双面啮合仪

一、双面胶胶黏强度测试仪主要介绍： QJ211双面胶胶黏强度测试仪可针对试验试样进行30KN以内强度试验。更换不同夹具，还可以做压缩、抗弯、剥离、撕裂、剪切、刺破、低调疲劳等多项力学试验。试验机可满足GB、ISO、JIS、ASTM、DIN、JG、JT、YB、QB、YD、YY、QC、SY、SL、BB、HG等国际标准和行业标准进行试验和提供数据.有着强大的数控显示系统和微机控制系统，全液晶数控设定所需参数，曲线，位移，力值能动态显示在液晶数显器上，联接电脑打印机实现全电脑控制并打印标准试验报告；以windows操作系统使试验数据曲线动态显示,试验数据可以任意删加,对曲线操作更加简便.轻松.随时随地都可以进行曲线遍历.叠加.分离.缩放.打印等全电子显示监控。产品主要可应用于计量质检；光伏行业、冶金钢铁；机械制造；电子电器；汽车生产；电线电缆；包仪器仪表；医疗器械；民用核能；民用航空；高等院校；科研实验所；商检仲裁、技术监督部门及其它行业。二、双面胶胶黏强度测试仪技术参数:1、最大负荷：30KN(任意选)2、荷重元精度：0.01%3、测试精度： ±0.5%4、操作方式：全电脑控制,windows模式操作5、有效试验宽度：约420mm6、有效拉伸空间：约800mm7、试验速度：0.001~500mm/min8、速度精度：±0.5%以内；9、位移测量精度：±0.5%以内；10、变形测量精度：±0.5%以内11、安全装置：电子限位保护，紧急停止键12、机台重量：约140kg三、双面胶胶黏强度测试仪公司承诺：1.购机前，我们专门派技术人员为您设计合适的流程和方案2.购机后，将免费指派技术人员为您调试安装3.整机保修一年，产品终身维护4.常年供应设备的易损件及耗品确保仪器能长期使用

DSH系列双面探针台产品概要DSH系列探针台是我司自主研发的一款双面探针台,最大可完成12英寸晶圆的正反面点针测试。在具备常规探针台的功能基础上,可用于晶圆和PCB板的测试,对晶圆或者PCB板正面和背面同时扎针以实现各种光/电性能测试需求的测试,或背面点针,正面收集光线等,运用十分丰富。该定制探针台具有优良的机械系统,稳定的结构,符合人体工程学,以及多项升级功能。此设备在激光器,LD/LED/PD的光强/波长测试等方面得到了广泛运用。如果您的产品也有双面点针,或者背面点针的需求,此款产品是首选。技术特点双层设计,可正反面同时点针,可同时加载DC和RF信号 卡盘大手柄双驱动,省时,省力,省心,可升级360度快速移动 加厚级刚性金属框架结构设计,领先的内部防震技术,结构性能稳定。

DIP上下双面智能AOI双面检查AOI D610系列设备原理：通过上下两个高精度相机，对同一块板卡移动拍 照，采取AI深度学习算法，智能判定元器件不良和焊锡不良。适合产品： 高标准类：汽车电子、军工、航天； 主板类：服务器主板、PC主板； 网通类：通信板，网通板； 控制类：工控板、智能家电板； 电表类：仪表板；一.双面检查AOI检查项目二.产品功能介绍1.AI深度学习模型、计算机视觉、图形图像处理，提高焊点检出率；检测插件元件错、漏、反、浮高、焊锡缺陷等。2.智能算法，快速智能编程，无需人工干预，对编程人员要求低，易学习，编程速度快3.OCR文字识别算法4.强大的检出率，真正能让在线AOI无人值守。在确保能检出真正不良品前提下，本机器重复测量结果一致性好、低误判，才能真正减少人工。5.检测速度快 ,两面同时检测,自动规划最优路径移动检测，节省拍照时间；6.检测模式多，支持拼板检测 、支持混板检测 、支持混料检测 。三.双面检测AOI规格参数PCBA 尺寸：min：5mm5mm max:510*460mmPCBA 厚度：0.5mm-6mmPCBA 元件高度：顶面：150mm 底面：40mm摄像头分辨率：焊点面500W全彩 或者1200W全彩，器件面标配2000W或选配1200W，根据应用环境选配光源：上照白光+下照 RGBWS四色环形LED光源像元尺寸：3.45um(500万全彩)；2.45um(2000万全彩)CPU：Intel i7 10代 10700KF显存：8G 内存/存储：64G DDR/ 256G+2T机械硬盘显示器：22″/23.8″FHD 显示器运动机构：进口伺服电机丝杆轨道调宽：电动操作系统：Ubuntu.19.2.LTS 64bit外观尺寸：长*宽*高=1060mm*1340mm*1500mm（不含显示器支架，三色灯）

一，生产厂家：采用7寸威纶通液晶触控显示屏，中文菜单显示。公称规格、设定载荷、打印设定、测试、上行、下行、时间、标定。由键盘与触摸控制液晶显示屏上的菜单，机载打印测试结果。 二，标准：完全符合YY/T1750—2020，YY/T0940-2014 标准中相关条款设计制造。三，技术指标操作界面：中英文切换触摸屏：7寸彩色触摸屏威纶通控制系统：PLC测试软件：1套专业夹具：2套；夹持力方法：用抓取钳头部前端1/3处夹持一根 YY 0167-2005 定的7号合抓取完全合对缝合线施加方向与钳杆主轴平行的制造商规定的拉力，缝合线不得滑脱；锁合啮合力方法：锁合啮合力在模拟应用状态下进行测试钳头微张开的状态由制造商给定，以头部前端 1/3处的张开高度表示，将抓取钳手柄处于锁合状态，测量此状态下头部前端 1/3 处的合力值，即为锁合力；拉力传感器：0- 50N 传感器拉力速度：试验速度设定为200 mm/min（选择性选择）加持距离：0-200MM可任意设置设定时间:1s～60min, 客户任意设置 精度：0.2S净重：20kg ；外形尺寸：440×300×260（mm）仪器终身免费依标准：规定升级服务。设备免费保修期为1年。

一、产品概述离心管架主要由塑料制成，用于存放离心管，它们也称为离心管盒，用于保护和存放离心管，离心管架的规格主要根据离心管设计。二、产品特点 1、 采用加厚PP材质，环保且方便清洁。2、 用料均匀，材质稳定，经久耐用。3、 防爆防开裂，耐121℃高温高压灭菌，可重复使用。4、 横侧数字标识，竖侧字母标识，准确，方便，美观。5、 做工精细，无毛刺。6、 圆润转角设计，保护双手。7、 产品双面设计，适配多种规格离心管。三、产品参数型号多用双面离心管架 小号多用双面离心管架 大号长度（mm）208205宽度（mm）73110高度（mm）23.323.4孔1（mm）13.5/10.813.5/8.0孔2（mm）8.0/6.510.8/6.5孔数96/48孔102/84孔适配离心管规格0.2ml，0.5ml，1.5ml，2.0ml，5.0ml0.2ml，0.5ml，1.5ml，2.0ml，5.0ml净重（kg）0.130.17产品尺寸（mm）208×73×23.3205×110×23.4型号双面离心管架 60孔双面离心管架 96孔长度（mm）20820.8宽度（mm）11073高度（mm）23.523.3孔1（mm）10.810.8孔2（mm）88.0 孔数96孔60孔适配离心管规格0.5ml，1.5ml，2.0ml0.5ml，1.5ml，2.0ml净重（kg）0.190.14产品尺寸（mm）208×110×23.5208×110×23.3

1、SGH700锁合啮合力测试仪是一款根据标准《YY0944-2014医用内窥镜 内窥镜器械 抓取钳》中技术要求设计研发，仪器主要用于内窥镜锁合啮合力等性能指标。2. 锁合啮合力测试仪技术参数2.1自动测量啮合力和钳头微张开度；2.2啮合力测量范围0-30N，测量精度0.1N；2.3位移调节范围0-30mm；2.4自动计算检测结果，可保存数据；2.5仪器具有瞬态峰值数据记录和稳态数据计算功能；2.6检测夹具可兼容多个型号抓取钳的测量；2.7触摸显示屏可显示测量数据、设置数据；2.8供电电压交流220伏，功率450W

EVG620系列单面/双面光刻机 一、 简介 EVG公司成立于1980年，公司总部和制造厂位于奥地利，在美国、日本和台湾设有分公司，并在其他各地设有销售代理及售后服务部，产品和服务遍及世界各地。EVG公司是一家致力于半导体制造设备的全球供应商，其丰富的产品系列包括：涂胶和喷胶/显影机/热板/冷板、掩模版光刻/键合对准系统、基片热压键合/低温等离子键合系统、基片清洗机、基片检测系统、SOI 基片键合系统、基片临时键合/分离系统、纳米压印系统。目前已有数千台设备安装在世界各地，被广泛地应用于MEMS微机电系统/微流体器件，SOI基片制造，3D封装，纳米压印，化合物半导体器件和功率器件等领域。EVG620 是一款非常灵活和可靠的光刻设备，可配置为半自动也可以为全自动形式。EVG620既可以用作双面光刻机也可以用作150mm硅片的精确对准设备；既可以用作研发设备，也可以用作量产设备。精密的契型补偿系统配以计算机控制的压力调整可以确保良率和掩膜板寿命的大幅提升，进而降低生产成本。EVG620先进的对准台设计在保证精确的对准精度和曝光效果的同时，可以大幅提高产能。 二、应用范围EVG光刻机主要应用于半导体光电器件、功率器件、微波器件及微电子机械系统（MEMS）、硅片凸点、化合物半导体等领域，涵盖了微纳电子领域微米或亚微米级线条器件的图形光刻应用。 三、主要特点u 双面对准光刻和键合对准工艺u 自动的微米计控制曝光间距u 自动契型补偿系统u 优异的全局光强均匀度u 免维护单独气浮工作台u 高度自动化系统u 快速更换不同规格尺寸的硅片u 可选配Nanoalign技术包以达到更高的工艺能力u 薄硅片或翘曲硅片处理系统可选u Windows图形化用户界面u 完善的多用户管理（用户权限、界面语言、菜单和工艺控制）u 光刻工艺模拟软件可选u 三花篮上料台，可选五花篮台 四、技术参数设备咨询电话：欢迎您的来电咨询！

剥离试验为材料力学性能测量与试验设备，可进行各种胶粘材料及制品的剥离、拉伸等项目的检测、环形初粘性的检测，可显示各种应力应变曲线。双面胶剥离强度测试仪具有应力、应变、位移方式，可求出最大力值、抗拉强度、弯曲强度、压缩强度、弹性模量、断裂延伸率、屈服强度等参数，适用于拉伸、压缩、剥离、撕裂、剪切等力学性能试验及分析。双面胶剥离强度测试仪是电子技术配合软件技术与机械传动相结合的新型材料试验机，采用步进电机系统作为精准动力源；采用精密滚珠丝杠与导向杆，采用0.5级精度力值传感器，再通过高精度力值测量系统，实现精准测量。该系列机型采用单柱结构，主要用于负荷低于10kN的材料试验，结构牢固，操作方便，维护简单，是各工厂，企业进行力学检测的理想试验仪器。双面胶剥离强度测试仪主要依据GB/T2611试验及通用技术条件和《电子式万能试验机》GB/T 16491-2008/标准制造；符合GB/T 2792、 JB/T2872、GB/T10424、GB/5319等相关标准；依据GB/T12160和GB/T16825进行检定和验收。技术参数：品 牌：Hongtuo宏拓型 号：HT-101PT-2试验机级别：1级有效测力范围：0.4％～100％FS力值精度：示值的±0.5%以内力值分解度：1/200 000力量放大倍率：X1,X2,X5,X10,X20,X50,X100等七档全程自动换档切换位移分解度：0.001mm位移精度：示值的±1%以内变形测量范围：2%～100%FS变形示值精度：示值的±1%以内最大试验速度：500mm/min；选购最大1000mm/min最小试验速度：0.1mm/min速度精度：示值的±1%以内夹具配置：压缩夹具一组；可选购其它夹具主要特点：满足大部分力学性能试验全套结构紧凑，高刚性设计，坚固耐用操作方便，任何人皆可轻易操作测量准确高，通过第三方检测机构认证高速率，低振动，低噪音的电机驱动装置多语种应用功能，适应不同的国别使用 具有灵活的、曲线图、数据表、报告书查看和打印功能具有测试完成后自动返回至测试起始的自动归位功能自动计算最大力、最小力、平均力、最大变形、伸长率、强度等功能具有应力-应变、力量-位移、力量-时间、强度-时间等多种曲线模式具有抗拉、抗弯、抗压、抗折、黏著、撕裂、剥离、伸长率… … 等测试模式功能具有机械行程开关；急停开关；过流，过压，欠流，欠压，漏电过载保护；软件过载限位保护；断点停机保护等多重保护装置售后服务承诺：1、我公司负责设备的安装与调试；2、负责对操作人员进行专业培训，并能独立进行试验操作；3、负责壹年内免费维修，终身维护；（因使用不当造成的产品损坏、配件遗失除外）4、对于用户的技术咨询，我公司技术人员随时予以解答；5、对于用户无法自行解决的问题，我公司负责派遣技术人员协助解决；6、售后人员对用户进行定期回访，指导用户保养维护仪器。宏拓仪器是一家具有实力的物性检测仪器供应商，专业为中小型企业提供优质、高性能的材料试验仪器解决方案。本公司主营产品有：拉力试验机、熔体流动速率仪（熔融指数仪）、悬臂梁冲击试验机、简支梁冲击试验机、密度计等类型工程塑料类检测仪器。

双面电池问题： 将电池的后侧改为光盖，被发现使双面PERC电池和模块对后侧的新型PID敏感，即去极化型PID(PID-p)和腐蚀型PID机制(PID-c)。解决方案： 为了测试电池的这些类型的PID，我们开发了PIDcon双面体。它是用温度、照明和高电压对完整的电池进行压力测试，它可以在两个方向上进行极化。通过测量照明下的IV曲线，可以确定PID的灵敏度。应用： 太阳能电池片PID检测HIT、Topcon 、PERC、AL-BSF、PERC+、双面PERC、PERT、PERL和IBC太阳能电池的研究、生产和质量控制。欲了解更多信息，请访问 www.pidcon.com PIDcon bifacial的特点： ● 符合IEC62804-TS标准● 易于使用的台式设备● 能够测量c-Si太阳能电池和微型模块● 无需气候室● 无需层压电池● 测量速度:小时至数天● 可测量参数:分流电阻、功率损耗、电导率、漏电流、湿度、温度● 太阳能电池可以在以后通过EL等进行研究● 基于IP的系统允许远程操作和技术支持从世界任何地方 标准试验条件: ● 电压:upto1.5kV● 温度:85°C● 测试时间:4hours(typical)● 干燥条件下，不需要水类型 受压 恢复PID-s正面 85°C，+1.5 kV 85°C，-1.5 kVPID-p背面 85°C，+1.5 kV，无照明 85°C， 暗储存或光照PID-c背面 85°C，+1.5 kV， 照明 不可恢复层压 150°C，20min样品尺寸 210×210mm适用于 A PERC,AL-BSF,IBC,PERC+,双面PERC,p型和n型电池 功率要求 110/230 V AC, 50/60 Hz资质认证 根据ISO9001准则制造，符合CE标准参考文献： cells (1)K. Sporleder, V. Naumann, J. Bauer, S. Richter, A. Hä hnel, S. Groß er, M. Turek, C. Hagendorf, Local corrosion of silicon as root cause for potential induced degradation at the rear side of bifacial PERC solar cells. physica status solidi (RRL)–Rapid Research Letters. 2019, doi 10.1002/pssr.201900163(2)V. Naumann, K. Ilse, M. Pander, J. Trö ndle, K. Sporleder, C. Hagendorf, Influence of soiling and moisture ingress on long term PID susceptibility of photovoltaicmodules, AIP Conference Proceedings 2147, 090005 (2019).(3)K. Sporleder, V. Naumann, J. Bauer, S. Richter, A. Hä hnel, S. Groß er, M. Turek, C. Hagendorf, Root cause analysis on corrosive potential-induced degradation effects at the rear side of bifacial silicon PERC solar cells, Solar Energy Materials and Solar Cells 201, 110062 (2019).(4)K. Sporleder, V. Naumann, J. Bauer, S. Richter, A. Hä hnel, S. Groß er, M. Turek, C. Hagendorf, Microstructural Analysis of Local Silicon Corrosion of Bifacial Solar Cellsas Root Cause of Potential‐Induced Degradation at the Rear Side, Phys. Status Solidi A (2019), doi:10.1002/pssa.201900334.(5)K. Sporleder, J. Bauer, S. Groß er, S. Richter, A. Hä hnel, M. Turek, V. Naumann, K. Ilse, C. Hagendorf, Potential-Induced Degradation of Bifacial PERC Solar Cells Under Illumination, IEEE Journal of Photovoltaics 9 (6) 1522-1525, 2019.(6)K. Sporleder, M. Turek, N. Schüler, V. Naumann, D. Hevisov, C. Pö blau, S. Groß er, H. Schulte-Huxel, J. Bauer, C. Hagendorf, Quick test for reversible and irreversible PID of bifacial PERC solar cells, Solar Energy Materials and Solar Cells 219, 110755, 2021.(7)K. Sporleder, V. Naumann, J. Bauer, D. Hevisov, M. Turek, and C. Hagendorf, Time-resolved Investigation of Transient Field Effect Passivation States during Potential Induced Degradation and Recovery of Bifacial Silicon Solar Cells , Solar RRL, 2021, accepted.

产品介绍RVBB型双面立式平衡机是为满足市场需求，针对工具行业用于高速旋转 切削的钻头等工具需要进行平衡检测而设计制造的一种小型软支承立式平衡机。 近来RVBB型双面立式平衡机通过鉴定，样机的试制基本成功，产品技术性能及指标均达到设计要求，填补公司立式平衡机系列产品—小型软支承双面立式平衡机的空白。 RVBB型双面立式平衡机结构简单、紧凑，便于装配和调试，采用同步齿 形带传动，并设有皮带张紧微调装置；采用了高灵敏度的双线圈T81S型传感器，增强了振动信号量的输出，提高了平衡检测的灵敏度。该机的防护罩采用透明有机玻璃窗，使得操作者能直观地观察到被测工件的运转状况，并设有机器和防护罩之间的电器联锁装置，使得机器工作更安全、可靠。该机的电测系统采用ST690型电测箱，以数字和图形两种形式在屏幕上显示检测结果技术参数RVBB型双面立式平衡机的主要参数及技术指标： 1. 工件最大重量（包括夹具重量） 3 kg2. 工件最大直径 φ160 mm3. 工件最大高度 φ145 mm4. 平衡转速 2400 r/min5. 电机功率 0.25kW6. 最小可达剩余不平衡度emar ≤4gmm/kg7. 主轴的剩余不平衡量 ≤4.4gmm8. 不平衡量减少率URR ≥90％

川昱仪器 单人双面超净工作台垂直送风主要特征：1、垂直流形，准闭合式玻璃风门，可有效防止外部气流渗入，及操作异味对人体的刺激。2、超净工作台采用可调节风量风级系统，保证工作风速始终处于理想状态。3、超净工作台LED液晶控制面板控制。4、实验区采用优质不锈钢，为操作者提供便利。技术参数参数SW-CJ-1F洁净等级100级@≥0.5μm(美联邦209E）菌落数≤0.5个/皿．时（Φ90㎜培养平皿）平均风速0.25m～0.45/m/s(快、慢双速）噪音≤62dB(A)振动半峰值≤0.5μm(x.y.z方向）照度≥300LX电源AC单相220V/50Hz送风方式垂直送风功耗0.4KW重量150㎏高效过滤器规格及数量865×555×38×① 荧光灯/紫外灯规格及数量20W×①/20W×①适用人数单人双面工作区尺寸870×600×520㎜外形尺寸1050×680×1600㎜说明：本公司接受客户特殊规格要求的非标型净化工作台（可根据用户需要配备紫外灯杀菌功能）川昱仪器 单人双面超净工作台垂直送风操作步骤1、开始工作前，需要对洁净工作台进行杀菌处理，先提前30分钟按下电源开关，根据需要的生产参数进行设计控制，打开紫外线杀菌灯的开关，处理工作台内的细菌、微生物灯。离开洁净工作台后，在打开缓冲区域的紫外线杀菌灯。杀灭细菌后在关闭仪器。等待大约30分钟，让臭氧转化为氧气，避免影响工作人员的身体健康，在打开照明系统，启动风机，就可以使用洁净工作台。2、工作人员使用完洁净工作台，还需要做好清洁措施，使用75%的酒精擦拭净化工作台面，关闭送风机。打开紫外线杀菌灯15秒，杀灭工作台中的细菌后，后关闭电源开关。3、工作中需要使用的工具、仪器等要放入到洁净工作台中4、工作人员会产生很多细菌和微粒。所以工作人员需要戴上一次性口罩、帽子以及医用乳胶手套。5、可以适当的打开洁净工作台的移门进行操作，但是需要按照无菌操作规程操作。6、做好清理工作后，需要做好记录。保证工作台的洁净度，不存在没有清洁的死角。

川昱仪器双人双面超净工作台垂直送风广泛适用于生物制药、化学实验、医疗卫生、电子光学等领域。并提供局部无菌、无尘的洁净工作台。主要特征：1、垂直流形，准闭合式玻璃风门，可有效防止外部气流渗入，及操作异味对人体的刺激。2、超净工作台采用可调节风量风级系统，保证工作风速始终处于理想状态。3、超净工作台LED液晶控制面板控制。4、实验区采用优质不锈钢，为操作者提供便利。川昱仪器双人双面超净工作台垂直送风技术参数参数SW-CJ-1FSW-CJ-1FDSW-CJ-2FSW-CJ-2FD洁净等级100级@≥0.5μm(美联邦209E）菌落数≤0.5个/皿．时（Φ90㎜培养平皿）平均风速0.25m～0.45/m/s(快、慢双速）噪音≤62dB(A)振动半峰值≤0.5μm(x.y.z方向）照度≥300LX电源AC单相220V/50Hz送风方式垂直送风功耗0.4KW0.8KW重量150㎏250kg高效过滤器规格及数量865×555×38×① 1355×555×38×①荧光灯/紫外灯规格及数量20W×①/20W×①30W×①/30W×①适用人数单人双面单人单面双人双面双人单面工作区尺寸870×600×520㎜1360×600×520㎜外形尺寸 1050×680×1600㎜1540×680×1600㎜关于洁净工作台的等级划分洁净实验室主要是通过人为的手段，应用洁净技术实现控制室内空气中尘埃、含菌浓度、温湿度与压力、以达到所要求的洁净度、温湿度和气流速度等环境参数。空气洁净度是指洁净空气环境中空气含尘量程度，空气洁净度的级别以含尘浓度划分。洁净度是指每升空气中所含粒径≥0.5um的尘粒的总颗粒。我国空气洁净等级标准分为：100级、1000级、10000级、100000级。国际标准则划分为：1级、2级、3级、4级、5级。洁净室一般实施两级隔离，一级隔离通过生物安全柜、负压隔离器、正压防护服、手套、眼罩等实现；二级隔离通过实验室的建筑、空调净化和电气控制系统来实现。但由于净化空调需要风量小为了安全起见，风量都按大的估算，一般都要超过规范规定，物别是百级以上，冷热负荷在要求不是很严格的情况可能估算，现在专门有净化空调机组，可以直接利用。二级~四级生物安全实验室应实施两级隔离。一般实验室装备有:洁净工作台、生物安全柜、边台或不锈钢操作台、洗涤台等。以PRC实验室为例（PCR即聚合酶链式反应），是分子生物学研究和实验的常规方法，也是生物学、医学临床等领域广泛应用的实验技术。其特点是能将微量的DNA大幅增加，实验室通常分为四个区域，即：试剂储存和准备区、标本制备区、扩增反应混合物配制和扩增区、扩增产物分析区（如使用全自动分析仪，区域可适当合并）。

EVG620 单面/双面光刻机(带有压印功能）EVG 公司是一家致力于半导体制造设备的全球供应商，其丰富的产品系列包括：涂胶和喷胶/显影机/热板/冷板、掩模版光刻/键合对准系统、基片热压键合/低温等离子键合系统、基片清洗机、基片检测系统、SOI 基片键合系统、基片临时键合/分离系统、纳米压印系统。目前已有数千台设备安装在世界各地，被广泛地应用于 MEMS 微机电系统/微流体器件，SOI 基片制造，3D 封装，纳米压印，化合物半导体器件和功率器件等领域。设备原理：EVG620 是一款非常灵活和可靠的光刻设备，可配置为半自动也可以为全自动形式。EVG620 既可以用作双面光刻机也可以用作 150mm 硅片的精确对准设备；既可以用作研发设备，也可以用作量产设备。精密的契型补偿系统配以计算机控制的压力调整可以确保良率和掩膜板寿命的大幅提升，进而降低生产成本。EVG620 先进的对准台设计在保证精确的对准精度和曝光效果的同时，可以大幅提高产能。应用范围EVG 光刻机主要应用于半导体光电器件、功率器件、微波器件及微电子机械系统（MEMS）、硅片凸点、化合物半导体等领域，涵盖了微纳电子领域微米或亚微米级线条器件的图形光刻应用。主要特点及技术参数:1、主要特点：。 双面对准光刻和键合对准工艺。自动的微米计控制曝光间距。自动契型补偿系统。 优异的全局光强均匀度。免维护单独气浮工作台。 高度自动化系统。快速更换不同规格尺寸的硅片。 可选配 Nanoalign 技术包以达到更高的工艺能力。 薄硅片或翘曲硅片处理系统可选。 Windows 图形化用户界面。 完善的多用户管理（用户权限、界面语言、菜单和工艺控制）。 光刻工艺模拟软件可选。三花篮上料台，可选五花篮台2、技术参数

单人双面超净工作台 全钢无菌操作台超净工作台广泛适用于生物制药、化学实验、医疗卫生、电子光学等领域。并提供局部无菌、无尘的洁净工作台。主要特征：1、垂直流形，准闭合式玻璃风门，可有效防止外部气流渗入，及操作异味对人体的刺激。2、超净工作台采用可调节风量风级系统，保证工作风速始终处于理想状态。3、超净工作台LED液晶控制面板控制。4、外壳冷轧钢，桌面敷设不锈钢。单人双面超净工作台 全钢无菌操作台技术参数参数SW-CJ-1FSW-CJ-2F洁净等级100级@≥0.5μm(美联邦209E）菌落数≤0.5个/皿．时（Φ90㎜培养平皿）平均风速0.25m～0.45/m/s(快、慢双速）噪音≤62dB(A)振动半峰值≤0.5μm(x.y.z方向）照度≥300LX电源AC单相220V/50Hz送风方式垂直送风功耗0.4KW0.8KW重量150㎏250kg高效过滤器规格及数量865×540×38×①1355×540×38×①荧光灯/紫外灯规格及数量20W×①/20W×①30W×①/30W×①适用人数单人双面双人双面工作区尺寸870×580×560mm1360×580×560mm外形尺寸1010×600×1600mm1500×600×1600mm说明：本公司接受客户特殊规格要求的非标型净化工作台（可根据用户需要配备紫外灯杀菌功能）洁净工程中，洁净台常常会出现一些问题，突如其来的出现会给我们的工作带来很大的不便，这时，就需要我们及时的发现故障原因从而进行检查与修复。小编在这里给大家整理了一些我们常见的问题及其出现的原因与检查方法。1、当出现洁净工作台风机不运转时，出现这种现象的原因有两个，一说明风机本身有问题。二说明洁净工作台控制面板有故障，导致无信号输出。针对洁净工作台出现的风机不运转，排除这个问题的方法是：1、检查、更换风机。2、检查更换控制线路板。2、当洁净工作台出现操作开关使用无效(不能实现开/关)出现这种现象的原因说明洁净工作抬电源未接通，线路有鼓掌。要解决洁净工作台操作开关使用无效的问题，我们可以采取的排除方法有两个，一插好插头。二认真检查，并更换线路板。3、当洁净工作台出现工作电压已调制大档，风速仍很低，出现这种现象的原因有1预过滤器积尘太多，2、过滤器失效。要解决洁净工作台工作电压调制大挡，风速仍很低的问题，我们可以采取的排除方法是a清洗或更换预过滤器b更换过滤器。

双面 卷对卷涂敷系统（DOUBLE SIDED R2R COATING SYSTEM）是一种先进制造技术，现阶段广泛应用于平板显示（OLED,QLED）,柔性显示，触摸屏工艺，太阳能光伏(OPV,Pervoskite)，二次锂电池工艺，智能化玻璃，柔性印刷电子，纸张涂布，半导体封装等领域，均能实现不同功能材料高均匀，高性能的涂布。 .....可根据客户需要进行定制化制作.• Easy to convert Double-Sided Micro Gravure Process and Slot Die Process• High-speed coating process of thin film for Min.10μm thickness• Various kinds of application in films such as PET Film, PI Film and Copper Film, etc. with perfect precision tension control• 200°C Hot Air Dryer and 300°C IR Ceramic Dryer

一、 URE-2000S/A8 型双面光刻机 1.主要技术参数曝光面积：8 英寸曝光波长：365nm： 15mW/cm405nm：15-30mW/cm2分辨力：1mm对准精度：±2 mm（双面,片厚 0.8mm）±0.8mm（单面）掩模尺寸：4 英寸、5 英寸，7 英寸，9 英寸样片尺寸：3 英寸、4 英寸，6 英寸，8 英寸厚度 0.1mm—2mm曝光方式：定时（倒计时方式）和定剂量调平接触压力通过传感器保证重复l数字设定对准间隙和曝光间隙具备压印模块接口，也具备接近模块接口 正面对准采用双目双视场对准显微镜：既可通过目镜目视对准，也可通过 CCD+显示器对准，光学合像，光学最大倍数 400 倍，光学+电子放大 800 倍物镜三对：4 倍、10 倍、20 倍目镜三对：10 倍、16 倍、20 倍底面面对准：采用双显微物镜+CCD+采集卡+计算机合像，物镜轴距范围 10mm-200mm照明不均匀性：5%（Ф200mm 范围）掩模相对于样片运动行程：X：±5mm Y：±5mm q：±6 度最大胶厚：500 mm（SU8 胶，用户提供检测条件）光源平行性：2°具有循环水冷却系统汞灯功率：1000W（直流，进口） 2．外形尺寸：1400mm（长）′1200mm(宽) ′2000mm（高） 3．设备构成与配置明细设备主要由均匀照明曝光系统（曝光头）、对准工件台系统、双目双视场显微镜系统、底面 CCD 对准系统、电控系统、气动控制系统及辅助配套设备构成。（1）曝光头系统包括：。冷光椭球镜。1000 W 进口直流高压汞灯(德国欧司朗)。XYZ 汞灯调节台。冷却风扇.。光学系统：固定光栏、可变光栏、快门、准直镜镜 1、准直镜镜 2、蝇眼透镜组（109 余个透镜）、i 线滤光片、场镜、冷光反射镜 1、反射镜 2 （2）对准工件台系统包括：。掩模样片相对运动台（XY）。转动台（θ）。样片自动调平机构。样片调焦机构l。承片台 4 个 （3 英寸、4 英寸，6 英寸，8 英寸）。掩模架 4 个 （4 英寸、5 英寸，7 英寸，9 英寸）。掩模翻转及旋转机构 （3）对准显微镜（可选择带 CCD 型，目镜和监视器可同时观测）系统包括：。LED 照明及配套电源。双目双视场对准显微镜主体。目镜 3 对（10 倍、16 倍、20 倍，共 6 个）。物镜 3 对（4 倍、10 倍、20 倍，共 6 个）。CCD 及光学成像系统XYZ 底面对准工件台（两套） （4）底面 CCD 对准系统。LED 照明及配套电源。CCD 及光学成像系统(2 套)。数据采集卡 （5）电控系统。汞灯触发电源(1000W 直流汞灯)。单片机控制系统。控制柜桌。计算机系统（22 英寸宽屏液晶显示器） （6）气动系统。气缸、电磁阀、减压阀、气动开关等。电磁阀驱动。气动仪表 （7）其他附件（选配）。真空泵一台（无油静音型）。空压机一台（无油静音型）。恒温循环水冷却系统。管道 二、 URE-2000S/A 型双面光刻机 1.主要技术参数曝光面积：6 英寸曝光波长：365nm： 20mW/cm405nm：20-35mW/cm2分辨力：1mm对准精度：±2mm（双面,片厚 0.8mm） ±0.8mm（单面）掩模尺寸：3 英寸、4 英寸、5 英寸，7 英寸样片尺寸：2 英寸、3 英寸、4 英寸，6 英寸厚度 0.1mm—6mm曝光方式：定时（倒计时方式）和定剂量调平接触压力通过传感器保证重复数字设定对准间隙和曝光间隙具备压印模块接口，也具备接近模块接口7正面对准采用双目双视场对准显微镜：既可通过目镜目视对准，也可通过 CCD+显示器对准，光学合像，光学最大倍数 400 倍，光学+电子放大 800 倍物镜三对：4 倍、10 倍、20 倍目镜三对：10 倍、16 倍、20 倍底面面对准：采用双显微物镜+CCD+采集卡+计算机合像，物镜轴距范围 10mm-148mm照明不均匀性： 2.5%（Ф100mm 范围） 3%（Ф150mm 范围）掩模相对于样片运动行程：X：±5mm Y：±5mm q：±6 度最大胶厚：500 mm（SU8 胶，用户提供检测条件）光源平行性：2°具有循环水冷却系统汞灯功率：1000W（直流，进口） 2．外形尺寸：1400mm（长）′1200mm(宽) ′2000mm（高） 3．设备构成与配置明细设备主要由均匀照明曝光系统（曝光头）、对准工件台系统、双目双视场显微镜系统、底面 CCD 对准系统、电控系统、气动控制系统及辅助配套设备构成。（1）曝光头系统包括：。冷光椭球镜。1000 W 进口直流高压汞灯(德国欧司朗)。XYZ 汞灯调节台。冷却风扇.。光学系统：固定光栏、可变光栏、快门、准直镜镜 1、准直镜镜 2、蝇眼透镜组（109 余个透镜）、i 线滤光片、场镜、冷光反射镜 1、反射镜 2 （2）对准工件台系统包括：。掩模样片相对运动台（XY）。转动台样片自动调平机构。样片调焦机构。承片台 4 个 （2 英寸、3 英寸、4 英寸，6 英寸）8。掩模架 4 个 （3 英寸、4 英寸、5 英寸，7 英寸）。掩模翻转及旋转机构 （3）对准显微镜（可选择带 CCD 型，目镜和监视器可同时观测）系统包括：。LED 照明及配套电源。双目双视场对准显微镜主体。目镜 3 对（10 倍、16 倍、20 倍，共 6 个）。物镜 3 对（4 倍、10 倍、20 倍，共 6 个）。CCD 及光学成像系统。XYZ 底面对准工件台（两套） （4）底面 CCD 对准系统。LED 照明及配套电源。CCD 及光学成像系统(2 套)。数据采集卡 （5）电控系统。汞灯触发电源(1000W 直流汞灯)。单片机控制系统。控制柜桌。计算机系统（22 英寸宽屏液晶显示器） （6）气动系统。气缸、电磁阀、减压阀、气动开关等。电磁阀驱动。气动仪表 （7）其他附件（选配）。真空泵一台（无油静音型）。空压机一台（无油静音型）。恒温循环水冷却系统。管道 （8）技术资料。设备使用及维护说明书 三、 URE-2000S/B 型双面光刻机 1．技术参数曝光面积：4 英寸曝光波长：365nm： 25mW/cm405nm：20-40mW/cm2分辨力：1mm对准精度：±2mm（双面,片厚 0.8mm）±0.8mm（单面）掩模尺寸： 3 英寸、4 英寸、5 英寸样片尺寸：2 英寸、3 英寸、4 英寸厚度 0.1mm--6mm曝光方式：定时（倒计时方式）和定剂量调平接触压力通过传感器保证重复数字设定对准间隙和曝光间隙具备压印模块接口，也具备接近模块接口正面对准采用双目双视场对准显微镜：既可通过目镜目视对准，也可通过 CCD+显示器对准，光学合像，光学最大倍数 400 倍，光学+电子放大 800 倍10物镜三对：4 倍、10 倍、20 倍目镜三对：10 倍、16 倍、20 倍底面面对准：采用双显微物镜+CCD+采集卡+计算机合像，物镜轴距范围 10mm-148mm照明不均匀性： 2.5%（Ф100mm 范围）掩模相对于样片运动行程：X: ±5mm Y: ±5mm q: ±6 度最大胶厚：600 mm（SU8 胶，用户提供检测条件）光源平行性：2°具有循环水冷却系统汞灯功率：1000W（直流，进口） 2．外形尺寸：1400mm（长）′1200mm(宽) ′2000mm（高） 3．配置（1）曝光头。冷光椭球镜。1000 W 进口直流高压汞灯(德国欧司朗,长寿命型)；。XYZ 汞灯调节台。冷却风扇。光学系统：固定光栏、可变光栏、快门、准直镜镜 1、准直镜镜 2、蝇眼透镜组（109 个透镜）、i 线滤光片、场镜、冷光反射镜 1、反射镜 2 （2）对准工件台。掩模样片相对运动台。转动台。样片调平机构,自动完成。样片调焦机构。承片台 3 个 （3 英寸、4 英寸，5 英寸）。掩模夹 3 个 （2 英寸、3 英寸、4 英寸）。掩模抽拉式上下机构 （3）对准显微镜（可以选择带 CCD 型，目镜和监视器可同时观测）。光源（配备品 2 只）、电源。双目双视场对准显微镜主体。目镜 3 对（10 倍、16 倍、20 倍，共 6 个）11。物镜 3 对（4 倍、10 倍、20 倍，共 6 个）。CCD 光学系统 （4）底面 CCD 对准系统。光源（配备品 2 只）、 电源。成像光学系统(2 套)。双通道数据采集卡。CCD（两套） （5）电控系统。汞灯触发电源(1000W 直流汞灯)。单片机控制系统。控制柜桌。计算机系统（监视器配 21 英寸宽屏液晶） （6）气动系统。气缸、电磁阀、减压阀、气动开关等。电磁阀驱动。气动仪表 （7）其他附件。无油静音真空泵一台。无油静音空压机一台。恒温循环水冷却系统。管道 四、 URE-2000S/25A 型双面光刻机 1．技术参数曝光面积：6 英寸曝光波长：365nm：功率密度：＞25mW/cm2分辨力：1mm正面双目双视场对准显微镜：既可通过目镜目视对准，也可通过 CCD+显示器对准，光学合像，光学最大倍数 400 倍，光学+电子放大 800倍，物镜三对：4 倍、10 倍、20 倍；目镜三对：4 倍、10 倍、20 倍正面立式双 CCD 对准系统，光学放大，0.65-4.5 倍；具备侧向光源底面面对准：采用双显微物镜+CCD+采集卡+计算机合像，物镜轴距范围 10mm-148mm对准精度：±2mm（双面，片厚 0.8mm） ±0.8mm（单面）掩模尺寸：3 英寸、4 英寸、5 英寸、7 英寸样片尺寸：：2 英寸、3 英寸、4 英寸、6 英寸 厚度 0.1mm--2mm(双面)曝光方式：定时（倒计时方式）和定剂量照明不均匀性： 2.5%（Ф100mm 范围）4%（Ф150 mm 范围）13掩模相对于样片运动行程：X: ±5mm Y: ±5mm q: ±6 度汞灯功率：350W（直流，进口）调平接触压力通过传感器保证重复数字设定对准间隙和曝光间隙具备压印模块接口，也具备接近模块接口最大胶厚：350 mm（SU8 胶，用户提供检测条件）光源平行性：3.5° 2．外形尺寸：1300mm（长）′900mm(宽) ′1800mm（高） 3．配置（1）曝光头。冷光椭球镜。350 W 进口直流高压汞灯(德国欧司朗)。XYZ 汞灯调节台。冷却风扇。光学系统：固定光栏、可变光栏、快门、准直镜镜 1、准直镜镜 2、蝇眼透镜组（79 个透镜）、i 线滤光片、场镜1、冷光反射镜 1、反射镜 2 （2）对准工件台。掩模样片相对运动台。转动台。样片调平机构,自动完成。样片调焦机构，气缸自动调。承片台 4 个（2 英寸、3 英寸、4 英寸、6 英寸）。掩模夹 4 个（3 英寸、4 英寸、5 英寸、7 英寸）。掩模抽拉式上下机构 （3）双目双视场对准显微镜（带 CCD，目镜和监视器可同时观测）。光源、电源。双目双视场对准显微镜主体。目镜 3 对（10 倍、16 倍、20 倍，共 6 个）。物镜 3 对（4 倍、10 倍、20 倍，共 6 个）。立式双 CCD 光学对准系统 14。侧向对准光源 （4）底面 CCD 对准系统。光源、电源。成像光学系统。数据采集卡。CCD （5）电控系统。汞灯触发电源(350W 直流汞灯)。单片机控制系统。控制柜桌。计算机系统（21 英寸宽屏液晶显示器） （6）气动系统。气缸、电磁阀、减压阀、气动开关等。电磁阀驱动。气动仪表 （7）其他附件。真空泵一台（无油泵）。空压机一台 （音静泵）。管道 五、 URE-2000S/25 型双面光刻机 1．技术参数曝光面积：4 英寸曝光波长：365nm： 40mW/cm405nm：20-45mW/cm2分辨力：1mm正面对准采用双目双视场对准显微镜：既可通过目镜目视对准，也可通过 CCD+显示器对准，光学合像，光学最大倍数 400 倍，光学+电子放大 800 倍物镜三对：4 倍、10 倍、20 倍目镜三对：4 倍、10 倍、20 倍底面面对准：采用双显微物镜+CCD+采集卡+计算机合像，物镜轴距范围 10mm-148mm对准精度：±2mm（双面，片厚 0.8mm） ±0.6mm（单面）掩模尺寸： 3 英寸、4 英寸、5 英寸样片尺寸：2 英寸、3 英寸、4 英寸厚度 0.1mm--2mm(双面)曝光方式：定时（倒计时方式）和定剂量照明不均匀性： 3%（Ф100mm 范围）16掩模相对于样片运动行程：X: ±5mm Y: ±5mm q: ±6 度汞灯功率：350W（直流，进口）调平接触压力通过传感器保证重复数字设定对准间隙和曝光间隙具备压印模块接口，也具备接近模块接口最大胶厚：350 mm（SU8 胶，用户提供检测条件）光源平行性：3.5° 2．外形尺寸：1300mm（长）′900mm(宽) ′1800mm（高） 3．配置（1）曝光头。冷光椭球镜。350 W 进口直流高压汞灯(德国欧司朗)。XYZ 汞灯调节台。冷却风扇。光学系统：固定光栏、可变光栏、快门、准直镜镜 1、准直镜镜 2、蝇眼透镜组（79 个透镜）、i 线滤光片、场镜1、冷光反射镜 1、反射镜 2 （2）对准工件台。掩模样片相对运动台。转动台。样片调平机构,自动完成。样片调焦机构，气缸自动调。承片台 3 个（2 英寸、3 英寸、4 英寸）。掩模夹 3 个（3 英寸、4 英寸、5 英寸）。掩模抽拉式上下机构 （3）双目双视场对准显微镜（可以选择带 CCD 型，目镜和监视器可同时观测）。光源、电源。双目双视场对准显微镜主体。目镜 3 对（10 倍、16 倍、20 倍，共 6 个）。物镜 3 对（4 倍、10 倍、20 倍，共 6 个）17。CCD 光学系统（选配件）。XYZ 底面对准工件台 （4）底面 CCD 对准系统。光源、电源。成像光学系统。数据采集卡。CCD （5）电控系统。汞灯触发电源(350W 直流汞灯)。单片机控制系统。控制柜桌。计算机系统（21 英寸宽屏液晶显示器） （6）气动系统。气缸、电磁阀、减压阀、气动开关等。电磁阀驱动。气动仪表 （7）其他附件。真空泵一台（无油泵）。空压机一台 （音静泵）。管道 六、 URE-2000S/35L（A）型双面光刻机 1．技术参数曝光面积：6 英寸光 源：紫外 LED曝光波长：365nm： 10-25mW/cm分辨力：1mm正面对准采用双目双视场对准显微镜：既可通过目镜目视对准，也可通过 CCD+显示器对准，光学合像，光学最大倍数 400 倍，光学+电子放大 800 倍物镜三对：4 倍、10 倍、20 倍目镜三对：4 倍、10 倍、20 倍底面面对准：采用双显微物镜+CCD+采集卡+计算机合像，物镜轴距范围 10mm-148mm对准精度：±2mm（双面，片厚 0.8mm）±0.6mm（单面）掩模尺寸：3 英寸、4 英寸、5 英寸、7 英寸样片尺寸：2 英寸、3 英寸、4 英寸、6 英寸厚度 0.1mm--2mm ，曝光方式：定时（倒计时方式）和定剂量照明不均匀性：2.5%（Ф100mm 范围）19 3%（ f150 mm 范围）掩模相对于样片运动行程：X: ±5mm Y: ±5mm q: ±6 度调平接触压力通过传感器保证重复数字设定对准间隙和曝光间隙具备压印模块接口，也具备接近模块接口最大胶厚：400 mm（SU8 胶，用户提供检测条件）光源平行性：2° 2．外形尺寸：1300mm（长）′900mm(宽) ′1800mm（高） 3．配置（1）曝光头。冷光椭球镜。LED 进口光源。冷却模块。光学系统：固定光栏、可变光栏、快门、准直镜镜 1、准直镜镜 2、蝇眼透镜组（79 个透镜）、i 线滤光片、场镜1、冷光反射镜 1、反射镜 2、能力调节器、微光学整形元件 （2）对准工件台。掩模样片相对运动台。转动台。样片调平机构,自动完成。样片调焦机构，气缸自动调。承片台 4 个（2 英寸、3 英寸、4 英寸、6 英寸）。掩模夹 4 个（3 英寸、4 英寸、5 英寸、7 英寸）。掩模抽拉式上下机构 （3）双目双视场对准显微镜（可以选择带 CCD 型，目镜和监视器可同时观测）。光源、电源。双目双视场对准显微镜主体。目镜 3 对（10 倍、16 倍、20 倍，共 6 个）。物镜 3 对（4 倍、10 倍、20 倍，共 6 个）。CCD 光学系统（选配件）20。XYZ 底面对准工件台 （4）底面 CCD 对准系统。光源、电源。成像光学系统。数据采集卡。CCD （5）电控系统。单片机控制系统。控制柜桌。计算机系统（21 英寸宽屏液晶显示器） （6）气动系统。气缸、电磁阀、减压阀、气动开关等。电磁阀驱动。气动仪表 （7）其他附件。真空泵一台（无油泵）。空压机一台 （音静泵）。管道 七、 URE-2000S/35L（B）型双面光刻机 1．技术参数曝光面积：4 英寸光 源：紫外 LED曝光波长：365nm：20-40mW/cm2分辨力：1mm正面对准采用双目双视场对准显微镜：既可通过目镜目视对准，也可通过 CCD+显示器对准，光学合像，光学最大倍数 400 倍，光学+电子放大 800 倍物镜三对：4 倍、10 倍、20 倍目镜三对：4 倍、10 倍、20 倍底面面对准：采用双显微物镜+CCD+采集卡+计算机合像，物镜轴距范围 10mm-148mm对准精度：±2 mm（双面，片厚 0.8mm）±0.6mm（单面）掩模尺寸：3 英寸、4 英寸、5 英寸样片尺寸：2 英寸、3 英寸、4 英寸厚度 0.1mm--2mm(双面)曝光方式：定时（倒计时方式）和定剂量照明不均匀性： 2.5%（Ф100mm 范围）22掩模相对于样片运动行程：X: ±5mm Y: ±5mm q: ±6 度调平接触压力通过传感器保证重复数字设定对准间隙和曝光间隙具备压印模块接口，也具备接近模块接口最大胶厚：400 mm（SU8 胶，用户提供检测条件）光源平行性：2° 2．外形尺寸：1300mm（长）′900mm(宽) ′1800mm（高） 3．配置（1）曝光头。冷光椭球镜。LED 进口光源。冷却模块。光学系统：固定光栏、可变光栏、快门、准直镜镜 1、准直镜镜 2、蝇眼透镜组（79 个透镜）、i 线滤光片、场镜1、冷光反射镜 1、反射镜 2、能力调节器、微光学整形元件 （2）对准工件台。掩模样片相对运动台。转动台。样片调平机构,自动完成。样片调焦机构，气缸自动调。承片台 3 个（2 英寸、3 英寸、4 英寸）。掩模夹 3 个（3 英寸、4 英寸、5 英寸）。掩模抽拉式上下机构 （3）双目双视场对准显微镜（可以选择带 CCD 型，目镜和监视器可同时观测）。光源、电源。双目双视场对准显微镜主体。目镜 3 对（10 倍、16 倍、20 倍，共 6 个）。物镜 3 对（4 倍、10 倍、20 倍，共 6 个）。CCD 光学系统（选配件）。XYZ 底面对准工件台23 （4）底面 CCD 对准系统。光源、电源。成像光学系统。数据采集卡。CCD （5）电控系统。单片机控制系统。控制柜桌。计算机系统（21 英寸宽屏液晶显示器） （6）气动系统。气缸、电磁阀、减压阀、气动开关等。电磁阀驱动。气动仪表 （7）其他附件。真空泵一台（无油泵）。空压机一台 （音静泵）。管道 （8）技术资料。使用维修说明书。显微镜使用说明书 八、 URE-2000S/25S 型双面光刻机 1．技术参数曝光面积：4 英寸（或 6 英寸）曝光波长：365nm： 40mW/cm405nm：20-40mW/cm2分辨力：1mm正面对准采用双目双视场对准显微镜：既可通过目镜目视对准，也可通过 CCD+显示器对准，光学合像，光学最大倍数 400 倍，光学+电子放大 800 倍物镜三对：4 倍、10 倍、20 倍目镜三对：4 倍、10 倍、20 倍底面面对准：采用双显微物镜+CCD+采集卡+计算机合像，物镜轴距范围 10mm-148mm对准精度：±2.5mm（双面，片厚 0.8mm）±0.6mm（单面）掩模尺寸： 3 英寸、4 英寸、5 英寸、7 英寸（6 英寸配置）样片尺寸：2 英寸、3 英寸、4 英寸、6 英寸（6 英寸配置） 25厚度 0.1mm--2mm曝光方式：定时（倒计时方式）和定剂量照明不均匀性： 3%（Ф100mm 范围） 5%（ f150 mm 范围）掩模相对于样片运动行程：X: ±5mm Y: ±5mm q: ±6 度汞灯功率：350W（直流，进口）最大胶厚：350 mm（SU8 胶，用户提供检测条件）光源平行性：3.5° 2．外形尺寸：1300mm（长）′1000mm(宽) ′1800mm（高） 3．配置（1）曝光头（两套）。冷光椭球镜。350 W 进口直流高压汞灯(德国欧司朗)。XYZ 汞灯调节台。冷却风扇。光学系统：固定光栏、可变光栏、快门、准直镜镜 1、准直镜镜 2、蝇眼透镜组（79 个透镜）、i 线滤光片、场镜1、冷光反射镜 1、反射镜 2 （2）对准工件台。掩模样片相对运动台。转动台。样片调平机构,自动完成。样片调焦机构，气缸自动调。承片台：2 英寸、3 英寸、4 英寸、6 英寸（6 英寸配置）。掩模夹：3 英寸、4 英寸、5 英寸、7 英寸（6 英寸配置） （3）双目双视场对准显微镜（可以选择带 CCD 型，目镜和监视器可同时观测）。光源、电源。双目双视场对准显微镜主体。目镜 3 对（10 倍、16 倍、20 倍，共 6 个）。物镜 3 对（4 倍、10 倍、20 倍，共 6 个）。CCD 光学系统（选配件）26。XYZ 底面对准工件台 （4）底面 CCD 对准系统。光源、电源。成像光学系统。数据采集卡。CCD （5）电控系统。汞灯触发电源(350W 直流汞灯)。单片机控制系统。控制柜桌。计算机系统（21 英寸宽屏液晶显示器） （6）气动系统。气缸、电磁阀、减压阀、气动开关等。电磁阀驱动。气动仪表 （7）其他附件。真空泵一台（无油泵）。空压机一台 （音静泵）。管道

供应天发双面刨片机、电缆刨片机，江都生产厂家 特点及用途：本机适用GB/T2951-2008标准要求，广泛应用于橡胶、塑料、皮革、电线、电缆、防水材料、科研等单位，是配套完成试样的热延伸试验及拉伸试验准备试片不可缺少的设备。该机能切制邵氏硬度大于40度，厚度0.5-12毫米的各种试片，切制片料表面光洁、平整；厚度尺寸公差能控制在±0.2；不需打磨，便可直接裁取试样。 本机适用于《电线电缆和护套材料通用试验方法》标准中规定的配用电缆通信电缆，包括船用电缆的聚合物绝缘护套材料机械和物理性能测试时的试样制备。 1、工作台宽度：300mm 2、切片厚度：1-12mm 3、切片宽度：不大于100mm 4、最大供料厚度：20mm 5、电动机型号：Y100L-8 1.1KW 710r/min 380V 6、外形尺寸：长×宽×高 625×500×1048mm 7、净重：215kg

医用镊捏合力测试仪：采用7寸液晶触控显示屏，中文菜单显示。公称规格、分类、设定载荷、打印、测试、上行、下行、时间、标定。由键盘控制液晶显示屏上的菜单，自动加载张力，自动记录数据，实时显示张力和峰值力数据自动输出数据报告，机载打印十次测试报告。执行标准：医用镊捏合力测试仪完全符合：YY/T0686-2017附录B设计制造。技术指标：捏合力测试范围： 0～20N，误差不大于±1%， 分辩率0.01N 拉力加载速度：70mm/min，误差不大于±1mm打 印 方 式：打印2～10次测试平均值数据及其总平均值和偏差值。曲 线 图：显示力值与时间的曲线图净重：11kg外形尺寸：400×290×275（mm）。配货清单：1.主机一台2.打印纸1卷3.夹具一套4.砝码一套5.一年6.操作说明7.仪器终身免费依标准规定升级服务

SW-CJ-1F单人双面洁净工作台（垂直送风）SW-CJ-1F单人双面洁净工作台广泛用于医疗卫生、畜牧兽医、医药制剂、生物制药、植物组培、化学实验等领域和实验室。采用采用垂直单向送风，准闭合式台面，可以有效防止外部气流诱入，及操作异味对人体的影响。性能特点：一体成型易清洁的不锈钢作业台面；具有单、双面操作功能，可供选择；照明和杀菌系统的安全互锁；符合各项医疗器械设备安全要求；SW-CJ-1F单人双面洁净工作台技术参数：洁净等级：ISO5级，100级 Class 100平均风速：≥0.3m/s（可调）噪声：≤62Db(A)照度：≥300Lx电源:AC单相220V/50Hz输入功率:250VA重量:130kg工作区尺寸:870×690×520装置外形尺寸：1010×750×1600高效过滤器规格及数量：820×600×50×1荧光灯/紫外灯规格及数量：14w×1/8w×1菌落数：≤0.5个/皿（直径90）.时适用人数：单人双面

一、混凝土双面磨平机使用方法SHM-200产品简介：混凝土双面磨平机是各类矿石、混凝土等非金属固体进行力学测试的标准样本制作的主要设备。混凝土双面磨平机与取芯机、切割机配套工作，即可为您加工出您所需要的高精密的立方体或圆柱体测试样本。 二、混凝土双面磨平机使用方法SHM-200技术指标：★工作台电机功率0.55KW, 转速1500rpm★磨削动力1.1KW×2台,转速2750 rpm★磨轮直径:Φ200mm★可磨样本规格：（正常出厂配置磨50~100mm的夹具） （1）方块50×50×50-150×150×150mm （2）圆柱Φ50-Φ150mm★试件精度可达：（1）平行度：50mm范围不超过+0.10 mm，（2）光洁度：按机械加工粗糙度标准Ra3.2。★自动磨削进给量：0.04-0.17. ★外形尺寸：1350X1000X1200mm★重量：550kg三、混凝土双面磨平机使用方法SHM-200工作原理：★机械部分1、双端面磨平机,双面磨平机工作台的往复由电机带动变速箱，输出慢速带动丝杆工作，作逆旋转，丝杆螺母固定在工作台下面，从而带动工作台作往复移动。2、本机磨头是**金刚石磨轮，直接安装在两台专用电机上，分别由两个横向工作台带动前进或后退，既可以自动，又可以手动。自动时将手柄向前推。手动时，将手柄向后拉即可。丝杠每一转为3MM。3、工作台的标本夹具和两磨轮在本设备出厂前，经过精心调试，确保磨出的标本的垂直度与平行度。每次磨削两个平行面，六个面的立方体标本，只需要经过三次磨削成即可，每次要定位准确，这样磨出的试样才能达到要求。★电器部分双端面磨平机,双面磨平机控制的按钮分别安装在两个动力头上面，操作方便。因采用水冷却，水花飞溅，故本机电器采用36V的安全电压。由于电源电压、运行电机电压380V，所以本机必须进行可靠的接地，否则会产生安全事故。故电源不能接反，否则会损坏机器。四、操作规程：★接通电源及水源。★根据芯样直径选择相应的夹具，将芯样夹紧并转到底盘中位置后将夹具索紧。 ★松开上、下索紧手轮，转动升降手轮，当磨轮端面距芯样端面1mm时停止。然后索紧上索紧手柄，开启进水嘴阀门通水，并闭合电源开关，使磨轮转动，然后逆时针转动手轮，并同时顺时针转动微动手轮使磨头下降。当磨轮端面接触试样端面时摆动磨头进行磨削，直至磨平试样端面。 ★磨削完毕，关闭电源及水嘴阀并逆时针转动微动手轮，使其处于上**限位置。 ★松开夹具索紧手柄，将夹具同试样一同取下并反向安装，重复2、3、4步动作磨削另一端面。直至芯样端面符合要求为止。 ★磨平机用后关闭电源，擦试干净机器五、注意事项：★每次装夹标本应将夹具及样本表面冲洗干净，否则残留物质会使标本磨削精度下降，每次定位要准确。★自动磨削的任何时候都不能随意手动进给，否则会损坏磨轮和设备，只有手动时才能手动进给。★自动磨削结束后，先停工作台，后停磨头。★磨削过程中应注意冷却液流量是否充足点击搜索：双卧轴混凝土搅拌机

UNIPOL-160D双面研磨抛光机主要用于石英晶片、蓝宝石、陶瓷、玻璃、金属等片状材料的精密双面研磨抛光。本机采用涡轮蜗杆减速机为传动机构，通过齿轮组实现上、中、下三轴不同速度、不同方向的转动，使上、下研磨抛光盘和中间太阳轮产生速度差以及相对运动，而样件置于太阳轮驱动的载样齿轮内孔中，从而对其进行双面研磨抛光。技术参数主要特点转速采用手动调整变频器频率的控制方式可同时对4片最大尺寸为Φ2" 的基片进行双面研磨抛光可进行薄片的双面减薄是双面研磨抛光Si、 Ge 、氧化物单晶基片的理想工具技术参数电源：220V 50Hz功率：550W磨抛盘：Φ225mm磨抛盘转速：0-72rpm内无级可调最大样件尺寸：Φ50mm，厚度≤15mm上磨抛盘重量：3.5kg产品规格尺寸：650mm×500mm×580mm；重量：80kg标准配件1研磨盘1套2抛光盘1套3修盘行星轮4个4载样行星轮（电木）8个5配重环3个6磁力片4片7研抛底片4片8抛光垫（磨砂革、合成革、聚氨酯）各2片9研磨膏（W2.5）1支操作视频点击查看可选配件可根据您的需要制作不同开孔的载样齿轮。

不干胶标签贴纸初粘性测试仪 双面胶初粘力试验仪不干胶标签贴纸初粘性测试仪 双面胶初粘力试验仪是一种专用于测定不干胶标签、压敏胶带、医用贴剂、保护膜等产品初粘性的测试设备。初粘性是指胶粘制品在短暂接触时对被粘物的粘附能力，是评价胶粘制品性能的重要指标之一。不干胶标签贴纸初粘性测试仪 双面胶初粘力试验仪测试原理初粘性测试仪通常采用斜面滚球法进行测试。该方法通过让一系列直径不同的钢球滚过平放在倾斜板上的胶粘带粘性面，根据胶粘带能粘住的最大钢球尺寸来评价其初粘性大小。不干胶标签贴纸初粘性测试仪 双面胶初粘力试验仪技术参数可调倾角：0～60°，可以根据测试需求调整倾斜角度。台面宽度：通常为120mm，确保足够的测试面积。试区宽度：80mm，为胶粘带提供标准的测试区域。标准钢球：直径范围从1/32英寸至1英寸，用于测试不同级别的初粘性。外形尺寸：大约为320mm (L)×140mm (B)×180mm (H)，便于操作和存放。重量：大约6kg，确保仪器稳定性。操作方法通过底座调节螺栓将水准泡调节至中心圆内，确保测试板水平。使用角度调节旋钮将倾斜板固定在所需角度，通常为30°。将试样粘性面向上放置在倾斜板上，并用聚脂薄膜覆盖固定。将处理好的钢球用镊子夹入放球器内，调节放球器位置。释放钢球，观察并记录能粘住的最大球号钢球。重复测试以确认最大球号钢球，并按规定进入正式测试程序。产品特征采用斜面滚球法测试原理，评估试样的瞬间粘附性能。测试倾斜角度可以自由调整，满足不同测试标准的要求。高精度钢球，确保测试数据的准确性和重复性。执行标准测试仪通常遵循国家标准，如中国的GB/T 4852《压敏胶带初粘性试验方法——滚球法》[^73^][^74^]。注意事项须严格按国标规定制取试样，选用合适的钢球及其它试验用材。测试装置应经常擦拭并保持清洁完好，以确保测试结果的准确性。

UNIPOL-160D双面研磨抛光机主要用于石英晶片、蓝宝石、陶瓷、玻璃、红外光学材料（如硒化锌、硫化锌、硅、锗等晶体）、金属等片状材料的双面精密研磨抛光。本机采用涡轮蜗杆减速机为传动机构，通过齿轮组实现上、中、下三轴不同速度、不同方向的转动，使上、下研磨抛光盘和中间太阳轮产生速度差以及相对运动，而样件置于太阳轮驱动的载样行星齿轮内孔中，从而对其进行双面研磨抛光。UNIPOL-160D双面研磨抛光机可以选择用研磨盘加磨料研磨样品，也可以选择抛光盘贴砂纸的方式研磨样品。抛光盘贴砂纸是将砂纸贴在研抛底片上然后将研抛底片吸附在抛光盘上在进行研磨抛光。可以同时对多个样品一起进行研磨，研磨抛光的效率高，适合大量试样的研磨或工厂的小批量生产。1、转速采用手动调整变频器频率的控制方式。2、可同时对4片最大尺寸为Ø 2" 的基片进行双面研磨抛光。3、可进行薄片的双面减薄。4、是双面研磨抛光Si、 Ge 、氧化物单晶基片的理想工具。产品名称 UNIPOL-160D双面研磨抛光机产品型号 UNIPOL-160D安装条件 本设备要求在海拔1000m以下，温度25℃±15℃，湿度55%Rh±10%Rh下使用。1、水：设备配有上水口及下水口，需自行连接自来水及排水2、电：AC220V 50Hz，必须有良好接地3、气：无4、工作台：尺寸800mm×600mm×700mm，承重200kg以上5、通风装置：不需要主要参数 1、电源：220V 50Hz2、功率：550W3、磨抛盘：Ø 225mm4、磨抛盘转速：0-72rpm内无级可调5、最大样件尺寸：Ø 50mm，厚度≤15mm6、上磨抛盘重量：3.5kg产品规格 尺寸：650mm×500mm×580mm；重量：80kg序号名称数量图片链接1研磨盘1个2抛光盘1个3修盘行星轮1个-4载样行星轮（电木）1个-5配重环1个6磁力片2片7研抛底片2片8抛光垫（磨砂革、合成革、聚氨酯）各1片9金刚石抛光膏（W2.5）1支序号名称功能类别图片链接1可根据您的需要制作不同开孔的载样齿轮。（可选）-

balanccer Pro振动分析仪 单、双面动平衡仪产品介绍： balanccer Pro振动分析仪 单、双面动平衡仪公司融合先进的嵌入式计算机技术和久经考验的动平衡技术推出的一款便携式现场动平衡仪.兼备现场振动数据测量、振动分析和单双面动平衡等诸多功能，简捷易用，是工矿企业预知保养维修，尤其是风机、等设备制造厂和振动技术服务机构最为理想之工具。产品特性：● 动平衡转速范围：60~60,000RPM (可选配至300,000 RPM)● 高达12,800线的分辨率● 同步双通道测量● 便携式设计，单手操作（900克）● 1G巨大的存储容量● 宽大的背光真彩TFT显示屏，65000色Quarter VGA真彩TFT屏● 方便的键盘操作以及丰富的向导帮助● 快速数据获取以及现场评估● 基于专业经验的人性化设置－对初学者更理想，对专家更得心应手● 路径或非路径式数据采集方式测量功能：● 单双面动平衡● 振动数据采集● 振动总值趋势监测● 频谱分析● 时域波形分析● 单双面动平衡● 转速测量● 矢量分解合成功能● 动平衡原始数据分析● ISO许用不平衡查询硬件配备针对复杂机器故障诊断的双通道同步测量功能通过不同颜色的LED灯来指示仪器状态及电池状态智能感光，可以根据周围光线的强度来自动调节防尘防水溅射，这使得KMbalancer更加的经久耐用，在恶劣条件下使用也能得到有效保护四种工业接口并以不同颜色标识，连接多种类型的传感器及数据传输器人体工程学设计宽大的彩色背光液晶屏，320*240像素，TFT 65536色，使显示更清晰，全面完整的数据显示轻便，手持式设计图标式界面不同颜色标识的连接口丰富的主题帮助全中文显示电源由最新的锂电池供电，可持续工作8小时以上智能式内部充电流程自动电源管理 （显示 & 时钟 ）相关案例列表：维尔斯电子光大环保能源华中科技大学威伯科汽车控制江西泰豪科技股份中国黄金研究院江源精密机械力劲科技集团帆牧欣数控乔峰精密机床法格锻压机床产品：设备故障预测与健康管理系统振动分析仪动平衡仪声学成像系统超声波检测仪动态电机分析仪

SW-CJ-2F双人双面净化工作台（垂直送风）SW-CJ-2F双人双面净化工作台主要用于生物制药,医药卫生,实验室,光学电子,无菌室实验,等需要局部洁净无菌工作环境的科研和生产部门.用途广泛,操作简便,使用安全.本产品是一种提供局部高洁净度工作环境通用性较强的空气净化设备.产品特点:SW-CJ-2F双人双面净化工作台箱体外壳采用进口中纤板材紧密结合，面层电喷涂表面处理，表面光滑无尘，台板选用优质不锈钢板，方便耐用。空气经顶部的初效空气过滤器和低噪音离心式通风机压入静压箱，经高效空气过滤器在上侧部均匀吹出，形成高洁净度的水平/垂直空气幕，去除工作区域内的有毒气体，开机后数分钟内即达到理想的高洁净度空间。采用可调风机双速调节风量大小，轻触型开关调节电压，保证工作区内的风速始终处于理想状态。本产品操作简单易上手，使用安全。技术参数:适用人数:双人双面气体流向:垂直送风洁净等级:100级@≥0.5um（美联邦209E）菌落数:≤0.5个/皿.时（Φ90mm培养平皿）平均风速: 0.25m-0.45m/s可调振动/半峰值:≤5μm噪声:≤62dB（A）照度:≥300Lx高效过滤器规格及数量:1355x558x50mmx1荧光灯/紫外灯规格及数量: 20Wx1/20Wx1工作尺寸:1360x650x520mm外形尺寸:1550x680x1600mm电源:AC/50Hz/220V.功耗:750W整机重量:150kg

安徽格楠智能科技有限公司深耕研磨机行业十多年，拥有多项研磨机专利，格楠牌研磨机在用户中有良好的口碑，研发有数控单双面研磨机，数显陶瓷平面研磨机等多种智能研磨机。　　安徽格楠智能科技有限公司是专业生产研磨机、单双面研磨机、数显精密双面研磨机、平面抛光机、金钢石平面磨床、超声波清洗机、内外圆倒角机、小内圆磨床等产品的企业。本公司引进最先进的生产设备和质量检测设备，从原材料的购入、生产、检测、销售全过程的管理均采用严格的质量标准。本公司从创建伊始即以稳定可靠的产品质量、高效科学的管理、诚信优质的服务深受业内关注，在业内拥有良好的口碑，被称为研磨专家。 　　格楠公司拥有先进的生产设备及专业技术工程人员。产品由设计、生产到交付使用，均有经验丰富的技术员直接参与，确保质量，务求精益求精。本公司在全国的销售网络不断拓展和延伸的同时，在同行业中较早采用区域特许经营的模式，本着“务实，诚信，创新，高效”的企业精神和“互利互惠，共同发展”的经营理念，开拓创新，精工细作，铸造高品质品牌研磨机械。我公司以品质为尊、不断拓展、出精品、创名牌，立足国内，走向世界，我们愿以更精湛的技术，更优良的质量，更先进的管理，更满意的服务与您精诚合作共创美好未来。　　格楠公司对外加工陶瓷磨片、瓷管外圆抛光、工程塑料、汽车油泵密封件等。

EVG610单面/双面光刻机 一、 简介 EVG公司成立于1980年，公司总部和制造厂位于奥地利，在美国、日本和台湾设有分公司，并在其他各地设有销售代理及售后服务部，产品和服务遍及世界各地。EVG公司是一家致力于半导体制造设备的全球供应商，其丰富的产品系列包括：涂胶和喷胶/显影机/热板/冷板、掩模版光刻/键合对准系统、基片热压键合/低温等离子键合系统、基片清洗机、基片检测系统、SOI 基片键合系统、基片临时键合/分离系统、纳米压印系统。目前已有数千台设备安装在世界各地，被广泛地应用于MEMS微机电系统/微流体器件，SOI基片制造，3D封装，纳米压印，化合物半导体器件和功率器件等领域。EVG610是一款非常灵活的、适用于研发和小批量试产的对准系统，可处理200mm之内的各种规格的晶片。EVG610支持各种标准的光刻工艺，例如：真空、软、硬接触和接近曝光；也支持其他特殊的应用，如键合对准、纳米压印光刻、微接触印刷等。EVG610系统中的工具更换非常简便快捷，每次更换都可在几分钟之内完成，而不需要专门的工程人员和培训，非常适合大学、研究所的科研实验和小批量生产。 二、应用范围EVG光刻机主要应用于半导体光电器件、功率器件、微波器件及微电子机械系统（MEMS）、硅片凸点、化合物半导体等领域，涵盖了微纳电子领域微米或亚微米级线条器件的图形光刻应用。 三、主要特点u 支持背面对准光刻和键合对准工艺u 自动的微米计控制曝光间距u 自动契型补偿系统u 优异的全局光强均匀度u 免维护单独气浮工作台u 最小化的占地面积u Windows图形化用户界面u 完善的多用户管理（用户权限、界面语言、菜单和工艺控制） 四、技术参数设备咨询电话：欢迎您的来电咨询！

SHB-IV双A型双面循环水式多用真空泵循环水式多用真空泵的用途特点： ●双面相同的循环水式多用真空泵。 ●SHB-III型的扩展，特点、材质与SHB-III型相同。 ●四抽头同时抽真空、四表显示，互不影响，可同时有四名操作者同时实验，降低实验室成本。 ●便于教师直观演示、直接监控实验情况，学生亦可在任意一面开机、关机。循环水式多用真空泵的技术参数：

EVG620 单面/双面光刻机(带有压印功能）EVG 公司是一家致力于半导体制造设备的全球供应商，其丰富的产品系列包括：涂胶和喷胶/显影机/热板/冷板、掩模版光刻/键合对准系统、基片热压键合/低温等离子键合系统、基片清洗机、基片检测系统、SOI 基片键合系统、基片临时键合/分离系统、纳米压印系统。目前已有数千台设备安装在世界各地，被广泛地应用于 MEMS 微机电系统/微流体器件，SOI 基片制造，3D 封装，纳米压印，化合物半导体器件和功率器件等领域。设备原理：EVG620 是一款非常灵活和可靠的光刻设备，可配置为半自动也可以为全自动形式。EVG620 既可以用作双面光刻机也可以用作 150mm 硅片的精确对准设备；既可以用作研发设备，也可以用作量产设备。精密的契型补偿系统配以计算机控制的压力调整可以确保良率和掩膜板寿命的大幅提升，进而降低生产成本。EVG620 先进的对准台设计在保证精确的对准精度和曝光效果的同时，可以大幅提高产能。应用范围EVG 光刻机主要应用于半导体光电器件、功率器件、微波器件及微电子机械系统（MEMS）、硅片凸点、化合物半导体等领域，涵盖了微纳电子领域微米或亚微米级线条器件的图形光刻应用。主要特点及技术参数:1、主要特点：。 双面对准光刻和键合对准工艺。自动的微米计控制曝光间距。自动契型补偿系统。 优异的全局光强均匀度。免维护单独气浮工作台。 高度自动化系统。快速更换不同规格尺寸的硅片。 可选配 Nanoalign 技术包以达到更高的工艺能力。 薄硅片或翘曲硅片处理系统可选。 Windows 图形化用户界面。 完善的多用户管理（用户权限、界面语言、菜单和工艺控制）。 光刻工艺模拟软件可选。三花篮上料台，可选五花篮台2、技术参数

EVG620 单面/双面光刻机(带有压印功能）EVG 公司是一家致力于半导体制造设备的全球供应商，其丰富的产品系列包括：涂胶和喷胶/显影机/热板/冷板、掩模版光刻/键合对准系统、基片热压键合/低温等离子键合系统、基片清洗机、基片检测系统、SOI 基片键合系统、基片临时键合/分离系统、纳米压印系统。目前已有数千台设备安装在世界各地，被广泛地应用于 MEMS 微机电系统/微流体器件，SOI 基片制造，3D 封装，纳米压印，化合物半导体器件和功率器件等领域。设备原理：EVG620 是一款非常灵活和可靠的光刻设备，可配置为半自动也可以为全自动形式。EVG620 既可以用作双面光刻机也可以用作 150mm 硅片的精确对准设备；既可以用作研发设备，也可以用作量产设备。精密的契型补偿系统配以计算机控制的压力调整可以确保良率和掩膜板寿命的大幅提升，进而降低生产成本。EVG620 先进的对准台设计在保证精确的对准精度和曝光效果的同时，可以大幅提高产能。应用范围EVG 光刻机主要应用于半导体光电器件、功率器件、微波器件及微电子机械系统（MEMS）、硅片凸点、化合物半导体等领域，涵盖了微纳电子领域微米或亚微米级线条器件的图形光刻应用。主要特点及技术参数:1、主要特点：。 双面对准光刻和键合对准工艺。自动的微米计控制曝光间距。自动契型补偿系统。 优异的全局光强均匀度。免维护单独气浮工作台。 高度自动化系统。快速更换不同规格尺寸的硅片。 可选配 Nanoalign 技术包以达到更高的工艺能力。 薄硅片或翘曲硅片处理系统可选。 Windows 图形化用户界面。 完善的多用户管理（用户权限、界面语言、菜单和工艺控制）。 光刻工艺模拟软件可选。三花篮上料台，可选五花篮台2、技术参数