非布司他

仪器简介： 基于离子源和碰撞室先进的设计，其专利G2离子光学系统可以输送更多的离子进入检测器。新型的HESI-II离子探针设计更强的去溶剂特性增强了高流速性能（1mL/min）；并且，赛默飞TSQ Vantage专利的HyperQua四级滤质器降低了化学噪音（H-SRM选项）. 当今许多LC-MS/MS串联液质联用系统称其具有高灵敏度，但由于其高的化学噪音水平，都只能承诺灵敏度，而牺牲了精密度、专属性和重现性。TSQ Vantage&trade 与上一代TSQ Quantum&trade 系列仪器相比，信噪比提高了10倍, 并远远超过了该领域其它的三重四极杆仪器。该仪器的卓越性能，来源于它在离子化效率和离子传输方面的主要的技术创新。 赛默飞世尔科技的TSQ Vantage&trade ，具有新型的S型离子光学透镜，这种透镜系统使用新型的静电场技术，去捕获几乎每一个离子，并有效地将其传输进入双曲面四极杆质量分析器。相比高压的、以Skimmer为基础的离子源设计，S型透镜设计具有显著的先进性，它可消除质量歧视，并降低昂贵的分子涡轮泵的气体负荷。这项创新设计，可保持更干净、更长的离子光学传输路径，同时保持了灵敏度。 另一项重要的创新是新型碰撞池的设计，它提高了10倍的SRM（选择反应监测）扫描速度，但没有增加Cross-Talk（记忆效应）。因此，TSQ Vantage&trade 可以在一次实验中，筛选分析多达3,000种化合物，远远超过了其它的串联液质联用系统。 这套新系统使小分子、生物分子及多肽领域的科学家能够检测超痕量的化合物，并具有极佳的精密度和重现性；对于数据完整性直至全部的药物研究，具有最小的风险。"赛默飞世尔科技的TSQ Vantage&trade ，为公司的工作提供了巨大的竞争优势，快速、可靠地通过法规评审，成功地转向下一代化合物，如生物仿真物。&rdquo 技术参数：灵感创新 第二代（G2）离子光学系统输送更多的离子至检测器, 高速度零串扰的G2碰撞室.双曲面四级杆降低化学噪音 加热电喷雾（HESI-II）适应更高流速S-透镜设计消除了质量歧视操作简便主要特点： 赛默飞世尔科技最新的TSQ Vantage&trade LC-MS/MS三重四极杆液质联用仪，比市场上其它同类产品要高出10倍的灵敏度，但不会随之增加噪音。新技术的突破使TSQ Vantage具有无与伦比的信噪比，同时，对于小分子、生物分子和多肽的定量，具有更好的重现性和精密度。 获得更高信号的直接好处是更高的实验精密度和准确度。利用稳定的新型离子源、第二代离子光学系统和双曲面四级杆、Thermo Scientific TSQ Vantage提供了最高的灵敏度和最低的化学噪音。 高速度零串扰的G2碰撞室 传统TSQ碰撞室的长直立设计可有效地实现零串扰。串扰通常在快速扫描时发生，如果产物离子具有相同的质量，则从上一个SRM离子对产生的残留信号会出现在下一个SRM信道中，从而导致假阳性响应。而G2碰撞室的设计在下一个前体离子进入之前，加速除去碰撞室中的产物离子，从而使得TSQ Vantage在完成最高速扫描的同时，保证零串扰。 离子源耐受性的新维度 S-透镜捕捉住富含离子的扩展气羽流，并高效集中离子流，将其送入高真空区域。外来的溶剂气体则在进入第一个射频场的多极杆之前就被从组环之间抽走，从而保证了系统比不采用该技术的系统更加清洁。 S-透镜设计消除了质量歧视，减少气体进入昂贵的涡轮分子泵的高真空区域，这一点比高压锥离子源是一个显著的进步。这一革新使离子光学系统通路更清洁，更长，同时保持了灵敏度。 耐受重现性 TSQ Vantage可以支持GLP要求的验证方法，经受住严格考验。不论您分析小分子或者生物分子，TSQ Vantage都可以为您在超低含量水平下提供一致、特异和重现性良好的结果。 将5日内的五个标准曲线叠加，用以验证高灵敏度生物分析实验的耐受性和重现性。尽管重复暴露在大鼠血浆蛋白沉淀样品中（超过1000个样品），帕罗西汀的分析实验仍然成功的完成，并具有稳定的精密度，优良的线性以及杰出的重现性。 在一个安全的数字化数据领域内工作的好处 完全着眼于世界未来发展最先进的由LCQUAN和Watson LIMS组成的 LC-MS/MS定量系统，Thermo Fisher致力于向您提供您在GLP研究中所需要的质量、安全和高效方面的所有需要。

仪器简介：PALS技术是由布鲁克海文仪器公司开发的一项全新Zeta电位测量技术。与传统基于频移技术的光散射方法相比， 灵敏度可提高约1000倍。许多从事新材料、 生命科学、 环境工程等新兴学科的研究人员长期以来苦于无法对诸如在低介电常数、 高粘度、 高盐度以及等电点附近这些测量条件下的样品进行分析， 这就是因为其电泳迁移率比通常水相条件下低10-1000倍，传统方法没有足够的分辨率进行测量。 ZetaPALS的出现为他们提供了准确可信的测量技术。 技术参数：1.电泳测量适用粒度范围：0.001-100μm 2.样品体积：0.018～1.5ml 3.pH值测量范围：1-14 4.电导率范围：0-30S/m 5.电泳迁移率范围：10-11～10-7m2/V.s 6.温度控制：-5 ～110℃,±0.1℃ 7.电场强度：0～3.2 kV/m 8)电极：耐腐蚀性开放式电极(毛细管电极可选)，电极材料纯钯；9.激光源：40mW固体激光器(激光器波长和功率可定制)；10.检测器：PMT或APD；11.自动趋势分析：对时间、温度及其他参数； 选件：1.粒度升级：具有粒度纳米粒度测量功能；4.自动滴定仪：可对PH值、电导率和添加剂浓度作图；5.介电常数仪：直接测最溶剂的介电常数值；6.粘度计：用于测量溶剂及溶液的粘度；7.21CFR软件 符合FDA要求的21CFR part II操作模式软件和仪器材料； 主要特点：ZetaPALS是目前能够精确测量低电泳迁移率体系的Zeta电位分析仪器，它采用的是真正的硬件PALS (Phase Analysis Light Scattering, 相位分析光散射）技术， 比其它测量Zeta电位的技术 灵敏度高约1000倍！ 典型应用：1.蛋白、缩氨酸、胶束、多糖、药物制备、脂质体、外切酶体；2.聚合物胶乳、微乳液、油包水、水包油体系；3.涂料、颜料、油漆、食品、化妆品配方；4.陶瓷、耐火材料、炭黑、废水处理。

仪器简介： ZetaPlus采用的是电泳光散射原理：带电颗粒在外加电场作用下进行运动，电荷运动使散射光产生频率漂移(多普勒频移),采用频谱漂移分析技术,从而可计算出颗粒的电泳迁移率和Zeta电位。 技术参数： 1.电泳测量适用粒度范围：0.001-100μm 2.样品体积：0.18～1.5ml 3.pH值测量范围：1-14 4.电导率范围：0-20S/m 5.电泳迁移率范围：10-10～10-7m2/V.s 6.温度控制：-5 ～110℃,±0.1℃ 7.电场强度：0～3.2 kV/m 8)电极：耐腐蚀性开放式电极，电极材料纯钯； 9.激光源：35mW固体激光器（可选5mW He-Ne激光器）； 10.检测器：PMT或APD； 11.自动趋势分析：对时间、温度及其他参数； 选件： 1.粒度升级：具有粒度纳米粒度测量功能；4.自动滴定仪：可对PH值、电导率和添加剂浓度作图；5.介电常数仪：直接测最溶剂的介电常数值；6.粘度计：用于测量溶剂及溶液的粘度； 7.21CFR软件 符合FDA要求的21CFR part II操作模式软件和仪器材料； 主要特点：ZetaPlus是简单、方便而且准确的电泳迁移率测量仪器，其独特的开放式样品池设计与频谱漂移分析技术相结合，使其具有极高的分辨率，足以分辨等电点附近的多峰电泳分布情况。它的革新之处是从根本上消除了传统Zeta电位测量仪器中固有的电渗误差的影响，从而使测量变得准确而方便。 典型应用：1.蛋白、缩氨酸、胶束、多糖、药物制备、脂质体、外切酶体；2.聚合物胶乳、微乳液、油包水、水包油体系；3.涂料、颜料、油漆、食品、化妆品配方；4.陶瓷、耐火材料、炭黑、废水处理。

Lufft StaRWIS-UMB非接触式路面传感器测量路面状况、路面温度、水膜高度、露点温度、雪厚、含冰比例和摩擦系数等参数。传感器采用寿命更长的LED光源，无活动部件。设备无破路安装，并且提供蓝牙接口，方便现场配置和维护。测量原理光谱分析测量路面状况，高温计测量路面温度。技术特点LED光源，寿命更长水膜厚度测量可达6mm输出光滑和粗糙路面两种水膜厚度非接触式测量，安装维护方便用于校准、数据查看和数据传输的APP支持蓝牙、RS-485或CAN-BUS多种接口并行传输应用范围交通气象站桥梁结冰监测轨道交通安全智慧城市

背景介绍—瞬态吸收光谱和瞬态吸收成像的应用基于泵浦探测（Pump-Probe）原理的瞬态吸收光谱，在频率维度和时间维度上提供了丰富的光谱和动力学信息，过去的几十年应用于物理、化学、材料、能源、生物等广泛领域。当今，许多领域科学研究的范式和需求都在不断更新。尤其是随着钙钛矿光伏、二维材料、量子器件、高温超导等前沿领域的发展，科学家迫亟需在空间维度上揭示载流子等微观离子的迁移和演化规律，研究微纳米材料的物理态在空间分布上的异质性。瞬态吸收成像，可在空间和时间维度上研究微观粒子和能量的运动和演化，是研究微观粒子和能量的时空演化、阐释微观机制的重要工具。瞬态吸收成像，一般有两种实现方式，点扫描成像和宽场成像。相对点扫描成像，宽场成像模式具有速度快、通量高，成像质量更加细腻的特点。Omni-TAM900为北京卓立汉光仪器有限公司全新推出的一款宽场飞秒瞬态吸收成像系统。该系统集成像和动力学于一体，联合飞秒泵浦-探测技术和显微技术，通过自主知识产权的干涉放大技术增强图像信噪比，可获得高质量的成像效果并大幅度缩短测试时间。仪器基本功能和性能：仪器具有点泵浦-宽场探测，和宽场泵浦-宽场探测两种工作模式。分点泵浦模式可用于测量载流子迁移和热导率等；宽场泵浦模式可用于测量载流子分布和物理态的空间异质性等。仪器特点和创新高灵敏、高通量，可测量到单个纳米颗粒、单层石墨烯乃至单层分子晶体的瞬态吸收信号。仪器原理和实现方式Omni-TAM900宽场飞秒瞬态吸收成像系统原理如下图所示，经过飞秒激光器和光学参量放大器（OPA）之后出来的飞秒激光，通过显微镜的光学系统进入，并作为泵浦光源激发样品，而另一束经过空间调制的探测光在一定的时间延迟之后也经过显微系统到达样品，样品在激发态对探测光产生的吸收情况会被显微镜上的sCMOS 相机记录下来。通过调节光学延迟线（Optical Delay Line），得到样品在不同延迟时间下的sCMOS图像。Omni-TAM900 可以有两种成像模式（如下图所示）： 聚焦泵浦光模式（点泵浦，宽场探测）和宽场泵浦光模式（宽场泵浦、宽场探测），前者主要用于研究载流子的迁移，后者用于检测载流子的空间分布状况。软件软件可进行同步采集，自动控制和处理，载流子的寿命、载流子的迁移速率、载流子的分布、动力学等信息均可以通过软件得到。应用方向及实测数据 Omni-TAM900宽场飞秒瞬态吸收成像系统是测量载流子时空演化的强大工具，可广泛应用于物理、材料及器件的前沿研究，比如：太阳能电池、低维材料、量子器件、超导材料、新型半导体、纳米催化、生物传感等，对纳米尺度和飞秒时空尺度中的超快的物理、化学及生物过程进行监测。 金属镀膜中的载流子迁移和热扩散10 nm厚金属薄膜上的超快热载流子和热扩散，采用仪器的点激发，宽场探测模式。半导体中的载流子迁移和热扩散同时监测Si基半导体中的载流子迁移和热扩散（可测量半导体材料的热导率），采用仪器的点激发，宽场探测模式。光伏材料中的载流子迁移和演化钙钛矿CsPbBr3载流子成像，迁移动力学及边缘态动力学研究。采用仪器的宽场激发，宽场探测模式催化材料中的热载流子分布和“热点”局部热电子密度高、寿命长，可能具有更高的催化活性。采用仪器的宽场激发，宽场探测模式。新型二维材料中的边缘物理态研究二维WS2中激子分布情况，激子寿命研究。可以看到，多层的边缘具有更高激子密度和更长激子寿命技术参数 光源飞秒激光 +OPA，激光波长范围取决于应用场景检测器sCMOS成像空间分辨率500 nm载流子迁移定位精度30nm时间分辨率500 fs (100 fs 激光脉冲条件下）时间延迟线0-4 ns/0-8 ns显微镜模块倒置显微镜，上方为开放空间，后期可兼容低温模块、探针台、电学调控、磁场等特殊实验场景。测量模式点泵浦 + 宽场探测（载流子迁移）宽场泵浦 + 宽场探测（载流子分布）仪器工作模式反射 / 散射已发表文献：J. Am. Chem. Soc. 2022, 144, 13928专利：202110510123.X（以上展示的所有实测数据均为本型号仪器测得，并已公开发表，更多细节请查阅以上文献）。更多参考文献：（为了方便用户参考研究前沿，如下列出一些国际上利用瞬态吸收成像方法的研究案例。这些数据并非用该型号仪器获得，但是卓立Omni-TAM900仪器可实现这些应用场景中的绝大多数功能。如有特殊需求，欢迎与卓立汉光联系。）Science 2017, 356, 59 (钙钛矿超长热载流子)Nat. Mater. 2020, 19, 617 （转角二维量子异质结）Science 2021, 371, 371 （超导材料电荷密度波）Science 2022, 377, 437 （立方砷化硼超高载流子）Nat. Mater. 2020 , 9, 56 (材料中的携能载流子)

产品描述 塔望肺部雾化给药器DP-M肺部雾化给药器是专为小动物肺部给药设计的一款药物雾化器，肺部雾化给药器由耐高压注射器和喷雾针组成。使用时，将喷雾针经口插入气管，手推注射器即可完成肺部给药操作。肺部雾化给药器可以较好的实现气管内定量给药，且药物没有浪费。 产品特点 塔望肺部雾化给药器DP-M适用动物：小鼠、大鼠喷射头顶端圆滑的设计，保证安全、温和的插入气管内肺部雾化给药器通体由不锈钢组成，可高温高压灭菌定量给药：将定量的药物喷入动物肺部可直接插入气管或支气管进行工作药物浪费损失较少 比传统滴注法给药提供更均匀的药物分布*可提供气管插管培训 使用示意图 肺部给药效果 气管插管平台 型号说明 塔望肺部雾化给药器DP-M产品名称型号说明单位肺部雾化给药器DP-M用于肺部定量给药个 *我公司可提供3Q验证，根据客户的特殊应用、特殊需求提供功能定制服务，也可以提供相关的实验服务，详情请来电咨询。

本公司在该网站所展示的仪器均为实物拍摄，所有出售的仪器品牌全、种类多、成色新、价格低，总有一款适合您，例如二手AB LCMSMS、二手热电LCMSMS等，专业的工程师团队为您的仪器保驾护航，欢迎来咨询。1. 性能指标质谱部分性能指标m/z范围：10～1500 amu（TSQ Vantage和TSQ Vantage AM）；10 ～ 3000 amu（TSQ Vantage EMR）zei高分辨率：≥10M 消除分子量相差0.7 amu的假阳性检出 提高复杂背景下痕量药物检测的实测灵敏度 消除样本间的内源性差别，增加方法的可靠性和可移植性 可清晰分辨生物大分子的多电荷峰（10电荷），可测定更高质量的生物大分子质量稳定度：+/- 0.050 amu/24小时；TSQ Vantage AM为+/- 0.025 amu/24小时TSQ Vantage AM质量准确度：5 ppm扫描速度：全量程扫描5,000 u/秒SRM通道转换时间： 2ms正负极性谱图转换时间： 95ms灵敏度： 单位质量分辨，Q1＝0.7 Da， Q3＝0.7 Da，ESI/APCI： 500 fg 利血平，峰对峰信噪比S/N优于500:1 增强分辨率，Q1＝0.2 Da， Q3＝0.7 Da，ESI/APCI： 500 fg 利血平，峰对峰信噪比S/N优于500:1质谱部分硬件：Ion Max大气压电离源x、y、z三方向档位调节的离子喷针，可根据样品情况使用不同的位置优化喷雾具有新一代Ion Sweep吹扫气技术，可使用非挥发性缓冲溶液，降低化学背景噪音全金属传输管，金属块0~400℃加热，防止气化的离子冷凝堵塞传输管具有真空锁定装置，可在不停机状态下清洗和维护离子传输管做样时氮气耗量：0.5～4升/分钟，待机状态不耗氮气，一瓶普氮钢瓶气可支持连续做样3天以上H-ESI II离子源喷口性能：流速1uL～2mL/min，不需分流APCI/APPI源喷口性能：流速50 uL～2mL/min， 不需分流离子传输系统：S-透镜离子光学系统方形四极杆离子传输系统质量分析器：双曲面串联四极杆Q1和Q3采用真正双曲面四极杆，与理论四极场完全吻合，以保证高分辨率RF射频主频1.1M，实现高分辨率90度弯曲G2碰撞室，提高MRM速度，降低中性粒子噪音5毫秒内迅速使Q2的电压回零，在改变扫描速度和样品浓度情况下没有记忆效应真空系统四路高真空无油分子涡轮泵系统，空气冷却，无需水冷，源区和分析区形成差分抽气系统。双机械泵检测系统±15kV后加速转换电极，提高了检测灵敏度和动态范围。垂直90度的电子倍增器，0～±3kV可变电压计算机控制。面板上集成匀速蠕动进样泵进样系统和自动切换阀（脱盐阀）数据处理方式：扫描功能：全量程扫描、选择离子扫描、选择反应串联质谱扫描、子离子扫描、母离子扫描、中性丢失扫描、多反应监测扫描、混合扫描、正/负离子快速切换扫描、自动MS和MS/MS切换扫描功能高选择性反应监测（H-SRM），Q1能调节到0.1 FWHMQED MS/MS功能：一次实验同时定性和定量：在每张定量MRM谱图后，自动采集一张全扫描MS/MS谱图RER功能：反向碰撞能量线性阶梯：采取渐变线性能量自动获取LC/MS/MS谱图一次实验可做3000 MRM农、兽药、染料LC/MS/MS谱图库：700张科沃安在美国、日本、欧洲等发达国家构建起了直接进口的货源渠道，分销网络遍及国内20多个省市自治区，公司经营的产品已覆盖色谱，光谱，质谱三大类共100多个产品，能满足客户对精密分析仪器的需求。主要产品有：气相/液相色谱仪(GC/HPLC)、气质/液质联用仪（GCMS/LCMS）、紫外/红外光谱仪(UV/FTIR)、原子吸收光谱仪（AAS）、等离子体光电直读光谱仪（ICP/ICP-MS）等。除此之外，科沃安提供专业的技术服务，包括：上门维护维修、仪器送修服务、实验室搬迁、以旧换新、实验室网络化服务、实验室仪器3Q认证、年度维修服务、实验室资产管理服务、培训服务、翻新仪器、仪器租赁等。我们承诺，客户以最低的价格即可享受新仪器的品质与专业的技术服务。

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海思科技 吴先生 探针式轮廓仪新标杆-升级到最优性能 德国布鲁克 DektakXT 台阶仪（探针式表面轮廓仪）是一项创新性的设计，可以提供更高的重复性和分辨率。台阶仪这项性能的提高达到了过去四十年Dektak技术创新的顶峰，更加巩固了其行业领先地位。不论应用于研发还是产品测量，通过在研究工作中的广泛使用，DektakXT一定能够做到功能更强大，操作更简易，检测过程和数据采集更完善。第十代DektakXT台阶仪（探针式表面轮廓仪）的技术突破，使纳米尺度的表面轮廓测量成为可能，从而可以广泛的应用于微电子器件，半导体，电池，高亮度发光二极管的研发以及材料科学领域。薄膜测试—确保高产在半导体制造中严密监测沉积和蚀刻比率均匀性，薄膜应力，能节省大量时间和金钱。薄膜的不均匀或太大的应力会导致地产及成品性能欠佳。DektakXT能方便快捷地设置和运行自动多点测试程序来检验晶片薄膜的精确厚度，达到纳米级别。DektakXT无与伦比的重现性提供给工程师精确的薄膜厚度和应力测试，来精确调节蚀刻和沉积以提供收益表面粗糙度检测—确保性能DektakXT适合很多产业（包括汽车、航空和医疗设备）的精密机器零部件的表面粗糙度常规鉴定。例如，矫形植入物的背面的羟磷灰石涂层粗糙度会影响植入后的粘结力和功效。利用DektakXT进行表面粗糙度的快速分析能力判断晶质生产是否达到预期，植入物能否通过产品要求。使用Vision64数据库的pass/fail标准，质量管理部门能轻松判断植入物是重做或者确保其质量太阳能光栅线分析—降低制造成本在太阳能市场，Dektak是测量单晶硅和多晶硅太阳能面板上导电银栅线临界尺寸的首选。银线的高度、宽度和连续性与太阳能电池的能量引导紧密相关。生产的理想状态是恰如其分地使用银，以具有最好的导电性，而不浪费昂贵的银。Dektak XT 通过软件分析来实现，报告银栅线的临界尺寸，以确定出现导电性所需的精确分量。Vision64的数据分析方法和自动功能有助于该验证过程的自动化。微流体技术—检测设计和性能Dektak XT是唯一能在大垂直范围（高达1mm），测量感光材料达到埃级重现性的探针轮廓仪。MEMS和微流体技术行业的研究者能使用Dektak XT来进行鉴定测试，确保零件符合规格。低作用测量功能NLite+轻触感光材料来测量垂直台阶和粗糙度40多年不断创新建立在40多年的探针轮廓技术创新的知识和经验之上—第一部薄膜测试仪，在第一部基于微处理器的轮廓仪，和第一部300mm自动轮廓仪DektakXT继承了以往的“第一”。新的DektakXT是首部single-arch设计的探针轮廓仪，首部内置真彩高清光学摄像机，及安装64-bit并行处理架构已获得最佳测量及操作效率的探针轮廓仪全球有超过一万台设备，品牌Dektak以质量、可靠性及高性价比著称。当需要台阶高度、表面粗糙度的精确、可靠测量时，人们就会借助Dektak。引进DektakXT，Bruker能让您进一步获得可靠及高效的表面测量提高数据采集和分析速度利用独特的直接驱动扫描平台，Dektak XT减少了扫描间的时间，而没有影响分辨率和北京噪声。这一改进大大提高了大范围扫描3D形貌或者对于表面应力长程扫描（就探针轮廓仪而言，通常是耗时的）的扫描速度。在保证行业领先的质量和重现性前提下，DektakXT可以将数据采集处理的速度提高40%。另外，DektakXT采用Bruker64-bit数据采集分析同步操作软件Vision64，它可以提高大范围3D形貌图的高数据量处理速度，并且可以加快滤波器的工作速度和多模式扫描是的数据分析。Vision64还具有行业内最有效的直观用户界面，简化了实验操作设置，自动完成多扫描模式，让重复和常规的实验操作变得更快速简洁。实现测量的可重现性DektakXT的领先设计使其在测量台阶高度重现性方面具有优异的表现，台阶高度重现性可优于4埃。使用single-arch结构比原先的悬臂梁设计更加稳固，降低了对不利环境条件的敏感性，如声音和震动噪音应用行业：触摸屏、半导体、太阳能、超高亮度发光二极管（LED）、医学、材料科学、高校、研究所、微电子、金属等行业实现纳米级表面形貌测量台阶仪Dektak XT能实现：无可匹敌的性能，台阶高度重现性低于4埃Single-arch设计提供具突破性的扫描稳定性先进的“智能电子器件”设立了新低噪音基准新硬件配置使数据采集时间缩短40%64-bit，Vision64同步数据处理软件，使数据分析速度提高了10倍频率空前，操作简易直观的Vision64用户界面，操作简易针尖自动校准系统，无与伦比的价值布鲁克（Bruker）以实惠的配置实现最高的性能单传感器设计，提供单一平面上低作用和宽扫描范围

Zeta&trade -20是一个高度集成的光学轮廓显微镜，可在紧凑、耐用的包装下提供3D量测和成像功能。该系统采用ZDot&trade 技术，可同时收集高分辨率3D形貌信息和样品表面真彩色图像。Zeta-20 3D显微镜支持研发和生产环境，具有多模光学器件、易于使用的软件和性价比高等优势。产品描述Zeta-20台式光学轮廓仪是一款非接触式3D显微镜及表面形貌量测系统。该3D光学量测系统由ZDot技术及多模式光学组件提供支持，可支持各种样品测量：透明和不透明、低反射率和高反射率、光滑表面和粗糙纹理，以及从纳米到厘米范围的台阶高度。Zeta-20台式光学轮廓仪集六种不同的光学量测技术于一身，是一款可灵活配置且易于使用的系统。ZDot测量模式同时收集高分辨率的3D扫描信息和样品表面真彩色图像。其他3D测量技术包括白光干涉测量法、诺马斯基光干涉对比显微法和剪切干涉测量法，膜厚测量包含使用ZDot模式测量和光谱反射的测量方法。Zeta-20也是一款高端显微镜，可用于抽样检查或缺陷的自动检测。Zeta-20通过提供全面的台阶高度、粗糙度及薄膜厚度测量以及缺陷检测功能来支持研发和生产环境。主要功能● 配合ZDot及多模式光学组件，光学轮廓仪可以容易地实现各种各样的应用● 用于抽样检查和缺陷检测的高质量显微镜● ZDot：同时采集高分辨率3D扫描数据和样品表面真彩色图像● ZXI：采用z方向高分辨率的广域测量白光干涉仪 ZIC：亚纳米级粗糙度表面的定量3D数据的干涉对比● ZIC：图像对比度增强，可实现亚纳米级粗糙度表面的定量分析● ZSI：z方向高分辨率图像的剪切干涉测量法● ZFT：通过集成式宽频反射测量法测量薄膜厚度和反射率● AOI：自动光学检测，并对样品上的缺陷进行量化● 生产能力：具有多点量测和图形识别功能的全自动测量主要应用● 台阶高度：纳米级到毫米级的3D台阶高度● 纹理：光滑表面到粗糙表面的粗糙度和波纹度测试● 翘曲：2D或3D翘曲和形状● 应力：2D或3D薄膜应力● 薄膜厚度：30nm到100μm的透明薄膜厚度● 缺陷检测：捕获大于1μm的缺陷● 缺陷复检：KLARF文件可用于寻找缺陷，以确定划痕缺陷位置，测量缺陷3D表面形貌台阶高度Zeta-20能够非接触式测量从纳米级到毫米级的3D台阶高度。ZDot和多模式光学组件可提供一系列方法来测量台阶高度。ZDot是主要测量的技术，可以快速测量从几十纳米到毫米级的台阶。ZXI干涉测量可用于在大范围内测量从纳米级到毫米级的台阶。ZSI剪切干涉测量可用于测量不到80nm的台阶。薄膜厚度Zeta-20能够使用ZDot或ZFT测量技术测量透明薄膜的薄膜厚度。ZDot用于测量大于10µ m的透明薄膜，例如覆盖在高折射率的衬底上的光刻胶或微流体器件层。ZFT使用集成宽频反射仪测量30nm至100µ m的薄膜。这既可以运用于单层，也可以运用于多层薄膜堆叠，用户可以输入薄膜的性质或使用模型来拟合光谱。纹理：粗糙度和波纹度Zeta-20测量3D纹理、量化样品的粗糙度和波纹度。ZDot可以测量从几十纳米到非常粗糙的表面的粗糙度。ZSI和干涉测量可以测量从埃级到微米级的光滑表面。软件中的过滤器将测量结果分为粗糙度和波纹度两部分，并计算出均方根粗糙度等参数。诺马斯基光干涉对比显微法可以通过揭示斜率的微小变化来可视化非常精细的表面细节。翘曲：翘曲，形状Zeta-20可以测量表面的2D和3D形状或翘曲。这包括半导体或化合物半导体器件生产过程中层间不匹配导致的晶圆翘曲的测量。Zeta-20还可以测量结构（例如透镜）的3D高度和曲率半径。应力：薄膜应力Zeta-20能够测量具有多个工艺层的器件（例如半导体或化合物半导体器件）在生产过程中的应力。精确测量表面的翘曲度需要使用应力载台将样品支撑在中间位置。然后运用Stoney公式的原理根据工艺（诸如薄膜沉积）带来的形貌变化来计算应力。Zeta-20通过在整个样品直径上以用户定义的间隔测量样品表面的高度，然后把数据合成样品形状的轮廓来测量2D应力。自动缺陷检测Zeta-20能够通过自动光学检测 (AOI) 快速检测样品，区分不同的缺陷类型，并绘制整个样品的缺陷分布图。当与3D量测功能结合使用时，Zeta-20可以提供2D检测系统无法提供的缺陷高度信息，从而更快地分析缺陷来源。缺陷表征Zeta-20缺陷表征使用检查工具KLARF文件将样品台移动到缺陷位置。用户可以使用Zeta-20检测缺陷或测量缺陷的表面形貌，例如高度、厚度或纹理。这提供了更多无法从2D缺陷检测系统获得的缺陷细节。Zeta-20还可以使用划线标记缺陷，从而使视场有限的工具（例如SEM）更容易找到缺陷。光伏太阳能电池Zeta-20光学轮廓仪非常适合太阳能电池应用，因为它支持测量同时具有非常低和非常高反射率材料的表面。该系统可以量化蚀刻后纹理——反射率不到1%的金字塔结构，这对太阳能电池的光捕获能力至关重要。与这些纹理相邻的是反射率大于90%的银浆接触线。具有ZDot和高动态范围测量技术的Zeta-20可以同时测量反射率非常低和非常高的区域，量化银浆线的高度、宽度和沉积银浆体积，从而确定电阻数值。此外，Zeta-20还可用于测量来料硅片的粗糙度、隔离沟道深度、样品翘曲度、应力和3D缺陷，使用ZFT还可以测量氮化物膜厚度。半导体和化合物半导体封装Zeta-20支持晶圆级芯片封装 (WLCSP) 和扇出晶圆级封装 (FOWLP) 量测要求。一个主要的赋能技术是在干光刻胶膜完好无损的情况下测量镀铜的高度。这是通过从透明光刻胶到种子层测量铜柱的高度、光刻胶的厚度以及铜和光刻胶的相对高度差来实现的。其他应用包括重布线 (RDL)、凸点下金属化 (UBM) 高度和纹理、光刻胶开口临界尺寸 (CD)、光刻胶厚度和聚酰亚胺厚度的测量。还可以测量金属凸点的共面性，以确定凸点高度是否满足最终器件封装连接性要求。印刷电路板 (PCB) 和柔性 PCBZeta-20 的高动态范围模式可实现从纳米级到毫米级的表面粗糙度和台阶高度测量，无需更改配置。它可以处理高反射率薄膜（例如铜）以及 PCB 上常见的透明薄膜。Zeta-20支持盲孔、线痕和热压焊的关键尺寸测量（高度和宽度）以及表面粗糙度。激光烧蚀Zeta-20 可以测量半导体、LED、微流体器件、PCB等的激光表面处理引起的表面形貌变化。激光已被用于半导体、LED和生物医学设备等行业的精密微观尺度加工和表面处理。对于半导体行业，晶圆ID标记的深度和宽度的测量对于确保它可以在众多加工步骤中成功读取至关重要。Zeta-20可以测量柔性电路和晶圆上创建的高深宽比孔的台阶高度。它还可以测量太阳能电池隔离沟道的深度和宽度，从而提高器件效率。微流体Zeta-20能够测量由硅、玻璃和聚合物等材料制成的微流体器件。该系统量化了通道、孔和控制结构的高度、宽度、边缘轮廓和纹理。Zeta-20可进行折射率补偿，测量用透明顶盖板密封后的最终器件，从而监测腔道的深度。生物技术Zeta-20非常适合生物技术应用，可对具有从纳米级到毫米级特征的各种样品表面进行非接触式测量。Zeta-20可以测量高高宽比台阶，例如生物技术器件的深孔的深度。借助高数值孔径物镜和对反射能力极弱的样品的分辨能力，可以测量用于药物输送的微针阵列结构。数据存储Zeta-20 CM专门用于测量磁盘边缘几何图形和检查污染或损坏。在磁盘的边缘，顶面表面和侧面之间的转变必须具有光滑的斜切面，否则磁盘边缘的扰动可能导致读写头在磁盘上遭受毁灭性的撞击。该系统配置包括一个倾斜样品台，用于在边缘测量和检测期间旋转圆盘。适用行业● 太阳能：光伏太阳能电池● 半导体和化合物半导体● 半导体WLCSP（晶圆级芯片级封装）● 半导体FOWLP（扇出晶圆级封装）● PCB（印刷电路板）和柔性PCB● MEMS（微机电系统）● 医疗器械和微流体器件● 数据存储● 大学，实验室和研究所● 还有更多：请联系我们以探讨您的需求选配件ZFT：Zeta薄膜厚度Zeta-20拥有集成式宽频光谱仪，用于测量厚度30nm至100µ m的透明薄膜。它能够测量单层或多层堆叠薄膜的厚度，用户从材料库中选择折射率值。可绘制样品上的薄膜厚度分布图，以确定样品的均匀性。ZFT可运用在一些反射率极低的表面，例如反射率低于0.1%的太阳能电池。很多薄膜厚度测量机台难以从这些类型的表面上获得信号，因为它们依赖于镜面反射光来计算相位变化或其他参数。宽频白光和垂直入射光源可支持该机台用于各种低反射率光学透明薄膜。ZXI：Zeta干涉测量技术Zeta-20 与压电载台及干涉物镜结合使用，可支持相位扫描干涉测量法 (PSI) 和垂直扫描干涉测量法 (VSI)。PSI 支持快速测量几埃到数百纳米的台阶高度。VSI支持从数百纳米到数百微米的台阶高度测量。无论物镜数值孔径的大小，两者的分辨率均好于纳米级。ZIC：Zeta 干涉对比Zeta-20 采用诺马斯基光差分干涉对比显微法来提供精细表面细节的增强影像。诺马斯基光差分干涉对比显微法采用偏振和棱镜来更改相位，从而增强样品表面坡度的变化。这能让超光滑表面上的缺陷可视化，例如单层污染物。ZIC 扫描模式可通过将坡度变化与其他技术测量的粗糙度相关联，将这些图像转化为亚纳米级粗糙度的定量测量。ZSI：Zeta 剪切干涉测量法Zeta-20剪切干涉测量技术 (ZSI) 通过改变相位来强化ZIC测量。采集具有不同相位的多幅影像，然后通过先进的算法加以处理，以生成具有埃级分辨率的表面形貌的定量测量。该技术无需干涉物镜和z方向载物台扫描，即可完成从几埃到80nm的高分辨率测量。物镜提供多种物镜，包括 1.25 倍至 150 倍的常规物镜、长工作距离物镜、超长工作距离物镜、折射率校正物镜、透射式物镜、液体浸没式物镜和垂直扫描干涉物镜。耦合器Zeta-20 可配置四种不同的光耦合器，以改变光学放大倍率。该系统可配置 1 倍耦合器，以保持初始放大倍率，或配置 0.35 倍、0.5 倍或 0.63 倍耦合器，以提高放大倍率。物镜转台Zeta-20可配置 5 位或 6 位手动转台，以及一个用于自动物镜识别 的物镜传感器。该系统还可以配置一个可实现全自动操作的 6 位自动转台。样品光照Zeta-20采用双高亮白色LED作为标准光照。通过样品载台的背光也可增强光线用来测试具有挑战性的透明样品。Zeta-20还支持使用侧光源的暗场照明。样品台Zeta-20可以配置各种样品台以提高系统性能。在 ZDot或 ZXI 测量模式下测量纳米级台阶高度，可以添加压电 Z 轴平台提高 z 分辨率。Z 样品台可以安装在转环上，使测量头能够围绕样品旋转，从而改变表面入射角。XY样品台可配置手动100或300 毫米行程，或电动150或200毫米行程。可以将手动旋转样品台添加到 XY 样品台上。可添加手动调节的倾斜样品台，从而调平样品载台，以便进行干涉测量。样品载台Zeta-20可提供支持各种应用要求的载台。太阳能样品需要搭配156毫米的样品载台，或太阳能倾斜边缘载台以便倾斜样品，测量其边缘。背光载台可用于透明衬底，以支持透射照明。可提供 300 毫米的晶圆载台。如果我们没有您需要的载台，请联系我们提出您的需求。防震台Zeta-20的系统底座内置被动防震脚。如需额外防震，还可以提供被动或主动台式防震台。台阶高度和薄膜厚度标准片Zeta-20使用由 VLSI 提供的可追踪台阶高度的 NIST 薄膜和厚膜标准片。这些标准片在蚀刻的石英台阶上覆盖了铬涂层。可提供8纳米至250微米的台阶高度。现有经过认证的多台阶标准片具有8、25、50 和100µ m的名义台阶高度。该标准片具有用于XY校准的各种间距的图形。适用于ZFT的经过认证的厚度标准片由一个可供参考的硅表面和名义厚度为270nm的二氧化硅薄膜组成。还有可供参考的粗糙度和镜面样品等。多点测量功能多点测量功能利用电动XY样品台能让用户对样品上的测量位置进行设计。该系统会自动测量每个点位，并在用户定义的文件夹中保存结果。还会生成一份统计数据输出报告来概括结果。高级序列软件包括图形识别可自动对齐样品。可全自动测量，免受操作员失误的影响。在样品台上嵌入标准片后，可启用自动校准。拼接软件自动图像拼接软件使用电动 XY 样品台来组合相邻扫描，可生成比单一视场更大的拼接数据集。该系统可自动测量每个点位、对齐图像，并将它们组合成一个数据集。可以像分析任何其他结果文件一样分析结果。Apex分析软件Apex分析软件通过一套扩展的找平、过滤、台阶高度、粗糙度和表面形貌分析技术增强了该工具的标准数据分析能力。Apex支持ISO粗糙度计算方法以及当地标准，例如ASME。Apex还可以作为报告编写平台，能够添加文本、说明和通过/失败标准。Apex 支持 11 种语言。离线分析软件Zeta-20离线软件具有与该机台相同的数据分析和程式创建功能。这使用户能够创建程式和分析数据，而不占用机时。相关产品

【说明：每款产品因配置不同价格不同，需按照您的测量需求单独配置，具体请联系我们报价】 德国dataphysics公司研发生产，该仪器采用自有版权技术的双向往复流动电势/电流的原理，测量各种宏观固体材料的Zeta电位，主要用于胶体分散剂研发、固体材料表面特性表征及帮助开发新型材料等。》 ZPA 20的主要特点 独立创新研发双向往复流体运动。因其特殊的双向往复运动测量模式，可以实现多小时甚至多天无限制时间测量。对于表面活性剂在样品表面的吸附研究及其它动力学研究等，无限的测量时间能够高效的得到不被干扰的 Zeta 电位数据。 电解质溶液的周期往复流动能够有效的防止测量电极的极化，从而避免了由于电极极化而造成的测量结果的误差。往复运动频率高达0.5Hz，在60秒内即可记录60个压力通道，可实现在几秒钟内获得大量的数据点，高效精确的获得统计学结果。 测量单元可视化设计。 可以在视觉监测下添加表面活性剂或其它需要添加的物质，有利于动力学研究实验。另外，该可视化设计也可以帮助发现样品中的气泡，并使用仪器的排气泡功能将气泡及时排除。极大的消除了气泡对测量结果的影响。 非固定式的装样单元既可以在系统外装填和制备样品，也可实现在测量过程中装样或取样同步进行。使用扭力扳手可控制纤维和粉末样品的装填密度，提高了此类样品的测量可重复性。超大电极表面积确保测量的灵敏度，即使轻微的表面特性改变也可以捕捉到。》 ZPA 20的主要功能全自动测量胶体悬浮液以及各种宏观固体材料的 Zeta 电位，如：片状固体、纤维、粉末、不同表面粗糙度材料，多孔材料等同步测量压差、温度、电导率和 pH 值等电点的自动检测全自动吸附和表面改性动力学测量》 ZPAS 20 高效的专用软件基于windows操作系统，带操作引导功能，操作简单所有测量参数同步显示在实时窗口，观测直观自动测量和计算功能强大，可自动计算动力学测量中的加液量，并控制自动注射单元全自动测量，最终自动计算结果可轻松的设置一次单一测量或者复杂测量项目即支持电脑鼠标操作，也支持Pad触屏操作多语言版本》 ZPA 20的应用全自动测量胶体悬浮液以及各种宏观固体材料的Zeta电位，如：片状固体、纤维、粉末、不同表面粗糙度材料，多孔材料等同步测量压差、温度、电导率和pH值等电点的自动检测全自动吸附和表面改性动力学测量如果您想了解更多，请联系我们，提供测样服务

Ossila非真空旋涂机国内总代理现货发售产品介绍许多年来,英国Ossila公司旋涂机一直以高质量的涂布效果而著称。Ossila公司根据众多客户反馈，结合公司内部强大的研发力量推出一种全新的旋涂机，大大提高了产品的可用性和效率。新型旋涂机更小巧、重量更轻,不需真空泵或氮气管线，机读方便,更适合在手套箱和通风橱内使用。大英物理学会获奖项目-Ossila太阳能电池原型设计平台中， Ossila旋涂机提供了理想的旋转涂布解决方案,很大程度上减轻了科研人员工作量，并大幅节省了实验室空间。旋转涂布是一种应用广泛的通用技术，可将材料沉积到基片上，并能准确控制薄膜厚度。Ossila旋涂机形体小巧,价格经济,不需维护，上优化手套箱内或工作台空间，性能和功能丝毫不打折扣，让每个科研人员都在其研究领域中获得高质量的旋涂效果。Ossila旋涂机是非真空式设计，减少基片翘曲问题，提升膜片涂布质量。Ossila旋涂机不需真空泵或氮气管路，是真正即插即用式旋转涂布机，避免了真空泵和氮气管路带来的维护问题。Ossila旋涂机可与注射泵配套使用。价格经济，标配包括一个旋涂卡盘，下订单时需注明所需卡盘类型。Ossila可根据客方需求定制卡盘。Ossila旋涂机有2年真空质保。性能优势为什么要选择非真空旋涂机?市场上大多数旋涂机进行旋转涂布的时候都通过真空方法固定基片。Ossila旋涂机则与众不同，它使用创新型卡盘，不需真空固定即可进行旋转涂。基片通过聚丙烯卡盘上的凹口固定到位，这种设计同时也可以让多余的涂层材料排出，保证良好涂布效果。 Ossila旋涂机卡盘不需真空即可将基片固定到位，非常安全。Ossila公司可根据客户需求定制任意形状的卡盘，以进行各种形状基片的涂布，从而满足客户的使用需求。 真空卡盘的缺点是基片容易向上翘曲，影响涂布均一性。低均一性会降低基片品质，并影响机读效果。Ossila公司非真空旋涂机卡盘可以保证基片平直不受损坏，即便灵敏度非常高的基片涂布也能避免基片受损，保持高度平直性，从而涂布效果的均一性。与普通旋涂机相比,Ossila旋涂机的非真空式涂布保证了膜片分布的高均一性。左：普通旋涂机上有真空密封环形印迹 右：Ossila非真空式旋涂效果空式旋涂机只能在有真空管路的环境中使用，因为真空泵的存在，一旦放置后不易移动，灵活性差，尤其是不工作的时候也占用实验室空间。Ossila旋涂机不需真空泵，只需一个电源插座，即插即用，可以在工作台上使用，也可以放置于通风橱内或手套箱内使用，尺寸小巧，设置简便，机动性非常强。大多数旋涂机价格并不包括真空泵，无形中增大了采购成本。另外，真空泵容易坏，增加了客户的后期维护成本及误工成本。真空泵的故障主要由过量溶剂被吸入真空管道导致内部组件受损引起。Ossila旋涂机不使用真空泵，大大减少了短期和长期的维护成本。 功能特征节省空间的设计-占地面积只有22.5×17厘米,节省实验室空间。Ossila旋涂机形体小巧，移动方便，无论你想放置在通风橱里还是手套箱里，还是想放在实验台上，一切随心所欲。 安装简单-没有真空或氮气管线,只需把旋涂机插到电源插座上即可开始工作，Ossila旋涂机是真正的即插即用式旋涂机。 完全掌控-转速范围从120到6000 rpm不等，涵盖不同旋涂需求。Ossila旋涂机可以实现一系列不同的旋涂条件，从慢干式结晶涂布到超薄膜片的涂布，面面俱到。内置控制系统可以存储10个独立的用户自定义程序，每个程序可以存储10个协议，多达50个步骤。所有这一切保证Ossila旋涂机完美的工作效果，使它成为众多繁忙实验室中的得力助手。 更少的变数,更好的膜片-内置水平仪和可调式脚保证平直的旋转轴，非真空式卡盘避免了较薄膜片的翘曲现象。这两个优势因素确保了膜片涂布更好的均一性，以及更好的设备性能。 维护成本低-真空式旋涂机的真空泵比较容易受损，操作繁琐，维修成本高。Ossila旋涂机的活动部件少，没有真空泵，不会因设备故障而停机，保证了客户科研工作的顺畅进行。 耐用–Ossila旋涂机机壳是钢铁材质和钢化玻璃盖坚固耐用，聚丙烯材质卡盘和内部件具有良好的耐腐蚀性，可以适用各种实验室工作环境。 安全–Ossila旋涂机电源是24 V DC，不需高压电，对电源没有其它特殊要求。防溅设计避免溶液溅洒或倾覆，安全系数高。电磁安全开关提供双重保护，旋涂机上盖打开，卡盘立即停止转动。溶剂安全性—清晰直观的键区，带有保护性氟化乙丙烯膜，耐化学腐蚀，安全系数高。Ossila旋涂机有内置水平仪，台脚高度可调，确保了涂布的水平性和均一性。使用普通旋涂机在进行微小基片或异形基片的旋涂时，很难达到理想效果。Ossila旋涂机完美地解决了这些问题!高灵敏性基片涂布是科研人员经常遇到的比较头疼的问题。普通旋涂机因为真空会导致较薄基片翘曲，故很难达到均一平直的涂布效果。Ossila旋涂机采用非真空式卡盘设计理念，可以在高转速条件下保证较薄基片的平直均一性且不受损坏，是高灵敏性基片涂布的理想之选，如有机发光二极管或太阳能光伏生产中使用的PET基片涂布。技术规格用户协议10个用户自定义协议程序每个协议下可设置10个程序，每个程序最多50个步骤。转速稳定性2%的误差转速120-6000转旋转时间1 - 1000秒电源DC 24V 2A, 使用100-240v 50/60Hz电源适配器安全开关门上有电磁安全开关，盖子打开，卡盘停止转动尺寸规格225 x 170 x 132 mm材质聚丙烯转盘、钢质机壳，钢化玻璃盖

探针式轮廓仪新标杆-升级到最优性能 德国布鲁克 DektakXT 台阶仪（探针式表面轮廓仪）是一项创新性的设计，可以提供更高的重复性和分辨率。台阶仪这项性能的提高达到了过去四十年Dektak技术创新的顶峰，更加巩固了其行业领先地位。不论应用于研发还是产品测量，通过在研究工作中的广泛使用，DektakXT一定能够做到功能更强大，操作更简易，检测过程和数据采集更完善。第十代DektakXT台阶仪（探针式表面轮廓仪）的技术突破，使纳米尺度的表面轮廓测量成为可能，从而可以广泛的应用于微电子器件，半导体，电池，高亮度发光二极管的研发以及材料科学领域。薄膜测试—确保高产在半导体制造中严密监测沉积和蚀刻比率均匀性，薄膜应力，能节省大量时间和金钱。薄膜的不均匀或太大的应力会导致地产及成品性能欠佳。DektakXT能方便快捷地设置和运行自动多点测试程序来检验晶片薄膜的精确厚度，达到纳米级别。DektakXT无与伦比的重现性提供给工程师精确的薄膜厚度和应力测试，来精确调节蚀刻和沉积以提供收益表面粗糙度检测—确保性能DektakXT适合很多产业（包括汽车、航空和医疗设备）的精密机器零部件的表面粗糙度常规鉴定。例如，矫形植入物的背面的羟磷灰石涂层粗糙度会影响植入后的粘结力和功效。利用DektakXT进行表面粗糙度的快速分析能力判断晶质生产是否达到预期，植入物能否通过产品要求。使用Vision64数据库的pass/fail标准，质量管理部门能轻松判断植入物是重做或者确保其质量太阳能光栅线分析—降低制造成本在太阳能市场，Dektak是测量单晶硅和多晶硅太阳能面板上导电银栅线临界尺寸的首选。银线的高度、宽度和连续性与太阳能电池的能量引导紧密相关。生产的理想状态是恰如其分地使用银，以具有最好的导电性，而不浪费昂贵的银。Dektak XT 通过软件分析来实现，报告银栅线的临界尺寸，以确定出现导电性所需的精确分量。Vision64的数据分析方法和自动功能有助于该验证过程的自动化。微流体技术—检测设计和性能Dektak XT是唯一能在大垂直范围（高达1mm），测量感光材料达到埃级重现性的探针轮廓仪。MEMS和微流体技术行业的研究者能使用Dektak XT来进行鉴定测试，确保零件符合规格。低作用测量功能NLite+轻触感光材料来测量垂直台阶和粗糙度40多年不断创新建立在40多年的探针轮廓技术创新的知识和经验之上—第一部薄膜测试仪，在第一部基于微处理器的轮廓仪，和第一部300mm自动轮廓仪DektakXT继承了以往的“第一”。新的DektakXT是首部single-arch设计的探针轮廓仪，首部内置真彩高清光学摄像机，及安装64-bit并行处理架构已获得最佳测量及操作效率的探针轮廓仪全球有超过一万台设备，品牌Dektak以质量、可靠性及高性价比著称。当需要台阶高度、表面粗糙度的精确、可靠测量时，人们就会借助Dektak。引进DektakXT，Bruker能让您进一步获得可靠及高效的表面测量提高数据采集和分析速度利用独特的直接驱动扫描平台，Dektak XT减少了扫描间的时间，而没有影响分辨率和北京噪声。这一改进大大提高了大范围扫描3D形貌或者对于表面应力长程扫描（就探针轮廓仪而言，通常是耗时的）的扫描速度。在保证行业领先的质量和重现性前提下，DektakXT可以将数据采集处理的速度提高40%。另外，DektakXT采用Bruker64-bit数据采集分析同步操作软件Vision64，它可以提高大范围3D形貌图的高数据量处理速度，并且可以加快滤波器的工作速度和多模式扫描是的数据分析。Vision64还具有行业内最有效的直观用户界面，简化了实验操作设置，自动完成多扫描模式，让重复和常规的实验操作变得更快速简洁。实现测量的可重现性DektakXT的领先设计使其在测量台阶高度重现性方面具有优异的表现，台阶高度重现性可优于4埃。使用single-arch结构比原先的悬臂梁设计更加稳固，降低了对不利环境条件的敏感性，如声音和震动噪音应用行业：触摸屏、半导体、太阳能、超高亮度发光二极管（LED）、医学、材料科学、高校、研究所、微电子、金属等行业实现纳米级表面形貌测量台阶仪Dektak XT能实现：无可匹敌的性能，台阶高度重现性低于4埃Single-arch设计提供具突破性的扫描稳定性先进的“智能电子器件”设立了新低噪音基准新硬件配置使数据采集时间缩短40%64-bit，Vision64同步数据处理软件，使数据分析速度提高了10倍频率空前，操作简易直观的Vision64用户界面，操作简易针尖自动校准系统，无与伦比的价值布鲁克（Bruker）以实惠的配置实现最高的性能单传感器设计，提供单一平面上低作用和宽扫描范围规格：测量技术：探针轮廓仪DEKTAK XT测量功能：二维表面轮廓测量/可选三维测量样品视景：可选放大倍率，1to4mmFOV探针传感器：低惯量传感器（LIS3）探针压力：使用LIS3传感器：1至15mg探针选项：探针曲率半径可选范围：50nm至25μm；高径比（HAR）针尖：10μm×2μm和200μm×20μm；可按客户要求定制针尖样品X/Y载物台：手动X-Y平移：100mm(4英寸）；机动X-Y平移：150mm（6英寸）样品旋转台：手动，360°旋转；机动，360°旋转计算机系统：64-bit多核并行处理器，Windows7；Optional23英寸平板显示器软件：Vision64操作及分析软件；应力测量软件；缝合软件；三维扫描成像软件减震装置：减震装置可用扫描长度范围：55mm（2英寸）每次扫描数据点：最多可达120000数据点最大样品厚度：50mm(2英寸）最大晶圆尺寸：200mm(8英寸）台阶高度重现性：＜4埃，1sigma在1μm垂直范围下）输入电压：100-240VAC，50-60Hz温度范围，运行范围：20到25℃湿度范围：≤80%，无冷凝系统尺寸及重量：455mmW×550mmD×370mmH（17.9in.W×22.6in.D×14.5in.H)；34公斤（75磅）；附件：550mmL×585mmW×445mmH（21.6in.L×23in.E×17.5in.H)；21.7公斤（48磅

仪器简介：PALS技术是由布鲁克海文仪器公司开发的一项全新Zeta电位测量技术。与传统基于频移技术的光散射方法相比， 灵敏度可提高约1000倍。许多从事新材料、 生命科学、 环境工程等新兴学科的研究人员长期以来苦于无法对诸如在低介电常数、 高粘度、 高盐度以及等电点附近这些测量条件下的样品进行分析， 这就是因为其电泳迁移率比通常水相条件下低10-1000倍，传统方法没有足够的分辨率进行测量。 ZetaPALS的出现为他们提供了准确可信的测量技术。 技术参数：1.电泳测量适用粒度范围：0.001-100μm 2.样品体积：0.018～1.5ml 3.pH值测量范围：1-14 4.电导率范围：0-30S/m 5.电泳迁移率范围：10-11～10-7m2/V.s 6.温度控制：-5 ～110℃,±0.1℃ 7.电场强度：0～3.2 kV/m 8)电极：耐腐蚀性开放式电极(毛细管电极可选)，电极材料纯钯；9.激光源：40mW固体激光器(激光器波长和功率可定制)；10.检测器：PMT或APD；11.自动趋势分析：对时间、温度及其他参数； 选件：1.粒度升级：具有粒度纳米粒度测量功能；4.自动滴定仪：可对PH值、电导率和添加剂浓度作图；5.介电常数仪：直接测最溶剂的介电常数值；6.粘度计：用于测量溶剂及溶液的粘度；7.21CFR软件 符合FDA要求的21CFR part II操作模式软件和仪器材料； 主要特点：ZetaPALS是目前能够精确测量低电泳迁移率体系的Zeta电位分析仪器，它采用的是真正的硬件PALS (Phase Analysis Light Scattering, 相位分析光散射）技术， 比其它测量Zeta电位的技术 灵敏度高约1000倍！ 典型应用：1.蛋白、缩氨酸、胶束、多糖、药物制备、脂质体、外切酶体；2.聚合物胶乳、微乳液、油包水、水包油体系；3.涂料、颜料、油漆、食品、化妆品配方；4.陶瓷、耐火材料、炭黑、废水处理。

仪器简介： ZetaPlus采用的是电泳光散射原理：带电颗粒在外加电场作用下进行运动，电荷运动使散射光产生频率漂移(多普勒频移),采用频谱漂移分析技术,从而可计算出颗粒的电泳迁移率和Zeta电位。 技术参数： 1.电泳测量适用粒度范围：0.001-100μm 2.样品体积：0.18～1.5ml 3.pH值测量范围：1-14 4.电导率范围：0-20S/m 5.电泳迁移率范围：10-10～10-7m2/V.s 6.温度控制：-5 ～110℃,±0.1℃ 7.电场强度：0～3.2 kV/m 8)电极：耐腐蚀性开放式电极，电极材料纯钯； 9.激光源：35mW固体激光器（可选5mW He-Ne激光器）； 10.检测器：PMT或APD； 11.自动趋势分析：对时间、温度及其他参数； 选件： 1.粒度升级：具有粒度纳米粒度测量功能；4.自动滴定仪：可对PH值、电导率和添加剂浓度作图；5.介电常数仪：直接测最溶剂的介电常数值；6.粘度计：用于测量溶剂及溶液的粘度； 7.21CFR软件 符合FDA要求的21CFR part II操作模式软件和仪器材料； 主要特点：ZetaPlus是简单、方便而且准确的电泳迁移率测量仪器，其独特的开放式样品池设计与频谱漂移分析技术相结合，使其具有极高的分辨率，足以分辨等电点附近的多峰电泳分布情况。它的革新之处是从根本上消除了传统Zeta电位测量仪器中固有的电渗误差的影响，从而使测量变得准确而方便。 典型应用：1.蛋白、缩氨酸、胶束、多糖、药物制备、脂质体、外切酶体；2.聚合物胶乳、微乳液、油包水、水包油体系；3.涂料、颜料、油漆、食品、化妆品配方；4.陶瓷、耐火材料、炭黑、废水处理。