花岗石表座

这些盖玻片都由纯白玻璃制造，表面刻蚀了永久栅格。它有2种型式可选：l 方形刻蚀坐标盖玻片2号厚度的盖玻片有520个带标记的方格，每个方格的大小是600 x 600μm方便细胞或染色体的展开 l 圆形刻蚀坐标盖玻片25mm直径。厚度2号的盖玻片有1-200个方格，每个方格500um宽可以放入六孔板适合活细胞的生长观察 订购信息：货号产品名称规格72264-18刻蚀坐标盖玻片18 x 18 mm 25/盒 72264-23 刻蚀坐标盖玻片23 x 23 mm 25/盒72265-12刻蚀坐标盖玻片12 mm Diameter25/盒72265-25刻蚀坐标盖玻片25mm Diameter25/盒72265-50刻蚀坐标盖玻片25mm Photo-Etched German Glass 25/盒

三坐标加长杆和三坐标测头合作、共赢！美国热电：直读光谱仪ARL8860、XRF、XRD ICP、电镜、电子能谱仪德国徕卡：金相显微镜、体视显微镜、电镜制样设备英斯特朗：疲劳试验机、万能试验机； 摆锤冲击试验机、落锤冲击试验机东京精密：圆度仪、轮廓仪、粗糙度仪、三坐标美国法如：激光跟踪仪、关节臂及扫描 日本奥林巴斯手持光谱仪 德国帕马斯颗粒计数器租赁检测：便携式三坐标、激光跟踪仪、3D扫描仪为客户提供专业的检测服务，帮客户挖掘新的赢利空间！上海澳信检测技术有限公司青岛澳信仪器有限公司青岛澳信质量技术服务有限公司联系地址：青岛市城阳区山河路702号上海地址：上海浦东新区川沙路1098号新美测（青岛）测试科技有限公司提供测试服务：静态力学测试主要包括拉伸、压缩、弯曲、剪切等；动态疲劳测试主要包括：拉拉疲劳、拉压疲劳、压压疲劳、裂纹扩展速率等

◆ 整组采用 SUS316 不锈钢制作BioVac 300 多孔不锈钢过滤座整台每一部位均使用高级不锈钢材料 SUS316 制作。耐腐蚀能力强，能使用火焰、蒸气及烤箱等灭菌。 ◆ 专利旋卡紧扣设计 BioVac 300 多孔不锈钢过滤座采用洛科专利(M381450)旋卡扣紧技术，不但安装快速、紧密且不需使用夹具。 ◆ 独立控制开关 BioVac 300 多孔不锈钢过滤座每个滤座皆可独立控制 ◆ 可搭配不同大小过滤杯BioVac 300 多孔不锈钢过滤座可以随意搭配 500, 750, 1000ml 等三种过滤杯，可方便各种过滤实验使用 3孔不锈钢过滤座 : 保固期限 ◆ 2年免费零件服务 3孔不锈钢过滤座: 产品应用 ◆ 微生物检测◆ 化工实验◆ 各种液体过滤◆ 空气采样 3孔不锈钢过滤座 : 订购资讯 ◆ 167101-23BioVac 300 3孔不锈钢过滤座(不含不锈钢过滤杯) ◆ 167102-50500ml 不锈钢过滤杯 ◆ 167102-75750ml 不锈钢过滤杯 ◆ 167102-991000ml 不锈钢过滤杯 ◆ 167110-20不锈钢过滤杯盖(适用上述三种滤杯) 基本规格 : ◆ 孔 数： 3孔 (可独立控制)◆ 耐 压： 3000 psi◆ 搭配过滤杯容量： 500/750/1000 ml◆ 适用滤膜直径： 47mm / 50mm◆ 适用软管内径： 5/16 in. (8 mm) ◆ 有效过滤面积： 9.6 cm2◆ 材 质： 　主体 - SUS316　独立控制阀 - SUS316　过滤漏斗杯 - SUS316　滤膜垫片 - SUS316　手把 - SUS316　接头 - SUS316 产品特色 :◆ 产品提供2年免费零件服务◆ 整组采用 SUS316 不锈钢制作◆ 专利旋卡紧扣设计◆ 独立控制开关◆ 可搭配不同大小过滤杯

Gilder SEM载网英国Gilder制造，又称finder grids载网。外径3.05mm，厚度18微米。你需要将载网上的样本定位时，这种坐标载网恰好满足你的要求。我们这里向您介绍常用的两种型号，SEMF2和SEMF3型。Type SEMF2：普通载网上呈菱形分布57个小方块，每个小方块分别以1-57数字标识，一目了然。每个区域又被细分为4份，这样整个载网上就有228块被定位了的区域。Overall Diameter:10 mmOverall Thickness:~50 μmMaterial:Copper, Nickel or GoldType SEMF3：普通载网上分出25个区域，用数字、字母标识坐标。通过载网圆周非对称特性标记整个载网坐标方向。Overall Diameter:10 mmOverall Thickness:~50 μmMaterial:Copper, Nickel or Gold 货号产品名称规格80102-CuSEMF2,Copper坐标铜网10/vial80102-NiSEMF2,Nickel坐标镍网10/vial80102-AuSEMF2,Gold坐标金网5/vial80103-CuSEMF3,Copper坐标铜网10/vial80103-NiSEMF3,Nickel坐标镍网10/vial80103-AuSEMF3,Gold坐标金网5/vial

产品特点：气缸座，壁挂式Cylinder Holders, Wall Mounted防止重伤！ 这些支架设计用于防止独立式气瓶倾翻并伤害人员。 铸铝支架可以固定在墙壁或工作台的侧面。 每个安装座将固定直径为4-15英寸的圆柱体。订货信息：Cylinder Holders, Wall MountedCatalog #SizeUnits21333Singleea.23400Doubleea.23401Tripleea.23402Quadrupleea.

单晶硅标样, 用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm，方格间距10μm，线宽1.9μm，通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线，用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成，深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。随标样提供校准证书，但需支付额外费用。保证的准确度为10％。标样由英国NPL实验室（National Physical Laboratory）用激光干涉测量法测定。

单晶硅标样, 用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm，方格间距10μm，线宽1.9μm，通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线，用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成，深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。随标样提供校准证书，但需支付额外费用。保证的准确度为11％。标样由英国NPL实验室（National Physical Laboratory）用激光干涉测量法测定。

单晶硅标样, 用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm，方格间距10μm，线宽1.9μm，通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线，用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成，深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。随标样提供校准证书，但需支付额外费用。保证的准确度为10％。标样由英国NPL实验室（National Physical Laboratory）用激光干涉测量法测定。

单晶硅标样, 用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm，方格间距10μm，线宽1.9μm，通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线，用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成，深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。随标样提供校准证书，但需支付额外费用。保证的准确度为12％。标样由英国NPL实验室（National Physical Laboratory）用激光干涉测量法测定。

单晶硅标样, 用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm，方格间距10μm，线宽1.9μm，通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线，用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成，深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。随标样提供校准证书，但需支付额外费用。保证的准确度为12％。标样由英国NPL实验室（National Physical Laboratory）用激光干涉测量法测定。

单晶硅标样, 用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm，方格间距10μm，线宽1.9μm，通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线，用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成，深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。随标样提供校准证书，但需支付额外费用。保证的准确度为13％。标样由英国NPL实验室（National Physical Laboratory）用激光干涉测量法测定。

单晶硅标样, 用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm，方格间距10μm，线宽1.9μm，通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线，用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成，深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。随标样提供校准证书，但需支付额外费用。保证的准确度为13％。标样由英国NPL实验室（National Physical Laboratory）用激光干涉测量法测定。

单晶硅标样, 用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm，方格间距10μm，线宽1.9μm，通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线，用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成，深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。随标样提供校准证书，但需支付额外费用。保证的准确度为11％。标样由英国NPL实验室（National Physical Laboratory）用激光干涉测量法测定。

不锈钢表层海水温度计由上海书培实验设备有限公司生产提供，表层温度计主要用于海洋水库等表面水温的测量，产品有-6+40℃和-6+41℃两种温度范围，配有多种材质的外壳。产品介绍：产品名称：表层温度计温度范围：-6+40℃/-6+41℃表芯：水银/红水长度：30cm作原理和使用方法：产品测量范围为-6+40℃/-6+41℃，分度0.2℃的玻璃水银温度表和不锈钢、铜制、铁制等外壳组成的装置在现场测量海水表层(0～1m)水的表层温度。用表层水温表测量时应先将金属管上端的提环用绳子栓住，在离船舷0.5m以外的地方放入0～1m水层中，待与外部的水达到热平衡之后，即感温3min左右，迅速提出水面读数，然后将筒内的水倒掉，把该表重新放入水中，再测量一次，将两次测量的平均值按检定规程修订后，即为表层水温的实测值。记录温度读数。风浪较大时，可用水桶取水进行测量，水桶由不易传热的材料制成，其容量约为5L～10L。测量时把表层水温表放入水桶内，感温1min～2min后，将水桶和表管中的水倒掉，重新取水，将该表再放入水桶中，感温3min读数，然后过1min再读数，当气温高于水温时，把两次读数偏低的一次读数，按检定规程修订后的值，即为表层水温的实测值。反之，把两次读数偏高的一次读数，按检定规程修订后的值。即为表层水温的实测值。记录水温读数。在测量水温的同时测量、记录当时的气温。并记录调查船所在海区、站号、站位（经度和纬度）等信息。产品介绍表格：产品名称温度范围单价品牌304不锈钢表层温度计水银表芯 -6+40℃235上海书培304不锈钢表层温度计红水表芯 -6+40℃225上海书培201不锈钢表层温度计水银表芯 -6+40℃195上海书培201不锈钢表层温度计红水表芯 -6+40℃185上海书培 铜套表层温度计水银表芯 -6+40℃285上海书培铁套表层温度计水银表芯 -6+40℃125上海书培铁套表层温度计红水表芯 -6+40℃115上海书培塑料表层温度计水银表芯 -6+40℃85上海书培塑料表层温度计红水表芯 -6+40℃75上海书培304不锈钢表层温度计红水表芯 0-100℃225上海书培201不锈钢表层温度计红水表芯 0-100℃215上海书培红水表芯-6+40℃35上海书培水银表芯-6+40℃40上海书培木盒配套30上海书培浮漂水温计0-50℃50上海书培备注：温度计范围另有-6+41℃，需计量院过检请先咨询使用时请注意以下几点：一：测温时要避开船只排水的影响。二：冬季采的水不应带有冰块或雪球。三：读数时视线与表层水温表和毛细管顶端处在同一水平面，还要避免阳光的直接照射。

单晶硅标样,用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm，方格间距10μm，线宽1.9μm，通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线，用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成，深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。单晶硅标样,随标样提供校准证书，但需支付额外费用。保证的准确度为3％。标样由英国NPL实验室（National Physical Laboratory）用激光干涉测量法测定。

单晶硅标样,用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm，方格间距10μm，线宽1.9μm，通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线，用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成，深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。单晶硅标样,随标样提供校准证书，但需支付额外费用。保证的准确度为2％。标样由英国NPL实验室（National Physical Laboratory）用激光干涉测量法测定。

单晶硅标样,用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm，方格间距10μm，线宽1.9μm，通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线，用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成，深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。单晶硅标样,随标样提供校准证书，但需支付额外费用。保证的准确度为7％。标样由英国NPL实验室（National Physical Laboratory）用激光干涉测量法测定。

单晶硅标样, 用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm，方格间距10μm，线宽1.9μm，通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线，用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成，深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。单晶硅标样, 随标样提供校准证书，但需支付额外费用。保证的准确度为6％。标样由英国NPL实验室（National Physical Laboratory）用激光干涉测量法测定。

单晶硅标样, 用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm，方格间距10μm，线宽1.9μm，通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线，用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成，深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。单晶硅标样, 随标样提供校准证书，但需支付额外费用。保证的准确度为8％。标样由英国NPL实验室（National Physical Laboratory）用激光干涉测量法测定。

单晶硅标样, 用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm，方格间距10μm，线宽1.9μm，通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线，用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成，深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。单晶硅标样, 随标样提供校准证书，但需支付额外费用。保证的准确度为4％。标样由英国NPL实验室（National Physical Laboratory）用激光干涉测量法测定。

单晶硅标样,用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm，方格间距10μm，线宽1.9μm，通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线，用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成，深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。单晶硅标样,随标样提供校准证书，但需支付额外费用。保证的准确度为2％。标样由英国NPL实验室（National Physical Laboratory）用激光干涉测量法测定。

单晶硅标样,用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm，方格间距10μm，线宽1.9μm，通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线，用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成，深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。单晶硅标样,随标样提供校准证书，但需支付额外费用。保证的准确度为3％。标样由英国NPL实验室（National Physical Laboratory）用激光干涉测量法测定。

单晶硅标样,用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm，方格间距10μm，线宽1.9μm，通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线，用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成，深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。单晶硅标样,随标样提供校准证书，但需支付额外费用。保证的准确度为7％。标样由英国NPL实验室（National Physical Laboratory）用激光干涉测量法测定。

单晶硅标样, 用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm，方格间距10μm，线宽1.9μm，通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线，用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成，深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。单晶硅标样, 随标样提供校准证书，但需支付额外费用。保证的准确度为5％。标样由英国NPL实验室（National Physical Laboratory）用激光干涉测量法测定。

单晶硅标样, 用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm，方格间距10μm，线宽1.9μm，通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线，用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成，深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。单晶硅标样随标样提供校准证书，但需支付额外费用。保证的准确度为9％。标样由英国NPL实验室（National Physical Laboratory）用激光干涉测量法测定。

单晶硅标样, 用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm，方格间距10μm，线宽1.9μm，通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线，用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成，深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。单晶硅标样, 随标样提供校准证书，但需支付额外费用。保证的准确度为8％。标样由英国NPL实验室（National Physical Laboratory）用激光干涉测量法测定。

单晶硅标样, 用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm，方格间距10μm，线宽1.9μm，通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线，用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成，深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。单晶硅标样, 随标样提供校准证书，但需支付额外费用。保证的准确度为4％。标样由英国NPL实验室（National Physical Laboratory）用激光干涉测量法测定。

单晶硅标样, 用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm，方格间距10μm，线宽1.9μm，通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线，用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成，深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。单晶硅标样, 随标样提供校准证书，但需支付额外费用。保证的准确度为5％。标样由英国NPL实验室（National Physical Laboratory）用激光干涉测量法测定。

单晶硅标样, 用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm，方格间距10μm，线宽1.9μm，通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线，用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成，深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。单晶硅标样随标样提供校准证书，但需支付额外费用。保证的准确度为9％。标样由英国NPL实验室（National Physical Laboratory）用激光干涉测量法测定。

单晶硅标样, 用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm，方格间距10μm，线宽1.9μm，通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线，用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成，深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。单晶硅标样, 随标样提供校准证书，但需支付额外费用。保证的准确度为6％。标样由英国NPL实验室（National Physical Laboratory）用激光干涉测量法测定。