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米线机

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米线机相关的仪器

  • 超导纳米线探测器 400-860-5168转3912
    武汉东隆科技为美国Quantum Opus的中国区独家代理,欢迎您来电垂询!Opus One 超导纳米线探测器系统Opus One™ 超导纳米线探测器系统配有定制的紧凑型桌面低温恒温器(预先安装的16/32通道以及低温恒温器中的所有电接线),光学实验室友好型水冷压缩机(低空气循环,低噪声,低热量输出),偏置和高速放大器电子元件以及易于使用的软件控制库。 专有的纳米线材料允许纳米线工作在 2K,降低低温系统的复杂性,并允许系统连续工作3年。Opus One 是基于超导纳米线技术的单光子探测器,在1550 nm的探测效率高达85 %,通过对谐振腔的调节 , 可以将提供特殊设计、订购和组装。700~1300 nm指定波长的探测效率提高到90%。除此之外,该探测器还拥有极低的暗噪声和超快的时间分辨率, 计数率高达40Mcps。产品特点 工作温度在2.5k即可达到高探测效率支持定制规格支持定制宽波段响应3U 紧凑化设计低噪声水冷压缩机2um以上红外响应定制 产品应用 量子光学量子计算量子密钥通信低通量生物光子学荧光测量参数 * 可定制更高探测效率850nm 950nm 1310nm 1550nm SDE 90%90% 80%*80%*暗计数率 1Hz 1Hz10Hz100Hz时间抖动 80ps80ps 100ps100ps脉冲幅值 600mV600mV300mV300mV死时间 50ns50ns50ns50ns
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  • 超导纳米线探测器 400-860-5168转3912
    武汉东隆科技有限公司为美国Quantum Opus的中国区独家代理,欢迎您来电垂询!Quantum Opus 超导纳米线探测器Quantum Opus提供了两个标准的纳米线产品,在950 nm( 90%)或1550 nm( 80%)范围内最大化系统检测效率。 我们还可以定制任何所需的客户波长,包括非常广泛的响应设备,保持超过100nm的带宽和中红外设备的效率超过50%。 这些设备也可以单独购买,并集成到制冷温度2.5K的第三方低温系统中。 产品特点 工作温度在2.5k可达到最高探测效率探测效率90%@1550nm计数率40MHz!!无PDE下降暗计数1Hz/10Hz/100Hz3U紧凑化设计单台支持2-32通道扩展产品应用 量子光学量子计算量子密钥通信低通量生物光子学荧光测量参数
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  • QE85%超导纳米线单光子探测器所属类别: ? 探测器/光子计数器 ? 单光子计数器 产品简介QE85%超导纳米线单光子探测器 高量子效率85%,低暗计数10cps,高计数率20MHz 很新的超高效率超导纳米线单光子探测器,其在600nm-2300nm内达到高量子效率85%,暗计数10cps,同时zui高计数率20MHz,是目前市场上性能良好的超导单光子探测器,此型号超导纳米线单光子探测器可提供zui多8通道同时运行 超导单光子探测器, SSPD,SNSPD超导纳米线单光子探测器,单光子计数器, Superconducting Nanotechnology,红外单光子计数器,高灵敏度单光子计数器 技术指标:l 量子效率: ≥ 80 %l 时间抖动: ≤ 45 ps (20 ps on request)l 暗计数: ≤ 10 cps (0.01 cps on request)l 光谱范围: 0.6 ÷ 2.3 μml 无后脉冲l 光纤耦合l 连续模式 一般参数:l 探测通道数: 1-8l 光纤类型: SMF-28e l 原始输出电压: ≤ 150 mVl 输出信号类型: TTL, ECL, LVDSl 驱动接口: USB, LabVIEW 应用领域:l 光量子计算l 光子相关性测量l 量子密码和QKDl CMOS缺陷分析l α,β粒子探测l TCSPCl 单分子荧光光谱l 弹道成像l 单等离子体检测l 自由空间通信l LIDARl 时间分辨荧光测量l 单量子点荧光光谱l 片上量子光学l 单线态/三线态氧荧光探测l 皮秒集成电路分析l 单电子探测 相关产品 超低暗计数(0.01cps)超导单光子探测器 超高速(500MHz)超导单光子探测器 超快(120MHz)近红外单光子计数OEM模块 符合计数单光子计数系统
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  • 多通道超导纳米线单光子探测系统赋同量子生产的SNSPD系统由超导纳米线单光子探测器、低温恒温系统和电子学模块三个部分组成,该系统具有以下特点:●采用小冷量风冷GM制冷机,无需液氦;●7×24小时不间断运行; ●高可靠性,已通过各种应用场合长期证; ●专业高效的技术支持; ●机柜式或桌面式集成。 参数细节探测通道数目:1-32;光学接口:FC/PC;电子学接口:SMA;工作环境:温度4℃-38℃;湿度≤60%;系统漏率:<1E-10Pam3/s;重量:约100 kg;电源:单相220-230 V,50 Hz;功耗:≤ 1.3 kW;
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  • QE60%超导纳米线单光子 探测器量子效率60%,低暗计数10cps,高计数率70MHz,只要有制冷腔,就能轻松安装 俄罗斯Scontel 蕞新推出的超导纳米线单光子探测器,只要有制冷腔,就能轻松安装,并且价格低廉,但是功能毫不差劲。其在600nm-2300nm内达到量子效率60%,暗计数10cps,同时计数率高达70MHz,是目前市场上性能优良的超导纳米线单光子探测器的。此型号超导纳米线单光子探测器可提供蕞多16通道同时运行,针对不同应用提供匹配的产品,可多通道同时探测及低成本升级,且可以根据您的不同需求我们不仅有如下图中探测性能的设备,还有多模大面积探测器、超低噪声探测器、光子数分辨探测器供您选择。超导纳米线单光子探测器主要特点:&bull 超高性价比,有制冷腔的选择&bull 针对不同应用提供匹配的产品 &bull 可多通道同时探测及低成本升级 &bull 产品安装/培训/升级全程服务超导纳米线单光子探测器技术指标: 根据需求不同我们可提供以下探测性能的搭配也可根据您的参数要求进行定制:高效检测(HED) -高系统效率和时间分辨率、低噪声、中等带宽的蕞佳组合。 超高效检测(U-HED) -改进的HED版本,运行温度更低,因此在所有参数方面具有更好的综合性能。 宽带宽检测(Broadband)-虽系统效率略有下降。但优化的光学腔增加了带宽低噪声检测(Low noise)-应用可变滤波技术将设备的暗计数率降低到每秒10次,探测器的光谱响应窄得多。超导纳米线单光子探测器应用领域:&bull 量子计算 &bull 光子相关性测量&bull 量子密码和QKD&bull cmos 缺陷分析&bull α,β粒子探测&bull tcspc &bull 单分子荧光光谱&bull 弹道成像&bull 单等离子体检测&bull 自由空间通信&bull LIDAR&bull 时间分辨荧光测量&bull 单量子点荧光光谱&bull 量子光学 &bull 单线态/三线态氧荧光探测&bull 皮秒集成电路分析关于昊量光电:上海昊量光电设备有限公司是光电产品专业代理商,产品包括各类激光器、光电调制器、光学测量设备、光学元件等,涉及应用涵盖了材料加工、光通讯、生物医疗、科学研究、国防、量子光学、生物显微、物联传感、激光制造等;可为客户提供完整的设备安装,培训,硬件开发,软件开发,系统集成等服务。
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  • 生长纳米线CVD炉OTF-1200X-4-NW是一种紧凑型CVD炉,专为生长各种纳米线而设计,基片最大3″。在法兰的左侧装有一个小加热器,可对输入的气体、液体、固体进行预加热后进入 CVD 炉进行纳米线的生长。其可滑动的样品架使操作更为简单。 产品型号 生长纳米线CVD炉OTF-1200X-4-NW安装条件本设备要求在海拔1000m以下,温度25℃±15℃,湿度55%Rh±10%Rh下使用。1、水:设备配有自循环冷却水机(加注纯净水或者去离子水)2、电:AC380V 50Hz(63A空气开关),必须有良好接地3、气:设备腔室内需充注氩气(纯度99.99%以上),需自备氩气气瓶(自带?6mm双卡套接头)4、工作台:尺寸1500mm×600mm×700mm,承重200kg以上5、通风装置:需要主要特点 1、由OTF-1200X-4单温区炉演变而来的紧凑型CVD炉。 2、内炉膛表面涂有进口高温氧化铝涂层,可以提高设备的加热效率及延长仪器的使用寿命。 3、带样品支架的右法兰是滑动的,方便样品的快速取放。 4、左侧的小加热器可对输入CVD 炉的气体、液体、固体或混合物进行预加热,不锈钢加热腔外径?30mm、长150mm,最高工作温度600℃。 5、左边法兰(在加热器与CVD炉之间)装有4个1/4"卡套连结的通气管,具有密封和气体通道的作用。 6、PID自整定数字控制器,可以设置30段升降温程序。 7、选配相关软件可用计算机进行控温。 8、已通过CE认证。技术参数 1、额定电压:单相AC 220V 50Hz/60Hz 2、额定功率:3KW(需20A的空气开关) 3、石英管:外管外径?110mm,内径?102mm,长381mm 4、加热区域:CVD炉400mm,加热器150mm, 5、工作温度:CVD炉最高1100℃(2h),连续工作200℃-1000℃,最大升降温速率10℃/min;加热器连续工作0-500℃,最大升降温速率10℃/min 6、控温精度:±1℃ 7、热电偶:K型 8、右法兰:一个3"石英样品支架,与石英挡板、法兰连成一体,设有KF25真空快接口,以及水冷接口(可选配水 冷机,避免O型圈融化) 9、左法兰:有2个独立1/4″口,可单独将任何气体通入炉内,一路1/4"口将预热气体通入CVD炉,一路1/4″口将不加 热的气体通入炉内,并通过炉内的T型结构与加热气体汇合产品规格 尺寸:1200mm×450mm×510mm;重量:100kg可选配件 1、冷水机 2、控温软件
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  • SNSPD器件由中科院上海微系统所(SIMIT)研发。上海微系统所自2007年开始开展SNSPD研发工作,具有国际先进水平的超导器件工艺平台,实现了从薄膜材料、器件设计和加工的全自主研发。首创片上集成滤波器SNSPD器件,实现暗计数≤1Hz,探测效率≥80%的高性能器件,已获中、美、日专利授权。 ●探测效率高:>90%●暗计数低:<1Hz●高稳定性 ●计数率高:>100MHz ●时间抖动小:<20ps●个性化定制 参数细节 探测效率和暗计数率曲线
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  • 金花茶冻干机设备工作原理是:利用物理升华原理,在零下低温的真空中使得金花茶里里面的含水分升华掉,从而得到冻干金花茶。冻干金花茶保存了原有的色香味营养成分和原有鲜花的外观,营养物质保持更好,口感鲜美。口感绝不是一般烘干、晒干、晒干所能比的。相比传统的烘干金花茶:采用烘干技术,温度过高,容易破坏其营养成分,使其营养成分流失。据现代药理研究证明,金花茶花和叶中含有较多的锗和硒。使用金花茶冷冻干燥机冻干后,花保留花的形状和营养成分,色泽、口感都远胜烘干花。金花茶是山茶科,山茶属、茶亚属。历来山茶花名贵品种者繁多,然而却只有红、白两色种及其衍变的杂色品系,唯独没有金黄色品种。一九六零年,我国植物学家胡先嘨,在广西十万大山中首先发现了金黄色的山茶花,并命名为金花茶。并经科研人员多年深入细致的研究,发现金花茶含有多种微量元素,如:锗、硒、锌、锰、钼、钴、铜、钒等人体必需的元素,此外,还含有茶多酚、维生素人体必需的氨基酸等。此发现同时得到世界花坛,医学界的公认。所以金花茶因为是珍贵的品种,又因其是一种古老的原始植物,产果、成活率极低,所以也被誉为植物界的“大熊猫”,被国家列为一级保护植物。 早在明代,伟大的医药学家李时珍在《本草纲目》中早有记载:“山茶嫩叶炸熟水淘,可食,亦可蒸晒作饮”。然而古代伟大医药家李时珍也未能目睹金花茶,只记载“据云有黄色茶花者”。《广西药用植物名录》记载“金花茶叶清热,用于治痢疾”。广西边陲少数民族可称金花茶为“牛尿茶”,象征其利尿效果,古今人们广泛用于清热解毒,退黄消肿,利尿去湿,止痢止血等。机组特点:1. 性能稳定,技术先进;2. 外观时尚,尺寸小巧;3. 透明有机玻璃门,直接观察物料冻干过程;4. SUS304不锈钢物料盘和内胆,安全有保障;5. 关键零部件进口,小噪音、大能力,高质量保证高性能;6. 原位冻干,触摸屏操作,轻松方便;7. 可自主设定和实时调整冻干工艺,可显示冻干数据和冻干曲线;8. 系统先进,运行电流小,能耗低;9. 快速除霜技术,超温自动保护。 设备参数:1.1 型 号 TF-HFD-61.2 冷凝温度 ≤-40℃1.3 极限真空度 10Pa(空载)1.4 冻干面积 0.6㎡1.5 捕水能力 10kg/24h1.6 样 品 盘 330mm×440mm*41.7 电源要求 220V 50Hz1.8 功 率 2300w1.9 主机尺寸 710mm×850mm×1080mm (不含门板和把手)1.10 电控系统 实时显示隔板冻干曲线,温度曲线。智能控温。1.11 除 霜 一键式除霜功能
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  • 纳米操作机、纳米机械手、纳米操纵机械臂、纳米操纵仪TNI LF-2000产品简介 TNI LF-2000是目前市面上基于SEM电镜下使用的自动化程度最 高的纳米操作系统,也是一种能够在SEM电镜下提供可重复 定位、低漂移、闭环运动控制定位的纳米操作系统。 产品特性 完全兼容主流电镜,不影响电镜功能 市面上较佳的运动定位性能:大行程、亚纳米分辨率 位移传感器集成自动化和可编程运动 SEM真空环境优化设计,可快速安装与拆卸规格参数应用案例电学特性LifeForce为纳米材料提供可靠、低噪音的电测量,以及与纳米结构的原位相互连接。图片展示的是四探针测量纳米线电学性能。力学测量LifeForce为纳米材料的力学特性提供高分辨率的力和位移反馈,图片展示的是用球端AFM悬臂探针对单根纳米线的拉伸测试。拾取和放置操作使用末端工具(例如:探针、微纳米夹持器、超声切割针),操作者能够操作LifeForce纳米操作手在SEM电镜内对微纳米物体进行推、拉和抓取等操作。制作微纳米器件精密的操作手运动能够实现微纳米器件的快速成型和后处理。图片展示的是纳米线FET传感器的构造。
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  • 纳米操作机、纳米机械手、纳米操纵机械臂、纳米操纵仪TNI LF-2000产品简介TNI LF-2000是兼容SEM/FIB的自动化纳米操作系统,也是能够在SEM/FIB下提供可重复定位、低漂移、闭环运动控制定位的纳米操作系统。产品特性 兼容主流电镜,不影响电镜功能 具有大行程、亚纳米分辨率运动定位性能 位移传感器集成自动化和可编程运动 SEM真空环境优化设计,可快速安装与拆卸规格参数系统概况系统尺寸127x127x33mm3*机械手数量1-4操作手(宏动)驱动原理粘滑驱动运动范围XY轴:10mm Z轴:5mm速度3mm/s最小步长100nm操作手(微动)驱动原理无摩擦柔性铰链运动范围XYZ轴:20μm速度45μm/s开环运动分辨率0.5nm闭环运动分辨率1nm定位漂移率0.35nm/min软件功能**点击-移动鼠标在电脑屏幕上从A移动到B自适应放大倍数定位器移动速度根据SEM放大自动调整操作手位置保存/加载用户自定义的“保存/加载”操作手坐标3D虚拟显示实时三维显示操作手的位置和运动自动校准操作手闭环传感器自动校准运动轴的自动对准所有操作手运动轴自动对准SEM图像轴*系统尺寸可根据需要减小到50x50x17mm3**可根据选定SEM/FIB的型号而定应用案例电学特性LifeForce为纳米材料提供可靠、低噪音的电测量,以及与纳米结构的原位相互连接。实例照片展示的是四探针测量纳米线电学性能。力学测量LifeForce为纳米材料的力学特性提供高分辨率的力和位移反馈,实例照片展示的是用球端AFM悬臂探针对硅纳米线簇进行纳米压痕,以及对单根纳米线的拉伸测试。拾取和放置操作使用末端工具(例如:探针、微纳米夹持器、超声切割针),操作者能够操作LifeForce纳米操作手在SEM电镜内对微纳米物体进行推、拉和抓取等操作。制作微纳米器件精密的操作手运动能够实现微纳米器件的快速成型和后处理。实例照片展示的是纳米线FET传感器的构造。纳米电子器件电学测量LifeForce纳米操作机是市面上能够自动探测电子结构(范围从亚微米,亚100nm及亚20nm)。只需要通过计算机点击鼠标,将探针定位到目标位置。极低得定位漂移,保证数据采集得可靠性。 主要软件功能① 位置反馈:提供每个操作手XYZ精确得位置反馈,1纳米运动定位分辨率。② 保存/加载坐标:保存和加载多个操作手得坐标。③ 自动校准:限度地提高定位性能,并将操作手运动轴对准扫描电子显微镜图像轴。④ 3D虚拟显示:实时3D虚拟空间显示操作手(粉红色方块)和样品(绿色平面)得位置。⑤ 点击-移动:通过在屏幕上鼠标点击控制操作手运动。⑥ 多操作手联动:连接多个操作手得运动,具有纳米级精度。⑦ 图片-视频录制:保存操作过程中的高清图片和视频。
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  • FeaturesSingle axis Micro and Nanopositioning25mm coarse motion with optional hi-res encoder30 micron nanopositioningClosed loop controlTypical ApplicationsAFM, NSOM, and other types of scanning probe microscopy (SPM)NanoindentingNanomanipulationProduct DescriptionThe Nano-SPMZ integrates single axis micropositioning and high resolution nanopositioning into a compact unit which is compatible with optical tables and standard mounting accessories. Stepper motor driven coarse positioning over 25mm can produce a minimum step size of 95nm. An optional high resolution linear encoder incorporated into the coarse positioning stage continuously monitors positions down to 20nm. Nanopositioning over 30 microns provides the ultimate positioning resolution of 60 picometers with the stability of the proprietary PicoQ? position feedback sensors. The USB digital interface provides direct PC control of the micropositioner and nanopositioner as well as access to the linear encoder and position sensor inside the nanopositioner.Technical SpecificationsMicropositionerRange of motion25 mmMicoropositioning step size95 nmMaximum speed4 mm/secMotion ProfileMotion 500 stepsAutomatic accel/decel controlMotion ≤ 500 stepsConstant 1 step/msLinear encoder resolution (optional)20 nmBody materialAluminumControllerMicroDrive?Computer interfaceBidirectional USBNanopositionerRange of motion (nanopositioner)30 μmMaximum resolution (nanopositioner)0.06 nmResonant frequency (nanopositioner)4kHz ±20%Resonant frequency (nanopositioner, 100g load)2kHz ±20%Resonant frequency (100g load)2 kHz ±20%Stiffness3.0 N/μm ±20%Recommended max load (horizontal)*1.0 kgRecommended max load (vertical)*0.5 kgBody materialAluminumControllerNano-Drive?Computer interfaceUSB* Larger load requirements should be discussed with our engineering staff.Additional InformationNano-SPMZ DrawingNano-SPMZ Catalog PagesAFM Video TutorialRelated ProductsAFM Video Tutorial MadPLL?Nano-OP SeriesMicroStage SeriesNano-View? SeriesNano-View?/M SeriesAccessories
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  • Features High speed, direct driveStackable for multi-axis motion30, 50, and 100 μm ranges of motionClosed loop controlTypical Applications InterferometryNanomanipulationHigh speed lens focusingFiber opticsNSOM Product DescriptionLike the Nano-OP Series, the Nano-OPH Series is a versatile group of compact single axis nanopositioners which can be configured to fit into a wide variety of applications. The addition of a 1.3 inch diameter aperture through the stage makes the Nano-OPH especially useful for precise motion in optical experiments. Individual, single axis stages may be combined to form multi-axis systems. The Nano-OPH Series are available with 30, 50, and 100 micron ranges of motion. They can be constructed from aluminum, invar, or titanium and can be customized to suit unique requirements. Internal position sensors utilizing proprietary PicoQ® technology provide absolute, repeatable position measurement with picometer resolution under closed loop control.Technical SpecificationsRange of motion (Nano-OPH30)30 μmRange of motion (Nano-OPH50)50 μmRange of motion (Nano-OPH100)100 μmResolution (30/50/100 μm)0.06/0.1/0.2 nmResonant Frequency3.5 kHz ±20%Resonant Frequency (100g load)1.5 kHz ±20%Stiffness3.0 N/μm ±20%θ roll, θ pitch (typical)≤1 μradθ yaw (typical)≤2 μradRecommended max. load (horizontal)*1.0 kgRecommended max. load (vertical)*0.5 kgBody MaterialAl, Invar or TitaniumControllerNano-Drive® * Larger load requirements should be discussed with our engineering staff.Additional InformationNano-OPH Series Drawing Nano-OPH Series Catalog PagesRelated ProductsNano-OP SeriesHigh Speed Lens PositionersNano-HLAccessoriesSPM AccessoriesNano-Drive®
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  • FeaturesHigh speed, direct driveStackable for multi-axis motion30, 65, and 100 μm ranges of motionClosed loop controlTypical ApplicationsInterferometryNanomanipulationHigh speed lens focusingFiber opticsNSOMProduct DescriptionThe Nano-OP Series is a versatile group of compact nanopositioners which can be configured to fit into a wide variety of applications. Individual, single axis stages may be combined to form multi-axis systems. The Nano-OP Series are available with 30, 65, and 100 micron ranges of motion. They can be constructed from aluminum, invar, or titanium and can be customized to suit unique requirements. Internal position sensors utilizing proprietary PicoQ? technology provide absolute, repeatable position measurement with picometer resolution under closed loop control.For applications requiring high speed objective lens positioning, see the High Speed Lens Positioner page. The Nano-OP Series is available with metric tapped holes, see the Nano-OP-M Series Drawing. For applications requiring a through hole, see the Nano-OPH Series.Technical SpecificationsRange of motion (Nano-OP30)30 μmRange of motion (Nano-OP65)65 μmRange of motion (Nano-OP100)100 μmResolution (30/65/100 μm)0.06/0.13/0.2 nmResonant Frequency4 kHz ±20%Resonant Frequency (100g load)2 kHz ±20%Stiffness3.0 N/μm ±20%θ roll, θ pitch (typical)≤1 μradθ yaw (typical)≤2 μradRecommended max. load (horizontal)*1.0 kgRecommended max. load (vertical)*0.5 kgBody MaterialAl, Invar or TitaniumControllerNano-Drive?* Larger load requirements should be discussed with our engineering staff.Nano-OP30 Position Noise SpectrumAdditional InformationNano-OP Series DrawingNano-OP Series Catalog PagesNano-OP-M Series Drawingspecial order version with metric tapped holesRelated ProductsHigh Speed Lens PositionersNano-OPH SeriesNano-F25HSNano-MiniNano-HSZNano-F SeriesNano-P SeriesNano-LR200Nano-HLNano-SPMZNano-SPM200AccessoriesNano-Drive?MadPLL? Instrumentation for AFM/NSOMSPM-M Kit
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  • FeaturesCompact tubular designTrue flexure guided motionPosition sensors, closed loop controlUp to 70 μm motionInvar and titanium constructionClosed loop controlTypical ApplicationsSingle axis positioningSurface analysisMetrologyProduct DescriptionThe Nano-P Series are piezo actuated, closed loop, linear translators that incorporate a unique flexure hinge design. The flexure hinge is machined entirely from a single block of high strength titanium using an advanced electrical discharge machining process. This hinge, available for the first time on a tubular nanopositioner, ensures the highest degree of repeatability and load capability. Unlike similar looking products on the market, the Nano-P Series does not have internal Belleville springs. Belleville springs are not frictionless and therefore cannot provide the high degree of repeatability of a true nanopositioner. The guiding mechanism of the Nano-P Series is a true flexure spring - eliminating mechanical friction and stiction. The Nano-P Series is constructed from invar and titanium for the best combination of thermal stability and mechanical strength, making it ideal for the most demanding positioning and metrology applications. The Nano-P Series is available in three standard ranges of motion with integrated position sensors utilizing proprietary PicoQ? technology to provide absolute, repeatable position measurement with picometer accuracy under closed loop control. Custom systems available.Noise Plots - Nano-P15Test Data - Nano-P35The Nano-P35 closed-loop response to a 3nm peak-to-peak square wave input signal, measured with USB digital interface. Notice the ultra-low, sub-nanometer stability of the system over the time scale. Similar products offered by other companies are unable to achieve such low-noise results. The Nano-P uses a true flexure guiding mechanism and low-noise sensors to achieve high-resolution positioning. Technical SpecificationsRange of motion (Nano-P15)15 μmRange of motion (Nano-P35)35 μmRange of motion (Nano-P70)70 μmResolution (15/35/70 μm)0.03/0.07/0.14 nmResonant Frequency2.5 kHz ±20%Recommended max. load*0.2 kgBody MaterialInvar and TitaniumControllerNano-Drive?* Larger load requirements should be discussed with our engineering staff.Additional InformationNano-P Series DrawingNano-P Series Catalog PagesRelated ProductsNano-MiniNano-OP SeriesNano-Z SeriesNano-MZNano-F SeriesAccessoriesNano-Drive?
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  • 纳米压痕仪 400-860-5168转6134
    FT-NMT04纳米力学测试系统是一种多功能的原位SEM/FIB纳米压痕仪,能够在微米和纳米尺度上准确量化材料的力学行为。 FT-NMT04原位纳米压痕仪针对金属、陶瓷、薄膜以及超材料和MEMS等微观结构的机械测试进行了优化。此外,通过使用各种附件,FT-NMT04的功能可以扩展到各个研究领域的各种要求。 典型应用包括通过微柱的压缩测试或狗骨试样、薄膜或纳米线的拉伸测试来量化塑性变形机制。典型应用包括通过微柱的压缩测试或狗骨试样、薄膜或纳米线的拉伸测试来量化塑性变形机制。此外,在压缩测试期间进行连续刚度测量,可以在微梁断裂测试期间量化裂纹扩展和断裂韧性。由于 FT-NMT04 分别具有 500 pN 和 50 pm 的无可比拟的低本底噪声,因此可实现具有无可比拟的可重复性的浅纳米压痕,以及纳米压痕与 EBSD 成像的前所未有的相关性。
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  • 3D纳米结构高速直写机 — —纳米光刻与微米光刻兼顾的联合图形化工艺方案 NanoFrazor光刻技术,衍生于IBM Research研发的热扫描探针光刻技术——快速、地控制纳米针的移动及温度,利用热针实现对热敏抗刻蚀剂的快速刻写,从而为纳米制造提供了许多新颖的、特的可能性。NanoFrazor Explore以高的速度、精度和可靠性运行,在目前所有扫描探针光刻技术中属于速度快、应用广泛的一种。NanoFrazor Explore配备了先进的硬件和软件,以合适的方式控制可加热的NanoFrazor悬臂梁,以便进行书写和成像,实现基于闭环光刻技术的各种高精度图案化工艺。2019年,Explore增配了激光直写模块,有效加快了特征线宽在微米或亚微米水平的图形的加工速度,成为纳米光刻与微米光刻兼顾的联合图形化工艺方案。由此,在针对同一抗刻蚀层的图案化工艺中,实现了纳米刻写与微米刻写的无缝衔接。从而可以根据不同的图案特征线宽,采用不同精度的刻写技术,兼顾精度与速度。 主要特点:★ 利用加热针直接刻写图案,分辨率优于15 nm;★ 利用激光热挥发实现图案化,分辨率优于1 μm;★ 高速直写 10 mm/s★ 高速原位AFM轮廓成像;★ 样品尺寸100×100 mm2;★ 闭环光刻;★ 灰度曝光,分辨率及精度达到2 nm;★ 利用原位AFM实现的对准,从而实现无掩膜套刻及写场拼接;★ 的隔音及隔振性能;★ 无需洁净间,亦无特殊的实验室环境要求闭环光刻NanoFrazor光刻系统是基于热扫描探针光刻技术,其核心部件是一种可加热的、非常锐的针,利用此针可以直接进行复杂纳米结构的刻写并且同时探测刻写所得结构的形貌。加热的针通过热作用,直接挥发局部的抗刻蚀剂,从而实现对各类高分辨纳米结构的制备。此外,NanoFrazor的光刻技术能够与各类标准的图形转移方案(如lift-off、刻蚀)兼容,从而实现各类材料的图形化制备。“闭环光刻”技术确保图形化工艺的高度纳米光刻与微米光刻兼顾的图形化工艺方案自2019年开始,NanoFrazor Explore增配了激光直写模块,由此在保障纳米分辨率图案刻写精度的同时,大大提升了NanoFrazor Explore对微米分辨率图形的刻写速度。激光刻写基于激光的热作用,以亚微米精度,快速、直接地挥发抗刻蚀剂,从而实现大面积的图案化工艺(例如微纳结构的引线或焊点图形制备)。热探针直写对于纳米结构或纳米器件关键部分的高精度、高分辨率刻写。刻写所得结构的测量、观测、对准由于抗刻蚀剂直接挥发,无须湿法显影操作即可实现抗刻蚀剂的图案化。在图案化过程中,同一根探针能够原位、高速的对图案化抗刻蚀剂进行AFM成像和测试。微米尺度及纳米尺度的哈佛大学校徽,对PPA刻蚀剂的刻蚀深度为30 nm,图像由NanoFrazor Explore的探针进行AFM成像获得。(Courtesy of Harvard CNS)3D灰度纳米光刻★ 可在针扫描的每个位置对图案化工艺的深度进行设定(即每个像素点的灰度值)★ 闭环光刻技术能够实现很高的灰度刻写精度(经论证,对大于16个灰阶的结构进行图案化工艺,灰度刻写的误差小于1纳米)用于TEM的电子光学系统的三维相盘,由PPA中的微结构转移至SiN薄膜获得(Courtesy of EPFL and KIT)刻写在PPA中的多全息图的局部(图片由Explore的探针在刻写同时进行AFM成像获得);小图展示的是转移至Si中的全息图局部的SEM图像(Courtesy of Sun Yat-Sen University)无掩膜套刻与拼接★ 通过原位AFM功能实现高精度的无掩膜套刻及拼接(经论证,精度优于10 nm);★ 埋在抗刻蚀剂PPA下的图案结构(如纳米片、纳米线等)可用作“天然的”对准标记写场的自动关联拼接;由金的lift-off工艺获得的)反射全息图包含1×108个像素点,每个写场为边长50 μm的正方形,写场间的拼接由AFM相关技术实现利用无掩膜光刻在单根纳米线上制备金属电:(a)由Explore的AFM成像功能探测到的纳米线轮廓及位置信息(绿线标出)与拟制备的电结构布局图(粉色区域);(b)lift-off工艺后获得的带有金属电的单根纳米线的SEM图像高分辨率★ 锐的针,为了高分辨率的实现(经论证,在PPA抗刻蚀剂中能够实现的半节距优于10纳米)★ 无须针对临近效应的修正由PPA抗刻蚀剂转移至硅基衬底的鳍型结构和沟槽结构(Courtesy of IBM Research and imec) 其他特性能★ 低损伤:制备过程中没有引入带电粒子束流,基于敏感材料的微纳器件能够获得更好器件特性★ 纳米尺度的材料转换:多种材料的直接热诱导修饰(相变、化学反应… … )新型号:NanoFrazor Scholar — 小面积直写■ 3D纳米直写能力 高直写精度 (XY: 高可达20nm, Z: 3nm) 高速直写 0.5 mm/s■ 无需显影,实时观察直写效果 形貌感知灵敏度0.1nm 样品无需标记识别,多结构套刻,对准精度 50 nm ■ 无临近效应 高分辨,高密度纳米结构 ■ 无电子/离子损伤 高性能二维材料器件■ 区域热加工和化学反应 多元化纳米结构改性■ 小样品台 30mm X 30mm应用案例三维光子分子(3D PHOTONIC MOLECULES)(Courtesy of IBM Research Zurich, publication in 2018)单电子器件Courtesy of IBM Research Zurich, publication in 2018基于二维原子晶体的器件(Courtesy of Prof. Elisa Riedo, NYU)基于准一维纳米材料的纳米器件(Courtesy of S. Karg & A. Knoll, IBM Research – Zurich)基于布朗马达的纳米器件,可用于纳米颗粒分类(Courtesy of IBM Research, Publications in Science and PRL 2018) 国内外客户已发表的文献● Wolf (JVST B 2015) Sub20nm Liftoff and Si Etch and InAs nanowire contacts● Garcia (Nat Nano 2014) Advanced scanning probe lithography● Rawlings (IEEE Nano 2014) Nanometer accurate markerless pattern overlay using thermal Scanning Probe Lithography● Holzner (SPIE EMLC 2013) Thermal Probe Nanolithography● Cheong (Nanoletters 2013) Thermal Probe Maskless Lithography for 27.5 nm Half-Pitch Si Technology● Fei Ding (PhysRevB 2013) Vertical microcavities with high Q and strong lateral mode confinement● Carrol (Langmuir 2013) Fabricating Nanoscale Chemical Gradients with ThermoChemical NanoLithography● Paul (Nanotechnology 2012) Field stitching in thermal probe lithography by means of surface roughness correlation● Kim (Advance Mat 2011) Direct Fabrication of Arbitrary-Shaped Ferroelectric Nanostructures on Plastic, Glass, and Silicon Substrates● Holzner (APL 2011) High density multi-level recording for archival data preservation● Holzner (Nanoletters 2011) Directed placement of gold nanorods using a removable template● Paul (Nanotechnology 2011) Rapid turnaround scanning probe nanolithography● Wang (Adv Funct Mat 2010) Thermochemical Nanolithography of Multifunctional Nanotemplates for Assembling Nano-Objects● Wei and King (Science 2010)Nanoscale Tunable Reduction of Graphene Oxide for Graphene Electronics● Pires (Science 2010) Nanoscale 3DPatterning of Molecular Resists by Scanning Probes● Knoll (Adv Materials 2010) Probe-Based 3-D Nanolithography Using SAD Polymers● Fenwick (Nat Nano 2009) Thermochemical nanopatterning of organic semiconductors● Lee (Nanoletters 2009) Maskless Nanoscale Writing of Nanoparticle-Polymer Composites and Nanoparticle Assemblies using Thermal Nanoprobes● Nelson (APL 2006) Direct deposition of continuous metal nanostructures by thermal dip-pe
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  • FeaturesSingle axis motionLong range - 500μmCompact sizeRectangular apertureClosed loop controlTypical ApplicationsLong range scanningInspection, quality controlProduct DescriptionThe Nano-YT500 is a long range, single axis, precision nanopositioning system with a central aperture well suited for optical scanning of samples. Internal position sensors utilizing proprietary PicoQ? technology provide absolute, repeatable position measurement with nanometer resolution under closed loop control. True flexure guided motion of the Nano-YT500 minimizes the end-to-end differences in travel across the aperture to less than 1μm over the full 500μm range of motion (0.2%). The Nano-YT500 can be operated in any orientation and has been tested for reliability over 1,000,000 full cycles (1000μm total travel per cycle).Technical SpecificationsRange of motion500 μmResolution1.0 nmResonant Frequency150 Hz ±20%Stiffness0.8 N/μmRecommended max. load (horizontal)*0.5 kgRecommended max. load (vertical)*0.1 kgBody MaterialAluminumControllerNano-Drive?* Larger load requirements should be discussed with our engineering staff.Additional InformationNano-YT500 DrawingNano-YT500 Series Catalog PagesRelated ProductsNano-LR200Nano-Z SeriesNano-Z500AccessoriesNano-Drive?
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  • Features Heavy load capacity - up to 10kgSingle axis motionLong range motion - up to 200μmClosed loop controlTypical Applications Precise positioning of heavy optics or sensor assembliesOff-axis loading with high positional stabilityProduct DescriptionThe Nano-HL Series single axis stages are heavy duty nanopositioners designed to carry loads weighing up to 10kg. Build from a single block of aluminum nearly 2 inches (50mm) thick, the Nano-HL has enough physical rigidity to counteract large off-axis loads while continuing to produce precise, high resolution movements. Internal position sensors utilizing proprietary PicoQ® technology provide absolute, repeatable position measurement with sub-nanometer resolution under closed loop control. The Nano-HL Series stages can be operated in any orientation and may be customized to fit specific installations and special mounting requirements..Technical SpecificationsRange of motion (Nano-HL50)50 μmRange of motion (Nano-HL100)100 μmRange of motion (Nano-HL200)200 μmResolution (50/100/200 μm)0.1/0.2/0.4 nmResonant Frequency450 Hz ±20%Stiffness1.0 N/μmRecommended max. load (horizontal)*10 kgRecommended max. load (vertical)*10 kgBody MaterialAluminumControllerNano-Drive® * Larger load requirements should be discussed with our engineering staff.Additional InformationNano-HL Series DrawingNano-HL Series Catalog PagesRelated ProductsNano-OP SeriesNano-Max50Nano-PDQ SeriesAccessoriesNano-Drive®
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  • 中红外(MIR)超导单光子探测器所属类别: ? 探测器/光子计数器 ? 单光子计数器 所属品牌:俄罗斯Scontel公司 产品简介中红外超导纳米线单光子探测器 中红外超导单光子探测器 ----覆盖光谱响应范围超过2.5um,探测效率5%,是中红外微弱光探测的理想工具! 俄罗斯SCONTEL公司作为世界先进的超导单光子探测器制造商,其开发出的中红外超导纳米线单光子探测器彻底颠覆了常规超导单光子探测器的技术指标,zui大光谱范围可覆盖2.5um,探测效率5%,是中红外微弱光单光子探测及单光子计数的理想选择。 中红外单光子探测器,超导单光子探测器, SSPD, 超导单光子计数器, 俄罗斯Scontel公司, Superconducting Nanotechnology,红外单光子计数器,高灵敏度单光子计数器;超导纳米线单光子探测器,SNSPD,超导纳米线,低温超导单光子探测器 超导纳米线单光子探测器应用: 超导纳米线单光子探测器技术优势:光量子计算 超宽探测范围:600nm~2500nm光子相关性测量 高探测效率: 5%@2um量子密码 超低暗计数:700/s自由空间通信 高探测频率:50MHz激光雷达 超高时间分辨率:50ps时间分辨荧光寿命测量 死时间:20ns单量子点/单分子荧光特性 无后脉冲皮秒级集成电路检测分析 1~4通道可选光学断层摄影 全程服务支持 中红外超导纳米线单光子探测器的冷却系统有两种类型: a.外接低温液氦杜瓦瓶 b.闭合循环冷藏室 相关产品 超高量子效率超导单光子探测器(65%@500~1700nm) 纠缠光子对发生器(纠缠光子源) 超导单光子探测器(SSPD) 400~1700nm 时间相关单光子计数器(TCSPC)
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  • 百及纳米ParcanNano 探针电子束光刻机P-SPL21 简介: 公司以全球首家专利的针尖技术为核心竞争力,技术源自于德国伊尔默瑙工业大学,致力于主动式针尖技术在微纳米结构制备和表征方面的研发,及其相关设备的产业化。 公司研制一套基于扫描针尖低能电子场发射的原理、采用压阻式微纳米针尖和多维纳米定位与测量技术、在半导体器件材料表面制造尺寸小于5纳米线宽结构的高性能微纳加工系统。可在大气环境下,高经济效益、快速直写5纳米以下结构和制备纳米级器件。该系统的闭环回路可实现使用同一扫描探针对纳米结构的成像、定位、检测和操纵。 技术特点:。场发射低能电子束。大幅降低电子束背底散射。几乎消除电子束临近效应。光刻5纳米以下单线宽结构。光刻结构间距小于2纳米。接近原子级分辨的套刻精度。线写速度高达 300 μm/s。大气环境下可实现正负光刻。正光刻流程无需显影步骤。无需调制电子束聚光。大范围分步重复工艺。Mix & Match 混合光刻模式。针尖曝光与结构成像实时进行。真空原位观测光刻图案 功能指标
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  • Features Ultra small footprint: 1" x 1.5"Stackable for XY motionClosed loop controlTitanium or invar constructionTypical Applications Optical fiber alignmentOptical positioningInterferometryProduct DescriptionThe Nano-Mini is one of the smallest flexure guided nanopositioning stages available. Designed for optimum performance on a small footprint, this stage uses an innovative mini-cross section multilayer piezo ceramic which allows for a stiff stage to translate 10 microns with picometer precision. This unique design makes it ideal for applications in precision metrology and microscopy. Internal position sensors utilizing proprietary PicoQ® technology provide absolute, repeatable position measurement with picometer accuracy under closed loop control. Available in titanium or invar.Technical SpecificationsRange of motion10 μmResolution0.02 nmResonant Frequency1.5 kHz ±20%Resonant Frequency (50g load)650 Hz ±20%Stiffness1.0 N/μm ±20%θ roll, θ pitch (typical)≤1 μradθ yaw (typical)≤2 μradRecommended max. load (horizontal)*0.5 kgRecommended max. load (vertical)*0.15 kgBody MaterialTitanium or InvarControllerNano-Drive® * Larger load requirements should be discussed with our engineering staff.Additional InformationNano-Mini DrawingNano-Mini Catalog PagesRelated ProductsNano-OP SeriesNano-P SeriesAccessoriesNano-Drive®
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  • Features Compact footprintSingle axis - 10 or 20 micronsClosed loop controlUltra-low noise performancePicometer positioning resolutionHigh speedTypical Applications High speed, high resolution positioningMetrologyAFMSPMProduct DescriptionThe Nano-MET10 and Nano-MET20 are compact, single axis nanopositioning systems with exceptional resonant frequency and low noise characteristics. The Nano-MET10 and Nano-MET20 have picometer positioning resolution. Internal position sensors utilizing proprietary PicoQ® technology provide absolute, repeatable position measurement under closed loop control.The low noise characteristics and high resonant frequencies make it ideal for demanding metrology applications that require noise floors less than 10 picometers and high speed performance. Related products include the Nano-METZ, Nano-MET2 and Nano- MET3 nanopositioning systems.Technical SpecificationsRange of motion (Nano-MET10)10 μmRange of motion (Nano-MET20)20 μmResolution (Nano-MET10)0.01 nmResolution (Nano-MET20)0.02 nmResonant Frequency4.6 kHzRecommended max. load (horizontal)*100 gRecommended max. load (vertical)*100 gBody MaterialAluminumControllerNano-Drive® * Larger load requirements should be discussed with our engineering staff.Additional InformationNano-MET10 & Nano-MET20 DrawingNano-MET10 & Nano-MET20 Catalog PagesRelated ProductsMMP SeriesNano-OP SeriesNano-METZNano-MET SeriesAccessoriesNano-Drive® SPM Accessories
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  • MYTHEN2 X射线探测器 MYTHEN探测器系统完全改变了X-射线粉末衍射晶体学的标准定义,呈现出另一个层面:成像时间。这一令人振奋的新领域与MYTHEN2 X 探测器完美结合,开启了时间分辨和现场研究的新纪元。基于MYTHEN的条带尺寸和点扩散函数, MYTHEN2 X 在最高动态范围内引入了前所未有的帧速率,挑战了能量范围的极限。带有电子门控和外部触发的探测器控制系统(DCS4)兼顾了定制化的多模块解决方案以及与其他系统完全同步的探测器。时间层面并不是促使数据质量和系统灵活性之间的平衡主要因素,无论从现场应力测量到快速相变,MYTHEN2 X深化了其细节,并能够在固态反应中进行观察。 MYTHEN2 X 探测器是为对速度和数据质量无任何限制的高要求的用户而设计的。现在是你该采取行动了。核心优势- 帧率为1000HZ - 两个模块组合:1280和640数据带- X-射线能量低至4keV的短数据带- 适用于PDF测量的厚传感器- 多模块系统满足您的要求- 外观为对称设计,小巧紧凑,- 无需维护和载体史无前例的速度 MYTHEN2 X 探测器使用4个模块组合,其帧率能达到1000赫兹,并保持其动态范围在24位。这些新进展并不要求数据质量的平衡。MYTHEN的50微米的线带可使用两个长度,确保X-射线能量范围的高分辨率和最佳信噪比。自定义形状的灵活系统 全能型MYTHEN2 X系列探测器采用了3个厚传感器和两个长数据带的HPC技术,涵盖了在4和40keV中所有X-射线分析的需求。在设计的MYTHEN2模块适用于两种尺寸:1280带线的MYTHEN2 R 1K 和640带线的MTHEN2 R 1D。 MYTHEN2 R探测器以其紧凑型尺寸和相对称的传感器结构适用于任何衍射仪,无论是紧凑空间,还是多模块系统设置的需求,4个模块的系统可适用于任何您想要的设备形状,并能通过使用探测器控制系统DCS4进行同时操作。应用- 时间分辨试验- X射线粉末衍射和散射技术- 残余应力测量- 薄膜与纹理分析- PDF分析- 小角X射线散射、广角X射线散射、掠入射的小角散射- 色散荧光光谱4毫米长数据带实现低能耗 320微米厚的传感器和4毫米线带的完美结合,确保了高量子效率和最佳信噪比,使能量低至4keV. 整合荧光抑制作用和无暗流等特点,MYTHEN2系统确保X射线衍射应力测定和X射线衍射残余奥氏体的测定精度精确到毫秒级别。低于4KeV的X-射线能仅适用于320微米X 4毫米的传感器。型号如有变更,将另行通知。
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  • FeaturesLong range single axis motion: 200 μmLess than 5 nm out of plane motionLow profile designClosed loop controlTypical ApplicationsSurface metrologyWafer scanning and alignmentOptical alignmentProduct DescriptionThe Nano-LR200 is designed to provide long range, single axis translation with an absolute minimum of out-of-axis motion. The unique design of the Nano- LR200 produces less than 5 nm of out-of-plane motion measured over the entire moving platform throughout the 200 μm range of motion. The Nano-LR200 sets the highest level of single axis precision and positioning performance. Internal position sensors utilizing proprietary PicoQ? technology provide absolute, repeatable position measurement with sub-nanometer accuracy under closed loop control. The Nano-LR200 is ideally suited for applications that require extreme parallelism, such as metrology, AFM and MEMS.Technical SpecificationsRange of motion (X)200 μmResolution0.4 nmResonant Frequency500 Hz ±20%Resonant Frequency (100g load)200 Hz ±20%Stiffness0.2 N/μmθ roll, θ pitch (typical)≤0.3 μradθ yaw (typical)≤0.3 μradRecommended max. load (horizontal)*0.5 kgRecommended max. load (vertical)*0.2 kgBody MaterialAlControllerNano-Drive?* Larger load requirements should be discussed with our engineering staff.Additional InformationNano-LR200 DrawingNano-LR200 Catalog PagesRelated ProductsNano-OP SeriesNano-YT500AccessoriesNano-Drive?
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  • 纳米位移台系统 400-860-5168转1446
    仪器简介:If smallest parts or samples have to be moved or positioned with nanometer precision in the millimetre range, nanopositioning systems with piezo inertial drive are used. Very compact actors with appropriate control units are available for rotational and linear movements. The compatibility to each other allows the assembly of multi-axes combinations for complex movements. All the nanopositioning system have a piezo inertialdrive. With a travel in the millimetre range and steos in the nano meter range or with large adjustment range and steps in the &mu rad range, they are suitable for manifold applications. The basic components of the gonimeter are made of high strength aluminium. Due to a black anodized coating, the surface is protected and reflexion-poor. For the mounting of the nanopositioners, the mounting plate NMP 50is recommend. It is available as a ccessory. In order to operate the nanopositioners,the manual control unit NHS06 has to be used. The complete system is pluggable and ready for connection.技术参数:仪器名称,型号/参数行程最小步长最大步长负载 (N)重复定位精度(双向)倾斜力矩(Mx,My,Mz)(Nm)速度 纳米旋转位移台 NDT 24-30无限旋转角度40 &mu rad100&mu radmax.2 max.0.1max.100mrad/s 纳米旋转位移台 NDT 24-30-MSI无限旋转角度40 &mu rad100&mu radmax.240&mu radmax.0.1max.300mrad/s 纳米角度位移台 NAGO P 24-8± 3.3 度2 &mu rad6 &mu radmax.2 max.0.1 纳米角度位移台 NAGO T 24-8± 4度2 &mu rad6 &mu radmax.2 max.0.1 纳米升降位移台 NHV 24-66mm100nm300nmmax.3 max.0.1 纳米升降位移台 NHV 24-6-MSI6mm50nm700nmmax.3400 nmmax.0.1 纳米线性位移台 NLV 24-77mm200nm300nmmax.2 max.0.1max.0.3mm/s 纳米线性位移台 NLV 24-7-MSI7mm50nm700nmmax.2400nmmax.0.1max.0.7mm/s 纳米线性位移台 PT 30-54.8mm300nm800nmmax.30 max.0.5max.0.8mm/s 纳米线性位移台 PT 30-5-MSI4.8mm100nm2000nmmax.30400nmmax.0.5max.2mm/s 主要特点:&bull high power density on little space &bull 纳米量级或&mu rad量级可调 &bull 停止是无摆动或振荡 &bull 由高强度的铝制成,黑色阳极氧化 &bull with ceramic guide for high life time Option &bull version for use in cacuum
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  • JKFD-6514FENG摩擦纳米发电机测试系统纳米发电机,是基于规则的氧化锌纳米线的纳米发电机,是在纳米范围内将机械能转化成电能,而摩擦发电纳米发电机基于摩擦起电和静电感应的耦合将机械能转换成电能,两者均是世界上Z小的发电机。研究纳米发电机的电学输出特性,开路电压、短路电流、转移电荷、功率密度、对提是高发电机输出功率,转换效率及产品设计的可靠性有着密不可分的关系。JKFD-6514FENG摩擦纳米发电机测试系统配置包含:Keithley静电计6514一台,NI采集卡一块,测试系统及测试线缆。系统要求:1.静电计可以测电阻、电压,电流,电荷这四个参数,且精度高。电流100aA - 20mA;电压10μV - 200V;电阻10mΩ - 200GΩ;电荷10fC - 20μC;带模拟输出,DIGITAL I/O口。2.计算机通讯:支持GPIB和RS232接口。3.提供NI的多通道数据采集卡及数据通讯线。4.可设置调零、量程、采集间隔、运行时间。可随时终止测量。5.数据可显示瞬时测量曲线(IT,VT,RT,CT)和阶段时间测量曲线,数据自动保存为csv格式。6.支持GPIB和RS232控制。
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  • 纳米空间分辨超快光谱和成像系统 “空间和时间的结合”— 纳米分辨和飞秒别的光谱超快光谱技术拥有诸多特色,例如高的时间分辨率,丰富的光与物质的非性相互作用,可以用光子相干地调控物质的量子态,其衍生和嫁接技术带来许多凝聚态物理实验技术的变革等等。然而,受制于激发波长的限制(可见-近红外),超快光谱在空间分辨上受到了一定的制约,在对一些微纳尺寸结构的材料研究中,诸如一维半导体纳米线,二维拓扑材料、纳米相变材料等,无法地进行有效的超快光谱分析。 德国Neaspec公司利用十数年在近场及纳米红外领域的技术积累,开发出了全新的纳米空间分辨超快光谱和成像系统,其pump激发光可兼容可见到近红外的多组激光器,probe探测光可选红外(650-2200 cm-1)或太赫兹(0.5-2 T)波段,实现了在超高空间分辨(20 nm)和超高时间分辨(50 fs)上对被测物质的同时表征。技术原理:设备特点和参数:→ 超高空间分辨和时间分辨同时实现;→ 20-50 nm空间分辨率;→ 根据pump光源时间分辨可达50 fs;→ probe光谱可选红外(650-2200 cm-1)或太赫兹(0.5-2 T)应用领域:→ 二维材料→ 半导体→ 纳米线/纳米颗粒→ 等离激元→ 高分子/生物材料→ 矿物质......应用案例:■ 纳米红外超快光谱分辨率为10nm的InAs纳米线红外成像,并结合时间分辨超快光谱分析载流子衰减层的形成过程参考:M. Eisele et al., Ultrafast multi-terahertz nano-spectroscopy with sub-cycle temporal resolution, Nature Phot. (2014) 8, 841.稳态开关灵敏性:容易发生相变的区域,光诱导散射响应较大参考:M. A. Huber et al., Ultrafast mid-infrared nanoscopy of strained vanadium dioxide nanobeams, Nano Lett. 2016, 16, 1421.参考:G. X. Ni et al., Ultrafast optical switching of infrared plasmon polaritons in high-mobility graphene, Nature Phot. (2016) 10, 244.参考:Mrejen et al., Ultrafast nonlocal collective dynamics of Kane plasmon-polaritons in a narrow- gap semiconductor, Sci. Adv. (2019), 5, 9618.■ 范德华材料 WSe2 中的超快研究参考:Mrejen et al., Transient exciton-polariton dynamics in WSe2 by ultrafast near-field imaging, Sci. Adv. (2019), 5, 9618.■ 黑磷中的近红外超快激发黑磷的high-contrast interband性质使其具有半导体性质,在光诱导重组过程中表面激发的电子空隙对(electron-hole pairs)~50fs并在5ps内消失参考:M. A. Huber et al.,Femtosecond photo-switching of interface polaritons in black phosphorus heterostructures, Nat. Nanotechnology. (2016), 5, 9618.■ 多层石墨烯中等离子效应衰减效应参考:M. Wagner et al., Ultrafast and Nanoscale Plasmonic Phenomena in Exfoliated Graphene Revealed by Infrared Pump?Probe Nanoscopy, Nano Lett. 2014, 14, 894.发表文章:neaspec中国用户发表文章超80篇,其中36篇影响因子10。部分文章列表:● M. B. Lundeberg et al., Science 2017 AOP.● F. J. Alfaro-Mozaz et al., Nat. Commun. 2017, 8, 15624.● P. Alonso-Gonzales et al., Nat. Nanotechnol. 2017, 12, 31.● M. A. Huber et al., Nat. Nanotechnol. 2017, 12, 207.● P. Li et al., Nano Lett. 2017, 17, 228.● T. Low et al., Nat. Mater. 2017, 16, 182.● D. Basov et al., Nat. Nanotechnol. 2017, 12, 187.● M. B. Lundberg et al., Nat. Mater. 2017, 16, 204.● D. Basov et al., Science 2016, 354, 1992.● Z. Fei et al., Nano Lett. 2016, 16, 7842.● A. Y. Nikitin et al., Nat. Photonics 2016, 10, 239.● G. X. Ni et al., Nat. Photonics 2016, 10, 244.● A. Woessner et al., Nat. Commun. 2016, 7, 10783.● Z. Fei et al., Nano Lett. 2015, 15, 8271.● G. X. Ni et al., Nat. Mater. 2015, 14, 1217.● E. Yoxall et al., Nat. Photonics 2015, 9, 674.● Z. Fei et al., Nano Lett. 2015, 15, 4973.● M. D. Goldflam et al., Nano Lett. 2015, 15, 4859.● P. Li et al., Nat. Commun. 2015, 5, 7507.● S. Dai et al., Nat. Nanotechnol. 2015, 10, 682.● S. Dai et al., Nat. Commun. 2015, 6, 6963.● A. Woessner et al., Nat. Mater. 2014, 14, 421.● P. Alonso-González et al.,Science 2014, 344, 1369.● S. Dai et al., Science 2014, 343, 1125.● P. Li et al., Nano Lett. 2014, 14, 4400.● A. Y. Nikitin et al., Nano Lett. 2014, 14, 2896.● M. Wagner et al., Nano Lett. 2014, 14, 894.● M. Schnell et al., Nat. Commun. 2013, 5, 3499.● J. Chen et al., Nano Lett. 2013, 13, 6210.● Z. Fei et al., Nat. Nanotechnol. 2012, 8, 821.● J. Chen et al., Nature 2012, 487, 77.● Z. Fei et al., Nature 2012, 487, 82.
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  • 上海楚柏truelab常年经销意大利哈纳产品,质量好,我们价格优势明显。%20温湿计&CatalogStk=095" rel="nofollow"HI9060微处理器防水型温度计,适合在潮湿的环境,例如水处理厂,冷却塔、空调制冷行业安装,食品生产线和工业应用。热敏式温度探头测量准确迅速。可连接不同探头。防水外壳,探头可更换,记忆功能。%20温湿计&CatalogStk=095" rel="nofollow"意大利哈纳HI9060便携式温度计的选购附件:HI765-18C 校准匙-18.0℃ to ±0.4℃HI765000C 校准匙0.0℃ to ±0.4℃HI765070C 校准匙70.0℃ to ±0.4℃HI765BL   圆头热敏式温度探棒(含1米线)HI765L/10 圆头热敏式温度探棒(含10米线)HI766C    可穿透式热电偶温度探棒HI2602    携带箱%20温湿计&CatalogStk=095" rel="nofollow"意大利哈纳HI9060便携式温度计的标准配置:HI9060:主机、HI765BL温度探棒(带1米线)、4×1.5V AA电池HI9060P: 主机、HI765BL温度探棒(带1米线)、4×1.5V AA电池、携带箱
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  • 精密补线机 型号:BT-BX-011.简介精密电子补线机是我公司继精密电子点焊机之后新开发的一种产品,它是专门为PCB厂家设计的修补线路板的专用设备。精密电子补线机可以对各种线路板进行修补,操作方便,焊接牢靠,修补好的线路板同样可以进行热油洗擦、强烈震动以及电性能负荷工作。精密电子补线机是通过数码调控、在显示屏直视下进行精细修补焊接的设备。它设置了焊接压力(Force)、输出脉冲幅度(Voltage)和脉冲时间(Millisecond)三组可调控的焊接参数。精密电子补线机由A.主机、B.结构、C.焊头、D.机头、E.光学装置五部分组成。主机 精密电子补线机的主机为电源的调控部分,在电路设计上采用自适应的调节技术并设有一定值的自动限制保护,保证一定能量的输出,保证最佳的焊接质量。结构 采用龙门结构,缩短机头的伸出长度,减少焊接时所造成的震动。焊头 焊头为进行焊接工作的部件。工作时,当焊头和被补线带接触并达到设定的焊接压力时,才能触发焊接主机提供脉冲电流,使焊头尖端产生能量,进行熔融焊接。机头 机头为操纵焊头进行焊接工作和提供可调控焊接压力的机械装置。通过脚踏板操作,焊接压力以数码显示。工作时,通过显示器放大,保证焊头定位准确,操作方便。光学装置该部分由显微镜及其支架、光源组成。采用放大倍数连续可调的显微镜,专门设计的支架,使显微镜上下、前后、及角度的调节十分灵活方便;光源由特制的LED灯提供,光线柔和自然且寿命长,有效减轻眼睛疲劳,提高工作效率。2.精密电子补线机安装操作:安装流程: 1.①龙门架固定在工作底板上→②铲形支架和紧定夹板固定于龙门架→③方杆和显 示器支撑板固定于龙门架上。2.①链轮座固定于板架上→②板架和脚踏板连接起来→③板架和铲形支架连接起来3.光学系统的安装安装结构支架(见图三)用螺钉通过工作底板1上的孔将龙门底座2固定在工作底板上。将铲形支架3固定在龙门底座2上。将方杆5固定在龙门架2的左边。将显示器支撑板6固定在龙门架2的右边。注:主机箱安放在铲形支架和方杆上面,显示器支撑板用于安放显示器或监视器。安装机头板架(见图一)将机头用2个M10的螺丝固定在铲形支架的前端。脚踏板与机头板架的连接(见图五)先将脚踏板拉索从龙门架下方穿过来。再将拉索头③旋入链条端头④。最后压下中轴将拉索端头①卡入链轮座上的孔位,使链条⑤和链轮⑥配合好,然后锁紧螺钉⑩。显微镜及固定座的安装(见图七)通过横轴9将显微镜支架固定在显微镜固定座8上,用M6内六角紧定螺丝①锁紧横轴即可。光学系统的安装(见图七)通过CCD接口④将CCD摄像头⑤与显微镜③连接。然后将显微镜套入显微镜固定座8圆圈内,锁紧紧定螺定⑥。用三颗螺钉把体视显微镜荧光照明灯固定在显微镜目镜或所配的连接件上。连接将主机箱放置在方杆与铲形支架上。将机头五芯电缆插入主机箱前面板相应的孔内。通过螺钉①(图六中)将主机两根输出电缆线固定于焊头夹的上面。将显示器放在显示器支撑板上,用一根视频线将CCD视频输出端与显示器视频输入端相连。焊头安装(见图六)拧松螺丝④,将焊头12放入压片③下的卡位内,然后慢慢锁紧螺丝④。在此过程中要调整两片焊头,以使两片焊头平行对齐(同一高度,同一平面)。焊接时,不能使两片焊头短路,否则不能焊接。调整、调节图像左右不能居中:调节横轴9。图像上下不能居中:调节图七中的角度调节螺钉②。放大倍数的改变:调节显微镜变倍圈,图七中的⑦。两片焊头之间的间距:调节图六中的间隙调节螺钉⑤。焊头与工作台之间的距离:调节附图四中脚踏板螺钉④。3.开机工作插上电源线(图一中的13),打开电源开关,根据焊接需要调节好各参数,即可工作。4.焊机的维护不要打开主机箱盖及机头罩。中轴与轴承的接触面要保持清洁、干燥。焊机无使用时,请盖上防尘罩。注意焊头作为焊接部件,要防止因撞击而变形;应保持清洁,保证有良好的导电性能,若表面氧化严重而影响导电,应将焊头拆下来用砂纸磨干净。5.技术规格输入电源110V/220V±5% 50/60HZ 光学助选件:焊接电压DC 0.01~1.99V LED灯焊接时间0~19ms 单筒显微镜焊接压力10~70OZ CCD(摄像头)最大焊接功率500VA 19″彩色液晶显示器焊头冲程5~10mm 工作台尺寸750mm×800mm最大工作尺寸600mm产品合格证产品名称: 精密补线机 产品型号: BT-BX-01 检验记录:各部件符合图纸要求。仪表精准,开关灵敏。各参数调整无误。试机合格符合要求。 本产品经检验合格准予出厂检验员 :检验科长: 检验日期:装箱单产品型号产品名称单位数量BT-BX-01补线机台1附件单位数量备注补线机焊头对2标配送线器个2标配补线带卷2标配塞尺片1清洁焊头用小毛刷把1清洁焊头用六角扳手套1标配切线刀把1标配说明书本1中文简版合格证份1标配
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  • MYTHEN2 X射线探测器 MYTHEN探测器系统完全改变了X-射线粉末衍射晶体学的标准定义,呈现出另一个层面:成像时间。这一令人振奋的新领域与MYTHEN2 X 探测器完美结合,开启了时间分辨和现场研究的新纪元。基于MYTHEN的条带尺寸和点扩散函数, MYTHEN2 X 在最高动态范围内引入了前所未有的帧速率,挑战了能量范围的极限。带有电子门控和外部触发的探测器控制系统(DCS4)兼顾了定制化的多模块解决方案以及与其他系统完全同步的探测器。时间层面并不是促使数据质量和系统灵活性之间的平衡主要因素,无论从现场应力测量到快速相变,MYTHEN2 X深化了其细节,并能够在固态反应中进行观察。 MYTHEN2 X 探测器是为对速度和数据质量无任何限制的高要求的用户而设计的。现在是你该采取行动了。核心优势- 帧率为1000HZ - 两个模块组合:1280和640数据带- X-射线能量低至4keV的短数据带- 适用于PDF测量的厚传感器- 多模块系统满足您的要求- 外观为对称设计,小巧紧凑,- 无需维护和载体史无前例的速度 MYTHEN2 X 探测器使用4个模块组合,其帧率能达到1000赫兹,并保持其动态范围在24位。这些新进展并不要求数据质量的平衡。MYTHEN的50微米的线带可使用两个长度,确保X-射线能量范围的高分辨率和最佳信噪比。自定义形状的灵活系统 全能型MYTHEN2 X系列探测器采用了3个厚传感器和两个长数据带的HPC技术,涵盖了在4和40keV中所有X-射线分析的需求。在设计的MYTHEN2模块适用于两种尺寸:1280带线的MYTHEN2 R 1K 和640带线的MTHEN2 R 1D。 MYTHEN2 R探测器以其紧凑型尺寸和相对称的传感器结构适用于任何衍射仪,无论是紧凑空间,还是多模块系统设置的需求,4个模块的系统可适用于任何您想要的设备形状,并能通过使用探测器控制系统DCS4进行同时操作。应用- 时间分辨试验- X射线粉末衍射和散射技术- 残余应力测量- 薄膜与纹理分析- PDF分析- 小角X射线散射、广角X射线散射、掠入射的小角散射- 色散荧光光谱4毫米长数据带实现低能耗 320微米厚的传感器和4毫米线带的完美结合,确保了高量子效率和最佳信噪比,使能量低至4keV. 整合荧光抑制作用和无暗流等特点,MYTHEN2系统确保X射线衍射应力测定和X射线衍射残余奥氏体的测定精度精确到毫秒级别。低于4KeV的X-射线能仅适用于320微米X 4毫米的传感器。型号如有变更,将另行通知。
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