超高分辨热场发射扫描显微镜

Apero 2-超高分辨场发射扫描电镜【产品描述】Thermo Scientific Apreo 2 SEM高性能场发射扫描电镜搭载独特的实时元素成像功能和先进的自动光学系统，实现灰色区域解析，让您不再忧心显微镜性能，更加专注于研究本身。 Thermo Scientific Apreo 2 SEM具有多功能性和高质量成像性能，即使是磁性样品或是传统意义上成像非常困难的样品也可以实现极佳成像性能。全新Apreo 2 SEM在原有性能基础之上，进一步优化了超高分辨成像能力，并且增设许多新功能提升其高级功能的易用性。Apreo 2 SEM在耐用的SEM平台上引入了SmartAlign（智能对中）技术，不再需要用户手动进行调整操作，而且，FLASH（闪调）自动执行精细调节工作，只需移动鼠标几次，就可以完成必要的透镜居中、消像散和聚焦校正。此外，Apreo 2 SEM是唯一在10 mm分析工作距离下具有1 nm分辨率的SEM，长工作距离不再意味着低分辨成像，有了Apreo 2 SEM，任何用户都可以自信地得到很好的成像效果。 【特点与应用】 全面解析全面的纳米和亚纳米分辨率性能，适用于纳米颗粒、粉末、催化剂、纳米器件、大块磁性样品等材料； 极佳的灵活性非常灵活的处理范围，样品类型广泛，包括绝缘体、敏感材料和磁性样品，收集最重要的数据； SmartAlign技术使用SmartAlign（智能对中）技术，实现光学系统自动调整，减少维护时间； 先进的自动化先进的自动化用于自动图像微调、撤销、用户向导、Maps成像拼接的FLASH（闪调）技术； 实时定量EDS元素信息触手可及，利用ColorSEM技术，提供实时元素面分布成像定量分析，结果获取更加快速、简便； 长工作距离唯一在长工作距离（10 mm）具有高分辨率的性能(1 nm)和优秀的图像质量的SEM产品参数发射源：高稳定型肖特基场发射电子枪分辨率：型号Apero 2 CApero 2 S末级透镜静电复合高真空15kV0.9nm0.5nm1kV1.0nm0.8nm500V1.2nm0.8nm加速电压范围：200 V ~ 30 kV 着陆电压范围：200 eV ~ 30 keV探针电流范围：1 pA ~ 50 nA，连续可调（可选配400 nA）最大水平视场宽度：10 mm WD时为3 mm（相当于最低放大倍率29倍）X-Ray工作距离：10 mm，EDS检出角35°样品室：从左至右为 340 mm 宽的大存储空间，样品室可拓展接口数量12个，含能谱仪接口3 个（其中2个处于180° 对角位置）样品台：五轴优中心全自动马达驱动X=110 mm,Y=110 mm,Z=65 mm,T=-15o~90o,R=360o （连续旋转）多用途SEM样品安装载物台，可同时放置 18 个标准样品座（φ12 mm）最大样品尺寸，直径122 mm，可沿X、Y轴完全旋转时最大样品高度，到优中心点间隔为85 mm最大样品承重 5 kg探测器系统：样品室二次电子探测器ETD镜筒内背散射电子探测器T1镜筒内二次电子探测器T2镜筒内二次电子探测器T3（选配）样品室内IR-CCD红外相机（观察样品台高度）图像导航彩色光学相机Nav-Cam+&trade 样品室低真空二次电子探测器（选配）可伸缩透镜下背散射探测器（选配）控制系统：操作系统：Windows 10图像显示：24寸LCD显示器，最高显示分辨率1920×1200支持用户自定义的GUI，可同时实时显示四幅图像软件支持Undo和Redo功能

SEM5000X是一款超高分辨率场发射扫描电子显微镜，其分辨率达到了突破性的0.6 nm@15 kV和1.0 nm@1 kV。高分辨物镜设计、高压隧道技术（SuperTunnel）以及镜筒工艺升级，实现了低电压分辨率的进一步提升。全新设计的样品仓，扩展接口增加至16个，快速换样仓最大支持8寸晶圆（最大直径208 mm），极大扩展应用范围。高级扫描模式和自动功能增强，带来了更强的性能和更好的体验。产品优势超高分辨率成像，达到了突破性的0.6 nm@15 kV和1.0 nm@1 kV样品台减速和高压隧道技术组合的双减速技术，挑战极限样品拍摄场景高精度机械优中心样品台、超稳定性的机架减震设计，可搭配整体罩壳设计，极大减弱环境对极限分辨率的影响最大支持8寸晶圆(最大直径208 mm)的快速换样仓，满足半导体和科研应用需求应用案例产品参数

日立高新超高分辨率场发射扫描电子显微镜SU9000是专门为电子束敏感样品和需最大300万倍稳定观察的先进半导体器件，高分辨成像所设计。新的电子枪和电子光学设计提高了低加速电压性能。0.4nm / 30kV（SE）0.7nm / 1kV（SE）0.34nm / 30kV（STEM）用改良的高真空性能和无与伦比的电子束稳定性来实现高效率截面观察。采用全新设计的Super E x B能量过滤技术，高效，灵活地收集SE / BSE/ STEM信号。

仪器简介： JSM-7600F是日本电子株式会社2008年下半年推出的兼顾冷场的高分辨率和热场大束流为一体的热场发射扫描电镜，它几乎集成了当今扫描电镜的全部前沿技术，最大200nA的大电流在保证高分辨率的同时，得到高速样品分析结果，空间分辨率极高，对导电性差的样品也有很多解决办法。JSM-7600F自动化程度高，操作直观方便，可以称得上是一款高档次的场发射扫描电镜。 2021年该型号升级为JSM-IT800i和is，分辨率更高，操作更加简单方便，详情请咨询日本电子株式会社各地事务所。技术参数：1.分辨率：0.5/0.6nm(15kV)/0.7/1.0nm(1kV)2.加速电压：0.1KV-30kV3.放大倍数：25-200万倍4.样品室尺寸：最大200mm直径样品5.束流强度：1pA到300nA/500nA主要特点： 长寿命高亮度电子枪,寿命保3年,最大电流300nA以上兼顾超高分辨和大电流标配的五轴马达驱动全对中样品台全自动样品更换气锁（选配）全自动样品台监控系统全自动物镜光阑多通道显示系统减速系统标准配置能量过滤器标准配置可以选配扫描投射探头（STEM）

FE-1050系列场发射扫描电子显微镜，国内首款领势旗舰机型。 在新一代电子光学镜筒的加持下，展现低电压、高分辨的卓越性能。 27个端口拓展、大舱室，轻松应对各类成像、分析需求。 极简化操作、自动化交互、智能化特征识别统计，成倍提高工作效率。 终身售后保障，7*24售后响应。以“质”为先，以“优”为本，助力微观世界的探索与发现。贴近用户设计的系统交互操作，最大简化系统操作，即使没有电镜使用经验的用户也可轻松上手。软硬件结合的智能化操作流程能够真正将用户从繁琐的重复操作中解放出来。

主要特点:超高的分辨率最高0.5 nm (15 kV) and 0.7 nm (1 kV).高速精确分析能力稳定的大束流从磁性样品到非导体样品使用范围广泛技术指标：分辨率:0.6nm (15kV)0.7nm (1kV)放大倍数:25 to 2,000,000x加速电压:0.01 to 30kV束流强度:300 nA（15kV)或更高电子枪:浸没式热场发射电子枪物镜设计:超级混合式物镜（无漏磁）样品台:5轴马达驱动

GeminiSEM 系列产品高对比度、低电压成像的场发射扫描电子显微镜为对任意样品进行高水准的成像和分析而生蔡司GeminiSEM 系列产品具有出色的探测效率，能够轻松地实现亚纳米分辨成像。无论是在高真空还是在可变压力模式下，更高的表面细节信息灵敏度让您在对任意样品进行成像和分析时都具备更佳的灵活性，为您在材料科学研究、生命科学研究、工业实验室或是显微成像平台中获取各种类型样品在微观世界中清晰、真实的图像，提供灵活、可靠的场发射扫描电子显微镜技术和方案。GeminiSEM 500 具有出色的分辨率，在较低的加速电压下仍可呈现给您更强的信号和更丰富的细节信息，其创新设计的NanoVP可变压力模式，甚至让您在使用时拥有在高真空模式下工作的感觉；更强的信号，更丰富的细节GeminiSEM 500 为您呈现任意样品表面更强的信号和更丰富的细节信息，尤其在低的加速电压下，在避免样品损伤的同时快速地获取更高清晰度的图像。经优化和增强的Inlens探测器可高效地采集信号，助您快速地获取清晰的图像，并使样品损伤降至更低；在低电压下拥有更高的信噪比和更高的衬度，二次电子图像分辨率1 kV达0.9nm，500 V达1.0 nm，无需样品台减速即可进行高质量的低电压成像，为您呈现任意样品在纳米尺度上更丰富的细节信息；应用样品台减速技术-（Tandem decel），可在1 kV下获得高达0.8nm二次电子图像分辨率；创新设计的可变压力模式-NanoVP技术，让您拥有身处在高真空模式下工作的感觉。洞察产品背后的科技Gemini电子光学系统Gemini 1类型镜筒 -延续创新和发展如今，扫描电子显微镜（SEM）在低电压下的高分辨成像能力，已成为其在各项应用领域中的标准配置。低电压下的高分辨率成像能力，在以下应用领域中扮演着尤为重要的角色：电子束敏感样品不导电样品获取样品极表面的真实形貌信息Gemini的革新电子光学设计，应用高分辨率电子枪模式、Nano-twin lens物镜(GeminiSEM 500)、以及Tandem decel样品台减速技术（选配），有效提高了在低电压时的信号采集效率和图像衬度。高分辨率电子枪模式：缩小30%的出射电子束能量展宽，有效地降低像差；获得更小的束斑。Nano-twin lens物镜： 优化静电场和磁场的复合功效，在低电压下具有的更高的分辨率； 提高镜筒内Inlens探测器在低电压下的信号采集效率。Tandem decel样品台减速技术，进一步提高对适用样品在低电压甚至极低电压下的分辨率：Tandem decel减速技术将镜筒内减速和样品台偏压减速技术相结合，有效地实现低着陆电压；使用1 kV及以下更低电压时，镜筒内背散射探测器的检测效率获得更好地增强，低电压下的分辨率得到进一步提高。对适用的样品可以加载高达-5 kV的样品台偏压，在低电压下获得更高质量的图片优化静电场和磁场的复合功效，在低电压下具有的更高的分辨率；提高镜筒内Inlens探测器在低电压下的信号采集效率。技术参数：基本规格蔡司 GeminiSEM 500热场发射电子枪，稳定性优于0.2 %/h加速电压0.02 - 30 kV探针电流3 pA - 20 nA（100 nA配置可选）存储分辨率最高达32k × 24k 像素放大倍率50 – 2,000,000标配探测器镜筒内Inlens二次电子探测器样品室内的Everhart Thornley二次电子探测器可选配的项目NanoVP可变压力模式高效VPSE探测器（包含在NanoVP可变压力选件中）局部电荷中和器镜筒内能量选择背散射探测器环形STEM探测器（aSTEM 4）EDS能谱仪EBSD探测器(背散射电子衍射)可订制特殊功能样品台环形背散射电子探测器阴极射线荧光探测器

[ 产品简介 ]蔡司新一代场发射扫描电子显微镜Sigma系列，具有高质量的成像和分析能力，将先进的场发射扫描电子显微镜技术与优秀的用户体验完美结合。利用Sigma系列直观的4步工作流程，在更短的时间内获得更多的数据，提高测试与生产效率。可选配多种探测器，以满足半导体、能源等新材料、磁性样品、生物样品、地质样品等不同的应用需求。结合蔡司原位电镜实验平台，可以实现自动智能化的原位实验工作流程，高效率获取高通量、高质量的原位实验数据。领先的EDS几何设计保证了出色的元素分析性能，分析速度高、精度好、结果可靠。高分辨、全分析、多扩展、强智能、广应用，全新Sigma系列是助力于材料研究、生命科学和工业检测等领域的“多面手”。[ 产品特点 ]&bull 独特的Gemini镜筒设计，低电压高分辨，无漏磁&bull 广泛全面的应用场景&bull 丰富灵活的探测手段&bull 智能高效的工作流程&bull 先进可靠的分析系统&bull 强大完善的扩展平台[ 应用领域 ]&bull 材料科学，如纳米材料高分辨成像，高分子聚合物等不导电样品成像，电池材料成分衬度成像，二维材料分析&bull 生命科学，如生物样品超微结构成像，冷冻样品高分辨成像&bull 地质矿物学，如地质样品高分辨成像、成分分析以及原位拉曼联用分析&bull 工业应用，如组件失效分析，工艺诊断&bull 电子半导体行业，如质量控制与分析，6英寸Wafer快速换样，电子束曝光技术（EBL）&bull 钢铁行业，如夹杂物分析，金属材料自动原位成像分析&bull 刑侦、法医学&bull 考古学、文物保护与修复NanoVP lite模式下断裂的聚苯乙烯表面成像氧化铝颗粒高分辨二次电子成像ETSE探测器氧化锌枝晶成像InLens SE探测器氧化锆&氧化铁复合材料成像Sense BSD探测器刺毛苔藓虫超微结构成像aBSD探测器超导合金成像

[ 产品简介 ]蔡司场发射扫描电子显微镜Gemini系列，具有出色的探测效率，能够轻松实现亚纳米分辨成像，适用于多种材料的高分辨成像与分析。其优异的低电压成像能力与表面细节灵敏度，让您在对任意样品进行成像和分析时都具备更佳的灵活性，可获取各类样品在微观世界中清晰、真实的图像。为生命科学研究实验室、工业实验室、成像测试平台、高校或研究机构提供灵活、可靠的场发射扫描电子显微技术与方案。[ 产品特点 ]&bull 出色的检测效率&bull 优异的低电压分辨率和表面灵敏度&bull 灵活的探测手段获取高分辨的图像&bull 独特的无漏磁镜筒，轻松应对磁性材料表征&bull 丰富的扩展性[ 应用领域 ]&bull 材料科学，如纳米材料表征&bull 工业应用，如失效分析，性能分析&bull 生命科学，如大体积细胞高通量成像&bull 电池领域，如老化分析、电池材料表征&bull 电子半导体领域，如半导体器件失效研究与分析&bull 刑侦、法医学&bull 考古学、文物保护与修复InLens SE探测器磁性FeMn纳米颗粒成像 InLens SE探测器NCM622正极颗粒成像InLens SE 探测器和EsB 探测器同时对包埋在沸石中的银纳米颗粒成像aBSD探测器FinFET结构成像 NanoVP模式下不导电玻璃片上的光刻胶样品成像 小鼠大脑成像

2020年5月25日日本电子株式会社全球同步发布新款场发射扫描电子显微镜JSM-IT800系列。 JSM-IT800的场发射扫描电镜通用性强，可广泛应用于纳米材料、金属材料、半导体材料、化学化工、医学及生物学领域，可高效观察包括非导体样品及强磁性样品等。 JSM-IT800SHL分辨率可达0.5nm,成像能力强大。浸没式电子枪可提供500nA大电流，EDS和EBSD分析速度极快。 另外JSM-IT800系列还搭载了众多全新研发的电子光学技术，自动化程度极高。详情请咨询捷欧路（北京）科贸有限公司及其各地分公司。

日立高新超高分辨率场发射扫描电子显微镜SU9000是专门为电子束敏感样品和需300万倍稳定观察的先进半导体器件，高分辨成像所设计。新的电子枪和电子光学设计提高了低加速电压性能。0.4nm / 30kV（SE）1.2nm / 1kV（SE）0.34nm / 30kV（STEM）用改良的高真空性能和无与伦比的电子束稳定性来实现高效率截面观察。采用全新设计的Super E x B能量过滤技术，高效，灵活地收集SE / BSE/ STEM信号。

产品简介"Regulus系列"是日立高新技术的FE-SEM的全新品牌，包括作为SU8010的后续机型开发的 "Regulus8100" 以及SU8200系列的升级 "Regulus8220" "Regulus8230" "Regulus8240"，共4个机型，均实现了分辨率和操作性的强化。 扫描电子显微镜（SEM）被广泛应用于纳米技术，半导体?电子行业，生命科学，材料科学等领域的材料结构观察。近年来，新一代的电子器件应用中受到广泛期待的新型碳材料，高分子材料，复合材料等的研究作为先进科学技术的中坚技术，在全世界范围内受到热捧。扫描电子显微镜广泛用于这些材料的观察?评价，但仅仅具有超高分辨率还远远不够。还要求能在低加速电压下对表面细微结构的观察和高灵敏度的元素分析。除此之外，在长期的研究过程中还追求电镜的性能的持续稳定和信赖性。 本次发布的新品牌 "Regulus系列" 电子光学系统进行了优化处理，使得着陆电压在1kV时分辨率较前代机型提高了约20％。"Regulus8220/8230/8240"达到0.9nm，"Regulus8100"为1.1 nm的分辨率。另外，最适合低加速电压下高分辨观察的冷场电子枪可将样品的细节放大，并获得高质量的图片。最大放大倍率也由之前的100万倍提高到了200万倍。除此之外，为了能更好的应对不同样品的测试和保持并发挥出高性能，还对用户辅助工能进行了强化，如信号检测系统的操作辅助功能，维护辅助功能等。主要特点搭载了色差极小的适合低加速电压高分辨率观察的冷场电子枪跟前代机型相比分辨率大约提高了20%（Regulus8220/8230/8240：0.9 nm/1 kV，Regulus8100：1.1 nm/1 kV）最大倍率从原来的100万倍提高到200万倍*1用户辅助功能，帮助用户把仪器的高性能完全发挥出来主要参数名称Regulus8100Regulus8240/8230/8220二次电子分辨率0.8 nm（加速电压 15 kV）0.7 nm（加速电压 15 kV）1.1 nm（着陆电压 1 kV）*20.9 nm（着陆电压 1 kV）*2加速电压0.5~30 kV0.5~30 kV着陆电压*20.1~2 kV0.01~20 kV倍率20~1,000,000倍*320~2,000,000倍*3马达台控制3轴自动*?5轴自动*1 仅限 Regulus8240/8230/8220*2 减速模式观察*3 127 mm × 95 mm 视野的画面倍率*? 5轴马达台为选配项

SEM5000X是一款超高分辨率场发射扫描电子显微镜，其分辨率达到了突破性的0.6 nm@15 kV和1.0 nm@1 kV。高分辨物镜设计、高压隧道技术（SuperTunnel）以及镜筒工艺升级，实现了低电压分辨率的进一步提升。全新设计的样品仓，扩展接口增加至16个，快速换样仓最大支持8寸晶圆（最大直径208 mm），极大扩展应用范围。高级扫描模式和自动功能增强，带来了更强的性能和更好的体验。产品优势超高分辨率成像，达到了突破性的0.6 nm@15 kV和1.0 nm@1 kV样品台减速和高压隧道技术组合的双减速技术，挑战极限样品拍摄场景高精度机械优中心样品台、超稳定性的机架减震设计，可搭配整体罩壳设计，极大减弱环境对极限分辨率的影响最大支持8寸晶圆(最大直径208 mm)的快速换样仓，满足半导体和科研应用需求应用案例产品参数

仪器简介： JSM-7600F是日本电子株式会社2008年下半年推出的兼顾冷场的高分辨率和热场大束流为一体的热场发射扫描电镜，它几乎集成了当今扫描电镜的全部前沿技术，最大200nA的大电流在保证高分辨率的同时，得到高速样品分析结果，空间分辨率极高，对导电性差的样品也有很多解决办法。JSM-7600F自动化程度高，操作直观方便，可以称得上是一款高档次的场发射扫描电镜。 2021年该型号升级为JSM-IT800i和is，分辨率更高，操作更加简单方便，详情请咨询日本电子株式会社各地事务所。技术参数：1.分辨率：0.5/0.6nm(15kV)/0.7/1.0nm(1kV)2.加速电压：0.1KV-30kV3.放大倍数：25-200万倍4.样品室尺寸：最大200mm直径样品5.束流强度：1pA到300nA/500nA主要特点： 长寿命高亮度电子枪,寿命保3年,最大电流300nA以上兼顾超高分辨和大电流标配的五轴马达驱动全对中样品台全自动样品更换气锁（选配）全自动样品台监控系统全自动物镜光阑多通道显示系统减速系统标准配置能量过滤器标准配置可以选配扫描投射探头（STEM）

追求ji致性能！完成具挑战性的纳米分析工作。TESCAN推出了全新yi代S8000系列扫描电镜，目前包括：S8000型超高分辨场发射扫描电镜和S8000G型镓离子聚焦离子束双束扫描电镜。S8000 FE-SEM全新设计的S8000超高分辨场发射扫描电镜可以提供无与伦比的图像质量，具有强大的扩展分析能力，能够满足现今工业研发和科研的所有需求，不仅适用于高端的纳米分析应用，也给操作者带来舒适、高效的使用体验。 S8000 FE-SEM的优点： 新yi代镜筒内电子加速、减速技术，保证了复杂样品的低电压高分辨观测能力 首次配置的静电-电磁复合物镜，物镜无磁场外泄，实现磁性样品高分辨成像及S8000G FIB-SEMS8000G是TESCAN新S8000系列扫描电镜的第yi个新成员，是yi款超高分辨双束FIB-SEM系统，它可以提供无与伦比的图像质量，具有强大的扩展分析能力，并能以ji佳的精度、效率完成复杂的纳米加工和操作，可满足现今工业研发和学术界研究的所有需求。 S8000G FIB-SEM的优点： 新yi代镜筒内电子加速、减速技术，保证了复杂样品的低电压高分辨观测能力 首次配置的静电-3 S8000 系列（NEW ! ）S8000 FE-SEM全新设计的S8000超高分辨场发射扫描电镜可以提供无与伦比的图像质量，具有强大的扩展分析能力，能够满足现今工业研发和科研的所有需求，不仅适用于高端的纳米分析应用，也给操作者带来舒适、高效的使用体验。S8000 FE-SEM的优点： 新yi代镜筒内电子加速、减速技术，保证了复杂样品的低电压高分辨观测能力 首次配置的静电-电磁复合物镜，物镜无磁场外泄，实现磁性样品高分辨成像及分析 配置4个新yi代探测器，可实现9种图像观测，对样品信息的采集更加全面 配置大型样品室，有超过20个扩展接口，为原位观测、分析创造了良好的工作环境 可以配置TESCAN自有或第三方的多种扩展分析附件，如EDS、EBSD、CL、EBL，并du家实现与Raman联用S8000 系列（NEW ! ）S8000G FIB-SEM S8000G是TESCAN新S8000系列扫描电镜的第yi个新成员，是yi款超高分辨双束FIB-SEM系统，它可以提供无与伦比的图像质量，具有强大的扩展分析能力，并能以ji佳的精度、效率完成复杂的纳米加工和操作，可满足现今工业研发和学术界研究的所有需求。S8000G FIB-SEM的优点： 新yi代镜筒内电子加速、减速技术，保证了复杂样品的低电压高分辨观测能力 首次配置的静电-电磁复合物镜，物镜无磁场外泄，实现磁性样品高分辨成像及分析 配置4个新yi代探测器，可实现9种图像观测，对样品信息的采集更加全面 配置大型样品室，有超过20个扩展接口，为原位观测、分析创造了良好的工作环境 可以配置TESCAN自有或第三方的多种扩展分析附件，并du家实现与TOF-SIMS、Raman联用 新yi代操作软件和自动功能，FIB镜筒具有全自动的离子镜筒对中，极大简化了操作北京亚科电子（山东）设备咨询电话：

S8000 系列（NEW ! ）S8000 FE-SEM 全新设计的S8000超高分辨场发射扫描电镜可以提供无与伦比的图像质量，具有强大的扩展分析能力，能够满足现今工业研发和科研的所有需求，不仅适用于高端的纳米分析应用，也给操作者带来舒适、高效的使用体验。S8000 FE-SEM的优点： 新yi代镜筒内电子加速、减速技术，保证了复杂样品的低电压高分辨观测能力 首次配置的静电-电磁复合物镜，物镜无磁场外泄，实现磁性样品高分辨成像及分析 配置4个新yi代探测器，可实现9种图像观测，对样品信息的采集更加全面 配置大型样品室，有超过20个扩展接口，为原位观测、分析创造了良好的工作环境 可以配置TESCAN自有或第三方的多种扩展分析附件，如EDS、EBSD、CL、EBL，并du家实现与Raman联用创新的电子光学镜筒，使电镜拥有更加出色的超高分辨率TESCAN S8000配置了新的BrightBeam™ 镜筒，实现了无磁场超高分辨成像，可以大化的实现各种分析，包括磁性样品的分析。新型镜筒中的电子光路设计增强了低能量电子成像分辨率，特别适合对电子束敏感样品和不导电样品的分析。另外，EquiPower™ 透镜技术可有效减少能量损耗并保证电子镜筒的稳定性。BrightBeam™ 电子光学镜筒及探测器系统（A）Axial detector (In-Beam)（B）Multidetector (In-Beam)（C）E-T detector (In-Chamber)（D）Retractable BSE (In-Chamber)配备新的多种探测器，更好的表面灵敏度和对比度S8000可配置新的多种探测器，包括透镜内Axial detector 以及 Multidetector，可选择不同角度和不同能量来收集信号，体现更多种类的信息，同时获得更好的表面灵敏度和对比度。

TESCAN CLARA 是一款适用性非常广泛的扫描电子显微镜，能够满足各个科研和技术领域对不同材料进行高质量成像和表征的需求。TESCAN CLARA 使用了 TESCAN BrightBeam&trade 型 SEM 镜筒，该镜筒配置了可变比例式静电-电磁复合物镜，可以在低加速电压下实现无漏磁超高分辨成像，这对于包括磁性样品在内的各类样品具有广泛的适用能力。主要特点：新一代镜筒内电子加速、减速技术，保证了复杂样品的低电压高分辨观测能力首次配置的静电-电磁复合物镜，物镜无磁场外泄，实现磁性样品高分辨成像及分析配置4个新一代探测器，可实现9种图像观测，对样品信息的采集更加全面配置大型样品室，有超过20个扩展接口，为原位观测、分析创造了良好的工作环境可以配置 TESCAN 自有或第三方的多种扩展分析附件，如EDS、EBSD、CL、EBL 以及实现与Raman联用模块化 Essence&trade 软件，直观易用，不同技术水平的用户，均可轻松操作。独特的探测器系统独特的镜筒内探测器系统，可以根据能量和角度的不同选择信号进行采集，获得最全面的形貌和成分信息。Multidetector 探测器配有能量过滤器，可以实现二次电子信号和背散射电子信号的过滤以便增强材料衬度以及提高表面灵敏度，并能够实现二次电子和背散射电子信号之间的实时切换。第二个镜筒内探测器 — 轴向探测器（Axial detector），能以高效率在任何着陆电压下收集二次电子和背散射电子信号，且不会有明显的信号损失，这样即使在低着陆电压下也能够非常简单的进行超高分辨二次电子成像。TESCAN CLARA 使用了实时电子束追踪技术(In Flight Beam Tracing&trade )和中间镜技术(Intermediate Lens&trade )，可以广泛适用于各类分析研究。TESCAN CLARA 能够在高束流下（最大可达400 nA）仍然保持高分辨成像，这点对于日常分析工作而言非常便利。TESCAN CLARA 是一款真正的多功能分析仪器，适用于纳米材料的表征，高端制造业的严格质控，以及各类研发工作。软件： 测量软件, 公差测量软件 图像处理 预设参数 直方图及LUT SharkSEM&trade 基础版 (远程控制) 3D 防碰撞模型软件 对象区域 光电联用 定时关机 CORAL&trade （用于生命科学的电镜模块） 自动拼图软件 样品观察 TESCAN Flow&trade (离线处理软件)根据实际配置和需求

TESCAN MAGNA 新一代超高分辨场发射扫描电镜 TESCAN MAGNA 是一款功能极其强大的分析仪器，适用于纳米材料的形貌表征以及微观分析。TESCAN MAGNA 配置 Triglav&trade 型 SEM 镜筒，具有超高的分辨率，在低电压下尤为明显；镜筒内探测器系统具有电子信号过滤能力，可以获得更好的图像衬度和表面灵敏度，非常适用于不导电样品的成像，如陶瓷、无涂层生物样品，以及在半导体光敏样品。此外，TESCAN MAGNA 配备肖特基场发射电子枪，能够提供高达 400 nA 的束流，结合 Triglav&trade 型 SEM 镜筒所具备的出色纳米尺度分析性能和高稳定性，为微分析和长耗时样品的分析应用提供了最佳条件。TESCAN MAGNA 使用了全新的 TESCAN Essence&trade 软件，用户界面友好，可以满足各类应用需求，可定制的布局以及自动化的样品制备功能，最大限度地提升了操作便捷性和工作效率。TESCAN MAGNA FE-SEM 主要优势：* 强大的微观形貌观测和微分析能力TESCAN 专利的 Triglav&trade 型 SEM 镜筒具有 TriLens&trade 三物镜系统 ，适用领域更加多样化。UH-resolution 物镜提供的超高分辨率非常适合于形貌细节观察，使研究人员能够更好的分析纳米级样品。全新的高分辨 Analytical 物镜可实现无漏磁成像，是磁性样品观察和分析（EDS, EBSD）的理想选择。第三个物镜可以实现多种观测模式切换，新一代 Triglav&trade 镜筒还具有自适应束斑优化功能，可以提高了大束流下的分辨率，这一特点有利于更好的进行 EDS、WDS 和 EBSD 等分析。* 提供最佳的分析条件肖特基场发射电子枪能够产生高达 400 nA 的电子束流，电压也可以快速改变并保证在所有的分析应用下都能够获得良好的信号。* 让复杂的应用变的前所未有的简单新一代 TESCAN Essence&trade 是一款简化的、支持多用户的软件，它的布局管理器可以帮助用户快速、方便地访问所有主要功能。软件界面可自定义，更好地适应特定的应用方向，符合不同用户的使用偏好。软件的各种功能模块、向导和应用方案使得无论是入门级用户或是专家级用户都能够轻松顺畅的掌握扫描电镜的操作，从而提升样品的处理速度，提高工作效率。* 可以获得不同衬度图像，最大程度洞察样品 TESCAN MAGNA 配备 TriBE&trade 探测器系统：包含三个背散射电子探测器，可以根据角度和能量的差异选择性地收集信号。Mid-Angle BSE 和 In-Beam f-BSE 探测器位于镜筒内，可以接收中角度和轴向的背散射电子，而样品室内背散射电子探测器则用于接收广角背散射电子。同时，TESCAN MAGNA 还配备 TriSE&trade 探测器系统：共有三个二次电子探测器，可在所有工作模式下以最佳方式获取二次电子：In-Beam SE 探测器可以在非常短的工作距离下接收二次电子；SE（BDM）为电子束减速模式下的二次电子探测器，可以提供最佳的分辨率；样品室内的二次电子探测器则能提供最佳形貌衬度的图像。 TESCAN MAGNA FE-SEM 突出特点：ü 专利的电子信号选择检测功能，帮助用户获得更好的表面灵敏度和衬度。ü 进一步提升了低电压下超高分辨 SEM 成像，以及在 30keV 下使用 STEM 表征纳米材料的性能。ü 自适应束斑优化功能，有利于更好的进行 EDS、WDS 和 EBSD 等分析。* TESCAN MAGNA 基于 S9000 平台的升级。

惠然科技FE-SEM整机“风”系列F-6000介绍惠然科技FE-SEM整机“风”系列F-6000是一款高分辨广适配热场发射扫描电子显微镜，采用惠然科技自主研发的电子光学系统，具有行业标准的纳米级分辨率，最高可达1 nm，配置多种类型探测器，可实现二次电子和背散射电子同时成像，兼容多种应用模式，可覆盖生命科学、材料科学、失效分析、地质科学等多学科科研应用场景，标配五轴高精度运动平台及自主设计样品载台，可实现多个钉台同时放样或单一大尺寸样品的观测。F-6000采用多项自主研发专利技术，主要具有三大核心技术特点：大视野、高速、全自动技术优势：1、“视情式” WR-AdapColTM电子光学镜筒设计，采用双物镜组合，最大视场达到8 mm且无畸变，实现宏观到介观到微观的沉浸式成像体验；2、WR-HybriColTM磁电混合式电子束扫描偏转系统，在实现大偏转范围的同时保证高偏转速度，最短有效驻留时间为15 ns，将SEM跨越至视频级纳米摄像机时代；3、优化设计的图像算法三键成像：抽真空、ABC（自动亮度对比度）、AFC&ASC（自动聚焦消像散），可实现全景导航，快速样品定位，亮度、对比度自动调节，自动对焦等功能，简化步骤、操作易上手。4、搭配高效的AI图像后处理能力，图像快速降噪、锐化的同时，最大限度保留图像有效信息，并可根据应用场景定制化开发粒径分析、特征提取、图像拼接和分割等功能模块。产品竞争力：①国产电镜，区别于逆向仿制和复制，惠然科技坚持核心技术的正向自主研发，分辨率性能达到通用型科研电镜水平，支持产品的后续迭代和再开发；②数据安全，软件系统自主开发，可支持Windows、Linux、麒麟等系统，满足客户信息与数据的安可和信创需求；③操作方便，界面中文为主，支持英文，可选专家级页面模式和极简模式，适应不同类型用户应用习惯；④客户定制，核心技术的自主正向研发和研发团队的工程化产品化能力，可根据用户需求和不同应用场景，定制化开发硬件系统和升级软件系统；⑤优质售后服务，先进的售后理念和完善的运维体系，最快的速度响应用户的需求，支持用户的应用；⑥供应链国产化率高，零部件不受国外技术封锁影响，可以保证电镜按时交付以及电镜的售后维保。产品参数：惠然科技有限公司FE-SEM整机“风”系列高分辨广适配热场发射扫描电镜-F6000

FE-1050系列场发射扫描电子显微镜，国内首款领势旗舰机型。 在新一代电子光学镜筒的加持下，展现低电压、高分辨的卓越性能。 27个端口拓展、大舱室，轻松应对各类成像、分析需求。 极简化操作、自动化交互、智能化特征识别统计，成倍提高工作效率。 终身售后保障，7*24售后响应。以“质”为先，以“优”为本，助力微观世界的探索与发现。贴近用户设计的系统交互操作，最大简化系统操作，即使没有电镜使用经验的用户也可轻松上手。软硬件结合的智能化操作流程能够真正将用户从繁琐的重复操作中解放出来。

日立2011年新推出了SU9000超高分辨冷场发射扫描电镜，达到扫描电镜世界顶级二次电子分辨率0.4nm和STEM分辨率0.34nm。日立SU9000采取了全新改进的真空系统和电子光学系统，不仅分辨率性能明显提升，而且作为一款冷场发射扫描电镜甚至不需要传统意义上的Flashing操作，可以高效率的快速获取样品超高分辨扫描电镜图像。特点：1. 新型电子光学系统设计达到扫描电镜世界最高分辨率：二次电子0.4nm（30KV），STEM 0.34nm（30KV）。2. Hitachi专利设计的E×B系统，可以自由控制SE和BSE检测信号。3. 全新真空技术设计使得SU9000冷场发射电子束具有超稳定和高亮度特点。4. 全新物镜设计显著提高低加速电压条件下的图像分辨率。5. STEM的明场像能够调整信号检测角度，明场像、暗场像和二次电子图像可以同时显示并拍摄照片。6. 与FIB兼容的侧插样品杆提高更换样品效率和高倍率图像观察效率。项目技术指标二次电子分辨率0.4nm （加速电压30kV，放大倍率80万倍）1.2nm （加速电压1kV，放大倍率25万倍）STEM分辨率0.34nm（加速电压30kV，晶格象）观测倍率底片输出显示器输出LM模式80~10,000x220~25,000xHM模式800~3,000,000x2,200~8,000,000x样品台侧插式样品杆样品移动行程X±4.0mmY±2.0mmZ±0.3mmT±40度标准样品台平面样品台：5.0mm×9.5mm×3.5mmH截面样品台：2.0mm×6.0mm×5.0mmH专用样品台截面样品台：2.0mm×12.0mm×6.0mmH双倾截面样品台：0.8mm×8.5mm×3.5mmH信号检测器二次电子探测器TOP 探测器（选配）BF/DF 双STEM探测器（选配）

产品详情日本JEOL热场发射扫描电子显微镜JSM-7900F JEOL新一代场发射扫描电子显微镜的旗舰机型。 它继承了上一代广获好评的性能如极高的空间分辨率、高稳定性、多种功能等的同时，操作性能极大简单化。该设备不依赖操作者的技能，始终能够发挥其最佳性能。 产品规格：分辨率1.0 nm (0.5 kV)0.7 nm (1 kV)0.6 nm (15 kV)3.0 nm (5 kV、WD: 10 mm、5 nA)倍率×10 ～ ×1,000,000加速电压0.01 ～ 30 kV探针电流数 pA ～ 500 nA检测器（标配）高位检测器(UED)、低位检测器(LED)电子枪浸没式肖特基Plus场发射电子枪最佳光阑角控制镜内置物镜超级混合式物镜/SHL自动功能自动聚焦、自动消像散、自动调节亮度、自动调节衬度大景深模式(LDF)内置样品台全对中测角样品台样品移动X:70mm Y:50mm Z:2 ～ 41mm 倾斜轴:-5 ～ 70° 旋转:360°马达驱动5轴马达驱动样品交换室最大直径: 100mm 　最大高度: 40mm抽真空系统SIP、TMP、RP 主要特点：◇ Neo Engine（New Electron Optical Engine）新一代电子光学控制系统Neo Engine（New Electron Optical Engine），是JEOL电子光学技术荟萃的结晶。 它综合了透镜控制系统和自动化技术，即使改变电子光学条件，光轴的偏离也极小，大大提高了可操作性及观察精度。 无论是谁都可以很简便地发挥出仪器原本的功能。 ① 提高了自动功能 样品 : 用CP 制备的矿物截面（树脂包埋） 入射电压 : 5 kV，检测器 : RBED，观察倍率 : ×100,000 不仅提高了自动功能的精度，而且只需要几秒钟就可以聚焦。 ② 提高了倍率的精度 样品 : 测长用的样品（MRS5） 入射电压 : 10 kV， 观察倍率: ×50,000 大幅度地提高了倍率的精度，而且实现了高精度测长。 ③ 能量过滤器更加易用 样品 : 名片 入射电压 : 1.5 kV， 检测器 : UED， 观察倍率 : ×3,500 即使大幅度改变能量过滤器的设定值，视野或聚焦位置基本不会偏离。 ◇ GBSH-S (GENTLEBEAM™ Super High resolution Stage bias mode)GBSH 是在低加速电压下提高分辨率的一种方法。 新开发的GBSH-S可以给样品台施加高达5 kV的偏压。 因此，使用GBSH模式不需要使用专用的样品杆就可以无缝过渡到其他模式。※GENTLEBEAM™ 通过给样品施加偏压，起到了对入射电子减速，对出射电子加速的作用。 ◇ 新型背散射电子检测器　※ 选配件采用新开发的超高灵敏度的背散射电子检测器，可以在清晰的衬度下进行观察。 灵敏度比以往的产品提高了很多，特别是在低加速电压下能得到高衬度的成分像。旧机型 新机型 样品 : Cu的截面 入射电压 : 3 kV 观察倍率 : ×10,000 WD： 4.5 mm ◇ 新型外观设计 外观设计紧凑，大大节省了安装空间，可以支持多种安装环境。 ◇ 新的样品交换方式 采用新设计的样品交换系统（load lock），操作简单了，不仅减少误操作还提高了通量和耐用性。 ◇ SMILENAVISMILENAVI 是为初学者在短时间内学会基础操作而开发的操作导航系统。 操作人员按照流程，只要点击图标，SEM操作画面就会联动，依照提示引导即可操作。① 强调操作按钮只要将鼠标光标挪到SMILENAVI的指南键上，SEM的GUI上的相应键会出现方框。 在SMILENAVI指南里点击按键后，SEM的GUI会变成灰色来强调相应键。 ② 显示照片在SMILENAVI的指南里点击按键后，会显示该按键位置的照片。 ③ 显示操作顺序的视频 SMILENAVI的指南里有介绍操作顺序的视频。 继承了旧机型的高性能 ◇ 浸没式肖特基 Plus 电子枪浸没式肖特基Plus FEG 通过与电子枪和低像差聚光镜的组合，性能进一步得到改善，达到了更高的亮度。 能有效地收集从电子枪发射出的电子，即使在低加速电压下，也能获得数pA ～数10 nA 的探针电流，不用交换物镜光阑也能进行高分辨观察和快速元素面分布及EBSD 分析。 ◇ ACL（最佳光阑角控制镜）ACL（最佳光阑角控制镜）位于物镜的上方，自动优化整个电流范围内的物镜光阑角。 因此，即使改变探针电流量，也能调整入射电子的扩散，始终可以获取最小的电子束斑。不管是高分辨观察还是X 射线分析，对探针电流的大幅度变化都能轻松对应。 ◇ 超级混合式物镜 / SHLJSM-7900F 标配了JEOL 开发的电磁场叠加物镜 —“超级混合式物镜（SHL）”，对任何样品包括磁性和绝缘材料都能进行超高空间分辨率观察和分析。 ◇ 检测器系统能够同步采集多达4 种检测器的信号。标配低位检测器（LED）和高位检测器（UED）。 此外，还可以安装选配件：可插拔式背散射电子检测器（RBED）和高位二次电子检测器（USD）。 ◇ 高空间分辨率观察利用GBSH，即使在极低的加速电压下也能进行高分辨率观察。 GBSH下，高空间分辨率观察应用● 氧化物纳米材料

FE-1050系列场发射扫描电子显微镜，国内首款领势旗舰机型。在新一代电子光学镜筒的加持下，展现低电压、高分辨的卓越性能。27个端口拓展、大舱室，轻松应对各类成像、分析需求。极简化操作、自动化交互、智能化特征识别统计，成倍提高工作效率。终身售后保障，7*24售后响应。以“质”为先，以“优”为本，助力微观世界的探索与发现。贴近用户设计的系统交互操作，最大简化系统操作，即使没有电镜使用经验的用户也可轻松上手。软硬件结合的智能化操作流程能够真正将用户从繁琐的重复操作中解放出来。

1、产品介绍KYKY-EM8010 场发射扫描电子显微镜 低电压下能够保持较好的亮度和较高的分辨率，束流稳定度高、色散小，适宜长时间的各种精确分析，一键standby功能，维护更方便，软件操作简便，提升用户使用体验。为科研高校、生命科学，新能源等领域客户提供稳定可靠，超高性价比的产品解决方案。2、产品特点l1.5nm@15Kv (SE)，3nm@30kV (BSE) l低加速电压保持较好的亮度和分辨率 l低加速电压不导电样品可直接观测，无需喷金l肖特基电子枪亮度高、单色性好、电子束斑小、寿命长l束流稳定度高，色散小，适宜于长时间的各种精确分析l一键standby 维护更方便l具备光学导航，快速样品定位3、KYKY-EM8010 场发射扫描电子显微镜技术指标：分辨率1.5nm@15KV（SE）； 3nm@30KV（BSE）放大倍数光学放大倍数4-100倍；电子学放大8-800000倍 电子枪肖特基热场发射电子枪加速电压0.2～30kV自动调整功能聚焦，亮度/对比度、消像散、电子束对中探测器高真空二次电子探测器；红外CCD摄像头；一体化背散射探测器；光学导航探测器样品台五轴全自动中型样品台行程： X=80mm,Y=50mm,Z=30mm，T=-5°～+70°,R=360°最大样品直径: Ф175mm；最大样品高度：20mm 样品台具有碰撞报警功能。选配探测器BSE、EDS、EBSD、CL、EBIC等4、应用领域半导体、生命科学、材料、新能源、金属、刑侦、地质、功能材料、高分子材料。

主要特点:超高的分辨率最高0.5 nm (15 kV) and 0.7 nm (1 kV).高速精确分析能力稳定的大束流从磁性样品到非导体样品使用范围广泛技术指标：分辨率:0.6nm (15kV)0.7nm (1kV)放大倍数:25 to 2,000,000x加速电压:0.01 to 30kV束流强度:300 nA（15kV)或更高电子枪:浸没式热场发射电子枪物镜设计:超级混合式物镜（无漏磁）样品台:5轴马达驱动

日立2005年在中国推出了S-4800型高分辨场发射扫描电镜，由于出色的应用性能、良好的稳定性和简易的维护，收到了各界用户的一致好评。　　日立2011年新推出了它的后续机型----SU8010，它继承了S-4800的优点，性能有进一步提高，1kv使用减速功能后，分辨率提升到1.3nm，相对于S-4800可以在更低的加速电压下呈高分辨像，明显提升了以往很难观测的低原子序数样品的观测效果。特点：1. 优秀的低加速电压成像能力，1kv分辨率可达1.3nm2. 日立专利的ExB设计，不需喷镀，可以直接观测不导电样品3. Upper探头可选择接受二次电子像或背散射电子像4. 可以根据样品类型和观测要求选择打开或关闭减速功能5. 标配有冷指、电子枪内置加热器，物镜光阑具有自清洁功能6. 仪器的烘烤维护及烘烤后的透镜机械对中均可由用户自行完成

产品详情日本JEOL热场发射扫描电子显微镜JSM-7200F JSM-7200F的电子光学系统应用了日本电子旗舰机-JSM-7800F Prime采用的浸没式肖特基电子枪技术，标配了TTLS系统（Through-The-Lens System），因此无论是在高/低加速电压下，空间分辨率都比传统机型有了很大的提升。 产品规格： 主要选配件可插拔式背散射电子探头（RBED）高位二次电子探头（USD）低真空二次电子探头（LV-SED）能谱仪（EDS)波谱仪（WDS）电子背散射衍射系统（EBSD)阴极荧光系统（CLD）样品台导航系统（SNS）电子束曝光系统 产品特点：JSM-7200F的电子光学系统应用了日本电子旗舰机-JSM-7800F Prime采用的浸没式肖特基电子枪技术，标配TTLS系统（Through-The-Lens System），无论是在高/低加速电压下，空间分辨率都比传统机型有了很大的提升。此外，保证300nA的最大束流，能兼顾高分辨率观察和高通量分析，具有充实的自动功能和易用性，是新一代的多功能场发射扫描电镜。 ＜特点＞ JSM-7200F的主要特点有：应用了浸没式肖特基电子枪技术的电子光学系统；利用GB（Gentle Beam 模式）和各种检测器在低加速电压下能进行高分辨观察和选择信号的TTLS系统（Through-The-Lens System）；电磁场叠加的混合式物镜。 浸没式肖特基电子枪 浸没式肖特基场发射电子枪为日本电子的专利技术，通过对电子枪和低像差聚光镜进行优化，能有效利用从电子枪中发射的电子，即使电子束流很大也能获得很细的束斑。因而可以实现高通量分析（EDS、WDS面分析、EBSD分析等）。 TTLS（through-the-lens系统） TTLS（through-the-lens系统）是利用GB(Gentle Beam 模式）在低加速电压下能进行高分辨率观察和信号选择的系统。 利用GB（Gentle Beam 模式）通过给样品加以偏压，对入射电子有减速、对样品中发射出的电子有加速作用，即使在低加速电压（入射电压）下，也能获得信噪比良好的高分辨率图像。 此外，利用安装在TTLS的能量过滤器过滤电压，可以调节二次电子的检测量。这样在极低加速电压的条件下，用高位检测器（UED）就可以只获取来自样品浅表面的大角度背散射电子。因过滤电压用UED没有检测出的低能量电子，可以用高位二次电子检测器（USD，选配件）检测出来，因此JSM-7200F能同时获取二次电子像和背散射电子像。 混合式物镜（电磁场叠加） JSM-7200F的物镜采用了本公司新开发的混合式透镜。 这种混合式透镜是组合了磁透镜和静电透镜的电磁场叠加型物镜，比传统的out-lens像差小，能获得更高的空间分辨率。 JSM-7200F仍然保持了out-lens的易用性，所以可以观察和分析磁性材料样品。

该产品是世界上di一款可以对有机材料、基板、多孔材料、塑料以及高聚物材料等有电荷积累的样品和/或污染性样品进行超高分辨表征的低真空场发射扫描电子显微镜（FEG-SEM）。作为FEI公司引领市场的众多设备中zui新的一员，Nova NanoSEM为用户在纳米研究、开发与生产的相关工作提供了更多的可能。 Nova NanoSEM的出现为那些非导电的以及有污染的纳米材料研究和开发者们带来了新的表征手段。与NanoSEM同时发布的FEI Helix探测技术将浸入式透镜和低真空扫描电镜两种技术成功地组合在一起，这在场发射扫描电镜的历史上还是di一次。在给用户带来超高分辨率的同时，还能在低真空环境下有效地抑制非导电材料的电荷积累效应。Nova NanoSEM的这种新技术还可以有效地抑制由前道样品处理过程所引起的电子束诱导污染。 除了低真空条件下二次电子和背散射电子成像以外，Nova NanoSEM还具有浸入式透镜的技术和FEI所特有的使用电子束进行纳米结构沉积的气体化学技术，所有的这些特点使之成为纳米结构与纳米材料研究领域中zui先进、zui理想的扫描电镜技术参数1. 分辨率 高真空模式　1.0nm @ 15kV 　　　　　　1.8nm @ 1kV 　　　　　　0.8nm @ 30kV(STEM探测器) 低真空模式　1.5nm @ 10kV(Helix探测器) 　　　　　　1.8nm @ 3kV(Helix探测器) 2. 加速电压 200V - 30kV,连续可调 3. 电子束流范围 0.3pA - 100nA, 连续可调 4. 样品台移动范围 Nova NanoSEM 230: X=Y=50mm Nova NanoSEM 430: X=Y=100mm Nova NanoSEM 630: X=Y=150mm主要特点1. 超高分辨率Schottky场发射电子枪 2. 全球wei一的超高分辨率低真空场发射扫描电镜. 具有高真空和低真空(200Pa)两种真空模式. 3. 对容易污染、容易电荷积累的纳米材料和纳米器件进行观察和分析 4. 完全无油真空系统 5. 可选配电子束曝光、电子束诱导沉积等纳米设计/加工功能 6. FEI公司基于Windows XP的-xT用户界面

捷欧路JEOL热场发射扫描式电子显微镜JSM7000F的电子光学系统应用了日本电子旗舰机JSM7000F采用的浸没式肖特基电子枪技术，标配了TTLS系统（Through-The-Lens System），因此无论是在高/低加速电压下，空间分辨率都比传统机型有了很大的提升。产品规格：主要选配件可插拔式背散射电子探头（RBED）高位二次电子探头（USD）低真空二次电子探头（LV-SED）能谱仪（EDS)波谱仪（WDS）电子背散射衍射系统（EBSD)阴极荧光系统（CLD）样品台导航系统（SNS）电子束曝光系统 产品特点：捷欧路JEOL热场发射扫描式电子显微镜JSM7000F的电子光学系统应用了日本电子旗舰机-JSM-7800F Prime采用的浸没式肖特基电子枪技术，标配TTLS系统（Through-The-Lens System），无论是在高/低加速电压下，空间分辨率都比传统机型有了很大的提升。此外，保证300nA的最大束流，能兼顾高分辨率观察和高通量分析，具有充实的自动功能和易用性，是新一代的多功能场发射扫描电镜。＜特点＞捷欧路JEOL热场发射扫描式电子显微镜JSM7000F的主要特点有：应用了浸没式肖特基电子枪技术的电子光学系统；利用GB（Gentle Beam 模式）和各种检测器在低加速电压下能进行高分辨观察和选择信号的TTLS系统（Through-The-Lens System）；电磁场叠加的混合式物镜。 浸没式肖特基电子枪浸没式肖特基场发射电子枪为日本电子的专利技术，通过对电子枪和低像差聚光镜进行优化，能有效利用从电子枪中发射的电子，即使电子束流很大也能获得很细的束斑。因而可以实现高通量分析（EDS、WDS面分析、EBSD分析等）。 TTLS（through-the-lens系统）TTLS（through-the-lens系统）是利用GB(Gentle Beam 模式）在低加速电压下能进行高分辨率观察和信号选择的系统。 利用GB（Gentle Beam 模式）通过给样品加以偏压，对入射电子有减速、对样品中发射出的电子有加速作用，即使在低加速电压（入射电压）下，也能获得信噪比良好的高分辨率图像。 此外，利用安装在TTLS的能量过滤器过滤电压，可以调节二次电子的检测量。这样在极低加速电压的条件下，用高位检测器（UED）就可以只获取来自样品浅表面的大角度背散射电子。因过滤电压用UED没有检测出的低能量电子，可以用高位二次电子检测器（USD，选配件）检测出来，因此捷欧路JEOL热场发射扫描式电子显微镜JSM7000F能同时获取二次电子像和背散射电子像。 混合式物镜（电磁场叠加）捷欧路JEOL热场发射扫描式电子显微镜JSM7000F的物镜采用了本公司新开发的混合式透镜。 这种混合式透镜是组合了磁透镜和静电透镜的电磁场叠加型物镜，比传统的out-lens像差小，能获得更高的空间分辨率。 捷欧路JEOL热场发射扫描式电子显微镜JSM7000F仍然保持了out-lens的易用性，所以可以观察和分析磁性材料样品。日本JEOL热场发射扫描电子显微镜捷欧路JEOL热场发射扫描式电子显微镜JSM7000F 信息由科沃安科技（苏州）有限公司为您提供，如您想了解更多关于日本JEOL热场发射扫描电子显微镜捷欧路JEOL热场发射扫描式电子显微镜JSM7000F 报价、型号、参数等信息，欢迎来电或留言咨询。

"Regulus系列"是日立高新技术的FE-SEM的全新品牌，包括作为SU8010的后续机型开发的 "Regulus8100" 以及SU8200系列的升级 "Regulus8220" "Regulus8230" "Regulus8240"，共4个机型，均实现了分辨率和操作性的强化。　　扫描电子显微镜（SEM）被广泛应用于纳米技术，半导体?电子行业，生命科学，材料科学等领域的材料结构观察。近年来，新一代的电子器件应用中受到广泛期待的新型碳材料，高分子材料，复合材料等的研究作为先进科学技术的中坚技术，在全世界范围内受到热捧。扫描电子显微镜广泛用于这些材料的观察?评价，但仅仅具有超高分辨率还远远不够。还要求能在低加速电压下对表面细微结构的观察和高灵敏度的元素分析。除此之外，在长期的研究过程中还追求电镜的性能的持续稳定和信赖性。　　本次发布的新品牌 "Regulus系列" 电子光学系统进行了最优化处理，使得着陆电压在1kV时分辨率较前代机型提高了约20％。"Regulus8220/8230/8240"达到0.7nm，"Regulus8100"为0.8 nm的分辨率。另外，最适合低加速电压下高分辨观察的冷场电子枪可将样品的细节放大，并获得高质量的图片。最大放大倍率也由之前的100万倍提高到了200万倍。　　除此之外，为了能更好的应对不同样品的测试和保持并发挥出高性能，还对用户辅助工能进行了强化，如信号检测系统的操作辅助功能，维护辅助功能等。主要特点搭载了色差极小的适合低加速电压高分辨率观察的冷场电子枪跟前代机型相比分辨率大约提高了20%（Regulus8220/8230/8240：0.7 nm/1 kV，Regulus8100：0.8 nm/1 kV）最大倍率从原来的100万倍提高到200万倍*1用户辅助功能，帮助用户把仪器的高性能完全发挥出来主要参数名称Regulus8100Regulus8240/8230/8220二次电子分辨率0.7 nm（加速电压 15 kV）0.8 nm（着陆电压 1 kV）*20.6 nm（加速电压 15 kV）0.7 nm（着陆电压 1 kV）*2加速电压0.5~30 kV0.5~30 kV着陆电压*20.1~2 kV0.01~20 kV倍率20~1,000,000倍*320~2,000,000倍*3马达台控制3轴自动*45轴自动*1 仅限 Regulus8240/8230/8220*2 减速模式观察*3 127 mm × 95 mm 视野的画面倍率*4 5轴马达台为选配项