六甲基苯

有毒挥发性有机物（VOC）的泄漏只要化学品生产装置存在，就存在有毒挥发性有机物泄漏的潜在危险，监管机构通常都会要求工厂监测环境气体成分，以避免工人受到长期接触的伤害。有各种形式的捕获装置包括真空罐（苏玛罐）、可挥发性有机物报警器或吹扫和捕获装置。收集到的样品需要送往环境实验室进行分析。另外，还可利用电化学传感器来即时显示是否存在浓度超过预定水平的目标分子。还有一种定量方法是使用开路式傅利叶变换红外光谱仪测定VOC是否在警戒线以内。利用这些不同技术获得的数据，通常都用来满足当地法规的要求。然而，这些技术都不能提供满足诉讼依据要求的时间和空间的分辩率。Sentinel PRO环境质谱仪：简单全面的数据采集Sentinel PRO环境质谱仪能够在15分钟以内监测100个以上的取样点，并在0.01至1ppm精度范围内检测特定物质。凭借其速度和精度，它可监测所有关键区域的短时泄漏，并提供准确的8小时、时间加权平均泄露数据。由于具有大量可用的取样点，许多取样点可位于靠近潜在泄漏点的地方，如：阀杆处等，以便在有毒危害发生之前进行泄漏检测和修复。尽管安装这种装置的主要目的是为了保护操作人员和符合环保法规，但其使用效果往往超越了对泄露防护的要求。Sentinel PRO ：渗透膜进样质谱仪 Sentinel PRO环境质谱仪之所以取得成功，关键之一是独特的配有32或64接口的快速多流路取样器(RMS）。它采用零死体积设计，可实现快速置换，且交叉干扰为零。每台Sentinel PRO质谱仪均可装配两套RMS，这样，一个单一系统便可代替很多的灵敏度较差、单组分的分析仪。RMS包括一个旁路取样设计，允许一个流量检测器对各流路依次监测。如果过滤器出现堵塞，或液体堵住取样管，系统就会发出报警。分析仪配有一个渗透膜进样口,以便将空气样品的压力由大气压减小至 Sentinel PRO封闭离子源的工作压力（通常为10-4 mbar）。这个渗透膜进样口采用的进样方法可大大提高系统对挥发性有机物（VOC）的灵敏度。对绝大多数 VOC而言，通常可达到 ppb级检测限，确保Sentinel PRO质谱仪能适应未来法规的变化。由于渗透膜对 VOC的渗透性要强于对空气的渗透性，所以，它通常能够提供多个数量级的富集，包括＜0.01ppm的苯检测限。Sentinel PRO质谱仪有经过加热的进样探针组件，可提供稳定的有代表性的样品进入离子源。此外，进样探头采用符合人体工程学的设计，允许在每年的日常例行维护中轻松更换渗透膜，以便最大限度缩短停机时间，提高生产率。 Sentinel PRO：检测极限从 0.01PPM丙酮乙腈丙烯腈苯丁二烯二硫化碳四氯化碳氯仿氯苯环己烷二氯甲烷二甲乙酰胺（DMAC）二甲基甲酰胺（DMF）二恶烷环氧氯丙烷乙苯环氧乙烷氟利昂六甲基二硅烷氰化氢溴甲烷甲基乙基酮碘甲烷甲基异丁基酮甲基丙烯酸甲酯 1甲基 2吡咯烷酮甲基叔丁基醚（MTBE）环氧丙烷异丙醇苯乙烯四氢呋喃四氯乙烯甲苯三氯乙烯醋酸乙烯乙烯基溴化氯乙烯二甲苯

概述：空气分子污染物(AMC)对于高科技生产过程是关键性因素，特别是微电子行业，有机污染物是生产过程中的消极因素，会导致高科技公司因产品质量问题而产生的成本增加。无空气分子污染物生产是理想的生产目标，通过污染物源头控制、传播控制，实时监控污染物浓度并结合多级过滤器以及新风系统来实现，持久监测AMC浓度，有助于掌握污染物源头、稳定生产、预防过滤器突发性寿命减少等。阿瑞斯-μVOC提供给客户一个实时快捷持续的在线空气分子污染物AMC监测方案，不需要采样，离线测量。检测限达到sub-ppb级洁净室环境中的空气分子污染物AMC，内部来自建筑材料释出、设备和材料释出、腐蚀和光刻等工艺过程中化学药品逸散、人员产生、管路泄露、设备维护修理时散发等，外部来自环境空气中存在的气相污染物,以及洁净室的废气排放重新送回洁净室。一旦AMC空气分子污染物超标会引起一系列严重后果，比如晶圆废弃、停产、重新净化洁净室等。可测组份2-氨基乙醇 CH3NH2CH2OH(t-乙酸丁脂)二羟基甲苯 H3CC6H3(t-C4H9)2OH2-氨基丙醇 CH3NH2C2H4OH六甲基二硅胺烷(CH3 ) 3SiNHSi(CH3)3异丙醇(CH3 ) 2CHOH二乙氨基乙醇(C2H5)2NC2H5OH乙醇胺 H2NCH2CH2OH邻苯二甲酸二辛酯C6H4(C=OOC8H15)2环己胺C6H11NH2邻苯二甲酸二乙酯C6H4(C=OOC2H5)2环聚二甲基硅氧烷(-Si(CH3)2O-)n邻苯二甲酸二丁酯 C6H4(C = OOC4H9)2对二氯苯CIC6H4CL三乙胺(C2H5 ) 3N邻苯二甲酸二壬酯C6H4(C=OOC9H19)2邻苯二甲酸二环己酯C6H4(C=OOC6H11)2邻苯二甲酸二癸酯 C6H4(C=OOC10H21)2磷酸三乙酯(C2H5O ) 3P=0十甲基环五硅氧烷(-Si(CH3)2O-)5十二甲基环五硅氧烷(-Si(CH3)2O-)6二甲苯(CH3)2C6H4三甲酚磷酸酯(CH3C6H4O ) 3P=0三甲基硅醇C3H10OSi......亮点一般特点：在线连续质量监测全部自动化系统低浓度VOC监测独立分开测量有机物成份Sub-ppb检测限集成计算机和控制软件以及数据采集与处理功能 应用洁净间污染物监测过滤器状态监测加工过程全组份测量诊断污染物

MERCK默克Supelco色谱科sigma西格玛SPME固相微萃取萃取头(PDMS/DVB 65μm)57310-U/57311MERCK默克Supelco色谱科sigma西格玛57310-U和57331 65μm PS-DVB 手动、自动固相微萃取萃取头，3支/盒SPME固相微萃取萃取头，二甲基硅氧烷/二乙烯基苯(PDMS/DVB)greener alternativedf 65 μm(PDMS/DVB, needle size 24 ga, for use with manual holder名称:SPME固相微萃取萃取头规格:PDMS/DVB 65μm 3支/盒品牌:MERCK默克Supelco色谱科sigma西格玛货号:57310-U/57311※产品详细说明※:一、基本信息产品编号：57310-U/57311品牌：MERCK默克Supelco色谱科sigma西格玛（美国品牌）规格：65μm PDMS/DVB（聚二甲基硅氧烷/二乙烯基苯）数量：通常为3支/盒应用范围：挥发性物质、胺类、硝基芳香类化合物（分子量范围约50-300）二、产品特点高效性：SPME技术集采样、萃取、浓缩、进样于一体，大大提高了分析效率。便携性：SPME固相微萃取头小巧轻便，便于携带，适合现场采集和富集样品。兼容性：能够与气相色谱、气相-质谱、液相色谱、液相-质谱仪等多种分析仪器联用。灵活性：手动或自动两种操作方式可选，满足不同实验需求。三、应用领域环保及水质处理：用于环境水样中污染物的检测。临床药理：药物残留溶剂（VOCs）的检测。案件分析：法庭样品中的毒物分析。制药：药物中残留溶剂的检测。化工：化工产品中挥发性成分的分析。食品与香精香料：食品、香精、香料中香味物质的分析。四、供应商购买信息供应商：多家公司如北京康林科技有限责任公司等提供该产品。五、注意事项在使用前请仔细阅读产品说明书，确保正确安装和使用。萃取头为精密仪器部件，请避免碰撞和损坏。使用过程中应注意安全和稳定性，避免高温、高压等极端条件。存储时应放置于干燥、阴凉处，避免阳光直射和潮湿环境。六、价格信息价格因供应商、促销活动等因素可能有所不同，具体价格请参考各供应商报价。综上所述，SPME固相微萃取头57310-U/57311是一款广泛应用于多个领域的精密分析仪器部件，具有高效、便携、兼容性强等特点。在购买和使用时，请务必注意相关事项以确保其正常工作和安全性。※PDMS/DVB 65μm SPME萃取头固相微萃取纤维头,是一根外套不锈钢细管的1cm长、涂有聚二甲基硅氧/-/烷/二乙烯基/-/苯 (PDMS/DVB) 双层色谱固定相或吸附剂的熔融石英的纤维头,SPME萃取头在不锈钢管内可自由伸缩,用于萃取、吸附样品 ※固相微萃取(SPME)整套装置及选配耗材※:序号、货号、名称描述①、57330-U SPME手柄(手动或自动)②、2637505 SPME专用进样插件,可选,用于HP6890 (岛津不可用)③、57333-U SPME专用采样台用于4ml瓶④、57357-U SPME专用采样台用于15ml瓶⑤、PC-420D SPME专用磁力加热搅拌装置⑥、Z118877 SPME磁力搅拌子⑦、57332 SPME专用温度计⑧、57356-U SPME专用进样导管(岛津不可用)⑨、27136 SPME专用专用采样瓶 4ml ⑩、27159 SPME专用专用采样瓶 15ml (11)固相微萃取头(SPME萃取头), (具体信息参见SPME萃取头订购信息)※Supelco SPME萃取头(固相微萃取头)订货信息※:订货号产品名称描述产品应用手动式自动式57330-U57331SPME手柄和萃取头连用573185731975um Carboxen/PDMS 固相微萃取头,3支(MW30-225)用于气体和小分子量化合物57334-U57335-U85um Carboxen/PDMS 固相微萃取头,3支(高保留)用于气体和小分子量化合物57302573037um PDMS 固相微萃取头,3支 (MW 125-600)用于非极性大分子量化合物573085730930um PDMS 固相微萃取头,3支用于非极性半挥发性化合物57300-U57301100um PDMS固相微萃取头,3支(MW 60-275)用于挥发性物质57310-U5731165um PDMS/DVB固相微萃取头,3支(MW 50-300)用于挥发性物质、胺类、硝基芳香类化合物57326-U57327-U65um PDMS/DVB固相微萃取头(不含弹簧2cm),3支用于挥发性物质、胺类、硝基芳香类化合物(MW 50-300)573045730585um,Polyacrylate, 固相微萃取头,3支 (MW 80-300)用于极性半挥发性化合物57328-U57329-U50/30um,DVB/CAR/PDMS,Stableflex固相微萃取头,3支用于香味物质(挥发性和半挥发性C3-C20)(MW40-275)/5731760um PDMS/DVB 固相微萃取头(用于HPLC),3支用于胺类或极性化合物57348-U/50/30um DVB/Car on PDMS固相微萃取头(2cm),3支用于香味物质(挥发性和半挥发性C3-C20)(MW40-275)5730657307SPME萃取头套装1用于挥发性和半挥发性物质85umPA,100um PDMS,7umPDMS各一支57320-U57321-USPME萃取头套装2用于水中挥发性或极性有机物75umCAR/PDMS.65umPDMS/DVB,85um PA各一支57323-USPME萃取头套装3用于SPME/HPLC分析60um PDMS/DVB,85um PA,100um PDMS各一支57324-U57325-USPME萃取头套装4用于香味物质分析100um PDMS,65um PDMS/DVB,75um CAR /PDMS各一支※美国MERCK默克Supelco色谱科sigma西格玛固相微萃取萃取头,PDMS/DVB 65μm SPME纤维头 ,部分交联,兰色平头,测挥发性物质、胺类和硝基芳族化合物质,色谱科货号57310-U ※聚二甲基硅氧烷二乙烯基苯 (PDMS/DVB) 固相微萃取萃取头57310-U/57311 SPME fiber assembly Polydimethylsiloxane/Divinylbenzene (PDMS/DVB)df 65μm(partially crosslinked phase, needle size 24 ga, for use with manual holder(Supelco) ※PDMS/DVB 65μm SPME萃取头固相微萃取纤维头,57310-U/57311是一根外套不锈钢细管的1cm长、涂有聚二甲基硅氧烷/二乙烯基苯 (PDMS/DVB) 双层色谱固定相或吸附剂的熔融石英的纤维头,SPME萃取头在不锈钢管内可自由伸缩,用于萃取、吸附样品

MERCK默克Supelco色谱科固相微萃取萃取头sigma西格玛SPME纤维组件二乙烯基苯/羧基/聚二甲基硅氧烷 (DVB/CAR/PDMS 50/30UM)SPME纤维头57328-U手柄57329-U自动DVB/CAR/PDMS 50/30UM SPME纤维头组件二乙烯基苯/羧基/聚二甲基硅氧烷固相微萃取头探针名称:SPME固相微萃取萃取头规格:DVB/CAR/PDMS 50/30μm 3支/盒品牌:MERCK默克Supelco色谱科sigma西格玛货号:57328-U/57329-U※产品详细说明※:一、SPME固相微萃取技术概述SPME是一种集采样、萃取、浓缩和进样于一体的样品前处理技术，它利用涂有高分子薄膜的熔融石英纤维来吸附样品中的挥发性或半挥发性有机物，然后直接进行气相色谱（GC）或液相色谱（HPLC）等分析。这种技术具有操作简便、无需溶剂、灵敏度高、选择性好等优点，被广泛应用于环境分析、食品安全、药物检测等领域。二、SPME固相微萃取纤维头57328-U和57329-U的详细信息1. 产品型号与品牌型号：57328-U和57329-U品牌：Supelco（MERCK默克Supelco色谱科sigma西格玛）2. 涂层与规格涂层：两者均采用二乙烯基苯（DVB）/羧基（CAR）/聚二甲基硅氧烷（PDMS）复合涂层，涂层厚度为50/30μm。这种复合涂层结合了DVB的高吸附能力、CAR的选择性和PDMS的通用性，适用于多种化合物的萃取。规格：纤维头长度通常为1cm（除非特别注明为2cm），可伸缩于不锈钢细管内。3. 使用方式57328-U：手动式，适用于与手动进样手柄配合使用，进行气相色谱分析。57329-U：自动式，适用于与自动进样系统配合使用，实现自动化分析。4. 应用范围两者均广泛用于香味物质（挥发性和半挥发性C3-C20）的分析，包括但不限于以下领域：生物药物分析：如血清、血液、血浆、尿液等生物样本中的药物和代谢产物分析。饮品分析：果汁、酒等饮品中的风味成分和添加剂分析。农残分析：烟草、蔬菜、水果、谷物等农产品中的农药残留分析。环境分析：水样中的有机物、气体硫化物和挥发性有机化合物（VOCs）的检测。毒物分析：血、尿、体液中的药物和毒V品分析。三、注意事项选择合适的纤维头：根据样品的极性和吸附能力选择合适的纤维头，以确保分析结果的准确性。操作规范：在使用过程中应严格遵守操作规程，避免纤维头受损或污染。存储条件：纤维头应存放在干燥、避光、无尘的环境中，以保持其性能和稳定性。综上所述，SPME固相微萃取纤维头57328-U和57329-U是两款性能优越、应用广泛的固相微萃取工具，适用于多种化合物的分析和检测。在选择和使用时，应根据具体需求进行考虑和操作。※固相微萃取(SPME)整套装置及选配耗材※:序号、货号、名称描述①、57330-U SPME手柄(手动或自动)②、2637505 SPME专用进样插件,可选,用于HP6890 (岛津不可用)③、57333-U SPME专用采样台用于4ml瓶④、57357-U SPME专用采样台用于15ml瓶⑤、PC-420D SPME专用磁力加热搅拌装置⑥、Z118877 SPME磁力搅拌子⑦、57332 SPME专用温度计⑧、57356-U SPME专用进样导管(岛津不可用)⑨、27136 SPME专用专用采样瓶 4ml ⑩、27159 SPME专用专用采样瓶 15ml (11)固相微萃取头(SPME萃取头), (具体信息参见SPME萃取头订购信息)※Supelco SPME萃取头(固相微萃取头)订货信息※:订货号产品名称描述产品应用手动式自动式57330-U57331SPME手柄和萃取头连用573185731975um Carboxen/PDMS 固相微萃取头,3支(MW30-225)用于气体和小分子量化合物57334-U57335-U85um Carboxen/PDMS 固相微萃取头,3支(高保留)用于气体和小分子量化合物57302573037um PDMS 固相微萃取头,3支 (MW 125-600)用于非极性大分子量化合物573085730930um PDMS 固相微萃取头,3支用于非极性半挥发性化合物57300-U57301100um PDMS固相微萃取头,3支(MW 60-275)用于挥发性物质57310-U5731165um PDMS/DVB固相微萃取头,3支(MW 50-300)用于挥发性物质、胺类、硝基芳香类化合物57326-U57327-U65um PDMS/DVB固相微萃取头(不含弹簧2cm),3支用于挥发性物质、胺类、硝基芳香类化合物(MW 50-300)573045730585um,Polyacrylate, 固相微萃取头,3支 (MW 80-300)用于极性半挥发性化合物57328-U57329-U50/30um,DVB/CAR/PDMS,Stableflex固相微萃取头,3支用于香味物质(挥发性和半挥发性C3-C20)(MW40-275)/5731760um PDMS/DVB 固相微萃取头(用于HPLC),3支用于胺类或极性化合物57348-U/50/30um DVB/Car on PDMS固相微萃取头(2cm),3支用于香味物质(挥发性和半挥发性C3-C20)(MW40-275)5730657307SPME萃取头套装1用于挥发性和半挥发性物质85umPA,100um PDMS,7umPDMS各一支57320-U57321-USPME萃取头套装2用于水中挥发性或极性有机物75umCAR/PDMS.65umPDMS/DVB,85um PA各一支57323-USPME萃取头套装3用于SPME/HPLC分析60um PDMS/DVB,85um PA,100um PDMS各一支57324-U57325-USPME萃取头套装4用于香味物质分析100um PDMS,65um PDMS/DVB,75um CAR /PDMS各一支萃取头符号说明:CAR Carboxen CW CarbowaxDVB Divinylbenzene (二乙烯苯) PA Polyacrylate (聚丙烯酸酯)PDMS Polydimethylsiloxane (聚二甲基硅烷)※SPME固相微萃取的典型应用※:* 表面活性剂* 环境水样* 食品、香精、香料* 法庭样品* 血、尿和体液中药物* 聚合物和固样中痕量杂质(顶空方式)* 药物中残留溶剂* 气体硫化物及挥发物(VOC)美国Supelco公司专=利产品-固相微萃取(Solid Phase Micro Extraction),1994年获美国匹兹堡分析仪器会议R&D100项革新大奖,是一种应现代仪器的要求而产生的样品前处理新技术,几乎克服了以往一些传统样品处理技术的所有缺点,集采样、萃取、浓缩、进样于一体,便于携带,真正实现样品的现场采集和富集,能够与气相、气相-质谱、液相、液相-质谱仪联用,有手动或自动两种操作方式,让更多的分析工作者从重复、烦琐的操作中解脱出来。广泛应用于环保及水质处理、临床药理、公=安案件分析、制药、化工、国防等领域。 美国Supelco/Merck/Sigma/色谱科固相微萃取萃取头(DVB/CAR/PDMS 50/30um)57328-U/57329-U C3-C20大范围分析固相微萃取(SPME)非常小巧,状似一只色谱注射器,由手柄(Holder)和萃取头或纤维头(Fiber)两部分构成。萃取头是一根外套不锈钢细管的1cm长、涂有不同色谱固定相或吸附剂的熔融石英纤维头,纤维头在不锈钢管内可自由伸缩,用于萃取、吸附样品。

在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。产品型号：HMDS-6210 产品名称：真空烘箱（带基片预处理系统）电源电压：AC 380V± 10%/50Hz± 2%输入功率：4000W控温范围：室温+10℃-250℃温度分辨率：0.1℃温度波动度：± 0.5℃达到真空度：133Pa容积：210L工作室尺寸（mm）：560*640*600外形尺寸（mm）：720*820*1750载物托架：3块时间单位：分钟真空泵：国内好品牌，上海慕鸿型号：DM-4，旋片式油泵。产品特点：1、机外壳采用医用级不锈钢316L材质制造，内胆为不锈钢316L材料制成；加热器均匀分布在内胆外壁四周，内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。2、箱门闭合松紧能调节，整体成型的硅橡胶门封圈，确保箱内高真空度。3、微电脑智能控温仪，具有设定，测定温度双数字显示和PID自整定功能，控温精确，可靠。4、智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序，温度，真空度及每一程序时间。5、HMDS气体密闭式自动吸取添加设计，真空箱密封性能佳，确保HMDS气体无外漏顾虑。6、整个系统采用优质材料制造，无发尘材料，适用100 级光刻间净化环境。 HMDS预处理系统的必要性：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。HMDS-6000系列预处理系统的原理： HMDS-6000 预处理系统通过对烘箱HMDS预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS，降低了HMDS处理后的硅片接触角，降低了光刻胶的用量，提高光刻胶与硅片的黏附性。HMDS-6000系列预处理系统的一般工作流程：首先确定烘箱工作温度。典型的预处理程序为：打开真空泵抽真空，待腔内真牢度达到某一高真空度后，开始充人氮气，充到达到某低真空度后，冉次进行抽真空、充入氮气的过程，到达设定的充入氮气次数后，开始保持一段时间，使硅片充分受热，减少硅片表面的水分。然后再次开始抽真空，充入HMDS气体，在到达设定时间后，停止充入HMDS药液，进入保持阶段，使硅片充分与HMDS反应。当达到设定的保持时间后，再次开始抽真空。充入氮气，完成整个作业过程。HMDS与硅片反应机理如图：首先加热到100℃-200℃，去除硅片表面的水分，然后HMDS与表面的OH一反应，在硅片表而生成硅醚，消除氢键作，从而使极性表面变成非极性表面。整个反应持续到空间位阻(三甲基硅烷基较大)阻止其进一步反应。尾气排放：多余的HMDS蒸汽（尾气）将由真空泵抽出，排放到专用废气收集管道。在无专用废气收集管道时需做专门处理。

在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。产品技术参数：电源电压：AC 380V± 10%/50Hz± 2%输入功率：3000W控温范围：室温+10℃-250℃温度分辨率：0.1℃温度波动度：0.5℃达到真空度：133Pa容积：90L工作室尺寸（mm）：450*450*450外形尺寸（mm）：615*590*1470载物托架：2块时间单位：分钟真空泵：国内品牌上海慕鸿型号：DM-4，旋片式油泵。 产品特点：1、机外壳采用医用级不锈钢316L材质制造，内胆为不锈钢316L材料制成；加热器均匀分布在内胆外壁四周，内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。2、箱门闭合松紧能调节，整体成型的硅橡胶门封圈，确保箱内高真空度。3、微电脑智能控温仪，具有设定，测定温度双数字显示和PID自整定功能，控温精确，可靠。4、智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序，温度，真空度及每一程序时间。5、HMDS气体密闭式自动吸取添加设计，真空箱密封性能佳，确保HMDS气体无外漏顾虑。6、整个系统采用优质材料制造，无发尘材料，适用100 级光刻间净化环境。 HMDS预处理系统的必要性：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。HMDS-6000系列预处理系统的原理： HMDS-6000 预处理系统通过对烘箱HMDS预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS，降低了HMDS处理后的硅片接触角，降低了光刻胶的用量，提高光刻胶与硅片的黏附性。HMDS-6000系列预处理系统的一般工作流程：首先确定烘箱工作温度。典型的预处理程序为：打开真空泵抽真空，待腔内真牢度达到某一高真空度后，开始充人氮气，充到达到某低真空度后，冉次进行抽真空、充入氮气的过程，到达设定的充入氮气次数后，开始保持一段时间，使硅片充分受热，减少硅片表面的水分。然后再次开始抽真空，充入HMDS气体，在到达设定时间后，停止充入HMDS药液，进入保持阶段，使硅片充分与HMDS反应。当达到设定的保持时间后，再次开始抽真空。充入氮气，完成整个作业过程。HMDS与硅片反应机理如图：首先加热到100℃-200℃，去除硅片表面的水分，然后HMDS与表面的OH一反应，在硅片表而生成硅醚，消除氢键作，从而使极性表面变成非极性表面。整个反应持续到空间位阻(三甲基硅烷基较大)阻止其进一步反应。尾气排放：多余的HMDS蒸汽（尾气）将由真空泵抽出，排放到专用废气收集管道。在无专用废气收集管道时需做专门处理。

在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。产品技术参数：电源电压：AC 380V± 10%/50Hz± 2%输入功率：4000W控温范围：室温+10℃-250℃温度分辨率：0.1℃温度波动度：± 0.5℃达到真空度：133Pa容积：210L工作室尺寸（mm）：560*640*600外形尺寸（mm）：720*820*1750载物托架：3块时间单位：分钟真空泵：国内品牌，上海慕鸿型号：DM-4，旋片式油泵。 产品特点：1、机外壳采用医用级不锈钢316L材质制造，内胆为不锈钢316L材料制成；加热器均匀分布在内胆外壁四周，内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。2、箱门闭合松紧能调节，整体成型的硅橡胶门封圈，确保箱内高真空度。3、微电脑智能控温仪，具有设定，测定温度双数字显示和PID自整定功能，控温精确，可靠。4、智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序，温度，真空度及每一程序时间。5、HMDS气体密闭式自动吸取添加设计，真空箱密封性能佳，确保HMDS气体无外漏顾虑。6、整个系统采用优质材料制造，无发尘材料，适用100 级光刻间净化环境。 HMDS预处理系统的必要性：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。HMDS-6000系列预处理系统的原理： HMDS-6000 预处理系统通过对烘箱HMDS预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS，降低了HMDS处理后的硅片接触角，降低了光刻胶的用量，提高光刻胶与硅片的黏附性。HMDS-6000系列预处理系统的一般工作流程：首先确定烘箱工作温度。典型的预处理程序为：打开真空泵抽真空，待腔内真牢度达到某一高真空度后，开始充人氮气，充到达到某低真空度后，冉次进行抽真空、充入氮气的过程，到达设定的充入氮气次数后，开始保持一段时间，使硅片充分受热，减少硅片表面的水分。然后再次开始抽真空，充入HMDS气体，在到达设定时间后，停止充入HMDS药液，进入保持阶段，使硅片充分与HMDS反应。当达到设定的保持时间后，再次开始抽真空。充入氮气，完成整个作业过程。HMDS与硅片反应机理如图：首先加热到100℃-200℃，去除硅片表面的水分，然后HMDS与表面的OH一反应，在硅片表而生成硅醚，消除氢键作，从而使极性表面变成非极性表面。整个反应持续到空间位阻(三甲基硅烷基较大)阻止其进一步反应。尾气排放：多余的HMDS蒸汽（尾气）将由真空泵抽出，排放到专用废气收集管道。在无专用废气收集管道时需做专门处理。

在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。产品技术参数：电源电压：AC 380V± 10%/50Hz± 2%输入功率：3000W控温范围：室温+10℃-250℃温度分辨率：0.1℃温度波动度：± 0.5℃达到真空度：133Pa容积：90L工作室尺寸（mm）：450*450*450外形尺寸（mm）：615*590*1470载物托架：2块时间单位：分钟真空泵：国内品牌上海慕鸿型号：DM-4，旋片式油泵。 产品特点：1、机外壳采用医用级不锈钢316L材质制造，内胆为不锈钢316L材料制成；加热器均匀分布在内胆外壁四周，内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。2、箱门闭合松紧能调节，整体成型的硅橡胶门封圈，确保箱内高真空度。3、微电脑智能控温仪，具有设定，测定温度双数字显示和PID自整定功能，控温精确，可靠。4、智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序，温度，真空度及每一程序时间。5、HMDS气体密闭式自动吸取添加设计，真空箱密封性能佳，确保HMDS气体无外漏顾虑。6、整个系统采用优质材料制造，无发尘材料，适用100 级光刻间净化环境。 HMDS预处理系统的必要性：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。HMDS-6000系列预处理系统的原理： HMDS-6000 预处理系统通过对烘箱HMDS预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS，降低了HMDS处理后的硅片接触角，降低了光刻胶的用量，提高光刻胶与硅片的黏附性。HMDS-6000系列预处理系统的一般工作流程：首先确定烘箱工作温度。典型的预处理程序为：打开真空泵抽真空，待腔内真牢度达到某一高真空度后，开始充人氮气，充到达到某低真空度后，冉次进行抽真空、充入氮气的过程，到达设定的充入氮气次数后，开始保持一段时间，使硅片充分受热，减少硅片表面的水分。然后再次开始抽真空，充入HMDS气体，在到达设定时间后，停止充入HMDS药液，进入保持阶段，使硅片充分与HMDS反应。当达到设定的保持时间后，再次开始抽真空。充入氮气，完成整个作业过程。HMDS与硅片反应机理如图：首先加热到100℃-200℃，去除硅片表面的水分，然后HMDS与表面的OH一反应，在硅片表而生成硅醚，消除氢键作，从而使极性表面变成非极性表面。整个反应持续到空间位阻(三甲基硅烷基较大)阻止其进一步反应。尾气排放：多余的HMDS蒸汽（尾气）将由真空泵抽出，排放到专用废气收集管道。在无专用废气收集管道时需做专门处理。

在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。产品技术参数：电源电压：AC 380V± 10%/50Hz± 2%输入功率：3000W控温范围：室温+10℃-250℃温度分辨率：0.1℃温度波动度：± 0.5℃达到真空度：133Pa容积：90L工作室尺寸（mm）：450*450*450外形尺寸（mm）：615*590*1470载物托架：2块时间单位：分钟真空泵：国内品牌上海慕鸿型号：DM-4，旋片式油泵。 产品特点：1、机外壳采用医用级不锈钢316L材质制造，内胆为不锈钢316L材料制成；加热器均匀分布在内胆外壁四周，内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。2、箱门闭合松紧能调节，整体成型的硅橡胶门封圈，确保箱内高真空度。3、微电脑智能控温仪，具有设定，测定温度双数字显示和PID自整定功能，控温精确，可靠。4、智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序，温度，真空度及每一程序时间。5、HMDS气体密闭式自动吸取添加设计，真空箱密封性能佳，确保HMDS气体无外漏顾虑。6、整个系统采用优质材料制造，无发尘材料，适用100 级光刻间净化环境。 HMDS预处理系统的必要性：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。HMDS-6000系列预处理系统的原理： HMDS-6000 预处理系统通过对烘箱HMDS预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS，降低了HMDS处理后的硅片接触角，降低了光刻胶的用量，提高光刻胶与硅片的黏附性。HMDS-6000系列预处理系统的一般工作流程：首先确定烘箱工作温度。典型的预处理程序为：打开真空泵抽真空，待腔内真牢度达到某一高真空度后，开始充人氮气，充到达到某低真空度后，冉次进行抽真空、充入氮气的过程，到达设定的充入氮气次数后，开始保持一段时间，使硅片充分受热，减少硅片表面的水分。然后再次开始抽真空，充入HMDS气体，在到达设定时间后，停止充入HMDS药液，进入保持阶段，使硅片充分与HMDS反应。当达到设定的保持时间后，再次开始抽真空。充入氮气，完成整个作业过程。HMDS与硅片反应机理如图：首先加热到100℃-200℃，去除硅片表面的水分，然后HMDS与表面的OH一反应，在硅片表而生成硅醚，消除氢键作，从而使极性表面变成非极性表面。整个反应持续到空间位阻(三甲基硅烷基较大)阻止其进一步反应。尾气排放：多余的HMDS蒸汽（尾气）将由真空泵抽出，排放到专用废气收集管道。在无专用废气收集管道时需做专门处理。

产品介绍：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。产品特点：1、机外壳采用不锈钢SUS304材质制造，内胆为不锈钢316L材料制成；加热器均匀分布在内胆外壁四周，内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。2、箱门闭合松紧能调节，整体成型的硅橡胶门封圈，确保箱内高真空度。3、微电脑智能控温仪，具有设定，测定温度双数字显示和PID自整定功能，控温精确，可靠。4、智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序，温度，真空度及每一程序时间。5、HMDS气体密闭式自动吸取添加设计，真空箱密封，确保HMDS气体无外漏顾虑。6、整个系统采用材料制造，无发尘材料，适用100级光刻间净化环境。产品参数：型号HMDS-20HMDS-90HMDS-210容积20L90L210L电源电压AC220V±10%/50Hz±2%AC380V±10%/50Hz±2%输入功率1500W3000W4000W控温范围室温+10℃-250℃温度分辨率0.1℃温度波动度±0.5℃达到真空度133Pa工作室尺寸（mm）300*300*275450*450*450560*640*600外形尺寸（mm）465*465*725850*700*1400720*820*1050载物托架1块2快3块时间单位分钟选配件真空泵：德国品牌，莱宝“DC”双极系列旋片式油泵，真空高，噪音低，运行稳定。连接管：不锈钢波纹管，完全密封将真空泵与烘箱连接。HMDS预处理的必要性：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。真空镀膜机的原理：HMDS预处理系统通过对烘箱HMDS预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS，降低了HMDS处理后的硅片接触角，降低了光刻胶的用量，提高光刻胶与硅片的黏附性。真空镀膜机的一般工作流程：先确定烘箱工作温度。典型的预处理程序为：打开真空泵抽真空，待腔内真空度达到某一高真空度后，开始充人氮气，充到达到某低真空度后，再次进行抽真空、充入氮气的过程，到达设定的充入氮气次数后，开始保持一段时间，使硅片充分受热，减少硅片表面的水分。然后再次开始抽真空，充入HMDS气体，在到达设定时间后，停止充入HMDS药液，进入保持阶段，使硅片充分与HMDS反应。当达到设定的保持时间后，再次开始抽真空。充入氮气，完成整个作业过程。HMDS与硅片反应机理如图：先加热到100℃-200℃，去除硅片表面的水分，然后HMDS与表面的OH一反应，在硅片表而生成硅醚，消除氢键作，从而使极性表面变成非极性表面。整个反应持续到空间位阻(三甲基硅烷基较大)阻止其进一步反应。尾气排放等：多余的HMDS蒸汽（尾气）将由真空泵抽出，排放到专用废气收集管道。在无专用废气收集管道时需做专门处理。

产品介绍：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。产品特点：1、机外壳采用不锈钢SUS304材质制造，内胆为不锈钢316L材料制成；加热器均匀分布在内胆外壁四周，内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。2、箱门闭合松紧能调节，整体成型的硅橡胶门封圈，确保箱内高真空度。3、微电脑智能控温仪，具有设定，测定温度双数字显示和PID自整定功能，控温精确，可靠。4、智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序，温度，真空度及每一程序时间。5、HMDS气体密闭式自动吸取添加设计，真空箱密封，确保HMDS气体无外漏顾虑。6、整个系统采用材料制造，无发尘材料，适用100级光刻间净化环境。产品参数：型号HMDS-20HMDS-90HMDS-210容积20L90L210L电源电压AC220V±10%/50Hz±2%AC380V±10%/50Hz±2%输入功率1500W3000W4000W控温范围室温+10℃-250℃温度分辨率0.1℃温度波动度±0.5℃达到真空度133Pa工作室尺寸（mm）300*300*275450*450*450560*640*600外形尺寸（mm）465*465*725850*700*1400720*820*1050载物托架1块2快3块时间单位分钟选配件真空泵：德国品牌，莱宝“DC”双极系列旋片式油泵，真空高，噪音低，运行稳定。连接管：不锈钢波纹管，完全密封将真空泵与烘箱连接。HMDS预处理的必要性：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。真空镀膜机的原理：HMDS预处理系统通过对烘箱HMDS预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS，降低了HMDS处理后的硅片接触角，降低了光刻胶的用量，提高光刻胶与硅片的黏附性。真空镀膜机的一般工作流程：先确定烘箱工作温度。典型的预处理程序为：打开真空泵抽真空，待腔内真空度达到某一高真空度后，开始充人氮气，充到达到某低真空度后，再次进行抽真空、充入氮气的过程，到达设定的充入氮气次数后，开始保持一段时间，使硅片充分受热，减少硅片表面的水分。然后再次开始抽真空，充入HMDS气体，在到达设定时间后，停止充入HMDS药液，进入保持阶段，使硅片充分与HMDS反应。当达到设定的保持时间后，再次开始抽真空。充入氮气，完成整个作业过程。HMDS与硅片反应机理如图：先加热到100℃-200℃，去除硅片表面的水分，然后HMDS与表面的OH一反应，在硅片表而生成硅醚，消除氢键作，从而使极性表面变成非极性表面。整个反应持续到空间位阻(三甲基硅烷基较大)阻止其进一步反应。尾气排放等：多余的HMDS蒸汽（尾气）将由真空泵抽出，排放到专用废气收集管道。在无专用废气收集管道时需做专门处理。

GASTEC快速气体检测管无论何时由于不用分析仪器和化学药剂，省略了测量前的准备工作，无论何时都可以进行测定。无论何地极为小巧便于携带，只要有微量的空气就可以进行测定，最适合于现场测定。无论何人测定的操作非常简单，无论专业人士或非专业人士。多种气体GASTEC快速气体检测管可以检测多达300余种气体。检测快速测定的结果几分钟就可得到，可以立即转入下一步操作。过程安全日本GASTEC快速气体检测管不用电源，热源，不产生火花，即使有易燃易爆的气体存在，也可以确保操作安全。选型指南型号被测物质分子式可检测范围 ppm191丙烯腈CH2:CHCN2-360191L0.1-18192甲基丙烯腈CH2:C(CH3)CN0.2-321932-戊烯腈CH3CH2CH:CHCN0.5-15.0230H甲基碘CH3I100-348002300.5-108231硫酰氟SO2F21-20

n产品简介UNIXX HTe20型热板是一款桌面型半自动烘焙系统，用于晶圆的单面烘烤，可用于预烘烤（Pre-bake），前烘（soft bake），底胶涂覆（Primer Vapor）和后烘烤(hardbake坚膜)工艺。 n产品特色÷ 温度高达 300°C÷ 电子驱动升降pin÷ 支撑pin材料为不锈钢，尖端采用 PEEK 材料 (最大250°C)÷ 程序控制支撑pin的升降（不同停止的速度和步数）÷ 热板通过真空固定晶圆÷ 热板盖手动控制÷ 集成排烟装置÷ 通过设置receip自动进行加热处理 n主要技术数据÷ 衬底尺寸: 最大可达 ?200 mm (? 8”) 或 200 x 200 mm (8 x 8 inch)÷ 温度: 最大可达 300°C, 步进1°C÷ 温度精度: ±1°C@100°C ÷ 支撑pin: ?50 mm (?2”) ,最大可达 ?200 mm(?8”) 或 200 x 200mm (8 x 8 inch)÷ 热板材质: 硬质阳极氧化铝÷ 加热盖材质: 不锈钢 n可选项÷ 支撑pin材料÷ 边缘支撑pin÷ N2吹扫÷ HMDS 热板系统（六甲基二硅胺底胶蒸汽涂覆）÷ 600℃热板÷ 真空泵

热板HOTPLATES 温度模块(电子)最大 200 或最大 300mm温度模块设计用于基材的单面烘烤，用于预烘烤和后烘烤或脱水烘烤过程。osiris 特别提供用于粘合剂底漆(HMDS 六甲基二硅氮烷)的底漆，osiris提供用于蒸汽底漆或真空干燥的热板模块。带有电子可编程升降销的烘烤模块配有触摸屏，用于操作。osiris 软件提供了简单方便的过程控制和配方创建。用户友好和不言自明的界面强调了易用性，并使流程随时可控。这些温度模块有台式安装，塔式安装或独立安装的不同版本。UNIXX HvT20：（Ø 200mm）适用于HMDS底漆和真空脱水烘焙的台式热板工具。（可用台式或独立式）UNIXX HeT20：(Ø 200mm) 带有电子驱动升降销的台式热板工具。（或台式）UNIXX HpT20(Ø 200mm) 带气动升降销的台式加热板工具。（或台式）

产品简介UNIXX HTe20型热板是一款桌面型烘焙系统，用于晶圆的单面烘烤，可用于预烘烤（Pre-bake），前烘（soft bake），HMDS底胶涂覆（Primer Vapor）和后烘烤(hardbake坚膜)工艺。 产品特色÷ 温度高达 300°C÷ 电子驱动升降pin÷ 支撑pin材料为不锈钢，尖端采用 PEEK 材料 (最大250°C)÷ 程序控制支撑pin的升降（不同停止的速度和步数）÷ 热板通过真空固定晶圆÷ 热板盖手动控制÷ 集成排烟装置÷ 通过设置receip自动进行加热处理主要技术数据÷ 衬底尺寸: 最大可达 Φ200 mm (8英寸) 或 200 x 200 mm (8 x 8 inch)÷ 温度: 最大可达 300°C, 步进1°C÷ 温度精度: ±1°C@100°C ÷ 支撑pin: Φ50 mm (2英寸) ,最大可达 Φ200 mm(8英寸) 或 200 x 200mm (8 x 8 inch)÷ 热板材质: 硬质阳极氧化铝÷ 加热盖材质: 不锈钢可选项÷ 支撑pin材料÷ 边缘支撑pin÷ N2吹扫÷ HMDS 热板系统（六甲基二硅胺底胶蒸汽涂覆）÷ 600℃热板÷ 真空泵

2-甲基咪唑英文名称；2-Methylimidazole中文别名：2-甲基甘噁啉 2-甲基-1H-咪唑 2-甲基-1,3-氮杂茂 CAS NO：693-98-1产品性质：本品为白色至类白色结晶性粉末或颗粒，有吸潮性，溶于水、醇中，难溶于苯。有毒，对皮肤、粘膜有刺激性和腐蚀性。外观白色至类白色结晶性粉末或颗粒水份≤0.3%含量≥99.0%(GC)用 途：1、用于生产甲硝唑、二甲硝咪唑等药物中间体 。　2、可用作环氧树脂等固化剂，纤维织品染料的辅助剂。3、也可用在制备泡沫塑料 时的添加剂。包 装：500kg/袋，25kg/桶或袋。运输贮存：本品应贮存于阴凉、通风、干燥库房中，远离火种、热源，防热、防潮、防水、防晒，运输中轻装轻放,以防包装破损,保持密封。

HT20e加热台 UNIXX系列可处理基片达200 mm / 8英寸半自动单面烘烤系统设计用于：软烘（预烤）；硬烘HMDS（六甲基二硅氮烷）的选配：蒸气起泡，真空干燥HT20e加热台设计用于基材的单面烘烤，用于预烘烤和后烘烤或脱水烘烤过程。尤其适用于粘合剂底漆（HMDS 六甲基二硅氮烷），可用于蒸汽底漆或真空干燥的热板模块。带有电子可编程升降针的烘烤模块，配有触摸屏，便于操作。 软件提供了简单方便的过程控制和配方创建。 界面简单易于使用，可随时控制流程。这些温度模块有台式安装式，塔式安装式或独立式供选择。特点：温度模块（电动）加热板系统带有电动升降顶针加热板模块（最高300°C）电子驱动的升降针标准的顶针由不锈钢和PEEK尖端制成（最高250°C）升降针，可编程（根据不同停止的速度和步长）加热板表面上的真空管路用于固定基板手动控制加热板的顶盖集成式排气半自动控制器单元：7英寸彩色触摸屏配方编辑器来编写，管理和配置实际可视化效果监控用于配方，流程，日志文件的库功能（例如，错误跟踪历史记录）具有密码保护服务访问权限的用户管理通过USB或Intranet连接进行更新和备份功能产品参数：基板尺寸：最大直径200毫米（直径8英寸）圆片或200x 200毫米（8 x8英寸）方片；温度范围：最高300°C *，以1°C/步可调；温度精度：在100°C时士1°C；升降针(1套）：直径50 mm（直径2英寸）到直径200 mm（直径8英寸）或200x 200mm（8 x8英寸）；加热台表面：由硬质阳极氧化铝制成；加热台顶盖：由微抛光不锈钢制成；加热台外壳：由PP制成；控制器单元：7寸触摸屏；HT20p加热台 UNIXX系列 可处理基片达200 mm / 8英寸手动控制单面烘烤系统单面烘烤系统可选项，还提供温度高达600°C的加热板温度模块设计用于单面烘烤用于烘烤前和烘烤后的基材。带有气动升降销的烘焙模块配有一个手动PID控制器和计时器开关。 经过微处理（PID）控制器用于高测量温度控制准确性。 确定过程的设定值和参数用5场塑料薄膜键盘调节。可自由编程的定时开关有两个可调派生计时器和两个省略计时器。 与各种参数的可能性，两个输出触点和两个切换输入将允许使用任何一种应用程序可以使用的。 计时器可以使用前按钮和开关输入。特点：温度模块（气动）加热板系统带有气动升降顶针加热板模块（最高300°C）气动顶针标准的顶针由不锈钢和PEEK尖端制成（最高250°C）加热板表面上的真空管道用于固定基板手动控制加热板的顶盖集成式排气手动控制器单元：• 1个PID 控制器，用于在高测量时进行温度控制。通过调节薄膜键盘的5个键来设定关键参数。• 1个计时器开关，带有两个可调微分计时器和两个延时计时器，并可以设置各种参数。可以使用前按钮和开关输入来启动和停止计时器。产品参数：基板尺寸：最大直径200毫米（直径8英寸）圆片或200x 200毫米（8 x8英寸）方片；温度范围：最高300°C *，以1°C/步可调；温度精度：在100°C时士1°C；升降针(1套）：直径50 mm（直径2英寸）到直径200 mm（直径8英寸）或200x 200mm（8 x8英寸）；加热台表面：由硬质阳极氧化铝制成；加热台顶盖：由微抛光不锈钢制成；加热台外壳：由PP制成；控制器单元：1个PID控制器，1个计时器；

喆图HMDS真空镀膜机VDM-125用途概述HMDS化学名叫六甲基二硅胺烷（别名六甲基二硅氮烷），HMDS真空镀膜机又称HMDS基片预处理系统，指需在低真空度下进行的镀膜。喆图HMDS真空镀膜机对箱体内预处理过程的工作温度、工作压力、处理时间、处理时保持时间等参数的控制，可以在硅片、衬底表面完成 HMDS成底膜的工艺。降低了光刻胶的用量，所有工艺都在密闭的环境中进行，完全没有HMDS挥发，提高了安全性。主要适用于硅片、砷化镓、陶瓷、不锈钢、铌酸锂、玻璃、蓝宝石、晶圆等材料，为基片在涂胶前改善表面活性，增加光刻胶与基底的粘附力的设备，也可用于晶片其它工艺的清洗，尤其在芯片研发和生产领域应用更加普及。产品特点①采用PLC工控自动化系统，人机界面采用触摸屏，具有可靠性高，操作智能方便；②PLC微电脑PID控制系统具有自动控温、定时、超温报警等,彩色触摸屏显示,控温可靠；③智能化触摸屏控制系统，可根据不同制程条件改变程序、温度、真空度及每一程序时间；①采用钢化玻璃观察窗，监测方便，一体成型的硅橡胶门封，确保箱内密封性好；②外壳和加热管均采用不锈钢材质，内胆不锈钢，无易燃易爆装置，无发尘材料；③以蒸汽的形式涂布到晶片表面，液态涂布均匀，可一次处理4盒以上的晶片，节省药液；①去水烘烤和增粘（疏水）处理一机完成无需转移，有效规避HMDS泄露的风险；②HMDS气体密闭式自动吸取添加设计，使真空箱密封性好，确保HMDS气体不外漏；③多余的HMDS蒸汽（尾气）由真空泵抽出，排放到专用废气收集管道，确保安全以及环保。技术参数型号VDM-90VDM-125VDM-210电源电压AC 220V 50Hz控制系统PLC控制 仪表控制彩色触摸屏控温范围RT+10-250℃温度分辨率0.1℃温度波动度±0.5真空度≤133pa内胆尺寸450*450*450500*550*500550*550*650容积90L125L210L真空泵选配选配选配

n产品简介UNIXX HTp20型热板是一款手动桌面型烘焙系统，采用手动PID控制器和定时器开关可确保高的温度控制精度。用于晶圆的单面烘烤，可用于预烘烤（Pre-bake），前烘（soft bake），底胶涂覆（Primer Vapor）和后烘烤(hardbake坚膜)工艺。 n产品特色÷ 加热板模块（最高可达 300°C）÷ 气动驱动支撑pin升降÷ 支撑pin材料：不锈钢，尖端采用 PEEK （最高 250°C）÷ 热板通过真空固定晶圆÷ 集成排烟装置÷ 热板盖手动控制÷ 集成1x PID 控制器，用于在高测量时进行温度控制÷ 集成1x 定时器开关 n技术数据÷ 衬底尺寸: 最大可达 ?200 mm (? 8”) 或 200 x 200 mm (8 x 8 inch)÷ 温度区间: 最大可达 300°C*, 以 1°C 步进可调÷ 温度精度: 100°C 时 ±1°C÷ 提升销（一套）: ?50 mm (?2”) 最大可达 ?200 mm(?8”) 或 200 x 200mm (8 x 8 inch)÷ 热板表面: 由硬质阳极氧化铝制成÷ 加热板盖: 由微抛光不锈钢制成÷ 控制器单元: 1x PID控制器, 1x 时间开关÷ Pin顶部 采用PEEK 材料最高温度 250°C n可选项÷ 支撑pin材料÷ 边缘支撑pin÷ N2吹扫÷ HMDS 热板系统（六甲基二硅胺底胶蒸汽涂覆）÷ 烘焙距离可调模组÷ 真空泵

水产品中五氯苯酚及其钠盐残留量的测定 五氯苯酚(PCP)是一种重要的防腐剂,它能阻止真菌的生长、抑制细菌的腐蚀作用,长期以来均被用作皮革品和木材的防霉剂，对防治霉菌与一般 虫类（如白蚁）均有效，其钠盐用于消灭血吸虫中间宿主钉螺和防治稗草等。对鱼类等水生物动物敏感等，水中含量达0.1-0.5ppm即致死。有 机毒品，可通过皮肤吸收，对肝、肾有损害。误食会中毒，严重时导致死亡。但在过去的十年，医学研究发现若经常与含五氯苯酚(PCP)的产品 接触，极有可能影响人体健康，而症状包括头痛、腹痛、呕吐及对中央神经系统有所损害。 1.PCP（五氯苯酚）概述： PCP（五氯苯酚）是纺织品、皮革制品、木材、织造浆料和印花色浆中普遍采用的一种防霉防腐剂。作用：1、防霉2、防腐3、防虫4、杀菌。2.PCP（五氯苯酚）的危害： 经动物试验证明PCP（五氯苯酚）是一种强毒性物质，对人体具有致畸和致癌性。如人类在穿着残留有PCP（五氯苯酚）的纺织品时，会通过皮肤在人体内产生生物积蓄，不仅对人类造成健康威胁，而且PCP在燃烧时会释放出臭名昭著的二恶英类化合物，会对环境造成持久的损害。3.PCP（五氯苯酚）的限： 中国的生态纺织标准和国际生态纺织协会的oeko-tex标准100均对纺织品中的PCP残留量规定了不得超过0.5mg/kg(婴幼儿用品不得超过0.05mg/kg)的限量。 LFGB法规对PCP的限值是不大于0.1mg/kg。检测标准： GB/T 22808-2008 皮革和毛皮 化学试验 五氯苯酚含量的测定 GB/T 25002-2010 纸、纸板和纸浆 水抽提液中五氯苯酚的测定 LY/T 1985-2011 防腐木材和人造板中五氯苯酚含量的测定方法 SC/T 3030-2006 水产品中五氯苯酚及其钠盐残留量的测定 气相色谱法 SN/T 2204-2008 食品接触材料 木制品类 食品模拟物中五氯苯酚的测定 气相色谱-质谱法 仪器：1、GC-9860--Ⅳ型气相色谱仪，配有ECD电子捕获检测器2、专用色谱柱：35%聚二苯基二甲基聚硅氧烷，30m×0.25mm×0.25um3、离心机、匀浆机、涡旋混合机、分析天平等设备色谱条件：柱温：起始温度140℃，保持2min,以10℃/min，升至200℃，保持7min.升至260℃，保持3min；检测器温度：300℃； 进样器温度250℃。载气：氮气

包装印刷行业气相色谱分析仪_检测包装甲苯二甲苯残留GC-6890气相色谱仪品牌：Labthink厂商：济南兰光机电技术有限公司Labthink兰光，包装检测仪器与检测服务优秀供应商！由Labthink兰光研发生产的GC-6890气相色谱仪是专业用于印刷、包装行业检测溶剂残留用的专用型气相色谱仪。系兰光色谱分析实验室资深设计与应用专家专门为包装行业检测溶剂残留而精心设计的一款专业化检测仪器，适用于包装及相关企业、检测机构进行溶剂残留、气味分析、溶剂纯度分析。包材油墨印刷溶剂残留检测项目：乙醇、异丙醇、丁酮、丙酮、乙酸乙酯、甲苯、乙酸正丁酯（乙酸丁酯、丁酯）、二甲苯（现行国标对普通薄膜包装袋的溶剂残留的要求）环已酮、苯、乙酸异丙酯、乙酸正丙酯（乙酸丙酯）、正丁醇（丁醇）、丙二醇甲醚、甲基异丁基（甲）酮、乙苯（现行国标对烟包溶剂残留的测试要求）GC-6890气相色谱仪——包装印刷行业气相色谱分析仪_检测包装甲苯二甲苯残留主要技术特征：&bull 专业性强，可靠性好，测试数据精度高、性价比高，仪器基本型配置为氢火焰离子化检测器（FID）。 &bull 采用微型计算机和集成电路控制，中文界面，大屏幕液晶显示，操作参数全键盘输入设定。仪器具有掉电保护、文件存储及调用功能。 &bull 检测器及其控制部件采用即插即用扩展控制模式。 &bull 仪器可进行恒温和程序升温操作。柱室配有柔性后开门自动控温系统，能实现近室温操作。 &bull 气路流程灵活、可靠，易于扩展，适于多种检测和进样组合。可根据用户分析需要进行配置选择。 &bull 进样系统配置填充柱柱头进样、带有隔膜清洗功能的毛细管柱分流/不分流进样等多种进样装置。 &bull 仪器具有载气气路低压、断气保护功能。 &bull 仪器具有高温保护功能，任何一路温控超过设定温度一定范围（设定值为20℃），仪器将断电保护停止运行并报警。 &bull 响应信号可达1500mv宽量程，一致性好，能满足高纯度样品分析需要。 &bull 优良的色谱柱箱性能，在检测器和气化室均在200℃的情况下，可实现室温+3℃近室温操作，而且仪器具有良好的程序升温重复性，确保复杂组分样品分析其保留时间的一致性。 &bull 独特的操作控制系统软、硬件设计，仪器在运行过程中对系统自动实施全程软件监控，从根本上杜绝了仪器温度及操作参数失控现象。实现了无“过失”过温保护，以及独有的主动式过温保护功能和双硬件自锁过温控制结构，确保仪器在无人职守时安全运行。 &bull 仪器的信号输出可与各种色谱数据处理机和色谱工作站等外围数据处理设备或绘图设备方便连接。 &bull 其标准配置专用色谱工作站，智能化数据处理，处理功能强大，可依据标准样品，直接检测输出分析对象中各类残留溶剂的名称、溶剂残留含量（mg/m2）等，便于试验人员参考检测标准进行数据分析，仪器可用于溶剂纯度检测。测试原理：气相色谱仪是一种多组份混合物的分离、分析工具，它是以惰性气体为流动相，采用色谱柱分离技术。当多种分析物质进入色谱柱时，由于各组分在色谱柱中的分配系数不同，各组份在色谱柱中的流动速度不同，经过一定的柱长后，混合的组分分别离开色谱柱进入检测器，经检测后转换为电信号送至数据处理工作站，从而完成对被测物质的检测分析。GC-6890气相色谱仪——包装印刷行业气相色谱分析仪_检测包装甲苯二甲苯残留技术指标：色谱柱室控温范围：室温+3℃～399℃控温精度：优于±0.1℃ 温度梯度：柱有效区域不大于2% 温度偏差：设定温度与显示温度之间偏差不大于1℃温度偏差：设定温度与实际温度之间偏差不大于2% 程序升温阶数：4阶 升温速率：1～30℃ 线性程序升温范围：每分钟30℃时为150℃；每分钟15℃时为300℃；每分钟10℃时为350℃初温终温控制时间：0～600min 程序升温的重复性：不大于2%降温速度：由300℃降至50℃所需时间不大于15min气化室控温精度：±0.1℃（室温+15℃～200℃）；大于200℃为±0.2℃检测室控温精度：±0.1℃（室温+15℃～200℃）；大于200℃为±0.2℃氢火焰离子检测器（FID）：检测限：不大于5×10-11g/s（苯）；噪声：不大于0.025mV；漂移：不大于0.15mV/h 电源：AC 220V 50Hz主机尺寸：490mm(L)×490mm(W)×480mm(H)主机重量：45 kg 仪器配置：标准配置：气相色谱仪主机、氢火焰离子检测器、毛细管分析柱、色谱工作站备注：气源（高纯氮气、高纯氢气、干燥无油空气）、分析纯试剂（印刷或复合过程中添加的溶剂）、顶空瓶、1ml玻璃测厚注射器（配5号针头）、电脑由用户自备。兰光色谱分析实验室免费为您建立分析方法、进行操作培训。

广泛用作绝缘、润滑、防震、防尘油、介电液和热载体，以及用作消泡、脱膜、油漆和日用化妆品的添加剂等。 201甲基硅油具有各种优异的特性，因此在工农业生产，国防工业，科学研究及医疗卫生等部门，都得了极其广泛的应用。它广泛用于电气绝缘、脱模、消泡、阻尼、防震、滚压、防尘、防水、高低湿润等方面。 1、在机电工业中的应用：201甲基硅油广泛用在电机、电器、电子仪表上作为耐温、耐电弧电晕、抗蚀、防潮、防尘的绝缘介质、目前还用做变压器、电容器、电视机的扫描变压器的浸渍剂等。在各种精密机械、仪器及仪表中，用作液体防震、阻尼材料。201甲基硅油的消震性能受温度影响小，多用于具有强烈机械震动及环境温度变化大的场合下，使用的仪表如：飞机、汽车的仪表中。用于防震、阻尼、稳定仪表读数，还可作为液体弹簧，且于飞机的着陆装置中。2、在消泡剂中的应用：由于201甲基硅油表面张力小，且不溶于水，动植物油及高沸点矿物油中，化学稳定性好、又无毒，用作消泡剂已广泛用于石油、化工、医疗、制药、食品加工、纺织、印染、造纸等行业中，只要加入10-100PPM的硅油就具有良好的消泡剂作用。3、在脱模剂中的应用：由于201甲基硅油与橡胶、塑料、金属等的不粘性，又用做各种橡胶、塑料制品成型加工的脱模剂，及用于精密铸造中。用它做脱模剂不仅脱模方便，且使制品表面洁净、光滑、纹理清晰。4、在绝缘、防尘、防霉涂层中的应用：在玻璃、陶瓷器表面浸涂一层201甲基硅油，并在250-300℃进行热处理后，可形成一层防水、防霉和绝缘性的薄膜。用之处理绝缘器件，可提高器件的绝缘性能：用之处理光学仪器，能防止镜片、棱镜发霉；用之处理药瓶，能延长药品的保存期，并不使制剂因粘壁而损失；用之处理电影胶片的表面，可起润滑作用，减少磨擦，延长影片寿命。5、在润滑剂中的应用：201甲基硅油适于做橡胶，塑料轴承、齿轮的润滑剂。也可做为在高温下钢材对钢的滚动磨擦，或钢与其它金属磨擦时的润滑剂。6、在添加剂中的应用：201硅油可作许多材料的添加剂，如可作为油漆的增光剂，加少量硅油到油漆中，可使油漆不浮包、不起皱提高漆膜的光亮度，加少量硅油到油墨中，可提高印刷质量，加少量硅油到抛光油中（如汽车上光油），可增加光亮，保护漆膜，并有优良的防水效果。7、在医疗卫生中的应用：201甲基硅油对人体无生毒性，也不被体液分解，故在医疗卫生事业中，也被广泛应用。利用其消泡作用，制成了口服胃肠消胀片，及肺水肿消泡气雾剂等药用。在药膏中加入硅油，可提高药物对皮肤的渗透能力，提高药效。以硅油为基础油的某些膏药剂对烫伤、皮炎、褥疮等都有很好的疗效，利用硅油的抗凝血作用，可用其处理贮血器表面，延长血样贮存时间等。8、在其它方面中的应用：201甲基硅油在其它方面还有许多用途。如：利用其闪点高、无嗅、无色、透明且对人体无毒等特性，在钢铁、玻璃、陶瓷等工业和科研中，作为油浴或恒温器中的热载体。利用其抗切变性能好，可做液压油尤其是航空液压油。用其处理人造丝纺丝头，可消除静电，提高抽丝质量。在化妆品上加入硅油能提高对皮肤的滋润和保护作用等等。

我公司为国内生产异辛烷产品服务商年销售异辛烷产品超过五千吨我们将为您提供优质的商品和满意的服务！2,2,4-三甲基戊烷，是一种有机化合物，化学式为C8H18，主要用于有机合成，也可用作溶剂及气相色谱的对比样品。理化性质熔点：-107.4º C沸点：98-99º C密度：0.691（20℃）闪点：4.5℃（OC）折射率：1.391（20℃）饱和蒸气压：5.1kPa（20º C）临界压力：2.57MPa引燃温度：417º C爆炸上限（V/V）：6.0%爆炸下限（V/V）：1.1%外观：无色透明液体溶解性：不溶于水，混溶于庚烷、丙酮，溶于乙醚、苯、甲苯、二甲苯、氯仿、二硫化碳、四氯化碳等用途主要用于有机合成，也可用作溶剂及气相色谱的对比样品。储存方法储存于阴凉、通风的库房。远离火种、热源。库温不宜超过37℃，保持容器密封。应与氧化剂分开存放，切忌混储。采用防爆型照明、通风设施。禁止使用易产生火花的机械设备和工具。储区应备有泄漏应急处理设备和合适的收容材料。山东强森化工有限公司，是一家以从事化学原料和化学制品制造业为主的企业。公司是集研究、生产、加工、销售为一体的制品企业，工厂占地面积大，公司具有较强的自助研发能力，拥有多项国家发明专利超强的品质保障，专业生产，多年行业经验，出厂严格把关，公司与中国石化、齐鲁石化、东岳集团、内蒙远兴集团、兖矿集团、海力集团、金岭集团丶华鲁恒升、万华集团等大型上市公司建立了长期稳固的合作关系，能够为客户提供优质的产品和服务，在行业中树立了良好的商业信誉，赢得了国内外众多客户的信赖与支持。 公司发扬“诚信、专业、团结、拼搏”的企业精神，秉承“以信为本，以诚待人，以稳求实，优质服务”的经营理念，愿与各界朋友及客户精诚合作，共创辉煌。

Lovibond® 德国罗威邦® 水质分析 Lovibond 罗威邦 甲基橙碱度快捷测试套装 Minikit罗威邦 甲基橙碱度快捷测试套装 Minikit 采用片剂计数法快捷测试水样甲基橙碱度，量程为 10-500 mg/l CaCO3。罗威邦 Minikit 快速测试系列适用于现场快速测试，针对不同参数化学特性采用片剂计数法、滴定法、定性判断法、浊度法。可测参数有碱度、酸度、硬度、氯离子、氰尿酸、亚硝酸、正磷酸盐、季铵盐、硫酸盐、亚硫酸盐、硫、丹宁指数等。订购信息量程20-500 mg/l CaCO3，10-250 mg/l CaCO3试剂类型片剂测试方法片剂计数法化学方法甲基橙碱度包装次数根据测试量程不同约 50-100次补充试剂515320BT100片515321BT250片使用方法确定水样：20 - 500 mg/l CaCO3 范围内水样取 50 ml，10 - 250 mg/l CaCO3 范围内水样取 100 ml。添加片剂直到黄色变成红色：向水样中加入一个片剂，摇晃至溶解，观察颜色，再加入一片溶解，直到水样由黄色变成红色。记住片数。计算碱度：50 ml 水样:总碱度 (mg/l CaCO3) = (片剂数 x 40) - 20100 ml 水样:总碱度(mg/l CaCO3) = (片剂数 x 20) - 10冲洗干净容器 标准配置塑料盒片剂试剂装水样的容器必须的附件操作指南

n产品简介BASIXX SH22是一款台式半自动匀胶机热板复合系统系统，功能强大，具有匀胶、清洗、显影、干燥、预烘烤（Pre-bake），前烘（soft bake），底胶涂覆（Primer Vapor）和后烘烤(hardbake坚膜)工艺等多种功能，样品最大尺寸为8寸晶圆或者150mm*150mm方片，广泛用于大学，研究所等科研实验室。 n产品特色匀胶机： ÷ 落地台式机，结构紧凑，所有单元集成在一台设备中，集成度高。÷ 手动装载/卸载÷ 衬底最大可达 ?200 mm (?8 inch) 或 150 x 150 mm (6 x 6 inch)÷ 软件提供用户友好的操作÷ 直驱旋涂电机÷ 全轴电机驱动且完全可编程÷ 带安全中断传感器的透明盖÷ 外壳上有电源开关 ON / OFF÷ 工艺腔和可更换防溅环，易于拆卸以进行清洁。÷ 系统材料为PP材质，耐所有类型的抗蚀剂和溶剂以及各种清洁介质。 ÷ 包括 0.5 升废液瓶 热板：÷ 温度高达 300°C÷ 电子驱动升降pin÷ 支撑pin材料为不锈钢，尖端采用 PEEK 材料 (最大250°C)÷ 程序控制支撑pin的升降（不同停止的速度和步数）÷ 热板通过真空固定晶圆÷ 热板盖手动控制÷ 集成排烟装置÷ 通过设置receip自动进行加热处理 n技术数据匀胶机：÷ 衬底尺寸: 最大可达 ?200 mm (?8 inch) 或 150 x 150 mm (6 x 6 inch)÷ 电机转速: 最大 10.000rpm, 步长 1 rpm÷ 电机加速: 最大 4.000 rpm/s÷ 步进时间: 1 至 999.9 s，步长为 0.1s÷ 工艺腔材质: 由天然 PP 制成÷ 系统架构材质: 由白色 PP 制成÷ 液体线路： 3线: 2 x 24 V / 最大 1 Amp (每条) / 触发点 0.1 秒 - ∞ 5线: 6 x 24 V / 最大 1 Amp (每条) / 触发点 0.1 秒 - ∞ 热板：÷ 衬底尺寸: 最大可达 ?200 mm (? 8”) 或 200 x 200 mm (8 x 8 inch)÷ 温度: 最大可达 300°C, 步进1°C÷ 温度精度: ±1°C@100°C ÷ 支撑pin: ?50 mm (?2”) ,最大可达 ?200 mm(?8”) 或 200 x 200mm (8 x 8 inch)÷ 热板材质: 硬质阳极氧化铝÷ 加热盖材质: 不锈钢 n选项 匀胶机： ÷ 自动液体输送臂 ÷ 液体罐 ÷ 防溅环÷ 废液池 ÷ DI水冲洗 ÷ N2吹扫÷ 热板 ÷ 不同类型的夹具 ÷ 中心定位模块 热板： ÷ 支撑pin材料 ÷ 边缘支撑pin ÷ N2吹扫÷ HMDS 热板系统（六甲基二硅胺底胶蒸汽涂覆） ÷ 600℃热板 ÷ 真空泵

上海那艾实验仪器设备[那艾仪器厂家]网站 全国送货厂家一手货! 品质保证!实验仪器非电子产品,使用效率和售后服务很重要。我们同品质比价格,同价格比效率,同效率比售后。设备仪器属于精密设备 客户订单录档案 免费1年质量保质,任何问题提供配件保养维护上海那艾仪器注以实验仪器设计、研发,生产,销售为核心的仪器企业,目热卖销售生产有一体化蒸馏仪,中药二氧化硫蒸馏仪,COD消解仪,高氯COD消解仪,硫化物酸化吹气仪,全自动液液萃取仪,挥发油测定仪等等。智能蒸馏仪采用目前全新的远红外加热方法，具有热效率高、寿命长、起温和降温速度快、加热时间和加热功率可调等优点。仪器可外接循环水冷却装置。整个系统简洁、安装维护方便、使用方便，节能环保。广泛适用于环境监测、环保、疾控、水产、供排水、高校、科研院所、厂矿企业等各类化学实验室需要蒸馏处理的场所，如样品中的挥发酚、氰化、氨氮、凯氏氮等项目的蒸馏实验。 主要特征1、仪器机身采用框架一体式设计，稳固牢靠，主体采用1毫米厚度的品牌冷轧板配合静电粉末涂装，更加耐磨、耐腐蚀；2、从空开到触点，继电保护器到按钮开关等，选用正泰/德力西或同级别品牌电气，保证仪器品质和的使用寿命；3、控制模块采用PLC控制，性能强劲稳定；5寸液晶触摸屏反应灵敏，设置方便；4、加热单元采用远红外陶瓷加热碗加热，贴合度高，效率更高，更节能，同时具备防水防干烧功能；5、一次可同时对1-6个样品进行蒸馏，大大提高了工作效率，每个加热单元都可独立控制加热功率0-500w可调，可以预设加热时间；6、系统内部自带微沸模式，设定时间到点自动切换微沸模式；7、自带两路样品测温，能高精度实时监控烧瓶内样品的实时温度（可升级六路）8、特殊定制异形蒸馏冷凝管，冷凝效果好，标配专属冷水机；可以一键自动回流，冷凝水自动排空，防止长期不使用滋生细菌；9、自带冷凝管路清洗功能，实验结束后，可以针对馏出液管路进行一键反向冲洗；10、系统内自带说明书和服务中心二维码，手机扫码自动查看电子说明书和一键连接服务中心； ☆11、可升级6路氮气吹扫，能用于发泡样品蒸馏，也可实现针对食品中二氧化硫残留的蒸馏实验；☆12、可升级6路夹管阀实现每一路的防止过量蒸馏保护。适用标准GB/T 5750.5-2006 生活饮用水标准检验方法 无机非金属指标 氰化物/挥发酚 GB 8538-2016食品安全国家标准 饮用天然矿泉水检验方法 HJ 1191-2021 水质 叠氮化物的测定分光光度法 HJ 537-2009 水质 氨氮的测定 蒸馏-中和滴定法 HJ 535-2009 水质氨氮的测定 纳氏试剂分光光度法HJ 536-2009 水质氨氮的测定 水杨酸分光光度法HJ 484-2009 水质 氰化物的测定 容量法和分光光度法 HJ 503-2009 水质 挥发酚的测定 4-氨基安替比林分光光度法 HJ 745-2015 土壤 氰化物和总氰化物的测定 分光光度法 HJ 833-2017 土壤和沉积物 硫化物的测定 亚甲基蓝分光光度法 HJ 717-2014 土壤质量 全氮的测定 凯氏法产品参数型号NAI-ZLY-6D 控制系统 PLC；5寸触摸屏测温功能两路测温测温精度±1℃升温时间5-8分钟温度控制功率调节，单孔单控加热功率0-500W可调蒸馏瓶500ml*6个收集瓶250ml*6个漏电保护有 清洗功能有冷凝水排空有总功率3200W电 源AC 220V,50Hz样品架6位蒸馏瓶样品架一副

国标GBT 32470-2016/GBT 5750.8/GB 5749-2022生活饮用水臭味物质土溴素和2-甲基异莰醇检验方法中使用的美国Supelco顶空固相微萃取装置：SPME顶空固相微萃取装置国标GBT土溴素和2-甲基异莰醇检验方法进口固相微萃取装置气相色谱质谱法检验测土溴素和2-甲基异莰醇国标GBT进口全套配置饮用水臭味物国标GBT 32470-2016/GBT 5750.8/GB 5749-2022生活饮用水臭味物质 土溴素和2-甲基异莰醇检验方法 本标准规定了测定生活饮用水及其水源水中的土溴素(Geosmin)和2-甲基异莰醇(2-methyli-sob-orne-ol,简称2-MIB)的顶空固相微萃取-气相色谱-质谱法。 本标准适用于生活饮用水及其水源水中土溴素和2-甲基异莰醇含量的测定。在生活饮用水中易导致嗅和味的两种常见物质为2-甲基异莰醇(2-MIB)、土溴素(GSM)。原理是利用SPME固相微萃取纤维头(萃取头)吸附样品中的土溴素(Geosmin)和2-甲基异莰醇(2-methyli-sobor-neol,简称2-MIB),顶空富集后用气相色谱-质谱联用仪分离测定水中溴味物质 土溴素和2-甲基异莰醇快速检验 固相微萃取气相色谱质谱法。国标GB中关于土溴素和2-甲基异莰醇检验检测气相色谱质谱法SPME固相微萃取装置全套进口设备生活饮用水溴味物质SPME固相微萃取装置美国merck默克sigma西格玛supelco色谱科进口固相微萃取仪Supelco色谱科手动上样自动气相气质联用包括固相微萃取专用衬管、固相微萃取采样台、固相微萃取手柄、固相微萃取纤维: DVB / CAR / PDMS纤维、进样导管、60mL棕色玻璃瓶、搅拌子等购买价格详细资料介绍参数用途使用方法等；　　※美国merck默克sigma西格玛supelco色谱科进口SPME固相微萃取[整套装置]及选配耗材※:　　序号、货号、名称描述　　①、51094 SPME手柄(手动/自动)　　②、53523 SPME专用进样插件,可选,用于HP6890 (岛津不可用)　　③、510381 SPME专用采样台用于4ml瓶　　④、513171 SPME专用采样台用于15ml瓶　　⑤、Z262137 SPME专用磁力加热搅拌装置　　⑥、Z118877 SPME磁力搅拌子　　⑦、52244 SPME专用温度计　　⑧、51328 SPME专用进样导管(岛津不可用)　　⑨、55979 SPME专用专用采样瓶 4ml 　　⑩、55980 SPME专用专用采样瓶 15ml 欢迎来电联系 国标GBT 32470-2016/GBT 5750.8/GB 5749-2022生活饮用水臭味物质土溴素和2-甲基异莰醇检验方法中使用的美国Supelco顶空固相微萃取装置的具体配置清单价格等；

TMAH 四甲基氢氧化铵单参数溶液测试仪产品介绍： TMAH 四甲基氢氧化铵单参数溶液测试仪半导体，液晶，LCD用溶液检测，一台仪器对应一种参数，有四甲基氢氧化铵TMAH,硫酸，硝酸，氢氧化钠，氢氧化钾，氨水。品名　単参数药业浓度计 　 ＴＭＡＨ浓度用：ＬＱ－５Ｚ－ＴＭＡＨ硫酸浓度用：ＬＱ－５Ｚ－Ｈ２ＳＯ４硝酸浓度用：ＬＱ－５Ｚ－ＨＮＯ３氢氧化钠浓度用：ＬＱ－５Ｚ－ＮａＯＨ 氢氧化钾浓度用：ＬＱ－５Ｚ－ＫＯＨ氨气浓度用：ＬＱ－５Ｚ－ＮＨ３測定範囲　ＴＭＡＨ濃度用：０．００～５．００％硫酸濃度用：０．００～２．００％ 硝酸濃度用：０．００～２．００％氢氧化钠濃度用：０．００～３．００％氢氧化钾濃度用：０．００～３．００％氨气濃度用：０．００～２．００％ 测试温度：　０．０～４０．０℃TMAH四甲基氢氧化铵单参数溶液测试仪測定方式　電極法（採水測定）校正　　零跨度校正功能温度補償　　自动温度补偿　　ＩＰ６６準拠防水構造 電源　：电池（LR03×3） 自动电源OFF功能計器本体　：　38(H)×75（W)×180（D)mm電極　：　φ17×180（L)mm重量　計器 ： 約300ｇ、電極 ： 約50g標準 構成：　計器、電極、電池、取扱説明書、保証書。

PAL-38S 二甲基甲酰胺浓度折射仪PAL系列与数字手持仪器经过重新设计的产品，且将改变传统折射仪的概念。PAL的产品特色如下 : PAL的袖珍型大小将能让您随身携带，并且不论厂房内外均能使用。本产品只有一百公克重，能够轻松地放入口袋或挂在脖子上或腰带上。测量方法：测量简单，轻松3步完成规格参数：货号：4438型号：PAL-38S应用范围：二甲基甲酰胺（%）测量范围：0-45%测量精度：±0.4%温度补偿范围：10-40℃

二甲基乙酰胺，全称为N,N-二甲基乙酰胺，又称乙酰基二甲胺、乙酰二甲胺，简称DMAC或DMA，化学式：CH3C(O)N(CH3)2，由二甲胺与乙酰氯作用而制得。DMAC，是一种非质子高极性溶剂，无色透明液体，有微氨气味，溶解力很强，可溶解的物质范围很广，能与水、芳香族化合物、酯、酮、醇、醚、苯和三氯甲烷等任意混溶，具有热稳定性高、不易水解、腐蚀性低、毒性小等特点，对多种树脂，尤其是聚氨酯树脂、聚酰亚胺树脂具有良好的溶解能力，可用作耐热合成纤维、塑料薄膜、涂料、医药、丙烯腈纺丝的溶剂。二甲基乙酰胺作为一种低毒、高沸点、高极性的非质子溶剂和化工中间体，主要用于有机和医药工业中用作溶剂，塑料工业用于制造聚酰胺树脂和树胶，化纤工业用作丙烯腈纺丝溶剂，化工生产中用于制造催化剂、电解溶剂，涂料工业用于配制去漆剂以及多种结晶性的溶剂加合物和络合物，分析化学中用作化学试剂。在工业生产中，由DMAC纯溶剂按照生产工艺配置并控制在合适的浓度范围内，比如聚丙烯腈（腈纶）湿法生产过程中，作为凝固浴的DMAC浓度控制在40-65%，温度在20-30℃，此外适应绿色循环经济的要求，需要对DMAC进行回收，制备成目标浓度的待用溶液。检测DMAC溶液浓度成为生产工艺控制必不可少的步骤。以下，我们将对二甲基乙酰胺（DMAC）的浓度进行检测：实验目的：30℃下测试60%左右的DMAC溶液浓度.实验器材：ATAGO（爱拓）全自动台式数显折光仪 RX-5000i，分析天平，纯水仪，具塞试管等。 【实验步骤】1. 配置标准浓度梯度的DMAC溶液：使用分析天平分别准确称取DMAC分析纯试剂置于具塞试管，并分别加入纯水， 配置成30%，40%，50%，60%，70%的DMAC溶液备用。根据实际称量结果，修正浓度。2. 使用ATAGO（爱拓）全自动台式折光仪 RX-5000i 在30℃测试DMAC标准溶液的折射率，并记录。3. 在ATAGO（爱拓）全自动台式折光仪RX-5000i上内置DMAC标度——DMAC-T304. 使用配置的其它浓度溶液进行验证。ATAGO（爱拓）全自动折光仪——RX-5000i 测量 DMAC溶液浓度 *记录DMAC标准溶液折射率*DMAC标准溶液折射率ATAGO（爱拓）全自动台式折光仪 RX-5000i，作为一款高精度的自动折光仪,内置帕尔贴温控系统，测试快速（只需3秒），测量精度高，操作简易，无需试剂，无需样品前处理，对操作人员也无需复杂的实验技能，有助快速检测DMAC浓度.此方法同样适用于DMF（二甲基甲酰胺），DMSO(二甲基亚砜)，NMP（N-甲基吡咯烷酮），NMMO(N-甲基吗啉-N-氧化物)等有机溶剂溶液的浓度检测。内置帕尔贴温控系统，无需外接水浴，达到目标温度后自动开始测量。具备智能自检功能，自动检测棱镜表面清洁度，避免由于光线强度或不同波长造成的干扰，帮助确保测量准确性。 FDA 21 CFR Part 11 数据记录软件（可选配）内置24种常用物质标度，用户自定义标度可达100组，自动保存最新记录数据不少于500条四种测量模式可供选择，满足不同测量需求。【关于 ATAGO】ATAGO（爱拓）专注折光仪超80年，每年超过20000台折光仪服务于中国客户。主要产品有：折光仪、旋光仪、糖度计、盐度计、粘度计、浓度计、pH计等等。ATAGO（爱拓）产品应用行业覆盖：食品饮料、果蔬种植、制糖行业、日用化工、生物医药、石油化工、液晶薄膜、新材料、半导体、光伏光电、汽车制造、金属机械加工、质检机构、高校科研等多种领域。更多产品咨询，敬请致电：400-860-5586，谢谢！