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丁氟螨酯

仪器信息网丁氟螨酯专题为您提供2024年最新丁氟螨酯价格报价、厂家品牌的相关信息, 包括丁氟螨酯参数、型号等,不管是国产,还是进口品牌的丁氟螨酯您都可以在这里找到。 除此之外,仪器信息网还免费为您整合丁氟螨酯相关的耗材配件、试剂标物,还有丁氟螨酯相关的最新资讯、资料,以及丁氟螨酯相关的解决方案。

丁氟螨酯相关的仪器

  • 高通量、高灵敏度、高分辨率拉曼光谱仪系统i-Raman Prime是一款集高灵敏度和高通量于一体的拉曼系统,配有嵌入式平板电脑和光纤采样探头。它采用了-25°C深度致冷的高动态范围和高量子效率CCD阵列检测器,为您提供可以实时定量检测和鉴别的科研级拉曼。 i-Raman Prime具有出色的信噪比,可以检测到极微弱的拉曼信号,区分样品之间的细微差别。i-Raman Prime将宽光谱覆盖范围和高分辨率较好组合,测量范围低可至150 cm-1,高可至3400 cm-1。特点:高灵敏度—将具有超深致冷和高动态范围的高量子效率CCD阵列检测器与高通量光谱仪相结合,使得仪器具有出色的灵敏度,甚至可检测低浓度和具有弱拉曼信号的样品。高灵敏度提供了生物系统所需的高信噪比,而高通量可以降低积分时间,从而满足过程监控快速测试的需要。测试附件多样—灵活的光纤探头可在不同位置进行测量,采样附件包括视频显微镜和远距离测量附件,为实验室和现场的拉曼分析提供了的实用性。i-Raman Prime与我们的STRaman透视拉曼技术兼容,可以通过在更大的样品区域测量透视测量功能。触摸屏界面—i-Raman Prime是一个集成的系统,带有触摸屏平板电脑和软件,可进行实时检测。应用: 生物科学和医学诊断药物分析拉曼显微镜过程监控(PAT)法医分析地质和矿物学研究材料科学研究SERS软件:B&W Tek提供全面的软件包,为拉曼应用需求提供解决方案。强大的计算功能,简单的数据管理和易于理解、操作流程尽在您的指尖。i-Raman Prime使用BWSpecMobile软件进行控制,该软件包括识别和预测功能,可实时提供结果。在实验室中,系统可以连接到外部计算机,并与BWSpec软件一起使用,BWSpec软件是所有B&W Tek软件平台的基础,提供完整的采集功能和其他分析功能以及查看选项。可选的BWID软件经过优化,可快速识别和检测材料。对于受监管的测试环境,BWID-Pharma软件支持符合FDA 21 CFR Part 11标准的要求。当与STRaman透视拉曼技术包一起使用时,BWID软件及其先进的STID算法可用于整体包装识别。 B&W Tek的软件产品组合还包括BWIQ,这是一种用于光谱数据定性和定量分析的多变量软件包。 BWIQ支持化学计量学方法,如偏小二乘回归(PLS),主成分分析(PCA)和支持向量机(SVM)以及一整套预处理工具,模型可以直接用于BWIQ的实时预测。 BWIQ化学计量学软件包适合在线使用i-Raman Prime进行实时预测和离线使用以分析光谱数据。配件(标配):拉曼光纤探头激光护目镜BWSpecMobile和BWSpec软件BWIQ化学计量学软件(试用版)轮式手提箱 配件(选配): 电池比色皿支架平板电脑支架一系列长工作距离镜头(长6米)探头支架和XYZ定位平台工业拉曼浸入式探头轴显微镜适配器视频显微镜性能测试套件,包括液体样品瓶支架拉曼流通池BWID采集和识别软件ST探头适用于大光斑尺寸和深穿透测量技术规格:激光器532 nm激发(探针处)35 mW785 nm激发(探针处)340 mW激光功率控制0至100%(可以1%的增量调节)型号光谱范围(cm-1)光谱分辨率(cm-1)BWS475-785S-HT 150 – 3350 8.0 @ 912 nmBWS475-785H-HT 150 – 2800 6.0 @ 912 nmBWS475-532H-HT150 – 3400 8.0 @ 614 nm检测器检测器类型高量子效率CCD阵列制冷温度-25 ℃积分时间7 ms-30 mins电子规格数据接口USB 2.0触发模式与B&W Tek探头兼容电源直流供电12V DC @ 6.6 Amps交流供电100-240 VAC 50/60Hz电池可选物理参数尺寸40cm×26cm×25cm重量~8.8 kg工作温度0 ℃~35 ℃湿度10%~85%
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  • 产品介绍:RM5是爱丁堡全新推出适用于科研及分析工作的高端显微拉曼光谱仪!这是一款紧凑型全自动显微拉曼光谱仪,可满足高端科研及分析工作的需求。RM5具有真共焦设计,能实现超高的光谱分辨率、空间分辨率和灵敏度。产品特点:1. 独特的真共聚焦设计—可调狭缝结合多位置可调的共焦针孔,使系统具有更高的图像清晰度,更好的荧光背景抑制,且可根据应用进行灵活优化;2. 集成式窄带宽拉曼激光器—多至三个软件自动控制的激光器,使用方便,稳定性高,占用面积小;3. 5位光栅塔轮—具有无与伦比的光谱分辨率1cm-1 (FWHM),可在50cm-1-15000cm-1 的全光谱范围内进行优化;4. 集成式探测器—可同时配置两个探测器,包括高效CCD、EMCCD和InGaAs阵列检测器,用于降低噪声,加快扫描速度、提高灵敏度和拓展光谱范围;5. 内置标准物质和自动校准功能—确保该系统始终可以获得高质量数据6. 4位拉曼滤光片塔轮—全自动陷波滤光片和边缘滤光片,自动匹配不同的拉曼光谱范围和激光波长;7. Ramacle?软件—功能强大的软件包,包含所有的系统控制、数据采集和分析,且易于升级;8. 高性能显微镜—兼容所有附件RM5配置灵活,支持包括Mapping功能 、全自动样品台、偏振拉曼以及外置相机等多种附件和功能的实现,并且均可通过Rmancle软件直接控制(包括设置,测试及数据分析等)。应用领域:生命科学化学制药高分子材料纳米材料化妆品半导体艺术文物法医学地质学等
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  • RAM II 是首款能够连接 INVENIO 以及 VERTEX FTIR 研究级光谱仪的双通道FT-拉曼模块。借助 INVENIO、VERTEX 80 或 VERTEX 70v 和 VERTEX 80v 真空仪器的输入和输出端口,RAM II 将能为您提供理想的 FT-拉曼测量装置。直观易用的 OPUS 软件能够控制系统的所有数据采集和操作功能,同时实现 FT-拉曼和 FT-IR 测量的自动切换。高性能FT-Raman 模块 RAM II 是布鲁克在 FT-拉曼光谱分析领域多年经验的集大成者,它具有先进的24位检测器电子器件和优质的光学元件。通过将其与布鲁克 INVENIO 以及 VERTEX FTIR 研究级光谱仪相连接,您将能获得苛刻的发射试验所必不可少的卓越稳定性和通量(FT-拉曼光谱分析)。取样灵活RAM II 可配备第二个激光检测系统、自动极化附件和双光纤光学耦合端口,旨在实现卓越的灵活性。其它功能还包括,切换至 90° 散射几何形状以及散焦光学元件,这是有色样品避免激光束过热所必不可少的功能。用于优化样品位的电动样品台,以及用于校正仪器响应光谱的光源也是 RAM II 标配之一。至于其它取样附件,如自动样品转换器,有低温和高温档可供选择。FT-拉曼显微镜 RamanScopeIII 以及与布鲁克紧凑型拉曼显微镜 SENTERRA II 相结合所产生的独一无二的功能,可将拉曼光谱分析拓展至微米尺寸的样品。RAM II还支持专用配置,用于光致发光(PL)应用,比如半导体质控和材料研究领域。灵敏度RAM II 配置能够为您提供广泛的光谱范围3600 –50 cm-1 (斯托克斯位移)。通过与 INVENIO R FTIR光谱仪相结合,RAM II模块能够实现极佳的灵敏度和稳定性。经验证的用于样品激发的Nd:YAG激光源(1064 nm)可以完全由软件控制。系统可配备一个或两个室温InGaAs检测器以及一个专有的高灵敏度Ge检测器。高通量光学元件和布鲁克独一无二的液氮冷却锗二极管检测器,能够为您带来超低信号检测,噪声达到最小,从而确保卓越的灵敏度。制冷剂保存时间较长,可实现长达一整周的无忧运行。
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  • 价格货期电议KRI 考夫曼离子源 KDC 100上海伯东代理美国原装进口 KRI 考夫曼离子源 KDC 100 中型规格栅极离子源, 广泛加装在薄膜沉积大批量生产设备中, 考夫曼离子源 KDC 100 采用双阴极灯丝和自对准栅极, 标准配置下离子能量范围 100 至 1200ev, 离子电流可以超过 400 mA.KRI 考夫曼离子源 KDC 100 技术参数:型号KDC 100供电DC magnetic confinement - 阴极灯丝2 - 阳极电压0-100V DC电子束OptiBeam&trade - 栅极专用, 自对准 -栅极直径12 cm中和器灯丝 电源控制KSC 1212配置- - 阴极中和器Filament, Sidewinder Filament 或LFN 2000 - 安装移动或快速法兰 - 高度9.25' - 直径7.6' - 离子束聚焦 平行 散设 -加工材料金属 电介质 半导体 -工艺气体惰性 活性 混合 -安装距离8-36” - 自动控制控制4种气体* 可选: 可调角度的支架KRI 考夫曼离子源 KDC 100 应用领域: 溅镀和蒸发镀膜 PC辅助镀膜(光学镀膜)IBAD表面改性, 激活 SM离子溅射沉积和多层结构 IBSD离子蚀刻 IBE若您需要进一步的了解考夫曼离子源, 请查看官网或咨询叶女士上海伯东版权所有, 翻拷必究!
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  • 伯东公司是美国考夫曼公司 Kuafman & Robinson,Inc(KRI) 中国总代理. KRI 考夫曼公司是由离子源发明人 Dr.Kaufman 考夫曼博士于 1978年在美国创立. KRI 考夫曼离子源历经 40 年改良及发展, 受到各领域的肯定. KRI 离子源离子枪系列产品融合一系列等离子技术,提供了独一无二的操作与运行方式。KRI 离子源主要分为以下几类:无栅式端部霍尔离子源 eh eH 系列离子源离子枪可输出高离子流和低能源束。离子流达到高速运行需求的同时低能源束能够减少对设备外表面与内表面的伤害。有栅极射频感应耦合等离子体离子源 RFICP RFICP 系列离子源可以在无灯丝的情况下提供高密度离子流.从离子流中提取的离子束能够被精确的控制以便提供设定的形状,电流密度以及离子能。有栅极离子源 KDC KDC 系列离子源离子枪是根据典型的考夫曼离子源加强设计的。传统的离子源工艺使其能够输出高质、稳定的离子束。电源与控制器 我们的电源与控制器操作不同种类的离子、等离子以及电子源。这些产品能够为等离子流程中的动荷作用输出平稳、连续的电源。电子源与离子源离子枪中和器 这些电子源低能量、高电流源。它们一般应用于中和剂或阴极材料,以便控制离子源与等离子源的产量。PTIBEAMTM 离子透镜 我们的离子束源采用耐融金属或石墨的多孔径网格。这些网格或是平的,或是中凹的,它们与多孔模式一同控制离子轨迹。离子轨迹的聚集产生了离子束,离子电流的分布塑造了该离子束的形状特征。KRI 考夫曼离子源 EH1010F , EH1020F …系列广泛用于镀膜之前处理 (ISSP) 及离子辅助镀膜 (IBAD)且有助于提高光学成膜之沉淀速率, 附着度, 可靠度, 增加折射率, 穿透率等. KRI 考夫曼离子源 整体设计低耗材, 安装简易, 维护简单广泛应用在生产企业和科研单位KRI 考夫曼离子源 EH1010F, EH1020F, EH3050F, EH5050F…系列, 目前被广泛应用于 AR, IR, 分光镜, 光学蒸镀镀膜制程, 多层膜光学镀膜制程, 低温度膜制, PVD 制程, 材料分析等等… KRI 考夫曼离子源 EH1020F 蒸镀制程设备应用 伯东公司主要经营产品德国 Pfeiffer涡轮分子泵, 干式真空泵, 罗茨真空泵, 旋片真空泵 应用于各种条件下的真空测量(真空计, 真空规管) 氦质谱检漏仪;质谱分析仪;真空系统以及 Cryopump 冷凝泵/低温泵, HVA 真空阀门, Polycold 冷冻机和美国KRI Kaufman 考夫曼离子源离子枪 若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请登录我们网站或与市场部罗女士联系。
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  • 赫施曼 Opus 电子滴定器套装,低碳的滴定,无尽的能源,世界唯一绿色环保,无限续航的电子滴定器,有3种规格可供选择(10 mL, 20 mL and 50 mL)。它的出现代表实验室仪器向绿色环保,使用太阳能而不消耗不可再生能源的方向掀开了新的篇章。对于滴定工作,可以手动泵液,然后轻轻的旋转滴定旋钮,可以精确到10μl 的水平,消除人为读数误差,使实验数据更为精确和数据重复性保持一致。滴定全过程操作简单方便,可以自动校准。完全符合ISO、GLP、GMP、DIN 标准要求,最佳适用于各种需要滴定的实验室和生产线上。每个产品都单独检测,提供独立系列编号的全检质量报告, 并且可直接放入 DIN EN ISO 9000 质量文件中,帮助您申请ISO9000 认证。主要特点:光能驱动,无须更换电池,也不用担心电池漏液腐蚀机器,更环保安全。整机可拆卸,方便清洗维护,机械滑轨更耐磨,保证使用寿命更长。数值显示,无须像传统玻璃滴定管目视刻度,保证读数的精确。体积小巧,方便在抽风橱等狭窄空间操作。可与计算机联网,采集数据,减少人为失误。回流系统可以迅速排气泡,保证实验精度,而且可以保证工作完毕后试剂的回流,既经济又环保,而且起到安全作用。可控制滴定速度,可以精确到10 µ l 的水平,实现微量滴定。通过"Quick-Cal"功能,用户可快速自我校准,能够保证长期满足实验精度的需要。
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  • 仪器简介:opus电子滴定器是德国Hirschmann 推出的新一代智能型免维护电子滴定器,只需在触摸液晶屏上轻轻一按,就可完成你需要的滴定工作。比传统滴定管更加简便、舒适、快捷、精确。滴定过程为电子驱动控制,同时可以利用液晶触摸瓶操作或转入电脑自动程序控制,保存数据。完全符合ISO、GLP、GMP、DIN标准要求,适用于各种需要滴定的实验室和生产线上。每个产品都单独检测,提供独立系列编号的全检质量报告,并且可直接放入DIN EN ISO9000 质量文件中,帮助您申请ISO9000认证。◆ 用户独立性通过电子马达的控制,自动化运动,排除了手动操作导致的误差,无论使用者的更换,时间的变化,操作都能保证了结果的均一性。◆ 高效用户可自定义9种不同的滴定方法,包括自动快滴、自动慢滴与预滴定的功能,让滴定过程快捷高效。只要轻轻一按,就可完成滴定,同时软件采集数据,更节省时间,提高工作效率。◆ 高精度高精度的马达能够达到排液量读数精确到10ul,能够保证到达滴定终点时精度更高。清晰的TFT液晶屏控制和读数,避免凹液面读数的视觉误差。◆ 易操控可以触屏控制,也可以外接鼠标、脚踏板来控制,也可以通过数据线连接电脑或其他控制设备。除了常规滴定环境,也适用于需要在通风柜中等需要远距离操控完成滴定的工作。◆ 耐腐蚀优异的耐腐蚀性,所有与液体接触部分由ECTFE、FEP、PTFE氟塑料、硼硅酸盐玻璃等材料加工而成,可操作除氢氟酸以外的任何试剂,不再为选择试剂烦恼。技术参数:订货号规格最小分度精度(A)误差(CV )95820502050ml0.01ml≤0.2%≤0.05%主要特点:数字化控制,功能一体化。标配密封安全阀,可选配干燥管,实现试剂密封,保护试剂、仪器和环境。意想不到的轻松操作。易采集数据和单独校准。可换装棕色视窗,可滴定光敏液体。轻松排气,自动泵液。
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  • 因产品配置不同, 价格货期需要电议, 图片仅供参考, 一切以实际成交合同为准美国 KRi 考夫曼离子源 Gridded KDC 系列上海伯东美国原装进口考夫曼离子源 KDC 系列, 加热灯丝产生电子, 是典型的考夫曼型离子源, 增强设计输出高质量, 稳定的电子流.美国 KRI 考夫曼公司新升级 Gridded KDC 系列离子源, 新的特性包含自对准离子光学和开关式电源控制. 考夫曼离子源 KDC 系列包含多种不同尺寸的离子源满足各类应用. 考夫曼离子源 KDC 提供一套完整的方案包含考夫曼离子源, 电子中和器, 电源供应器等等可以直接整合在各类真空设备中, 例如实验室小型研发, 镀膜机, load lock, 磁控溅射系统, 卷绕镀膜机和线性镀膜.美国 KRI 考夫曼离子源 KDC 特性:通过加热灯丝产生电子低电流高能量宽束型离子源美国 KRI 考夫曼离子源 KDC 应用:辅助镀膜(光学镀膜) IBAD溅镀&蒸镀 PC表面改性, 激活 SM沉积 DD离子溅射沉积和多层结构 IBSD离子蚀刻 IBE 美国 KRI 考夫曼离子源 KDC 技术参数: 型号KDC 10KDC 40KDC 75KDC 100KDC 160Discharge 阳极DC 电流DC 电流DC 电流DC 电流DC 电流离子束流10 mA100 mA250 mA400 mA650 mA离子动能100-1200 V100-1200 V100-1200 V100-1200 V100-1200 V栅极直径1 cm Φ4 cm Φ7.5 cm Φ12 cm Φ16 cm Φ离子束聚焦, 平行, 散射流量1-5 sccm2-10 sccm2-15 sccm2-20 sccm2-30 sccm通气Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他典型压力 0.5m Torr 0.5m Torr 0.5m Torr 0.5m Torr 0.5m Torr 长度11.5 cm17.1 cm20.1 cm23.5 cm25.2 cm直径4 cm9 cm14 cm19.4 cm23.2 cm中和器灯丝1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源, 霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展. 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD领域, 上海伯东是美国考夫曼离子源中国总代理.若您需要进一步的了解考夫曼离子源, 请参考以下联络方式上海伯东版权所有, 翻拷必究!
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  • 该装置设计有6个标准100ml桌面反应釜,采用电加热,使用温度120℃,使用压力 4~8Mpa,采用磁力搅拌。装置主要有进料单元、反应单元和抽真空 单元。装置按照实验室试验装置进行设计建造,要求室内使用。装置主要仪表及管阀件均采用优质产品,装置非标采用耐腐蚀材质。设计参数1、氮气作为置换气; 2、原料泵量程为 100ml/min;3、反应釜采用我公司标准的100ml桌面式反应釜(YZPR),采用电加热,2台反应釜设计压力20Mpa,4台反应釜设计压力10Mpa,使用压力4~8Mpa,设计温度 250℃,使用温度120℃,釜体材质不锈钢316L,内衬PTFE,反应釜安装压力传感器、压力表、安全阀、负压表,采用磁力搅拌,釜内设有温度检测点;反应时间 6h;可以手机app远程控制。4、原料罐由甲方提供,乙方留好接口;5、真空泵全压≤1.33Pa,分压≤6x10-2Pa;6、装置分为两套,3个反应釜一套,分别放在通风橱里,每套配一个流量计,流量计安装在10MPa反应釜前。进料单元装置共有 4 路气路,1 路气体为氮气,作为置换气,3 路为一氧化碳,反应开始前进行系统充压,然后随反应消耗补充到反应釜内,其中一路一氧化碳气路安装有质量流量计,累计计量一氧化碳气体。装置共有 1 路液路,原料罐由甲方提供,乙方留好接口,丁二烯经泵计量控制和背压阀背压后进入反应釜,在反应釜为常压时将丁二烯加入反应釜,泵前加有冷却器,使丁二烯温度维持在 0℃以下。丁二烯进料前称量反应釜,丁二烯进料后称量反应釜,两者差值为丁二烯进料量。反应釜单元真空泵对反应釜抽真空,釜内真空管斜向下到釜壁,目的是防止催化剂被抽出反应釜,釜外真空管路安装有过滤器,目的是将抽入到管道内的催化剂阻挡住然后重新落入反应釜;然后将溶剂甁与反应釜相连,打开阀门,利用系统真空将催化剂吸入反应釜,该管线为 1/8”;然后开始丁二烯进料,丁二烯进料完毕后开始升温,一氧化碳充压,随着反应消耗一氧化碳,压力降低,一氧化碳自动补充到反应釜。
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  • 德国赫施曼AS级刻度管,褐标,0顶部材质:钠钙玻璃,褐标永不退色,带批次证书,主刻度环标,刻度未到底部(部分排除式),“EX”校准,type1,5ml以上有标准棉花塞,符合DIN EN ISO 835。
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  • 功能总述 本试验机主要用于检测金属试样和非金属材料(含棒材和板材)在NaOH、NO3-、H2S、CL-溶液、甲醇、N2O4、NH3、湿空气和水等介质环境下,并在设定温度(温度范围:常温-80°C)环境下,测定金属的应力腐蚀破坏特性试验。具有力、时间、加载速率、分步(多级)加载等控制方式,且各种方式间转换无冲击。相关标准? GB/T 2611-2007《试验机通用技术条件》? 适用GB/T15970.7-2017和ISO 7539-7:2018金属和合金慢应变应力腐蚀试验标准? 根据客户需求选择的试验方法 技术指标220V 50HZ 规格型号QJ211S负荷(kN)30可选试验负荷(kN)30,20,10,5试验空间单空间/双空间试验机级别0.5级/1.0级试验力测量范围0.4%-100FS/0.2%-100FS试验力示值相对误差±0.5%/±1%试验力分辨力1/500000FS力控速率调节范围0.005-5%FS/s力控速率相对误差设定值的±1%以内变形分辨力1/500000FS变形测量范围0.2%-100FS变形示值相对误差设定值的±0.5%以内变形速率调节范围0.02-5%FS/s位移分辨力0.048μm位移示值相对误差设定值的±0.5%以内数据采集频率1-1000Hz闭环控制速率1000Hz横梁移动速度调节范围(mm/min)1×10-7~1×10-3mm/min 之间无级调节位移测量范围(mm)0-100试验宽度(mm)420加热器功率(W)2000温度波动度(°C)±1°C以内温度精度(°C)±0.2°C以内外形尺寸(mm)775(W)×660(D)×1740(H)工作电压电机功率 750W安全保护力过载保护,位移机械限位,电压过载保护重量(kg)280
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  • 荷兰福泰压片机 LabManual产品简介荷兰福泰公司开发的LabManual 手动压片机,操作简单。适用于各种材料的压片制样。荷兰福泰压片机 LabManual基本特征 LabManual 300是手动操作型压片机,专为基础冲压制样和简单操作而设计 双立柱机架:高精度的压板平行度和易于进入的操作空间 极其精确的温度分布 通过精密控制的加压过程,精确控制合模压力 设备采用高刚性设计,整个压板表面的力分布非常精确 上压板固定,下压板可移动 整机设计结构紧凑 操作简便 全面的安全防护 维修方便 多项可选项,如:冷却、压板材质等荷兰福泰压片机 LabManual主要功能 手动压片机手动完成片材的压片制样。 电加热,手动加压,体积小巧,操作简便。荷兰福泰压片机 LabManual主要用途手动压片机主要用于对各种材料的片材压片制样。荷兰福泰压片机 LabManual技术参数合模力(KN)0-300压板尺寸(mm)320x320压力(N/mm2)2.93电流(A)16最高温度(℃)300电压(V)230长*宽*高(mm)500*500*800重量(kg)275
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  • 因产品配置不同, 价格货期需要电议, 图片仅供参考, 一切以实际成交合同为准KRI 考夫曼离子源 KDC 100上海伯东代理美国原装进口 KRI 考夫曼离子源 KDC 100 中型规格栅极离子源, 广泛加装在薄膜沉积大批量生产设备中, 考夫曼离子源 KDC 100 采用双阴极灯丝和自对准栅极, 标准配置下离子能量范围 100 至 1200ev, 离子电流可以超过 400 mA.KRI 考夫曼离子源 KDC 100 技术参数:型号KDC 100供电DC magnetic confinement - 阴极灯丝2 - 阳极电压0-100V DC电子束OptiBeam&trade - 栅极专用, 自对准 -栅极直径12 cm中和器灯丝电源控制KSC 1212配置- - 阴极中和器Filament, Sidewinder Filament 或LFN 2000 - 安装移动或快速法兰 - 高度9.25' - 直径7.6' - 离子束聚焦平行散设 -加工材料金属电介质半导体 -工艺气体惰性活性混合 -安装距离8-36” - 自动控制控制4种气体 * 可选: 可调角度的支架KRI 考夫曼离子源 KDC 100 应用领域:溅镀和蒸发镀膜 PC辅助镀膜(光学镀膜)IBAD表面改性, 激活 SM离子溅射沉积和多层结构 IBSD离子蚀刻 IBE若您需要进一步的了解考夫曼离子源, 请联络上海伯东上海伯东版权所有, 翻拷必究!
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  • Portman系列便携式制冷型拉曼光谱仪如海光电 收录于合集 #拉曼光谱 1个1产品简介Portman便携式拉曼光谱仪是面向实验室和现场检测等多种场景的小型拉曼光谱仪。设备主机可以根据客户需求和应用配置不同的激发波长、光谱范围和分辨率。最低可达-25°C的高性能面阵背照式检测器为客户提供高品质的拉曼光谱信号。符合IIIB激光安全等级要求的激光器可由软件控制和设定,为客户提供一键式的数据采集体验。多样化的采样附件满足客户对于固体、液体、粉末等不同形状的样品测量要求。针对性的微区采样附件、浸入式探头可以实现SERS、二维材料、珠宝、在线化工、生物医药和制药等多种复杂场景,软件配置拉曼光谱去荧光、信号提取、识别以及数据库管理等功能。Portman便携式拉曼光谱仪已经被广泛应用于食品安全、国防安全、珠宝鉴定、医药等需对原材料快速筛选、现场快速检测及物质分析鉴定等行业。2产品特点平台化设计:常规配置532nm、633nm、785nm、1064nm波长,可以根据客户需求进行定制;高分辨率:最小2.5cm-1。光纤探头设计:可以适配显微镜、现场测量和浸入式测量等多种测量场景制冷检测器:具备良好的稳定性和高信噪比,适合长时间检测和监控软件功能丰富:配置丰富光谱处理分析算法,可选择云端光谱数据管理。3产品参数4典型图谱5应用领域
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  • 价格货期电议美国 KRI 考夫曼离子源 Gridded KDC 系列 上海伯东美国原装进口考夫曼离子源 KDC 系列, 加热灯丝产生电子, 是典型的考夫曼型离子源, 增强设计输出高质量, 稳定的电子流.美国 KRI 考夫曼公司新升级 Gridded KDC 系列离子源, 新的特性包含自对准离子光学和开关式电源控制. 考夫曼离子源 KDC 系列包含多种不同尺寸的离子源满足各类应用. 考夫曼离子源 KDC 提供一套完整的方案包含考夫曼离子源, 电子中和器, 电源供应器等等可以直接整合在各类真空设备中, 例如实验室小型研发, 镀膜机, load lock, 溅射系统, 卷绕镀膜机和线性镀膜.美国 KRI 考夫曼离子源 KDC 特性: 通过加热灯丝产生电子 低电流高能量宽束型离子源美国 KRI 考夫曼离子源 KDC 应用: 辅助镀膜(光学镀膜) IBAD溅镀&蒸镀 PC表面改性, 激活 SM沉积 DD离子溅射沉积和多层结构 IBSD离子蚀刻 IBE 美国 KRI 考夫曼离子源 KDC 技术参数:型号KDC 10KDC 40KDC 75KDC 100KDC 160Discharge 阳极DC 电流DC 电流DC 电流DC 电流DC 电流离子束流10 mA100 mA 250 mA400 mA650 mA离子动能100-1200 V100-1200 V100-1200 V100-1200 V100-1200 V栅极直径1 cm Φ4 cm Φ7.5 cm Φ12 cm Φ16 cm Φ离子束聚焦, 平行, 散射流量1-5 sccm2-10 sccm2-15 sccm2-20 sccm2-30 sccm通气Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他典型压力 0.5m Torr 0.5m Torr 0.5m Torr 0.5m Torr 0.5m Torr长度11.5 cm17.1 cm20.1 cm23.5 cm25.2 cm直径4 cm9 cm14 cm19.4 cm23.2 cm中和器灯丝 1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源, 霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展. 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域, 上海伯东是美国考夫曼离子源中国总代理.若您需要进一步的了解考夫曼离子源, 请查看官网或咨询罗女士上海伯东版权所有, 翻拷必究!
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  • 标准规范ASTM E162, ASTM D3675应用范围测试建筑材料及泡沫塑料的表面可燃性产品介绍FTT的辐射板火焰蔓延测试仪通过燃气热辐射板对建筑材料(ASTM E162)及泡沫塑料(ASTM D3675)的表面可燃性进行测试。测试结果为火焰蔓延指数,由火焰蔓延和热量散发等因素决定。该指数是许多行业规范中的必备参数,尤其在公共交通(火车和巴士)行业。 FTT的辐射板火焰蔓延测试仪操作简便设计完整,其特点: ● 多孔水泥和铸铁燃气辐射板(12 x 18in),电子打火,自动熄火安全监控装置● 不锈钢样品固定架,每3英寸设观测点,用于观察火焰前锋进展● 不锈钢样品支架● 不锈钢引燃烧装置● 高温计,测定辐射板表面温度,包含支架● 气流表,燃气控制阀,控制送入辐射板的气体混合● 不锈钢排气管,带可拆卸面板,方便清洁热电偶● 排气管根据标准配备8个热电偶● 经校验的燃烧器,带甲烷气流量表● 燃气安全控制及电路切断装置
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  • 上海伯东授权代理 Kaufman & Robinson, Inc (KRi) 美国考夫曼离子束与等离子源产品上海伯东为 Kaufman & Robinson, Inc (KRi) 美国考夫曼公司大中华总代理. 离子源发明人 Dr. Kaufman 考夫曼博士将此授权 VEECO 生产. 于1978年考夫曼博士在美国自行创立 Kaufman & Robinson, Inc. (KRi) 公司并历经40年离子源之改良及研发, KRI产品融合的一系列等离子技术提供了独一无二的操作与运行方式。这些技术使离子源与供电产品能够被正确的应用以便达到流程目标。此类技术基本上可以被分为几个类别:无栅式端部霍尔(eh)离子源 eH系列离子源可输出高离子流和低能源束。离子流达到高速运行需求的同时低能源束能够减少对设备外表面与内表面的伤害。有栅极射频感应耦合等离子体(RFICP)离子源 RFICP系列离子源可以在无灯丝的情况下提供高密度离子流.从离子流中提取的离子束能够被精确的控制以便提供设定的形状,电流密度以及离子能。有栅极KDC离子源 KDC系列离子源是根据典型的考夫曼离子源加强设计的。传统的离子源工艺使其能够输出高质、稳定的离子束。电源与控制器 我们的电源与控制器操作不同种类的离子、等离子以及电子源。这些产品能够为等离子流程中的动荷作用输出平稳、连续的电源。电子源与离子源中和器 这些电子源低能量、高电流源。它们一般应用于中和剂或阴极材料,以便控制离子源与等离子源的产量。PTIBEAMTM离子透镜 我们的离子束源采用耐融金属或石墨的多孔径网格。这些网格或是平的,或是中凹的,它们与多孔模式一同控制离子轨迹。离子轨迹的聚集产生了离子束,离子电流的分布塑造了该离子束的形状特征。上海伯东 主要经营产品 德国 Pfeiffer 涡轮分子泵, 干式真空泵, 罗茨真空泵, 旋片真空泵 应用于各种条件下的 真空测量(真空计, 真空规管) 氦质谱检漏仪;质谱分析仪;真空系统以及 Cryopump 冷凝泵/低温泵, HVA 真空阀门, Polycold 冷冻机和美国KRI Kaufman考夫曼离子源(离子枪)。 若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请登录我们网站或与市场部罗女士联系。
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  • 辐射板火焰蔓延测试仪 辐射板火焰蔓延测试仪用于建筑材料、高速列车材料以及船舶材料的燃烧特性测试,按照距离和 CEF (临界热辐射流通)测量火焰的蔓延速度和点火热量的总放热量。满足标准ISO 5658-2(燃烧测试反应—火焰蔓延,第二部分)IMO FTPC PART 5 测试原理及结果 测试物体曝露在散热板燃气燃烧类型给定的适当散热区域,然后在燃烧发生时,使用标定好的热电偶以mV为单位测量其信号值。另外,也记录点火时间并按照测试物体的距离记录被测物体的火焰燃烧时间,也记录火焰的蔓延速度。 测试项目1、点火热量(MJ/m )2、持续燃烧的热量(MJ/m )3、临界热辐射流通(kW/m )4、持续燃烧的平均热量和总散热量(kW)。 设备组成 系统依据相关标准和规范设计制造,主要包含三个部分,即辐射板、样品支撑架、以及燃气供应系统。1、辐射板:辐射板支撑架为焊接方钢管,并在外部涂有粉末涂层,起到保护和便于清洁的作用。 辐射板上配备所有必要的管路和控制仪表。辐射板加热部分为多孔耐火砖,并在耐 火砖外部安装不锈钢外壳。气体调节阀确保在进行燃烧前,天然气、甲烷或丙烷能够按 照一定的压力和流量与空气混合。可变速流量计能够对燃气和气体流量进行精确控制。 辐射板还配备了燃气安全系统,确保操作使用过程中人员和设备的安全。 2、试样支撑架:样品架选择和辐射板相同的材料和涂层。在样品架一侧配有导轨以方便样 品挂钩移动,并确保样品处于准确的试验位置。热流计安装在样品架试样正上方。样品支 撑架和辐射板间距离也可根据测试情况进行调整。 3、样品挂钩:系统配备有两个样品挂钩、一个弹簧夹、两个样品衬板和一个测试样品。4、热流调节装置:专门用于记录热流计数据输出,输出结果可连接到数据采集系统或其它 存储装置。5、校准系统:系统配备一个校准板和一个校准热流计。校准板由硅酸钙制成并带有一系列校准 孔,这些孔能够确保校准时热流计处于正确位置。热流计为水冷式Schmidt-Boelter热流 量计,带有校准证书。所有数据可通过数据采集系统获得。
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  • SSRT系列 10kN/20kN/50kN/100kN/200kN/300kN慢拉伸应力腐蚀试验机(CE CUL/CSA)SSRT系列 10kN/20kN/50kN/100kN/200kN/300kN慢应变速率应力腐蚀试验机(CE CUL/CSA)→10kN/20kN/50kN/100kN.Slow Tension Stress corrosion Testing Machine(CE CUL/CSA);→10kN/20kN/50kN/100kN.Slow Strain Rate Stress Corrosion Testing Machine(CE CUL/CSA);→200kN/300kN.Slow Tension Stress corrosion Testing Machine(CE CUL/CSA);→200kN/300kN.Slow Strain Rate Stress Corrosion Testing Machine(CE CUL/CSA);重要功能:→材料、零件、部件、构件等金属材料、非金属材料、合金材料、复合材料,在持久拉应力 (工作应力、热应力、残余应力等)和腐蚀介质联合作用下,恒速率拉伸试验、持久拉伸试验、恒载荷蠕变试验、腐蚀疲劳试验、腐蚀应力开裂压缩、腐蚀裂纹生长试验、裂纹扩展试验测试及研究。→金属、管件、构件(套管、油管、平端套管、衬管、短节、焊接钢管、无缝钢管、埋地管、凝汽器管、黄铜、不锈钢、钢索、气钢瓶、水龙头阀门管件、航空航天部件、海洋装备部件、轨道车辆部件、武器零部件) 慢拉伸应力腐蚀测试及研究。→2XXX系铝合金、3XXX系铝合金、4XXX系铝合金、5XXX系铝合金、6XXX系铝合金、7XXX系铝合金、8XXX系铝合金的铝合金板、铝合金管、铝合金棒、铝合金型材等加工产品及构件慢应变速率应力腐蚀测试及研究。→模拟环境(输送油气、钻井、测井、修井、地层压裂工艺、海洋、太空、地下、矿山)。→腐蚀疲劳试验Corrosion Fatigue Test;→硫化物应力腐蚀试验(SSC);应力腐蚀试验(SCC);氢致开裂试验(HIC);→慢应变速率应力腐蚀试验(SSRT);→应力导向氢致开裂试验(SOHIC);→电偶诱发氢应力开裂(GHSC);→金属均匀腐蚀全浸试验,耐腐蚀性试验,点腐蚀试验,晶间腐蚀试验,缝隙腐蚀试验,电偶腐蚀试验;→应力腐蚀介质:硫化氢H2S、氯化钠NaCl、冰乙酸/无水乙酸、醋酸钠/乙酸钠/无水醋酸钠/无水乙酸钠、氮气N2、氩气Ar、氨气NH3、二氧化碳CO2、氢氧化钠NaOH、硝酸盐NO3、硫酸盐、硫酸钡、甲醇、四氧化二氮N2O4、硫酸铜/五水硫酸铜/CuSO4、草酸、硫酸铁、氢氟酸、潮湿空气、盐雾、腐蚀性气体、海水、盐水、去冰盐等。→耐高温/耐腐蚀/全密封/防泄漏/防挥发/应力腐蚀环境容器。→拉应力腐蚀环境容器,进口材料制作,耐高温、耐腐蚀、长时实验、高温加热可达300°。→耐腐蚀温度指示装置,实时观察、控制腐蚀介质温度。→全密闭应力腐蚀环境容器、防止有毒气体挥发、渗出、渗漏,安全防护性极高。重要参数: 慢拉伸应力腐蚀试验机Slow Tension Stress corrosion Testing Machine(CE CUL/CSA)慢应变速率应力腐蚀试验机Slow Strain Rate Stress Corrosion Testing Machine(CE CUL/CSA)1试验力10kN/20kN30kN/50kN100kN200kN/300kN2试验机级别0.5级 / 1级3负荷测量范围0.4%~100FS(0.5级)/1%~100FS(1级)4示值相对误差±0.5%(0.5级)/±1.0%以内(1级)5试验力分辨力1/±300000FS(全程分辨力不变)6变形测量范围0.2%~100 FS7力控速率调节范围0.005%~5%FS/S8力控速率控制精度速率<0.05%FS时,为±1%设定值以内;速率≥0.05%FS时,为±0.5%设定值以内;9变形速率调节范围0.005~5%FS/s10变形速率控制精度速率<0.05%FS/s时,为设定值的±1%以内;速率≥0.05%FS/s时,为设定值的±0.5%以内;11位移速率调节范围10-7~2mm/min12位移速率控制精度为设定值的±0.2%以内;13恒力、恒变形、恒位移控制范围0.5%~100FS14恒力、恒变形、恒位移控制精度设定值≥10%FS时,为设定值的±0.5%以内设定值<10%FS时,为设定值的±1%以内15有效试验跨度410mm410mm510mm610mm16横梁移动行程0~1000mm0~1000mm0~1200mm0~1200mm17应力腐蚀环境容器耐高温/全密封/防泄漏/防挥发/温度指示/长时实验/高温300°18拉应力快调装置快速调整试验空间
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  • 德国赫施曼环境监测水质采样固定剂箱(环监专用)是专为水质监测现场采样而研发的水质采样箱,其可以在进行水质监测现场采样时对水样添加固定剂进行保护,从而确保实验数据准确。 德国赫施曼环境监测水质采样固定剂箱适用于环境监测站水质监测,水文水利监测部门水质监测,地矿地下水质监测,疾病预防控制中心水质监测,环境保护执法部门水质采样调查,市政供排水监测,饮用水管网监测等用户。 德国赫施曼环境监测水质采样固定剂箱具有多个水质采样箱型号,其具有以下特点: 1)适合重金属,COD等基本项水样采集固定剂加样; 2)体积轻巧,适合于不同野外地理环境条件使用; 3)采用试剂瓶无杂质析出,可适配高纯酸固定剂,且不怕运输的颠簸,适合远距离运输 德国赫施曼环境监测水质采样固定剂箱针对每个采样上来的水样根据检测项目需要定量加以下的试剂: 序号监测项目5硫化物6氰化物7铜、锌、铅8六价铬9硒、锑和铋10石油类11溶解氧12挥发酚13微生物14生物 德国赫施曼实验设备有限公司根据国家环保部颁布的HJ 493-2009 《水质样品的保存和管理技术规定 》,结合规范中的水样保存方法要求推出环境监测水质采样固定剂箱,使采样固定工作减少了准备工作环节,提高效率,保证采样数据更均一稳定。产 ◆固定剂通过加液器设定刻度,一次性定量排出固定剂于样品中,操作简单快捷,无外溢,安全性高。 德国赫施曼环境监测水质采样固定剂箱技术参数德国赫施曼环境监测水质采样固定剂箱应用领域:水文,环境监测,自来水,疾控水质检测现场采样,以及应急监测水质样品化 学分析检测前处理等工作。
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  • 价格货期电议美国 KRI 离子源应用于蒸镀直径 1.5m 天文望远镜镜片全反射膜 上海伯东代理美国 KRI 大尺寸霍尔离子源 EH 3000 HC, 离子束具有业界中最高广角的涵盖面积及最高密度的离子浓度, 在离子辅助镀膜工艺中 Ion Beam Assisted Deposition, IBAD 可以获得高均匀性及高致密性的膜层. EH 3000 HC 近日成功应用于直径 2.2m 蒸镀机, 用于蒸镀 1.5m 天文望远镜镜片. 通过使用上海伯东 KRI 离子源镀全反射膜, 高均匀性及高致密性的膜层可以保障光源有效反射, 尽可能减少吸收. 直径 2.2m 镀膜腔, 仅需安装1台 EH 3000 HC 霍尔离子源, 即可完成镀膜, 直接降低企业成本!上海伯东离子源蒸镀典型案例: 根据客户 2.2m 镀膜腔体尺寸, 基材尺寸和工艺条件, 推荐选用霍尔离子源 eh3000 HC, 配置中空阴极, 中和器, 自动控制器1. 设备: 2.2m 蒸镀镀膜机.2. 基材: 1.5m 天文望远镜镜片镀铝 Al, 最外层镀一层二氧化硅 SiO2, 做为保护膜3. 离子源条件: Vb:120V ( 离子束阳极电压 ), Ib:14A ( 离子束阳极电流 ), O2 gas:45sccm( 氧气 ).4. 离子源应用: 天文望远镜镜片镀全反射膜, 约3个小时 保障光源有效反射, 尽可能减少吸收.霍尔离子源 EH 3000 HC 主要技术参数尺寸: 直径= 9.7“ 高= 6”放电电压 / 电流: 50-300V / 20A可通气体: Ar, Xe, Kr, O2, N2,离子束发散角度: 45° (hwhm)水冷 类似应用: 汽车头灯模块镀全反射膜, 使发光源的光全部反射出去照亮 美国 KRi 霍尔离子源凭借高密度的离子浓度, 广角度涵盖面积的离子束, 可控制离子的强度及浓度, 已广泛应用于离子辅助镀膜 IBAD , 获得高质量的膜层. 上海伯东美国 KRi 霍尔源可依客户镀膜机尺寸, 基材尺寸及工艺条件选择对应型号: EH 400, EH 1000, EH 2000, EH 3000. 1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源 Gridded 和霍尔离子源 Gridless. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展. 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射沉积 IBSD 领域, 上海伯东是美国考夫曼离子源 (离子枪) 中国总代理.鉴于客户信息保密, 若您需要进一步的了解离子源镀膜案例, 请查看官网或咨询叶女士上海伯东版权所有, 翻拷必究!
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  • 德国赫施曼AS级微量滴定管蓝标玻璃塞材质:3.3硼硅酸盐玻璃,白底蓝标,带批次证书,直滴标准滑口玻璃塞,带有可控制加液的玻璃塞,主刻度环标,“EX”校准,符合DIN EN ISO 385。
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  • 赫施曼 六联固定剂箱 400-860-5168转4592
    根据国家环保部(现生态环境部)颁布的HJ93-2009《水质样品的保存和管理技术规定》和《国家地表水环境质量监测网监测任务作业指导书》,结合规范中的水样保存方法要求,德国赫施曼实验室仪器推出环境监测水质采样固定剂箱,使采样过程水质固定工作减少了准备工作环节,提高了工作效率和安全性,保证采样数据更均一稳定,更具科学性。并且极大促进采样工作的标准化和规范化,避免安全事故的发生。产品介绍1、产品组成:内置防护衬里的可分离箱体、含配套储液瓶的加样器(4个、6个或8个)及成套配件。2、加样器密封性好,无论静置或运输状态,均不会漏液,提高了安全性。3、具有定量连续加液功能,量程范围从0.2-1ml,0.4-2ml,1-5ml2-10ml格可选。4、加样器及储液瓶由防护衬里固定,不会发生碰撞、倾倒。5、加样器与液体接触部分由陶瓷、氟塑料等制成,兼容各种强酸、强碱和有机溶剂。6、加样器精度≤0.5%,精度高于移液器、移液管,不受人为操作因素的影响。7、固定剂通过加样器设定刻度,一次性定量排出固定剂于样品中,操作简单快捷,无外溢,安全性高。精确分液容量的控制采用阶梯式设计,确保了分液量的高度精确,且终生无需校准,在操作中无人为因素影响而干扰精度。各种转换接头可选兼容各类试剂瓶且可定制。人体工程学设计操作容易、舒适、简单,始终确保准确的容量调节。防气泡生成排液管通过与吸液阀旋紧后的紧密结合,能够防止气泡生成,提高排液精度。抗腐蚀高纯复合陶瓷活塞,光滑、耐高温、抗腐蚀,长期使用依然操作自如,不再为溶剂选择而犹豫。PFA剂瓶高品质试剂瓶,专门针对溶剂与标准品的储存而设计,PFA 材质的旋盖内含一体式密封圈与斜方螺纹,可高压湿热灭菌,清洗方便。表面平滑度很高,具有很高的透明度和耐热性能。适合于保管和存放高纯度样品和高腐蚀性样品。技术参数外形尺寸(cm):35x26x33液体固定剂加液数量:6加样器规格:0.2-1ml.4-2ml,1-5ml和2-10ml可选试剂瓶材质、容量:耐腐蚀Boro3.3玻璃250ml(硼硅酸盐玻璃(Boro.3):具有出色的化学和物理性质,广泛应用于需要具备出色化学耐性与热耐性(包含耐受热冲击),以及高机械稳定性的玻璃量具,比如容量瓶和烧杯,是典型的用于化学实验的玻璃。)加样器化学适用性:除氢氟酸外所有试剂加样精度:0.5%产品优势适合水质监测常规项水样采集固定剂加样。应用领域地下水检测,给排水、自来水检测,医疗废水检测,生活污水检测,江河湖泊水质检测,矿泉水检测,渔业水质检测,海洋环境检测,工业废水检测。
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  • RM5是爱丁堡全新推出适用于科研及分析工作的高端显微拉曼光谱仪!这是一款紧凑型全自动显微拉曼光谱仪,可满足高端科研及分析工作的需求。RM5具有真共焦设计,能实现超高的光谱分辨率、空间分辨率和灵敏度。产品特点:1. 独特的真共聚焦设计—可调狭缝结合多位置可调的共焦针孔,使系统具有更高的图像清晰度,更好的荧光背景抑制,且可根据应用进行灵活优化;2. 集成式窄带宽拉曼激光器—多至三个软件自动控制的激光器,使用方便,稳定性高,占用面积小;3. 5位光栅塔轮—具有无与伦比的光谱分辨率1.4cm-1 (FWHM),可在50cm-1-4000cm-1 的全光谱范围内进行优化;4. 集成式探测器—可同时配置两个探测器,包括高效CCD、EMCCD和InGaAs阵列检测器,用于降低噪声,加快扫描速度、提高灵敏度和拓展光谱范围;5. 内置标准物质和自动校准功能—确保该系统始终可以获得高质量数据6. 4位拉曼滤光片塔轮—全自动陷波滤光片和边缘滤光片,自动匹配不同的拉曼光谱范围和激光波长;7. Ramacle?软件—功能强大的软件包,包含所有的系统控制、数据采集和分析,且易于升级;8. 高性能显微镜—兼容所有附件RM5配置灵活,支持包括Mapping功能 、全自动样品台、偏振拉曼以及外置相机等多种附件和功能的实现,并且均可通过Rmancle软件直接控制(包括设置,测试及数据分析等)。核心技术参数:1. 光谱分辨率1.4cm-12. 光谱覆盖范围:50cm-1-4000cm-13. 焦长:225cm4. 空间分辨率低至1μm5. 最低波数:<50cm-1应用领域:生命科学化学制药高分子材料纳米材料化妆品半导体艺术文物法医学地质学等
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  • 上海伯东是美国考夫曼公司 KRI 离子源大中华地区总代理,离子源发明人 Dr.Kaufman 考夫曼博士 1960 年发明离子源并授权 VEECO 生产,1978 年 Dr.Kaufman 博士在美国自行创立考夫曼公司 Kaufman & Robinson.Inc (KRI) 生产离子源.2014年 VEECO 宣布关闭旗下离子源部分生产工厂美国考夫曼公司 KRI 离子源历经 40 年改良及发展,型号包含考夫曼离子源 Gridded Ion Beam Source 霍尔离子源 Griddless Ion Beam Source.美国考夫曼公司 KRI 离子源广泛应用于友厂,如德国普发 Pfeiffer Vacuum Classic 镀膜机,龙翩真空 Lung Pien 镀膜机,4Wave 离子刻蚀机等. 美国考夫曼公司 KRI 离子源主要优点:考夫曼离子源: 高离子能量低离子浓度,离子抨击能量强,蚀刻效率快,可应用多种基材,单次使用长久,耗材成本极低,操作安装简易.霍尔离子源:高离子浓度低离子能量,离子束涵盖面积广,镀膜均匀性佳,模块化设计,增加光学膜后折射率,操作安装简易.美国考夫曼公司 KRI 离子源主要应用于1.光学镀膜 OC(Optical Coating ) 推荐霍尔离子源 eH 200,eH 400,eH 1000,eH 5000F2.离子源助镀 IBAD (Ion Beam Assisted Deposition) 推荐霍尔离子源 eH 1010F,eH 1020F3.离子溅镀 IBSD (Ion Beam Sputter Deposition) 推荐考夫曼离子源 RFICP 40,RFICP 100,RFICP 300 KDC 10,KDC 40,KDC 754.离子刻蚀 IBE (Ion Beam Etching)考夫曼离子源 RFICP 40,RFICP 100,RFICP 140,RFICP 200,RFICP 300上海伯东依据客户实际需要提供完整真空应用解决方案,如真空泵选型销售(德国普发 Pfeiffer 机械泵,分子泵 美国 Polycold 低温泵),真空系统检漏(德国普发 Pfeiffer 氦质谱检漏仪),真空阀门选配(美国 HVA 超高真空阀门,德国普发 Pfeiffer 真空阀门),蒸镀源选型(美国考夫曼公司 KRI 离子源)等等. 上海伯东主要经营产品:德国普发 Pfeiffer 涡轮分子泵,干式真空泵,罗茨真空泵,旋片真空泵 应用于各种条件下的真空计,真空规管 氦质谱检漏仪,质谱分析仪,四级杆质谱仪 以及美国 HVA 真空阀门, Polycold 冷冻机,Gamma 离子泵和美国考夫曼公司 KRI 离子源 离子枪 霍尔源 若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请参考以下:上海伯东:罗女士
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  • 因产品配置不同, 价格货期需要电议, 图片仅供参考, 一切以实际成交合同为准KRI 考夫曼离子源 KDC 75上海伯东代理美国原装进口 KRI 考夫曼离子源 KDC 75:紧凑栅极离子源,离子束直径 14 cm ,可安装在 8“CF法兰. 适用于中小型腔内, 考夫曼离子源 KDC 75 包含2个阴极灯丝, 其中一个作为备用,KDC 75 提供紧密聚焦的电子束特别适合溅射镀膜. 标准配置下离子能量范围 100 至 1200ev, 离子电流可以超过 250 mA. KRI 考夫曼离子源 KDC 75 技术参数型号KDC 75 / KDC 75L(低电流输出)供电DC magnetic confinement - 阴极灯丝2 - 阳极电压0-100V DC电子束OptiBeam&trade - 栅极专用, 自对准 -栅极直径7.5 cm中和器灯丝电源控制KSC 1212 或 KSC 1202配置- - 阴极中和器Filament, Sidewinder Filament 或LFN 2000 - 安装移动或快速法兰 - 高度7.9' - 直径5.5' - 离子束聚焦 平行 散设 -加工材料金属 电介质 半导体 -工艺气体惰性 活性 混合 -安装距离6-24” - 自动控制控制4种气体* 可选: 一个阴极灯丝 可调角度的支架KRI 考夫曼离子源 KDC 75 应用领域 溅镀和蒸发镀膜 PC辅助镀膜(光学镀膜)IBAD表面改性, 激活 SM离子溅射沉积和多层结构 IBSD离子蚀刻 IBE客户案例: 超高真空离子刻蚀机 IBE, 真空度 5E-10 torr, 系统配置美国 KRI 考夫曼离子源 KDC 75若您需要进一步的了解考夫曼离子源, 请查看官网或咨询叶女士上海伯东版权所有, 翻拷必究!
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  • 倒置共聚焦拉曼成像系统,以一个新的角度来观察拉曼成像 Alpha300 Ri 用倒置的光路分析样品的化学性质,其3D成像保留了Alpha 300系列共聚焦拉曼显微系统的所有功能,同时采用跟市场上同类产品完全不同的全新光路设计,使得共焦光路与倒置显微镜的连接及操作变得极为方便,稳定。倒置光路特别适合观察液相样品和大尺寸样品。特别是生命科学的研究,生医和地质领域,Alpha 300Ri能够为这些领域提供完善的解决方案,使得研究人员获得研究的一致性和灵活性。 主要特点l 倒置光路可以让操作者方便地把液相样品放置在固定高度的平面上,从而获得快速且重复性可靠的测量结果l 电动样品台与常规倒置显微镜一样可放置各种环境培养箱及附件,倒置显微镜本身的功能完全不受任何影响l 在正置显微镜下无法观察的大尺寸样品现在可以放到alpha300 Ri的电动样品台上进行分析研究。l 与其他显微技术兼容,如:荧光,微分干涉和相差等l 与Alpha 300R独特的成像和光谱性能完全一致l 非破坏性成像技术,无需对样品进行染色或者标记 应用实例DAPI标记的真核细胞核的荧光及拉曼图像重合 性能通用拉曼操作模式l 拉曼光谱成像:连续扫描的拉曼高光谱全谱成像,每个样品点都能获得完整的拉曼光谱l 平面2D和包含深度Z方向的3D成像模式l 快速和慢速时间序列l 单点及Z方向深度扫描l 光纤耦合的UHTS 系列光谱仪,专为弱光应用的拉曼光谱设计l 共聚焦荧光图像成像技术可选 基本显微镜指标l 研究级别倒置光学显微镜,6孔物镜转盘l 明场CCD相机,代替目镜观察样品或配置荧光CCD相机l LED明场科勒照明l 双目镜筒l 聚光镜可提供最多7中对比度 (如明场,微分干涉,相差等)l 可承载各类标准的样品,同标准倒置显微镜l 内置滤光盒塔轮l 电动XY样品台,大行程110x70mm 拉曼及升级选项l 多种激光可选择l 多种光谱仪可选择l 自动共聚焦拉曼成像l 自动多区域多点测量l 可升级超快拉曼图像模式(需配置EMCCD和Piezo样品台,可获得每秒1300张光谱的速度)l 可升级落射荧光照明l 自动聚焦功能 超高通光量UHTS光谱仪l 各类透射式波长优化谱仪可选 (UV, VIS or NIR),均为弱光拉曼光谱设计l 光纤耦合,70%超高光通量l 优异的成像质量,光谱峰形对称无像差 控制电脑WITec控制和数据采集,处理软件
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