替拉那韦

仪器描述 电感耦合等离子体质谱（ICP-MS）被称为自二十世纪以来激动人心的分析技术，具有检出限低、动态线性范围宽、干扰少、分析精度高、分析速度快、可进行多元素同时测定等分析性能，已成为痕量和超痕量分析为有效的分析手段之一。 钢研纳克针对 冶金、环保、地质、矿产、食品等领域对痕量分析技术的需求，以满足行业应用需求为目标，攻克了ICP射频电源、离子传输、四极质量分析器等关键技术，成功地研制了电感耦合等离子体质谱仪——PlasmaMS 300。 基于PlasmaMS 300，钢研纳克与国家环境分析测试中心、国家地质实验测试中心、北京矿冶研究总院、钢铁研究总院、北京市理化分析测试中心等权威测试机构合作，开发了适合各行业的分析测试方法，解决了环境介质中痕量重金属元素检测，地质矿产中稀土、稀有、稀散元素分析，二次资源中有价有害元素的分析，金属材料中的痕量化学成分及其分布分析，食品中有毒、有害元素不同形态、价态分析等技术难题。功能特点良好的可靠性和稳定 坚固耐用的射频电源，集成了紧急保护措施的真空系统和自动化控制系统，以及智能一键操作即可完成的仪器和分析流程设置，大程度的消除了人为干扰，保证了仪器工作的连贯性和重复性。 高超的分析功能 匹配功能卓越的固态光源，有效的限制了离子化过程中离子的扩散，保证了离子的聚焦性和极高的通过率。带偏转的离子光学系统保证了离子聚焦效果，有效的降低了背景噪声，提高了信噪比。 强大的联用技术 可便捷地与激光烧蚀进样系统（LA）及液相色谱（LC）联用。结合LA的功能，可实现了PlasmaMS 300固体直接进样，避免了复杂的样本制备过 程，提高了进样及测试效率，扩展了PlasmaMS 300的检测能力，可同时测定样品气溶胶中主、次、痕量元素的含量。与LC联用，可进行有机物中元素 的形态分析，进一步扩展了PlasmaMS 300的检测能力和效率，提供了更全面的应用解决方案。 人性化的操作流程 全中文的软件界面，符合中国人的思维习惯，“一键式”参数设置直观快捷，提高了用户的工作效率。能够根据客户要求自定义报告格式，同时提供了QC功能及LIMS的接口。 便捷的维护 易于拆装清洗的锥口系统、带偏转的离子透镜系统，减少了离子沉积，延长了仪器的维护周期。耐用的固态光源确保了仪器的长时间无故障使用。依托纳克遍布全国的服务网络，实现了仪器完善的售后服务。 应用领域 环境分析测试领域 PlasmaMS 300针对地表水、废水、土壤、沉积物、大气（废气）中颗粒物、固体废弃物等环境样品中重金属元素分析测试及检测的需求，建立了整体应用方案与分析方法。 地矿样品测试 PlasmaMS 300灵敏度高、精度好、抗干扰能力强，是地质样品多元素分析强有力的技术。满足了矿物三稀元素的多元素快速、准确分析的需求，为“三稀”矿物资源调查和有效利用提供技术支撑。 食品安全问题 PlasmaMS 300不仅能够有效的检测食品和接触性包装材料中多种金属元素的含量，与LC联用，还可以有效的分离某些特定元素存在的不同价态和形态，完全可以满足食品质量安全领域中的重金属残留分析，重金属形态分析，以及营养元素分析。 金属材料研究 PlasmaMS 300与自主研制的激光烧蚀进样系统（LA 300）联用，能够实现小规格异形非平面材料中痕量元素的成分分布和复杂材料体系的痕量元素原位统计分布分析表征。

即使作为入门级纳米粒度及Zeta电位分析仪，Zetasizer Lab 的功能也不容小觑。 Zetasizer Lab 纳米粒度仪采用经典动态光散射(90°)，包含"自适应相关"算法、M3-PALS 和恒流 Zeta 模式。 Zetasizer Lab 纳米粒度分析仪还随附 ZS Xplorer，这是一款易于使用的分析软件，提供有关数据质量的实时反馈，以及如何改进结果的指导。特点和优点Zetasizer Lab 纳米粒度仪是一款出色的入门级系统，提供各种功能，其中包括：动态光散射 (DLS) ：用于测量从0.3 nm 到 15 μm 的颗粒和分子的粒度及粒度分布 （使用低容量可抛弃粒度样品池和扩展粒度分析可以测试粒度大于10 μm ；取决于样品和样品制备）电泳光散射 (ELS) ：测量颗粒和分子的Zeta电位，以显示样品稳定性和/或团聚倾向性扩展粒度范围分析功能可针对超过 1 μm 的颗粒粒度提供更高的准确性，并针对超过 10 μm 的颗粒粒度提供指示性结果（使用 ZSU1002 低容量可抛弃粒度测量池）具有恒流模式的M3-PALS可以在高导电介质中测量Zeta电位和电泳迁移率 以样品为中心的ZS Xplorer软件可以实现灵活的指导式使用，并可轻松构建复杂的模型 “自适应相关”算法能生成可靠且可重复的数据，同时计算速度超过以往的两倍，可在减少样品制备的情况下更快速地执行更多可重现的粒度测量，实现更具代表性的样品视图通过深度学习实现的数据质量系统可以评估粒度数据质量问题，并针对如何改进结果提供明确的建议使用静态光散射（90°）测量分子量软件符合 21 CFR Part 11 法规支持使用低容量可抛弃毛细管样品池对低至 3 μL 的样品进行粒度测量选择 Red Label 型号可用于测定更具挑战性的样品，如蛋白质、表面活性剂溶液和低固含量样品如果您的需求发生改变，可现场升级到Zetasizer Pro 或 Zetasizer Ultra型号主要应用Zetasizer Lab 应用广泛，包括：学术界 Zetasizer纳米粒度分析仪是全球众多学术实验室的重要分析工具，广泛用于需要分析颗粒或分子大小以及 Zeta 电位的应用领域。 Zetasizer应用领域广泛，被科学文献引用的次数达上万次，成为许多科研机构的核心设备。生命科学和生物制药 在生物制药应用中，温度或pH值变化、 搅拌、剪切和时间都会影响生物分子的 稳定性，造成变性和聚集、功能丧失， 还可能会产生不良免疫反应。Zetasizer纳米粒度仪提供快速的纯度和稳定性筛选，并可协助配方开发， 从而优化流程和产品，消除风险。食品和饮料 Zetasizer纳米粒度分析仪用于分析颗粒粒度和Zeta电位，以改善食品、饮料和调味料的外观及味道，并优化分散和乳化稳定性，从而延长产品保存期限，提高产品性能。纳米材料 Zetasizer纳米粒度仪所测量的纳米颗粒粒度分布、分散特性、稳定性和团聚倾向是新纳米材料设计的关键。 此类材料的超大表面积可能会带来新的物理和化学性质，比如更高的催化活性和溶解度，或者出乎意料的光学或毒理学性质。油漆、油墨及涂料 油漆、油墨及涂料配方必须稳定，以使它们在一段时间内不会发生变化或团聚。 Zetasizer纳米粒度分析仪测量的颗粒粒度和Zeta电位在确定产品特性（例如分散性、颜色、强度、光洁度、耐久性和保存限期）方面起着至关重要的作用。药物和给药粒度和Zeta电位检测有助于确保安全有效的治疗。Zetasizer纳米粒度仪用于表征分散体系、乳化液和乳膏的稳定性和质量，从而减少配方时间，加快新产品上市。消费品改良多种消费品时，需要了解和控制胶体参数，引导颗粒间的相互作用，并改善产品的稳定性和性能。其中一个例子是胶束和乳液的粒度和电荷对化妆品和洗涤剂性能的影响。Zetasizer纳米粒度分析仪可表征表面活性剂的胶束大小、电荷和临界胶束浓度， 并测量乳液的液滴大小和稳定性。

超快激光微纳加工平台：LS-LAB— 高集成度、高灵活性、简单易用的微纳加工平台 LS-LAB：像其他高端的微纳加工设备一样，LS-Lab这台小型实验室设备，搭配LASEA的光束管理模块，可以实现高精度激光微纳加工。配备纳米定位平台和安全管理柜，LS-Lab是OEM模块和现成的激光微纳加工设备之间的连接。 设计用于切割、钻孔(零锥角)、纹理、打标、雕刻或薄膜移除等应用，LS-Lab是对所选光学配置预先安装并校准的系统，可以紧挨着激光器放在光绪桌上。无需其他任何额外装置即可完成微加工应用。不但是集成的微纳加工设备，LS-Lab更具灵活性。即使搭配您自己选择的激光器，LS-Lab也可保证快速实现高品质微加工应用。LS-Lab是Class 4级别激光系统，因此需要防护眼镜及其他适当的防护装置，以确保安全。LS-Lab配备安全开关和传感器指示灯，以显示实际是开还是关，因此可以很容易的集成到Class 1级别的环境。主要特点：- 尺寸小(600×600mm)- 10个高品质光束转折器- 平台分辨率500nm- 平台行程160×160×300mm- 安全控制器- 易于集成- 可搭配LASEA光束管理模块： 主要规格可点击图片放大* 另有订制方案，可根据客户需求提供高性价比方案。 聚擘国际贸易 (上海) 有限公司聚 嵘 科 技 股 份 有 限 公 司聚擘国际贸易 (上海) 有限公司／聚嵘科技股份有限公司，专业从事半导体封装及测试、LED封装测试、太阳能、SMT、飞秒/皮秒/纳秒激光等定制设备/子系统的开发、销售及售后服务。公司总部位于上海，在深圳、北京、西安设有办事处。公司在台北市设有专业的飞秒精密微纳加工实验室 — FemtoFocus，合作伙伴有法国Amplitude公司 、 比利时NextScan Technology公司 、 法国ALPhANOV光学与激光技术中心、比利时LASEA公司、法国NOVAE公司、德国Pulsar Photonics公司。实验室拥有专业的前沿激光微纳加工应用开发及技术支持团队，提供超短脉冲 (小于500fs) 和极短脉冲 (小于100fs) 激光技术相关测试及高速加工 (多光点、转镜) 等高度可扩充的高弹性集成方案。 聚擘国际贸易 (上海) 有限公司聚嵘科技股份有限公司| 电子 | 半导体 | 飞秒激光 | 微加工 | 科研 |

日本原装实验室/研发专用台式浸渍提拉镀膜仪， Z轴和X轴双轴控制，具有提拉角度调节功能。ND-0407-S5日本热销的超低速浸渍提拉镀膜仪，它可以通过控制工作两轴和θ角以及对角线提拉来调节提拉角度。客户的需求：对基材进行垂直、高精度、超低速镀膜以改变提拉角度和溶液的密度对基材进行镀膜两种液体交替对基材进行镀膜在提拉途中，通过改变提拉速度来控制膜厚 ND-0407-S5能够满足客户的需求：可以提供超低速的常规垂直镀膜可以通过调整θ角来获取提拉角度可以采用不同的液体（例如交替吸附等）进行镀膜独立运动和复合运动均可操作（在两个轴上）具有可以连续点运行的新功能 产品特点：可以对玻璃、有机玻璃、铜箔、管状材料等基材以纳米速度（变速单位：1nm）进行浸渍镀膜。适用于纳米级薄膜、蛋白石薄膜的形成和粒子阵列的生成等。采用触控面板操作方式，在触控面板上，可以轻松完成设置速度变化点(最多16个点)、速度变化(以1nm为单位)、重复运动、运动模式记忆(最多8个模式)的操作。双轴同步操作和单轴单独运行操作都可以轻松完成。触控面板采用日语、英语两种语言，且可以一键式切换。 产品应用： 主要用于溶胶-凝胶法等液相法制备薄膜材料。 工作原理：浸渍提拉镀膜仪的原理是将基材垂直浸入镀膜溶液(溶胶)中浸渍，然后将基材从溶液中垂直低速提拉起来，并使附着的液膜在空气（气相）中凝胶的方法。浸渍提拉法的具体工艺流程如下：1. 将基材垂直浸入镀膜溶液（溶胶）中浸渍。2. 利用镀膜溶液的粘度、表面张力和重力之间的相互作用开始提拉，提拉过程必须保证液面无振动，且基材垂直、匀速、平稳、连续上升，从而确保在基材表面形成连续、均匀的薄膜。3. 基材的提拉速度与镀膜溶液的粘度和附着液向下流动的重力之间的关系，控制着镀膜的厚度；4. 形成均匀的薄膜，并完成“湿凝胶膜”向“干凝胶膜”的转变。”干凝胶膜”经过进一步的干燥及高温热处理便得到所需的纳米薄膜材料。 技术参数：行程：Z轴：100mm；X轴：100mm速度(Min)：1nm/s速度(Max)：60mm/s操作方法：触控面板屏幕显示语言：英文/日文处理速度指定数量：16个停止位置指定数量：16个停止时间指定数量：16个连续运行模式：有手动运行模式：有存储程序的数量：8个程序监控功能(当前速度):有监控功能(当前位置):有剩余监控时间：有重复运行：有标准夹具：材料：聚丙烯(PP)电源：AC100V、300VA承重量(max)：500g处理尺寸(max)：100mm(H）线性运行模式：无设备尺寸(mm)：442(W)×250(D)×451(H)控制箱尺寸(mm):300(W)×285(D)×163(H)备注：※线性运行模式是指改变速度时，停止时间为零秒。※手动运行模式是指以设定的速度进行上升/下降运行（上升速度和下降速度的另一种设置）。

艾博纳共聚焦拉曼显微镜是一种用于材料分析和化学结构表征的精密光学分析仪器。共聚焦拉曼显微方法是一种高分辨率拉曼成像技术，半步分辨率为2.5微米，单向定位精度≤20微米，重复定位精度≤±1.5微米。其光谱分辨率高达0.04nm，波长准确度±0.14nm，保证了实验数据的准确性和可靠性，测试时无需任何标记或特殊样品制备技术。拉曼图像可以获得样品内所含的化学化合物及其空间分布信息。该仪器是艾博纳最新款自研拉曼显微镜，包括光路设计，结构搭建，可添加多种模块。经过长期的数据测量以及设备检测，可测得如MoS2荧光等信号数据，是表征材料组成及分布的高端解析工具。对于拉曼，我们将逐步开发超快拉曼成像、低温拉曼成像显微镜、拉曼与AFM的结合以及对非线性拉曼技术进行深度研究。

Namadic TM共聚焦显微拉曼光谱系统 Namadic TM是世界上唯一一款同时拥有532nm、785nm、1064nm三个从可见到近红外激光波长的共聚焦显微拉曼光谱仪，通过切换激发波长，能够最大限度的满足不同的应用。 针对不同的激光波长，使用了3台独立的光谱仪和3个独立的探测器，每个光谱仪和探测器，都是针对测量波长做了最优光学设计。光谱仪采用高衍射效率的体相位VPG光栅，F/2的信号收集，使得系统具有极高的灵敏度，同时兼具高的光谱分辨率；光谱仪没有扫描元件，不需要扫描，光谱通过2048像素的CCD同时采集，使系统具有无与伦比的测量速度和可靠性；探测器深度制冷，制冷温度达到-55度。不同于532nm和785nm光谱仪，1064nm光谱仪使用深度制冷InGaAs探测器，最大性能提升灵敏度和性噪比。 系统具备灵活的扩展性，可扩展微区可见/近红外成像，暗场瑞利散射，荧光成像以及原子力显微拉曼；系统平台可以根据实际应用做成不同的结构，如右图所示的结构，可以测量更大尺寸的样品。 特点:◎. 高空间分辨率，最高0.5um◎. 共光路系统设计，三个激光波长，通过软件自动切换◎. 共光路系统设计，三个激光波长，通过软件自动切换◎. 集成奥林巴斯BX51显微镜平台，其它显微镜平台可以定制◎. 同时拥有532nm、785nm、1064nm三个激发波长，其它波长可以定制◎. 3台独立光谱仪和3个独立探测器，针对激光波长，做了最优的光学性能设计◎. 光谱仪没有扫描元件，不需要扫描，光谱通过2048像素的CCD同时采集◎. 功能强大的应用软件，具有完整的数据库、图像分析和化学计量功能(PCA,MCR)◎. 具备灵活的扩展性，可扩展微区可见/近红外成像，暗场瑞利散射，荧光成像以及原子力显微拉曼 应用领域◎. 生物、细胞组织等◎. 珠宝分析、古籍鉴定等◎. 制药、化妆品、食品、法医鉴定等◎. 半导体材料、纳米材料、石墨烯、太阳能电池等Nomadic TM光谱仪激光器结构示意图 ◎. 采用高收集效率的F/2系统◎. 采用高衍射效率的体相位光栅(VPG)◎. 三个独立的光谱仪对应三个激光波长，最优的光学性能匹配◎. 光谱无需扫描，宽光谱一次性被CCD采集，测量速度快，性能稳定可靠◎. 532nm、785nm和1064nm三个激光波长！其它波长可定制◎. 使用1064nm激发波长，可以同时测量荧光成像光谱和拉曼成像光谱！（荧光光谱区间和拉曼光谱区间不用担心会相互干扰） Nomadic TM测得碳纳米管样品的拉曼成像光谱，从低波数到高波数，信号稳定可靠 Nomadic TM具有荧光和拉曼混合成像功能：1064nm拉曼激发+科研级荧光相机图中是Nomadic TM用Alexa Fluor公司的488nm鬼笔环肽、555nm羊抗小鼠lgG和TO-PRO-3标记物下测得的麂皮纤维母细胞荧光图像。拉曼成像光谱用1064nm激发光。 活性药用成分（API）的拉曼成像光谱 人体细胞拉曼光成像光谱 Nomadic TM在原料药、人体细胞、生物组织等领域有着非常强大的功能Nomadic TM测得石墨烯材料在硅基底上的拉曼成像光谱参数指标：

PTL-NMB纳米级恒温提拉涂膜机是以纳米为计量、专为在液相中提拉涂膜而设计的，通过垂直提拉浸渍在液相中的样件而生长薄膜。PTL-NMB纳米级恒温提拉涂膜机采用PLC程序控制系统，以彩色触摸屏为数据输入输出端，显示提拉速度、提拉高度、提拉往返次数、浸渍时间、干燥时间等参数。本机配备恒温干燥箱，使薄膜生长过程在一个恒定的温度下进行，且有利于薄膜的固化。PTL-NMB纳米级恒温提拉涂膜机体积小巧，可节省实验室空间；操作简单，适合初学者使用；清理方便。因此，本机主要用于纳米材料研究、表面处理及其它材料的提拉涂膜，更是广大高等院校、研究院所涂膜的理想设备。1、采用彩色触摸屏，界面清晰，方便参数设置。2、浸渍提拉涂膜的全过程在恒温温度场内进行，有利于薄膜形成及固化。3、采用悬空电机的技术来进行减震。4、采用高精度步进电机。5、操作安全可靠，简单易懂。6、已通过CE认证。产品名称 PTL-NMB纳米级恒温提拉涂膜机产品型号 PTL-NMB安装条件 本设备要求在海拔1000m以下，温度25℃±15℃，湿度55%Rh±10%Rh下使用。1、水：不需要2、电：AC220V 50Hz，必须有良好接地3、气：不需要4、工作台：尺寸800mm×600mm×700mm，承重200kg以上5、通风装置：不需要主要参数 1、电源：220V 850W2、提拉速度：1nm/s-500nm/s3、有效浸渍长度：60㎜4、浸渍、干燥时间设置：1-999s5、可提拉次数：1-20次6、温度：RT-100℃7、样件尺寸：75mm×25mm×2.5mm恒温箱技术参数：1、温度范围：室温+5~100℃2、温度波动：±1.5℃3、外形尺寸：460×510×695产品规格 尺寸：450mm×500mm×970mm标准配件 1、涂膜卡具1套2、载料杯1个3、提拉丝3条

洞察纳米世界的利器 ：纳米级光学成像 + 高光谱扫描您手边纳米研究神器：无标记识别 + 纳米表征 + 映射产品介绍 Cytoviva超分辨率荧光显微成像系统技术最初源于美国国防部和美国宇航局共同开发空中成像技术。Cytoviva已经发展成为一个专有技术，并将其专利整合到的显微成像系统中，可以在纳米尺度进行材料的光谱定量分析和活细胞的观察。并在2006和2007连续两年获得著名的R＆D 100奖的获奖荣誉，2007获得了Nano50TM奖，源于它对纳米科学研究的杰出的贡献。 2005年进入市场以来，Cytoviva在全球范围内已有几百台的装机，包括美洲、亚洲到欧洲国家重点实验室、学术科研机构和独立的工业实验室。 Cytoviva超光谱成像系统配合cytoviva显微镜系统，可以广泛应用于量化细胞和组织中的纳米材料。该系统捕获扫描范围内近红外（400-1000nm）内每个像素的光谱信号。先进的分析软件可以提供的扫描材料的详细光谱信息。 CytoVivac超光谱成像系统配合CytoViva纳米显微镜可以同时提供材料及生物样品的光谱分析和图像数据。该系统在可见-近红外光谱范围内（VNIR）进行数据采集。Cytoviva HSI有着广泛的应用研究范围：纳米药物递送、纳米毒理学、纳米材料、细胞生物学、病理学、病毒学、植物学等等。光谱分析方法支持非荧光、荧光标记的成分在活细胞、组织和纳米材料等不同样本中的观察分析。 Cytoviva技术正迅速成为纳米材料和生命科学研究的实验室标准。Cytoviva能提供您所需要的实验结果。为客户采集到真实，定量的研究数据提供了一套无缝的解决方案。 产品特点● 无需荧光标记● 纳米尺度样品光学图像表征（20-50nm）● 纳米高光谱表征● 映射多种环境中纳米尺度样品应用方向● 药物递送，纳米药物研发及临床试验● 外泌体研究，肿瘤早期诊断、研究及治疗● 食品及组织中细菌检测● 脑疾病研究：Alzheimer’s Disease,AD ；帕金森● 纳米乳剂● Liposomes● 免疫组化，组织切片直接观察，纳米级表征● 病毒、病原体检测与表征● 高分子材料检测与表征● 小分子材料检测与表征● MOF 材料检测与表征● 纳米尺寸材料检测与表征● 表面等离激元（单分子发光）● 环境污染治理● 稀土材料、上转换纳米材料表征● 复合纳米材料研究● 生物燃料研发组合光谱成像技术 多功能集成显微镜系统可同时提供宽场成像模式（反射，透射，明场，暗场，偏振光和荧光），以及高光谱显微成像模式（拉曼，荧光，光致发光，透射和反射）；又保证了无论在哪种成像模式之间切换都不需要移动样品，确保呈现同一区域的所有多模态图像信息。 拉曼系统内置四个光栅，用于优化光谱分辨率，可配备最多 3 个激光器（从蓝色到 NIR+），用于实现 Raman，PL 以及 FL 高光谱成像。检测器从普通 CCD 到 EMCCD 根据不同需求可供选择。

飞秒激光微纳加工综合系统-Laser NanofactoryFemtika公司设计并生产的飞秒激光微纳加工综合系统-Laser Nanofactory是一款集增材与减材制造于一体的综合微纳加工系统。与传统的微纳3D打印设备相比，Laser Nanofactory不仅可用于光子学聚合物微纳结构的加工，还可以用于石英，陶瓷，玻璃和金属等材料从毫米到微米尺度的精确加工。设备加工速度可高达50mm/s，加工精度优于100nm，还可实现不同加工工艺间的无缝切换。得益于Femtika先进的飞秒激光技术，Laser Nanofactory在进行微纳加工时所产生的热效应小，加工出的结构边缘锐利，因此特别适合微纳结构的加工。应用领域微纳光学、微流控、微纳机电器件（M/NEMS）、纳米技术、 生物医药、通讯技术、传感器件、材料表面改性......飞秒激光微纳加工综合系统-Laser Nanofactory技术参数飞秒激光波长1028 nm ± 5 nm和514 nm ± 5 nm脉冲持续时间290 fs - 10 ps脉冲能量65 μJ最大平均功率4 W重复率60 - 1000 kHz冷却方式气冷定位平台XY方向移动范围160 mm x 160 mmZ方向移动范围60mmXYZ正交性3 arc sec分辨率1 nm (XY), 2 nm (Z)最高速度350 mm/s (YX), 200 mm/s (Z)飞秒激光微纳加工综合系统-Laser Nanofactory应用实例多光子聚合物3D结构选择性刻蚀结果展示在样品上进行激光烧蚀对器件中的不同材料采用不同加工技术（无缝切换）用户单位发表文章[1] A. Butkut&edot , G. Merkininkait&edot , T. Jurk&scaron as, J. Stan&ccaron ikas, T. Baravykas, R. Vargalis, T. Ti&ccaron kūnas, J. Bachmann, S. &Scaron akirzanovas, V. Sirutkaitis, and L. Jonu&scaron auskas, “Femtosecond Laser Assisted 3D Etching Using Inorganic-Organic Etchant”, Materials 2022,15, 2817, (2022).[2] G. Kontenis, D. Gailevi&ccaron ius, N. Jimenez, and K. Staliunas, “Optical Drills by Dynamic High‑ Order Bessel Beam Mixing”, Phys. Rev. Applied 17, 034059, (2022).[3] D. &Ccaron ere&scaron ka, A. &Zcaron emaitis, G. Kontenis, G. Nemickas, and L. Jonu&scaron auskas, “On‑ Demand Wettability via Combining fs Laser Surface Structuring and Thermal Post-Treatment”, Materials 2022,15, 2141, (2022).[4] A. Butkut&edot , and L. Jonu&scaron auskas, “3D Manufacturing of Glass Microstructures Using Femtosecond Laser”,Micromachines 2021,12, 499, (2021).[5] D. Andrijec, D. Andriukaitis, R. Vargalis, T. Baravykas, T. Drevinskas, O. Korny&scaron ova, A. Butkut&edot , V. Ka&scaron konien&edot , M. Stankevi&ccaron ius, H. Gricius, A. Jagelavi&ccaron ius, A. Maru&scaron ka, and L. Jonu&scaron auskas, “Hybrid additive subtractive femtosecond 3D manufacturing of nanofilter based microfluidic separator”, Applied Physics A (2021).[6] D. Gonzalez-Hernandez, S. Varapnickas, G. Merkininkait&edot , A. &Ccaron iburys, D. Gailevi&ccaron ius, S. &Scaron akirzanovas, S. Juodkazis, and M. Malinauskas,”Laser 3D Printing of Inorganic Free‑ Form Micro-Optics”, Photonics 2021,8, 577, (2021).[7] D. Andriukaitis, A. Butkut&edot , T. Baravykas, R. Vargalis, J. Stan&ccaron ikas, T. Ti&ccaron kūnas, V. Sirutkaitis, and L. Jonu&scaron auskas, “Femtosecond Fabrication of 3D Free-Form Functional Glass Microdevices: Burst-Mode Ablation and Selective Etching Solutions”, 2021 Conference on Lasers and Electro-Optics Europe & European Quantum Electronics Conference, (2021).[8] A. Butkut&edot , T. Baravykas, J. Stan&ccaron ikas, T. Ti&ccaron kūnas, R. Vargalis, D. Paipulas, V. Sirutkaitis, and L. Janu&scaron auskas, “Optimization of selective laser etching (SLE) for glass micromechanical structure fabrication”, Optical Express 23487, Vol. 29, No. 15, 19.07.2021, (2021).[9] A. Maru&scaron ka, T. Drevinskas, M. Stankevi&ccaron ius, K. Bimbirait&edot -Survilien&edot , V. Ka&scaron konien&edot , L. Jonu&scaron auskas, R. Gadonas, S. Nilsson, and O. Korny&scaron ova, “Single-chip based contactless conductivity detection system for multi-channel separations”, Anal. Methods, 2021,13,141–146, (2021).[10] L. Bakhchova, L. Jonu&scaron auskas, D. Andrijec, M. Kurachkina, T. Baravykas, A. Eremin, and U. Steinmann,“Femtosecond Laser-Based Integration of Nano-Membranes into Organ-on-a-Chip Systems”, Materials 2020, 13, 3076 (2020).[11] T. Ti&ccaron kūnas, D. Paipulas, and V. Purlys, “Dynamic voxel size tuning for direct laser writing,” Opt. Mater. Express 10, 1432-1439 (2020).[12] T. Ti&ccaron kūnas, D. Paipulas, and V. Purlys, “4Pi multiphoton polymerization”, Appl. Phys. Lett. 116, 031101 (2020).[13] L. Jonu&scaron auskas, T. Baravykas, D. Andrijec, T. Gadi&scaron auskas, and V. Purlys, “Stitchless support-free 3D printing of free-form micromechanical structures with feature size on-demand”, Sci Rep 9, 17533 (2019).[14] S. Gawali. D. Gailevi&ccaron ius, G. Garre-Werner, V. Purlys, C. Cojocaru, J. Trull, J. Montiel-Ponsoda, and K. Staliunas, “Photonic crystal spatial filtering in broad aperture diode laser”, Appl. Phys. Lett. 115, 141104 (2019).[15] L. Jonu&scaron auskas, D. Gailevi&ccaron ius, S. Rek&scaron tyt&edot , T. Baldacchini, S. Juodkazis, and M. Malinauskas, “Mesoscale laser 3D printing,” Opt. Express 27, 15205-15221 (2019).[16] L. Jonu&scaron auskas, D. Mackevi&ccaron iūt&edot , G. Kontenis and V. Purlys, “Femtosecond lasers: the ultimate tool for high precision 3D manufacturing”, Adv. Opt. Technol., 20190012, ISSN (Online) 2192-8584, (2019).[17] L. Grineviciute, C. Babayigit, D. Gailevicius, E. Bor, M. Turduev, V. Purlys, T. Tolenis, H. Kurt, and K. Staliunas,“Angular filtering by Bragg photonic microstructures fabricated by physical vapour deposition”, Appl. Surf. Sci., 481, 353-359 (2019).[18] D. Gailevi&ccaron ius, V. Padolskyt&edot , L. Mikoliūnait&edot , S. &Scaron akirzanovas, S. Juodkazis, and M. Malinauskas, “Additive manufacturing of 3D glass-ceramics down to nanoscale resolution”, Nanoscale Horiz., 4, 647-651 (2019).[19] E. Yulanto, S. Chatterjee, V. Purlys, and V. Mizeikis, “Imaging of latent three-dimensional exposure patterns created by direct laser writing in photoresists”, Appl. Surf. Sci., 479, 822-827 (2019).[20] L. Jonu&scaron auskas, S. Juodkazis, and M. Malinauskas, “Optical 3D printing: bridging the gaps in the mesoscale”, J. Opt., 20(05301) (2018).[21] E. Skliutas, S. Kasetaite, L. Jonu&scaron auskas, J. Ostrauskaite, and M. Malinauskas “Photosensitive naturally derived resins toward optical 3-D printing,” Opt. Eng. 57(4), 041412 (2018).[22] L. Jonu&scaron auskas, S. Rek&scaron tyte, R. Buividas, S. Butkus, R. Gadonas, S. Juodkazis, and M. Malinauskas,“Hybrid subtractive-additive-welding microfabrication for lab-on-chip applications via single amplified femtosecond laser source,” Opt. Eng. 56(9), 094108 (2017).

产品介绍： 普识纳米便携式毒物危化品拉曼检测仪 PERS-D900基于表面增强拉曼光谱（SERS）技术和增强试剂制备技术所开发的毒物快速检测仪，采用独特的便携设计，配备可视化，信息化平台，为基层监管单位量身定制，具有简单，精准，高效，便携等特点，可第一时间携至现场保障检测需求。检测项目包括违禁添加，滥用添加，保健药品，农药残留，兽药残留，投毒物质等。产品优势：外观简单，轻松便携： 整机一体化设计，美观、耐用，轻便、小巧，方便携带，适用于实验室，现场等多种场合。 指纹识别：开机操作简单快捷，避免忘记密码烦恼。 快速检测：样品检测仅需10秒。 现场检测：可第一时间携带至现场保障检测需求。 量身定制：为基层监管单位量身定制。 智能监管：配备可视化、信息化平台。 非接触式（瞄准式）：适用于固体（含粉末）、液体测试，采用一次性低成本玻璃样品管，基于液体样品瓶设计聚焦光路；基本参数：用途及使用条件 1. 温度： 5-45℃；湿度：小于90%； 2.每套产品包含车载式主机一台，并含相应配套拉曼检测试剂。 性能指标要求 1.检测主机：独立拉曼检测系统，一键启动自检完成即自动进入检测界面； 2.仪器主机采用一体化高度集成，坚固可靠，携带方便； 3.光谱范围：175-3200cm-1； 4.光谱分辨率：≤10cm-1； 5.非接触式（瞄准式）适用于固体（含粉末）、液体测试，采用一次性低成本玻璃样品管，基于液体样品瓶设计聚焦光路；检测实例测试样品：疑似dupin粉末。待测项目：芬太尼测试工具：PERS-D900便携式拉曼光谱仪（内置智能算法和数据库）、dupin检测试剂盒及相应耗材（移液器（50uL）及移液器吸头）检测模式：自动模式。测试时间：约1min。测试结果：图1 芬太尼检测

Workshop of Photonics公司从2003年开始就专注于飞秒激光微纳加工工艺研发, 凭借着创新技术及先进可靠工艺. 主流型号为FemtoLAB实验级飞秒激光微纳米加工系统, FemtoFAB产业级飞秒激光微纳米加工系统, MPP-Cube秒双光子/多光子三维聚合微纳米加工系统.飞秒激光器由于激光脉冲很短, 拥有很好的激光功率密度, 其加工效果超过纳秒和皮秒激光. 光束所到之处能够瞬间将材料消融气化, 由于激光脉冲短, 激光能量无法在如此短的时间内扩散到周围材料中, 所以对加工区域周围影响微乎其微, 是一种冷态加工技术.WOP系统采用高品质的飞秒激光器, 同步高精密光束扫描振镜和脉冲选择器, 在空间,时间和能量上提供全方位高精度控制, 从而提供高难度的加工能力, 亚微米精度的分辨率和重复性, 以及很高的微加工速度 .

微流控制备仪描述：MPE-Lab型微流控制备仪，是一种工具型微流控制备系统，是实验室规模微纳米颗粒制备、质量评价、效用考察的重要工具，也是新型技术应用研究的重要帮手。MPE-Lab提供了提供了基础而必要的方案，脂质体、脂质纳米颗粒、微球、胶束等各种微纳米载体均可在此之上展开探索研究。相较于传统制备工艺及相关硬件方案， MPE-Lab实验过程高效、操作简单、结果稳定、重现性好。最为重要的是，MPE-Lab微流控制备仪极大减少了不同操作人员、实验时段对结果的可能影响，保证了研究工作的客观性和独立性。微流控技术：微流控（Microfluidic）技术是一种基于（微）流体力学理论，在管线中实现样品制备与加工的技术。完美的将微流体的理化模型与流体力学理论相结合，可实现样品的混合、乳化及分离纯化等功能。微流控技术将过程控制技术（Process Control Technology，PCT）与过程分析技术（Process Analytical Technology，PAT）相结合，可实现良好的在线样品制备技术（On-line Preparation Technology，OPT）。样品在连续化制备的过程中，工艺过程中参数完全可控，且具备良好重现性，所以较传统分步割裂式制备、分批次生产的方法来说更具有可放大性。可实现样品的初乳化、复乳化、粒径控制功能。微流控制备系统通过制备泵和高压输送泵与微流控芯片相连接，A相和B相可按照一定的比例恒速的输送至芯片中进行混合，乳化。在微流控芯片中通过设计不同的流道结构，控制不同的速度，使得样品在微流控芯片中达到湍流、层流或雾化状态，可以实现样品的初乳化或复乳化的要求。制备好的样品通过高压泵输送至高压微流控芯片中，通过撞击力和剪切力来控制粒径，使其达到所需范围内。粒径最小可达到100nm以内，PDI至0.1以下。微流控芯片： 微流控芯片是基于应用工艺的定制型特殊流道结构部件，其通道结构和尺寸均与项目工艺需求相结合，属定制型结构件。具体来说可实现以下四种功能：两相的混合、乳化微粒形成后的孵育；微粒形成后的粒径控制；二次混合或乳化。技术参数：型号MPE-Lab适用载体脂质体、脂质纳米颗粒、微球、胶束等微纳米颗粒/载体适用体系适用于互溶或不互溶溶剂体系统最小工作体积400μL单次最大实验体积40mL设备最大总流速100mL/min设备参数设置注射器类型/规格、总流速、流速比、弃液体积等操作方式集成式触屏操作操作软件MPE微流控制备系统（Lab型），支持终身免费升级兼容性兼容进口及国产注射器，兼容多种结构芯片其他支持芯片定制典型芯片：

简介PERS-D600是一款现场式手持拉曼光谱分析仪器，专为各种安全人员及急救人员的非接触式取证分析而设计，包括执法人员、海关及边境巡警、有害物质技术员、排爆人员等。PERS-D600采用拉曼光谱的方法，用户可实现识别未知化学物质、成瘾药物、危险化学品、易燃易爆等爆炸物以及许多其它未知物，同时减少了操作的不确定性及响应时间。拉曼光谱技术不需要前期准备样品，可实现非破坏性直接测量，同时保证结果的可靠性。创新点1、PERS-D600检测范围广泛，可用于成瘾药物、新型成瘾药物、易制毒化学品、易燃易爆等危险品的检测。 2、与常规传统检测方法和仪器相比，PERS-D600具有以下优势：（1）分析速度快，可在1min内完成样品检测和结果分析。（2）准确性高，仪器智能分析拉曼光谱直接给出测试结果，排除人为主观因素的干扰。（3）非接触性检测，安全性高。可直接通过自封袋或其他半透明包装材料进行扫描，提高用户安全性。（4）分析样品形式多样，用于分析的样品可以是固体、液体、气体或其他形式的混合，如：浆状物质、凝胶体或含有固体颗粒的气体，无需预处理，避免了一些误差的发生。（5）微量分析物质，样品需求量少，毫克甚至微克的数量级即可，特别适合现场成瘾药物检测。（6）通过蓝牙方式远程控制扫描，通过Android智能设备进行危化品等物质检测操作，保障了用户的安全性。3、PERS-D600基于表面增强拉曼光谱技术，测试范围更广，且传承和应用的是厦门大学在拉曼领域的研究成果和相关技术，保证技术的可靠性和先进性。4、PERS-D600小巧轻便易携带，适应于娱乐场所、制毒窝点、吸毒现场快检等多种场合使用。应用检测范围广泛——适用于广泛未知物质（成瘾药物、新型成瘾药物、易制毒化学品、危险化学品等）的拉曼技术检测；适用多种形式样品——无需取样，可直接对瓶装样品和塑料包装样品直接照射检测，适用于气体、液体、固体和其他形式的物质检测，无需直接接触未知物质。特点非接触式检测：可直接通过自封袋或其他半透明包装材料进行扫描，提高用户安全性；无损采样：拉曼光谱是非破坏性的光谱，直接对着样品进行原位的无损检测，且光子探针功率较低，采集过程不会损坏样品；分析样品形式多样：用于分析的样品可以是固体、液体、气体或任何形式的混合，如浆状物质、凝胶体或含有固体颗粒的气体。同时，样品也可以是不透明的、高粘性或含悬浮物的液体，无需预处理，避免了一些误差的发生。样品量要求少：拉曼检测所需样品量很少，毫克甚至微克的数量级即可，特别适合现场成瘾药物检测。高级混合分析：具备详细的混合物分析功能，利用化学计算学算法，可智能分析混合物成分；彩色编码结果显示：页面提供红色、橙色和绿色的样品安全信息，提示物质的危险性；云数据管理：检测数据在服务器上进行管理，可在现场及管理中心进行大数据统计和分析；远程操作：通过蓝牙方式远程控制扫描，通过Android智能设备进行危化品等物质检测操作，保障了用户的安全性。技术规格类别成瘾药物检测拉曼光谱仪型号PERS-D600激发波长785 nm光谱范围175-3200cm-1光谱分辨率优于9cm-1操作系统Android软件普识纳米提供功能全面的软件，包含未知物鉴定模式、筛查模式和混合物分析模式，具有强大的计算能力、便捷的数据管理和简单的操作流程。PERS-D600配套安卓智能手机，操作者可远程操作手机软件进行检测分析，可在几秒内得到检测结果，数据储存在安全数据库中，且可上传至服务器。

钢研纳克检测技术股份有限公司是国内最早使用和开发ICP-MS的科研单位之一，依托国家钢铁材料测试中心，培育了一批ICP-MS应用和仪器专家，20多年来起草已经并发布ICP-MS国际标准1项，国家标准8项，粮食行业标准1项。钢研纳克是重大科学仪器专项《ICP痕量分析仪器的研制》牵头单位，ICP-MS仪器计量检定规程GB/T 34826-2017 起草单位。30年ICP-MS方法开发经验，免费培训，解决客户应用方法的难题，让您ICP-MS用的更好！央企品牌，上市公司，品质之选！ 仪器介绍 电感耦合等离子体质谱仪（ICP-MS）具有检出限低、动态线性范围宽、干扰少、分析精度高、分析速度快、可进行多元素同时测定等优异的分析性能，已成为痕量和超痕量分析最为有效的分析手段之一。可广泛用于环境、食品、药品、化妆品、轻工玩具、材料等行业，是痕量元素分析的重要手段。应用领域--环境分析测试领域 PlasmaMS 300型ICP-MS针对地表水、废水、土壤、沉积物、大气（废气）中颗粒物、固体废弃物等环境样品中重金属元素分析测试及检测的需求，建立了整体应用方案与分析方法。--食品安全问题 PlasmaMS 300型ICP-MS不仅能够有效的检测食品和接触性包装材料中多种金属元素的含量，与LC联用，还可以有效的分离某些特定元素存在的不同价态和形态，完全可以满足食品质量安全领域中的重金属残留分析，重金属形态分析，以及营养元素分析。--轻工玩具可迁移元素 ICP-MS和离子色谱-ICP-MS联用可以解决2019年11月执行的欧盟进口玩具标准EN71-3中可迁移六价铬超低限量的检测需求，通过IC-ICP-MS联用有效地分离三价铬和六价铬，检出限做到了0.006ng/mL,成为能够满足欧盟玩具EN71-3极低检出限要求。--中药重金属检测 中国药典2020修订，其中对药材重金属的含量限制有新的要求。钢研纳克电感耦合等离子体质谱能够有效的检出中药重金属含量，多元素同时检测，检出限低，检测速度快，为药品安全保驾护航。--金属材料研究 PlasmaMS 300与自主研制的激光烧蚀进样系统（LA 300）联用，能够实现小规格异形非平面材料中痕量元素的成分分布和复杂材料体系的痕量元素原位统计分布分析表征。--地矿样品测试 PlasmaMS 300灵敏度高、精度好、抗干扰能力强，是地质样品多元素分析最强有力的技术。满足了矿物三稀元素的多元素快速、准确分析的需求，为“三稀”矿物资源调查和有效利用提供技术支撑。仪器特点--极佳的可靠性和稳定 坚固耐用的射频电源，集成了紧急保护措施的真空系统和自动化控制系统，以及智能一键操作即可完成的仪器和分析流程设置，最大程度的消除了人为干扰，保证了仪器工作的连贯性和优异的重复性。 --高超的分析功能 匹配功能卓越的固态光源，有效的限制了离子化过程中离子的扩散，保证了离子的聚焦性和极高的通过率。带偏转的离子光学系统保证了最佳的离子聚焦效果，有效的降低了背景噪声，提高了信噪比。 --强大的联用技术 可便捷地与激光烧蚀进样系统（LA）及液相色谱（LC）联用。结合LA的功能，可实现了PlasmaMS 300固体直接进样，避免了复杂的样本制备过程，提高了进样及测试效率，扩展了PlasmaMS 300的检测能力，可同时测定样品气溶胶中主、次、痕量元素的含量。与LC联用，可进行有机物中元素的形态分析，进一步扩展了PlasmaMS 300的检测能力和效率，提供了更全面的应用解决方案。 未来可升级为实现与多种前处理装置联用系统，如石墨消解，超级微波消解等装置。--人性化的操作流程全中文的软件界面，符合中国人的思维习惯，“一键式”参数设置直观快捷，提高了用户的工作效率。能够根据客户要求自定义报告格式，同时提供了QC功能及LIMS的接口。--便捷的维护 易于拆装清洗的锥口系统、带偏转的离子透镜系统，减少了离子沉积，延长了仪器的维护周期。耐用的固态光源确保了仪器的长时间无故障使用。依托纳克遍布全国的服务网络，实现了仪器完善的售后服务。

3D Flame ImagingVolumetric flame imaging based on tomographic reconstruction gives insights into the complex 3D-distribution of flame species. While multi-cameras are used in parallel to reconstruct the instantaneous 3D flame structure, time-averaged 3D flame imaging is possible with only one camera collecting consecutively the (laser induced) flame emission from multiple views. 3D flow fields in flames can be measured with LaVision’s FlowMaster Tomo PIV systems.Time averaged 3D flame emission (OH*) imaging using one cameraInstantaneous 3D flame emission imaging using multiple camerasInstantaneous 3-dimensional OH-LIF imaging using four intensified cameras with image doublers Product Information3D Flame Imaging based on Tomographic ReconstructionTomographic LIF Imaging in Turbulent FlamesReferencesTomographic imaging of OH laser-induced fluorescence in laminar and turbulent jet flames

Alphalas皮秒激光器具有较高峰值功率且光束质量良好的TEM00模的被动调Q 1064nm激光器。特别适合先进的OEM工业应用。紧凑的设计也适合系统集成。Alphalas亚纳秒激光器优点1、PULSELAS-P激光器微片设计独特。单色的激光腔稳定性相当好。2、Alphalas亚纳秒激光器直接通过微片激光器的振荡腔，可以输出1ns,1.5mJ以上的单脉冲能量，峰值功率大于1.5 MW，而不需要放大器。 这些模块工作的重复频率可达100 kHz，平均功率从100mW到1 W。大多数模块带有内置的频率发生器和外置的TTL触发。波长转换到绿光(532nm)和紫外(355nm, 266nm)可选。3、相当可靠和坚固的微片设计，特别适合先进的OEM工业应用。紧凑的设计也适合系统集成。光纤泵浦形式提供了更为紧凑和灵活的手段。4、这些独特的激光器光谱覆盖范围宽，具有相当广泛的应用，从光子晶体光纤超连续光到工程点火、微加工等。 特性1、被动Q开关2、相当紧凑，独特的微片设计3、1064 nm亚纳秒脉冲4、Alphalas亚纳秒激光器的高峰值功率和脉冲能量(1.5 MW，1.5 mJ)5、重复频率100 kHz6、平均功率达1 W7、低抖动的外部触发8、频率转换到532, 355 and 266 nm (可选) ns脉冲9、其他波长 (如946 nm, 1342 nm)可定制提供应用1、材料加工，微加工 2、非线形光学3、超连续光产生4、时间分辨的荧光测量5、DNA分析6、激光雷达LIDAR和激光扫描 7、激光诱导下转换谱(LIBS)8、爆破，燃烧工程，混合气体点火PULSELAS-P-1064-100PULSELAS-P-1064-200PULSELAS-P-1064-300-FCPULSELAS-P-1064-100-HPPULSELAS-P-1064-400-HPPULSELAS-P-1064-100-HEPULSELAS-P-1064-150-HE波长nm1064峰值能量(μJ, ± 10%)6-10@5kHz6-10@5kHz15-20@5kHz120@1kHz400@100Hz1000@100Hz1500@100Hz平均功率mW100@10kHzTyp.200@20kHzTyp.300@20kHzTyp.150@1kHzTyp40@100HzTyp.100@100HzTyp.150@100Hz脉宽psTyp.800Typ.800Typ.800Typ.900Typ.1000Typ.900Typ.1100重复频率kHzTyp.10Typ.20Typ.15Max.2Max.0.150-0.10-0.1光束质量TEM00偏振率100:1光斑直径mm0.30.30.30.40.40.30.3发散角(mrad)Typ.6 功率稳定性2%rms,1hour

纳米力学测试仪 iNano灵活易用的力学测试可广泛用于各种材料和应用iNano专为压痕、硬度、划痕测试和多元化纳米级测试等纳米级力学测试设计。iNano能够测试包括软质高聚物到硬质涂层和薄膜等在内的各种材料。模块化系统选项可以完成各种不同应用：特定频率测试、定量划痕和磨损测试、集成探针成像、高温测试和自定义方法编程等。除了能够推进高校科研之外，iNano还可以为以下材料和行业进行纳米压痕测试和抗蠕变性测量：生产质量控制金属和合金医药器械涂料和油漆半导体高聚物与塑料MEMS/纳米级器件电池和储能材料陶瓷与玻璃主要功能高度模块化设计, 既具有最为宽泛的测试功能，又可提供高通量的自动化测试功能，并配有统计数据分析包，适用于纳米力学性能测量、扫描探针显微成像、高温测量和IV电压电流特性测试实时高效的实验控制，简单易用的测试流程开发和测试参数设置标准的InForce 50电磁驱动器集成高速控制器电子设备完成告诉数据采集高达100kHz，捕获材料瞬间的响应，例如锯齿流变和断裂现象。仪器使用工业界最短的时间常数20μs，精准捕捉材料瞬间的真实响应集成了噪音隔离功能的高刚度框架，可确保对各种材料进行准确测量数码变焦的高分辨光学显微镜，精确定位样本纳米压痕专家在线讲授专业纳米压痕课程，以及移动应用程序能够提供测试方法的实时更新功能与选项概览KLA 核心技术iNano 采用电磁驱动转换器提供动力，电磁驱动加载模块技术因其众多的优势被广泛的应用在KLA的压痕设备中,轻松实现载荷和位移的宽动态范围的控制,提供纳米级的力学测试功能, 实现高精度观察与定位测试样本,以及样品高度的简易调节。在其标准配置中，iNano采用了InForce 50驱动器，并提供模块化控制器以便用户按需要增加功能。iNano设备提供扫描探针成像功能、划痕及磨损测试功能、高温纳米力学测试功能、连续刚度测试(CSM) 和高速3D及4D力学图谱等模块化升级选件。该系统兼容ISO14577国际标准。iNano 采用高阶的InView&trade 测试控制和数据采集软件,包含用于简化测试设置的带屏幕控制的InviewRunTest，可在测试期间或之后进行数据分析的 InView ReviewData，和生成各种综合性测试报告的 InFocus 软件。连续刚度测量（CSM）压入循环期间测量刚度和其他材料特性KLA的连续刚度测量技术能够轻松评估材料在应变速率或蠕变效应影响下的动态力学性能。CSM技术在压入过程中保持探针以纳米级的振幅持续振动，从而获得硬度、模量等力学性能随深度、载荷、时间或频率的变化而变化的特性。该选项提供学术界与工业界最常用的恒应变速率测试方法，用以测量随深度或载荷变化的硬度和模量。CSM还可用于其他高级测量选项，其中包括用于存储和损耗模量测量的ProbeDMA&trade 方法以及AccuFilm&trade 消除基底效应的薄测量等。连续刚度测量技术在InQuest控制器和InView软件中集成，可以方便使用并保证数据的可靠性。 使用 CSM 选项测量随压入深度而变化的弹性模量AccuFilm&trade 薄膜方法通过校正衬底对测量的影响对超薄膜进行表征基于连续刚度测量技术(CSM)并结合Hay-Crawford模型的新一代AccuFilm&trade 薄膜测试选件可测量附着于衬底的膜层材料，使用AccuFilm超薄膜方法是基于KLA科学家发明的的新一代超薄膜的测试技术，实验设置操作简单，对于软衬底上的硬质膜以及硬衬底上的软质膜，AccuFilm都可以校正衬底在膜测量中所带来的影响。使用 AccuFiLm 薄膜法，基底影响模量和纯薄膜模量作为归一化压痕深度的函数NanoBlitz 3D 快速力学性能分布快速定量地测量表面力学性能分布测量粗糙表面和/或异质材料通过增加观察次数给出具有统计意义的结果NanoBlitz 3D 采用新一代快速纳米压痕测试技术，实现每个压痕测试时间小于1秒。单次试验最大压痕个数为100000（300X300矩阵），可在用户指定的恒定加载力下，提供材料弹性模量，硬度和接触刚度的三维图谱。快速且大量的测试点极大的提高了统计的准确性，同时可以直接对不同相或不同特性区域进行力学均值、分布和面积占比的统计。NanoBlitz 3D功能为用户提供数据可视化和强大的统计数据分析处理功能。使用 NanoBlitz 3D 选项绘制 WC-CO 复合材料的硬度分布图和统计直方图NanoBlitz4D 力学性能断层扫描基于连续刚度测量(CSM) 技术的力学性能断层扫描NanoBlitz 4D力学谱图利用InForce 50或InForce 1000驱动器和Berkovich压头为低E/H值和高模量( 3GPa) 材料生成纳米力学性质的4D图。NanoBlitz4D以每个压痕5秒的速度完成多达10,000个压痕（30×30阵列），并为阵列中的每个压痕测量随深度而变化的杨氏模量(E)、硬度(H)和刚度(S)数值。NanoBlitz 4D采用恒应变速率方法，为用户提供数据可视化和强大的统计数据分析处理功能。使用 NanoBlitz 4D 选项针对多层薄膜绘制两个不同压入深度的弹性和塑性分布图ProbeDMA&trade 高聚物测试聚合物测试包中配置了圆底平头探针、粘弹性测试标样和粘弹特性的测试方法，该测试选件基于连续刚度测量技术，可在不同频率条件下对材料进行高效可靠测量，得到储存模量和损耗模量与频率的变化关系。该测量技术对纳米量级的聚合物及聚合物薄膜的力学表征至关重要，优于传统DMA测试设备。使用圆底平头探针测试一系列标准高聚物样品的储能模量划痕和磨损测试方法压头通过样品表面时对其施加恒定或渐增的载荷iNano系统可以对多种材料进行划痕和磨损测试。在涂层和薄膜经过化学机械抛光(CMP) 和引线键合等的多种工艺处理的时候，其强度及其对基材的附着力会备受考验。在加工工艺中，材料是否能抵抗塑性变形并保持完整而不从衬底上起泡非常重要。理想情况下，介电材料具有高硬度和高弹性模量，因为这些参数有助于了解材料在制造工艺中的性能变化。划痕测试的定量分析300°C 样品加热允许将样品放入一个腔室中，以便在测试期间对其均匀加热300°C 的样品加热选项允许将样品放置在一个腔室内进行均匀加热，同时接受测试。iNano 样品加热选项用于表征高温下的机械性能。国际标准化的纳米压痕测试iNano包括预先内置的ISO 14577测试方法，可根据ISO 14577 标准测量材料硬度。该测试方法可以自动测量并输出杨氏模量、仪表硬度、维氏硬度和归一化压痕功。按照 ISO14577 标准在一系列标准样品上所测得的硬度值iNano 的其他升级选项远程视频观看 : 远程视频选项包括已安装的网络摄像头，便于在测试之前和期间查看样品。两个观察角度分布为样品设置视图和原位测试视图，可分别观察样品和纳米压头。DataBurst 模式 : DataBurst 模式在高达 100kHz 的速度下触发超级数据采集，捕获材料瞬间响应，例如锯齿流变和断裂现象；允许在真正的步进荷载下测量高应变率材料的力学性能；仪器使用工业界最短的时间常数，帮助客户精准捕捉材料瞬间的真实响应。InView 开放式软件编写平台 : InView 采用开放式软件编写平台，以帮助客户在测试过程中实现加载，测量和计算的全方位控制。用于设计新颖或复杂的实验。开放式软件编写平台给予客户极大的灵活性：帮助客户轻易采集原始测试数据到和最终分析结果的全面使用；客户可以完全浏览，编辑计算公式，自定义参数，实现个性化试验设计；用户可以自由设计和改变试验参数和试验过程，为探索新的试验测试提供可能。TrueTestI-V 电学测试 : True Test I-V 选项允许用户向样品施加特定电压并测量压头的电流，以表征纳米力学测量过程中电学特性的局部变化。带有模块化机架的主动振动隔离:在 iNano 的内置被动隔振的基础上增加主动隔振，为超薄薄膜上高难度的纳米力学测量提供了强大的稳定性和精确度。主动隔振系统减少了所有六个自由度的振动，无需进行调整。生物软材料测试选项台 : 生物材料测试方法利用核心技术连续刚度测试 CSM 表征模量在 1kPa 左右的生物软材料 包含一个平底压头和测量软材料储存损耗模量的测试方法。压头探针和校准样品 : InForce 50、InForce 1000 和 Gemini 驱动器的可互换压头包括 Berkovich、立体角、维氏，以及平底和球体压头。

Resolution-spirit 通用模体组适用于纳米CT和微米CT的空间分辨精密评估。&blacksquare 4 种尺寸可选&blacksquare 快捷、易用&blacksquare 1 μm to 10 μm 体素尺寸CT应用&blacksquare 遵从 ASTM E1695-95 标准主要参数模体IIIIIIIV球直径 * [mm]0.51.02.55.0最大市场宽度 [mm]1.02.05.010.0支架尺寸 [mm]1.51.53.05.0支架长度[mm]50.050.050.050.0使用材料红宝石，碳校准流程任何用于CT数据的图像处理软件

RISE电镜-拉曼一体化系统SEM-Raman (RISE Microscopy) RISE电镜-拉曼一体化系统是一款新颖的显微镜技术，在一个集成的显微镜系统中结合了共焦拉曼成像和扫描电子显微镜技术，这种独特的组合为显微镜用户对样品进行综合表征，提供了明显的优势。扫描电子显微镜是一个很好的表征纳米范围内样品表面结构的可视化技术，而共焦拉曼成像是表征样品化学和分子组成的成熟光谱方法。RISE电镜-拉曼一体化系统还可以同时得到样品的2D、3D图像，以及样品中分子化合物组成的可视化分布结果。 引领变革 全方位拓展分析RISE Microscopy是一款创新性的产品，是世界上第一台真正实用化的扫描电镜-拉曼光谱仪联用系统。通过实现原位、快速、方便和高性能的拉曼分析，可以极大的拓展分析应用，在有机结构解析、碳结构解析、无机相鉴定、同分异构分析、结晶度分析等领域作出重大突破。目前，RISE电镜-拉曼一体化系统在地质、矿物晶体、高分子聚合物、医学、生命医药、宝玉石鉴定等领域均有了非常丰富的应用。 无论您是怎样的客户 RISE显微镜都适合您作为扫描电镜用户，您将会受益于拉曼光谱分析与扫描电镜成像技术结合的优势。RISE显微镜采用平行轴设计，使得电镜的各种探测器和附件（如BSE, CL, EDS等）在联用系统中都可以配置使用。作为拉曼光谱用户，您将会体验到扫描电镜与拉曼光谱联用分析的拓展性和易用性。传统的拉曼光谱仪由于没有光学物镜，分辨率受限于激光束斑大小，难以达到理论上的衍射极限，处于几个μm的水平。而RISE显微镜不但拥有高数值孔径的光学物镜聚焦激光束斑，还能够通过束斑的扫描运动来进行成像，最终的拉曼图像分辨率突破了传统的衍射极限，达到了360nm(532nm激光)。 定制化系统功能：q 平行轴式设计，保证样品台分别在电子束和激光束下的精准定位q 基于TESCAN超大样品仓定制，拥有丰富的接口和极强的承高承重能力q 同时具备电镜和光镜，配合X-Position功能，实现和任意光学照片及Mapping数据的联用q 可集成电镜的各种探测器和分析附件，进一步拓展分析应用q 点、线、面的拉曼成像分析，叠加图像能够提供极其丰富的数据信息q 突破传统的衍射极限，拉曼图像分辨率可达360nm (532nm激光)q 共聚焦功能实现光学物镜的三维逐层扫描，进行三维拉曼光谱成像q 联用系统的扫描电镜部分和拉曼光谱仪部分可完全独立使用q 联用系统可以集成在TESCAN任意扫描电子显微镜产品 无论哪个领域 RISE显微镜都会给您提供独特的方案RISE电镜-拉曼一体化系统特别适合于有机结构解析、碳结构解析、无机相鉴定、同分异构分析、结晶度分析等领域的分析应用。目前，RISE显微镜在地质、矿物晶体、高分子聚合物、医学、生命医药、宝玉石鉴定等领域均有了非常丰富的应用。碳材料有机材料 二维材料无机材料共聚焦分析更多应用案例，请关注“TESCAN公司”中国官方微信平台查看。

RISE电镜-拉曼一体化系统SEM-Raman (RISE Microscopy) RISE电镜-拉曼一体化系统是一款新颖的显微镜技术，在一个集成的显微镜系统中结合了共焦拉曼成像和扫描电子显微镜技术，这种独特的组合为显微镜用户对样品进行综合表征，提供了明显的优势。扫描电子显微镜是一个很好的表征纳米范围内样品表面结构的可视化技术，而共焦拉曼成像是表征样品化学和分子组成的成熟光谱方法。RISE电镜-拉曼一体化系统还可以同时得到样品的2D、3D图像，以及样品中分子化合物组成的可视化分布结果。 引领变革 全方位拓展分析RISE Microscopy是一款创新性的产品，是世界上第一台真正实用化的扫描电镜-拉曼光谱仪联用系统。通过实现原位、快速、方便和高性能的拉曼分析，可以极大的拓展分析应用，在有机结构解析、碳结构解析、无机相鉴定、同分异构分析、结晶度分析等领域作出重大突破。目前，RISE电镜-拉曼一体化系统在地质、矿物晶体、高分子聚合物、医学、生命医药、宝玉石鉴定等领域均有了非常丰富的应用。 无论您是怎样的客户 RISE显微镜都适合您作为扫描电镜用户，您将会受益于拉曼光谱分析与扫描电镜成像技术结合的优势。RISE显微镜采用平行轴设计，使得电镜的各种探测器和附件（如BSE, CL, EDS等）在联用系统中都可以配置使用。作为拉曼光谱用户，您将会体验到扫描电镜与拉曼光谱联用分析的拓展性和易用性。传统的拉曼光谱仪由于没有光学物镜，分辨率受限于激光束斑大小，难以达到理论上的衍射极限，处于几个μm的水平。而RISE显微镜不但拥有高数值孔径的光学物镜聚焦激光束斑，还能够通过束斑的扫描运动来进行成像，最终的拉曼图像分辨率突破了传统的衍射极限，达到了360nm(532nm激光)。 定制化系统功能：q 平行轴式设计，保证样品台分别在电子束和激光束下的精准定位q 基于TESCAN超大样品仓定制，拥有丰富的接口和极强的承高承重能力q 同时具备电镜和光镜，配合X-Position功能，实现和任意光学照片及Mapping数据的联用q 可集成电镜的各种探测器和分析附件，进一步拓展分析应用q 点、线、面的拉曼成像分析，叠加图像能够提供极其丰富的数据信息q 突破传统的衍射极限，拉曼图像分辨率可达360nm (532nm激光)q 共聚焦功能实现光学物镜的三维逐层扫描，进行三维拉曼光谱成像q 联用系统的扫描电镜部分和拉曼光谱仪部分可完全独立使用q 联用系统可以集成在TESCAN任意扫描电子显微镜产品 无论哪个领域 RISE显微镜都会给您提供独特的方案RISE电镜-拉曼一体化系统特别适合于有机结构解析、碳结构解析、无机相鉴定、同分异构分析、结晶度分析等领域的分析应用。目前，RISE显微镜在地质、矿物晶体、高分子聚合物、医学、生命医药、宝玉石鉴定等领域均有了非常丰富的应用。碳材料有机材料二维材料无机材料共聚焦分析

National Aperture公司是一家专业生产高精度的微针孔、微狭缝的公司。其产品种类齐全，质量可靠，在市场上处于领先地位。另外，National Aperture公司为解决目前位移台都较大而不便于集成的问题，推出最小尺寸的亚微定都的高度微位移台。■高功率的高精度微针孔● 直径： 3/8 inch (0.375 inch), 9.53mm ● 定位误差： ?.006 inch (0.15mm)● 厚度：0.001 inch (25μm)● 损伤阈值：0.5～1MW/mm2，75 ns，700nm； 应用领域：● 空间滤波● 高功率激光光束调节● 气体/液体流量调节 ● 光谱学● 光纤光学 ● 天文学型号 尺寸(μm) 误差 3-5 5μm ±1μm 3-10 10μm ±1μm 3-15 15μm ± 1.5μm 3-25 25μm ± 2μm 3-50 50μm ±3μm 3-100 100μm ± 4μm 3-200 200μm ± 6μm 3-size 1100 up to 7000μm

National Aperture公司是一家专业生产高精度的微针孔、微狭缝的公司。其产品种类齐全，质量可靠，在市场上处于领先地位。另外，National Aperture公司为解决目前位移台都较大而不便于集成的问题，推出最小尺寸的亚微定都的高度微位移台。高精度微狭缝● 直径：3/8 inch (0.375 inch), 9.53mm ● 定位误差： ?.006 inch (0.15mm)● 厚度：0.0005 inch (12.7μm)应用领域：● 空间滤波● 高功率激光光束调节● 气体/液体流量调节 ● 光谱学● 光纤光学 ● 天文学型号缝宽 (μm) 长度误差2 - 1 - 11.0μm1 mm+0.5μm, -0μm2 - 2.5 - 32.5μm 3 mm +1μm, -0.5μm 2 - 5 - 3 5μm 3 mm+ 1μm 2 - 10 - 310μm 3 mm+ 1μm 2 - 25 - 325μm 3 mm+ 2μm 2 - 50 - 350μm 3 mm+ 2μm 2 - 100 - 3100μm 3 mm+ 4μm 2 - 150 - 3150μm 3 mm+ 4μm 2 - 200 - 3200μm 3 mm+ 4μm

在制备脂质纳米颗粒 LipidNanoparticle（LNP）的过程中，关键步骤 是 磷 脂 和 缓 冲 液（ 缓冲液中溶解有mRNA、siRNA等生物大分子）在微流控芯片中快速均匀混合，自组装成LNP。微流控LNP制备平台具备粒径和单分散度高度可控、批次之间高重复性、低样品消耗、易操作等优势，可大幅度提高客户前期配方筛选效率。| 粒径均一且可控粒径从40 nm到200 nm可控，单分散度（PDI）低于0.2；| 批次重复性高全自动化系统，无管路连接，无需启动和清洁，消除不同批次的可变性；| 智能控制可自动检测芯片堵塞和泄漏等异常情况，自动停机，节约用户宝贵原料；| 耗材成本低芯片强度极高，耐压50Bar(5Mpa)，可经过清洗重复使用；| 操作简易无需外接电脑，全触屏配置，实验参数可加载或保存，开机30秒内即可开始制备；| 运行高效设备兼容国内外一次性注射器型号，单次运行时间 9~40s，一天内可完成上百种配方筛选。| 智能控制内置压力与位置传感器，精准控制样品流速；双通道独立控制，流速比灵活设置；自动检测芯片堵塞和泄漏等异常情况，自动停机；快速到达设定流速，大幅度减少前废液体积。设备参数： 实验案例： 【复方磷脂制备脂质纳米颗粒建议方案】计算核酸用量：核糖核苷酸的平均分子量为339.5，形成RNA时要脱去一分子水，因此分子量按330.5计算。脱氧核糖核苷酸的平均分子量为327.0，形成DNA时要脱去一分子水，因此分子量按318.0计算。 以可电离脂质比例计算氮原子数，每摩尔复方脂质中含有 0.5 mol氮原子。试剂选择推荐：保存方式稀释/储存缓冲液4℃保存10mM PBS缓冲液，pH 7.4冷冻保存Tris 缓冲液（含8%蔗糖），pH 7.4脂质纳米颗粒制备：以mRNA制备LNP为例：将mRNA溶解到50mM pH4.0的柠檬酸钠缓冲液中，使终浓度为0.073 μg/μL。 利用微流控设备，将含有核酸的柠檬酸钠缓冲液与磷脂在相应芯片中混合，相应参数参考下表，所得LNP使用30倍体积的缓冲液稀释，100KD超滤管，3000g离心超滤浓缩到所需体积，选择上述（2）中条件保存。芯片型号注射器型号缓冲液与磷脂混合比例（v/v）流速（mL/min：mL/min）LNP-B110 mL，3 mL3 ：118 ：6配套产品： | LNP中体积混合芯片 | LNP包封试剂盒 LNP粒径：40~200 nm；总流速范围：0.04 ~ 40 mL/min（ 乙醇和水按照1:3设置）；鱼骨形混合结构，层流混合时间＜3 ms；COC材质，耐压 50 Bar 以上，无泄漏堵塞风险；无需管路，芯片与注射器直接连接。复方磷脂和缓冲液，即开即用；可包裹 mRNA,siRNA,CRISPR/Cas9 等核酸；95% 的转染率；低毒性；可提供完整实验方案。

Global Leader in Process Control since 1976KLA-Tencor 是全球半导体在线检测设备市场最大的供应商；KLA-Tencor2018 年 3 月从 Keysight Technologies 公司收购了行业的龙头产品-高精度原位微纳米力学测试系统-Nano Indenter G200 和高精度微纳米拉伸系统-UTM T150；该力学设备的工厂是全球最大的高精度力学测试系统的供应商，1983 年成功制造了世界上第一台商用Nano Indenter。该力学设备的工厂是业内唯一拥有超过 35 年的 Nano Indenter 生产和研究经验的供应商，成熟的工艺保证了新一代 Nano Indenter G200 具有最好的稳定性和可靠性。该力学设备的工厂拥有最广泛的顾客群，在高端力学测试系统领域内拥有最高的的市场占有率。 1． 产品技术水平KLA-Tencor 公司拥有最多的 Nano Indenter 的核心专利技术，包括已成为业界标准的连续刚度测量功能、接触刚度成像功能以及快速纳米压入测试技术等等；KLA-Tencor 公司的连续刚度测量功能已经成为薄膜、涂层、多相材料等样品检测最常用的的测试技术，并已经录入各种力学领域的国际标准和中国国家标准内。KLA-Tencor 拥有世界上最快压痕测试技术的专利，最快可达到 1 压痕点/秒。 2． 售后服务和技术支持KLA-Tencor 公司在中国有超过 600 名员工，在国内配备本土 Nano Indenter 方面的技术专家，在业内拥有最好的口碑。KLA-Tencor 公司在中国拥有自己的纳米科学示范实验室，并有专职的应用专家在实验室工作，负责用户的应用技术支持工作；KLA-Tencor 公司还定期地举办高级用户培训班，由公司的应用科学家为不同学科的用户进行各个领域应用的深层次培训。 特点和优势– 广受赞誉的高速测试选项可以和所有G200 型纳米压痕仪配合使用, 包括DCMII 和 XP 模块以及样品台– 快速进行面积函数和框架刚度校对– 精确和可重复的结果, 完全符合ISO14577 标准– 通过电磁驱动, 可在无与伦比的范围内连续调整加载力和位移– 结构优化, 适合传统测试或全新应用– 模块化选项, 适合划痕测试, 高温测试– 和动态测试– 强大的软件功能, 包括对试验进行实时控制, 简化了的特殊测试方法的开发Nano Indenter G200在微/纳尺度范围内的加载和位移构成精确的力学测试 应用– 半导体器件, 薄膜– 硬质涂层, DLC薄膜– 复合材料, 光纤, 聚合物材料– 金属材料, 陶瓷材料– 无铅焊料– 生物材料, 生物及仿生组织等等先进的设计所有的纳米压痕试验都取决于精确的加载和位移数据，要求对加载到样品上的 载荷有精确的控制。KT最新的第五代 G200 型纳米压痕仪采用电磁驱动的载荷装置，从而保证测量的精确度，独特的设计避免了横向位移的影响。 KT最新的第五代 G200 型纳米压痕仪的杰出设计带来很多的便利性，包括方便的测试到整个样品台，精确的样品定位，方便的确定样品位置和测试区域，简 便的样品高度调整，以及快速的测试报告输出。模块化的控制器设计为今后的 升级带来极大的方便。 此外，最新的第五代 G200 型纳米压痕仪完全符合各种国际标准，保证了数据的完整性。客户可以通过每个力学传感器自主设计试验，在任何时候对其进行切换，同时整个设备占地面积小，适合各种实验室环境。KLA-Tencor技术顾问服务KT拥有一支经验丰富的技术支持和服务工程师团队，可针对客户的 特殊应用与测试需求提供定制化的技术顾问服务。 经过超过 35 年的发展，NanoSuite 已经成为业内公认的界面友好、操作简便、功能齐全的数据采集和处理软件包，NanoSuite 不仅可以自动测试，也可以使用户利用网络远程遥控进行实验控制，NanoSuite 不仅能够做到压入过程中硬度和弹性模量等力学性能的实时计算和显示，同时允许用户根据自 己的研究需求以及提出的新模型随时添加新的软件通道，此外，根据实验参 量的变化快慢能够自动调整数据的采集速率，实现了智能化的数据采集功 能，从而既获得您真正需要的数据，又可避免不必要的垃圾数据。增强的载荷加载系统新一代 Nano Indenter G200 系列纳米压痕仪是具有从纳牛到牛顿最为完整的加载力范围，并且不同的加载装置可自动软件切换，整个测试流程都是全 自动的，极大的提高了测试数据的可靠性和可重复性，避免了可能的人为因 素的影响，确保每个测试都是合理、一致、精确。标准的加载装置Nano Indenter G200 纳米压痕仪标准配置是 XP 加载系统 (最大为500mN)， 位移分辨率 0.01纳米，最大压入深度 500 微米,该装置可应用到所有的测试功能。压头更换轻松完成，非常好的机架刚度极大的减少了系统对测试的影响。高精度加载装置DCM II 是高分辨的纳米纳牛力加载模块，它既可以单独工作，也可以作为一个附件与Nano Indenter G200 协同工作。由于其惯性质量很低，使得纳米压痕中的初始表面的选取更加灵敏、精确， DCM II 在超低载荷下的纳米压痕测试具有极高的精确度和可重复性，由于它自身的空载共振频率远高于一般建筑物的振动频率，这就使得一般的环境振动对它几乎没有影响，DCM II 具有很宽的动态频率范围 (0.1 Hz 到 300 Hz)，所有这些特点使得 DCM II 可以提供同类设备不可比拟的高信噪比和高可靠性的试验数据，例如右图所示的蓝宝石上三个纳米深度的压痕测试，在几个纳米的压痕深度范围内获得了非常可靠的弹性模量。大载荷加载装置Nano Indenter G200的大载荷加载选件，大大强化了 G200 系列纳米压痕仪的应用范围。这个选件可以用于标准的 XP 加载模块，将 G200 型纳米压痕仪的加载能力扩展至 10N，可对陶瓷、金属块材和复合材料进行力学表征。大载荷选件的巧妙设计，使得 G200 既避免了在低载荷的情况下牺牲仪器的载荷和位移精度，同时又保证了用户在需要大加载力的测试时，通过鼠标操作就可以在测试实验中进行无缝加载装置切换。

特色：波长262-1340nm，功率高达4WTEMoo，优异的光束质量超低功耗、超高效率风冷-无需水冷或者风扇制冷即插即用，无噪音与振动无与伦比的超紧凑结构设计，质量超轻重频内置可调1kHz-100kHz，外部触发可调0Hz-200kHz应用：材料加工、半导体检测、激光雷达、光致发光、太阳能材料加工、拉曼光谱、科研 波长UV-IR (nm):262, 266, 349, 351, 355, 440, 447, 473, 523, 527, 532, 555, 561, 589, 593, 660, 671, 946, 1047, 1053, 1064, 1313, 1320, 1340Laser crystals and Wavelengths Nd:YAG/Nd:YVO4 Nd:YLF Max. average output power*UV Laser 266 nm 262, 263 nm 75mW 50mW 30mW 20mW 10mW 5mWUV Laser 355 nm 349, 351 nm 200mW 150mW 100mW 50mW 25mW 10mWBlue 473 nm 440, 447 nm 50mW 25mWGreen 532 nm 523, 527 nm 2W 1W 500mW 200mW 100mW 50mWRed 671 nm 657, 660 nm 400mW 200mW 100mW 50mWIR Laser 1064 nm 1047,1053 nm 2W 1W 500mW 200mWMore wavelengths available:438,440,447,473,555,561,589,593,750-1000,946,1313,1320,1342 nmPulse energy** From 0.001mJ to 0.3 mJ or 1 mJ for Nd:YLF laserPulse width Typically 10 ns to 25 ns varies from lasers and rep. rate special selection from 1 ns to 300 ns availableRepetition rate 1 kHz to 100 kHz internal adjustable 0 Hz to 200 kHz by external triggerExternal trigger signal TTL, trig at rising edgeTransverse beam mode Single mode, TEMoo, M21.3, typical M21.1Longitudinal mode Multiple longitudinal modes NEW LASER PRODUCTS Single longitudinal mode Q-switched lasers Please contact CrystaLaserBeam divergence 3 to 4 mrad, full angle, diffraction limited beamBeam point stability +/-0.005 mrad/degree CBeam diameter (1/e2) IR 0.5 mm, Green 0.35 mm, UV 0.25 mmPower stability, rms 5% after warm-up, at 1k to 10kHzPulse to pulse variation +/-3% IR, +/-5% green, +/-10% UVPolarization ratio 100:1Dimensions of laser head 5x18.5x3.6 cm (L,W,H) Type 2, for most of the lasers or 7x18.5x3.6 cm (L,W,H) for high power lasersDimensions of power supply 20x20x8 cm (L,W,H)Cooling Laser head: conductive cooling Power supply: fanWarm-up time 3 minOperation temperature 10 to 35 degree COperation voltage 90-250 VAC 12 VDC input availablePower consumption 40 W, typical

National Aperture公司是一家专业生产高精度的微针孔、微狭缝的公司。其产品种类齐全，质量可靠，在市场上处于领先地位。另外，National Aperture公司为解决目前位移台都较大而不便于集成的问题，推出最小尺寸的亚微定都的高度微位移台。高精度微针孔● 直径： 3/8 inch (0.375 inch), 9.53mm ● 定位误差： ?.006 inch (0.15mm)● 厚度：0.0005 inch (12.7μm)应用领域：● 空间滤波● 高功率激光光束调节● 气体/液体流量调节 ● 光谱学● 光纤光学 ● 天文学型号 尺寸 (μm) 误差 1-0.5 0.5μm +0.3μm, -0μm 1-1.0 1.0μm +0.5μm, -0μm 1-2.0 2.0μm ±0.5μm 1-3.0 3.0μm ± 0.5μm 1-5.0 5.0μm ± 1μm 1-10 10μm ± 1μm 1-15 15μm ±1.5μm 1-20 20μm ± 2μm 1-25 25μm ± 2μm 1-30 30μm ± 2μm 1-35 35μm ± 2μm 1-40 40μm ± 3μm 1-50 50μm ± 3μm 1-75 75μm ± 3μm 1-100 100μm ± 4μm 1-150 150μm ± 6μm 1-200 200μm ± 6μm 1-300 300μm ± 8μm 1-400 400μm ± 10μm 1-500 500μm ± 10μm 1-600 600μm ± 10μm 1-700 700μm ± 10μm 1-800 800μm ± 10μm 1-900 900μm ± 10μm 1-1000 1000μm ±10μm 1-size up to 7,000 μm

产品详情Nano Indenter G200X可提供纳米级的力学测试功能，简单易用，能够精确进行各种力学定量分析。G200X系统中配置了高精度纳米马达样品台、最 大的样品安装系统和高分辨率光学显微镜。InView软件、InQuest控制器和InForce驱动器让KLA全线压痕产品系列具有一致的卓 越性能。 G200X系统可选功能包括连续刚度测量(CSM)、扫描探针显微成像、划痕测试、动态力学分析频率扫描，、IV电压电流特性测试、超高速压痕测试和冲击测试等等。主要功能电磁驱动器可轻松实现载荷和位移的宽动态范围的控制高分辨率光学显微镜与精密XYZ 移动系统结合，实现高精度观察与定位测试样本。便捷的样本安装台与多样本定位设置功能实现高通量测试。高度模块化设计，设备提供扫描探针成像功能、划痕及磨损测试功能、高温纳米力学测试功能、连续刚度测试(CSM) 和高速3D及4D力学图谱等模块化升级选件。直观的用户操作界面便于快速的进行测试设置；仅需点击几下鼠标即可完成复杂测试的参数设置。实时高效的实验控制，简单易用的测试流程开发和测试参数设置。全新的InView软件，提供用于分析数据的Review软件和生成各种综合性测试报告的 InFocus软件。独 家发明并获得美国R&D奖的材料表面力学图谱功能和高速测试功能，极大的提高了定量数据的可靠性。InQuest高速数字控制器，数据采集速率最 高可达100kHz，时间响应常数最快为20µ s。主要应用高速硬度和模量测量 (基于Oliver-Pharr 模型)高速材料表面力学特性分布测量ISO 14577 标准化硬度测试薄膜及涂层测试界面附着力测量断裂韧性测量粘弹性测量,储能模量和损耗模量及损耗因子扫描探针显微成像（3D 成像）定量划痕和磨损测试高温纳米压痕测试IV电学测试行业分布高校、科研实验室和研究所半导体芯片行业PVD/CVD 硬质涂层（DLC、TiN)MEMS：微机电系统/纳米级通用测试陶瓷与玻璃金属与合金制药膜层材料与油漆复合材料电池与储能汽车与航空航天应用硬度与模量测试 (Oliver-Pharr模型)在薄膜的工艺控制和制造过程中，表征其力学性能至为重要，其中包括汽车行业的涂层质量，以及半导体制造中的前道和后道工艺控制等。G200X纳米压痕仪可在宽泛材料上测量硬度和模量，对从超软凝胶类样品到硬质涂层等各种材料提供解决方案。更快，更好和更具成本效益的解决方案为生产线提供可靠的品质控制及保障。高速材料力学性能图谱功能对于包括复合材料在内的许多材料而言，不同区域之间的力学性能可能会有很大差异。 G200X系统能够在X轴和Y轴方向上各提供 100 毫米的样品台移动，并在Z轴方向上提供25毫米的移动，在大面积样本区域下轻松表征不同厚度，宽度，长度的样本。可升级选件NanoBlitz 力学形貌图谱和断层谱图 软件能够快速输出力学性能的彩色分布图。ISO 14577 硬度测试Nano Indenter G200X 包括预先内置的ISO 14577测试方法，可根据ISO 14577 标准测量材料硬度。该测试方法可以自动测量并输出杨氏模量、仪表硬度、维氏硬度和归一化压痕功。界面附着力测试膜层材料的界面粘附性的测量对于帮助用户了解薄膜的失效模式至关重要。内应力的存在常常会导致镀层样品的薄膜分层现象，Nano Indenter G200X系统可以通过膜层界面的断裂及黏附特性和残余应力等性能的测试，实现对多层界面的性能评估。断裂韧性测试断裂韧性反映了结构阻止宏观裂纹失稳扩展能力，是结构抵抗裂纹脆性扩展的参数。低断裂韧性值意味着样品存在的缺陷。G200X特有的刚度成像功能可以轻松地对材料的断裂韧性进行评估。（刚度分布测量需要连续刚度测量和NanoVision选件）粘弹材性测试聚合物是结构异常复杂的材料，力学性能易受其化学特性、加工工艺和热力学历史的影响。力学性能取决于母链的类型和长度、支化、交联、应变、温度和频率等，而这些因素通常是相互关联的。G200X可在特定测试环境中对相关聚合物样本进行力学测试，为聚合物高分子材料设计参数决策提供了有价值的数据信息。/p纳米压痕测试所需样本尺寸小，样本制备要求简单，可高效简化这种特定环境的测量。Nano Indenter G200X 系统还可以通过与材料充分接触的同时激发高频振动来测量聚合物样品的复合模量和粘弹性。扫描探针显微成像 (3D 成像)Nano Indenter G200X 系统提供两种扫描探针显微成像方式，用户可利用三维成像来表征断裂韧性研究中产生的裂纹长度等。 Nano Indenter G200X 与NanoVision选件结合，可提供高达1nm步进的横向分辨率的高精度PZT样品台，实现高精度定位，100µ m x 100µ m的最 大横向扫描范围。Nano Indenter G200X测试平台标准的高精度X/Y 纳米马达台与Inview 软件及扫描测量选件结合，可提供500µ m x 500µ m的最 大横向扫描范围。定量划痕和磨损测试G200X 系统可以对多种材料进行划痕和磨损测试。在涂层和薄膜经过化学机械抛光 (CMP) 和引线键合等的多种工艺处理的时候，其强度及其对基材的附着力会备受考验。在加工工艺中，材料是否能抵抗塑性变形并保持完整而不从衬底上起泡非常重要。理想情况下，介电材料具有高硬度和高弹性模量，因为这些参数有助于了解材料在制造工艺中的性能变化。产品优势NanoIndenter G200X纳米级力学测试平台，简单易用，能够快速准确的提供各种定量的力学测试结果。G200X系统能够轻松表征广泛的材料力学性能，从硬质涂层到超软聚合物样品，并针对不同应用提供综合全面的纳米力学测试升级选件和解决方案。

Novasina/瑞士 便携式水分活度仪 LabSwift-aw瑞士NOVASINA公司几十年来，致力于水分活度和湿度检测技术的研究，其产品在空气、气体、原材料、食品和药品等的水分活度和相对湿度的测定和应用领域，广泛应用于食品工业的开发生产和储存、烟草、空调系统、暖房栽培、印刷和造纸、航空航天、医药、精细化工等行业的生产和质量控制。NOVASINA发明并享有测定方法“电阻电解液法”, 经广泛使用和验证 , 是准确、有效、直接的测量水分活度的方法美国NIST，FDA,欧盟各国、日本的进出口食品检验检疫机构的实验室在水分活度项目上均推荐NOVASINA 仪器。Novasina/瑞士 便携式水分活度仪 LabSwift-aw主要特点：- 测定快速、准确- 可靠度高，长时间稳定- 小巧方便，简明易用- 大LCD 显示- SD存储- 出厂6点校准，长期稳定- 免维护测定范围0.03-1.000aw精度0.001aw温度范围5°C-45°C配置包括主机，标准品盐，样品池， SD卡水活度：Aw值表示化学意义上的游离水分。测量是以平衡湿度为基础的。在一个封闭的空间内，内置一定比例的空气及固体，固体中所含的水分决定了空气的相对湿度。水活性（aw值）实际即是封闭空间内的平衡湿度。食品中的水分含量与食品的易腐性存在一定的关系，水活度aw与微生物的生长和许多降解反应的速度具有很好的相关性,它比水分含量能更可靠的预示食品稳定性、安全和其他性质，成为一个能指示产品稳定性和微生物安全的参数。瑞士Novasina LabStart-aw/LabSwift-aw/LabTouch-aw/LabMaster-aw/LabPartner-aw水活度仪技术参数：图片 型号LabStart-awLabSwift-awLabTouch-awLabMaster-awLabPartner-aw配置类别StandardStandardBasic和StandardBasic、Standard、和AdvancedLabMaster-aw多通道系统测定范围0.20-0.80aw0.11-0.90aw0.06-0.97aw0.03-1.00aw0.03-1.00aw分辨率0.01aw0.01aw0.01aw0.001aw0.002aw精确度± 0.03aw± 0.01aw± 0.005aw± 0.003aw± 0.003aw传感器CM-4CM-2CM-2CM-2CM-2样品温度控制不不可升温；不降温可升降温可升降温温度范围15-30℃5-45℃5-45℃0-50℃0-50℃温度精度±0.3K±0.15K±0.15K±0.2K±0.2K数据存储无测试数据和方法可存测试数据和方法可存测试数据和方法可存测试数据和方法可存通讯接口无SD卡SD,RS-232,USBSD,RS-232,USBSD,RS-232,USB尺寸HxL85x140x225mm85x140x225mm105 x 200 x 300mm260×440×220mm268 x 392 x 170 (300) mm主机重量1.2 kg1.2 kg2.8kg9.8kg10kg电源90-264 VAC / 50-60Hz

Laqua 便携式纳离子测定仪名称：便携式纳离子测定仪 型号：LAQUA 产地：美国用途：Laqua 便携式纳离子测定仪小巧便携，传感器可现场更换，测量范围为0-9900ppm， 现场测量结果非常精确，堪比实验室分析。特点：? 小巧便携? 传感器可现场更换? 测量范围为0-9900ppm? 现场测量结果非常精确，堪比实验室分析 技术参数：测量原理例子电极法所需样品体积0.3ml-2.0ml测量范围23-1300ppm校准150ppm及2000ppm重复性±10%或±10ppm显示4位数字液晶屏电池寿命400小时连续工作运行范围5℃-40℃尺寸164mm x 19mm x 20mm

Novasina/瑞士 台式控温型水分活度仪 LabTouch-aw瑞士NOVASINA公司几十年来，致力于水分活度和湿度检测技术的研究，其产品在空气、气体、原材料、食品和药品等的水分活度和相对湿度的测定和应用领域处于，广泛应用于食品工业的开发生产和储存、烟草、空调系统、暖房栽培、印刷和造纸、航空航天、医药、精细化工等行业的生产和质量控制。NOVASINA发明并享有测定方法“电阻电解液法”, 经广泛使用和验证 , 是准确、有效、直接的测量水分活度的方法美国NIST，FDA,欧盟各国、日本的进出口食品检验检疫机构的实验室在水分活度项目上均推荐NOVASINA 仪器。Novasina/瑞士 台式控温型水分活度仪 LabTouch-aw仪器介绍：Novasina水分活度仪 LabTouch-aw可以在15°C-30°C之间控温，特别适用于中心控制实验室及生产现场的网络化实时监测控制。超大的液晶触摸显示屏控制，操作起来非常简单快捷。 - 超大液晶触摸显示屏控制,探头免维护- 高精度、高重复性、高稳定性、快速的水分活度测量- 长寿命稳定饱和盐溶液标准品- 可选配多种过滤器，防止挥发性物质对测量结果及探头的影响测定范围0.030-1.000aw控温范围15°C-30℃精度0.001aw温度0.1℃水活度：Aw值表示化学意义上的游离水分。测量是以平衡湿度为基础的。在一个封闭的空间内，内置一定比例的空气及固体，固体中所含的水分决定了空气的相对湿度。水活性（aw值）实际即是封闭空间内的平衡湿度。食品中的水分含量与食品的易腐性存在一定的关系，水活度aw与微生物的生长和许多降解反应的速度具有很好的相关性,它比水分含量能更可靠的预示食品稳定性、安全和其他性质，成为一个能指示产品稳定性和微生物安全的参数。瑞士Novasina LabStart-aw/LabSwift-aw/LabTouch-aw/LabMaster-aw/LabPartner-aw水活度仪技术参数：图片 型号LabStart-awLabSwift-awLabTouch-awLabMaster-awLabPartner-aw配置类别StandardStandardBasic和StandardBasic、Standard、和AdvancedLabMaster-aw多通道系统测定范围0.20-0.80aw0.11-0.90aw0.06-0.97aw0.03-1.00aw0.03-1.00aw分辨率0.01aw0.01aw0.01aw0.001aw0.002aw精确度± 0.03aw± 0.01aw± 0.005aw± 0.003aw± 0.003aw传感器CM-4CM-2CM-2CM-2CM-2样品温度控制不不可升温；不降温可升降温可升降温温度范围15-30℃5-45℃5-45℃0-50℃0-50℃温度精度±0.3K±0.15K±0.15K±0.2K±0.2K数据存储无测试数据和方法可存测试数据和方法可存测试数据和方法可存测试数据和方法可存通讯接口无SD卡SD,RS-232,USBSD,RS-232,USBSD,RS-232,USB尺寸HxL85x140x225mm85x140x225mm105 x 200 x 300mm260×440×220mm268 x 392 x 170 (300) mm主机重量1.2 kg1.2 kg2.8kg9.8kg10kg电源90-264 VAC / 50-60Hz