抛秧机

疱肉培养基基础 250g 瓶 疱肉培养基基础 250g 瓶 疱肉培养基基础 250g 瓶

抛光布简介一、产品特点： 抛光布是专门用于金相制样时的粗抛和精抛。适用国内、外各种型号、规格的金相抛光机，尤其适用于半自动或全自动金相抛光机。金相抛光织物系列由抛光层、存储磨料层、保护层等多层组成，其中最重要的一层是真正用于抛光的抛光织物层。该层精选了高强度的、不同绒毛长度和布纹的、适合于金相抛光用的织物为材料。从而使本抛光织物具有优良的抛光效果和较长的使用寿命。二、抛光布直径及匹配的磨抛机： Φ200mm带胶抛光布→适用于磨盘直径200mm的磨抛机； Φ230mm带胶抛光布→适用于磨盘直径230mm的磨抛机； Φ250mm带胶抛光布→适用于磨盘直径250mm的磨抛机。 三、抛光布种类：

无锡吉致电子25年研发生产——氧化层抛光液 /Oxide slurry/CMP抛光液/氧化物CMP研磨液/氧化物化学机械抛光液/半导体CMP抛光液/氧化层lapping研磨抛光液/氧化层slurry/氧化层抛光液抛光浆料/氧化层集成电路抛光液/氧化层CMP化学机械抛光液slurry/氧化层抛光液slurry 磨料类型：半导体cmp抛光液slurry磨料粒径：纳米级SiO2产品特点：纳米级SiO2磨料，粒径均一稳定，去除速率稳定，金属离子含量低，通过CMP工艺可有效去除表面氧化层，达到理想平坦度。吉致电子Oxide Slurry与国内外同类产品相比，具有易清洗、表面粗糙度低等特点。吉致电子氧化层抛光液/OxideSlurry抛光液储存方法：通风，阴凉，干燥的库房，本品需在5-35℃储存，防止阳光直射及冻结，零度以下因产生不可再分散结块而失效。吉致电子CMP抛光液/Slurry抛光液价格：吉致电子的CMP金属抛光液生产技术是引进国外生产技术和设备，特殊化学配方制备而成。吉致电子抛光液品质可以媲美进口同类产品。本土化生产使得吉致电子CMP抛光液产品交货周期快，品质好，抛光液价格亲民。吉致电子CMP抛光耗材适用范围吉致电子科技有限公司拥有成熟的加工工艺，为不锈钢、铜、铝、陶瓷、导光板、五金产品、蓝宝石、光学玻璃等各类抛光加工服务。为您提供可靠抛光解决方案！

M5-2100抛光机，用于手动样品制备，单盘无级调速式研磨、抛光多用机。调速范围为25-500转/分钟。可实现试样从粗磨、精磨、粗抛光至精抛光的整个制样过程。台式结构，可放于工作台上。外形小巧，采用不锈钢外壳。磨盘直径：Φ203mm 尺寸：宽381 x深660 x高229 mm 重量：65 kg

氧化铈抛光微粉适于UNIPOL系列研磨抛光机的研磨使用，主要用于玻璃的抛光。技术参数粒度W0.75

*产品名称*品牌*产品规格*产品价格氧化物最终抛光液德国古莎L0最终抛光液(0.05um）500ml/瓶500氧化物最终抛光液德国古莎L1最终抛光液(0.05um) 1L/瓶500氧化物最终抛光液德国古莎L2最终抛光液(0.05um）1L/瓶500氧化物最终抛光液德国古莎ALP最终抛光液（0.05um）1L/瓶800氧化物最终抛光液德国古莎ALP最终抛光液（0.25um）1L/瓶800氧化物最终抛光液德国古莎ALP最终抛光液（1um）1L/瓶800精选的氧化物磨料+先进的化学悬浮方法，让氧化物机械化学抛光方法发挥出超级效率，为软质，韧性或者压力敏感制样提供完美表面。推荐配套4FV1型长绒植绒型抛光布或者聚氨酯发泡材料多空弹性抛光布，可以将机械化学抛光的效率最大化。氧化物金刚石终抛抛光液规格粒度原料作用L0型纳米级水悬浮非团聚氧化硅抛光液，碱性介质稳定，白色悬浮浓缩液（推荐稀释5-10倍使用）。通用材料型机械化学最终抛光液。L1型化学复合氧化物抛光液， 可以起到去薄的作用，碱性介质稳定，白色悬浮液，无需稀释。主要用于金属钛以及钛合金的最终抛光，特殊设计可以使样品表面的韧性划痕变脆易磨削，从而完成最终抛光。L2型由陶瓷与氧化硅复合的机械化学抛光液，碱性介质稳定，白色悬浮液，无需稀释。主要用于金属铝以及铝合金的在最终超镜面抛光前的精抛准备。ALP型1um应用新型抗团聚技术的高纯氧化铝机械化学最终抛光液，白色悬浮浓缩液（推荐稀释2-3倍使用）。适合于各类材料的精密最终抛光过程，主要用于最终表面极完美平整无划痕。0.25um0.05um

高效金刚石喷雾抛光剂金刚石是金相制样的最佳磨料，本产品广泛应用于宝石、玻璃、陶瓷、光学玻璃、硬质合金及淬火钢材的高光亮度研磨抛光。用于金相抛光时，更显其独特的优越性，经研磨抛光后的试样更真实地显示其金相组织。不同的材料研磨抛光可选用不同粒度的产品。用于抛磨金相试样中铸铁中石墨，钢铁中夹杂，钢铁中氧化层、渗碳层、涂层时能更真实地显示其金相组织 使用方法:使用前摇动喷雾剂罐，使其磨料充分均匀。然后开启喷雾罐瓶盖，手持喷雾剂罐、倒置轻压喷射至抛光织物上，连喷3-5秒即可进行抛光。粒度：w0.25,w0.5,w1,w1.5,w2.5,w3.5,w5,w7,w10,w14,w20,w28,w40(每罐280克,350毫升)

低维材料在线商城可为客户订制不同参数的二氧化硅氧化片，质量优良；氧化层厚度、致密性、均匀性和电阻率晶向等参数均按照国标执行。热氧化物表面形成二氧化硅层。在氧化剂的存在下在升高的温度下，给过程称为热氧化。通常生长热氧化层的在水平管式炉中。温度范围控制在900到1200摄氏度，使用湿法或者干法的生长方法。热氧化物是一种生长的氧化物层。相对于CVD法沉积的氧化物层，它具有较高的均匀性和更高的介电强度。这是一个极好的作为绝缘体的介电层。大多数硅为基础的设备中，热氧化层都扮演着非常重要的角色，以安抚硅片表面。作为掺杂障碍和表面电介质。应用范围：1，刻蚀率测定2，金属打线测试3，金属晶圆4，电性绝缘层产品名称：4英寸二氧化硅抛光硅片 （SiO2）生长方式：直拉单晶（CZ） 热氧化工艺直径与公差：100±0.4mm掺杂类型：N型(掺磷、砷、锑) P型（掺硼）晶向：\电阻率：0.001-50(Ω?cm) 可按客户要求定制工艺数据：平整度TIR: 0.3μm)现有规格：50nm 100nm 200nm 300nm 500nm 1000nm 2000nm用途介绍：用于工艺等同步辐射样品载体、PVD/CVD镀膜做衬底、磁控溅射生长样品、XRD、SEM、原子力、红外光谱、荧光光谱等分析测试基底、分子束外延生长的基底、X射线分析晶体半导体类型1英寸2英寸3英寸4英寸5英寸6英寸8英寸单面抛光片1英寸2英寸3英寸4英寸5英寸6英寸8英寸双面抛光片可定制2英寸3英寸4英寸5英寸6英寸8英寸二氧化硅片（SiO2）不可定制2英寸3英寸4英寸5英寸6英寸可定制切割片、研磨片可定制2英寸3英寸4英寸5英寸6英寸不可定制区熔本征高阻不掺杂硅片可定制2英寸3英寸4英寸5英寸6英寸不可定制单晶硅棒1英寸2英寸3英寸4英寸5英寸6英寸不可定制注：本商城提供多系列多规格的硅片，标价仅为一种规格，如需多种规格请与客服联系。

产品名称：陶瓷抛光液/氧化锆抛光液/氧化铝抛光液/氮化硅抛光液/氮化铝抛光液陶瓷抛光液作用: 吉致电子陶瓷类抛光液适用于碳化物、氮化物、氧化物和硼化物各精密陶瓷件的镜面抛光，通过CMP抛光工序可得到理想镜面效果，表面光滑平整具有易清洗、无残留等特点。产品特点：吉致可提供各陶瓷类的镜面抛光液1、纳米级抛光液，抛光后具有较优的粗糙度2、抛光液绿色环保、不含卤素及重金属元素3、抛光液可循环使用，根据工艺要求可添加去离子水稀释可定制化：可以依客户不同工艺要求，提供定制化服务包裝方式：25KG/桶(也可依客户需求)

产品名称：钼抛光液/金属钼抛光/激光反射镜抛光液/CMP研磨液/镜面抛光液金属钼片抛光液作用:吉致电子金属类抛光液适用于平面形态的钼、钼合金工件的镜面抛光，CMP抛光工序通过大量磨擦和化学反应作用，可以使钼金属表面快速去粗和平整坦化。化学氧化腐蚀钼合金表面，研磨去除氧化物部分的机制可得到理想镜面效果，金属钼工件表面光滑平整具有易清洗、无残留等特点。吉致可提供钼片/金属钼的镜面抛光液1、微米/纳米级抛光液，抛光后具有均匀镜面效果2、磨料颗粒呈悬浮状态，不易分散沉淀，提高CMP效率和稳定性3、钼片专用抛光液磨料硬度高、稳定性好、化学惰性强，吉致电子金属钼抛光液可用于钢铁、化工、电子、航天、光学领域的钼片加工，达到优良的表面平坦度，抛光速率快、表面均一无缺陷。*可以依客户不同工艺要求，提供定制化服务*提供全套解决方案，及免费安排工程师上门服务

氧化铝和碳化硅研磨/抛光垫由微米极，高强度聚酯为微米极均匀分散的碳化硅或氧化铝颗粒提供统一的基底，可重复使用，主要应用于金属，塑料，金相学，薄膜，软盘，光线连接器的研磨抛光，尺寸：8英寸包装：25张/包

美国QMAXIS高纯氧化铝抛光粉原装进口美国QMAXIS氧化铝抛光粉，高纯度氧化铝经高温煅烧而成，通过激光粒子分析仪对每批粉末进行精确的质量控制，埃级的加工精度，纯度达99.99%，适用于各种材料的精细抛光。AgPowder 氧化铝抛光粉 团聚DePowder 氧化铝抛光粉 非团聚AgPowder 氧化铝抛光粉 团聚美国QMAXIS团聚的氧化铝抛光粉，具有更高的去除率，适用于镁、铅及其合金的精细抛光订货信息：粒径1lb [0.45kg]5lbs [2.3kg]0.05μmPAA-005-1PAA-005-50.3μmPAA-03-1PAA-03-51μmPAA-1-1PAA-1-5DePowder 氧化铝抛光粉 非团聚美国QMAXIS非团聚的氧化铝抛光粉，具有更好的表面效果，适用于大多数的矿物和金属的精细抛光订货信息：粒径1lb [0.45kg]5lbs [2.3kg]0.05μmPAD-005-1PAD-005-50.3μmPAD-03-1PAD-03-51μmPAD-1-1PAD-1-5

Alumina Powder 氧化铝抛光粉 团聚美国QMAXIS团聚的氧化铝抛光粉比同等粒径的非团聚的氧化铝抛光粉具有更高的去除率 ，尤其适合于镁、铅及其合金的最终抛光。订货信息如下：De-Alumina Powder 氧化铝抛光粉 非团聚美国QMAXIS非团聚的氧化铝抛光粉比团聚的氧化铝抛光粉具有更好的表面抛光效果，适用于大多数的矿物和金属的精细抛光。订货信息如下：

氧化铝磨料系列（抛光用品）一、氧化铝粉（Alumina powder）EMS公司生产的氧化铝粉严格控制粒度分布和质量，确保用户得到最好的抛光效果。现有三种粒度供用户选择：0.05um、0.3um、1.0um。 应用领域：精密光学；金相断面抛光；光学晶体；硅片；铁矿石；宝石；丙烯酸有机玻璃透镜氧化铝粉有改良型和未改良型之分，货号分别是50361和50360。货号产品名称规格50360-01Type N, Gamma Alumina Powder, 0.05μm1磅50360-05Type N, Alpha Alumina Powder, 0.3μm1磅50360-10Type N, Alpha Alumina Powder, 1μm1磅50361-01Type DX, Gamma Alumina Powder, 0.05μm1磅50361-05Type DX, Alpha Alumina Powder, 0.3μm1磅50361-10Type DX, Alpha Alumina Powder, 1μm1磅二、氧化铝膏（Alumina slurry）氧化铝的水悬浮液，没有添加任何粘性物质。货号产品名称规格50368-10Alumina Slurry, 0.05μm6 oz.50368-20Alumina Slurry, 0.3μm6 oz.50368-30Alumina Slurry, 1μm6 oz.三、氧化铝抛光粉（Aluminum Oxide Powder - Al2O3 ）货号产品名称规格50362-03Aluminum Oxide Powder, 3.0μm1磅50362-05Aluminum Oxide Powder, 5.0μm1磅50362-09Aluminum Oxide Powder, 9.0μm1磅50362-15Aluminum Oxide Powder, 15.0μm1磅四、胶体氧化铝（colloidal Alumina）作为酸性的胶体，胶体氧化铝在研磨中具有化学和机械的双重功效。锗、硅、砷化镓、硫化锌、氟化物、蓝宝石、铁酸盐、碳化硅等物质的表面均可以得到很好的抛光效果。也可以用于镍、钨、铜、钢铁、铝等金属的低光泽度加工。另外，此通用型的胶体氧化铝还可用于环氧树脂和塑料的抛光。胶体特性：PH3-3.5，固体20％，粘性，摇溶性的应用：根据需要，可以打开即用，也可以稀释后使用。稀释用去离子水即可，稀释比例为1：1或者更高。产品选购：货号产品名称规格50365-05Colloidal Alumina胶体氧化铝0.473L货号产品名称规格91045Carbon String 碳绳1m91046Carbon Cord 碳绳 （主要配套250，450机型）1m91046-SPCarbon Cord 碳绳20m

产品名称：铜抛光液/合金铜抛光液/铜表面抛光液/金属研磨液/镜面抛光液合金铜CMP抛光液作用:吉致电子金属类抛光液适用于平面形态的铜、合金铜工件的镜面抛光，CMP抛光工序通过大量磨擦和化学反应作用，可以使铜金属表面得到加工和平整坦化。化学氧化铜金属后磨蚀性去除氧化物部分的机制可得到理想镜面效果，工件表面光滑平整具有易清洗、无残留等特点。吉致可提供铜/合金铜金属的镜面抛光液1、微米/纳米级抛光液，抛光后具有均匀镜面效果2、磨料颗粒呈悬浮状态，不易分散沉淀，提高CMP效率和稳定性3、铜专用抛光液磨料硬度高、稳定性好、化学惰性强*可以依客户不同工艺要求，提供定制化服务*提供全套解决方案，及免费安排工程师上门服务李女士17706168670

高效金刚石金相抛光剂采用优质的金刚石微粉，以独特的介质与助剂，融物理与化学作用于一体研制而成；粒度分布均匀，颗粒形貌呈球形八面体，故研磨效果好、不易产生划痕；硬度极高，刃口尖锐锋利，对硬软材料都有良好的研磨作用，只产生研磨作用而无滚压，不产生扰乱层； 主要用于机械研磨、抛光硬质合金、合金钢、高碳钢等高硬材料制件以及金相和岩相试样的精研等。使用方法01. 使用前抛光织物需用清水湿透，避免磨擦热。 02. 启动抛光盘后将抛光剂轻摇后倒置喷出。 03. 喷撒抛光剂时，应以抛光盘中心为圆心，沿半径方向喷出3--5s即可。 04. 新织物喷撒时间相应延长，以使织物的磨削能力更完美。粒度：W0.25、W0.5、W1、W1.5、W2.5、W3.5、W5、W7、W10、W14、W20、 W28、W40包装：每罐250克、350毫升。附注：W为微米μm，国际通用标准。

美国QMAXIS氧化铝/硅/铈精细抛光悬浮液原装进口美国QMAXIS金相精细抛光用氧化物抛光悬浮液，纯度高，分散均匀，稳定性好，与高品质的抛光布配合使用，去除材料的变形层，从而精致地再现材料微观结构。AluminaPrep 氧化铝抛光悬浮液 溶胶-凝胶、热解SilicaPrep 氧化硅抛光悬浮液 胶体Al-SiPrep 硅铝混合抛光悬浮液 硅-铝CeriumPrep 氧化铈抛光悬浮液 胶体AluminaPrep I 氧化铝抛光悬浮液 溶胶-凝胶溶胶-凝胶型氧化铝抛光悬浮液，pH值8.5，适用于矿物、黑色金属、低熔点合金、碳化物、印刷电路板、贵金属和电子元器件等材料的精细抛光订货信息：颜色/pH粒径6oz [180ml]32oz [950ml]64oz [1.9L]白色0.05µ mPA-005-006PA-005-032PA-005-064AluminaPrep II 氧化铝抛光悬浮液 团聚团聚的氧化铝抛光悬浮液，中性，具有更高的去除率，适用于镁、铅及其合金的精细抛光订货信息：颜色粒径6oz [180ml]32oz [950ml]白色0.05µ mPAA-005-006PAA-005-032白色0.3μmPAA-03-006PAA-03-032白色1μmPAA-1-006PAA-1-032AluminaPrep III 氧化铝抛光悬浮液 非团聚非团聚的氧化铝抛光悬浮液，中性，具有更好的表面效果，适用于大多数的矿物和金属的精细抛光订货信息：颜色粒径6oz [180ml]32oz [950ml]白色0.05µ mPAD-005-006PAD-005-032白色0.3μmPAD-03-006PAD-03-032白色1μmPAD-1-006PAD-1-032SilicaPrep 氧化硅抛光悬浮液 胶体氧化硅抛光悬浮液，pH值9.5，适用于化学/机械抛光，特别适合金属、矿物、陶瓷、玻璃、宝石、半导体、微电子和聚合物等材料的精细抛光订货信息：颜色粒径6oz [180ml]32oz [950ml]64oz [1.9L] SilicaPrep I白色0.02µ mPS-002-006PS-002-032PS-002-064 SilicaPrep II蓝色0.05µ mPS-005-006PS-005-032PS-005-064 SilicaPrep III白色0.06µ mPS-006-006PS-006-032PS-006-064Al-SiPrep 硅铝混合抛光悬浮液 硅-铝氧化铝和硅胶混合抛光悬浮液，pH值9，适用于化学/机械抛光，协同具有二氧化硅的化学抛光作用和氧化铝的机械抛光作用，特别适合钢铁、铝合金和电子材料等的精细抛光订货信息：颜色粒径32oz [950ml]蓝色0.05µ mPAS-005-032CeriumPrep 氧化铈抛光悬浮液 胶体CeriumPrep 氧化铈抛光悬浮液，pH值8.5，适用于半导体、集成电路、光学镜片、光纤连接器、玻璃陶瓷基板和晶体表面等材料的精细抛光订货信息：颜色/pH粒径6oz [180ml]32oz [950ml]64oz [1.9L]白色1µ mPC-1-006PC-1-032PC-1-064

Akasel是一家丹麦公司，专门从事开发、生产和销售高质量的金相耗材以及最佳的金相制备方法。 凭借创始人Morten Damgaard在金相学方面的专业知识和实践经验，再加上对可持续性创新解决方案的不懈追求，不断努力，推进金相耗材的开发，提高金相样品制备的效果，创造易于执行的制备方法。经过多年的发展，这个在车库里迈出第一步的公司现在已经成功地将高品质的金相耗材以及高效的制备方法传播到全世界。 如果您为目前样品制备过程的繁琐所累，请联系我们，我们的技术专家将免费为您进行制备流程优化。氧化物抛光某些材料需要使用亚微米级的oxide polishing suspensions才能去除最后的变形。在一般的应用中，可使用alumina悬浮液，对于要求更高的应用，硅悬浮液是最好的选择。氧化硅悬浮液起到化学-机械抛光作用。在抛光过程中，样品表面会受到轻微侵蚀。亚微米级二氧化硅颗粒可将这一侵蚀层去除，使样品表面完全无变形。对于水敏感材料或具有水敏感夹杂物的材料，建议使用我们的无水热解二氧化硅悬浮液。我司所有的oxide polishing suspensions不结晶、不沉淀，并且含抗干燥剂，使清洁更轻松。根据要抛光的材料，您可以往悬浮液中添加各种化学物质，从而优化化学-机械抛光效果。我们的oxide polishing suspensions可帮助您在非常短的时间内获得出色的抛光效果。我们提供了多种二氧化硅和氧化铝oxide polishing suspensions，可用于不同材料的最终抛光，其中包括：超细粒状硅胶悬浮液或稍粗的热解二氧化硅悬浮液，粒径为0.050μm至0.2μm（50至200 nm）。一种独特的无水悬浮液，0.2μm热解二氧化硅悬浮液。一种pH中性alumina polishing suspension。常见问题解答：哪种材料需要增加氧化物抛光这一步骤？对于许多材料，用1μm金刚石抛光可获得令人满意的结果。但是，如果您需要绝对无划痕的抛光，尤其是对于柔软而易延展的材料，则使用氧化物抛光作为最后一步可以显着改善结果。利用最后的氧化物抛光步骤可以缩短我的制备时间吗？是的，由于结合了化学/机械材料去除，氧化物抛光通常很快完成。因此，用氧化物抛光步骤代替细粒度diamond polishing步骤可以减少制备时间。但是，氧化物抛光会轻微侵蚀样品的表面，如果不希望出现这种情况（例如图像分析时），应避免使用氧化物抛光。

产品分类：吉致电子抛光垫产品名称：阻尼布抛光垫/碳化硅SIC精抛垫/Politex抛光垫FUJIBO抛光垫替代产品特点：吉致电子抛光垫满足低、中及高硬度材料抛光需求，针对碳化硅SIC抛光的4道工艺制程搭配不同型号抛光垫（粗磨垫/精磨垫/粗抛垫/精抛垫）具有高移除率、高平坦性、低缺陷和高性价比等优势。产品工艺及用途：柔软表面与特殊微孔洞结构，适用于碳化硅SIC衬底、各类晶圆、IC制造等CMP工艺高精细、高平坦化的制程。具有缓冲与晶背保护的效果。吉致电子碳化硅抛光垫价格：吉致电子抛光垫生产引进国外技术，可以媲美进口抛光垫PAD/阻尼布抛光垫产品（Politex/Fujiba/SUBA/环球等国产替代）品质稳定。选择吉致电子抛光垫产品，价格美丽，比进口抛光垫/精抛垫便宜，交货期稳定，性价比更高！

无锡吉致电子25年研发生产——钨抛光液/W CMP Slurry/W 抛光液/半导体研磨液/CMP抛光液/化学机械抛光液/CMP化学机械抛光液slurry/CMP集成电路抛光液钨W抛光液作用: 吉致电子钨W抛光液适用于8-12吋氧化硅镀膜片的抛光。特选粒径均一的SiO2水溶胶为磨料，抛光清洗后晶圆表面粗糙度低、颗粒残留少。与国内外同类产品相比，具有易清洗、表面粗糙度低等特点.我司产品优点： 1.悬浮性好，不易沉淀，使用方便。2.颗粒分散均匀，不团聚，软硬度适中，有效避免抛光过程中由于颗粒团聚导致的工件表面划伤缺陷。3.运用抛光过程中的化学新作用，提高抛光速度，改善抛光表面的质量。4.分散性好、乳液均一，程度提升抛光速率的同时降低微划伤的概率，可以提高抛光精度。5.无粉尘产生，关注环保和人体健康安全。可定制化：我们的抛光液可以根据客户需求定制不同的PH、粒径、浓度、稳定离子等。包裝方式：25KG/桶(也可依客户需求)吉致电子CMP抛光液/Slurry抛光液价格：吉致电子的CMP金属抛光液生产技术是引进国外生产技术和设备，特殊化学配方制备而成。吉致电子抛光液品质可以媲美进口同类产品。本土化生产使吉致电子CMP抛光液产品交货周期快，品质好，抛光液价格实惠亲民。吉致电子CMP抛光耗材适用范围吉致电子科技有限公司拥有成熟的加工工艺，为不锈钢、铜、铝、陶瓷、导光板、五金产品、蓝宝石、光学玻璃等各类抛光加工服务。为您提供可靠有效抛光解决方案！

用于金属表面最后抛光，清除真空抛光后表面残余物。比普通抛光剂拥有更好的抛光性能。磨料颗粒小，并且对精密表面更平和。其配方中的磨料在超真空（UHV）中，不会刮伤任何抛光表面。此外，抛光剂中含有一种易挥发媒介（如悬浮液），以确保金属表面重置于超真空（UHV）中时能够立即抽气。

优于一级ATI提供了最高质量，行业标准的油基试剂使用与油基气溶胶发生器。我们的试剂用于高效空气过滤器的现场泄漏检测和生产质量控制效率检测。美国ATI油基气溶胶试剂PAO-4产品适用于政府，核设施，和FDA规定的测试应用。PAO-4 试剂美国ATI油基气溶胶试剂PAO-4，四厘沲PAO(化学文摘系统ID 68037-01-4)。该试剂提供了美国食品和药物管理局批准的替代DOP在FDA监管的过滤器泄漏检测应用。PAO得到了美国陆军军医总局的批准，并被美国军方用作过滤器和口罩测试过程中DOP的替代品。美国ATI油基气溶胶试剂PAO-4可在1加仑和5加仑容器。可根据要求提供更大的容量。产品规格沸点 : 316℃(600℉)比重 : 0.819 @ 15.5摄氏度(60华氏度)在20°C时，蒸气压0.013 kPa (0.1 mm Hg)蒸汽密度 : N/A溶水性 : 不溶于水外观/气味 : 无色、无味液体凝固点 : N/ApH在5%时 : N/A闪点 : 222摄氏度(432华氏度)使用方法 : 克利夫兰开杯空气中可燃性限值 : N/A - UEL: N/A | LEL: N/A自动点火温度 : 343 ̊C (649 ̊F)粘度 : 40℃时18 cSt / 100℃时4 cSt

主要特点 1、本机动作模仿人手操作，下盘不动， 由上压杆带动样品做8字形往复运动。 可 做调整， 研磨压力及速度均可做调整。 2、采用多机同时工做，可实现无人看守快 速抛光。 3、该机价格便宜，经久耐用，操作方便。

PULL系列润滑油泡沫温度计、GB/T12579润滑油泡沫温度计、GB/T1884密度温度计、玻璃液体温度计、润滑油泡沫测定仪专用温度计是一种经过人工烧制、灌液等十几道工艺制作而成的传统测温产品，符合GB/T514《石油产品试验用玻璃液体温度计技术条件》标准要求。广泛适用于石油化工、科研院所等实验室等领域，以圆棒或三角棒玻璃作为原材料，以水银或有机溶液(煤油、酒精等)作为感温液经过普洛帝PLDMC公司核心制作技术生产而成，一般包括感温泡、中间泡、安全泡和温度计本体几部分。产品特点：1、制造温度计用的原材料玻璃符合相关专业标准的要求。2、感温泡的玻璃经过特殊的热稳定性处理满足精度要求。3、温度计刻线的清晰度高，不受其它因素影响。4、温度计中的感温液体乙醇、其它有机液体、汞（ 水银）或汞基合金纯净干燥，不含有气泡和其他杂质性能稳定，不粘玻璃；感温液体为汞时，符合G B /T913 中一号汞的要求。5、毛细管内径均匀一致、截面符合标准要求。产品参数：温度计编号：GB-48温度计名称：润滑油泡沫温度范围/℃：-20-102浸没深度/mm：全浸刻度标尺：分度值/℃：0.2长刻线间隔/℃：1数字标刻间隔/℃：2示值允差/℃：0.15最大刻线宽度/mm：0.15安全泡：最高允许加热温度/℃：150总长度/mm：420±5棒外径/mm：7±1感温泡长度/mm：17.5±2.5感温泡外径/mm：≤棒外径感温泡底部至刻线：-20℃距离/mm：42.5±7.5刻度范围长度：327.5±22.5顶部加工形状：纽扣状应用方法标准号：GB/T12579、GB/T1884、SH/T0068具体详情请电询亿器智能！B-instr、亿器为亿器智能公司在中国大陆产品及服务标识！有关技术阐述、参数、服务为亿器智能独家拥有，亿器智能保留对经销商、用户的知情权！亿器智能服务于军工、生命科学、航空航天、交通机械、制造业、制药、政府、教育、石化、电子以及商业实验室等众多领域。亿器智能与其旗下的优秀的实验室设施品牌、颗粒检测技术领导品牌、液压系统控制核心品牌等开展业务战略合作，在全球推广分析测试技术型产品；B-instr/亿器温度计产品有：闭口闪点温度计、闭口闪点1号温度计、闭口闪点2号温度计、闭口闪点3号温度计、玻璃液体温度计、闪点温度计、闭口闪点温度计、开口闪点温度计、恩氏粘度温度计、沥青恩氏粘度温度计、运动粘度温度计、沥青粘度温度计、布氏粘度温度计、滴点温度计、凝点温度计、结晶点、凝点温度计、石蜡冻凝点温度计、熔点温度计、石蜡滴熔点温度计、浊点、倾点温度计、冰点温度计、冷却液冰点温度计、苯结晶点温度计、软化点温度计、脆裂点温度计、蒸馏温度计、润滑油泡沫温度计、冷却液泡沫温度计、液化气挥发性温度计、蒸发损失温度计、防锈油蒸发量温度计、蒸汽压温度计、破乳化温度计、氧化特性温度计、氧化安定性温度计、热安定性温度计、老化特性温度计、密度温度计、液化气密度温度计、石蜡含油量温度计、石蜡针入度温度计、油罐温度计温度计、苯胺点温度计。

MetaDi钻石悬浮液和浆料是高质量的单晶和多晶金刚石抛光产品，可提供可重复的性能并提供出色的样品质量。 严格控制Buehler的MetaDi钻石悬浮抛光剂和糊剂产品，以防止粒径或浓度出现任何偏差。 这样可确保每个样品的抛光结果均具有可重现性，并具有高质量的表面光洁度。 基于微米尺寸的颜色编码的钻石悬浮液和糊剂有助于防止抛光表面上的交叉污染。 由于对水的敏感性或钻石的嵌入，某些材料与传统的水基悬浮液不兼容。 与水敏感的材料一起使用时，油基MetaDi单晶金刚石悬浮液以及MetaDi金刚石浆料提供了多种选择。最终抛光悬浮液旨在去除表面变形的最后一层，并准备样品进行分析。 肉眼可能看不到变形，但是对于某些标本分析技术，必须将其消除。金刚石抛光金刚石悬浮液及研磨膏 规格产品金刚石类型材料去除表面变形应用MetaDi Supreme 多晶金刚石悬浮液多晶最佳极小最快的材料去除和最小的表面变形MetaDi Supreme 无色多晶金刚石悬浮液多晶最佳极小适用于容易被染色且会影响图像分析的材料MetaDi 单晶金刚石悬浮液单晶较好小对于大多数材料来所去除效果较好MetaDi 油基单晶金刚石悬浮液单晶较好小适用于水敏感的材料MetaDi Suspension 稀释单晶金刚石悬浮液单晶较好小与自动化系统一起使用时，悬浮液和增量液组合可保持一致性MetaDi 超多晶研磨膏多晶较好极小适用于需要高效去除且容易嵌入金刚石颗粒的软材料MetaDi 单晶研磨膏 (天然)单晶好小高浓度的金刚石研磨膏适用于容易嵌入金刚石颗粒的材料MetaDi II 单晶研磨膏 (合成)单晶好小中等高浓度的金刚石研磨膏适用于非常容易嵌入金刚石颗粒的材料最终抛光产品类型范围应用MasterPrep 氧化铝氧化铝终抛液0.05µ m~8.5pH较适合铸铁、钢、不锈钢、铜、聚合物、矿物质、微电子、贵金属MasterMet 硅胶硅胶终抛液0.06µ m~10pH化学-机械的抛光方法，较适合铝、难熔金属、微电子中的硅、陶瓷MasterMet 2 非结晶硅胶非结晶硅胶终抛液适用于抛光液配送系统0.02µ m~10.5pH化学-机械的抛光方法，较适合铝、难熔金属、微电子中的硅、陶瓷MasterPolish 终抛混合高浓度氧化硅和硅胶的终抛液0.05µ m~9pH含有极少量水分，适用于水敏感材料，适用于大多数镁合金、钴合金、大多数铁合金、镍和金属基复合材料MasterPolish 2 终抛氧化铁抛光液0.06µ m~10pH化学-机械的抛光方法，适用于蓝宝石、玻璃、氧化铝、氮化硅和金属/陶瓷复合材料MicroPolish Alumina 氧化铝团聚氧化铝终抛液与相同颗粒尺寸的其他氧化铝终抛液相比，具有更高的去除率颗粒尺寸可选： 0.05µ m、0.3µ m、 1µ m适用于镁、铅及其合金，提供抛光液和抛光粉两种选择MicroPolish II Alumina 氧化铝高质量的非团聚氧化铝终抛液比结晶氧化铝终抛液可得到更高质量的表面颗粒尺寸可选：0.3µ m、 1µ m适用于大多数矿物和金属，提供抛光液和抛光粉两种选择

无锡吉致电子25年研发生产——碳化硅晶圆抛光液/硅衬底SIC抛光液/半导体抛光液/CMP化学机械抛光液/硅衬底抛光液/slurry抛光液产品简介：为电力电子器件及LED用碳化硅晶片的CMP化学机械平坦化配制的抛光液。CMP抛光液大大提高了碳化硅晶圆表面去除率和平坦化性能，提供了非常好的表面光洁度吉致电子碳化硅晶圆Slurry抛光液使用方法：1.可根据抛光操作条件用去离子水进行5-20倍稀释。2.稀释后，粗抛时调节PH11左右，精抛时调节PH9.5左右。pH调节可以用10%的盐酸、醋酸、柠檬酸、KOH或氨水在充分搅拌下慢慢加入。3.循环抛光可以用原液。吉致电子碳化硅晶圆Slurry抛光液储存方法：1.贮存时应避免曝晒，贮存温度为5-35℃2.低于0℃以上储存，防止结冰，在无度以下因产生不可再分散结块而失效。3.避免敞口长期与空气接触。吉致电子碳化硅晶圆Slurry抛光液价格：吉致电子的碳化硅晶圆抛光液生产技术是引进国外生产技术和设备，特殊化学配方制备而成。吉致电子抛光液品质可以媲美进口同类产品。本土化生产使得吉致电子CMP抛光液产品交货周期快，品质好，抛光液价格亲民。

根据研磨的精细程度，金刚石的粒度有大有小；金刚石喷雾抛光剂配合金相抛光润滑冷却液使用，可以使样品的抛光效果则更加完美，可以大量定制。产品特点1、选用优质金刚石微粉作研粉，配以独特的研磨辅料研磨介质2、融物理作用与化学作用于一体，使金刚石微粉处于均匀悬浮状，抛光介质使用更充分，喷涂更均匀3、抛光剂可使研磨、抛光更快速、简便、高效无污染4、减少试样制备工序，缩短抛光时间，减轻试样制备人员的劳动强度5、进口喷头，不容易漏气6、包装瓶安全运输产品规格型号特性粒度容量DPA通过压力喷射，金刚石分布均匀，适用于各种材料0.25um、0.5 um、1 um、1.5 um、 2.5 um、3 um、 3.5 um、 5 um、 6 um、7 um、9 um、10 um、 14 um、15 um、20 um、28 um、 40 um420ml/瓶280克注意事项1、保持抛光布表面干净 2、使用前将抛光织物用清水湿透，避免摩擦发热3、碰头安装好后（或带尖嘴壶），旋紧后，方可喷出使用4、使用金刚石喷雾抛光剂时，应以抛光盘中心为圆心沿半径方向喷出，3-5秒即可，新织物喷洒时间相应延长，以使织物有更好的磨抛能力5、抛光过程中不断加入适量的清水或抛光润滑液6、用完及时分类放置，防止交叉污染粒度

金刚石喷雾抛光剂广泛应用于TEM、SEM、光学显微镜及金相等领域的精密研磨、抛光工作。其金刚石喷洒均匀，适合手动与半自动抛光，具有显著的优越性。 可提供不同规格（粒度）的抛光剂，以应用于不同材料。

产品分类：吉致碳化硅研磨抛光半导体晶圆抛光产品名称：碳化硅研磨液/碳化硅抛光液/碳化硅sic研磨垫/sic精抛垫产品特点：吉致针对碳化硅sic抛光的4道工艺制程搭配不同型号研磨液、抛光液和抛光垫（粗磨垫/精磨垫/粗抛垫/精抛垫）。在研磨和抛光应用中提高碳化硅衬底表面质量，同时大大提高材料去除率。产品工艺及用途：适用于sic碳化硅衬底DMP和CMP工艺制程，有效提升效率以及良率，碳化硅抛光液/抛光垫实现国产化替代。吉致sic碳化硅抛光液储存方法：通风，阴凉，干燥的库房，本品需在5-35℃储存，防止阳光直射，零度以下因产生不可再分散结块而失效。吉致cmp抛光液/slurry抛光液价格：吉致的cmp金属抛光液生产技术是引进国外生产技术和设备，特殊化学配方制备而成。吉致抛光液品质可以替代进口同类产品。本土化生产的优势使吉致cmp抛光液产品交货周期快，抛光液价格实惠亲民。吉致cmp抛光耗材适用范围吉致拥有成熟的加工工艺和生产设备，为不锈钢、铜、铝、陶瓷、导光板、五金产品、蓝宝石、光学玻璃等各类抛光加工服务。为您提供可靠有效的抛光解决方案！

带背胶尼龙抛光织物。配合金刚石和氧化铝抛光剂使用。