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薄膜规

仪器信息网薄膜规专题为您提供2024年最新薄膜规价格报价、厂家品牌的相关信息, 包括薄膜规参数、型号等,不管是国产,还是进口品牌的薄膜规您都可以在这里找到。 除此之外,仪器信息网还免费为您整合薄膜规相关的耗材配件、试剂标物,还有薄膜规相关的最新资讯、资料,以及薄膜规相关的解决方案。

薄膜规相关的耗材

  • TEM/SEM用纯硅薄膜窗
    TEM用纯Si薄膜窗 纯硅薄膜窗特点 纳米级厚度:薄膜厚度为5-15nm,比目前无定形碳薄膜窗口还薄,为高倍成像减少了背景干扰; 清洗:采用等离子清洗,无有机物残留,改善成像质量; 均匀性:减少了不同区域的不均匀性; 稳定性:高电子束电流和退火温度下具有很好的稳定性(600℃ for non-porous, 1000℃ for nanoporous); 减少污染:彩色污染仅为C膜的一半; 纳米孔:为纳米尺寸材料提供稳定的成像,无背景干扰; Si成分:溅镀沉积、纯的Si; 最小的背景信号:可对含Ni或C样品进行元素分析; 纯硅薄膜窗规格 单窗口系列窗口类型薄膜厚度窗口尺寸框架尺寸框架厚度5nm25x25μmΦ3mm100μm30nm500x500μm纳米孔10-60nmΦ3mm100μm多窗口系列窗口类型薄膜厚度窗口尺寸框架尺寸框架厚度5nm2x1阵列,50X1500μmΦ3mm100μm9nm/15nm2x1阵列,100X1500μmΦ3mm100μm5nm2x1阵列,100X100μmΦ3mm200μm9nm/15nm2x1阵列,100X1500μmΦ3mm200μm5nm3x3阵列,8个窗口50X50μm,1个窗口50X100μmΦ3mm100μm5nm/9nm3x3阵列,8个窗口100X100μm,1个窗口100X350μmΦ3mm100μm9nm3x3阵列,8个窗口100X100μm,1个窗口100X350μmΦ3mm200μm15nm3x3阵列,8个窗口100X100μm,1个窗口100X350μmΦ3mm100μm30nm3x3阵列,8个窗口100X100μm,1个窗口100X350μm;纳米孔10-60nmΦ3mm100μm15nm3x3阵列,窗口100X100μmΦ3mm200μm详细资料请咨询:021-35359028/ admin@instsun.com
  • Atlas™ 标准薄膜制样机与高温薄膜制样系统
    Atlas™ 标准薄膜制样机与高温薄膜制样系统Specac的等厚度薄膜制样工具主要用于高分子材料的光谱测定,根据热压制膜原理,所得到的样品是纯样品,谱图中只出现样品信息。Specac公司为满足客户的不同需求,提供三种等厚度薄膜制样工具,不仅可以将较厚的聚合物变成更薄的薄膜,还能将粒状,块状或板材,如药包材料,包装材料,特殊包裹材料等不规则的聚合物变成可以检测的薄膜。 GS15800高温薄膜制样系统技术参数: 最高操作温度高达400℃ 满足高端科研的要求 一周期40分钟 通过CE安全认证 集成的供热制冷设备? 2T的载荷极限 0.015, 0.025, 0.050, 0.100, 0.250, 0.500mm 薄膜直径29mm 压力范围0-2吨 一体式加热盘系统 双数字显示,精度1度 安全切换装置:70℃ 切断加热希同/55℃ 重启加热系统 一体式冷却盘高温薄膜制样机P/N GS15800有一组加热板是嵌入到薄膜制样机中的,所以当P/N GS15800装载在压 片机上时, 是不需要额外的Atlas 加热压盘P/NGS15515的。订购信息GS15640标准薄膜制样机特点:独立加热压盘,满足不同直径薄膜需要独立冷却盘,可缩短制膜周期重现性哈,制备过程简单 制膜过程无需化学品,成本低6种不同厚度的垫圈,适合各种高分子材料技术参数: 操作温度高达300℃ 一周期30分钟 4T的载荷极限 0.015, 0.025, 0.050, 0.100, 0.250, 0.500mm 薄膜直径29mm 双数字显示,精度℃ 可配套加热板P/N GS15515使用 冷却系统停止时切断加热系统 冷却水流速大于0.2/min时重启加热系统 独立冷却盒订购信息GS15640 Atlas™ 标准薄膜制样机包括: 0.015, 0.025, 0.050, 0.100, 0.250和0.500 mm 垫圈铝膜 直径40mm(200 片)Specacards 卡夹式,圆形通光孔直径10mm,样品架(20张)不锈钢镊子GS15800 Atlas™ 高温薄膜制样系统包括: 0.015, 0.025, 0.050, 0.100, 0.250and 0.500 mm 垫圈铝膜直径40mm(200 片)制作铝膜样品杯的工具Specacards 卡夹式,圆形通光孔直径10mm,样品架(20张)不锈钢镊子高稳定性及高精度的温度控制器(400℃) 薄膜制样套装GS15631 Atlas™ 标准型薄膜制样套装1包括: 薄膜制样系统(GS15640) 加热板和加热压盘以及数字全自动温控器(300°C) (GS15515)GS15633 Atlas™ 标准型薄膜制样套装2包括: 薄膜制样系统(GS15640)加热板和加热压盘以及数字温控器(300oC) (GS15515)15T手动液压机(GS15011)(对于GS15800,GS15631和GS15633,请指定220V或110V电压和使用的国家。)GS15800 Atlas™ 高温薄膜制样系统套装 包括: 高温薄膜制样系统(GS15800) 15T手动液压机(GS15011)(请指定220V或110V电压和使用的国家。)备件及耗材GS03800 卡夹式,圆形通光孔直径10mm,样品架 (100张/盒)GS03805 用于固定易伸缩薄膜样品的尼龙卡簧(20)GS03810 10mm x 25mm 矩形通光孔Specacards (100)GS03820 磁性薄膜样品架 圆形通光孔直径25mmGS15627 直径为40mm的铝膜(200)GS15641 冷却盒 用于标准薄膜制样系统 替换GS15642 标准薄膜制样压盘套装GS15629 标准薄膜制样机可替换的垫圈组件GS15805 高温薄膜制样机可替换的垫圈组件
  • XRF支撑薄膜
    成卷的或预先切成方形或圆形的Prolene,超聚酯,聚丙烯,Mylar,聚碳酸脂和聚酰亚胺样品支撑薄膜。 成卷的薄膜(7.6cm×15.2m) 正方形薄膜(63.5mm×63.5mm) 圆形薄膜(直径63.5mm) 多孔聚丙烯薄膜(6.4cm×5.1m)
  • 薄膜溶解测量仪配件
    薄膜溶解测量仪用于实时监测薄膜在液体过程中的薄膜厚度和光学常量(n, k)的变化,是全球领先的薄膜溶解测量仪和薄膜溶解测试仪。为了这种特色的测量,孚光精仪公司特意为薄膜溶解测量仪研发了Teflon样品池用于测量薄膜样品,使用一种岔头探针水平安装在Teflon 样品池的外部,距离玻璃窗口非常接近,使用白光反射光谱技术(WLRS),实时测量薄膜厚度和折射率,并通过专业软件记录下这些数据。另外,根据需要,我们还能够在测量区域下安装搅拌装置stirrer,提供力学激励振动。孚光精仪还特意为薄膜溶解测量仪提供垂直的样品夹具,以固定小尺寸的硅样品或3' ' ,4' ' 直径的Si 晶圆。根据溶解过程的不同,如溶解速度的不同,它能够以实时或离线的方式测量,反射率数据都能够存储下来以便后续处理使用。还能够测量几十个纳米厚度的光致抗蚀剂和聚合物薄膜堆的溶解过程,而且还可以测量薄膜的膨胀等特殊现象。对于薄膜厚度的测量,薄膜溶解测厚仪需要光滑,具有反射性的衬底,对于光学常数测量,平整的反射衬底即可满足测量需要。如果衬底是透明的,衬底的背面不能具有反射性。能够给出两个参数:例如两个薄膜的厚度或一个薄膜的厚度和光学常量,已经成功应用于测量反射衬底(Si晶圆)上各种光滑,透明或轻度吸收薄膜的溶解过程,可研究的薄膜包括SiO2薄膜,SiNx薄膜,光致抗蚀剂薄膜,聚合物薄膜层等。薄膜溶解测量仪参数 可测膜厚: 5nm-150微米;波长范围:200-1100nm 精度:0.5% 分辨率:0.02nm 测量点光斑大小:0.5mm可测样品大小:10-100mm计算机要求:Windows XP, vista, Win7均可,USB接口;尺寸:360x400x180mm重量:15kg 电力要求:110/230VAC薄膜溶解测量仪应用:聚合物薄膜光致抗蚀剂薄膜测量化学和生物薄膜测量,传感测量光电子薄膜结构测量 在线测量光学镀膜测量 能够以实时或离线的方式测量,反射率数据都能够存储下来以便后续处理使用。
  • XRF荧光光谱仪专用测试薄膜
    产品详情 XRF荧光光谱仪专用测试薄膜英飞思提供不同材料和厚度的专用测试薄膜,以满足应用中的测试需求样品杯的底部覆盖有X 射线透明薄膜。耐化学性取决于薄膜的材料和厚度:下表展示了不同厚度和材质的薄膜对测试不同元素的影响原则上,使用两种材料:聚酯(聚酯薄膜)和聚丙烯(商标名称包含名称片段的薄膜“丙烯”,例如以“lene”结尾的,通常与便宜得多的材料相同聚丙烯薄膜)。薄膜材料的耐化学性不同。虽然聚酯是稳定的对于溶剂、脂肪族化合物和燃料,聚丙烯提供更高的稳定性富含氧气的流体(例如水、聚乙二醇和高沸点油)。聚丙烯特别适用于固体样品的痕量分析,因为它没有主要成分其中的污染。相比之下,聚酯薄膜含有不需要的磷和钙(3.5 µmMylar 对应于纯油(例如清洁白油)中的 50 ppm Ca 和 250 ppm P。薄膜,例如Hostaphan(带有硅污染的聚酯)或聚碳酸酯(不含污染,首选用于燃料分析)受到限制或不再可用。Kapton 对轻元素的荧光辐射不是很透明,因此仅可用于分析具有更高原子序数的元素。
  • 光学薄膜测厚仪配件
    教学型光学薄膜测厚仪配件是一款低价台式光学薄膜厚度测量仪,可测量薄膜厚度,薄膜的吸收率/透过率,薄膜反射率,荧光等,也可测量膜层的厚度,光学常量(折射率n和k)。光学薄膜测厚仪配件基于白光反射光谱技术,膜层的表面和底面反射的光VIS/NIR光谱,也是干涉型号被嵌入的光谱仪收集分析,结合多次反射原理,给出膜层的厚度和光学常数(n,k),到货即可使用,仅仅需要用户准备一台计算机提供USB接口即可,操作非常方便。光学薄膜测厚仪配件参数 可测膜厚: 100nm-30微米;波长范围: 300-1000nm 探测器:650像素Si CCD阵列,12bit A/D精度:1%斑点大小:0.5mm 光源:钨灯-汞灯(360-2000nm)所测样品大小:10-150mm, 计算机要求:Windows XP, vista, Win7均可,USB接口;尺寸:320x360x180mm 重量:9.2kg光学薄膜测厚仪配件应用用于薄膜吸收率,透过率和荧光测量,用于化学和生物薄膜测量,传感测量用于光电子薄膜结构测量 用于半导体制造用于聚合物薄膜测量 在线薄膜测量用于光学镀膜测量
  • 手持式薄膜测厚仪配件
    手持式薄膜测厚仪配件是全球首款便携式光学薄膜厚度测量仪,可测量透明或半透明单层薄膜或膜系的薄膜厚度,薄膜的吸收率/透过率,薄膜反射率,荧光等。手持式薄膜测厚仪可测量膜层的厚度,光学常量(折射率n和k),薄膜厚度测量范围为350-1000nm,不需要电线连接,也不需要实验室安装空间,它从USB连接中获取工作电源,这种独特设计方便客户移动测量,只需USB线缆从计算机控制测量即可,采用全球领先的3648像素和16bit的光谱仪,具有超高稳定性的LED和荧光灯混合光源,光源寿命高达20000小时,手持式薄膜测厚仪配件特色USB接口供电,不需要额外的线缆供电超级便携方便现场使用超低价格手持式薄膜测厚仪配件参数 可测膜厚: 15nm-90微米;波长范围: 360-1050nm 探测器:3648像素Si CCD阵列,16bit A/D精度:1nm 斑点大小:0.5mm 光源:LED混合光源( 360-1050nm )所测样品大小:10-150mm, 计算机要求:Windows XP, vista, Win7均可,USB接口;尺寸:300x110x500mm 重量:600克手持式薄膜测厚仪配件应用用于薄膜吸收率,透过率和荧光测量,用于化学和生物薄膜测量,传感测量用于光电子薄膜结构测量 用于半导体制造用于聚合物薄膜测量 在线薄膜测量用于光学镀膜测量
  • 薄膜厚度测量系统配件
    薄膜厚度测量系统配件是一种模块化设计的薄膜厚度测量仪,可灵活扩展成精密的薄膜测量仪器,可在此基础上衍生出多种基于白光反射光谱技术的薄膜厚度测试仪,比如标准吸收/透过率,反射率的测量,薄膜的测量,薄膜温度和厚度的测量。薄膜厚度测量系统配件:核心模块----光谱仪;外壳模块----各种精密精美的仪器外壳;工作面积模块----测量工作区域;光纤模块----根据不同测量任务配备各种光纤附件;测量室-/环境罩---给测量带去超净工作区域。薄膜厚度测量仪核心模块---光谱仪孚光精仪提供多种光谱仪类型,不同光谱范围和光源,满足各种测量应用
  • 薄膜拉力测试仪、塑料薄膜拉伸强度检测、剥离机
    薄膜拉力测试仪、塑料薄膜拉伸强度检测、塑料薄膜剥离测试仪介绍:LQJ211万能材料试验机有着超大数显控制系统-为主机曲线、力值、速度和变形动态显示,加上电脑可实现微机操作,参数随意设定,可以做不同材料30KN以内的拉伸、压缩、弯曲、剥离、撕裂、剪切、刺破、低调疲劳等多项力学试验.可根据国际标准ISO.JIS.ASTM.DIN等国际标准和国外标准进行试验和提供数据.以windows操作系统使试验数据曲线动态显示,试验数据可以任意删加,对曲线操作更加简便.轻松.随时随地都可以进行曲线遍历.叠加.分离.缩放.打印等全电子显示监控. 薄膜拉力测试仪、塑料薄膜拉伸强度检测、塑料薄膜剥离测试仪技术参数 Main specifications 1、最大负荷Load Accuracy: 30KN(任意选) 2、荷重元精度Load Accuracy: 0.01% 3、测试精度Measuring accuracy: ± 0.5% 4、操作方式Control: 全电脑控制,windows模式操作 5、有效试验宽度Valid width: 约420mm 6、有效拉伸空间Stroke: 约800mm 7、试验速度Tetxing speed : 0.001~500mm/min 8、速度精度 Speed Accuracy:: ± 0.5%以内; 9、位移测量精度Stroke Accuracy: ± 0.5%以内; 10、变形测量精度Displacement Accuracy: ± 0.5%以内 11、安全装置 Safety device: 电子限位保护,紧急停止键 Safeguard stroke 12、机台重量Main Unit Weight : 约140kg
  • 薄膜偏振片
    薄膜偏振片英文名Thin film polarizer,薄膜偏振片是一种介质镀膜偏振片把s光和p光分开,适合高功率激光或高能量激光应用,适合内腔和外腔应用。布儒斯特型薄膜偏振片又叫Thin film polarizer,布儒斯特角偏振片,是一种适合高能激光应用的偏振片,损伤阈值高达10J/cm2 @1064nm 8ns. 薄膜偏振片常常作为格兰泰勒棱镜和偏振立方分束器(偏振立方体)的替代用品使用。常用的基质材料是BK7和紫外熔炉石英。56度入射角(布儒斯特角)情况下的 偏振比值Tp/Ts=200:1.特点:1)薄膜偏振片,Thin film polarizer有效地分开s光和p光 2)薄膜偏振片,Thin film polarizer配备有库存,可以立刻发货。薄膜偏振片标准参数 材料:BK7, UVFS直径公差:+0.0/-0.12mm厚度公差:+/-0.2mm净孔径:90%表面质量: 20-10 scratch&dig表面平整度:Lambda/10 @633nm平行度:30arec sec 消光比Tp/Ts:200:1典型透过率: Tp90%典型反射率:Ts99.5%激光损伤阈值: 5J/cm2 10ns 1064nm现有产品:266nm,343nm, 355nm, 400nm, 515nm, 532nm,780nm, 780-820nm, 795-805nm,940nm980nm, 1020-1040nm, 1064nm, 1550nm偏振片中国领先的进口精密激光光学器件旗舰型服务商--孚光精仪!
  • 等厚度薄膜制样工具
    specac_迷你等厚度薄膜制样套装 等厚度薄膜制样工具主要用于高分子材料的光谱测定。根据热压制膜原理,所得到样品是纯样品,谱图中只出现样品信息。Specac公司为满足客户的不同需求,提供了3种等厚度薄膜制样工具。不仅可以将较厚的聚合物变成更薄的薄膜,还可以将粒状、块状或板材等不规则形状的聚合物变成可以用光谱检测的薄膜。 视频:http://v.youku.com/v_show/id_XNDg3ODI1OTc2.html 点击观看视频
  • 迷你薄膜制样套装
    迷你薄膜制样套装一款5分钟就能实现红外透射分析专用的聚合物薄膜制样机特点:液压机与加热压盘以及温控器一体化的设计体积小巧,方便存储,携带薄膜重现性好,使用快捷 无需化学品,成本低,6种不同的垫圈这种设计允许加热板先进行预加热,温度升高至样品所需的熔点,并保持这个温度。样品在被引入到预加热板之前,薄膜制样机就可以独立的为几克的样品准备好相应的载荷和合适的定型圈。当薄膜制样机达到预设温度并稳定后,通常使用0.5T负载转动丝杆来热压薄膜。一旦从热压机上移走,低温块体薄膜制备制样机可以在冷却板上快速冷却到室温,压制成型的薄膜可以移除。薄膜样品可被镶嵌在一个3×2英寸的自粘帖卡片(Specacard) 上以用于红外透射光谱分析使用。与传统方法相比,这个过程可缩短薄膜制备的周期,实际上,制作一个薄膜样品的周期可小于5分钟。如何制备薄膜样品放置好隔热板, 选择好定型圈和较小的铝膜,放到下方组件上。1) 将样品放到铝膜的中央位置,然后在上面覆盖上较大的铝膜和上方组件2) 将准备好的以上组件整体放置到预加热板平面间,再施加1T位的载荷。3) 一旦样品完成压缩从压片机取出,分开组件,小心的将铝膜从样品上剥离。4) 制成的薄膜放入Specacard,然后一同放置到光谱仪器中进行分析。 技术参数: 快速,可重复的制备薄膜样品 样品熔点范围从室温到260℃ 标准薄膜厚度15,25,50, 100,250和500μm 直径15mm 压力范围0-2吨 制样包包括液压机和集成的加热板 周期5分钟 加热压盘直径25mm 加热压盘最大功率:35W 温度控制器:双数字显示,精度1℃ 加热压盘可调距离0-20mm 独立冷却盘 重量5.7kg 订购信息 迷你薄膜制样套装 GS03970 迷你薄膜制样套装 备件及耗材 GS03971 迷你薄膜制样组件 (包括压板组件,隔热板, 下压板组件,定型圈组件) GS03972 定型圈(15, 25, 50, 100, 250 和500 μm GS03973 铝膜(200 对) GS03974 迷你薄膜制样机冷却板 GS03975 迷你薄膜制样机压板(包括上压板,隔热板,下压板) GS03800 Specacards (100包) 直径10mm的圆形通光孔 GS15628 不锈钢镊子
  • SE-1薄膜电极
    金/铂是惰性金属,不容易发生氧化、水解和其它表面反应。普通金/铂电极制作需要反复抛光磨制,稳定性和重现性较差,不利于生物传感器的小型化和商品化。 Micrux公司采用100%金属材料(非金属/油墨印刷)制作的铂和金薄膜电极 - 适用于修饰和研发传感器或生物传感器 - 前处理方便,节省时间 - 可以多次重复使用,成本低廉 - 尺寸小,提供了很好的可靠性和可重复性,性噪比(S/N)佳。 电极设计: 1、SE-1设计,应用于铂和金薄膜电极,工作电极(WE)直径为1mm. 2、交叉指环型阵列电极(IDRA),由2对交叉的12电极组成。 3、交叉阵列电极(IDA),由2对交叉的12电极组成。 微电极设计,工作电极线宽和间隙都为10&mu m,和SE-1设计一样应用于铂和金薄膜电极。 电极适配器,使得薄膜(微)电极易于操作。 电极通过连接器可与各品牌电化学工作站匹配。 电极保存:干燥环境,旁边可以放置硅胶
  • 样品膜、XRF薄膜、EDX样品膜3018#
    X射线荧光膜、土壤样品杯膜、X-RAY样品膜、Prolene膜、ROHS测试膜、XRF有方形托架的圆片薄膜--美国Chemplex--3018# 现货供应:XRF样品膜、XRF薄膜、EDX样品膜、EDX薄膜、样品薄膜、X-RAY样品膜、ROHS测试膜、X-ray样品膜、X荧光光谱仪样品膜、光谱仪样品膜、迈拉膜、麦拉膜、Mylar膜、美国Chemplex样品膜、CAT.NO:106、CAT.NO:150、CAT.NO:250、CAT.NO:256、CAT.NO:257、CAT.NO:416、CAT.NO:426、CAT.NO:3014样品膜、Sample Film。 品名:XRF样品膜Sample Film目录编号CAT. NO:3018产品信息:Prolene膜,厚度4.0μm,直径63.5mm,100片/盒品牌:美国Chemplex Industries.Inc.(原装进口)货期:现货起订量:1盒以上。 现货供应:XRF样品膜、XRF测试薄膜、EDX样品膜、EDX薄膜、样品薄膜、X-RAY样品膜、ROHS测试膜、X-ray样品膜、X荧光光谱仪样品膜、光谱仪样品膜、迈拉膜、麦拉膜、Mylar膜、美国Chemplex样品膜、CAT.NO:106、CAT.NO:150、CAT.NO:250、CAT.NO:256、CAT.NO:257、CAT.NO:416、CAT.NO:426、CAT.NO:3014样品膜、Sample Film。
  • 薄膜按键
    溶氧仪配件 tp351-003 薄膜按键
  • FEP 薄膜/金属箔特氟龙耐酸碱薄膜材质可定制
    FEP薄膜:也叫特氟龙薄膜,聚全氟乙丙烯薄膜;其特征主要有:1、耐高低温:-200~205℃ ,外观透明如保鲜膜,使用方便,环保;2、具有不粘性,拼水,拼油:水接触角θ=114о 电可靠性,高绝缘,不漏电;3、高透明度:透明度参考家用保鲜膜,对紫外线、可见光有很好的穿透性;4、耐强酸强碱,耐各种有机及无机化学溶剂,丙酮、醇类等各种腐蚀性溶剂;5、多作为封口膜,用于密封一些强腐蚀型瓶口;隔离实验室的一些腐蚀性溶剂;6、典型用途实例:中科院地化所常用来野外考察收集样品时,接收雨水用,通常会配套我公司同系列的FEP 透明管使用;品名宽度(mm)厚度mmFEP薄膜 200-2500.02-0.0150.03-0.040.05-0.150.15-0.2可按照客户要求生产250-280250-300300-35050060080010001200 FEP材质其他产品FEP取样瓶、容量瓶、洗瓶、滴瓶、消解瓶、消解管、离心管、薄膜、移液管、透明管、烧杯、分液漏斗,其他实验室常用器皿耗材等等。
  • IDA薄膜阵列电极
    金/铂是惰性金属,不容易发生氧化、水解和其它表面反应。普通金/铂电极制作需要反复抛光磨制,稳定性和重现性较差,不利于生物传感器的小型化和商品化。 Micrux公司采用100%金属材料(非金属/油墨印刷)制作的铂和金薄膜电极 - 适用于修饰和研发传感器或生物传感器 - 前处理方便,节省时间 - 可以多次重复使用,成本低廉 - 尺寸小,提供了很好的可靠性和可重复性,性噪比(S/N)佳。 电极设计: 1、SE-1设计,应用于铂和金薄膜电极,工作电极(WE)直径为1mm. 2、交叉指环型阵列电极(IDRA),由2对交叉的12电极组成。 3、交叉阵列电极(IDA),由2对交叉的12电极组成。 微电极设计,工作电极线宽和间隙都为10&mu m,和SE-1设计一样应用于铂和金薄膜电极。 电极适配器,使得薄膜(微)电极易于操作。 电极通过连接器可与各品牌电化学工作站匹配。 电极保存:干燥环境,旁边可以放置硅胶
  • chemplex样品薄膜迈拉膜
    chemplex样品薄膜型号:090,250品牌:chemplex产地:美国 一、产品介绍: 在用x荧光光谱仪进行rohs检测,weee检测和一般材料成分分析时,由于样品的不规则(特别是液体、粉末等),需要借助样品杯和薄膜辅助检测;但不合适的样品薄膜往往造成样品污染并影响材料成分分析的x射线信号和检测结果。选择适当的薄膜材料对于分析结果至关重要。 在现有的众多不同的物质类型中,只有为数不多的几种具备能满足光谱化学需要的一致性和化学、物理属性。 如何选择薄膜样本支撑窗材料?适当的薄膜样本支撑窗的选择主要以满足首要重要的实验室要求为基础: 使用方便快捷; 避免造成待测样品污染; 优越的分析物透射比与强度; 对待测样品的耐化学性。chemplex industries有限公司专业从事样品前处理设备、耗材研发和生产的公司,是x射线光谱仪(xrf)配件耗材领域的全球知名厂商。chemplex xrf样品杯和样品薄膜用于rohs、weee专业测试仪器盛放小颗粒固体,粉末,液体,适用于各种品牌的x射线荧光光谱仪。chemplex样品薄膜薄膜张力特性极/佳,与样品杯组合使用,适合盛放各类金属重物、液体或粉末。对特别配制的塑料和保持其物理和化学属性一致性的特别关注,使得chemplex xrf样本杯、样品薄膜在xrf物质成分分析应用范围和性能上无与伦比。chemplex的许多xrf样本杯、样品薄膜被列为新颖独特的设计和应用,并被美国专利商标局授予知识产权地位。美同达作为美国chemplex公司的中国代理商,提供chemplex所有系列用于对应欧盟rohs和weee环保检测仪器——x射线荧光光谱仪(xrf)的检测实验消耗产品!我们不仅能够为您提供样品薄膜、样品杯, 还可根据您的样品应用为您选择、定制合适的样品薄膜、样品杯。 二、适用仪器:德国斯派克spectro、英国牛津oxford、日本堀场horiba、飞利浦/帕纳科philips/panalytical、德国布鲁克 bruker、美国赛默飞世尔科技(热电)thermo,瑞士arl及日本理学rigaku, siemens, spectrace,jordan, kevex, metorex,fisons, asoma,venus 200,valley等生产的x荧光光谱仪(xrf)。(适用x 射线荧光光谱仪品牌型号:所有x射线荧光光谱仪包括:尼通(niton):xlt797z 、xlt794、xlt898 ;伊诺斯(innov-x):alpha6000;牛津(oxford):met-5000;帕纳科(panalytical):minipal4、 minipal2;精工(seiko):sea1000a;斯派克(spectro):xepos、midex m;热电(thermo):arl quant’x;日本电子(jeol)jsx-3400r;horriba等。) 三、spectromembrane® 样品薄膜随着spectromembrane® 样本支撑托架的面世,在处理薄膜时用户不再需要担心静电附着或潜在的污染风险或吸引空中颗粒等问题。除样本杯外,薄膜不再近距离接触其它任何物体。薄膜处理将通过使用集成的托框完成,托框能够在组装过程中自动分离,留下绷紧的薄膜样本平面。spectromembrane® 薄膜样本支撑托架由一块粘在托架上作为支撑物的薄膜样本支撑物质组成。在把薄膜物质粘在xrf样本杯上时,薄膜物质并不会被直接处理,这就消除了污染的可能性。接近完成或在完成附着时,薄膜将自动从托架上分离,留下绷紧的无皱样本支撑窗。
  • X-ray应用薄膜窗口
    X-ray应用薄膜窗口(X-Ray Windows)有两种薄膜,低应力lpcvd氮化硅膜具很强机械强度,适合高温和差压环境;G-FLAT™ 氧化硅膜平坦无褶皱,非常适合x射线显微镜和需要无氮气背景的分析。这些薄膜窗口是X射线显微镜和x射线光谱学技术的理想衬底,经过等离子清洗,无有机污染。平坦、均匀沉积的薄膜具有低场到场可变性和高x射线透射性。G-FLAT™ 氧化硅膜窗口,适合生物成像研究,具有玻璃状亲水表面。外框硅材质,外框大小5*5mm,框厚310μm,膜厚度300nm。无褶皱,与超高真空(UHV)应用兼容。LPCVD氮化硅膜窗口,外框大小5*5mm,框厚320μm,200 MP 低应力无孔氮化硅。产品信息:货号产品描述窗口(Sq.)膜厚规格76042-10G-FLAT™ SiO X-Ray Window500μm100nm20/pk76042-11G-FLAT™ SiO X-Ray Window500μm300nm20/pk76042-12Silicon Nitride X-Ray Window500μm50nm20/pk76042-13Silicon Nitride X-Ray Window1000μm50nm20/pk76042-14Silicon Nitride X-Ray Window500μm100nm20/pk76042-15Silicon Nitride X-Ray Window1000μm100nm20/pk76042-16Silicon Nitride X-Ray Window 1500μm200nm20/pk76042-17Silicon Nitride X-Ray Window2500μm200nm20/pk
  • 高精度膜厚仪|薄膜测厚仪A3-SR光学薄膜厚度测量(卤素灯)
    目标应用: 半导体薄膜(光刻胶) 玻璃减反膜测量 蓝宝石薄膜(光刻胶) ITO薄膜 太阳能薄膜玻璃 各种衬底上的各种膜厚 卷对卷柔性涂布 颜色测量 车灯镀膜厚度 其他需要测量膜厚的场合 阳极氧化厚度产品型号A3-SR-100 产品尺寸 W270*D217*(H90+H140)测试支架(配手动150X150毫米测量平台和硅片托盘)测试方式可见光,反射 波长范围380-1050纳米光源钨卤素灯(寿命10000小时) 光路和传感器光纤式(FILBER )+进口光谱仪 入射角0 度 (垂直入射) (0 DEGREE) 参考光样品硅片光斑大小LIGHT SPOTAbout 1 mm(标配,可以根据用户要求配置)样品大小SAMPLE SIZE150mm,配150X150毫米行程的工作台和6英寸硅片托盘 膜厚测量性能指标(THICKNESS SPECIFICATION):产品型号A3-SR-100厚度测量 1Thickness15 nm - 100 um 折射率 1(厚度要求)N 100nm and up准确性 2 Accuracy 2 nm 或0. 5%精度 3precision0.1 nm1表内为典型数值, 实际上材料和待测结构也会影响性能2 使用硅片上的二氧化硅测量,实际上材料和待测结构也会影响性能3 使用硅片上的二氧化硅(500纳米)测量30次得出的1阶标准均方差,每次测量小于1秒.
  • 基于SiO2/Si晶片的双层CVD石墨烯薄膜(4片装)
    基于SiO2/Si晶片的双层CVD石墨烯薄膜将两层单层CVD石墨烯膜转移 到285nm p掺杂的SiO 2 / Si晶片上 尺寸:1cmx1cm 4片将每个石墨烯膜连续转移到晶片上我们的石墨烯薄膜的厚度和质量由拉曼光谱控制该产品的石墨烯覆盖率约为98%石墨烯薄膜是连续的,具有小孔和有机残留物每个石墨烯薄膜主要是单层(超过95%),偶尔有少量多层(低于5%的双层)由于没有A-B堆叠顺序。石墨烯薄膜彼此随机取向。薄层电阻:215-700Ω/平方硅/二氧化硅晶圆的特性:氧化层厚度:285nm颜色:紫罗兰色晶圆厚度:525微米电阻率:0.001-0.005欧姆 - 厘米型号/掺杂剂:P /硼方向:100 前表面:抛光背面:蚀刻应用:石墨烯电子和晶体管导电涂料航空航天工业应用支持金属催化剂微执行器MEMS和NEMS化学和生物传感器基于石墨烯的多功能材料石墨烯研究
  • 薄膜、样品膜、光谱仪膜、麦拉膜416#
    X-RAY样品膜、XRF測試用的Prolene膜、XRF样品膜、ROHS测试膜、迈拉膜--美国Chemplex 416# 现货供应:XRF样品膜、XRF薄膜、EDX样品膜、EDX薄膜、样品薄膜、X-RAY样品膜、ROHS测试膜、X-ray样品膜、X荧光光谱仪样品膜、光谱仪样品膜、迈拉膜、麦拉膜、Mylar膜、美国Chemplex样品膜、CAT.NO:106、CAT.NO:150、CAT.NO:250、CAT.NO:256、CAT.NO:257、CAT.NO:416、CAT.NO:426、CAT.NO:3014样品膜、Sample Film。 品名:XRF样品膜Sample Film目录编号CAT. NO:416产品信息:Prolene膜,卷轴,厚度4.0 μm,宽7.6cm x 长91.4m,1卷/盒品牌:美国Chemplex Industries.Inc.(原装进口)货期:现货起订量:1盒以上。 产品详细信息:Pre-Perforated Thin-Film Sampel SupportsPROLENE® FILMCAT. NO:416Gauge:0.00016”,4.0 μm;0.16mil,40,640ATypical Impurities,PPM:Ca, P, Fe, Zn, Cu, Zr, Ti, AlChemplex® INDUSTRIES,INC.ROLL:3” x 300’ (7.6cm x 91.4m); Lot No:082176。 现货供应:XRF样品膜、XRF测试薄膜、EDX样品膜、EDX薄膜、样品薄膜、X-RAY样品膜、ROHS测试膜、X-ray样品膜、X荧光光谱仪样品膜、光谱仪样品膜、迈拉膜、麦拉膜、Mylar膜、美国Chemplex样品膜、CAT.NO:106、CAT.NO:150、CAT.NO:250、CAT.NO:256、CAT.NO:257、CAT.NO:416、CAT.NO:426、CAT.NO:3014样品膜、Sample Film。
  • 聚合物薄膜测厚仪配件
    聚合物薄膜测厚仪配件用于测量聚合物薄膜、有机薄膜、高分子薄膜和 光致抗蚀剂薄膜, 光刻胶膜,光刻薄膜,光阻膜在加热或制冷情况下薄膜厚度和光学常量(n, k)的变化。为了这种特色的测量,孚光精仪公司特意研发了专业的软件和算法,使得该聚合物薄膜测厚仪能够给出薄膜的物理化学指标:例如玻璃化转变温度 glass transition temperature (Tg),热分解温度,薄膜的厚度测量范围也高达10nm--100微米。聚合物薄膜测厚仪配件在传统薄膜测厚仪的基础上添加了加热/制冷的温度控制单元,使用白光反射光谱技术(WLRS),实时测量薄膜厚度和折射率,并通过专业软件记录下这些数据,能够快速实时给出薄膜厚度和薄膜光学常量等物理化学性能数据,并且能够控制薄膜加热和制冷的速度,是聚合物薄膜特性深入研究的理想工具。干膜测厚仪所使用的软件也适合薄膜的其他热性能研究,例如:薄膜的热消融/热剥蚀thermal ablation研究,薄膜光学性质随温度的变化,薄膜预烘烤Post Apply Bake,光刻过程后烘烤 Post Exposure Bake对薄膜厚度的损失等诸多研究。对于薄膜的厚度测量,这款聚合物薄膜测厚仪,薄膜热特性测厚仪要求薄膜衬底是透明的,背面是不反射的。它能够处理最高4层薄膜的膜堆layer stacks,给出两个参数:例如两个薄膜的厚度或一个薄膜的厚度和光学常量。这套聚合物薄膜测厚仪,薄膜热特性测厚仪已经成功应用于测量不同聚合物薄膜的热性能,光刻薄膜的热处理影响分析,Si晶圆wafer上的光致抗蚀剂薄膜分析等。聚合物薄膜测厚仪配件参数 可测膜厚: 5nm-150微米;波长范围:200-1100nm 精度:0.5%分辨率:0.02nm 测量点光斑大小:0.5mm可测样品大小:10-100mm计算机要求:Windows XP, vista, Win7均可,USB接口;尺寸:360x400x180mm重量:13.5kg 电力要求:110/230VAC聚合物薄膜测厚仪配件应用聚合物薄膜测量光致抗蚀剂薄膜测量化学和生物薄膜测量,传感测量光电子薄膜结构测量 半导体薄膜厚度测量在线测量光学镀膜测量聚合物薄膜厚度测量polymer films测量测量有机薄膜厚度测量光致抗蚀剂薄膜测光刻胶膜测厚测量光刻薄膜厚度测量光阻薄膜测厚测量光阻膜厚度
  • 薄膜专用样品架
    1,适用于测试玻璃,薄膜等透明固体样品2,适用于本公司所有常规型号光度计
  • 显微薄膜测量仪配件
    显微薄膜测量仪配件是一款超级紧凑而功能多样的薄膜测试仪系统,可以结合显微镜测量薄膜的吸收率,透过率,反射率以及测量点的荧光。薄膜测试仪通过反射率的测量,测量点处的薄膜厚度,薄膜光学常量(n &k)以及thick film stacks都能在瞬间测量出来。整套显微薄膜测量仪的组成是:光栅光谱仪(200-1100nm)+显微镜目镜 适配器+软件+显微镜(可选)。其中目镜适配器包含镜头,可增加光的收集。标准的40X物镜可做到测量点直径约200微米。更高倍数的物镜的测量点更小。整套薄膜测量仪和薄膜测试仪到货即可使用,仅仅需要用户准备一台计算机提供USB接口即可,操作非常方便。 安装到显微镜上的薄膜测量仪照片 薄膜测试仪SiO2薄膜测量结果(20X物镜)薄膜厚度测试仪配件软件 这款薄膜测试仪配备专业的仪器控制,光谱测量和薄膜测量功能的软件,具有广阔的应用范围。该薄膜厚度测试仪软件能够实时采集吸收率,透过率,反射率和荧光光谱,并且能够能够快速计算出结果。对于吸收率/透过率模式的配置,所有的典型参数如 A, T可快速计算出来。其他的非标准参数,如signal integration也能测量出来。对于反射率测量,该薄膜厚度测试仪软件能够精确测量膜层小于10层薄膜厚度(《10nm到100微米), 光学常量(n & k)。 薄膜厚度测试仪配件参数 可测膜厚: 10nm-150微米; 波长范围:200-1100nm 精度:0.5% 分辨率:0.02nm 光源:使用显微镜光源 光斑大小:由显微镜物镜决定 计算机要求:Windows XP, vista, Win7均可,USB接口; 尺寸:120x120x120mm 重量:1.2kg 薄膜厚度测试仪配件应用 测量薄膜吸收率,透过率 测量化学薄膜和生物薄膜测量 光电子薄膜结构测量 半导体制造 聚合物测量 在线测量 光学镀膜测量
  • Chemplex薄膜样品带支撑窗框
    SpectroMembrane® 薄膜样品载体框架由薄膜样品载体物质组成,该薄膜样品载体物质附着在用作载体的框架上。在将薄膜物质粘贴到XRF样品杯时,不直接处理薄膜材料并且完全消除污染可能性。接近或完成附着时,薄膜自动从载体框架上分离,留下一个拉紧的无褶皱样品支撑窗口。用户选择的薄膜样品支撑窗口连接到处理框架上,以便连接到Chemplex® 样品杯
  • ChemplexXRF测试薄膜
    XRF样品膜、XRF测试薄膜、、EDX样品膜、EDX薄膜样品薄膜、X-RAY样品膜、ROHS测试膜、X-ray样品膜、X荧光光谱仪样品膜、光谱仪样品膜、迈拉膜、麦拉膜、Mylar膜XRF样品膜、XRF测试薄膜、EDX样品膜、EDX薄膜样品薄膜XRF样品膜、XRF测试薄膜、EDX样品膜、EDX薄膜样品薄膜美同达提供chemplex各种样品薄膜和样品杯,如有需要,请。 Chemplex样品杯是使用方便简捷,无污染的测试用样品杯,广泛应用于牛津、斯派克、岛津、热电、帕纳科、日本理学等各种品牌的XRF光谱仪。 产品详情: 1、1000系列:样本杯与SPECTROSULFUR分析仪杯,TRIMLESS套筒能套住薄膜样本支撑窗并清除过量剪屑。 适用仪器:适用于Spectro & SpectroAsoma Xepos, X-Lab 2000, Xepos Low S, 200, 200T Titan, Phoenix,Panalytical Venus 与Rigaku(日本理学株式会社)仪器。 产品编号:10601双开端、1065单开端、1070双开端、1075单开端、1080双开端、1083单开端、1085单开端、1095双开端带通风盖与球形柄。 2、1300系列:可重复密封的可通风式XRF样本杯,集成外部溢流储液槽,并可选择使用集成的薄膜样本支撑窗修剪器。 适用仪器:适用于Spectro & SpectroAsoma Xepos, X-Lab 2000, Xepos Low S, 200, 200T Titan, Phoenix仪器。 产品编号:1330双开端、1330-SE直接固定环拥有集成的薄膜修整器、1340双开端。 3、1400系列:单开端可通风XRF样本杯。 适用仪器:适用于Spectro & SpectroAsoma Xepos, X-Lab 2000, Xepos Low S, 200, 200T Titan, Phoenix仪器。 产品编号:1430单开口端ThermoPlastic?密封排气、1430-SE、1440单开口端密封排气、1440L*特长单开口端。 4、1500系列:双开口端XRF样本杯。 适用仪器:适用于Spectro & SpectroAsoma Xepos, X-Lab 2000, Xepos Low S, 200, 200T Titan, Phoenix等仪器。 产品编号:1530双开口端、1530-SE直接固定环带有集成的薄膜修整器、1540双开口端。 5、1600系列:狭缝通风样本杯盖,适用于1500系列XRF样本杯。 样品编号:1630样本杯盖、1640样本杯盖。 6、1700系列:集成的咬合式通风XRF样本杯。 适用仪器:适用于Spectro & SpectroAsoma Xepos, X-Lab 2000, Xepos Low S, 200, 200T Titan, Phoenix仪器。 产品编号:1730咬合式通风、1730-SE直接固定环拥有集成的薄膜修整器、1740Snap-Post通风。 7、1800系列:单开口端XRF样本杯,集成的外部溢流储液槽,通风装置;与可选用的集成薄膜样本支撑窗修整器。 适用仪器:适用于Spectro & SpectroAsoma Xepos, X-Lab 2000, Xepos Low S, 200, 200T Titan, Phoenix仪器。 产品编号:1830ThermoPlastic?密封通风、1830-SE直接固定环拥有集成的薄膜修整器、1840ThermoPlastic?密封通风。 8、1850系列:单开口端SPECTROSULFUR?分析仪样本杯,Thermoplastic Seal?通风 ,集成外部溢流储液槽和排泄装置,适用于X射线光学系统“SINDIE?”仪器与其它硫分析仪。 9、1900系列:双开口端XRF样本杯,顶部样本注入与可选用的集成薄膜样本支撑窗修剪器。 适用仪器:适用于Spectro & SpectroAsoma Xepos, X-Lab 2000, Xepos Low S, 200, 200T Titan, Phoenix仪器;适应于Oxford Lab-X仪器。 产品编号:19301双开口端、1930-SE1直接固定拥有集成的薄膜修整器、19401双开口端、1940L2双开口端。 10、1935-OX系列:双开口端XRF样本杯与通风盖,适用于牛津分析仪。用作替换的腔室和盖子,适用于牛津CK-100,耗材元件,零件编号54-CK-100。 11、2100系列:双开口端TRIMLESS?套筒XRF样本杯、内部溢流储液槽,通风的直接固定盖,TRIMLESS?套筒薄膜样本支撑窗附着。 产品编号:2132 、2135、2140、2143、2144、2145、2146、2195。 12、3100系列:SPECTROMICRO?样本杯,采用“FUNNELSHAPE?”(漏斗形) 样本杯技术。 产品编号:3106、3110、3115、3120。
  • 耐高温薄膜
    试验时胶料上下侧应垫耐高温玻璃纸,防止胶料残留上下模腔的花纹沟槽中;这种高温玻璃纸厚度均匀,性能稳定,可消除普通薄膜纸(玻璃纸)误差大的弊端,即可解决模腔粘胶不易清理的难题又保证测试数据不失真。
  • James Heal 酚黄测试聚乙烯薄膜泛黄测试聚乙烯薄膜
    James Heal 纺织品酚黄测试用聚乙烯薄膜泛黄测试聚乙烯薄膜用途:纺织品酚黄测试,黄变测试,泛黄测试James Heal酚黄 (泛黄) 变测试膜400X200mm 100片/包 706-792ISO 105-X18 M&S C20B-TOadidas***酚黄(泛黄)变测试膜酚黄 (泛黄)变测试套件酚黄(泛黄)变测试纸100X75mm706-720酚黄(泛黄)变测试纸100X30mm706-709酚黄(泛黄)变测试膜400X200mm 706-792James Heal酚黄 (泛黄) 变测试纸100X75mm 50/包 706-720ISO 105-X18 M&S C20B-TOadidas***酚黄(泛黄)变测试纸James Heal酚黄 (泛黄) 变控制布100X30mm 25片/包 706-709ISO 105-X18 M&S C20B-TOadidas***酚黄(泛黄)变控制布
  • 氧化硅薄膜窗-X射线用
    有需求请联系上海昭沅仪器设备有限公司! 021-35359028/29 氧化硅薄膜窗氧化硅薄膜窗RISUN推出新型二氧化硅薄膜窗系列产品。与氮化硅相比,氧化硅更易遭受化学侵蚀,且坚固性更差。但在X-射线显微镜中,由于没有N原子存在而倍受青睐。 氧化硅与氮化硅薄膜窗比较:相比氮化硅薄膜,氧化硅薄膜更适合用于含氮样本。在EDS研究中,如基片薄膜含氮,则会与样本造成混淆。 RISUN氧化硅薄膜窗特点许多研究纳米微粒,特别是含氮纳米微粒的人员发现此种薄膜窗格在他们实验中不可缺少。气凝胶和干凝胶的基本组成微粒尺寸极小,此项研究人员也同样会发现SPI氧化硅薄膜窗格的价值。 SEM应用中,薄膜背景不呈现任何结构和特点。 X射线显微镜中,装载多个分析样的唯一方法。 无氮 RISUN氧化硅薄膜窗规格 薄膜厚度窗口尺寸框架尺寸型号50nm1.5X1.5mm5.0X5.0mmRISUN100nm1.5X1.5mm5.0X5.0mm200nm1.5X1.5mm5.0X5.0mm硅片厚度:200um、381um、525um; 定制系列RISUN也可以根据用户需求定制不同膜厚的氧化硅窗口。本产品为一次性产品,不建议用户重复使用;本产品不能进行超声清洗,适合化学清洗、辉光放电和等离子体清洗。 应用简介实际上,RISUN氧化硅薄膜应用范围非常广,但所有应用都有无氮要求(因样本中有氮存在):1. 惰性基片可用于高温环境下,通过TEM、SEM或AFM(某些情况下)对反应进行动态观察。2. 作为耐用(如“强力”)基片,首先在TEM下,然后在SEM下对同一区域进行“匹配”。3. 作为耐用匹配基片,对AFM和TEM图像进行比较。4. 聚焦离子束(FIB)样本的装载。5.用作Ti、V、Mo等滤光器基质;用于X-射线光学设备中,如分光器定制服务:本公司接受特殊规格的产品预订,价格从优。详情请咨询:admin@instsun.com
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