三甲基硅氧烷基

GC5000 BTX 在线气相色谱分析仪专门为监测空气中的有机污染物研发GC5000 BTX 在线气相色谱分析仪是为连续在线监测空气中C4-C12有机污染物而设计的，该款仪器设计紧凑，具有极高的灵敏度，检测限可达ppt级。 GC 5000 BTX分析仪可以单独用，用于监测苯系物等芳香烃（Guideline 2000/69/EC），有机硫化物、卤代烃和C4-C12臭氧前体物（根据EU guideline 2002/3/EC，VDI guideline 2100和guidelines of the Technical Assistance Document EPA/600-R-98/161），分析仪还可连接监测C4-C12范围内的臭氧前体物。也可以方便的与GC 5000 VOC分析仪配合使用，组成C2-C12臭氧前体物在线监测系统。 超强的分析能力GC 5000 BTX具有卓越的分析能力、超强的检测灵敏度和经久耐用的设计，保证了仪器连续无故障地运行。 采用低维护隔膜泵在样品管线末端自动采集样品，避免样品间的交叉污染；采样量是由质量流量计测量提供的标准状况下的采样体积，避免气压和温度变化带来的偏差。 有机物在单级富集模块中采样完成后，加热解析使样品进入色谱住分离。采用这种方法，苯的最低检出限可达≤30ppt。 样品体积经过能提供标况体积的质量流量传感器的准确测量。即使在大气压及温度出现波动时，也可保证样气采样极高的重现性。 色谱柱箱温度可达210℃，最大升温速率为25℃/min。快速的升温速度、较高的柱箱温度和专用的色谱柱，使得分析仪在较短的分析周期内获得极好的分离效果，提高了色谱峰的识别和数据的准确性；同时也避免了高沸点有机物残留污染。 可选的触摸屏能帮助用户便捷地进入维护和诊断功能。所有的参数和分析方法也可以方便地进行编辑。彩色显示屏上可显示仪器的实际工作状态、色谱图及分析结果等。 在监测子站的可靠运行GC 5000 BTX在线气相色谱分析仪是经过特别的研发，适合于安装在监测子站或流动实验室内，进行连续的污染物质监测。仪器和软件的设计，使仪器能稳定可靠的运行，而无须任何人工干预。 可以通过以太网对仪器进行远程控制，以便进行数据、谱图查阅及故障诊断等操作；通过标准通讯协议可以进行仪器状态和数据等的传输。为确保仪器的正常运行，仪器的所有控制单元、操作系统及软件都会被连续监控。任何错误信息都会记录并存储到日志文件中；如果出现系统故障，计算机会自动重新启动，仪器会自动开始下一个分析周期。 应用范围环境空气质量监测，污染源排放影响控制。芳香族化合物（苯系物，苯乙烯，三甲苯，乙烷基甲苯等）脂肪烃（1，3-丁二烯，甲基环戊烷，甲基已烷等）氯代烃（氯乙烯，三氯乙烯，四氯乙烯等）常规指标机箱19”嵌入式机箱高6U深600mm重量约33kg安装机柜/导轨式安装温度0-40℃湿度5-95%无冷凝EMCCE标识，符合EMC-guidelines 89/336/EEC电源220-250VAC，50-60Hz耗电量最大800W载气N2 GC 等级，至少3bar辅助气助燃空气，GC等级，至少3barH2，GC等级，至少3bar（仅用于FID检测器）连接件1/8”卡套接头压力控制减压阀；载气压力的电子读数显示；显示辅气压力表（仅用于FID）采样采样低维护的薄膜泵，自动采样体积测量质量流量控制器精确测量和控制样气量，不受气压和温度变化的影响采样时间0-99 min（可调）流量2-50 sccm/min (可调）样气量标准200-800 sccm(可调）富集富集模块带热解析装置的单级富集模块，用于≥C4有机物质的预浓缩富集温度标准30℃解吸温度最大350℃（可调）加热速度达到40℃/秒的加热速度保证了高速进样，使色谱峰分离最优化进样阀加热箱衬垫不锈钢内部尺寸H 210mm x D 80mm x W 55mm加热阀组温度控制，30-150℃可调样气阀6通VALCO阀，电驱动色谱住箱衬垫不锈钢内部尺寸H 55mm x W 210mm x D 210mm分析住石英毛细住，最长可达60m加热强制通风加热温度范围40℃至210℃温度控制闭环PID，设置分辨率1℃温度程序3阶程序升温，4个等温线保持加热速度1℃/分钟至25℃/分钟，设置分辨率1℃/分钟柱箱冷却强制风冷检测器（可选）FIDFID-火焰离子检测器温度控制的检测器组件使信号输出特别稳定补偿气体的接入强了检测灵敏度FID的线性107放大器输出0-5 VDCPIDPID-光离子检测器无电极、射频激发紫外灯增强了紫外光强度并延长使用寿命温度控制的检测器组件使信号输出特别稳定放大器输出0-5 VDC通讯通讯端口以太网，RS232/RS485，4 x USB，PS2，VGA协议GESYTECⅡ，需要其它协仪应事先说明选项带触摸屏操作的显示和控制面板各种I/O口，提供模拟输出和数字I/O校准气体选择器（样气，校准气1，校准气2）供给FID的助燃空气源

产品简介　　可挥发性低沸点和高沸点碳氢化合物是臭氧前驱体的主要成份，也是造成光化学烟雾的主要原因之一。臭氧前驱体分析仪是应用于环境空气中C6-C12高沸点碳氢化合物和C2-C5低沸点碳氢化合物实时在线监测的仪器，能够监测的项目包括2-甲基戊烷，正己烷，苯，正庚烷，甲苯，正辛烷，乙苯，间,对-二甲苯，邻-二甲苯，1,3,5-三甲苯，1,2,4-三甲苯，1,2,3-三甲苯，乙烷，乙烯，丙烷，丙稀，异丁烷，正丁烷，异戊烷，正戊烷，反式-2-丁烯，1-丁烯，顺式-2-丁烯，1,3-丁二烯，反式-2-戊烯，1-戊烯，异戊二烯，2,2,4-三甲基戊烷等。多达几十种，沸点的跨度达300K。性能特点　　采用PID和FID双检测器，确保高灵敏度和高分辨率；　　内置Tenax预浓缩管或带冷却预浓缩系统，热解析或低温热解析，标准毛细预分离柱和分析柱，两台色谱的完美结合使C2-C12范围的碳氢化合物得到良好分离；　　采用内置步进式采样活塞作为采样动力系统，可精确测量采样量，并可根据采样温度、压力的变化自动修正采样量，具有自动线性化功能；　　电子自动控制十通阀，和气动阀比较，控制更精确灵活；　　双色谱柱构成二维色谱分析系统，节省分析时间，并延长其使用寿命；　　内置标准工控机，可自动控制仪器各运行参数，自动存储和处理数据结果；　　人性化色谱工作站，自动控制仪器各运行参数，自动保存仪器任何时刻的重要参数信息，可随时追溯故障发生原因和发生部位，方便解决问题；　　多种数据通讯协议，包括Ethernet，COM，USB及模拟和数字输入输出选项。

三甲基氯硅烷工艺装置主要由溶解釜、加料釜、反应釜、接收罐、碱液釜和渣浆釜等组成。 其主要仪表及管阀件均采用高性能产品，装置非标采用耐腐蚀材质。PLC 系统采集确保操作人员安全。 装置的整体水平要求自动化程度高，数据精确度及重复性好，安全可靠 并能长周期稳定运行

我公司为国内生产异辛烷产品服务商年销售异辛烷产品超过五千吨我们将为您提供优质的商品和满意的服务！2,2,4-三甲基戊烷，是一种有机化合物，化学式为C8H18，主要用于有机合成，也可用作溶剂及气相色谱的对比样品。理化性质熔点：-107.4º C沸点：98-99º C密度：0.691（20℃）闪点：4.5℃（OC）折射率：1.391（20℃）饱和蒸气压：5.1kPa（20º C）临界压力：2.57MPa引燃温度：417º C爆炸上限（V/V）：6.0%爆炸下限（V/V）：1.1%外观：无色透明液体溶解性：不溶于水，混溶于庚烷、丙酮，溶于乙醚、苯、甲苯、二甲苯、氯仿、二硫化碳、四氯化碳等用途主要用于有机合成，也可用作溶剂及气相色谱的对比样品。储存方法储存于阴凉、通风的库房。远离火种、热源。库温不宜超过37℃，保持容器密封。应与氧化剂分开存放，切忌混储。采用防爆型照明、通风设施。禁止使用易产生火花的机械设备和工具。储区应备有泄漏应急处理设备和合适的收容材料。山东强森化工有限公司，是一家以从事化学原料和化学制品制造业为主的企业。公司是集研究、生产、加工、销售为一体的制品企业，工厂占地面积大，公司具有较强的自助研发能力，拥有多项国家发明专利超强的品质保障，专业生产，多年行业经验，出厂严格把关，公司与中国石化、齐鲁石化、东岳集团、内蒙远兴集团、兖矿集团、海力集团、金岭集团丶华鲁恒升、万华集团等大型上市公司建立了长期稳固的合作关系，能够为客户提供优质的产品和服务，在行业中树立了良好的商业信誉，赢得了国内外众多客户的信赖与支持。 公司发扬“诚信、专业、团结、拼搏”的企业精神，秉承“以信为本，以诚待人，以稳求实，优质服务”的经营理念，愿与各界朋友及客户精诚合作，共创辉煌。

MERX全自动烷基汞分析系统，全球烷基汞用户的选择，满足美国EPA标准及《水质烷基汞的测定吹扫捕集/气相色谱-冷原子荧光光谱法》（HJ977-2018），为双标准制定和验证使用仪器；模块化设计，可升级为烷基汞/总汞二位一体分析系统，检出限可达0.002ng/L，重复性好，结果准确可靠。 在汞循环中，汞是以多种形态存在的，汞的毒性取决于化学形态，汞基本上有3种形态:元素汞、无机汞、有机汞(以甲基汞为主)，它们的中毒症状和暴露途径各不相同。现代研究已经证明，不同形态汞的毒性差别很大，如甲基汞的毒性是无机汞的100 倍以上，而且甲基汞具有亲脂性，更容易和生物体结合，穿过细胞膜和血脑屏而造成毒害。因此，测定元素特定的化学形态的含量，测定有机汞而不仅仅是总汞，对于解释它们的生物化学行为和评价对环境的潜在危害是很有必要的。 采用气液分离器、多通道吹扫和Tenax捕集技术，将液体中的烷基汞（甲基汞，乙基汞）进行吹扫并通过捕集阱富集，然后对捕集阱进行快速加热，烷基汞（甲基汞，乙基汞）被解析随载气进入气相色谱进行分离和高温裂解还原，最后通过冷原子荧光检测器，检测烷基汞的含量；符合并被美国EPA 1630分析方法推荐。 技术指标： ● 多功能自动进样器 -双进样模式。 -高通量：高达72个样品位。 -全封闭型进样。 ● 烷基汞吸附及吹扫模块 -平行三通道Tenax 捕集阱交替捕集，其中一个捕集阱在热脱附，另一个捕集阱在吸附，另一个捕集阱在干燥，准备吸附下一个样品。 -快速弹道红外线加热系统。 ● 气相色谱分离热裂解模块 -气相色谱方法内置已优化，保证良好的分辨效果。精确的控温系统保证分析的优异重复性 ，柱温可编程，提供方法开发的灵活性。 -高温热裂解模块 ：高达900多度的裂解温度将不同形态汞分解还原为蒸汽汞。 ● 冷原子荧光检测器 -在美国EPA标准方法1630及1631中被引用，在全世界领先的研究实验室内被使用 。 -触摸控制屏上可轻松调节设置，通过高清晰LCD显示信号和设定。

iAFS-100全自动烷基汞分析系统烷基汞是一类毒性强并具有强致癌性的有机汞类化合物，广泛存在于大气环境、水环境及土壤环境中。由于此类化合物具有亲脂性、生物积累效应和生物放大效应，其毒性是无机汞的几百倍。烷基汞以甲基汞和乙基汞为代表，其中甲基汞的毒性最强，在环境中任何形式的汞均可在一定条件下转化为甲基汞。iAFS-100全自动烷基汞分析系统通过蒸馏处理，吹扫捕集/气相色谱原子荧光法测量样品中的痕量甲基汞、乙基汞等烷基汞的含量。仪器可以实现完全的自动化操作测量结果准确，检出限低，测量范围宽，是烷基汞测量的最佳仪器。XYZ三维自动进样系统采用全自动XYZ三维机械臂进样器进样，精确定位采用钝化不锈钢双层取样针，具有隔垫穿刺功能，无样品吸附高通量：标配72位。提供36位、72位或108位等多种规格自动进样器可选 吹扫捕集装置吹扫方式：异位和原位吹扫双模式可选，标配异位吹扫方式采用Tenax捕集阱捕集目标样品，专用的捕集阱填料及加热冷却技术保证优秀的吸附/解析效率环绕式加热器脉冲加热，反向解析样品，升温速度快，峰形好高温裂解管柱：可加热至750℃以上，保证不同形态的汞迅速分解还原为蒸汽汞系统标配尾气吸收装置，汞蒸气不会排放在空气中，绿色环保 CVAFS检测器采用低压汞灯作为光源，脉冲恒流驱动方式，光强输出稳定，低噪音采用不分光比例双光束检测方式，光源信号及荧光信号同时，差分运算测量样品，以保证最佳的稳定性和灵敏度甲基汞的线性范围：0~25ng/L；乙基汞的线性范围：0~25ng/L甲基汞的检出限：优于0.003ng/L；乙基汞的检出限：优于0.003ng/L控制软件及数据系统Windows中文易操作界面，可实现编辑序列、自动分析数据、导入标准曲线等操作可以直接通过控制软件对仪器参数进行修改及控制，简单便捷具有最小二乘法和响应因子法两种数据处理方式

简介： 北京鸿信的全自动烷基汞分析仪HXAM-51(II)是采用吹扫捕集/气相色谱-冷原子荧光光谱法的原理，故又名吹扫捕集-气相色谱-冷原子荧光分析仪；用于测定烷基汞（甲基汞，乙基汞）的分析仪器，具有分析速度快，数据准确可靠，检出限低的优点,完全符合：《水质 烷基汞的测定 吹扫捕集/气相色谱-冷原子荧光光谱法 》（HJ 977-2018）《土壤和沉积物 甲基汞和乙基汞的测定 吹扫捕集/气相色谱-冷原子荧光光谱法》(HJ 1269-2022)《生活饮用水标准检验方法 金属指标 》（GB/T 5750.6-2023 ）《出口水产品及其制品中甲基汞的测定 全自动甲基汞分析仪法》（SN/T5517—2023）等相同原理的分析标准，非常适合批量样品的全自动分析。仪器特点一体化成型的设计：将捕集模块、气相模块及冷原子荧光检测器并排集成于一体，设计在同一个平台内，避免了分块式和叠加式设计造成的管路过长和稳定性不一致，保证整个系统的同一稳定性，抗干扰性更强，分析更准确。自动进样器：采用原位吹扫捕集或异位吹扫进样方式，全自动化进样，最大可达108个样品位数，进样量可达45mL，完全符合HJ 977-2018,HJ 1269-2022,GB 5750.6等标准进样要求。吹扫捕集模块：采用原位吹扫或异位吹扫进样方式的，吹扫管体积大于60mL，充分吹扫无残留，无交叉污染，采用多通道捕集管，有水汽隔离装置，具备吸附，反吹干燥，脱附，活化等功能，防止水蒸气影响，连续进行多个样品的分析，分析时间短，过程连续不浪费时间。采用螺旋辐射快速加热脱附，无残留不拖尾，峰型好。高清显示控制屏：采用7英寸高清平板电脑，集成高精密电子传感器，实时显示控制的流量及温度，提供更加智能和直观的工作模式。智能远程控制*：可选升级采用远程控制，不受距离限制远程查看仪器运行状态和远程操作工作站控制仪器运行。高级进样模式*：可选升级采用原位/异位一体进样器,仅需软件选择切换即可实现原位/异位吹扫进样方式。可选升级系统全自动总汞分析系统*:多级分析捕集，极大改善了峰型，获得更高灵敏度；超痕量的检出限和极宽的线性范围。技术性能1.检出限：甲基汞检出限：0.002ng/L，乙基汞检出限：0.002ng/L；2.重复性：≤5%(0.1ng/L烷基汞（甲基汞，乙基汞）)，≤3%(1ng/L烷基汞（甲基汞，乙基汞）)；3.稳定性：≤3%（以1ng/L烷基汞（甲基汞，乙基汞）样品为例，6个40mL样品一次性加入衍生试剂，先分析3个样品，隔3个小时后再分析另外3个样品，数据重复性≤3%）；4.线性相关系数：＞0.999；5.回收率：甲基汞75%~120%，乙基汞70%~120%；6.吹扫捕集模式：原位吹扫或异位吹扫。

产品优势方法原理采用吹扫捕集/气相色谱-冷原子荧光谱法，完全符合《HJ977-2018 水质 烷基汞的测定》和美国EPA1630标准.分析过程自动化，避免操作者多次接触有毒试剂，解放人力.该仪器操作简便，样品需求量小，分析时间短，实验数据准确.仪器带有尾气处理装置，对环境友好.仪器通过CPA计量认证.可用干地下水、地表水、生活污水、工业废水、固废浸出液、十壤、生物样品中烷基汞的检测.全中文操作界面，易干操作，实验报告可直接打印，也可导出Excel.标准曲线计算方式采用标准曲线法和相应因子法两种。样品位数最大支持96位，进样针采用PEEK材质，在分析全过程中不与金属材质接触，降低引入污染的可能性。采用原位吹扫，直接在样品瓶内进行吹扫，无需进行额外的液体转移，减少管路污染，吹扫装置与进样器采用一体化设计。独有的光源调节模块，基线漂移1% 线性范围可达4个数量级 汞灯寿命可达5000小时。全自动烷基汞分析仪尺寸:1200mm*500mm*500mm重量:75 kg功率:220VAC，50Hz，5A吹扫气体:高纯氮气 (≥ 99.999%)载气: 高纯氩气 (≥ 99.999%)进样器容量:四盘24x40mL(总96位)PC 接口:RS232 接口环境要求:带通风装置的实验室仪器运行环境温度:10°℃~25°℃仪器运行环境湿度20%~80%烷基汞分析仪与《水质 烷基汞的测定 吹扫捕集/气相色谱-冷原子荧光光谱法》HJ77-2018标准对比指标HJ 977-2018全自动烷基汞分析仪MMA 721 适用范围甲基汞、乙基汞检出限均为0.02ng/L甲基汞、乙基汞均优于0.01ng/L3 方法原理PT-GC-CVAFSPT-GC-CVAFS6.2 吹扫装置原位或异位吹扫原位吹扫7.2 试样准备8.3 试验测定45mL进样量25mL(EPA1630) / 45mL两种配置8.2 校准方法标准曲线法软件支持 标准曲线法和响应因子法（EPA1630）10.1 精密度甲基汞1.1%~6%，乙基汞0.9%~10%甲基汞、乙基汞均1%~5%11.2 校准系数相关系数≥0.996相关系数≥0.99811.4 基体加标甲基汞75%~120%乙基汞70%~120%甲基汞80%~120%乙基汞80%~120% 蒸馏仪(选配)加热范围:常温至150.0℃，加热精度:+1.0 ℃，过热自动断电等功能，确保烷基汞可被完全蒸馏 冷凝模块可以实现自动降温及控温功能，水浴温度≤5°℃ 不使用冰水混合物，完全接收蒸馏后的烷基汞 样品的加热及接收孔位多达12个，满足用户对于样品量的需求 样品管、盖及管路材质均为特氟龙材质，杜绝污染。

ZSMA全自动烷基汞分析系统，通过蒸馏处理、吹扫捕集/气相色谱-原子荧光法，测量样品中的痕量甲基汞、乙基汞等烷基汞的含量。仪器可以实现完全的自动化操作，测量结果准确，检出限低，测量范围宽，适用于烷基汞的自动快速精确测量。 烷基汞作为具有较强神经毒性的环境污染物，可以通过大气、水体、土壤等方式进入到人类的食物链中，从而逐步富集进入人体，对人体健康造成严重危害。对生产和生活环境的有效监控可以更好的保障人们的健康安全。仪器原理：采用吹扫捕集技术，将样品中的烷基汞富集到Tenax管后，迅速加热解析，样品通过气相色谱分离，之后高温裂解实现原子化，通过原子荧光检测器进行检测。进样、吹扫、捕集、解析、气相分离及分析过程全部密闭的环境下自动进行，避免污染环境，保护实验人员。ZSMA100全自动烷基汞分析系统设计完全符合：生态环境部方法《HJ977-2018水质 烷基汞的测定 吹扫捕集/气相色谱冷原子荧光光谱法》和《HJ 1269-2022 土壤和沉积物 甲基汞和乙基汞的测定 吹扫捕集/气相色谱-冷原子荧光光谱法》满足美国环保署方法EPA 1630标准要求。仪器的特点： 钝化双层不锈钢取样针，无吸附，不易弯折 样品和吹扫气从吹扫管底部进入吹扫管，吹扫效率高 具有异位吹扫和原位吹扫双模式，用户可自由切换 改性Tenax捕集阱，解析温度软件可调 液体传感器，避免水汽对捕集管的影响 气相色谱分离不同形态的汞，可使用毛细管或填充柱 采用升温更快的弹簧式环绕加热反向解析技术，峰形更好 原子化裂解温度850℃以上，保证各种形态的汞彻底分解 采用不分光比例双光束，以保证优秀的重复性和灵敏度 软件中文操作界面，可满足国际国内标准要求 具有MFC流量计精确控制流速，可以获得更好的重现性 自动进样器具有36，72，120等多种位数可选 进样瓶多种体积可选，可升级进样器自动恒温系统 仪器具有检出限低，配置高，性能稳定 仪器可使用氩气吹扫，提高检测器灵敏度降低检出限

技术特点宽泛的动态范围：独特光电检测电路与算法，确保其宽泛的检测范围；一体式整体设计，将进样器、色谱分离、检测器合为一体。配备极坐标式自动进样器，瓶内顶空方式吹扫，避免使用同一个气液分离器，防止交叉污染及洗涤不便。检测过程仅使用氩气，避免使用多种高压气体种类。光电设计，允许宽泛的动态检测范围。质量流量控制器控制气体流速，控制准确，调节方便。侧板式维护窗口，无需拆机即可更换、检修关键部件。技术参数分析原理：吹扫捕集-气相色谱-原子荧光（P&T-GC-AFS）样品类型：水质、生物质、土壤等载气：氩气（99.99%）外形尺寸： 610mm×490mm×570 mm检测范围：甲基汞：0.0125～50 ng/L（40 mL样品）乙基汞：0.0125～50 ng/L（40 mL样品）吹扫方式：原位吹扫样品位数：84位电源：220V AC，10A，50Hz重复性：RSD≤ 3% @ 25 pg MeHg分析时间：甲基汞分析时间小于6.5 min/样品；烷基汞分析时间小于12 min/样品适用标准EPA 1630 水中甲基汞，吹扫捕集-冷原子荧光光谱法HJ 977-2018 水质 烷基汞的测定 吹扫捕集/气相色谱-冷原子荧光光谱法HJ 1269-2022 土壤和沉积物 甲基汞和乙基汞的测定 吹扫捕集/气相色谱-冷原子荧光光谱法

Multi-2025多功能烷基汞分析仪一、仪器概述●Multi-2025多功能烷基汞分析仪采用吹扫捕集/气相色谱-冷原子荧光光谱法原理,可用于样品中痕量烷基汞的精确测定 同时,本仪器具有常规原子荧光光谱仪的所有功能,完全符合相关国家标准检测要求。●Multi-2025多功能烷基汞分析仪可兼容各种型号的吹扫捕集样品浓缩仪,不但为客户提供更多选择,同时也允许客户使用实验室原有的吹扫捕集样品浓缩仪,降低采购成本。二、烷基汞分析仪部分●与商品化吹扫捕集样品浓缩仪兼容。●选用改性OV-3填料的色谱柱,相对与毛细柱使用更简便,分离稳定、寿命更长。●热裂解模块最高可达1050度。三、原子荧光光谱仪部分采用●采用3D打印的反应模块集中了氢化反应器、气液分离器等部件的功能于一体。模块内无需管路连接,大大减小样品流路死体积,降低污染。●选用对“Hg”等元素无吸附的特殊材质,采用3D打印技术一次成型,相对于传统部件,故障率大大降低。可用于砷、汞、铅、硒、锑、铋、镉等共12种元素检测。四、图形化软件●软件可动态显示仪器联机、预热,管路冲洗等状态。●具有耗材寿命统计监测功能,方便了解泵管、元素灯等耗材使用情况。●报告格式支持WORD、EXCEL、PDF等多种格式输出。五、检测数据才是仪器设备性能优劣的有效证明六、应用领域●满足《HJ977-2018水质烷基汞的测定吹扫捕集/气相色谱-冷原子荧光光谱法》要求。●满足《HJ1269-2022土壤和沉积物甲基汞和乙基汞的测定吹扫捕集/气相色谱-冷原子荧光光谱法》要求。●满足《HJ1268-2022水质甲基汞和乙基汞的测定液相色谱-原子荧光法》●环境、给排水、农产品、地质冶金、化妆品、中药材、土壤饲料、血液等样品中的As、Hg、Se、Sb等十二种元素总量检测。●SNT 5517-2023 出口水产品及其制品中甲基汞的测定 全自动甲基汞分析仪法七、核心特点●专注痕量“汞”分析!多项技术在降低汞污染、提高仪器稳定性方面发挥重要作用。●成熟的吹扫捕集技术+成熟的原子荧光光谱仪技术=稳定的分析结果。●一机多用,让客户投资实现保值、增值!

产品简介：北京普立泰科仪器有限公司全新推出——全自动烷基汞分析仪 MMA72，检测方法依据U.S. EPA1630，超痕量检出限完全满足目前国内烷基汞的检测需求，完全满足HJ977-2018《水质 烷基汞的检测 吹扫捕集/气相色谱-冷原子荧光光谱法》国家环境保护标准，适用于样品的批量分析。全自动烷基汞分析仪采用吹扫捕集富集，气相色谱分离，高温热裂解及CVAFS（冷原子荧光光谱法）检测的原理。自动进样，分析过程全部自动化，避免操作者在实验中暴露伤害。样品前处理简单，一次检测只需要25/40ml样品（水样），解放人力。分析时间短，实验数据准确，可靠。为实验室提供安全、准确高效的形态汞分析解决方案。可选配总汞模块。 应用领域：环境监测：自来水、污水、土壤、淤泥、空气等食品安全：鱼、肉、农副产品、饲料等临床：毛发、血液、药材、化妆品等 产品特点：整体采用模块化设计两通道及以上捕集阱设计，样品分析周期短，通道可单独使用自动进样，两种进样规格（25mL或40mL）吹扫捕集-GC分离-CVAFS检测原理软件具有最小二乘法（环境征求意见稿）和响应因子法（EPA1630）两种数据处理方式，软件报告可同时处理甲基汞和乙基汞。有机试剂消耗量小，环境友好线性范围广 技术指标：尺寸：1200mm*400mm*400mm重量：43kg功率：220VAC，50Hz，5A样品位数：96位工作范围：0~40ng/L(烷基汞）；0~400ng/L(总汞）检出限：≤0.002ng/L(甲基汞）；≤0.002ng/L（乙基汞)；≤0.03ng/L（总汞）分析速率：9样/小时（甲基汞）；5样/小时（烷基汞）了解更多产品信息，请拨打 400-889-1179

1.实现了在实验室气相色谱平台搭建的烷基汞测量体系，实现了通用仪器专用化的设计思路，在可以测量烷基汞的同时，也可以进行其他气相色谱法的应用检测。2.小型化光路设计，经过复杂的光学设计，使得整体的荧光检测器可以集成在手掌大小，并且在体积缩小的同时，提高了仪器对于汞的灵敏度响应。MAS-100型烷基汞分析仪，满足HJ977-2018《水质 烷基汞的检测 吹扫捕集/气相色谱-冷原子荧光光谱法》国家环境保护标准，适用于样品的批量分析。 水溶液中甲基汞、乙基汞与衍生化试剂四丙基硼化钠反应，并生成具有一定挥发性的甲基丙基汞和乙基丙基汞，经氩气吹扫、Tenax管捕集后，使用气相色谱-冷原子荧光检测器测定。通用仪器专用化在加装AFD的同时，还可以加装其他检测器（FID、ECD、TCD、FPD），满足使用者对于其他应用的分析。主动尾气捕集系统经过检测器的汞蒸气最后会经过金丝吸附管进行捕集，保证汞蒸气的有效捕集。使用毛细色谱柱高效分离更高的柱效，更快的分离速度，使甲基汞、乙基汞的灵敏度更高。产品创新点详解：（1）丰富实验室气相色谱仪应用场景。基于通用仪器专用化的设计思路，在FID、FPD、ECD、TCD和TSD等传统气相色谱检测器的基础上，开发了具有专利技术的小型冷原子荧光检测（AFD），可直接搭载在实验室气相色谱仪上，实现气相色谱仪和原子荧光光谱联用分析，进一步丰富了实验室气相色谱仪的应用场景。（2）对提高汞检测行业的仪器利用率提出了新的方案。各实验室除了烷基汞检测外还有其他检测项目需求，该仪器在实验室气相色谱平台上实现除烷基汞分析外，还可以进行挥发性有机物、挥发性卤代烃、有机磷、有机氯等多气相色谱应用拓展。（3）AFD小型化集成设计。AFD采用小型化集成设计思路，整个检测器只有商用冷原子荧光光谱仪的1/30左右，包括基座、高温裂解模块、荧光池及主动捕集系统。一体化的基座设计，不仅满足毛细色谱柱与高温裂解模块的连接，又避免了高温对于色谱柱的性能影响。高温裂解模块采用纳米隔热层设计，满足内部950℃高温裂解的同时，实现了与外部良好隔热。荧光池采用多级光学陷阱实现特殊的杂散光消除技术，最终实现高灵敏度检测。（4）保护环境及分析者健康。采取主动泵抽式捕集系统，经过检测器的汞蒸气在泵抽吸过程中由金丝吸附管进行捕集，保证汞蒸气的有效捕集，从而保护环境与仪器使用者。（5）引入毛细色谱柱分析，更高的柱效、更快的分离。基于实验室气相色谱仪平台的优势，使用毛细色谱柱进行烷基汞分析，可在4分钟以内实现甲基汞与乙基汞分离，提高仪器使用效率。

MAS-100烷基汞分析仪 北京北分瑞利分析仪器（集团）有限责任公司开发的MAS-100型烷基汞分析仪，满足HJ977-2018《水质 烷基汞的检测 吹扫捕集/气相色谱-冷原子荧光光谱法》国家环境保护标准，适用于样品的批量分析。 水溶液中甲基汞、乙基汞与衍生化试剂四丙基硼化钠反应，并生成具有一定挥发性的甲基丙基汞和乙基丙基汞，经氩气吹扫、Tenax管捕集后，使用气相色谱-冷原子荧光检测器测定。 通用仪器专用化在加装AFD的同时，还可以加装其他检测器（FID、ECD、TCD、FPD），满足使用者对于其他应用的分析。主动尾气捕集系统经过检测器的汞蒸气最后会经过金丝吸附管进行捕集，保证汞蒸气的有效捕集。使用毛细色谱柱高效分离更高的柱效，更快的分离速度，使甲基汞、乙基汞的灵敏度更高。产品创新点详解：（1）丰富实验室气相色谱仪应用场景。基于通用仪器专用化的设计思路，在FID、FPD、ECD、TCD和TSD等传统气相色谱检测器的基础上，开发了具有专利技术的小型冷原子荧光检测（AFD），可直接搭载在实验室气相色谱仪上，实现气相色谱仪和原子荧光光谱联用分析，进一步丰富了实验室气相色谱仪的应用场景。（2）对提高汞检测行业的仪器利用率提出了新的方案。各实验室除了烷基汞检测外还有其他检测项目需求，该仪器在实验室气相色谱平台上实现除烷基汞分析外，还可以进行挥发性有机物、挥发性卤代烃、有机磷、有机氯等多气相色谱应用拓展。（3）AFD小型化集成设计。AFD采用小型化集成设计思路，整个检测器只有商用冷原子荧光光谱仪的1/30左右，包括基座、高温裂解模块、荧光池及主动捕集系统。一体化的基座设计，不仅满足毛细色谱柱与高温裂解模块的连接，又避免了高温对于色谱柱的性能影响。高温裂解模块采用纳米隔热层设计，满足内部950℃高温裂解的同时，实现了与外部良好隔热。荧光池采用多级光学陷阱实现特殊的杂散光消除技术，最终实现高灵敏度检测。（4）保护环境及分析者健康。采取主动泵抽式捕集系统，经过检测器的汞蒸气在泵抽吸过程中由金丝吸附管进行捕集，保证汞蒸气的有效捕集，从而保护环境与仪器使用者。（5）引入毛细色谱柱分析，更高的柱效、更快的分离。基于实验室气相色谱仪平台的优势，使用毛细色谱柱进行烷基汞分析，可在4分钟以内实现甲基汞与乙基汞分离，提高仪器使用效率。

技术特点宽泛的动态范围：独特光电检测电路与算法，确保其宽泛的检测范围；一体式整体设计，将进样器、色谱分离、检测器合为一体。配备极坐标式自动进样器，瓶内顶空方式吹扫，避免使用同一个气液分离器，防止交叉污染及洗涤不便。检测过程仅使用氩气，避免使用多种高压气体种类。光电设计，允许宽泛的动态检测范围。质量流量控制器控制气体流速，控制准确，调节方便。侧板式维护窗口，无需拆机即可更换、检修关键部件。技术参数分析原理：吹扫捕集-气相色谱-原子荧光（P&T-GC-AFS）样品类型：水质、生物质、土壤等载气：氩气（99.99%）外形尺寸： 610mm×490mm×570 mm检测范围：甲基汞：0.0125～50 ng/L（40 mL样品）乙基汞：0.0125～50 ng/L（40 mL样品）吹扫方式：原位吹扫样品位数：84位电源：220V AC，10A，50Hz重复性：RSD≤ 3% @ 25 pg MeHg适用标准EPA 1630 水中甲基汞，吹扫捕集-冷原子荧光光谱法HJ 977-2018 水质 烷基汞的测定 吹扫捕集/气相色谱-冷原子荧光光谱法HJ 1269-2022 土壤和沉积物 甲基汞和乙基汞的测定 吹扫捕集/气相色谱-冷原子荧光光谱法

产品名称：烷基汞蒸馏器品牌：tekran产地：加拿大型号：2750产品方法：EPA 1630详细说明：烷基汞在天然样品中的含量非常低，在烷基汞分析的过程中，由于一些样品中存在各种杂质的干扰，通常需要对样品进行蒸馏纯化。Tekran 2750 甲基汞蒸馏系统是紧凑和模块化的，减少了对空间的需求并提高了样品蒸馏的效率。该系统具采用精密的PID控制器对温度进行实时监控与调整，具有铝加热器和主动冷却水浴，无需额外提供冰块。最高可同时蒸馏多达30个样品。Tekran 2750 甲基汞蒸馏系统完全遵循EPA 1630方法的要求，是您制备EPA 1630方法所需样品的最佳解决方案产品图片：

ME-400 烷基汞分析系统1. 仪器规格1.1.工作电压：100-240VAC 50/60Hz AC1.2.功率：最大功率＜1000W1.3.工作温度：0℃～40℃1.4.相对湿度: 10—95%(非凝结)1.5.海拔高度: 0-2000米1.6.外型尺寸: 主机≤ 520mm×600mm×314mm、自动进样器≤ 500mm×480mm×325mm2.技术参数 2.1.主机采用高度集成的一体化设计，降低故障率，保证稳定性 2.2.热裂解、气相色谱与冷原子荧光检测器集成在一台仪器中，无需连接 2.3.自动进样器具有样品瓶内直接吹扫功能，无需清洗样品管路，解决因液体传输带来的 样品损失和污染残留问题。2.4.仪器采用MFC质量流量控制器，可精确控制1~100ml/min的流速（±0.5%FS），运行过程的各项参数均可在软件中显示并自动控制。2.5.电子压力范围 0-100psi。2.6.控制精度±1℃，显示精度0.1℃。2.7.色谱柱标配KB-1毛细管柱，保证更好地分离效果及峰型2.8.内置标准方法，可根据用户要求优化设置也可创建全新方法2.9.可与ICP-MS联机使用2.10.采用冷原子荧光检测器（CVAFS）2.11.最低检出限 ：甲基汞0.004ng/L（25ml） 乙基汞0.008ng/L(25ml)2.12.仪器重复性（以0.5ng/L为例）：≤3%。2.13.仪器回收率（以0.5ng/L为例）：≥85%2.14.线性范围：0.004-25ng/L 2.15.分析时间：＜12分钟（烷基汞） 2.16.载气：氩气 2.17.载气压力：30-60psi 2.18.载气流量：105-130 ml/min 2.19.自动进样器：72位40ml样品位2.20.软件系统：Mercury E Link软件运行于Windows 7及其以上版本的操作系统，通过USB接口连接，可记录保存所有样品名称、运行时间、方法信息及错误报警，可对任意样品盘位设置方法。2.21.诊断功能：可在运行过程中自动检测仪器各部分状态是否正常，并可保存故障代码；具有电子检检漏程序，可对仪器内部管路可进行自动检漏。 3.蒸馏装置3.1.10个独立蒸馏样品位，样品互不干扰3.2.蒸馏系统为全特氟龙材质，抗污染能力强3.3.精密PID温度控制平板加热3.4.控温范围：RT+5至150℃

土壤和沉积物 挥发性有机物的测定-顶空气相色谱质谱法——北分三谱为贯彻落实《中华人民共和国环境保护法》，保护环境，保障人体健康，规范环境监测工作，北分三谱推出《土壤和沉积物 挥发性有机物的测定 顶空/气相色谱-质谱法》系统解决方案一、原理在一定的温度条件下，顶空瓶内样品中挥发性组分向液上空间挥发，产生蒸气压，在气液固三相达到热力学动态平衡，气相中挥发性有机物进入气相色谱分离后，用质谱进行检测，通过与标准物质保留时间和质谱图相比较进行定性，内标法定量。二、仪器2.1 气相色谱仪：具有毛细管分流/不分流进样口，可程序升温；2.2 质谱仪：具70eV的电子轰击（EI）电离源，具NIST质谱图库、手动/自动调谐、数据采集、定量分析及谱库检索等功能；2.3 毛细管柱：60m×0.25mm×1.4um(6%腈丙苯基、94%二甲基聚硅氧烷固定液）；2.4 北分三谱AHS-20A plus顶空进样器：带顶空瓶、PTFE隔垫、瓶盖2.5 其他相关仪器三、典型谱图： SCAN模式下的总离子流图：图1 100 ng/L 35种挥发性有机物在SCAN模式下的总离子图 1. 氯乙烯；2. 1，1-二氯乙烯；3. 二氯甲烷；4. 反-1，2-二氯乙烯；5. 1，1-二氯乙烷；6. 顺-1，2-二氯乙烯；7. 氯仿；8. 1，1，1-三氯乙烷；9. 四氯化碳；10. 1，2-二氯乙烷；11. 苯；12. 氟苯；13.三氯乙烯；14. 1，2-二氯丙烷；15. 一溴二氯甲烷；16. 甲苯-D8；17. 甲苯；18. 1，1，2-三氯乙烷；19. 四氯乙烯；20. 二溴氯甲烷；21. 1，2-二溴乙烷；22. 氯苯-D5；23. 氯苯；24. 1，1，1，2-四氯乙烷；25. 乙苯；26. 间，对-二甲苯；27. 邻二甲苯；28. 苯乙烯；29. 溴仿；30. 4-溴氟苯；31. 1，1，2，2-四氯乙烷；32. 1，2，3-三氯丙烷；33. 1，3，5-三甲基苯；34. 1，2，4-三甲基苯；35. 1，3-二氯苯；36. 1，4-二氯苯-D4；37. 1，4-二氯苯；38. 1，2-二氯苯；39. 1，2，4-三氯苯；40. 六氯丁二烯。 SIM图： 图2 100 ng/L 35种挥发性有机物的SIM图 1. 氯乙烯；2. 1，1-二氯乙烯；3. 二氯甲烷；4. 反-1，2-二氯乙烯；5. 1，1-二氯乙烷；6. 顺-1，2-二氯乙烯；7. 氯仿；8. 1，1，1-三氯乙烷；9. 四氯化碳；10. 1，2-二氯乙烷；11. 苯；12. 氟苯；13.三氯乙烯；14. 1，2-二氯丙烷；15. 一溴二氯甲烷；16. 甲苯-D8；17. 甲苯；18. 1，1，2-三氯乙烷；19. 四氯乙烯；20. 二溴氯甲烷；21. 1，2-二溴乙烷；22. 氯苯-D5；23. 氯苯；24. 1，1，1，2-四氯乙烷；25. 乙苯；26. 间，对-二甲苯；27. 邻二甲苯；28. 苯乙烯；29. 溴仿；30. 4-溴氟苯；31. 1，1，2，2-四氯乙烷；32. 1，2，3-三氯丙烷；33. 1，3，5-三甲基苯；34. 1，2，4-三甲基苯；35. 1，3-二氯苯；36. 1，4-二氯苯-D4；37. 1，4-二氯苯；38. 1，2-二氯苯；39. 1，2，4-三氯苯；40. 六氯丁二烯。 　　北京北分三谱仪器有限责任公司是一家集研发、生产、销售和服务于一体的专业分析仪器生产厂家。主要生产:气相色谱仪、顶空进样器、热解析仪、解析管老化仪、电子皂膜流量计、氢气发生器、空气发生器、氮气发生器等产品。公司拥有一批长期从事色谱仪开发及分析应用、维修经验丰富的工cheng师，在色谱类仪器的维护、维修、和调试等方面的技术力量雄厚。近年来，我们已为国内著ming高等院校、科研单位、生产企业及检验检测机构提供了大量的分析仪器和设备及完整的系统解决方案。正是因为高品质的产品、专业的应用及完善的售前售后服务，我们赢得了广大用户的支持与信赖，具有良好的声誉。 北京北分三谱仪器有限责任公司技术部

土壤和沉积物 挥发性有机物的测定-顶空气相色谱质谱法——北分三谱为贯彻落实《中华人民共和国环境保护法》，保护环境，保障人体健康，规范环境监测工作，北分三谱推出《土壤和沉积物 挥发性有机物的测定 顶空/气相色谱-质谱法》系统解决方案一、原理在一定的温度条件下，顶空瓶内样品中挥发性组分向液上空间挥发，产生蒸气压，在气液固三相达到热力学动态平衡，气相中挥发性有机物进入气相色谱分离后，用质谱进行检测，通过与标准物质保留时间和质谱图相比较进行定性，内标法定量。二、仪器2.1 气相色谱仪：具有毛细管分流/不分流进样口，可程序升温；2.2 质谱仪：具70eV的电子轰击（EI）电离源，具NIST质谱图库、手动/自动调谐、数据采集、定量分析及谱库检索等功能；2.3 毛细管柱：60m×0.25mm×1.4um(6%腈丙苯基、94%二甲基聚硅氧烷固定液）；2.4 北分三谱AHS-20A plus顶空进样器：带顶空瓶、PTFE隔垫、瓶盖2.5 其他相关仪器三、典型谱图： SCAN模式下的总离子流图： 图1 100 ng/L 35种挥发性有机物在SCAN模式下的总离子图 1. 氯乙烯；2. 1，1-二氯乙烯；3. 二氯甲烷；4. 反-1，2-二氯乙烯；5. 1，1-二氯乙烷；6. 顺-1，2-二氯乙烯；7. 氯仿；8. 1，1，1-三氯乙烷；9. 四氯化碳；10. 1，2-二氯乙烷；11. 苯；12. 氟苯；13.三氯乙烯；14. 1，2-二氯丙烷；15. 一溴二氯甲烷；16. 甲苯-D8；17. 甲苯；18. 1，1，2-三氯乙烷；19. 四氯乙烯；20. 二溴氯甲烷；21. 1，2-二溴乙烷；22. 氯苯-D5；23. 氯苯；24. 1，1，1，2-四氯乙烷；25. 乙苯；26. 间，对-二甲苯；27. 邻二甲苯；28. 苯乙烯；29. 溴仿；30. 4-溴氟苯；31. 1，1，2，2-四氯乙烷；32. 1，2，3-三氯丙烷；33. 1，3，5-三甲基苯；34. 1，2，4-三甲基苯；35. 1，3-二氯苯；36. 1，4-二氯苯-D4；37. 1，4-二氯苯；38. 1，2-二氯苯；39. 1，2，4-三氯苯；40. 六氯丁二烯。 SIM图： 图2 100 ng/L 35种挥发性有机物的SIM图 1. 氯乙烯；2. 1，1-二氯乙烯；3. 二氯甲烷；4. 反-1，2-二氯乙烯；5. 1，1-二氯乙烷；6. 顺-1，2-二氯乙烯；7. 氯仿；8. 1，1，1-三氯乙烷；9. 四氯化碳；10. 1，2-二氯乙烷；11. 苯；12. 氟苯；13.三氯乙烯；14. 1，2-二氯丙烷；15. 一溴二氯甲烷；16. 甲苯-D8；17. 甲苯；18. 1，1，2-三氯乙烷；19. 四氯乙烯；20. 二溴氯甲烷；21. 1，2-二溴乙烷；22. 氯苯-D5；23. 氯苯；24. 1，1，1，2-四氯乙烷；25. 乙苯；26. 间，对-二甲苯；27. 邻二甲苯；28. 苯乙烯；29. 溴仿；30. 4-溴氟苯；31. 1，1，2，2-四氯乙烷；32. 1，2，3-三氯丙烷；33. 1，3，5-三甲基苯；34. 1，2，4-三甲基苯；35. 1，3-二氯苯；36. 1，4-二氯苯-D4；37. 1，4-二氯苯；38. 1，2-二氯苯；39. 1，2，4-三氯苯；40. 六氯丁二烯。 　　北分三谱GC-9860型高端气相色谱仪是在GC-9660的基础上升级换代产品，外观大气、结构合理的设计，同时加载了我公司自主研发的中英文显示技术。使其的自动化水平和整体性能得到了大幅提高。高稳定、高灵敏的微电流放大技术使FID检测限显著提高，新型的热导检测器灵敏度提高5倍。缩短了国产机型与进口机型的差距，能满足石油、化工、制药、食品、环保、疾控、科研院校以及质检部门。主要技术指标： ● 中、英文切换显示技术，5.7寸液晶大屏幕（320*240）。多达20个显示界面，信息量丰富，可储存20套色谱分析数据，并可随时调用。 ● 工业化设计外形，新颖大方、美观实用，结构合理，操作舒适。 ● 断气保护功能，大限度的保护色谱柱及热导池、电子捕获检测器等。 ● 八阶线性程序升温功能及智能双后开门设计，真正实现了近室温控制，控温精度高达±0.1℃满足宽范围分析要求。 ● 完善的超温热保护及铂电阻开路、短路报警功能，保证仪器不受损坏。 ● 自诊断功能及故障中文提示，使用户方便的知道问题原因及部位。 ● 采用的FLASH记忆系统，使数据保护不再依赖于电池。 ● 微机控制FID检测器实现了自动点火功能。 ● 高精度稳压稳流模式使气流精密稳定，实现了多路气路控制系统。 ● 高性能的毛细管汽化室，实现了真正意义上的分流/不分流进样系统。 ● 能同时安装1-4个检测器。可以双FID或双TCD或双ECD或双NPD运行。TCD带有双路柱后补充气，故可单柱、双柱、毛细管柱使用。 ● 能同时安装运行1-3套毛细管柱并可同时运行3个检测器。1台仪器相当于3台（柱室公用）。或双FID双毛。双TCD双毛。双TCD同时工作，互不影响，载气可相互独立。避免了更换色谱柱及检测器的繁琐。 ● 可实现检测器的串、并联使用，通过事件控制，进行智能自动转换。 ● 仪器可安装转化炉、热解吸仪、自动进样器、自动顶空进样器、裂解器等多种进样方式。可定时自动采样，实现自动在线分析。 ● 仪器特别适用于各类企业、技术监督局、环境监测、卫生防疫、大学院校、科学研究等部门。 技术参数： ●外型尺寸：520×480×500mm （长×高×宽） ●柱箱尺寸：260×250×150mm （长×高×深） ●色谱柱安装跨度：152.4mm (6英寸标准接口) ●色谱柱：填充柱外径 3 ～ 5mm （ 金属柱或玻璃柱） ●仪器重量：50Kg ●大功率：2500W ●电压：220±10% ●柱箱控温范围：室温加5℃-400℃ (以1℃增量任设） ●温度精度：不大于±0.1℃ ●温度梯度：±1%(温度范围100℃-350℃)程序升温 ●升温速率：0.1-50℃/min(以0.1℃增量任设) ●时间设定：6000（min） ●程序阶数：8阶检测器技术指标： 氢火焰离子化检测器（FID） ● 检测限：Mt≤2×10-12g/s （正十六烷）； ● 噪音：≤2×10-14A（0.02mv） ● 漂移：≤1.5×10-13A/30min（0.15mv/0.5h） ● 线性范围： ≥107 ● 高使用温度：≤450℃ 热导检测器（TCD） ● 灵敏度：S≥10000mV.ml/mg(正十六烷) ● 噪声：≤20μV ● 基线漂移：≤150μv/30min 电子捕获检测器(ECD) ● 检测限：≤1×10-14g/ml ● 线性范围：104 ● 放射源：63Ni 火焰光度检测器(FPD) ● 检测限：(P)≤1×10-12g/s；(S)≤1×10-12g/s ● 线性范围：105（P） 103（S） 氮磷检测器(NPD) ● 检测限：(N)≤5×10-13g/s；(S)≤5×10-13g/s　　北京北分三谱仪器有限责任公司是一家集研发、生产、销售和服务于一体的专业分析仪器生产厂家。主要生产:气相色谱仪、顶空进样器、热解析仪、解析管老化仪、电子皂膜流量计、氢气发生器、空气发生器、氮气发生器等产品。公司拥有一批长期从事色谱仪开发及分析应用、维修经验丰富的工cheng师，在色谱类仪器的维护、维修、和调试等方面的技术力量雄厚。近年来，我们已为国内著ming高等院校、科研单位、生产企业及检验检测机构提供了大量的分析仪器和设备及完整的系统解决方案。正是因为高品质的产品、专业的应用及完善的售前售后服务，我们赢得了广大用户的支持与信赖，具有良好的声誉。 北京北分三谱仪器有限责任公司技术部

在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。产品型号：HMDS-6210 产品名称：真空烘箱（带基片预处理系统）电源电压：AC 380V± 10%/50Hz± 2%输入功率：4000W控温范围：室温+10℃-250℃温度分辨率：0.1℃温度波动度：± 0.5℃达到真空度：133Pa容积：210L工作室尺寸（mm）：560*640*600外形尺寸（mm）：720*820*1750载物托架：3块时间单位：分钟真空泵：国内好品牌，上海慕鸿型号：DM-4，旋片式油泵。产品特点：1、机外壳采用医用级不锈钢316L材质制造，内胆为不锈钢316L材料制成；加热器均匀分布在内胆外壁四周，内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。2、箱门闭合松紧能调节，整体成型的硅橡胶门封圈，确保箱内高真空度。3、微电脑智能控温仪，具有设定，测定温度双数字显示和PID自整定功能，控温精确，可靠。4、智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序，温度，真空度及每一程序时间。5、HMDS气体密闭式自动吸取添加设计，真空箱密封性能佳，确保HMDS气体无外漏顾虑。6、整个系统采用优质材料制造，无发尘材料，适用100 级光刻间净化环境。 HMDS预处理系统的必要性：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。HMDS-6000系列预处理系统的原理： HMDS-6000 预处理系统通过对烘箱HMDS预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS，降低了HMDS处理后的硅片接触角，降低了光刻胶的用量，提高光刻胶与硅片的黏附性。HMDS-6000系列预处理系统的一般工作流程：首先确定烘箱工作温度。典型的预处理程序为：打开真空泵抽真空，待腔内真牢度达到某一高真空度后，开始充人氮气，充到达到某低真空度后，冉次进行抽真空、充入氮气的过程，到达设定的充入氮气次数后，开始保持一段时间，使硅片充分受热，减少硅片表面的水分。然后再次开始抽真空，充入HMDS气体，在到达设定时间后，停止充入HMDS药液，进入保持阶段，使硅片充分与HMDS反应。当达到设定的保持时间后，再次开始抽真空。充入氮气，完成整个作业过程。HMDS与硅片反应机理如图：首先加热到100℃-200℃，去除硅片表面的水分，然后HMDS与表面的OH一反应，在硅片表而生成硅醚，消除氢键作，从而使极性表面变成非极性表面。整个反应持续到空间位阻(三甲基硅烷基较大)阻止其进一步反应。尾气排放：多余的HMDS蒸汽（尾气）将由真空泵抽出，排放到专用废气收集管道。在无专用废气收集管道时需做专门处理。

在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。产品技术参数：电源电压：AC 380V± 10%/50Hz± 2%输入功率：3000W控温范围：室温+10℃-250℃温度分辨率：0.1℃温度波动度：0.5℃达到真空度：133Pa容积：90L工作室尺寸（mm）：450*450*450外形尺寸（mm）：615*590*1470载物托架：2块时间单位：分钟真空泵：国内品牌上海慕鸿型号：DM-4，旋片式油泵。 产品特点：1、机外壳采用医用级不锈钢316L材质制造，内胆为不锈钢316L材料制成；加热器均匀分布在内胆外壁四周，内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。2、箱门闭合松紧能调节，整体成型的硅橡胶门封圈，确保箱内高真空度。3、微电脑智能控温仪，具有设定，测定温度双数字显示和PID自整定功能，控温精确，可靠。4、智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序，温度，真空度及每一程序时间。5、HMDS气体密闭式自动吸取添加设计，真空箱密封性能佳，确保HMDS气体无外漏顾虑。6、整个系统采用优质材料制造，无发尘材料，适用100 级光刻间净化环境。 HMDS预处理系统的必要性：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。HMDS-6000系列预处理系统的原理： HMDS-6000 预处理系统通过对烘箱HMDS预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS，降低了HMDS处理后的硅片接触角，降低了光刻胶的用量，提高光刻胶与硅片的黏附性。HMDS-6000系列预处理系统的一般工作流程：首先确定烘箱工作温度。典型的预处理程序为：打开真空泵抽真空，待腔内真牢度达到某一高真空度后，开始充人氮气，充到达到某低真空度后，冉次进行抽真空、充入氮气的过程，到达设定的充入氮气次数后，开始保持一段时间，使硅片充分受热，减少硅片表面的水分。然后再次开始抽真空，充入HMDS气体，在到达设定时间后，停止充入HMDS药液，进入保持阶段，使硅片充分与HMDS反应。当达到设定的保持时间后，再次开始抽真空。充入氮气，完成整个作业过程。HMDS与硅片反应机理如图：首先加热到100℃-200℃，去除硅片表面的水分，然后HMDS与表面的OH一反应，在硅片表而生成硅醚，消除氢键作，从而使极性表面变成非极性表面。整个反应持续到空间位阻(三甲基硅烷基较大)阻止其进一步反应。尾气排放：多余的HMDS蒸汽（尾气）将由真空泵抽出，排放到专用废气收集管道。在无专用废气收集管道时需做专门处理。

在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。产品技术参数：电源电压：AC 380V± 10%/50Hz± 2%输入功率：4000W控温范围：室温+10℃-250℃温度分辨率：0.1℃温度波动度：± 0.5℃达到真空度：133Pa容积：210L工作室尺寸（mm）：560*640*600外形尺寸（mm）：720*820*1750载物托架：3块时间单位：分钟真空泵：国内品牌，上海慕鸿型号：DM-4，旋片式油泵。 产品特点：1、机外壳采用医用级不锈钢316L材质制造，内胆为不锈钢316L材料制成；加热器均匀分布在内胆外壁四周，内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。2、箱门闭合松紧能调节，整体成型的硅橡胶门封圈，确保箱内高真空度。3、微电脑智能控温仪，具有设定，测定温度双数字显示和PID自整定功能，控温精确，可靠。4、智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序，温度，真空度及每一程序时间。5、HMDS气体密闭式自动吸取添加设计，真空箱密封性能佳，确保HMDS气体无外漏顾虑。6、整个系统采用优质材料制造，无发尘材料，适用100 级光刻间净化环境。 HMDS预处理系统的必要性：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。HMDS-6000系列预处理系统的原理： HMDS-6000 预处理系统通过对烘箱HMDS预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS，降低了HMDS处理后的硅片接触角，降低了光刻胶的用量，提高光刻胶与硅片的黏附性。HMDS-6000系列预处理系统的一般工作流程：首先确定烘箱工作温度。典型的预处理程序为：打开真空泵抽真空，待腔内真牢度达到某一高真空度后，开始充人氮气，充到达到某低真空度后，冉次进行抽真空、充入氮气的过程，到达设定的充入氮气次数后，开始保持一段时间，使硅片充分受热，减少硅片表面的水分。然后再次开始抽真空，充入HMDS气体，在到达设定时间后，停止充入HMDS药液，进入保持阶段，使硅片充分与HMDS反应。当达到设定的保持时间后，再次开始抽真空。充入氮气，完成整个作业过程。HMDS与硅片反应机理如图：首先加热到100℃-200℃，去除硅片表面的水分，然后HMDS与表面的OH一反应，在硅片表而生成硅醚，消除氢键作，从而使极性表面变成非极性表面。整个反应持续到空间位阻(三甲基硅烷基较大)阻止其进一步反应。尾气排放：多余的HMDS蒸汽（尾气）将由真空泵抽出，排放到专用废气收集管道。在无专用废气收集管道时需做专门处理。

在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。产品技术参数：电源电压：AC 380V± 10%/50Hz± 2%输入功率：3000W控温范围：室温+10℃-250℃温度分辨率：0.1℃温度波动度：± 0.5℃达到真空度：133Pa容积：90L工作室尺寸（mm）：450*450*450外形尺寸（mm）：615*590*1470载物托架：2块时间单位：分钟真空泵：国内品牌上海慕鸿型号：DM-4，旋片式油泵。 产品特点：1、机外壳采用医用级不锈钢316L材质制造，内胆为不锈钢316L材料制成；加热器均匀分布在内胆外壁四周，内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。2、箱门闭合松紧能调节，整体成型的硅橡胶门封圈，确保箱内高真空度。3、微电脑智能控温仪，具有设定，测定温度双数字显示和PID自整定功能，控温精确，可靠。4、智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序，温度，真空度及每一程序时间。5、HMDS气体密闭式自动吸取添加设计，真空箱密封性能佳，确保HMDS气体无外漏顾虑。6、整个系统采用优质材料制造，无发尘材料，适用100 级光刻间净化环境。 HMDS预处理系统的必要性：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。HMDS-6000系列预处理系统的原理： HMDS-6000 预处理系统通过对烘箱HMDS预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS，降低了HMDS处理后的硅片接触角，降低了光刻胶的用量，提高光刻胶与硅片的黏附性。HMDS-6000系列预处理系统的一般工作流程：首先确定烘箱工作温度。典型的预处理程序为：打开真空泵抽真空，待腔内真牢度达到某一高真空度后，开始充人氮气，充到达到某低真空度后，冉次进行抽真空、充入氮气的过程，到达设定的充入氮气次数后，开始保持一段时间，使硅片充分受热，减少硅片表面的水分。然后再次开始抽真空，充入HMDS气体，在到达设定时间后，停止充入HMDS药液，进入保持阶段，使硅片充分与HMDS反应。当达到设定的保持时间后，再次开始抽真空。充入氮气，完成整个作业过程。HMDS与硅片反应机理如图：首先加热到100℃-200℃，去除硅片表面的水分，然后HMDS与表面的OH一反应，在硅片表而生成硅醚，消除氢键作，从而使极性表面变成非极性表面。整个反应持续到空间位阻(三甲基硅烷基较大)阻止其进一步反应。尾气排放：多余的HMDS蒸汽（尾气）将由真空泵抽出，排放到专用废气收集管道。在无专用废气收集管道时需做专门处理。

在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。产品技术参数：电源电压：AC 380V± 10%/50Hz± 2%输入功率：3000W控温范围：室温+10℃-250℃温度分辨率：0.1℃温度波动度：± 0.5℃达到真空度：133Pa容积：90L工作室尺寸（mm）：450*450*450外形尺寸（mm）：615*590*1470载物托架：2块时间单位：分钟真空泵：国内品牌上海慕鸿型号：DM-4，旋片式油泵。 产品特点：1、机外壳采用医用级不锈钢316L材质制造，内胆为不锈钢316L材料制成；加热器均匀分布在内胆外壁四周，内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。2、箱门闭合松紧能调节，整体成型的硅橡胶门封圈，确保箱内高真空度。3、微电脑智能控温仪，具有设定，测定温度双数字显示和PID自整定功能，控温精确，可靠。4、智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序，温度，真空度及每一程序时间。5、HMDS气体密闭式自动吸取添加设计，真空箱密封性能佳，确保HMDS气体无外漏顾虑。6、整个系统采用优质材料制造，无发尘材料，适用100 级光刻间净化环境。 HMDS预处理系统的必要性：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。HMDS-6000系列预处理系统的原理： HMDS-6000 预处理系统通过对烘箱HMDS预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS，降低了HMDS处理后的硅片接触角，降低了光刻胶的用量，提高光刻胶与硅片的黏附性。HMDS-6000系列预处理系统的一般工作流程：首先确定烘箱工作温度。典型的预处理程序为：打开真空泵抽真空，待腔内真牢度达到某一高真空度后，开始充人氮气，充到达到某低真空度后，冉次进行抽真空、充入氮气的过程，到达设定的充入氮气次数后，开始保持一段时间，使硅片充分受热，减少硅片表面的水分。然后再次开始抽真空，充入HMDS气体，在到达设定时间后，停止充入HMDS药液，进入保持阶段，使硅片充分与HMDS反应。当达到设定的保持时间后，再次开始抽真空。充入氮气，完成整个作业过程。HMDS与硅片反应机理如图：首先加热到100℃-200℃，去除硅片表面的水分，然后HMDS与表面的OH一反应，在硅片表而生成硅醚，消除氢键作，从而使极性表面变成非极性表面。整个反应持续到空间位阻(三甲基硅烷基较大)阻止其进一步反应。尾气排放：多余的HMDS蒸汽（尾气）将由真空泵抽出，排放到专用废气收集管道。在无专用废气收集管道时需做专门处理。

产品介绍：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。产品特点：1、机外壳采用不锈钢SUS304材质制造，内胆为不锈钢316L材料制成；加热器均匀分布在内胆外壁四周，内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。2、箱门闭合松紧能调节，整体成型的硅橡胶门封圈，确保箱内高真空度。3、微电脑智能控温仪，具有设定，测定温度双数字显示和PID自整定功能，控温精确，可靠。4、智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序，温度，真空度及每一程序时间。5、HMDS气体密闭式自动吸取添加设计，真空箱密封，确保HMDS气体无外漏顾虑。6、整个系统采用材料制造，无发尘材料，适用100级光刻间净化环境。产品参数：型号HMDS-20HMDS-90HMDS-210容积20L90L210L电源电压AC220V±10%/50Hz±2%AC380V±10%/50Hz±2%输入功率1500W3000W4000W控温范围室温+10℃-250℃温度分辨率0.1℃温度波动度±0.5℃达到真空度133Pa工作室尺寸（mm）300*300*275450*450*450560*640*600外形尺寸（mm）465*465*725850*700*1400720*820*1050载物托架1块2快3块时间单位分钟选配件真空泵：德国品牌，莱宝“DC”双极系列旋片式油泵，真空高，噪音低，运行稳定。连接管：不锈钢波纹管，完全密封将真空泵与烘箱连接。HMDS预处理的必要性：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。真空镀膜机的原理：HMDS预处理系统通过对烘箱HMDS预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS，降低了HMDS处理后的硅片接触角，降低了光刻胶的用量，提高光刻胶与硅片的黏附性。真空镀膜机的一般工作流程：先确定烘箱工作温度。典型的预处理程序为：打开真空泵抽真空，待腔内真空度达到某一高真空度后，开始充人氮气，充到达到某低真空度后，再次进行抽真空、充入氮气的过程，到达设定的充入氮气次数后，开始保持一段时间，使硅片充分受热，减少硅片表面的水分。然后再次开始抽真空，充入HMDS气体，在到达设定时间后，停止充入HMDS药液，进入保持阶段，使硅片充分与HMDS反应。当达到设定的保持时间后，再次开始抽真空。充入氮气，完成整个作业过程。HMDS与硅片反应机理如图：先加热到100℃-200℃，去除硅片表面的水分，然后HMDS与表面的OH一反应，在硅片表而生成硅醚，消除氢键作，从而使极性表面变成非极性表面。整个反应持续到空间位阻(三甲基硅烷基较大)阻止其进一步反应。尾气排放等：多余的HMDS蒸汽（尾气）将由真空泵抽出，排放到专用废气收集管道。在无专用废气收集管道时需做专门处理。

产品介绍：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。产品特点：1、机外壳采用不锈钢SUS304材质制造，内胆为不锈钢316L材料制成；加热器均匀分布在内胆外壁四周，内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。2、箱门闭合松紧能调节，整体成型的硅橡胶门封圈，确保箱内高真空度。3、微电脑智能控温仪，具有设定，测定温度双数字显示和PID自整定功能，控温精确，可靠。4、智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序，温度，真空度及每一程序时间。5、HMDS气体密闭式自动吸取添加设计，真空箱密封，确保HMDS气体无外漏顾虑。6、整个系统采用材料制造，无发尘材料，适用100级光刻间净化环境。产品参数：型号HMDS-20HMDS-90HMDS-210容积20L90L210L电源电压AC220V±10%/50Hz±2%AC380V±10%/50Hz±2%输入功率1500W3000W4000W控温范围室温+10℃-250℃温度分辨率0.1℃温度波动度±0.5℃达到真空度133Pa工作室尺寸（mm）300*300*275450*450*450560*640*600外形尺寸（mm）465*465*725850*700*1400720*820*1050载物托架1块2快3块时间单位分钟选配件真空泵：德国品牌，莱宝“DC”双极系列旋片式油泵，真空高，噪音低，运行稳定。连接管：不锈钢波纹管，完全密封将真空泵与烘箱连接。HMDS预处理的必要性：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。真空镀膜机的原理：HMDS预处理系统通过对烘箱HMDS预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS，降低了HMDS处理后的硅片接触角，降低了光刻胶的用量，提高光刻胶与硅片的黏附性。真空镀膜机的一般工作流程：先确定烘箱工作温度。典型的预处理程序为：打开真空泵抽真空，待腔内真空度达到某一高真空度后，开始充人氮气，充到达到某低真空度后，再次进行抽真空、充入氮气的过程，到达设定的充入氮气次数后，开始保持一段时间，使硅片充分受热，减少硅片表面的水分。然后再次开始抽真空，充入HMDS气体，在到达设定时间后，停止充入HMDS药液，进入保持阶段，使硅片充分与HMDS反应。当达到设定的保持时间后，再次开始抽真空。充入氮气，完成整个作业过程。HMDS与硅片反应机理如图：先加热到100℃-200℃，去除硅片表面的水分，然后HMDS与表面的OH一反应，在硅片表而生成硅醚，消除氢键作，从而使极性表面变成非极性表面。整个反应持续到空间位阻(三甲基硅烷基较大)阻止其进一步反应。尾气排放等：多余的HMDS蒸汽（尾气）将由真空泵抽出，排放到专用废气收集管道。在无专用废气收集管道时需做专门处理。

产品型号： HMDS-6090 HMDS真空烘箱 产品特点：1、机外壳采用不锈钢SUS304材质制造，内胆为不锈钢316L材料制成；加热器均匀分布在内胆外壁四周，内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。2、箱门闭合松紧能调节，整体成型的硅橡胶门封圈，确保箱内高真空度。3、微电脑智能控温仪，具有设定，测定温度双数字显示和PID自整定功能，控温精确，可靠。 4、智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序，温度，真空度及每一程序时间。5、HMDS气体密闭式自动吸取添加设计，真空箱密封性能佳，确保HMDS气体无外漏顾虑。 6、整个系统采用材料制造，无发尘材料，适用100 级光刻间净化环境。 产品技术参数： 电源电压：AC 220V±10%/50Hz±2% 输入功率：3000W 控温范围：室温+10℃-250℃ 温度分辨率：0.1℃ 温度波动度：±0.5℃ 达到真空度：133Pa 容积：90L 工作室尺寸（mm）：450*450*450 外形尺寸（mm）：850*700*1400载物托架：2块 时间单位：分钟选配件： 真空泵：德国品牌，莱宝“DC”双极系列旋片式油泵，极限真空高，噪音低，运行稳定。 连接管：不锈钢波纹管，完全密封将真空泵与烘箱连接。 HMDS预处理系统的必要性： 在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。 HMDS真空烘箱的原理： HMDS预处理系统通过对烘箱HMDS预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS，降低了HMDS处理后的硅片接触角，降低了光刻胶的用量，提高光刻胶与硅片的黏附性。 HMDS真空烘箱的一般工作流程： 先确定烘箱工作温度。典型的预处理程序为：打开真空泵抽真空，待腔内真空度达到某一高真空度后，开始充人氮气，充到达到某低真空度后，再次进行抽真空、充入氮气的过程，到达设定的充入氮气次数后，开始保持一段时间，使硅片充分受热，减少硅片表面的水分。然后再次开始抽真空，充入HMDS气体，在到达设定时间后，停止充入HMDS药液，进入保持阶段，使硅片充分与HMDS反应。当达到设定的保持时间后，再次开始抽真空。充入氮气，完成整个作业过程。HMDS与硅片反应机理如图：先加热到100℃-200℃，去除硅片表面的水分，然后HMDS与表面的OH一反应，在硅片表而生成硅醚，消除氢键作，从而使极性表面变成非极性表面。整个反应持续到空间位阻(三甲基硅烷基较大)阻止其进一步反应。 尾气排放等：多余的HMDS蒸汽（尾气）将由真空泵抽出，排放到专用废气收集管道。在无专用废气收集管道时需做专门处理。 图片： 外壳冷轧板烤漆

产品型号： HS40 产品特点：1、机外壳采用冷轧板烤漆处理，内胆为不锈钢316L材料制成；加热器均匀分布在内胆外壁四周，内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。2、箱门闭合松紧能调节，整体成型的硅橡胶门封圈，确保箱内高真空度。3、微电脑智能控温仪，具有设定，测定温度双数字显示和PID自整定功能，控温精确，可靠。 4、智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序，温度，真空度及每一程序时间。5、HMDS气体密闭式自动吸取添加设计，真空箱密封性能佳，确保HMDS气体无外漏顾虑。 6、整个系统采用材料制造，无发尘材料，适用100 级光刻间净化环境。 产品技术参数： 电源电压：AC 220V±10%/50Hz±2% 输入功率：3000W 控温范围：室温+10℃-250℃ 温度分辨率：0.1℃ 温度波动度：±0.5℃ 达到真空度：133Pa 容积：90L 工作室尺寸（mm）：450*450*450 外形尺寸（mm）：615*615*900载物托架：2块 时间单位：分钟选配件： 真空泵：德国品牌，莱宝“DC”双极系列旋片式油泵，极限真空高，噪音低，运行稳定。 连接管：不锈钢波纹管，完全密封将真空泵与烘箱连接。 HMDS预处理系统的必要性： 在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。 HMDS真空烘箱的原理： HMDS预处理系统通过对烘箱HMDS预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS，降低了HMDS处理后的硅片接触角，降低了光刻胶的用量，提高光刻胶与硅片的黏附性。 HMDS真空烘箱的一般工作流程： 先确定烘箱工作温度。典型的预处理程序为：打开真空泵抽真空，待腔内真空度达到某一高真空度后，开始充人氮气，充到达到某低真空度后，再次进行抽真空、充入氮气的过程，到达设定的充入氮气次数后，开始保持一段时间，使硅片充分受热，减少硅片表面的水分。然后再次开始抽真空，充入HMDS气体，在到达设定时间后，停止充入HMDS药液，进入保持阶段，使硅片充分与HMDS反应。当达到设定的保持时间后，再次开始抽真空。充入氮气，完成整个作业过程。HMDS与硅片反应机理如图：先加热到100℃-200℃，去除硅片表面的水分，然后HMDS与表面的OH一反应，在硅片表而生成硅醚，消除氢键作，从而使极性表面变成非极性表面。整个反应持续到空间位阻(三甲基硅烷基较大)阻止其进一步反应。 尾气排放等：多余的HMDS蒸汽（尾气）将由真空泵抽出，排放到专用废气收集管道。在无专用废气收集管道时需做专门处理。外壳冷轧板烤漆

MERCK默克Supelco色谱科sigma西格玛SPME固相微萃取萃取头(PDMS/DVB 65μm)57310-U/57311MERCK默克Supelco色谱科sigma西格玛57310-U和57331 65μm PS-DVB 手动、自动固相微萃取萃取头，3支/盒SPME固相微萃取萃取头，二甲基硅氧烷/二乙烯基苯(PDMS/DVB)greener alternativedf 65 μm(PDMS/DVB, needle size 24 ga, for use with manual holder名称:SPME固相微萃取萃取头规格:PDMS/DVB 65μm 3支/盒品牌:MERCK默克Supelco色谱科sigma西格玛货号:57310-U/57311※产品详细说明※:一、基本信息产品编号：57310-U/57311品牌：MERCK默克Supelco色谱科sigma西格玛（美国品牌）规格：65μm PDMS/DVB（聚二甲基硅氧烷/二乙烯基苯）数量：通常为3支/盒应用范围：挥发性物质、胺类、硝基芳香类化合物（分子量范围约50-300）二、产品特点高效性：SPME技术集采样、萃取、浓缩、进样于一体，大大提高了分析效率。便携性：SPME固相微萃取头小巧轻便，便于携带，适合现场采集和富集样品。兼容性：能够与气相色谱、气相-质谱、液相色谱、液相-质谱仪等多种分析仪器联用。灵活性：手动或自动两种操作方式可选，满足不同实验需求。三、应用领域环保及水质处理：用于环境水样中污染物的检测。临床药理：药物残留溶剂（VOCs）的检测。案件分析：法庭样品中的毒物分析。制药：药物中残留溶剂的检测。化工：化工产品中挥发性成分的分析。食品与香精香料：食品、香精、香料中香味物质的分析。四、供应商购买信息供应商：多家公司如北京康林科技有限责任公司等提供该产品。五、注意事项在使用前请仔细阅读产品说明书，确保正确安装和使用。萃取头为精密仪器部件，请避免碰撞和损坏。使用过程中应注意安全和稳定性，避免高温、高压等极端条件。存储时应放置于干燥、阴凉处，避免阳光直射和潮湿环境。六、价格信息价格因供应商、促销活动等因素可能有所不同，具体价格请参考各供应商报价。综上所述，SPME固相微萃取头57310-U/57311是一款广泛应用于多个领域的精密分析仪器部件，具有高效、便携、兼容性强等特点。在购买和使用时，请务必注意相关事项以确保其正常工作和安全性。※PDMS/DVB 65μm SPME萃取头固相微萃取纤维头,是一根外套不锈钢细管的1cm长、涂有聚二甲基硅氧/-/烷/二乙烯基/-/苯 (PDMS/DVB) 双层色谱固定相或吸附剂的熔融石英的纤维头,SPME萃取头在不锈钢管内可自由伸缩,用于萃取、吸附样品 ※固相微萃取(SPME)整套装置及选配耗材※:序号、货号、名称描述①、57330-U SPME手柄(手动或自动)②、2637505 SPME专用进样插件,可选,用于HP6890 (岛津不可用)③、57333-U SPME专用采样台用于4ml瓶④、57357-U SPME专用采样台用于15ml瓶⑤、PC-420D SPME专用磁力加热搅拌装置⑥、Z118877 SPME磁力搅拌子⑦、57332 SPME专用温度计⑧、57356-U SPME专用进样导管(岛津不可用)⑨、27136 SPME专用专用采样瓶 4ml ⑩、27159 SPME专用专用采样瓶 15ml (11)固相微萃取头(SPME萃取头), (具体信息参见SPME萃取头订购信息)※Supelco SPME萃取头(固相微萃取头)订货信息※:订货号产品名称描述产品应用手动式自动式57330-U57331SPME手柄和萃取头连用573185731975um Carboxen/PDMS 固相微萃取头,3支(MW30-225)用于气体和小分子量化合物57334-U57335-U85um Carboxen/PDMS 固相微萃取头,3支(高保留)用于气体和小分子量化合物57302573037um PDMS 固相微萃取头,3支 (MW 125-600)用于非极性大分子量化合物573085730930um PDMS 固相微萃取头,3支用于非极性半挥发性化合物57300-U57301100um PDMS固相微萃取头,3支(MW 60-275)用于挥发性物质57310-U5731165um PDMS/DVB固相微萃取头,3支(MW 50-300)用于挥发性物质、胺类、硝基芳香类化合物57326-U57327-U65um PDMS/DVB固相微萃取头(不含弹簧2cm),3支用于挥发性物质、胺类、硝基芳香类化合物(MW 50-300)573045730585um,Polyacrylate, 固相微萃取头,3支 (MW 80-300)用于极性半挥发性化合物57328-U57329-U50/30um,DVB/CAR/PDMS,Stableflex固相微萃取头,3支用于香味物质(挥发性和半挥发性C3-C20)(MW40-275)/5731760um PDMS/DVB 固相微萃取头(用于HPLC),3支用于胺类或极性化合物57348-U/50/30um DVB/Car on PDMS固相微萃取头(2cm),3支用于香味物质(挥发性和半挥发性C3-C20)(MW40-275)5730657307SPME萃取头套装1用于挥发性和半挥发性物质85umPA,100um PDMS,7umPDMS各一支57320-U57321-USPME萃取头套装2用于水中挥发性或极性有机物75umCAR/PDMS.65umPDMS/DVB,85um PA各一支57323-USPME萃取头套装3用于SPME/HPLC分析60um PDMS/DVB,85um PA,100um PDMS各一支57324-U57325-USPME萃取头套装4用于香味物质分析100um PDMS,65um PDMS/DVB,75um CAR /PDMS各一支※美国MERCK默克Supelco色谱科sigma西格玛固相微萃取萃取头,PDMS/DVB 65μm SPME纤维头 ,部分交联,兰色平头,测挥发性物质、胺类和硝基芳族化合物质,色谱科货号57310-U ※聚二甲基硅氧烷二乙烯基苯 (PDMS/DVB) 固相微萃取萃取头57310-U/57311 SPME fiber assembly Polydimethylsiloxane/Divinylbenzene (PDMS/DVB)df 65μm(partially crosslinked phase, needle size 24 ga, for use with manual holder(Supelco) ※PDMS/DVB 65μm SPME萃取头固相微萃取纤维头,57310-U/57311是一根外套不锈钢细管的1cm长、涂有聚二甲基硅氧烷/二乙烯基苯 (PDMS/DVB) 双层色谱固定相或吸附剂的熔融石英的纤维头,SPME萃取头在不锈钢管内可自由伸缩,用于萃取、吸附样品

不锈钢短程分子蒸馏仪AYAN-F80主要特征：1.远低于物料沸点的温度下操作,而且物料停留时间短 利于高沸点、热敏及易氧化物料的分离2.有效地脱除液体中的物质如有机溶剂、臭味等,对于采用溶剂萃取后液体的脱溶是非常有效的方法3.可有选择蒸挥发出产物,去除其它杂质,通过多级分离可同时分离2种以上的物质4.蒸馏真空度高，真空度可达0.1pa以下，其内部可以获得很高的真空度，通常分子蒸馏在很低的压强下进行操作，因此物料不易氧化受损5.蒸馏液膜薄,传热效率高，膜厚度小于0.5mm6.分离程度更高，分子蒸馏能分离常规不易分开的物质7.没有沸腾鼓泡现象，分子蒸馏是液层表面上的自由蒸发，在低压力下进行，液体中无溶解的空气，因此在蒸馏过程中不能使整个液体沸腾，没有鼓泡现象。8.提供多种规格客户选择，适用于客户小试实验,中试实验，如果需要更大蒸发面积规格的可以根据客户要求定制。9.物理分离法，无毒、无害、无污染、无残留，可得到纯净安全的产物9.刮板系统由PTFE材料和SS316L不锈钢材料制成，具有极高抗腐蚀的功效；10.进料罐可选实现预加热功能，预热温度可以调节。11.各个接口采用的是氟胶垫片进行密封，气密性好，如客户需要耐腐蚀可以更换成四氟材质技术参数：产品型号AYAN-F60AYAN-F80AYAN-F100AYAN-F150AYAN-F200AYAN-F220内径(mm)6080100150200220蒸发面积(㎡)0.060.10.150.250.350.5冷凝面积(㎡)0.10.150.250.450.550.65进料容积(L）122255处理流量L/H0.1∽2.00.5∽4.00.5∽5.01.0∽8.01.5∽10.02.0∽15.0电机功率(W)120120120120120200转速(r/min)≤450≤450≤450≤450≤450≤450轻组分收集瓶(L）112355重组成收集瓶(L）112355冷井有有有有有有外置冷凝装置选配选配选配选配选配选配冷却装置有有有有有有真空度(pa)10以下10以下10以下10以下10以下10以下受热温度(°C)室温-200室温-200室温-200室温-200室温-200室温-200 不锈钢短程分子蒸馏仪AYAN-F80分子蒸馏的特点优势从分子蒸馏技术以上的特点可知,它在实际工业化的应用中比常规蒸馏技术具有以下明显的优势： 1、对于高沸点、热敏及易氧化物料的分离，分子蒸馏提供了分离方法。因为分子蒸馏在远低于物料沸点的温度下操作，而且物料停留时间短； 2、分子蒸馏可极有效地脱除液体中的物质如有机溶剂、臭味等,这对于采用溶剂萃取后液体的脱溶是非常有效的方法； 3、分子蒸馏可有选择地蒸出目的产物，去除其它杂质，通过多级分离可同时分离2种以上的物质； 4、分子蒸馏的分馏过程是物理过程，因而可很好地保护被分离物质不受污染和侵害。 应用领域 　　在热交换工程中，刮板式薄膜蒸发器得到广乏的应用。尤其对热敏性物料（时间短暂）的热交换，刮膜器有利于热交换的进行，并通过不同的刮膜器设计，能进行复杂产品的蒸馏。 　　刮膜蒸发器已在下述领域用于蒸发浓缩、脱溶、汽提、反应、脱气、除臭（气）味等为目的，取得了良好效果： 中、西药：抗生素，糖液，雷公滕、黄芪等中草药，甲基咪唑、单腈胺等中间体； 轻工食品：果汁，肉汁，色素，香精，香料，酶制剂、乳酸、木糖、淀粉糖，山梨酸钾； 油脂日化：卵磷酯，VE，鱼肝油，油酸，甘油，脂肪酸，废润滑油，烷基多糖苷，醇醚硫酸盐等； 合成树脂：聚酰胺树脂，环氧树脂，多聚甲醛，PPS（癸二酸聚丙烯酯），PBT，甲酸丙烯酯； 合成纤维：PTA，DMT，炭素纤维，聚四氢呋喃，聚醚多元醇等； 石油化学：TDI，MDI，三甲基氢醌，三羟甲基丙烷，氢氧化钠等； 农药生物：乙草胺、丙草胺、毒死蜱、呋喃酚、广灭灵、等除草剂，杀虫剂、除莠剂，除螨剂； 废　　水：无机盐废水等；