纳米光学

中图仪器SuperViewW光学纳米级光学表面粗糙度测量仪利用光学干涉原理，具有测量精度高、操作便捷、功能齐全、测量参数涵盖面广的优点，测量单个精细器件的过程用时短，确保了高款率检测。特殊光源模式可以广泛适用于从光滑到粗糙等各种精细器件表面的测量。产品功能1)样件测量能力：单一扫描模式即可满足从超光滑到粗糙、镜面到全透明或黑色材质等所有类型样件表面的测量；2)单区域自动测量：单片平面样品或批量样品切换测量点位时，可一键实现自动条纹搜索、扫描等功能；3)多区域自动测量：可设置方形或圆形的阵列形式的多区域测量点位，一键实现自动条纹搜索、扫描等功能；4)自动拼接测量；支持方形、圆形、环形和螺旋形式的自动拼接测量功能，配合影像导航功能，可自定义测量区域，支持数千张图像的无缝拼接测量；5)编程测量功能：支持测量和分析同界面操作的软件模块，可预先配置数据处理和分析步骤，结合自动单测量功能，实现一键测量；6)数据处理功能：提供位置调整、去噪、滤波、提取四大模块的数据处理功能；7)数据分析功能：提供粗糙度分析、几何轮廓分析、结构分析、频率分析、功能分析等五大分析功能。8)批量分析功能：可根据需求参数定制数据处理和分析模板，针对同类型参数实现一键批量分析；9)数据报表导出：支持word、excel、pdf格式的数据报表导出功能，支持图像、数值结果的导出；10)故障排查功能：配置诊断模块，可保存扫描过程中的干涉条纹图像； 11)便捷操作功能：设备配备操纵杆，支持操纵杆进行所有位置轴的操作及速度调节、光源亮度调节、急停等；12)环境噪声评价：具备0.1nm分辨率的环境噪声评价功能，定量检测出仪器受到外界环境干扰的噪声振幅和频率，为设备调试和故障排查提供定量依据；13)气浮隔振功能：采用气浮式隔振底座，可有效隔离地面传导的振动噪声，确保测量数据的高精度；14)光源安全功能：光源设置无人值守下的自动熄灯功能，当检测到鼠标轨迹长时间未变动后会自主降低熄灭光源，防止光源高亮过热损坏，并有效延长光源使用寿命；15)镜头安全功能：双重防撞保护，软件ZSTOP防撞保护，设置后即以当前位置为位移下限位，不再下移且伴有报警声；设备配备压力传感器，并在镜头处进行了弹簧结构设计，确保当镜头碰撞后弹性回缩，进入急停状态，大幅减小碰撞冲击力，有效保护镜头和扫描轴，消除人为操作的安全风险。SuperViewW光学纳米级光学表面粗糙度测量仪结合精密Z向扫描模块、3D 建模算法等对器件表面进行非接触式扫描并建立表面3D图像，通过系统软件对器件表面3D图像进行数据处理与分析，并获取反映器件表面质量的2D、3D参数，从而实现器件表面形貌3D测量。SuperViewW光学纳米级光学表面粗糙度测量仪可广泛应用于半导体制造及封装工艺检测、3C电子玻璃屏及其精密配件、光学加工、微纳材料及制造、汽车零部件、MEMS器件等超精密加工行业及航空航天、科研院所等领域中。可测各类从超光滑到粗糙、低反射率到高反射率的物体表面，从纳米到微米级别工件的粗糙度、平整度、微观几何轮廓、曲率等。 结果组成1、三维表面结构：粗糙度，波纹度，表面结构，缺陷分析，晶粒分析等；2、二维图像分析：距离，半径，斜坡，格子图，轮廓线等；3、表界面测量：透明表面形貌，薄膜厚度，透明薄膜下的表面；4、薄膜和厚膜的台阶高度测量；5、划痕形貌，摩擦磨损深度、宽度和体积定量测量；6、微电子表面分析和MEMS表征。主要应用领域1、用于太阳能电池测量；2、用于半导体晶圆测量；3、用于镀膜玻璃的平整度（Flatness)测量；4、用于机械部件的计量；5、用于塑料，金属和其他复合型材料工件的测量。应用领域案例部分技术指标型号W1光源白光LED影像系统1024×1024干涉物镜标配：10×选配：2.5× 5× 20× 50× 100×光学ZOOM标配：0.5×选配：0.375× 0.75× 1×物镜塔台标配：3孔手动选配：5孔电动XY位移平台尺寸320×200㎜移动范围140×100㎜负载10kg控制方式电动Z轴聚焦行程100㎜控制方式电动Z向扫描范围10 ㎜主机尺寸（长×宽×高）700×606×920㎜恳请注意：因市场发展和产品开发的需要，本产品资料中有关内容可能会根据实际情况随时更新或修改，恕不另行通知，不便之处敬请谅解。如有疑问或需要更多详细信息，请随时联系中图仪器咨询。

中图仪器SuperViewW纳米深度光学3D表面轮廓显微仪基于白光干涉原理，用于对各种精密器件及材料表面进行亚纳米级测量。可测各类从超光滑到粗糙、低反射率到高反射率的物体表面，从纳米到微米级别工件的粗糙度、平整度、微观几何轮廓、曲率等，广泛应用于半导体制造及封装工艺检测、3C电子玻璃屏及其精密配件、光学加工、微纳材料及制造、汽车零部件、MEMS器件等超精密加工行业及航空航天、科研院所等领域中。工作原理SuperViewW纳米深度光学3D表面轮廓显微仪以白光干涉技术为原理、结合精密Z向扫描模块、3D 建模算法等对器件表面进行非接触式扫描并建立表面3D图像，通过系统软件对器件表面3D图像进行数据处理与分析，并获取反映器件表面质量的2D、3D参数，从而实现器件表面形貌3D测量。测量原理照明光束经半反半透分光镜分成两束光，分别投射到样品表面和参考镜表面。从两个表面反射的两束光再次通过分光镜后合成一束光，并由成像系统在CCD相机感光面形成两个叠加的像。由于两束光相互干涉，在CCD相机感光面会观察到明暗相间的干涉条纹。干涉条纹的亮度取决于两束光的光程差，根据白光干涉条纹明暗度以及干涉条文出现的位置解析出被测样品的相对高度。SuperViewW纳米深度光学3D表面轮廓显微仪具有测量精度高、操作便捷、功能齐全、测量参数涵盖面广的优点，测量单个精细器件的过程用时短，确保了高款率检测。白光干涉仪的特殊光源模式，可以广泛适用于从光滑到粗糙等各种精细器件表面的测量。产品功能(1)设备提供表征微观形貌的粗糙度和台阶高、角度等轮廓尺寸测量功能；(2)测量中提供自动对焦、自动找条纹、自动调亮度等自动化辅助功能；(3)测量中提供自动拼接测量、定位自动多区域测量功能；(4)分析中提供校平、图像修描、去噪和滤波、区域提取等四大模块的数据处理功能；(5)分析中提供粗糙度分析、几何轮廓分析、结构分析、频率分析、功能分析等五大分析功能；(6)分析中同时提供一键分析和多文件分析等辅助分析功能。应用领域对各种产品、部件和材料表面的平面度、粗糙度、波纹度、面形轮廓、表面缺陷、磨损情况、腐蚀情况、孔隙间隙、台阶高度、弯曲变形情况、加工情况等表面形貌特征进行测量和分析。应用范例： 部分技术指标型号W1光源白光LED影像系统1024×1024干涉物镜标配：10×选配：2.5× 5× 20× 50× 100×光学ZOOM标配：0.5×选配：0.375× 0.75× 1×物镜塔台标配：3孔手动选配：5孔电动XY位移平台尺寸320×200㎜移动范围140×100㎜负载10kg控制方式电动Z轴聚焦行程100㎜控制方式电动Z向扫描范围10 ㎜主机尺寸（长×宽×高）700×606×920㎜恳请注意：因市场发展和产品开发的需要，本产品资料中有关内容可能会根据实际情况随时更新或修改，恕不另行通知，不便之处敬请谅解。如有疑问或需要更多详细信息，请随时联系中图仪器咨询。

中图仪器W系列微纳米超精密3D光学形貌轮廓仪是一款用于对各种精密器件及材料表面进行亚纳米级测量的检测仪器。可广泛应用于半导体制造及封装工艺检测、3C电子玻璃屏及其精密配件、光学加工、微纳材料及制造、汽车零部件、MEMS器件等超精密加工行业及航空航天、科研院所等领域中。可测各类从超光滑到粗糙、低反射率到高反射率的物体表面，从纳米到微米级别工件的粗糙度、平整度、微观几何轮廓、曲率等。应用领域对各种产品、部件和材料表面的粗糙度、波纹度、面形轮廓、表面缺陷、磨损情况、腐蚀情况、孔隙间隙、台阶高度、弯曲变形情况、加工情况等表面形貌特征进行测量和分析。工作原理利用光学干涉原理，照明光束经半反半透分光镜分成两束光，分别投射到样品表面和参考镜表面。从两个表面反射的两束光再次通过分光镜后合成一束光，并由成像系统在CCD相机感光面形成两个叠加的像。由于两束光相互干涉，在CCD相机感光面会观察到明暗相间的干涉条纹。干涉条纹的亮度取决于两束光的光程差，根据白光干涉条纹明暗度以及干涉条文出现的位置解析出被测样品的相对高度。中图仪器W系列微纳米超精密3D光学形貌轮廓仪具有测量精度高、操作便捷、功能齐全、测量参数涵盖面广的优点，测量单个精细器件的过程用时短，确保了高款率检测。特殊光源模式可以广泛适用于从光滑到粗糙等各种精细器件表面的测量。产品功能1)样件测量能力：单一扫描模式即可满足从超光滑到粗糙、镜面到全透明或黑色材质等所有类型样件表面的测量；2)单区域自动测量：单片平面样品或批量样品切换测量点位时，可一键实现自动条纹搜索、扫描等功能；3)多区域自动测量：可设置方形或圆形的阵列形式的多区域测量点位，一键实现自动条纹搜索、扫描等功能；4)自动拼接测量；支持方形、圆形、环形和螺旋形式的自动拼接测量功能，配合影像导航功能，可自定义测量区域，支持数千张图像的无缝拼接测量；5)编程测量功能：支持测量和分析同界面操作的软件模块，可预先配置数据处理和分析步骤，结合自动单测量功能，实现一键测量；6)数据处理功能：提供位置调整、去噪、滤波、提取四大模块的数据处理功能；7)数据分析功能：提供粗糙度分析、几何轮廓分析、结构分析、频率分析、功能分析等五大分析功能。8)批量分析功能：可根据需求参数定制数据处理和分析模板，针对同类型参数实现一键批量分析；9)数据报表导出：支持word、excel、pdf格式的数据报表导出功能，支持图像、数值结果的导出；10)故障排查功能：配置诊断模块，可保存扫描过程中的干涉条纹图像；11)便捷操作功能：设备配备操纵杆，支持操纵杆进行所有位置轴的操作及速度调节、光源亮度调节、急停等；12)环境噪声评价：具备0.1nm分辨率的环境噪声评价功能，定量检测出仪器受到外界环境干扰的噪声振幅和频率，为设备调试和故障排查提供定量依据；13)气浮隔振功能：采用气浮式隔振底座，可有效隔离地面传导的振动噪声，确保测量数据的高精度；14)光源安全功能：光源设置无人值守下的自动熄灯功能，当检测到鼠标轨迹长时间未变动后会自主降低熄灭光源，防止光源高亮过热损坏，并有效延长光源使用寿命；15)镜头安全功能：双重防撞保护，软件ZSTOP防撞保护，设置后即以当前位置为位移下限位，不再下移且伴有报警声；设备配备压力传感器，并在镜头处进行了弹簧结构设计，确保当镜头碰撞后弹性回缩，进入急停状态，大幅减小碰撞冲击力，有效保护镜头和扫描轴，消除人为操作的安全风险。中图仪器W系列微纳米超精密3D光学形貌轮廓仪的复合型EPSI重建算法，解决了传统相移法PSI扫描范围小、垂直法VSI精度低的双重缺点。在自动拼接模块下，只需要确定起点和终点，即可自动扫描，重建其超光滑的表面区域，不见一丝重叠缝隙。部分技术指标型号W1光源白光LED影像系统1024×1024干涉物镜标配：10×选配：2.5× 5× 20× 50× 100×光学ZOOM标配：0.5×选配：0.375× 0.75× 1×物镜塔台标配：3孔手动选配：5孔电动XY位移平台尺寸320×200㎜移动范围140×100㎜负载10kg控制方式电动Z轴聚焦行程100㎜控制方式电动Z向扫描范围10 ㎜主机尺寸（长×宽×高）700×606×920㎜恳请注意：因市场发展和产品开发的需要，本产品资料中有关内容可能会根据实际情况随时更新或修改，恕不另行通知，不便之处敬请谅解。

产品信息完美适用于532,638和785拉曼，针对638nm的拉曼响应度最好； 更长的存放期，相对于纸质基板的1--3个月的保存期，SP 纳米海绵SERS可以在常温下存储6个月或更久适用于高能量激光，而且可以确保SERS的整个稳定性能不变，背景基线也非常低SERS作为拉曼增强的理想附件，是提高拉曼信号的最佳选择。另外 ，我们还提供各种不同波段范围的拉曼模块和ID Raman系列（包括638nm的拉曼系列）。纳米海绵状SERS的优势 更低的背景噪音：这非常低浓度物质的拉曼分析非常有利高激光功率：有别于之前发布的纸质基板的SERS，这款金属/玻璃基底的SERS能承受功率非常高的激光入射（为了提高拉曼信号强度），而样品的性能不会发生改变！适用于不同波长激光：新的SERS技术包扩了金和银基底，532拉曼系统推荐使用Ag基底的，785拉曼系统推荐使用Au基底。而处于这两者中间波长的632nm的拉曼系统对Au和Ag基底的SERS响应都很好！更长货架存放期：在长时间存放后，新版SERS的纳米海绵结构相对于纸质基板的SERS会更稳定，而且不会受室温环境的影响，从生产到货架存放6个月以后，还能保证纳米材料结构的稳定，甚至在存放1年或者更久之后，SERS还能在拉曼测试中展示很好的性能存放期限RAM-SERS-SP-5新版SERS存放期为6个月，就像之前提到的，SERS在室温下存放了1年，性能还是很良好，所以只要不是恶劣的存储条件和错误的使用，SERS的存放周期可以很长。但是由于纳米材料易氧化，所以我们还是不建议客户在保质期外再使用SERS芯片，特别是对于那些拉曼信号及其微弱的样品。RAM-SERS-AG该款SERS存放期为1个月，Ag基底的更容易被氧化，所以存放和使用更需要注意。 典型应用爆炸物 纳米海绵技术的开发就是为了检测爆炸物和化学武器，与其他技术的SERS相比，这款SERS的性能明显优于其他SERS。食品安全 基于新版SERS对大多数农残的测试 ，最低检出限都能检测到1ppm的测试，另外比如对违法食品添加剂三聚氰胺的检测，在痕量水平都能被检测到。反伪造 通过在燃油中添加拉曼标记物，来判定燃油的真伪，便于政府部门监管。痕量污染物检测 通过痕量污染物拉曼监测，可以对产品生产和化学反应进行反应、过程监控。 我们该如何选择SERS？对于SERS适用的不同拉曼激发波长是比较复杂的，我们没有简单的原理或者规则可遵循，但是我们可以从实践中获得很多的使用信息。经过实际使用，我们发现纳米海绵SERS最佳的使用激光波长为638nm，而非大家经常使用的532nm或者785nm。我们使用不同的激发波长和测量样品对三种SERS进行了测试和研究，比如，使用785nm的激光配合SERS-Ag，我们发现三聚氰胺有最强的拉曼响应，但是SERS-Au和SERS-SP的表现也相当不错。下表对不同激发波长的拉曼测试情况作了总结，可供大家参考：Laser wavelength(nm)RAM-SERS-AURAM-SERS-AGRAM-SERS-SP532-Rhodamine 6G-638Malachite green,crystal violetRhodamine BExplosives785BPE,E.coli,pesticidesMelamine-

纳米孔读取器纳米孔一般指孔径在1-10nm的孔道结构，其孔径大小与单个生物大分子尺寸相当，通常纳米孔被置入有机 磷脂薄膜内，将待分析样(如血清)分隔呈两部分，当电压施加于纳米孔两侧时，样本中的带电离子和分子会穿越纳米孔形成电流，产生的电流信号可由特定一起采集并进行分析。当生物大分子穿越纳米孔时，由于其尺寸和电荷等性质的不同，会产生特异性的电流特征信号，从而可以根据仪器采集的电流信号分析出样本中的生物大分子的结构、种类和浓度等信息。纳米孔包括固态纳米孔和生物纳米孔两大类，一般应用中的纳米孔为生物纳米孔，纳米孔生物传感器被广泛应用于生物大分子的定性和定量分析，如DNA测序、肿瘤标记物检测和环境重金属离子检测等，纳米孔技术是国际上热门的第三代基因测序技术，由于其在生物、化学、医学、食品与环境等领域内的巨大应用潜力，已经发展成一个生物、化学、医学、流体、电子、材料、机械等多学科交叉的崭新研究领域。纳米孔读取器是一种小型便携式读出设备，具有可重复使用的流动池，用于固体纳米孔和生物孔的超低噪声记录。纳米孔读取器可用于实验活动，如脂质双层测量、DNA易位和单分子检测。若和特定的流式细胞相结合，它适用于蛋白质研究、疾病标记检测、DNA定位和纳米 粒子等分析。纳米孔读取器产品特点：■ 小型化 — 手持仪器 VS. 笨重设备■ 随时可用 — 无需工具，只需将流动池插入设备即可 ■ 高性能 — 低噪声测量■ 经济实惠 — 为每个人提供技术！纳米孔读取器应用案例：另外，我司可提 供各种规格SiNx固态纳米孔，详情可咨 询上海昊量光电设备有限公司。更多详情请联系昊量光电/欢迎直接联系昊量光电关于昊量光电：上海昊量光电设备有限公司是光电产品专 业代 理商，产品包括各类激光器、光电调制器、光学测量设备、光学元件等，涉及应用涵盖了材料加工、光通讯、生物医疗、科学研究、国 防、量 子光学、生物显微、物联传感、激光制造等；可为客户提 供完 整的设备安装，培训，硬件开发，软件开发，系统集成等服务。

魔技纳米PROME-Uni基于多光⼦ 聚合原理的超⾼ 速度一体化纳米级三维加⼯ 设备自研专利技术，大幅提高加工效率，突破多光子聚合速度限制，适应不同尺度的精密加工需求；拥有多项稳定系统，可长时无需维护，稳定工作；采用模块化的光机电设计，拥有极高的灵活性和可扩展性；为科研和工业领域提供全新的3D加工技术解决方案，适用于微光学器件、微流控芯片、微机械、超材料、微纳传感器件光子芯片集成等领域 主要特点： 如需了解更多产品信息，欢迎查询我司官网 魔技纳米科技或来电咨询。 企业介绍 魔技纳米科技创立于2017年，是一家高精度微纳三维装备制造与服务提供商、国家高新技术企业、省专精特新企业。主要业务为高端激光微纳三维直写光刻设备的研发、生产、销售及技术服务等。研发团队拥有十余年微纳三维制造技术经验，在光学、电气、机械、软件、材料等方面，拥有完整的自主开发能力，可以为多行业应用场景提供专业的一体化解决方案。企业推出了高精度纳米级3D打印设备、超快激光加工中心、无掩膜直写光刻设备三大系列及多款光刻胶产品，其中自主研发的商用纳米级三维激光直写系统，可实现70纳米精度的三维结构加工。凭借高精度、高速度、大幅面和长时稳定性等技术优势，实现了科研探索到商业化应用的跨越，有力推动了微纳三维制造在生物医疗、光电通信、新材料、微纳器件、航空航天等领域的规模化工业生产。

JQN04C纳米纤维张力仪 本公司是上海市高新技术企业，依托国内著名高校和科研单位，广泛采用国内外有关专家的最新科技成果，着重胶体与界面、粉体技术、纺织纤维等性能测量技术产品的开发。本公司产品可广泛用于化妆品、选矿、造纸、医疗卫生、建筑材料、超细材料、环境保护、海洋、化工、石油、喷涂、油漆油墨、印染、纺织、集成光学、液晶显示器等行业。公司的客户群不仅包括国内各大高等院校、科研院所和军工企业，而且还包括3M、富士康、HOYA光学、友达光电、三星电子、飞利浦等一大批跨国企业，以及中石化、中石油、冠豪科技、威远生化、宁夏东方、乐凯胶片、彩虹控股等上市公司，产品远销美国、日本、韩国、马来西亚、泰国和我国香港、台湾地区。纳米纤维张力仪测量纤维的拉伸性能，是表征纤维最基本力学参数的综合性仪器。JQN04C 纳米纤维张力仪适合于多种纤维，用其可以迅速准确地测出各种纤维的拉伸指标。纳米纤维张力仪用来测量纳米单纤维在不同的试验参数下（例如：拉伸速度、隔距）下力学性能（模量、断裂功和断裂伸长等）、外观形态（纤维的形貌、直径、长度、断裂断形貌和断裂过程）等，通过这些参数的测量来表征纤维材料的特征，为纤维材料的应用和贸易过程中提供指导和参考的指标。主要功能和特点采用高精度立敏传感器、平台精确移动、光学系统和CCD摄像头结合技术，测量纤维在轴向过程中压缩力值和挠度连续变化。采用计算机控制和数据采集并对基本获取数值直接进行软件计算，求得模量等反映纤维的指标；采用单班机技术，对压力值、平台位移和形态变化进行实时采样，对操作调焦、平台移动电机进行控制；选用不同夹具和不同量程的传感器，即可适用纤维拉伸性能的测量操作过程和数据采集实现自动化和智能化，使人为操作误差的可能降到最低；关键零部件（包括传感器）进口，测试数据精确，重复性好；基于WINDOW视窗的全中文操作软件，用户界面友好，可长时间工作记录曲线及自动生成数据，可存储打印。体贴设计保证了仪器能适用于常规测试环境、与普通配置PC联机工作，运行平稳，噪音小。上述产品系我公司开发生产，我公司拥有其软、硬件的完全知识产权，能够保障用户的售后维护、升级、服务的权利，并负责送货上门安装调试培训。主要技术指标 纤维隔距长度最小可为1mm最大伸长度20mm-200%纤维最大拉伸速度30－150mm/min。力值精度0.001mN图像分辨率24象素/微米适用范围适用于亚微米级纤维及弹性纤维测量。测量特征指标可根据应力应变曲线计算弹性模量、拉伸功、断裂应力、断裂应变、拉伸回复比等指标。可设定应力或伸长恒定，测量纤维屈服蠕变性能。 配置清单 JQN04C 纳米纤维张力仪主机一台：组成部分: 光源、CCD摄像头、连续变倍光学系统、微力传感器及调整平台与JQN04C 纳米纤维张力仪相对应的配件，包括： 串口延长线壹根张力夹壹套视频采集卡壹个驱动盘壹张说明书壹份

魔技纳米MJ-Works-Fiber专为光纤应用设计的纳米级三维激光直写设备MJ-Works-Fiber是一款专为光纤传感与光通信应用而生的超高精度加工而设计的高性能3D激光直写设备，配有超清成像及纳米级定位对准系统，可实现在光纤纤芯或光芯片表面及内部进行纳米级3D加工。配备有专门的卷对卷光纤自动输送装置，并配有应力监测，纤芯自动识别、定位及对准，实现高通量精准快速生产。如需了解更多产品信息，欢迎查询我司官网 魔技纳米科技或来电咨询。【企业简介】魔技纳米科技创立于2017年，是一家高精度微纳三维装备制造与服务提供商、国家高新技术企业、省专精特新企业。主要业务为高端激光微纳三维直写光刻设备的研发、生产、销售及技术服务等。研发团队拥有十余年微纳三维制造技术经验，在光学、电气、机械、软件、材料等方面，拥有完整的自主开发能力，可以为多行业应用场景提供专业的一体化解决方案。企业推出了高精度纳米级3D打印设备、超快激光加工中心、无掩膜直写光刻设备三大系列及多款光刻胶产品，其中自主研发的商用纳米级三维激光直写系统，可实现70纳米精度的三维结构加工。凭借高精度、高速度、大幅面和长时稳定性等技术优势，实现了科研探索到商业化应用的跨越，有力推动了微纳三维制造在生物医疗、光电通信、新材料、微纳器件、航空航天等领域的规模化工业生产。

NIL TECHNOLOGY Aps (NILT) 位于丹麦的哥本哈根市的丹麦技术大学(TECHNICAL UNIVERSITY OF DENMARK）校园里，是一家专门从事纳米光学、纳米结构制作和纳米压印设备制作的公司，公司与的丹麦国家微纳米实验中心(Danchip)是“合作伙伴”关系，并享有共同的超净设备和研发技术成果，公司同时从事欧盟诸多纳米制作项目的研发，并拥有多位教授和博士后团队。NILT 开发的CNI系列 实验室用台式纳米热压印机是专为实验室和研发机构设计和开发的简单易用、性能稳定的研发型设备，用户可以通过CNI设备高效、低成本地实现高精度的纳米热压工艺，许多知名的研发机构均购买了CNI的设备。Nano Fabriction Solution 技术方案已在多个领域为用户提供基于纳米技术的行业解决方案，包括： * LED纳米压印解决方案：LEDS 制作，LED PSS纳米压印工艺，LED纳米透镜阵 *μ-Fluidics 纳米应用流体学 * Lab-On-A-Chip 微流控纳米应用 *Anti-Reflection 抗反射纳米应用*Wire Grid Polarizer 纳米压印光栅 * Lotus Effect 莲花效应 *Photonic Band Gap （PBG) 光子带隙 *光学及通讯: 光晶体，激光器件 *LOC解决方案 *生物技术解决方案: 医药分析，血液分析，细胞生长

魔技纳米DLW-Bio专为生物应用设计的加工检测一体纳米级三维激光直写设备DLW-Bio具备纳米级高精度3D加工能力，满足复杂生物结构的微纳制造需求，同时可兼有生物荧光显微功能。设备配备多种生物样品台，可根据具体需求灵活配置和定制，适应不同生物医学样品和微流控芯片等打印要求。该设备还特别配备多种生物相容性打印材料，包括无生物毒性且具备亚微米特征和高纵横比的光敏聚酯、水凝胶，均符合ISO-10993-5/USP87标准，可在生物医学领域安全应用。用户可以根据研究需要选择适合的材料，实现定制化的生物医学样品打印。从组织工程到微流控芯片，从药物递送系统到个性化医疗，DLW-RD-Bio为多样化的生物医学应用提供强大的材料支持。如需了解更多产品信息，欢迎查询我司官网 魔技纳米科技或来电咨询。 魔技纳米科技创立于2017年，是一家高精度微纳三维装备制造与服务提供商、国家高新技术企业、省专精特新企业。主要业务为高端激光微纳三维直写光刻设备的研发、生产、销售及技术服务等。研发团队拥有十余年微纳三维制造技术经验，在光学、电气、机械、软件、材料等方面，拥有完整的自主开发能力，可以为多行业应用场景提供专业的一体化解决方案。企业推出了高精度纳米级3D打印设备、超快激光加工中心、无掩膜直写光刻设备三大系列及多款光刻胶产品，其中自主研发的商用纳米级三维激光直写系统，可实现70纳米精度的三维结构加工。凭借高精度、高速度、大幅面和长时稳定性等技术优势，实现了科研探索到商业化应用的跨越，有力推动了微纳三维制造在生物医疗、光电通信、新材料、微纳器件、航空航天等领域的规模化工业生产。

产品描述PSWH30-005U系列是具有纳米级定位分辨率的高速，多轴，精密纳米定位系统。本系列产品提供多功能性，可以配置XY或XYZ运动，并拥有独立的Z/X轴运动产品。可选配内部位置传感器进行闭环，可进行重复的位置测量。体积小，外形尺寸仅有30x30x33mm，具有高谐振频率，高稳定性，高精度使其非常适合需要低噪声和高速性能的计量应用。可根据客户要求定制。PSWH30-005U系列压电陶瓷元件直接移动工作台面，具有高刚性，即使在高负载下可实现稳定定位。产品特性—高速1ms响应，多轴定位—最短的响应时间—亚纳米范围内的高分辨率—高度紧凑的设计带来卓越的性能选配功能—可定制孔位及转接装置—可选PZT&Sensor连接器及线缆长度—可选配闭环(SGS) 位置反馈系—可提供XYZ版本应用领域—原子力显微镜、扫描探针显微镜—测量、计量—光学探针、光学扫描、光束对准—微流体技术 结构原理 叠堆形式 典型应用PSWH30-005U系列技术参数

产品描述PS2H30-005U系列是具有纳米级定位分辨率的高速，多轴，精密纳米定位系统。本系列产品提供的多功能性，可以配置XY或XYZ运动，并拥有独立的Z/X轴运动产品。可选配内部位置传感器进行闭环，可进行重复的位置测量。体积小，外形尺寸仅有30x30x30mm，具有高谐振频率，高稳定性，高精度使其非常适合需要低噪声和高速性能的计量应用。可根据客户要求定制。PS2H30-005U系列压电陶瓷元件直接移动工作台面，具有高刚性，即使在高负载下可实现稳定定位。产品特性—高速1ms响应，多轴定位—最短的响应时间—亚纳米范围内的高分辨率—高度紧凑的设计带来卓越的性能选配功能—可定制孔位及转接装置—可选PZT&Sensor连接器及线缆长度—可选配闭环(SGS) 位置反馈系—可提供XYZ版本应用领域—原子力显微镜、扫描探针显微镜—测量、计量—光学探针、光学扫描、光束对准—微流体技术 结构原理 位移特性 典型应用PS2H30-005U系列技术参数

功能全面:拥有超高的精度，可用于测量薄膜、涂层或基体材料的机械性能。可测量几乎所有类型材料的硬度、弹性模量、蠕变、疲劳等特性。采用压电陶瓷驱动和电容式传感技术，SMT可从纳米到微米范围内定量测量表面性能。 主要特点:1、可更换模块2、具有电容传感器技术玻氏压头、维氏压头、球形压头、立方体晶棱压头、努氏压头等处理大型和重型负载样品(50厘米 10公斤)3、自动检测三维形貌4、小型纳米压痕仪5、主动式隔震平台6、纳米压痕单一应用符合国际测试标准:ASTM E2546, ASTM B93З, ASTMD785,ASTM E140IS0 14577,IS0 6508,IS0 6507,1S04516DIN 50359,DIN 55676 JIS B7734等适用领域:航空航天、汽车、半导体、生物医学、光学材料、硬质涂层等

美国K-T公司是全球微纳米力学测试设备技术的开创者，全球第一台纳米力学测试系统于上世纪80年代初在公司前身诞生，多种测量方法和物理模型来自该公司。经过近40年不断努力和改进，该公司微纳米力学测试不仅实现了静态到动态的测试，同时实现了与光学、电学等设备连用的原位材料力学、微结构学甚至成份学的多手段原位测试功能。当前国标已经引入该公司专利的CSM连续刚度技术，在该领域具有很高的权威性。K-T在连续刚度（CSM）、高分辨、扫描成像、快速测试方面拥有独特技术。K-T是该领域著名跨国公司，中国设有地区总部，拥有最专业的技术支持和售后服务人员。更多信息，请联系我们以探讨您的需求。

滚筒式纳米压印机产品负责人：姓名：谷工(Givin)电话：（微信同号）邮箱：滚筒式纳米压印机HoloPrint uniA6 DT是一种负担得起的、便携的、易于使用的桌面设备，用于实验室尺度的纳米压印光刻工作。这款滚筒式纳米压印机是快速成型、测试和表征结构性能、光固化树脂和印迹材料的完美设备。典型的应用范围包括印刻、芯片实验室、衍射光学元件和其他纳米印刻结构。HoloPrintuniA6 DT在其自身的保护环境中工作，因此，洁净室所需的投资可以分配到其他地方。滚筒式纳米压印机HoloPrintuniA6 DT是由Stensborg公司的工程师开发的，与占行业主导地位的传统纳米压印工具相比，它是一种体积更小、成本更有竞争力的辊-板压印机。由于有接触区，我们的辊到板零工艺利用可调的压印力，以大限度地减少材料收缩，同时减少气泡问题。我们的专利NIP工艺也降低了对基材一致性的需求，从而降低了成本，提高了成品率。这款桌面式纳米压印机NIL不仅具有很好的性价比，而且呈现出很高的生产潜能。据测量这款滚筒式纳米压印机的的产量高达60片/晶圆每小时。原型设计研发的理想设备滚筒式纳米压印机HoloPrint uniA6 DT支持“快速失败”哲学思想，这将加速您的开发过程周期。通过快速测试新设计，它允许开发周期的快速迭代，因此，它是原型设计的完美设备。它使您能够试验和测试许多压印技术，正确类型的光固化树脂，以及处理参数，如压力，速度，和光强度，以表征重要的参数，然后规模化生产。因此，通过更少的迭代，您将能够在内部构建原型，并节省时间和资源。独特的光引擎大约十年前，我们的光引擎采用了发光二极管，用于大批量生产，以取代体积庞大的UV气体放电管式光引擎。光引擎是HoloPrint uniA6 DT的重要组成部分，因为它提供高度聚焦的光子能量，通过在可光固化树脂中产生化学反应，使树脂从弹性状态变为塑性状态，从而在滚轮咬合中进行固化。我们为独特的光学引擎设计申请了专利，使我们的HoloPrint uniA6 DT体积更小，成本更低。该压印机包括专利的光学引擎，其中包括具有被动冷却功能的长寿命395nm发光二极管(LED)，以及可选的内置水冷却功能，以满足极限曝光要求。规格参数zui大压印尺寸:105x148mm (WxL)，衬底厚度可达8mm复制速度:每小时60次手动复制(速度可达6米/分钟)两种输出:辊到印版和辊到箔片操作光学固化引擎:长寿命395nm LED，在6m/min时可达100mJ/cm2设备尺寸和重量:670x380x320mm (LxWxH)， 26kg

ZetaView适用于各类生物纳米颗粒0 x 耗材5 x 更快的切换10 x 更快的清洗12 x 荧光通道∞ x 统计学数据生物纳米颗粒（比如细胞外囊泡、外泌体、病毒或类病毒颗粒）在生命科学和纳米药物研究中的作用越来越重要。NTA技术可以帮助用户检测生理缓冲液条件下的单个颗粒，并让用户真实地看到他们所测的样品颗粒。ZetaView系列产品以其更方便的操作、更快的检测速度，又将进一步助力客户对EV-抗体偶联物的荧光检测。 主要特点&bull 扫描式NTA：无需额外配件，即可自动在样品池内的11个检测位置依次完成测试，并自动评估样品和数据质量；&bull 直观的软件：红绿信号指示可以帮用户直接判断当前浓度的样品是否可以测试。&bull 全新的固定式样品池模块设计：进一步增强了仪器稳定性，进一步保障仪器高效稳定地测试。&bull 功能一体化：可一次性完成样品的粒径、浓度、zeta电位和荧光测试。&bull 自动校准&自动聚焦：光学部件可通过仪器软件实现自动校准与优化，节省了用户的实验准备时间，完全避免了可能产生的用户主观偏差。&bull 荧光分析：仪器配备了超灵敏的CMOS相机和更多的荧光滤光片，具有更高的荧光检测灵敏度，进一步增强了仪器的荧光检测与分析能力。&bull 快速测试：60秒即可分析2000多个样品颗粒。&bull 无需高成本耗材：除进样所需的注射器之外，无其他耗材。&bull 易于维护：新的固定式样品池模块使仪器清洗更加简单便捷。&bull 无需校准：测试方法是客观的，仪器无需再校准多荧光NTA（F-NTA）Particle Metrix提供从单激光到多激光的一系列PMX设备，新增加了12位的荧光检测通道，各设备均可实现不同激光波长之间、散射光模式与荧光模式之间的一键切换。PMX系列设备的固定式样品池模块设计，既进一步增强了仪器的稳定性和测试的可靠性，又进一步简化了仪器清洗过程，提高了测试效率。新增加的共定位分析功能（C-NTA）ZetaView 配备了高精度的激光器，还可以实现仪器部件的快速切换。这也是它能完成生物标志物共定位检测这一极具挑战性工作的必要条件。例如一种细胞外囊泡，用不同浓度的两种膜染料Cell MaskTM Green和Cell MaskTM Red进行染色，通过ZetaView TWIN的动画视频可以看到不同荧光通道之间的快速切换。主要应用生物纳米颗粒：&bull 细胞外囊泡&bull 外泌体&bull 脂质体&胶束&bull 蛋白质聚集体&bull 病毒&类病毒颗粒（VLPs）&bull 药物载体&bull 荧光标记的纳米颗粒 低浓度样品：&bull 纳米气泡&bull 纳米金属&bull 微量样品&bull 量子点

HOLITH界面光刻技术----“纳米压印友好伴侣” HOLITH界面光刻装置使用两束干涉激光在光界面上形成周 期性光栅和点/孔图案。 HOLITH纳米成像系统具有新型力 学，光学和电学设计，可在200nm-2μm的周期性范围内于4 英寸晶片上做出纳米结构图案，图案最小形貌可低50nm。 最先进的HOLITH专利技术可使用户仅通过简单的鼠标点击操 作便能作出100nm以下尺寸的高品质高均一性线性光栅和 2D/3D图像。在HOLITH界面光刻装置中无需使用遮罩和模 具。 优势： 无遮罩过程：低成本、多功能、可伸缩 计算机系程序自动化光学结构和排列控制 简单操作，无需光学培训 相比遮罩定位器系统成本更低 200nm范围内具有高分辨率 最低特征尺寸小于50nm 无需遮罩及模具 可以制作大面积2D/3D纳米压印模具（4/6英寸） 可以操作不平整晶片 周期精度：+-2.5% All-fiber-optic setup replacing free- space optical components Special optical fiber delivers light from laser Fiber-optic beam splitter splits the laser beam into two coherent beams Output port of the fiber performs spatial filtering Close-loop feedback control stabilizing interference pattern 低成本、不受环境因素干扰，使自动化成为可能：自由改变入射角度调整模式周期。 Holith 纳米图案化结构 应用：能源 太阳能电池抗反射结构 太阳能电池光子操纵 LEDs灯管中的光提取 图案化蓝宝石基板(PSS) 光学器件 1-D和2-D光栅光谱 大范围等离子体结构 光子晶体 超颖表面 高对比度光栅过滤器和反射器 亚波长和衍射光学器件计量光栅结构化的颜色材 料 超疏水/亲水表面 诱导自组装 表面增强拉曼荧光 生物医学传感器纳米装配纳米压印磨具装配先进纳米装配过程开发

非线性纳米光波导OCTave Photonics提供了封装的非线性纳米光波导，用于产生脉冲激光器的超连续介质。这些非线性纳米光波导可实现即插即用的低脉冲能量以及产生宽频带超连续光谱。超连续谱的产生允许将窄带宽的脉冲激光器扩大到先前带宽的许多倍。宽带宽对于许多应用至关重要，包括光谱学和频率梳的自参考。纳米光子波导具有比非线性光纤低得多的脉冲能量的超连续谱，并提供对输出光谱形状的控制。非线性纳米光波导的特征：保偏光纤准直自由空间输出密封主动温度稳定多瓦级功率处理非线性纳米光波导的参数：规格SC-1560-780SC-Custom输入脉冲波长~1560 nm~1000 to 2000 nm输入脉冲能量150 pJ100 pJ输出光谱范围~750 to 2000 nmCustomizable色散波峰值780 nm可定制，600至2500nm输入PM1550 fiberPM Fiber输入连接器FC/APCFC/APC，FC/PC输出PM780 fiber光纤或自由光输出输出连接器FC/APC光纤或透镜尺寸50x25x12 mm可定制平均功率2 Watts4Watts操作温度-20 to 60 ℃0 to 40 ℃非线性纳米光波导的组合产品及应用：（1）激光频率梳的f-2f自参考COSMO主要特征：输入波长：~1560 nm输入脉冲能量：200 pJ输入：PM1550光纤输出：SMA连接器尺寸：~40x25x15 毫米CEO 信噪比：35 dB COSMO通过光纤连接器(FC/APC或类似的连接器)连接激光器，并提供可连接到梳状稳定电子器件的电输出。脉冲必须在COSMO盒的入口被压缩，因此必须使用适当长度的光纤和/或色散补偿光纤。此外，对输入脉冲能量的控制可以优化fCEO信号的信噪比。COSMO产品参数：规格COSMO输入脉冲波长~1560nm输入脉冲能量200 pJ输入PM 1550 Fiber输入连接器FC/APC输出接线盒尺寸40x25x15 mm大平均功率3Watts操作温度0 to 40 ℃CEO峰值的信噪比35 dB（2）电光频率梳 Octave Photonics的EO梳是高度可定制的，取决于所需的输出。在完整形式中，基础EO梳与放大器、色散补偿器相结合，提供1 ps脉冲，然后通过光学滤波腔产生低噪声脉冲序列。然后这些脉冲进入脉冲压缩器，在那里它们的持续时间减少到100秒。从而，在纳米光子波导中产生的超连续谱产生了一个跨越倍频的谱，该谱用于EO梳的f-2f自参考和稳定载波-包络偏移频率。Octave Photonics还可以帮助集成EO梳与应用程序。电光频率梳的特征：具有均匀分布的光学频率的光谱。大带宽上的光谱相干性。5 到 30 GHz 之间的重复率光输出功率高达 5 瓦脉冲持续时间短至 20 fs电光频率梳的参数：型号基础款扩充款重复频率5-30 GHz5-30 GHz中心波长1550nm1550nm输出功率5Watts5Watts脉冲时间0.8-1.5ps20fs尺寸0.65×0.3×0.2m2×1×0.5m(上图)EO基础梳的频谱，可见10 GHz梳齿。(右)绿色和蓝色的线显示了在纳米光子波导中展宽后的EO梳状谱其他应用：非线性集成光子学、光学原子钟、探测系外行星关于昊量光电昊量光电 您的光电超市！上海昊量光电设备有限公司致力于引进国外创新性的光电技术与可靠产品！与来自美国、欧洲、日本等众多知名光电产品制造商建立了紧密的合作关系。代理品牌均处于相关领域的发展前沿，产品包括各类激光器、光电调制器、光学测量设备、精密光学元件等，所涉足的领域涵盖了材料加工、光通讯、生物医疗、科学研究、国防及前沿的细分市场比如为量子光学、生物显微、物联传感、精密加工、激光制造等。我们的技术支持团队可以为国内前沿科研与工业领域提供完整的设备安装，培训，硬件开发，软件开发，系统集成等优质服务，助力中国智造与中国创造! 为客户提供适合的产品和提供完善的服务是我们始终秉承的理念！您可以通过我们昊量光电的官方网站了解更多的产品信息，或直接来电咨询，我们将竭诚为您服务。

产品信息Micro Materials 产品纳米力学综合性能测试系统NanoTest Xtreme可以实现真空环境下的纳米力学测试！ 为了更加准确、可靠地预测材料的性质，研究学者们对测试条件模拟真实环境程度的要求越来越高。Micro Materials 公司的NanoTest Vantage 产品可以提供最全面的纳米力学测试功能。现在Micro Materials 公司的最新产品NanoTest Xtreme 可以实现真空环境下-40℃至1000℃这一温度范围内的纳米级力学测试， 并且没有氧化和结霜的影响。自1988年以来，我们一直处于纳米力学创新的前沿： ► 第一个商用高温纳米压痕平台 ► 第一台商用纳米冲击测试仪器 ► 第一个商用液体池 ► 第一台用于高真空、高温纳米力学的商用仪器更适合以下极端环境条件的研究：1、 航空发动机部件的高温 2、 用于高速加工的工具涂层 3、 电站蒸汽管的高温4、核反应堆覆层中的辐射效应 5、低温对油气管道焊缝修复的影响 NanoTest Xtreme 特点：a、500 mN加载头在真空下最高测试温度：1000°Cb、30 N加载头在真空下的最高测试温度：800°C c、真空下的最低测试温度：-40°C d、极限真空度：10-7 mbar e、与真空下所有标准纳米测试技术兼容（纳米压痕、纳米划痕、纳米磨损、纳米冲击、纳米微动） f、可选配第二个加载头，最大负载从500mN增加到30 N g、填充功能可在非空气环境中进行测试 h、高分辨率光学显微镜 i、可选配在整个温度范围内均可使用的SPM 成像/纳米定位平台 NanoTest Xtreme 优点：1、 将高温能力扩展到1000°C，超出NanoTest Vantage提供的850°C 2、 将低温能力提高至-40°C，且无样品结霜 3、超低的热漂移归因于与NanoTestVantage相同的仪器设计原理 4、 完整的纳米力学测试(例如压痕、划痕、磨损、摩擦、冲击) 5、能够填充气体以匹配材料操作环境参数指标1、加载框架 高度抛光的铝，用于快速脱气 加载应用：电磁 标准压头最大负载 500 mN 最大负载，可选高负载头 30 N 位移传感器 ：电容式 负载分辩率 3 nN 位移分辨率 0.002 nm 重新定位精度 0.4 µ m 样品处理 ：手动控制，网格压痕，特定位置选择，多个同时安装的样本 热漂移 0.005 nm/s 符合标准 ：符合ISO 14577和ASTM 2546标准 2、高温平台 最高温度 1000 º C 压头尖端加热 ：是 可测试样本区 16 mm x 16 mm 温度控制 ：反馈和恒定功率 温度精度 0.1 º C 3、低温平台 最低温度 -40 º C 4、SPM纳米定位平台 扫描范围 100 µ m x 100 µ m X Y定位精度 2 nm 5、真空 工作模式 ：真空或气体吹扫 真空度 ：极限10-7 (标准10-6 )mbar 6、选件 纳米划痕，纳米磨损，纳米冲击，动态硬度 应用NanoTest&trade Xtreme可以广泛应用于：航空航天、汽车工业、半导体、生物医学、MEMS、高分子、薄膜和涂层，以及太阳能/燃料电池等。

纳米银粉超高速纳米研磨分散机，纳米铝粉银粉高剪切研磨分散机，纳米金属粉体超高速研磨分散机，机械法循环型研磨机，金粉耐磨高速分散机，珠光防伪变色油墨研磨分散机 纳米金属颗粒具有量子尺寸效应、小尺寸效应、表面效应、宏观量子隧道效应，并且有许多奇特的电学、光学、磁学性能，使它在航天、原子能、军事、电子、化工、冶金等工业有着重要的应用价值。纳米金属粉体分散液可广泛用于涂料、油墨、电子工业等域。 目随着纳米金属粒子的生产工艺逐渐成熟，它的应用也随之扩大。在其应用过程中，较突出的问题是纳米金属粒子由于表面积大和表面能高，在制备、后处理及应用过程中易发生粒子凝结、团聚、形成二次粒子，使颗粒粒径变大，从而失去纳米粉末所具备的性能。研究者们为提高纳米金属粒子的分散性和稳定性，提出了一些有效的方法。 根据我司为多家客户定制方案，建议采用的方案为：在罐体内先进行固体物料的简单混合,将需要的配比浓度的物料投入罐体内,开动低速搅拌机进行简单混合,使得物料形成较为均一的物料；然后再罐体底部的物料出口开动阀门使得物料由管路进入我司的管线式研磨分散机进行剪切研磨分散处理,经过剪切研磨分散后在由设备的出口管路输送进入罐体内,实现物料的一次循环处理！经过多次罐外循环处理能达到很好的分散悬浮效果,物料颗粒细度均一。纳米银粉超高速纳米研磨分散机，纳米铝粉银粉高剪切研磨分散机，纳米金属粉体超高速研磨分散机，机械法循环型研磨机，金粉耐磨高速分散机，珠光防伪变色油墨研磨分散机 纳米金属粉体超高速研磨分散机是胶体磨和分散机的一体化设计，相对于胶体磨和分散机的串联而言更具优势。胶体磨与分散机串联的话存在时间差，当物料通过胶体磨之后，磨细后物料会出现抱团的现象，再经过分散机分散，效果不是很好。而CMSD超细研磨分散机的话，物料磨细后，瞬间又通过分散工作组，进行分散，在物料还未抱团之，就进行了分散，一个瞬间作用，效果会好很多。从设备角度分析，影响分散结果的因素有以下几点：1 分散头的形式（批次式和连续式）（连续式比批次好）；2 分散头的剪切速率 （越大，效果越好）；3 分散头的齿形结构（分为初齿，中齿，细齿，超细齿，约细齿效果越好）；4 物料在分散腔体的停留时间，分散时间（可以看作同等的电机，流量越小，效果越好）；5 循环次数（越多，效果越好，到设备的期限，就不能再好）。纳米金属粉体超高速研磨分散机设备结构： 第yi由具有精细度递升的三层锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每都可以改变方向。第二由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子（乳化头）和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为 在对输送性的要求方面，特别要引起注意的是：在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是转子齿的排列，还有一个很重要的区别是不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例，依据以的经验选取相应的工作头来满 足一个具体的应用。在大多数情况下，机器的构造是和具体应用相匹配的，因而它对制造出产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。设备等：化工、卫生I、卫生II、无菌电机形式：普通马达、变频调速马达、防爆马达、变频防爆马达、气动马达电源选择： 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ电机选配件： PTC 热保护、降噪型均质机材质：SUS316L 、SUS316L 、SUS316Ti均质机选配：储液罐、排污阀、变频器、电控箱、移动小车均质机表面处理：抛光、耐磨处理进出口联结形式：法兰、螺口、夹箍均质机选配容器：本设备适合于种不同大小的容器.IKN管线式研磨分散机的技术参数：研磨分散机流量*输出线速度功率入口/出口连接类型l/hrpmm/skWCMD 2000/470014000404DN25/DN15CMD 2000/55,00010,5004011DN40/DN32CMD 2000/1010,0007,3004022DN50/DN50CMD 2000/2030,0004,9004045DN80/DN65CMD 2000/3060,0002,8504075DN150/DN125CMD 2000/501000002,00040160DN200/DN150*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，同时流量可以被调节到大允许量的10%。1 表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。2 处理量取决于物料的粘度，稠度和终产品的要求。纳米银粉超高速纳米研磨分散机，纳米铝粉银粉高剪切研磨分散机，纳米金属粉体超高速研磨分散机，机械法循环型研磨机，金粉耐磨高速分散机，珠光防伪变色油墨研磨分散机

纳米压印设备之紫外纳米压印：EVG600系列 一、 简介 EVG公司成立于1980年，公司总部和制造厂位于奥地利，在美国、日本和台湾设有分公司，并在其他各地设有销售代理及售后服务部，产品和服务遍及世界各地。EVG公司是一家致力于半导体制造设备的全球供应商，其丰富的产品系列包括：涂胶和喷胶/显影机/热板/冷板、掩模版光刻/键合对准系统、基片热压键合/低温等离子键合系统、基片清洗机、基片检测系统、SOI 基片键合系统、基片临时键合/分离系统、纳米压印系统。目前已有数千台设备安装在世界各地，被广泛地应用于MEMS微机电系统/微流体器件，SOI基片制造，3D封装，纳米压印，化合物半导体器件和功率器件等ling 域。EVG是世界上为数不多的可以商业化纳米压印设备的著ming公司，可为客户提供完整的纳米压印方案，包括热压印、紫外压印、微接触印刷。EVG公司以其专利的极其优异的对准技术和世界ling 先的热压技术为纳米压印的成功实施打下了坚实的基础。EVG620紫外纳米压印用于从印章到衬底的紫外图形转移。EVG620自动纳米压印系统允许衬底和印章的尺寸从很小的芯片到150mm直径的圆片范围。用于纳米技术应用的配置包括印章机械释放、程序控制高或低的接触压力。EVG独有的吸盘设计支持软印章和硬印章压印，可以保证大面积纳米压印的均匀压力，从而保证获得很高的良率。 二、应用范围纳米压印技术主要应用于如下方面：LEDS 制作，LED PSS纳米压印工艺，LED纳米透镜阵列；微流体学；芯片实验室；抗反射层； 纳米压印光栅； 莲花效应；光子带隙；光学及通讯：光晶体，激光器件；生物技术解决方案：医药分析，血液分析，细胞生长。三、主要特点u 适用于紫外纳米压印和微接触印刷；u 紫外光曝光；u 配备专用的紫外纳米压印工具；u 适于软或硬印章压印；u 适用衬底：Si，玻璃，化合物半导体； 四、技术参数设备咨询电话：欢迎您的来电咨询！

产品描述X轴纳米定位线性位移台是基于压电控制的线性位移台，行程包括12/30/45/60μm及可定制其他行程版本，本系列产品包含X、XY可供用户选择。该压电纳米定位器是我们高速产品线的一部分（可提供大功率控制器，进行高速运动）。二维产品型号为PS2H45-xx。PS1H45系列压电纳米位移台采用高可靠多层低压压电叠堆陶瓷作为驱动元件，利用有限元优化的固态挠性导向系统可确保完美的平移运动。平台采用了无摩擦柔性机构，压电位移台无需维护，无磨损，并具有快速响应和快速稳定的性能，使其适用于动态过程，例如高频误差补偿，跟踪，快速步进或连续扫描等。闭环版本具有高分辨率应变片式位置传感器，可实现高精度和可重复的运动，还可以补偿压电陶瓷的的蠕变。传感器采用全闭环电桥设计。它可以在开环或闭环控制中运行。压电平台固定是通过移动面和底板上的螺纹孔实现的。若要安装到具有标准栅格的光学平台或其他组件上，请使用转接板转接。在紧固过程中，应避免过大的弯矩载荷和作用在移动面与外壳之间的侧向力，这些外力可能会损坏位移台。产品特性—高速运动、直接驱动—设计小巧紧凑PS1H45系列技术参数—闭环控制—可堆叠进行XY运动选配功能—可定制转接工装—可选PZT&Sensor连接器及线缆长度—可选配闭环(SGS) 位置反馈系—可组维、可定制其他行程应用领域—扫描显微镜、光纤端面检测—干涉仪、测量技术、3D锡膏检测—光子、光纤定位、干涉—纳米光刻、纳米定位、电化学加工 结构原理 高速响应 典型应用PS1H45系列技术参数

室温纳米精度位移台-attoECS 德国attocube公司是上著名的端环境纳米精度位移器制造商，其生产的位移器以稳定而优异的性能，原子定位精度，纳米位移步长和厘米位移范围受到科学家的肯定和赞誉。attoECS系列纳米位移台在提供高精度位移控制的同时，保证了优异而高的稳定性能，适用于室温、大气到超高真空环境中，负载可达几公斤，行程达到50mm，小步长50nm，配备的光学位移传感器可将位移精度控制到10nm，提供多维度位移功能。attoECS位移台应用领域加速器及同步辐射计量测量学半导体空间科学attoECS位移台特点+ 在厘米的行程范围内，达到纳米高精度位移控制+ 高的机械稳定性+ 位移驱动电压45V，无需高压屏蔽+ 10nm位移精度，+/-200nm位移重复性，0.01% 精度+ 特殊材质，兼容各种光学实验环境和超高真空环境+ 快速样品更换装置设备型号ECS系列纳米位移台ECS系列线性位移器采用闭环（/NUM光栅式反馈）或开环控制，典型单步位移步长为： 50nm。位移范围大为：50mm。位移器尺寸小为：30X30 mm。负载大24Kg。 线性纳米精度位移台型号尺寸mm3(长宽高)步长行程(mm)载重(N)ECSx303030x30 9.550nm2090ECSx3030/NUMECSx304030x40 9.550nm25120ECSx3040/NUMECSx305030x50 9.550nm30150ECSx3050/NUMECSx306030x60 9.550nm35180ECSx3060/NUMECSx307030x70 9.550nm40210ECSx3070/NUMECSx308030x80 9.550nm50240ECSx3080/NUMECSx505050x50 9.550nm30150ECSx5050/NUMECSxy505050x50 16.450nm25x25150ECSxy5050/NUMECSz505050x50 3230nm88ECSz5050/NUMECR系列旋转台ECR系列旋转台技术参数表ECR系列旋转器采用闭环（/NUM光栅式反馈）或开环控制，典型步长为： 0.4m°。可360度连续旋转。旋转台尺寸小为：30 mm × 30 mm。负载大2Kg。 高精度旋转台型号尺寸mm3(长宽高)步长行程 载重(N)ECR3030 30x30 13.50.4m°360度（连续旋转）20ECR3030/NUMECR4040 40x40 14.50.2m°360度（连续旋转）20ECR4040/NUMECR5050hs 50x50 13.50.2m°360度（连续旋转）20ECR5050hs/NUM ECG系列倾角台ECG系列倾角台技术参数表ECG系列倾角台采用闭环（/NUM光栅式反馈）或开环控制，典型步长为： 0.4m°。倾角范围：10°。倾角台尺寸为：50 mm × 50 mm。负载大1000g。 高精度倾角台型号尺寸mm3(长宽高)步长行程载重(N)ECGt505050x50 170.1m°10°10ECGt5050/NUMECGp505050x50 170.1m°10°10ECGp5050/NUM应用案例■ attocube纳米位移台在大尺寸昆虫自然色三维高分辨率成像的应用 关键词：高分辨三维成像； 纳米精度位移台； C-SIM高分辨率三维成像技术在生物领域已经有非常多的应用。然而，当研究大型标本时，如厘米大小的昆虫，现有的三维成像工具往往非常耗时。此外，大多数3D成像系统无法得到标本的自然颜色信息。为了突破现有3D成像的局限性，中国科学院西安光学精密机械研究所瞬态光学与光子技术重点实验室姚保利课题组出了一种基于结构照明的方法，能够提供大的视场三维图像方法。采用这种方法，获得了580nm横向分辨率的自然彩色全尺寸昆虫的三维图像和三维形态数据。这种方法提供了一种很有前景的方法，可以用在不同类型的昆虫学研究，包括分类学、进化学、仿生学，发育生物学、功能形态学、古生物学、林业等。实验采用全新设计的彩色结构化照明显微镜（C-SIM），C-SIM中集成了德国attocube 的纳米精度位移台ECS3040（行程为25mm，分辨率1nm，精度50nm），这也是能够得到纳米分辨率的三维全彩图像的关键。 两种中华虎的三维成像结果 参考文献Vol. 27, No. 4 | 18 Feb 2019 | OPTICS EXPRESS 4845用户单位attocube公司产品以其稳定的性能、高的精度和良好的用户体验得到了国内外众多科学家的认可和肯定，在全球范围内有超过了130多位低温强磁场显微镜用户。attocube公司的产品在国内也得到了低温、超导、真空等研究领域著名科学家和研究组的欢迎......国内部分用户北京大学中国科技大学中科院物理所中科院武汉数学物理所中科院上海应用技术物理研究所复旦大学清华大学南京大学中科院半导体所上海同步辐射中心北京理工大学哈尔滨工业大学中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所… … 国外部分用户

荷兰SCIL公司简介 荷兰SCIL公司是知名的纳米压印设备供应商，是荷兰飞利浦公司投资的高科技公司之一，“SCIL基底保形压印光刻”技术，结合了小面积硬压与大面积软压的优势，真正意义上实现了12寸晶圆高质量无基底损伤保形的纳米压印，已成功用于12寸量产线，已经被国际上很多知名fab厂采用。 “SCIL基底保形压印光刻”是一种经济高效、稳健、高产量的工艺，可在多种材料上实现纳米分辨率图案。SCIL可实现在达 300 毫米的晶圆区域上提供经过验证的高质量压印。它可用于制作特征尺寸小于 10 nm 和套刻对齐精度小于 1 μm 的图案。 荷兰SCIL公司同时开发了的无机玻璃纳米压印光刻胶，可直接作为功能层使用，可直接省去2个工艺步骤，大大降低了生产成本。 SCIL 目前可提供2” 至 12”晶圆手动研发工具到全自动系统的全方位解决方案，并可以帮助客户优化设备、耗材和流程，以实现大批量生产。SCIL 技术特色 - 即使在非平坦和弯曲的表面上也可以保证保形接触印刷（模板复制技术）。 - 独特的 SCIL 压印工艺可确保＜10 nm 分辨率、低图案变形和无颗粒损坏印模。 - 套刻对齐精度： 1 μm - Sol-gel的优异蚀刻特性可得到极高的蚀刻率。 - Sol-gel的的热稳定性、光学透明度和（UV）稳定性使其适合作为功能层。 - 使用热Sol-gel大大增加了母版寿命。 - 总体而言，SCIL可将超高的压印质量和产量与高吞吐量和低总体拥有成本相结合。 LabSCIL型科研级纳米压印系统简介 LabSCIL专为有兴趣开发 SCIL 流程和应用程序的大学、研究所和公司的研发实验室开发，对于对可用于小批量试生产的工具感兴趣的公司，LabSCIL将是理想的选择。技术参数操作手动放片，纳米压印是全自动的晶圆尺寸最大8”，向下兼容晶圆厚度0.3 - 2.5 mm晶圆搬运托盘手动加载光刻胶类型Thermal sol-gelUV sol-gelUV organic压印技术低力软模基底保形纳米压印尺寸(WxLxH)1.8 x 1.4 x 2.2 m套刻精度 1μm应用 纳米图案化是众多纳米光子应用的关键工艺步骤。下面提到的应用程序只是一个选择。其他应用包括： - 增强现实和虚拟现实 (AR/VR) 光学 - MicroLED - MEMS和3D传感

德国PI六轴六足纳米平移台 德国Physik Instrumente (PI) GmbH & Co.KG成立于1970年，一直致力于微米与纳米定位技术的研发与制造。PI代表着技术性能，定位精度可达纳米。PI可获得的组件独立于市场上，并提供超越现有技术水平的单独解决方案。高度的灵活性为PI的客户提供了显着的竞争优势。 Physik Instrumente提供了超越全球竞争的技术范围和垂直生产范围。然而，PI重要的关注是通过定位解决方案不断地激励客户。今天，无论是在计量、显微，生命科技，还是激光技术，精密加工技术；无论是半导体科技，数据存储技术，还是光电子/光纤，天文等领域，PI的产品和技术正得到越来越广泛的应用，也赢得了越来越广泛的赞誉。 Physik Instrumente (PI)主要产品： 线性平台和执行器 电动旋转平台和测角器 XY平台 六足/平行运动 XYZ扫描仪 Z-/倾斜平台，提示/倾斜镜和有源光学 陶瓷部件 压电陶瓷组件 压电陶瓷执行器 控制器和驱动器 空气轴承导向系统 主要型号： E-709、E-609、E-753、E-610、E-621、E-625、E-500、E-725、N-216、N-111、N-310、U-264、N-422、P-601、P-602、P-603、P-604、C-867、E-871、E-861、E-755、C-663、C-885、C-843、C-884、C-863、LPS-45、LPS-23、LPS-24、M-664、M-664KCEP、P-887.91、P-882.11、P-882.31、P-882.51、P-883.11、P-883.31 、P-883.51、P-885.11、P-885.31、P-885.51、P-885.91六轴六足位移台六自由度并联运动设计使其比串联运动系统更加紧凑、更具刚性，动态范围更大，无移动电缆：更稳定、摩擦更小，用于全天候应用的重型精密轴承。绝对编码器绝对编码器提供明确的位置信息，帮助即刻确定位置。这意味着在接通期间无需定位，提高了操作过程中的效率和安全性。六轴六足位移台无刷直流电机(BLDC)无刷直流电机尤其适合高旋转速度。能够对其进行控制并确保高精度。由于无滑动接触，可无磨损地平稳运行，因此能够实现较长的使用寿命。六轴六足位移台应用领域科研和工业. 用于天文学、光学定位、航空航天。 科研和工业. 用于天文学、光学定位、航空航天。

中图仪器SuperViewW1三维光学表面轮廓仪纳米级白光3D形貌检测以白光干涉技术为原理，结合精密Z向扫描模块、3D 建模算法等对器件表面进行非接触式扫描并建立表面3D图像，用于对各种精密器件及材料表面进行亚纳米级测量。测量分析样品表面形貌的关键参数和尺寸，典型结果包括：表面形貌（粗糙度，平面度，平行度，台阶高度，锥角等等）；几何特征（关键孔径尺寸，曲率半径，特征区域的面积和体积，特征图形的位置和数量等等）；产品功能(1)设备提供表征微观形貌的粗糙度和台阶高、角度等轮廓尺寸测量功能；(2)测量中提供自动对焦、自动找条纹、自动调亮度等自动化辅助功能；(3)测量中提供自动拼接测量、定位自动多区域测量功能；(4)分析中提供校平、图像修描、去噪和滤波、区域提取等四大模块的数据处理功能；(5)分析中提供粗糙度分析、几何轮廓分析、结构分析、频率分析、功能分析等五大分析功能；(6)分析中同时提供一键分析和多文件分析等辅助分析功能。性能特色1、高精度、高重复性1）SuperViewW1三维光学表面轮廓仪纳米级白光3D形貌检测采用光学干涉技术、精密Z向扫描模块和3D重建算法组成测量系统，保证测量精度高；2）隔振系统，能够有效隔离频率2Hz以上绝大部分振动，消除地面振动噪声和空气中声波振动噪声，保障仪器在大部分的生产车间环境中能稳定使用，获得高测量重复性；2、环境噪声检测功能具备的环境噪声检测模块能够定量评估出外界环境对仪器扫描轴的震动干扰，在设备调试、日常监测、故障排查中能够提供定量的环境噪声数据作为支撑。3、精密操纵手柄集成X、Y、Z三个方向位移调整功能的操纵手柄，可快速完成载物台平移、Z向聚焦、找条纹等测量前工作。4、双重防撞保护措施在初级的软件ZSTOP设置Z向位移下限位进行防撞保护外，另在Z轴上设计有机械电子传感器，当镜头触碰到样品表面时，仪器自动进入紧急停止状态，最大限度的保护仪器，降低人为操作风险。5、双通道气浮隔振系统既可以接入客户现场的稳定气源也可以接入标配静音空压机，在无外接气源的条件下也可稳定工作。SuperViewW1三维光学表面轮廓仪纳米级白光3D形貌检测可广泛应用于半导体制造及封装工艺检测、3C电子玻璃屏及其精密配件、光学加工、微纳材料及制造、汽车零部件、MEMS器件等超精密加工行业及航空航天、科研院所等领域中。可测各类从超光滑到粗糙、低反射率到高反射率的物体表面，从纳米到微米级别工件的粗糙度、平整度、微观几何轮廓、曲率等。 应用领域对各种产品、部件和材料表面的平面度、粗糙度、波纹度、面形轮廓、表面缺陷、磨损情况、腐蚀情况、孔隙间隙、台阶高度、弯曲变形情况、加工情况等表面形貌特征进行测量和分析。应用范例：部分技术指标型号W1光源白光LED影像系统1024×1024干涉物镜标配：10×选配：2.5× 5× 20× 50× 100×光学ZOOM标配：0.5×选配：0.375× 0.75× 1×物镜塔台标配：3孔手动选配：5孔电动XY位移平台尺寸320×200㎜移动范围140×100㎜负载10kg控制方式电动Z轴聚焦行程100㎜控制方式电动Z向扫描范围10 ㎜主机尺寸（长×宽×高）700×606×920㎜恳请注意：因市场发展和产品开发的需要，本产品资料中有关内容可能会根据实际情况随时更新或修改，恕不另行通知，不便之处敬请谅解。

魔技纳米MJ-Works适用多种材料的超快激光微纳加工中心超快激光微纳加工中心，不仅拥有纳米级3D加工能力，还配备了双波长飞秒激光输出，可加工更广泛的材料。可对玻璃、光纤、晶体内部和表面进行改性或刻蚀，也可对金属、合金、陶瓷等硬质材料进行微米级精度的处理，包括打孔、表面结构处理、选择性激光消融、改性等多种功能。MJ-Works同样拥有高精度、超高速度的特点，并且可进行大幅面加工、全自动操控、长时稳定性、简单直观的软件操作以及适配多种材料的特点，适用于微纳光学、生物医学、半导体、光通信等行业的微纳加工领域。 如需了解更多产品信息，欢迎查询我司官网 魔技纳米科技或来电咨询。 魔技纳米科技创立于2017年，是一家高精度微纳三维装备制造与服务提供商、国家高新技术企业、省专精特新企业。主要业务为高端激光微纳三维直写光刻设备的研发、生产、销售及技术服务等。研发团队拥有十余年微纳三维制造技术经验，在光学、电气、机械、软件、材料等方面，拥有完整的自主开发能力，可以为多行业应用场景提供专业的一体化解决方案。企业推出了高精度纳米级3D打印设备、超快激光加工中心、无掩膜直写光刻设备三大系列及多款光刻胶产品，其中自主研发的商用纳米级三维激光直写系统，可实现70纳米精度的三维结构加工。凭借高精度、高速度、大幅面和长时稳定性等技术优势，实现了科研探索到商业化应用的跨越，有力推动了微纳三维制造在生物医疗、光电通信、新材料、微纳器件、航空航天等领域的规模化工业生产。

基于音圈电机驱动和高精度导向模组实现纳米级超高分辨力的定位/扫描直线运动，内置光栅位移传感器，结构紧凑，通过自主研发的高性能纳米伺服系统获得优异的闭环控制效果，具有纳米级运动分辨率和运动精度，同时兼具高速、高动态位移定位和扫描功能。特点：高精度、高动态、跨尺度、大承载、灵活性应用领域：光学系统中透镜的定位医学装置中精密电子管、真空管控制机械工具的多坐标定位平台柔性机器人中使未端执行器快速精确定位

纳米操作机、纳米机械手、纳米操纵机械臂、纳米操纵仪TNI LF-2000产品简介 TNI LF-2000是目前市面上基于SEM电镜下使用的自动化程度最 高的纳米操作系统，也是一种能够在SEM电镜下提供可重复 定位、低漂移、闭环运动控制定位的纳米操作系统。 产品特性 完全兼容主流电镜，不影响电镜功能 市面上较佳的运动定位性能：大行程、亚纳米分辨率 位移传感器集成自动化和可编程运动 SEM真空环境优化设计，可快速安装与拆卸规格参数应用案例电学特性LifeForce为纳米材料提供可靠、低噪音的电测量，以及与纳米结构的原位相互连接。图片展示的是四探针测量纳米线电学性能。力学测量LifeForce为纳米材料的力学特性提供高分辨率的力和位移反馈，图片展示的是用球端AFM悬臂探针对单根纳米线的拉伸测试。拾取和放置操作使用末端工具（例如：探针、微纳米夹持器、超声切割针），操作者能够操作LifeForce纳米操作手在SEM电镜内对微纳米物体进行推、拉和抓取等操作。制作微纳米器件精密的操作手运动能够实现微纳米器件的快速成型和后处理。图片展示的是纳米线FET传感器的构造。

纳米压印光刻（NIL）EVG是纳米压印光刻（NIL）设备和集成工艺的市场领先供应商。 EVG从15年前的研究方法中率先并掌握了NIL，并实现了从2英寸化合物半导体晶圆到300 mm晶圆甚至大面积面板的各种尺寸基板的批量生产。 NIL是产生纳米尺度分辨率图案的最有前途且最具成本效益的工艺，可用于生物MEMS，微流体，电子学以及最近各种衍射光学元件的各种商业应用。 UV-NIL /SmartNIL系统EV Group为基于紫外线的纳米压印光刻（UV-NIL）提供完整的产品线，包括不同的单步压印系统，大面积压印机以及用于高效母版制作的分步重复系统。EV Group为基于紫外线的纳米压印光刻（UV-NIL）提供完整的产品线，包括不同的单步压印系统，大面积压印机以及用于高效母版制作的分步重复系统。除了柔软的UV-NIL，EVG还提供其专有的SmartNIL技术以及多种用途的聚合物印模技术。高效，强大的SmartNIL工艺可提供高图案保真度，高度均匀的图案层和最少的残留层，并具有易于调整的晶圆尺寸和产量。 EVG的SmartNIL兑现了纳米压印的长期承诺，即纳米压印是一种用于大规模生产微米和纳米级结构的高性能，低成本和具有批量生产能力的技术。选择您的UV-NIL /SmartNIL系统 EVG610 UV-纳米压印光刻系统具有紫外线纳米压印功能的通用研发掩膜对准系统，从小件到最大150毫米 EVG620NT SmartNILUV纳米压印光刻系统具有紫外线纳米压印功能的通用掩模对准系统，采用EVG专有的SmartNIL技术，最大可达100 mm EVG6200NT SmartNILUV纳米压印光刻系统具有紫外线纳米压印功能的通用掩模对准系统，采用EVG专有的SmartNIL技术（最大150毫米）。 EVG720 自动化的SmartNILUV纳米压印系统具有EVG专有的SmartNIL技术的自动全场UV纳米压印解决方案最大可达150毫米。 EVG7200 自动化SmartNILUV纳米压印光刻系统具有EVG专有的SmartNIL技术的自动全场UV纳米压印解决方案最大200毫米 EVG7200LA 自动化的大面积SmartNILUV纳米压印光刻系统大面积无与伦比的共形纳米压印光刻技术。 HERCULESNIL 完全集成的SmartNILUV-NIL系统完全集成的纳米压印光刻解决方案，用于大规模生产，具有EVG专有的SmartNIL压印技术。 EVG770 分步重复纳米压印光刻系统分步重复纳米压印光刻技术，可实现高效的母版制作。 IQAligner 自动化紫外线纳米压印光刻系统高精度UV压印系统，用于晶圆级透镜成型和堆叠。热压花系统EVGroup的一系列高精度热压花系统基于该公司市场领先的晶圆键合技术。热压印是一种具有很高复制精度的经济高效且灵活的制造技术。EV Group的一系列高精度热压花系统基于该公司市场领先的晶圆键合技术。 出色的压力和温度控制以及大面积的均匀性可实现高精度的压印。 热压印是一种经济高效且灵活的制造技术，对于尺寸低至50 nm的特征，其复制精度非常高。 该系统非常适合将复杂的微结构和纳米结构以及高纵横比的特征压印到各种聚合物基材或旋涂聚合物中。 压模与基板对齐的组合可将热压纹与预处理的基板结构对齐。 EVG510HE 热压花系统高度灵活的热压花系统，用于研发和小批量生产。 EVG520HE 热压花系统经过通用生产验证的热压花系统可以满足最高要求。