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数显微分头

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数显微分头相关的论坛

  • 关于显微镜的微分干涉功能

    微分干涉差显微镜 - 简介 1952年，Nomarski在相差显微镜原理的基础上发明了微分干涉差显微镜（differential interference contrast microscope）。DIC显微镜又称Nomarski相差显微镜（Nomarki contrast microscope），其优点是能显示结构的三维立体投影影像。与相差显微镜相比，其标本可略厚一点，折射率差别更大，故影像的立体感更强。 DIC显微镜的物理原理完全不同于相差显微镜，技术设计要复杂得多。DIC利用的是偏振光，有四个特殊的光学组件：偏振器（polarizer）、DIC棱镜、DIC滑行器和检偏器（analyzer）。偏振器直接装在聚光系统的前面，使光线发生线性偏振。在聚光器中则安装了石英Wollaston棱镜，即DIC棱镜，此棱镜可将一束光分解成偏振方向不同的两束光（x和y），二者成一小夹角。聚光器将两束光调整成与显微镜光轴平行的方向。最初两束光相位一致，在穿过标本相邻的区域后，由于标本的厚度和折射率不同，引起了两束光发生了光程差。在物镜的后焦面处安装了第二个Wollaston棱镜，即DIC滑行器，它把两束光波合并成一束。这时两束光的偏振面（x和y）仍然存在。最后光束穿过第二个偏振装置，即检偏器。在光束形成目镜DIC影像之前，检偏器与偏光器的方向成直角。检偏器将两束垂直的光波组合成具有相同偏振面的两束光，从而使二者发生干涉。x和y波的光程差决定着透光的多少。光程差值为0时，没有光穿过检偏器；光程差值等于波长一半时，穿过的光达到最大值。于是在灰色的背景上，标本结构呈现出亮暗差。为了使影像的反差达到最佳状态，可通过调节DIC滑行器的纵行微调来改变光程差，光程差可改变影像的亮度。调节DIC滑行器可使标本的细微结构呈现出正或负的投影形象，通常是一侧亮，而另一侧暗，这便造成了标本的人为三维立体感，类似大理石上的浮雕。

  • 求助：章晓中老师《电子显微分析》

    请问哪位网友手里有 清华章晓中老师的《电子显微分析》一书的电子版？麻烦发我一下哈。 本来应该买正版书的，但由于在国外，买不到书。抱歉了，章老师！ wujsyy@126.com

  • 【分享】微分干涉显微镜在金相研究方面的应用

    微分干涉显微镜对表面光洁度的测定：　　电解抛光，化学抛光时，表面质量可用微分干涉金相显微镜加以鉴定。根据干涉条纹的形状可知表面光洁度的好坏，如条纹弯曲不大说明抛光或表面较平整。　　微分干涉显微镜对金属塑性变形的研究：　　用微分干涉显微镜可以精确地测定滑移带高度及多晶体试样内各处的变形程度等。　　微分干涉显微镜对金相试样因共格相变发生浮凸的研究：　　在金属里面的马氏体，贝氏体及魏氏体组织，用微分干涉金相显微镜能有效地鉴定表面浮的形状。用它进行观察可以使表面的肉眼无法观察到的浮凸体明显地程现出来。　　微分干涉显微镜对LCD行业的检察应用：　　在目前市场上供不应求的LCD行业来说，这是最适合不过的了，LCD属于一种精密型的产品，生产过程中许多部件都要用到显微镜。微分干涉金相显微镜主要用于在导电粒子方面的观察，这种粒子小到四五微米，肉眼根本玩法看见。用该类显微镜则方便许多。

  • 【原创大赛】（综述）电子显微分析技术在高分子材料中的应用

    【原创大赛】（综述）电子显微分析技术在高分子材料中的应用

    ======================================================================= （综述）电子显微分析技术在高分子材料中的应用 Applications of Electron Microscopy for Polymers~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~摘要透射电子显微镜（TEM）已经逐渐成为材料研究领域最重要的成像和表征手段之一。这篇综述主要介绍了近年来出现的几种电子显微分析技术，并结合高分子聚合物材料的特点列举了这些技术在实际研究中的应用。这些技术包括：高分辨透镜（HRTEM）成像，扫描透镜（STEM）成像，能量过滤透镜（EFTEM）成像以及电子能量损失谱（EELS）分析。综合运用这些成像和分析工具，可以更全面了解高分子材料在各个微观尺度下的性质。AbstractThe transmission Electron Microscope (TEM) has been used extensively as one of the most versatile and powerful tools for materials characterization. This review highlights important development of several microscopy and analysis techniques in the field of polymers. These techniques include High Resolution TEM (HRTEM), Scanning TEM (STEM), Energy Filtered TEM (EFTEM), and Electron Energy-loss Spectroscopy (EELS). By combining multiple microscopy techniques, we are able to gain a better understanding of polymers properties in various scales.http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2015/09/201509252216_567945_1982636_3.png~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~1. 前言 从Ernst Ruska在1931年发明了第一台透射电子显微镜（TEM）开始，电子显微分析已逐渐成为材料科学领域特别是材料微观表征的重要方法之一。经过80多年的发展，现代透射电镜在传统的TEM模式之外又相继衍生出了高分辨（HRTEM）和扫描透射（STEM）两种不同的电子成像模式。结合附加的X射线能谱仪（EDS）和电子损失能谱仪（EELS）等，TEM又可以拓展为功能强大的结合了成像和化学分析能力的分析级电子显微镜(AEM)。近20年来TEM和相应的成像分析技术都得到了长足的进步，在分辨率已经突破亚埃级（0.5埃=0.05纳米）的基础上又陆续发展出冷冻电镜 (Cryo-TEM) ，三维成像 (Tomography) ，低电压电镜（LVEM），能量过滤电镜 (EFTEM) 等新兴技术。伴随着这些新技术的发展，TEM的应用领域也不仅仅局限于传统的硬材料(金属，半导体，陶瓷等）而是一直延伸到各种软材料（高分子，生物和复合材料）（参见5）。这篇综述简要介绍了各种显微分析技术的特点和原理，针对高分子样品的制备手段并介绍了各种分析手段在实际研究中的应用。2. 样品制备 在电子显微分析中，样品制备往往是决定图像质量，保证分析准确的最重要一步。不同于常规硬材料，高分子材料普遍存在着硬度较低，物理化学性质不稳定的特点。这些特点决定了它们需要使用不同于常规硬材料的减薄方法来制样才能满足不同的表征要求。制样的第一原则就是在保证不破坏材料原有性质的情况下得到尽可能薄的样品。由于高分子材料大多由碳氢氧等轻元素组成，传统的制样过程一般会采用类似于生物样品的重金属染色方法。利用电子散射能力较强的金属制剂对样品进行染色。金属原子可以与样品里特定的分子键合来提高图像的衬度。然而使用这种方法需要人为的加入样品以外的成分，这样做往往会破环样品原始的特性。特别当需要对样品进行原子级别的分析时，来自金属染色剂的大量的背景信号会影响最终化学元素分析的准确性。现在，即使在不使用染色剂的情况下，利用多种新型成像技术（包括STEM，LVEM，EFTEM 和Cryo-TEM）我们也可以有效地提升图像衬度并减少样品在电子束辐射下的损伤。这就要求我们找到合适的制备方法来得到保持材料原有特性的超薄样品。http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2015/09/201509252223_567948_1982636_3.png图一. 制备固体或溶液形态的高分子样品的不同步骤 （参见6）。针对两种常见的高分子材料形态（固态和溶液态）有两种不同的处理样品方法（参见6），见图一：1）块状或薄膜状的材料可以首先用树脂包埋，预切后在冷冻超薄切片机中调节合适的温度切片。使用的冷却温度可以根据高分子材料的Tg温度来调节，一般设置在起始温度在-80度左右。得到的切片可以直接用铜网收集，厚度大致在20-80nm； 2）高分子的溶液（也可以为水溶液）可以用Solution Casting方法。在覆盖碳膜的铜网上滴上5-20微升的样品溶液。然后使用Cryo-plunger自动吸出多余的溶液后浸入液体乙烷中快速冷冻。第一种方法保证了固体高分子材料的原有特征不被破坏，同时保证了样品合适的厚度。第二种方法特别适用于观察高分子物质在液态中的特征，整个冷冻过程保证了材料在溶液中的形态。利用集成的湿度控制装置可以直接对亲水性高分子材料进行制备。3. 分析电镜技术简介及其在高分子材料中的应用 3.1 电子成像和分析原理在透射电镜中，平行电子束在透过样品时会与样品内部发生一系列相互作用。透过样品的散射电子和产生的其他信号在收集后可以被用来进行成像和不同类型的显微分析。图二中简单概括了电子束和样品之间的相互作用。根据是否有能量损失，散射电子又分为弹性散射电子(elastically scattered electrons)和非弹性散射电子(inelastically scattered electrons)。部分入射电子束在与原子核作用后发生弹性散射，并最终被CCD捕捉形成传统的明场（Bright Field简称BF）TEM图像。与此同时，入射电子可以与原子核外电子云作用。在损失一部分能量后，经过非弹性散射的电子束可以用来形成电子能量损失谱（Electron Energy Loss Spectroscopy简称EELS)。而另一部分被激发的外层电子会填入内层电子的空位，这之间的能量差所产生的特征X射线可以通过X射线能谱仪(Energy-dispersive X-ray spectroscopy 简称EDS)来探测。结合图像和能谱，还可以实现能谱成像(Spectrum Imaging 简称SI)和能量过滤成像（Energy Filtered TEM 简称EFTEM)（参见7）。http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2015/09/201509252225_567949_1982636_3.png图二. 电子束与样品间相互作用以及产生的多种电子和能量信号(参见7)。3.2 高分辨成像（HRTEM）及其应用 除常规的TEM成像，高分辨成像(HRTEM)可以用来直接观察高分子材料内部的原子排列特别适用于对高分子晶体结构的研究。尽管HRTEM在硬材料方面的研究应用已经很普遍，但局限于样品制备和电子辐射损伤的影响，对于高分子结构的高分辨成像和解析还不多。图三是聚四氟乙烯(PTFE)晶体的高分辨HRTEM图像，右侧相对应的是PTFE高分子链的重复单元结构示意图。通过高分辨成像，可以清晰地辨别出分子链上紧密排布的原子和相对应的157螺旋结构。http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2015/09/201509252237_567950_1982636_3.png图三. 聚四氟乙烯(PTFE)晶体的高分辨图像和分子链重复单元结构（参见3）。3.3 扫描透射电镜 (STEM) 成像及其应用 如图四所示，STEM模式下聚焦的电子束在材料表面扫描，透过的电子信号根据散射角度的不同被不同位置的探测器收集后分别形成STEM-BF明场，STEM-ADF暗场以及STEM-HAADF高角度环形暗场图像。因为图像的明暗程度直接和所观察区域内的原子序数有关，高角度环形暗场（High-angle Annular Dar

  • 2014 牛津仪器 学无止“镜”——发现微观之美显微分析大赛

    2014 牛津仪器 学无止“镜”——发现微观之美OI 2014 Learn Beyond the Microscopy - Discovering the Beauty of Microanalysisl 大赛主题：1. 突破技术革新之路，挑战显微分析的最高极限2. 尽享科学研究最美，发现枯燥科研亦别有洞天l 参赛要求：1. 显微分析结果必须使用牛津仪器的设备完成http://bbs.instrument.com.cn/xheditor/xheditor_skin/blank.gifhttp://bbs.instrument.com.cn/xheditor/xheditor_skin/blank.gif2. 参赛文件组成a) 参赛图片, 要求为像素在512X512以上的JPG格式（允许使用Photoshop等图像软件适当美化）b) 参赛图片相关的原始数据文件，如INCA软件采集的ipj格式文件或者Aztec软件采集的数据文件包c) 使用WORD文件陈述参赛项目: 包含根据图像意境命名的参赛作品名称,样品情况说明和采集参数设置 (如放大倍数，加速电压，采集时间等)3. 请将以上所有内容用压缩软件打包后Email发送至大赛组委会l 奖项设置：大会组委会将根据照片的艺术美感和显微分析技术难度分别进行评比奖项评奖人人数奖品最佳艺术奖组委会每种奖项分别设第一,二,三名第一名 iPad mini第二名 iPod nano第三名 iPod shuffle最佳技术奖组委会最佳人气奖用户会现场观众投票1. 优秀参赛图片将录入[size

  • 【资料】X射线衍射与电子显微分析

    X射线衍射与电子显微分析[img]http://www.instrument.com.cn/bbs/images/affix.gif[/img][url=http://www.instrument.com.cn/bbs/download.asp?ID=48585]X射线衍射与电子显微分析[/url]

  • 【资料】黄孝瑛电子显微分析图书4本，欢迎下载。

    我收集到黄孝瑛的四本书，还有一本《透射电子显微学》上海科学技术出版社出版，1987年，没有，我扫描上去后，在传给大家。[img]http://www.instrument.com.cn/bbs/images/affix.gif[/img][url=http://www.instrument.com.cn/bbs/download.asp?ID=46470]黄孝瑛电子显微分析图书[/url]

  • 【谱图】微分干涉金相显微镜的简要介绍

    DMM-5000微分干涉金相显微镜采用优质的无限远光学系统，同时配备明暗场通用的长工作距离平场平场消色差物镜，多光路的系统设计，可同时支持双目镜筒观察和数码摄像装置观察。DMM-5000倒置金相显微镜可广泛应用于研究金属的显微组织，能在明场、暗场、偏光、微分干涉下进行观察和摄影，配备专用软件，更可同步进行测量分析。可供研究单位、冶金、机械制造工厂以及高等工业院校进行金属学与热处理、金属物理学、炼钢与铸造过程等金相试验研究之用。DMM-5000高级正置金相显微镜，选用优质的光学元件，配有超大视场目镜、落射照明器、平场无限远长工作距离明暗场物镜，可选用微分干涉（DIC）观测、获得高清晰的图像，使图像衬度更好。是针对半导体晶圆检测、太阳能硅片制造业、电子信息产业、治金工业开发的，作为高级工业金相显微镜使用。可进行明暗场观察、落射偏光、DIC观察，广泛用于工厂、研究机构、高等院校对太阳能电池硅片、半导体晶圆检测、电路基板、FPD、精密模具的检测分析。 DMM-5000C电脑型微分干涉金相显微镜是将精锐的光学显微镜技术、先进的光电转换技术、尖端的计算机成像技术完美地结合在一起而开发研制成功的一项高科技产品。既可人工观察金相图像,又可以在计算机显示器上很方便地适时观察金相图像，并可随时捕捉记录金相图片,从而对金相图谱进行分析,评级等,还可以保存或打印出高像素金相照片。

  • [好书]X射线衍射与电子显微分析

    本书是介绍X射线衍射与电子显微分析这两种重要的材料物理测试方法的基础教材,全书依上述内容分为两篇。第一篇包括X射线衍射的基本理论、方法及应用；第二篇包括透射电子显微镜、扫描电镜和电子探针的工作原理、构造和分析方法。全书共12章，附录中列出了常用的数据表，供计算分析时查阅。本书对基本原理的阐述力求深入浅出，方法介绍亦较为详尽，对从事该工作的科技人员很有参考价值！为此上传[color=blue]PDF格式的电子档供大家下载学习，也可丰富本版块的资源！[/color]全书已经上传完毕，有需要的科技人员可到资料中心下载！[url=http://www.instrument.com.cn/show/search.asp?sel=admin_name&keywords=lfsming]进入资料下载页面[/url]你的支持就是我的动力!

  • 【资料】黄孝瑛电子显微分析图书共享给大家看看

    这是我找到的她的书,看了觉得很多东西很有用,共享给大家看看!互相交流交流![em01] [em38][img]http://www.instrument.com.cn/bbs/images/affix.gif[/img][url=http://www.instrument.com.cn/bbs/download.asp?ID=52698]黄孝瑛电子显微分析图书[/url]这里面是3本书哈 ！！我看到好多人又在问要那书。。。。其实这里面都有 自己来下撒 ！

  • 【资料】剑桥大学电子显微分析讲义

    剑桥大学关于电子显微分析的讲义，希望对大家有帮助[em17] 下载资料的兄弟支持和回复一下，谢谢了[img]http://www.instrument.com.cn/bbs/images/affix.gif[/img][url=http://www.instrument.com.cn/bbs/download.asp?ID=58560]Microanalysis in the electron microscope[/url]

  • 默克显微分析产品大揭秘

    默克显微分析产品大揭秘

    提到德国默克，大家会想到什么呢http://simg.instrument.com.cn/bbs/images/brow/emyc1010.gif"质量好"，"价格高"。。。http://simg.instrument.com.cn/bbs/images/brow/em09503.gif其实，大家忽略了很关键的一点，那就是德国默克拥有齐全的实验室基础产品，除了色谱柱，液相气相质谱溶剂，水质产品，多肽合成和有机合成产品，还有显微分析产品哦我们平时耳熟能详的“革兰氏染色”、“巴氏染色”、“H&E染色”、“吉姆萨染色“，这些都属于默克的Microscopy系列当然，Microscopy系列的产品远远不止这些，按照应用不同，分为“细菌染色”、“血液染色”、“细胞染色”、“组织染色”四大类。http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2012/04/201204261028_363456_2491887_3.jpg

  • 【求助】谁有GB/T 21638-2008 钢铁材料缺陷电子束显微分析方法通则

    [table=95%][tr][td=2,1][table=96%][tr][td]标准简介[/td][/tr][/table][table=96%][tr][td]本标准规定了钢铁材料缺陷电子束显微分析的术语、分析方法和程序、分析报告内容等。本标准适用于钢铁材料内部及表面缺陷的电子束显微分析。[/td][/tr][/table][/td][/tr][tr][td=2,1][/td][/tr][tr][td=2,1][table=96%][tr][td=2,1][table=99%][tr][td=2,1][/td][/tr][tr][td][b]英文名称：[/b][/td][td] Guide for electron beam microananlysis of defect in steel materials[/td][/tr][tr][td=1,1,21%][url=http://www.csres.com/info/35895.html][img]http://www.csres.com/images/shelp.gif[/img][/url] [b]中标分类：[/b][/td][td] [url=http://www.csres.com/sort/chsortdetail/N.html][color=#014ccc]仪器、仪表[/color][/url][b][/b][url=http://www.csres.com/sort/chsortdetail/N.html#N50/59][color=#014ccc]物质成分分析仪器与环境监测仪器[/color][/url][b][/b][url=http://www.csres.com/sort/Chtype/N53_1.html][color=#014ccc]N53电化学、热化学、光学式分析仪器[/color][/url] [/td][/tr][tr][td=1,1,21%][url=http://www.csres.com/info/35799.html][img]http://www.csres.com/images/shelp.gif[/img][/url] [b]ICS分类：[/b][/td][td] [url=http://www.csres.com/sort/icsdetail/71.html][color=#014ccc]化工技术[/color][/url][b][/b][url=http://www.csres.com/sort/icsdetail/71.html#71.040][color=#014ccc]分析化学[/color][/url][b][/b][url=http://www.csres.com/sort/ics/71.040.99_1.html][color=#014ccc]71.040.99有关化学分析方[/color][/url] [/td][/tr][tr][td][b]发布部门：[/b][/td][td] 中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局 国家标准化管理委员会[/td][/tr][tr][td=1,1,21%][b]发布日期：[/b][/td][td] 2008-04-11[/td][/tr][tr][td][b]实施日期：[/b][/td][td] 2008-10-01 [/td][/tr][tr][td][b]首发日期：[/b][/td][td] 2008-04-11[/td][/tr][tr][td=1,1,21%][b]提出单位：[/b][/td][td] 全国微束分析标准化技术委员会[/td][/tr][tr][td=1,1,21%][url=http://www.csres.com/info/35885.html][img]http://www.csres.com/images/shelp.gif[/img][/url] [b]归口单位：[/b][/td][td] [url=http://www.csres.com/unit/296.html][color=#014ccc]全国微束分析标准化技术委员会[/color][/url][/td][/tr][tr][td=1,1,21%][b]主管部门：[/b][/td][td] 国家标准化管理委员会[/td][/tr][tr][td=1,1,21%][b]起草单位：[/b][/td][td] 上海宝钢股份公司技术中心、武汉钢铁集团公司技术中心、北京钢铁研究总院、上海材料研究所[/td][/tr][tr][td=1,1,21%][b]起草人：[/b][/td][td] 陈家光、李平和、朱衍勇、王滨、田青超[/td][/tr][tr][td=1,1,21%][b]计划单号：[/b][/td][td] 20068681-T-491[/td][/tr][tr][td][b]页数：[/b][/td][td] 8页[/td][/tr][tr][td=1,1,21%][b]出版社：[/b][/td][td] 中国标准出版社[/td][/tr][tr][td=1,1,21%][b]书号：[/b][/td][td] 1550661-32034[/td][/tr][tr][td][b]出版日期：[/b][/td][td] 2008-06-01[/td][/tr][/table][/td][/tr][/table][/td][/tr][/table]不知道那为朋友有，给大家分享下嘛！谢谢！

  • CRAIC 显微分光光度计 使用咨询

    [b]用[url=https://www.instrument.com.cn/netshow/SH102045/C252068.htm]CRAIC 508PV通用型显微分光光度计[/url] 测量煤岩反射率，仪器现在不能调节色块的大小，就是那个小黑方块，，但是可以正常通过时间优化，标样也可以测出来，差别不大，这个光度计的作用是什么，关了之后还是可以测出数据，跟开着光度计没有明显差别，是光度计坏了还是什么情况[/b]

  • 【原创大赛】2015年度显微镜和显微分析(M&M)大会（多图现场报道+分析总结）

    【原创大赛】2015年度显微镜和显微分析(M&M)大会（多图现场报道+分析总结）

    【原创】首发仪器信息网，转载注明来源 2015年度显微镜和显微分析(M&M)大会 http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2015/07/201507281037_557490_1982636_3.jpg【M&M大会简介】M&M大会（Microscopy and Microanalysis Meeting）是由美国显微学会 MSA（Microscopy Society of America）主办的全球最大的显微技术和分析科学大会。作为全球最重要的显微设备展览之一，每年都会吸引超过100家厂商参展。在连续五天的会议中，大会将组织超过40个不同主题的研讨会，包括了显微前沿科学和技术的各个领域。各大显微设备厂商也都会带着最新的产品参展。这不光是学术界也是产业界的一次大聚会。你可以看到学术界的最新进展，也可以实地试用最新的仪器设备，还有不错的培训讲座和很丰富的社交活动。我已经连续参加了四届，每次都会收获良多。今年的大会于8/2-8/6在玫瑰之城波特兰Portland举行，而这里也正是著名的半导体大厂Intel和电镜大厂FEI总部的所在地。过去一年中电镜行业出现很多新技术和新趋势，结合这次大会的现场体验和在这里大家分享一下我的感受。 http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2015/07/201507281039_557491_1982636_3.jpg【最新应用趋势】 近年来对材料进行超微尺度的研究依然热门，对于同时拥有高分辨和微分析能力的透射电镜和扫描电镜的需求持续强劲。各大研究所和高校在电镜的投入上也越来越大，高分辨率冷场带球差矫正的TEM/STEM已经可以在很多地方见到。在物理/材料领域，美国国内有大量的研究都集中在新能源材料领域特别是对电池材料的探索。这很大程度上得益于美国能源部DOE近年来在各大国家实验室的大力投入。这个带来的相应结果是，原位电镜技术Insitu-TEM已经成为了在材料学应用中的热点。去年的展会中出现了很多可用于单一或多体系气相，液相，电化学，力学和热学实验的原位样品杆以及配套设备。生物和生物材料交叉领域也出现了两个热点，一个是改进的冷冻电镜技术(cryoTEM)结合三维重建在结构生物学中的应用，另一个就是逐渐成熟的可完成多尺度分析的相关显微技术(correlative microscopy)。原来在生物样品中存在的低衬度，易受电子损伤等问题在冷冻技术下都得到了一定程度的改善。新的tomography三维成像样品杆和改进的软件和算法让三维重建变的更加便捷和有效，高分辨原子尺度的三维冷冻电镜已经可以实现。对于多尺度的研究，许多电镜厂商已经开始提供完整的相关显微方案以实现在同一样品上结合光学和电子信息的收集和分析。http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2015/07/201507281045_557495_1982636_3.gifhttp://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2015/07/201507281045_557496_1982636_3.jpg【2014年大会回顾】 1）TEM/SEMTEM方面，FEI作为全球最大的电镜供应商依然占据着很大一部分电镜市场。经过2013年产品线的重新排布，现在已经由经典的Tecnai和Titan系列又延伸出了加强了3D和元素分析功能的紧凑型Talos系列和针对半导体行业的Metrios系列。再根据材料学和生物学的不同要求演化出了Titan Themis和Titan Krios这样的细化型号。同时还有特殊的环境电镜Titan ETEM，拥有脉冲电子束实现4D数据观察的Tecnai Femto UEM，以及全球唯一的内置荧光显示CLEM系统的Tecnai iCorr生物电镜。FEI的产品线已经非常全面，也针对不同用户都有相应的解决方案。日本电子JEOL拥有性价比极高的2100系列和高端的ARM200F及最新发布的ARM300F，一直在中端市场表现不错，依然是电镜分析实验室日常应用的首选。日立Hitachi在TEM方面没有什么新的机型，俨然重点已经转向SEM，集中加强自己在冷场SEM中的优势。蔡司Zeiss在2013年选择全面退出TEM的市场，开始专注经营自己的SEM/Dual Beam市场。早先Zeiss 的libra系列有着不错的设计和性能，内置的omega filter和kohler照明系统更是独门利器，着实可惜。Zeiss现在依然在开发独家的氦离子电镜和X光电镜，未来都可能成为亮点。SEM方面各家竞争愈发激烈，战线都已经延长到了dual beam FIB/SEM 和特殊的correlative SEM。Tescan全面发力，在美国设置独立服务机构的同时开发了许多新型号的SEM。最引人注目的是和Witec合作开发的全球首款集合了Raman和SEM的RISE系统，去年在MM大会首发并得到了今年光学界大奖Photonics Prism Award。http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2015/07/201507281045_557497_1982636_3.jpg2）STEM 对于国内不太熟悉的Dedicated STEM, 去年的NION着实让业界惊叹。配合多级球差校正系统，传统UltraSTEM系列早已拥有了超高的分辨率和稳定性。可惜对于电子能量损失谱EELS的分辨率一直不够理想,普遍仅仅能维持在1eV左右。而目前装了单色器monochromator的TEM已经可以轻松达到0.15eV甚至0.1eV。传奇人物Krivanek（Nion和Gatan的创始人，EELS谱仪的发明人之一），他重新设计了monochromator并实现了在新的Nion HERMES上的惊人的20meV(0.02eV，传言说目前已经逼近6meV)EELS分辨率!记得在去年大会中，NION远程操作位于ASU的UltraSTEM100，现场演示了0.02 eV的分辨率，十分惊人。这意味着EELS已经可以拥有了和XAS类似的分辨率，可以捕捉到更加丰富的价态信息和对轻元素的定量分析，包括各种coreloss范围的键态信息，low-loss范围的surface plasmon，甚至exiton等信息。http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2015/07/201507281046_557498_1982636_3.jpg3）其他EM设备去年伴随着Insitu，cryo和correlative类技术的发展，各大EM设备供应商都推出了很多有特色的产品。第一个值得注意的是EM设备的大厂Gatan推出了适应于serial block-face SEM (SBSEM)的3View系统，结合了一个装在SEM内部的超薄切片机可以更方便的实现各个尺度的三维重建。Zeiss已经是第一个支持这个系统的厂家，未来将在更多厂家上支持。第二个是Protochips推出的最新insitu样品杆，可以提供精确控制气压，气体组成和温度，对于需要研究原子尺度的反应大有帮助。另外，Fischione推出了最新的cryo holder让人眼前一亮。全新的样品装载装置比传统样品杆更为简便快捷，打破了原来Gatan的垄断的cryo holder市场。http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2015/07/201507281050_557499_1982636_3.png【2015大会总结】 今年的M&M从重量级的开场嘉宾开始，华人诺贝尔化学奖得主钱永建的在会议第一天作了题为" New Molecular Tools for Light and ElectronMicroscopy"的报告。报告着重提到了CorrelativeEM在生物领域的最新进展和传统EM的最新引用。会议依旧按照三大主题安排：显微新技术，物理类显微分析和生物类显微分析。在TEM新技术方面，主要是围绕in-situ，low-voltage还有dynamic 4D技术展开。在SEM方面，多种新技术包括新的光学关联显微技术，空气SEM和连续切片显微技术都吸引了很多关注。物理应用方面大量的研究依旧集中在新能源材料和二维碳基材料领域。生物方面并没有太多的亮点，cryo和3D依然是中心。另外，会议还特别开辟了针对EELS分析和模拟实验结合的议题。产品方面，SEM依然是厂商火力最集中的地方。新发布的SEM系统和设备包括Zeiss Gemini500系列和特殊的MultiSEM多电子束快速SEM，JEOL的JSM7200和最新的Soft X-ray探测器，Hitachi在SU92

  • 【资料】微分干涉相衬法及其应用

    [size=3][font=宋体][/font][size=2][font=宋体][/font][/size][/size][size=2][font=宋体]微分干涉相衬法（DIC）作为一种极具前途的分析检验方法，具有对金相样品的制备要求较低，所观察到的样品各组成相间的相对层次关系突出，呈明显的浮雕状，对颗粒、裂纹、孔洞以及凸起等能作出正确的判断，能够容易判断许多明场下所看不到的或难于判别的一些结构细节或缺陷，可进行彩色金相摄影等优点。但在目前的金相检验工作中，DIC法还利用得很少。[/font][/size][size=2][font=宋体]在金相显微镜检验方法中，微分干涉相衬法（DIC）是金相检验的一种强有力的工具，其特点主要为:[/font][/size][size=2][font=宋体]对金相样品的制备要求降低，对于某些样品，甚至只需抛光而不必腐蚀处理即可进行观察。优点是可以观察到样品表面的真实状态，如将试样抛光后在真空下发生马氏体相变，不用腐蚀就可以观察到马氏体的相变浮凸。 [/font][/size][size=2][font=宋体]所观察到的表面具有明显的凹凸感，呈浮雕状，样品各组成相间的相对层次关系都能显示出来，对颗粒、裂纹、孔洞以及凸起等都能作出正确的判断，提高了金相检验准确性，同时也增加了各相间的反差。 [/font][/size][size=2][font=宋体]用微分干涉相衬法观察样品，会看到明场下所看不到的许多细节，明场下难于判别的一些结构细节或缺陷，可通过微分干涉进行反差增强而容易判断。 [/font][/size][size=2][font=宋体]微分干涉相衬法基于传统的正交偏光法，又巧妙地利用了在渥拉斯顿棱镜基础上改良的DIC 棱镜和补色器（[/font][/size][size=2][font=Arial]λ-[/font][/size][size=2][font=宋体]片）等，使所观察的样品以光学干涉的方法染上丰富的色彩，从而可利用彩色胶卷或者数码产品（CCD 摄像头以及数码相机）进行彩色金相显微摄影。由于微分干涉相衬得效果与样品细节的浮雕像以及色彩都是可以调节的，因而比正交偏光更为优越。 [/font][/size][size=2][font=宋体]微分干涉相衬法在生物医学领域得到了广泛的重视，然而，到目前为止从发表的有关材料金相研究的论文中，国内外基于微分干涉相衬法进行材料金相研究的工作开展得很少。其原因主要有两个方面:一方面是由于配备微分干涉相衬部件的金相显微镜不是很多；另一方面，许多材料科学工作者还没有意识到微分干涉相衬法在材料研究中的优势。[/font][/size][size=2][font=宋体]一、微分干涉相衬法的基本原理：[/font][/size][size=2][font=宋体]微分干涉相衬法所需部件：起偏器、检偏器、微分干涉相衬组件插板（DIK组件插板），以及补色器（[/font][/size][size=2][font=Arial]λ- [/font][/size][size=2][font=宋体]片）。起偏器和检偏器是在对金相样品进行正交偏振光观察中必不可少的基本配套部件，组装在明/暗场照明组件中，也是微分干涉相衬法必不可少的部件。起偏器是把光源变为按东- 西方向振动的线偏振光；检偏器可以使满足干涉条件的相干光进行干涉。DIK组件插板是微分干涉相衬法的核心部件，其上装配有以渥拉斯顿棱镜为基础改良后的DIC棱镜。DIK组件插板上有两个调节旋钮，其中较大的一个用来调节组成DIC棱镜的两个棱镜间的相对位置，使其厚度产生微小的改变从而引起光程或光程差的微小变化，产生明显的干涉相衬效果；较小的一个用来调节DIC棱镜的高低位置，以配合不同倍数物镜后焦平面位置上的差异，从而确保DIC观察视场中能获得均匀的照明。补色器（[/font][/size][size=2][font=Arial]λ- [/font][/size][size=2][font=宋体]片）由石膏制成，插在线偏振光的照光路中用以增加一个光波波长约550nm的光程差，使干涉级序升高一级，保证视野中样品的不同组织细节获得丰富的色彩，从而利于金相组织的观察和分析。 [/font][/size][size=2][font=宋体]微分干涉相衬的基本原理：微分干涉相衬法的基本原理如图1所示。由光源出射的照明光经起偏器后变为东-西方向振动的线偏振光，第一次进入DIC棱镜内部时分为寻常光（o光）和非寻常光（e光），这两束光微微分开，而其振动方向相互垂直。当o光和e光穿出棱镜时，两者具有一定的光程差T1，这两束光通过物镜照射到样品上时，就有可能照射于不同的表面状态上。也就是说，这两束光的波前接触到了样品上的不平整表面、裂纹、微孔、凹陷、晶界等，都会产生不同情况的反射，再加上不同物相上光的折射率差异产生的光波相位变化，从而产生了新的附加光程差T0。当这两束光由样品表面反射后，穿过物镜第二次进入DIC棱镜，波前又产生了新的光程差T2 并进行合并。但这两束光仍然是相互垂直的线偏振光，并未产生干涉。在进入检偏器之前，总的光程差T总=T1±T0±T2只有符合光程差条件T总=（2k + 1）[/font][/size][size=2][font=Arial]λ/2[/font][/size][size=2][font=宋体]，其中（k= 0，1，2等） 的光波波前，才可能通过检偏器。也就是说，线偏振光两次通过DIC棱镜后，只有那些经样品反射而其总光程差等于所用光源光波半波长奇数倍的波前，才能满足干涉条件而通过检偏器而进行干涉。当将DIC棱镜的两半部分进行适当的移动（即调节DIK 插板上较大的旋钮），则T1和T2 的比率就会发生变化:调节旋钮使DIC 棱镜在显微镜的光轴上为对称时（即棱镜上下两半部分没有相对位移），有T1=T2，视场中光强分布只与光程差T0有关，而T0是由样品上的不平整度以及物相造成的光波相位变化而引起的光程差。除了在样品表面上由于物相间折射率的差异导致的光波相位变化而引起的光程差之外，这种干涉方法所引起的样品光程差与o光和e光的分开距离x值（低于显微镜的分辨率极限，约012[/font][/size][size=2][font=Arial]μm[/font][/size][size=2][font=宋体]）有关，还与样品表面上物相表面高度变化（凸起或凹下）梯度tg[/font][/size][size=2][font=Arial]α[/font][/size][size=2][font=宋体]（[/font][/size][size=2][font=Arial]α[/font][/size][size=2][font=宋体]为o光或e光入射于样品表面的入射角）有关。即样品成像的反差取决于o光和e光波前在样品表面物相凸起或凹下的高度变化梯度所引起的光程差。当调节旋钮使DIC 棱镜上下两半部分产生相对位移时，物相表面凸起或凹下两个相反梯度所引起的光强差异就在显微镜的成像中产生了浮雕效果如图2所示，与单一方向斜射照明光所产生的近似立体效果相同。此时干涉效果是零级干涉级序下的微分干涉效果，灰度最大者为零级灰，在零级干涉级序下干涉相衬的效果最佳，同时也是最大的，但仅能以不同灰度层次显示。把补色器（或[/font][/size][size=2][font=Arial]λ-[/font][/size][size=2][font=宋体]片）加在线偏振光的照明或检偏器之前的成像光路中，可以将线偏振光在样品不同物相或表面上引起的光程差扩大约550nm ，也就是扩大一个光波波长的长度，使干涉级序提高一级，把原先干涉出来仅以不同灰度显示出来的层次转为色彩鲜艳且富有立体感的彩色，零级灰转为红色（一级红），而其它的灰度阶也依次变为橙、黄、绿、紫、粉紫以至于金黄色等对应的颜色如图3 （见彩图页） 所示。虽然加入补色器后干涉出来的色彩非常丰富，但干涉相衬的效果（即浮雕效果） 要相应减弱一些。 [/font][/size]

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