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抛丸机

仪器信息网抛丸机专题为您提供2024年最新抛丸机价格报价、厂家品牌的相关信息, 包括抛丸机参数、型号等,不管是国产,还是进口品牌的抛丸机您都可以在这里找到。 除此之外,仪器信息网还免费为您整合抛丸机相关的耗材配件、试剂标物,还有抛丸机相关的最新资讯、资料,以及抛丸机相关的解决方案。

抛丸机相关的耗材

  • 金相抛光布(金相磨抛机用)
    抛光布简介一、产品特点: 抛光布是专门用于金相制样时的粗抛和精抛。适用国内、外各种型号、规格的金相抛光机,尤其适用于半自动或全自动金相抛光机。金相抛光织物系列由抛光层、存储磨料层、保护层等多层组成,其中最重要的一层是真正用于抛光的抛光织物层。该层精选了高强度的、不同绒毛长度和布纹的、适合于金相抛光用的织物为材料。从而使本抛光织物具有优良的抛光效果和较长的使用寿命。二、抛光布直径及匹配的磨抛机: Φ200mm带胶抛光布→适用于磨盘直径200mm的磨抛机; Φ230mm带胶抛光布→适用于磨盘直径230mm的磨抛机; Φ250mm带胶抛光布→适用于磨盘直径250mm的磨抛机。 三、抛光布种类:
  • 抛光机
    M5-2100抛光机,用于手动样品制备,单盘无级调速式研磨、抛光多用机。调速范围为25-500转/分钟。可实现试样从粗磨、精磨、粗抛光至精抛光的整个制样过程。台式结构,可放于工作台上。外形小巧,采用不锈钢外壳。磨盘直径:Φ203mm 尺寸:宽381 x深660 x高229 mm 重量:65 kg
  • 蔡康光学 金相耗材-金相抛光剂 金刚石抛光剂 金相抛光粉
    高效金刚石金相抛光剂采用优质的金刚石微粉,以独特的介质与助剂,融物理与化学作用于一体研制而成;粒度分布均匀,颗粒形貌呈球形八面体,故研磨效果好、不易产生划痕;硬度极高,刃口尖锐锋利,对硬软材料都有良好的研磨作用,只产生研磨作用而无滚压,不产生扰乱层; 主要用于机械研磨、抛光硬质合金、合金钢、高碳钢等高硬材料制件以及金相和岩相试样的精研等。使用方法01. 使用前抛光织物需用清水湿透,避免磨擦热。 02. 启动抛光盘后将抛光剂轻摇后倒置喷出。 03. 喷撒抛光剂时,应以抛光盘中心为圆心,沿半径方向喷出3--5s即可。 04. 新织物喷撒时间相应延长,以使织物的磨削能力更完美。粒度:W0.25、W0.5、W1、W1.5、W2.5、W3.5、W5、W7、W10、W14、W20、 W28、W40包装:每罐250克、350毫升。附注:W为微米μm,国际通用标准。
  • 吉致电子JEEZ阻尼布抛光垫/碳化硅精抛垫/Politex抛光垫FUJIBO抛光垫替代/绒面抛光垫
    产品分类:吉致电子抛光垫产品名称:阻尼布抛光垫/碳化硅SIC精抛垫/Politex抛光垫FUJIBO抛光垫替代产品特点:吉致电子抛光垫满足低、中及高硬度材料抛光需求,针对碳化硅SIC抛光的4道工艺制程搭配不同型号抛光垫(粗磨垫/精磨垫/粗抛垫/精抛垫)具有高移除率、高平坦性、低缺陷和高性价比等优势。产品工艺及用途:柔软表面与特殊微孔洞结构,适用于碳化硅SIC衬底、各类晶圆、IC制造等CMP工艺高精细、高平坦化的制程。具有缓冲与晶背保护的效果。吉致电子碳化硅抛光垫价格:吉致电子抛光垫生产引进国外技术,可以媲美进口抛光垫PAD/阻尼布抛光垫产品(Politex/Fujiba/SUBA/环球等国产替代)品质稳定。选择吉致电子抛光垫产品,价格美丽,比进口抛光垫/精抛垫便宜,交货期稳定,性价比更高!
  • 瑞士万通 抛光套件的抛光带,用于超痕量石墨电极 | 6.2802.030
    抛光套件的抛光带,用于超痕量石墨电极Polishing tape to Polishing Set for Ultra Trace Electrode订货号:6.2802.030抛光套件的抛光带,用于超痕量石墨电极。 粒径 12 μm. 在抛光筒中使用。 每套50件。技术参数宽度(mm)9长度(mm)140
  • Pikal?金属抛光剂
    用于金属表面最后抛光,清除真空抛光后表面残余物。比普通抛光剂拥有更好的抛光性能。磨料颗粒小,并且对精密表面更平和。其配方中的磨料在超真空(UHV)中,不会刮伤任何抛光表面。此外,抛光剂中含有一种易挥发媒介(如悬浮液),以确保金属表面重置于超真空(UHV)中时能够立即抽气。
  • 金刚石喷雾抛光机
    高效金刚石喷雾抛光剂金刚石是金相制样的最佳磨料,本产品广泛应用于宝石、玻璃、陶瓷、光学玻璃、硬质合金及淬火钢材的高光亮度研磨抛光。用于金相抛光时,更显其独特的优越性,经研磨抛光后的试样更真实地显示其金相组织。不同的材料研磨抛光可选用不同粒度的产品。用于抛磨金相试样中铸铁中石墨,钢铁中夹杂,钢铁中氧化层、渗碳层、涂层时能更真实地显示其金相组织 使用方法:使用前摇动喷雾剂罐,使其磨料充分均匀。然后开启喷雾罐瓶盖,手持喷雾剂罐、倒置轻压喷射至抛光织物上,连喷3-5秒即可进行抛光。粒度:w0.25,w0.5,w1,w1.5,w2.5,w3.5,w5,w7,w10,w14,w20,w28,w40(每罐280克,350毫升)
  • 美国ATI油基气溶胶试剂PAO-4
    优于一级ATI提供了最高质量,行业标准的油基试剂使用与油基气溶胶发生器。我们的试剂用于高效空气过滤器的现场泄漏检测和生产质量控制效率检测。美国ATI油基气溶胶试剂PAO-4产品适用于政府,核设施,和FDA规定的测试应用。PAO-4 试剂美国ATI油基气溶胶试剂PAO-4,四厘沲PAO(化学文摘系统ID 68037-01-4)。该试剂提供了美国食品和药物管理局批准的替代DOP在FDA监管的过滤器泄漏检测应用。PAO得到了美国陆军军医总局的批准,并被美国军方用作过滤器和口罩测试过程中DOP的替代品。美国ATI油基气溶胶试剂PAO-4可在1加仑和5加仑容器。可根据要求提供更大的容量。产品规格沸点 : 316℃(600℉)比重 : 0.819 @ 15.5摄氏度(60华氏度)在20°C时,蒸气压0.013 kPa (0.1 mm Hg)蒸汽密度 : N/A溶水性 : 不溶于水外观/气味 : 无色、无味液体凝固点 : N/ApH在5%时 : N/A闪点 : 222摄氏度(432华氏度)使用方法 : 克利夫兰开杯空气中可燃性限值 : N/A - UEL: N/A | LEL: N/A自动点火温度 : 343 ̊C (649 ̊F)粘度 : 40℃时18 cSt / 100℃时4 cSt
  • 吉致电子JEEZ钼抛光液/金属钼抛光/激光反射镜抛光液/CMP研磨液/镜面抛光液
    产品名称:钼抛光液/金属钼抛光/激光反射镜抛光液/CMP研磨液/镜面抛光液金属钼片抛光液作用:吉致电子金属类抛光液适用于平面形态的钼、钼合金工件的镜面抛光,CMP抛光工序通过大量磨擦和化学反应作用,可以使钼金属表面快速去粗和平整坦化。化学氧化腐蚀钼合金表面,研磨去除氧化物部分的机制可得到理想镜面效果,金属钼工件表面光滑平整具有易清洗、无残留等特点。吉致可提供钼片/金属钼的镜面抛光液1、微米/纳米级抛光液,抛光后具有均匀镜面效果2、磨料颗粒呈悬浮状态,不易分散沉淀,提高CMP效率和稳定性3、钼片专用抛光液磨料硬度高、稳定性好、化学惰性强,吉致电子金属钼抛光液可用于钢铁、化工、电子、航天、光学领域的钼片加工,达到优良的表面平坦度,抛光速率快、表面均一无缺陷。*可以依客户不同工艺要求,提供定制化服务*提供全套解决方案,及免费安排工程师上门服务
  • 小型研磨抛光机
    主要特点 1、本机动作模仿人手操作,下盘不动, 由上压杆带动样品做8字形往复运动。 可 做调整, 研磨压力及速度均可做调整。 2、采用多机同时工做,可实现无人看守快 速抛光。 3、该机价格便宜,经久耐用,操作方便。
  • 吉致电子JEEZ碳化硅晶圆抛光液 硅衬底抛光液 slurry抛光液
    无锡吉致电子25年研发生产——碳化硅晶圆抛光液/硅衬底SIC抛光液/半导体抛光液/CMP化学机械抛光液/硅衬底抛光液/slurry抛光液产品简介:为电力电子器件及LED用碳化硅晶片的CMP化学机械平坦化配制的抛光液。CMP抛光液大大提高了碳化硅晶圆表面去除率和平坦化性能,提供了非常好的表面光洁度吉致电子碳化硅晶圆Slurry抛光液使用方法:1.可根据抛光操作条件用去离子水进行5-20倍稀释。2.稀释后,粗抛时调节PH11左右,精抛时调节PH9.5左右。pH调节可以用10%的盐酸、醋酸、柠檬酸、KOH或氨水在充分搅拌下慢慢加入。3.循环抛光可以用原液。吉致电子碳化硅晶圆Slurry抛光液储存方法:1.贮存时应避免曝晒,贮存温度为5-35℃2.低于0℃以上储存,防止结冰,在无度以下因产生不可再分散结块而失效。3.避免敞口长期与空气接触。吉致电子碳化硅晶圆Slurry抛光液价格:吉致电子的碳化硅晶圆抛光液生产技术是引进国外生产技术和设备,特殊化学配方制备而成。吉致电子抛光液品质可以媲美进口同类产品。本土化生产使得吉致电子CMP抛光液产品交货周期快,品质好,抛光液价格亲民。
  • 吉致电子JEEZ陶瓷抛光液 CMP纳米级抛光液
    产品名称:陶瓷抛光液/氧化锆抛光液/氧化铝抛光液/氮化硅抛光液/氮化铝抛光液陶瓷抛光液作用: 吉致电子陶瓷类抛光液适用于碳化物、氮化物、氧化物和硼化物各精密陶瓷件的镜面抛光,通过CMP抛光工序可得到理想镜面效果,表面光滑平整具有易清洗、无残留等特点。产品特点:吉致可提供各陶瓷类的镜面抛光液1、纳米级抛光液,抛光后具有较优的粗糙度2、抛光液绿色环保、不含卤素及重金属元素3、抛光液可循环使用,根据工艺要求可添加去离子水稀释可定制化:可以依客户不同工艺要求,提供定制化服务包裝方式:25KG/桶(也可依客户需求)
  • 瑞士万通 旋转圆盘电极的抛光套件 | 6.2802.010
    旋转圆盘电极的抛光套件Polishing set for rotating disk electrodes订货号:6.2802.010抛光套件,含抛光支架,4张抛光布以及氧化铝粉(粒径0.3微米)
  • 瑞士万通 固态电极的抛光套件 | 6.2802.000
    固态电极的抛光套件订货号:6.2802.000抛光套件,含1张抛光布以及大约2克氧化铝粉(粒径0.3微米)
  • 金刚石喷雾抛光剂
    根据研磨的精细程度,金刚石的粒度有大有小;金刚石喷雾抛光剂配合金相抛光润滑冷却液使用,可以使样品的抛光效果则更加完美,可以大量定制。产品特点1、选用优质金刚石微粉作研粉,配以独特的研磨辅料研磨介质2、融物理作用与化学作用于一体,使金刚石微粉处于均匀悬浮状,抛光介质使用更充分,喷涂更均匀3、抛光剂可使研磨、抛光更快速、简便、高效无污染4、减少试样制备工序,缩短抛光时间,减轻试样制备人员的劳动强度5、进口喷头,不容易漏气6、包装瓶安全运输产品规格型号特性粒度容量DPA通过压力喷射,金刚石分布均匀,适用于各种材料0.25um、0.5 um、1 um、1.5 um、 2.5 um、3 um、 3.5 um、 5 um、 6 um、7 um、9 um、10 um、 14 um、15 um、20 um、28 um、 40 um420ml/瓶280克注意事项1、保持抛光布表面干净 2、使用前将抛光织物用清水湿透,避免摩擦发热3、碰头安装好后(或带尖嘴壶),旋紧后,方可喷出使用4、使用金刚石喷雾抛光剂时,应以抛光盘中心为圆心沿半径方向喷出,3-5秒即可,新织物喷洒时间相应延长,以使织物有更好的磨抛能力5、抛光过程中不断加入适量的清水或抛光润滑液6、用完及时分类放置,防止交叉污染粒度
  • 金刚石喷雾抛光剂
    金刚石喷雾抛光剂广泛应用于TEM、SEM、光学显微镜及金相等领域的精密研磨、抛光工作。其金刚石喷洒均匀,适合手动与半自动抛光,具有显著的优越性。 可提供不同规格(粒度)的抛光剂,以应用于不同材料。
  • 瑞士万通 Bioscan流动池抛光板 | 6.2802.100
    Bioscan流动池的抛光板订货号: 6.2802.100Bioscan工作电极的抛光板
  • 瑞士万通 保养套件 6.2802.200 的抛光轮 | 6.2802.210
    保养套件 6.2802.200 的抛光轮Polishing disks for 6.2802.200 maintenance set订货号: 6.2802.210工作电极 6.1257.2XX 保养工具的备用抛光轮
  • 吉致电子SiC碳化硅衬底研磨抛光产品
    产品分类:吉致碳化硅研磨抛光半导体晶圆抛光产品名称:碳化硅研磨液/碳化硅抛光液/碳化硅sic研磨垫/sic精抛垫产品特点:吉致针对碳化硅sic抛光的4道工艺制程搭配不同型号研磨液、抛光液和抛光垫(粗磨垫/精磨垫/粗抛垫/精抛垫)。在研磨和抛光应用中提高碳化硅衬底表面质量,同时大大提高材料去除率。产品工艺及用途:适用于sic碳化硅衬底DMP和CMP工艺制程,有效提升效率以及良率,碳化硅抛光液/抛光垫实现国产化替代。吉致sic碳化硅抛光液储存方法:通风,阴凉,干燥的库房,本品需在5-35℃储存,防止阳光直射,零度以下因产生不可再分散结块而失效。吉致cmp抛光液/slurry抛光液价格:吉致的cmp金属抛光液生产技术是引进国外生产技术和设备,特殊化学配方制备而成。吉致抛光液品质可以替代进口同类产品。本土化生产的优势使吉致cmp抛光液产品交货周期快,抛光液价格实惠亲民。吉致cmp抛光耗材适用范围吉致拥有成熟的加工工艺和生产设备,为不锈钢、铜、铝、陶瓷、导光板、五金产品、蓝宝石、光学玻璃等各类抛光加工服务。为您提供可靠有效的抛光解决方案!
  • 吉致电子JEEZ铜抛光液/合金铜抛光液/铜表面抛光液/金属研磨液/镜面抛光液
    产品名称:铜抛光液/合金铜抛光液/铜表面抛光液/金属研磨液/镜面抛光液合金铜CMP抛光液作用:吉致电子金属类抛光液适用于平面形态的铜、合金铜工件的镜面抛光,CMP抛光工序通过大量磨擦和化学反应作用,可以使铜金属表面得到加工和平整坦化。化学氧化铜金属后磨蚀性去除氧化物部分的机制可得到理想镜面效果,工件表面光滑平整具有易清洗、无残留等特点。吉致可提供铜/合金铜金属的镜面抛光液1、微米/纳米级抛光液,抛光后具有均匀镜面效果2、磨料颗粒呈悬浮状态,不易分散沉淀,提高CMP效率和稳定性3、铜专用抛光液磨料硬度高、稳定性好、化学惰性强*可以依客户不同工艺要求,提供定制化服务*提供全套解决方案,及免费安排工程师上门服务李女士17706168670
  • 溶剂除泡器
    溶剂除泡器止回阀故障和泵气蚀,严重影响泵性能。除泡器可在流体进入泵之前将其中的泡沫除去。容器外壳底部特殊的几何形状使得泡沫被吸入而进入流体中,并聚集在容器里,通过装置的半透明挡板会发现气/液界面一目了然。松开密封盖即可释放被捕捉到的气体。除泡器还配备了一套支架和若干常用连接说明。适用于内径0.063", 0.085"和0.125"管线。溶剂除泡器名称数量货号带支架的溶剂除泡器单件25014
  • 吉致电子JEEZ 钨抛光液/W CMP Slurry/W 抛光液/半导体研磨液
    无锡吉致电子25年研发生产——钨抛光液/W CMP Slurry/W 抛光液/半导体研磨液/CMP抛光液/化学机械抛光液/CMP化学机械抛光液slurry/CMP集成电路抛光液钨W抛光液作用: 吉致电子钨W抛光液适用于8-12吋氧化硅镀膜片的抛光。特选粒径均一的SiO2水溶胶为磨料,抛光清洗后晶圆表面粗糙度低、颗粒残留少。与国内外同类产品相比,具有易清洗、表面粗糙度低等特点.我司产品优点: 1.悬浮性好,不易沉淀,使用方便。2.颗粒分散均匀,不团聚,软硬度适中,有效避免抛光过程中由于颗粒团聚导致的工件表面划伤缺陷。3.运用抛光过程中的化学新作用,提高抛光速度,改善抛光表面的质量。4.分散性好、乳液均一,程度提升抛光速率的同时降低微划伤的概率,可以提高抛光精度。5.无粉尘产生,关注环保和人体健康安全。可定制化:我们的抛光液可以根据客户需求定制不同的PH、粒径、浓度、稳定离子等。包裝方式:25KG/桶(也可依客户需求)吉致电子CMP抛光液/Slurry抛光液价格:吉致电子的CMP金属抛光液生产技术是引进国外生产技术和设备,特殊化学配方制备而成。吉致电子抛光液品质可以媲美进口同类产品。本土化生产使吉致电子CMP抛光液产品交货周期快,品质好,抛光液价格实惠亲民。吉致电子CMP抛光耗材适用范围吉致电子科技有限公司拥有成熟的加工工艺,为不锈钢、铜、铝、陶瓷、导光板、五金产品、蓝宝石、光学玻璃等各类抛光加工服务。为您提供可靠有效抛光解决方案!
  • 吉致电子JEEZ半导体抛光液/蓝宝石抛光液/蓝宝石研磨液
    无锡吉致电子25年研发生产——蓝宝石研磨液/蓝宝石LED衬底抛光液/Sapphire Slurry/CMP化学机械抛光/液蓝宝石A向抛光液/蓝宝石C向抛光液/半导体抛光液/吉致蓝宝石抛光液/蓝宝石研磨液厂家/蓝宝石抛光液厂家/JEEZ蓝宝石抛光液/蓝宝石CMP集成电路抛光液/蓝宝石slurry/蓝宝石Lapping研磨抛光液产品简介:为半导体行业/光学行业调配的蓝宝石研磨液/蓝宝石LED衬底抛光液/Sapphire Slurry组合浆料,适用于蓝宝石基片、外延片、LED的平坦化加工。设计满足从研磨到CMP的衬底制造的各个工艺阶段的规范,在蓝宝石基片抛光应用中提供了可靠的解决方案。吉致电子蓝宝石LED抛光液/Sapphire Slurry抛光液储存方法:1.贮存时应避免曝晒,贮存温度为5-35℃2.低于0℃以上储存,防止结冰,在无度以下因产生不可再分散结块而失效。3.避免敞口长期与空气接触。吉致电子CMP抛光液/Slurry抛光液价格:吉致电子的CMP金属抛光液生产技术是引进国外生产技术和设备,特殊化学配方制备而成。吉致电子抛光液品质可以媲美进口同类产品。本土化生产使得吉致电子CMP抛光液产品交货周期快,品质好,抛光液价格亲民。吉致电子CMP抛光耗材适用范围吉致电子科技有限公司拥有成熟的加工工艺,为不锈钢、铜、铝、塑胶、陶瓷、导光板、五金产品、蓝宝石、光学玻璃等各类抛光加工服务。为您提供可靠的抛光解决方案!
  • 裸光纤研磨机 Radian™ 抛光玻璃棒,光纤束,光纤连接器
    Radian™ 系统能够以用户可选择的可变角度抛光光纤。可互换适配器适用于各种直径和材料类型的光纤。高速加工可对裸光纤、玻璃棒或光纤束进行抛光。旋转台可与各种工件夹具互换,用于抛光光纤连接器。 Radian™ 是实验室、研发和小批量制造应用的理想选择。将 Radian' s™ 的多功能性扩展到裸光纤处理之外。适配器可用于抛光各种行业标准和定制连接器/套圈类型,以及杆/透镜。将组件抛光成平面、UPC 和有角度的几何形状。技术参数研磨光纤参数角度范围0度至45度角度重复性± 0.5度研磨速度可用户调节研磨片尺寸4”备注:Radian™ 研磨机的精密转动平台可以连续调节以实现大范围光纤尖部角度研磨研磨角度可调可支持连接头研磨 示例图相关问答总结1、你好,60°可以抛光吗?也许使用更长的光纤支架?是的。 Radian 和 NOVA 均提供适配器,可将抛光角度扩展至 60 度。我们将直接通过电子邮件发送两个系统的报价单。2、Radian 和 NOVA 裸纤抛光机有什么区别?基本上,NOVA 具有 Radian 的所有功能,并增加了 1) 视频检测 2) 自动化和可编程 3) 多光纤支持,4) 连接器支持等等。3、抛光速度是否可调?是的,压板旋转速度可由用户控制。产品特点● 角度可以调节(0-45deg)● 可付费升级更换成裸芯片研磨机● 精度高● 抛光速度可调产品应用光纤激光器半导体加工
  • 吉致电子JEEZ氧化层抛光液 /Oxide slurry/CMP抛光液
    无锡吉致电子25年研发生产——氧化层抛光液 /Oxide slurry/CMP抛光液/氧化物CMP研磨液/氧化物化学机械抛光液/半导体CMP抛光液/氧化层lapping研磨抛光液/氧化层slurry/氧化层抛光液抛光浆料/氧化层集成电路抛光液/氧化层CMP化学机械抛光液slurry/氧化层抛光液slurry 磨料类型:半导体cmp抛光液slurry磨料粒径:纳米级SiO2产品特点:纳米级SiO2磨料,粒径均一稳定,去除速率稳定,金属离子含量低,通过CMP工艺可有效去除表面氧化层,达到理想平坦度。吉致电子Oxide Slurry与国内外同类产品相比,具有易清洗、表面粗糙度低等特点。吉致电子氧化层抛光液/OxideSlurry抛光液储存方法:通风,阴凉,干燥的库房,本品需在5-35℃储存,防止阳光直射及冻结,零度以下因产生不可再分散结块而失效。吉致电子CMP抛光液/Slurry抛光液价格:吉致电子的CMP金属抛光液生产技术是引进国外生产技术和设备,特殊化学配方制备而成。吉致电子抛光液品质可以媲美进口同类产品。本土化生产使得吉致电子CMP抛光液产品交货周期快,品质好,抛光液价格亲民。吉致电子CMP抛光耗材适用范围吉致电子科技有限公司拥有成熟的加工工艺,为不锈钢、铜、铝、陶瓷、导光板、五金产品、蓝宝石、光学玻璃等各类抛光加工服务。为您提供可靠抛光解决方案!
  • 抛光级和普通的碳圆片
    抛光级和普通的碳圆片是SEM或电子探针 X-射线分析和背散射电子成像的理想基 底。高纯度碳基底保证了在样品元素分析中 出了碳峰外不会出现任何杂质特征峰。碳的 高电导率和热传导性保证了在测试中不会产 生电荷积累从而影响实验结果。碳圆片经过清洗能够重复使用,对 于面分布成像和精细材料样品表征,抛光级碳基底将会是首选。
  • 溶剂除泡器
    溶剂除泡器止回阀故障和泵气蚀,严重影响泵性能。除泡器可在流体进入泵之前将其中的泡沫除去。容器外壳底部特殊的几何形状使得泡沫被吸入而进入流体中,并聚集在容器里,通过装置的半透明挡板会发现气/液界面一目了然。松开密封盖即可释放被捕捉到的气体。除泡器还配备了一套支架和若干常用连接说明。适用于内径0.063", 0.085"和0.125"管线。名称 数量 货号 带支架的溶剂除泡器 单件 25014
  • 万通 泡沫隔板 | 6.1451.010
    泡沫塑料阻隔器,用于稳定性测定(泡沫隔板)订货号:6.1451.010规格型号:Foam barrier for Rancimat用作743型Rancimat的反应杯6.1429.020中的泡沫塑料阻隔器(foam barrier)技术参数内直径(mm)5外直径(mm)20材料PP
  • 金刚石抛光剂
    广泛应用于宝石、玻璃、陶瓷、硬质合金及淬火钢材的高光亮度的研磨、抛光、用于金相抛光时,更显其独特的优越性,经研磨抛光后的试样更真实地显示其金相组织。
  • 吹扫捕集鼓泡管
    吹扫捕集鼓泡管 ◇ 具有均匀的筛板,可保证最高的净化效率。◇废水样品采用非烧结鼓泡管。◇按照严格的公差制作,以确保无泄漏密封。 吹扫捕集鼓泡管说明体积包装量货号烧结鼓泡管烧结, 1/2英寸底座5 mL单件21150烧结,1/2英寸底座10 mL单件26138烧结,1/2英寸底座25 mL单件21151非烧结鼓泡管非烧结,1/2英寸底座5 mL单件26139非烧结,1/2英寸底座10 mL单件26140非烧结,1/2英寸底座25 mL单件26141
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