喷流抛光

金刚石喷雾抛光剂广泛应用于TEM、SEM、光学显微镜及金相等领域的精密研磨、抛光工作。其金刚石喷洒均匀，适合手动与半自动抛光，具有显著的优越性。 可提供不同规格（粒度）的抛光剂，以应用于不同材料。

高效金刚石喷雾抛光剂金刚石是金相制样的最佳磨料，本产品广泛应用于宝石、玻璃、陶瓷、光学玻璃、硬质合金及淬火钢材的高光亮度研磨抛光。用于金相抛光时，更显其独特的优越性，经研磨抛光后的试样更真实地显示其金相组织。不同的材料研磨抛光可选用不同粒度的产品。用于抛磨金相试样中铸铁中石墨，钢铁中夹杂，钢铁中氧化层、渗碳层、涂层时能更真实地显示其金相组织 使用方法:使用前摇动喷雾剂罐，使其磨料充分均匀。然后开启喷雾罐瓶盖，手持喷雾剂罐、倒置轻压喷射至抛光织物上，连喷3-5秒即可进行抛光。粒度：w0.25,w0.5,w1,w1.5,w2.5,w3.5,w5,w7,w10,w14,w20,w28,w40(每罐280克,350毫升)

高效金刚石金相抛光剂采用优质的金刚石微粉，以独特的介质与助剂，融物理与化学作用于一体研制而成；粒度分布均匀，颗粒形貌呈球形八面体，故研磨效果好、不易产生划痕；硬度极高，刃口尖锐锋利，对硬软材料都有良好的研磨作用，只产生研磨作用而无滚压，不产生扰乱层； 主要用于机械研磨、抛光硬质合金、合金钢、高碳钢等高硬材料制件以及金相和岩相试样的精研等。使用方法01. 使用前抛光织物需用清水湿透，避免磨擦热。 02. 启动抛光盘后将抛光剂轻摇后倒置喷出。 03. 喷撒抛光剂时，应以抛光盘中心为圆心，沿半径方向喷出3--5s即可。 04. 新织物喷撒时间相应延长，以使织物的磨削能力更完美。粒度：W0.25、W0.5、W1、W1.5、W2.5、W3.5、W5、W7、W10、W14、W20、 W28、W40包装：每罐250克、350毫升。附注：W为微米μm，国际通用标准。

金相制样中试样磨抛工作的目的是去除变形层（深干扰层）露出真实样品并达到光滑平整的观测表面。去除变形层后获得平整光滑无划痕的样品表面叫做样品抛光，通常使用抛光布盘+抛光液/膏/粉来实现。 抛光布轮也是依据样品硬度来选择的，选择适合的抛光布是用来提高抛光效率，节约制样时间的。（不合适的抛光布也可以最终完成抛光，但是会增加抛光的时间和操作的难度。） 产品材质*产品规格*产品价格浸渍增强无纺布抛光布2FC1型,自粘型，200mm 5片/盒7002FC1型,自粘型，250mm 5片/盒9002FC1型,自粘型，300mm 5片/盒1100合成纤维塔夫绸抛光布2TT1型，自粘型，200mm 5片/盒7002TT1型，自粘型，250mm 5片/盒9002TT1型，自粘型，300mm 5片/盒1100超细天然纤维缎编织抛光布2TS3型,自粘型，200mm 5片/盒6002TS3型,自粘型，230mm 5片/盒7002TS3型,自粘型，250mm 5片/盒8002TS3型,自粘型，300mm 5片/盒900超细天然纤维绸编织抛光布2TS4型,自粘型，200mm 5片/盒6002TS4型,自粘型，250mm 5片/盒8002TS4型,自粘型，300mm 5片/盒900高性能金相专用抛光布盘（背胶型）高性能金相专用抛光布盘（背胶型）高性能金相专用抛光布盘（背胶型）3SE2型，自粘型，200mm 5片/盒6003SE2型，自粘型，250mm 5片/盒8003SE2型，自粘型，300mm 5片/盒900高耐磨羊毛编织抛光布3TL1型,自粘型，200mm 5片/盒 7003TL1型,自粘型，250mm 5片/盒 9003TL1型,自粘型，300mm 5片/盒 1100短植绒抛光布3FV1型,自粘型，200mm 5片/盒5003FV1型,自粘型，250mm 5片/盒7003FV1型,自粘型，300mm 5片/盒800长植绒抛光布4FV1型,自粘型，200mm 5片/盒5004FV1型,自粘型，230mm 5片/盒6004FV1型,自粘型，250mm 5片/盒7004FV1型,自粘型，300mm 5片/盒800高性能金相专用抛光布盘（背胶型）高性能金相专用抛光布盘（背胶型）高性能金相专用抛光布盘（背胶型）高性能金相专用抛光布盘（背胶型）4MP1型,自粘型，200mm 5片/盒11004MP1型,自粘型，230mm 5片/盒14004MP1型,自粘型，250mm 5片/盒16004MP1型,自粘型，300mm 5片/盒1900 金相制样中试样磨抛工作的目的是去除变形层（深干扰层）露出真实样品并达到光滑平整的观测表面。去除变形层后获得平整光滑无划痕的样品表面叫做样品抛光，通常使用抛光布盘+抛光液/膏/粉来实现。 抛光布轮也是依据样品硬度来选择的，选择适合的抛光布是用来提高抛光效率，节约制样时间的。（不合适的抛光布也可以最终完成抛光，但是会增加抛光的时间和操作的难度。）抛光过程可以分为初抛和终抛两个过程，初抛会使用浅层强支撑织物来去除去薄或者预抛过程中产生的较深划痕，获取平整的样品表面，终抛会使用深层软支撑来去除剩下的较浅的细微划痕，达成完美光滑观测面。预抛时底部由硬质磨盘支撑，金刚石悬浮液只能磨薄表面接触损伤层并且会产生新的变形层（深干扰层）预抛时底部由软质织物支撑，金刚石悬浮液在消除表面接触损伤层和变形层时不会产生新的变形层（深干扰层）1.抛光布一旦和磨料配伍是很难清洗干净的，如需更换磨料只能向上匹配，如用过3um可使用6um的磨料，但不能在使用1um的磨料.2.抛光布在使用磨料前需要充分润湿，以便磨料颗粒的分散和与纤维空间的结合。a.使用悬浮液的可以用水充分润湿后，甩去浮水开始滴加悬浮液。b.使用抛光膏和抛光喷雾的可以使用具备乳化和悬浮活性的专用润滑稀释液702型（水敏感的使用704型）来润湿，先喷抛光喷雾或者涂抛光膏再喷稀释液润湿。3.抛光布是可以短期内重复使用的，在二次使用前，使用专用润滑稀释液来润湿，可以有效唤醒织物中沉积的磨料重新发挥作用。4.抛光布经过多次使用后会有样品碎屑残留，是需要清洗的，清洗的方法是使用通用复合清洁剂742型或者使用的悬浮液布面用清水，使用抛光膏的用酒精，低转速配合塑料刮片由中心向边缘清洁。

Akasel是一家丹麦公司，专门从事开发、生产和销售高质量的金相耗材以及最佳的金相制备方法。 凭借创始人Morten Damgaard在金相学方面的专业知识和实践经验，再加上对可持续性创新解决方案的不懈追求，不断努力，推进金相耗材的开发，提高金相样品制备的效果，创造易于执行的制备方法。经过多年的发展，这个在车库里迈出第一步的公司现在已经成功地将高品质的金相耗材以及高效的制备方法传播到全世界。 如果您为目前样品制备过程的繁琐所累，请联系我们，我们的技术专家将免费为您进行制备流程优化。氧化物抛光某些材料需要使用亚微米级的oxide polishing suspensions才能去除最后的变形。在一般的应用中，可使用alumina悬浮液，对于要求更高的应用，硅悬浮液是最好的选择。氧化硅悬浮液起到化学-机械抛光作用。在抛光过程中，样品表面会受到轻微侵蚀。亚微米级二氧化硅颗粒可将这一侵蚀层去除，使样品表面完全无变形。对于水敏感材料或具有水敏感夹杂物的材料，建议使用我们的无水热解二氧化硅悬浮液。 我司所有的oxide polishing suspensions不结晶、不沉淀，并且含抗干燥剂，使清洁更轻松。根据要抛光的材料，您可以往悬浮液中添加各种化学物质，从而优化化学-机械抛光效果。我们的oxide polishing suspensions可帮助您在非常短的时间内获得出色的抛光效果。我们提供了多种二氧化硅和氧化铝oxide polishing suspensions，可用于不同材料的最终抛光，其中包括：超细粒状硅胶悬浮液或稍粗的热解二氧化硅悬浮液，粒径为0.050μm至0.2μm（50至200 nm）。一种独特的无水悬浮液，0.2μm热解二氧化硅悬浮液。一种pH中性alumina polishing suspension。 常见问题解答：哪种材料需要增加氧化物抛光这一步骤？对于许多材料，用1μm金刚石抛光可获得令人满意的结果。但是，如果您需要绝对无划痕的抛光，尤其是对于柔软而易延展的材料，则使用氧化物抛光作为最后一步可以显着改善结果。利用最后的氧化物抛光步骤可以缩短我的制备时间吗？是的，由于结合了化学/机械材料去除，氧化物抛光通常很快完成。因此，用氧化物抛光步骤代替细粒度diamond polishing步骤可以减少制备时间。但是，氧化物抛光会轻微侵蚀样品的表面，如果不希望出现这种情况（例如图像分析时），应避免使用氧化物抛光。

产品名称：铜抛光液/合金铜抛光液/铜表面抛光液/金属研磨液/镜面抛光液合金铜CMP抛光液作用:吉致电子金属类抛光液适用于平面形态的铜、合金铜工件的镜面抛光，CMP抛光工序通过大量磨擦和化学反应作用，可以使铜金属表面得到加工和平整坦化。化学氧化铜金属后磨蚀性去除氧化物部分的机制可得到理想镜面效果，工件表面光滑平整具有易清洗、无残留等特点。吉致可提供铜/合金铜金属的镜面抛光液1、微米/纳米级抛光液，抛光后具有均匀镜面效果2、磨料颗粒呈悬浮状态，不易分散沉淀，提高CMP效率和稳定性3、铜专用抛光液磨料硬度高、稳定性好、化学惰性强*可以依客户不同工艺要求，提供定制化服务*提供全套解决方案，及免费安排工程师上门服务李女士17706168670

产品名称：钼抛光液/金属钼抛光/激光反射镜抛光液/CMP研磨液/镜面抛光液金属钼片抛光液作用:吉致电子金属类抛光液适用于平面形态的钼、钼合金工件的镜面抛光，CMP抛光工序通过大量磨擦和化学反应作用，可以使钼金属表面快速去粗和平整坦化。化学氧化腐蚀钼合金表面，研磨去除氧化物部分的机制可得到理想镜面效果，金属钼工件表面光滑平整具有易清洗、无残留等特点。吉致可提供钼片/金属钼的镜面抛光液1、微米/纳米级抛光液，抛光后具有均匀镜面效果2、磨料颗粒呈悬浮状态，不易分散沉淀，提高CMP效率和稳定性3、钼片专用抛光液磨料硬度高、稳定性好、化学惰性强，吉致电子金属钼抛光液可用于钢铁、化工、电子、航天、光学领域的钼片加工，达到优良的表面平坦度，抛光速率快、表面均一无缺陷。*可以依客户不同工艺要求，提供定制化服务*提供全套解决方案，及免费安排工程师上门服务

美国QMAXIS金相抛光布原装进口美国QMAXIS抛光布，由各种高品质的抛光织物制成，无绒、短绒和长绒等不同编织属性的金相抛光布，与不同粒度的金刚石或氧化物抛光液配合使用，适用于各种材料的表面抛光。背衬有带背胶和磁性背衬两种，更换更方便——提高制样效率；表面更平整——为高品质的抛光效果奠定基础。粗抛：PlanCloth, PerfoCloth, NylonCloth中抛：DuraCloth, SatinCloth, SilkCloth精抛：MicroMet, VelCloth, FlocCloth, ChemoCloth应用于粗抛光阶段的金相抛光布订货信息：产品描述背衬包装规格8in[203mm]10in[254mm]12in[305mm] PlanCloth 抛光布 聚酯纤维尼龙紧密编织，无绒 配合6µ m及以上的金刚石抛光 液，应用于铁基、热喷涂金属涂 层和硬的/非常硬的材料的抛光PSA10片/包PCC-01-08PCC-01-10PCC-01-12Magnetic5片/包PCC-01-08MDPCC-01-10MDPCC-01-12MD PerfoCloth 抛光布 带孔的、硬的合成化纤无纺布 配合6µ m及以上的金刚石抛光 液，应用于陶瓷、碳化物、岩 相、硬质合金、玻璃和金属等 材料的抛光PSA5片/包PCC-02-08PCC-02-10PCC-02-12Magnetic5片/包PCC-02-08MDPCC-02-10MDPCC-02-12MD NylonCloth 抛光布 尼龙织物，无绒 配合6μm及以上的金刚石抛光 液，应用于铁基、烧结碳化物和 铸铁等材料的抛光PSA10片/包PCC-03-08PCC-03-10PCC-03-12应用于中等抛光阶段的金相抛光布订货信息：产品描述背衬包装规格8in[203mm]10in[254mm]12in[305mm] DuraCloth 抛光布 硬的合成压缩无纺布，无绒 配合9µ m及以下的金刚石、 Al2O3、SiO2 抛光液，应用于 黑色金属、有色金属、电子封 装、印刷电路板、热喷涂涂层、 铸铁、陶瓷、矿物、复合材料 和塑料等材料的抛光PSA10片/包PCI-01-08PCI-01-10PCI-01-12Magnetic5片/包PCI-01-08MDPCI-01-10MDPCI-01-12MD SatinCloth 抛光布 人工合成丝和天然丝紧密编织， 无绒 配合9µ m及以下的金刚石、 Al2O3、SiO2抛光液，应用于 黑色金属、有色金属、岩相、 陶瓷和涂层等材料的抛光PSA10片/包PCI-02-08PCI-02-10PCI-02-12Magnetic5片/包PCI-02-08MDPCI-02-10MDPCI-02-12MD SilkCloth 抛光布 纯丝紧密编织，无绒 配合9µ m-1µ m的金刚石抛光 液，特别适合抛光膏及液体抛 光蜡等抛光介质，应用于黑色 金属、有色金属、微电子、涂 层和岩相等材料的抛光PSA10片/包PCI-03-08PCI-03-10PCI-03-12Magnetic5片/包PCI-03-08MDPCI-03-10MDPCI-03-12MD应用于精细抛光阶段的金相抛光布订货信息：产品描述背衬包装规格8in[203mm]10in[254mm]12in[305mm] MicroMet 抛光布 人造纤维与棉背衬编织，长绒 配合3µ m及以下的金刚石、 Al2O3、SiO2抛光液，应用于所 有材料的精细抛光PSA10片/包PCF-01-08PCF-01-10PCF-01-12Magnetic5片/包PCF-01-08MDPCF-01-10MDPCF-01-12MD VelCloth 抛光布 软的人造天鹅绒，短绒 配合1µ m及以下的Al2O3、SiO2 抛光液，应用于软的金属和电子 封装等材料的精细抛光PSA10片/包PCF-02-08PCF-02-10PCF-02-12 FlocCloth 抛光布 软的长绒织物 配合3µ m及以下的金刚石、 Al2O3、SiO2抛光液，应用于黑 色金属、有色金属和烧结碳化物 等材料的最终抛光，配合氧化铝 抛光粉则适用于所有材料，特别 适合手动抛光和未镶嵌试样的精 细抛光PSA10片/包PCF-03-08PCF-03-10PCF-03-12Magnetic5片/包PCF-03-08MDPCF-03-10MDPCF-03-12MD ChemoCloth 抛光布 耐化学腐蚀合成织物，无绒 配合1µ m及以下的Al2O3、SiO2 抛光液，应用于钛合金、不锈 钢、铅/锡焊料、电子封装、软 的有色金属和塑料等材料的精细 抛光PSA10片/包PCF-04-08PCF-04-10PCF-04-12Magnetic5片/包PCF-04-08MDPCF-04-10MDPCF-04-12MD

Akasel是一家丹麦公司，专门从事开发、生产和销售高质量的金相耗材以及最佳的金相制备方法。 凭借创始人Morten Damgaard在金相学方面的专业知识和实践经验，再加上对可持续性创新解决方案的不懈追求，不断努力，推进金相耗材的开发，提高金相样品制备的效果，创造易于执行的制备方法。经过多年的发展，这个在车库里迈出第一步的公司现在已经成功地将高品质的金相耗材以及高效的制备方法传播到全世界。 如果您为目前样品制备过程的繁琐所累，请联系我们，我们的技术专家将免费为您进行制备流程优化。金刚石抛光膏多晶和单晶金刚石；15 μm至0.25 μm 金刚石抛光膏主要用于手工样品制备，或在使用金刚石悬浮液和金刚石喷雾之前打底新的抛光布。Aka-Paste多晶和Aka-Paste单晶金刚石抛光膏易于分配，均匀且与水、油、甘油和酒精相容。它们最多含0.1%的水，非常适合水敏感材料的制备。可帮助您以最短时间完成样品制备。所有的Akasel diamond polishing pastes均为高度浓缩产品，其金刚石含量为500 ct/l（克拉/升）。常见问题解答：金刚石抛光膏只能用于金相制备吗？我们的金刚石抛光膏具有很高的金刚石浓度以及高粘度，所以它也非常适合用于其他工业用途，例如精密工具零件的研磨或抛光等。在抛光布上涂抹金刚石抛光膏的最佳方法是什么?使用注射器在直径为300 mm的盘片上分大概10个点涂抹少量的约5 mm长的金刚石抛光膏，盘片较小的则少涂一些。使用少许润滑剂，将金刚石抛光膏擦入布中。涂完就可以投入使用了。什么时候使用金刚石抛光膏会更有优势？当需要尽可能高的金刚石浓度时，便可以选用金刚石抛光膏。

金相抛光布是金相制抛光工序最重要的一步，其金相组织呈现的清晰度与抛光息息相关，抛光质量的好坏与抛光布也有紧密的关系。金相抛光布规格有φ200mm；φ220mm；φ230mm；φ250mm及其它定制规格；带背胶或不带背胶。金相抛光布规格有：帆布、平绒、丝绒、真丝、丝绸、呢绒、法兰绒、精抛绒等。

抛光布简介一、产品特点： 抛光布是专门用于金相制样时的粗抛和精抛。适用国内、外各种型号、规格的金相抛光机，尤其适用于半自动或全自动金相抛光机。金相抛光织物系列由抛光层、存储磨料层、保护层等多层组成，其中最重要的一层是真正用于抛光的抛光织物层。该层精选了高强度的、不同绒毛长度和布纹的、适合于金相抛光用的织物为材料。从而使本抛光织物具有优良的抛光效果和较长的使用寿命。二、抛光布直径及匹配的磨抛机： Φ200mm带胶抛光布→适用于磨盘直径200mm的磨抛机； Φ230mm带胶抛光布→适用于磨盘直径230mm的磨抛机； Φ250mm带胶抛光布→适用于磨盘直径250mm的磨抛机。 三、抛光布种类：

专用于岩石薄片抛光时使用、其配合抛光料一齐应用效果更佳，抛光布质地结实、外表美观大方，结实耐用，适用于各种岩石薄片制备时使用，一包10张，各种尺寸抛光布：分常规性、粘贴性、磁吸性。直径有Q200、Q250、Q300

AKO金属抛光膏不含硅树脂，适于清洁EM零件。AKO在工业领域和家用等领域也得到了广泛地使用，如挤出机，滚筒等工业机械部件。AKO金属抛光膏可以用来抛光和保养基本上所有材料的金属部件，如不锈钢、镀铬、铝、铜、黄铜、银(不使用油漆或电镀金属上)。 Wenol金属抛光膏适用于抛光所有的金属表面。欢迎登陆海德公司网站或来电获取详细信息。 订购信息：货号产品名称规格71830AKO Metal Polish,AKO金属抛光膏100ml71832Wenol Metal Polish，WENOL金属抛光膏100ml

金相抛光织物适用于各种金相试样及仪器、仪表等零件的精密抛光。精抛后能达到光洁度▽8-▽12。选对抛光织物与相对应的磨料粒度对称，是抛出理想光洁度的关键。抛光织物由抛光层、存储磨料层、保护层等多层组成，其中最重要的一层是真正用于抛光的抛光织物层。该层精选了高强度的、不同绒毛长度和布纹的、适合于金相抛光用的优质织物为材料。

进口抛光布-背胶 品种多样，便于选择。选择合适的抛光布是非常关键的一步， 新一代抛光布更专业、更耐用和具有更好的制样效果。 本产品广泛应用于国内外各种金相抛光，适用范围广国产抛光布-背胶 品种多样，便于选择。选择合适的抛光布是非常关键的一步，新一代抛光布更专业、 更耐用和更好的制样效果。本产品广泛应用于国内外各种金相抛光，适用范围广。

产品分类：吉致电子抛光垫产品名称：阻尼布抛光垫/碳化硅SIC精抛垫/Politex抛光垫FUJIBO抛光垫替代产品特点：吉致电子抛光垫满足低、中及高硬度材料抛光需求，针对碳化硅SIC抛光的4道工艺制程搭配不同型号抛光垫（粗磨垫/精磨垫/粗抛垫/精抛垫）具有高移除率、高平坦性、低缺陷和高性价比等优势。产品工艺及用途：柔软表面与特殊微孔洞结构，适用于碳化硅SIC衬底、各类晶圆、IC制造等CMP工艺高精细、高平坦化的制程。具有缓冲与晶背保护的效果。吉致电子碳化硅抛光垫价格：吉致电子抛光垫生产引进国外技术，可以媲美进口抛光垫PAD/阻尼布抛光垫产品（Politex/Fujiba/SUBA/环球等国产替代）品质稳定。选择吉致电子抛光垫产品，价格美丽，比进口抛光垫/精抛垫便宜，交货期稳定，性价比更高！

悬浮抛光液包括金刚石悬浮抛光液、二氧化硅悬浮抛光液、氧化铝悬浮抛光液。主要特点1、金刚石悬浮抛光液适用于氧化镁、氧化锆、铌酸锂、钛酸锶、钽酸锂及各种有色、黑色金属的最后精抛。2、二氧化硅悬浮抛光液适用于砷化镓、磷化镓、单晶硅片、陶瓷、黑色金属及各种有色金属的最后精抛。技术参数1、金刚石悬浮抛光液粒度：W0.25、W0.5、W1、W1.5、W2、W3、W5、W7、W9、W14、W20、W28、W40、W602、二氧化硅悬浮抛光液粒度：50nm3、氧化铝悬浮抛光液粒度：50nm、80nm

产品名称：陶瓷抛光液/氧化锆抛光液/氧化铝抛光液/氮化硅抛光液/氮化铝抛光液陶瓷抛光液作用: 吉致电子陶瓷类抛光液适用于碳化物、氮化物、氧化物和硼化物各精密陶瓷件的镜面抛光，通过CMP抛光工序可得到理想镜面效果，表面光滑平整具有易清洗、无残留等特点。产品特点：吉致可提供各陶瓷类的镜面抛光液1、纳米级抛光液，抛光后具有较优的粗糙度2、抛光液绿色环保、不含卤素及重金属元素3、抛光液可循环使用，根据工艺要求可添加去离子水稀释可定制化：可以依客户不同工艺要求，提供定制化服务 包裝方式：25KG/桶(也可依客户需求)

无锡吉致电子25年研发生产——碳化硅晶圆抛光液/硅衬底SIC抛光液/半导体抛光液/CMP化学机械抛光液/硅衬底抛光液/slurry抛光液产品简介：为电力电子器件及LED用碳化硅晶片的CMP化学机械平坦化配制的抛光液。CMP抛光液大大提高了碳化硅晶圆表面去除率和平坦化性能，提供了非常好的表面光洁度吉致电子碳化硅晶圆Slurry抛光液使用方法：1.可根据抛光操作条件用去离子水进行5-20倍稀释。2.稀释后，粗抛时调节PH11左右，精抛时调节PH9.5左右。pH调节可以用10%的盐酸、醋酸、柠檬酸、KOH或氨水在充分搅拌下慢慢加入。3.循环抛光可以用原液。吉致电子碳化硅晶圆Slurry抛光液储存方法：1.贮存时应避免曝晒，贮存温度为5-35℃2.低于0℃以上储存，防止结冰，在无度以下因产生不可再分散结块而失效。 3.避免敞口长期与空气接触。吉致电子碳化硅晶圆Slurry抛光液价格：吉致电子的碳化硅晶圆抛光液生产技术是引进国外生产技术和设备，特殊化学配方制备而成。吉致电子抛光液品质可以媲美进口同类产品。本土化生产使得吉致电子CMP抛光液产品交货周期快，品质好，抛光液价格亲民。

悬浮抛光液包括金刚石悬浮抛光液、二氧化硅悬浮抛光液、氧化铝悬浮抛光液。金刚石悬浮抛光液适用于氧化镁、氧化锆、铌酸锂、钛酸锶、钽酸锂及各种有色、黑色金属的精抛。二氧化硅悬浮抛光液适用于砷化镓、磷化镓、单晶硅片、陶瓷、黑色金属及各种有色金属的精抛。氧化铝抛光液主要用于透明陶瓷材料的抛光，也可用于其它材料的抛光，抛光过程中根据被抛光材料的不同选用适合的抛光液进行抛光，悬浮抛光液以液态形式存在，可均匀分布于抛光盘的表面，有利于抛光过程的顺利进行。 产品名称金刚石悬浮抛光液、二氧化硅悬浮抛光液、氧化铝悬浮抛光液主要特点1、金刚石悬浮抛光液适用于氧化镁、氧化锆、铌酸锂、钛酸锶、钽酸锂及各种有色、黑色金属的精抛。2、二氧化硅悬浮抛光液适用于砷化镓、磷化镓、单晶硅片、陶瓷、黑色金属及各种有色金属的精抛。3、氧化铝抛光液主要用于透明陶瓷材料的抛光，也可用于其它材料的抛光。产品参数1、金刚石悬浮抛光液粒度：W0.25、W0.5、W1.0、W1.5、W2.5、W3.0、W3.5、W5.0、W7.0、W9.02、二氧化硅悬浮抛光液粒度：50nm 3、氧化铝悬浮抛光液粒度：50nm、80nm

UNIPOL抛光膏配方与WenolL抛光膏相似，被广泛用于电镜、离子束系统、真空镀膜系统、衬底及日常的实验室应用。UNIPOL抛光膏配方对于硬金属（如不锈钢、镀铬表面）均能得到满意效果，UNIPOL抛光膏亦适用于清洁抛光控制电极。UNIPOL抛光膏为油基、不含硅脂，溶解大多数碳氢化合物。不建议UNIPOL抛光膏应用于铝等软金属。

UNIPOL抛光膏配方与WenolL抛光膏相似，被广泛用于电镜、离子束系统、真空镀膜系统、衬底及日常的实验室应用。UNIPOL抛光膏配方对于硬金属（如不锈钢、镀铬表面）均能得到满意效果，UNIPOL抛光膏亦适用于清洁抛光控制电极。UNIPOL抛光膏为油基、不含硅脂，溶解大多数碳氢化合物。不建议UNIPOL抛光膏应用于铝等软金属。

磨光用抛光布：与金刚石悬浮液配合使用、材料去除率高、边缘保护好。 抛光用抛光布：与氧化物悬浮液配合使用，无材料去除、表面应力划痕去除。

无锡吉致电子25年研发生产——钨抛光液/W CMP Slurry/W 抛光液/半导体研磨液/CMP抛光液/化学机械抛光液/CMP化学机械抛光液slurry/CMP集成电路抛光液钨W抛光液作用: 吉致电子钨W抛光液适用于8-12吋氧化硅镀膜片的抛光。特选粒径均一的SiO2水溶胶为磨料，抛光清洗后晶圆表面粗糙度低、颗粒残留少。与国内外同类产品相比，具有易清洗、表面粗糙度低等特点.我司产品优点： 1.悬浮性好，不易沉淀，使用方便。2.颗粒分散均匀，不团聚，软硬度适中，有效避免抛光过程中由于颗粒团聚导致的工件表面划伤缺陷。3.运用抛光过程中的化学新作用，提高抛光速度，改善抛光表面的质量。4.分散性好、乳液均一，程度提升抛光速率的同时降低微划伤的概率，可以提高抛光精度。5.无粉尘产生，关注环保和人体健康安全。可定制化：我们的抛光液可以根据客户需求定制不同的PH、粒径、浓度、稳定离子等。包裝方式：25KG/桶(也可依客户需求)吉致电子CMP抛光液/Slurry抛光液价格：吉致电子的CMP金属抛光液生产技术是引进国外生产技术和设备，特殊化学配方制备而成。吉致电子抛光液品质可以媲美进口同类产品。本土化生产使吉致电子CMP抛光液产品交货周期快，品质好，抛光液价格实惠亲民。吉致电子CMP抛光耗材适用范围吉致电子科技有限公司拥有成熟的加工工艺，为不锈钢、铜、铝、陶瓷、导光板、五金产品、蓝宝石、光学玻璃等各类抛光加工服务。为您提供可靠有效抛光解决方案！

抛光材料为美国标乐公司抛光材料一瓶1.0 um - 氧化铝粉，一瓶0.3 um -氧化铝粉，1大瓶 0.05 um -氧化铝粉，2块固定抛光布用的玻璃板，5片73mm直径1200金相砂纸（灰色），5片73mm直径尼龙抛光布（白色）和10片73mm直径Microcloth抛光布(咖啡色)。

AKO金属抛光膏不含硅树脂，适于清洁EM零件。AKO在工业领域和家用等领域也得到了广泛地使用，如挤出机，滚筒等工业机械部件。AKO金属抛光膏可以用来抛光和保养基本上所有材料的金属部件，如不锈钢、镀铬、铝、铜、黄铜、银(不使用油漆或电镀金属上)。 Wenol金属抛光膏适用于抛光所有的金属表面。欢迎登陆海德公司网站或来电获取详细信息。 订购信息：货号产品名称规格71830AKO Metal Polish,AKO金属抛光膏100ml71832Wenol Metal Polish，WENOL金属抛光膏100ml

使用Specac窗片抛光工具包让您的窗片保持最佳状态！ 窗片抛光工具包包含了所有清理和抛光红外传输窗片必不可少的工具和材料。 简单的抛光既有效又经济。 包括完整说明和所有易损件的更换。 订购信息 04000：窗片抛光工具套件 窗片抛光工具包括下面列出的项目（每个项目可单独订购） 04030：光学平台(玻璃平板) 04070：玻璃抛光圈抛光绒布 04010：抛光绒布（5片） 04020：平滑圈研磨纸 04090：备用研磨纸（平滑圈用） 04040：聚乙烯瓶（2支） 04050：清洁海绵 04060：红铁粉（75g） 04080：非粘性绒布平条（2片） 04095：毛刷（2把）

名称型号规格价格（元） 电极抛光材料（美国进口） 120抛光材料整套9001.0微米抛光粉（4.5g）1000.3微米抛光粉（4.5g）1000.05微米抛光粉（17g）150抛光绒布（张）40尼龙抛光布（张）40金相砂纸（张）15

为消除变形并获得高反射表面，需要具有不同弹力的不同磨料和抛光布。使用与设备配套的 Struers 耗材是确保优异抛光性能的理想方式。这是因为每种机器和耗材被设计成适于配合使用，以控制抛光过程的所有参数，从而帮助您充分利用您的投资。 抛光布、金刚砂粒度和润滑剂的选择取决于要抛光的材料。无论您对氧化物抛光还是金刚砂抛光感兴趣，Struers始终能够满足您的需求。 DiaPro是专为实现超高性能和效率而开发的一系列金刚石悬浮液，可将制备时间平均缩短30%。每种DiaPro悬浮液针对特定表面开发并且经过优化，可提供出色的平整度、边缘保护和再现性。 只有Struers耗材才能充分发挥Struers设备的优势。

Akasel是一家丹麦公司，专门从事开发、生产和销售高质量的金相耗材以及最佳的金相制备方法。 凭借创始人Morten Damgaard在金相学方面的专业知识和实践经验，再加上对可持续性创新解决方案的不懈追求，不断努力，推进金相耗材的开发，提高金相样品制备的效果，创造易于执行的制备方法。经过多年的发展，这个在车库里迈出第一步的公司现在已经成功地将高品质的金相耗材以及高效的制备方法传播到全世界。 如果您为目前样品制备过程的繁琐所累，请联系我们，我们的技术专家将免费为您进行制备流程优化。抛光布Akasel的抛光布适用于金属和其他材料的抛光，是我司在丹麦的工厂专门开发和生产的，因此，我们可以保证每块抛光布的均匀性和质量。这也意味着，除了标准尺寸外，我们还可以根据要求提供任何尺寸或直径的Aka抛光布，最大可达1250 mm。Akasel的抛光布（Aka-）具有以下优点：布纤维与一种耐水、乙醇和油的聚合物阻隔层层压在一起，可保护布料免于磨损，并确保金刚石与样品表面保持良好接触，从而以最低的成本完成快速制备。低粘性的胶将抛光布牢牢地保持在盘上，同时易于清除，且不会在制备盘上留下任何残留物用于磁性支持盘的Mag磁性抛光布与上述抛光布相同，但层压在钢盘上。这些钢制圆盘配有3个卡口，便于拆卸。我们的抛光布种类繁多，涵盖金刚石抛光、最终金刚石抛光和氧化物抛光，可为所有材料实现出色的制备效果。Plaran是一种编织尼龙cloth，可用于软质材料的精细研磨和硬质材料的抛光。建议与15-3 μm的金刚石悬浮液一起使用。Paran-S是一种无纺涤纶cloth，可用于软质材料的精细研磨和抛光硬质材料。建议与15 – 1 μm的金刚石悬浮液一起使用。丝绸是一种100%编织的丝绸抛光布，可用于黑色金属的精细研磨以及抛光，包括对较硬材料和涂层的最终抛光和氧化物抛光。建议与9 – 0.25 μm的金刚石悬浮液一起使用。Ramda是一种醋酸编织cloth，可用于所有材料的抛光。它比Daran硬。建议与3 – 1 μm的金刚石悬浮液一起使用。 Daran是一种醋酸编织cloth，可用于所有材料的抛光。它比Ramda柔软，也可用于氧化物抛光。建议与6 – 0.25 μm的金刚石悬浮液一起使用。Moran-U是一种100%羊毛编织布，可用于有色金属和黑色金属的抛光和最终抛光。建议与6 – 1 μm的金刚石悬浮液一起使用。Moran是一种100%羊毛编织布，可用于有色金属和黑色金属的抛光。建议与6 – 3 μm的金刚石悬浮液一起使用。 Plural是一种植绒粘布，可快速地一步抛光钢铁、烧结碳化物和其他硬质材料。它还可以用于抛光未经镶嵌的样品。建议与3 – 1 μm的金刚石悬浮液一起使用。Napal是一种植绒粘布，可对所有材料进行最终抛光，包括氧化物抛光。建议与1 – 0.025 μm的金刚石悬浮液一起使用。 Chemal是一种合成泡沫布，与氧化物悬浮液一起，用于对所有材料进行化学/机械最终抛光。 常见问题解答：如何清除制备盘上抛光布的胶水残留物？我们的Aka-polishing cloths配有低粘性胶水，不会在制备盘上留下任何残留物如果抛光布脏了，可以清洗吗？如果您在抛光后遇到划痕，而这在实际的步骤中并不常见，那么这可能是抛光布被某些外来颗粒或较早之前的步骤中遗留的磨料颗粒污染的迹象。对于非常细的颗粒（1 μm或更细），清洗抛光cloth几乎是不可能的，但是对于较粗的颗粒（3 μm），则应该是可行的。您可以利用指甲刷或类似工具，在流动的温水下仔细刷洗抛光布，将所有碎屑清除掉。清洗后，利用机器旋转甩干抛光cloth。当抛光cloth完全干燥后，您可以再次使用它，将它视为新布，并进行所有的涂底处理。如果污染物来自较早的制备步骤，则必须确保样品在从一个步骤到下一个步骤时是绝对干净的。您还需要确保样品已正确镶嵌（使用冷镶嵌环氧树脂），以免碎屑夹在树脂和样品之间的镶嵌间隙中。