六氢羟基甲基

2,4-二羟基苯甲酸广东厂家产品名称：2,4-二羟基苯甲酸CAS：89-86-12,4-二羟基苯甲酸标准：国标含量：99%2,4-二羟基苯甲酸外观：白色粉状2,4-二羟基苯甲酸包装：25KG/复合编织袋 可拆分成份：2,4-二羟基苯甲酸2,4-二羟基苯甲酸理化属性：白色针状结晶。微溶于水，易溶于有机溶剂类别：化工日化2,4-二羟基苯甲酸行业：化工日化领域：农药添加2,4-二羟基苯甲酸下延产品：农药杀菌剂运用：农药杀菌剂加工市场缺货产品热销碳酸锶 定价35肉桂醛 定价32 肉桂酸 定价48氧化铋 定价270胆汁酸 定价60己二酸 定价15油酸乙酯 定价35溶剂红52 定价800甘油缩甲醛 定价35肉桂酸乙酯 定价60叶醇（新和成） 定价540氟虫腈 95% 定价760 戊唑醇 97% 定价160增产胺 98% 定价395溴虫腈 98% 吨位350氯菊酯 95% 吨位160咪唑乙醇 99% 定价3004-硝基咪唑 99% 吨位310二硫氰基甲烷 定价175氟氯氰菊酯 95% 吨位325对羟基肉桂酸 99% 定价190铃兰醛（芬美意） 定价150甘氨酰胺盐酸盐 定价120厂家，现货，价格，广东，便宜，用途，作用，技术，含量，规格，标准，质优价廉，性状，性质，报价，CAS编号，海关HS编码，供应商，生产商，生产企业，市场行情，应用，市场前景，原料

TMAH 四甲基氢氧化铵单参数溶液测试仪产品介绍： TMAH 四甲基氢氧化铵单参数溶液测试仪半导体，液晶，LCD用溶液检测，一台仪器对应一种参数，有四甲基氢氧化铵TMAH,硫酸，硝酸，氢氧化钠，氢氧化钾，氨水。品名　単参数药业浓度计 　 ＴＭＡＨ浓度用：ＬＱ－５Ｚ－ＴＭＡＨ硫酸浓度用：ＬＱ－５Ｚ－Ｈ２ＳＯ４硝酸浓度用：ＬＱ－５Ｚ－ＨＮＯ３氢氧化钠浓度用：ＬＱ－５Ｚ－ＮａＯＨ 氢氧化钾浓度用：ＬＱ－５Ｚ－ＫＯＨ氨气浓度用：ＬＱ－５Ｚ－ＮＨ３測定範囲　ＴＭＡＨ濃度用：０．００～５．００％硫酸濃度用：０．００～２．００％ 硝酸濃度用：０．００～２．００％氢氧化钠濃度用：０．００～３．００％氢氧化钾濃度用：０．００～３．００％氨气濃度用：０．００～２．００％ 测试温度：　０．０～４０．０℃TMAH四甲基氢氧化铵单参数溶液测试仪測定方式　電極法（採水測定）校正　　零跨度校正功能温度補償　　自动温度补偿　　ＩＰ６６準拠防水構造 電源　：电池（LR03×3） 自动电源OFF功能計器本体　：　38(H)×75（W)×180（D)mm電極　：　φ17×180（L)mm重量　計器 ： 約300ｇ、電極 ： 約50g標準 構成：　計器、電極、電池、取扱説明書、保証書。

中文名称1,3-二羟基丙酮英文名称Dihydroxyacetone中文别名二羟基丙酮CAS RN96-26-4EINECS号202-494-5分 子 式C3H6O3分 子 量90.0779用途：医药中间体、化工原料和食品添加剂。1,3-二羟基丙酮作为医药中间体，能合成一些治疗心血管疾病药物；1,3-二羟基丙酮酮可应用于化妆品中，能阻止皮肤的水份的过度蒸发，对皮肤起到保湿和防晒作用，防紫外线辐射我公司关于订购说明：1、质优价廉，量大从优，欢迎您的订购；2、物流信息：快递、汽车物流等；3、其他服务：如您对产品服务及技术指标有特殊要求，请及时通知我方；欢迎新老客户前来洽谈！订购流程：电话询单议价→签订合同→打款订货→安排发货→物流跟踪→货物送达→客户验收（7天产品质量异议期，15天产品数量异议期）→货物验收确认服务宗旨：竭诚提供 产品,售后服务客户满意。我公司产品出厂前均由质检部检验合格方可出货，质量有保证特别说明：1，产品价格会受到季节性波动影响，具体价格请客户来电核实2，产品都是完整包装，需拆分少量时价格会稍微提高3，大货急需的客户还请提前来电，我公司提前给您备货4，收货后请仔细确认完整性无损再签收，按该产品执行标准验收，如有产品不符，我们包退包换

在枪zhi犯罪事件中，枪击残留物 GSR 的分析将发挥重要的作用。GSR 分析技术首先基于扫描电子显微镜 （SEM） 的背散射成像，用来扫描样品和发现可疑的 “GSR” 颗粒。一旦发现可疑的颗粒，使用能谱（EDS）识别在该粒子中的元素。最常见的搜索元素为 Pb，Sb 和 Ba。无铅底火的检测，例如 Ti 和 Zn 也可最为搜索条件进行搜索。Phenom GSR 飞纳台式扫描电镜自动枪击残留物分析是全球首创在台式扫描电镜运行自动枪击残留物分析软件。其设计基于飞纳台式扫描电镜大样品室卓越版 Phenom XL。软件和硬件完全一体化，以提高用户操作界面友好性，可靠性和分析速度。Phenom GSR 包括以下三个项目：自动枪击残留物分析和分类软件包，BSED 和 EDS 探头内部集成，校准试样。Phenom GSR 飞纳台式扫描电镜自动枪击残留物分析配备 CeB6 灯丝，使其稳定运行，灯丝寿命不低于 1500 个小时，从可用性，适用性和运行时间的角度来看都非常理想。小于 1 分钟的加载时间，和快速的全自动马达样品台，使得飞纳 GSR 成为高度自动化应用的理想工具，可以用来进行自动枪击残留物分析。飞纳电镜枪击残留物分析 Phenom GSR基于 CeB6 灯丝的高分辨图像直观易用的 GSR 软件高吞吐量，一次性放置多达 36 个试样操作简单，永不丢失导航系统，完全集成能谱仪测量结果准确可靠，广泛兼容法医领域的各类应用规格参数光学放大3 - 19 X电子光学放大200,000 X分辨率优于 8 nm灯丝材料优于 1500 小时 CeB6 灯丝光学导航相机彩色加速电压4.8 Kv - 20.5 Kv 连续可调真空模式高分辨率模式降低核电效应模式高真空模式探测器背散射电子探测器二次电子探测器 (选配)样品尺寸最大 100 mm X 100 mm可同时装载 36 个 0.5 英寸样品台样品高度最高 65 mm，样品高度全自动调节

四甲基氢氧化铵浓度计LQ-5Z-Multi长处用一个单位测量 8 个项目（硫酸、硝酸、盐酸、TMAH、烧碱、碳酸钠、氨水、水温），注意每个项目都是单独测量，被测液体中不能含有多种其他杂质。单组分液体浓度可在 % 和 g/L 单位之间切换耐酸碱的耐化学腐蚀传感器自动温度补偿电极和仪器任意量程校准功能IP66级防水结构仪器规格名字用于单组分测量的多项目化学浓度计型LQ-5Z-多功能测量范围碱性溶液TMAH：0.00~5.00%/0.0~50.0g/L氢氧化钠：0.00~3.00%/0.0~30.0g/L 碳酸钠：0.0~10.0%/0~100g/L氨水：0.00~2.00%/0.0~20.0g/L酸溶液 硫酸：0.00~2.00%/0.0~20.0g/L硝酸：0.00~2.00%/0.0~20.0g/L盐酸：0.00~2.00%/0.0~20.0g/L温度：0.00~40.00°C样品液体温度0.0~40.0°摄氏度测量方法电极法（水样测量）校准零量程校准功能温度补偿自动温度补偿结构IP66防水结构权力具有自动关机功能的碱性电池（LR03×3）测量电极4C 型，1m 电缆标准外形尺寸仪器本体：38（H）×75（W）×180（D）mm 电极：φ17×180（L）mm重量仪器：约300g，电极：约50g标准配置仪器、电极、电池、使用说明书、保修卡

产品名称：橄榄醇化学名 : 3,5-二羟基戊苯 产品别名：5-戊基间苯二酚；5-戊基苯-1,3-二醇；1,3-二羟基-5-戊苯 3,5-二羟基戊基苯 3-二羟基-5-戊苯 5-二羟基戊基苯英文名称：Olivetol英文别名：3,5-dihydroxyamylbenzene 5-Pentyl-1,3-benzenediol 5-Pentylresorcinol；Pentyl-3,5-dihydroxybenzeneCAS：500-66-3分子式：C11H16O2分子量：180.25纯度： 98%外观：棕红色粉末包装：25公斤/桶熔点：46-48℃闪点：110℃用途：保健品原料

中文名称邻羟基苯乙酸英文名称2-Hydroxyphenylacetic acid中文别名2-羟基苯乙酸CAS RN614-75-5EINECS号210-393-2分 子 式C8H8O3分 子 量152.1399用　　途用作医药合成的重要中间体我公司关于订购说明：1、质优价廉，量大从优，欢迎您的订购；2、物流信息：快递、汽车物流等；3、其他服务：如您对产品服务及技术指标有特殊要求，请及时通知我方；欢迎新老客户前来洽谈！订购流程：电话询单议价→签订合同→打款订货→安排发货→物流跟踪→货物送达→客户验收（7天产品质量异议期，15天产品数量异议期）→货物验收确认服务宗旨：竭诚提供 产品,售后服务客户满意。我公司产品出厂前均由质检部检验合格方可出货，质量有保证特别说明：1，产品价格会受到季节性波动影响，具体价格请客户来电核实2，产品都是完整包装，需拆分少量时价格会稍微提高3，大货急需的客户还请提前来电，我公司提前给您备货4，收货后请仔细确认完整性无损再签收，按该产品执行标准验收，如有产品不符，我们包退包换

GASTEC快速气体检测管无论何时由于不用分析仪器和化学药剂，省略了测量前的准备工作，无论何时都可以进行测定。无论何地极为小巧便于携带，只要有微量的空气就可以进行测定，最适合于现场测定。无论何人测定的操作非常简单，无论专业人士或非专业人士。多种气体GASTEC快速气体检测管可以检测多达300余种气体。检测快速测定的结果几分钟就可得到，可以立即转入下一步操作。过程安全日本GASTEC快速气体检测管不用电源，热源，不产生火花，即使有易燃易爆的气体存在，也可以确保操作安全。选型指南型号被测物质分子式可检测范围 ppm191丙烯腈CH2:CHCN2-360191L0.1-18192甲基丙烯腈CH2:C(CH3)CN0.2-321932-戊烯腈CH3CH2CH:CHCN0.5-15.0230H甲基碘CH3I100-348002300.5-108231硫酰氟SO2F21-20

1-甲基咪唑产品名称:N-甲基咪唑英文名称:1-methyl-1H-imidazole中文别名:1-甲基-1H-咪唑 1-甲基咪唑 分子式C4H6N2分子量82.10380CAS NO：616-47-71-甲基咪唑外观无色至淡黄色透明液体含量≥99.0%水分≤0.5%用 途：1-甲基咪唑有机合成中间体和树脂固化剂、粘合剂等。包 装：1吨/桶，200kg/桶1-甲基咪唑1-甲基咪唑运输贮存：本品应贮存在通风、干燥的库房内，不得与有毒物品混存，在运输中应轻装轻卸，防止内包装破裂，本品极易吸潮。

人25羟基维生素D3（25（OH）D3/25 HVD3）ELISA试剂盒用于体外定量检测血清，血浆，细胞培养上清液，组织匀浆,心房水样本等中的人25羟基维生素D3

本仪器按《中华人民共和国药典》2020年版四部 通则 0613凝点测定法设计制造，测定药物由液体凝结为固体时候，在短时间内停留不变的最高温度。二丁基羟基甲苯凝固点为约69-70度。仪器硬件方面采用65K真彩5.7寸触屏，热感性微型打印机，高精度温度传感器，从而使仪器的品质实实在在看得见；软件方面采用了流行的硬件看门狗加软件陷井，二阶滤波加去极值平均滤波算法使仪器的抗干扰大幅提升。操作中直观的中文提示使试验变得更加轻松。一、主要技术特点1、规格型号：HSY-0613G2、测试范围：室温～ 90℃3、控温精度：0.1℃4、测试精度：±0.1℃5、温度检测：Pt100 （1/3DIN B级）6、加热方式：不锈钢电热管加热7、显示方式：TFT 65K色 全触摸 5.7寸工业液晶屏显示（曲线/数据）8、报告输出：20列汉字点阵热感打印9、试样搅拌：机械搅拌 双样10、作样单元：双样11、主机功率：≤1000W12、外形尺寸(宽高深)：320 X 500 X 46013、工作电源：AC220V±10% 50HZ 14、工作环境：相对湿度：〈80% 15、温度：0～45℃ 二、主要技术参数及指标1、本仪器成套包含做样和加热控制部分。2、本仪器采用真彩全触摸屏式，操作简单，方便，美观。3、仪器做样部分采用铝板喷塑制作，耐腐蚀，无振动，延长使用寿命。4、浴体采用耐低温双层真空透明杜瓦瓶，透明观察，保温效果优良。5、传感器采用1/3DIN B级 Pt100，感温灵敏，分辨率高,抗干扰性强、测温精度高。6、试样搅拌采用机械搅拌，很好的解决了电磁搅拌高温失效的问题。7、仪器做样采用灯光照明，方便观察，显示直观。8、内置仪器自检程序，方便调试检修。

本仪器按《中华人民共和国药典》2020年版四部 通则 0613凝点测定法设计制造，测定药物由液体凝结为固体时候，在短时间内停留不变的最高温度。二丁基羟基甲苯凝固点为约69-70度，测定凝点可以区别或检查药品的纯杂程度。 一、主要技术特点1、型号规格： HSY-0613A2、控温范围： - 20℃～90度3、控温方式： 数显PID温控仪4、控温精度： ±0.1℃5、加热方式： 不锈钢电热管加热6、制冷方式： 进口压缩机制冷7、观察方式： 双层保温杜瓦瓶透明观察8、工作方式： 双孔9、试样搅拌方式：自动机械搅拌10、制冷控制： 进口磁力泵11、加热功率： 800W 12、制冷功率： 500W13、整机功率： 1400W14、工作电源： AC220V±10% 50HZ 15、工作环境： 相对湿度：〈80%二、主要技术参数及指标1、本仪器成套分为两部分，左边部分为冷浴做样部分，右边为加热做样部分。做样系统为左右式的整体结构，仪器下部为电路控制部分，操作简单、方便。2、仪器采用数显PID温控仪控温，控温精度可达±0.1℃，其温度显示直观，读数准确，还可调整因温度传感器老化产生的误差。因控温精度的要求传感器采用Pt100，感温灵敏分辨率高，抗干扰强、控温精度高。3、本仪器的冷浴是采用双层真空保温瓶，能很好的透明观察试样,保温性能良好。4、本仪器搅拌方式采用自动机械搅拌。5、不需循环冷却水，采用风机风冷，接通电源即可制冷。6、仪器采用铜管做成冷室，恒温冷却循环浴,高能效的制冷器也可兼做其它循环冷却用。7、本仪器采用优质钢板成型加工，表面采用静电喷涂工艺、坚固耐用，抗腐蚀性强。8 、本仪器使用和维修均很方便。

H2S-625是一种高性价比的本安型在线分析仪器，可以连续测定硫化氢，仪器几乎不需要维护，该分析仪主要用于第1类，第1组B,C,D。主要应用包括天然气，垃圾填埋场以及其他工业。该产品性能可靠、功能齐全，具有易于使用的操作界面，人员不需携带笔记本电脑到现场，电子功能包括4 - 20mA或1 - 5VDC, 2个继电器触点，多量程操作以及12 – 24VDC 或 100 – 240 VAC电源输入。硫化氢传感器基于电化学燃料电池原理，该传感器是独立的，需要极少的维护并且不需要清洁电极或添加电解液。精密传感器提供卓越的性能，精度和稳定性，同时延长预期寿命。该分析仪配备3个量程可选的传感器，H2S-1x有4个范围0 - 10ppm, 0 - 50ppm, 0 - 100ppm, 0 - 200ppm，H2S-2x有0 - 100ppm、0 - 500ppm、0 - 1000ppm和0 - 2000ppm，H2S-3x有0 - 1000ppm, 0 - 2000ppm, 0 - 5000ppm和0 - 10000ppm。 产品为天然气工业设计 防爆等级：1区，1组B, C, D； 满量程范围0 - 10ppm至0 - 10000ppm； 具有精密电化学硫化氢传感器； 大型背光显示； 直观友好的用户界面； 高性价比和低维护； 2个全配置的警报继电器。 可选配置可定制测量范围； 样品调节系统； 双向RS485网络通讯协议；极端温度加热系统。 产品应用: • 天然气开采和管道； • 天然气加工； • 废气气体监测； • H2S洗涤器前后的沼气； • 其他工业应用 。 交叉灵敏度： 传感器响应精度以每100 ppm气体计: 甲基硫醇:40ppm，一氧化碳:4ppm， 氢气:1ppm， 二氧化硫:18ppm。 产品规格：精度 +/-1%满量程 报警系统2个全配置的警报继电器分析范围高达0 - 10000 ppm 防爆等级1区，1组B, C, D尺寸12”x 12”x 5.25” 流量0.25 - 5.0 SCFH 气体连接1/4“压缩管 输出4 - 20mA或1 - 5 VDC 电源12 - 24VDC， 100 - 240VAC 压力0.1 - 50psi（进口），排气到大气 响应时间T90--45s样品系统可选 传感器精密电化学电池 使用温度0 ~ 50℃ 传感器寿命12个月保修12个月 重量21磅

KY-0125液化石油气中硫化氢测定仪(乙酸铅法)本仪器用于检测液化石油气中的硫化氢有或无，检测硫化氢的下限为4mg/m3,如果甲基硫醇存在乙酸铅试条上产生短暂的黄色污斑，但不到5min便完全消失，液化石油气中的其他硫化物不干扰本试验。技术参数：1、适用标准：ASTM D2420 SH/T01252、加热方式：电热管加热3、控温方式：数显PID温度控制器4、流量控制：针型阀调节，流量计显示流量5、整机功率：1000W6、工作电源：AC220V 50HZ 主要特点：1、试验玻璃筒符合标准要求，内带玻璃挂钩；2、配套500ml不锈钢取样器；3、气体通过热蒸发浴，针型阀调节流量；4、微电脑温度控制器，PID调节，PT100温度传感器，精度高。

广泛用作绝缘、润滑、防震、防尘油、介电液和热载体，以及用作消泡、脱膜、油漆和日用化妆品的添加剂等。 201甲基硅油具有各种优异的特性，因此在工农业生产，国防工业，科学研究及医疗卫生等部门，都得了极其广泛的应用。它广泛用于电气绝缘、脱模、消泡、阻尼、防震、滚压、防尘、防水、高低湿润等方面。 1、在机电工业中的应用：201甲基硅油广泛用在电机、电器、电子仪表上作为耐温、耐电弧电晕、抗蚀、防潮、防尘的绝缘介质、目前还用做变压器、电容器、电视机的扫描变压器的浸渍剂等。在各种精密机械、仪器及仪表中，用作液体防震、阻尼材料。201甲基硅油的消震性能受温度影响小，多用于具有强烈机械震动及环境温度变化大的场合下，使用的仪表如：飞机、汽车的仪表中。用于防震、阻尼、稳定仪表读数，还可作为液体弹簧，且于飞机的着陆装置中。2、在消泡剂中的应用：由于201甲基硅油表面张力小，且不溶于水，动植物油及高沸点矿物油中，化学稳定性好、又无毒，用作消泡剂已广泛用于石油、化工、医疗、制药、食品加工、纺织、印染、造纸等行业中，只要加入10-100PPM的硅油就具有良好的消泡剂作用。3、在脱模剂中的应用：由于201甲基硅油与橡胶、塑料、金属等的不粘性，又用做各种橡胶、塑料制品成型加工的脱模剂，及用于精密铸造中。用它做脱模剂不仅脱模方便，且使制品表面洁净、光滑、纹理清晰。4、在绝缘、防尘、防霉涂层中的应用：在玻璃、陶瓷器表面浸涂一层201甲基硅油，并在250-300℃进行热处理后，可形成一层防水、防霉和绝缘性的薄膜。用之处理绝缘器件，可提高器件的绝缘性能：用之处理光学仪器，能防止镜片、棱镜发霉；用之处理药瓶，能延长药品的保存期，并不使制剂因粘壁而损失；用之处理电影胶片的表面，可起润滑作用，减少磨擦，延长影片寿命。5、在润滑剂中的应用：201甲基硅油适于做橡胶，塑料轴承、齿轮的润滑剂。也可做为在高温下钢材对钢的滚动磨擦，或钢与其它金属磨擦时的润滑剂。6、在添加剂中的应用：201硅油可作许多材料的添加剂，如可作为油漆的增光剂，加少量硅油到油漆中，可使油漆不浮包、不起皱提高漆膜的光亮度，加少量硅油到油墨中，可提高印刷质量，加少量硅油到抛光油中（如汽车上光油），可增加光亮，保护漆膜，并有优良的防水效果。7、在医疗卫生中的应用：201甲基硅油对人体无生毒性，也不被体液分解，故在医疗卫生事业中，也被广泛应用。利用其消泡作用，制成了口服胃肠消胀片，及肺水肿消泡气雾剂等药用。在药膏中加入硅油，可提高药物对皮肤的渗透能力，提高药效。以硅油为基础油的某些膏药剂对烫伤、皮炎、褥疮等都有很好的疗效，利用硅油的抗凝血作用，可用其处理贮血器表面，延长血样贮存时间等。8、在其它方面中的应用：201甲基硅油在其它方面还有许多用途。如：利用其闪点高、无嗅、无色、透明且对人体无毒等特性，在钢铁、玻璃、陶瓷等工业和科研中，作为油浴或恒温器中的热载体。利用其抗切变性能好，可做液压油尤其是航空液压油。用其处理人造丝纺丝头，可消除静电，提高抽丝质量。在化妆品上加入硅油能提高对皮肤的滋润和保护作用等等。

Lovibond® 德国罗威邦® 水质分析 Lovibond 罗威邦 甲基橙碱度快捷测试套装 Minikit罗威邦 甲基橙碱度快捷测试套装 Minikit 采用片剂计数法快捷测试水样甲基橙碱度，量程为 10-500 mg/l CaCO3。罗威邦 Minikit 快速测试系列适用于现场快速测试，针对不同参数化学特性采用片剂计数法、滴定法、定性判断法、浊度法。可测参数有碱度、酸度、硬度、氯离子、氰尿酸、亚硝酸、正磷酸盐、季铵盐、硫酸盐、亚硫酸盐、硫、丹宁指数等。订购信息量程20-500 mg/l CaCO3，10-250 mg/l CaCO3试剂类型片剂测试方法片剂计数法化学方法甲基橙碱度包装次数根据测试量程不同约 50-100次补充试剂515320BT100片515321BT250片使用方法确定水样：20 - 500 mg/l CaCO3 范围内水样取 50 ml，10 - 250 mg/l CaCO3 范围内水样取 100 ml。添加片剂直到黄色变成红色：向水样中加入一个片剂，摇晃至溶解，观察颜色，再加入一片溶解，直到水样由黄色变成红色。记住片数。计算碱度：50 ml 水样:总碱度 (mg/l CaCO3) = (片剂数 x 40) - 20100 ml 水样:总碱度(mg/l CaCO3) = (片剂数 x 20) - 10冲洗干净容器 标准配置塑料盒片剂试剂装水样的容器必须的附件操作指南

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在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。产品型号：HMDS-6210 产品名称：真空烘箱（带基片预处理系统）电源电压：AC 380V± 10%/50Hz± 2%输入功率：4000W控温范围：室温+10℃-250℃温度分辨率：0.1℃温度波动度：± 0.5℃达到真空度：133Pa容积：210L工作室尺寸（mm）：560*640*600外形尺寸（mm）：720*820*1750载物托架：3块时间单位：分钟真空泵：国内好品牌，上海慕鸿型号：DM-4，旋片式油泵。产品特点：1、机外壳采用医用级不锈钢316L材质制造，内胆为不锈钢316L材料制成；加热器均匀分布在内胆外壁四周，内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。2、箱门闭合松紧能调节，整体成型的硅橡胶门封圈，确保箱内高真空度。3、微电脑智能控温仪，具有设定，测定温度双数字显示和PID自整定功能，控温精确，可靠。4、智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序，温度，真空度及每一程序时间。5、HMDS气体密闭式自动吸取添加设计，真空箱密封性能佳，确保HMDS气体无外漏顾虑。6、整个系统采用优质材料制造，无发尘材料，适用100 级光刻间净化环境。 HMDS预处理系统的必要性：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。HMDS-6000系列预处理系统的原理： HMDS-6000 预处理系统通过对烘箱HMDS预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS，降低了HMDS处理后的硅片接触角，降低了光刻胶的用量，提高光刻胶与硅片的黏附性。HMDS-6000系列预处理系统的一般工作流程：首先确定烘箱工作温度。典型的预处理程序为：打开真空泵抽真空，待腔内真牢度达到某一高真空度后，开始充人氮气，充到达到某低真空度后，冉次进行抽真空、充入氮气的过程，到达设定的充入氮气次数后，开始保持一段时间，使硅片充分受热，减少硅片表面的水分。然后再次开始抽真空，充入HMDS气体，在到达设定时间后，停止充入HMDS药液，进入保持阶段，使硅片充分与HMDS反应。当达到设定的保持时间后，再次开始抽真空。充入氮气，完成整个作业过程。HMDS与硅片反应机理如图：首先加热到100℃-200℃，去除硅片表面的水分，然后HMDS与表面的OH一反应，在硅片表而生成硅醚，消除氢键作，从而使极性表面变成非极性表面。整个反应持续到空间位阻(三甲基硅烷基较大)阻止其进一步反应。尾气排放：多余的HMDS蒸汽（尾气）将由真空泵抽出，排放到专用废气收集管道。在无专用废气收集管道时需做专门处理。

在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。产品技术参数：电源电压：AC 380V± 10%/50Hz± 2%输入功率：3000W控温范围：室温+10℃-250℃温度分辨率：0.1℃温度波动度：0.5℃达到真空度：133Pa容积：90L工作室尺寸（mm）：450*450*450外形尺寸（mm）：615*590*1470载物托架：2块时间单位：分钟真空泵：国内品牌上海慕鸿型号：DM-4，旋片式油泵。 产品特点：1、机外壳采用医用级不锈钢316L材质制造，内胆为不锈钢316L材料制成；加热器均匀分布在内胆外壁四周，内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。2、箱门闭合松紧能调节，整体成型的硅橡胶门封圈，确保箱内高真空度。3、微电脑智能控温仪，具有设定，测定温度双数字显示和PID自整定功能，控温精确，可靠。4、智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序，温度，真空度及每一程序时间。5、HMDS气体密闭式自动吸取添加设计，真空箱密封性能佳，确保HMDS气体无外漏顾虑。6、整个系统采用优质材料制造，无发尘材料，适用100 级光刻间净化环境。 HMDS预处理系统的必要性：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。HMDS-6000系列预处理系统的原理： HMDS-6000 预处理系统通过对烘箱HMDS预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS，降低了HMDS处理后的硅片接触角，降低了光刻胶的用量，提高光刻胶与硅片的黏附性。HMDS-6000系列预处理系统的一般工作流程：首先确定烘箱工作温度。典型的预处理程序为：打开真空泵抽真空，待腔内真牢度达到某一高真空度后，开始充人氮气，充到达到某低真空度后，冉次进行抽真空、充入氮气的过程，到达设定的充入氮气次数后，开始保持一段时间，使硅片充分受热，减少硅片表面的水分。然后再次开始抽真空，充入HMDS气体，在到达设定时间后，停止充入HMDS药液，进入保持阶段，使硅片充分与HMDS反应。当达到设定的保持时间后，再次开始抽真空。充入氮气，完成整个作业过程。HMDS与硅片反应机理如图：首先加热到100℃-200℃，去除硅片表面的水分，然后HMDS与表面的OH一反应，在硅片表而生成硅醚，消除氢键作，从而使极性表面变成非极性表面。整个反应持续到空间位阻(三甲基硅烷基较大)阻止其进一步反应。尾气排放：多余的HMDS蒸汽（尾气）将由真空泵抽出，排放到专用废气收集管道。在无专用废气收集管道时需做专门处理。

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在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。产品技术参数：电源电压：AC 380V± 10%/50Hz± 2%输入功率：3000W控温范围：室温+10℃-250℃温度分辨率：0.1℃温度波动度：± 0.5℃达到真空度：133Pa容积：90L工作室尺寸（mm）：450*450*450外形尺寸（mm）：615*590*1470载物托架：2块时间单位：分钟真空泵：国内品牌上海慕鸿型号：DM-4，旋片式油泵。 产品特点：1、机外壳采用医用级不锈钢316L材质制造，内胆为不锈钢316L材料制成；加热器均匀分布在内胆外壁四周，内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。2、箱门闭合松紧能调节，整体成型的硅橡胶门封圈，确保箱内高真空度。3、微电脑智能控温仪，具有设定，测定温度双数字显示和PID自整定功能，控温精确，可靠。4、智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序，温度，真空度及每一程序时间。5、HMDS气体密闭式自动吸取添加设计，真空箱密封性能佳，确保HMDS气体无外漏顾虑。6、整个系统采用优质材料制造，无发尘材料，适用100 级光刻间净化环境。 HMDS预处理系统的必要性：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。HMDS-6000系列预处理系统的原理： HMDS-6000 预处理系统通过对烘箱HMDS预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS，降低了HMDS处理后的硅片接触角，降低了光刻胶的用量，提高光刻胶与硅片的黏附性。HMDS-6000系列预处理系统的一般工作流程：首先确定烘箱工作温度。典型的预处理程序为：打开真空泵抽真空，待腔内真牢度达到某一高真空度后，开始充人氮气，充到达到某低真空度后，冉次进行抽真空、充入氮气的过程，到达设定的充入氮气次数后，开始保持一段时间，使硅片充分受热，减少硅片表面的水分。然后再次开始抽真空，充入HMDS气体，在到达设定时间后，停止充入HMDS药液，进入保持阶段，使硅片充分与HMDS反应。当达到设定的保持时间后，再次开始抽真空。充入氮气，完成整个作业过程。HMDS与硅片反应机理如图：首先加热到100℃-200℃，去除硅片表面的水分，然后HMDS与表面的OH一反应，在硅片表而生成硅醚，消除氢键作，从而使极性表面变成非极性表面。整个反应持续到空间位阻(三甲基硅烷基较大)阻止其进一步反应。尾气排放：多余的HMDS蒸汽（尾气）将由真空泵抽出，排放到专用废气收集管道。在无专用废气收集管道时需做专门处理。

在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。产品技术参数：电源电压：AC 380V± 10%/50Hz± 2%输入功率：3000W控温范围：室温+10℃-250℃温度分辨率：0.1℃温度波动度：± 0.5℃达到真空度：133Pa容积：90L工作室尺寸（mm）：450*450*450外形尺寸（mm）：615*590*1470载物托架：2块时间单位：分钟真空泵：国内品牌上海慕鸿型号：DM-4，旋片式油泵。 产品特点：1、机外壳采用医用级不锈钢316L材质制造，内胆为不锈钢316L材料制成；加热器均匀分布在内胆外壁四周，内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。2、箱门闭合松紧能调节，整体成型的硅橡胶门封圈，确保箱内高真空度。3、微电脑智能控温仪，具有设定，测定温度双数字显示和PID自整定功能，控温精确，可靠。4、智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序，温度，真空度及每一程序时间。5、HMDS气体密闭式自动吸取添加设计，真空箱密封性能佳，确保HMDS气体无外漏顾虑。6、整个系统采用优质材料制造，无发尘材料，适用100 级光刻间净化环境。 HMDS预处理系统的必要性：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。HMDS-6000系列预处理系统的原理： HMDS-6000 预处理系统通过对烘箱HMDS预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS，降低了HMDS处理后的硅片接触角，降低了光刻胶的用量，提高光刻胶与硅片的黏附性。HMDS-6000系列预处理系统的一般工作流程：首先确定烘箱工作温度。典型的预处理程序为：打开真空泵抽真空，待腔内真牢度达到某一高真空度后，开始充人氮气，充到达到某低真空度后，冉次进行抽真空、充入氮气的过程，到达设定的充入氮气次数后，开始保持一段时间，使硅片充分受热，减少硅片表面的水分。然后再次开始抽真空，充入HMDS气体，在到达设定时间后，停止充入HMDS药液，进入保持阶段，使硅片充分与HMDS反应。当达到设定的保持时间后，再次开始抽真空。充入氮气，完成整个作业过程。HMDS与硅片反应机理如图：首先加热到100℃-200℃，去除硅片表面的水分，然后HMDS与表面的OH一反应，在硅片表而生成硅醚，消除氢键作，从而使极性表面变成非极性表面。整个反应持续到空间位阻(三甲基硅烷基较大)阻止其进一步反应。尾气排放：多余的HMDS蒸汽（尾气）将由真空泵抽出，排放到专用废气收集管道。在无专用废气收集管道时需做专门处理。

产品介绍：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。产品特点：1、机外壳采用不锈钢SUS304材质制造，内胆为不锈钢316L材料制成；加热器均匀分布在内胆外壁四周，内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。2、箱门闭合松紧能调节，整体成型的硅橡胶门封圈，确保箱内高真空度。3、微电脑智能控温仪，具有设定，测定温度双数字显示和PID自整定功能，控温精确，可靠。4、智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序，温度，真空度及每一程序时间。5、HMDS气体密闭式自动吸取添加设计，真空箱密封，确保HMDS气体无外漏顾虑。6、整个系统采用材料制造，无发尘材料，适用100级光刻间净化环境。产品参数：型号HMDS-20HMDS-90HMDS-210容积20L90L210L电源电压AC220V±10%/50Hz±2%AC380V±10%/50Hz±2%输入功率1500W3000W4000W控温范围室温+10℃-250℃温度分辨率0.1℃温度波动度±0.5℃达到真空度133Pa工作室尺寸（mm）300*300*275450*450*450560*640*600外形尺寸（mm）465*465*725850*700*1400720*820*1050载物托架1块2快3块时间单位分钟选配件真空泵：德国品牌，莱宝“DC”双极系列旋片式油泵，真空高，噪音低，运行稳定。连接管：不锈钢波纹管，完全密封将真空泵与烘箱连接。HMDS预处理的必要性：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。真空镀膜机的原理：HMDS预处理系统通过对烘箱HMDS预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS，降低了HMDS处理后的硅片接触角，降低了光刻胶的用量，提高光刻胶与硅片的黏附性。真空镀膜机的一般工作流程：先确定烘箱工作温度。典型的预处理程序为：打开真空泵抽真空，待腔内真空度达到某一高真空度后，开始充人氮气，充到达到某低真空度后，再次进行抽真空、充入氮气的过程，到达设定的充入氮气次数后，开始保持一段时间，使硅片充分受热，减少硅片表面的水分。然后再次开始抽真空，充入HMDS气体，在到达设定时间后，停止充入HMDS药液，进入保持阶段，使硅片充分与HMDS反应。当达到设定的保持时间后，再次开始抽真空。充入氮气，完成整个作业过程。HMDS与硅片反应机理如图：先加热到100℃-200℃，去除硅片表面的水分，然后HMDS与表面的OH一反应，在硅片表而生成硅醚，消除氢键作，从而使极性表面变成非极性表面。整个反应持续到空间位阻(三甲基硅烷基较大)阻止其进一步反应。尾气排放等：多余的HMDS蒸汽（尾气）将由真空泵抽出，排放到专用废气收集管道。在无专用废气收集管道时需做专门处理。

产品介绍：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。产品特点：1、机外壳采用不锈钢SUS304材质制造，内胆为不锈钢316L材料制成；加热器均匀分布在内胆外壁四周，内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。2、箱门闭合松紧能调节，整体成型的硅橡胶门封圈，确保箱内高真空度。3、微电脑智能控温仪，具有设定，测定温度双数字显示和PID自整定功能，控温精确，可靠。4、智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序，温度，真空度及每一程序时间。5、HMDS气体密闭式自动吸取添加设计，真空箱密封，确保HMDS气体无外漏顾虑。6、整个系统采用材料制造，无发尘材料，适用100级光刻间净化环境。产品参数：型号HMDS-20HMDS-90HMDS-210容积20L90L210L电源电压AC220V±10%/50Hz±2%AC380V±10%/50Hz±2%输入功率1500W3000W4000W控温范围室温+10℃-250℃温度分辨率0.1℃温度波动度±0.5℃达到真空度133Pa工作室尺寸（mm）300*300*275450*450*450560*640*600外形尺寸（mm）465*465*725850*700*1400720*820*1050载物托架1块2快3块时间单位分钟选配件真空泵：德国品牌，莱宝“DC”双极系列旋片式油泵，真空高，噪音低，运行稳定。连接管：不锈钢波纹管，完全密封将真空泵与烘箱连接。HMDS预处理的必要性：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。真空镀膜机的原理：HMDS预处理系统通过对烘箱HMDS预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS，降低了HMDS处理后的硅片接触角，降低了光刻胶的用量，提高光刻胶与硅片的黏附性。真空镀膜机的一般工作流程：先确定烘箱工作温度。典型的预处理程序为：打开真空泵抽真空，待腔内真空度达到某一高真空度后，开始充人氮气，充到达到某低真空度后，再次进行抽真空、充入氮气的过程，到达设定的充入氮气次数后，开始保持一段时间，使硅片充分受热，减少硅片表面的水分。然后再次开始抽真空，充入HMDS气体，在到达设定时间后，停止充入HMDS药液，进入保持阶段，使硅片充分与HMDS反应。当达到设定的保持时间后，再次开始抽真空。充入氮气，完成整个作业过程。HMDS与硅片反应机理如图：先加热到100℃-200℃，去除硅片表面的水分，然后HMDS与表面的OH一反应，在硅片表而生成硅醚，消除氢键作，从而使极性表面变成非极性表面。整个反应持续到空间位阻(三甲基硅烷基较大)阻止其进一步反应。尾气排放等：多余的HMDS蒸汽（尾气）将由真空泵抽出，排放到专用废气收集管道。在无专用废气收集管道时需做专门处理。

FD-iCheck 磺胺二甲基嘧啶检测仪 产品简介FD-iCheck 磺胺二甲基嘧啶检测仪基于胶体金免疫层析快速检测技术（GICA）通过图像分析技术定量快速检测粮食作物、食用油、酱油、米酒、食醋中黄曲霉毒素B1、脱氧雪腐镰刀菌烯醇、玉米赤霉烯酮，以及赭曲霉毒素A等真菌毒素的含量，是中国与全球新一代真菌毒素、非法添加物、抗生素等食品安全快速检测技术与设备和解决方案的提供者。 产品优势1. 个性化服务：为每个企业每个产品提供专有的分析方法 2. 使用方便：可以用于实验室和现场的检测 3. 快速筛查：1 个小时 1 个人可以检测 30 个样品 4. 操作简单：不需要特殊的培训 5. 针对性强：具备项目校正和仪器校正，结果更可靠6. 环境友好：不需要有毒的标准品 7. 数据安全：电子标定二维码专用 8. 结果准确：最低检测限满足食品安全限量标准 9. 数据完整：测定结果实时显示、可以打印、可以转存计算机中 10. 配套性强：提供全套检测仪器设备，配套齐全，体积小，携带方便 检测项目序号产品名称样品类别检测范围ppb真菌毒素1黄曲霉毒素总量定量快检卡玉米、大米、小麦及其制品0-25坚果、籽类0-25植物油0-25辣椒、胡椒、中药材0-25茶叶0-10饲料0- 50/0-1002黄曲霉毒素M1定量快检卡乳及乳制品、婴幼儿配方食品0- 2.03玉米赤霉烯酮定量快检卡大米、玉米、小麦、饲料0-500/0-2000植物油0-5004呕吐毒素定量快检卡玉米、玉米面（渣、片）、小麦、饲料0-50005赭曲霉毒素A 定量快检卡小麦、谷物及其制品、饲料、咖啡0-20葡萄酒0-10辣椒、胡椒0-50非法添加物6三聚氰胺定量快检卡乳、饲料0-5007β-兴奋剂定量快检卡尿0-5.08苏丹红定量快检卡番茄酱、沙司、辣椒、红酒0-109玉米赤霉醇定量快检卡乳、畜产品0-10抗生素10卡那毒素定量快检卡乳0-20011磺胺二甲基嘧啶定量快检卡乳、畜产品0-5012恩诺沙星定量快检卡乳、畜产品0-200/0-50013庆大霉素定量快检卡乳、畜产品0-30014安普霉素定量快检卡乳、畜产品0-200/0-100015四环素定量快检卡乳0-20016氟喹诺酮类定量快检卡乳、畜产品0-200/0-50017链霉素定量快检卡乳、畜产品、蜂蜜0-250

KY-0125液化石油气中硫化氢测定仪(乙酸铅法)--江苏科苑本仪器用于检测液化石油气中的硫化氢有或无，检测硫化氢的下限为4mg/m3,如果甲基硫醇存在乙酸铅试条上产生短暂的黄色污斑，但不到5min便完全消失，液化石油气中的其他硫化物不干扰本试验。技术参数：1、适用标准：ASTM D2420 SH/T01252、加热方式：电热管加热3、控温方式：数显PID温度控制器4、流量控制：针型阀调节，流量计显示流量5、整机功率：1000W6、工作电源：AC220V 50HZ 主要特点：1、试验玻璃筒符合标准要求，内带玻璃挂钩；2、配套500ml不锈钢取样器；3、气体通过热蒸发浴，针型阀调节流量；4、微电脑温度控制器，PID调节，PT100温度传感器，精度高。

测量原理： 高灵敏度检测器位于传感器器头部的检测室内，一层有机硅膜使检测室免于被水和外界压力干扰。气体分子能通过膜扩散，在水和检测室之间会形成压力差，检测室内的气体浓度和外界的水体气体浓度相关。检测室内含电极液和三个电极，通过检测气体的分压差，测定H2S浓度。 相对于离子电极，该传感器测量的是气体H2S浓度。 传统的甲基兰溶液方法是分光光度计法，测量范围0,06 to 1mg/l，不适合原位现场测量。离子电极的缺点是，浓度的高低依赖于活性而不是离子浓度高低。硫化氢探头可以以上两种方法的不利，适合测量的pH是0-8.5，可以直接在天然的河湖中测量。 特性：测量原理: amperometry, Clark-type三探头电极电源: 9 ... 30 VDC输出: 0 ... + 5 VDC大小: 直径: 24 mm, 长: 235 mm链接: SUBCONN BH-4-MP (可选择其他类型)开机保育时间 5...15 minutes电极液消耗少测量范围: type I: 0,05 ... 10 mg/l H2Stype II: 0,5 ... 50 mg/l H2Stype III: 0,01 ... 3 mg/l H2S精度：优于读数的2%温度范围: 0°C ... 30°CpH范围: 0 ... 8,5响应时间: t90%: 低于200ms平均寿命: 5...9 个月压力稳定性: 高于10 个大气压

树脂厂二甲基甲酰胺DMF气体报警器DMF是二甲基甲酰胺的英文简称，有机蒸气浓度可以以PPM为检测单位。(也可以选择检测%LEL ) DMF气体报警器是主要由气体探测器和气体报警控制器两部分组成,探测器属隔爆型，24小时实时监测二甲基甲酰胺气体的具体浓度值,采用进口电化学式传感器,性能稳定。M-BUS信号输出或4-20ma数字输出，可上传DCS、PLC系统。气体报警控制器用来显示探测器检测到二甲基甲酰胺气体的浓度值,当浓度值达到或超出报警点时,控制器立即发出声光报警并驱动排风或电磁阀等其他外设动作，防止bao炸、火灾、中毒事故的发生。证书全，质量优，售后服务有保障，请选择济南10年气体报警器企业-山东如特安防。技术参数：检测气体：二甲基甲酰胺检测原理：电化学式检测精度：±5%F.S采样方式：自然扩散式 工作方式：长期连续工作传输距离：≥1000m 结构材质：压铸铝响应时间：≤30S防爆等级：Exd IIC T6 Gb防护等级：IP65环境温度：-20℃～50℃ 环境湿度：≤90%RH工作电压：DC24V/DC36V通信方式：4-20mA标准信号/两总线M-BUS/RS485安装螺纹：G3/4螺纹产品销往：山东-江苏-江西-河北-河南-浙江-辽宁-天津-甘肃-四川-广东-广西--福建-湖北-湖南-重庆-云南-安徽-宁夏-内蒙古-吉林-上海-贵州-新疆-陕西-山西等全国各地。产品售后服务:1、我公司生产的产品，质保期为自出厂之日起一年（人为因素和不可抗拒力除外）2、一般情况下传感器的使用寿命为：催化燃烧式传感器为2年，电化学式传感器为1年。传感器的实际使用寿命与工作环境有直接的关系，使用环境不同，传感器的寿命会发生变化。3、为确保产品性能的可靠性，我们建议用户，在使用期限内，应定期对产品品进行维护和校准。

锂离子电池是一种二次电池（充电电池），它主要依靠锂离子在正极和负极之间移动来工作。在充放电过程中，Li+ 在两个电极之间往返嵌入和脱嵌：充电时，Li+ 从正极脱嵌，经过电解质嵌入负极，负极处于富锂状态；放电时则相反。锂离子电池具有比容量大、放电电压高而平稳、低温性能好、环境友好、安全、寿命长、自放电微弱等镍氢、镍镉二次电池无可比拟的优点。自1991年问世以来，这些年锂离子电池占据生活中的应用，主要源于智能手机、穿戴设备、电动自行车和新能源汽车的广泛使用。锂离子电池中，由于使用电导率低的有机电解液，因而要求电极的面积大，而且电池装配采用卷式结构，电池的性能的提高不仅对电极材料提出了新的要求，而且对电极制造过程中使用的粘接剂也提出了新的要求。目前，工业上普遍采用聚偏氟乙烯（PVDF）作锂离子电池的粘结剂，N-甲基吡咯烷酮（NMP）做分散剂。N-甲基吡咯烷酮（NMP）是一种极性溶剂，在锂电池生产中，用来溶解/溶胀PVDF，同时用来稀释浆料。锂电池对有机溶剂的纯度，特别是水的含量要求非常高，其水的含量需要小于0.02%，甚至更低。目前国产NMP中水的含量普遍大于0.03%。而进口的NMP提纯后，其指标要求：色度要求小于10，纯度要求大于99.9%，水分含量要求不超过0.02%。目前，国内较少有文献报道相关提纯方面的内容，NMP的提纯研究有待进一步加强。超净高纯试剂也是该行业未来研发的方向之一。超净高纯试剂是化学试剂的一种，是指主体成分纯度大于99.99%，杂质离子尤其是杂质阳离子和微粒数符合严格要求的化学试剂。ATAGO（爱拓）在线浓度计 CM-800α-NMP 来对N-甲基吡咯烷酮（NMP）品控检测。通过折光率的方法可快速检测N-甲基吡咯烷酮（NMP）品质和纯度，具有快捷方便、准确性高等特点。

甲基紫测试仪产地：德国简介：在135℃时，采用甲基紫测试法，测定硝基纤维素火药和消极化合物的热稳定性（美军标MIL -STD-286C：120和134,5 °C）。仪器包含：? 重铝加热块，电子加热；24孔，20.5 mm ? (MIL -STD-286C: 19 mm)，深度280mm；采用ISO隔离板；温度传感器：PT100；超温安全装置；? 采用单独的控制箱放置可程序化加热控制器（PID）；电源线长，约2m；数字显示预设温度和实际温度值，控制精度：±0.1℃；可调温度范围：60-140℃；? 24个圆柱测试管，带有制动器和不锈钢钩，制动器上有通气孔；测试管尺寸：外直径? 20mm (MIL -STD-286C:18 mm)；内直径17mm (MIL -STD-286C :15 mm)；长度290mm；? 200张甲基紫试纸，用于检测一氧化二氮气体； 电气连接：230V，50-60Hz；功率消耗：1500VA；