牛津杯

储存杜瓦型牛津湿式制冷机Optistat 储存杜瓦型主要技术参数： 型号 OptistatDN OptistatDN-V77.2 – 300 K 77.2 – 300 K样品温度范围 7 7 . 2 ? 500 K（配蓝宝 77.2 ? 500 K（配蓝宝 石窗片） 石窗片）温度稳定性 ± 0.1 K ± 0.1 K样品空间 20 毫米直径 20 毫米直径样品架尺寸 19 毫米宽 x 30 毫米长 20 毫米宽 x 50 毫米长样品空间类型 交换气 真空样品更换时间 5 分钟 60 分钟制冷到 77K 时间 20 分钟 20 分钟液氮存储量 1.2L 1.2L在 77K 的保持时间 15 小时 15 小时光学通路 f/1 f/1重量 5 千克 5 千克储存杜瓦型牛津湿式制冷机Optistat典型设置：牛津仪器具有60年的设计制造低温系统的经验，这些低温系统广泛运用于科学研究、高真空、半导体和医学等应用领域。牛津仪器纳米科学部专注于生产制造低温系统，包括稀释制冷机、He-3系统、超导磁体、光谱学低温恒温器以及低温零配件等。先锋科技&北京卓立汉光与牛津仪器此次合作，在多年耕耘的荧光/拉曼等光谱产品基础上引入低温光学恒温器产品，旨在为国内客户提供低温光学测量的系统解决方案，以及更顺畅的服务体验。

牛津仪器的5000系列侧窗X射线管广受欢迎且经久耐用。5000系列的电子枪组件封装在内置铅层的不锈钢外壳中，且法兰规格可选择，目前已广泛应用于工业领域。外壳内填充了牛津仪器专用的冷却油，可以将散热效果尽可能地优化。技术参数：最大阳极电流1.0 mA最大阳极电压50 kV最大功率50 W连续灯丝标称电压2.0V @ 50 kV, 1 mA灯丝最大电流1.7 A稳定性4小时之后0.2%焦点尺寸(标称*)110μm阳极材料W, Mo, Rh(其他材料可选)铍窗厚度125μm(另75μm、250μm可选)重量(约)4磅(1816g)散热方法压缩空气@150 CFM发散角25°

极高性能电化学原子力显微镜（EC-AFM）实时研究电化学反应—Cypher ES原子力显微镜如今支持电化学功能 牛津仪器Asylum Research Cypher ES电化学单元是用原子力显微镜原位研究电化学过程的优质解决方案。受益于简单的模块化设计，它具有强大的多功能性，能够兼容广泛的材料类别。尤为突出的是，它基于一款有着市场上极高分辨率、出众环境控制能力、超高扫描速度、简易操作性的Cypher ES原子力显微镜。 适用于电化学原子力显微镜功能的牛津仪器Asylum Research 电化学单元：牛津仪器Asylum Research全密封电化学单元套件包含独立设计的探针固定器，用于在流体中成像的液体杯，电化学样品固定器和标准电极。适用于任意一款稳压器，稳压器的选择取决于电化学应用适用于大多数常用溶剂，电解质和电极材料易于清洗和组装，即便带着手套操作可选具有局部加热和制冷功能的样品台来观察电化学热力学可选手套箱来实现最严格的环境控制，而又不会降低系统的性能电化学单元的应用电沉积 能量存储 腐蚀表征偏置电压下的储能材料，例如电池极板，薄膜和溶液-电极界面金属的电沉积和溶出腐蚀动力学研究监测附着电极的生物催化剂和微生物随着时间的形貌变化，以及其他生物物理研究纳米粒子的成核以及生长

世界知名科研级相机和光谱仪制造商牛津仪器Andor正式发布了全新超灵敏Zyla 4.2 PLUS 科研级CMOS（sCMOS）相机。这款相机拥有一代QE增强型sCMOS传感器技术与业内优越的帧频性能，99.8%的定量线性和全新特殊应用模式。 该款相机提供宽泛的sCMOS量子效率（QE），QE最高达82%，适用于各种常用的荧光基团，Zyla 4.2 PLUS通过USB3.0连接界面，可在全分辨率下经独特的速度优化在53fps环境下连续采集，比竞争对手的sCMOS相机快77%。新的机载智能进行了重要的线性改进，在整个动态范围内提供精确的定量测量。 该款高分辨率420万兆像素相机提供的QE性能比之前黄金标准的sCMOS传感器更高出10%，结合 1 e-读出噪声和33,000:1动态范围，整合依托于轻便紧凑弱振动设计，适用于科研和OEM。Zyla 4.2 PLUS也包含特殊应用模式，如激光片层扫描显微成像和线扫描共聚焦模式。荧光相关光谱（FCS）模式提供行业前沿的采集速度，在ROI选取2048(h) x 8(v)时，高达26,041 fps，与荧光相关光谱的时序要求完美匹配。 牛津仪器Andor成像产品经理Colin Coates博士评价道：“QE增强型Zyla 4.2 PLUS在我们的sCMOS系列中是一项可喜的进步，这直接得益于微透镜设计改进。辅以超常的USB 3.0帧率，卓越的信噪比可使曝光更短。灵敏度的改善还可减少光毒性和光漂白。虽然sCMOS相机的灵敏度在极弱光应用如单分子生物物理学方面不如高端EMCCD相机，但其主要参数与同价位的隔行式CCD相比，仍然性能卓越，可用于活细胞成像，激光片层扫描显微成像，离子信号，超分辨率显微成像和荧光相关光谱。Zyla 4.2 PLUS是行业技术的一大进步，将获得追求前沿科技sCMOS灵敏度和速度的用户的强烈认同。” 牛津仪器将继续以支持中国科学研究发展为己任，为中国广大科研人员提供高性能、高可靠性的Andor相关设备；同时牛津仪器的服务团队也可以为用户提供系列服务套餐，包括配件和耗材、延保合同、产品培训、服务维修和技术支持。

新产品气体注入系统OmniGIS II，具有一套单端口、气体源注入系统(GIS)。该系统可以允许用户在SEM和FIB里构建纳米结构，以达到以前所未有的精度、速度和可用性。在扫描电镜或聚焦离子束样品室中，气体注入系统(GIS)直接在样品上引入了可控制的流动气体方案。气体与显微镜的电子束或离子束相互作用，可以在材料表面进行刻蚀或沉积。应用范围包括样品制备和纳米焊接，以及采用直写式光刻技术建立纳米结构，从而实现无掩模纳米图案。OmniGIS II，牛津仪器的第二代气体注入系统，具有独特的特性，相比同行业的同类产品，它能使控制水平和准确性达到前所未见的高度。通气口可以自动识别气体源并快速进行气体源更换，同时可以安装三种气体源和另外两种气体。设备采用“流通式”载体的方法能促进高效元素传送并快速处理，并且压力反馈控制会自动调整到大范围真空室压力，以实现高压力下的快速处理或低压力下的高分辨率纳米图案成形。

扫描电容显微镜（SCM）是一种表征材料纳米电学性质的原子力显微镜（AFM）成像技术，它使用微波射频（RF）信号来探测半导体和其它种类样品中的电荷，载流子的位置，掺杂水平和掺杂类型（p型和n型）等。全新快速扫描电容显微镜 SCM可以在牛津仪器的 Asylum Research 的快速扫描 Cypher 和 Jupiter XR AFM 平台上使用。牛津仪器Asylum Research SCM模式的独特之处在于，它不仅可以测量微分电容（dC/dV），还可以测量分辨率低至1aF的电容，而且是可以直接测量电容。与传统的SCM相比，它具有更高的分辨率和更快的扫描速度。更高的灵敏度允许探测金属和绝缘体，以及传统半导体器件以外的非线性材料——包括那些不形成自然氧化物层的材料。图1 静态随机存储 （SRAM） 样品。所有通道同时获得了29μm扫描区域：a：形貌；b：dC/dV振幅（与掺杂浓度成反比）；c：dC/dV相位（蓝色表示p型掺杂，红色表示n型掺杂）；d：电容（与掺杂浓度有线性关系）；电容，而不仅仅是dC/dV传统的SCM模式只能提供微分电容（dC/dV）数据，这大大限制了用户从测量数据中得出的结论。牛津仪器Asylum Research全新设计的SCM模式具有独特的能力，可以提供dC/dV和电容数据，因此可以获得更完整的材料表征。电容通道对掺杂水平提供线性响应，并检测电容的变化，分辨率可达1 aF。全新的SCM模式是一个强大的工具，可以用于材料的纳米电子特性描述。更快的成像牛津仪器Asylum Research全新的高带宽SCM电路允许以高达26 Hz的扫描频率采集高质量的dC/dV和电容数据。传统的SCM模式的带宽要低得多，并且在扫描速率为1 Hz时数据质量明显退化。全新的SCM模式在高达26Hz的扫描频率下几乎没有信息丢失。这种更快的成像改进了用户体验并大大提高了工作效率。不同扫描速度比较的SRAM样品。微分电容（dC/dV）振幅图像给出了相同的5μm区域内扫描率从1 Hz到26 Hz的结果。以最快的速度数据质量几乎保持不变，但是图像只需要1秒就可以获得，而传统的SCM需要5-10分钟。图2 微分电容（dC/dV）振幅图像更高的分辨率牛津仪器Asylum Research全新设计的SCM模式显示出更高的灵敏度，因此可以获得更高的分辨率的图像。以前被认为使用SCM模式由于信号弱难以图像的样品，现在可以常规地获得图像。右侧图中，采用全新的SCM模式对单壁碳纳米管（CNT）进行成像，横向分辨率约为25 nm。图3 绝缘基板上碳纳米管的电容数据与3D形貌叠加图样品是绝缘基板上的碳纳米管。电容数据叠加在3D形貌图上。图像范围2 μm。样品由Harvard Center for Nanoscale Systems的 B.Wilson和J.Tresback提供。二维材料研究SCM在表征二维材料独特物理和电子特性有着广泛的应用前景。右边的图像是沉积在硅上的CulnS，电容信号与剥离材料厚度的具有很高的相关性，因此利用SCM模式分辨二维材料层厚度具有良好的潜力。图4 CulnS沉积在硅上的电容数据和3D形貌叠加图样品CulnS沉积在硅上，电容数据叠加在在3D形貌图上，扫描范围20μm，样品由Northwestern的University M. Cheng和V. Dravid教授提供。电池材料研究能量存储是SCM可以提供重要信息的另一个研究领域。右图中给出了一个电池的测试电极，在电容通道中可以观察到明显的对比。单个晶粒和晶界处的电容信号的变化为了解电子传导提供了依据。这些数据可以与导电AFM和电学应变显微镜相关联，以进一步了解结构和功能特性。图5 测试电池的电极，扫描范围30μm。a：形貌图；b：电容图；技术指标

Pulsar台式高分辨NMR谱仪是Oxford【牛津仪器】最新研发的高分辨永磁体NMR谱仪，采用特殊结构永磁体作为磁体，共振频率为60MHz【磁场强度为1.4T】，有如下优点： 1. 运行费用：永久磁体，不需液氮和液氦，也不需要压缩空气，运行费用低；2. 分辨率：仪器自身带20组匀场线圈，分辨率能达到超导磁体200MHz的仪器的水平，分辨率0.5Hz【0.0083ppm】；3. 5mm样品管，采用氘代试剂作为溶剂，作为超导NMR谱仪的补充；4. 灵敏度：1%乙基苯，单次扫描，2.6ppm处的信噪比为100:1；5. 仪器操作简单、维护方便，仅需通电即可。 应用范围： 1. 高等学校、研究所有机合成、聚合物的合成，产物的表征；2. 大学本科生论文、硕士研究生论文，合成产物的表征；3. 药物合成、药物中间体的表征；4. 可以作为高场超导NMR谱仪的补充，采用与高场NMR谱仪一样的5mm样品管以及氘代试剂；5. 工业领域石化、石油QA/QC。 相关应用

产品详情牛津Oxford开放式样品载入ALD设备OpAL 紧凑型开放式样品载入原子层沉积（ALD）系统OpAL提供了专业的热ALD设备，可以简单明了的升级使用等离子体，使得在同一紧凑设备中集成了等离子体和热ALD。 开放式样品载入热ALD，集成等离子体技术 现场升级到可使用等离子体 从小晶片到200mm大晶片适用于学术、产业、研发的热和/或等离子体化学产品，可用于：氧化物： HfO2, Al2O3, TiO2, SiO2, ZnO, Ta2O5氮化物：TiN, Si3N4金属： Ru, Pt ALD应用举例： 纳米电子学 高k栅极氧化物 存储电容器绝缘层-铜连线间的高纵横比扩散势垒区 有机发光二极管和聚合物的无针孔钝化层 钝化晶体硅太阳能电池 应用于微流体和MEMS的高保形涂层 纳米孔结构的涂层 生物微机电系统 燃料电池直观性强的的软件提高性能使用与牛津仪器的值得信赖的Plasmalab 产品家族相同的软件平台， OpAL的程序驱动、多用户级别、PC2000TM控制的软件易于操作且可为快速ALD做相应修改。

牛津仪器Andor正式发布了我们全新的增强型iKon-M背照式CCD相机，此产品具有很高的动态范围和低噪音。该相机采用了优化的24μm 512x512像元芯片组，此相机像元具有很高的像素井深容量和光子搜集效率。此超高灵敏度的相机有95%以上的量子效率，3 e-的读出噪声，以及300,000 e-的像素井深。iKon-M的暗电流几乎可以忽略不计，这主要受益于业内前沿的真空制冷技术，可以制冷到-100度，即使在非常弱的信号下仍可进行长时间工作。增强后的相机设计提供多种读出速度，从50kHz到5MHz, 5MHz的读出速度适用于超高帧速或者调焦测试实验。牛津仪器Andor Technology成像产品经理，Colin Coates博士说：“iKon-M是一款有非常高井深容量的相机，同时还具有低噪声，高量子效率，并且每个像元都具有高光子搜集能力，以上性能保证相机具有很高的动态范围。因此，此款相机可以应用在很多实验中，包括：天文，荧光成像，布鲁斯特角显微镜，光子发射显微镜等。”牛津仪器将继续以支持中国科学研究发展为己任，为中国广大科研人员提供高性能、高可靠性的Andor相关设备；同时牛津仪器的服务团队也可以为用户提供系列服务套餐，包括配件和耗材、延保合同、产品培训、服务维修和技术支持。 iKon-M 934Andor’s iKon-M 934 low noise CCD camera series are designed to offer the ultimate in high-sensitivity, low noise performance, ideal for demanding imaging applications. These high resolution 1024 x 1024 CCD cameras boast up to 95% QEmax, high dynamic range, and 13μm pixels.100 °C UltraVac™ TE CoolingUp to 95% QE and extra-low noise floor5 MHz readout for dynamic performanceSensor formats up to 1MegaPixel‘Deep depletion’near-IR version availableDedicated photovoltaic inspection model availableiKon-M 912Andor’s iKon-M 912 cooled back-illuminated CCD camera is designed to offer the ultimate in high dynamic range, low noise performance. The 512 x 512 CCD array with 24 μm pixels has been optimized for extremely high well depth and maximum photon collection per pixel.300,000 e- well depthTE cooling to -100°CQE max 90 °C from back-illuminated sensorUltra low noise readoutMulti-Megahertz pixel readoutUltraVac™

牛津仪器CMI165系列用于测试高/低温的PCB铜箔、蚀刻或整平后的铜厚定量测试、电镀铜后的面铜厚度测量，在PCB钻孔、剪裁、电镀等工序前进行相关铜箔来料检验。 仪器规格：厚度测量范围：化学铜：0.25μm–12.7μm（0.01mils–0.5mils）电镀铜：2.0μm–254μm（0.1mil–10mil）线性铜线宽范围：203μm–7620μm（8mil–300mil）仪器再现性：0.08μm at 20μm（0.003 mils at 0.79 mils）显示单位：mil、μm、oz操作界面：英文、简体中文存 储 量：9690条检测结果（测试日期时间可自行设定）测量模式：固定测量、连续测量、自动测量模式统计分析：数据记录，平均数，标准差，上下限提醒功能 仪器特点：应用先进的微电阻测试技术，符合EN14571测试标准。SRP-T1探头由四支探针组成，AB为正极CD为负极；测量时，电流由正极到负极会有微小的电阻，通过电阻值和厚度值的函数关系准确可靠得出表面铜厚，不受绝缘板层和线路板背面铜层影响耗损的SRP-T1探头可自行更换，为牛津仪器专利产品仪器的照明功能和SRP-T1探头的保护罩方便测量时准确定位仪器具有温度补偿功能，测量结果不受温度影响仪器为工厂预校准测试数据通过USB2.0 实现高速传输，可保存为Excel文件仪器使用普通AA电池供电 准确货期请与客服咨询为准！谢谢！

牛津湿式制冷机Optistat连续流型OptistatCF 连续流型（交换气） 技术参数OptistatCF-V 连续流型（真空） 技术参数类型Pull 模式Push 模式样品温度范围 2 .3 – 500 K4.2 – 500 K温度稳定性± 0.1 K最大样品空间样品架尺寸30 毫米宽 x 58 毫米长20 毫米宽 x 50 毫米长样品空间类型真空样品更换时间60 分钟制冷到 4.2K 时间10 分钟液氦消耗 @4.2K光学通路 0.45 L/ 小时f/0.9重量2 千克典型设置：牛津湿式制冷机Optistat连续流型主要应用：• 紫外可见，近红外光谱• 红外光谱FTIR• 光致发光和电致发光• 荧光光谱• 拉曼光谱• 透射反射吸收光谱主要特点：• 存储杜瓦型、连续流型多种类型可选• 样品在真空中或者交换气体中• 设计美观，小巧紧凑，质量轻，易于集成• 换样快• 稳定性，可靠性高选项升级：• 500K 高温选项• 精确可调高度和角度的样品杆选项• 反射、透射、比色皿多种样品架可选• 各种材料窗片( 石英、无水石英、蓝宝石、CaF、聚乙烯）• 真空泵系统

牛津镀膜机Plasmalab NGP 1000

英国牛津镀膜机PECVD Plasma system 133

科学级相机和光谱仪制造商牛津仪器Andor Technology，正式发布全新iKon-XL大靶面CCD相机，iKon-XL相机采用独特的“ColdSpace”技术可以将背照式16.8M超大靶面，背照式CCD芯片（e2v）制冷到-100℃，无需液氮或者制冷机。iKon-XL可应用于系外行星搜寻，大尺度巡天，测光，天文光谱，空间碎片追踪，是理想的天文观测相机。此外，iKon-XL相机平台具有创新性的宽动态范围技术，采用高达18bit的A/D，在一次读出中即得到最低的读出噪声和最大的满井容量。其标配USB3.0或远距离光纤接口，连接方式灵活。成像信息可以选择通过单通道或者四通道读出，四通道读出的稳定性得益与其特殊的电路设计和均衡的图像象限平衡。此次发布的这台高灵敏度相机平台使用来自e2v的两款芯片：CCD231-84和CCD230-80， 具有高达95%的量子效率，NIR增强的深耗尽芯片，低至2e-的读出噪声，高达350Ke-满井容量。-100℃制冷温度保证了低于黄道光背景的极低暗电流，可以满足对弱信号的长时间曝光拍摄。牛津仪器Andor成像产品经理Colin Coates博士评价道：“iKon-XL是一款性能优越，设计成熟的‘一站式服务’探测器，该款相机很少需要维护，使用寿命很长，将置于全球观察站并通过远程操控使用。即使在严苛的观测环境下，也可以将此产品视作理想的“现成”解决方案。牛津仪器将继续以支持中国科学研究发展为己任，为中国广大科研人员提供高性能、高可靠性的Andor相关设备；同时牛津仪器的服务团队也可以为用户提供系列服务套餐，包括配件和耗材、延保合同、产品培训、服务维修和技术支持。iKon-XL 231Andor’s NEW iKon-XL is a TE-cooled, very large area CCD camera platform, accommodating big field of view sensors that are ideally suited to long exposure astronomy applications. Patent-pending ColdSpace™ technology thermoelectrically cools a back-illuminated 16.8 Megapixel sensor (e2v) down to -100 °C, avoiding the requirement for liquid nitrogen or unreliable cryo coolers. Extended Dynamic Range technology is complemented by up to 18-bit digitization capability.The iKon-XL 231 model uses the e2v CCD231-84 ‘astro’ back-illuminated sensor, combining exceptionally low read noise of 2.1 e- with a very large well depth of 350,000 e- and available with a range of sensor QE coatings, in both standard and deep depletion formats.– 100 °C TE cooled large area sensorsNO liquid nitrogen, NO cryo-coolerExtended Dynamic Range (18-bit)e2v CCD231-84 sensor (deep depletion available)iKon-XL 230Andor’s NEW iKon-XL is a TE-cooled, very large area CCD camera platform, accommodating big field of view sensors that are ideally suited to long exposure astronomy applications. Patent-pending ColdSpace™ technology thermoelectrically cools a back-illuminated 16.8 Megapixel sensor (e2v) down to -100 °C, avoiding the requirement for liquid nitrogen or unreliable cryo coolers. The iKon-XL 230 model uses the e2v CCD230-84 back-illuminated sensor, offering a very large 61.4 x 61.4 mm imaging area from a 4096 x 4096 array format and 15 μm pixel size, ideal for applications such as Astronomy or X-ray/Neutron radiography.– 100 °C TE cooled large area sensorsNO liquid nitrogen, NO cryo-coolerExtended Dynamic Range (18-bit)e2v CCD230-84 sensor

PlasmaProTM NGP80 – 下一代等离子体处理系统为等离子体刻蚀和沉积集合了开放式进样工具。多重处理技术：PlasmaPro NGP80在同一个平台上提供了通用的等离子体刻蚀和沉积技术解决方案，并且带有便利的开放式进样装置。系统集合了微足印（smallfootprint）技术，可方便地进行定位及使用，且不会对工艺质量产生不良影响。该设备是研发或小规模量产的理想工具，可处理从小块样品到直径200mm的晶片。开放式进样设计使晶片可以快速进片及退片，适合研究、原型开发及小量生产。PlasmaPro NGP80的优势：关键组建方便装卸有利于维护兼容Semi S2/S8安全标准新一代的总线控制系统可以极大地提升数据的检索、传送、重复匹配能力新的增强用户界面利用前端软件的错误及工具诊断功能实现快速的错误诊断自动的清洗功能可以清除管道内的有毒物质并对管道进行冲洗，通过前端软件实现安全且完全的自锁清洗控制工艺技术配置选项：PlasmaPro NGP80 RIEPlasmaPro NGP80 PECVDPlasmaPro NGP80 RIE/PE 牛津仪器具有广泛、可用的生长工艺。 有了在生长工艺发展上无比广泛的经验和我们应用工程师的支持， 牛津仪器向世界范围内的生产商和研发者提供生长工艺解决方案的经验为我们提供了世界上最强大的生长工艺库和工艺能力。以下是一些可供选择的关键工艺--请与我们联系，讨论您的需要，我们的专业销售和应用的工作人员将很高兴地帮助您选择合适的生长工艺和工具，以满足您的要求。请点击产品名，查看产品详细信息，谢谢Compound Semiconductors外延生长AlGaN&mdash 外延氮化铝镓外延生长InN&mdash 氮化铟外延材料外延生长InxGa1-xN&mdash 外延氮化铟镓 Nanotubes生长碳纳米管Nanowires生长Si纳米线&mdash 生长硅纳米线生长ZnO纳米线&mdash 生长氧化锌纳米线

OpAL系统是一种带有等离子体选项的直开式热原子层沉积（ALD）设备。 它可通过清晰而易行的途径升级为等离子体 ALD，这样便可在一个结构紧凑的设备上实现等离子体和热ALD。紧凑型直开式热原子层沉积（ALD）设备，带有等离子选项适用于小尺寸至200mm的晶圆片蒸汽吸取或鼓泡四种液体或固体前驱体实时检测选项，包括与ALD控制软件相联的光谱椭偏仪ALD产品家族涵盖的系列设备可以满足学术界、企业研发和小规模生产的多种需求实时监测选项，包括与ALD控制软件相联的光谱椭偏仪OpAL系统可通过清晰而易行的途径升级为等离子体，这样便可在一个结构紧凑的设备上实现等离子体和热ALD牛津仪器有大量的工艺储备，并且还在不断开发新的工艺。我们为所有的ALD设备提供终身免费的、延续不断的工艺支持，我们还将为您提供关于开发新材料的建议，同时继续与您共享包括新工艺配方在内的新的ALD工艺进展。特征可配备带有样品传送入口的氮气吹扫手套箱 - 适用于干燥环境易于拆卸的内腔室 - 减少腔室清洗时间机柜可安装在抽气管路上并附带氮气吹扫 - 以确保健康和安全的承诺气动起重装置 - 用于安全打开腔室可配备抽气罩或氮气吹扫手套箱 - 以确保健康和安全的承诺应用纳米电子高K栅氧化物存储电容电介质用于Cu互连的高深宽比扩散隔层用于OLED和聚合物的无针孔钝化层用于晶体硅太阳能电池的钝化用于微流体和MEM的高保形涂层纳米多孔结构的涂层生物MEMS燃料电池

Proteox 稀释制冷机关键特征：多用户多实验集成一体直流引线、高频同轴线、低温电子器件和样品都可完全集成到多个二级插件上，方便根据不同的使用需求装卸、修改和替换。 高通量接口通过丰富的直通通道接入实现了高输入/输出接口的能力。二级插件最多同时支持2个ISO100的通道，另外主体还支持最多2个KF40和2个KF25端口。 宽阔的实验空间直径达360毫米大尺寸混合室冷盘，结合垂直空间的增加，提供了一个更大的实验空间。冷盘间热导率可控牛津仪器专利设计的气隙热开关系统可主动控制各冷盘间的热导率。 可靠性和便利性全新的气体处理系统通过自动旁路系统提供更可靠和更长的维护周期。 磁体选件稀释制冷机和超导磁体均由牛津仪器设计、制造和服务支持。统一的软件控制和数据记录，为用户提供完全集成的系统。 可集成快速换样牛津仪器专利设计底部快速传样装置可直接安装在二级插件上，从而实现快速换样与超导磁体的耦合。 简洁、强大的软件基于网络的跨平台控制软件，可用于直观简单的系统控制和强大的系统日志可视化。

产品详情牛津Oxford离子束刻蚀机Ionfab 300 IBE 离子束刻蚀的灵活性、均匀性俱佳且应用范围广。我们的设备具有灵活的硬件选项，包括直开式、单衬底传送模式和盒式对盒式模式。系统配置与实际应用紧密协调，以确保获得速率更快且重复性更好的工艺结果。。多模式功能。能够与其它等离子体刻蚀和沉积设备相集成。单晶圆传送模式或集群式晶圆操作。双束流配置。更低的表面薄膜粗糙度。更佳的批次均匀性和工艺重复性。准确终点监测 —— SIMS，发射光 产品特点: 质量薄膜高 ——超低污染 产量高，紧凑的系统体积设计 ——运行成本低 已获得专利的高速衬底架（高达1000RPM）设计，并配备了白光光学监视器（WLOM）——更为准确的实时光学薄膜控制 配置灵活 ——适于先进的研究应用 灵活的晶圆操作方式 —— 直开式、单晶圆传送模式或者带机械手臂的盒对盒模式 应用: 磁阻式随机存取存储器（MRAM） 介电薄膜 III-V族光电子材料刻蚀 自旋电子学 金属电极和轨道 超导体 激光端面镀膜 高反射（HR）膜 防反射（AR）膜 环形激光陀螺反射镜 X射线光学系统 红外（IR）传感器 II-VI族材料 通信滤波器

Microstat系列低温恒温器旨在满足最苛刻的显微镜应用需求。 优异的光学和电气接入，宽泛温度范围，紧凑的设计和专业的低温性能与多种匹配，以确保低温恒温器完全符合您的实验要求。Microstat系列提供不同的制冷技术，以满足不同的实验需求。 Microstat型号的选择取决于实验所需温度和制冷技术，请参见下表。 如果我们的标准范围不满足您的要求，牛津仪器还可以为您提供定制解决方案。microstats可以安装多达2个窗口（取决于型号），以适应从紫外线到远红外线的波长。

牛津仪器的5000系列侧窗X射线管广受欢迎且经久耐用。5000系列的电子枪组件封装在内置铅层的不锈钢外壳中，且法兰规格可选择，目前已广泛应用于工业领域。外壳内填充了牛津仪器专用的冷却油，可以将散热效果尽可能地优化。技术参数：最大阳极电流1.0 mA最大阳极电压50 kV最大功率50 W连续灯丝标称电压2.0V @ 50 kV, 1 mA灯丝最大电流1.7 A稳定性4小时之后0.2%焦点尺寸(标称*)110μm阳极材料W, Mo, Rh(其他材料可选)铍窗厚度125μm(另75μm、250μm可选)重量(约)4磅(1816g)散热方法压缩空气@150 CFM发散角25°

产品详情牛津Oxford深硅刻蚀机PlasmaPro 100 Estrelas PlasmaPro 100 Estrelas 平台旨在提供深硅蚀刻（DSiE）领域的全方位的灵活性以满足微电子机械系统（MEMS）、 先进封装以及纳米技术市场的各种工艺要求。考虑到研究和生产的市场发展，PlasmaPro 100 Estrelas 提供了更加出色的工艺灵活性。。光滑侧壁工艺。高刻蚀速率腔刻蚀。高深宽比工艺。锥形通孔刻蚀。广泛的应用领域。机械或静电压盘。加热内衬 。改善重复性。延长了两次清洗间的平均时间间隔（MTBC） 概述:PlasmaPro 100 Estrelas平台旨在确保覆盖MEMS，先进封装和纳米技术的广泛应用，从光滑侧壁工艺到高刻蚀速率腔刻蚀、高深宽比工艺和锥形通孔刻蚀，不需要更换腔室硬件就可以实现。 特征:硬件设计使同一腔室中可进行Bosch™ 和超低温刻蚀工艺，使得纳米和微米结构刻蚀均可实现。兼容50mm至200mm的衬底 - 确保您只需一台系统，便具备从研发器件到量产的能力自动匹配 - 拥有工艺灵活性更高流量的质量流量计以及等离子发生器 - 自由基密度更高减小的腔体尺寸和高效率的泵 - 确保气体高速流通快速近距离耦合质量流量计 - 快速控制（初始为ALD而开发） 应用: 硅 Bosch和超低温刻蚀工艺 二氧化硅和石英刻蚀

牛津干式制冷机Optistat Dry工作原理：Optistat Dry 干式制冷机采用GM 制冷机，主要部件有冷头、压缩机以及高压氦气管。这三个部件组成了一个闭合的氦气循环回路，可以产生制冷功率。冷头是GM 制冷机循环的场所，通过两根高压氦气管以及供电引线连接到压缩机。其中一根高压氦气管供给高压氦气，另一根回收膨胀后的低压氦气。压缩机提供必需的高压氦气流量来提供足够的制冷功率。 牛津干式制冷机Optistat Dry主要配置：• 制冷机主体• 闭循环压缩机• 氦导流管• 热辐射屏蔽• 真空屏蔽• 加热器• 温度传感器• 温度控制器• 密封电学传输通道• 高纯度石英窗片（窗片材质可选）• 涡轮分子泵干式制冷机工作原理示意图Optistat Dry BLV 主要技术参数：• 可控温度范围从 3 K 到300 K• 冷却时间：120 分钟内冷却到10K• 配置风冷压缩机• 低振动：与光学平台结合时振动小于10 微米• 大样品空间，可用于研究各种大小的样品• 低运行费用• 优化的光学通路，数值孔径可达f1，通光孔径可达28mm，大通光区域适合低光密度探测• 创新的电学样品托选项，最高可提供12 路电学引线Optistat Dry BLV 主要特点：• 低振动：与光学平台结合时振动小于10 微米• 兼容性：与英制和公制的光学平台都可匹配使用• 竖直高度可调（635-900 毫米）• 侧面换样：容易操作；换样后不会改变光路（光路稳定），不需要重新调整光路。• 创新的电学样品托选项，最高可提供12 路电学引线• 自带检测线路，加热器以及温度计，由15 路微型D 型接口连接• 配置反射样品架和透射样品架，这些样品架对光学测量非常理想，没有任何电学连接限制。• 配置专用样品托：样品托选项包括一个气密的21 路微型D 型接口。接口与12 路引线（10 路铜镍合金, 2 路铜）相连，安装至为电学测量特别设计的铜质底座上。样品托由层压PCB 构成。用户只需将样品托放到指定位置并拧紧螺丝即可完成电学连接及热连接。Optistat Dry TLEX 主要特点：• 低振动：与光学平台结合时振动小于10 微米• 兼容性：与英制和公制的光学平台都可匹配使用• 竖直高度可调（800-880 毫米）• 顶部换样：样品处于交换气氛围，5 分钟快速换样，45 分钟冷却到基准温度• 创新的电学样品托选项，最高可提供12 路电学引线

二手Oxford牛津Pulsar台式低场核磁共振分析仪磁检测仪NMRPulsar 高分辨率 60MHz 台式核磁共振波谱仪可以提供 1H，19F， 13C 和 31P 的高质量 1-D 和 2-D 核磁共振谱。 Pulsar 使用永磁体，这意味着它既无需使用液氦也无需使用液氮。先进的自动匀场产生高度均匀的磁场，这意味着 Pulsar 几乎适用于学术或工业化学实验室、教学、有机合成分析或材料鉴定等各种场合。对于许多分析，液体样品可以直接使用不搀溶剂的纯品；固体样品可以溶解在氘代或非氘代溶剂中使用。简单易用、循序渐进的软件使用户无缝对接测量过程，并通过业内大名鼎鼎的 Mnova 软件处理数据。含一个脉冲序列库，因此万事俱备。Pulsar 使用方便、性能出色，这意味着您在实验室中随时都可以使用核磁共振波谱技术。 设备特点：无致冷剂系统单个探头上测量 19F 或 1H，可增加13C 或 31P通道60MHz 稀土永磁体高分辨率 0.5Hz无需专业操作人员

扫描电镜配备牛津仪器波谱仪，可以实现微量及痕量元素、严重重叠峰元素的准确定量分析。牛津仪器AZtecWave系统结合了波谱仪解析X射线谱峰灵敏性、微量及痕量元素准确性以及能谱仪检测元素时的高速及高灵活性的优势。发挥波谱仪高X射线分辨率的特点，能够在更低的检测限下解析复杂的谱峰重叠。作为在高计数率下也可实现高准确定量分析的EDS探测器，Ultim Max能谱仪与Wave波谱仪结合，是一款优良的基于扫描电镜（SEM）下的微区元素定性定量分析系统。 具有罗兰圆几何和弯曲晶体的全聚焦波谱仪； 罗兰圆半径210mm，具有优异的能量分辨率； 倾斜式安装，工作距离对X-Ray信号强度较小； 峰背比高，检测限低于100ppm； 电动入射狭缝，可优化分辨率和峰背比； 软件导航式设计，初学者也可快速掌握WDS分析；

武汉中科牛津波谱技术有限公司是国内唯一从事超导核磁共振波谱仪研发、生产和服务的高新技术企业。企业依托于中国科学院武汉物理与数学研究所强大的学科背景、科研能力以及牛津仪器世界领先的技术力量，以促进和发展我国磁共振技术、应用与产业化为己任，为用户提供谱仪、附件、消耗品等一站式解决方案。 英国牛津仪器公司技术超导磁体：磁体主动屏蔽；磁场稳定均匀；低液氦消耗。 自主知识产权控制台：基于网络的分布式系统设计，多通道，可扩展；数字中频采样，提高了仪器的稳定性；CAN总线控制，提高了系统可靠性和集成度。 自主研发生产探头：瑞士子公司QOneTec研制；宽带多核探头（手动与自动调谐）；灵敏度高，13C灵敏度增强；支持探头定制，能兼容不同厂家磁体（400-600MHz）。 谱仪控制及数据处理软件：可与主流软件数据交互；具备Linux和Windows系统垮平台运行能力；拥有80余种成熟的脉冲序列；支持图形、文本编辑；简洁、高效、免费。 液面计、自动进样器附属配件精良齐全，产品服务快捷精湛。

The innovative USB 3.0 iStar sCMOS boasts frame rates at least 50% faster than competing CCD or interline platforms (at equivalent pixel matrix size), while offering intrinsically low noise floor. A better signal-to-noise ratio can be achieved with lower intensifier amplification gain, yielding market-leading dynamic range performance. It also features ‘dual-frame’ capabilities for Particle Image Velocimetry (PIV) with optical inter-frame as low as 300 ns. 产品名称：牛津仪器ANDOR iStar门控探测器产地：英国特点及参数：整合先进的CCD & sCMOS芯片以及像增强器技术全新iStar sCMOS超快帧速可达4,000 fps低噪声，高灵敏度简单易用，高度兼容小于2ns的高精度门控高效的全幅动态范围

产品详情牛津Oxford等离子刻蚀沉积机System 100 该设备是一个灵活和功能强大的等离子体刻蚀和淀积工艺设备。 采用真空进样室进样可进行快速的晶片更换、采用多种工艺气体并扩大了允许的温度范围。 具有工艺灵活性，适用于化合物半导体，光电子学，光子学，微机电系统和微流体技术， PlasmalabSystem100可以有很多的配置，详情如下。主要特点 可处理8 "晶片，也具有小批量（6 × 2"）预制和试生产的能力 选择单晶片/批处理或盒式进样，采用真空进样室。 该PlasmalabSystem100可以集成到一个集群系统中，采用中央机械手传送晶片，生产工艺中采用全片盒到片盒晶片传送. 采用一系列的电极进行衬底温度控制，其温度范围为-150 ° C至700° C 用于终端检测的激光干涉和/或光发射谱可安装在Plasmalab System100以加强刻蚀控制 选的6 或12路气箱为工艺流程和工艺气体提供了选择上的灵活性，并可以放置在远端，远离主要工艺设备工艺一些使用Plasmalab System100等离子刻蚀与沉积设备的例子： 低温硅刻蚀，深硅刻蚀和SOI工艺，应用于MEMS ，微流体技术和光子技术 用于激光器端面的III - V族刻蚀工艺，通过刻蚀孔、光子晶体和许多其他应用，材料范围广泛（InP, InSb, InGaAsP, GaAs, AlGaAs, GaN, AlGaN,等） GaN、AlGaN等的预生产和研发工艺，比如HBLED和其它功率器件的刻蚀 高品质，高速率SiO2沉积，应用于光子器件 金属（Nb, W）刻蚀

产品详情英国牛津OXFORD 等离子体刻蚀机PlasmaPro 80 ICP PlasmaPro 80 ICP是一种结构紧凑、小型且使用方便的直开式系统，可提供多种刻蚀解决方案。 它易于放置，便于使用，且能够确保工艺质量。直开式设计允许快速的进行晶圆装卸，是科学研究、原型设计和少量生产的理想选择。 该设备通过优化了的电极冷却技术和出色的衬底温度控制来实现高度稳定的工艺结果。。直开式设计允许快速装卸晶圆。出色的刻蚀深度和刻蚀速率控制。出色的晶圆温度均匀性。晶圆最大可达200mm。购置成本低。符合半导体行业 S2 / S8标准 应用: III-V族材料刻蚀工艺 硅 Bosch和超低温刻蚀工艺 二氧化硅和石英刻蚀 用于失效分析的干法刻蚀解剖工艺，可处理封装好的芯片、 裸晶片以及200mm晶圆 用于高亮度LED生产的硬掩模的沉积和刻蚀 特点: 小型系统 —— 易于安置 优化的电极冷却系统 —— 衬底温度控制 高导通的径向（轴对称）抽气结构 —— 确保能提升工艺均匀性和速率 增加500毫秒的数据记录功能 —— 可追溯腔室和工艺条件的历史记录 近距离耦合涡轮泵 —— 抽速高迅速达到所要求的低真空度 关键部件容易触及 ——系统维护变得直接简单 X20控制系统——大幅提高了数据信息处理能力， 并且可以实现更快更可重复的匹配 通过前端软件进行设备故障诊断 —— 故障诊断速度快 用干涉法进行激光终点监测 —— 在透明材料的反射面上测量刻蚀深度 (例如硅上的氧化物)，或者用反射法来确定非透明材料 (如金属) 的边界 用发射光谱（OES）实现较大样品或批量工艺的终点监测 —— 监测刻蚀副产物或反应气体的消耗量的变化，以及用于腔室清洗的终点监测

牛津Oxford等离子体刻蚀机PlasmaPro 80 RIE PlasmaPro 80是一种结构紧凑、小尺寸且使用方便的直开式系统，可以提供多种刻蚀和沉积的解决方案。 它易于放置，便于使用，且能确保工艺性能。直开式设计可实现快速晶圆装卸，是研究和小批量生产的理想选择。 它通过优化的电极冷却和出色的衬底温度控制来实现高质量的工艺。。直开式设计允许快速装卸晶圆。出色的刻蚀控制和速率测定。出色的晶圆温度均匀性。晶圆最大可达200mm。购置成本低。符合半导体行业 S2 / S8标准 应用: III-V族材料刻蚀工艺 硅 Bosch和超低温刻蚀工艺 类金刚石（DLC）沉积 二氧化硅和石英刻蚀 用特殊配置的PlasmaPro FA设备进行失效分析的干法刻蚀解剖工艺，可处理封装好的芯片, 裸晶片，以及200mm晶圆 用于高亮度LED生产的硬掩模的刻蚀 系统特点 小型系统 —— 易于安置 优化的电极冷却系统 —— 衬底温度控制 高导通的径向（轴对称）抽气结构 —— 确保能提升工艺均匀性和速率 增加500毫秒的数据记录功能 —— 可追溯腔室和工艺条件的历史记录 近距离耦合涡轮泵 —— 抽速高迅速达到所要求的低真空度 关键部件容易触及 ——系统维护变得直接简单 X20控制系统——大幅提高了数据信息处理能力， 并且可以实现更快更可重复的匹配 通过前端软件进行设备故障诊断 —— 故障诊断速度快 用干涉法进行激光终点监测 —— 在透明材料的反射面上测量刻蚀深度 （例如硅上的氧化物），或者用反射法来确定非透明材料（如金属）的边界 用发射光谱（OES）实现较大样品或批量工艺的终点监测 —— 监测刻蚀副产物或反应气体的消耗量的变化，以及用于腔室清洗的终点监测

产品详情牛津Oxford等离子沉积机PlasmaPro 80 PECVD PlasmaPro 80是一种结构紧凑、小尺寸且使用方便的直开式系统，可以提供多种刻蚀和沉积的解决方案。 它易于放置，便于使用，且能确保工艺性能。直开式设计可实现快速晶圆装卸，是研究和小批量生产的理想选择。 它通过优化的电极冷却和出色的衬底温度控制来实现高质量的工艺。。直开式设计允许快速装卸晶圆。出色的刻蚀控制和速率测定。出色的晶圆温度均匀性。晶圆最大可达200mm。购置成本低。符合半导体行业 S2 / S8标准 应用: 高质量PECVD沉积氮化硅和二氧化硅，用于光子学、电介质层、钝化以及诸多其它用途 用于高亮度LED生产的硬掩模沉积和刻蚀 系统特点: 小尺寸系统——易于安置 优化了的电极冷却——衬底温度控制 高导通的径向（轴对称）抽气结构—— 确保提升了工艺均匀性和速率 增加了500毫秒的数据记录功能——可追溯腔室和工艺条件的历史记录 近距离耦合涡轮泵——提供优越的泵送速度加快气体的流动速度 关键部件容易触及——系统维护变得直接简单 X20控制系统——大幅提高了数据信息处理能力， 并且可以实现更快更可重复的匹配 通过前端软件进行设备故障诊断——故障诊断速度快 用干涉法进行激光终点监测——在透明材料的反射面上测量刻蚀深度 (例如硅上的氧化物)，或者用反射法来确定非透明材料 (如金属) 的边界 用发射光谱（OES）实现较大样品或批量工艺的终点监测—— 监测刻蚀副产物或反应气体的消耗量的变化，以及用于腔室清洗的终点监测