框式涂布器

狭缝挤出式涂布机，钙钛矿太阳能电池涂布机，薄膜喷涂机,全自动喷涂机产品简介涂布系统主要包括供料单元和涂布单元，涂布单元是通过利用精密机械加工所制作的上下模及安装在上下模间的薄垫片所组成，供料单元由储料、输送的注射泵及过滤装置等组成。系统由涂布模具相对于基片作精确运动，通过控制速率、精密计量和泵送工艺流体，将液体化学材料从上下模之间的缝隙挤出涂布于移动的基板（玻璃、不锈钢和塑料等）上形成薄膜。涂膜厚度可由液体流量与基板移动速度直接计算，其优点为涂膜均匀性高、可适用的涂料粘度范围广、涂布速度快、以及可制作大面积的涂膜。适用于有机太阳能电池OPV和钙钛矿太阳能电池PVK等基材的涂布，非连续基材如LCD玻璃基板光阻涂布，也应用于光学膜（增亮膜、hardcoat、偏光膜、扩散膜等）、OLED涂布等。多种规格尺寸可选可定制，多种人性化配置可选：加热台、特殊气体吹淋系统、多尺寸刀头，多规格垫片等，满足客户多种需求，为客户量身定制高精密专业设备。 性能特点• 设备整体采用两级调整确保大面积平台水平度，涂布平台有单独的调平机构，平台是否平整作为工艺门槛的第.一步相当于地基。• 涂布刀头采用专用合金，特殊表面热处理的进口大尺寸刀头（自有专利设计技术），防有机溶剂，防形变。• Z轴采用伺服电机配合编码器加光栅尺双闭环，确保刀头的位置精度，和刀头的水平度。• 集成化注射泵，可联动控制溶液流速，自动进液，自动除气，自动管路清洗（需要配备清洗液，刀头需拆卸清洗）。• 涂布平台运行机构采用直线伺服电机提高平台稳定性，将工艺中影响的因素减到极.致。• 废液回收系统，可配合管路清洗进行废液回收，方便废液处理。• 涂布平台带有多区域真空吸附功能，基底定位功能，方便基底定位以及涂布过程的固定。• 多段式涂布工艺，更好的保证基底首尾膜厚的控制。 应用领域 - 有机光伏太阳能电池OPV；- 钙钛矿太阳能电池PerovskitePV；- 平板显示(FPD),OLED；- 石墨烯，碳纳米管；- 超级电容；- 及其他光伏应用； 技术参数涂布面积100*100mm(可定制)涂布平台尺寸120*120mm(可定制)涂层干膜厚度0.5-0.8um固含量10-50%液膜均匀性≤±5%~±10%固态膜均匀性 ≤±5%~±10%粘度1-2000cps涂布速度0-1000mm/s出液速度0.01-500ul/s刀头高度0-100mm刀头水平度±2um刀头狭缝宽度0.05/0.08/0.1mm刀头有效宽度100mm(可定制) 应用案例上海交大

KPA实验室小型涂布机基于K101涂布打样机改进而成，专用于涂料等方面。被广泛用于油漆、油墨的打样制备，使用它打样可以达到非常好的重复性和一致性。KPA使用间隙涂布器涂布，可在卡纸、钢板及其它多种底材上打样。制备好的样品可以广泛用于包括质量控制、老化测试、遮盖力测试、对色和其它一系列标准测试中。小型涂布机优点：　　? 恒定的速度和压力保证良好的重复性 　　? 涂布速度从2~15米/分钟可调 　　? 操作简单，清洁简单 　　? 标准配置的压印床能确保打样的平整，清洁更容易 　　? 可以使用多种间隙涂布器如鸟型涂布器、四面涂布器等 　　? 符合ASTM D823-92a 　　? 大多数涂布器都适用，如鸟型涂布器、方型涂布器、四面涂布器和微调式涂布器等。 　　? 提供真空、磁性和加热压印床供用户选购。　　? 配备平整玻璃压印床，确保涂布平整。小型涂布机用途：使用间隙式涂布器，自动在测试卡纸、钢板和其它多种底材上涂布，制备涂层。用于质量控制、老化测试、遮盖力和其它标准测试如比色等用途。小型涂布机参数：　　电源：220V 电压，50Hz。　　涂布速度：2~15米/分钟可调。　　配置玻璃压印床，大多数标准间隙涂布器如鸟形涂布器、方形涂布器等都适合使用。

狭缝式涂布(Slot Die Coating)是一种高精密的涂布方式，不仅用于光学膜(增亮膜、hardcoat、偏光膜、扩散膜等)、OLED涂布等，还可以用于有机太阳能电池OPV和钙钛矿太阳能电池PVK等成卷基材的涂布，也应用于非连续基材如LCD玻璃基板光阻涂布。狭缝涂布技术适用于各种涂布液，可广泛应用于不同基材表面的涂布，如玻璃，不锈钢和塑料基片涂布模具相对于基片高精度地运动，并高精度检测控制工艺流体及其涂布速度。桌面式狭缝涂布机 （CS-18）特点&优势：1. 涂布效果好，进口涂布刀头，针对高一致性、 化学兼容性、低充填容量和条状涂布设计。涂布平整均匀度可达±5%。2. 操控精度高，涂布速率（稳态涂布）和涂布轮廓（前后边缘）的高精度数字化控制，可实现膜厚500nm~50um。3. 涂布面积大，支持有效涂布宽度100mm~500mm。4. 预计量工具，可前期计算工艺参数，减少溶液浪费。 材料利用率可达95%5. 能够满足不同阶段需求：从研发（实验型）到中试型、量产型6. 高度可定制，支持更大涂布面积定制、多种规格选配如风刀、真空吸附、加热台、双头注液泵等，支持高粘度材料。过程参数：涂布间隙控制：高精度，动态控制涂布头高度 (z轴)模具运动控制: 在涂布方向上(x轴)精确控制模具的运动轨迹(包括加速和减速参数) 模具设计: 针对高一致性、化学兼容性、低充填容量 和 条状涂布进行模具设计制造涂布控制: 涂布速率(稳态涂布) 和涂布轮廓 (前后边缘)的高精度数字化控制控制软件: 所有配方参数，数据监控和反馈控制，数据采集分析。有效涂布面积100mm*100mm/200mm*200mm涂布平台面积220mm*220mm涂层湿膜厚度10-200um涂层干膜厚度0.5-10um固含量10-50%粘度1-20000cps涂布速度0-100mm/s出液速度0.1-60mL/min储液罐容量50ml涂布有效宽度200mm刀头高度0-50mm模头与平台距离精调可调范围：0-10mm单位调节精度：0.001mm粗调可调范围：0-50mm刀头水平度±2um平台平整度±1.5um刀头狭缝宽度0.05/0.08/0.1mm（由垫片厚度决定）电源电压AC 220V x 50Hz基台固定真空吸附基台配置原位加热功能，温度200℃，控温精度±2℃（可选）额外配置风刀+对刀仪（可选）应用领域：平板显示LCD, OLED, Flexible, Touch ScreenLCD, OLED, 柔性显示, 触摸屏太阳能光伏PV including CIGS, CdTe, OPV and C-Si固态照明OLED lighting高附加值玻璃可调光智能玻璃, 博物馆用玻璃半导体, 微机电系统, 无线射频识别, 聚合物电池, 和各种有机及打印电子器件

Slotdie狭缝式涂布机采用的是一种高精密的预计量涂布方式不仅用于机太阳能电池OPV和钙钛矿太阳能电池PVK等成卷基材的涂布，还可以用于实验室研发聚酰亚胺浆料配方的涂布、OLED涂布、光学膜(增亮膜、hardcoat、偏光膜、扩散膜等)等涂布，也应用于非连续基材如LCD玻璃基板光阻涂布。Slotdie狭缝式涂布由涂布模头相对于基片作精确运动，通过控制速率、精密计量和泵送工艺流体，将液体化学材料从上下模之间的缝隙挤出涂布于移动的基板（玻璃、不锈钢和塑料等）上形成薄膜。涂膜厚度可由液体流量与基板移动速度直接计算，其优点为涂膜均匀性高、可适用的涂料粘度范围广、涂布速度快、涂布系统封闭，在涂布过程中能防止污染物进入以及可制作大面积的涂膜等。桌面式狭缝涂布机 （CS-18） 特点&优势：1. 涂布效果好，进口涂布刀头，针对高一致性、 化学兼容性、低充填容量和条状涂布设计。涂布平整均匀度可达±5%。2. 操控精度高，涂布速率（稳态涂布）和涂布轮廓（前后边缘）的高精度数字化控制，可实现膜厚500nm~50um。3. 涂布面积大，支持有效涂布宽度100mm~500mm。4. 预计量工具，可前期计算工艺参数，减少溶液浪费。 材料利用率可达95%5. 能够满足不同阶段需求：从研发（实验型）到中试型、量产型6. 高度可定制，支持更大涂布面积定制、多种规格选配如风刀、真空吸附、加热台、双头注液泵等，支持高粘度材料。过程参数：涂布间隙控制：高精度，动态控制涂布头高度 (z轴)模具运动控制: 在涂布方向上(x轴)精确控制模具的运动轨迹(包括加速和减速参数) 模具设计: 针对高一致性、化学兼容性、低充填容量 和 条状涂布进行模具设计制造涂布控制: 涂布速率(稳态涂布) 和涂布轮廓 (前后边缘)的高精度数字化控制控制软件: 所有配方参数，数据监控和反馈控制，数据采集分析。有效涂布面积100mm*100mm/200mm*200mm涂布平台面积220mm*220mm涂层湿膜厚度10-200um涂层干膜厚度0.5-10um固含量10-50%粘度1-20000cps涂布速度0-100mm/s出液速度0.1-60mL/min储液罐容量50ml涂布有效宽度200mm刀头高度0-50mm模头与平台距离精调可调范围：0-10mm单位调节精度：0.001mm粗调可调范围：0-50mm刀头水平度±2um平台平整度±1.5um刀头狭缝宽度0.05/0.08/0.1mm（由垫片厚度决定）电源电压AC 220V x 50Hz基台固定真空吸附基台配置原位加热功能，温度200℃，控温精度±2℃（可选）额外配置风刀+对刀仪（可选）应用领域：平板显示LCD, OLED, Flexible, Touch ScreenLCD, OLED, 柔性显示, 触摸屏太阳能光伏PV including CIGS, CdTe, OPV and C-Si固态照明OLED lighting高附加值玻璃可调光智能玻璃, 博物馆用玻璃半导体, 微机电系统, 无线射频识别, 聚合物电池, 和各种有机及打印电子器件

多面涂布器多面涂布器用于涂布8种不同的漆膜厚度，涂布宽度为60mm。涂布器材质为高级不锈钢，能够保证涂布器不受涂料或清洗剂中的酸性物质或碱性物质的侵蚀。 多面涂布器产品简介多面涂布器用于涂布8种不同的漆膜厚度，涂布宽度为60mm。涂布器材质为高级不锈钢，能够保证涂布器不受涂料或清洗剂中的酸性物质或碱性物质的侵蚀。

TQC鸟型涂布器涂料的遮盖力、不透明性、耐擦洗能力、抗流挂性能及其他品质试验都必须有一个一致性好，重复性佳的涂层，涂布器就是一种可以涂出所需要的从几微米到上千微米以上的湿膜厚度涂层的仪器。TQC鸟型涂布器产品介绍QC 棱柱形鸟型涂布器有VF2161、VF2162、VF2163三种型号，鸟型涂布器有一条间隙，清洗容易,并且鸟型涂料涂布器材质为高级不锈钢，不受涂料或清洗剂中的酸性物质或碱性物质的侵蚀，非常耐用。另外，鸟型涂料涂膜器(湿膜制备器)的4个涂漆面可应用于布4种不同的漆膜厚度，使用简单有效。根据不同涂布宽度区分型号。鸟型涂膜器的涂装宽度为50mm(2英寸)，75mm(3英寸)，100mm(4英寸)，适用子大多数产品和相应的固体基质上。技术参数TQC鸟型涂布器使用方法将试板放在平台上，并予以固定。按产品规定湿膜厚度，选用适宜间隙的涂布器。将其放在试板的一端，涂布器的长边与试板的短边大致平行或放在试板规定的位置上，然后在涂布器的前面均匀地放上适量试样握住涂布器用一定的向下压力并以的速度匀速滑过试板即涂布成需要厚度的湿膜。TQC鸟型涂布器产品图片

小型台式狭缝涂布仪台式狭缝涂布机结构紧凑，价格实惠，使用简单。体积小巧，但外壳坚固，系统精确度高 - 对于那些希望在小型实验室中扩大其加工技术的人来说，它是完美的选择。 狭缝涂布系统为您的研究提供以下益处：- 不锈钢槽模头为您提供均匀的分配解决方案；- 内置便捷的操作软件 - 该系统拥有自己的独立数字控制系统，因此您无需将其连接至外部计算机；- 可互换的垫片 - 通道厚度可变，通用性更高；- 内置注射泵 - 因此您可以同步开始时间，不需要单独接外部注射泵；- 在加热阶段，温度可控制在120°C - 更好地使溶液润湿；- 行程距离可达10厘米 - 可放大设备尺寸（最多可达50平方厘米）；- 速度从1mm / m到10mm / s的电动操作台 - 为控制弯月面提供了一个宽广的加工窗口；- 操作台调平，数字式高度测量计可以精确到1um；- 三点校平系统精确对准；- 千分尺用于精确定位相对于基材位置的头部； 与卷对卷和片对片沉积工艺相兼容，狭缝涂布是用于可扩展沉积薄膜的最佳技术之一。其广泛的加工窗口确保稳定、无缺陷的沉积，适用于各种粘度的溶液。薄膜均匀度高，准确且可重复，厚度可通过改变流速和基材速度来控制。 特点：1）节省空间的设计 - 考虑到实验室空间的设计，我们的紧凑型桌面设计使设备可放置在标准实验台，通风橱，甚至手套箱内。2）轻松设置 - 即插即用。不需要压缩气体或真空管线，可以轻松地在不同的实验室和不同的环境之间移动。3）高交叉网均匀性 - 通过使用简单的衣架设计来分配溶液，横跨头宽，流速均匀。这样可获得高度均匀的涂层，适用于各种粘度的溶剂。不锈钢槽模头可与广泛的材料兼容。4）通道厚度可变 - 可互换的不锈钢垫片可以更改槽模通道的厚度。通过插入多个垫片，以100μm的间隔增加通道厚度。5）均匀的流量和厚度 - 我们的槽模系统配有内置注射泵。用户可精确控制进入狭缝模头系统的溶液量，从而能精确和可重复地控制沉积膜的厚度。内置注射泵由相同的内部软件控制，因此不需要任何外部控制 - 您可以为实验设定同步启动时间。6）温度控制 – 操作台上的内置热板可以将基板温度控制在最高温120°C。另外，软件中可以设置温度偏移量以适应高气流环境，校正基板和热板温度之间的差异。通过降低表面张力控制基材温度可改善溶液的润湿性，同时干燥速率也可以改变沉积膜的纳米结构。7）基板速度范围广 - 我们的操作平台可实现平稳，连续的移动。电机能以低至 1mm / m的速度移动到高达50mm / s的速度，该系统拥有控制弯月面的宽加工窗口。8）精确校准 - 通过使用三点校平系统和高精度千分尺，可以精确校准操作台头部。仔细对准使系统在操作台行程长度上实现低至1um / cm的高度变化。9）头部高度控制 -通过调整狭缝模头的高度，可以改善弯月面的稳定性，改变最小湿膜厚度。 内置软件狭缝涂布机内置系统软件。高清全彩色LCD液晶显示屏，内置软件可编程复杂的多步骤过程，其中系统的不同部分可以独立控制。由于所有元素都包含在系统中，因此不需要任何外部计算机控制 - 进一步节省实验室中的资金和空间。系统能够保存20个不同的程序，每个程序最多包含50个步骤。用户可选择各种溶液分配速度，分配量，分配时间，阶段速度和移动的距离。结合简单易用的控制面板和用户界面，系统编程可以快速完成。 应用领域到目前为止，夹缝涂布机的应用有很多，其中包括：有机光伏有机场效应晶体管导电聚合物纳米线纳米管2D材料有机发光二极管钙钛矿光伏钙钛矿发光二极管染料敏化太阳能电池还有很多...

产品简介YL-TB100实验用小型涂布试验机全部采用了进口配件，且价格优廉，得到了众多跨国企业研发机构，国内外很多知名大学及科研机构的青睐。通过控制速度以及稳定的压力来保证涂布涂胶效果，保证涂布涂胶的均匀性以及平稳性。产品应用由于影响涂膜的主要因素有涂布速度以及施加在涂膜器上的压力等，因而由人工涂出的涂层经常出现不一致，尤其是不同人之间产生的差异就更大了，这就给比较样板之间的测试结果带来了困难。本公司的自动涂膜器是为了使操作者方便地在不同底材上涂布出精确的湿膜而精心设计的，大大提高了涂膜的重现性。实验室小型涂布机全部采用了进口配件，且价格优廉，得到了众多跨国企业研发机构，国内外很多知名大学的青睐。通过控制速度以及稳定的压力来保证涂布效果，保证涂布的均匀性以及平稳性。实验室小型涂布机zui大特点可以在纸张、塑料、金属、PVC、PET、布料、铝合金板等平面各种材料进行涂布实验。技术参数控制系统: 5寸PLC触摸屏涂布厚度: 0.005-3mm湿膜涂布精度:±0.0025mm电源: 220V 50Hz功率: 2000w涂布速度: 0-10m/min (数字可预设)长度:数字预设涂布幅面: 300*450M加热温度:常温~160度(恒温设置)涂布方式:刮刀/线棒交替使用刮刀材质:硬质合金材料刮刀(可方便拆卸清洗）包装重量: 55KG

贝克涂布器圆柱形贝克涂布器有4个涂漆面，可以涂出4种预设厚度的漆膜。产品材质为高级不锈钢，保证涂膜器不受涂料或清洗剂中的酸性物质或碱性物质的侵蚀。 贝克涂布器产品简介圆柱形贝克涂布器有4个涂漆面，可以涂出4种预设厚度的漆膜。贝克涂布器贝克涂布器的涂布宽度为60mm（2.4英寸）和80mm（3.15英寸），适用于很多不同产品在平板或平稳的固体基板上的涂布。涂布器材质为高级不锈钢，能够保证涂布器不受涂料或清洗剂中的酸性物质或碱性物质的侵蚀。

TQC四面涂布器符合ASTM D 823标准，可应用于涂布4种不同的漆膜厚度，涂膜器本身由高级不锈钢制成，不容易受到涂料或清洗剂中酸碱物质的侵蚀。四面涂布器产品简介1.符合标准：ASTM D 823 2.多功能四面涂布器可应用于涂布4种不同的漆膜厚度。3.涂装宽度为60mm(2.4英寸)和80mm(3.1英寸)。涂布器其中一面附了一个导涂片，该导涂片也可以拆卸。4.材质为高级不锈钢，保证涂布器不受涂料或清洗剂中的酸性物质或碱性物质的侵蚀。

一、特点：落地式设备，为设备提供平稳性与储存空间；配备FFU空气净化系统；模块化设计，集成集狭缝涂布、刮刀刮涂、线棒刮涂、超声喷涂工艺，实现不同涂布功能的切换；按需供墨，狭缝涂布墨水用量低，减少浪费和污染；大尺寸触控屏控制，自定义涂布过程，便于开展涂布工艺研究；可按用户要求集成真空加热系统、自动测距系统，CCD成像系统等。二、适用范围：针对纳米及亚微米级功能性涂层的涂布试验、墨水调试、工艺研究、小规模制样研发等；涉及行业包括水凝胶、液态金属、智能包装材料、光电材料、光刻胶、功能涂层、微电子及半导体封装等大面积涂布制备，以及氢燃料电池、电解水制氢、锂电池、异质结太阳能电池、薄膜太阳能电池、钙钛矿太阳能电池、有机太阳能电池、OLED、QLED、柔性穿戴器件、电子皮肤等器件的制备。三、亮点：落地式设备；结合狭缝、刮刀、线棒、超声工艺；模块化设计，便于工艺研究。四、技术参数：【外形尺寸】：1040*670*1850mm【工作台范围】：X:280 Y:280 Z:80（mm）【间隙控制精度】：2μm【最大速度】：0-60（X轴）、0-70（Y轴）、0-40（Z轴）mm/s【平台加热温度】：室温-150℃【温度偏差】：±2℃【平台平面精度】：±5μm（100mm）【溶剂体系】：水性、油性、有机溶剂等【适用基材】：玻璃、PET、CPI、金属箔等柔性基材【基材固定方式】：真空吸附【驱动方式】：步进电机+伺服电机+进口研磨级丝杆【控制方式】：触控屏控制【涂布工艺】：狭缝涂布、超声喷涂、刮刀刮涂、线棒辊涂（选配）【涂布厚度】：0.05-20μm（干膜厚度）{视涂布工艺和油墨而定}【涂布宽度】：10-200μm {根据选用涂布头而定}【涂布条数】：1-10 {可自由设定涂布条数}【狭缝头唇口线度】：≤3μm【液体粘度】：1500cps

一、特点：落地式设计，为提供设备的平稳性；助力实验室走向产业化，涂印速度可达5m/min，宽度可达400mm；集成化注射泵，狭缝涂布墨水用量低，减少浪费和污染；工作台面具备真空吸附退火功能，支持各种基材（刚性或柔性、玻璃、塑料、金属箔、硅片）上的原位功能层制备；可按用户要求集成自动测距系统、CCD成像系统等。二、适用范围：针对纳米及亚微米级功能性涂层的涂布试验、墨水调试、工艺研究、小规模制样研究等；涉及行业包括水凝胶、液态金属、智能包装材料、光电材料、光刻胶、功能涂层、微电子及半导体封装等大面积涂布制备，以及氢燃料电池、电解水制氢、锂电池、异质结太阳能电池、薄膜太阳能电池、钙钛矿太阳能电池、有机太阳能电池、OLED、QLED、柔性穿戴器件、电子皮肤等器件的制备三、亮点：落地式设备；集合狭缝、刮刀；模块化设计，便于工艺研究四、技术参数：【外形尺寸】：815*545*1185mm【涂布宽度】：10-200mm（根据选用涂布头而定）【涂布长度】：200mm【涂布控制精度】：3μm【最大运行速度】：0-60mm/s【平台加热温度】：室温-150℃【供墨流量】：0-60ml/min【溶剂体系】：水性、油性、有机溶剂等溶剂型涂料【适用基材】：玻璃、PET、CPI、金属箔等柔性基材【基材固定方式】：真空吸附【驱动方式】：伺服电机+进口研磨丝杆+步进电机【控制方式】：触摸屏控制【涂布工艺】：狭缝涂布、高精密刮刀刮涂【涂布厚度】：0.1-10μm（干膜厚度）【狭缝头唇口线度】：≤3μm【溶液粘度】：≤1500cps

产品简介：科翔科技 智能实验室涂布机系列，集高精度涂布和数字化智能控制技术于一体，对机械结构、运行方式、测控手段和程序运算等关键要素进行全方位优化，满足高精度实验室TTS研究的要求，同时可模拟涂布大生产条件。适合实验室胶剂（包括水凝胶、溶剂胶、热溶胶）以及各种膜剂的小样品研制。用户可根据实验要求进行选择或定制。专利号：ZL 201921254125.1产品特点：行业首创高端技术首创专利EDT绝对零点对标技术，精准调控涂布厚度，确保每批次涂布厚度的一致性。专利的双刮刀技术，解决前厚后薄的涂布问题，确保涂布的高精度。安全便捷涂布体验 免清洗双刮刀，表面不粘处理，残留易于脱落，安全高效涂布体验VOC回收系统保证实验室环境清新模拟工业涂布 自主研发的温控算法和加热/冷却控制系统模拟工业级烘箱程序升温干燥条件溶剂胶和热溶胶二合一可在一台涂布机进行水溶胶、溶剂胶和热溶胶涂布，节省费用

MSK-AFA-IV小型涂布机采用电气控制和机械的有机结合，可大量节省原料，改进工艺技术，方便在不同的基底上涂覆出质量优良布膜，减小以及消除了由于涂布速度、压力不同等人为因素而造成的涂布后样品表面薄膜厚度的误差，涂覆不通厚度的薄膜需选用不同规格的涂布棍。涂布的速度可通过一个速度控制旋钮进行相应的调节。设备前端和后端具有限位，达到限位机器自动停止涂布。MSK-AFA-IV小型涂布机采用进口控制部件，结实耐用。主要用于胶类、纸类，薄膜类生产试验，也可用于其他相关的涂布、涂装行业。设备小巧，适合于实验室进行小面积基片的涂布实验。1、通过更换涂布棍调节涂布厚度。2、通过旋钮调节涂布速度，速度可以通过显示屏显示。3、采用进口零部件。4、均匀涂布。产品名称MSK-AFA-IV小型涂布机产品型号MSK-AFA-IV安装条件本设备要求在海拔1000m以下，温度25℃±15℃，湿度55%Rh±10%Rh下使用。1、水：不需要2、电：AC220V 50Hz，必须有良好接地3、气：不需要4、工作台：尺寸800mm×600mm×700mm，承重200kg以上5、通风装置：不需要主要参数1、电源：220V 50Hz2、总功率48W3、涂覆速度：0-1200mm/min可调4、涂布精度：1μm5、涂布面积：300mm×420mm 6、涂布棍规格：Ø 12mm×400mm7、涂膜厚度：12μm-200μm（根据配用的涂布棍决定）产品规格外形尺寸710mm(长）×420mm（宽）×300mm（高）m；重量：20kg序号名称功能类别图片链接11、可定做可调整厚度的涂膜器，最小厚度为5μm，调整精度1μm。（可选）-2涂膜厚度为5μm、10μm、15μm 、20μm 、25μm 、30μm 、40μm 、50μm、60μm 、80μm、100μm、120μm 、150μm 、200μm的涂辊。（可选）-3框式制备器（可选）

HD-L2自动细菌涂布仪技术参数：1. *适宜平板：85-90毫米直径的任意塑料和玻璃培养皿；2. *启动方式：既可通过按钮开关启动，也可通过红外感应启动；3. 工作方式：将培养皿放在旋转台上，在培养皿中心放适量样品液，然后旋转平台使样液向四周扩散，再用刮平的涂布器配合平台转动制作出平整而均匀的培养液膜；4. 配套器材：不锈钢涂布棒或一次性塑料无菌涂布棒；5. 仪器材质：金属合金制造，方便消毒操作；6. 防漏设计：可防止液体进入旋转台内部；7. 偏心率：偏心率小于0.1%，改进转盘固定结构和装配工艺，降低偏心率；8. *运行转速：无极调速，可在100-400rpm/min之间调节；9. 仪器配置：主机1台，不锈钢涂布棒1根，电源线1根。

Slotdie狭缝式涂布机 钙钛矿太阳能电池薄膜制备 薄膜涂布机　　产品简介　　狭缝式涂布(Slot Die Coating)是一种高精密的涂布方式，涂布系统主要包括供料单元和涂布单元，涂布单元是通过利用精密机械加工所制作的上下模及安装在上下模间的薄垫片所组成，供料单元由储料、输送的注射泵及过滤装置等组成。系统由涂布模具相对于基片作精确运动，通过控制速率、精密计量和泵送工艺流体，将液体化学材料从上下模之间的缝隙挤出涂布于移动的基板（玻璃、不锈钢和塑料等）上形成薄膜。涂膜厚度可由液体流量与基板移动速度直接计算，其优点为涂膜均匀性高、可适用的涂料粘度范围广、涂布速度快、以及可制作大面积的涂膜。　　适用于有机太阳能电池OPV和钙钛矿太阳能电池PVK等基材的涂布，非连续基材如LCD玻璃基板光阻涂布，也应用于光学膜（增亮膜、hardcoat、偏光膜、扩散膜等）、OLED涂布等。　　多种规格尺寸可选可定制，多种人性化配置可选：加热台、特殊气体吹淋系统、多尺寸刀头，多规格垫片等，满足客户多种需求，为客户量身定制高精密业设备。 　　特点&优势：1. 涂布效果好，进口涂布刀头，针对高一致性、 化学兼容性、低充填容量和条状涂布设计。涂布平整均匀度可达±5%。2. 操控精度高，涂布速率（稳态涂布）和涂布轮廓（后边缘）的高精度数字化控制，可实现膜厚500nm~50um。3. 涂布面积大，支持有效涂布宽度100mm~500mm。4. 预计量工具，可期计算工艺参数，减少溶液浪费。 材料利用率可达95%5. 能够满足不同阶段需求：从研发（实验型）到中试型、量产型6. 高度可定制，支持更大涂布面积定制、多种规格选配如风刀、真空吸附、加热台、双头注液泵等，支持高粘度材料。　过程参数：涂布间隙控制：高精度，动态控制涂布头高度 (z轴)模具运动控制: 在涂布方向上(x轴)精确控制模具的运动轨迹(包括加速和减速参数) 模具设计: 针对高一致性、化学兼容性、低充填容量 和 条状涂布进行模具设计制造涂布控制: 涂布速率(稳态涂布) 和涂布轮廓 (后边缘)的高精度数字化控制控制软件: 所有配方参数，数据监控和反馈控制，数据采集分析。有效涂布面积200mm*200mm涂布平台面积220mm*220mm涂层湿膜厚度10-200um涂层干膜厚度0.5-10um固含量10-50%粘度1-20000cps涂布速度0-100mm/s出液速度0.1-60mL/min储液罐容量50ml涂布有效宽度200mm刀头高度0-50mm模头与平台距离精调可调范围：0-10mm单位调节精度：0.001mm粗调可调范围：0-50mm刀头水平度±2um平台平整度±1.5um刀头狭缝宽度0.05/0.08/0.1mm（由垫片厚度决定）电源电压AC 220V x 50Hz基台固定真空吸附基台配置原位加热功能，温度200℃，控温精度±2℃（可选）额外配置风刀+对刀仪（可选）应用域：平板显示LCD, OLED, Flexible, Touch ScreenLCD, OLED, 柔性显示, 触摸屏太阳能光伏PV including CIGS, CdTe, OPV ａnd C-Si固态照明OLED lighting高附加值玻璃可调光智能玻璃, 博物馆用玻璃半导体, 微机电系统, 无线射频识别, 聚合物电池, 和各种有机及打印电子器件

产品简介：狭缝涂布仪(Slot Die coater)是一种先进制造技术，现阶段广泛应用于平板显示（OLED,QLED）,柔性显示，触摸屏工艺，太阳能光伏(OPV,Pervoskite)，二次锂电池工艺，智能化玻璃，柔性印刷电子，纸张涂布，半导体封装等领域，均能实现不同功能材料高均匀，高性能的涂布。产品特点：- 在二次电池、FCCL、光学、显示器、PSV、钙钛矿、OPV和移动装饰膜等多个工业领域取得了丰硕的研发成果- 各种涂层，包括低粘度薄膜涂层和高粘度薄膜涂层，通过CFD流动分析制造槽架本身。- 采用精密板材运动驱动和涂布控制技术实现高精度涂布功能- 适用于涂布液体的计量泵解决方案可供选择- 基台面积：370*470mm- 选项：计量泵，紫外光固化，电热板- 根据用户需求可定制.狭缝涂布设备（桌面型）信息由南京伯奢咏怀电子科技有限公司为您提供，如您想了解更多关于狭缝涂布设备（桌面型）报价、型号、参数等信息，欢迎来电或留言咨询。

狭缝式涂布机是一种用于在表面上涂布薄膜、涂料或液体材料的设备。它通常由一个具有狭缝形状的喷嘴或涂布头部组成，通过控制狭缝的宽度和涂布材料的流量来实现精确的涂布过程。这种涂布机在工业生产中广泛应用，特别是在印刷、涂装、电子制造和其他需要精密涂布的领域。狭缝式涂布机的工作原理是将涂布材料通过泵送或喷射系统输送至狭缝喷嘴，然后通过调节狭缝的宽度和涂布速度来控制涂布厚度。这种精确的控制使得狭缝式涂布机非常适合需要高质量、均匀涂布的应用。这种涂布技术常用于制造平板显示器、光伏电池、柔性电子设备等高科技产品的生产过程中。狭缝式涂布机的优势包括高精度、高效率、节省材料和可在各种基材上实现均匀涂布。总的来说，狭缝式涂布机在现代工业中扮演着重要的角色，为许多领域提供了精确、可控的涂布解决方案。 在半导体制造领域，狭缝式涂布技术有着重要的应用，特别是在制备薄膜和涂覆材料的过程中。以下是一些狭缝式涂布在半导体行业中的主要应用：光刻胶涂覆： 在半导体制造中，光刻是一项关键的工艺，用于定义芯片上的图形和结构。狭缝式涂布机常用于涂覆光刻胶在硅片表面，确保光刻胶均匀覆盖并形成一致的薄膜。这是为了保证后续曝光、显影等步骤能够准确地传递芯片设计的图案。化学机械抛光（CMP）涂覆： CMP是半导体工艺中用于平坦化硅片表面的关键步骤。在CMP涂覆中，狭缝式涂布机可用于将腐蚀液体（slurry）均匀涂布在硅片表面，以便在抛光过程中实现材料的均匀去除，从而获得平整的表面。薄膜涂布： 制造半导体器件通常涉及在硅片上涂覆不同的薄膜层，例如氧化物、金属薄膜等。狭缝式涂布机可确保这些薄膜在硅片表面均匀分布，从而提高器件的性能和可靠性。电介质涂布： 在半导体器件中，电介质层通常用于隔离不同电路元件或作为绝缘材料。狭缝式涂布机可以精确地涂布这些电介质材料，确保其厚度和均匀性，从而维持器件的电学性能。 总的来说，狭缝式涂布技术在半导体制造中扮演着关键的角色，为各种工艺步骤提供了高精度和均匀性的涂覆解决方案，从而确保半导体器件的质量和性能。一、产品使用范围：&bull 弯月牙涂胶基板尺寸：1400 mm×420 mm×200 mm)；&bull 液体胶刀的有效尺寸为：420mm：二、设备概述：此胶狭缝系统包括供胶系统、精密胶刀、平面度调节机构、胶盒移动等部件组成。&bull 供胶系统：伺服电机带动磁力泵供给胶刀，回流过滤循环供给，胶泵采购进口压力流量可调的磁力泵。&bull 精密胶刀：胶刀出液狭缝可调，可适应100CP-200CP的光阻药液。同时出液的高度（0.15-0.25mm）通过调整泵的供压力及狭缝配合来调&bull 面度调节机构：胶刀与胶盒的平行度可通过胶盒内的螺钉进行调平，胶刀与连接平面也可调整，胶刀与基板的平面通过机械方式也可调整。&bull 利用电磁阀及气缸来实现胶盒盖的上下、左右方向的移动。 三、设备控制设计：&bull 供泵系统胶泵为伺服电机，胶泵的压力、流速通过调节电机的转速控制。&bull 胶盒盖通过气缸控制+电磁阀（气缸都装有上下，左右位置检测传感器）。&bull 基板移动加有接近开关（主要用于检测基板是否移过）。

传统手工涂布方式依赖个人经验，每人每次涂布速度，力度都有所不同，不利于在同一条件下评价涂布质量，DP8301数字可调涂布机可有效解决这个问题传统线棒涂布器，鸟型涂布器，框式涂布器等隙缝式涂布器，只能涂布一个或者最多八个固定的膜厚，不能根据实际所需的厚度来涂布，数字可调涂布器通过测微器连续调整隙缝大小，通过数字测微器精确控制隙缝高度，从而得到0-6350um范围内任意厚度的膜厚，可极大方便您的使用▃避免人为涂布造成的误差▃极大提高后续测试重现性，可靠性▃能统一操作流程，让测试规范化▃提供多种选择方案，满足各种涂布需求涂布宽度：5cm-30.5cm涂布长度：36cm厚度范围：0-6350um(连续可调）厚度调整：1um厚度调整方式：螺旋测微器数字调整涂布器材质：主体不锈钢，表面特氟龙处理涂布速度：不大于20- 200mm/s（设定步长1mm/s）速度设定：数字设定显示和控制： 触摸屏基材夹持：机械涂布底板：玻璃平板涂布报告：报告内容包括样品名称，粘度，设定厚度，幅宽，长度，可通过软件导出到电脑，便于追溯

小型狭缝涂布仪英国Ossila公司小型狭缝涂布仪结构紧凑，价格实惠，使用简单，准确度高。 对于那些希望在小型实验室中扩大实验工艺的用户来说，它是理想之选。与卷对卷和片对片沉积工艺相兼容，狭缝涂布是用于可扩展沉积薄膜的技术之一。其广泛的加工窗口确保稳定、无缺陷的沉积，适用于各种粘度的溶液。薄膜均匀度高，准确且可重复，厚度可通过改变流速和基材速度来控制。产品特征u 体积小巧---紧凑型桌面设计,可放置在标准实验台，通风橱，甚至手套箱内使用。u 轻松设置---即插即用，不需要压缩气体或真空管线。u 高交叉网均匀性---衣架式溶液分配设计，流速均匀。可获得高均匀性的涂层，适用于各种粘度的溶剂。不锈钢槽模头可与广泛的材料兼容。u 通道厚度可变---可更换的不锈钢垫片，更改槽模通道的厚度。通过插入多个垫片，以100μm的间隔增加通道厚度。u 均匀的流量和厚度---槽模系统内置注射泵。用户可通过软件精确控制注射泵进入狭缝模头系统的溶液量，从而能精确和可重复地控制沉积膜的厚度。u 温度控制---操作台上的内置热板，基板温度控制在120°C。软件中可设置温度补偿以适应高气流环境，校正基板和热板温度之间的差异。通过降低表面张力控制基材温度可改善溶液的润湿性，同时干燥速率也可以改变沉积膜的纳米结构。u 基板速度设置范围广泛---操作平台可平稳，连续的移动。电机以低至1mm/s的速度到高达50mm / s的速度移动。u 精确定位---通过使用三点校平系统和高精度千分尺，可以精确调整平台和涂布头之间的位置。精细对齐可以使系统在平台行程范围内实现低至1um/厘米的高度变化。u 涂布头高度控制---涂布头架上方预留了两个微米的空间，用于调节涂布头和平台之间的位置。通过调整狭缝模头的高度，改善弯月面的稳定性，改变最小湿膜厚度。三点调平系统，狭缝挤出式平台可以与涂布头精确对准。内置注射器泵可以精确控制溶液流量和体积。狭缝挤出头特别设计，整个涂布宽度内可保证均一涂布效果。直观的键盘覆FEP保护膜，有很好的耐溶液腐蚀性。内置软件英国Ossila公司狭缝涂布仪内置系统软件，高清全彩色LCD液晶显示屏，内置软件可编程复杂的多步骤过程，系统的不同部分可独立控制。不需要任何外部计算机控制。节省实验室空间。系统能够保存20个不同的程序，每个程序最多包含50个步骤。便于以后的重复性实验。用户可选择各种溶液分配速度，分配量，分配时间，阶段速度和移动的距离。结合简单易用的控制面板和用户界面，系统编程可快速完成。应用领域u 有机光伏u 有机场效应晶体管u 导电聚合物u 纳米线u 纳米管u 2D材料u 有机发光二极管u 钙钛矿光伏u 钙钛矿发光二极管u 染料敏化太阳能电池还有很多...技术规格u 狭缝挤出头材质：不锈钢。u 狭缝挤出头涂布宽度：50mm(最多)。u 狭缝挤出垫片厚度：100μm。u 狭缝挤出垫片套装：5个50毫米宽垫片或5个25毫米宽的垫片。u 电热板温度：120°C。u 行程长度：100mm。u 平台速度：100μm.s-1。u 平台速度：50mm s-1。u 注射器速度：12μm.s-1。

一、特点：模块化设计，前处理单元（电晕、等离子处理）、涂布单位（狭缝涂布、刮刀涂布、凹版涂布）、后处理单元（热固化、UV处理、风冷、复合）自由组合，实现不同涂布功能的切换；助力实验室走向产业化，涂布速度可达5m/min，宽度可达300mm；匹配大面积薄膜、柔性薄膜、印刷薄膜制备；适用于研发到小批量试制、中试放大过程中的涂布试验、墨水调试、工艺研究、小规模制样研发等。二、适用范围：针对纳米及亚微米级功能性涂层的涂布试验、墨水调试、工艺研究、小规模制样研发等；涉及行业包括水凝胶、液态金属、智能包装材料、光电材料、光刻胶、功能涂层、微电子及半导体封装等大面积涂布制备，以及氢燃料电池、电解水制氢、锂电池、异质结太阳能电池、薄膜太阳能电池、钙钛矿太阳能电池、有机太阳能电池、OLED、QLED、柔性穿戴器件、电子皮肤等器件的制备。三、亮点：模块化设计；适用小批量试制和中试放大过程。四、技术参数：【电 源】：电压AC220V，频率50Hz，功率≤12KW【气 源】：0.6-0.8MPa压缩空气【导辊幅宽】：≤250mm【基材幅宽】：≤180mm【机械速度】：Min.0.6m/min【涂布类型】：连续涂布【涂布宽度】：150mm【涂布厚度】：标配模头1套【模腔容积】：≤3ml【背辊直径】：≤Φ130mm【方 式】：电加热、热风直排【长 度】：0.76m【温 度】：室温-150℃ ±5℃【功 率】：2KW【张力控制】：伺服电机+PLC联控【收放卷径】：Max.200mm

一、特点：适用于不同刚性或柔性基材的涂布制备；机型小巧，重复性高，适用于手套箱或通风橱；包含狭缝涂布、刮刀涂布、气刀吹扫模块；狭缝涂布墨水用量低。二、适用范围：针对纳米及亚微米级功能性涂层的涂布试验、墨水调试、工艺研究、小规模制样研发等；涉及行业包括水凝胶、液态金属、智能包装材料、光电材料、光刻胶、功能涂层、微电子及半导体封装等大面积涂布制备，以及氢燃料电池、电解水制氢、锂电池、异质结太阳能电池、薄膜太阳能电池、钙钛矿太阳能电池、有机太阳能电池、OLED、QLED、柔性穿戴器件、电子皮肤等器件的制备。三、亮点：适用通风橱、手套箱；墨水用量低，涂布面积10*10cm四、技术参数：【外形尺寸】：560*415*460mm 可定制【重量】：40KG【有效行程】：120mm【运行速度】：1-70mm/s【上下粗调行程】：30mm【驱动方式】：电机+进口研磨级丝杆【操作界面】：触控屏【自动供墨系统】：供墨流量：0-60ml/min【自动供墨系统】：注射器：1-10ml【真空加热】：加热面积：100*150mm【真空加热】：最高温度：150℃【真空加热】：温控精度：±2℃【真空加热】：基材固定：真空吸附【狭缝涂布】：垫片厚度：30/50/70/100μm（一套）【狭缝涂布】：涂布宽度：10-50mm【狭缝涂布】：粘度：≤1500cps【狭缝涂布】：干膜厚度：50nm-20μm 视涂布工艺和油墨而定

MSK-AFA-I自动涂布机广泛用于各种高温涂膜研究，例如陶瓷类薄膜、晶体类薄膜、电池材料薄膜、特殊纳米薄膜，能够适应未来高温条件下成膜技术的发展。MSK-AFA-I自动涂布机采用真空吸附方法来对基片进行固定，使得在涂布过程中基片无褶皱现象产生，从而使得涂布更加均匀顺畅。制膜宽度宽度保持不变，制膜厚度可根据刮刀上方的千分尺进行调节，刮刀与基片间的间隙小，则所制备薄膜厚度薄；刮刀与基片间的间隙大，则所制备的薄膜厚度厚。制膜长度可根据刮刀的行程来控制，刮刀的行程可在10-290mm的范围内进行调节。MSK-AFA-I自动涂布机体积小巧，适合各个实验室中使用。1、涂覆速度可调，并设有数字显示。2、可调限位开关控制涂覆行程。3、采用真空吸附方式固定基片，可快速取放基片。 4、已通过CE认证。产品名称MSK-AFA-I自动涂布机产品型号MSK-AFA-I安装条件使用环境：湿度：10-85%RH (at 25℃ 无凝露） 温度： 0-45℃1、水：不需要2、电：单相：AC220V 50Hz 国标三极插座 10A 必须有良好接地3、气：真空负压（真空泵）4、工作台：建议 800×600×700mm 承重 120KG 以上5、通风装置：无特殊要求主要参数1、供电接口：DC24V 3.75A（标配“电源适配器”）2、总功率≤50W5、涂覆底座尺寸（长 × 宽）：360mm×200mm6、真空吸附尺寸（长 × 宽）：300mm×150mm3、涂覆速度：10-100mm/s（无极调速）4、涂布长度：0-300mm≥（长度可调）7、可调式刮刀：KTQ150 型：宽 150mm 可调式，膜厚调整范围 0-3500um注：随机标配“电源适配器”规格参数： IN: AC100-240V 50/60Hz OUT: DC-24V 3.75A，设备实际供电以产品后部粘贴标牌为准。产品规格尺寸：610mm×390mm×240mm；重量：25Kg序号名称数量图片链接1推料杆1个2集料盒1个3150mm微米级可调制膜器1个4料盅1个序号名称功能类别图片链接1真空泵（AP-1400V无油真空泵）（可选）2微米级可调制膜器-50mm（可选）3微米级可调制膜器-100mm（可选）4真空搅拌机（可选）5粘度计（可选）6四面精密制膜器（可制备4种膜厚）（可选）7框式制备器（可选）

自动涂布机 ZAA2300 型号：ZAA2300 技术参数涂布板基材：镀铝红色双面玻璃板，一面为玻璃表面；另一面为垫棉布上涂橡胶涂层（印刷毛毯），用于金属涂布棒涂布尺寸(L× W× H):unit:565× 382× 190mm玻璃板:553× 300× 15mm 重量：20Kg（玻璃板6.4Kg）涂布速度：1-99mm/s应用长度：1mm-400mm应用宽度：1mm-300mm电源：100-230V, 50-60Hz标准：ASTM D 823-95 仪器特征 起始和终止位置可手动调节，起始位置带中心夹头固定装置 双面玻璃板用于双重目的操作：一边带印刷毛毯，用于金属涂布棒涂布，另一边为玻璃表面，其它涂布头涂布用 同时多种涂布头可用 选项：装载基材或其它材料的真空板，真空能保证材料涂布均匀 玻璃板易于更换或翻转，不需要使用工具 交货标准范围 1台自动涂布机 1块可逆转、双面玻璃板：一面为玻璃表面，另一面覆印刷毛毯 1个快速水平器 1份生产授权书和操作手册 RDS涂布棒1套：共7支，对应湿膜厚度分别为4、6、12、24、40、50、60微米 生产商：Zehntner/瑞士

产品详情：夹缝式挤压型涂布机/狭缝式涂布(Slot Die Coating)是一种高精度涂布方式，涂布胶液由存储器通过供给管路压送到喷嘴处，并使胶液由喷嘴处喷出，从而转移到涂布的基材上。涂布基材可以是柔软的卷材，也可以是玻璃、塑料等非连续基材。 狭缝涂布系统主要包括供料单元和涂布单元，涂布单元是通过利用精密机械加工所制作的上下模及安装在上下模间的薄垫片所组成，供料单元由储料、输送的注射泵及过滤装置等组成。系统由涂布模具相对于基片作精确运动，通过控制速率、精密计量和泵送工艺流体，将液体化学材料从上下模之间的缝隙挤出涂布于移动的基板（玻璃、不锈钢和塑料等）上形成薄膜。涂膜厚度可由液体流量与基板移动速度直接计算，其优点为涂膜均匀性高、可适用的涂料粘度范围广、涂布速度快、以及可制作大面积的涂膜。 适用于有机太阳能电池 OPV 和钙钛矿太阳能电池 PVK 等基材的涂布，非连续基材如LCD 玻璃基板光阻涂布，也应用于光学膜（增亮膜、hardcoat、偏光膜、扩散膜等）、OLED 涂布等。 多种规格尺寸可选可定制，多种人性化配置可选：加热台、特殊气体吹淋系统、多尺寸刀头，多规格垫片等，满足客户多种需求，为客户量身定制高精密专业设备。 设备整体采用两级调整确保大面积平台水平度，涂布平台有单独的调平机构，平台是否平整作为工艺门槛的第一步相当于地基。 整个涂布平台底部采用高精度大理石平台，大理石受热胀冷缩影响少，水平稳定性高。 若配有原位加热功能，涂布系统的样品台将采用高精度不锈钢设计。若无原位加热功能，涂布系统的样品台采用高精度大理石平台，同时具备带有样品定位，样品台水平微调功能，保证平整度。 涂布刀头采用 SUS630 马氏体沉淀硬化不锈钢，特殊表面热处理的进口大尺寸刀头（自有专利设计技术），防有机溶剂，防形变。 刀头内置 316 级别不锈钢材质垫片，以此调整涂布上下唇口间缝隙来决定出液量。 Z 轴采用伺服电机配合编码器加光栅尺双闭环，确保刀头的位置精度，和刀头的水平度。 集成化注射泵，可联动控制溶液流速，自动进液，自动除气，自动管路清洗（需要配备清洗液，刀头需拆卸清洗）。 涂布平台运行机构采用直线伺服电机提高平台稳定性，将工艺中影响的因素减到极致。 废液回收系统，可配合管路清洗进行废液回收，方便废液处理。涂布平台带有多区域真空吸附功能，基底定位功能，方便基底定位以及涂布过程的固定。多段式涂布工艺，更好的保证基底首尾膜厚的控制。 软件功能 系统参数可视化，直接显示平台位置，刀头高度，狭缝厚度，涂布速度，注液速度，注液量等参数，配合配方存储功能实现良好的工艺重复性。可配备定制化涂布工艺控制，如加热台温控，特殊气体吹淋开关等功能。 带有配方存储功能，可保存 8 组以上成熟的工艺参数，实现良好工艺重复性。设有自动安全保护功能，利用自身配备的多个传感器的反馈，自动识别危险区间，确保在工作状态下涂布模具安全不撞刀。

一、特点：采用大理石模组，保证运行的平稳与精度；工作台面具备真空吸附功能，支持各种基材（刚性或柔韧性、玻璃、塑料、金属箔、硅片）上的原位功能层制备；集成化注射泵，狭缝涂布墨水用量低，减少污染和浪费；可按用户要求集成自动测距系统、CCD成像系统；适用于研发到小批量试制、中试放大过程中的涂布试验、墨水调试、工艺研究、小规模制样研发等。二、适用范围：针对纳米及亚微米级功能性涂层的涂布试验、墨水调试、工艺研究、小规模制样研发等；涉及行业包括水凝胶、液态金属、智能包装材料、光电材料、光刻胶、功能涂层、微电子及半导体封装等大面积涂布制备，以及氢燃料电池、电解水制氢、锂电池、异质结太阳能电池、薄膜太阳能电池、钙钛矿太阳能电池、有机太阳能电池、OLED、柔性穿戴器件、电子皮肤等器件的制备。三、亮点：运行平稳、控制精度高；适用于小批量试制和中试放大过程。四、技术参数：【电源】：电压单相AC220V±10%（可定制110VAC），频率50Hz/60Hz，功率≤5KW【气源】：0.5-0.8MPa压缩空气【有效涂布区域】：＜400*400m【涂布平台尺寸】：500*500mm【基材固定方式】：真空吸附【涂布湿膜厚度】：5-200μm（视溶液性质和工艺参数而定）【涂布干膜厚度】：0.05-20μm【均匀性】：≤6%【溶液粘度】：0-1000cps【平台材质】：不锈钢板【涂布速度】：0.01-200mm/s【涂布定位精度】：0.03mm【狭缝涂布头、唇口直线度】：4μm【供料系统】：注射泵【供墨速度】：0.01-10ml/s【平台驱动方式】：直线电机驱动

一、特点：模块化设计，前处理单元（超声清洗）、涂布单位（狭缝涂布、凹版印刷）、后处理单元（热固化、UV处理、风冷、复合）自由组合，实现不同涂布功能的切换；助力实验室走向产业化，涂布速度可达5m/min，基材宽度可达150mm；匹配大面积薄膜、柔性薄膜、印刷薄膜制备；适用于研发到小批量试制、中试放大过程中的涂布试验、墨水调试、工艺研究、小规模制样研发等。二、适用范围：针对纳米及亚微米级功能性涂层的涂布试验、墨水调试、工艺研究、小规模制样研发等；涉及行业包括水凝胶、液态金属、智能包装材料、光电材料、光刻胶、功能涂层、微电子及半导体封装等大面积涂布制备，以及氢燃料电池、电解水制氢、锂电池、异质结太阳能电池、薄膜太阳能电池、钙钛矿太阳能电池、有机太阳能电池、OLED、QLED、柔性穿戴器件、电子皮肤等器件的制备。三、亮点：模块化设计；适用小批量试制和中试放大过程。四、技术参数：【电 源】：电压AC220V，频率50Hz，功率≤12KW【气 源】：0.6-0.8MPa压缩空气【导辊幅宽】：≤200mm【基材幅宽】：≤150mm【机械速度】：Min.0.6m/min【涂布类型】：连续涂布【涂布宽度】：100mm【涂布厚度】：标配模头1套【模腔容积】：≤3ml【背辊直径】：≤Φ130mm【方 式】：电加热、热风直排【长 度】：0.4m【温 度】：室温-150℃ ±5℃【功 率】：1.5KW【张力控制】：伺服电机+PLC联控【收放卷径】：Max.200mm

一、特点：采用大理石模组，保证运行的平稳和精；工作台面具备真空吸附退火功能，支持各种基材（刚性或柔韧性、玻璃、塑料、金属箔、硅片）上的原位功能层制备；集成化注射泵，狭缝涂布墨水用量低，减少浪费和污染；可按用户要求集成自动测距系统、CCD成像系统；适用于研发到小批量试制、中试放大过程中的涂布试验、墨水调试、工艺研究、小规模制样研发等。二、适用范围：针对于纳米及亚微米级功能性涂层的涂布试验、墨水调试、工艺研究、小规模制样研发等；涉及行业包括水凝胶、液态金属、智能包装材料、光电材料、光刻胶、功能涂层、微电子及半导体封装等大面积涂布制备，以及氢燃料电池、电解水制氢、锂电池、异质结太阳能电池、薄膜太阳能电池、钙钛矿太阳能电池、有机太阳能电池、OLED、柔性穿戴器件、电子皮肤等器件的制备。三、亮点：运行平稳、控制精度高；适用小批量试制和中式放大过程。四、技术参数：【外形尺寸】：815*545*520mm【涂布宽度】：10-200mm （根据选用涂布头而定）【涂布长度】：200mm【涂布控制精度】：3μm【最大运行速度】：0-60mm/s【平台加热温差】：室温-150℃【加热温度偏差】：±2℃【供墨流量】：0-6ml/min【溶剂体系】：水性、油性、有机溶剂等溶剂型涂料【适用基材】：玻璃、PET、CPI、金属箔等柔性基材【基材固定方式】：真空吸附【驱动方式】：伺服电机+进口研磨丝杆+步进电机【控制方式】：触控屏控制【涂布工艺】：狭缝涂布、高精密刮刀刮涂 （选配）【涂布厚度】：0.1-10μm（干膜厚度） （视涂布工艺和溶剂而定）【狭缝头唇口线度】：≤3μm【溶液粘度】：≤1500cps

产品简介：科翔科技智能中试涂布机，采用数字化智能技术，是集密闭供胶、高精度涂布和分段程序干燥于一体的贴剂及膜剂生产设备。适合实验室小规模样品研制，工艺放大实验和中试生产，同时与大规模生产桥接。 该设备采用PLC+触摸屏人机交互模块化程序控制，集合PID精准控温、自动纠偏、张力反馈和收/放卷控制系统。采用供胶+涂布一体涂刀，ETD零点对标等专利技术，保证涂布均匀性和重复性，同时可以选配在线测厚和二次涂布等功能。 该设备适用于各种溶剂型压敏胶和膜材聚合物的物料涂布，可制备贴剂、贴膏剂和膜剂等制剂。专利号： ZL 2021222903788产品特点：超高精度涂布技术独创的EDT控制技术，精准控制涂布厚度，确保批次样品涂布厚度的一致性。涂布精度±5 um。完美桥接大生产适用中试批量生产，日产10000～30000贴（可定制）涂布技术及干燥技术与主流生产型涂布设备相同（3～5段升温）。涂布、干燥参数可调可控，可用于指导大生产参数设定。

棱柱形鸟型涂布器TQC鸟型涂布器符合ASTM D 3022，ASTM D 823标准，具备4个涂漆面，对应多种不同漆膜厚度，产品由高级不锈钢制成，不易受到酸碱性物质侵蚀。 鸟型涂布器产品简介1.符合标准：ASTM D 3022 ASTM D 823 2.鸟型涂布器，4个涂漆面可应用于4种不同的漆膜厚度。3.鸟型涂布器的涂装宽度为50mm(2英寸)，75mm(3英寸)，100mm(4英寸)，适用于大多数产品和相应的固体基质上。4.材质为高级不锈钢，不受涂料或清洗剂中的酸性物质或碱性物质的侵蚀。