化硅气定仪

一氧化硅（SiO）支持膜一种是载网上附纯一氧化硅膜， 膜厚约15-30nm。销售信息：货号产品名称规格SF200-Cu200 mesh50/boxSF300-Cu300 mesh50/boxSF400-Cu400 mesh50/boxSF200-Ni200 mesh50/boxSF300-Ni300 mesh50/boxSF400-Ni400 mesh50/box另一种是载网上先镀上方华膜，方华膜上再稳定一层极薄的一氧化硅膜，一氧化硅膜较碳膜具有更高的亲水性。FSF200-Cu200 mesh50/boxFSF300-Cu300 mesh50/boxFSF400-Cu400 mesh50/boxFSF200-Ni200 mesh50/boxFSF300-Ni300 mesh50/boxFSF400-Ni400 mesh50/box

二氧化硅测定仪/便携二氧化硅测定仪/二氧化硅检测仪型号：仪器特点：1、检测速度5-10分钟2、一次性专用试剂盒3、直接显示样品检测结果4、可现场定量检测出水质中二氧化硅的含量技术指标：测定下限：0.5mg/L测定范围：0.0——20mg/L测量精度：5%

网另一面含可去除的方华膜衬底。用溶液溶去方华膜时，保留下来的为纯一氧化硅膜。这些膜在方华膜无法承受的电镜操作条件下依然稳定。纯一氧化硅膜较含方华膜衬底的支持膜更为精细，制样时须更细心

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产品名称： 氮化硅薄膜窗格氮化硅支持膜主要用于纳米技术以及分子生物学的研究。氮化硅支持膜极其稳定可抵抗温度变化上升至1000摄氏度，纳米粒子和细胞样品可直接在支持膜上进行操作。窗格厚度： 200μm 支持膜厚度：15nm：产品编号产品名称窗格规格包装（枚/盒）BP21560-10氮化硅薄膜窗格0.25×0.25mm10枚/盒BP21568-10氮化硅薄膜窗格0.1×1.5mm×2窗格10枚/盒BP21569-10氮化硅薄膜窗格0.1×0.1mm×9窗格10枚/盒支持膜厚：50nm：产品编号产品名称窗格规格包装（枚/盒）BP21505-10氮化硅薄膜窗格0.25×0.25mm10枚/盒BP21500-10氮化硅薄膜窗格0.5×0.5mm10枚/盒BP21501-10氮化硅薄膜窗格0.75×0.75mm10枚/盒BP21502-10氮化硅薄膜窗格1.0×1.0mm10枚/盒BP21504-10氮化硅薄膜窗格0.5×1.5mm10枚/盒BP21508-10氮化硅薄膜窗格0.1×1.5mm×2窗格10枚/盒BP21509-10氮化硅薄膜窗格0.1×0.1mm×9窗格10枚/盒支持膜厚：200nm：产品编号产品名称窗格规格包装（枚/盒）BP21525-10氮化硅薄膜窗格0.25×0.25mm10枚/盒BP21520-10氮化硅薄膜窗格0.5×0.5mm10枚/盒BP21521-10氮化硅薄膜窗格0.75×0.75mm10枚/盒BP21522-10氮化硅薄膜窗格1.0×1.0mm10枚/盒BP21524-10氮化硅薄膜窗格0.5×1.5mm10枚/盒

一氧化硅膜层回弹力较好，可以支持各种样品制备时的操作。具有较低的衬底，在电子束照射下很稳定，较碳膜疏水性差。 载网目数 产品编号 产品名称 规格 200目 BP01830 镀一氧化硅方华膜 25个/盒 300目 BP01829 纯一氧化硅膜 25个/盒

有需求请联系上海昭沅仪器设备有限公司！ 021-35359028/29 氧化硅薄膜窗氧化硅薄膜窗RISUN推出新型二氧化硅薄膜窗系列产品。与氮化硅相比，氧化硅更易遭受化学侵蚀，且坚固性更差。但在X-射线显微镜中，由于没有N原子存在而倍受青睐。氧化硅与氮化硅薄膜窗比较：相比氮化硅薄膜，氧化硅薄膜更适合用于含氮样本。在EDS研究中，如基片薄膜含氮，则会与样本造成混淆。RISUN氧化硅薄膜窗特点许多研究纳米微粒，特别是含氮纳米微粒的人员发现此种薄膜窗格在他们实验中不可缺少。气凝胶和干凝胶的基本组成微粒尺寸极小，此项研究人员也同样会发现SPI氧化硅薄膜窗格的价值。 SEM应用中，薄膜背景不呈现任何结构和特点。 X射线显微镜中，装载多个分析样的唯一方法。 无氮RISUN氧化硅薄膜窗规格薄膜厚度窗口尺寸框架尺寸型号50nm1.5X1.5mm5.0X5.0mmRISUN100nm1.5X1.5mm5.0X5.0mm200nm1.5X1.5mm5.0X5.0mm硅片厚度：200um、381um、525um；定制系列RISUN也可以根据用户需求定制不同膜厚的氧化硅窗口。本产品为一次性产品，不建议用户重复使用；本产品不能进行超声清洗，适合化学清洗、辉光放电和等离子体清洗。应用简介实际上，RISUN氧化硅薄膜应用范围非常广，但所有应用都有无氮要求（因样本中有氮存在）：1. 惰性基片可用于高温环境下，通过TEM、SEM或AFM（某些情况下）对反应进行动态观察。2. 作为耐用（如“强力”）基片，首先在TEM下，然后在SEM下对同一区域进行“匹配”。3. 作为耐用匹配基片，对AFM和TEM图像进行比较。4. 聚焦离子束（FIB）样本的装载。5．用作Ti、V、Mo等滤光器基质；用于X-射线光学设备中，如分光器定制服务：本公司接受特殊规格的产品预订，价格从优。详情请咨询：admin@instsun.com

X射线透射显微成像/能谱（同步辐射）用氮化硅薄膜窗口 产品概述： X-射线薄膜窗能够实现软X-射线(如真空紫外线)的最大透射率。主要用于同步辐射X射线透射显微成像时承载样品。 X-射线越软(能量越低)，穿透能力越差，所需氮化硅薄膜窗越薄。特别在&ldquo 离轴&rdquo 状态工作（即薄膜与光束成一定角度）时，也需要较薄的薄膜窗口，便于X射线更好地穿透。 氮化硅薄膜窗口是利用现代MEMS技术制备而成，由于此种氮化硅窗口选用低应力氮化硅（0-250MP）薄膜，因此比计量式和ST氮化硅薄膜更坚固耐用。提供的氮化硅薄膜窗口非常适合应用于透射成像和透射能谱等广泛的科学研究领域，例如，X-射线（上海光源透射成像/能谱线站）、TEM、SEM、IR、UV等。 现在提供X-射线显微成像/能谱（同步辐射）用氮化硅薄膜窗系列产品，规格如下： 外框尺寸 (4种标准规格): &bull 5 mm x 5 mm (窗口尺寸：1.0 mm 或和 1.5 mm 方形) &bull 7.5 mm x 7.5 mm (窗口尺寸：2.0 mm 或 2.5 mm) &bull 10 mm x 10 mm (窗口尺寸：3.0 mm 或 5 mm 方形) 边框厚度： 200µ m、381µ m、525µ m。 Si3N4薄膜厚度：50、100、150和200nm 我们也可以为用户定制产品（30-500nm），但要100片起订。 本产品为一次性产品，不建议用户重复使用，本产品不能进行超声清洗，适合化学清洗、辉光放电和等离子体清洗。 技术指标： 透光度： 对于X射线用窗口，500nm厚的氮化硅薄膜有很好的X光穿透效果，对于软X射线（例如碳边吸收谱），100-200nm厚的氮化硅薄膜窗口是用户首选。 真空适用性： 真空适用性数据如下： 　 薄膜厚度 窗口面积 压力差 &ge 50 nm &le 1.0 x 1.0 mm 1 atm &ge 100 nm &le 1.5 x 1.5 mm 1 atm &ge 200 nm &le 2.5 x 2.5 mm 1 atm 表面平整度： 氮化硅薄膜窗口产品的表面平整性很稳定（粗糙度小于1nm），对于X射线应用没有任何影响。 温度特性： 氮化硅薄膜窗口产品是耐高温产品，能够承受1000度高温，非常适合在其表面利用CVD方法生长各种纳米材料。 化学特性： 氮化硅薄膜窗口是惰性衬底。 应用简介和优点： 1、 同步辐射X射线（紫外或极紫外）透射成像或透射能谱应用中是不可或缺的样品承载体。 2、 耐高温、惰性衬底，适应各种聚合物、纳米材料、半导体材料、光学晶体材料和功能薄膜材料的制备环境，利于制备理想的用于X射线表征用的自组装单层薄膜或薄膜（薄膜直接沉积在窗口上）。 3、 生物和湿细胞样本的理想承载体。特别是在等离子体处理后，窗口具有很好的亲水性。 4、 耐高温、惰性衬底，也可以用于化学反应和退火效应的原位表征。 5、 适合做为胶体、气凝胶、有机材料和纳米颗粒等的表征实验承载体。 同步辐射X射线应用参考文献：PRL

氮化硅膜主要用于纳米技术研究；支撑强度高，TEM与原子力电镜都可以使用。氮化硅膜极其稳定可以抵抗温度变化上升至1000摄氏度；但是，疏水性，如果需要亲水，建议用刻蚀法：等离子刻蚀，增加电荷。膜厚：100nm、50nm、30nm；孔：1mm×mm 膜粗糙度2nm。型号名称硅框架厚度（μm）窗口尺寸（mm）膜厚（nm）孔厚包装/个产地21505-10氮化硅膜2000.25 x 0.25mm50110美国21500-10氮化硅膜2000.5 x 0.550110美国21502-10氮化硅膜2001.0 x 1.0mm50110美国21525-10氮化硅膜2000.25 x 0.25mm200110美国21522-10氮化硅膜2001.0 x 1.0mm200110美国21524-10氮化硅膜2000.1 x 1.5200210美国21528-10氮化硅膜2000.1 x 1.5200210美国4112SN-BA氮化硅膜2001.0 x 1.0200110SPI4120SN-BA氮化硅膜2000.5 x 0.5200110SPI

微栅支持膜，在方华膜上镀有一氧化硅

微栅支持膜，在方华膜上镀有一氧化硅

美国QMAXIS碳化硅金相砂纸美国QMAXIS碳化硅金相砂纸——CarbiPaper，规格齐全， 可满足金相制样的各种研磨要求。研磨介质颗粒分布均匀致密，纸基韧性强，耐水性好。特殊的植砂工艺，确保砂纸表面磨粒锋利，去除率高，减少后续的处理量，缩短试样制备时间。混合磨料涂覆工艺，则大幅度提升了砂纸表面的精细度，使试样表面的划痕和损伤更小，较快地进入抛光阶段。订货信息如下：带背胶/不带背胶碳化硅金相砂纸 包装规格：100片/包

唐海红 13120400643ET147350 CHECKIT 目视二氧化硅测定仪Lovibond的CHECKIT系列目视离子浓度测定仪使用简捷，小巧轻便。特制比色盘可以补偿不同的光线对测量的影响；适用于野外各类环境下快速测量，也可在实验室中进行快速分析。 &bull 设计轻巧，操作简单，直观便捷，使用成本低 &bull 多样选购组合配置，特制比色盘，快速测量 &bull 优良多用途应用性，同时适用于实验室和现场使用 &bull 采用预制试剂，大大节约您的时间，测量快速准确 &bull 试剂的精确剂量保证了良好的重现性ET147350 通用型比色器，ET517671试剂，ET146350比色盘，ET145501 比色皿x2个，中英文手册，携带箱' ET147351 通用型比色器，ET535700试剂，ET146351比色盘，ET145501 比色皿x2个，中英文手册，携带箱 ' Lovibond的CHECKIT系列目视离子浓度测定仪使用简捷，小巧轻便。特制比色盘可以补偿不同的光线对测量的影响；适用于野外各类环境下快速测量，也可在实验室中进行快速分析。 &bull 设计轻巧，操作简单，直观便捷，使用成本低 &bull 多样选购组合配置，特制比色盘，快速测量 &bull 优良多用途应用性，同时适用于实验室和现场使用 &bull 采用预制试剂，大大节约您的时间，测量快速准确 &bull 试剂的精确剂量保证了良好的重现性 型号 ET147350 量程 0.25 to 4.0 mg/L SiO2 色盘标值 0.25，0.5，0.75，1.0，1.25，1.5，1.75，2.0，2.5，3.0，3.5，4 精度 ± 5% F.S. 型号 ET147351 量程 0. to 100 mg/L SiO2 色盘标值 0，10，20，30，40，50，60，70，80，90，100 精度 ± 5% F.S.

透射电镜（TEM）用氮化硅薄膜窗口产品概述： 与X射线用氮化硅窗口类似，透射电镜（TEM）用氮化硅薄膜窗口也使用低应力氮化硅薄膜基底。但整体尺度更小，适合TEM装样的要求。窗口有单窗口和多窗口阵列等不同规格。同时NTI也定制多孔氮化硅薄膜窗口。 现在可以提供透射电镜（TEM）用氮化硅薄膜窗系列产品，规格如下： 外框尺寸: &bull 3 mm x 3 mm (窗口尺寸：0.5 mm，薄膜厚度：30 nm) &bull 3 mm x 3 mm (窗口尺寸：1.0 mm，薄膜厚度：50 nm) 边框厚度： 200µ m、381µ m。 Si3N4薄膜厚度： 50nm、100nm 可以为用户定制产品(30-200nm)，但要100片起订。 本产品为一次性产品，不建议用户重复使用，本产品不能进行超声清洗，适合化学清洗、辉光放电和等离子体清洗。技术指标：表面平整度： 我们认为薄膜与其下的硅片同样平整， TEM用氮化硅薄膜窗口的表面粗糙度为：0.6-2nm。完全适用于TEM表征。 亲水性：该窗格呈疏水性，如果样品取自水悬浮液，悬浮微粒则不能均匀地分布在薄膜上。用等离子蚀刻机对薄膜进行亲水处理，可暂时获得亲水效果。虽然没有对其使用寿命进行过测试，但预期可以获得与同样处理的镀碳TEM网格相当的寿命。我们可以生产此种蚀刻窗格，但无法保证其使用寿命。如果实验室有蚀刻工具也可对其进行相应的处理提高其亲水性能。 温度特性： 氮化硅薄膜窗口产品是耐高温产品，能够承受1000度高温，非常适合在其表面利用CVD方法生长各种纳米材料。 化学特性： 氮化硅薄膜窗口是惰性衬底。 应用简介和优点： 1、 适合TEM、SEM、AFM、XPS、EDX等的对同一区域的交叉配对表征。 2、 大窗口尺寸，适合TEM大角度转动观察。 3、 无碳、无杂质的清洁TEM观测平台。 4、 背景氮化硅无定形、无特征。 5、 耐高温、惰性衬底，适应各种聚合物、纳米材料、半导体材料、光学晶体材料和功能薄膜材料的制备环境，（薄膜直接沉积在窗口上）。 6、 生物和湿细胞样本的理想承载体。特别是在等离子体处理后，窗口具有很好的亲水性。。 7、 耐高温、惰性衬底，也可以用于化学反应和退火效应的原位表征。 8、 适合做为胶体、气凝胶、有机材料和纳米颗粒等的表征实验承载体。 详细请咨询：021-35359028/admin@instsun.com

有机杂化硅胶基质色谱柱特点：有机杂化硅胶基质色谱柱是“重视使用简便性”的有机杂化硅胶柱/填料产品，具有卓越的耐久性、良好的峰形和稳定的再现性等特点。由于不同的颗粒径间具有良好的分离再现性，因此可以实现HPLC与UHPLC相互间的流畅互换。除C18外，还推出了与C18具有不同选择性的C8柱、苯基柱、五氟苯基柱和HILIC色谱柱产品系列，使对不适用于C18分离的化合物等增加了选择范围。另外，制备用填料YMC-Triart Prep也同时问世，因其具有高耐久性并可进行碱洗的优点，因此通过其长寿命提高了产品的性价比。杂化颗粒分析色谱柱类型：USPclassNo.颗粒径(μm)含碳率(%)使用pH范围特点Triart C18L11.9, 3, 5201～12最适合作为首选柱Triart C8L717最适合低极性化合物的短时间分析和异构体的分离Triart PhenylL11171～10最适合芳香族化合物和共轭系长化合物的分离Triart PFPL43151～8最适合卤化物和结构异构体等的分离Triart Diol-HILICL20122～10最适合高极性化合物的保持、分离＊Triart系列1.9μm的详细资料＊高耐久性半制备用色谱柱YMC-Actus系列的详细资料＊制备用填料Triart-Prep的详细资料更多YMC正相或反相色谱柱，请单独致电获取更多帮助信息YMC Triart上海汉尧仪器设备有限公司独家授权代理固定电话：021－54807301-813(五四八零柒三零一)手机号码：15221013951(一五二二一零一三九五一)公司网址：shhanking.com颗粒径（μm）微孔径（nm）色谱柱尺寸内径×长度（mm）产品型号3122.0 X 20TA12S03-0202WT2.0 X 30TA12S03-0302WT2.0 X 50TA12S03-0502WT2.0 X 75TA12S03-L502WT2.0 X 100TA12S03-1002WT2.0 X 150TA12S03-1502WT3.0 X 50TA12S03-0503WT3.0 X 75TA12S03-L503WT3.0 X 100TA12S03-1003WT3.0 X 150TA12S03-1503WT4.6 X 35TA12S03-H546WT4.6 X 50TA12S03-0546WT4.6 X 75TA12S03-L546WT4.6 X 100TA12S03-1046WT4.6 X 150TA12S03-1546WT4.6 X 250TA12S03-2546WT5122.0 X 20TA12S05-0202WT2.0 X 30TA12S05-0302WT2.0 X 50TA12S05-0502WT2.0 X 75TA12S05-L502WT2.0 X 100TA12S05-1002WT2.0 X 150TA12S05-1502WT3.0 X 50TA12S05-0503WT3.0 X 75TA12S05-L503WT3.0 X 100TA12S05-1003WT3.0 X 125TA12S05-R503WT3.0 X 150TA12S05-1503WT4.0 X 125TA12S05-R504WT4.0 X 150TA12S05-1504WT4.0 X 250TA12S05-2504WT4.6 X 35TA12S05-H546WT4.6 X 50TA12S05-0546WT4.6 X 75TA12S05-L546WT4.6 X 100TA12S05-1046WT4.6 X 150TA12S05-1546WT4.6 X 250TA12S05-2546WT6.0 X 150TA12S05-1506WT6.0 X 250TA12S05-2506WT

氮化硅膜主要用于纳米技术以及分子生物学的研究。该支持膜具有良好的平整度和疏水性。氮化硅为无定形态，无碳，无杂质；其良好的化学稳定性使图像分辨率和机械强度达到理想的平衡；良好的机械稳定性使同一种薄膜可应用于TEM、SEM、EDX、XPS、AFM等对同一区域的交叉对表征；薄膜和基底耐酸，可满足酸性条件下制备、研究样品；薄膜很容易采用辉光放电或等离子清洗；可应用于1000摄氏度高温环境。产品编号支持膜厚度窗格规格包装（枚/盒）YL-6055200nm0.5×0.5mm10枚/盒150nm0.5×0.5mm10枚/盒100nm0.5×0.5mm10枚/盒200nm0.25×0.25mm10枚/盒150nm0.25×0.25mm10枚/盒100nm0.25×0.25mm10枚/盒150nm0.1×0.1mm10枚/盒100nm0.1×0.1mm10枚/盒200nm0.1×0.1mm10枚/盒

产品特点：二氧化硅漫射滤光片 备件110674800密封在三角荧光池中的浓玫瑰精B 溶液6610021700订购信息：标准品和参比材料说明部件号密封充满水的荧光池用于拉曼水荧光带的信噪比测量6610021800 二氧化硅漫射滤光片，备件1106748001.5 Abs中密度衰减器，备件110677500PMMA 中的罗丹明 B6610021900PMMA 中的铕6610022200密封在三角荧光池中的罗丹明 B 溶液三角荧光池中的饱和玫瑰精 B 溶液用于收集激发校正因子6610021700 密封在石英荧光池中的 4% 高氯酸钬的高氯酸溶液密封荧光池用于在发射单色仪上精确测量波长。要求使用池支架，部件号110678600。包括可追溯的证书和性能证书6610022100 高氯酸钬荧光池支架特殊池支架用于在标准池支架前方安装一个比色池。这个附件用于安装高氯酸钬荧光池支架以获得准确的波长测试，这允许将漫射滤光片安装在标准池支架且高氯酸池定位在这个池支架上，从而可使用高氯酸钬溶液测试 Cary Eclipse 的精确波长110678600 荧光样品，PMMA 中含有六种烃类化合物其中四种在 300-700 纳米波长范围内有宽荧光带，另两种有窄发射荧光带，用于波长校正和带通检测；包括 Anthracence/Napthalene，Ovalene，p-三联苯，四苯基丁二烯，化合物 610 和 PMMA 中的Rhodamine B6610010300 荧光演示工具包包括 PMMA 中的铕，PMMA 中的卵苯，一个密封充水的荧光池和一个 10 x 10 毫米的荧光池9910101900

氧化铝和碳化硅研磨/抛光垫由微米极，高强度聚酯为微米极均匀分散的碳化硅或氧化铝颗粒提供统一的基底，可重复使用，主要应用于金属，塑料，金相学，薄膜，软盘，光线连接器的研磨抛光，尺寸：8英寸包装：25张/包

氧化硅薄膜窗方便您在要求无氮的环境下使用，这些独特的氧化硅(SiO2) 薄膜由最新工艺制成，氧化层厚度为50nm。 规格：10个/盒

TEM用亲水性/疏水性氮化硅窗口 有需求请联系上海昭沅仪器设备有限公司！ 021-35359028/29技术参数：亲水性: 低应力氮化硅薄膜上镀有5nm厚度的亲水涂层疏水性: 低应力氮化硅薄膜上镀有5nm厚度的疏水涂层表面能：表面表面能 (mJ/m2)标准偏差氮化硅薄膜46.14.3亲水涂层76.12.2疏水图层24.64.4表面粗糙度：表面表面粗糙度 (nm)标准偏差氮化硅薄膜Rq=0.65Ra=0.450.060.02亲水涂层Rq=0.57Ra=0.400.040.03疏水涂层Rq=0.66Ra=0.400.030.05Rq=表面粗糙度 Ra=平均粗糙度氮化硅薄膜窗规格窗口类型薄膜厚度窗口尺寸框架尺寸框架厚度50nm单窗口，500x500μmΦ3mm200μm200 nm单窗口，500x500μmΦ3mm200μm15 nm3x3，9窗口，窗口100x100μmΦ3mm200μm详细资料请咨询：021-35359028/admin@instsun.com

产品分类：吉致碳化硅研磨抛光半导体晶圆抛光产品名称：碳化硅研磨液/碳化硅抛光液/碳化硅sic研磨垫/sic精抛垫产品特点：吉致针对碳化硅sic抛光的4道工艺制程搭配不同型号研磨液、抛光液和抛光垫（粗磨垫/精磨垫/粗抛垫/精抛垫）。在研磨和抛光应用中提高碳化硅衬底表面质量，同时大大提高材料去除率。产品工艺及用途：适用于sic碳化硅衬底DMP和CMP工艺制程，有效提升效率以及良率，碳化硅抛光液/抛光垫实现国产化替代。吉致sic碳化硅抛光液储存方法：通风，阴凉，干燥的库房，本品需在5-35℃储存，防止阳光直射，零度以下因产生不可再分散结块而失效。吉致cmp抛光液/slurry抛光液价格：吉致的cmp金属抛光液生产技术是引进国外生产技术和设备，特殊化学配方制备而成。吉致抛光液品质可以替代进口同类产品。本土化生产的优势使吉致cmp抛光液产品交货周期快，抛光液价格实惠亲民。吉致cmp抛光耗材适用范围吉致拥有成熟的加工工艺和生产设备，为不锈钢、铜、铝、陶瓷、导光板、五金产品、蓝宝石、光学玻璃等各类抛光加工服务。为您提供可靠有效的抛光解决方案！

多孔氮化硅薄膜窗口特点 ● 相对大的实验区域；● 增加了薄膜的弹性；● 孔的尺寸适合实验要求；● 薄膜边缘有25μm宽度是无孔的；多孔氮化硅薄膜窗参数：框架大小：Φ3mm； 框架厚度：200μm；薄膜厚度：50/100nm；窗口大小：0.5x0.5mm；孔径：2.5μm；孔间距：4.5μm；孔排列：100x100；详细资料请咨询：上海昭沅仪器设备有限公司 021-35359028/29 admin@instsun.com

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