T-SERS表面增强拉曼芯片
T-SERS表面增强拉曼芯片: 可以增强1000万倍信号!! 纳米雕刻表面增强拉曼散射(SERS)@银 -表面光谱技术 自然界里的分子与细胞皆有拉曼光谱指纹,但是其信号微弱 纳米表面增强基板可将拉曼光谱讯号增强数百万倍以上的强度,解决光谱分析上的困难。T-SERS表面增强拉曼基板使用新颖的纳米雕刻技术,藉由等离子体在近场金属纳米结构的交互作用,增强待测目标的拉曼讯号。 气相沉积纳米雕刻技术 纳米雕刻技术属于一种物理气相真空镀膜方式,使用电子枪系统将粒状固态金属靶材溶化并以磁场轰击转换成气态分子,在基板上成长纳米孔隙结构 借着调整基板载台的方向与镀膜参数可以控制纳米结构的尺寸与外型。此镀膜技术具有大面积、高均匀度之特点。TRES表面增强拉曼基板使用常见的金属材料(如金、银、铜等),做为激发广波长范围的纳米等离子体结构,可有效的增强待测分子或细胞的拉曼信号。 相比于目前市场上可增强100万倍信号的产品,T-SERS的效果可以再增强1个数量级以上。如下图,我们可以探测到0.1ppm级别浓度的三聚氰胺。 优点 &bull 适用于宽光谱激光激发范围(532nm到 785nm, 可选:1064nm) &bull 一千万倍表面增强拉曼信号(大多数吸附表面待测分子) &bull 高表面结构均匀度与良好拉曼信号重复性 应用项目 &bull 植物病毒检验 &bull 食品安全 &bull 农作物农药残留检验 &bull 环境污染监测 &bull 药物成份分析 &bull 细胞、病毒侦测 &bull 水污染侦测 &bull 科学辨识 T-SERS表面增强拉曼芯片规格 有效区域 标准尺寸: 3 x 3mm2 客制尺寸:2 x 2mm2 ,4 x 4mm2 金属镀膜/硅芯片 基板 载玻片(75mm x 25mm x2mm) 金属材料 银 制程方式 物理气相沉积 适合激发波长/量测条件 标准 :532nm, 633nm, and 785 nm 选配:1064nm 10X物镜倍率 湿式量测(建议) 增强倍率 10,000,000 (大多数可吸附表面之待测分子)@Rh6G 产品代码 TRES_SUB_AG