当前位置: 仪器信息网 > 行业主题 > >

羟基孕甾

仪器信息网羟基孕甾专题为您提供2024年最新羟基孕甾价格报价、厂家品牌的相关信息, 包括羟基孕甾参数、型号等,不管是国产,还是进口品牌的羟基孕甾您都可以在这里找到。 除此之外,仪器信息网还免费为您整合羟基孕甾相关的耗材配件、试剂标物,还有羟基孕甾相关的最新资讯、资料,以及羟基孕甾相关的解决方案。

羟基孕甾相关的仪器

  • 中文名称1,3-二羟基丙酮英文名称Dihydroxyacetone中文别名二羟基丙酮CAS RN96-26-4EINECS号202-494-5分 子 式C3H6O3分 子 量90.0779用途:医药中间体、化工原料和食品添加剂。1,3-二羟基丙酮作为医药中间体,能合成一些治疗心血管疾病药物;1,3-二羟基丙酮酮可应用于化妆品中,能阻止皮肤的水份的过度蒸发,对皮肤起到保湿和防晒作用,防紫外线辐射我公司关于订购说明:1、质优价廉,量大从优,欢迎您的订购;2、物流信息:快递、汽车物流等;3、其他服务:如您对产品服务及技术指标有特殊要求,请及时通知我方;欢迎新老客户前来洽谈!订购流程:电话询单议价→签订合同→打款订货→安排发货→物流跟踪→货物送达→客户验收(7天产品质量异议期,15天产品数量异议期)→货物验收确认服务宗旨:竭诚提供 产品,售后服务客户满意。我公司产品出厂前均由质检部检验合格方可出货,质量有保证特别说明:1,产品价格会受到季节性波动影响,具体价格请客户来电核实2,产品都是完整包装,需拆分少量时价格会稍微提高3,大货急需的客户还请提前来电,我公司提前给您备货4,收货后请仔细确认完整性无损再签收,按该产品执行标准验收,如有产品不符,我们包退包换
    留言咨询
  • 产品名称:橄榄醇化学名 : 3,5-二羟基戊苯 产品别名:5-戊基间苯二酚;5-戊基苯-1,3-二醇;1,3-二羟基-5-戊苯 3,5-二羟基戊基苯 3-二羟基-5-戊苯 5-二羟基戊基苯英文名称:Olivetol英文别名:3,5-dihydroxyamylbenzene 5-Pentyl-1,3-benzenediol 5-Pentylresorcinol;Pentyl-3,5-dihydroxybenzeneCAS:500-66-3分子式:C11H16O2分子量:180.25纯度: 98%外观:棕红色粉末包装:25公斤/桶熔点:46-48℃闪点:110℃用途:保健品原料
    留言咨询
  • 2,4-二羟基苯甲酸广东厂家产品名称:2,4-二羟基苯甲酸CAS:89-86-12,4-二羟基苯甲酸标准:国标含量:99%2,4-二羟基苯甲酸外观:白色粉状2,4-二羟基苯甲酸包装:25KG/复合编织袋 可拆分成份:2,4-二羟基苯甲酸2,4-二羟基苯甲酸理化属性:白色针状结晶。微溶于水,易溶于有机溶剂类别:化工日化2,4-二羟基苯甲酸行业:化工日化领域:农药添加2,4-二羟基苯甲酸下延产品:农药杀菌剂运用:农药杀菌剂加工市场缺货产品热销碳酸锶 定价35肉桂醛 定价32 肉桂酸 定价48氧化铋 定价270胆汁酸 定价60己二酸 定价15油酸乙酯 定价35溶剂红52 定价800甘油缩甲醛 定价35肉桂酸乙酯 定价60叶醇(新和成) 定价540氟虫腈 95% 定价760 戊唑醇 97% 定价160增产胺 98% 定价395溴虫腈 98% 吨位350氯菊酯 95% 吨位160咪唑乙醇 99% 定价3004-硝基咪唑 99% 吨位310二硫氰基甲烷 定价175氟氯氰菊酯 95% 吨位325对羟基肉桂酸 99% 定价190铃兰醛(芬美意) 定价150甘氨酰胺盐酸盐 定价120厂家,现货,价格,广东,便宜,用途,作用,技术,含量,规格,标准,质优价廉,性状,性质,报价,CAS编号,海关HS编码,供应商,生产商,生产企业,市场行情,应用,市场前景,原料
    留言咨询
  • 中文名称邻羟基苯乙酸英文名称2-Hydroxyphenylacetic acid中文别名2-羟基苯乙酸CAS RN614-75-5EINECS号210-393-2分 子 式C8H8O3分 子 量152.1399用  途用作医药合成的重要中间体我公司关于订购说明:1、质优价廉,量大从优,欢迎您的订购;2、物流信息:快递、汽车物流等;3、其他服务:如您对产品服务及技术指标有特殊要求,请及时通知我方;欢迎新老客户前来洽谈!订购流程:电话询单议价→签订合同→打款订货→安排发货→物流跟踪→货物送达→客户验收(7天产品质量异议期,15天产品数量异议期)→货物验收确认服务宗旨:竭诚提供 产品,售后服务客户满意。我公司产品出厂前均由质检部检验合格方可出货,质量有保证特别说明:1,产品价格会受到季节性波动影响,具体价格请客户来电核实2,产品都是完整包装,需拆分少量时价格会稍微提高3,大货急需的客户还请提前来电,我公司提前给您备货4,收货后请仔细确认完整性无损再签收,按该产品执行标准验收,如有产品不符,我们包退包换
    留言咨询
  • 人25羟基维生素D3(25(OH)D3/25 HVD3)ELISA试剂盒用于体外定量检测血清,血浆,细胞培养上清液,组织匀浆,心房水样本等中的人25羟基维生素D3
    留言咨询
  • 在枪zhi犯罪事件中,枪击残留物 GSR 的分析将发挥重要的作用。GSR 分析技术首先基于扫描电子显微镜 (SEM) 的背散射成像,用来扫描样品和发现可疑的 “GSR” 颗粒。一旦发现可疑的颗粒,使用能谱(EDS)识别在该粒子中的元素。最常见的搜索元素为 Pb,Sb 和 Ba。无铅底火的检测,例如 Ti 和 Zn 也可最为搜索条件进行搜索。Phenom GSR 飞纳台式扫描电镜自动枪击残留物分析是全球首创在台式扫描电镜运行自动枪击残留物分析软件。其设计基于飞纳台式扫描电镜大样品室卓越版 Phenom XL。软件和硬件完全一体化,以提高用户操作界面友好性,可靠性和分析速度。Phenom GSR 包括以下三个项目:自动枪击残留物分析和分类软件包,BSED 和 EDS 探头内部集成,校准试样。Phenom GSR 飞纳台式扫描电镜自动枪击残留物分析配备 CeB6 灯丝,使其稳定运行,灯丝寿命不低于 1500 个小时,从可用性,适用性和运行时间的角度来看都非常理想。小于 1 分钟的加载时间,和快速的全自动马达样品台,使得飞纳 GSR 成为高度自动化应用的理想工具,可以用来进行自动枪击残留物分析。飞纳电镜枪击残留物分析 Phenom GSR基于 CeB6 灯丝的高分辨图像直观易用的 GSR 软件高吞吐量,一次性放置多达 36 个试样操作简单,永不丢失导航系统,完全集成能谱仪测量结果准确可靠,广泛兼容法医领域的各类应用规格参数光学放大3 - 19 X电子光学放大200,000 X分辨率优于 8 nm灯丝材料优于 1500 小时 CeB6 灯丝光学导航相机彩色加速电压4.8 Kv - 20.5 Kv 连续可调真空模式高分辨率模式降低核电效应模式高真空模式探测器背散射电子探测器二次电子探测器 (选配)样品尺寸最大 100 mm X 100 mm可同时装载 36 个 0.5 英寸样品台样品高度最高 65 mm,样品高度全自动调节
    留言咨询
  • 本仪器按《中华人民共和国药典》2020年版四部 通则 0613凝点测定法设计制造,测定药物由液体凝结为固体时候,在短时间内停留不变的最高温度。二丁基羟基甲苯凝固点为约69-70度。仪器硬件方面采用65K真彩5.7寸触屏,热感性微型打印机,高精度温度传感器,从而使仪器的品质实实在在看得见;软件方面采用了流行的硬件看门狗加软件陷井,二阶滤波加去极值平均滤波算法使仪器的抗干扰大幅提升。操作中直观的中文提示使试验变得更加轻松。一、主要技术特点1、规格型号:HSY-0613G2、测试范围:室温~ 90℃3、控温精度:0.1℃4、测试精度:±0.1℃5、温度检测:Pt100 (1/3DIN B级)6、加热方式:不锈钢电热管加热7、显示方式:TFT 65K色 全触摸 5.7寸工业液晶屏显示(曲线/数据)8、报告输出:20列汉字点阵热感打印9、试样搅拌:机械搅拌 双样10、作样单元:双样11、主机功率:≤1000W12、外形尺寸(宽高深):320 X 500 X 46013、工作电源:AC220V±10% 50HZ 14、工作环境:相对湿度:〈80% 15、温度:0~45℃ 二、主要技术参数及指标1、本仪器成套包含做样和加热控制部分。2、本仪器采用真彩全触摸屏式,操作简单,方便,美观。3、仪器做样部分采用铝板喷塑制作,耐腐蚀,无振动,延长使用寿命。4、浴体采用耐低温双层真空透明杜瓦瓶,透明观察,保温效果优良。5、传感器采用1/3DIN B级 Pt100,感温灵敏,分辨率高,抗干扰性强、测温精度高。6、试样搅拌采用机械搅拌,很好的解决了电磁搅拌高温失效的问题。7、仪器做样采用灯光照明,方便观察,显示直观。8、内置仪器自检程序,方便调试检修。
    留言咨询
  • 本仪器按《中华人民共和国药典》2020年版四部 通则 0613凝点测定法设计制造,测定药物由液体凝结为固体时候,在短时间内停留不变的最高温度。二丁基羟基甲苯凝固点为约69-70度,测定凝点可以区别或检查药品的纯杂程度。 一、主要技术特点1、型号规格: HSY-0613A2、控温范围: - 20℃~90度3、控温方式: 数显PID温控仪4、控温精度: ±0.1℃5、加热方式: 不锈钢电热管加热6、制冷方式: 进口压缩机制冷7、观察方式: 双层保温杜瓦瓶透明观察8、工作方式: 双孔9、试样搅拌方式:自动机械搅拌10、制冷控制: 进口磁力泵11、加热功率: 800W 12、制冷功率: 500W13、整机功率: 1400W14、工作电源: AC220V±10% 50HZ 15、工作环境: 相对湿度:〈80%二、主要技术参数及指标1、本仪器成套分为两部分,左边部分为冷浴做样部分,右边为加热做样部分。做样系统为左右式的整体结构,仪器下部为电路控制部分,操作简单、方便。2、仪器采用数显PID温控仪控温,控温精度可达±0.1℃,其温度显示直观,读数准确,还可调整因温度传感器老化产生的误差。因控温精度的要求传感器采用Pt100,感温灵敏分辨率高,抗干扰强、控温精度高。3、本仪器的冷浴是采用双层真空保温瓶,能很好的透明观察试样,保温性能良好。4、本仪器搅拌方式采用自动机械搅拌。5、不需循环冷却水,采用风机风冷,接通电源即可制冷。6、仪器采用铜管做成冷室,恒温冷却循环浴,高能效的制冷器也可兼做其它循环冷却用。7、本仪器采用优质钢板成型加工,表面采用静电喷涂工艺、坚固耐用,抗腐蚀性强。8 、本仪器使用和维修均很方便。
    留言咨询
  • Pendant 温度光强记录仪一、用途微型、下垂式温度光记录仪防水深度达到30米,可用于室内外及水中温度及光强的测量,具有广泛的适用性,即可以用于短期的温度监测,又适用于长时间置于某处进行温度及相对光强的监测。二、 特点采用分辨率为10bit温度传感器测量范围: -20° to 70°C在空气中,-20° to 50°C在水中,精度:0.47°C(25°C)光强测量范围:0-323,000 lumens/m2 0-30,000 lumens/ft2具有上下限设置,以LED指示采集间隔:1秒到18 小时;存储功能:8K或者64k;防水深度:30米USB接口,高速下载,30秒内下载60k或者6秒内下载8k数据可延迟或者在田间现场启动采集数据功能显示并记载电池状态记录主机连接,电池电压低及磁体的存在等事件发生过程三、组成1、记录仪:尺寸5.8 x 3.3 x 2.3 cm,重18克2、光学基座套件,尺寸9.5 x 4 x 2.8 cm;重45克3、HOBOware Software软件包:设置和下载数据4、数据传输器(可选): 防水结构,直接与主机相连,与数采时钟同步,可单独显示其供电电池电池状态,便于在水中下载数据。四、技术指标温度测量范围:-20°~70°C在空气中,-20° ~ 50°C在水中温度测量精度:0.47°C(25°C时)温度测量分辨率: 0.10°C(25°C 时),光强测量范围:0—323,000 lumens/m2 0—30,000 lumens/ft2,室内外及水中光强测量所需的操作环境:-20° ~70°C在空气中,-20°~ 50°C在水中可更换电池:CR2032,1年(典型应用)存储能力:8k或者64k存储模式:数据存满时自动停止采集数据防震/摔高度:1.5米安装孔:0.32厘米光学基座下载数据:30秒内下载64k数据响应时间:5分钟(水中), 10分钟(空气中,风速1m/s)数据传输器:内存:4MB,通讯环境:0~50°C,工作环境:-20° to 50°C,防水深度:20米,时钟精度:1分钟/月(25°C)数据传输速度(数采至传输器):15秒钟下载60k数据数据传输速度(传输器至主机) :6分钟下载4MB数据可更换电池:2 AA电池,1年寿命(典型应用)材料:聚碳酸酯外壳,EPDM橡胶O型圈尺寸:15.2 x 4.8 cm;重量:150g产地:美国
    留言咨询
  • 30-150mm热成像枪机 400-860-5168转4377
    30-150mm热成像枪机30-150mm热成像枪机技术参数探测器类型8 ~ 14um非制冷探测器分辨率640×512像元间距17μm帧频50Hz红外镜头焦距30 ~ 150mmF#1.2视场角20.6°×16.5° ~ 4.2°×3.3°NETD≤50mK@25℃,F#1.0调焦范围5m ~ ∞电子放大2×、4×极性黑热/白热图像亮度/对比度自动/手动调焦方式电动调焦/自动聚焦视频编码视频压缩标准H.264视频编码分辨率D1视频帧率25 fps视频码率32Kbps-10Mbps,最大10Mbps电源供电电压DC12V输出接口网络接口10M/100M自适应以太网口支持 DHCP、TCP、等多种网络协议。物理特性尺寸324.5mm×172mm×173mm(L×W×H)重量≤8.5Kg环境参数工作温度-40℃ ~ +50℃冲击30g 持续时间11ms振动5Hz ~ 500Hz ~ 5Hz,1.5g 持续时间12min防护级别IP66
    留言咨询
  • EXMC100-A防爆热成像双目枪机EXMC100-A防爆双目枪机,内置自研氧化钒非制冷红外探测器和高清可见光相机,满足全天候24小时安防监控需求。拥有双重防爆认证,机身各部件接合部位密封性能达到IP68防护等级。应用于油气储存、煤矿、危化品生产存储等,可在气体1区/2 区、粉尘21区/22区工作,助力企业安全生产。400×300红外分辨率9.1mm, 13mm,19mm镜头焦距39.5°×30.1°,28.2°×21.3°,19.5°×14.7°视场角≤40mK热灵敏度
    留言咨询
  • MC2007FT测温型双目枪机MCxxxxFT系列主要运用于中小范围的安全监控和测温应用场景,产品采用氧化钒非制冷红外探测器,搭配高清可见光相机, 测温精准,呈现良好的观测效果。先进的测温和AI算法,支持声光报警功能,真正实现24小时安防监控与温度可视化监测。256x192红外分辨率7mm镜头焦距24°x18° 视场角-20℃~550℃测温范围产品手册
    留言咨询
  • MC4019FT测温型双目枪机MCxxxxFT系列主要运用于中小范围的安全监控和测温应用场景,产品采用氧化钒非制冷红外探测器,搭配高清可见光相机, 测温精准,呈现良好的观测效果。先进的测温和AI算法,支持声光报警功能,真正实现24小时安防监控与温度可视化监测。400×300红外分辨率19mm镜头焦距20°×15°视场角-20℃~550℃测温范围
    留言咨询
  • MC4007FT测温型双目枪机MCxxxxFT系列主要运用于中小范围的安全监控和测温应用场景,产品采用氧化钒非制冷红外探测器,搭配高清可见光相机, 测温精准,呈现良好的观测效果。先进的测温和AI算法,支持声光报警功能,真正实现24小时安防监控与温度可视化监测。400×300红外分辨率9.1mm镜头焦距40°x30° 视场角-20℃~550℃测温范围
    留言咨询
  • MC4013FT测温型双目枪机MCxxxxFT系列主要运用于中小范围的安全监控和测温应用场景,产品采用氧化钒非制冷红外探测器,搭配高清可见光相机, 测温精准,呈现良好的观测效果。先进的测温和AI算法,支持声光报警功能,真正实现24小时安防监控与温度可视化监测。400×300红外分辨率13mm镜头焦距28°×21°视场角-20℃~550℃测温范围
    留言咨询
  • 云台能搭载光学镜头、巡检机器人、声波器、雷达、天线等多种设备的,集重载、高速、高精、可靠等优势于一身,按载重可分为轻载云台、中载云台、重载云台,济南祥控自动化设备有限公司研制的此款云台最大承载≥20Kg,重复定位精度可达±0.1°,属高精度重载云台。XKCON祥控重载云台的技术优势: 1.特殊加固处理,适应于倒装使用; 2.支持多种镜头预置位功能; 3.外壳采用高强度铝合金压铸材料,蜗轮蜗杆传动,断电可自锁; 4.水平0°~360°,俯仰±20°~-60°; 5.支持OSD菜单功能; 6.可升级为网络云台; 7.可选云台方位值、摄像机焦距值、聚焦值等信息回传功能。 为满足连续运转工作需求,XKCON祥控高精度重载云台使用蜗轮蜗杆传动装置和先进电机,可保证工作寿命长及无偏差运转;而且云台密封性好,具有较高的防水防尘性能,IP66超高防护等级,因此,常备应用在工业物联网监控系统发挥视频监控、环境检测等重要功能。
    留言咨询
  • 济南祥控自动化设备有限公司研制的此款XKCON祥控云台(产品型号:XKCON-PTZ-U25)支持水平方向360°连续旋转,也称单轴转台、单轴云台;该转台的重复定位精度高达±0.1°,其承载重量≥20Kg,因此也被称为高精度重载单轴云台。一、XKCON祥控单轴云台XKCON-PTZ-U25的展示图二、单轴云台XKCON-PTZ-U25具备的功能优势 重复定位精度高,可达±0.1°,承载≥20Kg; 内置姿态传感器,可实时回传云台姿态数据,方便云台安装误差补偿和数据校正; 特殊加固处理,适应于顶载、吊装、侧载应用场合; 支持多预置位功能; 外壳采用高强度铝合金材料,IP66超高防护等级; 谐波减速机传动,断电可自锁; 支持以太网、RS485、RS422、RS232多种通信接口; 可直接作为网络云台; 可选云台旋转角度、云台姿态等信息回传功能; 更过功能请与我们联系。三、单轴云台XKCON-PTZ-U25的主要技术参数
    留言咨询
  • 三目重载云台MS12180Z-H 400-860-5168转4811
    MS12180Z-H三目重载云台MS系列集可见光、红外光两大传感器于一身,辅以 激光补光,可实现24h昼夜全方位监控,具有成像 清晰、观测距离远、环境适应性强等优势。监控范 围可达半径为5公里的区域,在大雾、风雨、黑夜 等恶劣环境下可轻松发现目标,是大范围安防监控、 执法取证的理想之选。同时机身IP66,云台采用双 蜗轮蜗杆,承载能力高达80KG,整体抗风能力强。1280×1024红外分辨率30mm~180mm镜头焦距≤50mK热灵敏度8μm~14μm波长范围
    留言咨询
  • 一,空芯反谐振光纤总览石英光纤通过激光传输已在各种不同的场景中得到了广泛的应用,但是在许多领域, 由于材质引起的非线性效应、导光窗口、激光对光纤的材料的损伤机制等原因,基于石英的激光传输已经基本达到了光纤的极限。反谐振光纤(ARF)是一种空芯光纤,光可以局限在折射率小于光纤材料的中空中沿光纤轴向传导。空心纤维具有急低的非线性,较高的损伤阈值,其内部透射光束与周围玻璃之间的重叠较小,这为基于光纤的,非常的高功率激光提供了独te的可能解决方案。这会在激光制造,激光点火,防御,超快激光,非线性内窥镜/显微镜和基于气体的中红外激光器等领域取得突破性的应用。空芯反谐振光纤,空芯反谐振光纤技术参数特点:导光窗口扩展到紫外至中红外区间,远远超过了传统的实芯光纤的导光区间;纤芯为中空结构,可真空也可填充各种气体或液体;具备超过现有石英光纤最低损耗的潜力;传输速度快,真正的光速通信;具有急低非线性和瑞利散射,高激光损伤阈值;应用:高功率激光传能:超快激光脉冲无畸变传输、开发新光源:超连续光谱、极紫外至深紫外的色散波产生;光学研究孤子蓝移、气体等离子化、高次谐波等现象;超快激光脉冲压缩;低损耗高速光通信;光纤传感、空芯光纤探针;光纤参数:产品编码:MOF_HC_ ARF8C_50/250/270PI数值孔径(NA):0.03-0.1导光区间:200nm~3500nm (理论值 )衰减系数:@1550 nm20 dB/km纤芯直径:33±2μm包层直径:250±3μm涂覆层直径:270±3μm材质:纯石英涂层材料:聚酰亚胺/丙烯酸树脂长期使用温度:-65~300 ℃(聚酰亚胺)短期耐受温度:400 ℃(聚酰亚胺)光纤结构可定制:中红外应用、紫外应用等二, Optran UV NCC, Optran WF NCC 二氧化硅非圆芯径光纤,矩形、方形、八角形等Optran UV NCC, Optran WF NCC二氧化硅 非圆 芯径光纤CeramOptec提供矩形、方形、八角形和其他纤芯/包层几何形状的光纤,与我们的UV/WV系列光纤相比,具有更多优势。Optran UV NCC, Optran WF NCC 二氧化硅非圆芯径光纤,矩形、方形、八角形等,Optran UV NCC, Optran WF NCC 二氧化硅非圆芯径光纤,矩形、方形、八角形等型号参数优点多种纤芯和包层的几何形状,例如方形、矩形或八角形均匀配电非常低的NA扩展出色的图像加扰特性无需激光束整形光学器件高抗激光损伤阶跃折射率分布生物相容性材料可使用ETO和其他方法消毒应用光束整形应用的优选,例如包括表面处理或照明。纯熔融石英/掺氟熔融石英方形和矩形光纤与传统的圆形光纤不同,方形或矩形光纤可以提供最大的输入和输出密度。这些光纤非常适合与角源和接收器连接,例如二极管激光器。角形磁芯提供一致的短距离均匀化输入功率分布。我们的角光纤也有矩形形状,边长比大,圆角半径小,这得益于我们先进的PCVD技术。大型NCC非常适用于需要在石英光纤中结合柔性和大横截面的应用,例如,二极管激光传输系统。举一个例子,比率为1:3的矩形光纤的几何形状允许在一个轴上旋转和移动。横截面大约是圆形光纤(圆形光纤/直径 - 矩形光纤/页面尺寸)的四倍。大型NCC非常适用于需要在石英光纤中结合柔性和大横截面的应用,例如,二极管激光传输系统。举一个例子,比率为1:3的矩形光纤的几何形状允许在一个轴上旋转和移动。横截面大约是圆形光纤(圆形光纤/直径 - 矩形光纤/页面尺寸)的四倍。技术参数波长/光谱范围Optran UV NCC:190-1200nmOptran WF NCC:300-2400nm数值孔径 (NA)0,16 ± 0,02 | 0,22 ± 0,02 | 0,28 ± 0,02或定制工作温度-190至+350℃内径可根据要求设计几何形状和直径羟基含量Optran UV NCC:高( 1000 ppm)Optran WF NCC:低( 1 ppm)如有要求,可提供羟基含量 0.25和 0,1 ppm的光纤标准测试100 kpsi(聚酰胺、四氟乙烯、丙烯酸酯夹套)70 kpsi(聚酰亚胺夹套)最小弯曲半径50 ×包层直径(短期机械应力)150 ×纤芯直径(在使用高激光功率时)三,可见光/近红外中空光纤(用于高能脉冲激光)具有银反射涂层的中空纤维能够方便地传输高能脉冲激光。耦合效率可以接近100%,脉冲色散可以忽略不计。这种光纤已用于CARS实验,输出波长分别为532nm和607nm的50毫mJ/ 5ns脉冲激光束,距离超过5米。光纤类根据数量价格,合同金额原则上不低于3500元 可见光/近红外中空光纤(用于高能脉冲激光),可见光/近红外中空光纤(用于高能脉冲激光)技术参数空心光纤的横截面用形状记忆合金连接器的封装空芯光纤光纤内径中空纤维中的总透射率很大程度上取决于纤维内径(ID)。我们提供四种不同的标准内径尺寸可供选择选,范围500µ m到1500µ m,所有这些光纤都是多模的。光纤的弯曲程度会影响光束质量并导致更高的损耗。为了获得最佳效果,输入光束应该直接聚焦到具有相对较长焦距的中空光纤中,这样聚焦光斑的大小大约为光纤内径的二分之一。银反射层在可见光至近红外的波长范围(λ= 400–1100nm)内,玻璃中空纤维的内部镀有裸银层。银层的表面质量至关重要,OKSI已经开发了涂层技术来最小化表面粗糙度,从而实现相对高的透射率。 四.单能量匀化矩形纤芯激光传输光纤能量匀化矩形纤芯激光传输光纤系列产品具有阶跃型折射率分布,纤芯为低羟基石英材料,纤芯呈正方形或者长方形结构,在VIS-NIR波段上具有优异的传输性能,能够满足大功率激光传输的应用。光纤类根据数量价格,合同金额原则上不低于3500元 单能量匀化矩形纤芯激光传输光纤,单能量匀化矩形纤芯激光传输光纤产品特点● 能量密度分布均匀,损伤阈值高;● 光谱范围在400-2500nm;● 在VIS-NIR波段上具有优异的传输性能;产品应用● 激光传输● 激光焊接● 激光切割● 激光耦合等领域技术参数光纤型号MPYH-100 ×100/170-245-22-ACMPYH-195×195/330-520-22-ACMPYH-375×375/660-960-22-AC光学性能数值孔径0.22±0.020.22±0.020.22±0.02几何性能芯径(μm)100×100±2195×195±3375×375±5包层直径(μm)170±2330±3660±5涂覆直径(μm)245±10520±20960±20芯包同心度(μm)≤2≤3≤3芯不圆度(%)≤2≤3≤3包层不圆度(%)≤1≤2≤2工作温度(℃)-40~85材料纤芯材料低羟基石英玻璃包层材料掺F石英玻璃涂覆材料紫外固化丙烯酸树脂实验测试: 1310nm SLD 光斑质量分析 ( 没加匀化光纤之前 )( 加入匀化光纤之后3D )( 加入匀化光纤之后 2D )五,c波段高非线性光纤 (HNLF)光纤中的非线性效应, 诸如受激拉曼散射(SRS)、 受激布里渊散射(SBS)以及光学克尔效应, 在通信 和光信号处理领域有诸多应用。在克尔效应中,导光介质材料的折射率随光功率变化,这将导致一系列次级效应,例如自相位调制(SPM)、交叉相位调制 (XPM)、四波混频(FWM)、以及非稳态调制。利用克尔效应的应用包括光参量放大、频率转换、相位耦合、脉冲压缩与产生、光孤子传输等。 高非线性光纤的设计需要考虑以下几个方面:首先,光纤要有高的非线性以获得有效的非线性相互作用;其次光纤须有较低的损耗以增加有效作用长度 Leff。再者,对于各种应用,光纤要有相匹配的色散特性。最后,非线性光纤须有低的偏振模式色散(PMD)。对于石英基的高非线性光纤,折射率剖面的设计对于满足以上要求起重要作用。在高非线性光纤的设计中,小的芯区有效面积 Aeff,低的色散斜率以及远小于工作波长的截止波长必须同时实现。 高非线性光纤不但拥有较高的非线性,且同时拥有很低的色散斜率。采用灵活的 W 型剖面设计,在阶跃折射率芯周围引入低折射率内包层。光纤类根据数量价格,合同金额原则上不低于3500元 c波段高非线性光纤 (HNLF),c波段高非线性光纤 (HNLF)通用参数产品特点:较高的非线性系数零色散波长在 S, C, L 三波段可调较低的损耗和低的色散斜率与普通单模光纤熔接具有较小的附加损耗产品应用:参量放大波长转换脉冲压缩超连续光源光再生器离散式 (或集总式) 拉曼放大器技术参数光纤类型NL-1550-POSNL-1550-ZERONL-1550-NEG光学特性工作波段C-波段C-波段C-波段色散斜率@1550nm (ps/nm2/km)0.0350.0300.030色散@1550nm (ps/nm/km)3±2.00.0±1-5.0±2.0非线性系数@1550nm (W-1km-1)≥10≥10≥10衰减系数@1550nm (dB/km)≤1.5≤1.5≤1.5截止波长(nm)148014801480数值孔径 (典型值)0.350.350.35几何特性玻璃包层直径 (μm)125±7125±7125±7包层不圆度 (%)≤1≤1≤1芯包同心度 (μm)≤0.5≤0.5≤0.5涂敷层直径 (μm)245±10245±10245±10 注:提供光纤熔接支持。具体某一光纤玻璃包层直径波动范围不大于 2um。六,六,OFS 美国 高非线性光纤HNLF系列高非线性光纤不仅具有很高的非线性系数,同时还具有很小的群速度色散。该系列光纤采用高折射率差纤芯设计,纤芯外包围一层深度压缩的掺氟环层。HNLF有四种版本:色散斜率为0.019ps/(nm2km)的版本,零色散斜率型版本,PM版本和为增加SBS阈值在核心掺铝的版本。每一款都有很大的色散范围可供选择。光纤类根据数量价格,合同金额原则上不低于3500元 高非线性光纤,高非线性光纤产品特点● 高非线性系数● 多种类型可选● 低熔接损耗产品应用● 光再生光采样● 参量放大● 紫外线光栅● 脉冲压缩 ● 超连续谱产生 ● 波长转换技术参数型号HNLF-PM参数指标光纤长度50 to 500 m光纤长度公差± 3m截止波长 1500 nm有效面积(典型)12.5 µ m2色散度-1.5 to +2.0 ps/(nmkm)色散斜率(典型)0.025 ps/(nm2 km)衰减≤ 0.90 dB/km典型衰减0.8与标准单模光纤的熔接损耗≤ 0.50 dB与标准单模光纤的熔接损耗(典型值)0.3 dB偏振消光比(最小值) 18 dB非线性系数(典型)10.7 W-1∙ km-1产品测试报告型号及订购
    留言咨询
  • 中文名称 蓖麻油酸,别名 蓖麻酸; 12-羟基,顺-9-十八碳一烯酸,英文名称 Ricinoleic acid。中文名蓖麻油酸外文名Ricinoleic acid别 名蓖麻酸专业名称 12-羟基,顺-9-十八碳一烯酸 用途一:用于制备表面活性剂、增塑剂、润滑油添加剂,也用于制备癸二酸、庚酸等用途二:用于癸二酸和十一碳烯酸等的生产,也用于聚合物制造、纺织品整理和避孕胶冻的制备。蓖麻油酸应用领域蓖麻油酸安全说明书(MSDS)急救治疗:若误服,按烟碱解毒方法解毒,立即内服单宁0.5%溶液,饮浓茶、咖啡、活性炭(医用),及时送医院治疗 Acid value酸值:180.02Lodine value碘值:86.71Saponification value 皂化值:185.23Hydroxyl value羟基:159.12Unsaponifiable matter 不可皂化值:0.38Color gardener 颜色值:4GMoisture 含水量:0.34
    留言咨询
  • 盆栽植物二维数字表型采集分析系统介绍:盆栽植物数字表型采集分析系统是适用于盆栽植物的表型测量与解析设备。本系统在顶部和侧面分别设置可见光成像单元,结合旋转台装置,能够多个角度获取盆栽植物的表型信息。产品可对盆栽植株进行表型采集与解析,可对突变体进行筛选与鉴定,同时也可以对高温、高盐、病害、虫害等逆境条件下植物的形态、颜色与纹理变化进行研究。盆栽植物二维数字表型采集分析系统适用于遗传育种、分子生物学、植物生理学、植物病理学、生态学、环境科学、植物保护等研究领域。盆栽植物二维数字表型采集分析系统应用方向:内置人工智能算法,自动进行图像预处理与分割计算,计算植物株型结构、颜色分布、纹理特征等表型性状并分析植物生长状况、健康状态等。主要用于植物形态分析(筛选突变株、逆境处理下筛选抗逆种质)、叶片病斑识别(感病处理下筛选抗病种质)。1.多性状分析:通过图像预处理技术和特征提取技术,可分析植物的多种性状包括高度、宽度、紧凑度、对称性等形态结构参数,以及植物颜色与纹理特征等;2.差异可视化呈现:可适用于突变体形态、颜色差异的识别与差异量化;3.多类型逆境实验:高精度快速成像,即时记录植物细微变化,适用于植物对高温、冷害、盐碱、干旱、病虫害试验等各类型逆境试验,进行响应程度量化与抗性鉴定;4.多类型植物测量:数据解析采用人工智能算法,适用于禾本科、茄科、十字花科、豆科等多种类型植物表型测量。盆栽植物二维数字表型采集分析系统产品特点:1.可见光二维技术:主要基于二维图像解析技术对盆栽类植物实现智能化、自动化、无损化表型鉴定;2.高效采集与解析:采集时间最快可达50秒/株;解析时间可达10秒/株;3.多角度成像:顶部和侧面配备高清工业摄像头,搭配360度旋转台,支持对盆栽植物进行可见光顶部及侧面成像;4.样品数据联动管理:支持通过扫描样品二维码实现实验样品与表型分析相关联,便于样品数据管理;5.软件一体化设计:界面简洁友好,一键执行数据采集、解析全流程操作,最大程度提升分析速度、节约分析时间;6.全彩触控交互界面:用户能够直观、高效地控制设备,调节灯光亮度、转台位置等并能实时查看采集进程;7.可移动设计: 集成化箱体,支持室内任意位置摆放及移动。盆栽植物二维数字表型采集分析系统技术参数:成像参数:轮廓面积(顶视、侧视)、凸包面积(顶视、侧视)、冠层高度、冠幅、卷叶程度、叶顶点数、持绿程度、衰老程度、紧实度、偏心率等成像单元分辨率:5120×5120光源:均匀漫散射LED面光源整机功率:1KW(约500W)箱体尺寸:1400mm(长)×950mm(宽)×1840mm(高)
    留言咨询
  • 产品介绍-测量方法1.水样进入反应器中与酸反应,此时水样中的无机碳转换成二氧化碳;2.利用不含二氧化碳的空气(纯氧)作为载气,将无机碳转换成的二氧化碳排出,此时通过NDIR检测器进行检测可测得总无机碳(TIC);3.再将去除TIC(总无机碳)的水样进行氧化;4.氧化完成后,再通过载气将有机碳转换成的二氧化碳排出并通过NDIR检测器检测得到总有机碳(TOC)含量。-应用领域市政自来水和管网的TOC监测,工业源水TOC监测-仪器特点●采用UV过硫酸盐和羟基自由基相结合的氧化方法,氧化效率更高,在低浓度时也具有较高的准确度●采用4mm内径的进样管路,可通过内径达2mm的软颗粒,自带流通池,常规样品无需过滤处理●两点自动校准功能减少操作人员的额外维护量,序批式测量减少试剂的消耗。●分析过程不使用碱性试剂,有效的降低了操作人员制备药剂的难度且排除因二氧化碳溶入碱性试剂造成的测量干扰●低维护量,低维护费用●友好的人机界面:配备高清触摸屏,具有人性化的操作界面和仪表接口,可快速便捷进行数据下载和软件更新,多级管理模式方便用户对仪表进行管理技术指标测量参数TOC(NPOC)/TIC氧化方法UV过硫酸盐和羟基自由基相结合的氧化方法测量方法水样经氧化后,用NDIR检测器进行二氧化碳浓度检测测量范围0-10mg/L最低检出限0.05mg/L重复性读数的±2%或±0.05mg/L(取其大者)准确度读数的±3%或±0.05mg/L(取其大者)零点漂移
    留言咨询
  • ST204C全自动药物两用运动粘度仪严格按照2020年《中国药典》通则0633第一法平氏毛细管粘度测定法和第二法乌氏毛细管粘度计测定法设计制造, 本法是采用相对法测量一定体积的液体在重力的作用下流经毛细管所需时间,以求得流体的运动黏度。ST204C全自动药物运动粘度仪自动模式具有自动恒温,自动抽提,自动计时,自动计算,自动打印,自动清洗,自动烘干等一系列全自动功能,使用时只需一次注样点击启动即可完成试验。全自动药物两用运动粘度计ST204C技术性能参数:●符合标准:2020年《中国药典》通则0633 ● 温度测量范围:5-100℃(带制冷);● 控温精度:0.1℃● 显示方式:采用人体感应式触摸屏●操作流程:放入样品恒温、检测、计算、粘度管清洗、烘干、打印报告单全过程自动化●粘度管夹具:采用全304不锈钢材质,耐高低温石墨滑动轴承装置●配有LED柔光灯,补光均匀,便于观察。●测量范围:乌氏黏度测量范围:0.6-1000mm2/s 品氏黏度测量范围:0.6-17000mm2/s ●计时范围:0.0s~999.9s;●计时精度:60min不大于±0.01%;●数据内存:微电脑仪器内存可扩大至16G●检测方式:光电传感器检测●结果输出:同时可配备U盘输出功能,输出到PC端进行长期保存●远程升级:具备TCP网络传输功能,可后期进行软件远程升级●账户管理:根据密码设置 账户分层管理,可设置总账户和子账户●账户延伸:审计追踪功能●数据储存:U盘数据导出功能●数据共享:可入集团公司LIMS系统(选配)●打印机:配备微型打印机●整机功耗:不大于2000W。 ●工作电源:AC220V±10%;50Hz●仪器尺寸:850*380*550mm l 重量 38kg 山东盛泰仪器有限公司对出售给贵方的仪器提供如下质量保证:----提供的仪器材料是全新的、符合国家质量标准和具有生产厂家合格证的货物;----提供的材料、主要元器件符合技术资料中规定的技术要求;----设备整机质量保证期为一年(不含易损件正常磨损)。----在质量保证期内出现的仪器质量问题,我方负责免费维修。由于使用方责任造成设备故障,我方负责维修,合理收费。 ----设备终生优惠供应零部件,整机终生维护维修。 ----保质期满后,使用方需要维修及技术服务时,我方仅收成本费。 装箱清单序号名 称规 格数 量备 注1全自动粘度测定仪主机1台2乌氏专用粘度管4支 符合药典3品氏专用粘度管4支 符合药典4专用粘度计支架1套5清洗液导管2根6电动吸引器1台7电源线1根8合格证保修卡1份9说明书1份10打印纸2卷
    留言咨询
  • 旗云中天ZTB-7车载/船舶气象仪观测要素:风速、风向、气温、湿度、降水、气压、方位、位置跟踪,5G(兼容4G)通讯+北斗短报文通讯+北斗高精度定位产品简介 ZTB-7型车载/船舶气象仪集天气传感、数据采集、通信于一体。测量要素包括:风速、风向、气温、湿度、气压、降雨和能见度(可选),支持5G(兼容4G)通讯+北斗短报文通讯+北斗高精度定位(BDS、GPS、CLONASS全频段),用于船舶、航空、车辆高精定位和航线气象数据采集,实现在通信盲区的定位和应急通信。 设备采用一体式结构,体积小巧,安装便捷,主机和天线分体设计,同时采用机械方式固定多种安装方式。产品特点 性能稳定:可长期在线工作; 支持5G(兼容4G)通讯+北斗短报文通讯+北斗高精度定位; 支持:BDS B1I/B21,GPS L1C/A/L2C,GLONASS G1OF/G2OF; 支持追踪模式功能,可设置自动频度的位置上报; 支持外部供电9-36V; 采用工业级IP67标准; 安装简单,操作便捷,易维护。产品主要技术参数风速和风向测量测量类别风速风向测量范围0~40m/s0~360︒ 测量精度0.3m/s(0~10m/s)3︒ 分辨率0.1m/s0.1︒ 温度和湿度测量测量类别温度湿度测量范围-40℃~80℃0~100%测精精度0.3℃3%RH(0~ 90%RH)分辨率0.1℃0.1%RH 降水和气压测量测量类别降雨大气压力测量范围0~200mm/h300~1100hPa测量精度5%0.3hPa分辨率0.01mm0.1hPa电子罗盘测量范围0~359.9︒ 测量精度1︒ 分辨率0.1︒ 通信与定位有线传输RS485 RTU无线传输支持5G(兼容4G)通讯+北斗短报文通讯定位方式GPS+北斗高精度定位定位精度单点定位水平1m,RTK精度:2cm+1ppm(开阔天空)速度精确度0.05m/s时间精确度1PPS:30ns热启动≤1s(开阔天空)温启动≤3s (AGNSS辅助定位)冷启动≤35s(开阔天空)重捕获≤1s北斗报文信息容量单次报文长度不少于240个字节5G指标与性能支持5G NR NSA/SA,LTE-FDD/TDD,WCDMA,MIMOSIM卡槽Nano 小卡座/北斗大卡供电及运行环境供电及功耗DC9~30V,7W(发射数据瞬间~30W)防护等级及操作环境IP67,-25℃~+55℃,0~100%RH
    留言咨询
  • 旗云中天ZTB-7车载/船舶气象仪观测要素:风速、风向、气温、湿度、降水、气压、方位、位置跟踪,5G(兼容4G)、通讯+北斗短报文通讯+北斗高精度定位)产品简介 ZTB-7型车载/船舶气象仪集天气传感、数据采集、通信于一体。测量要素包括:风速、风向、气温、湿度、气压、降雨和能见度(可选),支持5G(兼容4G)通讯+北斗短报文通讯+北斗高精度定位(BDS、GPS、GLONASS全频段),用于船舶、航空、车辆高精定位和航线气象数据采集,实现在通信盲区的定位和应急通信。 设备采用一体式结构,体积小巧,安装便捷,主机和天线分体设计,同时采用机械方式固定多种安装方式。产品特点 性能稳定:可长期在线工作; 支持5G(兼容4G)通讯+北斗短报文通讯+北斗高精度定位; 支持:BDS B1I/B21,GPS L1C/A/L2C,GLONASS G1OF/G2OF; 支持追踪模式功能,可设置自动频度的位置上报; 支持外部供电9-36V; 采用工业级IP67标准; 安装简单,操作便捷,易维护。产品主要技术参数风速和风向测量测量类别风速风向测量范围0~40m/s0~360︒ 测量精度0.3m/s(0~10m/s)3︒ 分辨率0.1m/s0.1︒ 温度和湿度测量测量类别温度湿度测量范围-40℃~80℃0~100%测精精度0.3℃3%RH(0~ 90%RH)分辨率0.1℃0.1%RH 降水和气压测量测量类别降雨大气压力测量范围0~200mm/h300~1100hPa测量精度5%0.3hPa分辨率0.01mm0.1hPa电子罗盘测量范围0~359.9︒ 测量精度1︒ 分辨率0.1︒ 通信与定位有线传输RS485 RTU无线传输支持5G(兼容4G)通讯+北斗短报文通讯定位方式GPS+北斗高精度定位定位精度单点定位水平1m,RTK精度:2cm+1ppm(开阔天空)速度精确度0.05m/s时间精确度1PPS:30ns热启动≤1s(开阔天空)温启动≤3s (AGNSS辅助定位)冷启动≤35s(开阔天空)重捕获≤1s北斗报文信息容量单次报文长度不少于240个字节5G指标与性能支持5G NR NSA/SA,LTE-FDD/TDD,WCDMA,MIMOSIM卡槽Nano 小卡座/北斗大卡供电及运行环境供电及功耗DC9~30V,7W(发射数据瞬间~30W)防护等级及操作环境IP67,-25℃~+55℃,0~100%RH
    留言咨询
  • 环保废气除臭UV光解催化氧化设备厂家是采用高强UV光束对废气进行微波辐射,裂解废气分子团分子键,再通过臭氧协同氧化反应,彻底达到净化除臭目的,UV光氧催化氧化设备对中浓度臭气因子治理尤其有效。 我公司采用能量极强的C段短波紫外线,紫外线剂量超过65mw/cm2 ,其中185nm、176nm、173nm、154nm波长的紫外线在光谱中达到14%,电子能量达到13eV。UV光氧催化设备根据材质分为碳钢和不锈钢两种。 处理风量:5000-10000CMH适用成分:挥发性有机物(VOCs)、硫化氢、氨氮类、硫醇类、硫醚类、苯类、酮类、硝基类、烃类、醛类等应用领域:印刷、油漆喷涂、造纸、医药、餐厨食品、橡胶、塑料、汽车生产、污水处理、垃圾处理、饲料及饲养、烟草等多个领域的恶臭及异味处理环保废气除臭UV光解催化氧化设备厂家工作原理①恶臭废气进入UV光解催化氧化设备时,均风过滤板在均匀分配气流的同时,对废气进行粗效过滤;②接着气流经过高能UV灯管及TiO?光触媒催化区域,在催化剂TiO?的作用下高能UV光束裂解废气分子团,分解空气中的水分子H?O和氧分子O?,产生游离氧(活性氧)和羟基自由基-OH,因游离氧和所携正负电子不平衡与氧分子结合产生臭氧,(UV光束+O2→O-+O*(活性氧)、O+O2→O?(臭氧),O3极强的氧化作用,对工业废气进行氧化分解;③高能UV光束会裂解废气分子团以及微生物细胞分子键,破坏核酸(DNA)等生物大分子, 使其变性失活,再通过臭氧进行协同氧化反应,将有毒有害恶臭气体破坏且降解成为低分子化合物或者完全氧化,生成H?O和CO?等,从而达到杀菌、除臭、消除污染、净化空气的目的。
    留言咨询
  • 在半导体生产工艺中,光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节,涂胶质量直接影响到光刻的质量,涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的,而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的,这造成光刻胶和硅片的黏合性较差,尤其是正胶,显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处,容易造成漂条、浮胶等,导致光刻图形转移的失败,同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。产品型号:HMDS-6210 产品名称:真空烘箱(带基片预处理系统)电源电压:AC 380V± 10%/50Hz± 2%输入功率:4000W控温范围:室温+10℃-250℃温度分辨率:0.1℃温度波动度:± 0.5℃达到真空度:133Pa容积:210L工作室尺寸(mm):560*640*600外形尺寸(mm):720*820*1750载物托架:3块时间单位:分钟真空泵:国内好品牌,上海慕鸿型号:DM-4,旋片式油泵。产品特点:1、机外壳采用医用级不锈钢316L材质制造,内胆为不锈钢316L材料制成;加热器均匀分布在内胆外壁四周,内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。2、箱门闭合松紧能调节,整体成型的硅橡胶门封圈,确保箱内高真空度。3、微电脑智能控温仪,具有设定,测定温度双数字显示和PID自整定功能,控温精确,可靠。4、智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序,温度,真空度及每一程序时间。5、HMDS气体密闭式自动吸取添加设计,真空箱密封性能佳,确保HMDS气体无外漏顾虑。6、整个系统采用优质材料制造,无发尘材料,适用100 级光刻间净化环境。 HMDS预处理系统的必要性:在半导体生产工艺中,光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节,涂胶质量直接影响到光刻的质量,涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的,而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的,这造成光刻胶和硅片的黏合性较差,尤其是正胶,显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处,容易造成漂条、浮胶等,导致光刻图形转移的失败,同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后,经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水,其疏水基可很好地与光刻胶结合,起着偶联剂的作用。HMDS-6000系列预处理系统的原理: HMDS-6000 预处理系统通过对烘箱HMDS预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS,降低了HMDS处理后的硅片接触角,降低了光刻胶的用量,提高光刻胶与硅片的黏附性。HMDS-6000系列预处理系统的一般工作流程:首先确定烘箱工作温度。典型的预处理程序为:打开真空泵抽真空,待腔内真牢度达到某一高真空度后,开始充人氮气,充到达到某低真空度后,冉次进行抽真空、充入氮气的过程,到达设定的充入氮气次数后,开始保持一段时间,使硅片充分受热,减少硅片表面的水分。然后再次开始抽真空,充入HMDS气体,在到达设定时间后,停止充入HMDS药液,进入保持阶段,使硅片充分与HMDS反应。当达到设定的保持时间后,再次开始抽真空。充入氮气,完成整个作业过程。HMDS与硅片反应机理如图:首先加热到100℃-200℃,去除硅片表面的水分,然后HMDS与表面的OH一反应,在硅片表而生成硅醚,消除氢键作,从而使极性表面变成非极性表面。整个反应持续到空间位阻(三甲基硅烷基较大)阻止其进一步反应。尾气排放:多余的HMDS蒸汽(尾气)将由真空泵抽出,排放到专用废气收集管道。在无专用废气收集管道时需做专门处理。
    留言咨询
  • 在半导体生产工艺中,光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节,涂胶质量直接影响到光刻的质量,涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的,而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的,这造成光刻胶和硅片的黏合性较差,尤其是正胶,显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处,容易造成漂条、浮胶等,导致光刻图形转移的失败,同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。产品技术参数:电源电压:AC 380V± 10%/50Hz± 2%输入功率:3000W控温范围:室温+10℃-250℃温度分辨率:0.1℃温度波动度:0.5℃达到真空度:133Pa容积:90L工作室尺寸(mm):450*450*450外形尺寸(mm):615*590*1470载物托架:2块时间单位:分钟真空泵:国内品牌上海慕鸿型号:DM-4,旋片式油泵。 产品特点:1、机外壳采用医用级不锈钢316L材质制造,内胆为不锈钢316L材料制成;加热器均匀分布在内胆外壁四周,内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。2、箱门闭合松紧能调节,整体成型的硅橡胶门封圈,确保箱内高真空度。3、微电脑智能控温仪,具有设定,测定温度双数字显示和PID自整定功能,控温精确,可靠。4、智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序,温度,真空度及每一程序时间。5、HMDS气体密闭式自动吸取添加设计,真空箱密封性能佳,确保HMDS气体无外漏顾虑。6、整个系统采用优质材料制造,无发尘材料,适用100 级光刻间净化环境。 HMDS预处理系统的必要性:在半导体生产工艺中,光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节,涂胶质量直接影响到光刻的质量,涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的,而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的,这造成光刻胶和硅片的黏合性较差,尤其是正胶,显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处,容易造成漂条、浮胶等,导致光刻图形转移的失败,同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后,经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水,其疏水基可很好地与光刻胶结合,起着偶联剂的作用。HMDS-6000系列预处理系统的原理: HMDS-6000 预处理系统通过对烘箱HMDS预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS,降低了HMDS处理后的硅片接触角,降低了光刻胶的用量,提高光刻胶与硅片的黏附性。HMDS-6000系列预处理系统的一般工作流程:首先确定烘箱工作温度。典型的预处理程序为:打开真空泵抽真空,待腔内真牢度达到某一高真空度后,开始充人氮气,充到达到某低真空度后,冉次进行抽真空、充入氮气的过程,到达设定的充入氮气次数后,开始保持一段时间,使硅片充分受热,减少硅片表面的水分。然后再次开始抽真空,充入HMDS气体,在到达设定时间后,停止充入HMDS药液,进入保持阶段,使硅片充分与HMDS反应。当达到设定的保持时间后,再次开始抽真空。充入氮气,完成整个作业过程。HMDS与硅片反应机理如图:首先加热到100℃-200℃,去除硅片表面的水分,然后HMDS与表面的OH一反应,在硅片表而生成硅醚,消除氢键作,从而使极性表面变成非极性表面。整个反应持续到空间位阻(三甲基硅烷基较大)阻止其进一步反应。尾气排放:多余的HMDS蒸汽(尾气)将由真空泵抽出,排放到专用废气收集管道。在无专用废气收集管道时需做专门处理。
    留言咨询
  • 在半导体生产工艺中,光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节,涂胶质量直接影响到光刻的质量,涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的,而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的,这造成光刻胶和硅片的黏合性较差,尤其是正胶,显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处,容易造成漂条、浮胶等,导致光刻图形转移的失败,同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。产品技术参数:电源电压:AC 380V± 10%/50Hz± 2%输入功率:4000W控温范围:室温+10℃-250℃温度分辨率:0.1℃温度波动度:± 0.5℃达到真空度:133Pa容积:210L工作室尺寸(mm):560*640*600外形尺寸(mm):720*820*1750载物托架:3块时间单位:分钟真空泵:国内品牌,上海慕鸿型号:DM-4,旋片式油泵。 产品特点:1、机外壳采用医用级不锈钢316L材质制造,内胆为不锈钢316L材料制成;加热器均匀分布在内胆外壁四周,内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。2、箱门闭合松紧能调节,整体成型的硅橡胶门封圈,确保箱内高真空度。3、微电脑智能控温仪,具有设定,测定温度双数字显示和PID自整定功能,控温精确,可靠。4、智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序,温度,真空度及每一程序时间。5、HMDS气体密闭式自动吸取添加设计,真空箱密封性能佳,确保HMDS气体无外漏顾虑。6、整个系统采用优质材料制造,无发尘材料,适用100 级光刻间净化环境。 HMDS预处理系统的必要性:在半导体生产工艺中,光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节,涂胶质量直接影响到光刻的质量,涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的,而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的,这造成光刻胶和硅片的黏合性较差,尤其是正胶,显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处,容易造成漂条、浮胶等,导致光刻图形转移的失败,同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后,经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水,其疏水基可很好地与光刻胶结合,起着偶联剂的作用。HMDS-6000系列预处理系统的原理: HMDS-6000 预处理系统通过对烘箱HMDS预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS,降低了HMDS处理后的硅片接触角,降低了光刻胶的用量,提高光刻胶与硅片的黏附性。HMDS-6000系列预处理系统的一般工作流程:首先确定烘箱工作温度。典型的预处理程序为:打开真空泵抽真空,待腔内真牢度达到某一高真空度后,开始充人氮气,充到达到某低真空度后,冉次进行抽真空、充入氮气的过程,到达设定的充入氮气次数后,开始保持一段时间,使硅片充分受热,减少硅片表面的水分。然后再次开始抽真空,充入HMDS气体,在到达设定时间后,停止充入HMDS药液,进入保持阶段,使硅片充分与HMDS反应。当达到设定的保持时间后,再次开始抽真空。充入氮气,完成整个作业过程。HMDS与硅片反应机理如图:首先加热到100℃-200℃,去除硅片表面的水分,然后HMDS与表面的OH一反应,在硅片表而生成硅醚,消除氢键作,从而使极性表面变成非极性表面。整个反应持续到空间位阻(三甲基硅烷基较大)阻止其进一步反应。尾气排放:多余的HMDS蒸汽(尾气)将由真空泵抽出,排放到专用废气收集管道。在无专用废气收集管道时需做专门处理。
    留言咨询
  • 在半导体生产工艺中,光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节,涂胶质量直接影响到光刻的质量,涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的,而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的,这造成光刻胶和硅片的黏合性较差,尤其是正胶,显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处,容易造成漂条、浮胶等,导致光刻图形转移的失败,同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。产品技术参数:电源电压:AC 380V± 10%/50Hz± 2%输入功率:3000W控温范围:室温+10℃-250℃温度分辨率:0.1℃温度波动度:± 0.5℃达到真空度:133Pa容积:90L工作室尺寸(mm):450*450*450外形尺寸(mm):615*590*1470载物托架:2块时间单位:分钟真空泵:国内品牌上海慕鸿型号:DM-4,旋片式油泵。 产品特点:1、机外壳采用医用级不锈钢316L材质制造,内胆为不锈钢316L材料制成;加热器均匀分布在内胆外壁四周,内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。2、箱门闭合松紧能调节,整体成型的硅橡胶门封圈,确保箱内高真空度。3、微电脑智能控温仪,具有设定,测定温度双数字显示和PID自整定功能,控温精确,可靠。4、智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序,温度,真空度及每一程序时间。5、HMDS气体密闭式自动吸取添加设计,真空箱密封性能佳,确保HMDS气体无外漏顾虑。6、整个系统采用优质材料制造,无发尘材料,适用100 级光刻间净化环境。 HMDS预处理系统的必要性:在半导体生产工艺中,光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节,涂胶质量直接影响到光刻的质量,涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的,而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的,这造成光刻胶和硅片的黏合性较差,尤其是正胶,显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处,容易造成漂条、浮胶等,导致光刻图形转移的失败,同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后,经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水,其疏水基可很好地与光刻胶结合,起着偶联剂的作用。HMDS-6000系列预处理系统的原理: HMDS-6000 预处理系统通过对烘箱HMDS预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS,降低了HMDS处理后的硅片接触角,降低了光刻胶的用量,提高光刻胶与硅片的黏附性。HMDS-6000系列预处理系统的一般工作流程:首先确定烘箱工作温度。典型的预处理程序为:打开真空泵抽真空,待腔内真牢度达到某一高真空度后,开始充人氮气,充到达到某低真空度后,冉次进行抽真空、充入氮气的过程,到达设定的充入氮气次数后,开始保持一段时间,使硅片充分受热,减少硅片表面的水分。然后再次开始抽真空,充入HMDS气体,在到达设定时间后,停止充入HMDS药液,进入保持阶段,使硅片充分与HMDS反应。当达到设定的保持时间后,再次开始抽真空。充入氮气,完成整个作业过程。HMDS与硅片反应机理如图:首先加热到100℃-200℃,去除硅片表面的水分,然后HMDS与表面的OH一反应,在硅片表而生成硅醚,消除氢键作,从而使极性表面变成非极性表面。整个反应持续到空间位阻(三甲基硅烷基较大)阻止其进一步反应。尾气排放:多余的HMDS蒸汽(尾气)将由真空泵抽出,排放到专用废气收集管道。在无专用废气收集管道时需做专门处理。
    留言咨询
Instrument.com.cn Copyright©1999- 2023 ,All Rights Reserved版权所有,未经书面授权,页面内容不得以任何形式进行复制