甲基三甲基硅烷基三氟

三甲基氯硅烷工艺装置主要由溶解釜、加料釜、反应釜、接收罐、碱液釜和渣浆釜等组成。 其主要仪表及管阀件均采用高性能产品，装置非标采用耐腐蚀材质。PLC 系统采集确保操作人员安全。 装置的整体水平要求自动化程度高，数据精确度及重复性好，安全可靠 并能长周期稳定运行

GASTEC快速气体检测管无论何时由于不用分析仪器和化学药剂，省略了测量前的准备工作，无论何时都可以进行测定。无论何地极为小巧便于携带，只要有微量的空气就可以进行测定，最适合于现场测定。无论何人测定的操作非常简单，无论专业人士或非专业人士。多种气体GASTEC快速气体检测管可以检测多达300余种气体。检测快速测定的结果几分钟就可得到，可以立即转入下一步操作。过程安全日本GASTEC快速气体检测管不用电源，热源，不产生火花，即使有易燃易爆的气体存在，也可以确保操作安全。选型指南型号被测物质分子式可检测范围 ppm134四氯化碳CCl40.5-60134L0.25-111351,1,1- 三氯乙烷（甲基氯仿）CH3CCI3100-2000135L6-900136H甲基溴CH3Br10-600136L2.5-200136LA1-36136LL0.1-3.0137氯仿CHCl34-400137LA0.5-30137LL0.3-4.5138二氯甲烷CH2Cl220-500138L4-150

MERX全自动烷基汞分析系统，全球烷基汞用户的选择，满足美国EPA标准及《水质烷基汞的测定吹扫捕集/气相色谱-冷原子荧光光谱法》（HJ977-2018），为双标准制定和验证使用仪器；模块化设计，可升级为烷基汞/总汞二位一体分析系统，检出限可达0.002ng/L，重复性好，结果准确可靠。 在汞循环中，汞是以多种形态存在的，汞的毒性取决于化学形态，汞基本上有3种形态:元素汞、无机汞、有机汞(以甲基汞为主)，它们的中毒症状和暴露途径各不相同。现代研究已经证明，不同形态汞的毒性差别很大，如甲基汞的毒性是无机汞的100 倍以上，而且甲基汞具有亲脂性，更容易和生物体结合，穿过细胞膜和血脑屏而造成毒害。因此，测定元素特定的化学形态的含量，测定有机汞而不仅仅是总汞，对于解释它们的生物化学行为和评价对环境的潜在危害是很有必要的。 采用气液分离器、多通道吹扫和Tenax捕集技术，将液体中的烷基汞（甲基汞，乙基汞）进行吹扫并通过捕集阱富集，然后对捕集阱进行快速加热，烷基汞（甲基汞，乙基汞）被解析随载气进入气相色谱进行分离和高温裂解还原，最后通过冷原子荧光检测器，检测烷基汞的含量；符合并被美国EPA 1630分析方法推荐。 技术指标： ● 多功能自动进样器 -双进样模式。 -高通量：高达72个样品位。 -全封闭型进样。 ● 烷基汞吸附及吹扫模块 -平行三通道Tenax 捕集阱交替捕集，其中一个捕集阱在热脱附，另一个捕集阱在吸附，另一个捕集阱在干燥，准备吸附下一个样品。 -快速弹道红外线加热系统。 ● 气相色谱分离热裂解模块 -气相色谱方法内置已优化，保证良好的分辨效果。精确的控温系统保证分析的优异重复性 ，柱温可编程，提供方法开发的灵活性。 -高温热裂解模块 ：高达900多度的裂解温度将不同形态汞分解还原为蒸汽汞。 ● 冷原子荧光检测器 -在美国EPA标准方法1630及1631中被引用，在全世界领先的研究实验室内被使用 。 -触摸控制屏上可轻松调节设置，通过高清晰LCD显示信号和设定。

iAFS-100全自动烷基汞分析系统烷基汞是一类毒性强并具有强致癌性的有机汞类化合物，广泛存在于大气环境、水环境及土壤环境中。由于此类化合物具有亲脂性、生物积累效应和生物放大效应，其毒性是无机汞的几百倍。烷基汞以甲基汞和乙基汞为代表，其中甲基汞的毒性最强，在环境中任何形式的汞均可在一定条件下转化为甲基汞。iAFS-100全自动烷基汞分析系统通过蒸馏处理，吹扫捕集/气相色谱原子荧光法测量样品中的痕量甲基汞、乙基汞等烷基汞的含量。仪器可以实现完全的自动化操作测量结果准确，检出限低，测量范围宽，是烷基汞测量的最佳仪器。XYZ三维自动进样系统采用全自动XYZ三维机械臂进样器进样，精确定位采用钝化不锈钢双层取样针，具有隔垫穿刺功能，无样品吸附高通量：标配72位。提供36位、72位或108位等多种规格自动进样器可选 吹扫捕集装置吹扫方式：异位和原位吹扫双模式可选，标配异位吹扫方式采用Tenax捕集阱捕集目标样品，专用的捕集阱填料及加热冷却技术保证优秀的吸附/解析效率环绕式加热器脉冲加热，反向解析样品，升温速度快，峰形好高温裂解管柱：可加热至750℃以上，保证不同形态的汞迅速分解还原为蒸汽汞系统标配尾气吸收装置，汞蒸气不会排放在空气中，绿色环保 CVAFS检测器采用低压汞灯作为光源，脉冲恒流驱动方式，光强输出稳定，低噪音采用不分光比例双光束检测方式，光源信号及荧光信号同时，差分运算测量样品，以保证最佳的稳定性和灵敏度甲基汞的线性范围：0~25ng/L；乙基汞的线性范围：0~25ng/L甲基汞的检出限：优于0.003ng/L；乙基汞的检出限：优于0.003ng/L控制软件及数据系统Windows中文易操作界面，可实现编辑序列、自动分析数据、导入标准曲线等操作可以直接通过控制软件对仪器参数进行修改及控制，简单便捷具有最小二乘法和响应因子法两种数据处理方式

Multi-2025多功能烷基汞分析仪一、仪器概述●Multi-2025多功能烷基汞分析仪采用吹扫捕集/气相色谱-冷原子荧光光谱法原理,可用于样品中痕量烷基汞的精确测定 同时,本仪器具有常规原子荧光光谱仪的所有功能,完全符合相关国家标准检测要求。●Multi-2025多功能烷基汞分析仪可兼容各种型号的吹扫捕集样品浓缩仪,不但为客户提供更多选择,同时也允许客户使用实验室原有的吹扫捕集样品浓缩仪,降低采购成本。二、烷基汞分析仪部分●与商品化吹扫捕集样品浓缩仪兼容。●选用改性OV-3填料的色谱柱,相对与毛细柱使用更简便,分离稳定、寿命更长。●热裂解模块最高可达1050度。三、原子荧光光谱仪部分采用●采用3D打印的反应模块集中了氢化反应器、气液分离器等部件的功能于一体。模块内无需管路连接,大大减小样品流路死体积,降低污染。●选用对“Hg”等元素无吸附的特殊材质,采用3D打印技术一次成型,相对于传统部件,故障率大大降低。可用于砷、汞、铅、硒、锑、铋、镉等共12种元素检测。四、图形化软件●软件可动态显示仪器联机、预热,管路冲洗等状态。●具有耗材寿命统计监测功能,方便了解泵管、元素灯等耗材使用情况。●报告格式支持WORD、EXCEL、PDF等多种格式输出。五、检测数据才是仪器设备性能优劣的有效证明六、应用领域●满足《HJ977-2018水质烷基汞的测定吹扫捕集/气相色谱-冷原子荧光光谱法》要求。●满足《HJ1269-2022土壤和沉积物甲基汞和乙基汞的测定吹扫捕集/气相色谱-冷原子荧光光谱法》要求。●满足《HJ1268-2022水质甲基汞和乙基汞的测定液相色谱-原子荧光法》●环境、给排水、农产品、地质冶金、化妆品、中药材、土壤饲料、血液等样品中的As、Hg、Se、Sb等十二种元素总量检测。●SNT 5517-2023 出口水产品及其制品中甲基汞的测定 全自动甲基汞分析仪法七、核心特点●专注痕量“汞”分析!多项技术在降低汞污染、提高仪器稳定性方面发挥重要作用。●成熟的吹扫捕集技术+成熟的原子荧光光谱仪技术=稳定的分析结果。●一机多用,让客户投资实现保值、增值!

广泛用作绝缘、润滑、防震、防尘油、介电液和热载体，以及用作消泡、脱膜、油漆和日用化妆品的添加剂等。 201甲基硅油具有各种优异的特性，因此在工农业生产，国防工业，科学研究及医疗卫生等部门，都得了极其广泛的应用。它广泛用于电气绝缘、脱模、消泡、阻尼、防震、滚压、防尘、防水、高低湿润等方面。 1、在机电工业中的应用：201甲基硅油广泛用在电机、电器、电子仪表上作为耐温、耐电弧电晕、抗蚀、防潮、防尘的绝缘介质、目前还用做变压器、电容器、电视机的扫描变压器的浸渍剂等。在各种精密机械、仪器及仪表中，用作液体防震、阻尼材料。201甲基硅油的消震性能受温度影响小，多用于具有强烈机械震动及环境温度变化大的场合下，使用的仪表如：飞机、汽车的仪表中。用于防震、阻尼、稳定仪表读数，还可作为液体弹簧，且于飞机的着陆装置中。2、在消泡剂中的应用：由于201甲基硅油表面张力小，且不溶于水，动植物油及高沸点矿物油中，化学稳定性好、又无毒，用作消泡剂已广泛用于石油、化工、医疗、制药、食品加工、纺织、印染、造纸等行业中，只要加入10-100PPM的硅油就具有良好的消泡剂作用。3、在脱模剂中的应用：由于201甲基硅油与橡胶、塑料、金属等的不粘性，又用做各种橡胶、塑料制品成型加工的脱模剂，及用于精密铸造中。用它做脱模剂不仅脱模方便，且使制品表面洁净、光滑、纹理清晰。4、在绝缘、防尘、防霉涂层中的应用：在玻璃、陶瓷器表面浸涂一层201甲基硅油，并在250-300℃进行热处理后，可形成一层防水、防霉和绝缘性的薄膜。用之处理绝缘器件，可提高器件的绝缘性能：用之处理光学仪器，能防止镜片、棱镜发霉；用之处理药瓶，能延长药品的保存期，并不使制剂因粘壁而损失；用之处理电影胶片的表面，可起润滑作用，减少磨擦，延长影片寿命。5、在润滑剂中的应用：201甲基硅油适于做橡胶，塑料轴承、齿轮的润滑剂。也可做为在高温下钢材对钢的滚动磨擦，或钢与其它金属磨擦时的润滑剂。6、在添加剂中的应用：201硅油可作许多材料的添加剂，如可作为油漆的增光剂，加少量硅油到油漆中，可使油漆不浮包、不起皱提高漆膜的光亮度，加少量硅油到油墨中，可提高印刷质量，加少量硅油到抛光油中（如汽车上光油），可增加光亮，保护漆膜，并有优良的防水效果。7、在医疗卫生中的应用：201甲基硅油对人体无生毒性，也不被体液分解，故在医疗卫生事业中，也被广泛应用。利用其消泡作用，制成了口服胃肠消胀片，及肺水肿消泡气雾剂等药用。在药膏中加入硅油，可提高药物对皮肤的渗透能力，提高药效。以硅油为基础油的某些膏药剂对烫伤、皮炎、褥疮等都有很好的疗效，利用硅油的抗凝血作用，可用其处理贮血器表面，延长血样贮存时间等。8、在其它方面中的应用：201甲基硅油在其它方面还有许多用途。如：利用其闪点高、无嗅、无色、透明且对人体无毒等特性，在钢铁、玻璃、陶瓷等工业和科研中，作为油浴或恒温器中的热载体。利用其抗切变性能好，可做液压油尤其是航空液压油。用其处理人造丝纺丝头，可消除静电，提高抽丝质量。在化妆品上加入硅油能提高对皮肤的滋润和保护作用等等。

简介： 北京鸿信的全自动烷基汞分析仪HXAM-51(II)是采用吹扫捕集/气相色谱-冷原子荧光光谱法的原理，故又名吹扫捕集-气相色谱-冷原子荧光分析仪；用于测定烷基汞（甲基汞，乙基汞）的分析仪器，具有分析速度快，数据准确可靠，检出限低的优点,完全符合：《水质 烷基汞的测定 吹扫捕集/气相色谱-冷原子荧光光谱法 》（HJ 977-2018）《土壤和沉积物 甲基汞和乙基汞的测定 吹扫捕集/气相色谱-冷原子荧光光谱法》(HJ 1269-2022)《生活饮用水标准检验方法 金属指标 》（GB/T 5750.6-2023 ）《出口水产品及其制品中甲基汞的测定 全自动甲基汞分析仪法》（SN/T5517—2023）等相同原理的分析标准，非常适合批量样品的全自动分析。仪器特点一体化成型的设计：将捕集模块、气相模块及冷原子荧光检测器并排集成于一体，设计在同一个平台内，避免了分块式和叠加式设计造成的管路过长和稳定性不一致，保证整个系统的同一稳定性，抗干扰性更强，分析更准确。自动进样器：采用原位吹扫捕集或异位吹扫进样方式，全自动化进样，最大可达108个样品位数，进样量可达45mL，完全符合HJ 977-2018,HJ 1269-2022,GB 5750.6等标准进样要求。吹扫捕集模块：采用原位吹扫或异位吹扫进样方式的，吹扫管体积大于60mL，充分吹扫无残留，无交叉污染，采用多通道捕集管，有水汽隔离装置，具备吸附，反吹干燥，脱附，活化等功能，防止水蒸气影响，连续进行多个样品的分析，分析时间短，过程连续不浪费时间。采用螺旋辐射快速加热脱附，无残留不拖尾，峰型好。高清显示控制屏：采用7英寸高清平板电脑，集成高精密电子传感器，实时显示控制的流量及温度，提供更加智能和直观的工作模式。智能远程控制*：可选升级采用远程控制，不受距离限制远程查看仪器运行状态和远程操作工作站控制仪器运行。高级进样模式*：可选升级采用原位/异位一体进样器,仅需软件选择切换即可实现原位/异位吹扫进样方式。可选升级系统全自动总汞分析系统*:多级分析捕集，极大改善了峰型，获得更高灵敏度；超痕量的检出限和极宽的线性范围。技术性能1.检出限：甲基汞检出限：0.002ng/L，乙基汞检出限：0.002ng/L；2.重复性：≤5%(0.1ng/L烷基汞（甲基汞，乙基汞）)，≤3%(1ng/L烷基汞（甲基汞，乙基汞）)；3.稳定性：≤3%（以1ng/L烷基汞（甲基汞，乙基汞）样品为例，6个40mL样品一次性加入衍生试剂，先分析3个样品，隔3个小时后再分析另外3个样品，数据重复性≤3%）；4.线性相关系数：＞0.999；5.回收率：甲基汞75%~120%，乙基汞70%~120%；6.吹扫捕集模式：原位吹扫或异位吹扫。

1.实现了在实验室气相色谱平台搭建的烷基汞测量体系，实现了通用仪器专用化的设计思路，在可以测量烷基汞的同时，也可以进行其他气相色谱法的应用检测。2.小型化光路设计，经过复杂的光学设计，使得整体的荧光检测器可以集成在手掌大小，并且在体积缩小的同时，提高了仪器对于汞的灵敏度响应。MAS-100型烷基汞分析仪，满足HJ977-2018《水质 烷基汞的检测 吹扫捕集/气相色谱-冷原子荧光光谱法》国家环境保护标准，适用于样品的批量分析。 水溶液中甲基汞、乙基汞与衍生化试剂四丙基硼化钠反应，并生成具有一定挥发性的甲基丙基汞和乙基丙基汞，经氩气吹扫、Tenax管捕集后，使用气相色谱-冷原子荧光检测器测定。通用仪器专用化在加装AFD的同时，还可以加装其他检测器（FID、ECD、TCD、FPD），满足使用者对于其他应用的分析。主动尾气捕集系统经过检测器的汞蒸气最后会经过金丝吸附管进行捕集，保证汞蒸气的有效捕集。使用毛细色谱柱高效分离更高的柱效，更快的分离速度，使甲基汞、乙基汞的灵敏度更高。产品创新点详解：（1）丰富实验室气相色谱仪应用场景。基于通用仪器专用化的设计思路，在FID、FPD、ECD、TCD和TSD等传统气相色谱检测器的基础上，开发了具有专利技术的小型冷原子荧光检测（AFD），可直接搭载在实验室气相色谱仪上，实现气相色谱仪和原子荧光光谱联用分析，进一步丰富了实验室气相色谱仪的应用场景。（2）对提高汞检测行业的仪器利用率提出了新的方案。各实验室除了烷基汞检测外还有其他检测项目需求，该仪器在实验室气相色谱平台上实现除烷基汞分析外，还可以进行挥发性有机物、挥发性卤代烃、有机磷、有机氯等多气相色谱应用拓展。（3）AFD小型化集成设计。AFD采用小型化集成设计思路，整个检测器只有商用冷原子荧光光谱仪的1/30左右，包括基座、高温裂解模块、荧光池及主动捕集系统。一体化的基座设计，不仅满足毛细色谱柱与高温裂解模块的连接，又避免了高温对于色谱柱的性能影响。高温裂解模块采用纳米隔热层设计，满足内部950℃高温裂解的同时，实现了与外部良好隔热。荧光池采用多级光学陷阱实现特殊的杂散光消除技术，最终实现高灵敏度检测。（4）保护环境及分析者健康。采取主动泵抽式捕集系统，经过检测器的汞蒸气在泵抽吸过程中由金丝吸附管进行捕集，保证汞蒸气的有效捕集，从而保护环境与仪器使用者。（5）引入毛细色谱柱分析，更高的柱效、更快的分离。基于实验室气相色谱仪平台的优势，使用毛细色谱柱进行烷基汞分析，可在4分钟以内实现甲基汞与乙基汞分离，提高仪器使用效率。

MAS-100烷基汞分析仪 北京北分瑞利分析仪器（集团）有限责任公司开发的MAS-100型烷基汞分析仪，满足HJ977-2018《水质 烷基汞的检测 吹扫捕集/气相色谱-冷原子荧光光谱法》国家环境保护标准，适用于样品的批量分析。 水溶液中甲基汞、乙基汞与衍生化试剂四丙基硼化钠反应，并生成具有一定挥发性的甲基丙基汞和乙基丙基汞，经氩气吹扫、Tenax管捕集后，使用气相色谱-冷原子荧光检测器测定。 通用仪器专用化在加装AFD的同时，还可以加装其他检测器（FID、ECD、TCD、FPD），满足使用者对于其他应用的分析。主动尾气捕集系统经过检测器的汞蒸气最后会经过金丝吸附管进行捕集，保证汞蒸气的有效捕集。使用毛细色谱柱高效分离更高的柱效，更快的分离速度，使甲基汞、乙基汞的灵敏度更高。产品创新点详解：（1）丰富实验室气相色谱仪应用场景。基于通用仪器专用化的设计思路，在FID、FPD、ECD、TCD和TSD等传统气相色谱检测器的基础上，开发了具有专利技术的小型冷原子荧光检测（AFD），可直接搭载在实验室气相色谱仪上，实现气相色谱仪和原子荧光光谱联用分析，进一步丰富了实验室气相色谱仪的应用场景。（2）对提高汞检测行业的仪器利用率提出了新的方案。各实验室除了烷基汞检测外还有其他检测项目需求，该仪器在实验室气相色谱平台上实现除烷基汞分析外，还可以进行挥发性有机物、挥发性卤代烃、有机磷、有机氯等多气相色谱应用拓展。（3）AFD小型化集成设计。AFD采用小型化集成设计思路，整个检测器只有商用冷原子荧光光谱仪的1/30左右，包括基座、高温裂解模块、荧光池及主动捕集系统。一体化的基座设计，不仅满足毛细色谱柱与高温裂解模块的连接，又避免了高温对于色谱柱的性能影响。高温裂解模块采用纳米隔热层设计，满足内部950℃高温裂解的同时，实现了与外部良好隔热。荧光池采用多级光学陷阱实现特殊的杂散光消除技术，最终实现高灵敏度检测。（4）保护环境及分析者健康。采取主动泵抽式捕集系统，经过检测器的汞蒸气在泵抽吸过程中由金丝吸附管进行捕集，保证汞蒸气的有效捕集，从而保护环境与仪器使用者。（5）引入毛细色谱柱分析，更高的柱效、更快的分离。基于实验室气相色谱仪平台的优势，使用毛细色谱柱进行烷基汞分析，可在4分钟以内实现甲基汞与乙基汞分离，提高仪器使用效率。

秒准(MAYZUM)二甲基乙酰胺浓度折光仪折射仪MAY3001二甲基乙酰胺DMAC在线监控仪,DMAC在线浓度检测仪,DMAC浓度在线检测仪,纤维DMAC溶液浓度实时监控,在线DMAC浓度检测分析仪,在线DMAC浓度检测仪,二甲基乙酰胺浓度实时监控仪,二甲基乙酰胺折光仪,塑料薄膜DMAC溶液浓度仪,纤维DMAC溶液浓度实时监控仪,氨纶纤维溶剂DMAC浓度监控仪,DMAC废液浓度监控仪,DMAC溶剂浓度检测仪,DMAC在线浓度监控仪,DMAC在线浓度测试仪,DMAC在线浓度测量仪,在线DMAC溶剂浓度监控仪,DMAC溶剂浓度检测仪,DMAC浓度监控仪,DMAC浓度检测仪,DMAC浓度测试仪一、秒准(MAYZUM)二甲基乙酰胺浓度折光仪折射仪MAY3001工艺应用：DMAC溶液浓度监控仪的构造、特点、工作原理以及在特种纤维生产中纺丝凝固浴DMAC浓度测量中的应用。二甲基乙酰胺对多种树脂，尤其是聚氨酯树脂、聚酰亚胺树脂具有良好的溶解能力，主要用作耐热合成纤维、塑料薄膜、涂料、医药、丙烯腈纺丝的溶剂。在有机合成中，它亦是极好的催化剂，可使环化、卤化、氰化、烷基化和脱氢等反应加速，且能提高主要产物收率。在部分医药和农药生产中，也可采用二甲基乙酰胺作为溶剂或助催化剂，与传统有机溶剂相比，对产品质量和收率均有提高作用。DMAC湿法两步法生产芳纶1313纤维和聚酰亚胺纤维。聚合物在原液与DMAC溶液相混合，配制成100℃原液胶，通过计量泵经过喷丝板，进入DMAC凝固浴中，胶体内的DMAC与凝固浴中的DMAC进行解析，形成一恒定的浓度平衡。准确测量DMAC浓度，可适时控制凝固浴中的补给水的量。DMAC浓度的变化直接造成丝束发脆和丝束并丝等严重的质量问题。稳定的DMAC浓度环境对芳纶1313纤维和聚酰亚胺纤维成丝内在质量起到关键的作用。原有生产线测量成丝凝固浴的DMAC浓度采用化验分析方法，每2小时取样一次，取样后在中心化验室由化验员用实验室型的折光仪测量。这种测量方法对工艺数据滞后、取样环境、温度变化、人工操作、仪器受周围环境等因素都对化验数据的准确性造成影响。不能随工艺条件的变化做适时地调整，这样就不能够保障产品的稳定的质量指标。秒准（Mayzum）MAY-3001 在线浓度实时监控仪测量凝固浴DMAC的浓度，工艺控制在30%-60%之间，折射率在：1.3654~1.4114nd之间，直接安装于凝固浴进口液体管路上，随时测量凝固浴DMAC浓度的变化，测量值传送到DCS通过PID调节，精确输出阀位信号控制凝固浴补给水量，保证DMAC的浓度恒定，这对纺丝丝束的内在质量保障作用，MAY-3001在线浓度实时监控仪2s一次读数、读数快、准确、精确度：±0.1%，测量值基本保持线性。仪器有温度自动补偿，选配：秒准（Mayzum）MAY-C12 超声波清洗装置清洗功能。操作简单方便、维护量少、工作可靠等优点。为纺织企业的产品质量起到关键性作用。秒准(MAYZUM)二甲基乙酰胺浓度折光仪折射仪MAY3001测量凝固浴DMAC的浓度，工艺控制在30%-60%之间，折射率在：1.3654~1.4114nd之间，直接安装于凝固浴进口液体管路上，随时测量凝固浴DMAC浓度的变化，测量值传送到DCS通过PID调节，精确输出阀位信号控制凝固浴补给水量，保证DMAC的浓度恒定，这对纺丝丝束的内在质量保障作用，MAY-3001-70DMAC在线浓度实时监控仪2s一次读数、读数快、准确、精确度：±0.1%，测量值基本保持线性。仪器有温度自动补偿，选配：秒准（Mayzum）MAY-C12 超声波清洗装置清洗功能。操作简单方便、维护量少、工作可靠等优点。为纺织企业的产品质量起到关键性作用。二、秒准(MAYZUM)二甲基乙酰胺浓度折光仪折射仪MAY3001产品特点描述：1、安装方式灵活（安装于管道、槽体、反应釜、储罐…）、体积小巧，安装方式多样化，可选卡箍/法兰/螺纹安装；2、不受介质颜色、浊度、粘度、气泡、固体杂质、结晶体的影响，不受液体压力变化、流量突变、湍流现象影响；3、出厂附带标定证书，内置温度补偿，即装即用，无需现场校准，也不需要定期校准；4、用户自定义上下限报警，触屏输入，操作简单易懂，现场可接报警灯；5、所有的用户设置参数保存在设备内置的NAND Flash高速存储器中，掉电不丢失；6、标配多组信号模拟输出：可选4-20mA、RS485/232数字量、开关量（异常报警,上下限2路输出），便于客户集成控制，提高自动化程度，提高生产效率；7、内置0-80℃温度补偿数据，克服了单片机内存小，温度补偿范围受限制的缺点。温度传感器与浓度探头集成，紧贴测量介质，保证温度补偿及时、准确、可靠；8、采用4.3寸触屏人机交互界面，显示内容更详细，彩色界面，操作便利，可拓展性强，可按用户需求定制功能；9、数据自动保存，便于查询：历史数据查询、生成历史数据曲线，快捷查询、导出EXCEL，自动数据分析与汇总，数据保存周期12个月，便于溯源（需选配MAY-LST历史数据存储功能）10、支持sqlite数据库，可存储高达32G的历史数据，数据可通过U盘导出到电脑或者通过无线远传功能实时远传至PLC、PC、DCS等上位机系统；通过PC远程查看实时状态与报警。（需选配MAY-LOT数据远传模块）11、采用智能化芯片，运行无需试剂耗材，功耗低，探头内部光源寿命可长达10万小时，稳定性高，使用寿命长；12、连续测量，迅速反馈，消除人工检测误差，不再需要人工频繁取样检测，节省大量人力财力，保证数据一致性，提升产品质量；13、搭配多组数据采集系统，实现多车间统一监控，便于数据收集、远程管理，可与MES系统对接。三、秒准(MAYZUM)二甲基乙酰胺浓度折光仪折射仪MAY3001规格参数选型表：产品型号MAY-3001测量项目折射率、温度、浓度、Brix（或其他标度）浓度范围0.0-100% Brix折射率范围1.3330~1.4655分辨率0.1 %，折射率 0.00002，温度 0.1℃ 测量温度0-100℃温度补偿自动温度补偿，0-60℃环境温度0-60℃关键部位材质触液面材质：316L/蓝宝石棱镜；传感器外壳：铝输入电源24V DC信号输出£ DC4-20mA、£ RS485/232数字量、£ 开关量（异常报警,上下限2路输出）防护等级IP67耐压范围≤1MPa防爆等级£ MAY-3001常规款 £ MAY-3001EX本安型防爆 Ex ia IIB T6 Ga整机净重≈1250g清洗选项MAY-C12超声波清洗组件安装选项MAY-C11卡箍弧形安装底座、MAY-C13三通管道，MAY-C14四通管道，材质为316L其他选项MAY-LST历史数据存储功能、MAY-LOT数据远传模块特殊标度非标定制，按客户需求建立数据模型秒准（mayzum）智能在线DMAC溶液浓度监控仪多点工位数据采集系统功能界面展示图：

产品优势方法原理采用吹扫捕集/气相色谱-冷原子荧光谱法，完全符合《HJ977-2018 水质 烷基汞的测定》和美国EPA1630标准.分析过程自动化，避免操作者多次接触有毒试剂，解放人力.该仪器操作简便，样品需求量小，分析时间短，实验数据准确.仪器带有尾气处理装置，对环境友好.仪器通过CPA计量认证.可用干地下水、地表水、生活污水、工业废水、固废浸出液、十壤、生物样品中烷基汞的检测.全中文操作界面，易干操作，实验报告可直接打印，也可导出Excel.标准曲线计算方式采用标准曲线法和相应因子法两种。样品位数最大支持96位，进样针采用PEEK材质，在分析全过程中不与金属材质接触，降低引入污染的可能性。采用原位吹扫，直接在样品瓶内进行吹扫，无需进行额外的液体转移，减少管路污染，吹扫装置与进样器采用一体化设计。独有的光源调节模块，基线漂移1% 线性范围可达4个数量级 汞灯寿命可达5000小时。全自动烷基汞分析仪尺寸:1200mm*500mm*500mm重量:75 kg功率:220VAC，50Hz，5A吹扫气体:高纯氮气 (≥ 99.999%)载气: 高纯氩气 (≥ 99.999%)进样器容量:四盘24x40mL(总96位)PC 接口:RS232 接口环境要求:带通风装置的实验室仪器运行环境温度:10°℃~25°℃仪器运行环境湿度20%~80%烷基汞分析仪与《水质 烷基汞的测定 吹扫捕集/气相色谱-冷原子荧光光谱法》HJ77-2018标准对比指标HJ 977-2018全自动烷基汞分析仪MMA 721 适用范围甲基汞、乙基汞检出限均为0.02ng/L甲基汞、乙基汞均优于0.01ng/L3 方法原理PT-GC-CVAFSPT-GC-CVAFS6.2 吹扫装置原位或异位吹扫原位吹扫7.2 试样准备8.3 试验测定45mL进样量25mL(EPA1630) / 45mL两种配置8.2 校准方法标准曲线法软件支持 标准曲线法和响应因子法（EPA1630）10.1 精密度甲基汞1.1%~6%，乙基汞0.9%~10%甲基汞、乙基汞均1%~5%11.2 校准系数相关系数≥0.996相关系数≥0.99811.4 基体加标甲基汞75%~120%乙基汞70%~120%甲基汞80%~120%乙基汞80%~120% 蒸馏仪(选配)加热范围:常温至150.0℃，加热精度:+1.0 ℃，过热自动断电等功能，确保烷基汞可被完全蒸馏 冷凝模块可以实现自动降温及控温功能，水浴温度≤5°℃ 不使用冰水混合物，完全接收蒸馏后的烷基汞 样品的加热及接收孔位多达12个，满足用户对于样品量的需求 样品管、盖及管路材质均为特氟龙材质，杜绝污染。

秒准MAYZUM二甲基乙酰胺DMAC在线浓度计MAY-3001-70DMAC二甲基乙酰胺DMAC在线监控仪,DMAC在线浓度检测仪,DMAC浓度在线检测仪,纤维DMAC溶液浓度实时监控,在线DMAC浓度检测分析仪,在线DMAC浓度检测仪,二甲基乙酰胺浓度实时监控仪,二甲基乙酰胺折光仪,塑料薄膜DMAC溶液浓度仪,纤维DMAC溶液浓度实时监控仪,氨纶纤维溶剂DMAC浓度监控仪,DMAC废液浓度监控仪,DMAC溶剂浓度检测仪,DMAC在线浓度监控仪,DMAC在线浓度测试仪,DMAC在线浓度测量仪,在线DMAC溶剂浓度监控仪,DMAC溶剂浓度检测仪,DMAC浓度监控仪,DMAC浓度检测仪,DMAC浓度测试仪一、 MAY-3001-70DMAC在线DMAC溶液浓度监控仪工艺应用：DMAC溶液浓度监控仪的构造、特点、工作原理以及在特种纤维生产中纺丝凝固浴DMAC浓度测量中的应用。二甲基乙酰胺对多种树脂，尤其是聚氨酯树脂、聚酰亚胺树脂具有良好的溶解能力，主要用作耐热合成纤维、塑料薄膜、涂料、医药、丙烯腈纺丝的溶剂。在有机合成中，它亦是极好的催化剂，可使环化、卤化、氰化、烷基化和脱氢等反应加速，且能提高主要产物收率。在部分医药和农药生产中，也可采用二甲基乙酰胺作为溶剂或助催化剂，与传统有机溶剂相比，对产品质量和收率均有提高作用。DMAC湿法两步法生产芳纶1313纤维和聚酰亚胺纤维。聚合物在原液与DMAC溶液相混合，配制成100℃原液胶，通过计量泵经过喷丝板，进入DMAC凝固浴中，胶体内的DMAC与凝固浴中的DMAC进行解析，形成一恒定的浓度平衡。准确测量DMAC浓度，可适时控制凝固浴中的补给水的量。DMAC浓度的变化直接造成丝束发脆和丝束并丝等严重的质量问题。稳定的DMAC浓度环境对芳纶1313纤维和聚酰亚胺纤维成丝内在质量起到关键的作用。原有生产线测量成丝凝固浴的DMAC浓度采用化验分析方法，每2小时取样一次，取样后在中心化验室由化验员用实验室型的折光仪测量。这种测量方法对工艺数据滞后、取样环境、温度变化、人工操作、仪器受周围环境等因素都对化验数据的准确性造成影响。不能随工艺条件的变化做适时地调整，这样就不能够保障产品的稳定的质量指标。秒准（Mayzum）MAY-3001-70DMAC 在线浓度实时监控仪测量凝固浴DMAC的浓度，工艺控制在30%-60%之间，折射率在：1.3654~1.4114nd之间，直接安装于凝固浴进口液体管路上，随时测量凝固浴DMAC浓度的变化，测量值传送到DCS通过PID调节，精确输出阀位信号控制凝固浴补给水量，保证DMAC的浓度恒定，这对纺丝丝束的内在质量保障作用，MAY-3001-70DMAC在线浓度实时监控仪2s一次读数、读数快、准确、精确度：±0.1%，测量值基本保持线性。仪器有温度自动补偿，选配：秒准（Mayzum）MAY-C12 超声波清洗装置清洗功能。操作简单方便、维护量少、工作可靠等优点。为纺织企业的产品质量起到关键性作用。秒准MAYZUM二甲基乙酰胺DMAC在线浓度计MAY-3001-70DMAC测量凝固浴DMAC的浓度，工艺控制在30%-60%之间，折射率在：1.3654~1.4114nd之间，直接安装于凝固浴进口液体管路上，随时测量凝固浴DMAC浓度的变化，测量值传送到DCS通过PID调节，精确输出阀位信号控制凝固浴补给水量，保证DMAC的浓度恒定，这对纺丝丝束的内在质量保障作用，MAY-3001-70DMAC在线浓度实时监控仪2s一次读数、读数快、准确、精确度：±0.1%，测量值基本保持线性。仪器有温度自动补偿，选配：秒准（Mayzum）MAY-C12 超声波清洗装置清洗功能。操作简单方便、维护量少、工作可靠等优点。为纺织企业的产品质量起到关键性作用。二、秒准MAYZUM二甲基乙酰胺DMAC在线浓度计MAY-3001-70DMAC产品特点描述：1、安装方式灵活（安装于管道、槽体、反应釜、储罐…）、体积小巧，安装方式多样化，可选卡箍/法兰/螺纹安装；2、不受介质颜色、浊度、粘度、气泡、固体杂质、结晶体的影响，不受液体压力变化、流量突变、湍流现象影响；3、出厂附带标定证书，内置温度补偿，即装即用，无需现场校准，也不需要定期校准；4、用户自定义上下限报警，触屏输入，操作简单易懂，现场可接报警灯；5、所有的用户设置参数保存在设备内置的NAND Flash高速存储器中，掉电不丢失；6、标配多组信号模拟输出：可选4-20mA、RS485/232数字量、开关量（异常报警,上下限2路输出），便于客户集成控制，提高自动化程度，提高生产效率；7、内置0-80℃温度补偿数据，克服了单片机内存小，温度补偿范围受限制的缺点。温度传感器与浓度探头集成，紧贴测量介质，保证温度补偿及时、准确、可靠；8、采用4.3寸触屏人机交互界面，显示内容更详细，彩色界面，操作便利，可拓展性强，可按用户需求定制功能；9、数据自动保存，便于查询：历史数据查询、生成历史数据曲线，快捷查询、导出EXCEL，自动数据分析与汇总，数据保存周期12个月，便于溯源（需选配MAY-LST历史数据存储功能）10、支持sqlite数据库，可存储高达32G的历史数据，数据可通过U盘导出到电脑或者通过无线远传功能实时远传至PLC、PC、DCS等上位机系统；通过PC远程查看实时状态与报警。（需选配MAY-LOT数据远传模块）11、采用智能化芯片，运行无需试剂耗材，功耗低，探头内部光源寿命可长达10万小时，稳定性高，使用寿命长；12、连续测量，迅速反馈，消除人工检测误差，不再需要人工频繁取样检测，节省大量人力财力，保证数据一致性，提升产品质量；13、搭配多组数据采集系统，实现多车间统一监控，便于数据收集、远程管理，可与MES系统对接。三、MAY-3001-70DMAC 在线DMAC溶液浓度监控仪规格参数选型表：产品型号MAY-3001-70DMAC测量项目折射率、温度、浓度、Brix（或其他标度）浓度范围0.0-100% Brix折射率范围1.3330~1.4655分辨率0.1 %，折射率 0.00002，温度 0.1℃ 测量温度0-100℃温度补偿自动温度补偿，0-60℃环境温度0-60℃关键部位材质触液面材质：316L/蓝宝石棱镜；传感器外壳：铝输入电源24V DC信号输出£ DC4-20mA、£ RS485/232数字量、£ 开关量（异常报警,上下限2路输出）防护等级IP67耐压范围≤1MPa防爆等级£ MAY-3001常规款 £ MAY-3001EX本安型防爆 Ex ia IIB T6 Ga整机净重≈1250g清洗选项MAY-C12超声波清洗组件安装选项MAY-C11卡箍弧形安装底座、MAY-C13三通管道，MAY-C14四通管道，材质为316L其他选项MAY-LST历史数据存储功能、MAY-LOT数据远传模块特殊标度非标定制，按客户需求建立数据模型秒准（mayzum）智能在线DMAC溶液浓度监控仪多点工位数据采集系统功能界面展示图：应用场景现场工况图片：

在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。产品型号：HMDS-6210 产品名称：真空烘箱（带基片预处理系统）电源电压：AC 380V± 10%/50Hz± 2%输入功率：4000W控温范围：室温+10℃-250℃温度分辨率：0.1℃温度波动度：± 0.5℃达到真空度：133Pa容积：210L工作室尺寸（mm）：560*640*600外形尺寸（mm）：720*820*1750载物托架：3块时间单位：分钟真空泵：国内好品牌，上海慕鸿型号：DM-4，旋片式油泵。产品特点：1、机外壳采用医用级不锈钢316L材质制造，内胆为不锈钢316L材料制成；加热器均匀分布在内胆外壁四周，内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。2、箱门闭合松紧能调节，整体成型的硅橡胶门封圈，确保箱内高真空度。3、微电脑智能控温仪，具有设定，测定温度双数字显示和PID自整定功能，控温精确，可靠。4、智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序，温度，真空度及每一程序时间。5、HMDS气体密闭式自动吸取添加设计，真空箱密封性能佳，确保HMDS气体无外漏顾虑。6、整个系统采用优质材料制造，无发尘材料，适用100 级光刻间净化环境。 HMDS预处理系统的必要性：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。HMDS-6000系列预处理系统的原理： HMDS-6000 预处理系统通过对烘箱HMDS预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS，降低了HMDS处理后的硅片接触角，降低了光刻胶的用量，提高光刻胶与硅片的黏附性。HMDS-6000系列预处理系统的一般工作流程：首先确定烘箱工作温度。典型的预处理程序为：打开真空泵抽真空，待腔内真牢度达到某一高真空度后，开始充人氮气，充到达到某低真空度后，冉次进行抽真空、充入氮气的过程，到达设定的充入氮气次数后，开始保持一段时间，使硅片充分受热，减少硅片表面的水分。然后再次开始抽真空，充入HMDS气体，在到达设定时间后，停止充入HMDS药液，进入保持阶段，使硅片充分与HMDS反应。当达到设定的保持时间后，再次开始抽真空。充入氮气，完成整个作业过程。HMDS与硅片反应机理如图：首先加热到100℃-200℃，去除硅片表面的水分，然后HMDS与表面的OH一反应，在硅片表而生成硅醚，消除氢键作，从而使极性表面变成非极性表面。整个反应持续到空间位阻(三甲基硅烷基较大)阻止其进一步反应。尾气排放：多余的HMDS蒸汽（尾气）将由真空泵抽出，排放到专用废气收集管道。在无专用废气收集管道时需做专门处理。

在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。产品技术参数：电源电压：AC 380V± 10%/50Hz± 2%输入功率：3000W控温范围：室温+10℃-250℃温度分辨率：0.1℃温度波动度：0.5℃达到真空度：133Pa容积：90L工作室尺寸（mm）：450*450*450外形尺寸（mm）：615*590*1470载物托架：2块时间单位：分钟真空泵：国内品牌上海慕鸿型号：DM-4，旋片式油泵。 产品特点：1、机外壳采用医用级不锈钢316L材质制造，内胆为不锈钢316L材料制成；加热器均匀分布在内胆外壁四周，内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。2、箱门闭合松紧能调节，整体成型的硅橡胶门封圈，确保箱内高真空度。3、微电脑智能控温仪，具有设定，测定温度双数字显示和PID自整定功能，控温精确，可靠。4、智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序，温度，真空度及每一程序时间。5、HMDS气体密闭式自动吸取添加设计，真空箱密封性能佳，确保HMDS气体无外漏顾虑。6、整个系统采用优质材料制造，无发尘材料，适用100 级光刻间净化环境。 HMDS预处理系统的必要性：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。HMDS-6000系列预处理系统的原理： HMDS-6000 预处理系统通过对烘箱HMDS预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS，降低了HMDS处理后的硅片接触角，降低了光刻胶的用量，提高光刻胶与硅片的黏附性。HMDS-6000系列预处理系统的一般工作流程：首先确定烘箱工作温度。典型的预处理程序为：打开真空泵抽真空，待腔内真牢度达到某一高真空度后，开始充人氮气，充到达到某低真空度后，冉次进行抽真空、充入氮气的过程，到达设定的充入氮气次数后，开始保持一段时间，使硅片充分受热，减少硅片表面的水分。然后再次开始抽真空，充入HMDS气体，在到达设定时间后，停止充入HMDS药液，进入保持阶段，使硅片充分与HMDS反应。当达到设定的保持时间后，再次开始抽真空。充入氮气，完成整个作业过程。HMDS与硅片反应机理如图：首先加热到100℃-200℃，去除硅片表面的水分，然后HMDS与表面的OH一反应，在硅片表而生成硅醚，消除氢键作，从而使极性表面变成非极性表面。整个反应持续到空间位阻(三甲基硅烷基较大)阻止其进一步反应。尾气排放：多余的HMDS蒸汽（尾气）将由真空泵抽出，排放到专用废气收集管道。在无专用废气收集管道时需做专门处理。

在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。产品技术参数：电源电压：AC 380V± 10%/50Hz± 2%输入功率：4000W控温范围：室温+10℃-250℃温度分辨率：0.1℃温度波动度：± 0.5℃达到真空度：133Pa容积：210L工作室尺寸（mm）：560*640*600外形尺寸（mm）：720*820*1750载物托架：3块时间单位：分钟真空泵：国内品牌，上海慕鸿型号：DM-4，旋片式油泵。 产品特点：1、机外壳采用医用级不锈钢316L材质制造，内胆为不锈钢316L材料制成；加热器均匀分布在内胆外壁四周，内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。2、箱门闭合松紧能调节，整体成型的硅橡胶门封圈，确保箱内高真空度。3、微电脑智能控温仪，具有设定，测定温度双数字显示和PID自整定功能，控温精确，可靠。4、智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序，温度，真空度及每一程序时间。5、HMDS气体密闭式自动吸取添加设计，真空箱密封性能佳，确保HMDS气体无外漏顾虑。6、整个系统采用优质材料制造，无发尘材料，适用100 级光刻间净化环境。 HMDS预处理系统的必要性：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。HMDS-6000系列预处理系统的原理： HMDS-6000 预处理系统通过对烘箱HMDS预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS，降低了HMDS处理后的硅片接触角，降低了光刻胶的用量，提高光刻胶与硅片的黏附性。HMDS-6000系列预处理系统的一般工作流程：首先确定烘箱工作温度。典型的预处理程序为：打开真空泵抽真空，待腔内真牢度达到某一高真空度后，开始充人氮气，充到达到某低真空度后，冉次进行抽真空、充入氮气的过程，到达设定的充入氮气次数后，开始保持一段时间，使硅片充分受热，减少硅片表面的水分。然后再次开始抽真空，充入HMDS气体，在到达设定时间后，停止充入HMDS药液，进入保持阶段，使硅片充分与HMDS反应。当达到设定的保持时间后，再次开始抽真空。充入氮气，完成整个作业过程。HMDS与硅片反应机理如图：首先加热到100℃-200℃，去除硅片表面的水分，然后HMDS与表面的OH一反应，在硅片表而生成硅醚，消除氢键作，从而使极性表面变成非极性表面。整个反应持续到空间位阻(三甲基硅烷基较大)阻止其进一步反应。尾气排放：多余的HMDS蒸汽（尾气）将由真空泵抽出，排放到专用废气收集管道。在无专用废气收集管道时需做专门处理。

在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。产品技术参数：电源电压：AC 380V± 10%/50Hz± 2%输入功率：3000W控温范围：室温+10℃-250℃温度分辨率：0.1℃温度波动度：± 0.5℃达到真空度：133Pa容积：90L工作室尺寸（mm）：450*450*450外形尺寸（mm）：615*590*1470载物托架：2块时间单位：分钟真空泵：国内品牌上海慕鸿型号：DM-4，旋片式油泵。 产品特点：1、机外壳采用医用级不锈钢316L材质制造，内胆为不锈钢316L材料制成；加热器均匀分布在内胆外壁四周，内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。2、箱门闭合松紧能调节，整体成型的硅橡胶门封圈，确保箱内高真空度。3、微电脑智能控温仪，具有设定，测定温度双数字显示和PID自整定功能，控温精确，可靠。4、智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序，温度，真空度及每一程序时间。5、HMDS气体密闭式自动吸取添加设计，真空箱密封性能佳，确保HMDS气体无外漏顾虑。6、整个系统采用优质材料制造，无发尘材料，适用100 级光刻间净化环境。 HMDS预处理系统的必要性：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。HMDS-6000系列预处理系统的原理： HMDS-6000 预处理系统通过对烘箱HMDS预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS，降低了HMDS处理后的硅片接触角，降低了光刻胶的用量，提高光刻胶与硅片的黏附性。HMDS-6000系列预处理系统的一般工作流程：首先确定烘箱工作温度。典型的预处理程序为：打开真空泵抽真空，待腔内真牢度达到某一高真空度后，开始充人氮气，充到达到某低真空度后，冉次进行抽真空、充入氮气的过程，到达设定的充入氮气次数后，开始保持一段时间，使硅片充分受热，减少硅片表面的水分。然后再次开始抽真空，充入HMDS气体，在到达设定时间后，停止充入HMDS药液，进入保持阶段，使硅片充分与HMDS反应。当达到设定的保持时间后，再次开始抽真空。充入氮气，完成整个作业过程。HMDS与硅片反应机理如图：首先加热到100℃-200℃，去除硅片表面的水分，然后HMDS与表面的OH一反应，在硅片表而生成硅醚，消除氢键作，从而使极性表面变成非极性表面。整个反应持续到空间位阻(三甲基硅烷基较大)阻止其进一步反应。尾气排放：多余的HMDS蒸汽（尾气）将由真空泵抽出，排放到专用废气收集管道。在无专用废气收集管道时需做专门处理。

在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。产品技术参数：电源电压：AC 380V± 10%/50Hz± 2%输入功率：3000W控温范围：室温+10℃-250℃温度分辨率：0.1℃温度波动度：± 0.5℃达到真空度：133Pa容积：90L工作室尺寸（mm）：450*450*450外形尺寸（mm）：615*590*1470载物托架：2块时间单位：分钟真空泵：国内品牌上海慕鸿型号：DM-4，旋片式油泵。 产品特点：1、机外壳采用医用级不锈钢316L材质制造，内胆为不锈钢316L材料制成；加热器均匀分布在内胆外壁四周，内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。2、箱门闭合松紧能调节，整体成型的硅橡胶门封圈，确保箱内高真空度。3、微电脑智能控温仪，具有设定，测定温度双数字显示和PID自整定功能，控温精确，可靠。4、智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序，温度，真空度及每一程序时间。5、HMDS气体密闭式自动吸取添加设计，真空箱密封性能佳，确保HMDS气体无外漏顾虑。6、整个系统采用优质材料制造，无发尘材料，适用100 级光刻间净化环境。 HMDS预处理系统的必要性：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。HMDS-6000系列预处理系统的原理： HMDS-6000 预处理系统通过对烘箱HMDS预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS，降低了HMDS处理后的硅片接触角，降低了光刻胶的用量，提高光刻胶与硅片的黏附性。HMDS-6000系列预处理系统的一般工作流程：首先确定烘箱工作温度。典型的预处理程序为：打开真空泵抽真空，待腔内真牢度达到某一高真空度后，开始充人氮气，充到达到某低真空度后，冉次进行抽真空、充入氮气的过程，到达设定的充入氮气次数后，开始保持一段时间，使硅片充分受热，减少硅片表面的水分。然后再次开始抽真空，充入HMDS气体，在到达设定时间后，停止充入HMDS药液，进入保持阶段，使硅片充分与HMDS反应。当达到设定的保持时间后，再次开始抽真空。充入氮气，完成整个作业过程。HMDS与硅片反应机理如图：首先加热到100℃-200℃，去除硅片表面的水分，然后HMDS与表面的OH一反应，在硅片表而生成硅醚，消除氢键作，从而使极性表面变成非极性表面。整个反应持续到空间位阻(三甲基硅烷基较大)阻止其进一步反应。尾气排放：多余的HMDS蒸汽（尾气）将由真空泵抽出，排放到专用废气收集管道。在无专用废气收集管道时需做专门处理。

产品介绍：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。产品特点：1、机外壳采用不锈钢SUS304材质制造，内胆为不锈钢316L材料制成；加热器均匀分布在内胆外壁四周，内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。2、箱门闭合松紧能调节，整体成型的硅橡胶门封圈，确保箱内高真空度。3、微电脑智能控温仪，具有设定，测定温度双数字显示和PID自整定功能，控温精确，可靠。4、智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序，温度，真空度及每一程序时间。5、HMDS气体密闭式自动吸取添加设计，真空箱密封，确保HMDS气体无外漏顾虑。6、整个系统采用材料制造，无发尘材料，适用100级光刻间净化环境。产品参数：型号HMDS-20HMDS-90HMDS-210容积20L90L210L电源电压AC220V±10%/50Hz±2%AC380V±10%/50Hz±2%输入功率1500W3000W4000W控温范围室温+10℃-250℃温度分辨率0.1℃温度波动度±0.5℃达到真空度133Pa工作室尺寸（mm）300*300*275450*450*450560*640*600外形尺寸（mm）465*465*725850*700*1400720*820*1050载物托架1块2快3块时间单位分钟选配件真空泵：德国品牌，莱宝“DC”双极系列旋片式油泵，真空高，噪音低，运行稳定。连接管：不锈钢波纹管，完全密封将真空泵与烘箱连接。HMDS预处理的必要性：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。真空镀膜机的原理：HMDS预处理系统通过对烘箱HMDS预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS，降低了HMDS处理后的硅片接触角，降低了光刻胶的用量，提高光刻胶与硅片的黏附性。真空镀膜机的一般工作流程：先确定烘箱工作温度。典型的预处理程序为：打开真空泵抽真空，待腔内真空度达到某一高真空度后，开始充人氮气，充到达到某低真空度后，再次进行抽真空、充入氮气的过程，到达设定的充入氮气次数后，开始保持一段时间，使硅片充分受热，减少硅片表面的水分。然后再次开始抽真空，充入HMDS气体，在到达设定时间后，停止充入HMDS药液，进入保持阶段，使硅片充分与HMDS反应。当达到设定的保持时间后，再次开始抽真空。充入氮气，完成整个作业过程。HMDS与硅片反应机理如图：先加热到100℃-200℃，去除硅片表面的水分，然后HMDS与表面的OH一反应，在硅片表而生成硅醚，消除氢键作，从而使极性表面变成非极性表面。整个反应持续到空间位阻(三甲基硅烷基较大)阻止其进一步反应。尾气排放等：多余的HMDS蒸汽（尾气）将由真空泵抽出，排放到专用废气收集管道。在无专用废气收集管道时需做专门处理。

产品介绍：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。产品特点：1、机外壳采用不锈钢SUS304材质制造，内胆为不锈钢316L材料制成；加热器均匀分布在内胆外壁四周，内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。2、箱门闭合松紧能调节，整体成型的硅橡胶门封圈，确保箱内高真空度。3、微电脑智能控温仪，具有设定，测定温度双数字显示和PID自整定功能，控温精确，可靠。4、智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序，温度，真空度及每一程序时间。5、HMDS气体密闭式自动吸取添加设计，真空箱密封，确保HMDS气体无外漏顾虑。6、整个系统采用材料制造，无发尘材料，适用100级光刻间净化环境。产品参数：型号HMDS-20HMDS-90HMDS-210容积20L90L210L电源电压AC220V±10%/50Hz±2%AC380V±10%/50Hz±2%输入功率1500W3000W4000W控温范围室温+10℃-250℃温度分辨率0.1℃温度波动度±0.5℃达到真空度133Pa工作室尺寸（mm）300*300*275450*450*450560*640*600外形尺寸（mm）465*465*725850*700*1400720*820*1050载物托架1块2快3块时间单位分钟选配件真空泵：德国品牌，莱宝“DC”双极系列旋片式油泵，真空高，噪音低，运行稳定。连接管：不锈钢波纹管，完全密封将真空泵与烘箱连接。HMDS预处理的必要性：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。真空镀膜机的原理：HMDS预处理系统通过对烘箱HMDS预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS，降低了HMDS处理后的硅片接触角，降低了光刻胶的用量，提高光刻胶与硅片的黏附性。真空镀膜机的一般工作流程：先确定烘箱工作温度。典型的预处理程序为：打开真空泵抽真空，待腔内真空度达到某一高真空度后，开始充人氮气，充到达到某低真空度后，再次进行抽真空、充入氮气的过程，到达设定的充入氮气次数后，开始保持一段时间，使硅片充分受热，减少硅片表面的水分。然后再次开始抽真空，充入HMDS气体，在到达设定时间后，停止充入HMDS药液，进入保持阶段，使硅片充分与HMDS反应。当达到设定的保持时间后，再次开始抽真空。充入氮气，完成整个作业过程。HMDS与硅片反应机理如图：先加热到100℃-200℃，去除硅片表面的水分，然后HMDS与表面的OH一反应，在硅片表而生成硅醚，消除氢键作，从而使极性表面变成非极性表面。整个反应持续到空间位阻(三甲基硅烷基较大)阻止其进一步反应。尾气排放等：多余的HMDS蒸汽（尾气）将由真空泵抽出，排放到专用废气收集管道。在无专用废气收集管道时需做专门处理。

ZSMA全自动烷基汞分析系统，通过蒸馏处理、吹扫捕集/气相色谱-原子荧光法，测量样品中的痕量甲基汞、乙基汞等烷基汞的含量。仪器可以实现完全的自动化操作，测量结果准确，检出限低，测量范围宽，适用于烷基汞的自动快速精确测量。 烷基汞作为具有较强神经毒性的环境污染物，可以通过大气、水体、土壤等方式进入到人类的食物链中，从而逐步富集进入人体，对人体健康造成严重危害。对生产和生活环境的有效监控可以更好的保障人们的健康安全。仪器原理：采用吹扫捕集技术，将样品中的烷基汞富集到Tenax管后，迅速加热解析，样品通过气相色谱分离，之后高温裂解实现原子化，通过原子荧光检测器进行检测。进样、吹扫、捕集、解析、气相分离及分析过程全部密闭的环境下自动进行，避免污染环境，保护实验人员。ZSMA100全自动烷基汞分析系统设计完全符合：生态环境部方法《HJ977-2018水质 烷基汞的测定 吹扫捕集/气相色谱冷原子荧光光谱法》和《HJ 1269-2022 土壤和沉积物 甲基汞和乙基汞的测定 吹扫捕集/气相色谱-冷原子荧光光谱法》满足美国环保署方法EPA 1630标准要求。仪器的特点： 钝化双层不锈钢取样针，无吸附，不易弯折 样品和吹扫气从吹扫管底部进入吹扫管，吹扫效率高 具有异位吹扫和原位吹扫双模式，用户可自由切换 改性Tenax捕集阱，解析温度软件可调 液体传感器，避免水汽对捕集管的影响 气相色谱分离不同形态的汞，可使用毛细管或填充柱 采用升温更快的弹簧式环绕加热反向解析技术，峰形更好 原子化裂解温度850℃以上，保证各种形态的汞彻底分解 采用不分光比例双光束，以保证优秀的重复性和灵敏度 软件中文操作界面，可满足国际国内标准要求 具有MFC流量计精确控制流速，可以获得更好的重现性 自动进样器具有36，72，120等多种位数可选 进样瓶多种体积可选，可升级进样器自动恒温系统 仪器具有检出限低，配置高，性能稳定 仪器可使用氩气吹扫，提高检测器灵敏度降低检出限

土壤和沉积物 挥发性有机物的测定-顶空气相色谱质谱法——北分三谱为贯彻落实《中华人民共和国环境保护法》，保护环境，保障人体健康，规范环境监测工作，北分三谱推出《土壤和沉积物 挥发性有机物的测定 顶空/气相色谱-质谱法》系统解决方案一、原理在一定的温度条件下，顶空瓶内样品中挥发性组分向液上空间挥发，产生蒸气压，在气液固三相达到热力学动态平衡，气相中挥发性有机物进入气相色谱分离后，用质谱进行检测，通过与标准物质保留时间和质谱图相比较进行定性，内标法定量。二、仪器2.1 气相色谱仪：具有毛细管分流/不分流进样口，可程序升温；2.2 质谱仪：具70eV的电子轰击（EI）电离源，具NIST质谱图库、手动/自动调谐、数据采集、定量分析及谱库检索等功能；2.3 毛细管柱：60m×0.25mm×1.4um(6%腈丙苯基、94%二甲基聚硅氧烷固定液）；2.4 北分三谱AHS-20A plus顶空进样器：带顶空瓶、PTFE隔垫、瓶盖2.5 其他相关仪器三、典型谱图： SCAN模式下的总离子流图：图1 100 ng/L 35种挥发性有机物在SCAN模式下的总离子图 1. 氯乙烯；2. 1，1-二氯乙烯；3. 二氯甲烷；4. 反-1，2-二氯乙烯；5. 1，1-二氯乙烷；6. 顺-1，2-二氯乙烯；7. 氯仿；8. 1，1，1-三氯乙烷；9. 四氯化碳；10. 1，2-二氯乙烷；11. 苯；12. 氟苯；13.三氯乙烯；14. 1，2-二氯丙烷；15. 一溴二氯甲烷；16. 甲苯-D8；17. 甲苯；18. 1，1，2-三氯乙烷；19. 四氯乙烯；20. 二溴氯甲烷；21. 1，2-二溴乙烷；22. 氯苯-D5；23. 氯苯；24. 1，1，1，2-四氯乙烷；25. 乙苯；26. 间，对-二甲苯；27. 邻二甲苯；28. 苯乙烯；29. 溴仿；30. 4-溴氟苯；31. 1，1，2，2-四氯乙烷；32. 1，2，3-三氯丙烷；33. 1，3，5-三甲基苯；34. 1，2，4-三甲基苯；35. 1，3-二氯苯；36. 1，4-二氯苯-D4；37. 1，4-二氯苯；38. 1，2-二氯苯；39. 1，2，4-三氯苯；40. 六氯丁二烯。 SIM图： 图2 100 ng/L 35种挥发性有机物的SIM图 1. 氯乙烯；2. 1，1-二氯乙烯；3. 二氯甲烷；4. 反-1，2-二氯乙烯；5. 1，1-二氯乙烷；6. 顺-1，2-二氯乙烯；7. 氯仿；8. 1，1，1-三氯乙烷；9. 四氯化碳；10. 1，2-二氯乙烷；11. 苯；12. 氟苯；13.三氯乙烯；14. 1，2-二氯丙烷；15. 一溴二氯甲烷；16. 甲苯-D8；17. 甲苯；18. 1，1，2-三氯乙烷；19. 四氯乙烯；20. 二溴氯甲烷；21. 1，2-二溴乙烷；22. 氯苯-D5；23. 氯苯；24. 1，1，1，2-四氯乙烷；25. 乙苯；26. 间，对-二甲苯；27. 邻二甲苯；28. 苯乙烯；29. 溴仿；30. 4-溴氟苯；31. 1，1，2，2-四氯乙烷；32. 1，2，3-三氯丙烷；33. 1，3，5-三甲基苯；34. 1，2，4-三甲基苯；35. 1，3-二氯苯；36. 1，4-二氯苯-D4；37. 1，4-二氯苯；38. 1，2-二氯苯；39. 1，2，4-三氯苯；40. 六氯丁二烯。 　　北京北分三谱仪器有限责任公司是一家集研发、生产、销售和服务于一体的专业分析仪器生产厂家。主要生产:气相色谱仪、顶空进样器、热解析仪、解析管老化仪、电子皂膜流量计、氢气发生器、空气发生器、氮气发生器等产品。公司拥有一批长期从事色谱仪开发及分析应用、维修经验丰富的工cheng师，在色谱类仪器的维护、维修、和调试等方面的技术力量雄厚。近年来，我们已为国内著ming高等院校、科研单位、生产企业及检验检测机构提供了大量的分析仪器和设备及完整的系统解决方案。正是因为高品质的产品、专业的应用及完善的售前售后服务，我们赢得了广大用户的支持与信赖，具有良好的声誉。 北京北分三谱仪器有限责任公司技术部

产品介绍资料　　山东云唐智能科技有限公司生产的蜂蜜检测仪为集成化食品安全快速检测分析设备，采用手提箱式一体化设计，可检测体现各类蜂蜜品质的蔗糖、还原糖(葡萄糖和果糖)、羟甲基糠醛、农药残留、兽药残留、重金属等项目定性定量检测。　　该蜂蜜检测仪为集成化食品安全快速检测分析设备，目前已于食药监局、市场监督部门、高教院校、科研院所、农业部门、蜜蜂养殖场、蜂蜜加工厂等单位广泛使用。　　仪器检测项目：　　项目项目分类　　体现蜂蜜品质蔗糖、还原糖(葡萄糖和果糖)、羟甲基糠醛、脯氨酸、淀粉酶、酸度、糖度等　　蜂蜜中农药残留　　重金属含量铅、镉、铬等　　抗生素残留(兽药)氯霉素、氟喹诺酮类药物、恩诺沙星、环丙沙星、沙拉沙星、氟甲喹、磺胺类药物、磺胺嘧啶、磺胺二甲基嘧啶、磺胺二甲氧嘧啶、磺胺三甲氧苄胺嘧啶、磺胺喹噁啉、磺胺对甲氧嘧啶、链霉素、四环素、金霉素素、土霉素素、强力霉素、新霉素、卡那霉素、大观霉素、呋喃唑酮代谢物、呋喃它酮代谢物、呋喃妥因代谢物、呋喃西林代谢物等　　二、技术参数　　1、仪器采用台式一体化系统检测技术，将分光光度模块、胶体金检测模块、新型农残检测模块、数字化管理模块、无线通讯模块高度集成于一体，支持检测200种食品安全检测项目，同时预留升级检测方法。　　2、仪器检测模块标准化、智能化，检测项目可随意自由组合。检测箱体内置多个标准检测单元，检测模块可以调整配置。　　3、显示屏幕：仪器采用10.1英寸竖向液晶触摸屏显，搭配运行安卓智能操作系统，主控芯片采用ARM Cortex-A7，RK3288/4核处理器，主频1.88Ghz，操作方便，性能更强。　　4、检测通道：≥12通道 采用精密旋转比色池设计，使用同芯片同光源校准精度，解决不同光源之间的误差值，更加准确高效。(1-12通道间误差0.1%，专利号：ZL202022821055.2)　　5、仪器光源：高精度进口四波长冷光源，每个通道均配置 410、520、590、630nm 波长光源，标配先进的光路切换装置，专利光路切换功能可实现64波长，并且所有检测项目可实现所有通道同时检测。　　6、设备可一键校准，自动保存校准数据，自动对比校验，得到精准光源，采用Android SP存储数据，光源数据永不丢失，方便每一次使用。　　7、通讯接口：配备无线通信模块、4G(APN)通讯模块、蓝牙传输，同时具有双USB接口以及RJ45网线接口，可以多方式实现数据保存及数据传输。　　8、存储方式：支持U盘存储，标准USB接口，免驱动安装。检测结果存储容量20万条以上，可生成Excel表格进行拷贝，并具有登录保护功能。　　9、智能化操作系统：　　9.1、操作系统：仪器可在同一检测界面自动对应相关检测通道，一次性选择1-12个样品名称，无需退出界面，节省操作时间。并可以对每个通道属性和样品信息单独进行编辑，例如送检单位、人员，检测人员等，打印时勾选打印显示。　　9.2、数据集成系统：设备首页自动汇总分析检测数据，包含：周检测数据、月检测数据，全部检测总数量，包含检测总数，合格数，不合格数，以及相关柱形分析图，各项检测数据一目了然，无需电脑查询，更加快捷直观。　　9.3、数据库系统：十几项数据库分类管理仪器：包含项目类型、项目数据、检测数据、历史记录、国标信息、曲线信息、采样信息、检测信息、受检信息、复核信息、图表信息、光源校准信息、打印样式信息、样品库信息等等，数据库之间互相协调联动保证数据的真实完整性。同时产品数据库以及历史检测记录支持一键检索功能。　　9.4、限量规判系统：具有限量查询、添加物质合规判定系统。检测出结果后，系统自动调用系统数据库中相关国标进行比对判定，客观显示判定结果是否合格。　　9.5、项目预设系统：仪器具有任务预设模块，一键提前预设，给出方便快捷的新检测方案，每一个任务分别可以设置不同的样品、批次、编号、来源、备注、抽样信息、检测信息、受检信息、复核信息等更多信息。样品送检时一键调取保存信息，并可多次调取，大大提高检测效率。　　9.6、数据监管系统：同步对接监管平台，数据可局域网和互联网数据上传，检测结果可直接传至食品安全监管平台。进行区域食品安全监管及大数据分析处理与数据统计，监测区域食品安全长短期动态及问题预估、预警。　　9.7.1、全新打印系统：内置全新打印机，新创自定义打印方式，可按需灵活勾选控制：产品合格证(国家农业部标准要求)，二维码，抽样信息、检测信息，受检信息、复核信息、抽样日期、检测日期等信息的打印。　　9.7.2、A4纸版本报告打印功能(可选配)：设备拥有两种结果展示方式，可以自动生成A4打印模板和小票打印模板两种样式，可通过WiFi及网线等方式链接外置打印机可进行打印。　　10、供电模式：仪器交直流两用，直流12V供电，可连接车载电源，配6ah大容量充电锂电池，电量可实时显示，方便户外流动测试。　　11、胶体金检测模块：采用CMOS成像处理技术及胶体金免疫层析技术，可读取胶体金卡数据，自动采集、处理分析，将检测结果显示，并可根据参考限值自动判断检测结果，可检测常见的兽药残留、生物毒素、抗生素、违禁添加物等。　　11.1、探测技术：CMOS成像探测 　　11.2、检测通道：1个通道 　　11.3、检测方式：消线法和比色法 　　11.4、显示模式：阴性或阳性 　　11.5、曲线形式：轨道式扫描方式，显示金标卡图像，实时生成、识别CT曲线图，无需手动调整，完成检测后自动退出检测卡。兼容市场上其他金标卡，使用耗材不受限制。　　12、仪器具备远程升级功能，可定向分客户分仪器更新，开机后自动更新，并可持续性免费更新系统版本，无需像传统产品返厂更新，节省时间及人力成本并避免了物流运输返厂升级导致设备损坏的潜在风险。　　1、仪器采用台式一体化系统检测技术，将分光光度模块、数字化管理模块、无线通讯模块高度集成于一体，支持检测200种食品安全检测项目，同时预留升级检测方法。　　2、仪器检测模块标准化、智能化，检测项目可随意自由组合。检测箱体内置多个标准检测单元，检测模块可以调整配置。　　3、显示屏幕：仪器采用10.1英寸竖向液晶触摸屏显，搭配运行安卓智能操作系统，主控芯片采用ARM Cortex-A7，RK3288/4核处理器，主频1.88Ghz，操作方便，性能更强。　　4、检测通道：≥12通道 采用精密旋转比色池设计，使用同芯片同光源校准精度，解决不同光源之间的误差值，更加准确高效。(1-12通道间误差0.1%，专利号：ZL202022821055.2)　　5、仪器光源：高精度进口四波长冷光源，每个通道均配置 410、520、590、630nm 波长光源，标配先进的光路切换装置，专利光路切换功能可实现64波长，并且所有检测项目可实现所有通道同时检测。　　6、设备可一键校准，自动保存校准数据，自动对比校验，得到精-准光源，采用Android SP存储数据，光源数据永不丢失，方便每一次使用。　　7、通讯接口：配备无线通信模块、4G(APN)通讯模块、蓝牙传输，同时具有双USB接口以及RJ45网线接口，可以多方式实现数据保存及数据传输。　　8、存储方式：支持U盘存储，标准USB接口，免驱动安装。检测结果存储容量20万条以上，可生成Excel表格进行拷贝，并具有登录保护功能。　　9、智能化操作系统：　　9.1、操作系统：仪器可在同一检测界面自动对应相关检测通道，一次性选择1-12个样品名称，无需退出界面，节省操作时间。并可以对每个通道属性和样品信息单独进行编辑，例如送检单位、人员，检测人员等，打印时勾选打印显示。　　9.2、数据集成系统：设备首页自动汇总分析检测数据，包含：周检测数据、月检测数据，全部检测总数量，均包含检测总数，合格数，不合格数，以及相关柱形分析图，各项检测数据一目了然，无需电脑查询，更加快捷直观。　　9.3、数据库系统：十几项数据库分类管理仪器：包含项目类型、项目数据、检测数据、历史记录、国标信息、曲线信息、采样信息、检测信息、受检信息、复核信息、图表信息、光源校准信息、打印样式信息、样品库信息等等，数据库之间互相协调联动保证数据的真实完整性。同时产品数据库以及历史检测记录支持一键检索功能。　　9.4、限量规判系统：具有限量查询、添加物质合规判定系统。检测出结果后，系统自动调用系统数据库中相关国标进行比对判定，客观显示判定结果是否合格。　　9.5、项目预设系统：仪器具有任务预设模块，一键提前预设，给出方便快捷的新检测方案，每一个任务分别可以设置不同的样品、批次、编号、来源、备注、抽样信息、检测信息、受检信息、复核信息等更多信息。样品送检时一键调取保存信息，并可多次调取，大大提高检测效率。　　9.6、数据监管系统：同步对接监管平台，数据可局域网和互联网数据上传，检测结果可选择直接传至食品安全监管平台。进行区域食品安全监管及大数据分析处理与数据统计，检测区域食品安全长短期动态，达到食品安全问题预估、预警。　　9.7、打印系统：内置全新打印机，新创自定义打印方式，可按需灵活勾选控制：产品合格证(国家农业部标准要求)，二维码，抽样信息、检测信息，受检信息、复核信息、抽样日期、检测日期等信息的打印。　　10、供电模式：仪器交直流两用，直流12V供电，可连接车载电源，可配6ah大容量充电锂电池，电量可实时显示，方便户外流动测试。　　11、仪器加入远程升级功能，可定向分客户分仪器更新，开机后自动更新，客户无需任何操作，即可升级全新项目。做到了无需退换机器即可实现实时远程升级检测仪器。

技术特点宽泛的动态范围：独特光电检测电路与算法，确保其宽泛的检测范围；一体式整体设计，将进样器、色谱分离、检测器合为一体。配备极坐标式自动进样器，瓶内顶空方式吹扫，避免使用同一个气液分离器，防止交叉污染及洗涤不便。检测过程仅使用氩气，避免使用多种高压气体种类。光电设计，允许宽泛的动态检测范围。质量流量控制器控制气体流速，控制准确，调节方便。侧板式维护窗口，无需拆机即可更换、检修关键部件。技术参数分析原理：吹扫捕集-气相色谱-原子荧光（P&T-GC-AFS）样品类型：水质、生物质、土壤等载气：氩气（99.99%）外形尺寸： 610mm×490mm×570 mm检测范围：甲基汞：0.0125～50 ng/L（40 mL样品）乙基汞：0.0125～50 ng/L（40 mL样品）吹扫方式：原位吹扫样品位数：84位电源：220V AC，10A，50Hz重复性：RSD≤ 3% @ 25 pg MeHg分析时间：甲基汞分析时间小于6.5 min/样品；烷基汞分析时间小于12 min/样品适用标准EPA 1630 水中甲基汞，吹扫捕集-冷原子荧光光谱法HJ 977-2018 水质 烷基汞的测定 吹扫捕集/气相色谱-冷原子荧光光谱法HJ 1269-2022 土壤和沉积物 甲基汞和乙基汞的测定 吹扫捕集/气相色谱-冷原子荧光光谱法

FD-iCheck 磺胺二甲基嘧啶检测仪 产品简介FD-iCheck 磺胺二甲基嘧啶检测仪基于胶体金免疫层析快速检测技术（GICA）通过图像分析技术定量快速检测粮食作物、食用油、酱油、米酒、食醋中黄曲霉毒素B1、脱氧雪腐镰刀菌烯醇、玉米赤霉烯酮，以及赭曲霉毒素A等真菌毒素的含量，是中国与全球新一代真菌毒素、非法添加物、抗生素等食品安全快速检测技术与设备和解决方案的提供者。 产品优势1. 个性化服务：为每个企业每个产品提供专有的分析方法 2. 使用方便：可以用于实验室和现场的检测 3. 快速筛查：1 个小时 1 个人可以检测 30 个样品 4. 操作简单：不需要特殊的培训 5. 针对性强：具备项目校正和仪器校正，结果更可靠6. 环境友好：不需要有毒的标准品 7. 数据安全：电子标定二维码专用 8. 结果准确：最低检测限满足食品安全限量标准 9. 数据完整：测定结果实时显示、可以打印、可以转存计算机中 10. 配套性强：提供全套检测仪器设备，配套齐全，体积小，携带方便 检测项目序号产品名称样品类别检测范围ppb真菌毒素1黄曲霉毒素总量定量快检卡玉米、大米、小麦及其制品0-25坚果、籽类0-25植物油0-25辣椒、胡椒、中药材0-25茶叶0-10饲料0- 50/0-1002黄曲霉毒素M1定量快检卡乳及乳制品、婴幼儿配方食品0- 2.03玉米赤霉烯酮定量快检卡大米、玉米、小麦、饲料0-500/0-2000植物油0-5004呕吐毒素定量快检卡玉米、玉米面（渣、片）、小麦、饲料0-50005赭曲霉毒素A 定量快检卡小麦、谷物及其制品、饲料、咖啡0-20葡萄酒0-10辣椒、胡椒0-50非法添加物6三聚氰胺定量快检卡乳、饲料0-5007β-兴奋剂定量快检卡尿0-5.08苏丹红定量快检卡番茄酱、沙司、辣椒、红酒0-109玉米赤霉醇定量快检卡乳、畜产品0-10抗生素10卡那毒素定量快检卡乳0-20011磺胺二甲基嘧啶定量快检卡乳、畜产品0-5012恩诺沙星定量快检卡乳、畜产品0-200/0-50013庆大霉素定量快检卡乳、畜产品0-30014安普霉素定量快检卡乳、畜产品0-200/0-100015四环素定量快检卡乳0-20016氟喹诺酮类定量快检卡乳、畜产品0-200/0-50017链霉素定量快检卡乳、畜产品、蜂蜜0-250

产品简介：北京普立泰科仪器有限公司全新推出——全自动烷基汞分析仪 MMA72，检测方法依据U.S. EPA1630，超痕量检出限完全满足目前国内烷基汞的检测需求，完全满足HJ977-2018《水质 烷基汞的检测 吹扫捕集/气相色谱-冷原子荧光光谱法》国家环境保护标准，适用于样品的批量分析。全自动烷基汞分析仪采用吹扫捕集富集，气相色谱分离，高温热裂解及CVAFS（冷原子荧光光谱法）检测的原理。自动进样，分析过程全部自动化，避免操作者在实验中暴露伤害。样品前处理简单，一次检测只需要25/40ml样品（水样），解放人力。分析时间短，实验数据准确，可靠。为实验室提供安全、准确高效的形态汞分析解决方案。可选配总汞模块。 应用领域：环境监测：自来水、污水、土壤、淤泥、空气等食品安全：鱼、肉、农副产品、饲料等临床：毛发、血液、药材、化妆品等 产品特点：整体采用模块化设计两通道及以上捕集阱设计，样品分析周期短，通道可单独使用自动进样，两种进样规格（25mL或40mL）吹扫捕集-GC分离-CVAFS检测原理软件具有最小二乘法（环境征求意见稿）和响应因子法（EPA1630）两种数据处理方式，软件报告可同时处理甲基汞和乙基汞。有机试剂消耗量小，环境友好线性范围广 技术指标：尺寸：1200mm*400mm*400mm重量：43kg功率：220VAC，50Hz，5A样品位数：96位工作范围：0~40ng/L(烷基汞）；0~400ng/L(总汞）检出限：≤0.002ng/L(甲基汞）；≤0.002ng/L（乙基汞)；≤0.03ng/L（总汞）分析速率：9样/小时（甲基汞）；5样/小时（烷基汞）了解更多产品信息，请拨打 400-889-1179

DMV12/28 是按照甲基紫试验程序测试和评价硝化纤维、硝化甘油和硝化甘醇等的热稳定性。仪器也可用于测试高能炸药的热稳定性。该方法主要利用硝酸酯分解产生的NO2来评价被测物质的稳定性，稳定性通过试纸颜色的变化来确定。测试时间从样品插入加热模块到试纸颜色产生变化。符合标准：STANAG 4178MIL-STD-286CCOS 137602Sample positions12 / 28Hole size (diameter x depth)19 x 285 mm or as requiredTemperature accuracy± 0.1 °CTemperature limit+200 °CSample weightdefined by standard Size (WxDxH) DMV 12 30 x 33 x 49 cmSize (WxDxH) DMV 2835 x 37.5 x 49 cmWeight45 / 70 kgMains supply110 or 230 VPower1000 W

产品型号： HMDS-6090 HMDS真空烘箱 产品特点：1、机外壳采用不锈钢SUS304材质制造，内胆为不锈钢316L材料制成；加热器均匀分布在内胆外壁四周，内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。2、箱门闭合松紧能调节，整体成型的硅橡胶门封圈，确保箱内高真空度。3、微电脑智能控温仪，具有设定，测定温度双数字显示和PID自整定功能，控温精确，可靠。 4、智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序，温度，真空度及每一程序时间。5、HMDS气体密闭式自动吸取添加设计，真空箱密封性能佳，确保HMDS气体无外漏顾虑。 6、整个系统采用材料制造，无发尘材料，适用100 级光刻间净化环境。 产品技术参数： 电源电压：AC 220V±10%/50Hz±2% 输入功率：3000W 控温范围：室温+10℃-250℃ 温度分辨率：0.1℃ 温度波动度：±0.5℃ 达到真空度：133Pa 容积：90L 工作室尺寸（mm）：450*450*450 外形尺寸（mm）：850*700*1400载物托架：2块 时间单位：分钟选配件： 真空泵：德国品牌，莱宝“DC”双极系列旋片式油泵，极限真空高，噪音低，运行稳定。 连接管：不锈钢波纹管，完全密封将真空泵与烘箱连接。 HMDS预处理系统的必要性： 在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。 HMDS真空烘箱的原理： HMDS预处理系统通过对烘箱HMDS预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS，降低了HMDS处理后的硅片接触角，降低了光刻胶的用量，提高光刻胶与硅片的黏附性。 HMDS真空烘箱的一般工作流程： 先确定烘箱工作温度。典型的预处理程序为：打开真空泵抽真空，待腔内真空度达到某一高真空度后，开始充人氮气，充到达到某低真空度后，再次进行抽真空、充入氮气的过程，到达设定的充入氮气次数后，开始保持一段时间，使硅片充分受热，减少硅片表面的水分。然后再次开始抽真空，充入HMDS气体，在到达设定时间后，停止充入HMDS药液，进入保持阶段，使硅片充分与HMDS反应。当达到设定的保持时间后，再次开始抽真空。充入氮气，完成整个作业过程。HMDS与硅片反应机理如图：先加热到100℃-200℃，去除硅片表面的水分，然后HMDS与表面的OH一反应，在硅片表而生成硅醚，消除氢键作，从而使极性表面变成非极性表面。整个反应持续到空间位阻(三甲基硅烷基较大)阻止其进一步反应。 尾气排放等：多余的HMDS蒸汽（尾气）将由真空泵抽出，排放到专用废气收集管道。在无专用废气收集管道时需做专门处理。 图片： 外壳冷轧板烤漆

产品型号： HS40 产品特点：1、机外壳采用冷轧板烤漆处理，内胆为不锈钢316L材料制成；加热器均匀分布在内胆外壁四周，内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。2、箱门闭合松紧能调节，整体成型的硅橡胶门封圈，确保箱内高真空度。3、微电脑智能控温仪，具有设定，测定温度双数字显示和PID自整定功能，控温精确，可靠。 4、智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序，温度，真空度及每一程序时间。5、HMDS气体密闭式自动吸取添加设计，真空箱密封性能佳，确保HMDS气体无外漏顾虑。 6、整个系统采用材料制造，无发尘材料，适用100 级光刻间净化环境。 产品技术参数： 电源电压：AC 220V±10%/50Hz±2% 输入功率：3000W 控温范围：室温+10℃-250℃ 温度分辨率：0.1℃ 温度波动度：±0.5℃ 达到真空度：133Pa 容积：90L 工作室尺寸（mm）：450*450*450 外形尺寸（mm）：615*615*900载物托架：2块 时间单位：分钟选配件： 真空泵：德国品牌，莱宝“DC”双极系列旋片式油泵，极限真空高，噪音低，运行稳定。 连接管：不锈钢波纹管，完全密封将真空泵与烘箱连接。 HMDS预处理系统的必要性： 在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。 HMDS真空烘箱的原理： HMDS预处理系统通过对烘箱HMDS预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS，降低了HMDS处理后的硅片接触角，降低了光刻胶的用量，提高光刻胶与硅片的黏附性。 HMDS真空烘箱的一般工作流程： 先确定烘箱工作温度。典型的预处理程序为：打开真空泵抽真空，待腔内真空度达到某一高真空度后，开始充人氮气，充到达到某低真空度后，再次进行抽真空、充入氮气的过程，到达设定的充入氮气次数后，开始保持一段时间，使硅片充分受热，减少硅片表面的水分。然后再次开始抽真空，充入HMDS气体，在到达设定时间后，停止充入HMDS药液，进入保持阶段，使硅片充分与HMDS反应。当达到设定的保持时间后，再次开始抽真空。充入氮气，完成整个作业过程。HMDS与硅片反应机理如图：先加热到100℃-200℃，去除硅片表面的水分，然后HMDS与表面的OH一反应，在硅片表而生成硅醚，消除氢键作，从而使极性表面变成非极性表面。整个反应持续到空间位阻(三甲基硅烷基较大)阻止其进一步反应。 尾气排放等：多余的HMDS蒸汽（尾气）将由真空泵抽出，排放到专用废气收集管道。在无专用废气收集管道时需做专门处理。外壳冷轧板烤漆

本仪器是根据国家标准GB/T21395-2008 二甲基亚砜和GB/T7533-1993 有机化工产品结晶点的测定方法所规定的要求设计制造的，适用于有机化工产品结晶点。同时也可用于检测化学试剂、增塑剂的结晶点。仪器自动降温、自动往返式机械搅拌、自动显示温度曲线、自动判断结晶点、自动打印测试数据。操作员在放样后，按一键即可开始和完成实验。二甲基亚砜 性质：一种透明、无色、无臭、呈微苦味的液体，毒性极低。它是一种水溶性的化合物，能溶解绝大多数有机化合物，甚至对无机盐也能溶解。液态的二甲基亚砜能高度缔合。属极性溶剂具有很强的吸水性和对肌体的渗透性。纯品对金属无腐蚀，含水对铁、锌、铜有轻微腐蚀。性质稳定，长时间在沸点温度下加热微量分解在碱性状态下可抑制腐蚀或分解。无水级DMSO（二甲基亚砜）结晶点要求 一般是不小于18度。一、技术参数1. 工作电源：AC220V±10% 50Hz2. 依据标准：GB/T7533-1993等3. 显示方式：10寸工业级彩色液晶触摸屏，全中文操作界面，中文输入4. 操作系统：嵌入式Windows系统，软件可升级5. 控制系统：三菱PLC系统，内置16组控制程序6. 温度范围：0～100 ℃，分辨率 0.01 ℃7. 测温元件：进口PT100玻璃温度传感器8. 工作单元：双孔双浴9. 搅拌方式：60次/分钟10. 制冷方式：德国丹佛斯压缩机制冷11. 加热方式：外置陶瓷加热器12. 数据输入：触摸屏数据输入，可以输入中文、英文、数字、标点、符号等13. 数据输出：微型热敏打印机，自动打印，打印快速、清晰14. 存储数据：自动储存100个测定结果，可随时查看或打印历史测试数据15. 修正功能：内置自检、校准系统、可整机、单程序校正16. 仪器重量：60kg17. 环境温度：5℃～30℃ 18. 相对湿度：30～70%RH二、性能特点1. 嵌入式工业级10寸彩色液晶触摸屏，实时显示试样结晶过程的温度曲线。2. 计算机自动控制恒温及搅拌速度，自动判断结晶点、自动打印测试数据。3. 采用进口高精度玻璃温度传感器，内置温度校正，检测结果可靠。4. 仪器采用双浴，根据实验要求选用适合的浴槽来实验。5. 采用国内先进的外层陶瓷加热器，无电火花，安全环保。6. 采用电机搅拌，特殊机械搅拌装置，搅拌均匀，稳定可靠。7. 存储查阅功能，可存储上百条测试结果，随时查阅与打印测试数据。8. 设计制造符合国家标准，国家标准修订时，仪器程序可升级。

产品名称：烷基汞蒸馏器品牌：tekran产地：加拿大型号：2750产品方法：EPA 1630详细说明：烷基汞在天然样品中的含量非常低，在烷基汞分析的过程中，由于一些样品中存在各种杂质的干扰，通常需要对样品进行蒸馏纯化。Tekran 2750 甲基汞蒸馏系统是紧凑和模块化的，减少了对空间的需求并提高了样品蒸馏的效率。该系统具采用精密的PID控制器对温度进行实时监控与调整，具有铝加热器和主动冷却水浴，无需额外提供冰块。最高可同时蒸馏多达30个样品。Tekran 2750 甲基汞蒸馏系统完全遵循EPA 1630方法的要求，是您制备EPA 1630方法所需样品的最佳解决方案产品图片：