超高真空多功能薄膜制备系统

智能样品制备平台可配备自动称重、液体处理、扫码、开盖关盖、样品管排序，涡旋混合等功能，用于实验室进行智能化样品制备，实验数据能与实验室LIMS直接对接，主要应用于在制药、食品、环境、化工等行业。容量和功能集成扩展，分为 MicroTasker，MiniTasker，OmniTasker和MultiTasker II 。多功能：称重、液体处理、1D/2D扫码、开盖关盖、涡旋混合可选，自由组合更快：3s完成扫码循环，6s完成称重循环更准确：移液偏差1μL, 机械臂移动偏差0.1mm满足标准:满足FDA 21 CFR Part 11和GLP，满足权限管理和审计追踪灵活：0.1mg/0.01mg多种天平精度可选，支持多种样品容器尺寸多种规格尺寸，大可20个96位微孔板架便捷：数据自动传输至数据库，支持和LIMS系统对接安全：整机密闭，拥有排风系统

超高真空光学显微镜/光谱仪测试系统Ultra-high Vacuum (UHV) Optical / SpectroscopicMicroscope System将光学显微镜或光谱仪模组对接于超高真空系统，可以作为超高真空互联系统的检测节点之一，用于材料和器件在不同制备环节之间对外延的薄膜或者转移沉积的二维材料等样品的质量进行快速无损检测。产品特性和核心技术模块化设计，光学部分相对独立。&bull 包含光学显微镜、激光离焦量传感器、自动调焦和共聚焦耦合光路等等在内的全部光学部分全部集成于一个光学模组之中，作为整体置于超高真空腔体之外，透过视窗玻璃聚焦于真空腔内的样品表面。&bull 不污染真空内环境。&bull 超高真空系统烘烤时可以整体取走，并在烘烤完毕之后方便地定位安装。&bull 可根据用户需求，灵活配置激光器、单色仪、探测器和物镜等光学组件。视窗玻璃厚度像差的补偿校正。&bull 拉曼光谱的高收集效率和分辨率。性能参数：注：上述表格中的激光波长、物镜和单色仪等部件可以根据客户需求调整。测试案例：超高真空长工作距离（120 mm）显微测试

样品制备是现代色谱分析中重要的过程，这一过程占据了整个色谱分析61%的时间以及30%的误差来源[1]。另外，操作人员技术水平的参差不齐让分析结果的准确性与精密度无法得到保证。随着样品数量的增加，操作人员的作业负荷也随之增加，并且长时间接触有机溶剂也危害着实验人员的健康。睿科ISP系列多功能样品制备工作站建立在六轴机械手平台上，集合样品管理，液体处理，开关盖，震荡提取，离心分离等五大模块，使其达到样品制备过程无人化，而人工只需承担简单的制样与称样的工作，大大减少了样品制备过程中人工操作带来的影响，解放实验人员劳动力。 优势特点高通量每批次六个样品同时运行，批次间步骤交叠运行，一天最少处理120个样品全自动无人化工作平台，人工只需完成样品称量以及色谱上样的工作精确性机械化运行，无人工干扰，样品处理过程一致，使数据的精密性与准确性满足标准要求。安全性节约溶剂，避免实验人员与溶剂接触 应用领域农业：植物源性食品中以农残为主的农药检测 应用举例GB23200.108-2018 植物源性食品中草铵膦残留量的测定 液相色谱-质谱联用法GB23200.109-2018 植物源性食品中二氯吡啶酸残留量的测定 液相色谱-质谱联用法GB23200.110-2018 植物源性食品中氯吡脲残留量的测定 液相色谱-质谱联用法GB23200.111-2018 植物源性食品中唑嘧磺草胺残留量的测定 液相色谱-质谱联用法GB23200.112-2018 植物源性食品中9种氨基甲酸酯类农药及其代谢物残留量的测定 液相色谱-柱后衍生法GB23200.113-2018 植物源性食品中208种农药及其代谢物残留量的测定气相色谱-质谱联用法GB23200.115-2018 鸡蛋中氟虫腈及其代谢物残留量的测定 液相色谱-质谱联用法 参考文献[1] Majors R E. LC-GC Intl., 1991, 4(2): 10

1290 Infinity II 制备型 LC/MSD 系统1290 Infinity II 制备型 LC/MSD 系统能够实现高通量纯化，提供高质量化合物，可用于生物筛查等药物发现的重要环节。该系统采用 Agilent 1290 Infinity II 制备型 Open-Bed 进样器/收集器，可根据应用领域和台面空间提供出色的灵活性。质量选择性馏分触发可简化纯化流程，并减少重新分析时间，有助于提高实验室效率。特性 制备型 LC/MSD 系统具有全自动组合进样与馏分收集功能，可提高馏分收集容量，通过基于质量的纯化提高日常分析通量、最大程度提高纯度并最大程度减少重新分析的时间 仅关注目标化合物，可最大程度减少重新分析时间和所收集馏分的重新组方 高度可靠且稳定的液相色谱系统可提高您的分析能力，应对不断增长的工作量需求 可轻松更换的泵头能够在最高 600 bar 的压力下提供最高 200 mL/min 的动态流速范围，可广泛应用于各种制备型工作流程 阀的控制与组合：五个多功能插槽可增强对阀、馏分延迟线圈和 Agilent 1290 Infinity II 质谱流路调制器的配置能力，从而显著提高分析效率 集成了所有标准收集模式并与多个触发源兼容，可用于现有的纯化方法 延迟体积降至最低，最大程度减小了峰扩散和交叉污染，可获得最高的样品回收率和纯度 Agilent OpenLab CDS ChemStation 提供干净的软件架构，确保熟悉、可靠的操作

仪器简介：此系统可以配置多种沉积方式(预留各种功能接口),高度灵活,非常适合多种沉积模式的科研. 高真空条件沉积模式（使用机械泵+分子泵，或冷凝泵）。多种组合沉积模式，同一腔体实现多种功能沉积方式，沉积源模式有:磁控溅射源Sputter source电子束蒸发E-beam SourcesK-cell蒸发热蒸发Thermal sources氧化物源Oxide sources此系统高度灵活，软件操作方便，专业为研究机构沉积超纯度薄膜，真正的高真空沉积系统。The System is designed to be a highly flexible system for thin-film research in ultra pure conditions. The system can be configured to be true-UHV and allows for multiple deposition component options. 感谢中科院上海应用物理研究所上海光源同步实验部用此设备，为广大专业研究人员提供服务！！上海光源同步实验部配置的是磁控溅射（直流和射频均有）和电子束蒸发的组合功能，膜厚均匀性(镀膜500纳米左右厚度)均达到3%，这种组合系统极大地扩展了沉积功能，性能价格比超高，是研究人员的有力工具！！使用此系统的主要用户还有：中国计量院，吉林大学，中国科技大学，中北大学等技术参数：顶部法兰: 12”Radial ports：4 x NW100CF沉积接口: 5 x NW100CF, 4 x NW35CF分子泵: 300ls , 500 ls options样品操作: Quick-open top-lid.极限真空: 5x 10E-10 (24小时烘烤)机柜: Low footprint frame on transport casters样品台操控: Rotation, heating, bias样品操作: Load-Lock （可选）Sample size样品尺寸: 1”, 2”, 3”, 4” ，大到8”，12”等膜厚监控: QCM, Ellipsometry烘烤: Internal or jacket全自动软件操作，方便简单：Automation Touch screen pump down and process automation系统尺寸:Width: 1.5mHeight: 1.6mLength (standard): 1.3mLength: (with Loadlock): 2.0m主要特点：Top-loading chamber (500mm直径)超高真空匹配接口多种沉积源模式接口Analysis, load-lock and viewing ports多种样品夹具， 样品台可旋转，加热/冷却，DC/RF偏压 多种沉积源模式:包括 high-rate e-beam, low-rate (high accuracy) e-beam, DC and RF sputtering, thermal, K-cell,oxide sources.

台式高性能多功能PVD薄膜制备系列—nanoPVD基于多年大型薄膜制备系统的设计与研发所积累的丰富经验，Moorfield Nanotechnology深入了解了剑桥大学、诺森比亚大学、帝国理工学院、巴斯大学、埃克塞特大学、伦敦玛丽女王大学等多所著名大学科研团队的具体需求，经过不懈努力推出了台式高性能多功能PVD薄膜制备系列产品。该系列产品是为高水平学术研究研发的小型物理气相沉积设备。推出之后短短几年时间已经在欧洲销售了数十台，该系列产品包含了磁控溅射、金属/机物热蒸发系统。这些设备虽然体积小巧，但是性能，能够快速实现高质量纳米薄膜、异质结的制备，通常在大型设备中才有的共溅射和反应溅射功能也可以在该系列产品上实现。的有机物沉积系统更是该系列的一大特色。便捷的操作、智能的控制、高效的制备效率让您的学术研究进入快车道。设备型号台式高质量多功能薄膜磁控溅射系统 - nanoPVD S10AnanoPVD S10A是Moorfield Nanotechnology倾力打造的一款高度集成化智能化的台式磁控溅射系统。该系统虽然体积小巧，但是功能出色、配置齐全。该型号的推出是为了解决传统台式设备功能简单不能满足高端学术研究的问题。剑桥大学、诺森比亚大学、帝国理工学院等用户都对这款台式设备给予了很高的评价。nanoPVD S10A多可安装3个水冷式溅射源，可实现高功率持续运行，靶材尺寸与大型系统一样是行业通用尺寸。系统可以实现两源共溅射方案，可以实现反应溅射方案，多可同时控制3路气体。系统具有分子泵，可快速达到5*10-7mbar高真空。腔体取放样品非常方便，样品台大尺寸4英寸，系统有智能化的触屏控制系统，采用完备的安全设计方案。nanoPVD S10A可用于制备高质量的金属薄膜、半导体薄膜、介电、缘材料薄膜以及复合薄膜、多层异质结等。主要特点：◎ 水冷式溅射源，通用2英寸设计◎ MFC流量计高精度控制过程气体 ◎ DC/RF溅射电源可选◎ 全自动触摸屏控制方案◎ 可设定、储存多个溅射程序◎ 大4英寸基片◎ 本底真空5*10-7mbar◎ 系统维护简单◎ 完备的安全性设计◎ 兼容超净间◎ 性能稳定选件：◎ 机械泵类型可选◎ 样品腔快速充气◎ 自动高精度压力控制◎ 添加过程气体◎ 500℃衬底加热◎ 衬底旋转，Z向调节◎ 三源溅射系统◎ 共溅射方案◎ DC/RF溅射电源可选◎ 溅射电源自动切换系统◎ 晶振膜厚测量系统典型配置方案：金属沉积：2个溅射靶，配DC电源与电源切换系统，衬底Z向调节与挡板系统，晶振膜厚测量系统。缘材料沉积：2个溅射靶，配RF电源与电源切换系统，衬底加热与氧气通入气路，衬底Z向调节与挡板系统，晶振膜厚测量系统。反应/共溅射：三个溅射靶，配备DC/RF电源与自由切换系统，三路过程气体（Ar、O2、N2）用于沉积氧化物或氮化物。台式超大面积高质量薄膜磁控溅射系统 - nanoPVD S10A-WAMoorfield Nanotechnology根据客户超大样品的需求推出了nanoPVD-S10A-WA超大面积高质量薄膜磁控溅射系统。该型号是nanoPVD-S10A的拓展型号，用于制备超大尺寸的样品，大样品可达8英寸。该系统基于nanoPVD-S10A的成熟设计和性能，在相同腔体的设计基础上对nanoPVD-S10A进行了调整，使溅射源正对衬底。结合衬底旋转，即使在生长8英寸的超大样品时也可获得很高的样品均匀度。与nanoPVD-S10A一样，溅射源采用水冷式设计，可以持续高功率运行，可实现共溅射等功能。nanoPVD-S10-WA是一款接受半定制化的设备，如有特殊需求请联系我们进行详细讨论。主要特点：◎ 可制备8英寸超大样品◎ 水冷式2英寸标准溅射源◎ MFC流量计高精度控制过程气体◎ 直流/交流溅射电源可选◎ 全自动触屏控制◎ 可设定、存储多个生长程序◎ 本底真空5×10-7mbar◎ 易于维护◎ 全面安全性设计◎ 兼容超净间◎ 系统性能稳定选件：◎ 机械泵类型可选◎ 腔体快速充气◎ 自动高分辨压力控制◎ 增加过程气体◎ 升至双溅射源◎ DC/RF电源可选◎ 溅射电源切换◎ 共溅射方案◎ 晶振膜厚测量系统台式高质量金属\有机物热蒸发系统 - nanoPVD T15AnanoPVD T15A是Moorfield Nanotechnology推出的 nanoPVD系列中新的型号，高腔体设计方案专为热蒸发而设计，确保薄膜均匀度，大可生长4英寸的薄膜样品。近一年时间在英国安装就有十几套，剑桥大学、巴斯大学、埃克塞特大学、伦敦玛丽女王大学等都是该设备的用户。系统可以配备低温蒸发(LTE)和标准电阻蒸发源，分别用于沉积有机物和金属薄膜。低热容有机物蒸发源具有高精度的控制电源，可以的控制蒸发条件制备高质量的有机物薄膜。金属源采用盒式屏蔽模式，可以有效的减少交叉污染等问题。智能的控制系统和灵活的配置方案使PVD-T15A非常适合应用于材料研究领域。nanoPVD T15A可用于制备高质量的金属、有机物薄膜和异质结等材料。可应用于传统材料科学和新型的OLED（有机发光二管）、OPV（有机光伏材料）和 OFET（有机场效应管）领域。主要特点：◎ 可选金属、有机物蒸发源◎ 高纵横比的腔体，增加样品均匀性◎ 全自动触屏控制系统◎ 可设定、储存多个蒸发程序◎ 大4” 基片◎ 本底真空5*10-7mbar◎ 维护简单◎ 完备的安全性设计◎ 性能稳定选件：◎ 机械泵类型可选◎ 样品腔快速充气◎ 自动高精度压力控制◎ 多4个有机蒸发源◎ 多2个金属蒸发源◎ 500℃衬底加热◎ 衬底旋转，Z向调节◎ 晶振测量系统典型配置指标：金属沉积：双金属源与挡板和晶振系统有机物沉积：四个低温蒸发源与挡板和晶振系统。金属/有机物沉积：两个金属源，两个有机源与挡板和晶振系统。发表文章A high speed PE-ALD ZnO Schottky diode rectifier with low interface-state densityJin, J., et al. Journal of Physics D: Applied Physics 2018 DOI: 10.1086/1361-6463/aaa4a2作者报道了利用用氧化锌和PtOx肖特基接触界面制备高速肖特基二管整流器的方法。为此，作者使用PE-ALD沉积ZnO，使用Moorfield nanoPVD-S10A系统通过射频溅射制备金属层和PtOx接触层，包括反应溅射模式(通过含氧气氛沉积Pt)。所制备的器件具有适用于噪声敏感和高频电子器件的性能。用户单位剑桥大学帝国理工学院埃克塞特大学巴斯大学诺森比亚大学伦敦玛丽女王大学

台式高精度薄膜制备与加工系统Moorfield Nanotechnology是英国材料科学领域高性能仪器研发公司，成立25年来专注于高质量的薄膜生长与加工技术，拥有雄厚的技术实力，推出的多种高性能设备受到科研与工业领域的广泛好评。Moorfield公司近十年来与曼彻斯特大学诺奖技术团队紧密合作，推出的台式高精度薄膜制备与加工系列产品由于其体积小巧、性能、易于操作更是受到很多科研单位的赞誉。Moorfield Nanotechnology推出的台式设备体积小巧，但性能已经可以和大型设备相媲美。这些设备已经进入了欧洲的实验室，诸如曼彻斯特大学、剑桥大学、帝国理工学院、诺森比亚大学、巴斯大学、埃克塞特大学、伦敦玛丽女王大学、哈德斯菲尔德大学、莱顿大学、亚森工业大学、西班牙光子科学研究所、英国物理实验室等著名单位都是Moorfield Nanotechnology的用户和长期合作者。诸多的用户与合作者让产品的性能和设计理念得到了高速发展，并迈入全球化的进程。如今Quantum Design中国子公司与Moorfield Nanotechnology正式合作，作为中国的代理和战略合作伙伴，将为中国用户提供高性能的设备与优质的服务。除了台式设备之外我们还提供多种大型设备和定制服务。全系列产品即将上线，敬请期待… … 台式高性能CVD石墨烯/碳纳米管快速制备系列—nanoCVD超快速高质量石墨烯生长设备，整个过程30分钟内搞定！CVD被公认为是石墨烯具有应用前景的制备手段。NanoCVD系列台式设备是专为制备高质量的石墨烯与碳纳米管而开发的高性能台式CVD系统。与曼彻斯特大学诺奖团队的长期合作使得该系列产品在制备石墨烯等碳基纳米材料方面具有雄厚的技术积累。该系列产品操作简便，生长条件控制，生长迅速、制备出的样品具有高质量、高可重复性，可清楚的观测到分数量子霍尔效应。尤其适合于需要快速得到高质量石墨烯或碳纳米管用于高端学术研究的团队。点击查阅详细信息台式高性能多功能PVD薄膜制备系列—nanoPVD可媲美大型PVD的台式高性能PVD系统 ，爆款热销中！基于多年大型薄膜制备系统的设计与研发所积累的丰富经验，Moorfield Nanotechnology推出了台式高性能多功能PVD薄膜制备系列产品。该系列产品是为高水平学术研究研发的小型物理气相沉积设备。该系列产品包含磁控溅射、金属/机物热蒸发系统。这些设备虽然体积小巧但是性能，能够快速实现高质量纳米薄膜、异质结的制备，通常在大型设备中才有的共溅射功能也可以在该系列产品上实现。便捷的操作、智能的控制、高效的制备效率让您的学术研究进入快车道。点击查阅详细信息台式超二维材料等离子软刻蚀系统—nanoETCH用于超刻蚀二维材料与样品表面处理的等离子体刻蚀系统，诺奖团队都在用！石墨烯等二维材料的微纳加工与刻蚀需要很高的精度，而目前成熟的传统半导体刻蚀系统在面对单层材料的高精度刻蚀需求时显得力不从心。为了解决目前维纳加工中常用的蚀系统功率较大、难以精细控制的问题，Moorfield Nanotechnology 推出了台式超二维材料等离子软刻蚀系统 - nanoETCH。该系统对输出功率的分辨率可到达毫瓦量，对二维材料可实现超的逐层刻蚀，也可实现对二维材料进行层内缺陷制造，此外还可对石墨基材等进行表面处理。点击查阅详细信息台式气氛\压力控制高温退火系统—ANNEAL从高真空到各种气氛都能控制的高端热处理系统Moorfield Nanotechnology专门为制备高质量的样品而推出的台式气氛\压力控制高温退火系统，该系统可以满足从高真空到各种气氛的退火需求。对气压和温度都能进行控制，该系统不仅仅是普通的退火系统更是二维材料、基片等进行可控热处理的重要保障。该系统颠覆了传统箱式、管式炉的粗放退火方式，开创了退火的新篇章。点击查阅详细信息多功能高磁控溅射喷金仪—nanoEM是一台喷金仪，但不仅仅是喷金仪！多功能高磁控溅射喷金仪—nanoEM是Moorfield Nanotechnology为SEM、TEM样品的表面导电处理以及普通样品的高质量电生长而设计的金属溅射系统。系统配备SEM样品托、TEM样品网、普通薄膜样品等多种专用样品台。虽然该系统主要为溅射金属而设计，但是该设备的性能已经达到了高质量薄膜样品的制备标准。通过选择不同的配置可以兼顾样品的表面导电处理、电制备与学术研究型薄膜样品的制备。因此nanoEM是一台不可多得的多功能高磁控溅射喷金仪。点击查阅详细信息部分单位及用户评价意大利比萨大学（nanoPVD S10A）Moorfield近在意大利比萨大学安装了另一台nanoPVD-S10A磁控溅射系统。在这里，它将被Giuseppe Barillaro副教授领导的团队用于为新型器件生长保护性和功能性涂层。该小组的研究应用包括纳米医学、生物传感、微电子学和光子学。诺森比亚大学（nanoPVD S10A，MiniLab）DR. GUILLAUME ZOPPI对Moorfield的评价：在诺森比亚大学，我们正在研究各种材料的应用，特别是光伏材料。作为不可或缺的部分，Moorfield近安装的用于磁控溅射和电子束蒸发的nanoPVD和MiniLab系统发挥了关键作用。Moorfield专家的专业建议确保了我们得到为合适的设备，我们对设备的质量和快速、高效的技术支持留下了深刻的印象。很高兴能和Moorfield的团队一起工作。巴斯大学（nanoPVD-T15A）DR. PETRA CAMERON对Moorfield的评价：我们的研究重点是电化学材料、能源材料和钙钛矿光伏材料。我们之前一直在寻找一个可靠且易于使用的台式蒸发设备。现在，我们新的Moorfield nanoPVD-T15A热蒸发系统可以高质量的沉积金属电和钙钛矿光伏材料的接触层。让我们喜欢的另一方面是，该系统是模块化的，可以很容易地升低温有机物蒸发模块。我们的nanoPVD-T15A已经迅速成为一个关键设备，现在每天都在使用。DR MATTHEW COLE（副教授）对Moorfield的评价：Moorfield的服务速度快如闪电。他们的产品支持是的，屈一指的。丹麦技术大学（MiniLab090手套箱集成系统）为了满足Tim Booth在二维材料和异质结的合成和应用研究，系统在MiniLab090的基础上集成了手套箱，允许在惰性气体环境下进行完整的设备操作。系统配置包括软刻蚀、热蒸发和磁控溅射。Tim Booth教授对Moorfield的评价：在DTU，我们近从Moorfield采购了一套手套箱集成系统，系统配置包括软蚀刻系统、热蒸发和磁控溅射功能，用于我们研究二维材料和异质结的合成和应用。该系统允许我们在高精度控制的低氧和水气条件下执行2D材料器件的大部分微加工步骤。Moorfield团队在设计和安装过程中至关重要并且非常专业，如果有任何疑问，他们总是可以立即提供技术支持。他们在提供2D材料技术支持方面有多年的经验，所以我们知道我们有了得力的助手。系统的高质量和设计方案让我们印象深刻，我们期待着在未来的许多年里与设备和Moorfield团队一起工作。强烈推荐!”MiniLab090手套箱集成系统，图中红色部分为集成系统的控制屏幕和主机部分。曼彻斯特大学（手套箱集成退火和刻蚀系统）DR. ROMAN GORBACHEV对Moorfield的评价：我的团队近与Moorfield合作，为我们的应用方向定制了一个集成手套箱的热退火和软蚀刻组合系统。它安装于新的National Graphene Institute (NGI)，现在被用于石墨烯和2D材料的研究。我们一直对Moorfield的专业技术和提高客户满意度的奉献印象深刻，这次也不例外！西班牙光子研究所（手套箱集成退火和刻蚀系统）位于西班牙巴塞罗那Castelldefels 的ICFO （光子科学研究所）是一个致力于光学领域科学和技术的研究中心。DR. STIJN GOOSSENS对Moorfield的评价：在ICFO，我们正在努力建立一个的新材料研究中心。近安装的Moorfield 手套箱集成热退火系统、电子束沉积系统，以及新的nanoETCH系统，起到了关键作用。我们对他们专业的销售建议、他们系统的质量和可靠性以及他们快速、有效的支持印象深刻。很高兴能和他们的团队一起工作！Evonetix公司（MiniLab 026 热蒸发系统）Evonetix公司致力于利用基因合成技术，促进合成生物学领域的快速发展。Evonetix的优势是基因合成的高保真性和并行性。DR. DAN BRATTON PH.D对Moorfield的评价：在Evonetix，我们正在开创一种可扩展和高保真基因合成的创新方法。我们想拥有一种将金属蒸发到各种基材上的设备，我们联系了Moorfield Nanotechnology公司，该公司根据我们的要求定制了一个Minilab 026蒸发系统。在整个过程中，Moorfield Nanotechnology团队非常友好且知识渊博，在安装前后都提供现场培训。在Evonetix, Minilab 026已经被证明是非常有用的设备。特别是，我们喜欢它的紧凑设计，它的易用性，以及它所带来的样品数量的增加。我们愿意向任何人推荐该设备和团队。Evonetix团队与新安装的MiniLab026热蒸发系统曼彻斯特城市大学（MiniLab 060）DR. JUSTYNA KULCZYK对Moorfield的评价：在MMU，我们近成立了曼彻斯特燃料电池创新中心，以开发利用可再生能源的创新技术方案。为此，我们采购了Moorfield MiniLab 060磁控溅射系统，该系统具有快速进样室、衬底偏压和等离子清洗、脉冲直流和射频电源以及共沉积功能。在系统设计过程中，Moorfield提供了非常宝贵的建议。我们对系统和软件的质量，以及他们团队的专业知识、沟通和技术支持都留下了深刻的印象。我们将推荐给任何现在或将来考虑使用PVD系统的人。曼彻斯特城市大学正在利用Moorfield Nanotechnology公司的MiniLab 060系统进行先进的燃料电池的研究

脉冲激光沉积、分子束外延薄膜制备系统美国BlueWave公司是半导体设备、材料生产商。BlueWave提供多种薄膜制备系统，包括脉冲激光沉积(PLD)、电子束蒸发、热蒸发、反应溅射、热丝化学气相沉积(HFCVD)、热化学气相沉积系统(TCVD)。这些系统是理想的薄膜与涂层合成设备。可制备的薄膜包括氮化物、氧化物、多层膜、钻石、石墨烯、碳纳米管、2D材料。Blue Wave还提供相关系统配件，例如基片加热装置、原位监测工具。此外，BlueWave还为您提供标准的薄膜以及材料涂层，例如氧化物涂层、导电薄膜、无定型或纳米晶Si/SiC、晶体AlN-GaN、聚合物、纳米钻石、HFCVD钻石涂层以及器件加工。1、脉冲激光沉积系统产品特点：◆ 电抛光多空不锈钢超高真空腔体◆ 可集成热蒸发源或溅射源◆ 可旋转的耐氧化基片加热台◆ 流量计或针阀控制气体流量◆ 标准真空计◆ 干泵与涡轮真空泵◆ 可选配不锈钢快速进样室 ◆ 可选配基片-靶材距离自动控制系统◆ 可制备：金属氧化物、氮化物、碳化物、金属纳米薄膜、多层膜、超晶格等。 2、物理气相沉积系统（Physical Vapor Deposition Plus）产品特点◆ 超高真空不锈钢腔体◆ 电子束、热蒸发、脉冲激光沉积可集成◆ 立衬底加热，可旋转◆ 多量程气体流量控制器◆ 标准气压计◆ 机械、分子、冷凝真空泵可选不锈钢快速进样室◆ 衬底和源距离可控◆ 可用于金属氧化物、氮化物、碳化物、金属薄膜 3、热化学气相沉积系统（TCVD）产品特点◆ 高温石英管反应器设计◆ 温度范围：室温到1100℃◆ 多路气体控制◆ 标准气压计◆ 易于操作◆ 可配机械泵实现低压TCVD◆ 可用于制备金属氧化物、氮化物、碳化物、金属薄膜◆ 液体前驱体喷头◆ 2英寸超大温度均匀区4、热丝化学气相沉积系统（HFCVD）产品特点：◆ 水冷不锈钢超高真空腔◆ 热丝易安装、更换 ◆ 4个不同量程气体控制器◆ 标准气压计◆ 衬底与热丝距离可调节◆ 2英寸衬底加热、可旋转 ◆ 制备金刚石和石墨烯

Moorfield Nanotechnology是英国材料科学领域高性能仪器研发公司，成立二十多年来专注于高质量的薄膜生长与加工技术，拥有雄厚的技术实力，推出的多种高性能设备受到科研与工业领域的广泛好评。高精度薄膜制备与加工系统 - MiniLab是英国Moorfield Nanotechnology公司经过多年技术积累与改进的旗舰型系列产品。MiniLab系列产品的定位是配置灵活、模块化设计的PVD系统，可用于高质量的科学研究和中试生产。高精度薄膜制备与加工系统 - MiniLab自推出以来销售已突破200套。这些设备已经进入了欧洲各大学和科研单位实验室，诸如曼彻斯特大学、剑桥大学、帝国理工学院、诺森比亚大学、巴斯大学、埃克塞特大学、伦敦玛丽女王大学、哈德斯菲尔德大学、莱顿大学、亚森工业大学、西班牙光子科学研究所、英国物理实验室等著名单位都是Moorfield Nanotechnology的用户和长期合作者。诸多的用户与合作者让产品的性能和设计理念得到了高速发展，并迈入全球化的进程。如今Quantum Design中国子公司与Moorfield Nanotechnology正式合作，作为中国的总代理和战略合作伙伴，将为中国用户提供高性能的设备与优质的服务。除了MiniLab系列之外我们还提供多种高性能的台式设备和定制服务。设备型号MiniLab 026MiniLab 026系统是小型落地式真空镀膜设备，具有容易操作的“翻盖”式真空腔。适用于金属、电介质和有机物的蒸发和溅射沉积镀膜。MiniLab 026采用一体化设计方案，真空腔的一部分向下插入支撑框架内。腔室可以采用翻盖式或钟罩式。该系统可配备多种沉积技术，热蒸发和低温蒸发源(生长金属和有机物)，磁控溅射源(金属和无机)。沉积源通常安装在腔室底部，样品他安装在部，可容纳直径达6英寸的基片。可提供基片加热、旋转和Z-shift。MiniLab 026还与手套箱兼容，是MiniLab系列中可以轻松与用户现有手套箱集成的系统。薄膜生长方式可选：热蒸发（金属）、低温热蒸发(有机物)、磁控溅射（金属、氧化物、氮化物、缘体）MiniLab 060MiniLab 060系统是MiniLab系列中受欢迎的通用平台，具有前开门式的箱式腔室，适用于多源磁控溅射，也适用于热蒸发和电子束蒸发。MiniLab 060采用一体化设计方案，真空腔体安装在控制系统电子机柜上。系统可以配备各种沉积技术，包括热蒸发和低温蒸发源(生长金属和有机物)，磁控溅射源(金属和无机)，电子束源(除有机物外的大多数材料类别)。沉积源通常安装在腔室底部，但溅射源也可以采用部安装的方式。样品台可容纳的基片尺寸高达11英寸，可提供基片加热、旋转、偏压和Z-shift。可配置行星式样品台、源挡板和基片挡板。系统配置可从手动操作的热蒸发系统到具有全自动过程控制的多种生长方案。必要时MiniLab 060系统可提供快速进样室。薄膜生长方式可选：热蒸发（金属）、低温热蒸发(有机物)、电子束蒸发、磁控溅射（金属、氧化物、氮化物、缘体）MiniLab 080MiniLab 080采用高腔体设计，非常适合热蒸发、低温热蒸发和电子束蒸发，更长的工作距离以获得更好的薄膜均匀性。MiniLab 080真空腔体安装于控制系统电子机柜上。该系统非常适用于需要较长的工作距离以获得更好均匀性的蒸发技术。蒸发入射角接近90°，对于光刻器件获得好的lift off效果。除了热蒸发、有机物热蒸发和电子束蒸发外，该系统还可以用于磁控溅射（用做复合生长系统）。样品台通常在腔室的部，可以容纳基片尺寸高达11英寸直径。可提供基板加热、旋转、偏压和Z-shift。可配置行星式样品台、源挡板和基片挡板。系统配置可从手动操作的热蒸发系统到具有全自动过程控制的多种生长方案。必要时MiniLab 080系统可提供快速进样室。薄膜生长方式可选：热蒸发（金属）、低温热蒸发(有机物)、电子束蒸发、磁控溅射（金属、氧化物、氮化物、缘体）MiniLab 090MiniLab 090系统是为兼容手套箱开发的，适用于对大气敏感的薄膜生长。高腔室设计方案是高性能蒸发的理想选择，同时也可以采用磁控溅射方式。MiniLab 090系统是用于金属、电介质和有机物沉积的落地PVD系统。系统包含一个箱式不锈钢腔体，前、后双开门设计可与手套箱集成，允许通过手套箱中前门或者外部的后门对系统进行操作。真空腔体具有大的高宽比，非常适合通过蒸发技术进行长工作距离的高均匀性涂层，但系统也可以配备磁控溅射。真空度优于5×10-7mbar。针对客户的预算和需求可提供非常灵活的配置。系统配置可从手动操作的热蒸发系统到具有全自动过程控制的多种生长方案。薄膜生长方式可选：热蒸发（金属）、低温热蒸发(有机物)、电子束蒸发、磁控溅射（金属、氧化物、氮化物、缘体）MiniLab 125MiniLab 125系统将模块化设计概念带进了中试规模。大的腔室允许增加组件的尺寸，进而满足大面积涂层需求，结合快速进样室设计方案，可提高样品的吞吐量。同时，系统是完全可定制化的，以匹配特定的镀膜需求。MiniLab 125系统是落地式真空镀膜设备可用于金属、电介质和有机薄膜沉积。系统包含一个带有前门的箱式不锈钢腔体，用于取放样品。大的腔室体积可以用于中试规模的涂层或采用较为复杂的配置满足灵活多变的实验需求。系统可安装所有主要的沉积组件或定制的组件。系统的本底真空可达5×10-7mbar。可根据用户的预算和具体应用采用灵活的配置方案。薄膜生长方式可选：热蒸发（金属）、低温热蒸发(有机物)、电子束蒸发、磁控溅射（金属、氧化物、氮化物、缘体）

仪器简介：超高效快速制备色谱系统puriFlashTM430evo 产品简介 法国Interchims公司在色谱领域拥有40多年的生产经验和核心的竞争力。在公司的研究计划和主要客户合作共同努力下，研制出puriFlashTM430evo这套高效、功能强大的模块化快速色谱系统，将快速色谱纯化技术推向一个新的高峰，是最先进的系统之一。该系统简化并改进了化学合成和生化分离中的纯化过程，同时使用户操作更加灵活。 该系统的核心是一个双头高压泵，它能在精确度为1%内混合四种溶剂完成最多四元梯度洗脱。该系统是高效多功能模块化快速色谱系统，集Flash与prep LC功能于一体。其简化和改进了化学合成和生化分离的纯化过程，使用户操作更加灵活。广泛应用于天然产物、有机合成产物和蛋白质生物高分子等的分离纯化和制备。 功能优点： ● 一台设备具有 两种功能：Flash和prep LC。 ● 适合由小到大规模的纯化，支持更大范围的层析住（2.5g-1.6Kg）。采用更小填料，分离效果更好，灵敏度更高，并提高产品的纯度。 ● 运行更快，提高了峰分辨率，同时还节省时间和节约溶剂。 ● 增大柱子的分离负载量，提高了生产率，对于更大规模的分离具有更高的重复性。 ● 溶剂检测（流动相和废液）和检漏功能，噪音35dB。 ● 人机工程学：直观方便，操作高速的系统，总线保证高效的数据传输，具有4个USB接口；技术参数：主要参数：  层析柱适用范围：2.5g-1.6Kg  最大泵流量：200 ml/min  最大耐压：435PSI（30Bar）  梯度洗脱：最多可进行4元梯度洗脱，洗脱无残留  上样方式：自动进样，液态或固态，可选择四种不同层析系统洗脱  馏分检测：紫外/可见可变多波长检测器（200nm-600nm），可进行双波长检测  馏分收集：自动可调收集系统，4个馏分收集架（标配：176支，18 x 150mm试管），用户可自定义馏分收集架  系统控制：嵌入式电脑，10.5&rdquo 触摸屏，Windows XP系统，InterSoft工作站  系统尺寸：采用紧凑的模块化设计，445× 460× 680 mm  溶剂检测水平（流动相和废液）  防漏检测  机器运行噪音 38db主要特点：性能特点： ● PuriFlashTM430evo系统具有快速纯化（Flash）与制备液相色谱（prep LC）双重功能； ● 具有由小到大规模的样品纯化功能，可使用所有领先品牌生产商生产的层析柱（2.5g-1.6Kg）； ● 系统核心为专利生产的双头高压泵，流速可达200ml/min，压力可达435psi/30bars，能进行单元、二元、三元和四元梯度洗脱； ● 自动进样，可以固体/液体形式进样，采用四位选择阀控制，最多选择四种不同方法运行。 ● 紫外/可见可变多波长检测器，波长范围200nm-600nm，同时可进行双波长检测； ● 全自动可调节的馏份收集器，采用4支架形式，具有独特的用户自定义样品架功能。 ● 使用直径为15&mu ，30&mu 5和0&mu 超纯硅胶微球颗粒的puriFlash产品，可大大提高样品的纯化程度

KSV NIMA Langmuir和Langmuir-Blodgett膜分析仪用于制备和表征具有可控堆积密度的薄膜。当我们需要以半连续的沉积程序来制备超大面积的薄膜时，可以使用这种特殊的KSV NIMA roll to roll 柔性 LB膜制备系统。纳米材料薄膜涂层制备使用纳米颗粒材料制备的涂层和薄膜在各种产品和应用中越来越受到人们的重视和使用，如显示器、传感器、医疗器械、储能材料和能量采集材料等。成功制备出能同时满足堆积密度、分子取向、膜厚度等多参数要求的均一涂层成为了众所周知的科研挑战。而解决这种纳米颗粒薄膜涂层制备的一类精密技术就是KSV NIMA 的Langmuir-Blodgett (LB) 技术和 Langmuir-Schaefer (LS) 技术。技术优势KSV NIMA Langmuir膜分析仪可以在液-气界面制备单分子层，而KSV NIMA Langmuir Blodgett膜分析仪可以在液-气界面处形成单分子层，然后将该层作为涂层转移到固体基质上。Langmuir和Langmuir-Blodgett技术具有独特的优势，它们在全球被广泛应用于研究一些最基本的科学问题。 这些优点包括：精确控制分子堆积密度精确控制涂层厚度在大面积上均匀沉积可制备具有不同层结构的多层结构可使用不同种类的颗粒和基材，具有高度的灵活性在沉积之前可以预先监控涂层质量KSV NIMA 柔性LB膜制备系统KSV NIMA Langmiur和Langmuir-Blodgett膜分析仪是制备和研究单分子层的首要工具。基于30年来研究Langmuir膜累积得到的专业知识和经验，KSV NIMA 膜分析仪系统已成为一款多用途、功能强大的仪器，可以帮助您获得高质量数据。该系统设计非常灵活和坚固，可以确保超高质量的结果。当我们需要以半连续的沉积程序来制备超大面积的薄膜时，可以使用一种特殊的KSV NIMA 柔性 LB膜制备系统。操作原理如上图所示，在柔性膜制备过程中，柔性基材被连续地输送入槽体，在槽体中穿过单层纳米颗粒或其他材料。通过对沉积参数进行精确控制，能够快速地沉积大面积的均匀薄膜。柔性基材的运动由计算机控制的电动辊推动。在此过程中，超灵敏度的微量天平实时监测纳米颗粒的堆积密度。特点与优势质量单个固体PTFE槽（包括浸渍井）可以轻松清洁，没有任何胶水或涂层污染。可调支架、槽顶定位销、限位开关和溢流通道确保系统的安全可靠使用。支架可以很容易地移除来与显微镜集成。集成所有高精度部件的外壳一体化设计，坚固耐用。KSV NIMA广泛的知识和应用支持团队让您可以充分利用您的仪器-与当地合作伙伴和全球工程师合作。可用性采用超灵敏的压力传感器，使用标准Wilhelmy白金板方法进行表面压力感应。可选用一次性纸板来避免清洁或在有限空间内使用高质量铂金棒。功能强大的KSV NIMA LB软件将所有控制和数据分析集成到同一软件中，包括不同的表征工具。所有的槽都带有集成的温度控制通道，可以方便地与独立恒温水浴一起使用。多功能性专门的表征工具可以保证在涂层之前和涂层工艺之后的漂浮薄层质量。采用简单的槽体和滑障放置的开放式模块化设计，便于与特征化系统集成，可升级并易于清洁零件。同时允许在液-液界面处进行研究，并且可以使用交替系统在单个实验中对两种不同材料自动进行交替镀膜。提供各种配件如pH探头、不同尺寸的Wilhelmy板、注射口等应用概述KSV NIMA Langmuir和Langmuir-Blodgett膜分析仪可用于制备高度复杂的有序薄膜。 这些应用包括： 用纳米颗粒制备功能性涂层（改变例如润湿性、反射性、生物相容性、导电性、结合性质等） 在空气-缓冲液界面处形成模型细胞膜，研究毒素或药物对细胞膜的影响 形成用于研究聚合物交联、稳定性、降解等的聚合物薄膜 用多组分结构构建复杂的传感器表面 研究两亲分子的相互作用、吸附、解吸、界面稳定性和结构 界面流变学研究，以确定薄膜的稳定性、相变或反应通常用于薄膜制作的材料包括： 纳米颗粒（聚合物，陶瓷，金属）和石墨烯 脂质体和磷脂 聚合物和低聚物 蛋白质，多肽和其他生物聚合物 量子点 表面活性剂、乳液、胶体 其他两亲性分子软件KSV NIMA LB软件是制备涂层和研究Langmuir薄膜的强大工具。 基于30年的经验，KSV NIMA LB软件包含有效和简便的测量和数据处理所需的所有工具。多功能测试模式使得测量涵盖从浸渍到压缩等温线、吸附研究和界面流变学。 该软件将整个测量设置与结果一起保存，便于分析。 所有数据都可以根据需要轻松查看、绘图、报告和导出。测试功能包括： 用于沉积材料层的镀膜模式，包括镀膜效果参数转移比，在整个浸渍过程中保持堆积密度恒定 压缩/弛豫等温线，用于分子相互作用和相变 等温等压线，通过自动保持压力稳定并跟随温度/面积变化 单分子层动力学，用于酶、聚合或任何其他零级反应 酶、蛋白质、肽和类似分子的吸附和渗透 采用滑障振荡法测试界面流变学，用于Langmuir膜的粘弹性研究、乳液或泡沫稳定性等 集成的KSV NIMA表征工具功能，便于集成如与KSV NIMA 小型布鲁斯特角显微镜 MicroBAM联用时基于表面压力的自动图像记录应用实例纳米颗粒、石墨烯和氧化石墨烯涂层LB和LS技术提供了制备高度有序堆积的纳米颗粒薄膜的平台。 这些涂层具有特殊功能，可用于新的应用。在KSV NIMA中型槽上使用Langmuir-Blodgett技术沉积在石英基底上的单分子层200nm直径聚苯乙烯纳米球。 （a）单分子层的AFM图像，（b）同一图像的傅立叶变换，表明采用该技术可实现优异的结晶度。Copyright Dr. Alaric Taylor浸渍镀膜、LB和LS技术已被证明是控制石墨烯和氧化石墨烯薄膜的优良方法。 这些方法大大提高了由液体剥离方法生产得到的SG和SGO的沉积分散可控性。由于液体剥离法被认为是具有极大潜力的工业大规模生产石墨烯的方法，因此这些沉积方法在石墨烯研究中具有重要意义。利用PM-IRRAS，可以记录漂浮和沉积层的详细IR光谱以确定化学组成。 可制备一张石墨烯片，以验证LS是制备和研究单层石墨烯和氧化石墨烯薄膜的好方法。Gilje, S. et al., ‘Nano Letters’ (2007), 7, 3394-339亲脂性蛋白常常存在于细胞膜中，漂浮单分子层模型可用于研究它们在接近原始环境时的相互作用，研究参数包括不同环境或含量的膜的堆积密度。配件KSV NIMA提供了广泛的配件选择，可以集成到系统中提供进一步的检测表征功能。包括: MicroBAM 布鲁斯特角显微镜用于确保预沉积膜的表面结构完整性 用于自动导入样品颗粒或分子的自动进样泵 亚相蒸发补偿工具，防止长时间测量中的亚相蒸发 用于研究分子取向排布的表面电位仪(SPOT) Langmuir-Schaeffer水平沉积样品架 用于沉积环境的温度监控设备 用于监测沉积液体的pH测量探针 用于将样品直接导入亚相的注射端口 用于研究分子取向排布的表面电位仪(SPOT) Langmuir-Schaeffer水平沉积样品架 用于沉积环境的温度监控设备 用于监测沉积液体的pH测量探针 用于将样品直接导入亚相的注射端口技术参数KSV NIMA 柔性 LB膜制备系统表面积2330 cm2槽体内部尺寸685 mm x 340 mm x 4 mm 滑障速度(mm/min)0.1...270滑障类型1 个, POM材质膜天平测量范围(mN/m)0...300膜天平分辨率 (mN/m)0.03膜天平数量1 -2个亚相容积(mL)5430浸渍井尺寸300 mm x 300 mm x 50 mm柔性基板宽度1… 200 mm柔性基板转速1… 100 mm/min辊轴运动位置分辨率20 um薄膜提拉角度可调节, 30°- 90 °镀膜方式手动或半自动镀膜方式手动或半自动兼容性LB膜浸渍镀膜头、小型布鲁斯特角显微镜、表面电位仪、自动进样泵、亚相蒸发补偿工具、LS水平镀膜装置等

LC-Forte/R多功能循环制备色谱仪创新点：1、同时搭载MPLC和HPLC功能，MPLC用于快速初步纯化，HPLC用于目标物质最终纯化2、标配循环制备功能，可以将常规制备色谱装置无法分离的目标物质得以轻松实现高纯分离制备 LC-Forte/R是YMC全新推出的中低压和高压兼容多功能半制备色谱仪，可使用Flash柱、中低压玻璃柱及高压不锈钢色谱柱，样品的前期粗分到后续高纯度分离可在一台设备上完成，在节约成本的同时极大地提高分离纯化的效率。 对于分子结构差别较小的化合物分离纯化，理论上可以通过加长色谱柱得到分离，但在实际应用中，随着色谱柱长度增加，柱压升高，成本增加，且填充的难度也会增大，所以仅通过增加色谱柱长度，无法完全分离提纯结构相似的化合物。循环制备液相色谱仪是在常规制备色谱仪的基础上，通过切换装置将检测器中流出的分离物质再次注入色谱柱，进行多次分离，这就相当于延长了色谱柱的长度，而且避免了柱压升高。 常规的凝胶色谱因分子量相差很小，是很难实现完全分离的，但对循环制备液相色谱仪而言，却可以通过多次分离而轻松解决。 循环制备技术已被广泛应用于难以分离的结构相似的多组分混合物的分离提纯，如：顺反异构体、手性异构体、天然产物、生物药物、富勒烯和其他结构近似物。 LC-Forte/R同时搭载MPLC和HPLC制备纯化功能，在1台设备上实现从样品粗分到高纯化分离，在其紧促的机身内集中了制备中需要的所有功能，包括：再循环功能、自动进样、自动清洗功能、可变3波长紫外检测器等。 触摸屏控制/谱图显示 标准配置10.4英寸的彩色LED触摸屏，直观显示，操作简便，无需配置计算机即可实现设备控制、谱图处理和数据储存。HPLC/MPLC功能 通过高性能切换阀可实现二元低压梯度洗脱，MPLC模式对混合样品进行粗分，HPLC对含有目标物质的馏分进行等度洗脱/循环分离，制备获得超高纯度的目标物质。再循环分离制备功能 对于难以分离的混合样品，很难在1次分离就能获得良好的分离效果，LC-Forte/R可将样品循环多次通过色谱柱，最终达到分离要求，并且可以大大节省试剂的消耗。可变3波长UV检测器 标准配置新开发的可变3波长UV检测器，增大了液相的使用范围和色谱柱的选择性，无须在意波长的选择，可直接进样，非常适合于天然物的分离制备。另外，还可以配置示差折光检测器，与UV检测器同时使用，不会遗漏重要样品的检出。输液泵 采用YMC独自研发的侧电动驱动式泵，保证了输液的稳定性和高耐压性能，最大流量为50ml/min，最高耐压为30MPa。 LC-Forte/R产品规格LC-Forte主机Column SpecificationsLC触摸屏10.4英寸OS: Windows Embedded Standard 2009设备控制LCD触摸屏或外接电脑堆积进样功能电磁切换抽吸模式手动进样器附带进样器(标配10mL定量环)Manual/Auto模式进样、再循环、收集重叠进样电磁阀切换模式清洗功能分步式柱清洗+流路自动清洗再循环功能电磁切换模式简易梯度功能电磁阀切换低压梯度方式简易梯度功能内藏专用软件外接PC控制功能专用软件/LAN连接标记标示功能开始、进样、收集等泵的时间控制功能泵自动停止限压功能任意设定上限值色谱图表示功能设备LCD屏幕上表示色谱图数据保存USB储存或外接PC模拟信号输出可（模拟信号端口）LAN端口1漏液感应器搭载检测器收藏设备框体内机箱大小500(W)×500(D) ×400(H)mm电源AC100-240V功率400W重量约35kg输液部分功能配置参数最大流量50.0mL/min最小流量0.1mL/min流量精度±2%（5mL/以上时）耐压30MPa上下限压力限制器标准配置输液泵控制模式侧电动驱动双柱塞泵驱动电机AC伺服电动机接液部材质SUS316，氧化锆，PEEK，PTFE，红宝石，蓝宝石压力表模拟显示（PC表示）检测器功能和规格3波长UV检测器LC-Forte检测器类型配置参数型号YUV-3400波长200-400nm（3波长同时检测）光源氘灯感度/噪音1.3×10-4AU漂移3.0×10-3AU/h测定方式单波束透过方式 示差折光检测器（选配）LC-Forte示差折光检测器类型配置参数型号YRI-8830光源LED流通池8μL感度/噪音1.4×10-6RIU漂移7.9×10-6RIU/h折光率范围1.00-1.75测定方式特殊反射清零功能有 示差折光检测器（带温控，选配）LC-Forte温控示差折光检测器类型配置参数型号YRI-8800光源LED流通池8μL感度/噪音1.2×10-9RIU漂移2.0×10-8RIU/h折光率范围1.00-1.75测定方式特殊反射温度控制 / 清零功能有LC-Forte馏分收集器功能配置参数馏分收集方式出峰收集（连接PC控制软件），重演收集馏分试管数21支（标配）对应馏分容器φ40×21外形大小300(W)×500(D) ×300(H)mm电源主机供给 LC-Forte/R多功能循环制备液相色谱仪手性化合物拆分实例：

概述：沉积系统可用于制备光学薄膜、电学薄膜、磁性薄膜、硬质保护薄膜和装饰薄膜等，工艺性能稳定、模块化结构，采用行业最好的软件控制系统；4英寸镀膜区域内片内膜厚不均匀性：≤±2.5%，8英寸镀膜区域内片内膜厚不均匀性：≤±3.5%，测定标准以Ti靶材，溅射200——500nm厚薄膜，边缘去5mm，随机5点取样测定为准。样品托面中心到地面的高度约1360mm；镀膜材料适用于：Au、Ag、Pt、W、Mo、Ta、Ti、Al、Si、Cu、Fe、Ni、氧化铝，氧化钛，氧化锆，ITO，AZO，氮化钽，氮化钛等；PVD平台概述：既专注单一功能、又可通过拓展实现多平台联动： 1、 关键部件接口都为标准接口，可以通过更换功能单元实现电子束、电阻蒸发、有机蒸发、多靶或单靶磁控溅射、离子束、多弧、样品离子清洗等功能；2、 系统平台为准无油系统，提供更优质的超洁净实验环境，保障实验结果的可靠性和重复性；3、 系统可以选择单靶单样品、多靶单样品等多层沉积方式；4、 靶基距具有腔外手动调节功能；5、 系统设置一键式操作，可以实现自动手动切换、远程控制、远程协助等功能；6、 控制软件分级权限管理，采用配方式自动工艺流程，提供开放式工艺编辑、存储与调取执行、历史数据分析等功能，可以不断更新和升级；7、 可以提供网络和手机端查询控制功能（现场要具备局域网络），实现随时查询数据记录、分析统计等功能；8、 节能环保，设备能耗优化后运行功率相比之前节能10%；； 9、 可用于标准镀膜产品小批量生产。 互联系统技术描述 真空互联系统由物理气相沉积磁控溅射系统A、物理气相沉积磁控溅射系统B、物理气相沉积、电子束及热阻蒸发镀膜系统A、物理气相沉积电子束及热阻蒸发镀膜系统B、进样室、出样室、传输管、机械手等组成，可以实现样品在真空环境下不同工艺方法的样品薄膜制备和传递。

联合日本科学与技术研究所（JST）开发，并且在多个国家注册了该项技术的专利！该设备用于制备纳米碳材料，如碳纳米管粉、碳纳米管薄膜和定向碳纳米管制备；采用封闭式管式炉，石英反应管直径50mm/70mm~110mm*1000mm，基底尺寸60mm*60mm到120mm*120mm；气源包括氢气、氮气、甲烷、酒精等；MPCVD是一种碳纳米管化学汽相沉积综合系统，具备一个水平石英管式炉,该系统可以大量稳定生产垂直对齐的CNT和各种粉末CNT。成熟稳定的工艺保证了制备质量和数量，也可用于三维形状的CNT制备。乙醇注入装置配备一个滴定法流量控制系统，气体输入端口配备三通道质量流量气体控制器(惰性气体,碳氢化合物气体,氢气)。真空排气系统使得该系统能够在一个广泛的气压下运行，从大气到低压(10 Pa),也可用作为热处理系统，例如：真空炉、大气炉、氮化炉。 相关产品：1. 纳米颗粒制备系统； 2. ZnO纳米带制备系统； 3. 碳纳米管制备系统：用于高质量碳纳米管制备、纳米颗粒或薄膜制备、ZnO纳米带制备等； 4. 碳纳米管生产系统CVD：用于粉末碳纳米管、nanofiber, nanocoil, and film-type CNTs 等； 5. 催化剂薄膜制备系统：可沉积催化剂薄膜在各种材料上，用于高性能碳纳米管的指标；技术特点： *成熟的碳纳米材料制备工艺和丰富的经验 *乙醇和碳氢化合物作为碳源 *用于SWCNT 合成 *具备催化剂前体供应功能 *可以合成较长长度 ( ~500 um)垂直对齐的CNT和粉末状的CNT *具备三通道气体质量控制器 *体积小，基座稳定 *高温度：1200度； *价格优惠； *运行成本低；技术参数：基底尺寸60mm*60mm到120mm*120mm；粉末碳纳米管、nanofiber, nanocoil, and film-type CNTs 等；

超高真空光学显微镜/光谱仪测试系统Ultra-high Vacuum (UHV) Optical / SpectroscopicMicroscope System将光学显微镜或光谱仪模组对接于超高真空系统，可以作为超高真空互联系统的检测节点之一，用于材料和器件在不同制备环节之间对外延的薄膜或者转移沉积的二维材料等样品的质量进行快速无损检测。产品特性和核心技术模块化设计，光学部分相对独立。&bull 包含光学显微镜、激光离焦量传感器、自动调焦和共聚焦耦合光路等等在内的全部光学部分全部集成于一个光学模组之中，作为整体置于超高真空腔体之外，透过视窗玻璃聚焦于真空腔内的样品表面。&bull 不污染真空内环境。&bull 超高真空系统烘烤时可以整体取走，并在烘烤完毕之后方便地定位安装。&bull 可根据用户需求，灵活配置激光器、单色仪、探测器和物镜等光学组件。视窗玻璃厚度像差的补偿校正。&bull 拉曼光谱的高收集效率和分辨率。性能参数：注：上述表格中的激光波长、物镜和单色仪等部件可以根据客户需求调整。测试案例：超高真空长工作距离（120 mm）显微测试

多功能微波变频化学反应系统是本公司经历多年探索，首次突破国际标准频率915MHZ和2450MHZ以外，针对用户的特殊需求研制而成，主要用于探索更多频率、变频过程以及变频脉冲对物质的微波热效应（吸收均匀性、升温速率、滞后及过冲现象）和非热效应（电效应、磁效应、电化学效应等）。探索特定频率下微波消解、合成、催化和萃取等反应的变化和产物；研究变频微波对有机、无机化合物、药物中间体以及纳米材料制备过程的影响；开发以煤脱硫为代表的能源燃料及其新能源产品。多功能微波变频化学反应系统作为微波领域首创的多波段新型反应仪器必将引领工程及制造行业跨越式的发展。本款仪器又名：无极调频微波化学反应仪，低频段变频微波化学反应器，可调频紫外微波化学反应系统，多功能微波可调频化学反应系统二、系统特点：●采用脉冲式水冷微波发生系统，功率输出稳定、场强分布均匀；微波功率可微调； ●全时段程序设定，可进行控温微波处理、定时微波处理、功率脉冲控制、变频脉冲控制；●实现了可视化界面控制、高精度程序控温、多通道数据储存，以及定向传输等功能。●反应釜可选配聚四氟乙烯或者耐高温、耐腐蚀玻璃材料，通过低温冷却真空泵系统可做超低温微波真空干燥或其他无水反应、低温反应、聚合反应等； ●可选配温度（或压力）控制并带磁力搅拌或者振荡装置的聚四氟乙烯消解罐（水热合成反应釜）； ●参数控制部分采用高灵敏触摸屏操作系统，所有参数可编程式控制，五组实验数据储存； ●仪器配有10寸超薄、超高清、多功能液晶大屏幕显示； ●配高精度非接触式红外测温或接触式光纤、铂金传感测温系统，实时准确检测反应温度，准确控制反应进程温度；控制范围：0-500℃，控温精度：&le ± 1℃；；实时准确检测反应温度，准确控制反应进程温度；控制范围：室温-500℃，控温精度：&le ± 1℃； ●采用独有的变频式鼓风散热与程序控制制冷装置，使腔体内温度保持恒定； ●工作时间：可连续工作，在0-9999s可调； ●配不同速度的磁力搅拌和机械搅拌、振荡和样品升降装置，以便与微波联用； ●仪器自带玻璃导管与氟胶导管，采用开放式反应体系，可安装滴液漏斗和冷凝管等进行回流反应，亦可以实现在线分析环境、生物、药物等样品； ●具有超温和传感器异常保护，高可靠性、安全性； ●采用不锈钢内外壳，防磁性，以防止磁性材料进入腔体，打破内件结构，经久耐用；●可应用于生物、医学、化学、制药、食品、化妆品、环保等实验室研究及企业生产；●整台仪器均采用国内外最先进技术与先进材料制成，外观新颖，微波泄露符合国家标准；（图）：多功能微波变频化学反应系统选型表： 型 号微波功率微波频率处理量（ml） 磁控管冷却方式搅拌方式XO-KP900 100~500W600~900MHz0.5~500ml水冷方式机械和磁力搅拌XO-KP950100~500W750~950MHz0.5~500ml水冷方式机械和磁力搅拌

多功能微波变频化学反应系统是本公司经历多年探索，首次突破国际标准频率915MHZ和2450MHZ以外，针对用户的特殊需求研制而成，主要用于探索更多频率、变频过程以及变频脉冲对物质的微波热效应（吸收均匀性、升温速率、滞后及过冲现象）和非热效应（电效应、磁效应、电化学效应等）。探索特定频率下微波消解、合成、催化和萃取等反应的变化和产物；研究变频微波对有机、无机化合物、药物中间体以及纳米材料制备过程的影响；开发以煤脱硫为代表的能源燃料及其新能源产品。多功能微波变频化学反应系统作为微波领域首创的多波段新型反应仪器必将引领工程及制造行业跨越式的发展。本款仪器又名：无极调频微波化学反应仪，低频段变频微波化学反应器，可调频紫外微波化学反应系统，多功能微波可调频化学反应系统二、系统特点：●采用脉冲式水冷微波发生系统，功率输出稳定、场强分布均匀；微波功率可微调； ●全时段程序设定，可进行控温微波处理、定时微波处理、功率脉冲控制、变频脉冲控制；●实现了可视化界面控制、高精度程序控温、多通道数据储存，以及定向传输等功能。●反应釜可选配聚四氟乙烯或者耐高温、耐腐蚀玻璃材料，通过低温冷却真空泵系统可做超低温微波真空干燥或其他无水反应、低温反应、聚合反应等； ●可选配温度（或压力）控制并带磁力搅拌或者振荡装置的聚四氟乙烯消解罐（水热合成反应釜）； ●参数控制部分采用高灵敏触摸屏操作系统，所有参数可编程式控制，五组实验数据储存； ●仪器配有10寸超薄、超高清、多功能液晶大屏幕显示； ●配高精度非接触式红外测温或接触式光纤、铂金传感测温系统，实时准确检测反应温度，准确控制反应进程温度；控制范围：0-500℃，控温精度：&le ± 1℃；；实时准确检测反应温度，准确控制反应进程温度；控制范围：室温-500℃，控温精度：&le ± 1℃； ●采用独有的变频式鼓风散热与程序控制制冷装置，使腔体内温度保持恒定； ●工作时间：可连续工作，在0-9999s可调； ●配不同速度的磁力搅拌和机械搅拌、振荡和样品升降装置，以便与微波联用； ●仪器自带玻璃导管与氟胶导管，采用开放式反应体系，可安装滴液漏斗和冷凝管等进行回流反应，亦可以实现在线分析环境、生物、药物等样品； ●具有超温和传感器异常保护，高可靠性、安全性； ●采用不锈钢内外壳，防磁性，以防止磁性材料进入腔体，打破内件结构，经久耐用；●可应用于生物、医学、化学、制药、食品、化妆品、环保等实验室研究及企业生产；●整台仪器均采用国内外最先进技术与先进材料制成，外观新颖，微波泄露符合国家标准；（图）：多功能微波变频化学反应系统选型表： 型 号微波功率微波频率处理量（ml） 磁控管冷却方式搅拌方式XO-KP900 100~500W600~900MHz0.5~500ml水冷方式机械和磁力搅拌XO-KP950100~500W750~950MHz0.5~500ml水冷方式机械和磁力搅拌

碳纳米管制备设备（碳纳米管制备系统，碳纳米管生长系统），可用于制备碳纳米管，包括垂直方向碳纳米管生长；在Si、石英、陶瓷、各种金属（不锈钢，Ti和Pt等）等多种基底上用廉价的酒精、汽油或者生物燃料等作为碳源生长碳纳米管；系统封闭腔体不但保证必要的真空度，而且还可对基底进行加热。联合日本科学与技术研究所（JST）开发，并且在多个国家注册了该项技术的专利！相关产品：1. 纳米颗粒制备系统；2. ZnO纳米带制备系统；3. 材料碳化研究系统：用于agricultural and forestry waste, papers, recyclable plastics, and so on；4. 碳纳米管生产系统CVD：用于粉末碳纳米管、nanofiber, nanocoil, and film-type CNTs 等；5. 催化剂薄膜制备系统：可沉积催化剂薄膜在各种材料上，用于高性能碳纳米管的指标；技术参数：碳纳米管生长、制备装置（包括垂直方向碳纳米管生长)；Au, Ag, Cu, Al, Si, Ti, Mg, Zn等纳米颗粒制备；ZnO纳米带制备；处理温度范围：400~800℃实时碳纳米管生长过程中温度监控反应源：含碳气体或者液体酒精主要特点：*价格优惠； *运行成本低； *制备速度快； *支持基底加热； *保证一定的真空度；*成熟的工艺和丰富的经验；*操作便捷； 技术介绍：*装备乙醇喷射单元；无需易燃烃化物气体。*碳纳米管生长只需几分钟，整个操作过程不超过30分钟。*小型化设计、操作简便、低成本、高质量碳纳米管。*在碳纳米管合成过程中，不需要使用还原性气体（氢气）使催化剂还原，因为使用的乙醇碳源本身具有很强的还原性。乙醇的金属还原性使得碳纳米管能够直接在多种合金材料上沉积，比如，NiCu, SUS等等。而不需要预先沉积催化剂薄膜，因为Ni, Fe, or Co等催化性元素在合金中作为催化颗粒独立存在。*透明的玻璃腔室使得研究人员可以直接观察整个沉积过程。该系统满足高校研究所的碳纳米管合成实验的研究工作。

●该设备用于纳米级单层或多层膜、类金刚石薄膜、金属膜、导电膜、半导体膜和非导电膜等功能薄膜的制备，可实现共溅射，直流、射频兼容，适于科研院所和企业进行功能薄膜研发、教学和新产品开发，同时可在微米级粉末或颗粒上沉积薄膜进而达到表面改性的功能。建议选用公Research系列磁控溅射平台。●主体结构：全封闭框架结构，机柜和主机为分体式机构。●极限真空度：≤６.６３×10－5Pa，压升率优于国家标准。 ●真空配置：高速直联旋片泵一台，配置尾气处理装置，超高分子泵一台。●真空测量：两路电阻规，一路电离规；电阻规和电离规均采用防爆型金属封结真空规。●工件架系统：行星工件盘与公转工件盘可选，垂直溅射与共溅射兼容，可配置１个加热台，采用PID控制可烘烤加热到700℃。●磁控溅射系统：配置３个Φ50mm可折叠磁控靶（可扩展至4靶机构），向上溅射成膜；靶基距可调；靶内均通入冷却水冷却。●电源 ：2套直流电源；1套全固态射频电源；一套200W直流偏压电源。●充气系统：配置三路供气，二路分别配置质量流量控制器，线性±0.5 % F.S，重复精度±0.2% F.S，0-5V输出，在触摸屏上设置流量。●电气控制系统：采用功能化模块设计，匹配西门子人机界面+西门子控制单元，溅射时间可以设定并倒计时，能够根据工艺需求自动溅射。●特别说明：根据用户不同的工况和工艺要求，公司愿与客户联合研发，共享知识产权，公司致力于工艺与设备的完美匹配，该设备为公司与电子科技大学联合研发。

样品制备是现代色谱分析中重要的过程，这一过程占据了整个色谱分析61%的时间以及30%的误差来源[1]。另外，操作人员技术水平的参差不齐让分析结果的准确性与精密度无法得到保证。随着样品数量的增加，操作人员的作业负荷也随之增加，并且长时间接触有机溶剂也危害着实验人员的健康。睿科ISP系列多功能样品制备工作站建立在六轴机械手平台上，集合样品管理，液体处理，开关盖，震荡提取，离心分离等五大模块，使其达到样品制备过程无人化，而人工只需承担简单的制样与称样的工作，大大减少了样品制备过程中人工操作带来的影响，解放实验人员劳动力。 优势特点高通量每批次六个样品同时运行，批次间步骤交叠运行，一天最少处理120个样品全自动无人化工作平台，人工只需完成样品称量以及色谱上样的工作精确性机械化运行，无人工干扰，样品处理过程一致，使数据的精密性与准确性满足标准要求。安全性节约溶剂，避免实验人员与溶剂接触 应用领域农业：植物源性食品中以农残为主的农药检测 应用举例GB23200.108-2018 植物源性食品中草铵膦残留量的测定 液相色谱-质谱联用法GB23200.109-2018 植物源性食品中二氯吡啶酸残留量的测定 液相色谱-质谱联用法GB23200.110-2018 植物源性食品中氯吡脲残留量的测定 液相色谱-质谱联用法GB23200.111-2018 植物源性食品中唑嘧磺草胺残留量的测定 液相色谱-质谱联用法GB23200.112-2018 植物源性食品中9种氨基甲酸酯类农药及其代谢物残留量的测定 液相色谱-柱后衍生法GB23200.113-2018 植物源性食品中208种农药及其代谢物残留量的测定气相色谱-质谱联用法GB23200.115-2018 鸡蛋中氟虫腈及其代谢物残留量的测定 液相色谱-质谱联用法 参考文献[1] Majors R E. LC-GC Intl., 1991, 4(2): 10

多功能磁控溅射仪（ 高真空磁控溅射镀膜机）是用磁控溅射的方法，制备金属、合金、化合物、半导体、陶瓷、介质复合膜及其它化学反应膜等；适用于镀制各种单层膜、多层膜、掺杂膜系及合金膜；可镀制磁性材料和非磁性材料。设备关键技术特点秉承设备为工艺实现提供实现手段的理念，我们做了如下设计和工程实现，实际运行效果良好，为用户的专用工艺实现提供了精*准的工艺设备方案。靶材背面和溅射靶表面的结合处理-靶材和靶面直接做到面接触是很难的，如果做不到面接触，接触电阻将增大，导致离化电场的幅值不够（接触电阻增大，接触面的电场分压增大），导致镀膜效果不好；电阻增大导致靶材发热升温，降低镀膜质量。-靶材和靶面接触不良，导致水冷效果不好，降低镀膜质量。-增加一层特殊导电导热的软薄的物质，保证面接触。采用计算机＋PLC 两级控制系统角度、距离可调磁控溅射靶头可调角度，以便针对不同尺寸基片的均匀性，做精*准调控。基片和靶材之间的距离可调整，以适应不同靶材的成膜工艺的距离要求。 集成一体化柜式结构一体化柜式结构优点：安全性好（操作者不会触碰到高压部件和旋转部件）占地面积小，尺寸约为：长1100mm×宽780mm（标准办公室门是800mm宽）（传统设备大约为2200mm×1000mm），相同面积的工作场地，可以放两台设备。安全性-电力系统的检测与保护-设置真空检测与报警保护功能-温度检测与报警保护-冷却循环水系统的压力检测和流量-检测与报警保护匀气技术工艺气体采用匀气技术，气场更均匀，镀膜更均匀。基片加热技术采用铠装加热丝，由于通电加热的金属丝不暴露在真空室内，所以高温加热过程中不释放杂质物质，保证薄膜的纯净度。铠装加热丝放入均温器里，保证温常的均匀，然后再对基片加热。真空度更高、抽速更快真空室内外，全部电化学抛光，完全去除表面微观毛刺丛林（在显微镜下可见），没有微观藏污纳垢的地方，腔体内表面积减少一倍以上，镀膜更纯净，真空度更高，抽速更快。高真空磁控溅射仪（磁控溅射镀膜机）设备详情设备结构及性能1、单镀膜室、双镀膜室、单镀膜室＋进样室、镀膜室+手套箱2、磁控溅射靶数量及类型：1 ～ 6 靶，圆形平面靶、矩形靶3、靶的安装位置：由下向上、由上向下、斜向、侧向安装3、靶的安装位置：由下向上、由上向下、斜向、侧向安装4、磁控溅射靶：射频、中频、直流脉冲、直流兼容5、基片可旋转、可加热6、通入反应气体，可进行反应溅射镀膜7、操作方式：手动、半自动、全自动7、样品传递采用折叠式超高真空机械手工作条件类型 参数 备注 供电 ～ 380V 三相五线制 功率 根据设备规模配置 冷却水循环根据设备规模配置 水压 1.5 ～ 2.5×105Pa 制冷量 根据扇热量配置 水温 18～25℃ 气动部件供气压力 0.5～0.7MPa 质量流量控制器供气压力 0.05～0.2MPa 工作环境温度 10℃～40℃ 工作湿度 ≤50%设备主要技术指标-基片托架：根据供件大小配置。-基片加热器温度：根据用户供应要求配置，温度可用电脑编程控制，可控可调。-基片架公转速度 ：2 ～100 转 / 分钟，可控可调；基片自转速度：2 ～20 转 / 分钟。-基片架可加热、可旋转、可升降。-靶面到基片距离： 30 ～ 140mm 可调。-Φ2 ～Φ4 英寸平面圆形靶 2 ～ 3 支，配气动靶控板，靶可摆头调角度。-镀膜室的极限真空：6X10-5Pa~6X10-6Pa，恢复工作背景真空 7X10-4Pa ，30 分钟左右（新设备充干燥氮气）。-设备总体漏放率：关机 12 小时真空度≤10Pa。关于鹏城半导体鹏城半导体技术（深圳）有限公司（简称：鹏城半导体），由哈尔滨工业大学（深圳）与有多年实践经验的工程师团队共同发起创建。公司立足于技术前沿与市场前沿的交叉点，寻求创新引领与可持续发展，解决产业的痛点和国产化难题，争取产业链的自主可控。公司核心业务是微纳技术与高端精密制造，具体应用领域包括半导体材料、半导体工艺和半导体装备的研发设计和生产制造。公司人才团队知识结构完整，有以哈工大教授和博士为核心的高水平材料研究和工艺研究团队；还有来自工业界的高级装备设计师团队，他们具有20多年的半导体材料研究、外延技术研究和半导体薄膜制备成套装备设计、生产制造的经验。公司依托于哈尔滨工业大学（深圳），具备先进的半导体研发设备平台和检测设备平台，可以在高起点开展科研工作。公司总部位于深圳市，具备半导体装备的研发、生产、调试以及半导体材料与器件的中试、生产、销售的能力。公司已投放市场的部分半导体设备|物理气相沉积（PVD）系列磁控溅射镀膜机、电子束镀膜机、热蒸发镀膜机，离子束溅射镀膜机、磁控与离子束复合镀膜机|化学气相沉积（CVD）系列MOCVD、PECVD、LPCVD、热丝CVD、ICPECVD、等离子刻蚀机、等离子清洗机|超高真空系列分子束外延系统（MBE）、激光分子束外延系统（LMBE）|OLED中试设备（G1、G2.5）|其它金刚石薄膜制备设备、硬质涂层设备、磁性薄膜设备、电极制备设备、合金退火炉|太阳能薄膜电池设备（PECVD+磁控溅射）团簇式太阳能薄膜电池中试线团队部分业绩分布完全自主设计制造的分子束外延（MBE）设备，包括自主设计制造的MBE超高真空外延生长室、工艺控制系统与软件、高温束源炉、高温样品台、Rheed原位实时在线监控仪（反射高能电子衍射仪）、直线型电子枪、膜厚仪（可计量外延生长的分子层数）、射频源等关键部件。真空度达到2×10-8Pa。设备于2005年在浙江大学光学仪器国家重点实验室投入使用，至今仍在正常使用。设计制造磁控溅射与等离子体增强化学气相沉积法PECVD技术联合系统，应用于团簇式太阳能薄膜电池中试线。使用单位中科院电工所。设计制造了金刚石薄膜制备设备，应用于金刚石薄膜材料的研究与中试生产设备。现使用单位中科院金属研究所。设计制造了全自动磁控溅射设备，可加水平磁场和垂直磁场，自行设计的真空机械手传递基片。应用于高密度磁记录材料与器件的研究和中试。现使用单位国家光电实验室。设计制造了OLED有机半导体发光材料及器件的研究和中试成套装备。现使用单位香港城市大学先进材料实验室。设计制造了MOCVD及合金退火炉，用于GaN和ZnO的外延生长，实现LED无机半导体发光材料与器件的研究和中试。现使用单位南昌大学国家硅基LED工程技术研究中心。设计制造了磁控溅射研究型设备。现使用单位浙江大学半导体所。设计制造了电子束蒸发仪研究型设备。现使用单位武汉理工大学。团队在第三代半导体装备及工艺方面的技术积累2001年 与南昌大学合作设计了中试型的全自动化监控的MOCVD，用于外延GaN和ZnO。2005年 与浙江大学光学仪器国家重点实验室合作设计制造了第一台完全自主知识产权的分子束外延设备，用于外延光电半导体材料。2006年 与中国科技大学合作设计超高温CVD 和MBE。用于4H晶型SiC外延生长。2007年 与兰州大学物理学院合作设计制造了光学级金刚石生长设备（采用热激发技术和CVD技术）。2015年 中科院金属研究所沈阳材料科学国家（联合）实验室合作设计制造了金刚石薄膜制备，制备了金刚石电极、微米晶和纳米晶金刚石薄膜、导电金刚石薄膜。2017年-优化Rheed设计，开始生产型MBE设计。-开始研制PVD方法外延GaN的工艺和装备，目前正在进行设备工艺验证。2019年 设计制造了大型热丝CVD金刚石薄膜的生产设备。2021年 MBE生产型设计。2022年 大尺寸金刚石晶圆片制备（≥Φ6英寸）。2023年 PVD方法外延氮化镓装备与工艺攻关。

Quorum型号PP3010冷冻传输制备系统是一种高度自动化且易于使用的直接安装于电镜腔体上的冷冻传输及制备系统，适用于大多数品牌和型号的SEM、FE-SEM和FIB/SEM。 该系统具有优良的适配性，能够与大多数品牌和型号的SEM和FIB-SEM兼容，通过过冷氮气循环冷却系统能够实现样品快速冷冻，具备快速的热响应。样品制备室配备卓越的观察视窗，为用户提供了一个易于操作的空间对样品进行冷冻、断裂、升华和镀膜的能力，从而可以观察到接近其样品原始状态的信息。主要技术特色：满足FIB/SEM高分辨成像能力和电镜一致或优于电镜的真空设计有效防止样品制备及转移过程中污染的风险过冷氮气冷却机制具备快速的热响应远程大容量自增压氮气发生器保证长时间冷冻实验（24小时以上）样品制备舱优良可视化设计大尺寸触屏控制，操作直观方便具备可控全自动样品升华兼容样品台减速模式全自动冷冻镀膜设计震动隔离真空设计满足高分辨成像需求Prepdek工作站具备独立工作区域，无需额外工作空间装样、急速冷冻和样品转移等工序使用Prepdek预处理工作站一站式即可轻松完成样品冷冻制备流程 PP3010 Prepdek工作站配备了一个液氮泥冷冻站，利用真空泵对液氮进行抽真空，从而能够快速制备温度更低的液氮泥。快速冷冻减少了冰晶的形成以及对样品的损伤，并有利于样品的保存。为了处理预冷冻材料，Prepdek冷冻系统允许在液氮中或刚好高于液氮的条件下操作通过替代冷冻方法冷冻的样品（或储存的样品），然后在真空下转移到PP3010制备室中进行后续处理和观察。 此外，型号25314 TEM Prep Slusher透射电镜样品转移站和型号25852手套箱接口/气闸选配升级则能够实现在包括Cryo-TEM、Cryo超分辨显微镜、XPS及手套箱之间进行真空或惰性气体氛围保护冷冻制备和传输样品。低温传输装置——包括真空储存真空转移装置结构紧凑（可放置于一只手上），真空密封可靠，并与样品转移托通过旋转卡口连接，以便快速抓取和转移样品。试样桩、穿梭机样品载台及样品转移托PP3010配备了带表面槽、孔和平坦区域的通用10mm试样桩，适用于大多数试样类型。还包括空白和开槽短截线。此外，还提供了一系列可选的支架，包括用于大样品的样品转移托和用于高压冷冻的顶部装载支架、TEM AutogridsTM（用于冷冻FIB/SEM应用）和用于硬质试样品的夹紧式转移样品托。低温制备腔室冷冻制备室直接连接到电镜腔体，包括高效过冷低温氮气冷台大面积防污染板以及断裂、升华和低温冷台镀膜的装置，同时腔室配有两个完全集成且真空互锁的闸阀。过冷低温氮气冷台及防污染板低温制备室的中心是过冷低温氮气冷却的样品台，该样品台采用燕尾设计，可以装载低温样品转移托，并且可以在+100℃到-190℃的温度范围内进行精确控温。位于样品台上方、下方和后方的大面积防污染板可确保室内清洁以及维持高真空条件。冷台及防污染板均采用完全集成的CHE3010电镜腔体外热交换系统进行温度交换，在正常操作温度下，两次液氮冲灌之间的典型保持时间长达24小时（前提使用干燥氮气）。制备腔体能见度高aQuilo腔体具有卓越的可视性。除了大的前窗（75 x 150mm）外，还有两个顶部观察口，腔室配备三个LED照明系统。冷冻制备室还可以安装一个可选的立体显微镜冷冻断裂提供双断裂刀（带主动冷却装置），可对各种类型样品进行冷断裂。PP3010标配了前置断裂和断裂操作装置。球形接头底座使刀片具有灵活的移动性，既可用作表面提取，也可以当作断裂刀使用。冷冻断裂的碎片被存放于样品台下方的大型冷阱中。自动升华和溅射冷冻镀膜 可以预设和存储升华温度和时间，同时也可以很方便检索常见的升华程序，同时过程是全自动的，并可以以图形方式显示在控制屏幕上，显示实际温度与预测升华曲线。高分辨成像专用的镀膜装置是基于市场领先的Quorum Q Plus系列镀膜仪设计。镀膜装置能够溅射FE-SEM应用所必需的极细颗粒薄膜，标配铂靶，同时可选金属包括金、金/钯、铬和铱，同时还可以安装可选的镀碳头（11920）。涡轮分子泵——高真空性能冷冻制备腔室由远程定位的70L/s涡轮分子泵进行真空抽取，冷冻状态时，腔体内部真空度可达10-7mbar的范围内，采用将涡轮分子泵放置在远离SEM的位置可确保完全消除泵使用过程中的振动，并具有显著提高高分辨成像的能力。Prepdek冷冻制备工作站Prepdek工作站能够实现在一个符合人体工程学设计的工作台面上进行样品装载、急速冷冻和样品冷冻转移，一站式完成所有制备工作。大尺寸触屏控制界面 PP3010使用安装在Prepdek工作站上的大尺寸触屏进行控制，可以输入和存储用户定义的制样配方，以便将来重复使用，同时屏幕可以根据操作员的偏好进行设置，例如，真空度可以用毫巴、帕斯卡或托来显示。样品制备过程中的许多关键步骤都是自动化的（系统设置、气流控制、升华和镀膜等），可通过内置的操作视频即可完成制样。SEM原位液氮冷台、防污染板及冷冻系统 该系统配备一个高稳定绝热设计的过冷氮气循环原位液氮冷台，安装于扫描电镜样品台之上，同时配备一个防污染板，SEM原位冷台和防污染板均采用单独的氮气循环回路进行冷却，且都能达到-190°C或更低的温度。这样的配置是为了方便操作者根据实验需要进行不同的温度，例如，对于一些非生物材料，将样品保持在非常低的温度下能够对样品进行更好的保护，例如，冷台最低温度可以设定到-175°C，而同时可以让防污染板选择-190℃或更低温度。SEM原位液氮冷台的温度范围低至-190°C，温度稳定性0.5°C。匹配扫描电镜样品台减速模式PP3010配备的原位液氮冷台能够匹配高达5kV的扫描电镜样品台减速模式偏压。CHE3010远程式热交换装置CHE3010是一个完全集成的远程安装热交换系统，是PP3010的标准配置。CHE3010用于扫描电镜原位液氮冷台、防污染板和冷冻制备腔室内的冷台和防污染板冷冻，通常温度可低至-190°C。同时在正常操作温度下，两次液氮灌注之间可以运行长达24小时以上，这大大简化了操作人员的工作，同时允许进行夜间无人值守操作——对于一些自动化FIB/SEM进行TEM样品制备尤其有用。

三靶大面积溅射系统之高分辨涡轮泵版本，CPU程序全自动控制，触膜屏用户界面，标配有挡板和靶材预清洁程序，既适合贵金属、也适合易氧化金属等多种靶材镀膜。 Q300T T镀膜仪是为薄膜应用而设计的多功能离子溅射镀膜仪，也是钨灯丝和场发射电镜观察之大样品制备的理想镀膜仪。为了确保精细沉积，Q300系列镀膜仪设有旋转样品台和三只相同的磁控靶组件，这也将提高采用低电压溅射的工作效率。该系统之高分辨涡轮泵版本Q300T T镀膜仪标配有挡板，作用是在保持真空条件下使易氧化金属靶材先进行清洁处理，然后再执行镀膜循环。所以，它既适合使用不氧化的贵金属如金（Au）、铂（Pt）等靶材镀膜，也适合易氧化金属如铬（Cr）、铝（Al）、钛（Ti）、锌（Zn）或氧化铟锡（ITO）、铱（Ir）等多种靶材镀膜。 和极其成功的Q150系列溅射仪、蒸镀仪一样，Q300T T型镀膜仪装在一个符合人机工程学设计的、坚固的整体成型机箱中，并且集成有触摸屏控制，对有经验的熟手和第一次使用的用户都适合的简单操作，从而可提供卓越的镀膜质量。 主要特点： &bull Large format chamber.The Q300T T sputter coaters incorporate a 300mm x 127mm work chamber and the sample stage accepts substrates up to 8&rdquo in diameter. An extended height glass chamber is available as an option to enable coating of larger format samples.大腔室。Q300T T型溅射镀膜仪设有尺寸为300mm x 127mm的工作腔室和适用于最大直径达8&rdquo 样品的样品台。可选配加长高腔室，以便于大且高的样品镀膜。 &bull Triple sputter head 三靶大面积溅射 &bull High resolution turbo pumped system高分辨涡轮泵版本；抽速5 m3/hr的涡卷泵或隔膜泵(隔膜泵仅用于Q300T T)可很好地替代普通的前级旋转机械泵，适合于无油或无尘室环境质量要求高的抽真空场合。 &bull Fully automated touch screen control 全自动触摸屏控制 &bull Coater logging option 镀膜仪日志（选项） &bull Customer defined coating protocols 用户自定义镀膜方案 &bull Film thickness monitor option 膜厚监控（选项），可通过腔室内的晶振片装置测量镀膜厚度，也可预设厚度去控制材料沉积在样品上的膜厚度，达到需要的镀膜厚度时，镀膜仪可自动停止镀膜 &bull Vacuum shutdown 真空闭锁功能 &bull Emergency stop switch 紧急停止开关

MPCVD主要用于合成石墨烯薄膜和各种碳纳米材料，有一个水平石英管式炉。一个催化剂衬底(通常是铜铝箔)放置在炉里,甲烷气体或乙炔气体从外部低流量和低压地注入，在催化剂的衬托上形成石墨烯薄膜。快速冷却对于形成高质量的石墨烯薄膜非常重要，快速冷却可以抑制碳过量的沉积在催化剂金属箔上 (如铜或镍箔)；系统配备了快速冷却系统。管式炉向一侧滑动300mm到反应炉，加热的炉可以远离样品，从而快速冷却样品。通过非常简单的方式达到快速冷却的效果。联合日本科学与技术研究所（JST）开发！主要特点：1）快速加热和制冷功能；2）管式炉滑动装置，可使得样品快速加热和冷却；3）特殊设计的测温传感器，可直接监测样品温度；4）支持生长其他各种碳纳米材料（碳纳米管、碳纳米线等）； 技术指标：1）石英管尺寸：OD50 X ID46 X L1200mm2）加热区尺寸：直径60 X L260mm3）操作温度：1200 ℃4）正常使用温度范围：400-1100 ℃5）程序化PID温度控制6）三路气体 (hydrocarbon, H2, Ar)7）旋转真空泵，抽速20L/min8）热电偶实时监测样品温度9）快速加热和制冷系统10）手动管式炉滑动系统，滑动距离300mm11）设备尺寸：W1400 X H1000 X D500mm

产品介绍 多功能微波变频化学反应系统是本公司经历多年探索，首次突破国际标准频率915MHZ和2450MHZ以外，针对用户的特殊需求研制而成，主要用于探索更多频率、变频过程以及变频脉冲对物质的微波热效应（吸收均匀性、升温速率、滞后及过冲现象）和非热效应（电效应、磁效应、电化学效应等）。探索特定频率下微波消解、合成、催化和萃取等反应的变化和产物；研究变频微波对有机、无机化合物、药物中间体以及纳米材料制备过程的影响；开发以煤脱硫为代表的能源燃料及其新能源产品。多功能微波变频化学反应系统作为微波领域首创的多波段新型反应仪器必将引领工程及制造行业跨越式的发展。本款仪器又名：无极调频微波化学反应仪，低频段变频微波化学反应器，可调频紫外微波化学反应系统，多功能微波可调频化学反应系统 二、系统特点：●采用脉冲式水冷微波发生系统，功率输出稳定、场强分布均匀；微波功率可微调； ●全时段程序设定，可进行控温微波处理、定时微波处理、功率脉冲控制、变频脉冲控制；●实现了可视化界面控制、高精度程序控温、多通道数据储存，以及定向传输等功能。●反应釜可选配聚四氟乙烯或者耐高温、耐腐蚀玻璃材料，通过低温冷却真空泵系统可做超低温微波真空干燥或其他无水反应、低温反应、聚合反应等； ●可选配温度（或压力）控制并带磁力搅拌或者振荡装置的聚四氟乙烯消解罐（水热合成反应釜）； ●参数控制部分采用高灵敏触摸屏操作系统，所有参数可编程式控制，五组实验数据储存； ●仪器配有10寸超薄、超高清、多功能液晶大屏幕显示； ●配高精度非接触式红外测温或接触式光纤、铂金传感测温系统，实时准确检测反应温度，准确控制反应进程温度；控制范围：0-500℃，控温精度：正负1℃；；●采用独有的变频式鼓风散热与程序控制制冷装置，使腔体内温度保持恒定； ●工作时间：可连续工作，在0-9999s可调； ●配不同速度的磁力搅拌和机械搅拌、振荡和样品升降装置，以便与微波联用； ●仪器自带玻璃导管与氟胶导管，采用开放式反应体系，可安装滴液漏斗和冷凝管等进行回流反应，亦可以实现在线分析环境、生物、药物等样品； ●具有超温和传感器异常保护，高可靠性、安全性； ●采用不锈钢内外壳，防磁性，以防止磁性材料进入腔体，打破内件结构，经久耐用；●可应用于生物、医学、化学、制药、食品、化妆品、环保等实验室研究及企业生产；●整台仪器均采用国内外最先进技术与先进材料制成，外观新颖，微波泄露符合国家标准；多功能微波变频化学反应系统选型表： 型 号微波功率微波频率处理量（ml） 磁控管冷却方式搅拌方式XO-KP900 100~500W600~900MHz0.5~500ml水冷方式机械和磁力搅拌XO-KP950100~500W750~950MHz0.5~500ml水冷方式机械和磁力搅拌 如果你想了解更多关于多功能微波变频化学反应系统的相关信息，欢迎致电 、、，我公司将会有专业的团队为您服务，先欧公司期待您的来电！ 南京先欧仪器制造有限公司 公司地址：南京经济开发区新港大道42号先欧科技楼公司电话： 传 真： 售后服务部电话： 中文网站：http://www.xianouyq.com 英文网站：

超高速多功能搅拌系统ROBOMIX 扩大了创造的世界 研究室的高感度伙伴马达的声音很小，最适合研究室使用。采用无刷马达无需维修。转速16000r/min（根据搅拌头的不同有所差异）。可以取得和从前不一样领域的数据。可以获取为升级用的正确数据。采用反馈方式，即使负荷有变动转速也保持一定。丰富的搅拌头选配（微少量单罐、连续式、真空式）应对。通过选配可以安装数据记录（转速、电流值、温度）系统、温度传感器。 用途化学品硅胶油、蜡、墨水、涂料、染料化妆品乳液、霜、护发素医药品注射液、糖衣液、胶片滤光处理液、胶囊剂食品调味料、冰淇淋、酸奶、咖啡冲剂IT行业磁性材料、陶瓷、电子材料等规格马达100V 0.3kW 1400～16000r/min*转速根据安装的搅拌头的不同有所变化标配搅拌头HOMOGENIZING MIXER MARK II Model 2.5HOMOGENIZING DISPER Model 2.5运转方向正转、反转切换可能 （一部分搅拌头除外）处理量HOMOGENIZING MIXER MARK II Model 2.5: ～3LHOMOGENIZING DISPER Model 2.5: ～5L选配配件HOMOGENIZING MIXER MARK II Model 2.5HOMOGENIZING DISPER Model 2.5NEO MIXERMINI MIXER连续式 PIPELINE-HOMO MIXER连续式 HOMOMIC LINE FLOW真空密闭式

台式高性能CVD石墨烯/碳纳米管快速制备系列—nanoCVDNanoCVD系列台式设备是专为制备高质量的石墨烯与碳纳米管而开发的高性能台式CVD系统。在与诺奖科研团队的长期合作中获得的丰富经验使该系列产品具有非常高的性能。特别是针对石墨烯、碳纳米管等不同的应用进行了针对性的优化。该系列产品操作简便，生长条件控制，生长迅速、制备出的样品具有高质量、高可重复性，这些特点使得该系列产品受到多个石墨烯研究团队的赞誉。该系列产品适合于想要制备高质量石墨烯或碳纳米管用于高端学术研究的团队。例如，埃克塞特大学、哈德斯菲尔德大学、莱顿大学、亚森工业大学这些知名的高校均是nanoCVD系列的用户。nanoCVD采用全新的设计理念，可以快速、高质量地生产石墨烯或碳纳米管。与传统的简易CVD(管式炉)相比，该系统基于冷壁设计方案，具有以下主要优点:◎ 系统可以快速的升温和降温。◎ 更加的条件控制和可靠的工艺重现性。◎ 安全性设计，具有尾气稀释模块。◎ 智能化设计，全自动引导式触屏操作系统。◎ 支持自动程序的设定与储存。◎ 雄厚的技术积累，专业的技术支持。设备型号台式超高质量石墨烯快速制备CVD系统- nanoCVD 8GnanoCVD-8G系统是性能稳定的快速的石墨烯生长系统。nanoCVD-8G具有压强自动控制系统，可以的控制石墨烯生长过程中的气氛条件。系统采用低热容的样品台可在2分钟内升温至1000℃并控温。该装置采用了冷壁技术，样品生长完毕后可以快速降温。正是因为这些条件可以让用户在30分钟内即可获得高质量的石墨烯。用户通过HMI触屏进行操作，所有的硬件都是自动化的。更有内置的标准石墨烯生长示例程序供用户参考。该系统安装迅速，非常适合需要持续快速获取高质量石墨烯用于高质量学术研究的团队。埃克塞特大学、哈德斯菲尔德大学、莱顿大学、亚森工业大学等很多全球著名的高校都是该系统的用户。主要特点： ◎ 合成高质量、可重复的石墨烯◎ 生长条件控制◎ 高温度：1100 °C◎ 生长时间：30 min◎ 基片尺寸大：20 × 40 mm2◎ 全自动过程控制◎ MFC流量计控制过程气体 (Ar、H2与CH4) ◎ 用户友好型触屏控制◎ 可设定、存储多个生长程序◎ 可连接电脑记录数据◎ 易于维护◎ 全面安全性设计，尾气稀释模块◎ 兼容超净间◎ 系统性能稳定部分数据展示：小型等离子增强大尺寸石墨烯制备CVD系统 - nanoCVD WPGnanoCVD-WPG将nanoCVD-8G高质量石墨烯生长的功能与等离子体增强技术相结合，系统可制备晶圆尺寸(3英寸或4英寸)别的样品。除此之外，利用该系统的生长控制条件可以制备多种高质量的2D材料，该系统是小型CVD系统性能上的一个重大飞跃。全新的设计方案和控制系统使该系统成为制备大面积2D样品的上佳选择。应用领域包括:石墨烯和2D材料、光伏电、触屏材料、高性能生物电子材料、传感器、储能材料。主要特点：◎ 晶圆样品尺寸: 3英寸、4英寸◎ 150 W/13.56 MHz RF 电源◎ 多个等离子体电◎ 高温度1100 °C◎ 腔体冷壁技术◎ 全自动条件控制◎ 用户友好的触屏操作◎ 可设定、存储多个生长程序◎ 可连接电脑记录数据◎ 易于维护◎ 全面安全性设计，尾气稀释模块◎ 兼容超净室◎ 基于成熟的NanoCVD技术生长条件：◎ 衬底：Cu、Ni等薄膜或薄片◎ 工作原料：CH4，C2H4， PMMA等◎ 保护气体：H2，Ar，N2等典型配置指标：◎ 腔体：腔壁水冷技术，热屏蔽不锈钢腔体◎ 真空系统：分子泵系统，5×10-7 mbar本底真空。◎ 样品台：大4英寸直径，高1100°C ◎ 操作控制：触摸屏/电脑接口；可手动控制或自动控制◎ 气体控制：MFC 流量计，Ar，CH4，H2为标配种类。◎ 过程控制：自动控制◎ 等离子源：150 W/13.56 MHz RF 电源，样品台附近或需要的位置产生等离子体。 ◎ 安全性：冷却与真空锁系统，气体稀释模块。台式超碳纳米管快速制备CVD系统 - nanoCVD 8NnanoCVD-8N与石墨烯生长系统nanoCVD-8G有诸多共同之处，并针对碳纳米管生长条件进行了优化。这些条件对于碳纳米管(CNT)样品的质量和可重复性(主要是单壁形式)是至关重要的。创新的冷壁式腔体与传统管式设备相比更易控制实验条件和快速升降温。nanoCVD-8N具有智能的控制系统和完备的安全性设计。设备易于安装，易于使用，是快速进入高质量研究的理想选择。该系统获得沃里克大学用户的高度赞誉。碳纳米管可采用Fe、Co、Ni的纳米颗粒作为催化剂生长在SiO2/Si, Si3N4以及石英等衬底上。通过衬底与催化剂的选择，可以生长的碳纳米管有：• 随机: 随机方向的相互交叠的单壁碳纳米管• 有序: 平行的单壁碳纳米管• 竖直: 竖直的单壁碳纳米管束主要特点： ◎ 合成的碳纳米管具有很高的可重复性；◎ 专门为单壁碳纳米管进行了优化；◎ 生长条件控制；◎ 高温度：1100 °C；◎ MFC流量计控制过程气体 (Ar、H2与CH4)； ◎ 基片尺寸：大20 × 40 mm2；◎ 生长时间：30 min；◎ 全自动生长条件控制；◎ 用户友好型触屏；◎ 可设定、存储多个生长程序◎ 可连接电脑记录数据；◎ 易于维护；◎ 全面安全性设计，尾气稀释模块；◎ 兼容超净间；◎ 系统性能稳定；部分数据展示： 发表文章Residual metallic contamination of transferred chemical vapor deposited grapheneLupina, G., et al. ACS Nano 2015 DOI: 10.1021/acsnano.5b01261本文作者研究了通常用于将CVD石墨烯放置到应用衬底上的湿转移工艺会导致材料的微量污染。这些纯度会对石墨烯的其他特殊特性产生不利影响，并对电子和光电应用产生影响。相关设备: nanoCVD-8G Transparent conductive graphene textile fibersNeves, A. I. S., et al. Scientific Reports 2015 DOI: 10.1038/srep09866使用nanoCVD-8G制成的石墨烯被转移到纤维上，次生产出柔韧的、完全嵌入的纺织电。石墨烯的高质量意味着电具有超低的表面电阻和高的机械稳定性。相关设备: nanoCVD-8G High quality monolayer graphene synthesized by resistive heating cold wall chemical vapor depositionBointon, T. H., et al. Advanced Materials 2015 DOI: 10.1002/adma.201501600展示了冷壁法CVD合成石墨烯的优势，并报道了使用nanoCVD – 8G制备的高质量石墨烯材料具有超高的载流子迁移率，表现出半整数量子霍尔效应，这与剥离制备的样品相当。相关设备: nanoCVD-8GMapping nanoscale electrochemistry of individual single-walled carbon nanotubesGüell, A. G., et al. Nano Letters 2014 DOI: 10.1021/nl403752e利用nanoCVD – 8N技术制备了单壁碳纳米管，并利用电化学技术对其进行了研究。高分辨率的测量可以检查单个单壁碳纳米管的特性。这一发现对未来使用SWNT电的器件设计具有重要意义。相关设备: nanoCVD-8N Nanoscale electrocatalysis: Visualizing oxygen reduction at pristine, kinked, and oxidized sites on individual carbon nanotubesByers, J. C., et al. Journal of the American Chemical Society 2014 DOI: 10.1021/ja505708y电化学技术，结合使用nanoCVD - 8N技术产生的单壁碳纳米管，被用来证明即使在没有掺杂、修饰或缺陷的情况下，碳纳米管也表现出显著的活性。相关设备: nanoCVD-8N用户单位埃克塞特大学哈德斯菲尔德大学莱顿大学亚森工业大学

一、系统构成电极探针制备系统具备从纳米电极拉制至全程观察的全过程能力，实现了纳米电极制作的一体化流程。包含以下四个设备：超高温拉制仪、碳纳米电极制备仪、电极探针精密抛光仪和金相生物显微镜。二、主要参数1. 超高温拉制仪（拉制）超高温加热≤2500 ℃参数设置方式全触屏程控数据输入设置系统安全模式控制软件带有加热保护和自检系统，可实时保护用户使用安全和设备的稳定运行适配玻璃管尺寸玻璃/石英毛细管1 mm*0.7 mm*80 mm；双通道石英管（θ管）1.2 mm*0.9 mm*75 mm可拉制类型可用于拉制石英、硼硅酸盐及其他玻璃微电极可制作金属纳米电极金电极、铂电极等电极直径0.1 um最小尖端直径0.01 um微针尖端开口0.1 um ~ 5 um拉制针尖锥形长度3 mm ~ 15 mm用户自编程序配方存储数量1-120个2. 碳纳米电极制备仪（制备）制备模式竖式、横式RG比低至1.1电极尺寸直径≥20 nm电极类型碳纳米电极、碳纳米锥电极、衍生的金属纳米电极、碳微米电极、碳膜电极等3. 电极探针精密抛光仪（抛光）抛光范围空心石英管/玻璃管、玻璃封装金属电极、碳纳米电极等磨盘面型λ/4@633 nm磨盘转速0-300 r/min可调阻抗检测响应时间1 ms制备直径范围实心电极（≥20 nm）；空心管（≥1 um）步进速度0.001 ~ 30 um/s可调显微镜HDMI接口，含位置测量软件，可观测10 um的物体4. 金相生物显微镜（观察）目镜大视野目镜WF 10×/φ 18 mm物镜长距离平场消色差PLL5×/0.12、PLL10×/0.25、PLL40×/0.60、PLL60×/0.75总放大倍数50× ~ 600×三目观察头铰链30°倾斜转换器四孔（内向式滚珠内定位）粗微调调焦范围微动格值：2 um，粗动松紧可调，带锁紧和限位装置载物台双层机械移动式（尺寸：160 mm×140 mm，移动范围：75 mm×50 mm）落射照明系统6V/20W卤素灯，亮度可调落射照明器内置视场、孔径光阑，滤色片转换装置，插入式起偏振器透射照明系统阿贝聚光镜NA.1.25可上下升降、蓝滤色片和磨砂玻璃、集光器，6V/20W卤素灯，亮度可调

技术参数：**** ****欢迎浏览 获取更详尽的资料**** ****主要特点：概述 LH3000液体处理平台有超过1000种的尺寸变化和多种模块组合方式，它可以装备一条或两两Y轴活动臂，可灵活的变换为自动进样器、馏分收集器、部分萃取器、自动混合器或者某两种装置的组合，机器人尺寸的灵活变化可适应您的任何液体处理需求。 LH3000在同一个基座上可实现不同尺寸的不同应用，其中的X轴可定制活动范围为160mm到2800mm，Y轴可定制活动范围为70mm到670mm（如果同时安装两个Y轴活动臂，则X轴的定制范围各缩小120mm），X轴可定制高度范围为130mm到780mm（固定）。 技术特点  1.多轴系统  2.应用举例  制备级自动进样器  馏分收集器  馏分收集器加部分萃取器 (2轴系统)  馏分收集器自动混合器 (2轴系统)  自动进样器加馏分收集器(2轴系统)  其他  3.触摸屏编程及参数显示（不连接PC机软件时）  4.可控制所有功能的控制软件  5.模块化系统  6.超过1000种组合方式  7.移动范围: 宽（X轴） 最大 2800 mm 深（Y轴） 最大 670 mm 高（Z轴） 最大 400 mm  8.尺寸可定制  9.XYZ三轴可自由编程

徕卡高真空镀膜仪在电子显微镜领域，往往需要对样品进行表面镀膜从而使样品表面成像或图像质量得到改善。在样品表面覆盖一层导电的金属薄膜可以消除荷电效应，降低电子束对样品的热损伤，并可以提高SEM对样品进行形貌观察时所需的二次电子信号量。精细的碳膜具有电子束透明且导电的特性，因而常应用于X射线微区元素分析，制备网格支持膜，以及制备适宜于TEM观查的复型。需要怎样的镀膜技术取决于分辨率和应用需求。Leica EM ACE镀膜仪家族提供在各应用领域所需的键膜解决方案。Leica EM ACE600 是一款多功能型高真空镀膜系统，用于制备超薄，细颗粒的导电金属膜和碳膜，以适用于FE-SEM和TEM超高分辨率分析所需的镀膜要求。这一款全自动台式镀膜仪，包含内置式无油真空系统、石英膜厚监控系统和马达驱动样品台（旋转为标配，倾斜和高度马达驱动为选配）。徕卡高真空镀膜仪可以配置如下镀膜方式:★★★ 金属溅射镀膜★★★ 碳丝蒸发镀膜★★★ 碳棒蒸发镀膜（带有热阻蒸发镀膜选配件）★★★ 电子束蒸发镀膜★★★ 辉光放电★★★ 连接VCT样品交换仓： 与徕卡EM VCT配套实现冷冻镀膜，冷冻断裂，双复型，冷冻干燥和真空冷冻传输