原位加热气氛液态薄膜表征系统

TriboLab CMP 利用其前身产品 （Bruker CP-4） 超过 20 年的 CMP 领域专业知识，为业界领先的 TriboLab 平台带来了一套完整的功能。基于本套设备产生的高精度和高可重复性使得在整个 CMP 流程中能够进行高效的鉴别、检查和连续功能测试。TriboLab CMP 是市场上唯一能够提供广泛的抛光压力 （0.05-50 psi）、速度（1 至 500 rpm）、摩擦、声发射和表面温度测量的工艺开发工具，可准确、完整地描述 CMP 工艺和耗材。用于 CMP 的小型研发规模专业系统布鲁克的TriboLab CMP工艺和材料表征系统是专为晶圆抛光工艺而设计，是具有可靠、灵活和高效的台式设备。重现全尺寸晶圆抛光工艺条件，无需在生产设备上停机提供无与伦比的测量可重复性和细节检测允许在小样品上进行测试，比全晶圆测试节省大量成本板载诊断系统可以更好地了解抛光过程比市场上任何其他系统提供更多的瞬态抛光过程的参数从接触抛光盘开始直至整个测试过程都能收集数据通过更完整、更详细的数据实现早期流程开发决策具有灵活的样品类型、尺寸和安装配置抛光任何平面材料，几乎能使用任何修正盘，任何抛光液，和任何抛光垫轻松使用 100 mm 以下的小尺寸晶圆可同时安装多个样品，测试更灵活

闪烁体是一类吸收高能粒子或射线后能够发光（探测器灵敏波段）的材料，可分为有机和无机两大类，按其形态又可分为固体、液体和气体三种。 当闪烁体受到高能粒子或射线照射后能够发生能级跃迁，且产生的紫外可见光强度可被光电探测器探测到。当X射线与闪烁体作用时，一个X射线光子，可以产生多个光子，与紫外可见光不同，因为X射线的能量足以使物体电离，使电子脱离能级的束缚。能量越高的X射线光子，通过产生俄歇电子，康普顿散射等产生更多的电离电子（二次电子），二次电子热能化退至激发能级，通过荧光或磷光的方式发光。因此闪烁体对辐射具有能量分辨率。在医学上，闪烁体是核医学影像设备的核心部件，通过它可以快速诊断出人体各器官的病变大小和位置。闪烁体在行李安检、集装箱检查、大型工业设备无损探伤、石油测井、放射性探测、环境监测等领域也都发挥着不可替代的作用。闪烁体还是制造各类对撞机中电磁量能器的重要材料，它可捕捉核反应后产生的各种粒子的信息，是人类探索微观世界及宇宙演变的重要工具。稳态瞬态荧光-闪烁体综合性能表征系统可综合测试稳态瞬态光致发光以及X射线辐射发光。X射线辐射样品仓安装可控屏蔽快门，在辐射光源最大功率下关闭快门时，样品位置辐射剂量小于10uSv/h，辐射防护满足国标GBZ115-2023《低能射线装置放射防护标准》的要求。 该系统可根据用户需要搭建以下功能● 稳态荧光/瞬态荧光● 稳态X射线荧光/瞬态X射线荧光● X射线荧光成像● 显微荧光/显微荧光寿命成像● 温度相关光谱 X射线荧光成像瞬态X射线荧光寿命测试技术参数X射线荧光成像TYP 39分辨率卡的X射线图像。测试1mm厚的YAG(Ce)时，分辨率可以达到20pl/mm以上。

实验室型薄膜蒸发系统及分子蒸馏系统优莱博薄膜蒸发系统及分子蒸馏系统是针对于常规蒸馏效果不佳的分离浓缩应用特别设计推出的。因其成膜蒸发，高真空度 ，连续操作等特点，特别适用于热敏性物料，易起泡物料，高粘度物料等的蒸馏和浓缩操作。 工作原理薄膜蒸发在被加热的蒸发器圆筒形内表面，一个旋转的刮膜系统将原料刮成均匀的薄膜。刮膜系统能够使液膜形成良好的湍流效果，优化传热和传质过程，从而能大大地提高蒸发效率。 原料中的低沸点组分在短时间内从液膜中蒸发出来。 物料在蒸发器内的停留时间非常短。蒸发出轻组分气体在外置冷凝器中冷凝。重相的浓缩物由蒸发器底部持续排出。在薄膜蒸发器中，能够处理高粘度的物料以及易于结晶的物料。薄膜蒸发器内操作压力可以低至 1mbar。薄膜蒸发的优点 连续的蒸馏过程 物料停留时间短 高蒸发率 由于操作压力低，因而所需的加 热温度低 可以处理高沸点、高粘度物料 薄膜蒸发器可以连接带有一定理论塔板数的精馏柱 蒸发器内壁不易结垢短程蒸馏 短程蒸发器是将薄膜蒸发器和冷凝器集成在一体的设备。轻组分的蒸汽在短程蒸发器内置冷凝器上冷凝。 蒸发面和冷凝面之间的路径非常短，因此，气相的压力降非常低。短程蒸馏的优点 连续的蒸馏过程 高湍流、高蒸发率：被刮成的膜始终保持高湍流的状态，增加了质量和热量的传递 停留时间短：降低了产品的热应力 一步蒸馏：无需循环 在蒸发器内壁上形成很薄的液膜：无静液面高度的影响 无产品结焦：在加热的蒸发器上由于薄膜的高湍流，使产品不会滞留在蒸发器表面 可进行高粘度产品的蒸馏：提供te殊设计的刮膜系统 操作压力低：ji低的操作压力可降低物质的沸点，zui低可达 0.001mbar（0.1Pa） 装置设计非常紧凑不同蒸馏方法的对比表不同蒸馏方法的对普通蒸馏薄膜蒸发短程 / 分子蒸馏物料被加热的时间非常长 ( 按小时计 )非常短 ( 数十秒 )非常短 ( 数十秒 )真空度一般 ( 几个到几十 mbar)很高 (1mbar)非常高 (0.001mbar)所需要的蒸发温度高比较低非常低热敏性物料的分离不适宜适宜非常适宜对于易于起泡的物料分离不适宜非常适宜适宜是否能够连续化蒸馏不能能能高粘度样品的浓缩或分离不适宜非常适宜适宜溶剂脱除效率一般非常好 ( 外冷凝器面积不受限制）好 TF40 薄膜蒸发或 MD52 分子蒸馏系统蒸馏主体（2 选 1）TF40 薄膜蒸发器主体zui高耐温 350℃，刮膜转速 100-500rpm，蒸发面积 0.04 ㎡，蒸发能力 0.1-1.5L/h，冷凝面积 0.2 ㎡，zui大物料粘度 1000cp，接触物料材质为 3.3 高硼硅玻璃 &1.4571（316Ti）不锈钢MD52 分子蒸馏仪主体zui高耐温 350℃，刮膜转速 60-500rpm，蒸发面积 0.052 ㎡，蒸发能力 0.1-2L/h，冷凝面积 0.08 ㎡（分子蒸馏蒸气压低，效率高，无须太大冷凝面积），zui大物料粘度 5000cp，接触物料材质为 3.3 高硼硅玻璃 &1.4571（316Ti）不锈钢蒸发器加热模块（4 选 1）ITHERM-B1 循环水浴zui高温度 100℃，加热功率 1.5KW，稳定性 ±0.05℃DD-BC4 循环油浴zui高温度 200℃，加热功率 2KW，稳定性 ±0.01℃MS-BC4 循环油浴zui高温度 300℃，加热功率 2KW，稳定性 ±0.01℃MX-BC4 循环油浴zui高温度 300℃，加热功率 3KW，稳定性 ±0.01℃冷凝器冷却模块（2 选 1）CS3 冷却循环器-20 到 100℃，制冷功率 300W，带加热，流量 10L/minFL300 冷却循环器-20 到 40℃，制冷功率 300W，噪音更低，流量 15L/min真空模块（3 选 1）SXD.4 防腐蚀隔膜泵 + 真空计 + 真空调节阀系统zui低真空度可到 20mbar耐腐蚀，低噪音冷肼模块 +R-8D 旋片真空泵 + 真空计 + 真空调节阀系统zui低真空度可到 0.05mbar冷肼模块 +R-8D 旋片真空泵 + 油扩散泵 + 真空计 + 真空调节阀系统zui低真空度可到 0.001mbar进料模块（2 选 1）500ml 进料器，针型阀控制流量针型阀S型回路结构在确保连续蒸馏情况下的系统真空同时，可以实现随时加料1000ml 进料罐 + 高精密齿轮泵 + 单向进料阀连续进料套件-出料模块（2 选 1）三分出料器 +250ml 收集瓶 2 个 +4000ml 收集瓶 1 个在不放散真空的条件下可收集两个条件的清晰馏份重组分及轻组分高精密齿轮泵连续出料套件出料速度连续可调，出料精度 0.1Hz 的 产品应用领域油脂及食品 从食用油和鱼油中分离游离脂肪酸 从食用油和鱼油中脱除杀虫剂 甾醇的精制 浓缩单甘酯 浓缩鱼油酯中的 EPA 和 DHA 浓缩生育酚 浓缩胡萝卜素 干燥卵磷脂 从羊毛脂中脱除杀虫剂 羊毛脂颜色改进石化产品 从原油的减压渣油中分离微晶蜡 精制人工合成的以及石化产品的蜡 煤化工 费托合成蜡不同牌号蜡的切割聚合物 纯化和浓缩聚合物的单体 纯化和浓缩聚合物 脱除聚合物中的溶剂和单体化学、农化、医药产品 1, 4 丁二醇（BDO）精制 聚四氢呋喃醚（PTMEG）精制 多聚甲醛的精制 乳酸的纯化与精制 己内酰胺的提纯与蒸馏 浓缩和提纯二聚脂肪酸 从有机硅和有机硅树脂中脱除挥发组分 浓缩杀虫剂、除菌剂、除草剂 浓缩和提纯甘油 分馏和脱除天然蜡中的低沸点组分 异氰酸酯预聚体中游离的脱除（如 HDI,MDI） 脱除溶剂 除臭和去除农药残留 羊毛脂颜色改进 丙烯酸及丙烯酸酯的精制 医药中间体的蒸馏与精制 中药提取物有效成分的提纯 da麻二酚 (CBD) 的提纯香精和香料 提纯烟草提取物 烟用精油的提纯 脱除萜烯和浓缩精油 纯化香精香料中的芳香物质 浓缩柠檬香料 浓缩胡椒和辣椒提取物回收再循环 回收与精制废润滑油、刹车油、甘油和变压器油 回收和处理制药过程母液 回收有机中间体

苏州锂影科技有限公司薄膜气氛保护样品台产品信息薄膜气氛保护台可用于惰性气氛环境中，如手套箱内，将样品台放入气氛保护台，密封后，从手套箱取出，放到X射线衍射仪内进行测试，样品在运输和测试过程中不接触空气，不会受到水和氧气的影响。也可用于需气体氛围的原位X射线衍射测试过程中，得到依赖气体氛围变化随之变化的材料结构方面的信息等。适用于粉末、薄膜、片材等样品，反射模式或透射模式测试均适用。还可用于同步辐射等大科学装置等需要惰性气体保护的转运及测试过程中。薄膜气氛保护样品台置于X射线衍射仪中装有薄膜样品的薄膜气氛保护样品台 使用/未使用薄膜气氛保护样品台测试得到的XRD对比图苏州锂影科技有限公司为您提供高端衍射仪个性化定制服务联系电话：

优势特点1）样品处理开始后样品池中真空度可达到10-3 Pa；2）样品测量过程中各样品可同时或分别进行预处理、吸附、脱附探针分子；3）测量所需探针分子为酸性或碱性分子，高硼硅玻璃材质避免了各类气体的相互污染；4）真空处理系统由机械泵与玻璃四级扩散泵串联组成，可满足样品测试所需的高真空度的要求，具有抽速快、体积小、噪音低、操作简单、使用方便等特点；5）低真空部分主要是抽除系统中的高浓度气体或吸附的残余气体；6）各部分节门选用高硼硅玻璃节门，满足系统高真空的要求，透明性操作，便于调试；7）真空测量仪使用数显高精密真空计；8）本系统所配透过式石英红外吸收池，可对样品进行陪烧、流动氧化还原、抽空脱气、吸附反应等处理过程，可随时移入或移出到红外光谱仪的光路中进行实验，对样品的加热温度可达450度；9）波纹管更换方便。10）高真空系统和原位红外吸收池可按客户要求进行更改和定制。产品应用1 吸附态研究和催化剂红外光谱表征红外光谱已经广泛应用于催化剂表面性质的研究，其中有效和广泛应用的是研究吸附在催化剂表面的所谓“探针分子”的红外光谱，如：NO、CO、CO2、NH3、C3H5N等，红外光谱表征可以提供催化剂表面尤其是原位反应条件下催化剂表面存在的“活性中心”和表面吸附物种的信息，因此对于揭示催化反应机理十分重要。1.1 CO吸附态研究CO具有很高的红外消光系数，其未充满的空轨道很容易同过渡金属相互作用，同时许多重要的催化反应如羰基合成、水煤气合成、费托合成等均与CO密切相关，因此，研究CO在过渡金属表面的吸附态是一项十分广泛的研究课题。1.2催化剂表面组成测定合金催化剂表面组成与体相组成的差异会导致催化剂的性能显著不同，因此，测定催化剂的表面组成对理解反应的活性位相当重要。利用两种气体混合物在双组份过渡金属催化剂表面上的竞争吸附，并通过红外光谱测定其强度，可以方便地测定双金属负载催化剂的表面组成。典型的例子是CO和NO在Pt-Ru双金属催化剂上共吸附的红外光谱。1.3几何效应和电子效应研究在高分散金属催化剂中引入第二金属组元，由于金属间的几何效应和电子效应可显著改变催化剂的吸附性能从而改变催化活性。如在Pd-Ag/SiO2催化剂体系中，Ag对Pd起稀释作用，当Ag含量增加，成双存在的Pd浓度减少，因而桥式CO减少，线式CO增加，说明几何效应改变了CO在Pd-Ag/SiO2体系中的吸附性能，同时，随Ag含量的增加，CO吸附谱带红移加大，说明Pd-Ag之间存在电子效应。1.4吸附分子相互作用研究CO吸附在过渡金属表面时存在d-π反馈，nco同d-π反馈程度有有关，而d-π反馈程度与金属本身的d轨道情况有关，因此，通过CO吸附态的红外吸收光谱的化学位移，可以考察其它分子与CO共同吸附时导致的分子与金属组元之间的电子转移过程。如：当能够给出电子的Lewis碱与CO共吸附在Pt上时，根据d-π反馈原理，吸附在Pt上的CO伸缩振动向低波数位移，而当能够接受电子的受体与CO共吸附在Pt上时，根据d-π反馈原理，吸附在Pt上的CO伸缩振动向高波数位移。2 氧化物、分子筛催化剂的红外光谱表征2.1 固体表面酸性测定固体表面酸性位一般可看作是氧化物催化剂表面的活性位。在众多催化反应如催化裂化、异构化、聚合等反应中烃类分子与表面酸性位相互作用形成正碳离子，该正碳离子是反应的中间物种。正碳离子理论可以成功解释烃类在酸性表面上的反应，也对酸性位的存在提供了有力证明。为了表征固体酸催化剂的性质，需要测定表面酸性位的类型(Lewis酸，Bronsted酸)、强度和酸量。测定表面酸性的方法很多，如碱滴定法、碱性气体吸附法、热差法等，但这些方法都不能区分L酸和B酸部位。红外光谱法则广泛用来研究固体催化剂表面酸性，它可以有效区分L酸和B酸，在该方法中，常用碱性吸附质如氨、吡啶、三甲基胺、正丁胺等来表征酸性位，其中应用比较广泛的是吡啶和氨。2.2 氧化物表面羟基的研究氧化物尤其是大比表面的氧化物的表面结构羟基同许多催化反应如脱水反应、甲酸分解反应等有关，而表面结构羟基的性质又同表面酸性有密切的关系，多年来，人们对氧化物表面羟基进行了大量的研究，其中大部分研究着眼于氧化物表面羟基的结构、性质以及同酸性中心的关系，进而同催化剂的反应性能相关联。研究催化剂表面结构羟基的方法很多，但卓有成效的是红外光谱法。2.3 氧化物表面氧物种研究甲烷是烃类分子中结构简单、对称、化学惰性的分子，从基础研究角度认识以甲烷为代表的低碳烃类活化机理具有极大的学术意义。但是，甲烷分子很难吸附在催化剂表面上，因此很难直接观察到它在氧化物表面的活化过程。而氧化物表面（尤其碱性氧化物表面）的氧物种研究由于表面存在一层稳定的碳酸盐使得对其研究十分困难。鉴于上述原因，氧化物表面氧物种的研究一直没有取得重大进展。近年来采用了“化学捕集”技术、同位素交换技术和低温原位红外光谱方法相结合应用于上述研究取得了一些关于表面氧物种和甲烷活化的重要信息。3 原位红外光谱应用于反应机理研究长期以来人们研究了各种分子在催化剂表面的吸附态并获得了许多重要的信息，但是这些信息都是在反应没有发生时测得的。而反应条件下的吸附物种的类型、结构、性能与吸附条件下的吸附物种的类型、结构、性能有很大差别，因此，仅利用吸附条件下分别测得的吸附物种信息无法准确阐明反应机理，为此，进行反应条件下吸附物种的研究十分必要。而在反应条件下催化剂表面吸附的物种并未都参与反应，因此如何在多种吸附物种中识别出参与反应的“中间物种”是非常重要的课题。原位红外光谱可以测量催化剂在反应状态下吸附物种的动态行为，因此可以获得催化剂表面物种的动态信息，并可据此推断反应机理。详细介绍原位红外光谱表征高真空系统是用于测定催化剂表面组成、吸附、酸性、物种、表面羟基及反应机理的专用设备，包括高真空系统和原位红外吸收池两部分，可以配合Bruker布鲁克等主要红外光谱仪进行氨、吡啶、一氧化碳、一氧化氮、甲醇、乙醇等化合物的化学吸附测定及反应机理研究。催化剂表征对于了解催化剂结构和组成在预处理、诱导期和反应条件下以及再生过程中所发生的变化是至关重要的。催化反应机理的知识、特别是结构、动态学和沿催化反应途径中生成的反应中间物的能量学可为开发新催化剂和改良现有催化剂提供更深刻的认识。原位谱学观察又是阐明反应机理、分子与催化剂相互作用的动态学和中间物结构的有效技术。这些研究还可以提供有关催化剂和底物相互作用及有关活化势垒的热力学方面信息。反应机理和动力学的研究，特别是对催化反应中间物的原位观察，对发展催化科学是非常必要的。因为这样的研究结果提供了催化作用的全面知识，并有助于阐明催化剂结构和功能的关系。高真空系统由玻璃四级扩散泵、真空泵、精密真空表、电离规、集气瓶、球形安瓶、制备瓶、可伐、真空活塞等组成。该系统的高真空是通过一台优质低噪声的机械泵和一台玻璃四级扩散泵组成的机组而获得。原位红外吸收池由石英制成，分样品台和真空密封窗口两部分。样品台带有加热组件、热电偶、冷却系统和气体引入系统；真空密封窗口由冷却系统和CaF2窗片组成。该吸收池采用透射模式进行红外光谱表征，可对样品进行焙烧、流动氧化还原、抽空脱气、吸附反应等处理过程，可随时移入或移出到红外光谱仪的光路中，也可利用配备的延长管路进行原位表征实验。样品的加热采用程序升温方法控制温度，温度可达450℃。标准配置的吸收池窗口材料为CaF2，工作区间为4000—1000cm-1，也可按用户需要配置其他窗口材料。表1 红外窗口材料的性质材料使用范围cm-1反射损失*(1000cm-1)溶解度 g/100ml@20oC相对价格物理性质NaCl5000至6257.5%401.0溶于水,硬但易抛光和切割,潮解慢KBr5000至4008.5%701.2溶于水,较软但易抛光和切割,潮解慢,价格高,范围宽CsI5000至18011.5%807.8溶于水,软且易划伤,不能切割,潮解慢CaF25000至10005.5%难溶3.5难溶于水,耐酸碱,不潮解,忌用于铵盐溶液BaF25000至7507.5%不溶6.2类似于CaF2,对热和机械振动敏感SrF25000至8506%不溶5.1类似于CaF2,对热和机械振动敏感AgCl5000至45019.5%不溶6.6不溶于水但溶于酸和NH4Cl溶液,可延展,长期暴露于紫外光变暗,腐蚀金属及合金AgBr5000至28025%难溶难溶于水,软且易划伤,冷变形长期暴露于紫外光变暗KRS-55000至25028%0.19.1微溶水,溶于碱但不溶于酸, 软且易划伤,冷变形,剧毒Infrasil(SiO2)5000至2850NA不溶不溶于水,溶于HF溶液,微溶于碱难切割Poly-ethylene625至10NA不溶1.6不溶于水,耐溶剂,软易溶胀,难清洗,可压片*两个面上的反射损失, NA 不透明. 玻璃高真空系统部分组成及说明请参阅图1所示，本玻璃高真空实验测试系统，主要应用红外光谱催化剂原位表征、催化剂表面吸附物种和催化剂表征方面（探针分子的红外光谱）以及反应动态学方面的研究。该系统包括由机械真空泵A，真空波纹管B，可伐KF接头C，缓冲球D，组成一级真空泵，用于抽取低真空段，该部分真空可以抽取到1.0Pa；玻璃扩散泵E，用于提升真空度，提升真空度到10-2-10-3Pa，此为二级真空泵，液氮冷阱F，用于冷却系统中杂质气体，也有利于帮助提高真空度；真空规管G和精密真空表J，分别用于测量系统的高真空度及低真空度；玻璃球瓶H、I为储气瓶，用于储存备用纯化好的气体；玻璃管P为高真空部，为工作玻璃管，为该系统的核心部分；玻璃管Q为低真空部，用于连接测试样品池M，进气接口Ｌ，为工作管Ｐ服务，并实现高低真空的转换；玻璃制备瓶K，用于气体的纯化与制备；制备安瓶N，用于液体的纯化与制备；该系统全部采用玻璃真空阀门，更好的保证了气密性，02,03为三通玻璃真空阀门（详图2），01、04、05、06、07、08、09、10、11为二通玻璃真空阀门（详图3）。本实用新型中所采用的管路均为玻璃管路，所采用的阀门均为玻璃高真空阀门，真空阀门可以保证系统使用过程中不会产生漏气或缓慢渗漏的情形。图1-C中不锈钢管与玻璃管路采用可伐（Kovar）连接。

厂家正式授权代理商：岱美有限公司联系电话：，（贾先生）联系地址：北京市房山区启航国际3期5号楼801公司网址：ThetaMetrisis是一家私有公司，成立于2008年12月，位于希腊雅典，是NCSR' Demokritos' 的微电子研究所的第一家衍生公司。ThetaMetrisis的核心技术是白光反射光谱（WLRS），它可以在几埃到几毫米的超宽范围内，准确而同时地测量堆叠的薄膜和厚膜的厚度和折射率。 FR-Mic: 微米级薄膜表征-厚度，反射率，折射率及消光系数测量仪一、产品简介： FR-Mic 是一款快速、准确测量薄膜表征应用的模块化解决方案，要求的光斑尺寸小到几个微米，如微图案表面，粗糙表面及许多其他表面。它可以配备一台专用计算机控制的 XY 工作台，使其快速、方便和准确地描绘样品的厚度和光学特性图。o 实时光谱测量o 薄膜厚度，光学特性，非均匀性测量，厚度映射o 使用集成的， USB 连接高品质彩色摄像机（CCD）进行成像 二、应用领域 o 大学 & 科研院所o 半导体（氧化物、氮化物、硅、电阻等）o MEMS 元器件 (光刻胶、硅薄膜等)o LEDo 数据存储元件o 弯曲基材（衬底）上的硬/软涂层o 聚合物涂层、粘合剂等o 生物医学（ parylene—— 派瑞林,气泡壁厚,等等 )o 其他更多 … (如有需求，请与我们取得联系) 三、产品特点o 单点分析(无需预设值）o 动态快速测量o 包括光学参数(n和k，颜色)o 为演示保存视频o 600 多种的预存材料o 离线分析o 免费软件更新 四、技术参数 FR-Scanner 自动化超高速精准薄膜厚度测量仪 一、产品简介： FR-Scanner 是一种紧凑的台式工具，适用于自动测绘晶圆片上的涂层厚度。FR-Scanner 可以快速和准确测量薄膜特性:厚度，折射率，均匀性，颜色等。真空吸盘可应用于任何直径或其他形状的样片。 独特的光学模块可容纳所有光学部件:分光计、复合光源(寿命10000小时)、高精度反射探头。因此，在准确性、重现性和长期稳定性方面保证了优异的性能。FR-Scanner 通过高速旋转平台和光学探头直线移动扫描晶圆片(极坐标扫描)。通过这种方法，可以在很短的时间内记录具有高重复性的精确反射率数据，这使得FR-Scanner 成为测绘晶圆涂层或其他基片涂层的理想工具。测量 8” 样片 625 点数据60 秒 二、应用领域o 弯曲基材（衬底）上的硬/软涂层o 聚合物涂层、粘合剂等o 生物医学（ parylene—— 派瑞林,气泡壁厚,等等 )o 半导体生产制造：(光刻胶, 电介质,光子多层结构， poly-Si,Si, DLC )o 光伏产业o 液晶显示o 光学薄膜o 聚合物o 微机电系统和微光机电系统o 基底: 透明 (玻璃, 石英, 等等) 和半透明 三、产品特点o 单点分析(无需预设值）o 动态快速测量o 包括光学参数(n和k，颜色)o 为演示保存视频o 600 多种的预存材料o 离线分析o 免费软件更新 四、技术参数FR-Scanner: 自动化超高速薄膜厚度测量仪 FR-pOrtable:一款USB驱动的薄膜表征工具 一、产品简介： FR-pOrtable 是 一 款独 特 的 便 携 式 测 量 仪器 ， 可 对 透 明 和 半 透明 的 单 层 或 多 层 堆 叠薄 膜 进 行 精 确 的 无 损（非接触式）表征。使用 FR-pOrtable，用户可以在 380-1020nm 光谱范围内进行反射率和透射率测量及薄膜厚度测量。二、应用领域o 大学 & 科研院所o 半导体（氧化物、氮化物、硅、电阻等）o MEMS 元器件 (光刻胶、硅薄膜等)o LEDo 数据存储元件o 弯曲基材（衬底）上的硬/软涂层o 聚合物涂层、粘合剂等o 生物医学（ parylene—— 派瑞林,气泡壁厚,等等 )o 其他更多 … (如有需求，请与我们取得联系) 三、应用领域 FR-pOrtable的紧凑尺寸以及定制设计的反射探头以及宽带长寿命光源确保了高精度和可重复的便携式测量。 FR-Portable既可以安装在提供的载物台上，也可以轻松转换为手持式厚度测量工具。放置在待表征的样品上方即可进行测量。 FR-Portable是用于工业环境（如R2R、带式输送机等）中涂层实时表征的可靠而精确的测厚仪。四、产品特点o 一键分析 (无需初始化操作)o 动态测量o 测量光学参数(n & k, 颜色)，膜厚o 自动保存演示视频o 可测量 600 多种不同材料o 用于离线分析的多个设置o 免费软件更新服务 五、技术参数FR-pRo: 按需可灵活搭建的薄膜特性表征工具一、产品简介： FR-pRo 是一个模块化和可扩展平台的光学测量设备，用于表征厚度范围为1nm-1mm 的涂层.FR-pRo 是为客户量身定制的，并广泛应用于各种不同的应用 。 FR-pRo 可由用户按需选择装配模块，核心部件包括光源，光谱仪（适用于 200nm-2500nm 内的任何光谱系统）和控制单元，电子通讯模块此外，还有各种各种配件，比如:? 用于测量吸收率/透射率和化学浓度的薄膜/试管架,? 用于表征涂层特性的薄膜厚度工具,? 用于控制温度或液体环境下测量的加热装置或液体试剂盒,? 漫反射和全反射积分球通过不同模块组合，最终的配置可以满足任何终端用户的需求 二、应用领域o 弯曲基材（衬底）上的硬/软涂层o 聚合物涂层、粘合剂等o 生物医学（ parylene—— 派瑞林,气泡壁厚,等等 )O 半导体生产制造：(光刻胶, 电介质,光子多层结构， poly-Si,Si, DLC )o 光伏产业o 液晶显示o 光学薄膜o 聚合物o 微机电系统和微光机电系统o 基底: 透明 (玻璃, 石英, 等等) 和半透明 三、产品特点o 单点分析(无需预设值）o 动态快速测量o 包括光学参数(n和k，颜色)o 为演示保存视频o 600 多种的预存材料o 离线分析o 免费软件更新 四、技术参数

FR-pOrtable:一款精准&性价比高的薄膜表征设备 FR-pOrtable（便携式FR） 是一款独特设备，为精准测试单层或者 多层的透明和半透明的薄膜的光学特性提供了关键解决方案。使用 者可以在350nm-1000nm的特殊光谱范围内完成薄膜反射比的测试。 特征分析： FR-pOrtable是由一个微型3648像素16位分辨率的光谱仪和一个 高稳定的白炽灯和LED组成的混合光源组成的，光源的平均寿命 20000h。其紧凑型的设计和定制的反射探头保证了性能测试的高精准性以及可重复性。并且，既可以安装在台面上，又可以转化为手持式的厚度测试仪，轻松实现便携实时操作。性能分析：1、 USB接口供电，无需电源线。2、 真正的便携，用探头检测样品。3、 采用软塑料头，适合野外应用。4、 占地小，可以在办公室内表征薄膜特性。5、 市场最低价。软件：FR-Monitor软件系统提供了多种应用和多种功能的能力。它不但能够实时的监测吸光率，透射率和反射率光谱，而且也包含了用于精准测试独立的薄膜厚度（10nm到100μm）和光学常数（n&k）的白光反射光谱法（WLRS）运算（ThetaMetrisis TM），支持（在透明或者部分透明或者全反射的衬底上）多层薄膜（10层）的测试。不需要高深的光学知识，只要有基本的电脑技巧、一台电脑，轻松实现膜厚测量！用户评论暂无评论发评论问商家白光干涉测厚FR-pOrtable的工作原理介绍白光干涉测厚FR-p

ICCS 催化剂原位表征系统综合催化剂表征Micromeritics 催化剂原位表征系统（ICCS）给研究者提供一个先进的工具来研究在精确控制有代表性的工艺条件下反应结果与关键参数（如活性位点数量）的关系。ICCS 是一套独立的配件，可附加在微型反应器这类动态实验室设备上。为其增加两类动态化学吸附分析功能： 程序升温分析（TPx）和脉冲化学吸附。反应前可在新鲜催化剂上进行化学吸附分析。反应后，无需从反应管中取出样品即可对催化剂再次进行化学吸附分析。通过这种对同一个样品原位的分析，消除空气中气体及水分等对样品的污染，可详细对比使用前和使用后的催化剂活性位点的变化，可轻松获得程序升温分析和脉冲化学吸附数据，确保数据的完整性。 ICCS 包括：高精度、高灵敏度的热导检测仪（TCD）监测流经反应管气体浓度的变化内置 Peltier 冷阱控温准确可在 -20°C 至 65°C 内工作以去除可冷凝的液体（例如，在还原氧化物过程中产生的水）两个用于精确控制气体的质量流量控制器（通过反应器系统进行压力控制）交互式报告和控制系统，具有功能丰富且直观的图形用户界面，轻松进行实验设计和结果分析支持：在具有代表性的工艺条件下对样品进行安全、高效和全面的表征，最高压力可达 20 bar表征功能包括脉冲化学吸附、程序升温还原（TPR）、脱附（TPD）和氧化（TPO）以及物理吸附（可选）在反应前后以及再生后对同一催化剂样品进行多次表征，以研究反应、失活和再生机制

FR-uProbe是涂层表征应用的解决方案，要求光斑尺寸小至极小微米，例如微图案表面，具有不规则表面的样品，其表现出高水平的散射光和许多其它。使用FR-uProbe，在UV / Vis / NIR上的局部薄膜厚度，光学常数，反射率，透射率和吸光度测量只需点击即可。白光反射光谱（WLRS）测量在一定波长范围内从薄膜或多层叠堆反射的光量，入射光垂直于（垂直于）样品表面。通过来自界面的干涉产生的测量的反射光谱用于确定自支撑和支撑（在透明或部分/全反射基板上）薄膜堆叠的厚度，光学常数（n和k）等。应用o大学和研究实验室o半导体（氧化物，氮化物，硅，抗蚀剂等）o MEMS器件（光刻胶，硅膜等）o LEDo数据存储o阳极氧化o弯曲基板上的硬/软涂层o聚合物涂料，粘合剂等o生物医学（聚对二甲苯，气球壁厚等）特征o 单击分析（无需初始猜测）o 动态测量o 集成USB摄像头o 保存视频进行演示o 350+不相同的材料o 3年免费软件更新o 在Windows 7/8/10上运行

原位薄膜应力测量系统，又名原位薄膜应力计或原位薄膜应力仪！MOS美国技术（US 7,391,523 B1）！曾荣获2008 Innovation of the Year Awardee！ 采用非接触激光MOS技术；不但可以准确的对样品表面应力分布进行统计分析，而且还可以进行样品表面二维应力、曲率成像分析；客户可自行定义选择使用任意一个或者一组激光点进行测量；并且这种设计可以保证所有阵列的激光光点一直在同一频率运动或扫描，从而有效的避免了外界振动对测试结果的影响；同时提高测试分辨率；适合各种材质和厚度薄膜应力分析； 该设备已经广泛被各个学府（如：Harvard University 2套，Stanford University，Johns Hopkins University，Brown University 2套，Karlsruhe Research Center,Max Planck Institute，西安交通大学，中国计量科学院等）、半导体制和微电子造商（如IBM.，Seagate Research Center,Phillips Semiconductor,NEC，Nissan ARC,Nichia Glass Corporation）等所采用； 相关产品： 薄膜应力仪（薄膜应力测量仪）：为独立测量系统，同样采用先进的MOS技术，详细信息请与我们联系。设备名称：薄膜应力测量系统，薄膜应力测试仪，薄膜应力计，薄膜应力仪，Film Stress Tester, Film Stress Measurement System 主要特点： 1.自主专用技术：MOS 多光束传感器技术； 2.单Port(样品正上方)和双Port(对称窗口)系统设计； 3.适合MOCVD, MBE, Sputter，PLD、蒸収系统等各种真空薄膜沉积系统以及热处理设备等； 4.薄膜应力各向异性测试和分析功能； 5.生长速率和薄膜厚度测量；（选件） 6.光学常数n&k 测量；（选件） 7.多基片测量功能；（选件） 8.基片旋转追踪测量功能；（选件） 9.实时光学反馈控制技术，系统安装时可设置多个测试点； 10.专业设计免除了测量受真空系统振动影响；测试功能： 1. 实时原位薄膜应力测量 2.实时原位薄膜曲率测量 3.实时原位应力薄膜厚度曲线测量 4.实时原位薄膜生长全过程应力监控等 实时原位测量功能实例：曲率、曲率半径、薄膜应力、应力—薄膜厚度曲线、多层薄膜应力测量分析等；

闪烁体是一类吸收高能粒子或射线后能够发光（探测器灵敏波段）的材料，可分为有机和无机两大类，按其形态又可分为固体、液体和气体三种。 当闪烁体受到高能粒子或射线照射后能够发生能级跃迁，且产生的紫外可见光强度可被光电探测器探测到。当X射线与闪烁体作用时，一个X射线光子，可以产生多个光子，与紫外可见光不同，因为X射线的能量足以使物体电离，使电子脱离能级的束缚。能量越高的X射线光子，通过产生俄歇电子，康普顿散射等产生更多的电离电子（二次电子），二次电子热能化退至激发能级，通过荧光或磷光的方式发光。因此闪烁体对辐射具有能量分辨率。在医学上，闪烁体是核医学影像设备的核心部件，通过它可以快速诊断出人体各器官的病变大小和位置。闪烁体在行李安检、集装箱检查、大型工业设备无损探伤、石油测井、放射性探测、环境监测等领域也都发挥着不可替代的作用。闪烁体还是制造各类对撞机中电磁量能器的重要材料，它可捕捉核反应后产生的各种粒子的信息，是人类探索微观世界及宇宙演变的重要工具。稳态瞬态荧光-闪烁体综合性能表征系统可综合测试稳态瞬态光致发光以及X射线辐射发光。X射线辐射样品仓安装可控屏蔽快门，在辐射光源最大功率下关闭快门时，样品位置辐射剂量小于10uSv/h，辐射防护满足国标GBZ115-2023《低能射线装置放射防护标准》的要求。 该系统可根据用户需要搭建以下功能● 稳态荧光/瞬态荧光● 稳态X射线荧光/瞬态X射线荧光● X射线荧光成像● 显微荧光/显微荧光寿命成像● 温度相关光谱 X射线荧光成像瞬态X射线荧光寿命测试技术参数X射线荧光成像TYP 39分辨率卡的X射线图像。测试1mm厚的YAG(Ce)时，分辨率可以达到20pl/mm以上。

原位芯片是目前全球为数不多的有能力制造原位液体芯片的制造商。原位芯片目前可以提供用于透射电子显微镜的原位液体芯片TL-400，同步辐射及扫描电子显微镜的原位液体芯片:TBL500，此外，原位芯片也可根据实际实验条件及要求进行定制。 TEM原位液体芯片TL-400液体芯片可以实现高分辨原位TEM液体观测，分辨率可以达到1nm以上。液体芯片中间有40 x 40 x 0.1um的氮化硅薄膜观察窗口，芯片左右两侧各有一个液体滴加口和一个负压吸液口。 原位实验时首先在液体滴加口滴入待测液体，利用配套的负压装置，通过负压将待测液体吸入液体腔室中，再使用环氧树脂密封两个液体滴加窗口，待胶固化后即可进行原位液体观测。TL-400可应用于以下研究分析： • TEM、SEM和拉曼等设备的液体环境样品观测和分析；• 原位化学反应观测、晶体生长和腐蚀原位研究；• 观测研究液态环境中的活细菌和细胞等生物样品。 同步辐射/SEM原位液体芯片TBL-500液体芯片可以实现高分辨原位同步辐射和SEM液体（兼容扫描透射模式）观测。液体芯片中间有400 x 800 x 1um的大型耐真空氮化硅薄膜观察窗口，芯片左右两侧各有一个液体滴加口和一个负压吸液口。 原位实验时首先在液体滴加口滴入待测液体，利用配套的负压装置，通过负压将待测液体吸入液体腔室中，再使用环氧树脂密封两个液体滴加窗口，待胶固化后即可进行原位液体观测。TBL-500可用于： • 同步辐射、SEM和拉曼等设备的液体环境样品观测和分析；• 原位化学反应观测、晶体生长和腐蚀原位研究；• 观测研究液态环境中的活细菌和细胞等生物样品。

POSEIDON SELECTPoseidon Select将液体环境密封在电子束可穿透的两个膜之间，实现实时的材料和过程成像。 Introduction 简介Poseidon Select将独立的液体环境封装然后安装到电镜中，可实现各种各样的纳米尺度过程和环境的可视化。得益于其自对中部件和多种E-芯片配置，Poseidon Select以无与伦比的实验简洁性极大地拓展了电镜功能。Simple 简单Poseidon Select的关键特点是其自对中部件，保证了每一次E-芯片的完美对中，用户可在15分钟之内即可完成实验的组装。单个O型圈即形成了完整的密封，将液体安全地密封在两片E-芯片薄膜之间，而且对EDS能谱仪探测器不产生丝毫的探测角度阻挡，确保能谱的最大计数和任何样品元素分析的最佳性能。Expandable 可扩充Poseidon Select可以对大范围的液体中动态过程进行成像，适合研究的样品包括从电池材料和乳液到整个细胞和纳米颗粒。Poseidon系统在E-芯片中提供了嵌入式电极和加热单元，可提供低噪音电化学测试能力和液体加热至100°C，为原位实验打开了新大门。Dependable 可靠通过主要电镜厂家的严格测试和认证，Poseidon Select为用户提供透射电镜内的静态和动态液体控制。迄今为止，全世界的研究人员和科学家已经发表相关研究论文几百篇。基于Poseidon Select的易用性、通用性和优秀的性能表现，帮助用户大大加速了研究进度。 System Components 系统组成所有的Protochips原位样品杆都由基于流程的Clarity软件所驱动，可选用多种基于MEMS的E-芯片及其附件，最好地满足用户的研究需求。所有的组件得到主要电镜厂家的完全认证，满足电镜对原位系统安全性、兼容性和可靠性的严格要求。

碳纳米管和石墨烯性能表征系统随着纳米技术的不断发展，碳纳米管和石墨烯的性能越来越受到科研人员的关注。然而，对于碳纳米管和石墨烯性能表征一直是困扰碳纳米管和石墨烯技术研究和应用的主要障碍。目前，碳纳米管和石墨烯测量方法是光谱测量技术。相对其他测量方法，该技术主要有以下的优点： 1、较高灵敏度，即使碳纳米管和石墨烯的含量很低也能测量。2、较高测量精度，对碳纳米管的（n,m）分辨率很高3、对待测样品要求低，可直接分析含较多杂质的样品。4、测量设备相对简单，准备待测样品非常容易。 5、数据处理简单，测量结果无需考虑背景减除。对于碳纳米管和石墨烯的表征，虽然光谱测量技术有很大的优点，但是测量过程还是有些问题，如获取数据速度太慢，测量灵敏度不是很高，手工处理数据非常繁琐且容易出错等等。著名的碳纳米管专家美国莱斯大学的R. Bruce Weisman和Sergei M. Bachilo教授针对这些问题开发了碳纳米管专用的测量系统NS3，使得NS3系统成为碳纳米管和石墨烯专用测量系统，可对碳纳米管和石墨烯进行吸收、荧光和拉曼光谱测量。Nano Spectralyzer (NS3)系统NS3上的测量结果：碳纳米管的近红外发射光谱 应用领域：1. 测量碳纳米管（n,m）分布2. 监测碳纳米管和石墨烯品质的稳定性3. 测量化学反应和物理作用的动态过程主要特点：1. 高度集成化，体积小巧2. 操作简单，使用方便3. 仅需要很少的样品4. 高测量灵敏度和测量速度5. 简单的操作界面，全自动测量和数据分析6. 同时测量样品近红外波长的吸收和发射光谱7. 采用电制冷材料冷却近红外光谱探头，无需使用液氮主要技术指标：荧光光谱测量：可见区发射谱探测范围： 400-900nm近红外发射谱探测范围： 900-1600nm可选近红外发射谱探测范围： -2000nm吸收谱测量：紫外吸收谱探测范围： 210-450nm可见吸收谱探测范围： 400-900nm红外吸收谱探测范围： 900-1600nm可选红外发射谱探测范围： -2000nm 拉曼光谱测量：拉曼光谱探测范围： 150-3000cm-1激发光源波长： 532和/或671nm

Wildfire TEM 原位加热方案01 产品概况Wildfire 原位加热系统是为了探索材料在极端高温下的反应和状态变化的研究人员而设计的，其优越的稳定性超越了市场上大部分的同类产品，允许从室温加热到1300℃，并在所有的方向上保证优异的温度控制和样品稳定，确保了在高温下观察样品动态时，TEM能保持最高的分辨率和分析性能。同时，专利设计的芯片和独有的4点探针法，可通过快速反馈实现温度的局部测量，从而实现即时稳定和精确的温度控制。对于需要进行高温下三维重构研究的客户，我们也配备了α倾转角达到70°的样品杆，便于客户进行多方位的研究。02 产品特点 样品制备简单便捷1. 可简单快速地进行薄膜转移大面积范围内都保持平整，方便转移样品薄膜2. 滴加的样品颗粒都在视野中样品直接滴加到芯片上，可有效的降低毛细效应3. 最优质的 FIB 样品薄片使用我们专有的 FIB 样品台可轻松制备样品薄片，并直接在芯片上进行最终减薄，而不会影响加热性能。可靠的加热控制1. 准确的温度控制通过四探针法加热可以在所有的温度达到精准控制，温度稳定性偏差 ≤ 0.005°C。2. 全可视区域的超高温度均匀性温度均匀性偏差小于 0.5%。 3. 支持客户亲自验证其准确性和均匀性客户可通过使用 EELS 和 SAED 技术在透射电镜（TEM）中直接验证温度。高质量结果1. 高稳定性即使温度高达 1000 °C，漂移率也小于 200 nm，并且可以在最短的时间内稳定。2. 不受影响的 STEM/TEM 性能极小的 Z 方向位移（膨胀）有效保持了 TEM 的最佳分辨率，而不需要频繁移动样品台来达到同研发的目的。3. 优异的分析能力 微型加热器极大地降低红外辐射，可在高达 1000 °C 的温度下进行 EDS 分析。03. 案例分享下图是 Wildfire 原位样品杆在 1000℃ 下采集到的 PdAu 纳米颗粒的 mapping 图谱，得到了高质量的 EDS 信号，使得高温下的 EDS 分析成为可能。当前，许多科学家借助 Wildfire 原位样品杆在高影响因子的期刊上发表了高质量的文章，而利用原位透射电镜了解材料的形态和成分变化，也在科研领域越来越受欢迎了。04 应用领域05 原位实验技术简介透射电子显微镜（TEM）一直是观察微观世界的有力工具。尤其是球差矫正器的出现，科学家已经可以实现在原子尺度上对材料的化学结构进行表征成像。此外，TEM 的进步也带动了 CCD 相机的发展，这样，TEM 就同时具有优异的空间分辨率和时间分辨率，那么时间和空间的结合，是否可以让 TEM 动起来？众所皆知，TEM 需要在高真空条件下表征静止状态下的样品，但这不足以反映材料在真实环境下的微观结构。为此，荷兰 DENSsolutions 公司多位科学家利用最新的 MEMS 技术，设计出了独特的纳米芯片，据此可以向 TEM 中引入动态外界刺激条件，模拟样品在真实环境下的状态，打破压力的限制，记录样品的动态变化过程，让 TEM真正的实现动起来。荷兰 DENSsolutions 公司为透射电镜提供技术先进的、纳米尺度的原位显微工具，其产品可以为原位 TEM 样品施加外界刺激，捕捉 TEM 样品在真实环境下的动态现象。目前，已经可以在 TEM 中引入气、液、热、电等多种状态。欢迎随时联系我们获取更多产品方案和技术支持

实验室型薄膜蒸发系统及分子蒸馏系统优莱博薄膜蒸发系统及分子蒸馏系统是针对于常规蒸馏效果不佳的分离浓缩应用特别设计推出的。因其成膜蒸发，高真空度 ，连续操作等特点，特别适用于热敏性物料，易起泡物料，高粘度物料等的蒸馏和浓缩操作。 工作原理薄膜蒸发在被加热的蒸发器圆筒形内表面，一个旋转的刮膜系统将原料刮成均匀的薄膜。刮膜系统能够使液膜形成良好的湍流效果，优化传热和传质过程，从而能大大地提高蒸发效率。 原料中的低沸点组分在短时间内从液膜中蒸发出来。 物料在蒸发器内的停留时间非常短。蒸发出轻组分气体在外置冷凝器中冷凝。重相的浓缩物由蒸发器底部持续排出。在薄膜蒸发器中，能够处理高粘度的物料以及易于结晶的物料。薄膜蒸发器内操作压力可以低至 1mbar。薄膜蒸发的优点 连续的蒸馏过程 物料停留时间短 高蒸发率 由于操作压力低，因而所需的加 热温度低 可以处理高沸点、高粘度物料 薄膜蒸发器可以连接带有一定理论塔板数的精馏柱 蒸发器内壁不易结垢短程蒸馏 短程蒸发器是将薄膜蒸发器和冷凝器集成在一体的设备。轻组分的蒸汽在短程蒸发器内置冷凝器上冷凝。 蒸发面和冷凝面之间的路径非常短，因此，气相的压力降非常低。短程蒸馏的优点 连续的蒸馏过程 高湍流、高蒸发率：被刮成的膜始终保持高湍流的状态，增加了质量和热量的传递 停留时间短：降低了产品的热应力 一步蒸馏：无需循环 在蒸发器内壁上形成很薄的液膜：无静液面高度的影响 无产品结焦：在加热的蒸发器上由于薄膜的高湍流，使产品不会滞留在蒸发器表面 可进行高粘度产品的蒸馏：提供te殊设计的刮膜系统 操作压力低：ji低的操作压力可降低物质的沸点，zui低可达 0.001mbar（0.1Pa） 装置设计非常紧凑不同蒸馏方法的对比表不同蒸馏方法的对普通蒸馏薄膜蒸发短程 / 分子蒸馏物料被加热的时间非常长 ( 按小时计 )非常短 ( 数十秒 )非常短 ( 数十秒 )真空度一般 ( 几个到几十 mbar)很高 (1mbar)非常高 (0.001mbar)所需要的蒸发温度高比较低非常低热敏性物料的分离不适宜适宜非常适宜对于易于起泡的物料分离不适宜非常适宜适宜是否能够连续化蒸馏不能能能高粘度样品的浓缩或分离不适宜非常适宜适宜溶剂脱除效率一般非常好 ( 外冷凝器面积不受限制）好 TF40 薄膜蒸发或 MD52 分子蒸馏系统蒸馏主体（2 选 1）TF40 薄膜蒸发器主体zui高耐温 350℃，刮膜转速 100-500rpm，蒸发面积 0.04 ㎡，蒸发能力 0.1-1.5L/h，冷凝面积 0.2 ㎡，zui大物料粘度 1000cp，接触物料材质为 3.3 高硼硅玻璃 &1.4571（316Ti）不锈钢MD52 分子蒸馏仪主体zui高耐温 350℃，刮膜转速 60-500rpm，蒸发面积 0.052 ㎡，蒸发能力 0.1-2L/h，冷凝面积 0.08 ㎡（分子蒸馏蒸气压低，效率高，无须太大冷凝面积），zui大物料粘度 5000cp，接触物料材质为 3.3 高硼硅玻璃 &1.4571（316Ti）不锈钢蒸发器加热模块（4 选 1）ITHERM-B1 循环水浴zui高温度 100℃，加热功率 1.5KW，稳定性 ±0.05℃DD-BC4 循环油浴zui高温度 200℃，加热功率 2KW，稳定性 ±0.01℃MS-BC4 循环油浴zui高温度 300℃，加热功率 2KW，稳定性 ±0.01℃MX-BC4 循环油浴zui高温度 300℃，加热功率 3KW，稳定性 ±0.01℃冷凝器冷却模块（2 选 1）CS3 冷却循环器-20 到 100℃，制冷功率 300W，带加热，流量 10L/minFL300 冷却循环器-20 到 40℃，制冷功率 300W，噪音更低，流量 15L/min真空模块（3 选 1）SXD.4 防腐蚀隔膜泵 + 真空计 + 真空调节阀系统zui低真空度可到 20mbar耐腐蚀，低噪音冷肼模块 +R-8D 旋片真空泵 + 真空计 + 真空调节阀系统zui低真空度可到 0.05mbar冷肼模块 +R-8D 旋片真空泵 + 油扩散泵 + 真空计 + 真空调节阀系统zui低真空度可到 0.001mbar进料模块（2 选 1）500ml 进料器，针型阀控制流量针型阀S型回路结构在确保连续蒸馏情况下的系统真空同时，可以实现随时加料1000ml 进料罐 + 高精密齿轮泵 + 单向进料阀连续进料套件-出料模块（2 选 1）三分出料器 +250ml 收集瓶 2 个 +4000ml 收集瓶 1 个在不放散真空的条件下可收集两个条件的清晰馏份重组分及轻组分高精密齿轮泵连续出料套件出料速度连续可调，出料精度 0.1Hz 的 产品应用领域油脂及食品 从食用油和鱼油中分离游离脂肪酸 从食用油和鱼油中脱除杀虫剂 甾醇的精制 浓缩单甘酯 浓缩鱼油酯中的 EPA 和 DHA 浓缩生育酚 浓缩胡萝卜素 干燥卵磷脂 从羊毛脂中脱除杀虫剂 羊毛脂颜色改进石化产品 从原油的减压渣油中分离微晶蜡 精制人工合成的以及石化产品的蜡 煤化工 费托合成蜡不同牌号蜡的切割聚合物 纯化和浓缩聚合物的单体 纯化和浓缩聚合物 脱除聚合物中的溶剂和单体化学、农化、医药产品 1, 4 丁二醇（BDO）精制 聚四氢呋喃醚（PTMEG）精制 多聚甲醛的精制 乳酸的纯化与精制 己内酰胺的提纯与蒸馏 浓缩和提纯二聚脂肪酸 从有机硅和有机硅树脂中脱除挥发组分 浓缩杀虫剂、除菌剂、除草剂 浓缩和提纯甘油 分馏和脱除天然蜡中的低沸点组分 异氰酸酯预聚体中游离的脱除（如 HDI,MDI） 脱除溶剂 除臭和去除农药残留 羊毛脂颜色改进 丙烯酸及丙烯酸酯的精制 医药中间体的蒸馏与精制 中药提取物有效成分的提纯 da麻二酚 (CBD) 的提纯香精和香料 提纯烟草提取物 烟用精油的提纯 脱除萜烯和浓缩精油 纯化香精香料中的芳香物质 浓缩柠檬香料 浓缩胡椒和辣椒提取物回收再循环 回收与精制废润滑油、刹车油、甘油和变压器油 回收和处理制药过程母液 回收有机中间体

台式高精度薄膜制备与加工系统Moorfield Nanotechnology是英国材料科学领域高性能仪器研发公司，成立25年来专注于高质量的薄膜生长与加工技术，拥有雄厚的技术实力，推出的多种高性能设备受到科研与工业领域的广泛好评。Moorfield公司近十年来与曼彻斯特大学诺奖技术团队紧密合作，推出的台式高精度薄膜制备与加工系列产品由于其体积小巧、性能、易于操作更是受到很多科研单位的赞誉。Moorfield Nanotechnology推出的台式设备体积小巧，但性能已经可以和大型设备相媲美。这些设备已经进入了欧洲的实验室，诸如曼彻斯特大学、剑桥大学、帝国理工学院、诺森比亚大学、巴斯大学、埃克塞特大学、伦敦玛丽女王大学、哈德斯菲尔德大学、莱顿大学、亚森工业大学、西班牙光子科学研究所、英国物理实验室等著名单位都是Moorfield Nanotechnology的用户和长期合作者。诸多的用户与合作者让产品的性能和设计理念得到了高速发展，并迈入全球化的进程。如今Quantum Design中国子公司与Moorfield Nanotechnology正式合作，作为中国的代理和战略合作伙伴，将为中国用户提供高性能的设备与优质的服务。除了台式设备之外我们还提供多种大型设备和定制服务。全系列产品即将上线，敬请期待… … 台式高性能CVD石墨烯/碳纳米管快速制备系列—nanoCVD超快速高质量石墨烯生长设备，整个过程30分钟内搞定！CVD被公认为是石墨烯具有应用前景的制备手段。NanoCVD系列台式设备是专为制备高质量的石墨烯与碳纳米管而开发的高性能台式CVD系统。与曼彻斯特大学诺奖团队的长期合作使得该系列产品在制备石墨烯等碳基纳米材料方面具有雄厚的技术积累。该系列产品操作简便，生长条件控制，生长迅速、制备出的样品具有高质量、高可重复性，可清楚的观测到分数量子霍尔效应。尤其适合于需要快速得到高质量石墨烯或碳纳米管用于高端学术研究的团队。点击查阅详细信息台式高性能多功能PVD薄膜制备系列—nanoPVD可媲美大型PVD的台式高性能PVD系统 ，爆款热销中！基于多年大型薄膜制备系统的设计与研发所积累的丰富经验，Moorfield Nanotechnology推出了台式高性能多功能PVD薄膜制备系列产品。该系列产品是为高水平学术研究研发的小型物理气相沉积设备。该系列产品包含磁控溅射、金属/机物热蒸发系统。这些设备虽然体积小巧但是性能，能够快速实现高质量纳米薄膜、异质结的制备，通常在大型设备中才有的共溅射功能也可以在该系列产品上实现。便捷的操作、智能的控制、高效的制备效率让您的学术研究进入快车道。点击查阅详细信息台式超二维材料等离子软刻蚀系统—nanoETCH用于超刻蚀二维材料与样品表面处理的等离子体刻蚀系统，诺奖团队都在用！石墨烯等二维材料的微纳加工与刻蚀需要很高的精度，而目前成熟的传统半导体刻蚀系统在面对单层材料的高精度刻蚀需求时显得力不从心。为了解决目前维纳加工中常用的蚀系统功率较大、难以精细控制的问题，Moorfield Nanotechnology 推出了台式超二维材料等离子软刻蚀系统 - nanoETCH。该系统对输出功率的分辨率可到达毫瓦量，对二维材料可实现超的逐层刻蚀，也可实现对二维材料进行层内缺陷制造，此外还可对石墨基材等进行表面处理。点击查阅详细信息台式气氛\压力控制高温退火系统—ANNEAL从高真空到各种气氛都能控制的高端热处理系统Moorfield Nanotechnology专门为制备高质量的样品而推出的台式气氛\压力控制高温退火系统，该系统可以满足从高真空到各种气氛的退火需求。对气压和温度都能进行控制，该系统不仅仅是普通的退火系统更是二维材料、基片等进行可控热处理的重要保障。该系统颠覆了传统箱式、管式炉的粗放退火方式，开创了退火的新篇章。点击查阅详细信息多功能高磁控溅射喷金仪—nanoEM是一台喷金仪，但不仅仅是喷金仪！多功能高磁控溅射喷金仪—nanoEM是Moorfield Nanotechnology为SEM、TEM样品的表面导电处理以及普通样品的高质量电生长而设计的金属溅射系统。系统配备SEM样品托、TEM样品网、普通薄膜样品等多种专用样品台。虽然该系统主要为溅射金属而设计，但是该设备的性能已经达到了高质量薄膜样品的制备标准。通过选择不同的配置可以兼顾样品的表面导电处理、电制备与学术研究型薄膜样品的制备。因此nanoEM是一台不可多得的多功能高磁控溅射喷金仪。点击查阅详细信息部分单位及用户评价意大利比萨大学（nanoPVD S10A）Moorfield近在意大利比萨大学安装了另一台nanoPVD-S10A磁控溅射系统。在这里，它将被Giuseppe Barillaro副教授领导的团队用于为新型器件生长保护性和功能性涂层。该小组的研究应用包括纳米医学、生物传感、微电子学和光子学。诺森比亚大学（nanoPVD S10A，MiniLab）DR. GUILLAUME ZOPPI对Moorfield的评价：在诺森比亚大学，我们正在研究各种材料的应用，特别是光伏材料。作为不可或缺的部分，Moorfield近安装的用于磁控溅射和电子束蒸发的nanoPVD和MiniLab系统发挥了关键作用。Moorfield专家的专业建议确保了我们得到为合适的设备，我们对设备的质量和快速、高效的技术支持留下了深刻的印象。很高兴能和Moorfield的团队一起工作。巴斯大学（nanoPVD-T15A）DR. PETRA CAMERON对Moorfield的评价：我们的研究重点是电化学材料、能源材料和钙钛矿光伏材料。我们之前一直在寻找一个可靠且易于使用的台式蒸发设备。现在，我们新的Moorfield nanoPVD-T15A热蒸发系统可以高质量的沉积金属电和钙钛矿光伏材料的接触层。让我们喜欢的另一方面是，该系统是模块化的，可以很容易地升低温有机物蒸发模块。我们的nanoPVD-T15A已经迅速成为一个关键设备，现在每天都在使用。DR MATTHEW COLE（副教授）对Moorfield的评价：Moorfield的服务速度快如闪电。他们的产品支持是的，屈一指的。丹麦技术大学（MiniLab090手套箱集成系统）为了满足Tim Booth在二维材料和异质结的合成和应用研究，系统在MiniLab090的基础上集成了手套箱，允许在惰性气体环境下进行完整的设备操作。系统配置包括软刻蚀、热蒸发和磁控溅射。Tim Booth教授对Moorfield的评价：在DTU，我们近从Moorfield采购了一套手套箱集成系统，系统配置包括软蚀刻系统、热蒸发和磁控溅射功能，用于我们研究二维材料和异质结的合成和应用。该系统允许我们在高精度控制的低氧和水气条件下执行2D材料器件的大部分微加工步骤。Moorfield团队在设计和安装过程中至关重要并且非常专业，如果有任何疑问，他们总是可以立即提供技术支持。他们在提供2D材料技术支持方面有多年的经验，所以我们知道我们有了得力的助手。系统的高质量和设计方案让我们印象深刻，我们期待着在未来的许多年里与设备和Moorfield团队一起工作。强烈推荐!”MiniLab090手套箱集成系统，图中红色部分为集成系统的控制屏幕和主机部分。曼彻斯特大学（手套箱集成退火和刻蚀系统）DR. ROMAN GORBACHEV对Moorfield的评价：我的团队近与Moorfield合作，为我们的应用方向定制了一个集成手套箱的热退火和软蚀刻组合系统。它安装于新的National Graphene Institute (NGI)，现在被用于石墨烯和2D材料的研究。我们一直对Moorfield的专业技术和提高客户满意度的奉献印象深刻，这次也不例外！西班牙光子研究所（手套箱集成退火和刻蚀系统）位于西班牙巴塞罗那Castelldefels 的ICFO （光子科学研究所）是一个致力于光学领域科学和技术的研究中心。DR. STIJN GOOSSENS对Moorfield的评价：在ICFO，我们正在努力建立一个的新材料研究中心。近安装的Moorfield 手套箱集成热退火系统、电子束沉积系统，以及新的nanoETCH系统，起到了关键作用。我们对他们专业的销售建议、他们系统的质量和可靠性以及他们快速、有效的支持印象深刻。很高兴能和他们的团队一起工作！Evonetix公司（MiniLab 026 热蒸发系统）Evonetix公司致力于利用基因合成技术，促进合成生物学领域的快速发展。Evonetix的优势是基因合成的高保真性和并行性。DR. DAN BRATTON PH.D对Moorfield的评价：在Evonetix，我们正在开创一种可扩展和高保真基因合成的创新方法。我们想拥有一种将金属蒸发到各种基材上的设备，我们联系了Moorfield Nanotechnology公司，该公司根据我们的要求定制了一个Minilab 026蒸发系统。在整个过程中，Moorfield Nanotechnology团队非常友好且知识渊博，在安装前后都提供现场培训。在Evonetix, Minilab 026已经被证明是非常有用的设备。特别是，我们喜欢它的紧凑设计，它的易用性，以及它所带来的样品数量的增加。我们愿意向任何人推荐该设备和团队。Evonetix团队与新安装的MiniLab026热蒸发系统曼彻斯特城市大学（MiniLab 060）DR. JUSTYNA KULCZYK对Moorfield的评价：在MMU，我们近成立了曼彻斯特燃料电池创新中心，以开发利用可再生能源的创新技术方案。为此，我们采购了Moorfield MiniLab 060磁控溅射系统，该系统具有快速进样室、衬底偏压和等离子清洗、脉冲直流和射频电源以及共沉积功能。在系统设计过程中，Moorfield提供了非常宝贵的建议。我们对系统和软件的质量，以及他们团队的专业知识、沟通和技术支持都留下了深刻的印象。我们将推荐给任何现在或将来考虑使用PVD系统的人。曼彻斯特城市大学正在利用Moorfield Nanotechnology公司的MiniLab 060系统进行先进的燃料电池的研究

岩征短程蒸馏及薄膜蒸馏系统广泛适用于热敏性，易氧化化学工业品的蒸馏精制及工艺条件的各类评价；可代替常规降膜蒸发器，用于石化及化工产品的蒸馏、提纯、浓缩、脱色使用；可用于高沸点产品的蒸馏分离。岩征短程蒸馏及薄膜蒸馏系统系统可根据用户实验条件和科研方向定制设计为多级蒸馏系统，贴合最终用户的实际应用需求。右图为岩征交付给客户的一套短程蒸馏系统。岩征短程蒸馏及薄膜蒸馏系统适合蜡、渣油等常温下固态的物料的蒸馏，比传统蒸馏系统，实现更低真空度、更高工作温度、更广的冷凝范围、更紧凑、更经济。短程蒸馏及薄膜蒸馏系统特点：1、真空度高、蒸馏温度低。系统真空度：0.01Pa～10 Pa；2、传热系数大、蒸发效率高：于旋转的刮膜装置将物料在蒸发筒体内表面刮成均匀的薄膜，有效降低了热阻，在极高的真空度下，使得易蒸发物质非常容易从物料中蒸馏分离出来；由于筒体内表面与刮膜器之间的液膜处于剧烈的湍动状态，物料中的不同组份传递以及与加热夹套内的加热介质的热量传递都非常高效；此外，由于筒体内表面的高光洁度以及刮膜器的不停运动，使得加热面不容易结焦、结垢，也有助于增大总传热系数，提高蒸发效率。 3、受热时间短：进入短程蒸馏器的物料由分配盘均匀分布到垂直的加热面上，在重力和刮膜器的双重作用下沿长度有限的加热面呈螺旋下转，在蒸发器内的停留时间很短，一般为几秒～几十秒（平均停留时间与加热面长度、刮膜器的形式及物料的特性、膜厚等参数相关）。此外，短程蒸馏器的“无死体积”设计，避免了物料在分配盘、加热面和刮膜系统等部位堆积，减少了热敏性物质的热聚合和热分解。4、全程伴热：物料流经处全程伴热，适合蜡、渣油等常温下固态的物料的蒸馏。代替常规降膜蒸发器，用于石化及化工产品的蒸馏、提纯、浓缩、脱色使用；尤其适用于热敏性，易氧化化学工业品的蒸馏精制；也可用于高沸点产品的蒸馏分离。 应用领域：石化工业：氨化物、胺、喹啉衍生物、环氧树脂、树脂酸、异氰酸盐、异丁基酮、过氧化物、液晶、聚乙二醇、硅油、软化剂等；制药工业：氨基酸酯、高分子中间产品、维生素E、维它命等；油脂工业：二甘油酯，二聚脂肪酸，脂肪酸，脂肪酸衍生物，多甘油脂、酸，羊毛酯醇等；食品工业：单甘脂、月桂二酸、丙二醇脂、L-乳酸，鱼肝油、米糠油、小三麦胚芽油、桂皮油、玫瑰油等； 系统安全 岩征短程蒸馏及薄膜蒸馏系统均配有过压，超温，误操作保护等安全性设计，可以通过系统硬件，PLC，PC实现多层次，多方面的相互联动的安全保护措施，充分考虑了对科研人员/实验室的人身财产安全保护的设计理念。短程蒸馏及薄膜蒸馏系统主要技术参数 设备用途刮膜式分子蒸馏或薄膜蒸馏进料量0.1～60 L/h蒸发器内径50mm、100mm、150mm蒸发器壁面温度高达500℃或依客户要求蒸发面积0.03～0.3 m2适用分离产品油脂、油蜡等蒸发面温度一致性±1℃进料预处理选项净化、预加热进料温度高达150℃或依客户要求管路伴热温度全程伴热、高达150℃或依客户要求进料手动或半自动或全自动系统真空度1～0.01Pa或依客户要求刮刀真空密封磁流体密封 真空系统旋片泵+油扩散泵/旋片泵+分子泵出料手动或半自动或全自动进料/出料罐1～60L刮刀材料SS316、碳纤维、石墨或依客户要求刮刀转速0～500r/min或依客户要求蒸发器中间冷凝系统工作温度-20～150℃或依客户要求蒸发器材料SS316、玻璃或依客户要求电器控制触摸屏+PLC/PC+PLC安全硬件程序控制和软件双重对温度和压力实行过限保护，在出现泄漏、功能失控、以及用户预设的安全问题时自动关机

仪器简介：高级薄膜测定系统 NKD-8000系统综合了光学、电子学和高级分析软件，是目前测定多层薄膜和基片的折射率、吸收系数和厚度最精确、最易用的系统。NKD-8000系列产品具有全自动、可同时测定透过光谱和反射光谱，入射光角度从0° 到90° 连续改变。对分光光谱仪而言，这是一项前所未有的新功能，使得NKD-8000适用于最具挑战性的光学测量。对多层薄膜和基片的n、k和d的测定变得准确、快捷。技术参数：光谱范围 NKD-8000 350nm&mdash 1000nm ( 标准模式 ) NKD-8000v 280nm&mdash 1000nm ( 紫外增强型) NKD-8000r 800nm&mdash 1700nm ( 红 外 型 ) NKD-8000w 350nm&mdash 1700nm (宽光谱 型 ) NKD-8000e 350nm&mdash 2200nm (超宽光谱 型 ) 注：宽光谱型提供两个检测器，可以覆盖350nm到1000nm和800nm到1700nm或2200nm (仅适用nkd-8000e)，但二者不能同时用。 获得数据时间 2&mdash 10分钟，这取决于光谱范围和不同选件 数据分析时间 5秒&mdash 5分钟，取决于数据的复杂程度 光谱分辨率 1nm或2nm （可选） 光源 NKD-8000v 150W 氙弧灯 其他 高稳态100W石英钨卤灯 样品尺寸 10× 10mm到200× 250mm标准系统,100mm 直径样品的扫描台 层数 至多5层，两个未知参数 薄膜厚度范围 1nm到25um，取决于角度、偏振和波长 1nm 需要增加椭偏模块 基片 透明、半透明或半吸收或半导体 材料 电介质、高聚物、半导体和金属 精确度 对于半吸收薄膜 典型 最大 薄膜厚度 ＜1% ＜3% 折射率 ＜0.1% ＜1% 消光系数 ＜1% ＜3% 对于金属薄膜 薄膜厚度 ＜1% ＜3% 折射率 ＜1% ＜3% 消光系数 ＜1% ＜3% 重现性 透射率 ＜0.01% ＜0.1% 反射率 ＜0.01% ＜1% 折射系数 ＜0.01% ＜0.1% 入射光角度 30° 、50° 或70° （标准单元）或由客户指定的从 20° 到70° 连续可变（可变角版本）或3个位置角度 样品上的光斑尺寸 5mm(标准系统)，250um（选件） 电源 220V，50Hz，2A 或110V，60Hz，3A 外观尺寸 890× 540× 720mm 重量 105Kg 选件 多角度，可变角度，X-Y样品扫描台，多种标准尺寸品架。样品观测显微镜。手动或全软件控制的偏振选件（s-、p-或非偏振）。样品加热台。台式机或工业PC。主要特点：主要特点 ◆ 可测定波长范围从280nm到2300nm的透射和反射光谱 ◆ 在同一区域可同时测定T和R值 ◆ 可对折射率(n)，吸收系数(k) 和厚度(d)进行准确测定 ◆ 样品可在X-Y扫描台上进行扫描 ◆ 入射光角度可以是固定角度、多角度和从0° 到90° 的连续变化的角度 ◆ 可用s-、p-或非偏振光作为入射光对T和R进行测定 ◆ 可对透明基片进行测定且不需要对样品进行前处理 ◆ 内建的材料数据库 ◆ 密封的样品室 ◆ 可选择散射模式 ◆ 具有在线或离线分析功能 对T和R同时测定 KD-8000系统在同一个光斑处，同时对透过光谱和发射光谱进行测定，保证了两套数据具有直接的相关性。通过测定这些光谱，全自动的控制和分析软件系统可以从中得到n、k和d值。而且所有这些都源自同一次测定。不同散射模式的选择使得对宽广范围材料的分析成为可能，而且用户可以选择缺省模式或者高级分析模式。 功能强大的Pro-OptixTM控制和分析软件系统包括一个可编辑的数据库，它允许对材料进行预先定义，以提高分析速度。该软件的其他特点包括颜色的匹配和太阳光的计算以及金属薄膜的算法。样品可以是透明的、不透明的或者半吸收的而无需对它们特殊处理。 NKD-8000是唯一一款能全部提供上述功能的分光型光学薄膜分析系统，它为薄膜表征设立了一个标准。 可变的入射光角度 ①反射光检测 ②光束管 ③Y轴坐标 ④透射光检测器 ⑤Z轴坐标 ⑥X轴坐标 ⑦样品台 ⑧马达驱动的可变角度选择装置 NKD-8000系统提供可变的角度选择装置，它提供完全马达驱动的，可由PC机控制入射光的角度，入射角度从从0° 到90° 可自由选择。 通过使用分析软件中的集成工具就可实现对T和R的s-偏振光谱和p-偏振光谱进行独立分析或二者一起分析。 通过作为选件的X-Y扫描台可以对大尺寸样品进行扫描，样品在X、Y两个方向上的最大行程是100mm，同时保持入射光斑始终位于行程的中间。 在测定时有许多样品架备选，它们可以夹持不同类型尺寸的样品。全PC控制使这种方法对整个样品的数据收集和分析变得简单、准确和快捷。 多个角度 如果在应用中只需一些不连续的入射光角度，那么多角度选件可以提供一个满意的解决方案。从0° 到90° ，用户可自定义三个入射光角度。 附件 热台：可控制样品温度至150度，测定变温下的T和R，对测定光学涂层和基体的光谱位移十分有用。 显微镜/相机：对样品进行显微分析。 微光斑附件：将入射光斑聚焦至200微米，特别适合表征微小样品和局部区域。

安研仪器分子蒸馏仪AYAN-F250可选预加热功能薄膜过滤装置现货产品介绍：分子蒸馏是一种特殊的液--液分离技术，在高真空状态下，使蒸气分子的平均自由程大于蒸发表面与冷凝表面之间的距离，从而可利用料液中各组分蒸发速率的差异，对液体混合物进行分离应用领域：精细化工，如芳香油提纯.高聚物中间体的纯化.羊毛脂的提取等等医药领域：如提取天然维生素AE等.制取氨基酸及葡萄糖的衍生物等等食品行业：如精制鱼油.油脂脱酸.精制高碳醇.混合油脂的分离等等其他领域：石油行业，日用化学，环保领域等等 产品说明：短程分子蒸馏器是一个在1~0.001mbar真空压力下受热分离的技术过程，较低的挥发温度，非常适合热敏性、高沸点物。蒸发装置基本部件：加热夹套的圆柱型筒体（直径可选），转子和内置冷凝器（短程冷凝）；在转子上附有刮膜器和防飞溅装置，内置冷凝器位于蒸发器的中心（短程冷凝手记），转子在圆柱型筒体和冷凝器之间旋转。由外加热的垂直圆筒体、位于它的中心冷凝器及在蒸馏器和冷凝器之间旋转的刮膜器组成。蒸馏过程是：物料从蒸发器的顶部加入，经转子上的料液分布器将其连续均匀地分布在加热面上，随即刮膜器将料液刮成一层极薄、呈湍流状的液膜，并以螺旋状向下推进。在此过程中，从加热面上逸出的轻分子，经过短的路线和几乎未经碰撞就到内置冷凝器上冷凝成液，并沿冷凝器管流下，通过位于蒸发器底部的出料管排出；残液即重分子在加热区下的圆形通道中收集，再通过侧面的出料管中流出。

安研不锈钢薄膜蒸发器AYAN-B80S此价格为定金价，以实际报价为准产品介绍：薄膜蒸发是一整高效的液液分离方式，薄膜蒸发器主要由加热夹套、内部可旋转刮板、以及冷凝器和真空系统组成。在高真空状态下，料液由蒸发器上部进入，在重力和旋转刮板的作用下，沿蒸发器的内壁面形成下的旋的薄膜，利用物料间的沸点不同，馏出液由底部排入重组分接受器内，二次蒸汽则由上部排出经过冷凝器排入轻组分接受器内，从而完成整个分离过程。薄膜蒸发适用于高黏度、易结晶、易结垢、含悬浮物或兼有热敏性的料液的分离，广泛用于化工、医药、保健品，化妆品，香水等行业的产品预处理和精加工。产品特征：1.优质316和304不锈钢制成，稳定性高，仪器寿命长；2.短程蒸馏，物料停留时间短（几秒钟即可分离成功）；3.真空度高，蒸馏温度低，蒸馏效率高；4.可连续蒸馏，无需中断；5.多种型号可供选择，适合小试实验，中试生产或规模生产，6.可定制化服务，可提供一整套服务；7.即插即用，自动化蒸馏，操作简单； 产品参数：产品型号AYAN-B60SAYAN-B80SAYAN-B100SAYAN-B150SAYAN-B200SAYAN-B220S内径(mm)6080100150200220蒸发面积(㎡)0.060.10.150.250.350.5冷凝面积(㎡)0.10.150.250.450.550.65进料容积(L）122255(可定制)处理流量L/H0.1∽2.00.5∽4.00.5∽5.01.0∽8.01.5∽10.02.0∽15.0电机功率(W)120120120120120200z大转速(r/min)450450450450450450轻组分收集瓶(L）1L1L2L3L5L5L重组成收集瓶(L）1L1L2L3L5L5L冷井有有有有有有外置冷凝装置自选自选自选自选自选自选冷却装置有有有有有有真空度(pa)10Pa10Pa10Pa10Pa10Pa10Pa受热温度(°C)200200200200200200薄膜蒸发器的结构特点和使用燃烧、爆炸的条件及其控制　　我们知道，一般情况下，煤粉烟气的燃烧暴炸条件为燃烧物、氧气和温度（火源），因此就必须对其进行控制，才能保证含尘气体不发生燃烧和爆炸。1、控制燃烧物　　含尘气体的燃烧物一是可燃气体，另一个是固体燃烧物，可燃气体主要是一氧化碳，其在气体中的含量达到一定浓度就可能发生爆炸，一氧化碳主要来自通风系统的热源，因此，必须加强通风系统的管理，保证一氧化碳含量在安全范围内。　　控制固体可燃物包括控制进气口含尘浓度和避免收尘器内部煤粉堆积两个方面，避免煤粉堆积由收尘器特殊结构来保证，而气体的含尘浓度则由系统工艺决定，根据有关试验表明，煤粉的爆炸浓度工区是100-2000g/m3，因此，为保证薄膜蒸发器安全运行，z好控制在60g以下，但是随着粉磨技术的发展，薄膜蒸发器常被作为工艺设备选用，而且又都采用一级收尘，含尘气体由磨机经粗粉分离器直接进入薄膜蒸发器，含尘浓度一般都在300-700g/m3之间，这正处于爆炸的危险区域，因此，控制其它两个爆炸条件及保证检测、防爆系统的正常尤为重要。2、控制含氧量　　氧气是燃烧的三要素之一，试验表明，气体含氧量低于12时，就能避免燃烧发生。在煤磨系统中，常需要热气体对磨进行通风和烘干物料，煤粉磨常采用窑头冷却机热风，或窑尾废气作热源，若采用冷却机热风，气体中的含氧量基本上与空气相同，为21，这将增大煤粉烟气爆炸的可能，极不安全，因此，使用薄膜蒸发器的煤磨系统z好是采用窑尾废气作热源，含氧量可降至12以下。3、控制温度　　控制温度包括气体温度和消除火源，气体温度的控制由工艺布置和现场管理来保证。火源的产生对于袋式收尘器来说主要有滤袋静电，运动部件碰撞火花和系统窜入火星，薄膜蒸发器使用新研制的防静电滤袋可抑制滤袋产生静电，运动部件采用铝制品，可防止碰撞火花。

高温管式炉 产品介绍： 目前高温加热大都为管式炉或马弗炉，原理为加热丝或硅碳棒对炉体加热，加热与降温速度慢，效率低下，也无法实现温度的高精度测量，加热区域也存在不均匀的现象，华测仪器通过多年研究开发了一种可实现高精度，高反射率的抛物面与高质量的加热源相配置，在高速加热高速冷却时，具有良好的温度分布。可实现宽域均热区，高速加热、高速冷却，用石英管保护加热式样，无气氛污染。可在高真空，高出纯度气体中加热。设备可组成均热高速加热炉，温度斜率炉，阶段加热炉。 它提高了加热试验能力。同电阻炉和其他炉相比，红外线反射炉节省了升温时间和保持时间及自然冷却到室温所需时间，再试验中也可改写设定温度值。从各方面讲，都节省时间并提高实验速度。 同高频炉相比，不需特殊的安装条件及对加热试样的要求。同电阻炉一样安装简单，有冷却系统安全可靠。以提高试验人员的工作效率，实现温度控制操作！ 本试验炉具有：1000度、1200度、1400度各种型号。也可根据用户需求订制！ 反射镜是具有高精度曲率,采用5轴加工系统加工,以提高反射率。反射镜有两种类型，一种是椭圆形的，另一种是抛物线型的，它们适合各种材料的在温度制控的条件下的测试。 设备优势： 高速加热与冷却方式：高能量的红外灯和镀金反射方式允许高速加热到高温。同时炉体可配置水冷系统，增设气体冷却装置，可实现快速冷却。 温度高精度控制：过红外镀金聚焦炉和温度控制器的组合使用，可以控制样品的温度。此外，冷却速度和保持在温度下可提供高精度。 不同环境下的加热与冷却：加热/冷却可用真空、气氛环境、低温（高纯度惰性气体静态或流动），操作简单，使用石英玻璃制成。红外线可传送到加热/冷却室。 应用范围： 1. 电子材料 ◆半导体用硅化合化的PRA（加热后急速冷却） ◆热源薄膜形成 ◆激活离子注入后 ◆硅化物的形成 2. 陶瓷与无机材料 ◆陶瓷基板退火炉 ◆玻璃基板退火炉。 ◆陶瓷张力、挠曲试验退火炉。 3. 钢铁和金属材料 ◆薄钢板加热过程的数值模拟。 ◆炉焊接模拟 ◆高真空热处理（1000°C以下） ◆大气气体熔化过程 ◆压力下耐火钢和合金的热循环试验炉 4. 复合材料 ◆耐热性评价炉 ◆无机复合材料热循环试验炉 5. 其它 ◆高温拉伸压缩试验炉。 ◆分段分区控制炉 ◆温度梯度炉 ◆炉气分析 ◆超导陶瓷退火炉

气氛型可调高温加热装置产品介绍目前的高温炉基本均采用硅钼棒、硅碳棒作为加热体，升温速率慢、无法实现变温环境模拟，且不同气氛环境以共用。在研的“工业级与科研级特种红外高温炉”，具有快速升温、变温模拟、定制红外加热波段、红外反射涂层保温、气氛可调（一台设备同时实现大气/真空/惰性气体等）的优点。 气氛可调节近红外高温加热装置HCTD系列/HCHD系列可以进行太阳能电池/化合物半导体等的工艺开发和各种应用程序的安装。此系列是将红外线反射炉和温度控制器组合，并且还将石英的热处理室紧凑地装备起来的高速加热冷却装置。也可以根据用户的需进行定制。 更多应用太阳能电池基板的热处理在气氛环境下的热处理各种材料的基础研究气氛退火热处理模拟器渐变热处理热循环热冲击试验研究半导体材料的烧结和工艺退火炉特点设定从高速加热到低速加热的广泛条件多步骤及循环加热利用气体冷却机构的高速气体淬火可以简单地从电脑上输入温度程序设定和外部信号另外，可以在电脑上显示加蒸中的温度数据

气氛型可调高温加热装置产品介绍目前的高温炉基本均采用硅钼棒、硅碳棒作为加热体，升温速率慢、无法实现变温环境模拟，且不同气氛环境以共用。在研的“工业级与科研级特种红外高温炉”，具有快速升温、变温模拟、定制红外加热波段、红外反射涂层保温、气氛可调（一台设备同时实现大气/真空/惰性气体等）的优点。 气氛可调节近红外高温加热装置HCTD系列/HCHD系列可以进行太阳能电池/化合物半导体等的工艺开发和各种应用程序的安装。此系列是将红外线反射炉和温度控制器组合，并且还将石英的热处理室紧凑地装备起来的高速加热冷却装置。也可以根据用户的需进行定制。更多应用太阳能电池基板的热处理在气氛环境下的热处理各种材料的基础研究气氛退火热处理模拟器渐变热处理热循环热冲击试验研究半导体材料的烧结和工艺退火炉特点设定从高速加热到低速加热的广泛条件多步骤及循环加热利用气体冷却机构的高速气体淬火可以简单地从电脑上输入温度程序设定和外部信号另外，可以在电脑上显示加蒸中的温度数据

气氛型可调高温加热装置产品介绍目前的高温炉基本均采用硅钼棒、硅碳棒作为加热体，升温速率慢、无法实现变温环境模拟，且不同气氛环境以共用。在研的“工业级与科研级特种红外高温炉”，具有快速升温、变温模拟、定制红外加热波段、红外反射涂层保温、气氛可调（一台设备同时实现大气/真空/惰性气体等）的优点。 气氛可调节近红外高温加热装置HCTD系列/HCHD系列可以进行太阳能电池/化合物半导体等的工艺开发和各种应用程序的安装。此系列是将红外线反射炉和温度控制器组合，并且还将石英的热处理室紧凑地装备起来的高速加热冷却装置。也可以根据用户的需进行定制。更多应用太阳能电池基板的热处理在气氛环境下的热处理各种材料的基础研究气氛退火热处理模拟器渐变热处理热循环热冲击试验研究半导体材料的烧结和工艺退火炉特点设定从高速加热到低速加热的广泛条件多步骤及循环加热利用气体冷却机构的高速气体淬火可以简单地从电脑上输入温度程序设定和外部信号另外，可以在电脑上显示加蒸中的温度数据

FLAS,film depth dependent light absorption spectra, 原位薄膜断层光谱仪原位薄膜断层光谱仪功能原理和参数：⚫ 吸收光谱与物质分子结构、晶态结构和电子能级相关。因此可根据断层光谱模拟出薄膜中组分分布、能级分布、激子分布、电荷分布， 从而揭示薄膜中光学作用和电荷输运的机制。 ⚫ 薄膜垂直方向的空间分辨率可达 1nm，波长分辨率 0.4 nm。紫外可 见波长范围：190-1100nm。傅里叶变换红外：4000 cm-1 - 600 cm-1。 ⚫ 搭配不同附件，可原位获得薄膜断层透射光谱、吸收光谱、反射光 谱、荧光光谱、红外光谱、拉曼光谱等。 ⚫ 提供断层分析软件（自主软件著作权）,包括：a. 太阳能电池模拟软 件，利用断层光谱和光学干涉原理计算激子的空间和波长分布特 性、光伏器件中的光强、光衰减特性。b．有机薄膜晶体管模拟软件， 利用断层光谱特性计算电荷传输能级的断层分布特性，可计算出晶 体管内部电荷分布、电压分布、电流分布等。部分文章：⚫ Chengliang He, Youwen Pan, Baohua Wu, Xinxin Xia, Zeng Chen, Haiming Zhu, Chang-Qi Ma, Xinhui Lu, Wei Ma, Guanghao Lu, Lijian Zuo*, Hongzheng Chen*., Advanced Materials, 2022, 202203379.⚫ Shitong Li, Qiang Fu, Lingxian Meng, Xiangjian Wan, Liming Ding, Guanyu Lu, Guanghao Lu, Zhaoyang Yao, Chenxi Li, Yongsheng Chen*. Angewandte Chemie International Edition, 2022, 202207397. ⚫ Huiting Fu, Zhengxing Peng, Qunping Fan, Francis R. Lin, Feng Qi, Yixin Ran, Ziang Wu, Baobing Fan, Kui Jiang, Han Young Woo, Guanghao Lu, Harald Ade, Alex K.-Y. Jen*. Advanced Materials, 2022, 202202608. ⚫ Yanan Wei, Zhihao Chen, Guanyu Lu, Na Yu, Congqi Li, Jinhua Gao, Xiaobin Gu, Xiaotao Hao, Guanghao Lu, Zheng Tang, Jianqi Zhang, Zhixiang Wei, Xin Zhang, Hui Huang*. Advanced Materials, 2022, 202204718. ⚫ Jingwei Xue, Heng Zhao, Baojun Lin, Yilin Wang, Qinglian Zhu, Guanyu Lu, Baohua Wu, Zhaozhao Bi, Xiaobo Zhou, Chao Zhao, Guanghao Lu, Ke Zhou*, Wei Ma*. Advanced Materials, 2022, 202202659. ⚫ Jing-Yuan Fan, Zhi-Xi Liu*, Jack Rao, Kangrong Yan, Zeng Chen, Yixin Ran, Buyi Yan, Jizhong Yao, Guanghao Lu, Haiming Zhu, Chang-Zhi Li*, Hongzheng Chen. Advanced Materials, 2022. 2110569. ⚫ Yunhao Cai, Qian Li, Guanyu Lu, Hwa Sook Ryu, Yun Li, Hui Jin, Zhihao Chen, Zheng Tang, Guanghao Lu*, Xiaotao Hao, Han Young Woo, Chunfeng Zhang*, Yanming Sun*. Nature Communications, 2022 13, 2369.

MagnebotiX磁控微纳操纵/表征系统 产品介绍MagnebotiX磁控微纳操纵/表征系统是基于磁场控制的微纳操作系统，通过五自由度磁场发生器，结合 磁控算法及软件，可实现对磁性操控介质（如微小磁珠、磁 性无缆探针）运动轨迹和力学控制，在显微医学、纳米技术 基础和应用研究领域有着广泛应用。产品特性●　可实现5自由度的磁场控制●　可在微米到毫米级大小范围的物体上同时施加力和力矩●　超大球形工作空间，直径可达130毫米●　可与主流显微镜品牌和型号高度兼容应用案例生物力学 可实现在单细胞水平进行多种非接触操作方案。 巨噬细胞开始与磁性靶体相互作用 用磁珠探测微小组织医学微操作 采用 OctoMag型磁控系统可以操纵磁性微探针，对小动物进行体内微创靶向给药。 磁性操纵微型机器人 靶向给药 微纳机器人研究 用于各种磁控微机器人 操作及其控制方案的研 究和二次开发。 磁共振微型机器人 螺旋形微型机器 磁控微机器人进行微装配操作软件控制界面l 开环控制模式（遥杆控制）l 闭环控制模式l 自动化操控l 软件二次开发工具包l 实时显微成像显示 规格参数产品型号MFG-100系统OctoMag系统工作空间直径10mm130mm磁场强度≦40mT50mT磁场梯度2T/m2T/m磁场频率2000Hz at 2mT10Hz外形尺寸250x275x110mm560x560x550mm系统重量4.5Kg40Kg

POSEIDON SELECTPoseidon Select将液体环境密封在电子束可穿透的两个膜之间，实现实时的材料和过程成像。 Introduction 简介Poseidon Select将独立的液体环境封装然后安装到电镜中，可实现各种各样的纳米尺度过程和环境的可视化。得益于其自对中部件和多种E-芯片配置，Poseidon Select以无与伦比的实验简洁性极大地拓展了电镜功能。Simple 简单Poseidon Select的关键特点是其自对中部件，保证了每一次E-芯片的完美对中，用户可在15分钟之内即可完成实验的组装。单个O型圈即形成了完整的密封，将液体安全地密封在两片E-芯片薄膜之间，而且对EDS能谱仪探测器不产生丝毫的探测角度阻挡，确保能谱的最大化计数和任何样品元素分析的至佳性能。Expandable 可扩充Poseidon Select可以对大范围的液体中动态过程进行成像，适合研究的样品包括从电池材料和乳液到整个细胞和纳米颗粒。Poseidon系统在E-芯片中提供了嵌入式电极和加热单元，可提供低噪音电化学测试能力和液体加热至100°C，为原位实验打开了新大门。Dependable 可靠通过主要电镜厂家的严格测试和认证，Poseidon Select为用户提供透射电镜内的静态和动态液体控制。迄今为止，全世界的研究人员和科学家已经发表相关研究论文几百篇。基于Poseidon Select的易用性、通用性和高性能表现，帮助用户大大加速了研究进度。 System Components 系统组成所有的Protochips原位样品杆都由基于流程的Clarity软件所驱动，可选用多种基于MEMS的E-芯片及其附件，更好地满足用户的研究需求。所有的组件得到主要电镜厂家的完全认证，满足电镜对原位系统安全性、兼容性和可靠性的严格要求。

Stream TEM 原位液相加热/加电方案01 产品概况Stream TEM 原位液相加热/加电方案为材料科学、化学和生物学中各类研究提供了全新的观察视野。其独特设计的Nano-Cell 芯片使其对样品加热或加电时可独立控制流速和液体厚度。而之后集合组装的液体供应系统 (LSS) ，引入了精准控制和可重复使用的惰性气体吹扫能力。通过吹扫，可以迅速去除样品中多余的液体。从而实现高分辨成像、有价值的元素分析和电子衍射。并且LSS提供了独特的能力，主动测量液体流量，能够比较不同的实验结果。此外，这意味着可以很容易地发现系统中潜在的堵塞，并迅速采取行动，能够高效和有效地利用TEM机时。这些独特的设计为原位液相实验的原子级分辨像和高质量的EDS、EELS结果带来了新的可能性。02 产品特点实验成功率高1. 确保样品-液体相互作用精心设计的微流体通道始终确保样品和液体相互作用。2. 消除不需要的气泡气泡可以从成像区域冲走或溶解，从而更好地控制实验条件。3. 引入新鲜液体成像区域中的液体流量科控，使其能够保持恒定和定向的流量，从而实现连续的新鲜液体供应。4. 使用便捷集成的液体供应系统 (LSS) 大大简化了系统的操作步骤，具备高度用户友好性。可靠的环境刺激控制1. 液体吹扫和厚度控制通过最小化液体厚度控制或通过吹扫 Nano Cell 芯片来实现高分辨成像、高精度元素分析和电子衍射。2.液体流量测量 通过流量控制可以实现对液相实验动态情况的完全掌握。3. 大量运输控制探索液体动力学对样品形态和电化学变化的影响。清洁实验1. 避免交叉污染样品杆的模块化设计使用户可以便捷地清洁或更换每一个组件。2. 避免堵塞在您的实验过程中轻松清洁管道，无需从透射电镜上取下样品杆。03. 案例分享先进的 Stream 原位样品杆可以确保样品与液体之间的相互作用，甚至于可以将气泡从成像区域冲走或者溶解，从而更好地控制实验条件，如图中所展示，在0.28 秒的极短时间内，液体填充整个观察区域，并去除观察区域内的气泡。基于压力的液体泵通过加压入口和出口的独立设置，可精确控制液体流量和压力。通过改变压力，可以控制液体厚度，这样就可以得到高分辨成像和高质量的 EDS 结果。04 应用领域05 原位实验技术简介透射电子显微镜（TEM）一直是观察微观世界的有力工具。尤其是球差矫正器的出现，科学家已经可以实现在原子尺度上对材料的化学结构进行表征成像。此外，TEM 的进步也带动了 CCD 相机的发展，这样，TEM 就同时具有优异的空间分辨率和时间分辨率，那么时间和空间的结合，是否可以让 TEM 动起来？众所皆知，TEM 需要在高真空条件下表征静止状态下的样品，但这不足以反映材料在真实环境下的微观结构。为此，荷兰 DENSsolutions 公司多位科学家利用最新的 MEMS 技术，设计出了独特的纳米芯片，据此可以向 TEM 中引入动态外界刺激条件，模拟样品在真实环境下的状态，打破压力的限制，记录样品的动态变化过程，让 TEM真正的实现动起来。荷兰 DENSsolutions 公司为透射电镜提供技术先进的、纳米尺度的原位显微工具，其产品可以为原位 TEM 样品施加外界刺激，捕捉 TEM 样品在真实环境下的动态现象。目前，已经可以在 TEM 中引入气、液、热、电等多种状态。欢迎随时联系我们获取更多产品方案和技术支持

高分子薄膜原位双向拉伸试验机进行静态拉伸测试,将方形膜片通过软化温度保温和拉伸倍率的设定可以进行横向纵向同步或异步拉伸延展呈现。该设备用于高端薄膜领域的新产品研发、实验室对于新材料薄膜成型的物理性能和化学性能测试分析.高分子薄膜原位双向拉伸试验机可实现水平方向上的，前后左右同步拉伸，也可以实现Z轴垂直方向上的加载方式，该机配备了光点编码器可精密测量X向Y向Z向的位移。同时增加了耐腐蚀水槽和CCD电子显微镜可动态的观查试验过程种整个试样的变化情况。手动控制双轴原位拉伸试验机设备框架采用铝合金结构组成具有刚性好，测试精度高等有点。高分子薄膜原位双向拉伸试验机主要用于塑料薄膜、金属薄板、高分子材料各项物理力学性能分析。该机具备测位移功能。设备框架是有铝合金组成刚性好，测试精度高等有点。高分子薄膜原位双向拉伸试验机技术参数：1.规格：HY(SZ)-01102.精度等级：1级3.额定负荷：100N4.位移精度：1级5.位移分辨率：0.01mm6.X轴位移测量范围：0-----100mm7.Y轴位移测量范围：0-----100mm8.Z轴位移测量范围：0-----100mm9.夾持有效试验宽度：20mm10.夹持有效试验厚度：0-1mm11.试验速度：手动无极调速12. 透明水槽一套13. 200倍CCD电子显微镜一套14.主机尺寸：长800mm*宽800mm*高800mm15.主机重量约：50Kg注：包括耐腐蚀溶液槽，试样垂向加载装置