涂层坩埚蒸镀金膜,采用EDS分析金膜表面黑色颗粒的主要成分.对比金膜表面黑色颗粒分布的密度 根据两种坩埚蒸金膜时的物理学特征不同,研究黑色颗粒产生的机理,解释碳玻璃涂层坩埚蒸金黑色颗粒较多的原因 并利用玻璃碳坩埚采取不同的工艺条件进行对比试验,成功减少了金膜表面的黑色颗粒,为教学实验、真空镀膜工艺和集成电路生产领域蒸镀高质量的金膜提供帮助.-热蒸发源:电阻式热蒸发舟,交流电源、坩埚蒸发;-腔体:不锈钢或石英腔体可供客户选择;-泵:前级干泵,分子泵;- Load Lock样品传输腔室:手动或自动传输,高真空,支持多种样品衬底(选配);-工艺控制:PC/PLC机制的自动控制、数据处理、工艺记忆储存;-衬底固定:单衬底固定,客户化衬底固定方式;- 衬底夹具:加热,冷却,偏置,旋转等;- 保护样品:配有样品挡板,可手动或自动开/关挡板,达到及时遮挡样品效果;高纯度金颗粒蒸镀仪KT-Z1650CVD技术资料控制方式7寸人机界面 手动 自动模式切换控制加热方式数字式功率调整器镀膜功能0-999秒5段可变换功率及挡板位和样品速度程序最 大功率≤1200W最 大输出电压电流电压≤12V 电流≤120A真空度机械泵 ≤5Pa(5分钟) 分子泵≤10^-3Pa挡板类型电控真空腔室石英+不锈钢腔体φ160mm x 160mm 样品台可旋转φ62 (最 大可安装φ50基底)样品台转速8转/分钟样品蒸发源调节距离70-140mm蒸发温度调节≤1800℃支持蒸发坩埚类型钨丝蓝 带坩埚钨丝蓝 钨舟 碳绳 预留真空接口KF25抽气口 KF16真空计接口 KF16放气口 6mm卡套进气口可选配扩展机械真空泵(可抽真空 5分钟<5Pa) 数显真空计(测量范围大气压到0.1Pa)分子泵机组(可抽真空20分钟≤5x10-3Pa)
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